JP2500525B2 - 微小共振器発光素子 - Google Patents
微小共振器発光素子Info
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- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/18—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities
- H01S5/183—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL]
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- H01S5/00—Semiconductor lasers
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- H01S5/343—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising quantum well or superlattice structures, e.g. single quantum well [SQW] lasers, multiple quantum well [MQW] lasers or graded index separate confinement heterostructure [GRINSCH] lasers in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser
- H01S5/34313—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising quantum well or superlattice structures, e.g. single quantum well [SQW] lasers, multiple quantum well [MQW] lasers or graded index separate confinement heterostructure [GRINSCH] lasers in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser with a well layer having only As as V-compound, e.g. AlGaAs, InGaAs
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- Semiconductor Lasers (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は光通信や光交換、光コン
ピューティングに用いられる微小共振器発光素子に関す
る。
ピューティングに用いられる微小共振器発光素子に関す
る。
【0002】
【従来の技術】微小共振器発光素子では2つの反射鏡に
よって共振器が形成されており、共振器間隔は媒質内波
長程度の長さとなっている。そして、共振器の内部には
発光源となる活性層が形成されている。微小共振器発光
素子では自然放出光として許されるモードが1つもしく
は少数となっている。自然放出光は、唯一の共振モード
に結合することにより(C=1)、発振閾値電流を従来
の大きな体積を持ったレーザに比べて著しく低減するこ
とが可能となる。またレーザの出力光の強度雑音の原因
は、自然放出光であるのでC=1とすることができれ
ば、出力光の強度雑音はショット雑音以下にすることが
できる。
よって共振器が形成されており、共振器間隔は媒質内波
長程度の長さとなっている。そして、共振器の内部には
発光源となる活性層が形成されている。微小共振器発光
素子では自然放出光として許されるモードが1つもしく
は少数となっている。自然放出光は、唯一の共振モード
に結合することにより(C=1)、発振閾値電流を従来
の大きな体積を持ったレーザに比べて著しく低減するこ
とが可能となる。またレーザの出力光の強度雑音の原因
は、自然放出光であるのでC=1とすることができれ
ば、出力光の強度雑音はショット雑音以下にすることが
できる。
【0003】図3は、従来の微小共振器発光素子の断面
構造を示した図である(山本善久ほか、平成2年レーザ
ー学会学術講演会第10回年次大会,25a3,5〜8
頁,1990年)。厚さ75Åで活性層(=発光層)と
なるGaAs量子井戸層304が、厚さ2500Å(−
波長)のAl0.2Ga0.8As層305と、306の中
央に埋め込まれ、その両側がAlAs/Al0.2G
a0.8Asのλ/4膜からなる分布反射鏡(DBR)か
らなっている。活性層の励起はこの例では光で行ってい
る。図中、302,307は、AlAs、303,30
8は、Al0.2Ga0.8Asである。
構造を示した図である(山本善久ほか、平成2年レーザ
ー学会学術講演会第10回年次大会,25a3,5〜8
頁,1990年)。厚さ75Åで活性層(=発光層)と
なるGaAs量子井戸層304が、厚さ2500Å(−
波長)のAl0.2Ga0.8As層305と、306の中
央に埋め込まれ、その両側がAlAs/Al0.2G
a0.8Asのλ/4膜からなる分布反射鏡(DBR)か
らなっている。活性層の励起はこの例では光で行ってい
る。図中、302,307は、AlAs、303,30
8は、Al0.2Ga0.8Asである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、実際にこの
ような微小共振器発光素子を用いるときに問題となるの
は、戻り光誘起雑音である。ある程度以上の発光強度を
確保して微小共振器発光素子を使用するとなると、微小
共振器発光素子といえど通常のレーザで起こる戻り誘起
雑音が発生し、実用上での問題となる。特に微小共振器
発光素子からの出力光は、コヒーレンスの高い光なの
で、戻り光誘起雑音に対する対策が非常に重要となる。
ような微小共振器発光素子を用いるときに問題となるの
は、戻り光誘起雑音である。ある程度以上の発光強度を
確保して微小共振器発光素子を使用するとなると、微小
共振器発光素子といえど通常のレーザで起こる戻り誘起
雑音が発生し、実用上での問題となる。特に微小共振器
発光素子からの出力光は、コヒーレンスの高い光なの
で、戻り光誘起雑音に対する対策が非常に重要となる。
【0005】微小共振器発光素子の戻り光雑音は、基本
的には現在、光通信の分野で実用に供せられているDF
BやDBR半導体レーザと同程度の戻り光雑音が発生す
るものと推定される。
的には現在、光通信の分野で実用に供せられているDF
BやDBR半導体レーザと同程度の戻り光雑音が発生す
るものと推定される。
【0006】戻り光誘起雑音を低減する方法としては、
光アイソレータを使用することが考えられる。しかしア
イソレータは、サイズの面で使いづらい問題がある。し
たがって、構造的には戻り光雑音が発生しにくいような
構造が実現されていることが望ましい。
光アイソレータを使用することが考えられる。しかしア
イソレータは、サイズの面で使いづらい問題がある。し
たがって、構造的には戻り光雑音が発生しにくいような
構造が実現されていることが望ましい。
【0007】そのための方法として、パルセーションに
より発振を多モード化し、時間的なコヒーレンスを低下
させる方法があるが、微小共振器発光素子は、元々、単
一縦モードしか許されていないのでこのような手法は通
用しない。また実際にパルセーションを生じさせるに
は、高周波重畳などの方法が用いられるが、外部にその
ための余分な電気回路を必要とし、望ましくない。
より発振を多モード化し、時間的なコヒーレンスを低下
させる方法があるが、微小共振器発光素子は、元々、単
一縦モードしか許されていないのでこのような手法は通
用しない。また実際にパルセーションを生じさせるに
は、高周波重畳などの方法が用いられるが、外部にその
ための余分な電気回路を必要とし、望ましくない。
【0008】本発明の目的は、上記問題を解決して戻り
光に対しても安定で過剰雑音を発生しない微小共振器発
光素子を実現することにある。
光に対しても安定で過剰雑音を発生しない微小共振器発
光素子を実現することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明による微小共振器発光素子においては、2つ
の反射鏡によって媒質内波長程度の長さの共振器が形成
され、前記共振器の内部には活性層を含む微小共振器発
光素子であって、前記活性層は、前記共振器の内部に立
つ定在波の腹の位置に形成され、その厚さは媒質内波長
の1/50以下である。
め、本発明による微小共振器発光素子においては、2つ
の反射鏡によって媒質内波長程度の長さの共振器が形成
され、前記共振器の内部には活性層を含む微小共振器発
光素子であって、前記活性層は、前記共振器の内部に立
つ定在波の腹の位置に形成され、その厚さは媒質内波長
の1/50以下である。
【0010】また、微小共振器発光素子に意図的に出力
光の0.05%〜5%を前記微小共振器発光素子に戻す
ための反射部を有しているものである。
光の0.05%〜5%を前記微小共振器発光素子に戻す
ための反射部を有しているものである。
【0011】
【作用】活性層が横方向に約300μm、連続的に形成
されており、波長λに比べてずっと長い活性層を持った
通常のDFBやDBR半導体レーザでは戻り光の電界強
度が強くなる位置に活性層が必ずあり、発光時にはその
影響を活性層を通して必ず受けてしまう。それに対し、
活性層を反射鏡の間に部分的に作るような構造にすると
戻り光雑音が低減できる。何故なら、そのような構造に
すると一種の利得結合型のDBR素子となるためであ
る。そして、この効果は活性層が共振器の内部に立つ定
在波の腹の位置に形成され、その厚さは媒質内波長の1
/50以下となると顕著となる。
されており、波長λに比べてずっと長い活性層を持った
通常のDFBやDBR半導体レーザでは戻り光の電界強
度が強くなる位置に活性層が必ずあり、発光時にはその
影響を活性層を通して必ず受けてしまう。それに対し、
活性層を反射鏡の間に部分的に作るような構造にすると
戻り光雑音が低減できる。何故なら、そのような構造に
すると一種の利得結合型のDBR素子となるためであ
る。そして、この効果は活性層が共振器の内部に立つ定
在波の腹の位置に形成され、その厚さは媒質内波長の1
/50以下となると顕著となる。
【0012】さらに本発明では、このような微小共振器
発光素子に定常的に0.05%〜5%の戻り光が帰還さ
れているようにする。このように意図的に出力光を戻し
て微小共振器内に戻してやることによって、図2に示す
ように戻り光量がそれ以下で起こる相対雑音強度(RI
N)の増加を抑えることができる。
発光素子に定常的に0.05%〜5%の戻り光が帰還さ
れているようにする。このように意図的に出力光を戻し
て微小共振器内に戻してやることによって、図2に示す
ように戻り光量がそれ以下で起こる相対雑音強度(RI
N)の増加を抑えることができる。
【0013】
【実施例】以下に本発明の実施例を図によって説明す
る。図1は、本発明の一実施例の素子の構造を示す図で
ある。従来例では上側に光を取り出すようになっている
が、この例ではGaAs基板101を通して光は下側
(基板側)に出てくる。
る。図1は、本発明の一実施例の素子の構造を示す図で
ある。従来例では上側に光を取り出すようになっている
が、この例ではGaAs基板101を通して光は下側
(基板側)に出てくる。
【0014】厚さ50Åで活性層(=発光層)となるI
n0.2Ga0.8As量子井戸層104が、厚さ2500
Å(約−波長)のAl0.2Ga0.8As層105と10
6との中央に埋め込まれ、その両側がAlAs/A
l0.2Ga0.8Asのλ/4膜からなる分布反射鏡(D
BR)からなっている。従って共振器長は一波長程度の
長さとなっている。102と107とはAlAsであ
り、103と108とはAl0.2Ga0.8Asである。
発振波長は、真空中で955nm(ナノメータ)であ
る。λは媒質内波長である。
n0.2Ga0.8As量子井戸層104が、厚さ2500
Å(約−波長)のAl0.2Ga0.8As層105と10
6との中央に埋め込まれ、その両側がAlAs/A
l0.2Ga0.8Asのλ/4膜からなる分布反射鏡(D
BR)からなっている。従って共振器長は一波長程度の
長さとなっている。102と107とはAlAsであ
り、103と108とはAl0.2Ga0.8Asである。
発振波長は、真空中で955nm(ナノメータ)であ
る。λは媒質内波長である。
【0015】GaAs基板101の厚さは、100Åで
あり、その下側にはSiN109がコーティングされて
いる。そして、その反射率は955nmの光に対して
0.1%である。
あり、その下側にはSiN109がコーティングされて
いる。そして、その反射率は955nmの光に対して
0.1%である。
【0016】In0.2Ga0.8As量子井戸層104の
厚さは、媒質内波長の1/50以下となり、利得結合型
のDBR素子となっているので本質的に戻り光に対して
は強い。さらに図2の相対雑音強度(RIN)の戻り光
量依存性を示す図からも分かるように、戻り光を意図的
に作っている構造となっているので、RINは−140
dB以下の値が実現できる。この点、従来例のような構
造では戻り光が0.1%ではRINは−140dB以上
になっていた。ところが本発明のように強制的に出力光
を素子に戻すことによって、戻り光が約5%まで安定的
にRINは−140dB以下の値が実現できた。
厚さは、媒質内波長の1/50以下となり、利得結合型
のDBR素子となっているので本質的に戻り光に対して
は強い。さらに図2の相対雑音強度(RIN)の戻り光
量依存性を示す図からも分かるように、戻り光を意図的
に作っている構造となっているので、RINは−140
dB以下の値が実現できる。この点、従来例のような構
造では戻り光が0.1%ではRINは−140dB以上
になっていた。ところが本発明のように強制的に出力光
を素子に戻すことによって、戻り光が約5%まで安定的
にRINは−140dB以下の値が実現できた。
【0017】本実施例では活性層への励起は光で行った
が、素子に電極をつけ、半導体層中にPN接合を形成し
た電流注入構造にももちろん適用できる。また材料もI
nP系など他の化合物半導体を用いてもよい。
が、素子に電極をつけ、半導体層中にPN接合を形成し
た電流注入構造にももちろん適用できる。また材料もI
nP系など他の化合物半導体を用いてもよい。
【0018】
【発明の効果】本発明によれば、戻り光に対しても安定
で過剰雑音を発生しない微小共振器発光素子を実現する
ことができる。アイソレータが不要となるので小型化が
可能となる。また余分な電気回路も必要ないので装備が
簡単になり、実用性が高い利点がある。
で過剰雑音を発生しない微小共振器発光素子を実現する
ことができる。アイソレータが不要となるので小型化が
可能となる。また余分な電気回路も必要ないので装備が
簡単になり、実用性が高い利点がある。
【図1】本発明の微小共振器発光素子の一実施例の構造
を示す図である。
を示す図である。
【図2】RINの戻り光量依存性を示す図である。
【図3】従来例の構造を示す図である。
101 GaAs基板 102 AlAs 103 Al0.2Ga0.8As 104 In0.2Ga0.8As量子井戸層 105 Al0.2Ga0.8As 106 Al0.2Ga0.8As 107 AlAs 108 Al0.2Ga0.8As 109 SiN
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H04B 10/02 H01S 3/08 S 10/28
Claims (2)
- 【請求項1】 2つの反射鏡によって媒質内波長程度の
長さの共振器が形成され、前記共振器の内部には活性層
を含む微小共振器発光素子であって、前記活性層は、前
記共振器の内部に立つ定在波の腹の位置に形成され、そ
の厚さは、媒質内波長の1/50以下であることを特徴
とする微小共振器発光素子。 - 【請求項2】 微小共振器発光素子に意図的に出力光の
0.05%〜5%を前記微小共振器発光素子に戻すため
の反射部を有していることを特徴とする請求項1に記載
の微小共振器発光素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP41331590A JP2500525B2 (ja) | 1990-12-21 | 1990-12-21 | 微小共振器発光素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP41331590A JP2500525B2 (ja) | 1990-12-21 | 1990-12-21 | 微小共振器発光素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04221874A JPH04221874A (ja) | 1992-08-12 |
JP2500525B2 true JP2500525B2 (ja) | 1996-05-29 |
Family
ID=18521985
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP41331590A Expired - Fee Related JP2500525B2 (ja) | 1990-12-21 | 1990-12-21 | 微小共振器発光素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2500525B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08148755A (ja) * | 1994-11-25 | 1996-06-07 | Nec Corp | 面発光レーザ装置及びその製造方法 |
JP7233859B2 (ja) * | 2017-06-20 | 2023-03-07 | 旭化成エレクトロニクス株式会社 | 赤外線発光ダイオード |
-
1990
- 1990-12-21 JP JP41331590A patent/JP2500525B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH04221874A (ja) | 1992-08-12 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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