JP2509266B2 - はんだリフロ―方法及びリフロ―装置 - Google Patents
はんだリフロ―方法及びリフロ―装置Info
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- JP2509266B2 JP2509266B2 JP62325328A JP32532887A JP2509266B2 JP 2509266 B2 JP2509266 B2 JP 2509266B2 JP 62325328 A JP62325328 A JP 62325328A JP 32532887 A JP32532887 A JP 32532887A JP 2509266 B2 JP2509266 B2 JP 2509266B2
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- Japan
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- medium
- reflow
- container
- gas
- liquid
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K1/00—Soldering, e.g. brazing, or unsoldering
- B23K1/012—Soldering with the use of hot gas
- B23K1/015—Vapour-condensation soldering
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
- H05K3/3494—Heating methods for reflowing of solder
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔概要〕 電子部品の製造に利用できるはんだリフロー方法に関
し、 室温から300℃付近まで連続的に変化する任意の温度
ではんだ付けすることを目的とし、 はんだ付けすべき部材を媒体の気体に接触させ、この
媒体の蒸発潜熱を利用するはんだリフロー方法であっ
て、密閉容器内で媒体を加熱して、媒体の液体と気体と
が共存する範囲で1気圧の沸点より高い温度とし、この
温度の媒体の気体にはんだ付けすべき部材を接触させて
はんだ付けするように構成する。
し、 室温から300℃付近まで連続的に変化する任意の温度
ではんだ付けすることを目的とし、 はんだ付けすべき部材を媒体の気体に接触させ、この
媒体の蒸発潜熱を利用するはんだリフロー方法であっ
て、密閉容器内で媒体を加熱して、媒体の液体と気体と
が共存する範囲で1気圧の沸点より高い温度とし、この
温度の媒体の気体にはんだ付けすべき部材を接触させて
はんだ付けするように構成する。
本発明は、電子部品の製造に利用できる、はんだリフ
ロー方法に関する。
ロー方法に関する。
蒸発潜熱を利用するはんだリフロー方法は、はんだ付
けすべき部材を非酸化性雰囲気中で高速かつ均一に加熱
することができる優れた方法である。従来はこれを開放
容器で行なっていた。加熱は、蒸気が凝縮して放出する
潜熱に依存するので、加熱温度を変えるには各種の沸点
を有する異なる液体を必要とした。この方法に使用でき
る液体は、不燃性および非酸化性に加えて、高温度にお
ける安定性が要求されるので、主としてフッ化炭素系化
合物を使用するが、その沸点は段階的にC6F1456℃、C7F
1680℃などがあり、常温で液体のものでも250℃程度で
ある。1気圧で200℃以上の高温にすると熱分解が始ま
り有害な化合物も生じる。任意の沸点を有する液体を選
択することができなかった。
けすべき部材を非酸化性雰囲気中で高速かつ均一に加熱
することができる優れた方法である。従来はこれを開放
容器で行なっていた。加熱は、蒸気が凝縮して放出する
潜熱に依存するので、加熱温度を変えるには各種の沸点
を有する異なる液体を必要とした。この方法に使用でき
る液体は、不燃性および非酸化性に加えて、高温度にお
ける安定性が要求されるので、主としてフッ化炭素系化
合物を使用するが、その沸点は段階的にC6F1456℃、C7F
1680℃などがあり、常温で液体のものでも250℃程度で
ある。1気圧で200℃以上の高温にすると熱分解が始ま
り有害な化合物も生じる。任意の沸点を有する液体を選
択することができなかった。
本発明は、室温から300℃付近まで連続的に変化する
任意の温度ではんだ付けすることを目的とする。
任意の温度ではんだ付けすることを目的とする。
本発明によれば、上記した問題点を解決するための手
段として、はんだ付けすべき部材をフッ化炭素系化合物
からなる媒体の気体に接触させ、この媒体の蒸発潜熱を
利用してはんだ付けを行う方式のはんだリフロー方法で
あって、下記の工程: 前記媒体の液体を、その媒体を気化せしめるための加
熱手段を内部に装備したリフロー容器に収容すること、 前記はんだ付けすべき部材を支承した支持体を前記リ
フロー容器の内部に、前記液体媒体の上方に前記支持体
が位置するように配置しかつ、その際、前記支持体と前
記リフロー容器の容器壁とにより前記リフロー容器内に
おいて密閉された空間を形成すること、 前記密閉された空間内で、前記液体媒体を前記加熱手
段により加熱して、前記媒体の液体と気体とが共存する
範囲で1気圧の沸点より高い温度とし、この温度の媒体
の気体にはんだ付けすべき部材を接触させてはんだ付け
を行うこと、及び はんだ付けの完了後、前記リフロー容器に隣接して配
置されたトラップ室に前記支持体を移動させて、前記ト
ラップ室に導びかれた前記媒体の気体をその内部で凝縮
させ、そして前記リフロー容器に回収すること、 を含んでなることを特徴とするはんだリフロー方法が
提供される。
段として、はんだ付けすべき部材をフッ化炭素系化合物
からなる媒体の気体に接触させ、この媒体の蒸発潜熱を
利用してはんだ付けを行う方式のはんだリフロー方法で
あって、下記の工程: 前記媒体の液体を、その媒体を気化せしめるための加
熱手段を内部に装備したリフロー容器に収容すること、 前記はんだ付けすべき部材を支承した支持体を前記リ
フロー容器の内部に、前記液体媒体の上方に前記支持体
が位置するように配置しかつ、その際、前記支持体と前
記リフロー容器の容器壁とにより前記リフロー容器内に
おいて密閉された空間を形成すること、 前記密閉された空間内で、前記液体媒体を前記加熱手
段により加熱して、前記媒体の液体と気体とが共存する
範囲で1気圧の沸点より高い温度とし、この温度の媒体
の気体にはんだ付けすべき部材を接触させてはんだ付け
を行うこと、及び はんだ付けの完了後、前記リフロー容器に隣接して配
置されたトラップ室に前記支持体を移動させて、前記ト
ラップ室に導びかれた前記媒体の気体をその内部で凝縮
させ、そして前記リフロー容器に回収すること、 を含んでなることを特徴とするはんだリフロー方法が
提供される。
また、本発明によれば、はんだ付けすべき部材をフッ
化炭素系化合物からなる媒体の気体に接触させ、この媒
体の蒸発潜熱を利用してはんだ付けを行う方式のはんだ
リフロー装置であって、下記の手段: 前記媒体の液体を内部に収容したリフロー容器、 前記リフロー容器内に前記媒体中に浸漬する形で配置
されたものであって、前記媒体を加熱して、前記媒体の
液体と気体とが共存する範囲で1気圧の沸点より高い温
度を有する気体を生成させることが可能な加熱手段、 前記はんだ付けすべき部材を支承した支持体であっ
て、はんだ付けの間、前記リフロー容器の容器壁と組み
合わさって前記リフロー容器内において密閉された空間
を形成することが可能な移動可能な支持体、及び 前記リフロー容器に隣接して配置されたものであっ
て、前記支持体の移動により前記リフロー容器と連通せ
しめられた時、室内に導びかれてきた前記媒体の気体を
凝縮させる冷却手段を内部に装備しているトラップ室、 を含んでなることを特徴とするはんだリフロー装置も提
供される。
化炭素系化合物からなる媒体の気体に接触させ、この媒
体の蒸発潜熱を利用してはんだ付けを行う方式のはんだ
リフロー装置であって、下記の手段: 前記媒体の液体を内部に収容したリフロー容器、 前記リフロー容器内に前記媒体中に浸漬する形で配置
されたものであって、前記媒体を加熱して、前記媒体の
液体と気体とが共存する範囲で1気圧の沸点より高い温
度を有する気体を生成させることが可能な加熱手段、 前記はんだ付けすべき部材を支承した支持体であっ
て、はんだ付けの間、前記リフロー容器の容器壁と組み
合わさって前記リフロー容器内において密閉された空間
を形成することが可能な移動可能な支持体、及び 前記リフロー容器に隣接して配置されたものであっ
て、前記支持体の移動により前記リフロー容器と連通せ
しめられた時、室内に導びかれてきた前記媒体の気体を
凝縮させる冷却手段を内部に装備しているトラップ室、 を含んでなることを特徴とするはんだリフロー装置も提
供される。
加熱媒体として、たとえばフッ化炭素商品名FC−43
(3M社)を使用すれば、1気圧であれば沸点が155℃で
あるが、密閉容器内でさらに加熱すれば、容器内の圧力
が上昇して180℃で2気圧を示し、この間に温度は連続
的に上昇する。さらに、これより分子量の大きいフッ化
炭素系化合物を使用すれば、300℃付近まで連続的に変
化するはんだ付け温度を得ることができる。
(3M社)を使用すれば、1気圧であれば沸点が155℃で
あるが、密閉容器内でさらに加熱すれば、容器内の圧力
が上昇して180℃で2気圧を示し、この間に温度は連続
的に上昇する。さらに、これより分子量の大きいフッ化
炭素系化合物を使用すれば、300℃付近まで連続的に変
化するはんだ付け温度を得ることができる。
直径300mm、深さ600mmの円筒形リフロー装置本体1
は、その内部の下方にヒータ3を設け。内部の中程にシ
ールリング付き支持体4によって吊下げられた作業台5
を設け、支持体4より下方の空間を外界から遮断する。
作業台5は温度センサ6を設け、はんだ付けすべき部材
7を載せる。なお本体1の上方に連通する直径450mmの
トラップ室2には冷却パイプ8を設けた。
は、その内部の下方にヒータ3を設け。内部の中程にシ
ールリング付き支持体4によって吊下げられた作業台5
を設け、支持体4より下方の空間を外界から遮断する。
作業台5は温度センサ6を設け、はんだ付けすべき部材
7を載せる。なお本体1の上方に連通する直径450mmの
トラップ室2には冷却パイプ8を設けた。
まず、はんだリフロー装置1に、作業媒体9として、
フッ化炭素商品名FC−43(3M社)5lを充填し、ヒータ3
により加熱して、1気圧における沸点155℃に保った。
フッ化炭素商品名FC−43(3M社)5lを充填し、ヒータ3
により加熱して、1気圧における沸点155℃に保った。
次に、はんだペーストを塗布した電子部品を基板上に
位置合わせした試料7を作業台5に取付けて、リフロー
装置1内に降下させた。作業台5は支持体4によって外
界と遮断させた。作業台5上の温度センサ6で温度を検
知しながら、はんだ付け温度180℃に達するまで、加熱
した。この温度に5分保った後にヒータ3の加熱を止
め、作業台5をトラップ室2まで上昇させると、大気圧
に減圧されて、試料7上で凝縮して付着した媒体が蒸発
して除去された。トラップ室2内の冷却水パイプ8に90
℃の熱水を循環させて、蒸発した媒体の気体10を凝縮さ
せて回収した。
位置合わせした試料7を作業台5に取付けて、リフロー
装置1内に降下させた。作業台5は支持体4によって外
界と遮断させた。作業台5上の温度センサ6で温度を検
知しながら、はんだ付け温度180℃に達するまで、加熱
した。この温度に5分保った後にヒータ3の加熱を止
め、作業台5をトラップ室2まで上昇させると、大気圧
に減圧されて、試料7上で凝縮して付着した媒体が蒸発
して除去された。トラップ室2内の冷却水パイプ8に90
℃の熱水を循環させて、蒸発した媒体の気体10を凝縮さ
せて回収した。
〔発明の効果〕 本発明の方法により、室温から300℃までの任意のは
んだ付け温度を選択することが可能になり、低粘度の低
沸点液体を使用して、高温度のはんだ付けができるの
で、はんだ付けした部材の液切れが良好となり、媒体の
損失を防止してコストの低下を実現することができた。
なお、一般に媒体であるふっ化炭素は、1気圧、200℃
以上において熱分解量が多くなり、PPbオーダーの有毒
なパーフルオロイソブチレンC4F8を発生するが、高圧に
保つためこれを防止することができた。
んだ付け温度を選択することが可能になり、低粘度の低
沸点液体を使用して、高温度のはんだ付けができるの
で、はんだ付けした部材の液切れが良好となり、媒体の
損失を防止してコストの低下を実現することができた。
なお、一般に媒体であるふっ化炭素は、1気圧、200℃
以上において熱分解量が多くなり、PPbオーダーの有毒
なパーフルオロイソブチレンC4F8を発生するが、高圧に
保つためこれを防止することができた。
第1図は本発明の方法で実施するはんだリフロー装置の
説明図である。 1……リフロー装置本体、2……トラップ室、3……ヒ
ータ、4……シールリング付き支持体、5……作業台、
6……温度センサ、7……はんだ付けすべき部材、8…
…冷却パイプ、9……作業液体、10……加熱蒸気。
説明図である。 1……リフロー装置本体、2……トラップ室、3……ヒ
ータ、4……シールリング付き支持体、5……作業台、
6……温度センサ、7……はんだ付けすべき部材、8…
…冷却パイプ、9……作業液体、10……加熱蒸気。
Claims (2)
- 【請求項1】はんだ付けすべき部材をフッ化炭素系化合
物からなる媒体の気体に接触させ、この媒体の蒸発潜熱
を利用してはんだ付けを行う方式のはんだリフロー方法
であって、下記の工程: 前記媒体の液体を、その媒体を気化せしめるための加熱
手段を内部に装備したリフロー容器に収容すること、 前記はんだ付けすべき部材を支承した支持体を前記リフ
ロー容器の内部に、前記液体媒体の上方に前記支持体が
位置するように配置しかつ、その際、前記支持体と前記
リフロー容器の容器壁とにより前記リフロー容器内にお
いて密閉された空間を形成すること、 前記密閉された空間内で、前記液体媒体を前記加熱手段
により加熱して、前記媒体の液体と気体とが共存する範
囲で1気圧の沸点より高い温度とし、この温度の媒体の
気体にはんだ付けすべき部材を接触させてはんだ付けを
行うこと、及び はんだ付けの完了後、前記リフロー容器に隣接して配置
されたトラップ室に前記支持体を移動させて、前記トラ
ップ室に導びかれた前記媒体の気体をその内部で凝縮さ
せ、そして前記リフロー容器に回収すること、 を含んでなることを特徴とするはんだリフロー方法。 - 【請求項2】はんだ付けすべき部材をフッ化炭素系化合
物からなる媒体の気体に接触させ、この媒体の蒸発潜熱
を利用してはんだ付けを行う方式のはんだリフロー装置
であって、下記の手段: 前記媒体の液体を内部に収容したリフロー容器、 前記リフロー容器内に前記媒体中に浸漬する形で配置さ
れたものであって、前記媒体を加熱して、前記媒体の液
体と気体とが共存する範囲で1気圧の沸点より高い温度
を有する気体を生成させることが可能な加熱手段、 前記はんだ付けすべき部材を支承した支持体であって、
はんだ付けの間、前記リフロー容器の容器壁と組み合わ
さって前記リフロー容器内において密閉された空間を形
成することが可能な移動可能な支持体、及び 前記リフロー容器に隣接して配置されたものであって、
前記支持体の移動により前記リフロー容器と連通せしめ
られた時、室内に導びかれてきた前記媒体の気体を凝縮
させる冷却手段を内部に装備しているトラップ室、 を含んでなることを特徴とするはんだリフロー装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62325328A JP2509266B2 (ja) | 1987-12-24 | 1987-12-24 | はんだリフロ―方法及びリフロ―装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62325328A JP2509266B2 (ja) | 1987-12-24 | 1987-12-24 | はんだリフロ―方法及びリフロ―装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01166881A JPH01166881A (ja) | 1989-06-30 |
JP2509266B2 true JP2509266B2 (ja) | 1996-06-19 |
Family
ID=18175585
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62325328A Expired - Fee Related JP2509266B2 (ja) | 1987-12-24 | 1987-12-24 | はんだリフロ―方法及びリフロ―装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2509266B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH049271A (ja) * | 1990-04-27 | 1992-01-14 | Seiko Instr Inc | 気相はんだ付け装置 |
JP5281389B2 (ja) * | 2008-12-25 | 2013-09-04 | Tdkラムダ株式会社 | 半田付け装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4022371A (en) * | 1976-06-14 | 1977-05-10 | International Business Machines Corporation | Vapor bonding method |
JPS5619973A (en) * | 1979-05-18 | 1981-02-25 | Atomic Energy Authority Uk | Soldering device |
US4558524A (en) * | 1982-10-12 | 1985-12-17 | Usm Corporation | Single vapor system for soldering, fusing or brazing |
-
1987
- 1987-12-24 JP JP62325328A patent/JP2509266B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH01166881A (ja) | 1989-06-30 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |