JP2506718Y2 - 走査形電子線照射装置におけるｘ線遮蔽装置 - Google Patents
走査形電子線照射装置におけるｘ線遮蔽装置Info
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- JP2506718Y2 JP2506718Y2 JP1991022398U JP2239891U JP2506718Y2 JP 2506718 Y2 JP2506718 Y2 JP 2506718Y2 JP 1991022398 U JP1991022398 U JP 1991022398U JP 2239891 U JP2239891 U JP 2239891U JP 2506718 Y2 JP2506718 Y2 JP 2506718Y2
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- Japan
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- electron beam
- ray
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本考案は、走査形電子線照射装置
において、ビ−ムキャッチャからの後方散乱電子線をビ
−ムキャッチャ近傍で受け止めるようにしたＸ線遮蔽装
置に関する。
において、ビ−ムキャッチャからの後方散乱電子線をビ
−ムキャッチャ近傍で受け止めるようにしたＸ線遮蔽装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図３は、スポット状の加速された電子線
（ビ−ム）を交番磁界で被照射物の幅にスキャニングす
るいわゆる走査形電子線照射装置の照射部及びシ−ルド
部を示し、スキャナ（走査管）１からの電子ビ−ムは、
スキャナ１とビ−ムキャッチャ２間において、図面に垂
直方向に搬送される図示しない被照射物に照射され、ビ
−ムキャッチャ２はスキャナ１からの電子ビ−ムを受け
止め、捕捉する。ビ−ムキャッチャ２には電子ビ−ムが
当たることに伴う発熱を冷却するために水冷ダクト２ａ
が設けられている。かかる電子ビ−ム照射部はシ−ルド
部材３で形成された自己シ−ルド室４内に収容され、散
乱電子線、散乱電子線がシ−ルド部材やシ−ルド室４内
の部材に当たることにより発生するＸ線の外部への漏洩
を防ぎ、シ−ルド部材３としては、通常、鉛を用い、そ
の表面はステンレス材５で被覆されている。また、ビ−
ムキャッチャ２の背面側には、同キャッチャに電子ビ−
ムが当たることにより発生するＸ線を遮蔽するため、鉛
タ−ゲット６が配置されている。
（ビ−ム）を交番磁界で被照射物の幅にスキャニングす
るいわゆる走査形電子線照射装置の照射部及びシ−ルド
部を示し、スキャナ（走査管）１からの電子ビ−ムは、
スキャナ１とビ−ムキャッチャ２間において、図面に垂
直方向に搬送される図示しない被照射物に照射され、ビ
−ムキャッチャ２はスキャナ１からの電子ビ−ムを受け
止め、捕捉する。ビ−ムキャッチャ２には電子ビ−ムが
当たることに伴う発熱を冷却するために水冷ダクト２ａ
が設けられている。かかる電子ビ−ム照射部はシ−ルド
部材３で形成された自己シ−ルド室４内に収容され、散
乱電子線、散乱電子線がシ−ルド部材やシ−ルド室４内
の部材に当たることにより発生するＸ線の外部への漏洩
を防ぎ、シ−ルド部材３としては、通常、鉛を用い、そ
の表面はステンレス材５で被覆されている。また、ビ−
ムキャッチャ２の背面側には、同キャッチャに電子ビ−
ムが当たることにより発生するＸ線を遮蔽するため、鉛
タ−ゲット６が配置されている。
【０００３】
【考案が解決しようとする課題】かかる電子線照射装置
にあっては、ビ−ムキャッチャ２で電子線を受け止め、
電子線が直接シ−ルド部材３に当たり、その箇所が強い
Ｘ線源となることを防止しているが、電子線がビ−ムキ
ャッチャ２に衝突し後方散乱される電子、電子線がシ−
ルド部材３に当たってその部分から一回散乱Ｘ線が発生
し、シ−ルド部材３として鉛を使用しても、そのＸ線発
生部とシ−ルド室４の外部との距離、シ−ルド部材の厚
さ距離が短いためシ−ルド室４からの漏洩が多くなる。
そして走査形電子線照射装置にあっては、図示しない電
子線発生部からのスポット状の電子線を、交番磁界で被
照射物の幅方向にスキャニングし、スキャナ１から取り
出して被照射物に与えるようにしているから、スキャニ
ング幅の両端部側になるほどスポット状の電子線は大き
な斜め入射角度をもってビームキャッチャ２に当たるこ
とになり、これに伴いビ−ムキャッチャから電子線の入
射方向成分をもって、図３における左右外側方向、搬送
される被照射物の両脇外側方向に後方散乱する電子線の
割合が多くなる。この後方散乱電子線は、その発生地点
から近い位置にある自己シールド４における図３の左右
位置のシールド部材３に当たり、一回散乱Ｘ線を発生さ
せる。この点、Ｘ線が外部に漏洩しないように遮蔽する
には、シ−ルド部材３としては相当の厚さのものが必要
になり、シ−ルド部材の厚さを求めるに際しては、充分
余裕をみることになり、過剰設計にならざるを得ない。
にあっては、ビ−ムキャッチャ２で電子線を受け止め、
電子線が直接シ−ルド部材３に当たり、その箇所が強い
Ｘ線源となることを防止しているが、電子線がビ−ムキ
ャッチャ２に衝突し後方散乱される電子、電子線がシ−
ルド部材３に当たってその部分から一回散乱Ｘ線が発生
し、シ−ルド部材３として鉛を使用しても、そのＸ線発
生部とシ−ルド室４の外部との距離、シ−ルド部材の厚
さ距離が短いためシ−ルド室４からの漏洩が多くなる。
そして走査形電子線照射装置にあっては、図示しない電
子線発生部からのスポット状の電子線を、交番磁界で被
照射物の幅方向にスキャニングし、スキャナ１から取り
出して被照射物に与えるようにしているから、スキャニ
ング幅の両端部側になるほどスポット状の電子線は大き
な斜め入射角度をもってビームキャッチャ２に当たるこ
とになり、これに伴いビ−ムキャッチャから電子線の入
射方向成分をもって、図３における左右外側方向、搬送
される被照射物の両脇外側方向に後方散乱する電子線の
割合が多くなる。この後方散乱電子線は、その発生地点
から近い位置にある自己シールド４における図３の左右
位置のシールド部材３に当たり、一回散乱Ｘ線を発生さ
せる。この点、Ｘ線が外部に漏洩しないように遮蔽する
には、シ−ルド部材３としては相当の厚さのものが必要
になり、シ−ルド部材の厚さを求めるに際しては、充分
余裕をみることになり、過剰設計にならざるを得ない。
【０００４】本考案は、ビ−ムキャッチャからの後方散
乱電子線、特に、搬送される被照射物の両脇外側方向に
後方散乱する電子線をビ−ムキャッチャの近傍で受け止
め、後方散乱電子線によって発生する一回散乱Ｘ線を減
衰させてからシ−ルド部材で遮蔽することにより、シ−
ルド部材の厚さが薄くても済むようにした走査形電子線
照射装置におけるＸ線遮蔽装置の提供を目的とするもの
である。
乱電子線、特に、搬送される被照射物の両脇外側方向に
後方散乱する電子線をビ−ムキャッチャの近傍で受け止
め、後方散乱電子線によって発生する一回散乱Ｘ線を減
衰させてからシ−ルド部材で遮蔽することにより、シ−
ルド部材の厚さが薄くても済むようにした走査形電子線
照射装置におけるＸ線遮蔽装置の提供を目的とするもの
である。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本考案は、シールド部材
で形成されたシールド室内でスキャナからの電子線が照
射される被照射物の背面側位置にビ−ムキャッチャを設
置した走査形電子線照射装置におけるＸ線遮蔽装置であ
って、上記ビ−ムキャッチャに、上記被照射物の搬送方
向と平行に水冷ダクトを有するＸ線遮蔽側板を取り付け
たことを特徴とするものである。
で形成されたシールド室内でスキャナからの電子線が照
射される被照射物の背面側位置にビ−ムキャッチャを設
置した走査形電子線照射装置におけるＸ線遮蔽装置であ
って、上記ビ−ムキャッチャに、上記被照射物の搬送方
向と平行に水冷ダクトを有するＸ線遮蔽側板を取り付け
たことを特徴とするものである。
【０００６】
【作用】ビ−ムキャッチャから、搬送される被照射物の
両脇外側方向に後方散乱した電子線は、Ｘ線遮蔽側板に
当たり、一回散乱Ｘ線が発生するが、同Ｘ線はシ−ルド
室を形成するシ−ルド部材に到達するまでの距離行程で
減衰する。したがって、シ−ルド部材での後方散乱電子
線の衝突による一回散乱Ｘ線の発生が抑制され、同シ−
ルド部材は減衰した一回散乱Ｘ線を遮蔽すればよいか
ら、シ−ルド部材の厚さを薄くできる。
両脇外側方向に後方散乱した電子線は、Ｘ線遮蔽側板に
当たり、一回散乱Ｘ線が発生するが、同Ｘ線はシ−ルド
室を形成するシ−ルド部材に到達するまでの距離行程で
減衰する。したがって、シ−ルド部材での後方散乱電子
線の衝突による一回散乱Ｘ線の発生が抑制され、同シ−
ルド部材は減衰した一回散乱Ｘ線を遮蔽すればよいか
ら、シ−ルド部材の厚さを薄くできる。
【０００７】
【実施例】本考案の一実施例を図１及び図２を参照して
説明する。図３と同一符号は同等部分を示す。図１は走
査形電子線照射装置における照射部の正面及びシ−ルド
室の断面図であり、図２はビ−ムキャッチャ及びＸ線遮
蔽側板の上面並びにシ−ルド室の断面図である。シール
ド部材３で形成されたシールド室４内におけるスキャナ
１の開口側下面に、例えばステンレス製の板によるビ−
ムキャッチャ２が配置されており、電子線の受け止めに
伴う発熱を冷却するため、同キャッチャ２に水冷ダクト
２ａが設けられ、さらにその下面にビ−ムキャッチャ２
からのＸ線を遮蔽、減衰させる鉛タ−ゲット板６が配置
されている。ビ−ムキャッチャ２に電子線が当たること
により、搬送される被照射物の両脇外側方向に発生する
後方散乱電子線を受け止めることができるように、被照
射物の搬送方向と平行に、ビ−ムキャッチャ２の両端部
に例えばステンレス製のＸ線遮蔽側板７が取り付けら
れ、同遮蔽側板７は背面に水冷ダクト７ａを有する。同
遮蔽側板７のさらに背面側には、表面に例えばステンレ
ス板が張設されたＸ線遮蔽鉛側板８が設けられ、遮蔽側
板７から発生するＸ線を遮蔽、減衰させるように構成さ
れる。Ｘ線遮蔽側板７は取付片９を用いてビ−ムキャッ
チャ２のリブ１０にボルト等によって固定され、Ｘ線遮
蔽鉛側板８はボルト等によって鉛タ−ゲット板６に固定
される。
説明する。図３と同一符号は同等部分を示す。図１は走
査形電子線照射装置における照射部の正面及びシ−ルド
室の断面図であり、図２はビ−ムキャッチャ及びＸ線遮
蔽側板の上面並びにシ−ルド室の断面図である。シール
ド部材３で形成されたシールド室４内におけるスキャナ
１の開口側下面に、例えばステンレス製の板によるビ−
ムキャッチャ２が配置されており、電子線の受け止めに
伴う発熱を冷却するため、同キャッチャ２に水冷ダクト
２ａが設けられ、さらにその下面にビ−ムキャッチャ２
からのＸ線を遮蔽、減衰させる鉛タ−ゲット板６が配置
されている。ビ−ムキャッチャ２に電子線が当たること
により、搬送される被照射物の両脇外側方向に発生する
後方散乱電子線を受け止めることができるように、被照
射物の搬送方向と平行に、ビ−ムキャッチャ２の両端部
に例えばステンレス製のＸ線遮蔽側板７が取り付けら
れ、同遮蔽側板７は背面に水冷ダクト７ａを有する。同
遮蔽側板７のさらに背面側には、表面に例えばステンレ
ス板が張設されたＸ線遮蔽鉛側板８が設けられ、遮蔽側
板７から発生するＸ線を遮蔽、減衰させるように構成さ
れる。Ｘ線遮蔽側板７は取付片９を用いてビ−ムキャッ
チャ２のリブ１０にボルト等によって固定され、Ｘ線遮
蔽鉛側板８はボルト等によって鉛タ−ゲット板６に固定
される。
【０００８】ビ−ムキャッチャ２に電子線が当たること
により、搬送される被照射物の両脇外側方向に発生する
後方散乱電子線はＸ線遮蔽側板７で受け止められ、一回
散乱Ｘ線が発生する。このＸ線はあらゆる方向に向いシ
−ルド室４のシ−ルド部材３に達するが、そこに至るま
での距離行程において減衰する。また、Ｘ線遮蔽側板７
からＸ線遮蔽鉛側板８側に向かう散乱Ｘ線は同板８で遮
蔽、減衰するから、シ−ルド部材３に達するＸ線は充分
に減衰する。一般にＸ線は一回散乱させることにより、
およそ１〇〇〇分の１に減衰するから、シ−ルド部材３
をかなり薄くしてもＸ線漏洩を防止できる。なお、図１
の上方に向かう後方散乱電子線はＸ線遮蔽側板７では受
け止めることはできないが、同遮蔽側板７がない場合
に、シ−ルド室４の左右のシ−ルド部材３に散乱電子線
が当たり、そこから散乱するＸ線がシ−ルド室４の上部
のシ−ルド部材３に到達し漏洩する。かかる散乱Ｘ線の
影響をＸ線遮蔽側板７を設けることにより、取り除くこ
とができるから、シ−ルド室上部のシ−ルド部材の厚さ
も薄くできるし、このことは同様にシ−ルド室下部のシ
−ルド部材、被照射物の搬送方向入口側、出口側のシ−
ルド部材、即ち図２における上下のシ−ルド部材３にも
あてはまる。
により、搬送される被照射物の両脇外側方向に発生する
後方散乱電子線はＸ線遮蔽側板７で受け止められ、一回
散乱Ｘ線が発生する。このＸ線はあらゆる方向に向いシ
−ルド室４のシ−ルド部材３に達するが、そこに至るま
での距離行程において減衰する。また、Ｘ線遮蔽側板７
からＸ線遮蔽鉛側板８側に向かう散乱Ｘ線は同板８で遮
蔽、減衰するから、シ−ルド部材３に達するＸ線は充分
に減衰する。一般にＸ線は一回散乱させることにより、
およそ１〇〇〇分の１に減衰するから、シ−ルド部材３
をかなり薄くしてもＸ線漏洩を防止できる。なお、図１
の上方に向かう後方散乱電子線はＸ線遮蔽側板７では受
け止めることはできないが、同遮蔽側板７がない場合
に、シ−ルド室４の左右のシ−ルド部材３に散乱電子線
が当たり、そこから散乱するＸ線がシ−ルド室４の上部
のシ−ルド部材３に到達し漏洩する。かかる散乱Ｘ線の
影響をＸ線遮蔽側板７を設けることにより、取り除くこ
とができるから、シ−ルド室上部のシ−ルド部材の厚さ
も薄くできるし、このことは同様にシ−ルド室下部のシ
−ルド部材、被照射物の搬送方向入口側、出口側のシ−
ルド部材、即ち図２における上下のシ−ルド部材３にも
あてはまる。
【０００９】
【考案の効果】ビ−ムキャッチャから搬送される被照射
物の両脇外側方向に後方散乱した電子線は、Ｘ線遮蔽側
板に当たり、一回散乱Ｘ線を発生させるが、同Ｘ線はシ
−ルド室を形成するシ−ルド部材に到達するまでの距離
行程で減衰するから、シ−ルド部材での後方散乱電子線
の衝突による一回散乱Ｘ線の発生が防止、抑制され、同
シ−ルド部材は減衰した一回散乱Ｘ線を遮蔽すればよい
から、シ−ルド部材の厚さを薄くすることができ、シ−
ルド室を形成するシ−ルド部材の全体の使用量を著しく
少なくすることができる。そして、Ｘ線遮蔽側板は水冷
ダクトを有するから、後方散乱電子線が当たることによ
る発熱を抑えることができる。また、Ｘ線遮蔽側板に遮
蔽鉛側板を併用すると、シ−ルド部材の厚さを一層薄く
することができる。
物の両脇外側方向に後方散乱した電子線は、Ｘ線遮蔽側
板に当たり、一回散乱Ｘ線を発生させるが、同Ｘ線はシ
−ルド室を形成するシ−ルド部材に到達するまでの距離
行程で減衰するから、シ−ルド部材での後方散乱電子線
の衝突による一回散乱Ｘ線の発生が防止、抑制され、同
シ−ルド部材は減衰した一回散乱Ｘ線を遮蔽すればよい
から、シ−ルド部材の厚さを薄くすることができ、シ−
ルド室を形成するシ−ルド部材の全体の使用量を著しく
少なくすることができる。そして、Ｘ線遮蔽側板は水冷
ダクトを有するから、後方散乱電子線が当たることによ
る発熱を抑えることができる。また、Ｘ線遮蔽側板に遮
蔽鉛側板を併用すると、シ−ルド部材の厚さを一層薄く
することができる。
【図１】一部を断面で示した本考案の一実施例の正面図
である。
である。
【図２】一部を断面で示した本考案の一実施例の上面図
である。
である。
【図３】一部を断面で示した従来例の正面図である。
１ スキャナ ２ ビ−ムキャッチャ ３ シ−ルド部材 ４ シ−ルド室 ７ Ｘ線遮蔽側板 ７ａ 水冷ダクト ８ Ｘ線遮蔽鉛側板
Claims (1)
- 【請求項１】 シールド部材で形成されたシールド室内
でスキャナからの電子線が照射される被照射物の背面側
位置にビ−ムキャッチャを設置した走査形電子線照射装
置において、上記ビ−ムキャッチャに、上記被照射物の
搬送方向と平行に水冷ダクトを有するＸ線遮蔽側板を取
り付けたことを特徴とするＸ線遮蔽装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1991022398U JP2506718Y2 (ja) | 1991-03-15 | 1991-03-15 | 走査形電子線照射装置におけるｘ線遮蔽装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1991022398U JP2506718Y2 (ja) | 1991-03-15 | 1991-03-15 | 走査形電子線照射装置におけるｘ線遮蔽装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0527700U JPH0527700U (ja) | 1993-04-09 |
| JP2506718Y2 true JP2506718Y2 (ja) | 1996-08-14 |
Family
ID=12081564
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1991022398U Expired - Lifetime JP2506718Y2 (ja) | 1991-03-15 | 1991-03-15 | 走査形電子線照射装置におけるｘ線遮蔽装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2506718Y2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011095039A (ja) * | 2009-10-28 | 2011-05-12 | Japan Atomic Energy Agency | イオン輸送装置、イオン輸送方法、及びイオンビーム照射装置、医療用粒子線照射装置 |
| JP6471682B2 (ja) * | 2015-12-04 | 2019-02-20 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 電子ビーム照射装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4252413A (en) * | 1978-10-05 | 1981-02-24 | Energy Sciences Inc. | Method of and apparatus for shielding inert-zone electron irradiation of moving web materials |
-
1991
- 1991-03-15 JP JP1991022398U patent/JP2506718Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0527700U (ja) | 1993-04-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |