JP2024514988A - プローブピンとプローブピンの製造方法 - Google Patents
プローブピンとプローブピンの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2024514988A JP2024514988A JP2024508293A JP2024508293A JP2024514988A JP 2024514988 A JP2024514988 A JP 2024514988A JP 2024508293 A JP2024508293 A JP 2024508293A JP 2024508293 A JP2024508293 A JP 2024508293A JP 2024514988 A JP2024514988 A JP 2024514988A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- probe pin
- tip
- pin according
- probe
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000523 sample Substances 0.000 title claims abstract description 113
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 18
- 238000005452 bending Methods 0.000 claims abstract description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 52
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 44
- 238000005242 forging Methods 0.000 claims description 19
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 24
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 18
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 10
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 9
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 5
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 230000002459 sustained effect Effects 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 230000036314 physical performance Effects 0.000 description 1
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920000052 poly(p-xylylene) Polymers 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/073—Multiple probes
- G01R1/07307—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/06711—Probe needles; Cantilever beams; "Bump" contacts; Replaceable probe pins
- G01R1/06733—Geometry aspects
- G01R1/06738—Geometry aspects related to tip portion
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/06711—Probe needles; Cantilever beams; "Bump" contacts; Replaceable probe pins
- G01R1/06733—Geometry aspects
- G01R1/0675—Needle-like
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R3/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture or maintenance of measuring instruments, e.g. of probe tips
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/06711—Probe needles; Cantilever beams; "Bump" contacts; Replaceable probe pins
- G01R1/06733—Geometry aspects
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/06711—Probe needles; Cantilever beams; "Bump" contacts; Replaceable probe pins
- G01R1/06755—Material aspects
- G01R1/06761—Material aspects related to layers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Geometry (AREA)
- Measuring Leads Or Probes (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
プローブカードに取り付けられるプローブピンであって、ボディー部と、前記ボディー部の両端部にそれぞれ形成されるトップ部及びチップ部を含み、前記ボディー部は、互いに対向する第1の側面及び第3の側面と、前記第1、第3の側面と交差し、互いに対向する第2の側面及び第4の側面とを含み、少なくとも一部において湾曲形成されたベンディング部が設けられ、前記トップ部は、丸い形態に構成され、前記チップ部は、先の尖った先端を有するように構成される。
Description
本発明は、プローブピンとプローブピンの製造方法に関する。
半導体製造工程は、ウェハ(Wafer)上に複数個の半導体ダイ(Die)を作る前工程と、各半導体ダイに配線を連結して半導体パッケージを作る後工程とからなる。
一般的に、ウェハ(Wafer)を構成する各半導体ダイの電気的特性を検査するために、イーディーエス(EDS:Electrical Die Sorting)工程を行う。具体的に、EDS工程は、半導体ダイの接触パッド(pad)にプローブカードに提供されるプローブピンを接触させ、このプローブピンを介して別途の半導体検査装置から電気信号を通過させ、そのときに出力される電気信号を読み取ることによって行われる。これをプローブ検査という。
近年、半導体の微細化により、ウェハレベルだけでなく半導体パッケージレベルでも微細ピッチが求められており、また、半導体パッケージ上のパッドが微細化されているため、半導体パッケージ(半導体チップ)を検査するためのソケットのプローブチップ部を小型化して製作する必要がある。
このような半導体パッケージを検査するために半導体パッケージ上のパッドと接触するプローブピンがあり、最近は、メムス(MEMS、Micro Electro Mechanical System)工程を通じてこのようなプローブピンが製作されるのが一般的である。メムス工程とは、半導体製造工程に使用される工程であって、例えばフォトリソグラフィ(Photolithography)工程を通じてこのようなプローブピンを製作する。
しかし、メムス工程を通じて製作されるプローブピンは、物理的性能が劣っているか、プローブチップ部を様々な形態に製造することが難しいという問題点がある。
本発明は、上述した従来の問題点を解決するためのものであり、チップ部の素材及び形状を多様化することで、物理的特性の良いプローブピンを提供することを目的とする。
上述した技術的課題を解決するための手段として、本発明の一実施例は、プローブピンであって、ボディー部と、前記ボディー部の両端部にそれぞれ連結されるトップ部及びチップ部を含み、前記ボディー部は、互いに対向する第1の側面及び第3の側面と、前記第1、第3の側面と交差し、互いに対向する第2の側面及び第4の側面とを含み、少なくとも一部において湾曲形成されたベンディング部が設けられ、前記トップ部及び前記チップ部は、その断面が円形であり、前記トップ部、ボディー部、チップ部は、一体に形成される。
一実施例において、第1乃至第4の側面は、平面である。
一実施例において、前記ボディー部の断面は、角がラウンディングされた長方形に形成される。
一実施例において、前記トップ部は半球形であり、前記チップ部は円錐形である。
一実施例において、前記チップ部の先端は、一方に片寄ることなく中央に位置する。
一実施例において、前記ベンディング部には、外周を包む絶縁コーティング剤が形成される。
本発明のまた他の実施例は、プローブピンを製造する方法であって、素材を引抜加工するステップと、前記引抜加工された素材の一端を錐状に、他端を丸く研磨加工するステップと、前記研磨加工された素材の長手方向に延在する側面に対して平面を形成するために自由鍛造加工するステップと、前記自由鍛造加工された素材の一部が曲がるように型鍛造加工するステップとを含む。
また他の実施例において、前記自由鍛造加工するステップは、前記研磨加工された素材にプレスを利用して第1の側面及び第3の側面を形成し、前記第1の側面及び第3の側面が形成された素材を90度回転してから第2の側面及び第4の側面を形成する。
また他の実施例において、前記自由鍛造加工するステップは、前記研磨加工された素材にプレスを利用して第1乃至第4の側面を同時に形成する。
また他の実施例において、前記型鍛造加工された素材において曲げられた部分を絶縁コーティングするステップをさらに含む。
上述した本発明の課題を解決するための手段の何れか一つによれば、チップ部の素材及び形状を多様化することで、物理的特性の良いプローブピンを提供することができる。
以下では、添付した図面を参照しながら、本発明の属する技術分野において通常の知識を有する者が容易に実施できるように本発明の実施例を詳しく説明する。ところが、本発明は様々な異なる形態に具現されることができ、ここで説明する実施例に限定されるものではない。そして、図面において、本発明を明確に説明するために、説明とは関係ない部分は省略しており、明細書全体に亘って類似した部分に対しては類似した図面符号を付けている。
本明細書において、単数の表現は、その文脈上明白に異なることを意味しない限り、複数の表現を含む。
本明細書に開示された実施例を説明するにおいて、関連した公知技術に関する具体的な説明が本明細書に開示された実施例の要旨を困難させ得ると判断される場合は、その詳細な説明を省略する。
本明細書において「上」、「下」、「左」、「右」、「前」、「後」などのように位置や方向を示す用語は、図面を基準にして対象の相対的な位置や方向を説明するためだけのものであり、本発明を限定するものではない。
添付された図面は、本明細書に開示された実施例を理解し易くするためだけのものであり、添付された図面によって本明細書に開示された技術的思想が限定されるものではなく、本発明の思想及び技術範囲に含まれる全ての変更、均等物乃至代替物を含むものと理解されなければならない。
以下、添付された図面を参考しながら、本発明の一実施例を詳しく説明することとする。
図1は、本発明の一実施例に係るプローブカードに取り付けられるプローブピンであって、図1aは、プローブピン100を側面において示す図であり、図1bは、図1aにおいて、A-A’部分の断面を示す図であり、図1cは、図1aにおいて、B-B’部分の断面を示す図であり、図1dは、図1aにおいて、C-C’部分の断面を示す図である。
図面に示されたように、プローブピン100は、ボディー部110と、ボディー部110の両端部においてそれぞれ形成されるトップ部130及びチップ部120を含んでいても良い。プローブピン100は、合金からなり、ボディー部110とトップ部130及びチップ部120が一体に形成されても良い。
プローブピン100は、検査対象となる半導体チップの接触パッドと検査装置との電気的連結を形成するために、チップ部120が半導体チップの接触パッドと接触し、トップ部130が検査装置側と連結されても良い。
プローブピン100のチップ部120が半導体チップの接触パッドと接触する際、プローブピン100には接触方向への荷重が作用するため、一般的に上下に延在するボディー部110の少なくとも一部、好ましくは中間部分には、湾曲及び/又は折曲された形態のベンディング部110aが設けられても良い。
ベンディング部110aは、Polymide、Acrylic、Parylene又はこれらの組み合わせからなる材料で絶縁コーティングされても良い。絶縁コーティングは、ベンディング部110aの外周を包むように設けられても良い。
ボディー部110は、第1の側面111と、第2の側面112と、第3の側面113と、第4の側面114とを含んでいても良く、第1の側面111及び第3の側面113が互いに対向し、第2の側面112及び第4の側面114が互いに対向しても良い。そして、第1の側面111及び第3の側面113は第2の側面112及び第4の側面114と交差しても良い。そして、それぞれの側面は平面であるか、略平らに形成された面にて設けられても良い。
ボディー部110は、断面が略四角形、好ましくは長方形の形態に設けられても良く、特に、第1、第3の側面111、113に対して第2、第4の側面112、114の長さが異なる長方形であっても良い。
断面が長方形のボディー部110を有するプローブピン100は、プローブピン100に荷重が加えられる際、プローブピン100がどちらに曲がるのかその方向を予測することができる。これは、プローブピン100に持続的な荷重が加えられてプローブピン100が曲がる度に、隣り合うプローブピン100の間で発生し得る干渉を予防することができる。
言い換えれば、円形のプローブピンの場合、どの方向にも厚さ(直径)が同一であるため、持続的な荷重が加えられれば、円形のプローブピンはどの方向にも曲がることができるのに対し、断面が長方形のプローブピン100は、持続的な荷重が加えられる際、角方向や厚さがより厚く形成された側方には曲がらず、厚さのより薄い側方にしか曲がらない。
よって、断面が長方形に形成されたプローブピン100は、プローブピン100が曲がる方向を、隣り合うプローブピン100の間で干渉が生じないように構成することが可能である。よって、半導体チップの検査信頼度を向上させることができる。
そして、ボディー部110の断面は、略四角形、好ましくは長方形の形態に設けられ、角部分が角張っていない、角の丸い長方形に形成されても良い。つまり、互いに交差する第1、第3の側面111、113と第2、第4の側面112、124とが互いに略90度の角度をなし、各側面の会う部分がラウンディングされた形態に設けられても良い。このようにラウンディングされた四角形の断面は、半導体ウェハ用プローブカード又は半導体パッケージ用ソケットを製造する際、プローブピンを基板(印刷回路基板又はスペーストランスフォーマー基板)に連結させる際に使用される取り付けプレート250の取り付け孔251の形状と整合させることが可能である。つまり、取り付けプレート250に取り付け孔251を形成する場合、一般的にレーザを使用するが、レーザを取り付けプレート250上に照射して孔を形成すれば、孔がラウンディングされた四角形の形態となる。このような形態の孔に断面が円形のプローブピンが挿入される場合、プローブピンの断面の形状と取り付けプレートの孔とが整合されず、検査が不安定になり得る。本発明は、取り付けプレートの孔の形状と整合されるラウンディングされた四角形の形態のプローブピンのボディー部を形成することで、より安定的な検査を可能にする。
一方、チップ部120は、ボディー部110の一側において形成されても良い。チップ部120は、先の尖った先端121を有するように構成されても良く、錐状、好ましくは円錐形に形成されても良い。このようなチップ部120は、断面が円形に形成され、先に行くほど断面の大きさが次第に減少しても良い。チップ部120の断面が円形であるため、半導体ウェハ又は半導体パッケージ上の接触パッドと接触する際に点接触が可能であり、これによって、スクラブマークの大きさを最小化することができる。本発明は、チップ部をメムス工程により形成する場合、その断面積が四角形であるため、スクラブマークの大きさが相対的に大きくならざるを得ないという問題を解決することができる。
チップ部120の先端121は、何れか一方に片寄ることなく中央に位置しても良い。このようなチップ部120は、直円錐の形態に形成されても良い。本発明は、チップ部をメムス工程により形成する場合、チップ部の先端が一方に片寄ることで形成される問題を解決することができる。メムス工程によってもチップ部の先端を中央に形成することができるが、この場合、数回のフォトリソグラフィ工程を行うため、製造コストが上昇せざるを得ない。
そして、トップ部130は、ボディー部110の他側において角張った部分なしに曲げられる緩慢な形態に形成されても良い。トップ部130は、先の部分が丸く形成されても良く、特に、半球形に形成されても良い。このようなトップ部130は、その断面が円形に形成されても良い。
図2は、本発明の一実施例に係るプローブピンのボディー部210側の断面とプローブピンが挿入される取り付け孔251の形態を比較して示す図であって、図2aは、本発明の一実施例に係るプローブピンのボディー部210側の断面を示し、図2bは、プローブピンが挿入される取り付け孔251が形成された取り付けプレート250の概念図である。
図2aに示すように、本発明の一実施例に係るプローブピンは、ボディー部210の断面が角の丸い長方形に形成されても良い。
プローブピンは、プローブカードの一構成であって、プローブカードの他の構成である取り付けプレート250に取り付けられるが、具体的には、図2bに示すように、取り付けプレート250にはっての取り付け孔251が形成され、プローブピンの一部が取り付け孔251に挿入された状態でプローブピンが取り付けプレート250に取り付けられても良い。
取り付けプレート250上に形成された取り付け孔251は、取り付けプレート250にレーザを照射することで形成されるが、このとき、取り付け孔251は、長方形であって、角部分が角張っていない丸い形態の長方形に形成される。
よって、角の丸い長方形であるボディー部210の断面は、レーザを利用して取り付けプレート250に形成された取り付け孔251の形態と対応するので、プローブピンが取り付けプレート250に取り付けられる際、プローブピンの一部が取り付け孔251に安定的に挿入固定されることができる。
図3は、本発明の一実施例に係るプローブピンのトップ部330と、MEMS工程により製造されるプローブピンのトップ部360とを比較して示す図であって、図3aは、本発明の一実施例に係るプローブピンのトップ部330に関する図であり、図3bは、MEMS工程により製造されるプローブピンのトップ部360に関する図である。
MEMS工程はフォトリソグラフィ工程を利用するので、トップ部360の先を角張らずに丸くすることが難しい。
図面に示されたように、本発明の一実施例に係るプローブピンのトップ部330は、先が丸く形成されるのに対し、MEMS工程により製造されるプローブピンのトップ部360は、角張った部分を含んでいる。
プローブピンのトップ部は、検査装置側に形成された導電体と接触する部分であり、プローブピンに持続的な荷重が作用すれば、検査装置側に形成された導電体と接触するプローブピンのトップ部の相対的な位置は変わり続ける。
言い換えれば、プローブピンに荷重が作用すればプローブピンは曲がるので、荷重が作用する前に検査装置側に形成された導電体に接触するプローブピンのトップ部の位置と、荷重が作用する間に検査装置側に形成された導電体に接触するプローブピンのトップ部との位置が異なり得る。
このとき、図3aに示すように、プローブピンのトップ部330の先が丸く形成される場合は、検査装置側に形成された導電体と接触するプローブピンのトップ部330の相対的な位置が変わっても、導電体とトップ部330との接触面積は一定に維持されることができる。
それに対し、図3bに示すように、プローブピンのトップ部360の先が角張った部分を含み、特定位置でその形態が一定でなければ、プローブピンに荷重が作用する度に検査装置側に形成された導電体と接触するプローブピンのトップ部360の相対的な位置が変わり、導電体とトップ部360との接触面積も変わってくる。これは、検査装置側に形成された導電体とプローブピンのトップ部との安定的な接触を妨げる要素として作用し得る。
よって、本発明の一実施例に係るプローブピンは、MEMS工程により製造されるプローブピンと比べて、プローブピンのトップ部と検査装置側に形成された導電体(端子)との安定的な接触を維持するのに利点がある。
図4は、本発明の一実施例に係るプローブピンのチップ部420と、MEMS工程により製造されるプローブピンのチップ部460とを比較して示す図であって、図4aは、本発明の一実施例に係るプローブピンのチップ部420に関する図であり、図4bは、MEMS工程により製造されるプローブピンのチップ部460に関する図である。
プローブピンのチップ部は、半導体チップの接触パッドと接触する部分であり、図4aに示すように、本発明の一実施例に係るプローブピンのチップ部420は、先が尖って形成され、先端421は、一方に片寄ることなく中央に位置しても良い。
先の尖った先端421は、チップ部420と接触パッドとが接触する際、チップ部420が接触パッド上に形成された酸化膜を突き破って誤謬なしに接触パッドに接触可能にする。
そして、チップ部420の先端421が中央に位置するので、チップ部420と接触パッドとが接触する際、先端421が接触パッドの領域から離脱することなく接触パッドの中央部で接触可能にすることで、安定的な接触を助ける。
それに対し、MEMS工程により製造されるプローブピンは、工程の特性上、図4bに示すように、先が尖っていて先端が真中に位置するチップ部を作ることが容易ではない。
よって、本発明の一実施例に係るプローブピンは、MEMS工程により製造されるプローブピンと比べて、プローブピンと接触パッドとの安定的な接触を維持するのに利点がある。
図5は、本発明の一実施例に係るプローブピンを製造する方法のフローチャートであり、図6は、本発明の一実施例によってプローブピンを製造する過程で現われる素材の形態変化を概略的に示す図であり、図7は、本発明の一実施例によって自由鍛造加工に利用されるプレス装置の概念図であって、図7aは、2段階に亘って自由鍛造加工するプレス装置に関するものであり、図7bは、1段階で自由鍛造加工するプレス装置に関するものである。
図5に示すように、プローブピンを製造する方法は、素材を引抜加工するステップと、引抜加工された素材の一端及び他端を研磨加工するステップと、研磨加工された素材を自由鍛造加工するステップと、自由鍛造加工された素材を型鍛造加工するステップとを含んでいても良い。
図6を参照すると、引抜加工された素材610は、断面が円形であり、長手方向に延在するシリンダ(円柱)形態であっても良い。
プローブピンの素材は、必要に応じて伝導性に優れた合金にて選択されても良い。よって、引抜加工された素材610は、MEMS工程により製造される蒸着物質が幾層に形成されたプローブピンとは異なり、別途のめっき段階が不要で、層を形成しないので、安定した物理的特性を提供することができる。
シリンダ形態に引抜加工された素材は、その一端が錐状、好ましくは円錐形に研磨されても良い。
例えば、引抜加工された素材は、機械加工装置によって研磨されても良く、シリンダ形態に引抜加工された素材が中心軸(a)を基準に回転しながら砥石によって研磨され、このとき、砥石は、引抜加工された素材の一端を円錐形に研磨しても良い。
具体的に、引抜加工された素材の回転と砥石の2次元的な挙動により比較的容易に引抜加工された素材の端部を加工することができるが、仮に引抜加工された素材が回転する間に砥石が先に行くほど回転軸に徐々に近づくように移動すれば、引抜加工された素材の一端が円錐のような形態に研磨されることができる。特に、引抜加工された素材は、円錐形の先端が中央に位置する直円錐の形態に研磨されても良い。
引抜加工された素材の一端に対する研磨段階と同時に、又は、一端に対する研磨段階の以前や以後、引抜加工された素材の他端は丸く研磨加工されても良い。
研磨加工された素材620は、長手方向に延在する側面に対して、丸い表面を扁平にするために自由鍛造加工されても良い。
研磨加工された素材を自由鍛造加工するために、図7に示すような、対向する一対のハンマー700を有するプレス装置を利用することで、研磨加工された素材が自由鍛造加工されても良い。
一実施例において、図7aに示すように、研磨加工された素材720が一対のハンマー700の間に配置された状態で、ハンマー700が研磨加工された素材720を加圧することによって、一方向に対して自由鍛造加工された素材720aが形成されても良い。一方向に対して自由鍛造加工された素材720aには、対向する一対の偏平な面、即ち、第1の側面及び第3の側面が形成されても良い。
そして、これを90度回転した後、再度加圧することによって、第1の側面及び第3の側面と交差し、互いに対向する第2の側面及び第4の側面を形成しても良い。
研磨加工された素材を自由鍛造加工する際は、鍛造される部分の断面の角が角張らないよう、プレス装置が素材に加える圧力を調節しても良い。
このとき、自由鍛造加工された素材730は、正面から見た形態が長方形、好ましくは角の丸い長方形又は角がラウンディングされた長方形であり、その真中に先端が形成されても良い。
また他の実施例において、図7bに示すように、研磨加工された素材720は、第1乃至第4の側面が同時に自由鍛造加工されても良く、このとき、プレス装置は、対向する一対のハンマー700を有し、それぞれのハンマー700は、対向する側面に略「V」字状のノッチ部が対応して形成されても良い。一対のハンマー700が互いに隣接した状態で、各ハンマーに形成されたノッチ部は四角形を形成しても良い。
図面に示されていないが、プレス装置は、互いに対向する一対のハンマーと、これらと交差し、互いに対向する他の一対のハンマーとを有し、研磨加工された素材の4つの側面を同時に自由鍛造加工しても良い。
研磨加工された素材は、一対のハンマーの間に配置され、これを一対のハンマーが加圧することによって、素材は、長手方向に延在する側面に対して第1、第3の側面及び第2、第4の側面が同時に形成されても良い。
同様に、研磨加工された素材の4つの側面を同時に自由鍛造加工する際、鍛造される部分の断面の角が角張らないようにしても良い。
再び図6を参照すると、自由鍛造加工された素材630は、一部に湾曲及び/又は折曲された形態のベンディング部を形成するために型鍛造加工されても良い。
そして、本発明の一実施例により型鍛造加工された素材640において曲げられた部分を絶縁コーティングするステップをさらに含んでいても良い。
上述した本発明の説明は例示のためのものであり、本発明の属する技術分野において通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想や必須の特徴を変更せずに他の具体的な形態に容易に変形可能であるということを理解できるはずである。それゆえ、上記した実施例は全ての面において例示的なものであり、限定的なものではないと理解すべきである。例えば、単一型で説明されている各構成要素は分散して実施されても良く、同様に、分散したものと説明されている構成要素も結合された形態で実施されても良い。
本発明の範囲は、上記詳細な説明よりは後述する特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲の意味及び範囲、並びにその均等概念から導出される全ての変更又は変形された形態が本発明の範囲に含まれると解釈されなければならない。
Claims (10)
- プローブピンであって、
ボディー部と、前記ボディー部の両端部にそれぞれ連結されるトップ部及びチップ部を含み、
前記ボディー部は、互いに対向する第1の側面及び第3の側面と、前記第1、第3の側面と交差し、互いに対向する第2の側面及び第4の側面とを含み、少なくとも一部において湾曲形成されたベンディング部が設けられ、
前記トップ部及び前記チップ部は、その断面が円形であり、前記トップ部、ボディー部、チップ部は、一体に形成される、プローブピン。 - 前記第1乃至第4の側面は、平面である、請求項1に記載のプローブピン。
- 前記ボディー部の断面は、角がラウンディングされた長方形に形成される、請求項1に記載のプローブピン。
- 前記トップ部は半球形であり、
前記チップ部は円錐形である、請求項3に記載のプローブピン。 - 前記チップ部の先端は、一方に片寄ることなく中央に位置する、請求項1に記載のプローブピン。
- 前記ベンディング部には、外周を包む絶縁コーティング剤が形成される、請求項1に記載のプローブピン。
- プローブピンを製造する方法であって、
素材を引抜加工するステップと、
前記引抜加工された素材の一端を錐状に、他端を丸く研磨加工するステップと、
前記研磨加工された素材の長手方向に延在する側面に対して平面を形成するために自由鍛造加工するステップと、
前記自由鍛造加工された素材の一部が曲がるように型鍛造加工するステップと
を含む、プローブピンを製造する方法。 - 前記自由鍛造加工するステップは、
前記研磨加工された素材にプレスを利用して第1の側面及び第3の側面を形成し、
前記第1の側面及び第3の側面が形成された素材を90度回転してから第2の側面及び第4の側面を形成する、請求項7に記載のプローブピンを製造する方法。 - 前記自由鍛造加工するステップは、
前記研磨加工された素材にプレスを利用して第1乃至第4の側面を同時に形成する、請求項7に記載のプローブピンを製造する方法。 - 前記型鍛造加工された素材において曲げられた部分を絶縁コーティングするステップをさらに含む、請求項7に記載のプローブピンを製造する方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020210056805A KR102349333B1 (ko) | 2021-04-30 | 2021-04-30 | 프로브 핀과 프로브 핀의 제조방법 |
KR10-2021-0056805 | 2021-04-30 | ||
PCT/KR2022/005919 WO2022231259A1 (ko) | 2021-04-30 | 2022-04-26 | 프로브 핀과 프로브 핀의 제조방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2024514988A true JP2024514988A (ja) | 2024-04-03 |
Family
ID=79355599
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2024508293A Pending JP2024514988A (ja) | 2021-04-30 | 2022-04-26 | プローブピンとプローブピンの製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20240053382A1 (ja) |
JP (1) | JP2024514988A (ja) |
KR (1) | KR102349333B1 (ja) |
CN (1) | CN117337396A (ja) |
TW (1) | TWI832220B (ja) |
WO (1) | WO2022231259A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102349333B1 (ko) * | 2021-04-30 | 2022-01-11 | (주)피티앤케이 | 프로브 핀과 프로브 핀의 제조방법 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6977515B2 (en) * | 2001-09-20 | 2005-12-20 | Wentworth Laboratories, Inc. | Method for forming photo-defined micro electrical contacts |
KR101329812B1 (ko) * | 2007-05-25 | 2013-11-15 | 주식회사 코리아 인스트루먼트 | 프로브 어셈블리 및 이를 가지는 프로브 카드 |
KR101209068B1 (ko) * | 2011-05-26 | 2012-12-06 | 윌테크놀러지(주) | 전기적 특성 검사장치용 프로브 |
KR101384714B1 (ko) * | 2014-01-14 | 2014-04-15 | 윌테크놀러지(주) | 반도체 검사장치 |
KR101890812B1 (ko) * | 2016-09-29 | 2018-08-22 | 주식회사 아이에스시 | 검사용 접촉핀 및 검사용 접촉장치 |
KR101845652B1 (ko) * | 2017-01-17 | 2018-04-04 | 주식회사 텝스 | 부품 실장된 웨이퍼 테스트를 위한 하이브리드 프로브 카드 |
TW201843457A (zh) * | 2017-05-05 | 2018-12-16 | 旺矽科技股份有限公司 | 具有垂直式探針之探針頭 |
KR102002036B1 (ko) * | 2018-05-10 | 2019-07-22 | (주)티에스이 | 컨택트 프로브 및 그 제조방법 |
KR102072451B1 (ko) * | 2018-07-27 | 2020-02-04 | 주식회사 에스디에이 | 프로브카드 헤드블록 |
KR102103975B1 (ko) * | 2018-12-18 | 2020-04-24 | 주식회사 에스디에이 | 프로브 카드용 공간변환기 및 이의 제조방법 |
KR102164020B1 (ko) | 2019-11-27 | 2020-10-13 | 화인인스트루먼트 (주) | 프로브 카드의 프로브 헤드 제조 방법 |
KR102349333B1 (ko) * | 2021-04-30 | 2022-01-11 | (주)피티앤케이 | 프로브 핀과 프로브 핀의 제조방법 |
-
2021
- 2021-04-30 KR KR1020210056805A patent/KR102349333B1/ko active IP Right Grant
-
2022
- 2022-04-22 TW TW111115340A patent/TWI832220B/zh active
- 2022-04-26 JP JP2024508293A patent/JP2024514988A/ja active Pending
- 2022-04-26 WO PCT/KR2022/005919 patent/WO2022231259A1/ko active Application Filing
- 2022-04-26 CN CN202280030698.4A patent/CN117337396A/zh active Pending
-
2023
- 2023-10-27 US US18/495,795 patent/US20240053382A1/en active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI832220B (zh) | 2024-02-11 |
TW202244509A (zh) | 2022-11-16 |
US20240053382A1 (en) | 2024-02-15 |
CN117337396A (zh) | 2024-01-02 |
KR102349333B1 (ko) | 2022-01-11 |
WO2022231259A1 (ko) | 2022-11-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI596346B (zh) | 垂直式探針卡之探針裝置 | |
US5973394A (en) | Small contactor for test probes, chip packaging and the like | |
US7407877B2 (en) | Self-coplanarity bumping shape for flip-chip | |
CN102012470B (zh) | 封装基板的电性测试转接板及其方法 | |
US8710857B2 (en) | High frequency vertical spring probe | |
US20070264846A1 (en) | Ic socket suitable for bga/lga hybrid package | |
TWM529167U (zh) | 垂直式探針卡之探針裝置 | |
JP2007512661A (ja) | 蛇行接続カンチレバを有するマルチ経路相互接続 | |
US20240053382A1 (en) | Probe pin and method of manufacturing probe pin | |
WO2013018809A1 (ja) | プローブユニット | |
KR101641923B1 (ko) | 콘택트 프로브 | |
US6210173B1 (en) | Electrical connector incorporating an elastic electrically conductive material | |
US7452799B2 (en) | Ball film for integrated circuit fabrication and testing | |
JP2004309490A (ja) | 導電性接触子 | |
KR102172785B1 (ko) | 랜싱 프레스를 이용한 번-인 테스트 소켓용 랜스 콘택 핀 및 그 제조 방법 | |
KR102061036B1 (ko) | 반도체 테스트 소켓용 스파일러 콘택 핀 | |
US10663487B2 (en) | Low force wafer test probe with variable geometry | |
US20230168279A1 (en) | Membrane probe card and its probe head | |
TWI592665B (zh) | 垂直式探針卡之探針裝置 | |
KR102046808B1 (ko) | 양방향 도전성 핀, 이를 이용한 양방향 도전성 모듈 및 그 제조방법 | |
KR102270275B1 (ko) | 테스트 소켓 | |
US20090033346A1 (en) | Group probing over active area pads arrangement | |
KR100864185B1 (ko) | 가변강성 기능을 가진 수직형 미세 접촉 프로브 | |
KR100817042B1 (ko) | 벨로우즈 형상을 가진 수직형 미세 접촉 프로브 | |
KR20230143350A (ko) | 테스트 소켓용 콘택 핀 및 이를 포함하는 테스트 소켓 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20231016 |