JP2506766B2 - ホモアリルスルフィドの製造方法 - Google Patents

ホモアリルスルフィドの製造方法

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JP2506766B2 JP62126333A JP12633387A JP2506766B2 JP 2506766 B2 JP2506766 B2 JP 2506766B2 JP 62126333 A JP62126333 A JP 62126333A JP 12633387 A JP12633387 A JP 12633387A JP 2506766 B2 JP2506766 B2 JP 2506766B2
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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は一般式 (式中R1は非置換もしくはシロキシ基により置換され
たアルキル基、アルケニル基またはアリール基を表わ
し、R4,R5およびR6は同一または異なり水素原子また
は低級アルキル基を表わし、Aはアリール基を表わす) で示されるホモアリルスルフィドの製造方法に関する。
本発明の方法により製造される一般式(I)で示され
る化合物〔以下化合物(I)と称す〕は種々の生理活性
物質の合成中間体として有用な物質である。
〔従来の技術〕
化合物(I)を製造する方法として、モノチオアセタ
ールを種々のルイス酸の存在下にアリルシランと反応さ
せる方法が知られている(ジャーナルオブケミカルソサ
ィアティケミカルコミュニケーション1982 459頁)。し
かし、この方法においては、使用するモノチオアセター
ルの種類とルイス酸の組み合わせにより比率は異なるが
いずれの場合もホモアリルスルフィドとホモアリルエー
テルの混合物を与え、収率良くホモアリルスルフィドを
得ることは困難である。
〔発明が解決しようとする問題点〕
本発明の目的はモノチオアセタールを原料として化合
物(I)を収率良く製造する新規な方法を提供すること
にある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明によれば、一般式 (式中R1は非置換もしくはシロキシ基により置換され
たアルキル基、アルケニル基またはアリール基を表わ
し、R2は低級アルキル基を表わし、Aはアリール基を
表わす) で示される化合物〔以下化合物(II)と称す〕を四塩化
チタンの存在下に一般式 (式中R3は低級アルキル基を表わし、R4,R5およびR6
は同一または異なり水素原子または低級アルキル基を表
わす) で示される化合物〔以下化合物(III)と称す〕と反応
させることにより化合物(I)を高収率で製造しうるこ
とが見出された。
式(II)においてR1は非置換もしくはシロキシ基に
より置換されたアルキル基、アルケニル基またはアリー
ル基を表わす。ここで非置換のアルキル基としては炭素
数が1〜20個の直鎖または分岐鎖を有するものが該当
し、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピ
ル基、n−オクチル基、n−デシル基、ステアリル基な
どが例示される。シロキシ基により置換されたアルキル
基としては炭素数が1〜20個の直鎖または分岐差を有す
るものが該当し、メチルジタ−シャリーブチルシロキシ
オクチル基、トリメチルシロキシドデシル基などが例示
される。アルケニル基としては炭素数が1〜20個の直鎖
または分岐鎖を有するものが該当し、アリル基(プロペ
ニル基)、プレニル基(3−メチル−2−ブテン−1−
イル基)、ゲラニル基、ファルネシル基などが例示され
る。またアリール基としてはフェニル基、p−トリル
基、ナフチル基などが例示される。式(II)においてR
2は低級アルキル基を表わし、具体的にはメチル基、エ
チル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル
基などが例示される。また式(II)においてAはアリー
ル基を表わし、フェニル基、p−トリル基、ナフチル基
などが例示される。
式(III)においてR3は低級アルキル基を表わし、具
体的にはメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプ
ロピル基、n−ブチル基などが例示される。またR4,R5
およびR6は同一または異なり水素原子または低級アル
キル基を表わす。低級アルキル基の具体例としてはメチ
ル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n
−ブチル基などがある。
本発明の方法において反応に供する化合物(II)と化
合物(III)の割合に特に制限はないが、反応を効率良
く進行させるためには化合物(II)1モルに対し化合物
(III)を1〜3モル使用することが好ましい。また四
塩化チタンの使用量も特に制限はないが、化合物(II)
1モルに対し1〜2モル使用することが好ましい。
本発明の方法においては反応条件下で不活性な溶媒、
例えばジクロルメタン、クロロホルムなどの塩素化炭化
水素、ヘキサン、ベンゼン、トルエンなどの炭化水素、
イソプロピルエーテル、テトラヒドロフランなどのエー
テル類を使用することができる。特に好適な溶媒はジク
ロルメタンである。反応は−100℃〜20℃の範囲内の温
度で行なうことができるが、好ましくは−80℃〜−30℃
の範囲内で行なうのが良い。
以下に本発明の実施例を挙げて本発明方法をさらに具
体的に説明するが、これによって本発明が何ら限定され
るものではない。
実施例1 温度計および側管付滴下ロート2基を備えた50mlの三
つ口フラスコに1−メトキシ−1−フェニルチオノナン
2.67g(10m mol)およびジクロルメタン20mlを入れ−78
℃に冷却した。次いで滴下ロートを用いてアリルトリブ
チル錫6.62g(20mmol)および四塩化チタン2.47g(13mm
ol)を加え、−78℃に保ち1時間反応を行なった。反応
終了後水30mlを加え、分液した後、ジクロルメタンを留
去した。残液をガスクロマトグラフィーにより分析し、
残液中には4−フェニルチオ−1−ドデセン2.05gおよ
び4−メトキシ−1−ドデセン0.09gが含まれることを
確認した。
実施例2〜7 表−1に示した原料および反応条件下で実施例1と同
様の操作方法にて反応を行なった。結果を表−1にあわ
せて記す。
〔発明の効果〕 本発明によれば、上記の実施例から明らかなとおり、
一般式(II)で示される化合物と一般式(III)で示さ
れる化合物とを四塩化チタンの存在下に反応させること
により、一般式(I)で示されるホモアリルスルフィド
を高収率で製造することができる。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式 (式中R1は非置換もしくはシロキシ基により置換され
    たアルキル基、アルケニル基またはアリール基を表わ
    し、R2は低級アルキル基を表わし、Aはアリール基を
    表わす) で示される化合物と一般式 (式中R3は低級アルキル基を表わし、R4,R5およびR6
    は同一または異なり水素原子または低級アルキル基を表
    わす) で示される化合物とを四塩化チタンの存在下に反応させ
    ることを特徴とする一般式 (式中R1,R4,R5,R6およびAは前記定義のとおりであ
    る) で示されるホモアリルスルフィドの製造方法。
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