JP2024509238A - Mask plate and mask device - Google Patents
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- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims abstract description 74
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 33
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims abstract description 31
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 30
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims abstract description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 9
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 claims description 31
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract description 25
- 238000010586 diagram Methods 0.000 abstract description 13
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 12
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
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Abstract
本願の実施例は、被蒸着基板を蒸着するためのマスクプレートを提供し、マスクプレートはパネル領域を含み、パネル領域は、蒸着部と非蒸着部とを含み、少なくとも一部の前記非蒸着部は、前記蒸着部の第1の方向における一方側に位置し、前記非蒸着部は、第1のセクションと、少なくとも1つの第2のセクションとを含み、第1のセクションと蒸着部とが隣接する境界線で囲まれて非蒸着領域が形成され、少なくとも1つの第2のセクションは、非蒸着領域内に位置し、蒸着部、第1のセクション及び第2のセクションのうちの境界が隣接する二者の質量空間比は異なり、質量空間比は、自体が占有する空間の総体積に対する各部材自体の質量の比である。第1のセクションと蒸着部との質量空間比が異なることにより、第1のセクションと蒸着部との間にも材料急変境界が形成され、これらの材料急変境界によりマスクプレートの耐変形能を向上させ、製品蒸着時にマスクプレートと被蒸着基板とが効果的に接触できないことによる蒸着不良の問題を改善することができる。【選択図】図3Embodiments of the present application provide a mask plate for depositing a substrate to be deposited, the mask plate includes a panel region, the panel region includes a deposition portion and a non-deposition portion, and at least some of the non-deposition portion is located on one side of the vapor deposition section in the first direction, the non-evaporation section includes a first section and at least one second section, and the first section and the vapor deposition section are adjacent to each other. A non-evaporation area is formed surrounded by a boundary line, and the at least one second section is located within the non-evaporation area, and the boundaries of the vapor deposition part, the first section, and the second section are adjacent to each other. The mass-space ratio of the two is different, and the mass-space ratio is the ratio of the mass of each member itself to the total volume of space it occupies. Due to the difference in mass space ratio between the first section and the vapor deposition section, sudden material change boundaries are also formed between the first section and the vapor deposition section, and these sudden material change boundaries improve the deformation resistance of the mask plate. By doing so, it is possible to improve the problem of poor vapor deposition due to the inability of effective contact between the mask plate and the substrate to be vaporized during product vapor deposition. [Selection diagram] Figure 3
Description
本願は、2021年11月29日に提出された名称が「マスクプレート」である中国特許出願第202111434210.8号の優先権を要求し、該出願の全ての内容は引用により本明細書に組み込まれる。 This application claims priority to China Patent Application No. 202111434210.8 entitled "Mask Plate" filed on November 29, 2021, the entire content of which is incorporated herein by reference. It will be done.
本願は、表示デバイスの製造という技術分野に関し、特にマスクプレート及びマスク装置に関する。 TECHNICAL FIELD The present application relates to the technical field of manufacturing display devices, and in particular to mask plates and mask devices.
表示技術の発展に伴い、ますます多くの表示パネル及び表示装置が人々の日常生活及び作業に応用されている。ユーザ体験を向上させるために、従来の表示パネル構造には、一般的に、例えばカメラ、赤外線センサなどのセンサモジュールが集積されている。 With the development of display technology, more and more display panels and display devices are being applied in people's daily life and work. To improve the user experience, conventional display panel structures typically integrate sensor modules, such as cameras, infrared sensors, and the like.
現在、比較的高い画面占有率を満たすために、通常、表示パネルの一端の中間領域に透光性の穴開け領域を設け、穴開け領域内にセンサモジュールを設けている。現段階の表示パネルの製造において、通常、金属マスクプレートを用いて有機発光材料を蒸着する。表示パネルの形状の変化により、いくつかの特殊な形態の製品のマスクプレート設計の複雑さが徐々に高くなり、マスクプレートが変形してしわが非常によりやすく、製品の蒸着時にマスクプレートと被蒸着基板とが効果的に接触できず、蒸着不良の現象が現れる。 Currently, in order to meet a relatively high screen occupancy rate, a transparent perforated area is usually provided in the middle area of one end of the display panel, and a sensor module is provided within the perforated area. In the current state of display panel manufacturing, a metal mask plate is usually used to deposit organic light emitting materials. Due to the change in the shape of the display panel, the complexity of the mask plate design for some special forms of products gradually increases, and the mask plate is very easy to deform and wrinkle, and when the product is deposited, the mask plate and the deposited object are Effective contact with the substrate is not possible, resulting in a phenomenon of poor deposition.
本願の実施例は、蒸着の歩留まりを向上させることを目的とするマスクプレート及びマスク装置を提供する。 Embodiments of the present application provide a mask plate and a mask apparatus aimed at improving deposition yield.
本願の第1の態様の実施例は、被蒸着基板を蒸着するためのマスクプレートを提供し、マスクプレートは、パネル領域を含み、パネル領域は、蒸着部と非蒸着部とを含み、少なくとも一部の非蒸着部は、蒸着部の第1の方向における一方側に位置し、非蒸着部は、第1のセクションと、少なくとも1つの第2のセクションとを含み、第1のセクションと蒸着部とが隣接する境界線で囲まれて非蒸着領域が形成され、少なくとも1つの第2のセクションは、非蒸着領域内に位置し、蒸着部、第1のセクション及び第2のセクションのうちの境界が隣接する二者の質量空間比は異なり、質量空間比は、各部材自体の質量の、それ自体が占有する空間の総体積に対する比である。 An embodiment of the first aspect of the present application provides a mask plate for depositing a substrate to be deposited, the mask plate including a panel region, the panel region including a deposited portion and a non-deposited portion, and at least one The non-vapor deposited part of the part is located on one side of the deposited part in the first direction, the non-deposited part includes a first section and at least one second section, and the non-deposited part includes the first section and the deposited part. A non-evaporation area is formed by surrounding the adjacent boundary lines, and at least one second section is located within the non-evaporation area, and the boundary between the vapor deposition part, the first section, and the second section is formed. The mass-space ratio of two adjacent members is different, and the mass-space ratio is the ratio of the mass of each member itself to the total volume of the space it occupies.
本願の第1の態様の実施形態によれば、蒸着部、第1のセクション及び第2のセクションのうちの境界が隣接する任意の二者の質量空間比が異なり、第1のセクションと蒸着部との境界の隣接箇所に第1の境界線が形成され、第1の境界線は、直線又は曲線で延在する第1の急変線を含み、第1の急変線の延在方向又はその接線の延在方向と、第1の方向とが平行であり、又は両者の夾角が鋭角をなす。 According to the embodiment of the first aspect of the present application, any two of the vapor deposition section, the first section, and the second section whose boundaries are adjacent to each other have different mass space ratios, and the first section and the vapor deposition section A first boundary line is formed at a location adjacent to the boundary between The extending direction and the first direction are parallel, or the included angle between the two forms an acute angle.
本願の第1の態様の前記いずれかの実施形態によれば、第1のセクションと第2のセクションとの境界の隣接箇所に第2の境界線が形成され、少なくとも一部の第2の境界線が直線又は曲線で延在し、少なくとも一部の第2の境界線の延在方向又はその接線の延在方向と、少なくとも一部の第1の境界線の延在方向又はその接線の延在方向とが互いに平行であり、又は、少なくとも一部の第2の境界線の延在方向又はその接線の延在方向と、少なくとも一部の第1の境界線の延在方向又はその接線の延在方向との夾角が鋭角である。 According to any of the embodiments of the first aspect of the present application, the second boundary line is formed adjacent to the boundary between the first section and the second section, and at least part of the second boundary The line extends in a straight line or a curve, and at least a part of the second boundary line extends in the extending direction or the tangent line thereof extends, and at least a part of the first boundary line extends in the extending direction or the tangent line thereof extends in the extending direction. or the extending direction of at least some of the second boundary lines or the extending direction of the tangent lines thereof and the extending direction of at least some of the first boundary lines or the extending direction of the tangent lines thereof. The included angle with the extending direction is an acute angle.
本願の第1の態様の前記いずれかの実施形態によれば、第1の境界線は、直線又は曲線で延在する第2の急変線をさらに含み、第2の急変線の延在方向又はその接線の延在方向は、第1の方向に垂直であり、第2の境界線は、第2の急変線に隣接する第2のサブ線を含み、第2のサブ線は、直線又は曲線で延在し、第2のサブ線の延在方向又はその接線の延在方向と、第2の急変線又は第2の急変線の接線の延在方向とは、互いに平行であり、又は、第2のサブ線の延在方向又はその接線の延在方向と、第2の急変線又は第2の急変線の接線の延在方向との夾角は、鋭角である。 According to any of the above embodiments of the first aspect of the present application, the first boundary line further includes a second sudden change line extending in a straight line or a curve, and the second sudden change line extends in the extending direction or The extending direction of the tangent line is perpendicular to the first direction, the second boundary line includes a second sub-line adjacent to the second abrupt line, and the second sub-line is a straight line or a curved line. and the extending direction of the second sub-line or the extending direction of the tangent line thereof and the extending direction of the second sudden change line or the tangent line of the second sudden change line are parallel to each other, or The angle between the extending direction of the second sub-line or the extending direction of the tangent thereof and the extending direction of the second sudden change line or the tangent to the second sudden change line is an acute angle.
本願の第1の態様の前記いずれかの実施形態によれば、第2のサブ線は、互いに間隔をあけて分布する複数の短線を含む。 According to any of the above embodiments of the first aspect of the present application, the second sub-line comprises a plurality of short lines distributed at intervals.
本願の第1の態様の前記いずれかの実施形態によれば、第2の境界線は、第1の急変線に隣接する第1のサブ線を含み、第1のサブ線は、直線又は曲線で延在し、第1のサブ線の延在方向又はその接線の延在方向と、第1の急変線又は第1の急変線の接線の延在方向とは、互いに平行であり、又は、第1のサブ線の延在方向又はその接線の延在方向と、第1の急変線又は第1の急変線の接線の延在方向との夾角は、鋭角である。 According to any of the above embodiments of the first aspect of the present application, the second boundary line includes a first sub-line adjacent to the first sudden change line, and the first sub-line is a straight line or a curved line. and the extending direction of the first sub-line or the extending direction of the tangent thereof and the extending direction of the first sudden change line or the tangent to the first sudden change line are parallel to each other, or The angle between the extending direction of the first sub-line or the extending direction of the tangent thereof and the extending direction of the first sudden change line or the tangent to the first sudden change line is an acute angle.
本願の第1の態様の前記いずれかの実施形態によれば、少なくとも1つの第2のセクションは、複数の第2のセクションを含み、複数の第2のセクションは、非蒸着領域内に間隔をあけて分布している。 According to any of the above embodiments of the first aspect of the present application, the at least one second section includes a plurality of second sections, the plurality of second sections being spaced apart within the non-deposited region. It is widely distributed.
本願の第1の態様の前記いずれかの実施形態によれば、複数の第2のセクションは、第1の方向に沿って延び且つ蒸着部を二等分する中心線に関して対称に分布している。 According to any of the above embodiments of the first aspect of the present application, the plurality of second sections are distributed symmetrically with respect to a center line that extends along the first direction and bisects the deposition area. .
本願の第1の態様の前記いずれかの実施形態によれば、第2のセクション自体は、第1の方向に沿って延びる軸線に関して軸対称に設けられている。 According to any of the above embodiments of the first aspect of the present application, the second section itself is provided axially symmetrically with respect to the axis extending along the first direction.
本願の第1の態様の前記いずれかの実施形態によれば、隣接する2つの第2のセクションの隣接する境界線は、互いに平行に設けられ、又は夾角が鋭角をなす。 According to any of the above embodiments of the first aspect of the present application, the adjacent boundary lines of two adjacent second sections are provided parallel to each other, or the included angles form an acute angle.
本願の第1の態様の前記いずれかの実施形態によれば、第2のセクションは複数の開口を含み、開口はマスクプレートの厚さ方向に沿って第2のセクションを貫通して設けられ、又は、開口は、第2のセクションの表面が凹んで形成されている。 According to any of the above embodiments of the first aspect of the present application, the second section includes a plurality of openings, the openings are provided through the second section along the thickness direction of the mask plate, Alternatively, the opening is formed by recessing the surface of the second section.
本願は、フレームと、フレームに設けられた上記第1の態様のいずれかの実施例に係るマスクプレートと、を備えるマスク装置をさらに提供する。 The present application further provides a mask device including a frame and a mask plate according to any of the embodiments of the first aspect provided on the frame.
本願の実施例に係るマスクプレートにおいて、マスクプレートは、完全な表示パネルを蒸着するためのパネル領域を含む。パネル領域は、表示パネルの通常表示領域を蒸着するための蒸着部と表示パネルにおける穴開け領域を蒸着するための非蒸着部とを含む。非蒸着部は、第1のセクションと第2のセクションとを含み、少なくとも1つの第2のセクションは、第1のセクションにより囲まれて形成された非蒸着領域内に位置し、第1のセクションと第2のセクションとの間に材料急変境界を形成できるように、第1のセクションと第2のセクションとの質量空間比が異なる。第1のセクションと蒸着部との質量空間比が異なることにより、第1のセクションと蒸着部との間にも材料急変境界を形成することが可能であり、これらの材料急変境界によりマスクプレートの耐変形能を向上させることができる。且つ、マスクプレートの異なる位置の受ける力をより均等にし、しわが発生しにくく、製品の蒸着時にマスクプレートと被蒸着基板とが効果的に接触できないことによる蒸着不良の問題を改善することができる。 In a mask plate according to an embodiment of the present application, the mask plate includes a panel area for depositing a complete display panel. The panel area includes a vapor deposition part for vapor depositing the normal display area of the display panel and a non-evaporation part for vapor depositing the perforation area in the display panel. The non-evaporated portion includes a first section and a second section, at least one second section is located within a non-evaporated region surrounded by the first section, and the first section The first section and the second section have different mass-space ratios such that an abrupt material transition boundary can be formed between the first section and the second section. Due to the difference in the mass-space ratio between the first section and the vapor deposition section, it is possible to form an abrupt material change boundary between the first section and the vapor deposition section, and these sudden material change boundaries allow the mask plate to Deformation resistance can be improved. In addition, the force applied to different positions of the mask plate is made more uniform, wrinkles are less likely to occur, and the problem of poor deposition due to the inability of effective contact between the mask plate and the substrate to be deposited during product deposition can be improved. .
本願の他の特徴、目的及び利点は、図面を参照して以下の非限定的な実施例の詳細な説明を読むことにより明らかになる。ここで、同一または類似の符号は、同一または類似の特徴を示す。 Other features, objects and advantages of the present application will become apparent from the following detailed description of non-limiting embodiments taken in conjunction with the drawings. Here, the same or similar symbols indicate the same or similar features.
10 マスクプレート
20 フレーム
30 表示パネル
31 表示領域
32 非表示領域
100 蒸着部
200 非蒸着部
210 第1のセクション
220 第2のセクション
211 開口
300 第1の境界線
310 第1の急変線
320 第2の急変線
400 第2の境界線
410 第1のサブ線
420 第2のサブ線
421 短線
MA パネル領域
P 中心線
10 Mask plate 20
以下、本願の各態様の特徴及び例示的な実施例を詳細に説明する。以下の詳細な説明では、本願の包括的な理解を提供するために、多くの具体的な詳細が提案される。しかしながら、当業者には明らかなように、本願は、これらの特定の詳細のいくつかを必要とせずに実施され得る。以下の実施例の説明は、本願の例を示して本願をよりよく理解するために提供されるに過ぎない。図面及び以下の説明において、少なくとも一部の公知の構造及び技術は、本願に不必要な曖昧さを避けるために示されておらず、また、明瞭化のために、一部の構造の寸法が誇張されている場合がある。また、以下に説明する特徴、構造又は特性は、任意の適切な方式で1つ又は複数の実施例に組み合わせることができる。 Features and exemplary embodiments of aspects of the present application are described in detail below. In the detailed description that follows, many specific details are put forward in order to provide a comprehensive understanding of the present application. However, as will be apparent to those skilled in the art, the present application may be practiced without the need for some of these specific details. The following description of the examples is provided merely to illustrate the present application and to provide a better understanding of the present application. In the drawings and the following description, at least some well-known structures and techniques are not shown to avoid unnecessary obscurity in this application, and dimensions of some structures are shown for clarity. May be exaggerated. Additionally, the features, structures, or characteristics described below may be combined in any suitable manner in one or more embodiments.
図1は、表示パネル30の構造概略図である。表示パネル30は、表示領域31と非表示領域32とを含み、非表示領域32は、例えば、穴開け領域であってもよく、非表示領域32は、カメラ、イヤピースなどの部品を配置するために用いられる。
FIG. 1 is a schematic structural diagram of the
マスクプレートを利用して表示パネル30を蒸着して形成する過程において、マスクプレートにおける表示パネル30を蒸着するためのパネル領域MA内に、通常、蒸着領域と非蒸着領域とを設置する必要がある。非蒸着領域は、通常、遮蔽板構造であり、マスクプレートが引っ張られると、蒸着領域と非蒸着領域とで受ける力の違いにより変形してしわになり、製品の蒸着時にマスクプレートと被蒸着基板とが効果的に接触できず、蒸着不良の現象が現れる。
In the process of vapor depositing and forming the
本願は、上記技術的問題を解決するためになされるものである。本願をよりよく理解するために、以下、図2~図5を参照して本願の実施例に係るマスクプレート及びマスク装置を詳細に説明する。 This application is made to solve the above technical problem. In order to better understand the present application, mask plates and mask devices according to embodiments of the present application will be described in detail below with reference to FIGS. 2 to 5.
図2及び図3を参照すると、図2は、本願の第1の態様の実施例に係るマスクプレート10の構造概略図である。図3は図2におけるI箇所の部分拡大構造概略図である。
Referring to FIGS. 2 and 3, FIG. 2 is a structural schematic diagram of a
図2及び図3に示すように、本願の実施例に係るマスクプレート10は、被蒸着基板を蒸着するために用いられ、マスクプレート10は、パネル領域MAを含む。このパネル領域MAは、蒸着部100と、蒸着部100に設けられた非蒸着部200とを含む。前記非蒸着部200は、少なくとも一部が第1の方向において前記蒸着部100の一方側に設けられ、即ち、少なくとも一部の非蒸着部200が蒸着部100の第1の方向における一方側に位置する。第1の方向は、例えば、図1に示す縦方向、図2及び図3に示す横方向であってよい。非蒸着部200の一部、又は非蒸着部200の主要部分、非蒸着部200の全部が蒸着部100の図1の縦方向における一方側に位置してもよいし、前記非蒸着部200の一部、又は非蒸着部200の主要部分、非蒸着部200の全部が蒸着部100の図2及び図3の横方向における一方側に位置してもよい。
As shown in FIGS. 2 and 3, the
非蒸着部200は、第1のセクション210と第2のセクション220とを含み、第1のセクション210と蒸着部100との隣接する境界線により囲まれて非蒸着領域が形成され、少なくとも1つの第2のセクション220は前記非蒸着領域内に位置する。前記蒸着部100、第1のセクション210及び第2のセクション220では、少なくとも一組の、境界が隣接し且つその質量空間比が異なる二者を備える。言い換えれば、前記蒸着部100、第1のセクション210及び第2のセクション220の三者のうち、少なくとも一組の要素を備える。例えば、蒸着部100と第1のセクション210とであってもよく、前記蒸着部100と第1のセクション210とは隣接し且つ質量空間比が異なる。又は、少なくとも一組の要素を備え、例えば、第1のセクション210と第2のセクション220とであってもよく、前記第1のセクション210と第2のセクション220とは隣接し且つ質量空間比が異なる。
The
好ましくは、前記蒸着部100、第1のセクション210及び第2のセクション220の三者において、境界の隣接する任意の二者の質量空間比は異なる。すなわち、上記蒸着部100と第1のセクション210とは隣接し且つ質量空間比が異なり、また、第1のセクション210と第2のセクション220とは隣接し且つ質量空間比も異なる。前記質量空間比は、各部材自体の質量の、それ自体が占有する空間の総体積に対する比である。占有空間の総体積は、実体部分の体積及び実体内に設けられた空洞部分の体積を含む。
Preferably, in the
パネル領域MAは、マスクプレート10における単一の表示パネル30を蒸着形成するための領域である。蒸着部100は、表示パネル30の表示領域31を蒸着形成するためのものであり、非蒸着領域は、表示パネル30の非表示領域32を形成するためのものである。マスクプレート10に、1つのパネル領域MAのみが設けられてもよいし、マスクプレート10に複数のパネル領域MAが設けられてもよく、例えば、複数のパネル領域MAは、マスクプレート10に行列状に分布している。
Panel area MA is an area on
蒸着部100、第1のセクション210及び第2のセクション220のうちの境界の隣接する任意の二者の質量空間比が異なるとは、蒸着部100と第1のセクション210との境界が隣接する場合、蒸着部100と第1のセクション210との質量空間比が異なり、第1のセクション210と第2のセクション220との境界が隣接する場合、第1のセクション210と第2のセクション220との質量空間比が異なることをいう。蒸着部100は、表示パネル30の表示領域31を蒸着形成するために用いられ、例えば、マスクプレート10が精密マスクプレートである場合、蒸着部100は、複数の蒸着開口(図示せず)を有し、蒸着開口により表示パネル30のサブ画素を形成することができる。
The difference in mass space ratio between any two adjacent boundaries among the
蒸着部100の質量空間比とは、蒸着部100の総質量を蒸着部100の外郭が占める空間の総体積で除したものである。例えば、蒸着部100に蒸着開口が設けられる場合、蒸着部100の外郭が占める空間の総寸法は、蒸着部100における蒸着開口が占める空間の体積を含む。
The mass-to-space ratio of the
同様に、第1のセクション210の質量空間比とは、第1のセクション210の総質量を第1のセクション210の外郭が占める空間の総体積で除したものである。第2のセクション220の質量空間比とは、第2のセクション220の総質量を第2のセクション220の外郭が占める空間の総体積で除したものである。
Similarly, the mass-to-space ratio of the
本願の実施例に係るマスクプレート10において、マスクプレート10は、完全な表示パネル30を蒸着するためのパネル領域MAを含む。パネル領域MAは蒸着部100と非蒸着部200とを含み、蒸着部100は表示パネル30の正常な表示領域31を蒸着するために用いられ、非蒸着部200は表示パネル30における穴開け領域を蒸着するために用いられる。非蒸着部200は、第1のセクション210と第2のセクション220とを含み、少なくとも1つの第2のセクション220は、第1のセクション210により囲まれて形成された非蒸着領域内に位置し、第1のセクション210と第2のセクション220との質量空間比が異なることにより、第1のセクション210と第2のセクション220との間に材料急変境界が形成される。第1のセクション210と蒸着部100との質量空間比が異なることにより、第1のセクション210と蒸着部100との間にも材料急変境界が形成され、これらの材料急変境界は、マスクプレート10の耐変形能を向上させることが可能であり、且つマスクプレート10の異なる位置の受ける力をより均等にし、しわが発生しにくく、製品蒸着時にマスクプレート10と被蒸着基板とが効果的に接触できないことによる蒸着不良の問題を改善することができる。
In the
好ましくは、蒸着部100、第1のセクション210及び第2のセクション220の材料は同じであってもよく、蒸着部100に蒸着開口、凹溝等を設けることにより蒸着部100の質量空間比を低減させてもよく、第2のセクション220に貫通孔又は凹溝等を設けることにより第2のセクション220の質量空間比を低減させてもよい。
Preferably, the material of the
図3~図5を参照すると、図4は、本願の第1の態様の別の実施例に係る図2のI箇所の部分拡大構造概略図である。図5は本願の第1の態様の更に別の実施例に係る、図2のI箇所の部分拡大構造概略図である。 Referring to FIGS. 3 to 5, FIG. 4 is a partially enlarged structural schematic diagram of location I in FIG. 2 according to another embodiment of the first aspect of the present application. FIG. 5 is a partially enlarged structural schematic diagram of location I in FIG. 2, according to yet another embodiment of the first aspect of the present application.
いくつかの好ましい実施例では、第1のセクション210と蒸着部100との境界の隣接箇所に第1の境界線300が形成され、第1の境界線300は、直線又は曲線で延在する第1の急変線310を含み、前記第1の急変線310の延在方向又はその接線の延在方向と前記第1の方向とが平行であるか又は両者の夾角が鋭角をなす。例えば、第1の急変線310の延在方向又はその接線の延在方向と前記第1の方向との夾角は、45度未満の鋭角であってもよく、例えば、第1の急変線310の延在方向又はその接線の延在方向と前記第1の方向との夾角は、30度未満の鋭角であり、0度であることが好ましい。ここでの夾角が小さくなるほど、応力分散の効果が高くなり、耐変形能が良くなる。
In some preferred embodiments, a
好ましくは、引き続き図4を参照すると、第1の急変線310が直線である場合、第1の急変線310の延在方向と第1の方向との夾角は鋭角である。他の実施例では、第1の急変線310が直線である場合、第1の急変線310の延在方向と第1の方向とは互いに平行であってもよい。図4は第1の急変線310が直線であることを例として説明し、他の実施例において、第1の急変線310は曲線であってもよい。
Preferably, still referring to FIG. 4, when the first
第1の急変線310が曲線である場合、第1の急変線310の接線の延在方向と第1の方向との夾角は鋭角である。または、引き続き図5を参照すると、第1の急変線310が曲線である場合、第1の急変線310の接線の延在方向は、第1の方向に平行である。
When the first
前記非蒸着部100は、少なくとも一部が第1の方向において前記蒸着部200の一方側に設けられている。また、前記第1の急変線310の延在方向又はその接線の延在方向は、前記第1の方向と平行であるか又は両者の夾角が鋭角をなす。第1の方向に沿ってマスクプレート10が引っ張られる場合、即ち、引張方向が前記第1の方向である場合、前記非蒸着部100と前記蒸着部200とは引張方向に沿って離れる傾向がある。第1の急変線310と第1の方向との間の夾角が小さいため、第1の急変線310をこのように設置することにより、その上に受けた応力歪みを低減させ、マスクプレート10の第1の方向における耐変形能を向上させ、マスクプレート10のしわがさらに発生しにくくなる。
At least a portion of the
いくつかの好ましい実施例では、引き続き図3及び図4を参照すると、第1のセクション210と第2のセクション220との境界の隣接箇所に第2の境界線400が形成され、少なくとも一部の第2の境界線400が直線又は曲線で延在し、少なくとも一部の第2の境界線400の延在方向又はその接線の延在方向と、少なくとも一部の第1の境界線300の延在方向又はその接線の延在方向とが互いに平行である。又は少なくとも一部の第2の境界線400の延在方向又はその接線の延在方向と、少なくとも一部の第1の境界線300の延在方向又はその接線の延在方向との夾角が鋭角である。例えば、少なくとも一部の第2の境界線400の延在方向又はその接線の延在方向と、少なくとも一部の第1の境界線300の延在方向又はその接線の延在方向との夾角は、45度未満の鋭角であってもよい。例えば、少なくとも一部の第2の境界線400の延在方向又はその接線の延在方向と、少なくとも一部の第1の境界線300の延在方向又はその接線の延在方向との夾角は、30度未満の鋭角である。ここでの夾角が小さくなるほど、応力分散の効果が良くなり、耐変形能が良くなる。少なくとも一部の第2の境界線400の延在方向又はその接線の延在方向と少なくとも一部の第1の境界線300の延在方向又はその接線の延在方向との夾角が0度であり、即ち、少なくとも一部の第2の境界線400の延在方向又はその接線の延在方向と少なくとも一部の第1の境界線300の延在方向又はその接線の延在方向とが互いに平行であることは、最適な実施形態である。
In some preferred embodiments, with continued reference to FIGS. 3 and 4, a
第1の境界線300及び第2の境界線400がいずれも直線である場合、少なくとも一部の第2の境界線400の延在方向は、少なくとも一部の第1の境界線300の延在方向と平行であり、又は、少なくとも一部の第2の境界線400の延在方向と少なくとも一部の第1の境界線300の延在方向との夾角は、鋭角である。一部の第1の境界線300と一部の第2の境界線400とが互いに平行である場合、該一部の第1の境界線300の異なる位置から該一部の第2の境界線400の異なる位置までの距離は等しい。
When both the
第1の境界線300及び第2の境界線400がいずれも曲線である場合、少なくとも一部の第2の境界線400の接線の延在方向は、少なくとも一部の第1の境界線300の接線の延在方向と平行であり、又は、少なくとも一部の第2の境界線400の接線の延在方向と少なくとも一部の第1の境界線300の接線の延在方向との夾角は鋭角である。一部の第1の境界線300の接線の延在方向と一部の第2の境界線400の接線の延在方向とが互いに平行である場合、該一部の第1の境界線300の異なる位置から該一部の第2の境界線400の異なる位置までの距離は等しい。
When both the
これらの好ましい実施例において、第1の方向に沿ってマスクプレート10が引っ張られる場合、少なくとも一部の第2の境界線40は、第1の境界線30が受ける引張力を分担することが可能であり、マスクプレート10の第1の方向における耐変形能を向上させ、マスクプレート10のしわがさらに発生しにくくなる。
In these preferred embodiments, when the
引き続き図3及び図4を参照すると、いくつかの好ましい実施例では、第1の境界線300は、直線又は曲線で延在する第2の急変線320をさらに含み、第2の急変線320の延在方向又はその接線方向は、前記第1の方向に垂直である。第2の境界線400は、第2の急変線320に隣接する第2のサブ線420をさらに含み、第2のサブ線420は、直線又は曲線で延在し、第2のサブ線420の延在方向又はその接線の延在方向と、第2の急変線320又は第2の急変線320の接線の延在方向とは、互いに平行であり、又は、第2のサブ線420の延在方向又はその接線の延在方向と、第2の急変線320又は第2の急変線320の接線の延在方向との夾角は、鋭角である。
Continuing to refer to FIGS. 3 and 4, in some preferred embodiments, the
第2の急変線320及び第2のサブ線420がいずれも直線である場合、第2のサブ線420の延在方向は、第2の急変線320の延在方向と平行であり、又は、第2のサブ線420の延在方向と第2の急変線320の延在方向との夾角は鋭角である。
When the second
第2の急変線320及び第2のサブ線420がいずれも曲線である場合、第2のサブ線420の接線の延在方向は、第2の急変線320の接線の延在方向と平行であり、又は、第2のサブ線420の接線の延在方向と第2の急変線320の接線の延在方向との夾角は鋭角である。
When both the second
これらの好ましい実施例において、第2のサブ線420は、第2の急変線320の受ける力を分担することが可能であり、更にマスクプレート10の変形/しわの問題を改善することができる。
In these preferred embodiments, the
好ましくは、第2のサブ線420は、互いに間隔をあけて分布する複数の短線421を含む。同一の第2のサブ線420に応力が集中する状況を分散し、マスクプレート10の変形/しわの問題をさらに改善することができる。
Preferably, the
第2のサブ線420が複数の間隔をあけて分布する短線421を含む設置方式は様々であり、例えば、複数の第2のセクション220は非蒸着領域に間隔をあけて分布し、第2のセクション220は短線421を形成するためのエッジを含み、複数の間隔をあけて分布する該エッジは複数の短線421を含む第2のサブ線420を形成することができる。
There are various installation schemes in which the second sub-lines 420 include a plurality of spaced
引き続き図3~図5を参照すると、いくつかの好ましい実施例では、第2の境界線400は、第1の急変線310に隣接する第1のサブ線410を含み、第1のサブ線410は、直線又は曲線で延在し、第1のサブ線410の延在方向又はその接線の延在方向と、第1の急変線310又は第1の急変線310の接線の延在方向とは、互いに平行であり、又は、第1のサブ線410の延在方向又はその接線の延在方向と、第1の急変線310又は第1の急変線310の接線の延在方向との夾角は、鋭角である。例えば、第1のサブ線410の延在方向又はその接線の延在方向と、第1の急変線310又は第1の急変線310の接線の延在方向との夾角は、45度未満の鋭角であってもよい。例えば、第1のサブ線410の延在方向又はその接線の延在方向と、第1の急変線310又は第1の急変線310の接線の延在方向との夾角は、30度未満の鋭角である。ここでの夾角が小さくなるほど、応力分散の効果が良くなり、耐変形能が良くなる。第1のサブ線410の延在方向又はその接線の延在方向と、第1の急変線310又は第1の急変線310の接線の延在方向との夾角が0度であり、即ち、第1のサブ線410の延在方向又はその接線の延在方向と、第1の急変線310又は第1の急変線310の接線の延在方向とが互いに平行であることは、最適な実施形態である。
With continued reference to FIGS. 3-5, in some preferred embodiments, the
図3及び図4に示すように、第1の急変線310及び第1のサブ線410がいずれも直線である場合、第1のサブ線410の延在方向は、第1の急変線310の延在方向と平行である。又は、他の実施例において、第1のサブ線410の延在方向と第1の急変線310の延在方向との夾角は鋭角である。
As shown in FIGS. 3 and 4, when the first
図5に示すように、第1の急変線310及び第1のサブ線410がいずれも曲線である場合、第1のサブ線410の接線の延在方向は、第1の急変線310の接線の延在方向と平行である。又は、他の実施例において、第1のサブ線410の接線の延在方向と第1の急変線310の接線の延在方向との夾角は鋭角である。
As shown in FIG. 5, when both the first
これらの好ましい実施例において、第1のサブ線410は、第1の急変線310の受ける力を分担することが可能であり、更にマスクプレート10の変形/しわの問題を改善することができる。
In these preferred embodiments, the
いくつかの好ましい実施例において、引き続き図3及び図4を参照すると、少なくとも1つの第2のセクション220は、複数の第2のセクション220を含み、即ち、第2のセクション220は、複数であり、複数の第2のセクション220は、非蒸着領域内に間隔をあけて分布している。
In some preferred embodiments, with continued reference to FIGS. 3 and 4, the at least one
これらの好ましい実施例において、複数の第2のセクション220を設けることにより、一方では、複数の第2のセクション220と第1のセクション210との間に複数の材料が急変する急変線を形成することが可能であり、更にマスクプレート10の変形/しわを改善することができる。他方では、複数の第2のセクション220が非蒸着領域内に間隔をあけて分布し、マスクプレート10が引っ張られる際に、非蒸着領域の受ける力を改善することができる。
In these preferred embodiments, by providing the plurality of
いくつかの好ましい実施例において、引き続き図3及び図4を参照すると、マスクプレート10は、第1の方向に沿って延びて蒸着部100を二等分する中心線Pを含み、複数の第2のセクション220は、マスクプレート10の異なる領域の構造強度が一致するように、該中心線Pに関して対称に分布されている。第1の方向に沿ってマスクプレート10が引っ張られるとき、マスクプレート10の受ける力をよりバランスさせ、力のアンバランスによる応力の累積により、マスクプレート10が変形し、しわがよることを改善する。図3及び図4において、一点鎖線で中心線Pの位置を示し、一点鎖線は本願の実施例に係るマスクプレート10の構造を限定するものではない。
In some preferred embodiments, with continued reference to FIGS. 3 and 4, the
いくつかの好ましい実施例では、引き続き図3及び図4を参照すると、第2のセクション220自体の第1の方向に沿って延びる軸線は軸対称に設けられている。第1の方向に沿ってマスクプレート10が引っ張られるとき、マスクプレート10の受ける力をよりバランスさせ、力のアンバランスによる応力の累積により、マスクプレート10をしわに変形させることを改善する。
In some preferred embodiments, with continued reference to FIGS. 3 and 4, the axis of the
いくつかの好ましい実施例では、第2のセクション220の数が複数である場合、隣接する2つの第2のセクション220の隣接する境界線の夾角は鋭角をなし、例えば、隣接する2つの第2のセクション220の隣接する境界線は互いに平行に設けられてもよい。隣接する2つの第2のセクション220の隣接する境界線とは、隣接する2つの第2のセクション220が互いに近接する2つの境界線であり、例えば、図3における第1の第2のセクション220の下境界線と第2の第2のセクション220の上境界線とである。隣接する2つの第2のセクション220の隣接する境界線が互いに平行に設置されることにより、この2つの境界線の受ける力をバランスさせ、マスクプレート10の耐変形能を向上させ、さらにマスクプレート10の変形/しわの問題を改善することができる。
In some preferred embodiments, when the number of
いくつかの好ましい実施例では、図4に示すように、第2のセクション220は、貫通して設けられた複数の開口211を含む。開口211が、第2のセクション220の質量空間比を低減することで、第2のセクション220と第1のセクション10との間に材料の急変境界を形成し、さらにマスクプレート10の耐変形能を向上させ、マスクプレート10のしわをさらに改善することができる。開口211の形状は様々であり、開口211は円形孔、楕円形孔、多角形孔及びこれらの組み合わせなどであってもよい。
In some preferred embodiments, as shown in FIG. 4,
好ましくは、開口211の設置方式は様々であり、例えば、開口211はマスクプレートの厚さ方向に沿って第2のセクション220を貫通して設置され、又は開口211は第2のセクション220の表面が凹んで形成されている。
Preferably, the
また、これらの好ましい実施例において、蒸着部100は、表示パネル30の表示領域31を蒸着形成するため、蒸着部100に蒸着開口を有し、蒸着部100の質量空間比が低減し、第1のセクション210に対してパターニング処理を行わなくても、蒸着部100と第1のセクション210との間に材料の急変境界を形成することができる。第2のセクション220に開口211が設けられた後、第1のセクション210に対してパターニング処理を行わなくても、第1のセクション210と第2のセクション220との間に材料の急変境界を形成させることができる。従って、蒸着部100、第1のセクション210及び第2のセクション220のうちの隣接する二者、例えば蒸着部100、第1のセクション210及び第2のセクション220のうちのいずれかの隣接する二者の間の質量空間比が異なり、且つ製造方法が簡単で便利である。
Further, in these preferred embodiments, the
好ましくは、引き続き図3及び図4を参照すると、第1のセクション210及び第2のセクション220はいずれも多角形であるため、多くの第1の境界線300及び第2の境界線400を互いに平行に設置することができる。第1のセクション210と第2のセクション220との形状は同じであっても異なっていてもよく、例えば、第2のセクション220は三角形であってもよく、第1のセクション210は四角形であってもよく、第1のセクション210と第2のセクション220とがいずれも多角形を呈することにより、第1のセクション210と第2のセクション220とがいずれも直線形の外縁線を有し、さらに多くの第1の境界線300と第2の境界線400とが互いに平行に設置されればよい。
Preferably, with continued reference to FIGS. 3 and 4, the
他の好ましい実施例において、第1のセクション210と第2のセクション220とは、いずれも円弧状の辺を有するため、多くの第1の境界線300と第2の境界線400とを互いに平行にすることができる。
In another preferred embodiment, the
好ましくは、引き続き図3及び図4を参照すると、非蒸着領域の形状は台形であり、第2のセクション220の形状は三角形であり、複数の第2のセクション220は非蒸着領域内に間隔をあけて分布し、第1の境界線300に近接して設置された第2のセクション220の一辺は第1の境界線300と平行に設置され、マスクプレート10が引っ張られると、該第2のセクション220の前記辺が第1の境界線300の受ける力を分担することが可能であり、マスクプレート10の受ける力をよりバランスさせることができる。他の実施例において、非蒸着領域の形状は矩形などであってもよく、第1のセクション210の形状は四角形、五角形などの形状であってもよい。好ましくは、第2のセクション220の形状は、台形、多角形、円弧形、又は他の図形であってもよい。
Preferably, with continued reference to FIGS. 3 and 4, the shape of the non-deposited region is trapezoidal, the shape of the
好ましくは、一部の第2のセクション220の辺が第2の境界線400と平行に設置され、マスクプレート10が引っ張られると、該辺が第2の境界線400の受ける力を分担することが可能であり、マスクプレート10の受ける力をよりバランスさせることができる。
Preferably, some sides of the
好ましくは、2つ以上の第2のセクション220のエッジが第2の境界線400と平行に設置され、即ち、第2のサブ線420が複数の短線421を含み、各第2のセクション220における第2の境界線400と平行に設置された辺が短線421を形成し、複数の短線421が第2のサブ線420を形成する。
Preferably, the edges of the two or more
好ましくは、複数の第2のセクション220は、第2の方向に沿って一列に分布されている。他の実施例において、複数の第2のセクション220は、複数行複数列に分布されてもよい。好ましくは、第2の方向は第1の方向と交差し、例えば、第2の方向は第1の方向と直交する。
Preferably, the plurality of
好ましくは、第2のセクション220は二等辺三角形であり、且つ複数の第2のセクション220の形状が同じであることにより、第2のセクション220を非蒸着領域に均一に分布させ、且つ第2のセクション220の対向する2つの辺を平行に設置することができる。
Preferably, the
好ましくは、第2のセクション220の数は奇数であり、一列の第2の方向における中間位置にある第2のセクション220は、中心線Pに関して対称に設けられている。あるいは、第2のセクション220の数は偶数であり、複数の第2のセクション220は中心線Pに関して対称に設けられている。
Preferably, the number of
好ましくは、第1のセクション210、第2のセクション220及び蒸着部100のうちのいずれかの二者の間の材料が異なり、即ち、第1のセクション210、第2のセクション220及び蒸着部100の材料がそれぞれ異なる。ここで、第1のセクション210、第2のセクション220及び蒸着部100のうちのいずれかの二者の間の材料が異なるとは、第1のセクション210、第2のセクション220及び蒸着部100において材料の種類が同じ配合比が異なること、又は第1のセクション210、第2のセクション220及び蒸着部100において材料の種類が異なることであってもよく、第1のセクション210と第2の部分との間に材料急変線を形成し、第2のセクション220と蒸着部100との間に材料急変線を形成できればよい。
Preferably, the
図6を参照すると、図6は、本願の第2の態様の実施例に係るマスク装置の構造概略図である。 Referring to FIG. 6, FIG. 6 is a structural schematic diagram of a mask device according to an embodiment of the second aspect of the present application.
図6に示すように、本願の第2の態様の実施例に係るマスク装置は、フレーム20と、フレーム20に設けられるマスクプレート10とを備える。マスクプレート10は、上記いずれかの第1の態様の実施例におけるマスクプレート10であってもよい。本願の第2の態様の実施例に係る蒸着装置は、上記いずれかの第1の態様の実施例に係るマスクプレート10を含むため、本願の第2の態様の実施例に係るマスク装置は、上記いずれかの第1の態様の実施例に係るマスクプレート10が有する有益な効果を有し、ここでは説明を省略する。
As shown in FIG. 6, the mask device according to the embodiment of the second aspect of the present application includes a frame 20 and a
好ましくは、マスク装置のフレーム20内に1つのマスクプレート10が設けられてもよく、又はマスク装置のフレーム20内に2つ以上のマスクプレート10が設けられてもよい。
Preferably, one
以上、好ましい実施例を参照して本願を説明したが、本願の範囲から逸脱することなく、それらに様々な変更を加えることができ、且つそれらの構成要素を等価物で置き換えることができる。特に、各実施例に記載された各技術的特徴は、構造的な矛盾がない限り、任意に組み合わせることができる。本願は、本明細書に開示された特定の実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に含まれるすべての技術案を含む。
Although the present application has been described with reference to preferred embodiments, various changes may be made thereto and elements thereof may be replaced by equivalents without departing from the scope of the present application. In particular, the technical features described in each embodiment can be arbitrarily combined as long as there is no structural contradiction. This application is not limited to the particular embodiments disclosed herein, but includes all technical solutions falling within the scope of the claims.
前記非蒸着部200は、少なくとも一部が第1の方向において前記蒸着部100の一方側に設けられている。また、前記第1の急変線310の延在方向又はその接線の延在方向は、前記第1の方向と平行であるか又は両者の夾角が鋭角をなす。第1の方向に沿ってマスクプレート10が引っ張られる場合、即ち、引張方向が前記第1の方向である場合、前記非蒸着部200と前記蒸着部100とは引張方向に沿って離れる傾向がある。第1の急変線310と第1の方向との間の夾角が小さいため、第1の急変線310をこのように設置することにより、その上に受けた応力歪みを低減させ、マスクプレート10の第1の方向における耐変形能を向上させ、マスクプレート10のしわがさらに発生しにくくなる。
At least a portion of the
これらの好ましい実施例において、第1の方向に沿ってマスクプレート10が引っ張られる場合、少なくとも一部の第2の境界線400は、第1の境界線300が受ける引張力を分担することが可能であり、マスクプレート10の第1の方向における耐変形能を向上させ、マスクプレート10のしわがさらに発生しにくくなる。
In these preferred embodiments, when the
いくつかの好ましい実施例では、図4に示すように、第2のセクション220は、貫通して設けられた複数の開口211を含む。開口211が、第2のセクション220の質量空間比を低減することで、第2のセクション220と第1のセクション210との間に材料の急変境界を形成し、さらにマスクプレート10の耐変形能を向上させ、マスクプレート10のしわをさらに改善することができる。開口211の形状は様々であり、開口211は円形孔、楕円形孔、多角形孔及びこれらの組み合わせなどであってもよい。
In some preferred embodiments, as shown in FIG. 4,
好ましくは、第1のセクション210、第2のセクション220及び蒸着部100のうちのいずれかの二者の間の材料が異なり、即ち、第1のセクション210、第2のセクション220及び蒸着部100の材料がそれぞれ異なる。ここで、第1のセクション210、第2のセクション220及び蒸着部100のうちのいずれかの二者の間の材料が異なるとは、第1のセクション210、第2のセクション220及び蒸着部100において材料の種類が同じ配合比が異なること、又は第1のセクション210、第2のセクション220及び蒸着部100において材料の種類が異なることであってもよく、第1のセクション210と第2のセクション220との間に材料急変線を形成し、第2のセクション220と蒸着部100との間に材料急変線を形成できればよい。
Preferably, the
図6に示すように、本願の第2の態様の実施例に係るマスク装置は、フレーム20と、フレーム20に設けられるマスクプレート10とを備える。マスクプレート10は、上記いずれかの第1の態様の実施例におけるマスクプレート10であってもよい。本願の第2の態様の実施例に係るマスク装置は、上記いずれかの第1の態様の実施例に係るマスクプレート10を含むため、本願の第2の態様の実施例に係るマスク装置は、上記いずれかの第1の態様の実施例に係るマスクプレート10が有する有益な効果を有し、ここでは説明を省略する。
As shown in FIG. 6, the mask device according to the embodiment of the second aspect of the present application includes a frame 20 and a
Claims (20)
前記マスクプレートは、パネル領域を含み、前記パネル領域は、蒸着部と非蒸着部とを含み、少なくとも一部の前記非蒸着部は、前記蒸着部の第1の方向における一方側に位置し、前記非蒸着部は、第1のセクションと、少なくとも1つの第2のセクションとを含み、前記第1のセクションと前記蒸着部とが隣接する境界線で囲まれて非蒸着領域が形成され、前記少なくとも1つの前記第2のセクションは、前記非蒸着領域内に位置し、前記蒸着部、前記第1のセクション及び前記第2のセクションのうちの境界が隣接する二者の質量空間比は異なり、前記質量空間比は、各部材自体の質量の、それ自体が占有する空間の総体積に対する比である、マスクプレート。 A mask plate for evaporating a substrate to be evaporated,
The mask plate includes a panel region, the panel region includes a vapor deposition part and a non-evaporation part, and at least some of the non-evaporation part is located on one side of the vapor deposition part in a first direction, The non-evaporation region includes a first section and at least one second section, and a non-evaporation region is formed by being surrounded by a boundary line where the first section and the deposition region are adjacent to each other. At least one of the second sections is located in the non-evaporation region, and the mass-space ratios of adjacent two sections of the deposition section, the first section, and the second section are different; The mass-to-space ratio is the ratio of the mass of each member to the total volume of the space occupied by the mask plate.
A mask device comprising a frame and a mask plate provided on the frame, the mask plate being the mask plate according to any one of claims 1 to 19.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202111434210.8A CN114134460B (en) | 2021-11-29 | 2021-11-29 | Mask plate |
CN202111434210.8 | 2021-11-29 | ||
PCT/CN2022/106818 WO2023093089A1 (en) | 2021-11-29 | 2022-07-20 | Mask and mask device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2024509238A true JP2024509238A (en) | 2024-02-29 |
Family
ID=80388901
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023554394A Pending JP2024509238A (en) | 2021-11-29 | 2022-07-20 | Mask plate and mask device |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2024509238A (en) |
KR (1) | KR20230130751A (en) |
CN (1) | CN114134460B (en) |
TW (1) | TWI837751B (en) |
WO (1) | WO2023093089A1 (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114134460B (en) * | 2021-11-29 | 2023-06-06 | 昆山国显光电有限公司 | Mask plate |
TWI816625B (en) * | 2023-01-30 | 2023-09-21 | 達運精密工業股份有限公司 | Metal mask structure |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108365134B (en) * | 2018-02-11 | 2020-11-06 | 京东方科技集团股份有限公司 | Mask plate, mask device, vapor deposition method, and mask plate manufacturing method |
CN108642440B (en) * | 2018-05-14 | 2019-09-17 | 昆山国显光电有限公司 | Mask plate and mask assembly |
CN108611596B (en) * | 2018-05-14 | 2020-04-03 | 昆山国显光电有限公司 | Mask plate |
WO2020044547A1 (en) * | 2018-08-31 | 2020-03-05 | シャープ株式会社 | Vapor deposition mask |
CN109321880B (en) * | 2018-10-18 | 2021-01-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | Mask plate |
CN109609902B (en) * | 2018-10-26 | 2020-08-11 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | Mask plate and display panel packaging method |
CN110473988B (en) * | 2019-08-02 | 2020-11-10 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | Mask for display panel manufacturing process and application thereof |
CN112739845B (en) * | 2019-08-28 | 2023-01-10 | 京东方科技集团股份有限公司 | Mask plate and preparation method thereof, fine metal mask plate, mask device and use method |
CN210916231U (en) * | 2019-10-18 | 2020-07-03 | 昆山国显光电有限公司 | Mask plate |
CN111524460B (en) * | 2020-04-26 | 2021-10-01 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | Display panel, mask plate and manufacturing method of display panel |
CN214361643U (en) * | 2021-01-29 | 2021-10-08 | 昆山国显光电有限公司 | Mask plate |
CN113088875B (en) * | 2021-04-02 | 2022-12-13 | 京东方科技集团股份有限公司 | Mask and preparation method thereof |
CN114134460B (en) * | 2021-11-29 | 2023-06-06 | 昆山国显光电有限公司 | Mask plate |
-
2021
- 2021-11-29 CN CN202111434210.8A patent/CN114134460B/en active Active
-
2022
- 2022-07-20 KR KR1020237028901A patent/KR20230130751A/en active Search and Examination
- 2022-07-20 JP JP2023554394A patent/JP2024509238A/en active Pending
- 2022-07-20 WO PCT/CN2022/106818 patent/WO2023093089A1/en active Application Filing
- 2022-08-02 TW TW111129009A patent/TWI837751B/en active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2023093089A1 (en) | 2023-06-01 |
TWI837751B (en) | 2024-04-01 |
CN114134460B (en) | 2023-06-06 |
TW202246547A (en) | 2022-12-01 |
CN114134460A (en) | 2022-03-04 |
KR20230130751A (en) | 2023-09-12 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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