JP2501140B2 - Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation - Google Patents

Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation

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JP2501140B2
JP2501140B2 JP3051591A JP3051591A JP2501140B2 JP 2501140 B2 JP2501140 B2 JP 2501140B2 JP 3051591 A JP3051591 A JP 3051591A JP 3051591 A JP3051591 A JP 3051591A JP 2501140 B2 JP2501140 B2 JP 2501140B2
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epoxy resin
resin composition
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泰司 澤村
敏博 手柴
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半田耐熱性、耐湿信頼
性に優れる半導体封止用エポキシ樹脂組成物に関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation which is excellent in solder heat resistance and moisture resistance reliability.

【0002】[0002]

【従来の技術】エポキシ樹脂は耐熱性、耐湿性、電気特
性、接着性などに優れており、さらに配合処方により種
々の特性が付与できるため、塗料、接着剤、電気絶縁材
料など工業材料として利用されている。
2. Description of the Related Art Epoxy resins are excellent in heat resistance, moisture resistance, electrical characteristics, adhesiveness, etc., and can be given various characteristics by blending formulation, so they are used as industrial materials such as paints, adhesives and electrical insulation materials. Has been done.

【0003】たとえば、半導体装置などの電子回路部品
の封止方法として従来より金属やセラミックスによるハ
ーメチックシールとフェノール樹脂、シリコーン樹脂、
エポキシ樹脂などによる樹脂封止が提案されている。し
かし、経済性、生産性、物性のバランスの点からエポキ
シ樹脂による樹脂封止が中心になっている。
For example, as a method of sealing electronic circuit parts such as semiconductor devices, hermetic seals made of metal or ceramics and phenol resin, silicone resin, etc. have hitherto been used.
Resin encapsulation with an epoxy resin or the like has been proposed. However, resin sealing with an epoxy resin is mainly used from the viewpoint of the balance of economy, productivity and physical properties.

【0004】最近ではプリント基板への部品実装におい
ても高密度化、自動化が進められており、従来のリード
ピンを基板の穴に挿入する“挿入実装方式”に代り、基
板表面に部品を半田付けする“表面実装方式”が盛んに
なってきた。それに伴い、パッケージも従来のDIP
(デュアル・インライン・パッケージ)から高密度実
装、表面実装に適した薄型のFPP(フラット・プラス
チック・パッケージ)に移行しつつある。
Recently, densification and automation have also been promoted in mounting components on a printed circuit board. Instead of the conventional "insertion mounting method" in which lead pins are inserted into holes in the substrate, components are soldered to the surface of the substrate. "Surface mounting method" has become popular. Along with that, the package is also the conventional DIP
(Dual in-line package) is shifting to thin FPP (flat plastic package) suitable for high-density mounting and surface mounting.

【0005】表面実装方式への移行に伴い、従来あまり
問題にならなかった半田付け工程が大きな問題になって
きた。従来のピン挿入実装方式では半田付け工程はリー
ド部が部分的に加熱されるだけであったが、表面実装方
式ではパッケージ全体が熱媒に浸され加熱される。表面
実装方式における半田付け方法としては半田浴浸漬、不
活性ガスの飽和蒸気による加熱(ベーパーフェイズ法)
や赤外線リフロー法などが用いられるが、いずれの方法
でもパッケージ全体が210〜270℃の高温に加熱さ
れることになる。そのため従来の封止樹脂で封止したパ
ッケージは、半田付け時に樹脂部分にクラックが発生
し、信頼性が低下して製品として使用できないという問
題がおきる。
With the shift to the surface mounting system, the soldering process, which has not been a problem so far, has become a big problem. In the conventional pin insertion mounting method, the lead portion is only partially heated in the soldering process, but in the surface mounting method, the entire package is immersed in a heating medium and heated. As the soldering method in the surface mounting method, immersion in a solder bath, heating with saturated vapor of inert gas (vapor phase method)
Although an infrared reflow method or the like is used, the whole package is heated to a high temperature of 210 to 270 ° C. by either method. Therefore, the conventional package sealed with the sealing resin has a problem that the resin portion is cracked at the time of soldering, the reliability is lowered, and the package cannot be used as a product.

【0006】半田付け工程におけるクラックの発生は、
後硬化してから実装工程の間までに吸湿した水分が半田
付け加熱時に爆発的に水蒸気化、膨脹することに起因す
るといわれており、その対策として後硬化したパッケー
ジを完全に乾燥し密封した容器に収納して出荷する方法
が用いられている。
The occurrence of cracks in the soldering process is
It is said that the moisture absorbed between the post-curing and the mounting process explosively vaporizes and expands during soldering heating.As a countermeasure against this, the post-cured package is completely dried and sealed. The method of storing and shipping is used.

【0007】封止用樹脂の改良も種々検討されている。
たとえば、ビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂とフェ
ノールノボラック型の硬化剤を用いる方法(特開昭63
−251419号公報、特開平1−87616号公報)
や、4,4´−ジヒドロキシ−3,3´,5,5´−テ
トラメチルビフェニルを硬化剤として用いる方法(I)E
EE 1990年大会予稿集、第625ページ)などが
提案されている。
Various studies have been made to improve sealing resins.
For example, a method using an epoxy resin having a biphenyl skeleton and a phenol novolac type curing agent (Japanese Patent Laid-Open No. Sho 63-63).
-251419, JP-A-1-87616)
Or a method using 4,4'-dihydroxy-3,3 ', 5,5'-tetramethylbiphenyl as a curing agent (I) E
EE 1990 Conference Proceedings, page 625), etc. have been proposed.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかるに乾燥パッケー
ジを容器に封入する方法は製造工程および製品の取扱作
業が繁雑になるうえ、製品価格が高価になる欠点があ
る。
However, the method of enclosing the dry package in the container has the drawbacks that the manufacturing process and the handling of the product are complicated, and the product price is high.

【0009】また、ビフェニル骨格を有するエポキシ樹
脂とフェノールノボラック型の硬化剤を用いる方法(特
開昭63−251419号公報、特開平1−87616
号公報)は半田付け時のクラック防止効果、半田処理後
の耐湿信頼性が十分ではなかった。また、4,4´−ジ
ヒドロキシ−3,3´,5,5´−テトラメチルビフェ
ニルを硬化剤として用いる方法は、反応性が悪く、ガラ
ス転移温度が低いのみならず、耐湿信頼性も悪く、実用
的でなかった。
A method using an epoxy resin having a biphenyl skeleton and a phenol novolac type curing agent (Japanese Patent Laid-Open No. 63-251419 and Japanese Patent Laid-Open No. 1-87616).
In Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2003-264, the effect of preventing cracks during soldering and the reliability of moisture resistance after soldering were not sufficient. In addition, the method of using 4,4'-dihydroxy-3,3 ', 5,5'-tetramethylbiphenyl as a curing agent has poor reactivity, a low glass transition temperature, and poor moisture resistance reliability. It wasn't practical.

【0010】本発明の目的は、かかる半田付け工程で生
じるクラックの問題を解消し、半田処理後の耐湿信頼性
に優れる半導体封止用エポキシ樹脂組成物を提供するこ
とにある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor encapsulating epoxy resin composition which solves the problem of cracks generated in the soldering process and has excellent moisture resistance reliability after soldering.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、ビフェニ
ル骨格を有するエポキシ樹脂に、特定の構造を有する硬
化剤を添加することにより、上記の課題を達成し、目的
に合致したエポキシ樹脂組成物が得られることを見出
し、本発明に到達した。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention achieved the above-mentioned object by adding a curing agent having a specific structure to an epoxy resin having a biphenyl skeleton, and an epoxy resin composition meeting the purpose. They have found that a product can be obtained and have reached the present invention.

【0012】すなわち、本発明は、エポキシ樹脂
(A)、硬化剤(B)および充填材(C)を含有してな
るエポキシ樹脂組成物であって、前記エポキシ樹脂
(A)が次の一般式(I)
That is, the present invention is an epoxy resin composition containing an epoxy resin (A), a curing agent (B) and a filler (C), wherein the epoxy resin (A) has the following general formula: (I)

【化4】 (式中、R1 〜R8 は水素原子、ハロゲン原子、または
炭素数1〜4のアルキル基を示す。)で表される骨格を
有するエポキシ樹脂(a)を必須成分として含有し、前
記硬化剤(B)が次式(II)
Embedded image (In the formula, R 1 to R 8 represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.) An epoxy resin (a) having a skeleton represented by the formula is contained as an essential component, and the curing is performed. The agent (B) has the following formula (II)

【化5】 で表されるビフェニル化合物(b)を必須成分として含
有し、前記充填材(C)の割合が全体の75〜90重量
%である半導体封止用エポキシ樹脂組成物である。
Embedded image An epoxy resin composition for semiconductor encapsulation , which contains the biphenyl compound (b) represented by the formula (1) as an essential component and the proportion of the filler (C) is 75 to 90% by weight of the whole.

【0013】以下、本発明の構成を詳述する。The structure of the present invention will be described in detail below.

【0014】本発明におけるエポキシ樹脂(A)は、上
記式(I) で表される骨格を有するエポキシ樹脂(a)を
必須成分として含有することが重要である。
It is important that the epoxy resin (A) in the present invention contains the epoxy resin (a) having the skeleton represented by the above formula (I) as an essential component.

【0015】エポキシ樹脂(a)を含有しない場合は半
田付け工程におけるクラックの発生防止効果は発揮され
ない。
If the epoxy resin (a) is not contained, the effect of preventing the occurrence of cracks in the soldering process is not exerted.

【0016】上記式(I) において、R1 〜R8 の好まし
い具体例としては、水素原子、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、sec−ブ
チル基、tert−ブチル基、塩素原子、臭素原子など
が挙げられる。
In the above formula (I), preferred examples of R 1 to R 8 are hydrogen atom, methyl group, ethyl group, propyl group, i-propyl group, n-butyl group, sec-butyl group and tert. -Butyl group, chlorine atom, bromine atom and the like.

【0017】本発明におけるエポキシ樹脂(a)の好ま
しい具体例としては、4,4´−ビス(2,3−エポキ
シプロポキシ)ビフェニル、4,4´−ビス(2,3−
エポキシプロポキシ)−3,3´,5,5´−テトラメ
チルビフェニル、4、4´−ビス(2,3−エポキシプ
ロポキシ)−3,3´,5,5´−テトラメチル−2−
クロロビフェニル、4,4´−ビス(2,3−エポキシ
プロポキシ)−3,3´,5,5´−テトラメチル−2
−ブロモビフェニル、4、4´−ビス(2,3−エポキ
シプロポキシ)−3、3´,5,5´−テトラエチルビ
フェニル、4,4´−ビス(2,3−エポキシプロポキ
シ)−3、3´,5,5´−テトラブチルビフェニルな
どが挙げられる。
Preferred specific examples of the epoxy resin (a) in the present invention include 4,4'-bis (2,3-epoxypropoxy) biphenyl and 4,4'-bis (2,3-).
Epoxypropoxy) -3,3 ', 5,5'-tetramethylbiphenyl, 4,4'-bis (2,3-epoxypropoxy) -3,3', 5,5'-tetramethyl-2-
Chlorobiphenyl, 4,4'-bis (2,3-epoxypropoxy) -3,3 ', 5,5'-tetramethyl-2
-Bromobiphenyl, 4,4'-bis (2,3-epoxypropoxy) -3,3 ', 5,5'-tetraethylbiphenyl, 4,4'-bis (2,3-epoxypropoxy) -3,3 Examples include ′, 5,5′-tetrabutylbiphenyl.

【0018】本発明におけるエポキシ樹脂(A)は上記
のエポキシ樹脂(a)とともに該エポキシ樹脂(a)以
外の他のエポキシ樹脂をも併用して含有することができ
る。併用できる他のエポキシ樹脂としては、たとえば、
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAやレゾルシン
などから合成される各種ノボラック型エポキシ樹脂、ビ
スフェノールA型エポキシ樹脂、線状脂肪族エポキシ樹
脂、脂環式エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、ハロ
ゲン化エポキシ樹脂などが挙げられる。
The epoxy resin (A) in the present invention may contain an epoxy resin other than the epoxy resin (a) in combination with the above epoxy resin (a). Other epoxy resins that can be used in combination include, for example,
Cresol novolac type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, various novolac type epoxy resins synthesized from bisphenol A and resorcin, bisphenol A type epoxy resin, linear aliphatic epoxy resin, alicyclic epoxy resin, heterocyclic epoxy Examples thereof include resins and halogenated epoxy resins.

【0019】エポキシ樹脂(A)中に含有されるエポキ
シ樹脂(a)の割合に関しては、特に制限がなく必須成
分としてエポキシ樹脂(a)が含有されれば本発明の効
果は発揮されるが、より十分な効果を発揮させるために
は、エポキシ樹脂(a)をエポキシ樹脂(A)中に通常
50重量%以上、好ましくは70重量%以上含有せしめ
る必要がある。
The ratio of the epoxy resin (a) contained in the epoxy resin (A) is not particularly limited, and the effect of the present invention is exhibited if the epoxy resin (a) is contained as an essential component. In order to exert a more sufficient effect, the epoxy resin (a) must be contained in the epoxy resin (A) in an amount of usually 50% by weight or more, preferably 70% by weight or more.

【0020】本発明において、エポキシ樹脂(A)の配
合量は通常4〜20重量%、好ましくは6〜18重量%
である。
In the present invention, the compounding amount of the epoxy resin (A) is usually 4 to 20% by weight, preferably 6 to 18% by weight.
Is.

【0021】本発明における硬化剤(B)は上記式(II)
で表されるビフェニル化合物(b)を必須成分として含
有することが重要である。
The curing agent (B) in the present invention is represented by the above formula (II).
It is important to contain the biphenyl compound (b) represented by as an essential component.

【0022】ビフェニル化合物(b)を含有しない場合
は半田付け工程におけるクラックの発生防止効果が小さ
いばかりでなく、半田浸漬後の耐湿信頼性向上効果も小
さい。
When the biphenyl compound (b) is not contained, not only the effect of preventing the occurrence of cracks in the soldering process is small, but also the effect of improving the moisture resistance reliability after dipping the solder is small.

【0023】本発明における硬化剤(B)は上記のビフ
ェニル化合物(b)以外の多官能の硬化剤を併用して使
用することが好ましい。併用できる硬化剤としては、た
とえば、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラ
ック樹脂、ビスフェノールAやレゾルシンから合成され
る各種ノボラック樹脂、次の一般式(III) で表されるフ
ェノール化合物(b´)、無水マレイン酸、無水ピロメ
リット酸、無水フタル酸などの酸無水物およびメタフェ
ニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノ
ジフェニルスルホンなどの芳香族アミンなどが挙げられ
る。
The curing agent (B) in the present invention is preferably used in combination with a polyfunctional curing agent other than the above biphenyl compound (b). Examples of curing agents that can be used in combination include phenol novolac resins, cresol novolac resins, various novolac resins synthesized from bisphenol A and resorcin, phenol compounds (b ') represented by the following general formula (III), and maleic anhydride. Acid anhydrides such as pyromellitic dianhydride and phthalic anhydride, and aromatic amines such as metaphenylenediamine, diaminodiphenylmethane and diaminodiphenylsulfone.

【0024】[0024]

【化6】 (式中、Rは水素原子、アリール基またはアルキル基を
表す。)。
[Chemical 6] (In the formula, R represents a hydrogen atom, an aryl group or an alkyl group.).

【0025】中でも、耐湿信頼性の点からフェノールノ
ボラック樹脂、フェノール化合物(b´)が好ましく用
いられる。特に好ましくはフェノール化合物(b´)で
ある。
Of these, a phenol novolac resin and a phenol compound (b ') are preferably used from the viewpoint of moisture resistance reliability. Particularly preferred is a phenol compound (b ').

【0026】硬化剤(B)中に含有されるビフェニル化
合物(b)の割合に関しては、特に制限がなく、必須成
分としてビフェニル化合物(b)が含有されれば本発明
の効果は発揮されるが、より十分な効果を発揮させるた
めには、ビフェニル化合物(b)を硬化剤(B)中に通
常5〜90重量%、好ましくは15〜50重量%含有せ
しめる必要がある。
The proportion of the biphenyl compound (b) contained in the curing agent (B) is not particularly limited, but the effect of the present invention is exhibited if the biphenyl compound (b) is contained as an essential component. In order to exert a more sufficient effect, it is necessary that the curing agent (B) contains the biphenyl compound (b) in an amount of usually 5 to 90% by weight, preferably 15 to 50% by weight.

【0027】本発明において、硬化剤(B)の配合量は
通常1〜20重量%、好ましくは2〜15重量%であ
る。さらには、エポキシ樹脂(A)と硬化剤(B)の配
合比は、機械的性質および耐湿性の点から(A)に対す
る(B)の化学当量比が0.5〜1.5、特に0.8〜
1.2の範囲にあることが好ましい。
In the present invention, the content of the curing agent (B) is usually 1 to 20% by weight, preferably 2 to 15% by weight. Further, the compounding ratio of the epoxy resin (A) and the curing agent (B) is such that the chemical equivalent ratio of (B) to (A) is 0.5 to 1.5, particularly 0 from the viewpoint of mechanical properties and moisture resistance. .8-
It is preferably in the range of 1.2.

【0028】また、本発明においてエポキシ樹脂(A)
と硬化剤(B)の硬化反応を促進するため硬化触媒を用
いてもよい。硬化触媒は硬化反応を促進するものならば
特に限定されず、たとえば2−メチルイミダゾール、
2,4−ジメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチ
ルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェ
ニル−4−メチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミ
ダゾールなどのイミダゾール化合物、トリエチルアミ
ン、ベンジルジメチルアミン、α−メチルベンジルジメ
チルアミン、2−(ジメチルアミノメチル)フェノー
ル、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェ
ノール、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデ
セン−7などの3級アミン化合物、ジルコニウムテトラ
メトキシド、ジルコニウムテトラプロポキシド、テトラ
キス(アセチルアセトナト)ジルコニウム、トリ(アセ
チルアセトナト)アルミニウムなどの有機金属化合物お
よびトリフェニルホスフィン、トリメチルホスフィン、
トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリ
(p−メチルフェニル)ホスフィン、トリ(ノニルフェ
ニル)ホスフィンなどの有機ホスフィン化合物が挙げら
れる。なかでも耐湿性の点から、有機ホスフィン化合物
が好ましく、トリフェニルホスフィンが特に好ましく用
いられる。
Further, in the present invention, the epoxy resin (A)
A curing catalyst may be used to accelerate the curing reaction of the curing agent (B). The curing catalyst is not particularly limited as long as it accelerates the curing reaction, and for example, 2-methylimidazole,
Imidazole compounds such as 2,4-dimethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-heptadecylimidazole, triethylamine, benzyldimethylamine, α-methylbenzyl Tertiary amine compounds such as dimethylamine, 2- (dimethylaminomethyl) phenol, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7, zirconium tetra Organometallic compounds such as methoxide, zirconium tetrapropoxide, tetrakis (acetylacetonato) zirconium, tri (acetylacetonato) aluminum and triphenylphosphine, trimethylphosphine,
Examples thereof include organic phosphine compounds such as triethylphosphine, tributylphosphine, tri (p-methylphenyl) phosphine, and tri (nonylphenyl) phosphine. Among them, organic phosphine compounds are preferable, and triphenylphosphine is particularly preferably used, from the viewpoint of moisture resistance.

【0029】これらの硬化触媒は、用途によっては二種
以上を併用してもよく、その添加量はエポキシ樹脂
(A)100重量部に対して0.1〜10重量部の範囲
が好ましい。
Two or more kinds of these curing catalysts may be used in combination depending on the intended use, and the addition amount thereof is preferably in the range of 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin (A).

【0030】本発明における充填材(C)としては、溶
融シリカ、結晶性シリカ、炭酸カルシウム、炭酸マグネ
シウム、アルミナ、マグネシア、クレー、タルク、ケイ
酸カルシウム、酸化チタン、アスベスト、ガラス繊維な
どが挙げられる。なかでも溶融シリカは線膨張係数を低
下させる効果が大きく、低応力化に有効なため好ましく
用いられる。さらには、充填材(C)の割合が75〜9
0重量%であり、かつ充填材(C)が平均粒径10μm
以下の破砕溶融シリカ(C´)95〜60重量%と平均
粒径40μm以下の球状溶融シリカ(C”)5〜40重
量%からなる溶融シリカ(c)を含むことが半田耐熱性
の点で好ましい。ここで平均粒径は、累積重量50%に
なる粒径(メジアン径)を意味する。
Examples of the filler (C) in the present invention include fused silica, crystalline silica, calcium carbonate, magnesium carbonate, alumina, magnesia, clay, talc, calcium silicate, titanium oxide, asbestos and glass fiber. . Among them, fused silica has a large effect of lowering the linear expansion coefficient and is effective in lowering stress, and is therefore preferably used. Furthermore, the ratio of the filler (C) is 75 to 9
0% by weight, and the filler (C) has an average particle size of 10 μm
From the viewpoint of solder heat resistance, the following fused silica (c) consisting of 95 to 60% by weight of crushed fused silica (C ′) and 5 to 40% by weight of spherical fused silica (C ″) having an average particle size of 40 μm or less is included. Preferably, the average particle diameter means a particle diameter (median diameter) at which the cumulative weight becomes 50%.

【0031】本発明において、充填剤(C)をシランカ
ップリング剤、チタネートカップリング剤などのカップ
リング剤であらかじめ表面処理することが、信頼性の点
で好ましい。カップリング剤としてエポキシシラン、ア
ミノシラン、メルカプトシランなどのシランカップリン
グ剤が好ましく用いられる。
In the present invention, the surface treatment of the filler (C) with a coupling agent such as a silane coupling agent or a titanate coupling agent is preferable in terms of reliability. As the coupling agent, silane coupling agents such as epoxysilane, aminosilane, mercaptosilane and the like are preferably used.

【0032】本発明のエポキシ樹脂組成物にはハロゲン
化エポキシ樹脂などのハロゲン化合物、リン化合物など
の難燃剤、三酸化アンチモンなどの難燃助剤、カーボン
ブラック、酸化鉄などの着色剤、シリコーンゴム、スチ
レン系ブロック共重合体、変性ニトリルゴム、変性ポリ
ブタジエンゴム、変性シリコーンオイルなどのエラスト
マー、ポリエチレンなどの熱可塑性樹脂、長鎖脂肪酸、
長鎖脂肪酸の金属塩、長鎖脂肪酸のエステル、長鎖脂肪
酸のアミド、パラフィンワックスなどの離型剤および有
機過酸化物などの架橋剤を任意に添加することができ
る。
The epoxy resin composition of the present invention includes halogen compounds such as halogenated epoxy resins, flame retardants such as phosphorus compounds, flame retardant aids such as antimony trioxide, colorants such as carbon black and iron oxide, and silicone rubber. , Styrene block copolymers, modified nitrile rubber, modified polybutadiene rubber, elastomers such as modified silicone oil, thermoplastic resins such as polyethylene, long chain fatty acids,
A metal salt of a long-chain fatty acid, an ester of a long-chain fatty acid, an amide of a long-chain fatty acid, a releasing agent such as paraffin wax, and a cross-linking agent such as an organic peroxide can be optionally added.

【0033】本発明のエポキシ樹脂組成物は溶融混練す
ることが好ましく、たとえばバンバリーミキサー、ニー
ダー、ロール、単軸もしくは二軸の押出機およびコニー
ダーなどの公知の混練方法を用いて溶融混練することに
より製造される。
The epoxy resin composition of the present invention is preferably melt-kneaded, for example, by melt-kneading using a known kneading method such as Banbury mixer, kneader, roll, single-screw or twin-screw extruder and cokneader. Manufactured.

【0034】[0034]

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。
The present invention will be described below in detail with reference to examples.

【0035】実施例1〜4、比較例1〜5 表1に示した成分を、表2に示した組成比でミキサーに
よりドライブレンドした。これを、ロール表面温度90
℃のミキシングロールを用いて5分間加熱混練後、冷却
・粉砕してエポキシ樹脂組成物を製造した。
Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 5 The components shown in Table 1 were dry blended with a mixer in the composition ratios shown in Table 2. Roll surface temperature 90
The mixture was heated and kneaded for 5 minutes using a mixing roll at ℃, cooled and pulverized to produce an epoxy resin composition.

【0036】この組成物を用い、低圧トランスファー成
形法により175℃×2分の条件で成形して次の物性、
成形性測定法により各組成物の物性および成形性を測定
した。
This composition was molded by a low pressure transfer molding method under the conditions of 175 ° C. × 2 minutes to obtain the following physical properties:
The physical properties and moldability of each composition were measured by the moldability measurement method.

【0037】半田耐熱性:模擬素子を搭載した80pi
n QFP20個を成形、180℃で5時間ポストキュ
アし、85℃/85%RHで72時間加湿後、IRリフ
ロー炉を用いて245℃に10秒間加熱し、クラックの
発生しないQFPの個数の割合を求めた。
Solder heat resistance: 80 pi equipped with a simulated element
n QFP 20 pieces were molded, post-cured at 180 ° C. for 5 hours, humidified at 85 ° C./85% RH for 72 hours, then heated to 245 ° C. for 10 seconds using an IR reflow furnace, and the ratio of the number of QFPs without cracks I asked.

【0038】半田処理後のPCBT:半田処理後の80
pin QFPを125℃、85%RH、バイアス電圧
10VでUSPCBTを行い、累積故障率50%になる
時間を求めた。
PCBT after soldering: 80 after soldering
USP CBT was performed using pin QFP at 125 ° C., 85% RH, and a bias voltage of 10 V, and the time at which the cumulative failure rate was 50% was obtained.

【0039】測定結果を表2に示す。 The measurement results are shown in Table 2.

【0040】[0040]

【表1】 [Table 1]

【表2】 表2にみられるように、本発明のエポキシ樹脂組成物
(実施例1〜4)は半田耐熱性、半田処理後の耐湿信頼
性に優れている。なかでも硬化剤としてトリス(3−ヒ
ドロキシフェニル)メタンを用いた実施例4は優れた半
田耐熱性と耐湿信頼性を示した。
[Table 2] As seen in Table 2, the epoxy resin compositions of the present invention (Examples 1 to 4) are excellent in solder heat resistance and moisture resistance reliability after soldering. In particular, Example 4 using tris (3-hydroxyphenyl) methane as the curing agent showed excellent solder heat resistance and moisture resistance reliability.

【0041】これに対してエポキシ樹脂(A)中にエポ
キシ樹脂(a)を含有しない比較例4では半田耐熱性お
よび耐湿信頼性に劣っている。また、硬化剤(B)中に
硬化剤(b)を含まない比較例1〜3では、それぞれに
対応する実施例に比べて半田耐熱性および半田処理後の
耐湿信頼性が劣っている。さらに、溶融シリカ(C)の
割合が全体の75重量%未満の比較例5は半田耐熱性お
よび半田処理後の耐湿信頼性が劣っている。
On the other hand, Comparative Example 4 in which the epoxy resin (A) does not contain the epoxy resin (a) is inferior in solder heat resistance and moisture resistance reliability. Further, in Comparative Examples 1 to 3 in which the curing agent (B) does not contain the curing agent (b), the solder heat resistance and the moisture resistance reliability after the solder treatment are inferior to those of the corresponding Examples. Furthermore, Comparative Example 5 in which the proportion of fused silica (C) is less than 75% by weight of the whole is inferior in solder heat resistance and moisture resistance reliability after soldering.

【0042】[0042]

【発明の効果】本発明のエポキシ樹脂組成物は、半導体
封止用に適したエポキシ樹脂組成物であって、半田付け
工程で生じるクラックの問題を解消し、半田耐熱性およ
び半田処理後の耐湿信頼性に優れている。
Industrial Applicability The epoxy resin composition of the present invention is an epoxy resin composition suitable for semiconductor encapsulation, which solves the problem of cracks generated in the soldering process, and has solder heat resistance and moisture resistance after soldering. It has excellent reliability.

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 エポキシ樹脂(A)、硬化剤(B)およ
び充填材(C)を含有してなるエポキシ樹脂組成物であ
って、前記エポキシ樹脂(A)が次の一般式(I) 【化1】 (式中、R1 〜R8 は水素原子、ハロゲン原子、または
炭素数1〜4のアルキル基を示す。) で表される骨格を有するエポキシ樹脂(a)を必須成分
として含有し、前記硬化剤(B)が次式(II) 【化2】 で表されるビフェニル化合物(b)を必須成分として含
有し、前記充填材(C)の割合が全体の75〜90重量
%である半導体封止用エポキシ樹脂組成物。
1. An epoxy resin composition comprising an epoxy resin (A), a curing agent (B) and a filler (C), wherein the epoxy resin (A) is represented by the following general formula (I): Chemical 1] (In the formula, R 1 to R 8 represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.) An epoxy resin (a) having a skeleton represented by The agent (B) is represented by the following formula (II): The epoxy resin composition for semiconductor encapsulation containing the biphenyl compound (b) represented by the above as an essential component, and the proportion of the filler (C) is 75 to 90% by weight of the whole.
【請求項2】 硬化剤(B)がビフェニル化合物(b)
とともに次の一般式(III) 【化3】 (式中、Rは水素原子、アリール基またはアルキル基を
表す。) で表されるフェノール化合物(b´)を必須成分として
含有する請求項1記載のエポキシ樹脂組成物。
2. The curing agent (B) is a biphenyl compound (b).
And the following general formula (III) (In formula, R represents a hydrogen atom, an aryl group, or an alkyl group.) The epoxy resin composition of Claim 1 containing the phenol compound (b ') represented by this.
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