JP2552017B2 - Substrate alignment support device - Google Patents
Substrate alignment support deviceInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は、半導体基板やガラス基板などの基板を複数
本の支持ピン上に載置した状態で、複数個の当接片を前
記基板の外縁に当接離間させることによって、基板の位
置合わせを行い、その後、支持ピンを上昇駆動すること
により、位置合わせされた基板を基板受渡し高さにまで
持ち上げる基板の位置合わせ支持装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial field of application> The present invention provides a plurality of contact pieces with a plurality of contact pieces in a state where a substrate such as a semiconductor substrate or a glass substrate is placed on a plurality of support pins. The present invention relates to a substrate alignment support device that aligns a substrate by bringing it into contact with and separates it from an outer edge, and then drives a support pin to rise to raise the aligned substrate to a substrate delivery height.
<従来の技術> 第10図を参照して、従来の基板の位置合わせ支持装置
の概略構成を説明する。<Prior Art> With reference to FIG. 10, a schematic configuration of a conventional substrate alignment support device will be described.
図中、半導体基板などを多段に収納したカセットなど
から取り出された基板Wは、原点位置にある複数本の支
持ピン1の上に載置される。支持ピン1の両側には、水
平方向に摺動可能に支持された一対の整合板2が配設さ
れており、各整合板2に、支持ピン1上の基板Wの外縁
に当接離間する複数個の当接片3がそれぞれ設けられて
いる。各整合板2はリンク機構4を介してエアーシリン
ダ5に連結されている。支持ピン1の上に基板Wが載置
されると、シーケンスコントローラ6がエアーシリンダ
5に指令を出すことにより、エアーシリンダ5が駆動
し、リンク機構4を介して整合板2が水平駆動される。
これにより、当接片3が支持ピン1上の基板Wに当接離
間して、基板Wの位置合わせが行われる。In the figure, a substrate W taken out from a cassette or the like in which semiconductor substrates and the like are stored in multiple stages is placed on a plurality of support pins 1 at the origin position. A pair of matching plates 2 supported so as to be slidable in the horizontal direction are arranged on both sides of the support pin 1, and each matching plate 2 is brought into contact with and separated from the outer edge of the substrate W on the support pin 1. A plurality of contact pieces 3 are provided respectively. Each matching plate 2 is connected to an air cylinder 5 via a link mechanism 4. When the substrate W is placed on the support pins 1, the sequence controller 6 issues a command to the air cylinder 5 to drive the air cylinder 5 and horizontally drive the matching plate 2 via the link mechanism 4. .
As a result, the contact piece 3 comes into contact with and separates from the substrate W on the support pin 1, and the substrate W is aligned.
基板Wの位置合わせが終わると、シーケンスコントロ
ーラ6は、支持ピン1を支持している昇降部材7に連結
されたエアーシリンダ8に対して指令を出し、エアーシ
リンダ8のロッド伸長させる。これにより、支持ピン1
が上昇し、基板Wが所定の基板受渡し高さにまで上昇す
る。基板受渡し高さにまで基板Wが上昇すると、図示し
ない基板移送機構に備えられた基板支持アーム9が基板
Wの下に進入し、その後、エアーシリンダ8が収縮駆動
され、支持ピン1が下降することにより、基板Wが基板
支持アーム9に受渡される。When the alignment of the substrate W is completed, the sequence controller 6 issues a command to the air cylinder 8 connected to the elevating member 7 supporting the support pin 1 to extend the rod of the air cylinder 8. Thereby, the support pin 1
And the substrate W rises to a predetermined substrate delivery height. When the substrate W is raised to the substrate delivery height, the substrate support arm 9 provided in the substrate transfer mechanism (not shown) enters below the substrate W, and then the air cylinder 8 is contracted and driven, and the support pin 1 is lowered. As a result, the substrate W is delivered to the substrate support arm 9.
<発明が解決しようとする課題> しかしながら、このような構成を有する従来装置に
は、次のような問題点がある。<Problems to be Solved by the Invention> However, the conventional device having such a configuration has the following problems.
すなわち、上述した従来の基板の位置合わせ支持装置
は、支持ピンおよび整合板を駆動するためのアクチュエ
ータがそれぞれ個別であり(すなわち、第10図では、二
つのエアーシリンダ5,8を備えるため)、各アクチュエ
ータの動作順序を制御する必要があるので、制御系の構
成が複雑化し、動作の信頼性に欠けるという問題点があ
る。That is, in the above-described conventional substrate alignment support device, the actuators for driving the support pins and the alignment plate are individually provided (that is, in FIG. 10, since the two air cylinders 5 and 8 are provided), Since it is necessary to control the operation sequence of each actuator, there is a problem that the configuration of the control system becomes complicated and the reliability of the operation is lacking.
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであ
って、支持ピンの上に載置された基板の位置合わせを行
うための基板整合機構、および位置合わせされた基板を
所定の基板受渡し高さにまで持ち上げるための支持ピン
昇降機構の駆動源を単一化し、これによって、装置の制
御系の構成を簡素化することができる基板の位置合わせ
支持装置を提供することを目的としている。The present invention has been made in view of the above circumstances, and includes a substrate alignment mechanism for aligning a substrate placed on a support pin, and a predetermined substrate delivery of the aligned substrate. It is an object of the present invention to provide a substrate alignment support device capable of simplifying the configuration of the control system of the device by unifying the drive source of the support pin elevating mechanism for lifting to the height.
<課題を解決するための手段> 本発明は、このような目的を達成するために、次のよ
うな構成をとる。<Means for Solving the Problems> The present invention has the following configuration in order to achieve such an object.
すなわち、本発明は、複数個の当接片を、複数本の支
持ピン上に載置された基板の外縁に当接する位置と、基
板の外縁から離れた位置とにわたって水平往復動させる
ことによって、基板の位置合わせを行い、基板の位置合
わせが行われた後に支持ピンを上昇移動させて、基板を
基板受渡し高さにまで持ち上げる基板の位置合わせ支持
装置であって、 上下方向に移動可能なカム部材と、 カム部材を上下方向に駆動するアクチュエータと、 カム部材の上下動に連動して水平方向に往復動する従
動機構と、 複数個の当接片を備え、従動機構の水平往復動に連動
することにより、複数個の当接片が複数本の支持ピン上
に載置された基板の外縁に当接する位置と、基板の外縁
から離れた位置とにわたって水平往復動する基板整合機
構と、 複数本の支持ピンと、 複数本の支持ピンを支持し、上下方向に移動可能なピ
ン支持機構と、 カム部材の上下動に連動し、上昇移動の途中でピン支
持機構に突き当たって、これを上昇させる押し上げ機構
とを備え、 カム部材は、 複数個の当接片を、複数本の支持ピン上に載置された
基板の外縁から離れた位置に位置させ、そして、支持ピ
ンを、基板の位置合わせ位置に位置させる原点位置と、 複数個の当接片を、複数本の支持ピン上に載置された
基板の外縁から離れた位置から基板の外縁に当接する位
置まで至らせた後に基板の外縁から離れるように移動さ
せ、そして、支持ピンを、基板の位置合わせ位置に位置
させる第1の上昇移動曲面と、 複数個の当接片を、基板の外縁から離れた位置に位置
させ、そして、支持ピンを、基板の位置合わせ位置から
基板受け渡し高さまで上昇移動させる第2の上昇移動曲
面とをたどって上昇移動するものであり、 上記のものを備えたものである。That is, the present invention, by horizontally reciprocating a plurality of contact pieces, a position abutting the outer edge of the substrate placed on the plurality of support pins, and a position away from the outer edge of the substrate, This is a substrate alignment support device that aligns the substrate, raises the support pins after the substrate alignment and raises the substrate to the substrate transfer height, and is a vertically movable cam. Member, an actuator that drives the cam member in the vertical direction, a driven mechanism that reciprocates in the horizontal direction in conjunction with the vertical movement of the cam member, and a plurality of abutment pieces that interlock with the horizontal reciprocation of the driven mechanism. By doing so, a plurality of contact pieces are horizontally reciprocated between a position where the plurality of contact pieces contact the outer edge of the substrate placed on the plurality of support pins and a position separated from the outer edge of the substrate; Book Support A pin support mechanism that supports the pin and multiple support pins and can move vertically, and a push-up mechanism that interlocks with the vertical movement of the cam member and hits the pin support mechanism during the upward movement to raise it. The cam member positions the plurality of abutment pieces at a position away from the outer edge of the substrate placed on the plurality of support pins, and positions the support pins at the alignment position of the substrate. The origin position and the multiple contact pieces should be moved from the outer edge of the substrate placed on the support pins to the position of contact with the outer edge of the substrate and then away from the outer edge of the substrate. And a support pin is located at a position where the substrate is aligned, and a plurality of abutment pieces are located at a position away from the outer edge of the substrate. , From the board alignment position This is for moving upward by following the second upward movement curved surface for upward movement to the substrate transfer height, and is provided with the above.
<作用> 本発明の作用は次のとおりである。<Operation> The operation of the present invention is as follows.
カム部材が原点位置にあるとき、基板整合機構の当接
片は基板の外縁から離れた位置にある。また、支持ピン
は基板の位置合わせ位置(下限位置)にある。下限位置
にある支持ピン上に基板が載置される。次に、アクチュ
エータによってカム部材が駆動されると、カム部材の原
点位置にあった従動機構が、カム部材の第1の上昇移動
曲面をたどって、その位置が変位する。これに連動し
て、基板整合機構の当接片が、支持ピン上に載置された
基板の外縁から離れた位置から基板の外縁に当接する位
置まで至り、その後、基板の外縁から離れるように移動
する。これによって支持ピン上に載置された基板の位置
合わせが行われる。このようにして基板が位置合わせさ
れた後、アクチュエータによってカム部材がさらに駆動
されると、従動機構はカム部材の第2の上昇移動曲面に
達する。その結果、基板整合機構の当接片は基板の外縁
から離れた位置に位置する。そして、カム部材の上昇移
動に連動して、押し上げ機構が上昇する。その途中で押
し上げ機構がピン支持機構に突き当たって、これを上昇
させることにより、位置合わせされた基板は、所定の基
板受け渡し高さまで持ち上げられる。When the cam member is at the original position, the contact piece of the substrate alignment mechanism is located away from the outer edge of the substrate. Further, the support pin is located at the alignment position (lower limit position) of the substrate. The substrate is placed on the support pins at the lower limit position. Next, when the cam member is driven by the actuator, the driven mechanism located at the origin position of the cam member follows the first upward movement curved surface of the cam member, and the position is displaced. In conjunction with this, the contact piece of the substrate alignment mechanism moves from a position separated from the outer edge of the substrate placed on the support pin to a position contacted with the outer edge of the substrate, and then separated from the outer edge of the substrate. Moving. As a result, the substrate placed on the support pins is aligned. After the substrates are aligned in this way, when the cam member is further driven by the actuator, the driven mechanism reaches the second upward movement curved surface of the cam member. As a result, the contact piece of the substrate alignment mechanism is located at a position away from the outer edge of the substrate. Then, in association with the upward movement of the cam member, the lifting mechanism is raised. The push-up mechanism hits the pin support mechanism in the middle of the process and raises the pin support mechanism to raise the aligned substrate to a predetermined substrate transfer height.
<実施例> 以下、本発明の一実施例を図面に基づいて詳細に説明
する。<Example> Hereinafter, one example of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
第1図は本実施例に係る基板の位置合わせ支持装置が
使用された半導体製造装置の概略構成を示している。FIG. 1 shows a schematic configuration of a semiconductor manufacturing apparatus in which a substrate alignment supporting device according to this embodiment is used.
この半導体製造装置は、半導体基板にフォトレジスト
等をコーティングして熱処理するための装置であり、大
きく分けて、未処理基板の供給および処理ずみ基板の回
収に係る基板を保管する部分(以下、インデクサーモジ
ュールと称する)10と、基板処理に係るプロセスモジュ
ール20とから構成されている。This semiconductor manufacturing apparatus is an apparatus for coating a semiconductor substrate with a photoresist or the like and heat-treating it, and roughly divides it into parts for supplying unprocessed substrates and collecting processed substrates (hereinafter referred to as an index). 10) and a process module 20 relating to substrate processing.
インデクサーモジュール10の静止した基台11の上に
は、シリコンウエハ等の半導体基板(以下、単に基板と
いう)Wを多段に収納した基板収納容器としての複数個
(ここでは4個)のカセットCが一列状態に載置されて
いる。インデクサーモジュール10には、各カセットC
と、所定の基板受渡し位置Pとの間で、基板Wを搬送す
るインデクサー搬送ユニット30が設けられている。な
お、前記基板受渡し位置Pは、プロセスモジュール20に
おける各処理ユニット231、232、241、242、243へ所定
の順番で基板Wを搬送するプロセス搬送ユニット21とイ
ンデクサー搬送ユニット30との間で基板Wの受渡しをす
る位置である。On the stationary base 11 of the indexer module 10, a plurality of (in this case, four) cassettes C as substrate storage containers for storing semiconductor substrates (hereinafter, simply referred to as substrates) W such as silicon wafers in multiple stages. Are placed in a line. Each of the cassettes C is included in the indexer module 10.
An indexer transport unit 30 for transporting the substrate W is provided between the substrate transfer position P and a predetermined substrate transfer position P. The substrate transfer position P includes a process transfer unit 21 and an indexer transfer unit 30 that transfer the substrate W to the processing units 23 1 , 23 2 , 24 1 , 24 2 , 24 3 in the process module 20 in a predetermined order. It is a position where the substrate W is transferred between the two.
なお、インデクサー搬送ユニット30とプロセス搬送ユ
ニット21との間で基板Wを受け渡す際に、基板Wの位置
合わせをするのは、以下の理由からである。The reason for aligning the substrate W when transferring the substrate W between the indexer transport unit 30 and the process transport unit 21 is as follows.
カセットC内にて基板Wが必ずしも整列して収納され
ているとは限らないから、カセットCから取り出された
基板Wをインデクサー搬送ユニット30が保持した状態に
おいて、インデクサー搬送ユニット30における基板Wの
位置は特定していない。このため、位置合わせしてから
プロセス搬送ユニット21へ基板Wを移載しないことに
は、プロセス搬送ユニット21における基板Wの位置が特
定せず、かかるプロセス搬送ユニット21から基板Wが落
下したり、各処理ユニット231、232、241、242、243へ
正確に基板Wを搬送できなかったりして、種々不都合を
生じるからである。Since the substrates W are not necessarily arranged and stored in the cassette C, the position of the substrates W in the indexer transport unit 30 is held in the state where the substrate W taken out of the cassette C is held by the indexer transport unit 30. Is not specified. Therefore, if the substrate W is not transferred to the process transport unit 21 after the alignment, the position of the substrate W in the process transport unit 21 cannot be specified, and the substrate W may fall from the process transport unit 21, This is because the substrate W cannot be accurately transported to each of the processing units 23 1 , 23 2 , 24 1 , 24 2 , 24 3 , which causes various inconveniences.
また、プロセス搬送ユニット21からインデクサー搬送
ユニット30へ基板Wを受渡しする際、プロセス搬送ユニ
ット21における基板Wの位置が特定していないことがあ
り、基板Wを位置合わせしてから、インデクサー搬送ユ
ニット30がカセットCへ基板Wを搬送するようにしない
ことには、インデクサー搬送ユニット30における基板W
の位置が特定せず、カセットCへ基板Wを収納できなか
ったりして、種々不都合を生じるからである。In addition, when the substrate W is transferred from the process transport unit 21 to the indexer transport unit 30, the position of the substrate W in the process transport unit 21 may not be specified, and after the substrate W is aligned, the indexer transport unit 30 Does not allow the substrate W to be transferred to the cassette C, the substrate W in the indexer transfer unit 30
This is because the position of is not specified and the substrate W cannot be stored in the cassette C, which causes various inconveniences.
第2図を参照する。第2図はインデクサーモジュール
10の平面図を示している。Please refer to FIG. Figure 2 shows the indexer module
10 shows a plan view of 10. FIG.
後に詳しく説明するように、インデクサー搬送ユニッ
ト30は、各カセットCと前記基板受渡し位置Pとの間を
移動可能に構成されており、基板の下面を吸着すること
によって基板を保持するアーム31や、第2図には現れて
いないが、アーム31をカセットCに対して進退駆動する
ためのアーム進退駆動機構およびアーム31を昇降させる
ためのアーム昇降機構が搭載されているとともに、基板
Wを載置するための基板載置具としての昇降自在な3本
の支持ピン32や、これらの支持ピン32に載置された基板
Wの位置合わせをするための基板整合機構などが搭載さ
れている。基板整合機構は、後に詳しく説明するが、支
持ピン32の両側にそれぞれ摺動自在に配設された整合板
34a,34bに、凸状の複数個の当接片33を基板Wと略同じ
曲率になるよう円弧状に配置しており、前記当接片33が
支持ピン32上の基板Wの外縁に当接離間するように整合
板34a,34bを往復駆動することにより、支持ピン32に対
して基板Wの位置合わせを行う。As will be described in detail later, the indexer transport unit 30 is configured to be movable between each cassette C and the substrate transfer position P, and has an arm 31 that holds the substrate by sucking the lower surface of the substrate, Although not shown in FIG. 2, an arm advancing / retreating drive mechanism for advancing / retreating the arm 31 with respect to the cassette C and an arm elevating / lowering mechanism for raising / lowering the arm 31 are mounted, and the substrate W is placed. There are mounted three vertically movable support pins 32 as a substrate mounting tool for performing the operation, a substrate alignment mechanism for aligning the substrate W placed on these support pins 32, and the like. The substrate alignment mechanism will be described in detail later, but an alignment plate slidably disposed on both sides of the support pin 32.
34a, 34b, a plurality of convex contact pieces 33 are arranged in an arc shape so as to have substantially the same curvature as the substrate W, and the contact pieces 33 contact the outer edge of the substrate W on the support pins 32. The alignment plates 34a and 34b are reciprocally driven so as to be in contact with and separated from each other, whereby the substrate W is aligned with the support pins 32.
基板11に載置されたカセットCの前後を挟むように、
昇降自在のコの字状のブラケット35が配備されており、
このブラケット35を両先端部に投光素子36と受光素子37
とからなる光センサが取り付けられている。本実施例で
は、アーム31による基板Wの取り出しの前に、ブラケッ
ト35をカセットCに沿って昇降することにより、前記光
センサで各カセットCの各収納溝に基板Wが収納されて
いるかどうかを検出し、それによって得られた各カセッ
トCの収納溝ごとの基板有り無しの情報を、図示しない
制御装置のメモリ内に記憶しておき、アーム31による基
板の取り出し時には、前記メモリ内の情報に基づいてア
ーム31の位置をセッティングするように構成されてい
る。Inserting the front and back of the cassette C placed on the substrate 11,
A U-shaped bracket 35 that can be raised and lowered is provided,
The bracket 35 is attached to both ends of the light emitting element 36 and the light receiving element 37.
An optical sensor consisting of and is attached. In the present embodiment, before the substrate W is taken out by the arm 31, the bracket 35 is moved up and down along the cassette C to determine whether the substrate W is stored in each storage groove of each cassette C by the optical sensor. The information on the presence or absence of the substrate for each storage groove of each cassette C obtained by the detection is stored in a memory of a control device (not shown), and when the substrate is taken out by the arm 31, the information in the memory is stored in the memory. The position of the arm 31 is set based on this.
第1図に戻って、インデクサー搬送ユニット30によっ
て、カセットCから取り出されて、受渡し位置Pへ移動
し、その位置Pへの基板Wの位置決めを行ってから、プ
ロセス搬送ユニット21へ基板Wを受け渡す。Returning to FIG. 1, the indexer transfer unit 30 takes the substrate W out of the cassette C, moves it to the delivery position P, positions the substrate W at the position P, and then receives the substrate W in the process transfer unit 21. hand over.
プロセス搬送ユニット21は、旋回可能なUの字状の基
板支持アーム22に基板Wを載置した状態で基板Wを移送
し、プロセスモジュール20に備えられたスピンナーユニ
ット231,232や、熱処理ユニット241〜243に基板Wを順
にセッティングしていく。プロセスモジュール20で処理
された基板Wは、前記基板受渡し位置Pにおいて、プロ
セス搬送ユニット21からインデクサー搬送ユニット30へ
受け渡された後、インデクサー搬送ユニット30によって
カセットC内に戻される。The process transfer unit 21 transfers the substrate W while the substrate W is placed on the rotatable U-shaped substrate support arm 22, and the spinner units 23 1 and 23 2 included in the process module 20 and heat treatment. The substrates W are set in order in the units 24 1 to 24 3 . The substrate W processed by the process module 20 is transferred from the process transfer unit 21 to the indexer transfer unit 30 at the substrate transfer position P, and then returned to the cassette C by the indexer transfer unit 30.
以下、第3図〜第7図を参照して、インデクサー搬送
ユニット30の詳細な構成を説明する。Hereinafter, the detailed configuration of the indexer transport unit 30 will be described with reference to FIGS. 3 to 7.
第3図は、インデクサー搬送ユニット30に備えられた
移動機構40、アーム昇降機構50、およびアーム進退駆動
機構60を示した分解斜視図である。なお、第3図では、
理解の容易のために、基板搬送装置30に備えられた支持
ピン32、当接片33、およびこれらを駆動するための機構
については、図示を省略している。FIG. 3 is an exploded perspective view showing the moving mechanism 40, the arm elevating mechanism 50, and the arm advancing / retreating drive mechanism 60 included in the indexer transport unit 30. In addition, in FIG.
For ease of understanding, illustration of the support pins 32, the contact pieces 33, and the mechanism for driving these provided on the substrate transfer device 30 is omitted.
移動機構40の可動ベース部材41は、第1図に示したカ
セット設置用の基台11に並設された一対のガイドレール
42に摺動自在に嵌め付けられている。可動ベース部材41
は、ガイドレール42に並設された螺軸43に螺合され、こ
の螺軸43の一端に連結された図示しないモータで螺軸43
が正逆方向に回転駆動されることにより、基台11に沿っ
て水平移動するようになっている。The movable base member 41 of the moving mechanism 40 is a pair of guide rails arranged side by side on the base 11 for installing the cassette shown in FIG.
It is slidably fitted to 42. Movable base member 41
Is screwed onto a screw shaft 43 juxtaposed on the guide rail 42, and is connected to one end of the screw shaft 43 by a motor (not shown).
Is rotated in the forward and reverse directions to horizontally move along the base 11.
移動機構40には、次のような構成のアーム昇降機構50
が搭載されている。The moving mechanism 40 includes an arm lifting mechanism 50 having the following configuration.
Is installed.
すなわち、可動ベース部材41には門形フレーム51が立
設されており、この門形フレーム51に上下方向にわたっ
て架設された一対のガイド軸52に、昇降部材53が摺動自
在に嵌入されている。昇降部材53は、ガイド軸52に並設
された螺軸54に螺合されており、この螺軸54を梁部材51
aに取り付けられたモータ55で正逆方向にベルト駆動す
ることにより、昇降するようになっている。昇降部材53
には、一対のブラケット56が設けられており、このブラ
ケット56の上にアーム進退駆動機構60が配設されてい
る。That is, the movable base member 41 is provided with a portal frame 51 standing upright, and the lifting member 53 is slidably fitted to a pair of guide shafts 52 that are vertically installed on the portal frame 51. . The elevating member 53 is screwed into a screw shaft 54 provided in parallel with the guide shaft 52, and the screw shaft 54 is used to connect the screw shaft 54 to the beam member 51.
The motor 55 attached to a drives the belt in the forward and reverse directions to move up and down. Lifting member 53
Is provided with a pair of brackets 56, and an arm advancing / retreating drive mechanism 60 is disposed on the brackets 56.
アーム進退駆動機構60のベース板61には、可動ベース
部材41の移動方向と直交する方向にガイドレール62が設
けられており、このガイドレール62にアーム基台63が摺
動自在に嵌め付けられている。このアーム基台63に立設
された支持棒64の上部に、基板Wを吸着保持するための
薄板状のアーム31が水平状態に片持ち支持されている。
このアーム31の先端部に、基板Wを真空吸着するための
吸着孔31aがある。A guide rail 62 is provided on a base plate 61 of the arm advancing / retreating drive mechanism 60 in a direction orthogonal to the moving direction of the movable base member 41, and an arm base 63 is slidably fitted to the guide rail 62. ing. A thin plate-shaped arm 31 for attracting and holding the substrate W is cantilevered in a horizontal state on an upper portion of a support rod 64 erected on the arm base 63.
At the tip of this arm 31, there is a suction hole 31a for vacuum-sucking the substrate W.
アーム進退駆動機構60のベース板61には、ガイドレー
ル62に平行して、無端状のベルト65が一対の従動プーリ
66a,66b間に張設されており、このベルト65の一部がア
ーム基台63と連結されている。また、従動プーリ66bと
主動プーリ67との間に無端状のベルト68が張設され、前
記主動プーリ67をステッピングモータ69で正逆方向に駆
動することにより、アーム基台63がガイドレール62に沿
って往復動するようになっている。An endless belt 65 is provided on the base plate 61 of the arm advancing / retreating drive mechanism 60 in parallel with the guide rail 62.
The belt 65 is stretched between 66a and 66b, and a part of the belt 65 is connected to the arm base 63. Further, an endless belt 68 is stretched between the driven pulley 66b and the driving pulley 67, and the driving pulley 67 is driven in the forward and reverse directions by a stepping motor 69, so that the arm base 63 is guided to the guide rail 62. It is designed to reciprocate along it.
ベース板61には、アーム基台63の原点位置を検出する
ために光センサ70が取り付けられており、この光センサ
70がアーム基台63から水平に延び出たL型の遮光板71を
検出することにより、アーム31の原点検出が行われる。An optical sensor 70 is attached to the base plate 61 to detect the origin position of the arm base 63.
The origin of the arm 31 is detected by detecting the L-shaped light-shielding plate 71 in which 70 horizontally extends from the arm base 63.
次に、第4図〜第6図を参照して、基板搬送装置30に
備えられた支持ピン32、当接片33、およびこれら駆動す
るための機構について説明する。Next, with reference to FIG. 4 to FIG. 6, the support pin 32, the contact piece 33, and the mechanism for driving them provided in the substrate transfer device 30 will be described.
第4図は、支持ピン32、当接片33、およびこれらの駆
動機構を搭載した状態の基板搬送装置30を、第3図のA
矢印方向からみた一部破断図、第5図は基板搬送装置30
を第4図のB矢印方向からみた図、第6図は基板搬送装
置30に搭載された基板整合機構の一部破断平面図であ
る。FIG. 4 shows the substrate transfer apparatus 30 in which the support pins 32, the contact pieces 33, and a drive mechanism for them are mounted,
FIG. 5 is a partially cutaway view seen from the direction of the arrow. FIG.
FIG. 6 is a view as seen from the direction of the arrow B in FIG. 4, and FIG. 6 is a partially cutaway plan view of the substrate alignment mechanism mounted on the substrate transfer device 30.
当接片33を基板Wの外縁に対して当接離間させるため
の基板整合機構は、次のように構成されている。The substrate alignment mechanism for bringing the contact piece 33 into contact with and separating from the outer edge of the substrate W is configured as follows.
門形フレーム51の上面には、第2図で説明した整合板
34a,36bを摺動可能に支持するためのベース板80が、片
持ち状に取り付けられている。このベース板80の中央部
には、第3図に示したアーム31の支持棒64を導出すると
ともに、基板出し入れ時の支持棒64の進退駆動を許容す
る長孔80a(第2図および第6図参照)が形成されてい
る。この長孔80aに直交する方向に、第4図に示すよう
に、一対のガイドレール81aが設けられ、このガイドレ
ール81aに摺動板82aが摺動自在に架設されている。この
摺動板82aに一方の整合板34aが支持板83aを介して支持
されている。長孔80aを挟んでガイドレール81aと対向す
る位置に同様の一対のガイドレール81bがあり(第5図
参照)、このガイドレール81bに摺動自在に架設された
摺動板82bに、他方の整合板34bが支持板83bを介して支
持されている。The matching plate described in FIG. 2 is provided on the upper surface of the gate frame 51.
A base plate 80 for slidably supporting 34a, 36b is attached in a cantilever manner. In the central portion of the base plate 80, a long hole 80a (FIGS. 2 and 6) for guiding the support rod 64 of the arm 31 shown in FIG. 3 and allowing the support rod 64 to move back and forth when the substrate is taken in and out (see FIGS. 2 and 6). (See the figure) is formed. As shown in FIG. 4, a pair of guide rails 81a are provided in a direction orthogonal to the elongated hole 80a, and a sliding plate 82a is slidably installed on the guide rails 81a. One matching plate 34a is supported by the sliding plate 82a via a supporting plate 83a. There is a pair of similar guide rails 81b at positions facing the guide rails 81a across the long hole 80a (see FIG. 5), and a sliding plate 82b slidably installed on the guide rails 81b has the other pair of guide rails 81b. The matching plate 34b is supported via the support plate 83b.
第4図に示すように、各摺動板82a,82bの下方には、
支軸84を介してベース板80に揺動自在に取り付けられた
リンク部材85がそれぞれ設けられている。各リンク部材
85は、連結ピン86を介して摺動板82a,82bにそれぞれ緩
く連結されている。また、各リンク部材85の下方には、
ベース板80上に設けられたガイドレール87に摺動自在に
嵌め付けられたUの字形状のプッシャー板88があり(第
6図、第7図参照)、このプッシャー板88が連結ピン89
を介して、各リンク部材85に緩く結合されている。第7
図に示すように、前記プッシャー板88が、後述するカム
機構によって同図の矢印C方向に押し出されると、その
作用力が連結ピン89を介して各リンク部材85に伝えら
れ、各リンク部材85は支軸84を中心にして矢印D方向に
揺動する。その結果、各リンク部材85の連結ピン86に連
結された整合板34a,34bが互いに近づく方向(矢印E方
向)に動き、整合板34a,34bに設けられた各当接片33が
基板Wの外縁に当接する。As shown in FIG. 4, below the sliding plates 82a and 82b,
Link members 85 are swingably attached to the base plate 80 via the support shafts 84, respectively. Each link member
85 is loosely connected to the sliding plates 82a and 82b via connecting pins 86, respectively. Further, below each link member 85,
There is a U-shaped pusher plate 88 which is slidably fitted to a guide rail 87 provided on the base plate 80 (see FIGS. 6 and 7), and this pusher plate 88 is a connecting pin 89.
Is loosely coupled to each link member 85 via. Seventh
As shown in the figure, when the pusher plate 88 is pushed out in the direction of arrow C in the figure by a cam mechanism described later, the acting force is transmitted to each link member 85 via the connecting pin 89, and each link member 85. Swings in the direction of arrow D around the support shaft 84. As a result, the matching plates 34a, 34b connected to the connecting pins 86 of the respective link members 85 move in the directions approaching each other (arrow E direction), and the contact pieces 33 provided on the matching plates 34a, 34b move to the substrate W. Contact the outer edge.
次に、支持ピン32を上下方向に移動可能に支持するピ
ン支持機構について説明する。Next, a pin support mechanism that supports the support pin 32 so as to be vertically movable will be described.
第6図に示すように、整合板34a,34bの間にある3本
の支持ピン32は、Uの字状の支持板90に支持されてい
る。支持板90の基部は昇降部材91に連結さており、この
昇降部材91が門形フレーム51に上下方向に取り付けられ
たガイドレール92に摺動自在に嵌め付けられている。第
5図に示すように、昇降部材91はコイルバネ93によって
下方向に付勢されており、アーム31がカセットCに対し
て基板Wの出し入れを行っているときには、同図に示し
たような下限位置にある。なお、同図に鎖線で示したア
ーム31は、下限位置にあるときのアーム位置を示してい
る。As shown in FIG. 6, the three support pins 32 between the matching plates 34a and 34b are supported by a U-shaped support plate 90. A base portion of the support plate 90 is connected to an elevating member 91, and the elevating member 91 is slidably fitted to a guide rail 92 attached to the portal frame 51 in the vertical direction. As shown in FIG. 5, the elevating member 91 is urged downward by the coil spring 93, and when the arm 31 is loading / unloading the substrate W to / from the cassette C, the lower limit as shown in FIG. In position. The arm 31 shown by the chain line in the figure shows the arm position when it is at the lower limit position.
なお、整合板34a,34bに設けられた当接片33の上端、
および下限位置にある支持ピン32の上端を、第4図およ
び第5図に示したように、カセットCの最下段にある基
板W′の収納高さよりも低い位置になるように設定する
ことにより、アーム31がカセットCに対して基板Wを出
し入れする際に、当接片33や支持ピン32が基板搬送の障
害にならないようにしている。The upper ends of the contact pieces 33 provided on the matching plates 34a, 34b,
By setting the upper end of the support pin 32 at the lower limit position to a position lower than the storage height of the substrate W'at the lowermost stage of the cassette C, as shown in FIGS. 4 and 5. The contact piece 33 and the support pin 32 do not hinder the transfer of the substrate when the arm 31 moves the substrate W into and out of the cassette C.
次に、上述した当接片33や支持ピン32を駆動するため
の機構について説明する。Next, a mechanism for driving the contact piece 33 and the support pin 32 described above will be described.
第4図および第6図に示すように、門形フレーム51の
一方の側壁にガイドレール94が上下方向に設けられてお
り、このガイドレール94に、部材97cが摺動自在に嵌め
付けられており、この部材97cが部材97bを介してカム部
材95に連結されている。カム部材95が設けられた門形フ
レーム51の側壁の内側にエアーシリンダ96が取り付けら
れており、このエアーシリンダ96のロッド96aと前記カ
ム部材95とが、連結部材97a,97bを介して連結されてい
る。カム部材95に形成されたカム溝95aの作動曲面は、
その上方がプッシャー板88のスライド方向(第4図の左
方向)に凸状態になるような湾曲部分95bをもち、湾曲
部分95bの下方は鉛直に延びている。このカム部材95
に、Lの字状の従動部材98の下方に取り付けられたカム
ホロア99が嵌入されており、この従動部材98の他端がプ
ッシャー板88に連結されている。上述したプッシャー板
88および従動部材98は、本発明における従動機構に相当
している。As shown in FIGS. 4 and 6, a guide rail 94 is vertically provided on one side wall of the portal frame 51, and a member 97c is slidably fitted to the guide rail 94. The member 97c is connected to the cam member 95 via the member 97b. An air cylinder 96 is attached to the inside of the side wall of the portal frame 51 provided with the cam member 95, and the rod 96a of the air cylinder 96 and the cam member 95 are connected via connecting members 97a and 97b. ing. The operating curved surface of the cam groove 95a formed in the cam member 95 is
The upper portion thereof has a curved portion 95b that is convex in the sliding direction of the pusher plate 88 (leftward in FIG. 4), and the lower portion of the curved portion 95b extends vertically. This cam member 95
A cam follower 99 attached below the L-shaped follower member 98 is fitted in, and the other end of the follower member 98 is connected to the pusher plate 88. Pusher plate mentioned above
The 88 and the driven member 98 correspond to the driven mechanism in the present invention.
第5図に示すように、カム部材95に連結された部材97
bの下方には、押し上げ部材100が、昇降部材91の下端と
離間した状態で取り付けられており、カム部材95が上昇
駆動されている途中で、この押し上げ部材100が昇降部
材91の下端に当接することにより、その後のカム部材95
の上昇に伴って押し上げ部材100がコイルバネ98の付勢
力に抗して昇降部材91を押し上げて支持ピン32が上昇す
るように構成されている。カム部材95に連結された押し
上げ部材100は、本発明における押し上げ機構に相当し
ている。なお、第5図に示した符号101は押し上げ部材1
00の下端に当接して、カム部材95の下方への動きを規制
するストッパである。As shown in FIG. 5, a member 97 connected to the cam member 95.
Below b, a push-up member 100 is attached in a state of being separated from the lower end of the elevating member 91, and the push-up member 100 contacts the lower end of the elevating member 91 while the cam member 95 is being driven to rise. By making contact, the subsequent cam member 95
The push-up member 100 is configured to push up the elevating member 91 against the biasing force of the coil spring 98 in accordance with the rise of the support pin 32 and to rise. The push-up member 100 connected to the cam member 95 corresponds to the push-up mechanism in the present invention. In addition, reference numeral 101 shown in FIG.
It is a stopper that contacts the lower end of 00 to restrict the downward movement of the cam member 95.
次に、上述した構成を備えたインデクサー搬送ユニッ
ト30の動作を、第8図を参照して説明する。Next, the operation of the indexer transport unit 30 having the above configuration will be described with reference to FIG.
カセットCから所定の基板Wを取り出す場合の動作
は、次のとおりである。The operation of taking out a predetermined substrate W from the cassette C is as follows.
まず、第3図に示した移動機構40の螺軸43が回転駆動
することによって、可動ベース部材41が水平移動して、
所定のカセットCに対向する位置にまでくる。上述の移
動途中、あるいは移動後にアーム昇降機構50のモータ55
が駆動して、アーム31を昇降させることにより、アーム
31を前記カセットCの取り出し対象となっている基板W
の収納溝位置に対応する高さにセッティングする。次
に、アーム進退駆動機構60のステッピングモータ69が正
転駆動することにより、アーム31をカセットC内の取り
出し対象となる基板Wの下方に進入させる。そして、ア
ーム31を少し上昇させることにより、基板Wをアーム31
上に移載し、アーム31が基板Wを吸着保持する。基板W
の吸着後、ステッピングモータ69が逆転駆動して、アー
ム31を原点位置(第2図示の位置)にまで後退させる。
このような基板取り出し動作のとき、支持ピン32は下限
位置にまで下降している。First, when the screw shaft 43 of the moving mechanism 40 shown in FIG. 3 is rotationally driven, the movable base member 41 horizontally moves,
It comes to a position facing a predetermined cassette C. Motor 55 of arm lifting mechanism 50 during or after the above-mentioned movement
Is driven to move the arm 31 up and down,
31 is a substrate W from which the cassette C is taken out
Set the height corresponding to the storage groove position of. Next, when the stepping motor 69 of the arm advance / retreat drive mechanism 60 is driven to rotate forward, the arm 31 is advanced below the substrate W to be taken out from the cassette C. Then, the substrate W is moved to the arm 31 by raising the arm 31 a little.
The substrate W is transferred to the upper side, and the arm 31 sucks and holds the substrate W. Substrate W
After the suction, the stepping motor 69 is driven in the reverse direction to move the arm 31 back to the origin position (position shown in FIG. 2).
At the time of such a substrate taking-out operation, the support pins 32 are lowered to the lower limit position.
基板Wを吸着保持した状態でアーム31が原点位置に戻
ると、移動機構40の可動ベース部材41が水平移動して、
基板Wを第1図に示した基板受渡し位置Pまで搬送す
る。この水平移動の間に、あるいは、その後に、アーム
昇降機構50のモータ55を駆動して、アーム31を下限位置
にまで下降させる。アーム31の下限位置は待機位置にあ
る支持ピン32の上端よりも下方に設定されているので、
アーム31の下降の際に吸着が解除されることにより、ア
ーム31上の基板Wが、第8図(A1),(B1)に示すよう
に、待機位置にある支持ピン32の上に受渡される。この
とき、第4図に示したエアーシリンダ96のロッド96aは
縮退している(第4図示の状態)ので、カム部材95は下
限位置(原点位置)にある。したがって、第9図に示す
ように、従動部材98に設けられたカムホロア99はカム溝
95aの上限位置P0にあるので、整合板34a,34bは開いた状
態になっている。When the arm 31 returns to the origin position while holding the substrate W by suction, the movable base member 41 of the moving mechanism 40 horizontally moves,
The substrate W is transported to the substrate delivery position P shown in FIG. During or after this horizontal movement, the motor 55 of the arm lifting mechanism 50 is driven to lower the arm 31 to the lower limit position. Since the lower limit position of the arm 31 is set below the upper end of the support pin 32 at the standby position,
By releasing the suction when the arm 31 descends, the substrate W on the arm 31 is transferred onto the support pin 32 in the standby position, as shown in FIGS. 8 (A1) and (B1). It At this time, since the rod 96a of the air cylinder 96 shown in FIG. 4 is retracted (state shown in FIG. 4), the cam member 95 is at the lower limit position (origin position). Therefore, as shown in FIG. 9, the cam follower 99 provided on the driven member 98 is
Since it is at the upper limit position P 0 of 95a, the matching plates 34a, 34b are in an open state.
アーム31が下限位置に達すると、エアーシリンダ96が
駆動されて、ロッド96aが伸長し、カム部材95が上方に
移動する。カム部材95の上昇に伴い、第9図に示すよう
に、カムホロア99がカム溝95aの湾曲部分95bに沿って、
同図における左方向に変位するので、従動部材98が同方
向に変位し、その結果として、整合板34a,34bが互いに
近づくように移動する。カムホロア99が湾曲部分95bの
頂点P1にきたとき、すなわち、整合板34a,34bが相互に
最も近づいたとき、各当接片33に対する内接円が基板径
と同程度になるように整合板34a,34bの位置関係が予め
調整されているので、仮り基板Wが位置ズレを起こした
状態で支持ピン32に載置されていても、上述の整合板34
a,34bの移動途中に、当接片33が基板Wの外縁に接触し
て基板Wを水平変移させることで、基板Wは支持ピン32
に対して常に一定の位置関係になるように位置合わせさ
れる(第8図(A2)、(B2)参照)。When the arm 31 reaches the lower limit position, the air cylinder 96 is driven, the rod 96a extends, and the cam member 95 moves upward. As the cam member 95 rises, the cam follower 99 moves along the curved portion 95b of the cam groove 95a, as shown in FIG.
Since it is displaced to the left in the figure, the driven member 98 is displaced in the same direction, and as a result, the matching plates 34a and 34b move toward each other. When the cam follower 99 reaches the apex P 1 of the curved portion 95b, that is, when the matching plates 34a and 34b are closest to each other, the matching plate is adjusted so that the inscribed circle for each contact piece 33 is approximately the same as the substrate diameter. Since the positional relationship between 34a and 34b is adjusted in advance, even if the temporary substrate W is placed on the support pin 32 in a state where the positional deviation occurs, the above-mentioned matching plate 34
During the movement of a and 34b, the contact piece 33 comes into contact with the outer edge of the substrate W and horizontally displaces the substrate W, so that the substrate W is supported by the support pins 32.
Are aligned so that they always have a fixed positional relationship (see FIGS. 8A2 and 8B2).
カム部材95がさらに上昇すると、カムホロア99は第9
図のP1位置から次第に右方向に戻り、P2位置にまで進ん
だところで、元の位置に戻る。これにより整合板34a,34
bは元の開放状態に復帰する。上述したカム部材95の作
動曲面の湾曲部分95bは、本発明におけるカム部材の第
1の上昇移動曲面に相当している。When the cam member 95 further rises, the cam follower 99 moves to the 9th position.
It gradually returns to the right from the P 1 position in the figure, and returns to the original position when it reaches the P 2 position. Thereby, the matching plates 34a, 34
b returns to the original open state. The curved portion 95b of the operation curved surface of the cam member 95 described above corresponds to the first upward movement curved surface of the cam member in the present invention.
カムホロア99がP2位置にくるまで、カム部材95が上昇
したときに、カム部材95に連結された押し上げ部材100
が、昇降部材91の下端に当接し、それ以後、カム部材95
の上昇に伴って、昇降部材91が上昇する。これにより、
位置合わせ済みの基板Wを載置した状態で支持ピン32が
上昇し、基板受渡し高さにまで基板Wが持ち上げられる
(第8図(A3),(B3)参照)。この基板受け渡し位置
は、第9図に示すカムホロア99のP3位置に対応してい
る。上述したP2位置からP3位置までのカム部材95の作動
曲面は、本発明におけるカム部材の第2の上昇移動曲面
に相当している。When the cam member 95 rises until the cam follower 99 reaches the P 2 position, the push-up member 100 connected to the cam member 95
Comes into contact with the lower end of the elevating member 91, and thereafter, the cam member 95
The elevating member 91 rises with the rise of the. This allows
The support pins 32 are lifted while the aligned substrate W is placed, and the substrate W is lifted to the substrate transfer height (see FIGS. 8A3 and 8B3). The substrate delivery position corresponds to the P 3 position of the cam follower 99 shown in Figure 9. The operation curved surface of the cam member 95 from the P 2 position to the P 3 position described above corresponds to the second upward movement curved surface of the cam member in the present invention.
移動機構40が基板受渡し位置Pに達し、基板Wの位置
決めが完了すると、この位置に来たプロセス搬送ユニッ
ト21の基板支持アーム22が、第8図(A4),(B4)に示
すように、支持ピン32に載置された基板Wの下方に進入
する。その後、基板支持アーム22が上昇することによ
り、基板Wが基板支持アーム22上に受渡され、基板支持
アーム22は、この基板Wを上述したように、プロセスモ
ジュール20の各処理ユニットに移送する。When the moving mechanism 40 reaches the substrate delivery position P and the positioning of the substrate W is completed, the substrate support arm 22 of the process transfer unit 21 that has come to this position, as shown in FIGS. 8 (A4) and (B4), It enters below the substrate W placed on the support pins 32. Thereafter, as the substrate support arm 22 is raised, the substrate W is transferred to the substrate support arm 22, and the substrate support arm 22 transfers the substrate W to each processing unit of the process module 20, as described above.
次に、基板WをカセットCに搬入する場合の動作につ
いて説明する。Next, the operation of loading the substrate W into the cassette C will be described.
基板Wの搬入は、上述した基板Wの搬出動作と略逆の
順序で行われる。すなわち、プロセス搬送ユニット30
は、基板受渡し位置Pで、アーム31は下降した状態で、
支持ピン32は上昇した状態で待機している。その後、プ
ロセスモジュール20で処理された基板Wは、基板支持ア
ーム22に載置された状態で、基板受渡し位置Pに移送さ
れる。その後、プロセス搬送ユニット21の基板支持アー
ム22が下降することによって基板Wが支持ピン32に受渡
される。The loading of the substrate W is performed in substantially the reverse order of the above-described unloading operation of the substrate W. That is, the process transfer unit 30
Is at the substrate transfer position P, the arm 31 is in the lowered state,
The support pin 32 stands by in a raised state. Thereafter, the substrate W processed by the process module 20 is transferred to the substrate transfer position P while being placed on the substrate support arm 22. After that, the substrate W is transferred to the support pins 32 by lowering the substrate support arm 22 of the process transport unit 21.
この状態で、カムホロア99は第9図に示したように、
カム部材95のP3位置にある。基板Wが受渡されると、エ
アーシリンダ96のロード96aが縮退することにより、カ
ム部材95が下降し、カムホロワ99はP3位置からP2位置に
向けて移動する。この間、カム部材95の下降に伴って、
昇降部材91が下降することにより、支持ピン32が下降し
て、基板Wを下限位置にセッティングする。カム部材95
が更に下降して、カムホロア99がP2位置からP1位置に移
動することにより、当接片33が上述と同様に、前記基板
Wの外縁に当接するように駆動されて、基板Wの位置合
わせが行われる。カム部材95が原点位置にまで下降する
と、カムホロア99がP0位置に戻り、これにより当接片33
は基板Wの外縁から離れた初期状態に復帰する。In this state, the cam follower 99, as shown in FIG.
The cam member 95 is at the P 3 position. When the substrate W is delivery, by loading the air cylinder 96 96a is degenerated, the cam member 95 is lowered, the cam followers 99 move toward the P 2 position from the P 3 position. During this time, as the cam member 95 descends,
When the elevating member 91 descends, the support pins 32 descend and set the substrate W to the lower limit position. Cam member 95
Is further lowered and the cam follower 99 is moved from the P 2 position to the P 1 position, whereby the contact piece 33 is driven to contact the outer edge of the substrate W in the same manner as described above, and the position of the substrate W is moved. Matching is done. When the cam member 95 descends to the home position, the cam follower 99 returns to the P 0 position, which causes the contact piece 33
Returns to the initial state away from the outer edge of the substrate W.
上述の位置合わせの後、アーム31が上昇し、支持ピン
32上で位置合わせされた基板Wがアーム31上に載置さ
れ、吸着保持される。その後、移動機構40は元のカセッ
トCに対向する位置にまで水平駆動されるとともに、ア
ーム31は、その基板Wが収納されていた収納溝の高さに
まで昇降される。After the above-mentioned alignment, the arm 31 rises and the support pin
The substrate W aligned on 32 is placed on the arm 31 and suction-held. After that, the moving mechanism 40 is horizontally driven to a position facing the original cassette C, and the arm 31 is moved up and down to the height of the storage groove in which the substrate W was stored.
移動機構40の移動およびアーム31の高さセッティング
が完了すると、アーム進退駆動機構60が駆動されて、ア
ーム31がカセットC内に進入し、基板Wが所定の収納溝
内に搬入される。その後、アーム31が基板Wの吸着を解
除した状態で、若干下降することにより、基板Wが収納
溝に受け渡される。基板Wの受渡しが終わると、アーム
31が退出駆動され、原点位置に戻る。When the movement of the moving mechanism 40 and the height setting of the arm 31 are completed, the arm advancing / retreating drive mechanism 60 is driven, the arm 31 enters the cassette C, and the substrate W is carried into a predetermined storage groove. After that, the substrate W is transferred to the storage groove by slightly descending with the arm 31 releasing the adsorption of the substrate W. When the transfer of the substrate W is completed, the arm
31 is driven to exit and returns to the home position.
以上のように、基板Wの搬入が終わると、基板搬送装
置30は、次の基板Wの取り出し動作に備えて待機する。As described above, when the loading of the substrate W is completed, the substrate transfer apparatus 30 waits for the next operation of taking out the substrate W.
なお、本発明は、以下のように構成することも可能で
ある。The present invention can also be configured as follows.
(1) 実施例では、カム部材95のカム溝95a内にカム
ホロア99を嵌入させることにより、カム部材95の上下動
に伴って、カムホロア99に連結された従動機構を水平方
向に変移させたが、カム部材95の作動面は必ずしもカム
溝である必要はなく、カム部材の側辺に形成した曲面で
あってもよい。この場合、カムホロア99を前記作動曲面
にバネ等によって押しつけて追従させるように構成すれ
ばよい。(1) In the embodiment, by inserting the cam follower 99 into the cam groove 95a of the cam member 95, the driven mechanism connected to the cam follower 99 is horizontally displaced along with the vertical movement of the cam member 95. The operating surface of the cam member 95 does not necessarily have to be the cam groove, but may be a curved surface formed on the side of the cam member. In this case, the cam follower 99 may be configured to follow the operating curved surface by pressing it with a spring or the like.
(2) また、実施例では、カム部材95を駆動するため
のアクチュエータとしてエアーシリンダ96を用いたが、
これはモータによって駆動される螺子送り機構によって
カム部材を昇降させるものであってもよい。(2) In the embodiment, the air cylinder 96 is used as the actuator for driving the cam member 95.
This may be one that raises and lowers the cam member by a screw feeding mechanism driven by a motor.
(3) 本発明装置が使用される基板処理装置の一例と
して、基板にフォトレジストなどをコーティング処理す
る半導体製造装置を例に採って説明したが、本発明は、
例えば現像、エッチング、拡散処理装置などの、種々の
基板処理装置にも適用することが可能である。(3) As an example of the substrate processing apparatus in which the apparatus of the present invention is used, a semiconductor manufacturing apparatus for coating a substrate with a photoresist or the like has been described as an example.
For example, the present invention can be applied to various substrate processing apparatuses such as a developing, etching, and diffusion processing apparatus.
(4) また、対象となる基板は、実施例のような半導
体基板に限らず、例えば、液晶表示器用のガラス基板
や、金属板など、種々の基板を対象とすることができ
る。(4) Further, the target substrate is not limited to the semiconductor substrate as in the embodiment, and various substrates such as a glass substrate for a liquid crystal display and a metal plate can be targeted.
(5) さらに、基板整合機構の当接片はピン構造のも
のに限らず、端辺が基板の外径と同様な曲率の凹状に形
成された板状部材を基板の外縁に当接離間させて、基板
の位置合わせを行うようにしてもよい。また、基板が矩
形状である場合には、その形状に合わせて当接片が配置
形成されることはいうまでもない。(5) Further, the contact piece of the substrate alignment mechanism is not limited to the pin structure, and a plate-shaped member whose end side is formed in a concave shape having a curvature similar to the outer diameter of the substrate is brought into contact with and separated from the outer edge of the substrate. Then, the substrates may be aligned. When the substrate is rectangular, it goes without saying that the contact pieces are arranged and formed according to the shape.
このように、本発明の各部は種々変形実施可能であ
り、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、それらの変形態
様も本発明に含まれるものである。As described above, each part of the present invention can be variously modified and implemented, and the modified modes are also included in the present invention without departing from the scope of the present invention.
<発明の効果> 以上の説明から明らかなように、本発明に係る基板の
位置合わせ支持装置は、単一のアクチュエータによって
カム部材を昇降させることにより、基板の位置合わせを
行うための基板整合機構と、基板が載置される支持ピン
を支えるピン支持機構とを駆動するようにしたので、基
板の位置合わせ動作や基板の昇降動作の相互のタイミン
グ制御をする必要がなくなり、制御系が簡素化されると
ともに、信頼性の高い動作を行わせることができる。<Effects of the Invention> As is apparent from the above description, the substrate alignment support device according to the present invention is a substrate alignment mechanism for aligning substrates by moving a cam member up and down by a single actuator. And the pin support mechanism that supports the support pins on which the substrate is placed are driven, so there is no need to perform mutual timing control of the substrate alignment operation and substrate lifting operation, and the control system is simplified. In addition, the operation can be performed with high reliability.
第1図ないし第9図は本発明の一実施例に係り、第1図
は実施例に係る基板の位置合わせ支持装置が使用される
基板処理装置の外観斜視図、第2図はインデクサーモジ
ュールの平面図、第3図はインデクサーモジュールにお
けるインデクサー搬送ユニットに備えられた移動機構,
アーム昇降機構,アーム進退駆動機構を示した分解斜視
図、第4図はインデクサー搬送ユニットに備えられた基
板載置機構および基板整合機構の構成を示した第3図の
A方向矢視図、第5図は第4図のB方向矢視図、第6図
は基板載置機構および基板整合機構を平面視した一部破
断図、第7図は基板整合機構の説明図、第8図は実施例
装置の動作説明図、第9図はカム部材の昇降に伴うカム
ホロアの位置の説明図である。 第10図は従来装置の概略構成を示した図である。 W、W′……半導体基板(基板) 32……支持ピン 33……当接片(基板整合機構) 34a,34b……整合板(基板整合機構) 85……リンク部材(基板整合機構) 88……プッシャー板(従動機構) 98……従動部材(従動機構) 99……カムホロア(従動機構) 90……支持板(ピン支持機構) 91……昇降部材(ピン支持機構) 92……ガイドレール(ピン支持機構) 95……カム部材 96……エアーシリンダ(アクチュエータ) 100……押し上げ部材(押し上げ機構)1 to 9 relate to an embodiment of the present invention, FIG. 1 is an external perspective view of a substrate processing apparatus in which a substrate alignment support device according to the embodiment is used, and FIG. 2 is an indexer module. FIG. 3 is a plan view of the moving mechanism provided in the indexer transport unit in the indexer module,
FIG. 4 is an exploded perspective view showing the arm elevating mechanism and the arm advancing / retreating drive mechanism. FIG. 4 is a view taken in the direction of arrow A in FIG. 3 showing the configurations of the substrate placing mechanism and the substrate aligning mechanism provided in the indexer transport unit. 5 is a view in the direction of arrow B in FIG. 4, FIG. 6 is a partially cutaway view of the substrate placing mechanism and the substrate aligning mechanism in plan view, FIG. 7 is an explanatory view of the substrate aligning mechanism, and FIG. FIG. 9 is an explanatory diagram of the operation of the example device, and FIG. 9 is an explanatory diagram of the position of the cam follower as the cam member moves up and down. FIG. 10 is a diagram showing a schematic configuration of a conventional device. W, W '... Semiconductor substrate (substrate) 32..Support pin 33..Abutment piece (substrate alignment mechanism) 34a, 34b .... Alignment plate (substrate alignment mechanism) 85 ... Link member (substrate alignment mechanism) 88 ...... Pusher plate (driven mechanism) 98 …… Driven member (driven mechanism) 99 …… Cam follower (driven mechanism) 90 …… Support plate (pin support mechanism) 91 …… Elevation member (pin support mechanism) 92 …… Guide rail (Pin support mechanism) 95 …… Cam member 96 …… Air cylinder (actuator) 100 …… Pushing member (Pushing mechanism)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岡本 健男 京都府京都市伏見区羽束師古川町322番 地 大日本スクリーン製造株式会社洛西 工場内 (72)発明者 福冨 義光 京都府京都市伏見区羽束師古川町322番 地 大日本スクリーン製造株式会社洛西 工場内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Takeo Okamoto 322 Furukawa-cho, Fushimi-ku, Kyoto, Kyoto Prefecture Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. 322 Furukawacho Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd.
Claims (1)
載置された基板の外縁に当接する位置と、基板の外縁か
ら離れた位置とにわたって水平往復動させることによっ
て、基板の位置合わせを行い、基板の位置合わせが行わ
れた後に支持ピンを上昇移動させて、基板を基板受渡し
高さにまで持ち上げる基板の位置合わせ支持装置であっ
て、 上下方向に移動可能なカム部材と、 カム部材を上下方向に駆動するアクチュエータと、 カム部材の上下動に連動して水平方向に往復動する従動
機構と、 複数個の当接片を備え、従動機構の水平往復動に連動す
ることにより、複数個の当接片が複数本の支持ピン上に
載置された基板の外縁に当接する位置と、基板の外縁か
ら離れた位置とにわたって水平往復動する基板整合機構
と、 複数本の支持ピンと、 複数本の支持ピンを支持し、上下方向に移動可能なピン
支持機構と、 カム部材の上下動に連動し、上昇移動の途中でピン支持
機構に突き当たって、これを上昇させる押し上げ機構と
を備え、 カム部材は、 複数個の当接片を、複数本の支持ピン上に載置された基
板の外縁から離れた位置に位置させ、そして、支持ピン
を、基板の位置合わせ位置に位置させる原点位置と、 複数個の当接片を、複数本の支持ピン上に載置された基
板の外縁から離れた位置から基板の外縁に当接する位置
まで至らせた後に基板の外縁から離れるように移動さ
せ、そして、支持ピンを、基板の位置合わせ位置に位置
させる第1の上昇移動曲面と、 複数個の当接片を、基板の外縁から離れた位置に位置さ
せ、そして、支持ピンを、基板の位置合わせ位置から基
板受け渡し高さまで上昇移動させる第2の上昇移動曲面
とをたどって上昇移動するものであり、 上記のものを備えたことを特徴とする基板の位置合わせ
支持装置。1. A substrate is horizontally reciprocated between a position where a plurality of abutting pieces abut on an outer edge of a substrate placed on a plurality of support pins and a position apart from the outer edge of the substrate. Is a substrate alignment support device that raises the substrate to the substrate transfer height by moving the support pins upward after the substrate alignment has been performed, and a cam member that can move in the vertical direction. An actuator that drives the cam member in the vertical direction, a driven mechanism that reciprocates in the horizontal direction by interlocking with the vertical movement of the cam member, and a plurality of contact pieces that interlock with the horizontal reciprocation of the driven mechanism. This allows a plurality of contact pieces to horizontally reciprocate between a position where the plurality of contact pieces contact the outer edge of the substrate placed on the plurality of support pins and a position separated from the outer edge of the substrate. With support pins Equipped with a pin support mechanism that supports multiple support pins and can move in the vertical direction, and a push-up mechanism that interlocks with the vertical movement of the cam member and hits the pin support mechanism during the upward movement to raise it. The cam member positions the plurality of contact pieces at positions away from the outer edge of the board placed on the plurality of support pins, and positions the support pins at the board alignment position. Position and move the multiple contact pieces away from the outer edge of the substrate after reaching from the position away from the outer edge of the substrate placed on the multiple support pins to the position where it contacts the outer edge of the substrate And the support pin is located at the alignment position of the substrate, and the plurality of abutment pieces are located at a position away from the outer edge of the substrate, and the support pin is located at the substrate. Substrate receiving from the alignment position A substrate positioning and supporting device for moving up and down along a second rising movement curved surface for moving up to the transfer height, comprising the above.
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1990
- 1990-05-28 JP JP2137491A patent/JP2552017B2/en not_active Expired - Lifetime
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