JP2024514459A - ナノインプリントリソグラフィ用のジルコニア配合物およびチタニア配合物、ならびにナノコンポジット - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 292
- 238000009472 formulation Methods 0.000 title claims abstract description 277
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 117
- 239000002114 nanocomposite Substances 0.000 title claims abstract description 107
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 82
- 238000001127 nanoimprint lithography Methods 0.000 title 1
- 239000002159 nanocrystal Substances 0.000 claims abstract description 120
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 86
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 68
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 54
- -1 polyethyleneoxy Polymers 0.000 claims description 44
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 44
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 39
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 32
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 23
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 22
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 22
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 21
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 19
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 18
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical group [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- QUEWJUQWKGAHON-UHFFFAOYSA-N (2-phenylphenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 QUEWJUQWKGAHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 claims description 15
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 13
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 claims description 12
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims description 12
- YIJYFLXQHDOQGW-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4,6-trioxo-3,5-bis(2-prop-2-enoyloxyethyl)-1,3,5-triazinan-1-yl]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCN1C(=O)N(CCOC(=O)C=C)C(=O)N(CCOC(=O)C=C)C1=O YIJYFLXQHDOQGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 claims description 11
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 claims description 11
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 claims description 11
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 1-heptanol Chemical compound CCCCCCCO BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N dodecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCO LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N octadecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCO GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N β‐Mercaptoethanol Chemical compound OCCS DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 claims description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 9
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 claims description 9
- HPSGLFKWHYAKSF-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCC1=CC=CC=C1 HPSGLFKWHYAKSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims description 8
- NFRBUOMQJKUACC-UHFFFAOYSA-N triethyl(pentyl)azanium Chemical compound CCCCC[N+](CC)(CC)CC NFRBUOMQJKUACC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 7
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 claims description 7
- JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol monomethyl ether Chemical compound COCCOCCOCCO JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 claims description 6
- ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N omega-Hydroxydodecanoic acid Natural products OCCCCCCCCCCCC(O)=O ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 6
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 claims description 6
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 claims description 6
- ALSTYHKOOCGGFT-KTKRTIGZSA-N (9Z)-octadecen-1-ol Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCO ALSTYHKOOCGGFT-KTKRTIGZSA-N 0.000 claims description 5
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- RLAKYYIYWIWCED-UHFFFAOYSA-N 11-prop-2-enoyloxyundecylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CCCCCCCCCCCOC(=O)C=C RLAKYYIYWIWCED-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- VXLGFBKKMPMGST-UHFFFAOYSA-N 11-sulfanylundecylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CCCCCCCCCCCS VXLGFBKKMPMGST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- VHJRQDUWYYJDBE-UHFFFAOYSA-N 11-trimethoxysilylundecane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCCCCCCCCS VHJRQDUWYYJDBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- CLLLODNOQBVIMS-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)acetic acid Chemical compound COCCOCC(O)=O CLLLODNOQBVIMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- CDBORKXXLPAUKJ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanethiol Chemical compound COCCOCCS CDBORKXXLPAUKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- YHBWXWLDOKIVCJ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]acetic acid Chemical compound COCCOCCOCC(O)=O YHBWXWLDOKIVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- DOHZUESDMPWWJO-UHFFFAOYSA-N 2-[ethoxy(dimethyl)silyl]ethyl-diphenylphosphane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(CC[Si](C)(C)OCC)C1=CC=CC=C1 DOHZUESDMPWWJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- NNJMFJSKMRYHSR-UHFFFAOYSA-N 4-phenylbenzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=CC=C1 NNJMFJSKMRYHSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 claims description 5
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 claims description 5
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 claims description 5
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N alpha-ethylcaproic acid Natural products CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 claims description 5
- HLXCYTXLQJWQFG-UHFFFAOYSA-N diphenyl(2-triethoxysilylethyl)phosphane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(CC[Si](OCC)(OCC)OCC)C1=CC=CC=C1 HLXCYTXLQJWQFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- SCPWMSBAGXEGPW-UHFFFAOYSA-N dodecyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC SCPWMSBAGXEGPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- SVMUEEINWGBIPD-UHFFFAOYSA-N dodecylphosphonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCP(O)(O)=O SVMUEEINWGBIPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- UPATYXACDCFPFN-UHFFFAOYSA-N hex-1-ynyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCC#C[Si](OC)(OC)OC UPATYXACDCFPFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- NHBRUUFBSBSTHM-UHFFFAOYSA-N n'-[2-(3-trimethoxysilylpropylamino)ethyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCNCCN NHBRUUFBSBSTHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- BNQFLOSSLHYGLQ-UHFFFAOYSA-N n-[[dimethoxy(methyl)silyl]methyl]aniline Chemical compound CO[Si](C)(OC)CNC1=CC=CC=C1 BNQFLOSSLHYGLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- KZCOBXFFBQJQHH-UHFFFAOYSA-N octane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCS KZCOBXFFBQJQHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- NJGCRMAPOWGWMW-UHFFFAOYSA-N octylphosphonic acid Chemical compound CCCCCCCCP(O)(O)=O NJGCRMAPOWGWMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N octyltriethoxysilane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 claims description 5
- 235000021313 oleic acid Nutrition 0.000 claims description 5
- 229940055577 oleyl alcohol Drugs 0.000 claims description 5
- XMLQWXUVTXCDDL-UHFFFAOYSA-N oleyl alcohol Natural products CCCCCCC=CCCCCCCCCCCO XMLQWXUVTXCDDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 5
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 claims description 5
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 claims description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 5
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 claims description 5
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 claims description 5
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 5
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- FTDRQHXSYGDMNJ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3-pyrrol-1-ylpropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN1C=CC=C1 FTDRQHXSYGDMNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- IEALAANSRUPKOC-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3-thiophen-2-ylsulfanylpropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCSC1=CC=CS1 IEALAANSRUPKOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- ZYMHKOVQDOFPHH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(oct-1-enyl)silane Chemical compound CCCCCCC=C[Si](OC)(OC)OC ZYMHKOVQDOFPHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- NMEPHPOFYLLFTK-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(octyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC NMEPHPOFYLLFTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- LFRDHGNFBLIJIY-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(prop-2-enyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC=C LFRDHGNFBLIJIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- HHQAGBQXOWLTLL-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-3-phenoxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(O)COC1=CC=CC=C1 HHQAGBQXOWLTLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- IUDHARNGDKAQTA-UHFFFAOYSA-N 11-(2-methylprop-2-enoyloxy)undecylphosphonic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCCCCCCP(O)(O)=O IUDHARNGDKAQTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 6-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCOC(=O)C(C)=C SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- HXUIUZCAALFHJD-UHFFFAOYSA-N diphenyl(3-triethoxysilylpropyl)phosphane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(CCC[Si](OCC)(OCC)OCC)C1=CC=CC=C1 HXUIUZCAALFHJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000013538 functional additive Substances 0.000 claims description 4
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 4
- ZZSKMNCIAKKVRB-UHFFFAOYSA-N morpholin-4-yl-(2-nitrophenyl)methanone Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1C(=O)N1CCOCC1 ZZSKMNCIAKKVRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 claims description 4
- MQGPKQPSPLQBBD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(2-pyridin-4-ylethylsulfanyl)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC(C)SCCC1=CC=NC=C1 MQGPKQPSPLQBBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- LAZXUBKSQQRBNY-UHFFFAOYSA-N (2-phenoxyphenyl)methyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1OC1=CC=CC=C1 LAZXUBKSQQRBNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- LBNDGEZENJUBCO-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethyl]butanedioic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC(C(O)=O)CC(O)=O LBNDGEZENJUBCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- LJRSZGKUUZPHEB-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxypropoxy)propoxy]propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(C)COC(C)COC(=O)C=C LJRSZGKUUZPHEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RHOOUTWPJJQGSK-UHFFFAOYSA-N 2-phenylsulfanylethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCSC1=CC=CC=C1 RHOOUTWPJJQGSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- FMGBDYLOANULLW-UHFFFAOYSA-N 3-isocyanatopropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN=C=O FMGBDYLOANULLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- INXWLSDYDXPENO-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(CO)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C INXWLSDYDXPENO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- PSSYEWWHQGPWGA-UHFFFAOYSA-N [2-hydroxy-3-[2-hydroxy-3-(2-hydroxy-3-prop-2-enoyloxypropoxy)propoxy]propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(O)COCC(O)COCC(O)COC(=O)C=C PSSYEWWHQGPWGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 claims description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000007764 slot die coating Methods 0.000 claims description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 3
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 3
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000012745 toughening agent Substances 0.000 claims description 3
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 claims description 3
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 3
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LAVARTIQQDZFNT-UHFFFAOYSA-N 1-(1-methoxypropan-2-yloxy)propan-2-yl acetate Chemical compound COCC(C)OCC(C)OC(C)=O LAVARTIQQDZFNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QWOZZTWBWQMEPD-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethoxypropoxy)propan-2-ol Chemical compound CCOC(C)COCC(C)O QWOZZTWBWQMEPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IDQBJILTOGBZCR-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-1-ol Chemical compound CCCCOC(O)CC IDQBJILTOGBZCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JWYVGKFDLWWQJX-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylazepan-2-one Chemical compound C=CN1CCCCCC1=O JWYVGKFDLWWQJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IMQFZQVZKBIPCQ-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)butyl 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(CC)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS IMQFZQVZKBIPCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(C)=O VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCOCCOCCOC(C)=O FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NCHBYORVPVDWBJ-UHFFFAOYSA-N 2-(3-methylbutoxy)ethanol Chemical compound CC(C)CCOCCO NCHBYORVPVDWBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UPGSWASWQBLSKZ-UHFFFAOYSA-N 2-hexoxyethanol Chemical compound CCCCCCOCCO UPGSWASWQBLSKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 3-(3-methoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound COCCCOCCCO QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 claims description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 claims description 2
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 claims description 2
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 2
- SVBSJWKYFYUHTF-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-butoxyacetate Chemical compound CCCCOCC(=O)OCC SVBSJWKYFYUHTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CKSRFHWWBKRUKA-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-ethoxyacetate Chemical compound CCOCC(=O)OCC CKSRFHWWBKRUKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims description 2
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 claims description 2
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CUDYYMUUJHLCGZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound COC(C)COC(C)CO CUDYYMUUJHLCGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOC(=O)C=C LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOC(=O)C(C)=C XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- CYUZOYPRAQASLN-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCOC(=O)C=C CYUZOYPRAQASLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000011295 pitch Substances 0.000 claims 2
- MTPIZGPBYCHTGQ-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(2-prop-2-enoyloxyethoxymethyl)butoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCC(CC)(COCCOC(=O)C=C)COCCOC(=O)C=C MTPIZGPBYCHTGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- CEXQWAAGPPNOQF-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC1=CC=CC=C1 CEXQWAAGPPNOQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- RZVINYQDSSQUKO-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC1=CC=CC=C1 RZVINYQDSSQUKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000010146 3D printing Methods 0.000 claims 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- SORGEQQSQGNZFI-UHFFFAOYSA-N [azido(phenoxy)phosphoryl]oxybenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(=O)(N=[N+]=[N-])OC1=CC=CC=C1 SORGEQQSQGNZFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims 1
- 125000003636 chemical group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 claims 1
- QKQSRIKBWKJGHW-UHFFFAOYSA-N morpholine;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.C1COCCN1 QKQSRIKBWKJGHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims 1
- 238000002211 ultraviolet spectrum Methods 0.000 claims 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 23
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 80
- 238000000034 method Methods 0.000 description 45
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 description 21
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 20
- 230000008569 process Effects 0.000 description 18
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 17
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 17
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 16
- 238000002411 thermogravimetry Methods 0.000 description 15
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 13
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 12
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 12
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 11
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 10
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 9
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 9
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 7
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 6
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 5
- 239000012296 anti-solvent Substances 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 238000004627 transmission electron microscopy Methods 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- UZEBOAVNNHNEGI-UHFFFAOYSA-N ethoxy-[2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethyl]phosphinic acid Chemical compound C(C)OP(O)(=O)CCOCCOCCOC UZEBOAVNNHNEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 4
- 229910003480 inorganic solid Inorganic materials 0.000 description 4
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 4
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 4
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 4
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C=C)C=C1 UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000003917 TEM image Methods 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 230000003190 augmentative effect Effects 0.000 description 3
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 239000007970 homogeneous dispersion Substances 0.000 description 3
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- PZJJKWKADRNWSW-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilicon Chemical compound CO[Si](OC)OC PZJJKWKADRNWSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RSROEZYGRKHVMN-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;oxirane Chemical compound C1CO1.CCC(CO)(CO)CO RSROEZYGRKHVMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JFZHPFOXAAIUMB-UHFFFAOYSA-N Phenylethylmalonamide Chemical compound CCC(C(N)=O)(C(N)=O)C1=CC=CC=C1 JFZHPFOXAAIUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 2
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 2
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 2
- 229920001483 poly(ethyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3-isocyanatopropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN=C=O FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 2
- 238000001429 visible spectrum Methods 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(2-hydroxyethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound OCCN1C(=O)N(CCO)C(=O)N(CCO)C1=O BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDICXYMODXUHGU-UHFFFAOYSA-N 10-(5-anilino-6-octylsulfanyltriazin-4-yl)sulfanyl-3-tert-butyl-2,2-dimethyldecan-3-ol Chemical compound C(C)(C)(C)C(CCCCCCCSC1=NN=NC(=C1NC1=CC=CC=C1)SCCCCCCCC)(O)C(C)(C)C CDICXYMODXUHGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVHOBHMAPRVOLO-UHFFFAOYSA-N 2-ethylbutanedioic acid Chemical compound CCC(C(O)=O)CC(O)=O RVHOBHMAPRVOLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKNSMWHULXALLB-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-[2-[3-(2-methylprop-2-enoyl)thiophen-2-yl]sulfanylthiophen-3-yl]prop-2-en-1-one Chemical compound C1=CSC(SC2=C(C=CS2)C(=O)C(C)=C)=C1C(=O)C(=C)C WKNSMWHULXALLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTBDAFLSBDGPEA-UHFFFAOYSA-N 3-Methylquinoline Natural products C1=CC=CC2=CC(C)=CN=C21 DTBDAFLSBDGPEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVACOMKKELLCHJ-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropylurea Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC(N)=O LVACOMKKELLCHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZEWLHMQYEZXSBH-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]-4-oxobutanoic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)CCC(O)=O ZEWLHMQYEZXSBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDMMZSJNHAWYKX-UHFFFAOYSA-N 4-phenylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound C1C(C=C2)CCC21C1=CC=CC=C1 UDMMZSJNHAWYKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004713 Cyclic olefin copolymer Substances 0.000 description 1
- GHKOFFNLGXMVNJ-UHFFFAOYSA-N Didodecyl thiobispropanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)CCSCCC(=O)OCCCCCCCCCCCC GHKOFFNLGXMVNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N [3-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]-2,2-bis[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxymethyl]propyl] 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCC(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000007771 core particle Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- DZQISOJKASMITI-UHFFFAOYSA-N decyl-dioxido-oxo-$l^{5}-phosphane;hydron Chemical compound CCCCCCCCCCP(O)(O)=O DZQISOJKASMITI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N ethoxysilane Chemical compound CCO[SiH3] CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 1
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium oxide Inorganic materials O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 238000013532 laser treatment Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- SSDSCDGVMJFTEQ-UHFFFAOYSA-N octadecyl 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 SSDSCDGVMJFTEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 1
- 235000010292 orthophenyl phenol Nutrition 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N oxogermanium Chemical compound [Ge]=O PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000036314 physical performance Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- RLUCXJBHKHIDSP-UHFFFAOYSA-N propane-1,2-diol;propanoic acid Chemical compound CCC(O)=O.CC(O)CO RLUCXJBHKHIDSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIDUKLCLJMXFEO-UHFFFAOYSA-N propylsilane Chemical compound CCC[SiH3] UIDUKLCLJMXFEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M sodium;oxocalcium;hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+].[Ca]=O HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000004729 solvothermal method Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,7-diazaspiro[4.5]decane-7-carboxylate Chemical compound C1N(C(=O)OC(C)(C)C)CCCC11CNCC1 ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
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Abstract
本開示は、30nm未満のジルコニウムおよび/または酸化チタンナノ結晶を含む高屈折率アクリル性配合物を提供する。上記配合物は含溶媒または無溶媒であり、インプリント可能および/またはインクジェット印刷が可能な粘度を有し、複数の成膜法により塗布され得るものであり、AR/VR/MRおよびディスプレイ用途を含む多様な光学用途のための高屈折率、高透明性ナノコンポジットを生み出す。【選択図】図2
Description
関連出願に対する相互参照:本出願は、2021年3月26日に出願された米国仮出願第63/166,591号の優先権を主張するものであり、その内容はそれらの全体において参照により本明細書中に組み込まれる。
本明細書に記載されるポリマーナノコンポジット配合物は、可視スペクトルにおける高屈折率および高い光学透過率に加え、多様な構造形状およびアスペクト比のナノインプリント機能を発現する。本開示の材料は、多くのエレクトロニクス用途用のインクジェット印刷、スピンコーティング、スクリーン印刷、ディップ、ディスペンス、ロール・ツー・ロール、スロットダイ、またはドローバーコーティング等の通常の溶液コーティングプロセスを介して所望の基材の表面上に容易に被覆される。本開示のナノコンポジットは、チタニアおよび/またはジルコニアナノ結晶ならびにモノマーまたはオリゴマー、開始剤、ならびに他の添加物を含む配合物から調製される。本開示のナノコンポジットは、高屈折率および高透明性がパフォーマンスに重要である、拡張現実、複合現実および/または仮想現実用途等のエレクトロニクス用途において望ましい、高屈折率および高透明性のフィルムもしくはコーティングまたは層を提供する点において独特である。本明細書に記載されるコーティングの厚さは、特定の用途に要求されるとおり、何十ナノメートルからマイクロメートルに及ぶ。
TiO2およびZrO2ナノコンポジットの主力用途の一つは、回折光学素子(DOE)における用途である。DOEは非常に小さな構造体パターンであり、光学構造体を通して伝播する光の位相を変化させる光学デバイスに使用されている。上記用途範囲およびDOEにより供されるマーケットは非常に広範である。DOEの例は、光学センサー用の回折光学導波管、ビームスプリッターおよび回折型ディフューザー、医療レーザー治療および診断装置、光学的距離および速度測定システム、ファイバー結合、およびレーザーディスプレイならびに照明システムを含む。これらの材料は、DOE用途における産業需要を満たすためには光学的に透明かつナノインプリントが可能でなければならず、これらの光学特性および機械特性を両立させることは、高RIを有するDOEの高まる需要に重要である。
DOEが影響を及ぼしている主力マーケットの一つは、拡張現実(AR)、複合現実(MR)、および仮想現実(VR)を包含するエクステンデッドリアリティ(XR)である。光学特性と機械特性とを両立させることは、本産業が求めている光学的に透明かつナノインプリント性材料をもたらすのに極めて重要である。AR/VR等の高RI用途のTiO2およびZrO2ナノコンポジットでは、光学的透明度およびナノインプリントに必要な機械特性を維持することは、高RI値それ自体と同様に極めて重要である。
ナノインプリンティング(NI)用途は通常、所望の用途に特有のナノサイズの構造体の均一な分布の土台として、スピンコーティングおよびインクジェット印刷等の成膜方法を利用する。NI構造体は、特定の高さ/幅(例えばアスペクト比)およびピッチを有する、垂直または傾斜した長方形、円筒形または三角形の格子であってもよい。他のより複雑な構造体はナノインプリンティングにおいて通常であり、様々な高さおよび他の寸法の構造体の特定の三次元配列を含む回折光学素子として知られている。
一般に、ナノインプリンティングは、スタンプ、および予備硬化されたフィルムが基材上に成膜された基材を要する。上記スタンプは硬質または軟質であってもよいが、配合物の光開始剤吸収に特有のUV波長領域において特に透明でなければならない。硬質スタンプは従来ガラスの一種からできており、そして軟質スタンプは多くの場合、ポリジメチルシロキサン(PDMS)のような透明で柔軟な材料からできている。逆に、上記スタンプは、フィルムの基材が丁度記載した要領で透明である場合は、不透明または半透明であってもよい。上記プロセスは、上記スタンプが予備硬化されたフィルム上に配置され、圧力が一定時間加圧されて、スタンプ内にフィルムが流入することを可能とし、UV光が透明なスタンプまたは基材を透光し、上記スタンプが硬化されたフィルムから離されるように続く。他の方法は熱硬化を組み込むこともでき、透明なスタンプを要しない。フィルム/基材からのスタンプを剥がしやすくするため、多くの場合、フィルム/構造体の粘着および/または接着破壊を防止するため、離型剤がスタンプに適用される。
配合物が、ナノインプリント性であるかを決定する多くの重要なファクター:硬化前のフィルムの粘度(少量の溶媒~無溶媒)、硬化された構造体の硬度、ヤング率および収縮率が存在する。上記予備硬化されたフィルムの粘度は、最終的な構造体を与えるために、材料が作業スタンプの意図された領域を通して均一に導入され得る程度の一定のレベルの流動性を要する。スタンプの寸法および加圧された圧力のプロセス時間は粘度制限に影響する。
硬度およびヤング率等の硬化された構造体の機械特性は、上記構造体がインプリントプロセス完了後に損傷しないままである程度に重要である。一般的なインプリント法は、硬化されたフィルムから剥離された軟質スタンプを使用するものである。ナノスケール構造体が晒される、克服されなければならないせん断力ひずみが存在する。ヤング率は、所定の応力の作用下でのひずみに対する剛性または耐性の直接的な尺度である。構造体の変形に対する耐性である硬度は、意図された形状および配列がずれる、または整列されないことのない程度に十分に高い必要がある。
収縮は、所望のレベルでの構造寸法を維持するために最小限とされるべき重要なナノインプリント特性である。収縮は、二重結合が転換して架橋を形成するように、予備硬化から最終硬化状態へ転移するため、UV硬化性フィルムで起きることが知られている。究極には、モノマーとポリマーの間の密度の変化が収縮率を上昇させる。従来、低官能性を有するモノマー(例えばアクリレートが1つまたは2つ)は低収縮率(例えば5%未満)を有する傾向にあり、逆に、高官能性を有するモノマー(例えば3つ以上のアクリレートを有する架橋剤)は10%以上の高い収縮率を示した。
NI配合物は、含溶媒または無溶媒であってもよい。どの種類の配合物を使用するかの主な決定因子は、所望のフィルム厚さおよびプロセス工程である。含溶媒配合物は通常、低粘度(5cP以下)であり、薄膜(5ミクロン以下)を成膜するとの目的で固形分濃度(30重量%以下)が低くてもよい。UV硬化の前の、または時にはUV硬化の後のベーキング工程は、溶媒を一掃するために必要である。これらの工程は、全プロセスにより多くの時間を追加するため、多くの場合、数分間に最小化される。環境事由およびベーキング工程における溶媒の使用が望ましくない場合には、無溶媒配合物が最も一般的である。成膜は通常、ドローバーコーティング等の所望のフィルム厚さを付与し得る、スピンコーティング以外のプロセスを要する。
インプリントされた配合物の屈折率は、基材の屈折率に合致する、またはほぼ合致するように設計されている。ナノコンポジット層の屈折率の値は、高屈折率ガラスおよび他の特殊金属酸化物表面の可視波長における屈折率と一致するように、好ましくは1.60~2.10以上である。400~700nmのバルクジルコニア固有の屈折率が2.1~2.2であるため、ジルコニアナノ結晶のみが最大1.8までのこの特定の範囲内の値を達成し得る。アナターゼチタニアナノ結晶を含有する配合物は、バルクアナターゼTiO2の屈折率範囲が2.49~2.56であることから、屈折率の値が最大2.1以上に到達し得る。ルチルチタニアナノ結晶を含む配合物は、バルクルチルTiO2の屈折率範囲が2.6~2.9であることから、屈折率の値が最大2.2以上に到達し得る。1~100nm、好ましくは4~30nmの粒子径での分散性にふさわしいキャッピング剤を用いて合成およびキャップされた場合、キャップされたジルコニアおよびチタニアの屈折率値は、400~700nmにおいて1.8~2.3であり得る。適切なモノマー、オリゴマーおよびポリマー中に適切に分散された場合、35~90%の重量充填でキャップされたナノ結晶は、可視光スペクトルにおいて1.6~2.1以上に及ぶ屈折率値を有するフィルムを作製し得る安定なディスパージョンを与え得る。二酸化ケイ素および酸化ゲルマニウム等の比較的低い屈折率を有する無機酸化物を含む純粋な有機ポリマーおよびナノコンポジットは、所望の範囲内の値に到達できない、吸収を起こし得る原子的構成要素から構成され得る、または最終的な所望の高屈折率値に到達するための非常に高い重量充填を要し得る、のいずれかであり得る。ナノ粒子のより高い重量充填は通常、非常に高い粘度に上昇させ、NI用途の一定の配合物を排除するが、これは、前述のとおり、スタンプ内に材料が流入できないためである。
ディスプレイ(OLED、LCD、反射型等)、AR/VRデバイスおよびレンズ等のデバイスにおける他の層とインデックスが合致するように意図されたナノコンポジット配合物は、散乱層が所望される場合を除き、透明であることが要求される。配合物およびフィルムの透明性はナノ粒子の径および分布と強く関連する。30nm以下の粒子径を合成し、維持させることにより、上記配合物およびフィルムは、可視スペクトル全体において光の高い透過率(%T>95%)を可能とし得る。40nmよりも大きい粒子は、光を散乱させてしまう傾向があり、材料を通して全体の透過率を低下させる。凝集粒子も、ディスパージョンが経時的に安定でない場合にこの散乱問題を生じさせ得る。不安定なディスパージョンは、十分量のキャッピング剤で、または、意図された有機マトリックスに適するキャッピング剤で適切にキャップされていない粒子を有すると考えられる。加えて、配合物中に小さい粒子径、狭い粒度分布を有し、かつ凝集物を有さないことは、高屈折率、高透明性、低粘度の配合物をもたらし、粘度を著しく上昇させることなく高いナノ結晶充填を可能とする。
本開示は、作業可能な粘度値、高屈折率、UV硬化性を有し、かつ硬化剤と共に有機マトリックス中にキャップされた酸化ジルコニウムおよび/または二酸化チタンナノ結晶を含む、ナノインプリントが可能および/またはインクジェット印刷が可能である、含溶媒または無溶媒の配合物を提供する。上記配合物は、任意で追加的に下記の任意の成分:湿潤剤、酸化防止剤、接着促進剤、レベリング剤、分散剤、可塑剤、強化剤、増粘剤、シンナー、分散剤、または軟化剤、または有機ドーパント、または他の機能性添加物を含む。これらの配合物は高屈折性、高透明性のナノコンポジットをもたらす。
本開示は、開示技術のさらなる例示として、下記の非限定的な付番された実施形態を提供する。
1. 少なくとも部分的にキャップされたナノ結晶のディスパージョン、および、少なくとも一つの溶媒、モノマー、オリゴマー、ポリマーまたは架橋剤を含み、さらに任意で硬化剤、界面活性剤、湿潤剤、酸化防止剤、接着促進剤、レベリング剤、分散剤、可塑剤、強化剤、増粘剤、シンナー、分散剤、または軟化剤、または有機ドーパント、または他の機能性添加物を含むマトリックスを含む配合物。上記ナノ結晶は通常、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化ハフニウム、酸化亜鉛、酸化タンタル、酸化ニオビウム、およびそれらの組み合わせから選択される金属酸化物を含む。
1. 少なくとも部分的にキャップされたナノ結晶のディスパージョン、および、少なくとも一つの溶媒、モノマー、オリゴマー、ポリマーまたは架橋剤を含み、さらに任意で硬化剤、界面活性剤、湿潤剤、酸化防止剤、接着促進剤、レベリング剤、分散剤、可塑剤、強化剤、増粘剤、シンナー、分散剤、または軟化剤、または有機ドーパント、または他の機能性添加物を含むマトリックスを含む配合物。上記ナノ結晶は通常、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化ハフニウム、酸化亜鉛、酸化タンタル、酸化ニオビウム、およびそれらの組み合わせから選択される金属酸化物を含む。
2. マトリックスが1つまたは複数のアクリレートおよび/またはメタクリレートモノマー、反応性希釈剤、硬化剤、および、任意で、少なくとも一種の界面活性剤または湿潤剤を含む、実施形態1に記載の配合物。
3. DLSまたはTEMにより測定された、少なくとも部分的にキャップされたナノ結晶の平均粒子径が1~30nm(例えば、5nm、10nm、15nm、20nm、30nm、または引用された値の間の任意の範囲または値、例えば5~30nmまたは5~20nm等)の範囲内である、実施形態1または2に記載の配合物。
4. 上記ナノ結晶が、メチルトリメトキシシラン、n-プロピルトリメトキシシラン、n-プロピルトリエトキシシラン、n-オクチルトリメトキシシラン、n-オクチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、m,p-エチルフェネチルトリメトキシシラン、2-[メトキシ(ポリエチレンオキシ)プロピル]トリメトキシシラン、メトキシ(トリエチレンオキシ)プロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン、3-(アクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、1-ヘキシニルトリメトキシシラン、1-オクテニルトリメトキシシラン、(フェニルアミノメチル)メチルジメトキシシラン、N-フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、3-(4-ピリジルエチル)チオプロピルトリメトキシシラン、N-(3-トリメトキシシリルプロピル)ピロール、2-(3-トリメトキシシリルプロピルチオ)チオフェン、(3-トリメトキシシリルプロピル)ジエチレントリアミン、11-メルカプトウンデシルトリメトキシシラン、(2-ジフェニルホスフィノ)エチルジメチルエトキシシラン、2-(ジフェニルホスフィノ)エチルトリエトキシシラン、3-(ジフェニルホスフィノ)プロピルトリエトキシシラン、ヘプタノール、ヘキサノール、オクタノール、ベンジルアルコール、フェノール類、エタノール、プロパノール、ブタノール、オレイルアルコール、ドデシルアルコール、オクタデカノール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、オクタン酸、酢酸、プロピオン酸、2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]酢酸、オレイン酸、安息香酸、ステアリン酸、トリフルオロ酢酸、ビフェニル-4-カルボン酸、2-(2-メトキシエトキシ)酢酸、メタクリル酸、モノ-2-(メタクリロイルオキシ)エチルコハク酸、2-メルカプトエタノール、2-{2-[2-(2-メルカプトエトキシ)エトキシ)エトキシ]エトキシ}エタノール、2-(2-メトキシエトキシ)エタンチオール、1-オクタンチオール、2,3-ジメルカプトプロパン硫酸ナトリウム一水和物、ドデシル硫酸ナトリウム、ドデシルホスホン酸、オクチルホスホン酸、(11-メルカプトウンデシル)ホスホン酸、(11-(アクリロイルオキシ)ウンデシル)ホスホン酸、11-メタクリロイルオキシウンデシルホスホン酸、[2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エチル]ホスホン酸エチルエステル、およびそれらの組み合わせから選択される少なくとも一種のキャッピング剤で少なくとも部分的にキャップされた、実施形態1~3のいずれか一つに記載の配合物。
5. 実施形態1~4のいずれか一つに記載の配合物は、配合物の5~95重量%に及ぶ酸化ジルコニウムおよび/または二酸化チタンナノ結晶の重量充填を含む。
6. 上記酸化ジルコニウムおよび/または二酸化チタンナノ結晶が少なくとも部分的にキャップされており、かつ上記配合物が589nmで高屈折率、好ましくは>1.50RIを有するモノ官能性アクリレートおよび/またはメタクリレートモノマーをさらに含む、実施形態1~5のいずれか一つに記載の配合物。例は、ベンジル(メタ)アクリレート(BAおよびBMA)、エチレングリコールフェニルエーテル(メタ)アクリレート(PEAおよびPEMA)、2-フェノキシベンジルアクリレート(PBA)、ビフェニルメタクリレート(BPMA)、2-フェニルフェノール類メタクリレート(PPMA)、2-フェニルエチルアクリレート(2-PEA)、2-(フェニルチオ)エチルアクリレート(PTEA)、またはそれらの組み合わせを含み得る。
6. 上記酸化ジルコニウムおよび/または二酸化チタンナノ結晶が少なくとも部分的にキャップされており、かつ上記配合物が589nmで高屈折率、好ましくは>1.50RIを有するモノ官能性アクリレートおよび/またはメタクリレートモノマーをさらに含む、実施形態1~5のいずれか一つに記載の配合物。例は、ベンジル(メタ)アクリレート(BAおよびBMA)、エチレングリコールフェニルエーテル(メタ)アクリレート(PEAおよびPEMA)、2-フェノキシベンジルアクリレート(PBA)、ビフェニルメタクリレート(BPMA)、2-フェニルフェノール類メタクリレート(PPMA)、2-フェニルエチルアクリレート(2-PEA)、2-(フェニルチオ)エチルアクリレート(PTEA)、またはそれらの組み合わせを含み得る。
7. 酸化ジルコニウムおよび/または二酸化チタンナノ結晶が少なくとも部分的にキャップされており、かつ上記配合物が1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート(HDDAおよびHDDMA)、ジ(エチレングリコール)ジ(メタ)アクリレート(DEGDAおよびDEGDMA)、エチレングリコールジアクリレート、グリセロール1,3-ジグリセロラートジアクリレート、トリ(プロピレングリコール)ジアクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート(TMPTAおよびTMPTMA)、トリメチロールプロパンエトキシレートトリ(メタ)アクリレート(EOTMPTAおよびEOTMPTMA)、1,6-ヘキサンジオールエトキシレートジアクリレート、ペンタエリトリトールテトラアクリレート(PETA)、ビス(メタクリロイルチオフェニル)スルフィド(BMTPS)、トリス(2-ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリアクリレート(THEICTA)およびジペンタエリトリトールペンタ-/ヘキサ-アクリレート(DPHA)等のジ、トリ、テトラおよびペンタ官能性アクリレートおよび/またはメタクリレートモノマーをさらに含む、実施形態1~6のいずれか一つに記載の配合物。
8. 酸化ジルコニウムおよび/または二酸化チタンナノ結晶が少なくとも部分的にキャップされており、かつ上記配合物が、1-ビニル-2-ピロリドン(NVP)、N-ビニルカプロラクタム、2-(2-ビニルオキシエトキシ)エチル(メタ)アクリレート、イソブチルアクリレート、スチレン(STY)、4-メチルスチレン(4MS)、4-ビニルアニソール(4VA)およびジビニルベンゼン(DVB)等の反応性希釈剤をさらに含む、実施形態1~7のいずれか一つに記載の配合物。例えば、1-ビニル-2-ピロリドンを実施形態1~8のいずれか一つに記載の配合物に加えることで表面硬化性または粘着性を改良する。上記反応性希釈剤の重量パーセントは、モノマー含有量の合計に対して10~80重量%である。好ましい反応性希釈剤の重量パーセントは、モノマー含有量の合計に対して25~70重量%である。
9. 酸化ジルコニウムおよび/または二酸化チタンナノ結晶が少なくとも部分的にキャップされており、上記配合物が、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトプロピオネート)等のジ、トリ、テトラ官能性チオール架橋剤をさらに含む、実施形態1~8のいずれか一つに記載の配合物。架橋剤の重量パーセントは、モノマー含有量の合計に対して1~80重量%である。架橋剤の好ましい重量パーセントは、モノマー含有量の合計に対して1~50重量%である。
10. 実施形態9に記載の配合物は、1つまたは複数の高屈折率および/または含硫黄モノマーおよび/または樹脂を含み、好ましくは、上記モノマーおよび/または樹脂は下記構造体を有する化合物およびそれらの誘導体:
から選択される。
11. 酸化ジルコニウムおよび/または二酸化チタンナノ結晶が少なくとも部分的にキャップされており、かつ配合物がフェナントレン(PhA)または9-ビニルカルバゾール(NVCb)等の反応性有機ドーパントをさらに含む、実施形態1~10のいずれか一つに記載の配合物。有機ドーパントの濃度は、1~50重量%に及び得る。
11. 酸化ジルコニウムおよび/または二酸化チタンナノ結晶が少なくとも部分的にキャップされており、かつ配合物がフェナントレン(PhA)または9-ビニルカルバゾール(NVCb)等の反応性有機ドーパントをさらに含む、実施形態1~10のいずれか一つに記載の配合物。有機ドーパントの濃度は、1~50重量%に及び得る。
12. 酸化ジルコニウムおよび/または二酸化チタンナノ結晶が少なくとも部分的にキャップされており、かつ上記配合物が、ポリエーテルで変性されたシロキサン、フルオロ界面活性剤等のアクリレートモノマー系中で非反応性または反応性のいずれかである界面活性剤または界面活性剤の組み合わせをさらに含む、実施形態1~11のいずれか一つに記載の配合物。合計の配合物中の上記界面活性剤の濃度は0.1~2.0重量%の範囲内である。上記界面活性剤の好ましい濃度は、0.5~1.0重量%の範囲内である。
13. 酸化ジルコニウムおよび/または二酸化チタンナノ結晶が少なくとも部分的にキャップされており、かつ上記配合物が任意で二酸化チタン、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素、および低インデックスおよび/または高インデックスポリマー粒子等の散乱粒子をさらに含む、実施形態1~12のいずれか一つに記載の配合物。散乱体の粒子径は100~400nmに及び得る。合計の配合物中の上記散乱体の濃度は、0.1~30.0重量%に及び得る。上記散乱体の好ましい濃度は、0.5~17.0重量%に及び得る。
14. Irgacure 184、Irgacure 819、ITX、TPO、Ebercryl P39、Esacure 1001M等の硬化剤または光開始剤をさらに含み、かつEbercryl P115およびCN374等の相乗剤、またはHALS系開始剤を含む、実施形態1~13のいずれか一つに記載の配合物。合計の配合物中の上記光開始剤の濃度は、モノマー含有量に対して0.1~20重量%の範囲内である。上記光開始剤の好ましい濃度は、モノマー含有量に対して1.0~4.0重量%の範囲内である。
15. 配合物が無溶媒、すなわち、5重量%以下の溶媒が存在する、実施形態1~14のいずれか一つに記載の配合物。
16. 配合物が、合計の配合物の10重量%超の量で溶媒を含有する、実施形態1~15のいずれか一つに記載の配合物。
16. 配合物が、合計の配合物の10重量%超の量で溶媒を含有する、実施形態1~15のいずれか一つに記載の配合物。
17. ブルックフィールドRVDV II+コーンおよびプレート粘度計を用いて25℃で測定した場合の配合物の粘度が3~50,000cPの範囲内である、実施形態15および16ならびに実施形態34~51のいずれか一つに記載の無溶媒および/または含溶媒配合物。25℃でのインクジェット印刷に好ましい粘度は、5~20cPである。カートリッジ加熱が適用可能である場合、25℃での粘度が35~100℃の間のカートリッジ温度では15~100cPであってよい。あるいは、25℃で測定した場合の配合物の粘度は、5cP~10cP、または10cP~15cP、15cP~20cP、20cP~30cP、30cP~50cP、または50cP~100cPである。インクジェット印刷以外の堆積法では、粘度は100cP~1,000cP、1,000cP~5,000cP、5,000cP~10,000cPまたは10,000~50,000cPに及び得る。
18. ナノ結晶充填が配合物の5~10%、10~15%、15~20%、20~25%、25~30%、30~35%、35~40%、40~45%、45~50%、50~55%、55~60%、60~65%、65~70%、70~75%、75~80%、85~90%、90~95重量%である、実施形態15~17のいずれか一つに記載の無溶媒および/または含溶媒配合物。
19. 589nm、520nmおよび/または450nmでの屈折率が1.52~1.56、1.56~1.58、1.58~1.60、1.60~1.62、または1.62~1.64、1.64~1.66、または1.66~1.68、または1.68~1.70、または1.70~1.72、または1.72~1.74、または1.74~1.76、または1.76~1.78、または1.78~1.80、または1.80~1.82、または1.82~1.84、または1.84~1.86、または1.86~1.88、または1.88~1.90、1.90~1.92、または1.92~1.94、または1.94~1.96、または1.96~1.98、または1.98~2.00、または2.0~2.02、または2.02~2.04、または2.04~2.06、または2.06~2.08、または2.08~2.10である、実施形態15~17および実施形態34~51のいずれか一つの無溶媒および/または含溶媒配合物。
20. 紫外A、近紫外、可視、近赤外、および/または赤外波長における配合物の%Tが99%~95%、または95%~90%、または90%~85%、または85%~80%、80%~75%、または75%~70%、または70%~65%、または65%~60%、または60%~55%、または55%~50%、または50%~45%、または45%~40%、または40%~35%、または35%~30%、または30%~25%、または25%~20%、または20%~15%、または15%~10%である、実施形態15~17および実施形態34~51のいずれか一つの無溶媒および/または含溶媒配合物。
21. スピンコーティング、スロットダイコーティング、スクリーン印刷、インクジェット印刷、ディップコーティング、ドローバーコーティング、ロール・ツー・ロール印刷、スプレーコーティング、ディスペンシング、ボリューム・キャスティング(volume casting)、スクリーン印刷およびそれらの任意の組み合わせから選択されるプロセスを経てフィルムに堆積され得る、実施形態1~20および実施形態34~51のいずれか一つに記載の配合物。
22. 溶融シリカ、ソーダ石灰、ホウケイ酸ガラス、ケイ酸アルミニウム、窒化ケイ素、酸化インジウムスズ基材等の光学的に透明な親水性基材上に堆積されている、実施形態1~21および実施形態34~51のいずれか一つに記載の配合物。逆に、上記配合物は、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、アクリル性ポリマー、環状オレフィン共重合体、ポリカーボネート、ポリスチレン、およびシリコーン等の光学的に透明な疎水性基材上に堆積される。
23. 配合物が10~1000nmのオーダーでナノインプリントされた構造体(すなわち、高さ、幅、およびピッチ)を生産し得る、実施形態1~22および実施形態34~51のいずれか一つに記載の配合物。
24. 配合物は、アスペクト比が0.5:1~10:1であるナノインプリントされた構造体を生産し得る実施形態1~22および実施形態34~51のいずれか一つに記載の配合物。
25. 配合物が365、385、395および/または405nmの波長を有するUV LED源下で、または水銀「D」、「H」および/または「V」ランプを用いたUV照射を介して硬化される、実施形態1~24および実施形態34~51のいずれか一つに記載の、硬化された、または部分的に硬化された配合物を含むナノコンポジット。UV線量は、0.1~10J/cm2に及び得る。好ましいUV線量は0.5~2J/cm2である。UV硬化は、空気または不活性条件、特に窒素雰囲気下で起き得る。
26. フィルム厚さが50ナノメートル~100マイクロメートルに及ぶ、実施形態25に記載のナノコンポジットのフィルム。好ましいフィルム厚さの値は、50ナノメートル~20マイクロメートルに及び得る。
27. 少なくとも1μmのフィルムの表面粗度が5~4nm、または4~3nm、または3~2nm、または2~1nm、または1~0.5nm、または0.5~0.1nmであることを特徴とする、実施形態25および26のいずれか一つに記載のナノコンポジットのフィルム。
28. 紫外A、近紫外、可視、近赤外、および/または赤外波長における、硬化されたナノコンポジットの10ミクロン未満の厚さでの%Tが99%~95%、または95%~90%、または90%~85%、または85%~80%、80%~75%、または75%~70%、または70%~65%、または65%~60%、または60%~55%、または55%~50%、または50%~45%、または45%~40%、または40%~35%、または35%~30%、または30%~25%、または25%~20%、または20%~15%、または15%~10%である、実施形態25~27のいずれか一つに記載のナノコンポジット。
29. 紫外A、近紫外、可視、近赤外、および/または赤外波長における、硬化されたナノコンポジットの1ミクロン未満の厚さでの%Tが99%~95%、または95%~90%、または90%~85%、または85%~80%、80%~75%、または75%~70%、または70%~65%、または65%~60%、または60%~55%、または55%~50%、または50%~45%、または45%~40%、または40%~35%、または35%~30%、または30%~25%、または25%~20%、または20%~15%、または15%~10%である、実施形態25~27のいずれか一つに記載のナノコンポジット。
30. 紫外A、近紫外、可視、近赤外、および/または赤外波長における、硬化されたナノコンポジットの10~30ミクロン厚さでの%Tが99%~95%、または95%~90%、または90%~85%、または85%~80%、80%~75%、または75%~70%、または70%~65%、または65%~60%、または60%~55%、または55%~50%、または50%~45%、または45%~40%、または40%~35%、または35%~30%、または30%~25%、または25%~20%、または20%~15%、または15%~10%である、実施形態25~27のいずれか一つに記載のナノコンポジット。
31. 589nm、520nmおよび/または450nmでの硬化されたナノコンポジットの屈折率が1.54~1.56、1.56~1.58、1.58~1.60、1.60~1.62、または1.62~1.64、1.64~1.66、または1.66~1.68、または1.68~1.70、または1.70~1.72、または1.72~1.74、または1.74~1.76または1.76~1.78、または1.78~1.80、または1.80~1.82、または1.82~1.84、または1.84~1.86、または1.86~1.88、または1.88~1.90、1.90~1.92、または1.92~1.94、または1.94~1.96、または1.96~1.98、または1.98~2.00、または2.0~2.02、または2.02~2.04、または2.04~2.06、または2.06~2.08、または2.08~2.10である、実施形態25~30のいずれか一つに記載のナノコンポジット。
32. ナノインデンテーションを用いて測定される、硬化されたナノコンポジットの硬度が1~5MPa、または5~20MPa、または20~50MPa、または50~100MPa、または100~150MPa、または150~200MPa、または200~250MPa、250~300MPa、または300~350MPa、または350~400MPaである、実施形態25~31のいずれか一つに記載のナノコンポジット。
33. ナノインデンテーションを用いて測定される、硬化されたナノコンポジットのモジュラスが0.1~0.5GPa、または0.5~1.0GPa、または1.0~1.5GPa、1.5~2.0GPa、または2.0~2.5GPa、または2.5~3.0GPa、または3.0~3.5GPa、または3.5~4.0GPa、または4.0~4.5GPa、4.5~5.0GPa、または5.0~5.5GPa、または5.5~6.0GPa、または6.0~6.5GPa、または6.5~7.0GPa、または7.0~7.5GPa、または7.5~8.0GPa、または8.0~8.5GPa、または8.5~9.0GPa、または9.0~9.5GPa、または9.5~10.0GPaである、実施形態25~32のいずれか一つに記載のナノコンポジット。
34. マトリックスが(i)少なくとも一種のモノマー、オリゴマー、またはポリマー、例えば、本開示に記載される任意のもの(例えばBPMA、PTEA、PBA、2-PEA、BAC、HDDA、NVP等);(ii)任意の架橋剤、例えば、本開示に記載される任意のもの(例えばBMTPS、THEICTA、TMPTA、HR6042等);(iii)硬化剤または光開始剤等の重合開始剤、例えば、本開示に記載される任意のもの(例えばTPO、I819、ITX等);および任意で(iv)PGMEA等の溶媒を含む、マトリックス中に少なくとも部分的にキャップされた金属酸化物ナノ結晶(本開示に記載される任意のもの)を含む配合物。
35. 少なくとも部分的にキャップされた金属酸化物ナノ結晶が少なくとも部分的にキャップされたZrO2であり、好ましくは、DLSまたはTEMにより測定された、少なくとも部分的にキャップされたZrO2ナノ結晶の平均粒子径が、1~30nm(例えば、5nm、10nm、15nm、20nm、30nm、または引用された値の間の任意の範囲または値、例えば5~30nmまたは5~20nm等)の範囲内である、実施形態34に記載の配合物。
36. 配合物の40~60重量%の量で溶媒を含む、実施形態35に記載の配合物。
37. 配合物の重量に対して、少なくとも部分的にキャップされた金属酸化物ナノ結晶を25~40重量%(例えば、30~40%)、少なくとも一種のモノマー、オリゴマー、またはポリマーを3~15重量%(例えば、5~10%)、架橋剤を1~15重量%(例えば、2~10%)、および硬化剤または重合開始剤を0.1~2重量%(例えば、0.1~1%、例えば0.5~1%)含む、実施形態36に記載の配合物。
37. 配合物の重量に対して、少なくとも部分的にキャップされた金属酸化物ナノ結晶を25~40重量%(例えば、30~40%)、少なくとも一種のモノマー、オリゴマー、またはポリマーを3~15重量%(例えば、5~10%)、架橋剤を1~15重量%(例えば、2~10%)、および硬化剤または重合開始剤を0.1~2重量%(例えば、0.1~1%、例えば0.5~1%)含む、実施形態36に記載の配合物。
38. 無溶媒である、すなわち、溶媒が配合物の5重量%以下で存在する、実施形態35に記載の配合物。
39. 配合物の重量に対して、少なくとも部分的にキャップされた金属酸化物ナノ結晶を60~80重量%(例えば、64~70%)、少なくとも一種のモノマー、オリゴマー、またはポリマーを10~30重量%(例えば、15~27%)、架橋剤を5~20重量%(例えば、8~14%)、および硬化剤または重合開始剤を0.1~2重量%(例えば、0.5~1.5%、例えば1%)含む、実施形態38に記載の配合物。
39. 配合物の重量に対して、少なくとも部分的にキャップされた金属酸化物ナノ結晶を60~80重量%(例えば、64~70%)、少なくとも一種のモノマー、オリゴマー、またはポリマーを10~30重量%(例えば、15~27%)、架橋剤を5~20重量%(例えば、8~14%)、および硬化剤または重合開始剤を0.1~2重量%(例えば、0.5~1.5%、例えば1%)含む、実施形態38に記載の配合物。
40. 配合物の重量に対して、少なくとも部分的にキャップされた金属酸化物ナノ結晶を20~60重量%(例えば、35~45%)、少なくとも一種のモノマー、オリゴマー、またはポリマーを30~70重量%(例えば、40~60%または46~56%)、架橋剤を0~20重量%(例えば、0~10%、5~15%等)、および硬化剤または重合開始剤を0.1~5重量%(例えば、1~3%)含む、実施形態38に記載の配合物。
41. 配合物の0.1~10%、例えば1~5%または3重量%の量でCN374等の相乗剤(例えば、本開示に記載される任意のもの)をさらに含む、実施形態40に記載の配合物。
42. 配合物の0.1~10%、例えば0.5~2重量%の量でBYK界面活性剤等の界面活性剤(例えば、本開示に記載される任意のもの)をさらに含む、実施形態40または41に記載の配合物。
43. 少なくとも部分的にキャップされた金属酸化物ナノ結晶が少なくとも部分的にキャップされたTiO2であり、好ましくは、DLSまたはTEMにより測定された、少なくとも部分的にキャップされたTiO2ナノ結晶の平均粒子径が、1~30nm(例えば、5nm、10nm、15nm、20nm、30nm、または引用された値の間の任意の範囲または値、例えば5~30nmまたは5~20nm等)の範囲内である、実施形態34に記載の配合物。
44. 溶媒を配合物の10~85重量%の量で含む、実施形態43に記載の配合物。
45. 配合物の重量に対して、少なくとも部分的にキャップされた金属酸化物ナノ結晶を10~80重量%(例えば、10%、30%、40%、50%、60%、70%、75%、または引用された値の間の任意の範囲または値、例えば30~50%、20~60%等)、少なくとも一種のモノマー、オリゴマー、またはポリマーを3~20重量%(例えば、5~10%、4~15%等)、架橋剤を0.5~15重量%(例えば、1~5%、5~10%、2~10%等)、および硬化剤または重合開始剤を0.1~2重量%(例えば、0.1~1%、例えば0.5~1%)含む、実施形態44に記載の配合物。
45. 配合物の重量に対して、少なくとも部分的にキャップされた金属酸化物ナノ結晶を10~80重量%(例えば、10%、30%、40%、50%、60%、70%、75%、または引用された値の間の任意の範囲または値、例えば30~50%、20~60%等)、少なくとも一種のモノマー、オリゴマー、またはポリマーを3~20重量%(例えば、5~10%、4~15%等)、架橋剤を0.5~15重量%(例えば、1~5%、5~10%、2~10%等)、および硬化剤または重合開始剤を0.1~2重量%(例えば、0.1~1%、例えば0.5~1%)含む、実施形態44に記載の配合物。
46. 無溶媒である、すなわち、溶媒が配合物の5重量%以下で存在する、実施形態43に記載の配合物。
47. 配合物の重量に対して、少なくとも部分的にキャップされた金属酸化物ナノ結晶を60~80重量%(例えば、60~74%)、少なくとも一種のモノマー、オリゴマー、またはポリマーを10~40重量%(例えば、15~30%)、架橋剤を5~20重量%(例えば、8~12%)、および硬化剤または重合開始剤を0.1~2重量%(例えば、0.5~1.5%、例えば1%)含む、実施形態46に記載の配合物。
47. 配合物の重量に対して、少なくとも部分的にキャップされた金属酸化物ナノ結晶を60~80重量%(例えば、60~74%)、少なくとも一種のモノマー、オリゴマー、またはポリマーを10~40重量%(例えば、15~30%)、架橋剤を5~20重量%(例えば、8~12%)、および硬化剤または重合開始剤を0.1~2重量%(例えば、0.5~1.5%、例えば1%)含む、実施形態46に記載の配合物。
48. 配合物の重量に対して、少なくとも部分的にキャップされた金属酸化物ナノ結晶を20~60重量%(例えば、40~50%)、少なくとも一種のモノマー、オリゴマー、またはポリマーを30~70重量%(例えば、40~60%または46~56%)、架橋剤を0~20重量%(例えば、0~10%、4%、5~15%等)、および硬化剤または重合開始剤を0.1~5重量%(例えば、3%、1~3%等)含む、実施形態46に記載の配合物。
49. BYK界面活性剤等の界面活性剤(例えば、本開示に記載される任意のもの)を配合物の0.1~10%、例えば0.5~2重量%の量でさらに含む、実施形態48に記載の配合物。
50. ナノインプリントが可能である、実施形態34~49のいずれか一つに記載の配合物。
51. インクジェット印刷が可能である、実施形態34~49のいずれか一つに記載の配合物。
51. インクジェット印刷が可能である、実施形態34~49のいずれか一つに記載の配合物。
52. 実施形態34~51のいずれか一つに記載の配合物から調製されるナノコンポジット。
53. 配合物A1、A2、A3、A4、A5、B1、B2、C1、C2、C3、C4、C5、C6、C7、C8、C9、C10、C11、C12、C13、C14、C15、C16、C17、C18、C19、C20、C21、D1、D2、D3、D4、E1、E2、E3、E4、E5、F1、およびF2を含む、本出願の実施例1~6に記載される任意のものによる配合物。
53. 配合物A1、A2、A3、A4、A5、B1、B2、C1、C2、C3、C4、C5、C6、C7、C8、C9、C10、C11、C12、C13、C14、C15、C16、C17、C18、C19、C20、C21、D1、D2、D3、D4、E1、E2、E3、E4、E5、F1、およびF2を含む、本出願の実施例1~6に記載される任意のものによる配合物。
54. 本出願の実施例1~6に記載されるもの等の、本明細書に記載されるいずれかの配合物から調製されるナノコンポジット。
55. 出願時の請求項1~46において本明細書に記載されるいずれかの配合物およびナノコンポジット。
55. 出願時の請求項1~46において本明細書に記載されるいずれかの配合物およびナノコンポジット。
56. 本明細書に記載されるいずれかのナノコンポジットを含むデバイス。
前述のサマリーおよび下記詳細の記載は、いずれも単なる例示であり、かつ説明するためのものであり、本明細書の発明を限定するものではないことは理解され得る。
前述のサマリーおよび下記詳細の記載は、いずれも単なる例示であり、かつ説明するためのものであり、本明細書の発明を限定するものではないことは理解され得る。
特徴付け
本開示の配合物およびナノコンポジットは、当業者に既知の方法に従って分析され得る。例示された分析は本明細書の実施例セクションに示されたものを含め、本明細書に示されている。
本開示の配合物およびナノコンポジットは、当業者に既知の方法に従って分析され得る。例示された分析は本明細書の実施例セクションに示されたものを含め、本明細書に示されている。
本開示の配合物は、無機固形分濃度を測定するため、TA instrument Q500熱重量分析(TGA)を使用して分析される。TGAは、キャップされたナノ結晶の有機物含有量を測定するため、沸点<200Cである溶媒中のナノ結晶ディスパージョンで実行される。初期の質量に対する200℃でのパーセント質量はキャップされたナノ結晶とみなされ、そして初期の質量に対する700℃でのパーセント質量はキャップされたナノ結晶の無機部分、すなわち無機固形分濃度とみなされる。キャップされたナノ結晶の有機物パーセント(%Org)は、200℃(M200C)と700℃(M700C)でのパーセント質量との間の差を、200℃でのパーセント質量で除したものとして規定される。
ナノコンポジットまたは配合物に関し、固形分パーセント(%S)は、溶媒中で測定されたナノコンポジットの無機物含有量およびキャップされたナノ結晶の有機物含有量から算出される。
本開示の配合物のキャップされたナノ結晶は、合計の配合物の10重量%未満、または合計の配合物の10%~20重量%、または合計の配合物の20%~30重量%、または合計の配合物の30%~40重量%、または合計の配合物の40%~50重量%、または合計の配合物の50%~60重量%、または合計の配合物の60%~70重量%、または合計の配合物の70%~80重量%、または合計の配合物の80%~90重量%、または合計の配合物の90%~93重量%を構成する。
本開示のナノコンポジットのキャップされたナノ結晶は、合計のナノコンポジットの10重量%未満、または合計のナノコンポジットの10%~20重量%、または合計のナノコンポジットの20%~30重量%、または合計のナノコンポジットの30%~40重量%、または合計のナノコンポジットの40%~50重量%、または合計のナノコンポジットの50%~60重量%、または合計のナノコンポジットの60%~70重量%、または合計のナノコンポジットの70%~80重量%、または合計のナノコンポジットの80%~90重量%、または合計のナノコンポジットの90%~93重量%を構成する。
光学透過率は、ディスパージョン、配合物、およびナノコンポジットフィルムまたはコーティングの品質を評価するための通常の技術である。サンプルを通じて伝播する光は吸収され、散乱され、または透過され得る。所定の波長での標準透過率はTn=I/I0と規定され、I0は入射光の強度であり、そしてIは検出器により集光される順方向の光の強度であり、散乱せずに透過する光、および順方向に散乱される光の両方を含む。理論上、上記順方向は入射光と同じ方向と規定されるが、しかしながら、上記検出器は、検出器の大きさに限界があるため、通常、この方向周りの微小立体角以内の光を集光する。この透過率は、本開示を通して、標準透過率または単に透過率と呼称する。所定の波長でのサンプルの吸光度、すなわち、光学的密度(OD)は、下記のように規定される。
標準透過率を測定する場合、各種界面からのフレネル反射およびキュベット壁による吸収等の測定アーティファクトが考慮され、排除される必要がある。これは、基準を使用して、装置内のサンプルおよび基準を隣り合わせで測定することにより、またはサンプルおよび基準を順に測定後、後で数学的にデータを補正することのいずれかにより、処理され得る。液体のナノ結晶ディスパージョンサンプルは、ガラス、石英、またはプラスチックでできたキュベット内で測定することができ、キュベット壁の厚さに限界があるため、フレネル反射が起き得る4つの界面、吸収が起き得る2つの壁がある。基準として同一の材料、壁厚さ、および経路長を有するキュベットを使用することは、十分な精度の結果をもたらす。
薄膜ナノコンポジットに関し、界面での吸収および反射を補正するため、被覆される基材は、同一の厚さおよび表面平滑性を有する同一の材料でできたブランク基材に対して、隣り合わせで、または順に、のいずれかにより測定される。コーティングは基材および空気と異なる屈折率を有するため、フィルムの前面および上記基材からの反射は若干異なる可能性があり、多くの場合、分光光度計により使用されるアルゴリズムに基づき、100%超の透過率をもたらす。上記効果は補正され得るが、工程が複雑であり、誤差は通常小さい。便宜上、本開示に示されている透過率データは補正せずに測定されている。
透過も散乱も反射もしていない光は吸収される。吸光度は、入射光からの透過光、散乱光、および反射光を差し引くことにより算出され得る。
Perkin Elmer Lambda 850分光光度計を使用して1cm経路長のキュベット内で測定した場合の、硬化剤を含まない本開示の配合物の450nmでの光学透過率は、99%~95%、または95%~90%、または90%~85%、または85%~80%、80%~75%、または75%~70%、または70%~65%、または65%~60%、または60%~55%、または55%~50%、または50%~45%、または45%~40%、または40%~35%、または35%~30%、または30%~25%、または25%~20%、または20%~15%、または15%~10%である。
Perkin Elmer Lambda 850分光光度計を使用して1cm経路長のキュベット内で測定した場合の、硬化剤を含まない本開示の配合物の450nmでの光学透過率は、99%~95%、または95%~90%、または90%~85%、または85%~80%、80%~75%、または75%~70%、または70%~65%、または65%~60%、または60%~55%、または55%~50%、または50%~45%、または45%~40%、または40%~35%、または35%~30%、または30%~25%、または25%~20%、または20%~15%、または15%~10%である。
Perkin Elmer Lambda 850分光光度計を使用して1cm経路長のキュベット内で測定した場合の、硬化剤を含まない本開示の配合物の400nmでの光学透過率は、99%~95%、または95%~90%、または90%~85%、または85%~80%、80%~75%、または75%~70%、または70%~65%、または65%~60%、または60%~55%、または55%~50%、または50%~45%、または45%~40%、または40%~35%、または35%~30%、または30%~25%、または25%~20%、または20%~15%、または15%~10%である。
Perkin Elmer Lambda 850分光光度計を使用して透明な基材上の1um(マイクロメートル)厚フィルムとして測定した場合の本開示のナノコンポジットの450nmでの光学透過率は、99%~95%、または95%~90%、または90%~85%、または85%~80%、80%~75%、または75%~70%、または70%~65%、または65%~60%、または60%~55%、または55%~50%、または50%~45%、または45%~40%、または40%~35%、または35%~30%、または30%~25%、または25%~20%、または20%~15%、または15%~10%である。
Perkin Elmer Lambda 850分光光度計を使用して透明な基材上の1um(マイクロメートル)厚フィルムとして測定した場合の本開示のナノコンポジットの400nmでの光学透過率は、99%~95%、または95%~90%、または90%~85%、または85%~80%、80%~75%、または75%~70%、または70%~65%、または65%~60%、または60%~55%、または55%~50%、または50%~45%、または45%~40%、または40%~35%、または35%~30%、または30%~25%、または25%~20%、または20%~15%、または15%~10%である。
本開示の配合物の粘度は約1cP~100,000、100cP~100,000cP、または1cP~約12,000cPである。ブルックフィールドRVDV II+コーンおよびプレート粘度計を用いて25Cで測定された場合の本開示の配合物の粘度は、約1cP、約2cP、約5cP、約10cP、約15cP、約20cP、約25cP、約30cP、約40cP、約50cP、約60cP、約75cP、約100cP、約200cP、500cP、または約1,000cP、または約1,500cP、または約2,000cP、または約2,500cP、または約3,000cP、または約3,500cP、または約4,000cP、または約4,500cP、または約5,500cP、または約6,000cP、または約6,500cP、または約7,000cP、または約7,500cP、または約8,000cP、または約8,500cP、または約9,000cP、または約9,500cP、または約10,000cP、11,000cP、12,000cPである。
配合物の成分および特性
本開示は、モノマー、オリゴマー、ポリマーまたはそれらの混合物中に分散された、少なくとも部分的にキャップされた酸化ジルコニウムおよび/または二酸化チタンナノ結晶を含む、含溶媒および/または無溶媒の、ナノインプリントが可能な、高透明性の、高RIの配合物を提供する。上記配合物は、任意で硬化剤、接着促進剤、湿潤剤、レベリング剤、分散剤、粘度調整剤、有機ドーパントおよび酸化防止剤を含む。これらの配合物は、高屈折率および高い光学透明性を有するナノコンポジットおよび薄膜コーティングを生産することを可能とする。これらの配合物は、インクジェット印刷用途に特有ではあるが、インクジェットノズルフェースプレートの濡れに対する強い耐性および所望の基材に対する適切な濡れ性を有するべきである。液体は特定の固体表面を濡らし、一度液体が平衡に達すると接触角を形成する。接触角の非常に低い値は、通常10°未満であり、液体は上記表面との高い濡れ性を有する。高い濡れ性により、均一なコーティングが達成され得る。45°を超える接触角は、部分的に濡れている、または濡れていない場合を示唆する。そのような場合において、不規則表面および可能なレンズ印刷はあり得る結果であり、多くの場合、低表面エネルギー表面上の高表面張力液体の指標である。
本開示は、モノマー、オリゴマー、ポリマーまたはそれらの混合物中に分散された、少なくとも部分的にキャップされた酸化ジルコニウムおよび/または二酸化チタンナノ結晶を含む、含溶媒および/または無溶媒の、ナノインプリントが可能な、高透明性の、高RIの配合物を提供する。上記配合物は、任意で硬化剤、接着促進剤、湿潤剤、レベリング剤、分散剤、粘度調整剤、有機ドーパントおよび酸化防止剤を含む。これらの配合物は、高屈折率および高い光学透明性を有するナノコンポジットおよび薄膜コーティングを生産することを可能とする。これらの配合物は、インクジェット印刷用途に特有ではあるが、インクジェットノズルフェースプレートの濡れに対する強い耐性および所望の基材に対する適切な濡れ性を有するべきである。液体は特定の固体表面を濡らし、一度液体が平衡に達すると接触角を形成する。接触角の非常に低い値は、通常10°未満であり、液体は上記表面との高い濡れ性を有する。高い濡れ性により、均一なコーティングが達成され得る。45°を超える接触角は、部分的に濡れている、または濡れていない場合を示唆する。そのような場合において、不規則表面および可能なレンズ印刷はあり得る結果であり、多くの場合、低表面エネルギー表面上の高表面張力液体の指標である。
得られるナノコンポジットフィルムは、中~高度の硬化性、意図された基材への良好な密着性および良好なフィルム均一性を有するべきである。
本開示のキャップされたジルコニアおよびチタニアナノ結晶は、透過型電子顕微鏡法(TEM)で測定された平均径範囲が1~100nm、または3~30nm、好ましくは4~20nmである狭い粒度分布を有する。
本開示のキャップされたジルコニアおよびチタニアナノ結晶は、透過型電子顕微鏡法(TEM)で測定された平均径範囲が1~100nm、または3~30nm、好ましくは4~20nmである狭い粒度分布を有する。
本開示のキャップされたジルコニアおよびチタニアナノ結晶は、例えば、5重量%以下の濃度でのPGMEA等の溶媒中に分散された場合にMalvern Zetasizer Nano S 動的光散乱法(DLS)装置を用いて測定される平均径が100nm未満、好ましくは<60nmで単分散される。DLSは、ナノ結晶の周囲の溶媒シェルと共に粒子径を測定する。本開示のキャップされたナノ結晶は、ポリマーまたはモノマーマトリックス中で分散性を維持する、または凝集しないままで存在する。本開示の材料のそのような物理的特徴は単に光散乱を低減させるだけでなく、加工性を改良させる。
本開示のキャップされたナノ結晶は、特許番号US8592511B2、およびPCT/US2019/062439(WO2020/106860A1として公開されている)に記載される方法により調製され、そのそれぞれの全体の内容が参照により本明細書中に組み込まれる。
本開示のナノ結晶は、キャッピング剤、またはキャッピング基とも称される特定の官能基で少なくとも部分的にキャップされたものである。これらの特定の官能基は、ナノ結晶の表面にグラフトされている。上記キャッピング反応は、水の存在下で実施され得る。本明細書中で用いられるキャップされたナノ結晶および少なくとも部分的にキャップされたナノ結晶は機能的に同等である。
本開示の配合物中のキャップされたナノ結晶のキャッピング剤は、有機シラン、有機カルボン酸および/または有機アルコールを含む。上記キャッピング剤の例は、メチルトリメトキシシラン、n-プロピルトリメトキシシラン、n-プロピルトリエトキシシラン、n-オクチルトリメトキシシラン、n-オクチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、m,p-エチルフェネチルトリメトキシシラン、2-[メトキシ(ポリエチレンオキシ)プロピル]トリメトキシシラン、メトキシ(トリエチレンオキシ)プロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン、3-(アクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、1-ヘキシニルトリメトキシシラン、1-オクテニルトリメトキシシラン、(フェニルアミノメチル)メチルジメトキシシラン、N-フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、3-(4-ピリジルエチル)チオプロピルトリメトキシシラン、N-(3-トリメトキシシリルプロピル)ピロール、2-(3-トリメトキシシリルプロピルチオ)チオフェン、(3-トリメトキシシリルプロピル)ジエチレントリアミン、11-メルカプトウンデシルトリメトキシシラン、(2-ジフェニルホスフィノ)エチルジメチルエトキシシラン、2-(ジフェニルホスフィノ)エチルトリエトキシシラン、3-(ジフェニルホスフィノ)プロピルトリエトキシシラン、ヘプタノール、ヘキサノール、オクタノール、ベンジルアルコール、フェノール類、エタノール、プロパノール、ブタノール、オレイルアルコール、ドデシルアルコール、オクタデカノール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、オクタン酸、酢酸、プロピオン酸、2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]酢酸、オレイン酸、安息香酸、ステアリン酸、トリフルオロ酢酸、ビフェニル-4-カルボン酸、2-(2-メトキシエトキシ)酢酸、メタクリル酸、モノ-2-(メタクリロイルオキシ)エチルコハク酸、2-メルカプトエタノール、2-{2-[2-(2-メルカプトエトキシ)エトキシ)エトキシ]エトキシ}エタノール、2-(2-メトキシエトキシ)エタンチオール、1-オクタンチオール、2,3-ジメルカプトプロパン硫酸ナトリウム一水和物、ドデシル硫酸ナトリウム、ドデシルホスホン酸、オクチルホスホン酸、(11-メルカプトウンデシル)ホスホン酸、(11-(アクリロイルオキシ)ウンデシル)ホスホン酸、11-メタクリロイルオキシウンデシルホスホン酸、[2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エチル]ホスホン酸エチルエステル、およびそれらの組み合わせを含む。
本開示の配合物のアクリル性モノマー、オリゴマー、および/またはポリマーは、ベンジル(メタ)アクリレート(BAおよびBMA)、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート(TMPTAおよびTMPTMA)、トリメチロールプロパンエトキシレートトリ(メタ)アクリレート(EOTMPTAおよびEOTMPTMA)、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート(HDDAおよびHDDMA)、ジ(エチレングリコール)ジ(メタ)アクリレート(DEGDAおよびDEGDMA)、エチレングリコールジアクリレート、グリセロール1,3-ジグリセロラートジアクリレート、トリ(プロピレングリコール)ジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールエトキシレートジアクリレート、エチレングリコールフェニルエーテル(メタ)アクリレート(PEAおよびPEMA)、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルアクリレート(HPPA)、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルメタクリレート(HPPMA)、2-フェノキシベンジルアクリレート(PBA)、ビフェニルメタクリレート(BPMA)、2-フェニルフェノール類メタクリレート(PPMA)、イソブチルアクリレート(IBA)、2-フェニルエチルアクリレート(2-PEA)、2-(フェニルチオ)エチルアクリレート(PTEA)、トリス(2-ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリアクリレート(THEICTA)、高屈折率、および/または下記分子構造に由来する、または下記分子構造を有する含硫黄モノマーおよび樹脂またはそれらの組み合わせを含む。
本開示の配合物のビニルモノマー、オリゴマー、および/またはポリマーはN-ビニルピロリドン(NVP)、フェニルノルボルネン、スチレン(STY)、4-メチルスチレン、4-ビニルアニソール、ジビニルベンゼンまたはそれらの組み合わせを含む。
本開示の配合物の硬化剤は、光重合開始剤を含む。ナノコンポジットの光学的および物理的性能を制限しないことを条件とし、光(UV)エネルギーを用いてラジカル等の活性種を生み出すことを可能とする限り、いずれかの光重合開始剤が使用され得る。光重合開始剤硬化剤は、Ebecryl(登録商標)P115、CN374等のアミン、Esacure 1001MまたはEbecryl(登録商標)P39等のベンゾフェノンおよびその誘導体、ベンゾフェノン、SpeedCure BEM(Lambson USA Ltd、Rutherford、コネチカット州、アメリカ合衆国)またはジフェニル(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-ホスフィンオキシド(TPO)等の有機ホスフィン、Irgacure(登録商標)819、またはIrgacure(登録商標)184(BASF USA、Florham Park、ニュージャージー州、アメリカ合衆国)、またはITXを含む。上記配合物は、単一の光重合開始剤またはそれらのいずれかの組み合わせを含む。本明細書に記載される配合物は、硬化に関して紫外線の適用に焦点を当てているが、2,2-アゾビス(2-メチルプロピオニトリル)(AIBN)等の適切な熱開始剤を用いた熱硬化も全体的に可能である。
1を超える硬化剤の組み合わせは、当業者に既知の一定の状況において有利である。
本開示の配合物の硬化剤の量は、モノマー、オリゴマー、および/またはポリマーの合計重量の0.5%未満、またはモノマー、オリゴマー、および/またはポリマーの合計重量の0.5%~1%、またはモノマー、オリゴマー、および/またはポリマーの合計重量の1%~2%、またはモノマー、オリゴマー、および/またはポリマーの合計重量の2%~3%、またはモノマー、オリゴマー、および/またはポリマーの合計重量の3%~4%、またはモノマー、オリゴマー、および/またはポリマーの合計重量の4%~5%、またはモノマー、オリゴマー、および/またはポリマーの合計重量の5%~6%、またはモノマー、オリゴマー、および/またはポリマーの合計重量の6%~7%、またはモノマー、オリゴマー、および/またはポリマーの合計重量の7%~8%、またはモノマー、オリゴマー、および/またはポリマーの合計重量の8%~15%の量である。
本開示の配合物の硬化剤の量は、モノマー、オリゴマー、および/またはポリマーの合計重量の0.5%未満、またはモノマー、オリゴマー、および/またはポリマーの合計重量の0.5%~1%、またはモノマー、オリゴマー、および/またはポリマーの合計重量の1%~2%、またはモノマー、オリゴマー、および/またはポリマーの合計重量の2%~3%、またはモノマー、オリゴマー、および/またはポリマーの合計重量の3%~4%、またはモノマー、オリゴマー、および/またはポリマーの合計重量の4%~5%、またはモノマー、オリゴマー、および/またはポリマーの合計重量の5%~6%、またはモノマー、オリゴマー、および/またはポリマーの合計重量の6%~7%、またはモノマー、オリゴマー、および/またはポリマーの合計重量の7%~8%、またはモノマー、オリゴマー、および/またはポリマーの合計重量の8%~15%の量である。
上記接着促進剤は、もし存在する場合、有機官能性シラン等の有機金属性化合物から、または官能化されたモノマーおよびオリゴマーから選択される。好適とされるいくつかの有機官能性シラン接着促進剤は、アミノ基またはメタクリルオキシ基を含有する。例示のシラン接着促進剤は、これらに限定されないが、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-[(メタクリロイルオキシ)プロピル]トリメトキシシラン、ウレイドプロピルトリメトキシシラン、およびトリメトキシ[3-(メチルアミノ)プロピル]シランを含む。官能化されたモノマーおよびオリゴマー接着促進剤は、これらに限定されないが、CN820、CN146(Sartomer Americas、Exton、ペンシルベニア州、アメリカ合衆国)、SR9051、SR9053(Sartomer Americas、Exton、ペンシルベニア州、アメリカ合衆国)、およびEbecryl171(Allnex USA Inc., Wallingford、コネチカット州、アメリカ合衆国)を含む。
本開示の配合物の接着促進剤は、モノマー、オリゴマー、および/またはポリマーの0.5重量%未満、またはモノマー、オリゴマー、および/またはポリマーの0.5~1重量%、またはモノマー、オリゴマー、および/またはポリマーの1~5重量%、またはモノマー、オリゴマー、および/またはポリマーの5~10重量%、またはモノマー、オリゴマー、および/またはポリマーの10~15重量%、またはモノマー、オリゴマー、および/またはポリマーの15~30重量%の量で存在する。
湿潤剤、レベリング剤、脱泡剤および分散剤として作用し得る界面活性剤は、配合物の表面張力を低減することで配合物の流動性を改良して、より均一な乾燥コーティング表面を生み出すために存在する。上記界面活性剤は非イオン性、アニオン性、またはそれらの組み合わせである。好適な湿潤剤の代表的な例は、これらに限定されないが、BYK-331、BYK-377、BYK-378、(BYK Chemie、GMBH)等のシロキサン界面活性剤ならびにNovec 4430、Novec 4432、およびNovec 4434(3M、St.Paul、ミネソタ州、アメリカ合衆国)、およびCapstoneFS-3100(The Chemours Company、Wilmington、デラウェア州、アメリカ合衆国)等のフルオロ界面活性剤を含む。
レベリング剤の例は、もし存在する場合は、BYK-352、BYK-353、BYK-356、およびBYK-361N等のポリアクリレート化合物;BYK-322、BYK-323、およびBYK-350(BYK Chemie、GMBH)等のアラルキルで変性されたポリメチルアルキルシロキサン、およびBYK-UV3530等のポリエーテルで変性された、アクリル官能性シロキサンである。分散剤の例は、ポリアルキレングリコールおよびそのエステル、ポリオキシアルキレン、多価アルコールエステルアルキレンオキシド付加生成物、アルコールアルキレンオキシド付加生成物、硫酸エステル、硫酸塩、カルボン酸エステル、カルボン酸塩、アルキルアミドアルキレンオキシド付加生成物、およびアルキルアミン等を含むがそれらに限定されず、単独で、または2つ以上の混合物として使用される。市販されている分散剤の例は、DISPERBYK-101、DISPERBYK-130、DISPERBYK-140、DISPERBYK-160、DISPERBYK-161、DISPERBYK-162、DISPERBYK-163、DISPERBYK-164、DISPERBYK-165、DISPERBYK-166、DISPERBYK-170、DISPERBYK-171、DISPERBYK-182、DISPERBYK-2000、DISPERBYK-2001(BYK Chemie、GMBH)、Solsperse 32000、Solsperse 36000、Solsperse 28000、Solsperse 20000、Solsperse 41000、およびSolsperse 45000(Lubrizol、Wickliffe、オハイオ州、アメリカ合衆国)を含むが、それらに限定されない。
濡れ性を改良する目的のため、本開示の配合物の界面活性剤の量は、合計の配合物の0.05重量%未満、または合計の配合物の0.05~0.1重量%、または合計の配合物の0.1~0.5重量%、または合計の配合物の0.5~1重量%、または合計の配合物の1~2重量%、または合計の配合物の2~5重量%の量である。ディスパージョン中の補助を目的として、本開示の配合物の界面活性剤の量は、分散された材料に依存して変動する。分散剤の量は、分散された材料の3重量%未満、または分散された材料の3~5重量%、または分散された材料の5~10重量%、または分散された材料の10~20重量%、または分散された材料の20~40重量%、または分散された材料の40~60重量%、または分散された材料の60~80重量%、または分散された材料の80~100重量%、または分散された材料の100~150重量%である。
本開示の配合物の酸化防止物質は少なくとも一種の第1の酸化防止剤を含む。この第1の酸化防止剤は、Irganox 1010、Irganox 1076、SongNox(登録商標)1076、SongNox(登録商標)2450等の立体障害のあるフェノール類、またはSongNox(登録商標)1680等のフェノール亜リン酸塩、またはIrgaphos 168(BASF USA、Florham Park、ニュージャージー州、アメリカ合衆国)等のホスフィンまたは芳香族第二級アミンまたはSongLight(登録商標)6220(Songwon Americas、Friendwood、テキサス州、アメリカ合衆国)等のヒンダードアミンから選択される。
本開示の配合物は、任意で少なくとも一種の第2の酸化防止剤を含有する。この第2の酸化防止剤は、好ましくは2つの炭素原子に結合した硫黄原子から形成される少なくとも一種の単位を含む化合物から選択される。第2の酸化防止剤の代表的な例はジ(t-ブチル)ヒドロキシフェニルアミノビスオクチルチオトリアジンおよびIrganox PS800(BASF USA、Florham Park、ニュージャージー州、アメリカ合衆国)である。
本開示の配合物の抗酸化剤の量は合計の配合物の0.5重量%未満、または合計の配合物の0.5%~1重量%、または合計の配合物の1%~2重量%、または合計の配合物の2%~3重量%、または合計の配合物の3%~4重量%、または合計の配合物の4%~5重量%、または合計の配合物の5%~6重量%、または合計の配合物の6%~7重量%、または合計の配合物の7%~8重量%または合計の配合物の8%~10重量%である。
本開示の配合物はさらに、可塑剤、強化剤、増粘剤、シンナー、分散剤、もしくは軟化剤、または他の官能性添加物を含んでもよい。
本開示の配合物は、さらに溶媒を含んでもよい。溶媒の選択は、キャップされたジルコニアの種類および選択された配合物のモノマー、オリゴマーおよびポリマーにのみ依存する。低沸点から高沸点に及ぶ一般溶媒の例は、アルコール、グリコール、酢酸メチル、酢酸エチル、エステル、ケトン、グリコールエーテル、グリコールエステル、例えば、酢酸プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGMEA)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)、酢酸エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、酢酸ジプロピレングリコールメチルエーテル、ブトキシエタノール、ブトキシプロパノール、エトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸エチル、2-(イソペンチルオキシ)エタノール、2-(ヘキシルオキシ)エタノール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、およびジプロピレングリコールモノエチルエーテル、酢酸エチル、THF、アセトン、それらのいずれかの組み合わせである。
本開示の配合物は、さらに溶媒を含んでもよい。溶媒の選択は、キャップされたジルコニアの種類および選択された配合物のモノマー、オリゴマーおよびポリマーにのみ依存する。低沸点から高沸点に及ぶ一般溶媒の例は、アルコール、グリコール、酢酸メチル、酢酸エチル、エステル、ケトン、グリコールエーテル、グリコールエステル、例えば、酢酸プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGMEA)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)、酢酸エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、酢酸ジプロピレングリコールメチルエーテル、ブトキシエタノール、ブトキシプロパノール、エトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸エチル、2-(イソペンチルオキシ)エタノール、2-(ヘキシルオキシ)エタノール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、およびジプロピレングリコールモノエチルエーテル、酢酸エチル、THF、アセトン、それらのいずれかの組み合わせである。
本開示の配合物は、調節可能な粘度、および/または配合物の1つまたは複数の成分により制御され得る粘度を有する。配合物の粘度を制御可能なパラメータは、これらに限定されないが、モノマー、オリゴマー、および/またはポリマーの平均長さ、および分子量;ならびに溶媒の存在および溶媒の濃度、増粘剤(すなわち、粘度調整成分)の存在および増粘剤の濃度、配合物中に存在する成分の粒子径、温度、およびそれらの組み合わせを含む。
本開示の配合物は、1週超、または2週超、または3週超、または6週超、または8週超、または3カ月超、または6カ月超、または12カ月超または36カ月超の間安定であり、粘度の著しい上昇もない。キャップされたナノ結晶の視認可能な沈殿は存在するべきでなく、そして配合物の粘度の変化は、10%未満、または20%未満、または30%未満、または40%未満、または50%未満、または100%未満であるべきである。さらに配合物の光学透過率の変化は、450nmでの透過率の低下が10%未満、または透過率の低下が20%未満、または透過率の低下が30%未満、または透過率の低下が40%未満、または透過率の低下が50%未満であるべきである。
インクジェット印刷を目的とした本開示の配合物のジェッティングは1時間超、8時間超の間、1日超の間、または1週超の間安定であり、粘度の著しい上昇もない。上記配合物は、プリントヘッドノズルの閉塞につながる乾燥または硬化により固化しない。
無溶媒または含溶媒ナノコンポジット配合物の作製方法
いくつかの実施形態において、本開示は、本明細書の以下に例示された無溶媒または含溶媒ナノコンポジット配合物の調製方法を提供する。
いくつかの実施形態において、本開示は、本明細書の以下に例示された無溶媒または含溶媒ナノコンポジット配合物の調製方法を提供する。
1. (媒質中にナノ結晶を直接分散させる)直接ディスパージョンを含む無溶媒ナノコンポジット配合物の作製方法であって、キャップされたジルコニアおよびチタニアナノ結晶が溶媒から分離され、そして真空下で溶媒含有量が5%未満になるまで乾燥させて乾燥したナノ結晶を形成する工程と、
浸漬、撹拌、高速混合、微細流動化または他の混合方法により、少なくとも部分的にキャップされた酸化ジルコニウムの乾燥したナノ結晶および酸化チタンナノ結晶を少なくとも一種のモノマー、オリゴマー、ポリマーまたはそれらの混合物および他の配合物成分中に混合する工程と
を含む、方法。
浸漬、撹拌、高速混合、微細流動化または他の混合方法により、少なくとも部分的にキャップされた酸化ジルコニウムの乾燥したナノ結晶および酸化チタンナノ結晶を少なくとも一種のモノマー、オリゴマー、ポリマーまたはそれらの混合物および他の配合物成分中に混合する工程と
を含む、方法。
いくつかの実施形態において、方法1は上記混合物をろ過して凝集物または他の汚染物質を除去する工程をさらに含む。
2. 少なくとも部分的にキャップされた酸化ジルコニウムおよび酸化チタンナノ結晶の乾燥した粉末を少なくとも一種の溶媒中に浸漬、撹拌、高速混合、微細流動化または他の混合方法により混合してナノ結晶溶媒ディスパージョンを提供する工程と、
上記ディスパージョンを少なくとも一種のモノマー、オリゴマー、ポリマーまたはモノマー、オリゴマーおよび/またはポリマーの混合物および他の配合物成分と混合して含溶媒配合物を提供する工程と、
気化またはロトバップ等の他の溶媒除去方法により上記溶媒を除去する工程と
を含む、別の無溶媒配合物の作製方法。
2. 少なくとも部分的にキャップされた酸化ジルコニウムおよび酸化チタンナノ結晶の乾燥した粉末を少なくとも一種の溶媒中に浸漬、撹拌、高速混合、微細流動化または他の混合方法により混合してナノ結晶溶媒ディスパージョンを提供する工程と、
上記ディスパージョンを少なくとも一種のモノマー、オリゴマー、ポリマーまたはモノマー、オリゴマーおよび/またはポリマーの混合物および他の配合物成分と混合して含溶媒配合物を提供する工程と、
気化またはロトバップ等の他の溶媒除去方法により上記溶媒を除去する工程と
を含む、別の無溶媒配合物の作製方法。
いくつかの実施形態において、方法2は、上記含溶媒または無溶媒配合物をろ過して凝集物または他の汚染物質を除去する工程をさらに含み得る。
方法2の非限定的な有用な溶媒は、酢酸エチル、メチルエチルケトン、または他の低沸点溶媒を含む。
方法2の非限定的な有用な溶媒は、酢酸エチル、メチルエチルケトン、または他の低沸点溶媒を含む。
3. 少なくとも部分的にキャップされた酸化ジルコニウムおよび酸化チタンナノ結晶の乾燥した粉末を少なくとも一種の溶媒中に浸漬、撹拌、高速混合、微細流動化または他の混合方法により混合してナノ結晶溶媒ディスパージョンを提供する工程と、
上記ディスパージョンを少なくとも一種のモノマー、オリゴマー、ポリマーまたはモノマー、オリゴマーおよび/またはポリマーの混合物および他の配合物成分と混合して含溶媒配合物を提供する工程と
を含む、含溶媒配合物の作製方法。いくつかの実施形態において、方法3は、上記含溶媒配合物をろ過して凝集物または他の汚染物質を除去する工程をさらに含み得る。
上記ディスパージョンを少なくとも一種のモノマー、オリゴマー、ポリマーまたはモノマー、オリゴマーおよび/またはポリマーの混合物および他の配合物成分と混合して含溶媒配合物を提供する工程と
を含む、含溶媒配合物の作製方法。いくつかの実施形態において、方法3は、上記含溶媒配合物をろ過して凝集物または他の汚染物質を除去する工程をさらに含み得る。
ナノコンポジット特性
ナノコンポジットは、基材上のフィルム、コーティング、層、レンズまたは自立型構造体である。本開示は、有機重合性マトリックス、硬化剤、およびジルコニアまたはチタニアナノ結晶等のキャップされたナノ結晶の混合物を含み、上記キャップされたナノ結晶がナノコンポジットの20~95重量%の量でナノコンポジット中に存在するナノコンポジットを提供する。
ナノコンポジットは、基材上のフィルム、コーティング、層、レンズまたは自立型構造体である。本開示は、有機重合性マトリックス、硬化剤、およびジルコニアまたはチタニアナノ結晶等のキャップされたナノ結晶の混合物を含み、上記キャップされたナノ結晶がナノコンポジットの20~95重量%の量でナノコンポジット中に存在するナノコンポジットを提供する。
本開示のナノコンポジットにおけるキャップされたジルコニアおよびチタニアナノ結晶のキャッピング剤は、有機シラン、有機カルボン酸および/または有機アルコールを含む。キャッピング剤の例は、メチルトリメトキシシラン、n-プロピルトリメトキシシラン、n-プロピルトリエトキシシラン、n-オクチルトリメトキシシラン、n-オクチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、m,p-エチルフェネチルトリメトキシシラン、2-[メトキシ(ポリエチレンオキシ)プロピル]-トリメトキシシラン、メトキシ(トリエチレンオキシ)プロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン、3-(アクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、1-ヘキシニルトリメトキシシラン、1-オクテニルトリメトキシシラン、(フェニルアミノメチル)メチルジメトキシシラン、N-フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、3-(4-ピリジルエチル)チオプロピルトリメトキシシラン、N-(3-トリメトキシシリルプロピル)ピロール、2-(3-トリメトキシシリルプロピルチオ)チオフェン、(3-トリメトキシシリルプロピル)ジエチレントリアミン、11-メルカプトウンデシルトリメトキシシラン、(2-ジフェニルホスフィノ)エチルジメチルエトキシシラン、2-(ジフェニルホスフィノ)エチルトリエトキシシラン、3-(ジフェニルホスフィノ)プロピルトリエトキシシラン、ヘプタノール、ヘキサノール、オクタノール、ベンジルアルコール、フェノール類、エタノール、プロパノール、ブタノール、オレイルアルコール、ドデシルアルコール、オクタデカノール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、オクタン酸、酢酸、プロピオン酸、2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]酢酸、オレイン酸、安息香酸、ステアリン酸、トリフルオロ酢酸、ビフェニル-4-カルボン酸、2-(2-メトキシエトキシ)酢酸、メタクリル酸、モノ-2-(メタクリロイルオキシ)エチルコハク酸、2-メルカプトエタノール、2-{2-[2-(2-メルカプトエトキシ)エトキシ)エトキシ]エトキシ}エタノール、2-(2-メトキシエトキシ)エタンチオール、1-オクタンチオール、2,3-ジメルカプトプロパン硫酸ナトリウム一水和物、ドデシル硫酸ナトリウム、ドデシルホスホン酸、オクチルホスホン酸、(11-メルカプトウンデシル)ホスホン酸、(11-(アクリロイルオキシ)ウンデシル)ホスホン酸、11-メタクリロイルオキシウンデシルホスホン酸、[2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エチル]ホスホン酸エチルエステル、およびそれらの組み合わせを含む。
本開示のナノコンポジットの無機固形分濃度(例えば、ナノコンポジットコーティングまたはフィルム)は、TA instrument Q500熱重量分析(TGA)を使用して分析される。手順は既に記載したものと同じである。初期の質量に対する700℃でのパーセントは、配合物の無機部分、すなわち固形分濃度とみなされる。
本開示のナノコンポジットの無機固形分濃度(例えば、ナノコンポジットコーティングまたはフィルム)は、TGAによる測定で0~10%、またはTGAによる測定で10~20%、またはTGAによる測定で20~30%、またはTGAによる測定で30~40%、またはTGAによる測定で40~50%、またはTGAによる測定で50~60%、またはTGAによる測定で60~70%、またはTGAによる測定で70~80%、またはTGAによる測定で80~90%、またはTGAによる測定で90~93%である。
本開示のナノコンポジット(例えば、ナノコンポジットコーティングまたはフィルム)の589nmでの屈折率は、1.54~1.56、1.56~1.58、1.58~1.60、1.60~1.62、または1.62~1.64、1.64~1.66、または1.66~1.68、または1.68~1.70、または1.70~1.72、または1.72~1.74、または1.74~1.76または1.76~1.78、または1.78~1.80、または1.80~1.82、または1.82~1.84、または1.84~1.86、または1.86~1.88、または1.88~1.90、1.90~1.92、または1.92~1.94、または1.94~1.96、または1.96~1.98、または1.98~2.00、または2.00~2.02、または2.02~2.04、または2.04~2.06、または2.06~2.08、または2.08~2.10、または2.10超である。
本開示のナノコンポジット(例えば、ナノコンポジットコーティングまたはフィルム)のナノインデンテーションを用いて測定される硬度値は、1~5MPa、または5~20MPa、または20~50MPa、または50~100MPa、または100~150MPa、または150~200MPa、または200~250MPa、250~300MPa、または300~350MPa、または350~400MPaである。
本開示のナノコンポジット(例えば、ナノコンポジットコーティングまたはフィルム)のナノインデンテーションを用いて測定されるモジュラス値は、0.1~0.5GPa、または0.5~1.0GPa、または1.0~1.5GPa、1.5~2.0GPa、または2.0~2.5GPa、または2.5~3.0GPa、3.0~3.5GPa、または3.5~4.0GPa、または4.0~4.5GPa、4.5~5.0GPa、または5.0~5.5GPa、または5.5~6.0GPa、または6.0~6.5GPa、または6.5~7.0GPa、または7.0~7.5GPa、または7.5~8.0GPa、または8.0~8.5GPa、または8.5~9.0GPa、または9.0~9.5GPa、または9.5~10.0GPaである。
本開示のナノコンポジット(例えば、ナノコンポジットコーティングまたはフィルム)の400nm以上での高い光学透過率は、20ミクロン厚未満のフィルムに関しては、99.9%~99%、または99%~98%、または98%~97%、または97%~96%、または96%~95%、または95%~90%、または90%~85%、または85%~80%、80%~75%、または75%~70%、または70%~65%、または65%~60%、または60%~55%、または55%~50%、または50%~45%、または45%~40%、または40%~35%、または35%~30%、または30%~25%、または25%~20%、または20%~15%、または15%~10%である。本開示によるフィルムの透過率は、Perkin-Elmer UV-Vis Lambda 850分光光度計を用いて測定される標準透過率であり、上記ナノコンポジットは、溶融シリカまたはガラス基材等の光学的に透明な基材に被覆され、そして同じ種類および厚さのブランク基材は基準として使用される。本開示のナノコンポジットの450nm以上での高い光学透過率は、20ミクロン厚未満のフィルムに関しては、99.9%から99%、または99%~98%、または98%~97%、または97%~96%、または96%~95%、または95%~90%、または90%~85%、または85%~80%、80%~75%、または75%~70%、または70%~65%、または65%~60%、または60%~55%、または55%~50%、または50%~45%、または45%~40%、または40%~35%、または35%~30%、または30%~25%、または25%~20%、または20%~15%、または15%~10%である。
本開示のナノコンポジットは、追加的に、120℃超、または175℃超、または200℃超、または250℃超、または260℃超、または300℃超の温度での熱安定性を実証する。上記熱安定性は、ナノコンポジットを指定された温度で5分以上、または10分以上、または30分以上、または60分以上、または120分以上の間、空気、窒素、または真空下に置くことで測定され、目視で観察可能な着色、クラッキング、または剥離がなく、そして400nmでの透過率の低下が10%未満、または透過率の低下が20%未満、または透過率の低下が30%未満、または透過率の低下が40%未満、または透過率の低下が50%未満である。
ナノコンポジットの作製方法
本開示は、本開示のいずれかの配合物を使用したナノコンポジットの作製方法を提供する。硬化された、または部分的に硬化された本開示の配合物を含有するナノコンポジットフィルムは本明細書に記載されている。上記ナノコンポジットは、当業者に既知のUVまたは熱硬化法により、硬化、または部分的に硬化される。
本開示は、本開示のいずれかの配合物を使用したナノコンポジットの作製方法を提供する。硬化された、または部分的に硬化された本開示の配合物を含有するナノコンポジットフィルムは本明細書に記載されている。上記ナノコンポジットは、当業者に既知のUVまたは熱硬化法により、硬化、または部分的に硬化される。
本開示は、フィルムがスピンコーティング、スロットダイコーティング、スクリーン印刷、インクジェット印刷、ディップコーティング、ドローバーコーティング、ロール・ツー・ロール印刷、スプレーコーティング、またはそれらのいずれかの組み合わせにより生産される、本明細書に記載されるとおりのナノコンポジットフィルムを提供する。
デバイス
本開示は、活性成分を含むLED、有機LED、タッチスクリーン、ディスプレイ、センサー、拡張現実、仮想現実または太陽電池デバイスを提供し、上記活性成分は、本開示のナノコンポジットを含む、またはそれを含有する。
本開示は、活性成分を含むLED、有機LED、タッチスクリーン、ディスプレイ、センサー、拡張現実、仮想現実または太陽電池デバイスを提供し、上記活性成分は、本開示のナノコンポジットを含む、またはそれを含有する。
ZrO2およびTiO2ナノ結晶キャッピング
本明細書の配合物またはナノコンポジット等の本開示の実施形態に有用な少なくとも部分的にキャップされたZrO2およびTiO2ナノ結晶を調製するための方法を以下に例示する。
本明細書の配合物またはナノコンポジット等の本開示の実施形態に有用な少なくとも部分的にキャップされたZrO2およびTiO2ナノ結晶を調製するための方法を以下に例示する。
ZrO2およびTiO2ナノ結晶は、特許番号、US8592511B2およびPCT/US2019/062439(WO2020/106860として公開)に記載されるプロセスと同様に、ソルボサーマル法を経て合成した。合成されたままのZrO2およびTiO2ナノ結晶をフラスコに移した。溶媒:ナノ結晶0.1:1~1:1、1:1~1.25:1、1.25:1~1.5:1、1.5:1~1.75:1、1.75:1~2:1、2:1~2.25:1、2.25:1~2.5:1、2.5:1~2.75:1、2.75:1~3:1、3:1~4:1、4:1~5:1、5:1~6:1、6:1~7:1、7:1~8:1、8:1~9:1、9:1~10:1でPGMEAまたはトルエン等の溶媒を加えた。その後、キャッピング剤の湿潤ケーキに対する重量比0.1~5%、5~10%、10~15%、15~20%、20~25%、25%~30%、30%~35%で第一のキャッピング剤を反応フラスコに加えた。その後、この混合物を、第一の加熱プロセスにより1~10、10~20、20~30、30~40、40~50、50~60、60~70、70~80、80~90、90~100、100~120分間、50~60、60~70、70~80、80~90、90~100、100~110、110~120、120~130℃に加熱した。
任意で第一の加熱プロセスの前または後に反応フラスコに第2のキャッピング剤を加えた。キャッピング剤の湿潤ケーキに対する重量比0.1~5%、5~10%、10~15%、15~20%、20~25%、25%~30%、30%~35%、35%~40%、40%~45%、45%~50%、50%~55%、55%~60%、60%~70%、70%~80%、80%~90%、90%~100%で反応フラスコに第2のキャッピング剤も加えた。その後、この混合物を1~10、10~20、20~30、30~40、40~50、50~60、60~70、70~80、80~90、90~100、100~120分間、50~60、60~70、70~80、80~90、90~100、100~110、110~120、120~130℃に加熱した。その後、80Cに反応混合物を冷却した後、任意で、水の湿潤ケーキに対する重量比で0.1~5%、5~10%、10~15%、15~20%、20~25%、25%~30%、30%~35%で水を反応混合物に加えた。この混合物を追加で1~10、10~20、20~30、30~40、40~50、50~60、60~70、70~80、80~90、90~100、100~120分間、80~90、90~100、100~110、110~120、120~130℃で加熱した。その後、上記反応混合物を室温に冷却してキャップされたナノ結晶を供した。その後、キャップされたナノ結晶を0.45ミクロンおよびその後に0.2ミクロンPTFEフィルターを通してろ過、または任意で下記洗浄プロセスを経由させてもよい。
本開示のZrO2および/またはTiO2ナノ結晶の表面は、これらに限定されないが、メチルトリメトキシシラン、n-プロピルトリメトキシシラン、n-プロピルトリエトキシシラン、n-オクチルトリメトキシシラン、n-オクチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、m,p-エチルフェネチルトリメトキシシラン、2-[メトキシ(ポリエチレンオキシ)プロピル]-トリメトキシシラン、メトキシ(トリエチレンオキシ)プロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン、3-(アクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、1-ヘキシニルトリメトキシシラン、1-オクテニルトリメトキシシラン、(フェニルアミノメチル)メチルジメトキシシラン、N-フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、3-(4-ピリジルエチル)チオプロピルトリメトキシシラン、N-(3-トリメトキシシリルプロピル)ピロール、2-(3-トリメトキシシリルプロピルチオ)チオフェン、(3-トリメトキシシリルプロピル)ジエチレントリアミン、11-メルカプトウンデシルトリメトキシシラン、(2-ジフェニルホスフィノ)エチルジメチルエトキシシラン、2-(ジフェニルホスフィノ)エチルトリエトキシシラン、3-(ジフェニルホスフィノ)プロピルトリエトキシシラン、ヘプタノール、ヘキサノール、オクタノール、ベンジルアルコール、フェノール類、エタノール、プロパノール、ブタノール、オレイルアルコール、ドデシルアルコール、オクタデカノール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、オクタン酸、酢酸、プロピオン酸、2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]酢酸、オレイン酸、安息香酸、ステアリン酸、トリフルオロ酢酸、ビフェニル-4-カルボン酸、2-(2-メトキシエトキシ)酢酸、メタクリル酸、モノ-2-(メタクリロイルオキシ)エチルコハク酸、2-メルカプトエタノール、2-{2-[2-(2-メルカプトエトキシ)エトキシ)エトキシ]エトキシ}エタノール、2-(2-メトキシエトキシ)エタンチオール、1-オクタンチオール、2,3-ジメルカプトプロパン硫酸ナトリウム一水和物、ドデシル硫酸ナトリウム、ドデシルホスホン酸、オクチルホスホン酸、(11-メルカプトウンデシル)ホスホン酸、(11-(アクリロイルオキシ)ウンデシル)ホスホン酸、11-メタクリロイルオキシウンデシルホスホン酸、[2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エチル]ホスホン酸エチルエステル、およびそれらの組み合わせを含む少なくとも一種のキャッピング剤を用いて任意でキャップされたものである。
上記反応混合物は、余剰なキャッピング剤および他の副生成物を除去するために任意で洗浄される。上記反応混合物は、0.1:1~1:1、1:1~1.25:1、1.25:1~1.5:1、1.5:1~1.75:1、1.75:1~2:1、2:1~2.25:1、2.25:1~2.5:1、2.5:1~2.75:1、2.75:1~3:1の貧溶媒の反応混合物に対する重量対重量比でPGMEA溶液の場合にはヘプタン、またはトルエン溶液の場合にはアセトン等の貧溶媒を加えることにより析出される。この析出物を100~500、500~1000、100~1500、1500~2000、2000~2500、2500~3000、3000~3500、3500~4000、4000~4500、4500~5000、5000~5500、5500~6000、6000~6500、6500~7000、7000~7500、7500~8000、8000~8500、8500~9000rpmで0~5、5~10、10~15、15~20、30~25、25~30、30~35、35~40、40~45、45~50、50~55、55~60分間遠心分離した。得られた上澄み液をデカントして廃棄した。その後、上記固体を、キャップされた非極性のナノ結晶の場合にはトルエン、またはキャップされた極性のナノ結晶の場合にはTHF等の溶媒中に分散させた。その後、分散させた固体を、0.1:1~1:1、1:1~1.25:1、1.25:1~1.5:1、1.5:1~1.75:1、1.75:1~2:1、2:1~2.25:1、2.25:1~2.5:1、2.5:1~2.75:1、2.75:1~3:1の貧溶媒の反応混合物に対する重量対重量比で、THF溶液の場合にはヘプタン、またはトルエン溶液の場合にはアセトン等の貧溶媒中に再度析出させた。この析出物を100~500、500~1000、100~1500、1500~2000、2000~2500、2500~3000、3000~3500、3500~4000、4000~4500、4500~5000、5000~5500、5500~6000、6000~6500、6500~7000、7000~7500、7500~8000、8000~8500、8500~9000rpmで0~5、5~10、10~15、15~20、30~25、25~30、30~35、35~40、40~45、45~50、50~55、55~60分間遠心分離した。得られた上澄み液をデカントして廃棄した。このプロセスは必要であれば繰り返される。その後上記固体を真空オーブン中に入れて終夜乾燥させた。
その後、任意で乾燥させた固体(キャップされたナノ結晶)を1:1の固体の溶媒に対する比でPGMEA中に再分散させ、50重量%充填されたディスパージョンを作った。得られたディスパージョンを0.45ミクロンおよびその後に0.2ミクロンPTFEフィルターを通してろ過した。
例 キャップされたZrO2ナノ結晶
本明細書の配合物またはナノコンポジット等の本開示の実施形態に有用な少なくとも部分的にキャップされたZrO2ナノ結晶を調製するための方法を以下にさらに例示する。
本明細書の配合物またはナノコンポジット等の本開示の実施形態に有用な少なくとも部分的にキャップされたZrO2ナノ結晶を調製するための方法を以下にさらに例示する。
以降において「湿潤ケーキ」と呼称する、合成されたままのZrO2ナノ結晶を丸底フラスコに移した。その後、0.370:1の溶媒の湿潤ケーキに対する重量比率でPGMEAを加えた。この工程に沿って、湿潤ケーキの10重量%のメトキシ(トリエチレンオキシ)プロピルトリメトキシシランを反応フラスコに加えた。その後、湿潤ケーキの2重量%の3-(アクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシランを反応フラスコに加えた。この混合物を撹拌しながら120℃まで90分間加熱してキャップされたナノ結晶を形成させた。最終的に、上記反応混合物を室温まで冷却した。
その後、上記反応混合物を洗浄して余剰なキャッピング剤および不純物を除去した。その後、貧溶媒としてヘプタンを用いて7:1のヘプタンの反応混合物に対する重量対重量比を用いて上記反応混合物を析出させた。この析出物を4500rpmで10分間遠心分離した。得られた上澄み液をデカントして廃棄した。その後、3:1のTHFの固体に対する重量対重量比を用いて上記固体をTHF中に分散させた。その後、3:1ヘプタンの反応混合物に対する重量対重量比で分散させた固体をヘプタン等の貧溶媒中で再度析出させた。この析出物を4500rpmで10分間遠心分離した。得られた上澄み液をデカントして廃棄した。その後、3:1のTHFの固体に対する重量対重量比を用いて上記固体をTHF中に分散させた。その後、3:1のヘプタンの反応混合物に対する重量対重量比で分散させた固体をヘプタン等の貧溶媒中で3度目の析出を実施した。この析出物を4500rpmで10分間遠心分離した。得られた上澄み液をデカントして廃棄した。その後上記固体を真空オーブン中に入れて終夜乾燥させた。
溶媒またはモノマー中に乾燥させた固体を再分散させ、任意で0.45ミクロンおよびその後に0.2ミクロンPTFEフィルターを通してろ過した。
例 キャップされたTiO2ナノ結晶
本明細書の配合物またはナノコンポジット等の本開示の実施形態に有用な少なくとも部分的にキャップされたTiO2ナノ結晶を調製するための方法を以下にさらに例示する。
例 キャップされたTiO2ナノ結晶
本明細書の配合物またはナノコンポジット等の本開示の実施形態に有用な少なくとも部分的にキャップされたTiO2ナノ結晶を調製するための方法を以下にさらに例示する。
以降において「湿潤ケーキ」と呼称する、合成されたままのTiO2ナノ結晶を丸底フラスコに移した。その後、1.857:1の溶媒の湿潤ケーキに対する重量比率でPGMEAを加えた。この工程に沿って、湿潤ケーキの15重量%のメトキシ(トリエチレンオキシ)プロピルトリメトキシシランを反応フラスコに加えた。この混合物を撹拌しながら120℃まで40分間加熱して部分的にキャップされたナノ結晶を形成させた。湿潤ケーキの30重量%のメタクリルオキシプロピルトリメトキシシランを反応フラスコに加え、混合物を120℃でさらに30分間撹拌しながら加熱してキャップされたナノ結晶を形成した。上記反応混合物をその後100Cに冷却し、その後水を湿潤ケーキの5重量%加えて混合物を100Cで30分間加熱した。最終的に、上記反応混合物を室温まで冷却した。
その後、上記反応混合物を洗浄して余剰なキャッピング剤および不純物を除去した。その後、貧溶媒としてヘプタンを用いて3:1のヘプタンの反応混合物に対する重量対重量比を用いて上記反応混合物を析出させた。この析出物を3000rpmで10分間遠心分離した。得られた上澄み液をデカントして廃棄した。その後3:1のTHFの固体に対する重量対重量比を用いて上記固体をTHF中に分散させた。その後、再度3:1ヘプタンの反応混合物に対する重量対重量比で分散させた固体をヘプタン等の貧溶媒中で析出させた。この析出物を3000rpmで10分間遠心分離した。得られた上澄み液をデカントして廃棄した。その後、3:1のTHFの個体に対する重量対重量比を用いて上記固体をTHF中に分散させた。その後、再度3:1のヘプタンの反応混合物に対する重量対重量比で分散させた固体をヘプタン等の貧溶媒中で3度目の析出を実施した。この析出物を3000rpmで10分間遠心分離した。得られた上澄み液をデカントして廃棄した。その後上記固体を真空オーブン中に入れて終夜乾燥させた。溶媒またはモノマー中に乾燥させた固体を再分散させ、任意で0.45ミクロンおよびその後に0.2ミクロンPTFEフィルターを通してろ過した。
例示のTiO2およびZrO2ナノ結晶の分散特性は図1において説明されている。図1aの透過型電子顕微鏡法(TEM)画像において示されている平均コア径が5nmであるTiO2ナノ結晶は、これらのナノ結晶をアクリレート、エポキシ、およびシロキサンを含む各種モノマーおよびポリマーと相溶可能とするキャッピング剤で表面修飾またはキャップされたものである。上記キャッピング剤は、ポリマーマトリックスとの最大相溶性のために設計されている。上記キャップされたナノ結晶は、酢酸プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGMEA)中におよそ10nmを中心とする単一の狭い動的光散乱法(DLS)ピーク(図1b)を有する均一なディスパージョンを形成する。
図1cのTEM画像で示されている平均コア径が15nmであるTiO2ナノ結晶は、このナノ結晶をアクリレート、エポキシ、およびシロキサンを含む多くのモノマーおよびポリマーと相溶可能とするキャッピング剤でキャップされたものである。これらのキャップされたナノ結晶は、PGMEA中でおよそ20nmを中心とする単一の狭いDLSピーク(図1d)を有する均一なディスパージョンも形成する。
TEM画像(図1e)で示されている平均コア径が5nmであるZrO2ナノ結晶は、これらのナノ結晶をアクリレート、エポキシ、およびシロキサンを含む各種モノマーおよびポリマーと相溶可能とするキャッピング剤でキャップされたものである。これらのキャップされたナノ結晶は、PGMEA中でおよそ8nmを中心とする単一の狭いDLSピーク(図1f)を有する均一なディスパージョンも形成する。
下記実施例では、上記のキャップされたZrO2および/またはTiO2ナノ結晶が用いられた。当業者は、TiO2およびZrO2ナノ結晶に加えて、またはそれらに代えて、酸化ハフニウム、酸化亜鉛、酸化タンタル、酸化ニオビウム、およびそれらの組み合わせも使用してもよい。当業者は、異なるキャッピング剤を有するZrO2および/またはTiO2ナノ結晶も使用できることを認識する。実施例は単なる一例であり、いかなる方法において請求項に係る発明を限定するものではない。
実施例1(溶媒ZrO2)
BPMAおよびPTEA等の所望のモノマーをBMTPSおよびTHEICTA架橋剤と組み合わせて、所望の充填率のジルコニアが30.6~37.1重量%に及び、モノマーの重量パーセントが5.9~9.8重量%に及び、架橋剤の重量パーセントが2.6~8.5重量%に及び、およびTPO光開始剤の重量パーセントが0.5重量%である配合物中に導入することにより、「例 キャップされたZrO2ナノ結晶」における上記のキャップされたZrO2ナノ結晶を調製した(無溶媒または含溶媒配合物を作製する方法を参照)。それらの粘度値と共に表1に従い、実施例1の代表的な配合物を配合物A1~A5とラベリングする。表2には、配合物A1~A5に由来するナノコンポジットの熱ベーキング(thermal baking)およびUV硬化工程の後のフィルム厚さと共に、透明度、色およびフィルムRI(589nm)を包含するフィルム特性が表示されている。これらのデータは、700~830nmのフィルム厚さにおける濁度が低く、かつフィルムRI値が1.70~1.80の間である透明なフィルムを示す。熱ベーキング条件が最終的なフィルム特性に影響を与え得ることから、実施例A4-1、A4-2、A5-1およびA5-2は、135C(-1s)および200C(-2s)での2分後の差を示すために含まれる。図2は、NIL技術によりナノインプリントされた配合物A1およびA2のSEM画像を示す。図2は、300nm特徴を有し、かつ(傾斜した構造体の高さに対する構造体の幅についての)アスペクト比が1であるナノインプリントされた傾斜した構造体を示している。
BPMAおよびPTEA等の所望のモノマーをBMTPSおよびTHEICTA架橋剤と組み合わせて、所望の充填率のジルコニアが30.6~37.1重量%に及び、モノマーの重量パーセントが5.9~9.8重量%に及び、架橋剤の重量パーセントが2.6~8.5重量%に及び、およびTPO光開始剤の重量パーセントが0.5重量%である配合物中に導入することにより、「例 キャップされたZrO2ナノ結晶」における上記のキャップされたZrO2ナノ結晶を調製した(無溶媒または含溶媒配合物を作製する方法を参照)。それらの粘度値と共に表1に従い、実施例1の代表的な配合物を配合物A1~A5とラベリングする。表2には、配合物A1~A5に由来するナノコンポジットの熱ベーキング(thermal baking)およびUV硬化工程の後のフィルム厚さと共に、透明度、色およびフィルムRI(589nm)を包含するフィルム特性が表示されている。これらのデータは、700~830nmのフィルム厚さにおける濁度が低く、かつフィルムRI値が1.70~1.80の間である透明なフィルムを示す。熱ベーキング条件が最終的なフィルム特性に影響を与え得ることから、実施例A4-1、A4-2、A5-1およびA5-2は、135C(-1s)および200C(-2s)での2分後の差を示すために含まれる。図2は、NIL技術によりナノインプリントされた配合物A1およびA2のSEM画像を示す。図2は、300nm特徴を有し、かつ(傾斜した構造体の高さに対する構造体の幅についての)アスペクト比が1であるナノインプリントされた傾斜した構造体を示している。
実施例2(無溶媒ZrO2)
「例 キャップされたZrO2ナノ結晶」における上記のキャップされたZrO2ナノ結晶を、酢酸エチル(ETA)等の低沸点溶媒中に良好に分散させたZrO2で始まる溶媒抽出プロセスにより調製して所望のモノマーと組み合わせた。上記モノマーは、所望の充填率のジルコニアが60.4~70.0重量%に及び、モノマーの重量パーセントが15.4~26.7重量%に及び、架橋剤の重量パーセントが8.2~13.7重量%に及び、およびTPO光開始剤の重量パーセントが1.0重量%である配合物中に、BMTPSおよびTHEICTA架橋剤と共にBPMAおよびPTEAを含む。それらの粘度値と共に表3に従い、実施例2の代表的な配合物を配合物B1およびB2とラベリングする。表4には、配合物B1~B2に由来するナノコンポジットのUV硬化工程の後のフィルム厚さと共に、透明度、色およびフィルムRI(589nm)を包含するフィルム特性が表示されている。これらのデータは、ナノインプリントが可能であり、低粘度(<2、000cP)であり、6~13ミクロンの間のフィルム厚さで低濁度であり、かつフィルムRI値が1.70~1.73の間である透明なフィルムを供する配合物を示す。
図3は、モルフォトニクスにより測定された配合物B1およびB2のナノインプリントされた構造体のSEM画像および対応する分析を示している。図3aに示されている画像は、B1の三角形、長方形、および円筒形の格子であり、それぞれの高さはおよそ700、560および670nmである。マスターとインプリントの寸法の差により描写されたB1の構造体の忠実度は図3bに示されている。図3cは、三角形および円筒形の格子を有し、それぞれおよそ600および650nmであるB2の同様のSEM画像を表示している。
「例 キャップされたZrO2ナノ結晶」における上記のキャップされたZrO2ナノ結晶を、酢酸エチル(ETA)等の低沸点溶媒中に良好に分散させたZrO2で始まる溶媒抽出プロセスにより調製して所望のモノマーと組み合わせた。上記モノマーは、所望の充填率のジルコニアが60.4~70.0重量%に及び、モノマーの重量パーセントが15.4~26.7重量%に及び、架橋剤の重量パーセントが8.2~13.7重量%に及び、およびTPO光開始剤の重量パーセントが1.0重量%である配合物中に、BMTPSおよびTHEICTA架橋剤と共にBPMAおよびPTEAを含む。それらの粘度値と共に表3に従い、実施例2の代表的な配合物を配合物B1およびB2とラベリングする。表4には、配合物B1~B2に由来するナノコンポジットのUV硬化工程の後のフィルム厚さと共に、透明度、色およびフィルムRI(589nm)を包含するフィルム特性が表示されている。これらのデータは、ナノインプリントが可能であり、低粘度(<2、000cP)であり、6~13ミクロンの間のフィルム厚さで低濁度であり、かつフィルムRI値が1.70~1.73の間である透明なフィルムを供する配合物を示す。
図3は、モルフォトニクスにより測定された配合物B1およびB2のナノインプリントされた構造体のSEM画像および対応する分析を示している。図3aに示されている画像は、B1の三角形、長方形、および円筒形の格子であり、それぞれの高さはおよそ700、560および670nmである。マスターとインプリントの寸法の差により描写されたB1の構造体の忠実度は図3bに示されている。図3cは、三角形および円筒形の格子を有し、それぞれおよそ600および650nmであるB2の同様のSEM画像を表示している。
実施例3(溶媒TiO2)
BPMA、PTEAおよびPBA等の所望のモノマーをBMTPS、TMPTA、HR6042およびTHEICTA架橋剤と組み合わせて、所望の充填率のチタニアが11.6~75.0重量%に及び、モノマーの重量パーセントが4.2~13.6重量%に及び、架橋剤の重量パーセントが2.6~7.2重量%に及び、およびTPO光開始剤の重量パーセントが0.5重量%である配合物中に導入することにより、「例 キャップされたTiO2ナノ結晶」における上記のキャップされたTiO2ナノ結晶を調製した。それらの粘度値と共に表5~表7に従い、実施例3の代表的な配合物を配合物C1~C17とラベリングする。表8~表10には、配合物C1~C21に由来するナノコンポジットの熱ベーキングおよびUV硬化工程の後のフィルム厚さと共に、透明度、色およびフィルムRI(589nm)を包含するフィルム特性が表示されている。これらのデータは、0.66~2.21ミクロンのフィルム厚さにおける濁度が低く、かつフィルムRI値が1.80~1.91の間である透明なフィルムを示す。表11は、ほとんどのフィルムの測定されたナノインデンテーションデータを与える。図4は、NIL技術により測定された配合物C1、C2およびC3のナノインプリントのSEM画像を示している。C1のバイナリ格子は、構造体の高さおよび幅がそれぞれ約300および400nmであるSEM顕微鏡写真に示されている。加えて、300nm特徴を有し、かつ(傾斜した構造高さに対する構造幅についての)アスペクト比が1であるC1、C2およびC3の傾斜した格子が図4に表示されている。
BPMA、PTEAおよびPBA等の所望のモノマーをBMTPS、TMPTA、HR6042およびTHEICTA架橋剤と組み合わせて、所望の充填率のチタニアが11.6~75.0重量%に及び、モノマーの重量パーセントが4.2~13.6重量%に及び、架橋剤の重量パーセントが2.6~7.2重量%に及び、およびTPO光開始剤の重量パーセントが0.5重量%である配合物中に導入することにより、「例 キャップされたTiO2ナノ結晶」における上記のキャップされたTiO2ナノ結晶を調製した。それらの粘度値と共に表5~表7に従い、実施例3の代表的な配合物を配合物C1~C17とラベリングする。表8~表10には、配合物C1~C21に由来するナノコンポジットの熱ベーキングおよびUV硬化工程の後のフィルム厚さと共に、透明度、色およびフィルムRI(589nm)を包含するフィルム特性が表示されている。これらのデータは、0.66~2.21ミクロンのフィルム厚さにおける濁度が低く、かつフィルムRI値が1.80~1.91の間である透明なフィルムを示す。表11は、ほとんどのフィルムの測定されたナノインデンテーションデータを与える。図4は、NIL技術により測定された配合物C1、C2およびC3のナノインプリントのSEM画像を示している。C1のバイナリ格子は、構造体の高さおよび幅がそれぞれ約300および400nmであるSEM顕微鏡写真に示されている。加えて、300nm特徴を有し、かつ(傾斜した構造高さに対する構造幅についての)アスペクト比が1であるC1、C2およびC3の傾斜した格子が図4に表示されている。
実施例4(無溶媒TiO2)
「例 キャップされたTiO2ナノ結晶」における上記のキャップされたTiO2ナノ結晶を、酢酸エチル(ETA)等の低沸点溶媒中に良好に分散させたTiO2で始まる溶媒抽出プロセスにより調製して所望のモノマーと組み合わせた。上記モノマーは、所望の充填率のチタニアが60.5~73.0重量%に及び、モノマーの重量パーセントが16.9~29.4重量%に及び、架橋剤の重量パーセントが9.1~10.1重量%に及び、およびTPO光開始剤の重量パーセントが1.0重量%である配合物中に、THEICTA架橋剤と共にBPMA、PTEAおよびPBAを含む。それらの粘度値と共に表12に従い、実施例4の代表的な配合物を配合物D1~D4とラベリングする。表13には、配合物D1~D4に由来するナノコンポジットの熱ベーキングおよびUV硬化工程の後のフィルム厚さと共に、透明度、色およびフィルムRI(589nm)を包含するフィルム特性が表示されている。これらのデータは、ナノインプリントが可能であり、低粘度(≦2,000cP)であり、10~12ミクロンの間のフィルム厚さにおいて低濁度でありかつフィルムRI値が1.86~1.87の間である透明なフィルムを与える配合物を示している。図5は、配合物D1およびD2のナノインプリントされた構造体のSEM画像、および、モルフォトニクスにより測定される対応する分析を示す。図5aおよび図5bは、およそ300nm幅を有し、535~757nm(高さ)の間である三角形および円筒形のインプリントされた構造体を示す。
「例 キャップされたTiO2ナノ結晶」における上記のキャップされたTiO2ナノ結晶を、酢酸エチル(ETA)等の低沸点溶媒中に良好に分散させたTiO2で始まる溶媒抽出プロセスにより調製して所望のモノマーと組み合わせた。上記モノマーは、所望の充填率のチタニアが60.5~73.0重量%に及び、モノマーの重量パーセントが16.9~29.4重量%に及び、架橋剤の重量パーセントが9.1~10.1重量%に及び、およびTPO光開始剤の重量パーセントが1.0重量%である配合物中に、THEICTA架橋剤と共にBPMA、PTEAおよびPBAを含む。それらの粘度値と共に表12に従い、実施例4の代表的な配合物を配合物D1~D4とラベリングする。表13には、配合物D1~D4に由来するナノコンポジットの熱ベーキングおよびUV硬化工程の後のフィルム厚さと共に、透明度、色およびフィルムRI(589nm)を包含するフィルム特性が表示されている。これらのデータは、ナノインプリントが可能であり、低粘度(≦2,000cP)であり、10~12ミクロンの間のフィルム厚さにおいて低濁度でありかつフィルムRI値が1.86~1.87の間である透明なフィルムを与える配合物を示している。図5は、配合物D1およびD2のナノインプリントされた構造体のSEM画像、および、モルフォトニクスにより測定される対応する分析を示す。図5aおよび図5bは、およそ300nm幅を有し、535~757nm(高さ)の間である三角形および円筒形のインプリントされた構造体を示す。
実施例5(インクジェット印刷が可能な無溶媒ZrO2)
「例 キャップされたZrO2ナノ結晶」における上記のキャップされたZrO2ナノ結晶を、酢酸エチル(ETA)等の低沸点溶媒中に良好に分散させたZrO2で始まる溶媒抽出プロセスにより調製して所望のモノマーと組み合わせた、またはZrO2を直接的に所望のモノマー中で良好に分散させた。上記モノマーは、所望の充填率のジルコニアが35~45重量%に及び、モノマーの重量パーセントが46.0~56.0重量%に及び、架橋剤の重量パーセントが0.0~10.0重量%に及び、および光開始剤の重量パーセントが1.0~3.0重量%の間であり、相乗剤CN374の重量パーセントが3.0重量%である配合物中に、THEICTA架橋剤、光開始剤I819およびITX、光相乗剤CN374およびBYK界面活性剤と共に、2-PEA、BAC、BPMA、HDDA、NVPを含む。それらの粘度値と共に表14に従い、実施例5の代表的な配合物を配合物E1~E5とラベリングする。表15には、配合物E1~E5に由来するナノコンポジットのUV硬化工程の後のフィルム厚さと共に、透明度、色およびフィルムRI(589nm)を包含するフィルム特性が表示されている。これらのデータは、30℃超のプリントヘッド温度でインクジェット印刷が可能であり、25Cで低粘度(≦25cP)であり、9~13ミクロンの間のフィルム厚さにおいて低濁度でありかつフィルムRI値が1.62~1.65の間である透明なフィルムを与える配合物を示している。
「例 キャップされたZrO2ナノ結晶」における上記のキャップされたZrO2ナノ結晶を、酢酸エチル(ETA)等の低沸点溶媒中に良好に分散させたZrO2で始まる溶媒抽出プロセスにより調製して所望のモノマーと組み合わせた、またはZrO2を直接的に所望のモノマー中で良好に分散させた。上記モノマーは、所望の充填率のジルコニアが35~45重量%に及び、モノマーの重量パーセントが46.0~56.0重量%に及び、架橋剤の重量パーセントが0.0~10.0重量%に及び、および光開始剤の重量パーセントが1.0~3.0重量%の間であり、相乗剤CN374の重量パーセントが3.0重量%である配合物中に、THEICTA架橋剤、光開始剤I819およびITX、光相乗剤CN374およびBYK界面活性剤と共に、2-PEA、BAC、BPMA、HDDA、NVPを含む。それらの粘度値と共に表14に従い、実施例5の代表的な配合物を配合物E1~E5とラベリングする。表15には、配合物E1~E5に由来するナノコンポジットのUV硬化工程の後のフィルム厚さと共に、透明度、色およびフィルムRI(589nm)を包含するフィルム特性が表示されている。これらのデータは、30℃超のプリントヘッド温度でインクジェット印刷が可能であり、25Cで低粘度(≦25cP)であり、9~13ミクロンの間のフィルム厚さにおいて低濁度でありかつフィルムRI値が1.62~1.65の間である透明なフィルムを与える配合物を示している。
実施例6(インクジェット印刷が可能な無溶媒TiO2)
「例 キャップされたTiO2ナノ結晶」における上記のキャップされたTiO2ナノ結晶を、酢酸エチル(ETA)等の低沸点溶媒中に良好に分散させたTiO2で始まる溶媒抽出プロセスにより調製して所望のモノマーと組み合わせた、またはTiO2を直接的に所望のモノマー中で良好に分散させた。上記モノマーは、所望の充填率のチタニアが40~50重量%に及び、モノマーの重量パーセントが46.5~56.5重量%に及び、架橋剤の重量パーセントが4.0重量%であり、光開始剤の重量パーセントが3.0重量%であり、およびBYK界面活性剤が0.5重量%である配合物中に、THEICTA架橋剤、光開始剤I819およびBYK界面活性剤と共に、2-PEA、BAC、BPMA、HDDAを含む。それらの粘度値と共に表16に従い、実施例6の代表的な配合物を配合物F1およびF2とラベリングする。表17には、配合物F1およびF2に由来するナノコンポジットのUV硬化工程の後のフィルム厚さと共に、透明度、色およびフィルムRI(589nm)を包含するフィルム特性が表示されている。これらのデータは、30℃超のプリントヘッド温度でインクジェット印刷が可能であり、25Cで低粘度(≦25cP)であり、9~12ミクロンの間のフィルム厚さにおいて低濁度でありかつフィルムRI値が1.69~1.71の間である透明なフィルムを与える配合物を示している。
「例 キャップされたTiO2ナノ結晶」における上記のキャップされたTiO2ナノ結晶を、酢酸エチル(ETA)等の低沸点溶媒中に良好に分散させたTiO2で始まる溶媒抽出プロセスにより調製して所望のモノマーと組み合わせた、またはTiO2を直接的に所望のモノマー中で良好に分散させた。上記モノマーは、所望の充填率のチタニアが40~50重量%に及び、モノマーの重量パーセントが46.5~56.5重量%に及び、架橋剤の重量パーセントが4.0重量%であり、光開始剤の重量パーセントが3.0重量%であり、およびBYK界面活性剤が0.5重量%である配合物中に、THEICTA架橋剤、光開始剤I819およびBYK界面活性剤と共に、2-PEA、BAC、BPMA、HDDAを含む。それらの粘度値と共に表16に従い、実施例6の代表的な配合物を配合物F1およびF2とラベリングする。表17には、配合物F1およびF2に由来するナノコンポジットのUV硬化工程の後のフィルム厚さと共に、透明度、色およびフィルムRI(589nm)を包含するフィルム特性が表示されている。これらのデータは、30℃超のプリントヘッド温度でインクジェット印刷が可能であり、25Cで低粘度(≦25cP)であり、9~12ミクロンの間のフィルム厚さにおいて低濁度でありかつフィルムRI値が1.69~1.71の間である透明なフィルムを与える配合物を示している。
本明細書において、単数形の「1つの(a)」、「1つの(an)」、および「その(the)」は、明示的に記載されているか、または文脈からそのように意図されていないことが明らかでない限り、複数形の参照を含む。
本明細書において「Aおよび/またはB」等の表現で使用される「および/または」という用語は、AおよびBの両方;AまたはB;A(単独);およびB(単独)を含むことを意図している。同様に、「A、B、および/またはC」等の句で使用される用語「および/または」は、下記具体例:A、B、およびC;A、B、またはC;AまたはC;AまたはB;BまたはC;AおよびC;AおよびB;BおよびC;A(単独);B(単独);およびC(単独)のそれぞれを包含することが意図される。
見出しおよび小見出しは、便宜的および/または形式的な遵守のためにのみ使用され、対象技術を限定するものではなく、対象技術の説明の解釈に関連して参照されるものではない。主題開示の1つの見出しまたは1つの小見出しの下に記載される特徴は、様々な実施形態において、他の見出しまたは小見出しの下に記載される特徴と組み合わせることができる。さらに、単一の見出しまたは単一の小見出しの下にある全ての特徴が、実施形態において併せて使用されるとは限らない。
要約セクションおよび要旨セクションは、全てではないものの、本発明者によって企図された本発明の1つまたは複数の例示的な具体例を示し得るものであるため、本発明および添付の特許請求の範囲をいかなる形でも限定することを意図するものではない。
本発明を、特定される機能とその関係の実装を示す機能ブロックの助けを借りて説明してきた。これらの機能ブロックの境界は、本明細書では説明の便宜のために自由裁量で定義されている。指定された機能およびその関係が適切に実行される限り、代替的な境界を定義することができる。
属として記載される本発明の態様に関して、全ての個々の種は、個々に本発明の別個の態様とみなされる。本発明の態様がある特徴「を含む(comprising)」と記載されている場合、実施形態は、その特徴「からなる(consisting of)」または「から実質的になる(consisting essentially of)」ことも企図される。
具体的な実施形態についての前述の説明は、本発明の一般的な性質を十分に明らかにするものであるため、他者は、当業者の通常の技術範囲内の知識を適用することにより、過剰な実験を行うことなく、本発明の一般的な概念から逸脱することなく、そのような具体的な実施形態を様々な用途のために容易に変更および/または適合させることができる。従って、このような適合および変更は、本明細書に提示された教示および指針に基づき、開示された実施形態の均等物の意味および範囲内にあることが意図される。本明細書の用語または語句は、教示および指針に照らして当業者によって解釈されるべきものであるように、本明細書の用語または語句は、説明を目的としており、限定を目的とするものではないことを理解されたい。
本発明の広さおよび範囲は、上述の例示的な実施形態のいずれかによって限定されるべきではない。
本明細書に記載される様々な態様、実施形態、および選択肢の全ては、任意かつ全ての変形において組み合わせることができる。
本明細書に記載される様々な態様、実施形態、および選択肢の全ては、任意かつ全ての変形において組み合わせることができる。
本明細書において言及されるすべての刊行物、特許、および特許出願は、個々の刊行物、特許、または特許出願が参照により組み込まれることが具体的かつ個別に示される場合と同じ程度に、参照により本明細書に組み込まれる。本明細書における用語の意味または定義が、参照により組み込まれる文書における同じ用語の意味または定義と矛盾する場合には、本明細書においてその用語に付与された意味または定義が適用されるものとする。
Claims (47)
- 少なくとも部分的にキャップされた金属酸化物ナノ結晶を、少なくとも一種のモノマー、オリゴマーまたはポリマーを含むマトリックス中に含む配合物であって、
好ましくは、前記配合物が、%Tが50%より大きく、かつ屈折率が1.6~2.1である、光学的に透明なナノコンポジットの調製に適切であるように配合された、配合物。 - 少なくとも部分的にキャップされた金属酸化物ナノ結晶の、TEMまたはDLSで測定される平均粒子径が、1~100nm(例えば1nm、5nm、10nm、15nm、20nm、30nm、または引用された値の間の任意の範囲または値、例えば、1~30nm、1~20nm、5~30nm、5~20nm等)の範囲内、好ましくは30nm未満である、請求項1に記載の配合物。
- 金属酸化物が酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化ハフニウム、酸化亜鉛、酸化タンタル、酸化ニオビウム、およびそれらの組み合わせから選択され、好ましくは、前記金属酸化物が酸化ジルコニウムまたは酸化チタンである、請求項1または2に記載の配合物。
- 少なくとも部分的にキャップされた金属酸化物ナノ結晶が、メチルトリメトキシシラン、n-プロピルトリメトキシシラン、n-プロピルトリエトキシシラン、n-オクチルトリメトキシシラン、n-オクチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、m,p-エチルフェネチルトリメトキシシラン、2-[メトキシ(ポリエチレンオキシ)プロピル]-トリメトキシシラン、メトキシ(トリエチレンオキシ)プロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-(メタクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン、3-(アクリロイルオキシ)プロピルトリメトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、1-ヘキシニルトリメトキシシラン、1-オクテニルトリメトキシシラン、(フェニルアミノメチル)メチルジメトキシシラン、N-フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、3-(4-ピリジルエチル)チオプロピルトリメトキシシラン、N-(3-トリメトキシシリルプロピル)ピロール、2-(3-トリメトキシシリルプロピルチオ)チオフェン、(3-トリメトキシシリルプロピル)ジエチレントリアミン、11-メルカプトウンデシルトリメトキシシラン、(2-ジフェニルホスフィノ)エチルジメチルエトキシシラン、2-(ジフェニルホスフィノ)エチルトリエトキシシラン、3-(ジフェニルホスフィノ)プロピルトリエトキシシラン、ヘプタノール、ヘキサノール、オクタノール、ベンジルアルコール、フェノール類、エタノール、プロパノール、ブタノール、オレイルアルコール、ドデシルアルコール、オクタデカノール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、オクタン酸、酢酸、プロピオン酸、2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]酢酸、オレイン酸、安息香酸、ステアリン酸、トリフルオロ酢酸、ビフェニル-4-カルボン酸、2-(2-メトキシエトキシ)酢酸、メタクリル酸、モノ-2-(メタクリロイルオキシ)エチルコハク酸、2-メルカプトエタノール、2-{2-[2-(2-メルカプトエトキシ)エトキシ)エトキシ]エトキシ}エタノール、2-(2-メトキシエトキシ)エタンチオール、1-オクタンチオール、2,3-ジメルカプトプロパン硫酸ナトリウム一水和物、ドデシル硫酸ナトリウム、ドデシルホスホン酸、オクチルホスホン酸、(11-メルカプトウンデシル)ホスホン酸、(11-(アクリロイルオキシ)ウンデシル)ホスホン酸、11-メタクリロイルオキシウンデシルホスホン酸、[2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]エチル]ホスホン酸エチルエステル、およびそれらの組み合わせから選択される少なくとも一種のキャッピング剤でキャップされている、請求項1~3のいずれか一項に記載の配合物。
- マトリックスが、(1)モノ、ジ、トリ、テトラおよび他の多官能性反応性化学基を有するアクリレートおよび/またはメタクリレートモノマー等のアクリレートおよび/またはメタクリレートモノマー、(2)反応性希釈剤、ならびに(3)硬化剤または重合開始剤から独立して選択される1つまたは複数の薬剤を含み、かつ
前記マトリックスが任意で界面活性剤および/または湿潤剤を含む、請求項1に記載の配合物。 - 配合物の20~80重量%(例えば、20%、30%、40%、50%、60%、70%、80%、または引用された値の間の任意の範囲または値、例えば20~60%、30~70%等)に及ぶ量で少なくとも部分的にキャップされた金属酸化物ナノ結晶を含む、請求項5に記載の配合物。
- 配合物の合計固形分の20~80重量%(例えば、20%、30%、40%、50%、60%、70%、80%、または引用された値の間の任意の範囲または値、例えば20~60%、30~70%等)に及ぶ量で少なくとも部分的にキャップされた金属酸化物ナノ結晶を含む、請求項5に記載の配合物。
- マトリックスがUV硬化性および/または熱硬化性である、請求項6または7に記載の配合物。
- ベンジルアクリレート(BA)、ベンジルメタクリレート(BMA)、エチレングリコールフェニルエーテルアクリレート(PEA)、エチレングリコールフェニルエーテルメタクリレート(PEMA)、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルアクリレート(HPPA)、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルメタクリレート(HPPMA)、2-フェノキシベンジルアクリレート(PBA)、ビフェニルメタクリレート(BPMA)、2-フェニルフェノール類メタクリレート(PPMA)、イソブチルアクリレート(IBA)、2-フェニルエチルアクリレート(2-PEA)、2-(フェニルチオ)エチルアクリレート(PTEA)、等の高屈折率を有するモノ官能性アクリレートおよび/またはメタクリレートモノマー、またはそれらの組み合わせを含む請求項1~8のいずれか一項に記載の配合物。
- 1,6-ヘキサンジオールジアクリレート(HDDA)、1,6-ヘキサンジオールジメタクリレート(HDDMA)、ジ(エチレングリコール)ジアクリレート(DEGDA)、ジ(エチレングリコール)ジメタクリレート(DEGDMA)、エチレングリコールジアクリレート、グリセロール1,3-ジグリセロラートジアクリレート、トリ(プロピレングリコール)ジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)、トリメチロールプロパントリ-メタクリレート(TMPTMA)、トリメチロールプロパンエトキシレートトリアクリレート(EOTMPTA)、トリメチロールプロパンエトキシレートトリ-メタクリレート(EOTMPTMA)、1,6-ヘキサンジオールエトキシレートジアクリレート、トリス(2-ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリアクリレート、ペンタエリトリトールテトラアクリレート(PETA)、ジペンタエリトリトールペンタ-/ヘキサ-アクリレート(DPPA/DPHA)等のジ、トリ、テトラおよび/またはペンタ官能性アクリレートおよび/またはメタクリレートモノマー、またはそれらの組み合わせを含む、請求項1~9のいずれか一項に記載の配合物。
- 架橋剤、好ましくは、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトプロピオネート)等のジ、トリ、および/またはテトラ官能性チオール架橋剤を含む、請求項1~10のいずれか一項に記載の配合物。
- 1つまたは複数の高屈折率および/または含硫黄モノマーおよび/または樹脂を含み、好ましくは、前記モノマーおよび/または樹脂が下記構造体を有する化合物およびそれらの誘導体:
- 1-ビニル-2-ピロリドン(NVP)、N-ビニルカプロラクタム、アクリレートモルフォリン、および2-カルボキシエチルアクリレート(2-CEA)等の反応性希釈剤を含み、
前記反応性希釈剤の重量パーセントが、合計の配合物に対して0.1~40重量%、好ましくは1.0~10重量%である、請求項1~12のいずれか一項に記載の配合物。 - 任意で、さらに硬化剤、界面活性剤、湿潤剤、酸化防止剤、接着促進剤、レベリング剤、分散剤、可塑剤、強化剤、増粘剤、シンナー、分散剤、軟化剤、有機ドーパント、および他の官能性添加物から独立して選択される1つまたは複数の薬剤を含み、
添加物の重量パーセントが合計の配合物に対して0.1~10重量%に及ぶ、請求項1~13のいずれか一項に記載の配合物。 - Ebercryl P115、CN374、Esacure 1001M等の相乗剤と共に、またはそれらを含まずに、Irgacure 184、Irgacure 819、TPO、ITX(2-イソプロピルチオキサントン)、Ebercryl P39等の硬化剤または光開始剤を含み、合計の配合物中の上記硬化剤、光開始剤および/または相乗剤の濃度は、モノマー含有量に対して0.1~20重量%の範囲内(例えば、0.1%、1%、2%、3%、5%、10%、20重量%、または引用された値の間の任意の範囲または値、例えば0.1~5%、1~10%等)または1.0~4.0重量%の範囲内(例えば、1%、2%、3%、4重量%、または引用された値の間の任意の範囲または値、例えば2~4%等)である、請求項1~14のいずれか一項に記載の配合物。
- アクリレートモノマー系中において非反応性または反応性のいずれかである、ポリエーテルで変性されたシロキサン、フルオロ界面活性剤、またはそれらの組み合わせ等の界面活性剤および/もしくは湿潤剤、または界面活性剤および/もしくは湿潤剤の組み合わせを含み、
合計の配合物中の上記界面活性剤および/または湿潤剤の濃度が0.1~2.0重量%の範囲内または0.5~1.0重量%の範囲内である、請求項1~15のいずれか一項に記載の配合物。 - 配合物が、ナノインプリントされた構造体を形成するためのナノインプリントが可能である、請求項1~16のいずれか一項に記載の配合物。
- 配合物が、バイナリ、傾斜、鋸歯形および他の形状を含むナノインプリントされた構造体を製造するためのナノインプリントが可能である、請求項17に記載の配合物。
- 配合物が、10~1000nmのオーダーでナノインプリントされた構造体(すなわち、高さ、幅、およびピッチ)を製造するためのナノインプリントが可能である、請求項17または18に記載の配合物。
- 配合物は、アスペクト比が0.5:1~10:1であるナノインプリントされた構造体を製造するためのナノインプリントが可能である、請求項17~19のいずれか一項に記載の配合物。
- ナノインプリントが可能な配合物が、アルコール、グリコール、酢酸メチル、酢酸エチル、エステル、ケトン、グリコールエーテル、グリコールエステル、例えば、酢酸プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGMEA)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)、酢酸エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、酢酸ジプロピレングリコールメチルエーテル、ブトキシエタノール、ブトキシプロパノール、エトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸エチル、2-(イソペンチルオキシ)エタノール、2-(ヘキシルオキシ)エタノール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、およびジプロピレングリコールモノエチルエーテル、酢酸エチル、THF、アセトン、ならびにそれらの任意の組み合わせから選択される溶媒を含む、請求項17~20のいずれか一項に記載の配合物。
- 酢酸プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGMEA)および/またはジプロピレングリコールメチルエーテル(DPGME)の溶媒を含む、請求項17~20のいずれか一項に記載の配合物。
- 溶媒含有量が、配合物の5~10重量%の間である、請求項21または22に記載の配合物。
- 溶媒含有量が、配合物の10重量%よりも高い、請求項21または22に記載の配合物。
- 少なくとも部分的にキャップされた金属酸化物ナノ結晶を、配合物の35~40%、40~45%、45~50%、50~55%、55~60%、60~65%、65~70%、70~75%および75~80重量%から選択される量で含む、請求項17~24のいずれか一項に記載の配合物。
- ブルックフィールドRVDV II+コーンおよびプレート粘度計を用いて25℃で測定された場合の、配合物の粘度が1~1000cPの範囲内であり、好ましいナノインプリントが可能な粘度が5~100cP(例えば、5cP、10cP、20cP、50cP、100cP、または引用された値の間における任意の範囲または値、例えば5~50cPまたは5~20cP等)であり、これは、厚さが100nm~20ミクロンに及ぶフィルムを堆積させるために好ましい、請求項17~25のいずれか一項に記載の配合物。
- 配合物中の溶媒含有量が5重量%未満である、または前記配合物が無溶媒である、請求項21または22に記載の配合物。
- 少なくとも部分的にキャップされた金属酸化物ナノ結晶を、配合物の35~40%、40~45%、45~50%、50~55%、55~60%、60~65%、65~70%、70~75%および75~80重量%から選択される量で含む、請求項27に記載の配合物。
- ブルックフィールドRVDV II+コーンおよびプレート粘度計を用いて25℃で測定された場合の、配合物の粘度が100~100,000cPの範囲内であり、好ましいナノインプリントが可能な粘度が300~10,000cP(例えば、300cP、1,000cP、2,000cP、5,000cP、10,000cP、または引用された値の間における任意の範囲または値、例えば300~5,000cPまたは1,000~10,000cP等)であり、これは、厚さが100nm~20ミクロンに及ぶフィルムを堆積させるために好ましい、請求項27に記載の配合物。
- 最大60℃の温度までのプリントヘッドの加熱に伴う配合物の粘度が、ブルックフィールドRVDV II+コーンおよびプレート粘度計を用いて25℃で測定された場合に1~1000cPの範囲内であり、好ましいインクジェット可能な粘度が5~40cP(例えば、5cP、10cP、20cP、30cP、40cP、または引用された値の間における任意の範囲または値、例えば5~30cPまたは10~40cP等)である、請求項23または24に記載の配合物。
- 配合物がインクジェット印刷可能である、すなわち、3~9m/sの落下速度で6~40pLの間の液滴容量で配合物の液滴がDimatix DMC、Fujifilm SG1024/MA、Konica Minolta KM1024i等のプリントヘッドタイプから吐出され得る、請求項1~30のいずれか一項に記載の配合物。
- インクジェットプリントヘッドノズル板で、またはその近傍での乾燥に対する耐性が、0.1分~24時間に及ぶ時間、30~60℃に及ぶ印刷温度において適している、請求項31に記載の配合物。
- 請求項1~32のいずれか一項に記載の配合物から製造されたナノコンポジット。
- スピンコーティング、スロットダイコーティング、スクリーン印刷、インクジェット印刷、ナノインプリンティング、フォトパターニング、3D印刷、ディップコーティング、ドローバーコーティング、ロール・ツー・ロール印刷、スプレーコーティング、ディスペンシング、ボリューム・キャスティング、またはそれらの任意の組み合わせを介して、表面または基材に対して請求項1~32のいずれか一項に記載の配合物を塗布する工程と、
任意で塗布された配合物を硬化させる工程と
を含むプロセスから調製されるナノコンポジットフィルム。 - 請求項1~32のいずれか一項に記載の配合物から製造されたナノインプリントされたナノコンポジット。
- バイナリ、傾斜、鋸歯形および/または他の形状を有するナノインプリントされた構造体を含む、請求項33~35のいずれか一項に記載のナノコンポジット。
- 10~1000nmのオーダーで(例えば10~200nm、50~500nm等)高さ、幅、および/またはピッチを有するナノインプリントされた構造体を含む、請求項33~35のいずれか一項に記載のナノコンポジット。
- アスペクト比が0.5:1~10:1(例えば2:1、5:1、8:1等)であるナノインプリントされた構造体を含む、請求項33~37のいずれか一項に記載のナノコンポジット。
- ナノコンポジットが、厚さが10ナノメートル~100マイクロメートル(例えば10nm、100nm、500nm、1ミクロン、10ミクロン、20ミクロン、50ミクロン、100ミクロン、または引用された値の間の任意の範囲または値、例えば100nm~10ミクロン、500nm~10ミクロン等)、または0.5~20マイクロメートルに及ぶフィルムである、請求項33~38のいずれか一項に記載のナノコンポジット。
- 配合物が、空気、窒素等の不活性雰囲気下、および/またはナノインプリントスタンプのカバーの下で、0.1~10J/cm2、または0.5~2J/cm2に及ぶUV線量で、波長が365nm、385nm、395nm、または405nmであるUV LED源の下で、または水銀「D」、「H」および/または「V」ランプを介したUV照射を介して硬化された、または部分的に硬化された請求項33~39のいずれか一項に記載のナノコンポジット。
- UV照射に先行し、かつ後行する0.01~3時間に及ぶ熱暴露を目的として、25~200Cに及ぶ温度でホットプレートまたは対流オーブンを用いて配合物がプリベークおよび/またはポストベーク条件に付される、請求項33~40のいずれか一項に記載のナノコンポジット。
- 少なくとも部分的にキャップされた金属酸化物ナノ結晶を、ナノコンポジットの35~40%、40~45%、45~50%、50~55%、55~60%、60~65%、65~70%、70~75%および75~80重量%から選択される量で含む、請求項33~41のいずれか一項に記載のナノコンポジット。
- 589nmで1.54~1.56、1.56~1.58、1.58~1.60、1.60~1.62、または1.62~1.64、1.64~1.66、または1.66~1.68、または1.68~1.70、または1.70~1.72、または1.72~1.74、または1.74~1.76または1.76~1.78、または1.78~1.80、または1.80~1.82、または1.82~1.84、または1.84~1.86、または1.86~1.88、または1.88~1.90、1.90~1.92、または1.92~1.94、または1.94~1.96、または1.96~1.98、または1.98~2.00、または2.00~2.02、または2.02~2.04、または2.04~2.06、または2.06~2.08、または2.08~2.10、または2.10超に及ぶ屈折率を有する、請求項33~42のいずれか一項に記載のナノコンポジット。
- 10ミクロン未満の厚さで硬化された、または部分的に硬化されたナノコンポジットの%Tが、300~400nmの紫外Aおよび近紫外スペクトル、400~700nmの可視波長、および/または700~1600nmの近赤外および赤外スペクトルにおいて、99%~95%、または95%~90%、または90%~85%、または85%~80%、80%~75%、または75%~70%、または70%~65%、または65%~60%、または60%~55%、または55%~50%、または50%~45%、または45%~40%、または40%~35%、または35%~30%、または30%~25%、または25%~20%、または20%~15%、または15%~10%である、請求項33~43のいずれか一項に記載のナノコンポジット。
- ナノインデンテーションにより測定される硬度が、1~400MPa(例えば、1MPa、10MPa、50MPa、100MPa、200MPa、300MPa、400MPa、または引用された値の間の任意の範囲または値、例えば10~300MPa、50~200MPa等)に及ぶことを特徴とする、請求項33~44のいずれか一項に記載のナノコンポジット。
- ナノインデンテーションにより測定されるヤング率が0.1~10GPa(例えば、0.1GPa、0.5GPa、1GPa、2GPa、5GPa、10GPa、または引用された値の間の任意の範囲または値、例えば0.5~5GPa、1~10GPa等)に及ぶことを特徴とする、請求項33~45のいずれか一項に記載のナノコンポジット。
- 請求項33~46のいずれか一項に記載のナノコンポジットを含む、デバイス。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US202163166591P | 2021-03-26 | 2021-03-26 | |
US63/166,591 | 2021-03-26 | ||
PCT/US2022/022120 WO2022204586A1 (en) | 2021-03-26 | 2022-03-28 | Zirconia and titania formulations and nanocomposites for nanoimprint lithography |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2024514459A true JP2024514459A (ja) | 2024-04-02 |
Family
ID=83397957
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023558907A Pending JP2024514459A (ja) | 2021-03-26 | 2022-03-28 | ナノインプリントリソグラフィ用のジルコニア配合物およびチタニア配合物、ならびにナノコンポジット |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP4314146A1 (ja) |
JP (1) | JP2024514459A (ja) |
KR (1) | KR20230162647A (ja) |
CN (1) | CN117916299A (ja) |
WO (1) | WO2022204586A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20240168227A1 (en) * | 2022-11-18 | 2024-05-23 | Microsoft Technology Licensing, Llc | High refractive index nanoimprintable resin for optical waveguide applications |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6178725B2 (ja) * | 2010-04-23 | 2017-08-09 | ピクセリジェント・テクノロジーズ,エルエルシー | ナノ結晶の合成、キャップ形成および分散 |
CN104884976B (zh) * | 2012-12-20 | 2016-11-09 | 皇家飞利浦有限公司 | 光学组合物 |
US10988598B2 (en) * | 2015-03-30 | 2021-04-27 | Pixelligent Technologies, Llc | High refractive index solvent free silicone nanocomposites |
WO2018227629A1 (en) * | 2017-06-16 | 2018-12-20 | Essilor International | High refractive index nanoparticles |
EP3884085A4 (en) * | 2018-11-20 | 2022-09-07 | Pixelligent Technologies, LLC | SYNTHESIS, CUTTING AND DISPERSION OF TIO2 NANOCRYSTALS |
-
2022
- 2022-03-28 WO PCT/US2022/022120 patent/WO2022204586A1/en active Application Filing
- 2022-03-28 KR KR1020237036155A patent/KR20230162647A/ko unknown
- 2022-03-28 CN CN202280031782.8A patent/CN117916299A/zh active Pending
- 2022-03-28 JP JP2023558907A patent/JP2024514459A/ja active Pending
- 2022-03-28 EP EP22776778.7A patent/EP4314146A1/en active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20230162647A (ko) | 2023-11-28 |
EP4314146A1 (en) | 2024-02-07 |
CN117916299A (zh) | 2024-04-19 |
WO2022204586A1 (en) | 2022-09-29 |
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