JP2521335Y2 - 自由ピストンポンプ装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この考案は、ガスで作動する自由
ピストン・ポンプ装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】圧力ガスを用いて自由浮遊ピストンを駆
動し、圧力流体を圧送する方法は従来から知られてい
る。この種のポンプを使用することによって、電動型の
モーター駆動ポンプを使用する必要性がなくなった。出
願人が知っている最も適切な従来技術は、スミス（Ｃ．
Ｖ．Ｓｍｉｔｈ）の米国特許第２，８５８，７６７号に
開示されたものであり、これはデュアルポンプの四方向
制御弁を使用している。しかし、このような装置は、同
期させることが困難であり、あらゆる負荷状態で動作可
能に保持することが難しい。それに加えて、２個のピス
トンのみが使用されているので、出力流体は脈動を生じ
てしまう。

【０００３】

【考案が解決しようとする課題】この考案は斯かる事情
に鑑みてなされたものであって、圧送流体が脈動を起こ
すことがなく、あらゆる負荷状態で作動させることが可
能の自由ピストンポンプを提供することを目的とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】この考案によれば、少な
くとも３組のピストン集合体を有するガス作動型自由ピ
ストンポンプ装置が提供される。各制御弁は第１及び第
２の位置を持ち、他のピストン集合体がその排出行程の
終了点の近傍にきたときに、これに応答して制御弁をそ
の第１位置に位置させる通路手段が設けられている。そ
の第１位置にあるときに、圧力ガスがその供給源からピ
ストン集合体に連結された制御弁へ与えられる。ピスト
ン集合体がその排出行程を終了したときに、これに繋が
る制御弁をその第２の位置に位置させる通路手段が設け
られている。この第２位置にあるときに、圧力ガスがこ
れに繋がるピストン集合体から取り除かれ、ピストン集
合体が排気される。

【０００５】

【作用】特に、少なくとも３組のピストン集合体が、夫
々ガス部と水圧部とに分割された各シリンダ内をそれぞ
れ往復移動するように設けられている。圧力ガスの供給
源は適宜の制御弁を介して各シリンダのガス部に連結さ
れている。各シリンダのガス部はピストンの排出（出
力）ストロークの終末において位置する部分に若干間隔
を置いて設けられた２個の制御ポートを有する。第１の
ポートがピストンにより開けられると、ガス圧力が対応
する上記通路を介して第２のピストン集合体の制御弁に
与えられ、これを移動させ、その出力ストロークを開始
させる。第２のポートが第１のピストン集合体の出力の
終に開放されると、そのピストン集合体の制御弁が圧力
ガス供給源との連結を遮断し、ガスの帰還路へ連結する
ように作動する。従って、先行するシリンダの出力スト
ロークの終了に先立ち、次のシリンダが圧力ガスで加圧
され、出力が常に一定の静水圧に維持される。

【０００６】

【実施例】以下、添付の図面を参照してこの考案の一実
施例について説明する。図面には、ハウジング１２を有
する自由ピストンポンプシステム１０が示されている。
このハウジング１２内には、ガス制御弁セクション１６
と流体制御弁セクション１８とを併せ持つ圧送部分１４
が配設されている。ガス制御弁セクション１６はガス供
給源２０から圧送部分１４のガス部への圧力ガスの供給
を制御する。流体制御弁セクション１８は圧送部分１４
の水圧部から負荷側２２への及びリザーバー２４から水
圧部への圧力流体の流れを制御する。

【０００７】ガス制御弁セクション１６は圧送部分１４
内のピストンの位置に応じて機能する。ピストンがその
出力ストロークの終了に近付くと、これがその隣の次順
の制御弁を作動させ、その次順の圧送部分へ圧力ガスを
継続的に供給するように作動する。ピストンがその出力
ストロークの終点に達すると、これがそのシリンダのガ
ス部分をガス帰還路即ち雰囲気に繋ぎ加圧を中止し、ピ
ストンがリザーバーの水圧流体の圧力で戻り、次の出力
即ち圧送ストロークに先立って、圧送部分１４の水圧部
を圧力流体で満たす。このようにして自由ピストンポン
プ集合体の圧送部分１４に圧力ガスを送ることによっ
て、高圧流体の連続流が得られる。

【０００８】圧送部分１４が３系列の独立した圧送セク
ションＰＳ１、ＰＳ２及びＰＳ３を有し、ＰＳ１は、供
給された圧力ガスによって高圧流体が押し出される排出
ストローク即ち出力ストロークの終点に達した状態で示
されている。ＰＳ２は、その出力ストロークを開始した
状態で示されている。ＰＳ３は出力ストロークを開始す
るための準備状態で示されている。この位置において、
ＰＳ３の水圧部は、圧力ガスの供給があった時に排出す
る流体で完全に満たされている。しかしながら、圧力ガ
スは未だＰＳ３に掛けられていない。

【０００９】ＰＳ１がチャンバＣ１及びＨ１に分割され
るシリンダＣＬＹ１を有し、圧力ガスがチャンバＣ１に
供給され、一方、チャンバＨ１内には圧力流体が送られ
る。ピストンロッド２６により連結されたピストンＰ１
及びＰ４がシリンダ１内に往復移動可能に設置されてい
る。ピストンＰ１がチャンバＣ１内に位置し、一方、ピ
ストンＰ４がチャンバＨ１内に位置する。チャンバＣ１
は、ピストンＰ１が出力ストロークの終にチャンバＣ１
内に位置するあたりに僅かにずれた形で長手方向に離隔
した１対のポートＡ及びＢを持っている。

【００１０】圧送セクションＰＳ２はＰＳ１と同様に構
成されており、チャンバンＣ２及びＨ２に分割されたシ
リンダＣＹＬ２を有し、このチャンバＣ２及びＨ２内に
は夫々ピストンＰ２及びＰ５が配設されている。ピスト
ンＰ２及びＰ５はピストンロッド２８により相互に連結
されている。ポートＣ及びＤがポートＡ及びＢと同様に
チャンバＣ２内に配設されている。

【００１１】圧送セクションＰＳ３も前述の各セクショ
ンと同じであり、チャンバＣ３及びＨ３に分割されたシ
リンダＣＹＬ３を有し、このチャンバＣ３及びＨ３内に
ピストンロッド３０により相互に連結されたピストンＰ
３及びＰ６が位置し、チャンバＣ３が前述の如くに位置
するポートＥ及びＦを持っている。

【００１２】ガス制御弁セクション１６は３個の弁Ｖ
１、Ｖ２及びＶ３を有する。制御弁Ｖ１が圧送セクショ
ンＰＳ１と連結し、制御弁Ｖ２が圧送セクションＰＳ２
と連結し、制御弁Ｖ３が圧送セクションＰＳ３と連結し
ている。各弁Ｖ１，Ｖ２及びＶ３は供給源２０からチャ
ンバＣ１，Ｃ２及びＣ３への圧力ガスの供給を制御する
か、又はガス帰還路即ち出口ポート３２にて示される外
気に向かうチャンバＣ１，Ｃ２及びＣ３の排気を制御す
る。

【００１３】弁Ｖ１がポート３８，４０及び４２を持つ
シリンダ３６内に可動部分であるスプール３４を有す
る。このスプール３４のランド４４及び４６が夫々ポー
ト３８及び４２を開閉してそれぞれチャンバＣ１を圧力
ガスの供給源２０又は帰還路に連絡する。スプール３４
は戻り止め４８により制御される２位置のうちのいずれ
か一方の位置のみをとることができる。この戻り止めが
凹所５２内に位置するときは、第１図に示す位置にスプ
ール３４を保持し、凹所５０内に位置するときは、スプ
ール３４をポート４２が閉じられポート３８が開いた位
置に保持する。

【００１４】弁Ｖ２も弁Ｖ１と同様に構成されており、
ポート５８，６０及び６２を持つシリンダ５６内に移動
可能に設置されたスプール５４を有する。ランド６４及
び６６が夫々ポート５８及び６２を開閉する。戻り止め
６８が凹所又は溝７０及び７２により表される２位置に
スプール５４を位置させ、図面に示される位置にあると
きには、ランド６４がポート５８を開放し、圧力ガスを
チャンバＣ２に供給する。

【００１５】弁Ｖ３も弁Ｖ１及びＶ２と同様であり、ポ
ート７８，８０及び８２を持つシリンダ７６内にスプー
ル７４を有する。ランド８４及び８６が夫々ポート７８
及び８２を開閉する。もどり止め８８が凹所又は溝９０
及び９２内に位置してスプール７４を２つの位置の内の
一つに位置させる。第１図に示す位置にあるときには、
ポート８２が開放され、ガス帰還路又は雰囲気とチャン
バＣ３とを連結する。

【００１６】流体制御弁セクション１８が弾性付勢され
たチェック弁をそれぞれ２個１組で３系列有する。チェ
ック弁ＣＶ１，ＣＶ２及びＣＶ３が夫々リザーバー２４
からチャンバＨ１，Ｈ２及びＨ３への低圧流体の供給を
制御する。チェック弁ＣＶ１がスプリング１０２により
図面上で右方に連続的に付勢されたポペット弁１００を
有する。ポペット弁１００がポート１０４を持ち、ポペ
ット弁１００が図面に示す位置にあるときに、低圧流体
がこれを介してチャンバＨ１内に流入する。弁座１０６
がポペット弁１００を受け止め、ガス圧力がチャンバＣ
１に付加されたときに、リザーバー２４からチャンバＨ
１内への低圧流体の流れを止め、ピストンＰ４が高圧流
体を、以下に詳述するように、圧送する。

【００１７】チェック弁ＣＶ２はチェック弁ＣＶ１と同
様であり、スプリング１１２により右方に連続的に付勢
されたポート１１４を形成するポペット弁１１０を有す
る。弁座１１６がポペット弁１１０を受け止めて下記の
如く流体の流れをブロックする。

【００１８】チェック弁ＣＶ３もチェック弁ＣＶ１及び
ＣＶ２と同様であり、スプリング１２２により右方に弾
性負荷されたポペット１２０を有し、このポペット１２
０が又ポート１２４を持ち、それを介して流体が貯蔵庫
２４からチャンバＨ３内に流入する。弁座１２６はポペ
ット１２０を受け止め、チャンバＨ３内に流入する流体
の流れをシールし、ブロックする。

【００１９】弁ＥＶ１，ＥＶ２及びＥＶ３はバネにより
弾性負荷されたポペット弁であり、圧送セクションＰＳ
１，ＰＳ２及びＰＳ３の出力ストロークの間にのみ、夫
々チャンバＨ１，Ｈ２及びＨ３から高圧流体の流出を許
容するように機能する。ポペット弁ＥＶ１がスプリング
１３２により図面上で上に向かって弾性負荷されたポペ
ット１３０を有し、このポペット１３０は図示の位置に
あるときはポート１３４を閉じ、出口を介して流体が負
荷側２２へ流れることをブロックしている。従って、ピ
ストンＰ４が出力ストロークの終点に達すると、それ以
上の液圧流体がチャンバＨ１から負荷側２２へ圧送され
なくなり、スプリング１３２がポペット１３０をポート
１３４をシールする位置に押し戻す。以下に詳述する如
く、この時、スピール３４はポート４２を既に開放して
おり、チャンバＣ１は大気に繋がっており、従って、リ
ザーバー内の圧力の掛かった流体がチェック弁ＣＶ１を
開放しており、この低圧流体のチャンバＨ１への流入が
可能で、ピストンＰ１，Ｐ４が左方に向けて移動を開始
し、これによりチャンバＨ１が低圧流体で充填される。

【００２０】尚、当該技術者には明らかな如く、この時
リザーバーから環流する液圧流体は大気より高い圧力を
有するが、Ｈ１から圧送される圧送水圧よりは遥かに低
い圧力を持つ低圧流体である。又、バネ１０２はこの還
流圧力によって開放するが、バネ１３２はこの還流圧力
によっては開かれず、圧送する高圧によってのみ開閉す
る、バネ力をそれぞれ持っている。

【００２１】弁ＥＶ２はポペット弁ＥＶ１と同様であ
り、スプリング１３８により弾性負荷されてポート１４
０を制御するポペット１３６を有する。上述したと同様
に、ポペット弁Ｖ２のスピール５４の位置によって、圧
力ガスがポート５８及び６０を介してチャンバＣ２に供
給され、これを加圧し、ピストンＰ２及びＰ５を図面の
右方に移動させる。この移動により圧力がチャンバＨ２
内の流体に加えられ、これにより、ポート１４０がスプ
リング１３８の力に抗して開放され、高圧流体が出口を
介して負荷側２２へ流れる。

【００２２】弁ＥＶ３も弁ＥＶ１及びＥＶ２と同様であ
り、スプリング１４４により図面に示す位置に弾性負荷
されてポート１４６を閉塞するポペット１４２を有す
る。前述の如く、図示の位置においては、スプール７４
がポート８２及び８０を介して雰囲気とチャンバＣ３と
を連結している。低圧流体はチャンバＨ３を満たすべく
弁ＣＶ３を介して既に流入しており、即ち、圧送セクシ
ョンＰＳ３のピストン集合体が左方へ移動し、チャンバ
Ｈ３を低圧流体で完全に満たしており、従って、圧力ガ
スがその供給源からチャンバＣ３へ供給されれば、直ち
に、圧送セクションＰＳ３が高圧流体を圧送できる態勢
にある。

【００２３】図示の如く、通路Ｇ，Ｈ及びＩが夫々チャ
ンバＣ３，Ｃ２及びＣ１を夫々ポート８０，６０及び４
０へ連絡している。雰囲気へ排気する出口ポート３２が
通路１５０によりポート４２，６２及び８２へ連結して
いる。他方、通路１５３は入口３１を介して圧力ガスを
その供給源２０からポート３８，５８及び７８へ供給す
る。

【００２４】次に、この装置の動作について説明する。
上述の図面に示すシステムにおいては各３系列の圧送セ
クションが次々に連続して作動し、高圧流体を夫々出口
を介して各チャンバから負荷側へ圧送する。次順の圧送
セクションが加圧され、先行する圧送セクションのピス
トンがその出口ストロークの終に近付くと、圧送を開始
する。従って、２系列の圧送セクションが一時的に同時
に高圧流体を負荷側へ排出する。このようにして、圧送
流の脈動が実質的に除去される。

【００２５】説明のために、ピストンＰ１が図示の位置
よりも左方にあり、ポートＡ及びＢをいずれも閉塞して
いる位置にあると仮定し、更に、スプール３４が図示の
位置より右方にあり、ポート４２が閉塞されポート３８
が開放されており、従って、チャンバＣ１を加圧する位
置にあると仮定する。この条件においては、圧送セクシ
ョンＰＳ１のピストンは出力ストローク中にあるが、そ
の終端に近づきつつある。先ず、ピストンＰ１がポート
Ａを通過すると、これによりポートＡが開放されてチャ
ンバＣ１内に存在する圧力を通路１５１を介して弁Ｖ２
のスプール５４の左側にあるチャンバ１５２へ供給す
る。この加圧により弁Ｖ２が図示の位置に動かされ、ポ
ート５８を開放し、圧力ガスを通路Ｈを介してチャンバ
Ｃ２へ供給する。これにより、チャンバＣ２を加圧し、
圧送セクションＰＳ２のピストンを右方へスタートさせ
て、ポート１４０を介して高圧流体の流れを開始させ、
出口を介して負荷側２２へ供給する。この時、チャンバ
Ｃ１はポートＢが開放されるときまでは加圧されている
から、ピストンＰ１は右方へ移動を継続する。ポートＢ
が開放されると、チャンバＣ１内の圧力は通路１５４を
介してスプール３４の右側のチャンバ１５６に供給され
る。このようにしてて供給されたガスがスプール３４を
図示の位置に向けて左方へ移動させ、ポート３８を閉塞
してチャンバＣ１からガスを除去すると共に、同時にポ
ート４２を開放してチャンバＣ１を大気へ導くポート３
２へ連結する。このようにしてチャンバＣ１が大気に繋
がれ、導入通路内の低圧流体がＣＶ１を図示の左方に移
動させることを可能にする。この移動により低圧流体が
ポペット１００内のポート１０４を介して通過し、チャ
ンバＨ１に入ることを可能にし、これによりピストンＰ
４及びＰ１を図示の位置から左方に向けて移動させる。

【００２６】上述と同様の動作が圧送セクションＰＳ２
及びＰＳ３についてなされる。例えば、ピストンＰ２が
ポートＣを開放すると、圧力ガスが通路１５８を介して
スプール８４の左側にあるチャンバ１６０へ供給され、
スプール８４を右方へ移動させて戻り止め８８が溝９２
に係合し、これによりポート８２を閉塞し、チャンバＣ
３を外気から遮断する。同時に、ポート７８が開放され
て、圧力ガスを通路Ｇを介してチャンバＣ３へ供給す
る。この動作は圧送セクションＰＳ３内のピストンを右
方に向けてスタートさせ、チャンバＨ３内の圧力流体を
加圧する。この圧力によりポペット１４２が下方に押さ
れ、ポート１４６を開放し、圧送セクションＰＳ２によ
る出力ストロークの終了点の手前で、高圧流体を出口を
介して負荷側へ圧送を開始する。ポートＤがピストンＰ
２により開放されると、チャンバＣ２内の圧力ガスが通
路１６２を介してスプール５４の右方にあるチャンバ１
６４へ供給される。これはスプール５４を左方へ向けて
移動させ、戻り止め６８を溝７２に係合させる。これに
より、スプール５４を別の位置に固定させてチャンバＣ
２を開放されたポート６２を介して大気に繋ぎ、同時に
ポート５８を圧力源から遮断する。圧送セクションＰＳ
３内のピストンがそのストロークの終点に近付くと、ピ
ストンＰ３が先ずポートＥを開放してチャンバＣ３内の
圧力ガスを通路１６６を介してスプール３４の左方にあ
るチャンバ１６８へ供給し、これを右方へ移動させて戻
り止め４８を溝５０に係合させ、ポート４２を閉塞しポ
ート３８を開放する。これにより圧力ガスがシリンダＣ
１に供給され、これが右方に移動されて上述のサイクル
が繰り返される。

【００２７】弁ＩＶ１，ＩＶ１及びＩＶ３が夫々制御弁
Ｖ１，Ｖ２及びＶ３に連結されている。弁ＩＶ１，ＩＶ
２及びＩＶ３はシステムが作動開始する前に制御弁を予
め位置決めするために使用される。各弁ＩＶ１，ＩＶ２
及びＩＶ３はスプリング付勢されたプランジャー１６８
を有し、このプランジャー１６８がスプリングの付勢力
に応じて、圧力ガスが存在しない場合に、弁Ｖ１を図面
上でその最も右側の位置に位置させ、Ｖ２及びＶ３をそ
の最も左側の位置に位置させる。圧力ガスが導管１５３
へ供給されると、各プランジャーは図示の位置に退避
し、システムから圧力ガスが取り除かれるまで機能しな
い。プランジャーＩＶ１，ＩＶ２及びＩＶ３には所定の
位置に配置されており、システムに圧力を掛けると、常
に、上述した順序で動作が開始される。

【００２８】シリンダＣＬＹ１，２及び３の非加圧側が
符号１６７及び１６９で示すごとく外気につながってい
る。これにより、圧送セクションＰＳ１，ＰＳ２及びＰ
Ｓ３の各ガス又は流体ピストン及び弁を通過するガス又
は流体のリーク分が外気に連絡される。

【００２９】圧送セクションＰＳ１，ＰＳ２及びＰＳ３
内のピストン集合体の動作範囲を制限するために、ＰＳ
１及びＰＳ３にて最もよく示されているように、流体の
捕獲体積部分が設けられる。先ず、図面のＰＳ１に示す
ように、ピストン集合体が右端へ向かって進行して行く
と、最後には、液圧流体の環状体積部分１７０がピスト
ンＰ４とチャンバＨ１の壁との間に捕獲され閉じ込めら
れる。捕獲された流体の体積部分がピストン集合体のそ
れ以上の移動を制限し、それが底に衝突することを阻止
する。ＰＳ３に示すごとく、同様の機能を持つ捕獲体積
部分１７２がロッド３０の軸心部に穿たれた孔１７４の
中に設けられる。この孔の中に案内ロッド１７６が嵌入
し、この孔１７４の中のガスがこの孔の途中に開口する
通路１７８により排出される。ロッド１７６の端部がこ
の通路１７８の開口部を通過すると、その先に体積部分
１７２が形成され、体積部分１７２の中に拘束されたガ
スがその圧縮度に応じてピストン集合体の移動を制限す
るように作用する。

【００３０】

【考案の効果】以上、本考案による３組のピストン集合
体による自由ピストンポンプについて図面を用いて詳細
に説明したが、これにより、必要に応じてガス圧力を圧
力流体に変換し、脈動の無い安定した流れを提供するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１図はこの発明の１実施例による自由ピスト
ンポンプ装置の模式図である。

【符号の説明】

１０…自由ピストンポンプシステム、１２…ハウジン
グ、１４…圧送部分、１６…ガス制御弁セクション、１
８…流体制御弁セクション、２０…ガス供給源、２２…
負荷側、２４…リザーバー、２６，２８，３０…ピスト
ンロッド、３２…出口ポート、３４，５４，７４…スプ
ール、３６，５６，７６…シリンダ、３８，４０，４
２；５８，６０，６２；７８，８０，８２…ポート、４
４，４６；６４，６６；８４，８６…ランド、４８，６
８，８８…戻り止め、５０，５２；７０，７２；９０，
９２…凹所、１００，１１０，１２０；１３０，１３
６，１４２…ポペット弁、１０４，１１４，１２４；１
３４，１４０，１４６…ポート、１０６，１１６，１２
６…弁座、１０２，１１２，１２２…スプリング、１５
０，１５３，１６６…通路、１５１，１５８，１６６…
通路、１５４，１６２…通路、１５６，１６４…チャン
バ、１６７，１６９…符号、１６８…チャンバー、１７
０，１７２…捕獲体積部分、１７４…孔、１７６…案内
ロッド、１７８…通路。Ａ〜Ｆ…ポート、 Ｃ１〜３…ガスチャンバ、 ＣＬＹ１〜３…シリンダー、 ＣＶ１〜３…チェックバルブ、 ＥＶ１〜３…ポペット弁、 Ｇ，Ｈ，Ｉ…通路、 Ｈ１〜３…液体チャンバ、 ＩＶ１〜３…弁、 Ｐ１〜６…ピストン、 ＰＳ１〜３…圧送セクション、 Ｖ１〜３…弁。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)考案者 ジェームス・ティー・ホリス アメリカ合衆国、カリフォルニア州、フ ァンテン・バレー、アップル・ストリー ト 16568 (72)考案者 オスワルド・エー・ウォーカーズ アメリカ合衆国、カリフォルニア州、ノ ースリッジ、シンギング・ヒルズ・ドラ イブ 19641 (56)参考文献 特公 昭58−34675（ＪＰ，Ｂ２)

Claims (10)

(57)【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数のピストンが、ガスによる加圧に応
   じて自由に移動し、前記加圧は前記各ピストンとそれぞ
   れ対応する複数の制御弁によって制御され、逆にまた、
   これらの制御弁は、それらの位置を、前記各ピストン及
   び各制御弁とそれぞれ対応する複数のチャンバー内にあ
   る関連するポートを開く前記複数のピストンによって制
   御され、それによって、前記制御弁を選択的に作動して
   ガス圧力をピストンに作用し、それによってポンプ作用
   を発生する、 吸入及び排出行程によってそれぞれのシリンダー内を往
   復移動する少なくとも３列の、第１、第２、及び第３の
   ピストン集合体を有し、制御された圧力ガスの供給に応
   じて圧力液体を供給するガス作動型自由ピストンポンプ
   装置において、 各ピストン集合体に設けられる三方向制御弁で、上記制
   御弁が各々第１及び第２の位置を有する、ものと、 第１のポートで各上記制御弁に接続される第１の通路手
   段で、１つのピストン集合体がその圧送ストロークの完
   了点に近付いたとき、この通路手段を介して、別の１つ
   のピストン集合体に繋がる制御弁に圧力ガスを与え、こ
   の制御弁を上記第１の位置に位置付け、圧力ガスを上記
   別のピストン集合体に与える、第１の通路手段と、 第２のポートで各上記制御弁に接続される第２の通路手
   段で、１つのピストン集合体がその圧送ストロークを完
   了したとき、上記ピストン集合体に繋がる制御弁に圧力
   ガスを与え、この制御弁を上記第２の位置に位置付け、
   上記ピストン集合体から圧力ガスを除去し、上記ピスト
   ン集合体の排気を行う、第２の通路手段と、 を有することを特徴とする自由ピストンポンプ装置。
2. 【請求項２】 上記制御弁が、各々、制御弁をその第１
   及び第２位置に交互に確実に位置付けるための戻り止め
   手段を含むことを特徴とする実用新案登録請求の範囲第
   １項記載の装置。
3. 【請求項３】 圧力ガスが供給されない場合に各制御弁
   を所定の位置に位置付ける位置決め手段を有することを
   特徴とする実用新案登録請求の範囲第２項記載の装置。
4. 【請求項４】 上記位置決め手段が各制御弁についてバ
   ネで付勢されたプランジャーを有し、このプランジャー
   が圧力ガスが供給されない場合にその対応する制御弁と
   接触し、圧力ガスが供給されたときに非接触位置に退避
   するように配設されていることを特徴とする実用新案登
   録請求の範囲第３項記載の装置。
5. 【請求項５】 各ピストン集合体がピストンロッドによ
   り相互に連結された第１及び第２のピストンと、第１及
   び第２のピストンを夫々収納するガスシリンダチャンバ
   及び液体シリンダチャンバとを含むことを特徴とする実
   用新案登録請求の範囲第１項記載の装置。
6. 【請求項６】 上記第１の通路手段が、各ガスシリンダ
   に形成されて通常は閉塞されている第１のポートと、上
   記第１のポートを、別々のピストン集合体に繋がる制御
   弁に連結する１つの通路とを有することを特徴とする実
   用新案登録請求の範囲第５項記載の装置。
7. 【請求項７】 上記第２の通路手段が、各ガスシリンダ
   に形成されて通常は閉塞されている第２のポートと、上
   記第２のポートを、それに繋がる制御弁に連結する１つ
   の通路とを有することを特徴とする実用新案登録請求の
   範囲第６項記載の装置。
8. 【請求項８】 上記第１及び第２のポートが上記第１の
   ピストンによって開放され、この場合、上記第１のピス
   トンがその排出行程の終端に近付いたときに上記第１の
   ポートが開放され、上記第１のピストンがその排出行程
   を完了したときに上記第２のポートが開放されるごとく
   にする、実用新案登録請求の範囲第７項記載の装置。
9. 【請求項９】 上記液体シリンダと上記第２のピストン
   とが排出行程の終点において液体を捕獲する体積部分を
   形成し、ピストン集合体の移動範囲を限定することを特
   徴とする実用新案登録請求の範囲第５項記載の装置。
10. 【請求項１０】 上記ガスシリンダと上記第１のピスト
    ンとが水圧液体吸入行程の終点においてガスを捕獲する
    体積部分を形成し、ピストン集合体の移動範囲を限定す
    ることを特徴とする実用新案登録請求の範囲第５項記載
    の装置。