JP2500206B2 - セラミックス製品の焼成方法 - Google Patents
セラミックス製品の焼成方法Info
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- JP2500206B2 JP2500206B2 JP3087651A JP8765191A JP2500206B2 JP 2500206 B2 JP2500206 B2 JP 2500206B2 JP 3087651 A JP3087651 A JP 3087651A JP 8765191 A JP8765191 A JP 8765191A JP 2500206 B2 JP2500206 B2 JP 2500206B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- firing
- ceramic product
- ceramic
- ceramic products
- trolley
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- Expired - Lifetime
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- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Furnace Charging Or Discharging (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は大量のセラミックス製品
を一度に、かつ均一に焼成することができるセラミック
ス製品の焼成方法に関するものである。
を一度に、かつ均一に焼成することができるセラミック
ス製品の焼成方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】例えば、ナトリウム−硫黄電池の固体電
解質管として用いられるベータアルミナ管のようなセラ
ミックス製品の焼成は酸化雰囲気の下、1500〜1700℃の
高温度で焼結処理が行われている。
解質管として用いられるベータアルミナ管のようなセラ
ミックス製品の焼成は酸化雰囲気の下、1500〜1700℃の
高温度で焼結処理が行われている。
【０００３】ところが、前記のような高温酸化焼成を行
う場合には焼成炉内の均一な温度分布を得ることが難し
いために、温度分布の均一化が容易な容量の小さい電気
炉やガス窯の使用を余儀無くされていた。この結果、全
長の長い大型のセラミックス製品を焼結処理することが
できないという問題点や、大量のセラミックス製品を一
度にかつ均一に焼結処理することができないという問題
点があった。
う場合には焼成炉内の均一な温度分布を得ることが難し
いために、温度分布の均一化が容易な容量の小さい電気
炉やガス窯の使用を余儀無くされていた。この結果、全
長の長い大型のセラミックス製品を焼結処理することが
できないという問題点や、大量のセラミックス製品を一
度にかつ均一に焼結処理することができないという問題
点があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記のような
従来の問題点を解決して、炉内の均一な温度分布を達成
して大型のセラミックス製品や大量のセラミックス製品
を一度にかつ均一に焼結処理することができるととも
に、作業性にも優れているセラミックス製品の焼成方法
を提供することを目的として完成されたものである。
従来の問題点を解決して、炉内の均一な温度分布を達成
して大型のセラミックス製品や大量のセラミックス製品
を一度にかつ均一に焼結処理することができるととも
に、作業性にも優れているセラミックス製品の焼成方法
を提供することを目的として完成されたものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めになされた本発明のセラミックス製品の焼成方法は、
台車とその上面に枠組みした格子状の焼成台との間に所
要の空間部を形成するとともに該焼成台に所定本ずつを
複数の焼成板上にセットされたセラミックス製品群の上
面部を除く外周壁全体を火盾で囲い、窯内の加熱フレー
ムが前記火盾内を上方より台車上面に流通し、かつ中央
部に位置する前記焼成板間の隙間をその他の部分の隙間
よりも広くして中央部に多量の加熱フレームが流れるよ
うにして焼成台にセットされたセラミックス製品群を高
温酸化焼成することを特徴とするものである。
めになされた本発明のセラミックス製品の焼成方法は、
台車とその上面に枠組みした格子状の焼成台との間に所
要の空間部を形成するとともに該焼成台に所定本ずつを
複数の焼成板上にセットされたセラミックス製品群の上
面部を除く外周壁全体を火盾で囲い、窯内の加熱フレー
ムが前記火盾内を上方より台車上面に流通し、かつ中央
部に位置する前記焼成板間の隙間をその他の部分の隙間
よりも広くして中央部に多量の加熱フレームが流れるよ
うにして焼成台にセットされたセラミックス製品群を高
温酸化焼成することを特徴とするものである。
【０００６】以下、本発明を図面を参照しつつ詳細に説
明する。図１はガス窯１を用いて多数のセラミックス製
品２を高温酸化焼成する場合の１例を示すもので、容量
が１m3のものである。また、更に容量の大きな高温酸化
焼成用の単独ガス窯または連続ガス窯への適用も可能で
あり、大型のセラミックス製品や多数のセラミックス製
品の焼成も可能である。
明する。図１はガス窯１を用いて多数のセラミックス製
品２を高温酸化焼成する場合の１例を示すもので、容量
が１m3のものである。また、更に容量の大きな高温酸化
焼成用の単独ガス窯または連続ガス窯への適用も可能で
あり、大型のセラミックス製品や多数のセラミックス製
品の焼成も可能である。
【０００７】前記セラミックス製品２は台車３との間に
空間部4aを有するよう、例えばアルミナレンガ等の支持
材５によって支持された焼成台６上に多数配置されると
ともに、図２に示されるように各セラミックス製品２の
間隙部分を加熱フレームが流通できるよう焼成台６に対
して空隙率が５０％以上となるよう配置されている。ま
た、前記セラミックス製品２を焼成台６の中央部の間隙
が他の部分に比べて大きくなるよう配置しておけばより
均一な温度分布が得られることとなり好ましい。なお、
前記の焼成台６は図３に示されるように、例えば再結晶
SiC よりなる複数本のビーム6aを格子状に組み合わせた
ものであり、前記空間部4aとの間に加熱フレームの流通
を確保している。
空間部4aを有するよう、例えばアルミナレンガ等の支持
材５によって支持された焼成台６上に多数配置されると
ともに、図２に示されるように各セラミックス製品２の
間隙部分を加熱フレームが流通できるよう焼成台６に対
して空隙率が５０％以上となるよう配置されている。ま
た、前記セラミックス製品２を焼成台６の中央部の間隙
が他の部分に比べて大きくなるよう配置しておけばより
均一な温度分布が得られることとなり好ましい。なお、
前記の焼成台６は図３に示されるように、例えば再結晶
SiC よりなる複数本のビーム6aを格子状に組み合わせた
ものであり、前記空間部4aとの間に加熱フレームの流通
を確保している。
【０００８】上記のようにして焼成台６上に配列された
セラミックス製品群は、上方の空間部4bに向けて開放状
態となるよう上面部を除いて外周壁全体が再結晶SiC よ
りなる火盾７により囲われており、前記の空間部4aと空
間部4b間における加熱フレームの流通路を確保しつつバ
ーナ８からの加熱フレームが火盾７により囲われたセラ
ミックス製品群の最外周壁部分のみに重点的に当たるこ
とを有効に防止している。
セラミックス製品群は、上方の空間部4bに向けて開放状
態となるよう上面部を除いて外周壁全体が再結晶SiC よ
りなる火盾７により囲われており、前記の空間部4aと空
間部4b間における加熱フレームの流通路を確保しつつバ
ーナ８からの加熱フレームが火盾７により囲われたセラ
ミックス製品群の最外周壁部分のみに重点的に当たるこ
とを有効に防止している。
【０００９】なお、図２に示されるように、セラミック
ス製品２は約１０本程度ずつを焼成板９上に配列したう
えで前記の焼成台６上に載置されており、このようにし
ておけばセラミックス製品２の取扱性を向上することが
でき好ましい。また、図４に示されるようにセラミック
ス製品２を二段に積み上げて焼成することや、それ以上
の段数を積み上げて焼成することも可能である。更に
は、このように配列したセラミックス製品２を単独窯の
みならず連続窯においても同様に焼成できることはもち
ろんである。
ス製品２は約１０本程度ずつを焼成板９上に配列したう
えで前記の焼成台６上に載置されており、このようにし
ておけばセラミックス製品２の取扱性を向上することが
でき好ましい。また、図４に示されるようにセラミック
ス製品２を二段に積み上げて焼成することや、それ以上
の段数を積み上げて焼成することも可能である。更に
は、このように配列したセラミックス製品２を単独窯の
みならず連続窯においても同様に焼成できることはもち
ろんである。
【００１０】このように配列されたセラミックス製品２
は、外周壁全体が火盾７で囲われているのでバーナ８の
加熱フレームによりセラミックス製品群の最外周壁部分
のみが重点的に加熱されることが防止されるとともに、
上面部の空間部4bと焼成台６の下部の空間部4aとの間を
加熱フレームが垂直方向に流通することとなり、ガス窯
１の内部全体が均一な温度分布となる。この結果、前記
垂直方向に流通する加熱ガスフレームによって多数ある
にもかかわらず全てのセラミックス製品２がほぼ同一の
温度条件下において効率よく、かつ安定した品質に焼成
されることとなり、また、全長の長い大型の製品であっ
ても同様に安定した品質に焼成されることとなる。
は、外周壁全体が火盾７で囲われているのでバーナ８の
加熱フレームによりセラミックス製品群の最外周壁部分
のみが重点的に加熱されることが防止されるとともに、
上面部の空間部4bと焼成台６の下部の空間部4aとの間を
加熱フレームが垂直方向に流通することとなり、ガス窯
１の内部全体が均一な温度分布となる。この結果、前記
垂直方向に流通する加熱ガスフレームによって多数ある
にもかかわらず全てのセラミックス製品２がほぼ同一の
温度条件下において効率よく、かつ安定した品質に焼成
されることとなり、また、全長の長い大型の製品であっ
ても同様に安定した品質に焼成されることとなる。
【００１１】
【実施例１】容量が１m3のＬＰＧガス窯を用いて、図１
に示すように1670×1430mmの台車３上に高さ350mm の隙
間をあけて再結晶SiC よりなるビーム6aで1180×880mm
の焼成台６を作製し、該焼成台６上に外径68mm、内径60
mm、全長510mm の円筒状セラミックス製品２を100 本、
図２に示されるようにセット（空隙率５５％）したう
え、外周壁全体を280 ×280 ×6mm の再結晶SiC よりな
る火盾で500mm の高さで囲った。これを図５に示される
ヒートカーブに従い酸化焼成した結果、1650℃での炉内
の温度分布は９対の熱電対１０の測温から1643〜1653℃
の範囲内で極めて均一な状態にあることが確認され、得
られたセラミックス製品も優れた品質で安定したもので
あった。
に示すように1670×1430mmの台車３上に高さ350mm の隙
間をあけて再結晶SiC よりなるビーム6aで1180×880mm
の焼成台６を作製し、該焼成台６上に外径68mm、内径60
mm、全長510mm の円筒状セラミックス製品２を100 本、
図２に示されるようにセット（空隙率５５％）したう
え、外周壁全体を280 ×280 ×6mm の再結晶SiC よりな
る火盾で500mm の高さで囲った。これを図５に示される
ヒートカーブに従い酸化焼成した結果、1650℃での炉内
の温度分布は９対の熱電対１０の測温から1643〜1653℃
の範囲内で極めて均一な状態にあることが確認され、得
られたセラミックス製品も優れた品質で安定したもので
あった。
【００１２】
【実施例２】実施例１と同様のガス窯を用いて、図４に
示すように1670×1430mmの台車３上に高さ100mm の隙間
をあけて再結晶SiC よりなるビーム6aで1180×880mm の
焼成台６を作製し、該焼成台６上に外径43mm、内径36m
m、全長345mm の円筒状セラミックス製品２を上段に224
本、下段に198 本の計422 本セット（空隙率５９％）
したうえ、外周壁全体を280 ×280 ×6mm の再結晶SiC
よりなる火盾で370mm の高さで囲った。これを図５に示
されるヒートカーブに従い酸化焼成した結果、1650℃で
の炉内の温度分布は２５対の熱電対（上段１２対、下段
１３対）の測温から上段1641〜1653℃、下段1642〜1652
℃の範囲内で極めて均一な状態にあることが確認され、
得られたセラミックス製品も優れた品質で安定したもの
であった。
示すように1670×1430mmの台車３上に高さ100mm の隙間
をあけて再結晶SiC よりなるビーム6aで1180×880mm の
焼成台６を作製し、該焼成台６上に外径43mm、内径36m
m、全長345mm の円筒状セラミックス製品２を上段に224
本、下段に198 本の計422 本セット（空隙率５９％）
したうえ、外周壁全体を280 ×280 ×6mm の再結晶SiC
よりなる火盾で370mm の高さで囲った。これを図５に示
されるヒートカーブに従い酸化焼成した結果、1650℃で
の炉内の温度分布は２５対の熱電対（上段１２対、下段
１３対）の測温から上段1641〜1653℃、下段1642〜1652
℃の範囲内で極めて均一な状態にあることが確認され、
得られたセラミックス製品も優れた品質で安定したもの
であった。
【００１３】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように本発明
は、炉内の均一な温度分布を達成して大型のセラミック
ス製品や大量のセラミックス製品を一度にかつ均一に安
定した品質で高温酸化焼成することができるとともに作
業性にも優れているものであり、更には、使用する窯に
何等改良を加える必要もなく極めて経済的であるという
利点もある。よって、本発明は従来の問題点を一掃した
セラミックス製品の焼成方法として産業の発展に寄与す
るところは極めて大である。
は、炉内の均一な温度分布を達成して大型のセラミック
ス製品や大量のセラミックス製品を一度にかつ均一に安
定した品質で高温酸化焼成することができるとともに作
業性にも優れているものであり、更には、使用する窯に
何等改良を加える必要もなく極めて経済的であるという
利点もある。よって、本発明は従来の問題点を一掃した
セラミックス製品の焼成方法として産業の発展に寄与す
るところは極めて大である。
【００１４】
【図１】本発明の焼成工程の１例を示す一部切欠正面図
である。
である。
【図２】図１の平面図である。
【図３】焼成台を示す平面図である。
【図４】本発明の多段積による焼成工程を示す一部切欠
正面図である。
正面図である。
【図５】本発明の実施例におけるヒートカーブである。
１ ガス窯 ２ セラミックス製品 4a 空間部 4b 空間部 ６ 焼成台 ７ 火盾
Claims (1)
- 【請求項１】 台車とその上面に枠組みした格子状の焼
成台との間に所要の空間部を形成するとともに該焼成台
に所定本ずつを複数の焼成板上にセットされたセラミッ
クス製品群の上面部を除く外周壁全体を火盾で囲い、窯
内の加熱フレームが前記火盾内を上方より台車上面に流
通し、かつ中央部に位置する前記焼成板間の隙間をその
他の部分の隙間よりも広くして中央部に多量の加熱フレ
ームが流れるようにして焼成台にセットされたセラミッ
クス製品群を高温酸化焼成することを特徴とするセラミ
ックス製品の焼成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3087651A JP2500206B2 (ja) | 1991-03-26 | 1991-03-26 | セラミックス製品の焼成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3087651A JP2500206B2 (ja) | 1991-03-26 | 1991-03-26 | セラミックス製品の焼成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04300239A JPH04300239A (ja) | 1992-10-23 |
| JP2500206B2 true JP2500206B2 (ja) | 1996-05-29 |
Family
ID=13920869
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3087651A Expired - Lifetime JP2500206B2 (ja) | 1991-03-26 | 1991-03-26 | セラミックス製品の焼成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2500206B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008111630A (ja) * | 2006-10-31 | 2008-05-15 | Denso Corp | ハニカム構造体の製造方法 |
| JP4975158B2 (ja) | 2010-11-08 | 2012-07-11 | 本田技研工業株式会社 | プラントの制御装置 |
| WO2016117207A1 (ja) * | 2015-01-19 | 2016-07-28 | 三井金属鉱業株式会社 | セラミックス格子体 |
| JP6410758B1 (ja) * | 2016-05-24 | 2018-10-24 | 三井金属鉱業株式会社 | セラミックス格子体 |
| JP6259943B1 (ja) * | 2017-05-17 | 2018-01-10 | 三井金属鉱業株式会社 | セラミックス格子体 |
| JP6462102B2 (ja) * | 2017-12-11 | 2019-01-30 | 三井金属鉱業株式会社 | セラミックス格子体 |
| JP2020073432A (ja) * | 2019-10-23 | 2020-05-14 | 三井金属鉱業株式会社 | セラミックス格子体 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4903704A (en) * | 1986-08-14 | 1990-02-27 | North American Philips Corporation | Method and apparatus for MR imaging |
| JPH01164766A (ja) * | 1987-12-18 | 1989-06-28 | Inax Corp | 役物タイルの焼成方法 |
-
1991
- 1991-03-26 JP JP3087651A patent/JP2500206B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04300239A (ja) | 1992-10-23 |
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| JPH0143232B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19960119 |