JP2523736B2 - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JP2523736B2
JP2523736B2 JP62327940A JP32794087A JP2523736B2 JP 2523736 B2 JP2523736 B2 JP 2523736B2 JP 62327940 A JP62327940 A JP 62327940A JP 32794087 A JP32794087 A JP 32794087A JP 2523736 B2 JP2523736 B2 JP 2523736B2
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尋史 篠原
勝己 堂阪
康弘 小西
隆宏 小松
宏之 山▲崎▼
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体記憶装置に関し、特にアクセス時
間の高速な半導体記憶装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device having a high access time.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

近年、例えばダイナミック型MOSRAM等の高集積メモリ
装置では、その高集積化とともに、より高速なアクセス
時間(読出しに要する時間)が望まれている。
In recent years, in a highly integrated memory device such as a dynamic MOSRAM, a higher access rate (a time required for reading) has been desired along with higher integration.

第2図は従来の半導体記憶装置のメモリセル及びセン
スアンプ回路の概念の一例を簡単化して示した図であ
り、図において、1はnチャネルMISトランジスタQ0
びコンデンサC0からなるメモリセル、2はnチャネルMI
SトランジスタQ1,Q2からなる第1のフリップフロップ型
センスアンプ、3はpチャネルMISトランジスタQ3,Q4
らなる第2のフリップフロップ型センスアンプ、4はn
チャネルMISトランジスタQ5からなる第1のフリップフ
ロップ活性化手段、5はpチャネルMISトランジスタQ6
からなる第2のフリップフロップ活性化手段である。ま
たnチャネルMISトランジスタQ7はビット線BLと▲
▼の電位をイコライズするためのトランジスタ、nチャ
ネルMISトランジスタQ8,Q9はそれぞれビット線BL,▲
▼を所定の電位(例えばVCC/2;VCCは電源電圧)にプ
リチャージするためのトランジスタ、nチャネルMISト
ランジスタQ10,Q11はそれぞれビット線BL,▲▼をI/
O線,▲▼線(読出し書込み線)に接続するため
のトランジスタである。
FIG. 2 is a diagram showing a simplified example of the concept of a memory cell and a sense amplifier circuit of a conventional semiconductor memory device, in which 1 is a memory cell composed of an n-channel MIS transistor Q 0 and a capacitor C 0 , 2 is n channel MI
A first flip-flop type sense amplifier composed of S transistors Q 1 and Q 2 , 3 is a second flip-flop type sense amplifier composed of p-channel MIS transistors Q 3 and Q 4 , and 4 is an n-type.
First flip-flop activating means comprising a channel MIS transistor Q 5, 5 are p-channel MIS transistor Q 6
Is a second flip-flop activation means. Also, the n-channel MIS transistor Q 7 is connected to the bit line BL by ▲.
The transistors for equalizing the potential of ▼ and the n-channel MIS transistors Q 8 and Q 9 are the bit line BL and ▲, respectively.
A transistor for precharging ▼ to a predetermined potential (for example, V CC / 2; V CC is a power supply voltage), n-channel MIS transistors Q 10 and Q 11 are bit lines BL and ▲ ▼ are I / O, respectively.
This is a transistor for connecting to the O line and ▲ ▼ line (read / write line).

次に本従来例の動作を第3図のタイミングチャート図
を用いて説明する。
Next, the operation of this conventional example will be described with reference to the timing chart of FIG.

時刻T1に信号EQがハイレベルからロウレベルに下がる
と、イコライズトランジスタQ7,プリチャージトランジ
スタQ8,Q9がオフするのでビット線BLおよび▲▼は
フローティング状態となる。時刻T2にワードラインWLが
ロウレベルからハイレベルになると、トランジスタQ0
オンする。例えばメモリセルにハイレベルが記憶されて
いる場合、実線のようにビット線BLのレベルがわずかに
上昇する。そこで時刻T3にS0がロウレベルからハイレベ
ル、がハイレベルからロウレベルになるとトランジ
スタQ5,Q6がオンしてノードN1は0V,ノードN2はVCCにな
る。それでフリップフロップ2および3が活性化され、
ビット線BL及び▲▼間に生じた前述のわずかな電位
差を増幅して、BLをVCCレベルに、▲▼を0Vに変化
させる。時刻T4にコラムデコーダ信号Yがロウレベルか
らハイレベルになりビット線に生じた電位差がI/O線
(これはあらかじめ例えば中間電位にプリチャージして
おく)に伝達され、その後増幅されて外部出力端子(図
示せず)にハイレベル出力があらわれる。メモリセルに
ロウレベルが記憶されている場合は、点線のように▲
▼のレベルがVCCとなりBLのレベルが0Vとなる。時刻T
5にワード線がハイレベルからロウレベルに下がり、時
刻T6に信号EQが再びハイレベルになるとイコライズトラ
ンジスタQ7及びプリチャージトランジスタQ8,Q9がオン
してビット線BLと▲▼を等しくVCC/2レベルの内部
電源VBLに接続させる。
When the signal EQ falls from the high level to the low level at time T 1 , the equalizing transistor Q 7 and the precharge transistors Q 8 and Q 9 are turned off, so that the bit line BL and ▲ ▼ are in a floating state. When the word line WL changes from low level to high level at time T 2 , the transistor Q 0 turns on. For example, when the high level is stored in the memory cell, the level of the bit line BL slightly rises like the solid line. Therefore, at time T 3, when S 0 changes from the low level to the high level and 0 changes from the high level to the low level, the transistors Q 5 and Q 6 are turned on and the node N 1 becomes 0V and the node N 2 becomes V CC . Then flip-flops 2 and 3 are activated,
The aforementioned slight potential difference generated between the bit line BL and ▲ ▼ is amplified to change BL to V CC level and ▲ ▼ to 0V. At time T 4 , the column decoder signal Y changes from low level to high level and the potential difference generated on the bit line is transmitted to the I / O line (which is precharged to, for example, the intermediate potential in advance), and then amplified and output to the outside. A high level output appears at the terminal (not shown). When the low level is stored in the memory cell,
The level of ▼ becomes V CC and the level of BL becomes 0V. Time T
When the word line falls from high level to low level at 5 and the signal EQ becomes high level again at time T 6 , the equalizing transistor Q 7 and the precharge transistors Q 8 and Q 9 are turned on, and the bit lines BL and ▲ ▼ are set to V Connect to CC / 2 level internal power supply V BL .

以上が読出し動作の概略であるが、書込み動作につい
ては、書込みバッファ(図示せず)により外部書込みデ
ータを相補の形(例えばDin,▲▼)でI/O線に印
加する。すると時刻T4にコラムデコーダ信号Yがロウレ
ベルからハイレベルになると読出し時とは逆にI/O線及
び▲▼線のレベルがビット線BL及び▲▼に伝
達されることになる。この時ワード線WLはハイレベルな
のでビット線のレベルがメモリセルに伝えられ、書込み
が行なわれる。
The above is the outline of the read operation. Regarding the write operation, external write data is applied to the I / O line in a complementary form (for example, D in , ▲ ▼) by a write buffer (not shown). Then, when the column decoder signal Y changes from the low level to the high level at time T 4 , the levels of the I / O line and ▲ ▼ line are transmitted to the bit lines BL and ▲ ▼, which is the reverse of the read operation. At this time, since the word line WL is at the high level, the level of the bit line is transmitted to the memory cell and writing is performed.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

従来の半導体記憶装置は以上のように読出しと書込み
を同一のI/Oバス対を用いて行なうように構成されてい
るので、読出しの際にもビット線対とI/O線対がトラン
ジスタQ10,Q11を介して接続される。高速化のためには
このビット線対とI/O線対の接続を時間的に早くする必
要がある。しかし、例えばワード線WLの立ち上がり時間
T2からセンス開始時間T3の間にこのビット線対の接続を
行なった場合、I/O線の負荷容量がビット線に加わるの
で読出しレベルが低下し、場合によっては誤動作となる
恐れがある。即ち読出しと書込みを同一のI/Oバス対を
用いて行なう場合には高速化が困難であるという問題点
があった。
Since the conventional semiconductor memory device is configured to read and write by using the same I / O bus pair as described above, the bit line pair and the I / O line pair are connected to the transistor Q when reading. Connected via 10 and Q 11 . In order to increase the speed, it is necessary to speed up the connection between the bit line pair and the I / O line pair. However, for example, the rise time of the word line WL
If this bit line pair is connected between T 2 and the sense start time T 3 , the load level of the I / O line is added to the bit line, which lowers the read level and may cause malfunction. . That is, when reading and writing are performed using the same I / O bus pair, it is difficult to increase the speed.

この発明は上記のような問題点を解消するためになさ
れたもので、アクセス時間を大幅に高速化できる半導体
記憶装置を得ることを目的とする。
The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to obtain a semiconductor memory device capable of significantly speeding up access time.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

この発明に係る半導体記憶装置は、読出し専用のデー
タ線対と書込み専用のデータ線対とを設け、該読出し専
用のデータ線対はコラムデコーダの出力により活性化さ
れるカレントミラー型の増幅器の一部である出力ノード
を構成し、該カレントミラー型の増幅器の入力ゲートに
ビット線対を接続したものである。
The semiconductor memory device according to the present invention is provided with a read-only data line pair and a write-only data line pair, and the read-only data line pair is one of the current mirror type amplifiers activated by the output of the column decoder. The output node, which is a section of the current mirror type amplifier, is connected to the input gate of the current mirror type amplifier.

〔作用〕[Action]

この発明においては、上記カレントミラー型の増幅器
がビット線間に生じた微小な電位差を直ちに増幅して読
出しデータ線間の電位差を拡大する。
In the present invention, the current mirror type amplifier immediately amplifies the minute potential difference generated between the bit lines to expand the potential difference between the read data lines.

〔実施例〕〔Example〕

以下、この発明の一実施例を図について説明する。 An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例による半導体記憶装置のメ
モリセル及びセンサアンプ回路の概念を簡単化して示し
た図であり、図において、1はnチャネルMISトランジ
スタQ0及びコンデンサC0からなるメモリセル、2はnチ
ャネルMISトランジスタQ1,Q2からなる第1のフリップフ
ロップ型センスアンプ、3はpチャネルMISトランジス
タQ3,Q4からなる第2のフリップフロップ型センスアン
プ、4はnチャネルMISトランジスタQ5からなる第1の
フリップフロップ活性化手段、5はpチャネルMISトラ
ンジスタQ6からなる第2のフリップフロップ活性化手段
である。またnチャネルMISトランジスタQ7はビット線B
Lと▲▼の電位をイコライズするためのトランジス
タ、nチャネルMISトランジスタQ8,Q9はそれぞれビット
線BL,▲▼を所定の電位(例えばVCC/2;VCCは電源電
圧)にプリチャージするためのトランジスタ、nチャネ
ルMISトランジスタQ10,Q11はそれぞれビット線BL,▲
▼をnチャネルMISトランジスタQ12,Q13を介してIL
線,▲▼線(書込み専用データ線)に接続するため
のトランジスタである。nチャネルMISトランジスタ
Q12,Q13は書込み時にオンする書込み制御用トランジス
タである。pチャネルMISトランジスタQ14,Q15及びnチ
ャネルMISトランジスタQ16,Q17,Q18,Q19はカレントミラ
ー型増幅器を構成するトランジスタであり、OL線,▲
▼線(読出し専用データ線)は該カレントミラー型増
幅器の内部ノード(出力ノード)を構成している。nチ
ャネルMISトランジスタQ16,Q17のゲートにはビット線B
L,▲▼が接続されており、該カレントミラー型増幅
器の入力となっている。nチャネルMISトランジスタ
Q18,Q19のゲートにはコラムデコーダ出力信号Yが接続
されており、該カレントミラー型増幅器の活性化トラン
ジスタである。
FIG. 1 is a diagram showing a simplified concept of a memory cell and a sensor amplifier circuit of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention. In the figure, 1 is composed of an n-channel MIS transistor Q 0 and a capacitor C 0. Memory cell 2, 2 is a first flip-flop type sense amplifier composed of n-channel MIS transistors Q 1 and Q 2 , 3 is a second flip-flop type sense amplifier composed of p-channel MIS transistors Q 3 and Q 4 , and 4 is n first flip-flop activating means comprising a channel MIS transistor Q 5, 5 denotes a second flip-flop activating means comprising a p-channel MIS transistor Q 6. Also, the n-channel MIS transistor Q 7 is a bit line B
The transistors for equalizing the potentials of L and ▲ ▼, and the n-channel MIS transistors Q 8 and Q 9 are precharged to the predetermined potential (for example, V CC / 2; V CC is the power supply voltage) on the bit line BL, ▲ ▼, respectively. The n-channel MIS transistors Q 10 and Q 11 are provided for the bit line BL and ▲ respectively.
▼ through IL through n-channel MIS transistors Q 12 , Q 13
This is a transistor for connecting to the line and ▲ ▼ line (write-only data line). n-channel MIS transistor
Q 12 and Q 13 are write control transistors that are turned on during writing. The p-channel MIS transistors Q 14 and Q 15 and the n-channel MIS transistors Q 16 , Q 17 , Q 18 and Q 19 are transistors forming a current mirror type amplifier, and the OL line, ▲
The line (read-only data line) constitutes an internal node (output node) of the current mirror type amplifier. Bit line B is used for the gates of the n-channel MIS transistors Q 16 and Q 17.
L and ▲ ▼ are connected and serve as an input of the current mirror type amplifier. n-channel MIS transistor
A column decoder output signal Y is connected to the gates of Q 18 and Q 19 and is an activation transistor of the current mirror type amplifier.

次に本実施例の動作を第4図のタイミングチャート図
を用いて説明する。
Next, the operation of this embodiment will be described with reference to the timing chart of FIG.

まず読出し動作について説明する。 First, the read operation will be described.

時刻T1に信号EQがハイレベルからロウレベルに下がる
と、イコライズトランジスタQ7,プリチャージトランジ
スタQ8,Q9がオフするのでビット線BL及び▲▼はフ
ローティング状態となる。時刻T2にワードラインWLがロ
ウレベルからハイレベルになると、トランジスタQ0がオ
ンする。例えばメモリセルにハイレベルに記憶されてい
る場合、実線のようにビット線BLのレベルがわずかに上
昇する。一方、コラムデコーダ出力Yを例えば時刻T1
ロウレベルからハイレベルにするとpチャネルMISトラ
ンジスタQ14,Q15及びnチャネルMISトランジスタQ16,Q
17,Q18,Q19及びOL線,▲▼線からなるカレントミラ
ー型増幅器が活性化される。そこで時刻T2にワードライ
ンWLがロウレベルからハイレベルになりビット線BLのレ
ベルがわずかに上昇すると該カレントミラー型増幅器が
直ちにその電位差増幅してその出力ノードを構成する読
出し専用データ線対間の電位差を拡大する。即ちこの例
では▲▼線をロウレベルにする。その後別の増幅器
により読出し専用データ線対間の電位差がさらに増幅さ
れて外部出力端子(図示せず)にハイレベル出力があら
われる。ここで、ビット線対BL,▲▼と読出し専用
データ線対OL,▲▼は直接接続されていないので、
読出し専用データ線対OL,▲▼の負荷容量やレベル
はビット線対BL,▲▼のレベルには何ら影響を与え
ない。また書込み専用データ線対IL,▲▼も読出し
時には書込み信号WがロウレベルなのでトランジスタQ
12,Q13はオフしており、ビット線対BL,▲▼のレベ
ルには何ら影響を与えない。即ちワード線の立ち上がり
直後においても読出し動作を行なうことができ、アクセ
ス時間を大幅に高速化することができる。
When the signal EQ falls from the high level to the low level at time T 1 , the equalizing transistor Q 7 and the precharge transistors Q 8 and Q 9 are turned off, so that the bit line BL and ▲ ▼ are in a floating state. When the word line WL changes from low level to high level at time T 2 , the transistor Q 0 turns on. For example, when the data is stored in the memory cell at a high level, the level of the bit line BL slightly rises like a solid line. On the other hand, when the column decoder output Y is changed from low level to high level at time T 1 , for example, p-channel MIS transistors Q 14 and Q 15 and n-channel MIS transistors Q 16 and Q are generated.
The current mirror type amplifier consisting of 17 , Q 18 , Q 19 and OL line, ▲ ▼ line is activated. Therefore, at time T 2 , the word line WL changes from low level to high level and the level of the bit line BL slightly rises, so that the current mirror type amplifier immediately amplifies the potential difference between the read-only data line pair forming its output node. Increase the potential difference. That is, in this example, the ▲ ▼ line is set to low level. After that, the potential difference between the read-only data line pair is further amplified by another amplifier, and a high level output appears at the external output terminal (not shown). Here, since the bit line pair BL, ▲ ▼ and the read-only data line pair OL, ▲ ▼ are not directly connected,
The load capacitance and level of the read-only data line pair OL, ▲ ▼ have no influence on the level of the bit line pair BL, ▲ ▼. In addition, the write-only data line pair IL, ▲ ▼ also has the transistor Q because the write signal W is at the low level during reading.
12 and Q 13 are off, and have no effect on the level of the bit line pair BL, ▲ ▼. That is, the read operation can be performed immediately after the rise of the word line, and the access time can be significantly shortened.

時刻T3にS0がロウレベルからハイレベル、S0がハイレ
ベルからロウレベルになるとトランジスタQ5,Q6がオン
してノードN1は0V,ノードN2はVCCになる。それでフリッ
プフロップ2および3が活性化され、ビット線BL及び▲
▼間に生じた前述のわずかな電位差を増幅して、BL
をVCCレベルに、▲▼を0Vに変化させる。メモリセ
ルにロウレベルが記憶されている場合は、点線のように
▲▼のレベルがVCCとなりBLのレベルが0Vとなる。
時刻T5にワード線がハイレベルからロウレベルに下が
り、時刻T6に信号EQが再びハイレベルになるとイコライ
ズトランジスタQ7及びプリチャージトランジスタQ8,Q9
がオンしてビット線BLと▲▼を等しくVCC/2レベル
の内部電源VBLに接続させる。
When S 0 changes from the low level to the high level and S 0 changes from the high level to the low level at time T 3 , the transistors Q 5 and Q 6 are turned on and the node N 1 becomes 0V and the node N 2 becomes V CC . Then, the flip-flops 2 and 3 are activated, and the bit lines BL and ▲
▼ Amplify the slight potential difference between
To V CC level and ▲ ▼ to 0V. When the low level is stored in the memory cell, the level of ▲ ▼ becomes V CC and the level of BL becomes 0 V as shown by the dotted line.
At time T 5 , the word line drops from high level to low level, and at time T 6 , the signal EQ becomes high level again, the equalizing transistor Q 7 and the precharge transistors Q 8 and Q 9
Turns on to connect the bit lines BL and ▲ ▼ equally to the V CC / 2 level internal power supply V BL .

以上が読出し動作の概略であるが、書込み動作につい
ては、書込みバッファ(図示せず)により外部書込みデ
ータを相補の形(例えばDin,▲▼)でIL線対に印
加する。書込み信号Wがハイレベルなのでトランジスタ
Q12,Q13はオンしており、時刻T4にコラムデコーダ信号
YがロウレベルからハイレベルになるとIL線及び▲
▼線のレベルがビット線BL及び▲▼に伝達されるこ
とになる。この時ワードWLはハイレベルなのでビット線
のレベルがメモリセルに伝えられ、書込みが行なわれ
る。
The above is the outline of the read operation. Regarding the write operation, external write data is applied to the IL line pair in a complementary form (for example, D in , ▲ ▼) by a write buffer (not shown). Since the write signal W is at high level, it is a transistor
Q 12 and Q 13 are on, and when the column decoder signal Y changes from low level to high level at time T 4 , the IL line and ▲
The level of the ▼ line will be transmitted to the bit lines BL and ▲ ▼. At this time, since the word WL is at the high level, the bit line level is transmitted to the memory cell and writing is performed.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上のように、この発明によれば、読出し専用データ
線対と書込み専用データ線対を設け、該読出し専用デー
タ線対はコラムデコーダの出力により活性化されるカレ
ントミラー型の増幅器の一部である出力ノードを構成
し、該カレントミラー型増幅器の入力ゲートにビット線
対を接続する構成としたから、ワード線の立ち上がり直
後においても読出し動作を行なうことができ、アクセス
時間を大幅に高速化することができるという効果があ
る。
As described above, according to the present invention, the read-only data line pair and the write-only data line pair are provided, and the read-only data line pair is a part of the current mirror type amplifier activated by the output of the column decoder. Since a certain output node is configured and the bit line pair is connected to the input gate of the current mirror type amplifier, the read operation can be performed even immediately after the rising of the word line, and the access time can be significantly shortened. The effect is that you can.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図はこの発明の一実施例による半導体記憶装置の接
続を示す回路図、第2図は従来の半導体記憶装置の接続
を示す回路図、第3図は従来の半導体記憶装置の動作を
説明するためのタイミングチャート図、第4図は本発明
の半導体記憶装置の動作を説明するためのタイミングチ
ャート図である。 1はメモリセル、2,3はセンスアンプ、4,5はフリップフ
ロップ活性化手段。 なお図中同一符号は同一又は相当部分を示す。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a connection of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a circuit diagram showing a connection of a conventional semiconductor memory device, and FIG. 3 is an operation of the conventional semiconductor memory device. FIG. 4 is a timing chart for explaining the operation, and FIG. 4 is a timing chart for explaining the operation of the semiconductor memory device of the present invention. 1 is a memory cell, 2 and 3 are sense amplifiers, and 4 and 5 are flip-flop activation means. The same reference numerals in the drawings indicate the same or corresponding parts.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小西 康弘 兵庫県伊丹市瑞原4丁目1番地 三菱電 機株式会社エル・エス・アイ研究所内 (72)発明者 小松 隆宏 兵庫県伊丹市瑞原4丁目1番地 三菱電 機株式会社エル・エス・アイ研究所内 (72)発明者 山▲崎▼ 宏之 兵庫県伊丹市瑞原4丁目1番地 三菱電 機株式会社エル・エス・アイ研究所内 (56)参考文献 特開 昭62−46486(JP,A) 特開 昭62−183098(JP,A) 特開 昭62−192997(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Yasuhiro Konishi 4-1-1 Mizuhara, Itami-shi, Hyogo Prefecture, LSE Research Laboratory, Mitsubishi Electric Corporation (72) Takahiro Komatsu 4-1-1 Mizuhara, Itami-shi, Hyogo Prefecture Address Mitsubishi Electric Co., Ltd. LSI Research Laboratory (72) Inventor Yama-saki Hiroyuki 4-chome, Mizuhara, Itami City, Hyogo Prefecture Mitsubishi Electric Co., Ltd. LSI Research Laboratory (56) References Special Kai 62-46486 (JP, A) JP 62-183098 (JP, A) JP 62-192997 (JP, A)

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】複数のワード線及び複数のビット線対と、
これらワード線とビット線の交点に配置された複数のメ
モリセルと、コラムデコーダと、上記複数のビット線対
に対し共通に設けられた読出し専用のデータ線対及び書
込み専用のデータ線対とを有する半導体記憶装置におい
て、 上記複数のビット線対に対して共通に、上記読出し専用
のデータ線対に接続され、この読出し専用のデータ線対
の両読出し専用データ線に電流を流すための電流負荷手
段と、上記複数のビット線対のそれぞれに対応して設け
られ、上記読出し専用のデータ線対の一方の読出し専用
データ線と所定電位ノードとの間に直列に接続される、
上記コラムデコーダから出力される対応のビット線対に
対応のコラムデコーダ信号に基づいて導通・非導通が制
御される第1の活性化素子および上記対応のビット線対
の一方のビット線に現れる電位に応じてコンダクタンス
が変化する第1の可変コンダクタンス素子と、上記複数
のビット線対のそれぞれに対応して設けられ、上記読出
し専用のデータ線対の他方の読出し専用データ線と所定
電位ノードとの間に直列に接続される、上記コラムデコ
ーダから出力される対応のビット線対に対応のコラムデ
コーダ信号に基づいて導通・非導通が制御される第2の
活性化素子および上記対応のビット線対の他方のビット
線に現れる電位に応じてコンダクタンスが変化する第2
の可変コンダクタンス素子とを有し、上記コラムデコー
ダにより選択されるビット線対に現れる電位差を増幅し
て読出データとして上記読出し専用のデータ線対に与え
るカレントミラー型増幅器を備えたことを特徴とする半
導体記憶装置。
1. A plurality of word lines and a plurality of bit line pairs,
A plurality of memory cells arranged at the intersections of the word lines and the bit lines, a column decoder, and a read-only data line pair and a write-only data line pair commonly provided for the plurality of bit line pairs are provided. In a semiconductor memory device having the same, a current load is commonly connected to the plurality of bit line pairs and is connected to the read-only data line pair, and a current is passed through both read-only data lines of the read-only data line pair. Means and a plurality of bit line pairs are provided corresponding to each of the plurality of bit line pairs, and are connected in series between one read-only data line of the read-only data line pair and a predetermined potential node.
A first activation element whose conduction / non-conduction is controlled based on a column decoder signal corresponding to the corresponding bit line pair output from the column decoder and a potential appearing on one bit line of the corresponding bit line pair. Of the first variable conductance element whose conductance changes in accordance with each of the plurality of bit line pairs and the read-only data line of the read-only data line pair and the predetermined potential node. A second activating element and a corresponding bit line pair, which are connected in series between and are controlled to be conductive / non-conductive based on a corresponding column decoder signal output from the column decoder. The conductance changes according to the potential appearing on the other bit line of the second
And a variable mirror conductance element, and a current mirror type amplifier for amplifying the potential difference appearing on the bit line pair selected by the column decoder and giving it to the read-only data line pair as read data. Semiconductor memory device.
【請求項2】上記カレントミラー型増幅器は、少なくと
も第1の導電型の第1,第2,第3,第4のMISトランジスタ
および第2の導電型の第1,第2のMISトランジスタを含
み、 上記第2の導電型の第1のMISトランジスタのドレイン
は第1の電源に、ゲート及びソースは第1の出力ノード
に接続され、 上記第2の導電型の第2のMISトランジスタのドレイン
は上記第1の電源に、ゲートは上記第1の出力ノード
に、ソースは第2の出力ノードに接続され、 上記第1の導電型の第1のMISトランジスタのドレイン
は上記第1の出力ノードに、ゲートは上記ビット線対の
一方に、ソースは第1の内部ノードに接続され、 上記第1の導電型の第2のMISトランジスタのドレイン
は上記第2の出力ノードに、ゲートは上記ビット線対の
他方に、ソースは第2の内部ノードに接続され、 上記第1の導電型の第3のMISトランジスタのドレイン
は上記第1の内部ノードに、ゲートは上記コラムデコー
ダの出力信号に、ソースは第2の電源に接続され、 上記第1の導電型の第4のMISトランジスタのドレイン
は上記第2の内部ノードに、ゲートは上記コラムデコー
ダの出力信号に、ソースは上記第2の電源に接続されて
いることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導
体記憶装置。
2. The current mirror type amplifier includes at least a first conductivity type first, second, third and fourth MIS transistors and a second conductivity type first and second MIS transistors. The drain of the first MIS transistor of the second conductivity type is connected to the first power supply, the gate and the source thereof are connected to the first output node, and the drain of the second MIS transistor of the second conductivity type is The first power source, the gate is connected to the first output node, the source is connected to the second output node, the drain of the first conductivity type first MIS transistor is connected to the first output node. , The gate is connected to one of the bit line pairs, the source is connected to the first internal node, the drain of the first conductivity type second MIS transistor is to the second output node, and the gate is to the bit line. On the other side of the pair, the source is the second internal node The drain of the third MIS transistor of the first conductivity type is connected to the first internal node, the gate is connected to the output signal of the column decoder, and the source is connected to the second power supply. The drain of the conductivity type fourth MIS transistor is connected to the second internal node, the gate is connected to the output signal of the column decoder, and the source is connected to the second power supply. A semiconductor memory device according to claim 1.
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