JP2024508382A - 感受性粒子を検出するための連続縮退楕円リターダ - Google Patents
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Abstract
検査システムは、照明ビームを生成するための照明源と、照明ビームを照明方向に沿って非軸角度で試料に向けるための照明光学系と、暗視野モードで試料から発せられる散乱光を集光するための集光光学系とを含むことができる。試料からの散乱光は、試料の表面からの散乱光に関連する表面ヘイズと、楕円偏光を有する表面ヘイズの少なくとも一部とを含む。システムは、瞳孔を通る表面ヘイズの偏光を、選択されたヘイズ配向方向に平行に整列された直線偏光に変換するための瞳孔平面光学系をさらに備えることができる。このシステムは、このヘイズ配向方向に平行に整列した表面ヘイズを排除する直線偏光器と、直線偏光器を通過した光に基づいて試料の暗視野画像を生成する検出器とを含むことができる。
Description
「関連出願の参照」
本願の請求項でいうxuefeng米国特許法119条(e)liu、米国仮出願63/151,068 (2021年2月19日、ADVANCED METHOD TO IMPROVE PARTICLE DETECTION SENSITIVITY IN WAFER INSPECTION)、jenn-kuen命名leong、John alex fielden chuangとして、本発明者らが全体としている。
「技術分野」
本開示は、概して、粒子検査に関し、より具体的には、散乱または回折光に基づく暗視野撮像を使用する粒子検査に関する。
本願の請求項でいうxuefeng米国特許法119条(e)liu、米国仮出願63/151,068 (2021年2月19日、ADVANCED METHOD TO IMPROVE PARTICLE DETECTION SENSITIVITY IN WAFER INSPECTION)、jenn-kuen命名leong、John alex fielden chuangとして、本発明者らが全体としている。
「技術分野」
本開示は、概して、粒子検査に関し、より具体的には、散乱または回折光に基づく暗視野撮像を使用する粒子検査に関する。
粒子検出システムは、通常、半導体処理ラインにおいて、限定されないが、パターン化されていないウエハ等のウエハ上の欠陥または粒子を識別するために利用される。半導体デバイスが縮小し続けるにつれて、粒子検出システムは、感度および分解能の対応する増加を必要とする。測定感度を制限し得るノイズの重要な原因は、ウエハ上の表面散乱(例えば、表面ヘイズ)であり、これは、光学的に研磨された表面に対してさえ存在し得る。粒子からの散乱に対する表面散乱を抑制するために様々な方法が提案されているが、そのような方法は、所望の感度レベルを達成できない場合があり、および/または画質の低下を犠牲にして感度を達成する場合がある。
したがって、上記の欠点を軽減するシステムおよび方法を開発する必要がある。
本開示の1つ以上の実施形態による検査システムが開示される。例示的な一実施形態では、システムは、照明ビームを生成するための照明源を含む。別の例示的な実施形態では、システムは、照明方向に沿って軸外角度で試料に照明ビームを向けるための1つ以上の照明光学系を含む。別の例示的な実施形態では、システムは、暗視野モードで照明ビームに応答して試料からの散乱光を集光する(収集:collect)1つ以上の集光光学系(集光光学系:collection optics)を含み、1つ以上の集光光学系によって集光された試料からの散乱光は、試料の表面から散乱された光に関連する表面ヘイズ(surface haze)を含み、表面ヘイズの少なくとも一部分は楕円偏光を有する。別の例示的な実施形態では、システムは、1つ以上の集光光学系(例えば、瞳平面光学系)の1つ以上の瞳平面に配置された1つ以上の光学素子を含む。別の例示的な実施形態では、瞳平面光学系は、選択された配向方向に対して表面ヘイズを回転させるための第1の空間的に変化する偏光回転分布を提供する第1の偏光回転子を含み、表面ヘイズの回転は、選択された配向方向に対する楕円偏光の長軸の回転を含む。別の例示的な実施形態では、瞳平面光学系は、第1の偏光回転子からの表面ヘイズを直線偏光に変換するための1/4波長板を含む。別の例示的な実施形態では、瞳平面光学系は、第2の空間的に変化する偏光回転分布を提供して、表面ヘイズの直線偏光を1/4波長板から選択されたヘイズ配向方向に回転させる第2の偏光回転子を含む。別の例示的な実施形態では、システムは、選択されたヘイズ配向方向に平行に偏光された光を拒絶して第2の偏光回転子から表面ヘイズを拒絶するように位置合わせされた直線偏光子を含む。別の例示的な実施形態では、システムは、直線偏光子を通過した試料からの散乱光に基づいて試料の暗視野画像を生成する検出器を含み、直線偏光子を通過した試料からの散乱光は、試料の表面上の1つ以上の粒子によって散乱された光の少なくとも一部を含む。
本開示の1つ以上の実施形態による検査システムが開示される。例示的な一実施形態では、システムは、照明ビームを生成するための照明源を含む。別の例示的な実施形態では、システムは、照明方向に沿って軸外角度で試料に照明ビームを向けるための1つ以上の照明光学系を含む。別の例示的な実施形態では、システムは、暗視野モードで照明ビームに応答して試料からの散乱光を集光する1つ以上の集光光学系を含み、1つ以上の集光光学系によって集光された試料からの散乱光は、試料の表面から散乱された光に関連する表面ヘイズを含み、表面ヘイズの少なくとも一部分は楕円偏光を有する。別の例示的な実施形態では、システムは、1つ以上の集光光学系(例えば、瞳平面光学系)の1つ以上の瞳平面に配置された1つ以上の光学素子を含む。別の例示的な実施形態では、瞳平面光学系は、空間的に変化する偏光回転分布を提供して表面ヘイズを選択された配向分布に回転させる偏光回転子を含み、表面ヘイズの回転は、楕円偏光の長軸を選択された配向分布に回転させることを含む。別の例示的な実施形態では、瞳平面光学系は、偏光回転子からの表面ヘイズを直線偏光に変換するためのセグメント化された1/4波長板を含み、直線偏光は、選択されたヘイズ配向方向に沿って整列される。別の例示的な実施形態では、システムは、選択されたヘイズ配向方向に平行に偏光された光を拒絶して、セグメント化された4分波長板から表面ヘイズを拒絶するように位置合わせされた直線偏光子を含む。別の例示的な実施形態では、システムは、直線偏光子を通過した試料からの散乱光に基づいて試料の暗視野画像を生成する検出器を含み、直線偏光子を通過した試料からの散乱光は、試料の表面上の1つ以上の粒子によって散乱された光の少なくとも一部を含む。
本開示の1つ以上の実施形態による検査システムが開示される。1つの例示的な実施形態では、システムは、照明ビームを生成するための照明源を含み、別の例示的な実施形態では、システムは、照明方向に沿って軸外角度で試料に照明ビームを向けるための1つ以上の照明光学系を含む。別の例示的な実施形態では、システムは、暗視野モードで照明ビームに応答して試料からの散乱光を集光する1つ以上の集光光学系を含み、1つ以上の集光光学系によって集光された試料からの散乱光は、試料の表面から散乱された光に関連する表面ヘイズを含み、表面ヘイズの少なくとも一部分は楕円偏光を有する。別の例示的な実施形態では、システムは、1つ以上の集光光学系(例えば、瞳平面光学系)の1つ以上の瞳平面に配置された1つ以上の光学素子を含む。別の例示的な実施形態では、瞳平面光学系は、表面ヘイズを直線偏光に変換するために、1つ以上の集光光学系の瞳平面に位置する空間的に変化する波長板を含む。別の例示的な実施形態では、瞳平面光学系は、空間的に変化する偏光回転分布を提供する偏光回転子を含み、空間的に変化する波長板から選択された配向分布まで表面ヘイズを回転させ、表面ヘイズの回転は、選択されたヘイズ配向方向への楕円偏光の長軸の回転を含む。別の例示的な実施形態では、システムは、選択されたヘイズ配向方向に平行に偏光された光を拒絶して偏光回転子から表面ヘイズを拒絶するように位置合わせされた直線偏光子を含む。別の例示的な実施形態では、システムは、直線偏光子を通過した試料からの散乱光に基づいて試料の暗視野画像を生成する検出器を含み、直線偏光子を通過した試料からの散乱光は、試料の表面上の1つ以上の粒子によって散乱された光の少なくとも一部を含む。
前述の概要および以下の詳細な説明の両方は、例示的および説明的なものにすぎず、特許請求される本発明を必ずしも限定するものではないことを理解されたい。明細書に組み込まれ、明細書の一部を構成する添付の図面は、本発明の実施形態を示し、全般的な説明とともに、本発明の原理を説明するのに役立つ。
本開示の多数の利点は、添付の図面を参照することによって当業者によってよりよく理解され得る。
図1Aは、本開示の1つ以上の実施形態による粒子検出システムのブロック図である。
図1Bは、本開示の1つ以上の実施形態による検査ツールの概念図である。
図2は、本開示の1つ以上の実施形態による、瞳を2つのセグメントに分割するための2つのセグメントを含む位相マスクの概念上面図である。
図3Aは、本開示の1つ以上の実施形態による、斜めに入射するp偏光に応答した表面散乱の瞳平面散乱マップである。
図3Bは、本開示の1つ以上の実施形態による、斜めに入射するp偏光に応答して小粒子によって散乱される光の瞳平面散乱マップである。
図4Aは、本開示の1つ以上の実施形態による、連続縮退楕円リターダ(CDER)を含む検査ツールの集光経路の第1の構成の概念図である。
図4Bは、本開示の1つ以上の実施形態による、照明方向に沿って表面ヘイズの偏光楕円を整列させるように配置された第1の偏光回転子を通って伝搬した後の図3Aに示す表面ヘイズ電場分布のプロットである。
図4Cは、本開示の1つ以上の実施形態による、図4Bの表面ヘイズ電場分布を生成するための第1の偏光回転子の空間的に変化する偏光回転分布を示すプロットである。
図4Dは、本開示の1つ以上の実施形態による、1/4波長板を通して伝搬した後の図4Bに図示される表面ヘイズ電場分布のプロットである。
図4Eは、本開示の1つ以上の実施形態による、第2の偏光回転子を通して伝搬した後の図4Dに図示される表面ヘイズ電場分布のプロットである。
図4Fは、本開示の1つ以上の実施形態による、図4Eの表面ヘイズ電場分布を生成するための第2の偏光回転子の空間的に変化する偏光回転分布を示すプロットである。
図4Gは、本開示の1つ以上の実施形態による、直線偏光子を通して伝搬した後の図4Eに図示される表面ヘイズ電場分布のプロットである。
図4Hは、本開示の1つ以上の実施形態による、セグメント化された半波長板406として形成された偏光回転子のブロック図である。
図4Iは、本開示の1つ以上の実施形態による、セグメント化された半波長板として形成された偏光回転子のブロック図である。
図4Jは、本開示の1つ以上の実施形態による、2D厚さプロファイルを伴う光学活性材料から形成される偏光回転子を伴う、図4Aに図示されるようなCDERの効率のシミュレーションに対応する。
図4Kは、本開示の1つ以上の実施形態による、偏光回転子が、一次元的に変化する偏光回転分布を提供するように、単一方向に沿って連続的に変化する厚さプロファイルを有する、図4Aに図示される構成要素の概念断面図である。
図4Lは、本開示の1つ以上の実施形態による、偏光回転子が、直線的に変動する偏光回転分布を提供するように、単一方向に沿って直線的に変動する厚さプロファイルを有する、図4Aに図示される構成要素の概念的断面図である。
図4Mは、本開示の1つ以上の実施形態による、偏光回転子が、2つの光学活性材料および対応する位相補償器を含む要素のスタックとして形成される、図4Aに図示される構成要素の概念的断面図である。
図5Aは、本開示の1つ以上の実施形態による、CDERを含む検査ツールの集光経路の第2の構成の概念図である。
図5Bは、本開示の1つ以上の実施形態による、図5Aの偏光回転子を通して伝搬した後の図3Aに図示される表面ヘイズ電場分布のプロットである。
図5Cは、本開示の1つ以上の実施形態による、図5Aの1/4波長板を通って伝搬した後の図5Bに示す表面ヘイズ電界分布のプロットである。
図5Dは、本開示の1つ以上の実施形態による、図5Aの直線偏光子を通して伝搬した後の図5Cに図示される表面ヘイズ電場分布のプロットである。
図5Eは、本開示の1つ以上の実施形態による、偏光回転子がセグメント化された半波長板として形成され、1/4波長板がセグメント化された1/4波長板として形成される、図5Aに示す構成要素の概念断面図である。
図5Fは、本開示の1つ以上の実施形態による、偏光回転子が連続要素として形成され、1/4波長板がセグメント化された1/4波長板として形成される、図5Aに示す構成要素の概念断面図である。
図6Aは、本開示の1つ以上の実施形態による、CDERを含む検査ツールの集光経路の第3の構成の概念断面図である。
図6Bは、本開示の1つ以上の実施形態による、図6Aの空間的に変動する波長板を通して伝搬した後の図3Aに図示される表面ヘイズ電場分布のプロットである。
図6Cは、本開示の1つ以上の実施形態による、図6Aの光学回転子を通して伝搬した後の図6Bに図示される表面ヘイズ電場分布のプロットである。
図6Dは、本開示の1つ以上の実施形態による、図6Aの直線偏光子を通して伝搬した後の図6Cに図示される表面ヘイズ電場分布のプロットである。
図7は、本開示の1つ以上の実施形態による、粒子検出のための方法において実行されるステップを示す流れ図である。
ここで、添付の図面に示される開示された主題を詳細に参照する。本開示は、特定の実施形態およびその特定の特徴に関して具体的に示され、説明されてきた。本明細書に記載される実施形態は、限定的ではなく例示的であると解釈される。本開示の精神および範囲から逸脱することなく、形態および詳細における種々の変更および修正が行われ得ることが、当業者に容易に明白となるはずである。
本開示の実施形態は、表面散乱(例えば、表面ヘイズ)が、表面上の粒子によって散乱される光(例えば、粒子散乱)から分離される、暗視野撮像(暗視野モードでの撮像)に基づく粒子検出のためのシステムおよび方法を対象とする。本開示のさらなる実施形態は、表面散乱および粒子散乱に基づいて、試料の別個の画像を同時に生成することを対象とする。
ウエハ検査は一般に米国に記載されている。米国特許9,874,526は、2018年1月1日に発行され、米国特許9,291,575(2016年3月22日)、米国特許8,891,079(2014年11月18日)、及び米国特許9,891,177(2018年2月13日)であり、これらの全ては、その全体が本明細書に組み込まれる。さらに、本開示の目的のために、粒子は、限定されないが、異物粒子、スクラッチ、ピット、穴、バンプ、または同等物を含む、対象の試料上の任意の表面欠陥を含んでもよい。
粒子から散乱された光および表面から散乱された光は、散乱角の関数として異なる電場分布(例えば、偏光および電場強度)を示し得ることが本明細書で認識される。さらに、これらの散乱源の電場分布(例えば、散乱マップ)の差は、斜めに入射するp偏光に対して特に有意であり得る。例えば、斜入射p偏光からの表面ヘイズは、楕円偏光を有し得、鏡面反射の角度に対してほぼ半径方向に偏光され得るが、粒子からの散乱は、表面法線に対してほぼ半径方向に偏光され得る。このようにして、表面ヘイズは、これらの偏光差に少なくとも部分的に基づいて、粒子散乱から隔離され得る。例として、連続放射状偏光子を使用する表面ヘイズ抑制は、概して米国特許10,942,135(2021年3月9日)に記載されており、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。別の例として、直線偏光子と共にセグメント化された半波長板の組み合わせを使用する表面ヘイズ抑制は、概して米国特許10,948,423で説明され、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。しかしながら、本明細書では、これらのような既存の技術は、瞳にわたる表面ヘイズの楕円偏光状態を直線偏光に完全に変換できない場合があり、及び/又は表面ヘイズの偏光を共通の方向に沿って完全に整列させることができない場合があり、これは、直線偏光子を通る表面ヘイズの漏れ及び対応する低減された信号対雑音比をもたらし得ることが企図される。
いくつかの実施形態では、表面ヘイズは、直線偏光子または偏光ビームスプリッタとともに、本明細書では便宜上CDERと呼ばれる連続縮退楕円リターダを使用して、単離および分離される。以下、連続縮退楕円リターダをCDERという。例えば、CDERは、瞳平面にわたる表面ヘイズに関連する偏光楕円を、共通の角度に沿って配向された直線偏光に機能的に変換し得る、光学システムの瞳平面内への配置のために設計された光学要素であり得る。このようにして、直線偏光子は、表面ヘイズに関連する光を粒子散乱に関連する光から分離することができる。その結果、粒子検出を高感度で達成することができる。いくつかの実施形態では、システムは、点広がり関数(PSF)を鮮鋭化し、粒子によって散乱される光の信号対雑音比(SNR)をさらに増加させ、したがって、粒子検出感度を増加させるように、点広がり関数の中心ピークを提供する位相マスク(例えば、π位相マスク)をさらに含む。
いくつかの実施形態では、CDERは、第1の偏光回転子(例えば、光学回転子、セグメント化または連続半波長板などである)、1/4波長板、および第2の偏光回転子に機能的に分解されてもよく、構成要素のうちの少なくともいくつかは、瞳を横断して空間的に変動する変換を提供し、表面ヘイズの調整された分離を提供する。この構成では、第1の偏光回転子は、瞳平面を横断して共通配向方向に楕円偏光表面ヘイズを回転させ得る。この第1の偏光回転子は、機能および/または物理的構成において、上記で参照することによって本明細書に組み込まれる米国特許10,948,423に開示される偏光回転技法に類似し得るが、これは、単に、例示的比較であり、本開示の限定ではないことを理解されたい。しかしながら、本明細書では、単に楕円偏光表面ヘイズを共通の配向方向に回転させるだけでは、後続の直線偏光子による表面ヘイズの適切な分離および/または抑制を提供しない場合があることがさらに企図される。特に、共通配向方向に直交する偏光成分は、後続の直線偏光子によって抑制されず、したがって、表面ヘイズのより低い消光比および粒子散乱に関連するより低い信号対雑音比をもたらす。
これに対処するために、CDERは、楕円偏光を直線偏光に変換するための1/4波長板をさらに含み得る。しかしながら、この直線偏光表面ヘイズは、もはや(例えば、共通配向方向に沿って)整列され得ない。特に、1/4波長板後の直線偏光表面ヘイズの配向は、楕円偏光の偏心度に依存し得る。CDERは、次いで、直線偏光表面ヘイズを共通配向方向(または任意の他の選択された配向方向)に回転させるための第2の偏光回転子を含んでもよい。この技法は、瞳平面にわたる表面ヘイズの変化する偏光楕円を、任意の選択された(しかし任意の)方向に沿って配向された直線偏光に変換し、後続の直線偏光子または偏光ビームスプリッタを使用して、高効率の分離および/または抑制を可能にし得ることが本明細書で企図される。
しかしながら、本明細書では、CDERは様々な方法で実装され得ることが企図される。いくつかの実施形態では、CDERは、単一偏光回転子および1/4波長板を含む。この構成では、偏光回転子は、瞳を横断して共通配向方向に楕円偏光を回転させなくてもよい。むしろ、偏光回転子は、瞳にわたる表面ヘイズの偏光状態が、1/4波長板を通過した後にのみ整合されるように、1/4波長板の後続作用を補償してもよい。特に、1/4波長板は、入力光の偏心に応じて異なる方向に直線偏光を生成するため、偏光回転子は、偏心分布に基づいて瞳平面にわたって異なる量だけ表面ヘイズを回転させることによって、この変動を補償してもよい。このように、上述した第2の偏光回転子は不要である。さらに、いくつかの実施形態では、1/4波長板は、偏光回転子の前に設けられる。この構成では、表面ヘイズは、最初に直線偏光に変換され、次いで、その後の直線偏光子による分離および/または抑制のために共通の配向方向に回転される。
粒子検出の目的のための表面ヘイズの単離および抑制のためのCDERは、多数の利益を提供し得ることが本明細書で企図される。例えば、CDERは、瞳にわたる楕円偏光表面ヘイズの直線偏光への変換と、直線偏光子を使用した排除のための共通角度(例えば、排除角度)への直線偏光の回転との両方を提供してもよい。その結果、高感度粒子検出のために高い消光比で表面ヘイズを分離し抑制することができる。
いくつかの実施形態では、CDERは単一の光学素子として提供される。このようにして、CDERは、撮像システムの瞳平面内に容易に配置することができる。CDERは、単一の光学素子として提供されてもよいし、複数の光学素子として提供されてもよい。特定の光学システムの設計は、選択された公差内で所望の効果を提供するように、特定の瞳平面に、または特定の瞳平面に充分に近接して配置され得る、光学要素の厚さまたは数を制限し得ることが、本明細書で検討される。本開示の目的のために、瞳平面内のCDERなどの要素の配置を示す説明は、選択されたメトリック(例えば、直線偏光子と結合した場合の表面ヘイズの消光比など)によって所望のレベルの性能を提供する瞳平面からの距離の範囲内のCDERまたはその構成要素の配置として理解され得る。さらに、光学システムは、CDERまたはその構成要素が配置され得る任意の数の共役瞳平面を提供するように、任意の数の光リレーを含み得ることを理解されたい。このように、本明細書における瞳平面内のCDERの配置を示す説明は、任意の数の共役瞳平面内のCDER構成要素の任意の配置を含むと理解することができる。
ここで図1~図7を参照すると、本開示の1つ以上の実施形態による、高感度粒子検出のためのシステムおよび方法がより詳細に説明される。
図1Aは、本開示の1つ以上の実施形態による、粒子検出システム100のブロック図である。
いくつかの実施形態では、粒子検出システム100は、表面ヘイズを抑制および/または隔離しながら試料106上の粒子に関連する検査データを提供するためのCDER104を有する検査ツール102を含む。例えば、検査ツール102は、選択されたヘイズ配向方向に沿って直線偏光されるように表面ヘイズを操作するために、集光瞳平面内にCDER104を含むことができる。検査ツール102は、試料光122からのヘイズ配向方向に沿った表面ヘイズを抑制するように配向された直線偏光子108と、表面ヘイズの抑制後に試料光122に基づいて検査データを生成する少なくとも1つの検出器110とをさらに含み得る。
直線偏光子108は、当技術分野で知られている任意のタイプの偏光子として形成され得る。いくつかの実施形態では、直線偏光子108は、ヘイズ配向方向に沿って表面ヘイズを吸収する。いくつかの実施形態では、直線偏光子108は、偏光ビームスプリッタとして形成される。このようにして、直線偏光子108は、(例えば、表面ヘイズを分離するために)1つの光路に沿って表面ヘイズを方向付け、追加の光路に沿って残りの光を方向付けることができる。検査ツール102は、次いで、随意に、表面ヘイズと関連付けられる試料光122の一部分を測定するための追加の検出器110を含んでもよい。
図1Bは、本開示の1つ以上の実施形態による検査ツール102の概念図である。
いくつかの実施形態では、検査ツール102は、照明ビーム114を生成するための照明源112と、照明ビーム114を試料106に向けるための1つ以上の照明光学系を含む照明経路116とを含む。
照明源112は、当技術分野で知られている任意のタイプの光源を含むことができる。さらに、照明源112は、任意の選択された空間的または時間的コヒーレンス特性を有する照明ビーム114を提供することができる。いくつかの実施形態では、照明源112は、1つ以上の狭帯域レーザ源、1つ以上の広帯域レーザ源、1つ以上のスーパーコンティニュームレーザ源、または1つ以上の白色光レーザ源等であるが、それらに限定されない、1つ以上のレーザ源を含む。いくつかの実施形態では、照明源112は、限定ではないが、レーザ維持プラズマ(LSP)源等のレーザ駆動光源(LDLS)を含む。例えば、照明源112は、限定はしないが、LSPランプ、LSPバルブ、またはレーザ源によってプラズマ状態に励起されると広帯域照明を放出することができる1つ以上の要素を収容するのに適したLSPチャンバを含むことができる。いくつかの実施形態では、照明源112は、限定はしないが、アークランプ、放電ランプ、または無電極ランプなどのランプ源を含む。
照明ビーム114は、限定はしないが、紫外線(UV)放射、可視光線、または赤外線(IR)放射を含む1つ以上の選択された波長の光を含むことができる。例えば、照明源112は、約350nmより短い波長を有する照明ビーム114を提供してもよいが、提供する必要はない。別の例として、照明ビーム114は、約266nmの波長を提供することができる。別の例として、照明ビーム114は、約213nmの波長を提供することができる。別の例として、照明ビーム114は、約193nmの波長を提供することができる。照明ビーム114の波長を減少させることが、概して、小型粒子からの撮像分解能および散乱信号を増加させ得るように、小型粒子による撮像分解能および光散乱(例えば、照明ビーム114の波長に対する)の両方が、概して、波長とともにスケーリングすることが本明細書で認識される。故に、照明ビーム114は、極紫外線(EUV)光、深紫外線(DUV)光、または真空紫外線(VUV)光を含むが、それらに限定されない、短波長光を含んでもよい。
いくつかの実施形態では、照明源112は、調整可能な照明ビーム114を提供する。例えば、照明源112は、調整可能な照明源(例えば、1つ以上の同調可能レーザ等である)を含むことができる。別の例として、照明源112は、固定フィルタまたは同調フィルタの任意の組合せに結合された広帯域照明源を含むことができる。
照明源112は、任意の時間プロファイルを有する照明ビーム114をさらに提供することができる。例えば、照明ビーム114は、連続時間プロファイル、変調時間プロファイル、パルス時間プロファイルなどを有することができる。
本明細書において、表面ヘイズの強度は、照明ビーム114の入射角または偏光を含むがこれらに限定されない複数の要因に依存し得ることが認識される。例えば、表面ヘイズの強度は、垂直に近い入射角では比較的高く、より高い入射角では低下し得る。いくつかの実施形態では、照明経路116は、限定はしないが、レンズ118、ミラーなどの1つ以上の照明光学系を含み、表面ヘイズの発生を低減するために斜めの入射角(軸外角度)で試料106に照明ビーム114を向けることができる。斜入射角は、概して、任意の選択された入射角を含み得る。例えば、入射角は、表面法線に対して60度よりも大きくてもよいが、そうである必要はない。
いくつかの実施形態では、照明経路116は、照明ビーム114を修正および/または調整するのに適した1つ以上の照明ビーム調整構成要素120を含む。例えば、1つ以上の照明ビーム調整構成要素120は、1つ以上の偏光子、1つ以上の波長板、1つ以上のフィルタ、1つ以上のビームスプリッタ、1つ以上の拡散器、1つ以上のホモジナイザ、1つ以上のアポダイザ、または1つ以上のビーム整形器を含んでもよいが、それらに限定されない。いくつかの実施形態では、1つ以上の照明ビーム調整構成要素120は、試料106上にp偏光照明ビーム114を提供するように配向された偏光子または波長板を含む。
照明ビーム114による試料106の照明は、試料106からの反射、散乱、回折、または発光の任意の組み合わせに基づいて、試料106から発する光(例えば、試料光122)をもたらし得る。このようにして、試料光122は、試料106からの表面ヘイズ(例えば、ベア半導体ウエハ等から得られる)と、試料106上の任意の粒子から散乱された光(例えば、粒子散乱)との組み合わせを含み得る。
いくつかの実施形態では、検査ツール102は、試料光122の少なくとも一部分を集光するための対物レンズ126を有する集光経路124(集光光学系)を含む。試料光122は、限定はしないが、散乱光、反射光、回折光、またはルミネセンスを含む、照明ビーム114に応答して試料106から発する任意のタイプの光を含み得る。
いくつかの実施形態では、検査ツール102は、鏡面反射光128を排除するための暗視野撮像システムである。この点に関して、検査ツール102は、主に散乱光に基づいて試料106を画像化することができる。暗視野撮像はさらに、当技術分野で公知の任意の技法を使用して実装されてもよい。いくつかの実施形態では、対物レンズ126の配向および/または開口数(NA)は、鏡面反射光を集光しないように選択されてもよい。例えば、図1Bに示すように、対物レンズ126は、試料106に対してほぼ垂直に配向され、照明ビーム114に関連する鏡面反射光128を含まないNAを有する。さらに、対物レンズ126は、約0.9以上のNAを有してもよいが、そうである必要はない。いくつかの実施形態では、検査ツール102は、鏡面反射光128が検出器110に到達するのを阻止する1つ以上の構成要素を含むことができる。
いくつかの実施形態では、検査ツール102は、集光経路124によって集光された試料光122の少なくとも一部を捕捉するように構成された少なくとも1つの検出器110を含む。検出器110は、試料106から受けた照明を測定するのに適した、当技術分野で知られている任意のタイプの光検出器を含むことができる。例えば、検出器110は、限定はしないが、電荷結合素子(CCD)検出器、相補型金属酸化膜半導体(CMOS)検出器、時間遅延積分(TDI)検出器、光電子増倍管(PMT)アレイ、アバランシェフォトダイオード(APD)アレイなど、試料106の画像を取り込むのに適したマルチピクセル検出器を含むことができる。または同類のものを含む。いくつかの実施形態では、検出器110は、試料光122の波長を識別するのに適した分光検出器を含む。
いくつかの実施形態では、集光経路124は、瞳平面130またはその付近に位置するCDER104を含む。このようにして、CDER104は、試料106からの表面ヘイズ(例えば、試料光122の一部である)を操作して、瞳平面130を横切るヘイズ配向方向に沿って直線偏光及び整列させることができる。
いくつかの実施形態では、直線偏光子108は、CDER104と検出器110との間に配置され、少なくとも1つの検出器110の経路に沿ったヘイズ配向方向に沿った表面ヘイズを抑制する。直線偏光子108は、当技術分野で知られている任意のタイプの偏光子として形成され得る。例えば、直線偏光子108は、排除方向に沿って光を吸収し、透過又は反射のいずれかを通して残りの光を通過させる吸収偏光子として形成され得る。この構成では、拒絶方向は、直線偏光子108が表面ヘイズを吸収し、残りの光(例えば、粒子散乱に関連する試料光122の部分)を通過させ得るように、ヘイズ配向方向に整列され得る。別の例として、図1Bに示すように、直線偏光子108は、2つの別個の光路に沿って直交する偏光を有する光を分割することができる偏光ビームスプリッタとして形成することができる。この構成では、直線偏光子108は、ヘイズ配向方向に沿って整列した表面ヘイズを第1の光路に沿って導き、リマインディング光を第2の光路に沿って導くことができる。さらに、図1Bにも示すように、検査ツール102は、検出器110と、2つの光路の各々に沿った任意の関連する光学素子(例えば、レンズ、絞り、フィルタなどである)とを含み得る。したがって、検査ツール102は、残りの光に加えて表面ヘイズに関連するデータを生成することができ、これは、診断または評価目的に有用であり得るが、これらに限定されない。
集光経路124はさらに、限定ではないが、1つ以上のレンズ(例えば、レンズ132)、1つ以上のフィルタ、1つ以上の開口、1つ以上の偏光子、または1つ以上の位相板を含む、試料光122を指向および/または修正するための任意の数のビーム調整要素を含んでもよい。これに関して、検査ツール102は、試料106上の散乱角および/または位置の関数としての試料光122の強度、位相、および偏光を含むがこれらに限定されない、検出器110上に画像を生成するために使用される試料光122の選択された態様を制御および/または調整することができる。例えば、以下でより詳細に説明するように、ビーム調整要素は、位相マスク202を含むことができるが、これに限定されない。
限定された数の構成要素および/または限定された厚さを有する構成要素が、所望の効果を提供するために、特定の瞳平面130に、または特定の瞳平面130の充分近くに配置され得ることが、本明細書において認識される。したがって、本開示の目的のために、瞳平面130における1つ以上の要素への言及は、概して、所望の効果を生じるように瞳平面130またはそれに充分に近い1つ以上の要素を記述し得る。いくつかの実施形態では、図示されていないが、集光経路124は、CDER104、位相マスク202(例えば、以下の図2を参照されたい)、または直線偏光子108に関連する要素を含むがこれらに限定されない任意の数の要素を瞳平面130にまたはその近くに配置することができるように、1つ以上の追加の瞳平面130を生成するための追加のレンズを含むことができる。
ここで図2を参照すると、いくつかの実施形態では、粒子検出システム100は、瞳平面またはその付近に位置する1つ以上の構成要素を含み、サブ分解能粒子によって散乱されるp偏光の点広がり関数(PSF)を再整形(整形)する。システムの撮像解像度より小さい粒子の画像は、概して、システムPSFによって制限され、これは、典型的には、画像が鏡面反射光を含むとき、エアリー関数(Airy function)であることが本明細書で認識される。しかしながら、粒子に関連する実際のPSF(例えば、粒子PSF)、したがって、システムによって生成される粒子の実際の画像は、瞳平面内の粒子からの光の特定の電場分布に関連し、特に、画像が散乱光から形成されるとき、システムPSFとは異なるサイズまたは形状を有し得る。
特に、斜めのp偏光で照明されたときの撮像解像度より小さい粒子の暗視野画像(例えば、散乱光または回折光で形成された粒子の画像である)は、システムPSFより大きい領域に広がる環であり得、これは粒子検出感度に悪影響を及ぼす。この環形状および粒子のPSFまたは撮像スポットのサイズの増加は、検出器110上の粒子の撮像スポットの中心における集光された光の相殺的干渉と関連付けられ得る。
したがって、いくつかの実施形態では、粒子検出システム100は、1つ以上の位相板または1つ以上の位相補償器等であるが、それらに限定されない、検出器110上の粒子の撮像スポットの中心における光の建設的干渉を促進するように、瞳平面130を横断する試料光122の位相を修正するための1つ以上の構成要素を含む。
例えば、位相マスクは、撮像された粒子のPSFを再整形するために好適な種々の構成を有してもよい。散乱光に基づいて撮像された粒子のPSFを再整形するための位相マスクは、米国において概して説明されている。2021年3月9日に発行された米国特許第10,942,135号(参照によりその全体が本明細書に組み込まれる)。いくつかの実施形態では、位相マスクは、瞳平面130の選択された部分を覆う1つ以上の半波長板を含んでもよい。この点に関して、位相マスクは、セグメント化光学部品として形成されてもよく、セグメントのうちの少なくとも1つは、半波長板を含む。
図2は、本開示の1つ以上の実施形態による、瞳を2つのセグメント(たとえば、半分)に分割するための2つのセグメントを含む位相マスク202の概念上面図である。例えば、図2に示されるように、位相マスク202は、直交偏光(Ex、eiπEy)として表される)に対してY方向に沿って偏光された光に対してpの位相シフトを導入するために、X方向に沿って光学軸を有する半波長板から形成されるセグメント204を含んでもよい。さらに、位相マスク202は、光の偏光を回転させないセグメント206を含むことができる。例えば、セグメント206は、セグメント206を通る光がセグメント204の光と同じ(又は実質的に同じ)光路長に沿って伝搬するように、伝搬方向に沿って光学的に均質な材料から形成された補償プレートを含むことができる。一実施形態では、補償プレートは、セグメント204内の半波長板とほぼ同じ厚さおよび屈折率を有するが、伝搬方向に沿って複屈折のない材料から形成される。別の実施形態では、補償プレートは、セグメント204内の半波長板と同じ材料から形成されるが、補償プレートを通って伝搬する光が複屈折を経験しないように異なる軸に沿って切断される。例えば、一軸結晶の光学軸に沿って伝搬する光は複屈折を経験し得ず、その結果、結晶は光学軸に沿って伝搬する光に対して光学的に均質であり得る。別の例として、セグメント206は開口を含むことができる。
さらに、いくつかの実施形態では、位相マスク202は、瞳平面130にわたる光路長差を少なくとも部分的に補償するために、瞳平面の外に傾けられてもよい。
セグメント化された位相マスク202は、当技術分野で知られている任意の技法を使用して形成され得る。一実施形態では、様々なセグメント(例えば、図2のセグメント204~206)は、様々なセグメントが単一の平面に配置される単一の構成要素として形成される。
しかしながら、図2および関連する説明は、単に例示目的で提供され、限定として解釈されるべきではないことを理解されたい。例えば、2つのセグメントを有する位相マスク202は、図4に示すように、上部ではなく集光領域306の底部に配置された半波長板を含むことができる。さらに、位相マスク202は、粒子から散乱された光のPSFを再整形するように、瞳平面130にわたる任意のパターンの材料の任意の組み合わせから形成される任意の数のセグメントを含んでもよい。例えば、対象の物体に関連付けられた瞳平面(例えば、測定、シミュレーションなどである)内の光の既知の電場分布を前提として、本明細書で説明されるようなセグメント化位相マスク202は、対象の物体の画像のPSFを再整形するように、瞳平面内の光の種々の領域の位相を選択的に調整するように形成されてもよい。特に、位相マスク202の種々のセグメントは、検出器110における建設的干渉を促進し、システムPSFに接近する(例えば、選択された公差内で)緊密なPSFを提供するように選択されてもよい。
位相マスク202の設計は、対象の粒子に関連する既知の電場分布(例えば、図3B等に示すようになる)に基づく「理想的な」位相マスクと、実際の設計および/または製造上の考慮事項との間のトレードオフを表し得ることが本明細書でさらに認識される。例えば、理想的な又は他の所望の位相マスク202は、製造が不当に高価であるか又は困難である場合がある。しかしながら、位相マスク202の特定の設計が製造仕様と性能仕様(例えば、選択された形状の粒子PSF等である)の両方を満たす場合がある。したがって、図2に示す位相マスク202の設計は、性能と製造可能性との間の特定のトレードオフを提供する非限定的な例を表し得る。
別の実施形態では、以下でより詳細に説明されるように、粒子検出システム100は、瞳平面にわたって空間的に変化する厚さを有する光学均質材料から形成される位相補償器を含み、検出器110上の粒子の画像の中心における粒子散乱と関連付けられる試料光122の建設的干渉を促進してもよい。
ここで図3A~図6Dを参照すると、本開示の1つ以上の実施形態によるCDER104がより詳細に説明される。図3A及び図3Bは、裸試料106から散乱された光(例えば、表面ヘイズ)及び粒子から散乱された光に関連する試料光122の電界分布(例えば、偏光状態)に対応する瞳平面散乱マップを示す。図4A~図6Dは、次いで、CDER104の様々な非限定的な構成および表面ヘイズの偏光状態の関連する進化(エボリューション:evolution)を示す。
本明細書では、試料106の表面から散乱された光(例えば、表面ヘイズ、表面散乱など)は、粒子検出用途においてノイズとみなされ得ることが認識される。したがって、対象粒子によって散乱された光に関連する試料光122の部分から、表面ヘイズに関連する試料光122の部分をフィルタリングすることが望ましい場合がある。
図3Aは、本開示の1つ以上の実施形態による、斜めに入射するp偏光に応答した表面散乱(例えば、表面ヘイズ)の瞳平面散乱マップ302である。図3Bは、本開示の1つ以上の実施形態による、斜めに入射するp偏光に応答して小粒子(例えば、粒子検出システム100の撮像分解能または照明ビーム114の波長に対して小さい)によって散乱される光の瞳平面散乱マップ304である。
特に、散乱マップ302、304は、最高強度として白色および最低強度として黒色を伴う陰影によって示される電界強度を含む。さらに、散乱マップ302、304は、重ね合わされた楕円によって示される瞳平面130内の集光角(例えば、散乱角)の関数として光の偏光配向を含む。散乱マップ302、304は、試料光122が検査ツール102によって集光される角度の範囲に関連付けられる、瞳平面内の集光領域306によって境界付けられる。例えば、集光領域306は、集光経路124内の対物レンズの開口数(NA)に対応し得る。
散乱マップ302、304は、図1Aおよび図1Bに示す粒子検出システム100の構成に基づく。図3A及び図3Bにおいて、鏡面反射角308は、照明方向310(例えば、図3Aの円形集光領域306の右側の集光領域306の外側である)に沿って集光領域306の外側に位置し、検査ツール102が鏡面反射光を捕捉しないことを示す。しかし、代替的な構成は本開示の範囲内である。例えば、鏡面反射角308が瞳平面内にある場合、鏡面反射光は、暗視野画像を生成するために検出器110の前に遮断され得る。
加えて、散乱マップ302、304は、シリコン、エピタキシャルシリコン、および多結晶シリコンウエハを含むが、それらに限定されない、多種多様の材料からの散乱を表し得る。しかしながら、散乱マップ302、304は、単に例示目的で提供され、本開示を限定するものとして解釈されるべきではないことを理解されたい。
図3Aおよび3Bに図示されるように、粒子によって散乱される光の電場分布(例えば、電界強度および分極配向)は、特に、照明ビーム114がp偏光されるとき、表面によって散乱される光の電場分布と実質的に異なり得る。例えば、表面ヘイズに関連付けられる試料光122は、概して、図3Aに図示されるように、集光領域306内の鏡面反射角308に対して、略半径方向偏光分布を呈する。対照的に、粒子散乱に関連する試料光122は、概して、図3Bに図示されるように、表面法線に対して半径方向偏光分布を呈する。さらに、散乱試料光122光の偏光は、概して楕円形である。図3Aおよび3Bから分かるように、瞳平面130内のほとんどの位置において、楕円は非常に細長く、これは、一方の直線偏光成分が他方の直線偏光成分よりもはるかに強いことを意味する。小さな粒子から散乱された試料光122(例えば、図3B)の場合、偏光は、瞳の中心付近でより楕円形であり得、これは、2つの直線偏光成分の大きさがほぼ同等であり得ることを意味する。しかしながら、瞳のこの領域における光の強度は比較的低く、小さな粒子からの全散乱信号にはほとんど寄与しない。
図4Aは、本開示の1つ以上の実施形態による、CDER104を含む検査ツール102の集光経路124の第1の構成の概念図である。本明細書では、図4Aに図示される構成要素のそれぞれは、単一の光学要素として形成されてもよい、または任意の数の光学要素間に分散されてもよいことが検討される。このようにして、隣接する構成要素は物理的に接触することができるが、物理的に接触する必要はない。さらに、検査ツール102は、図4Aに示す構成要素が単一の瞳平面またはその近くに位置するか、または複数の瞳平面の間に分散され得るように、任意の数の瞳平面を含み得る。
いくつかの実施形態では、集光経路124は、1/4波長板404の両側に2つの偏光回転子402(例えば、光学回転子)から形成されるCDER104と、それに続く直線偏光子108とを含む。このようにして、CDER104は、選択されたヘイズ配向方向に沿って直線偏光されるように表面ヘイズを操作し得、直線偏光子108は、このヘイズ配向方向に沿って光を拒絶し、したがって、表面ヘイズを抑制するように配向され得る。いくつかの実施形態では、集光経路124はさらに、検査ツール102の検出器110(図示せず)上に鮮明な撮像を提供するように、CDER104および直線偏光子108を通して光のPSFを再整形するための位相マスク202を含む。
偏光回転子402は、瞳平面にわたって空間的に変化する量の偏光回転(例えば、空間的に変化する偏光回転角)を提供する、当技術分野で公知の光学要素の任意の組み合わせを含んでもよい。このようにして、偏光回転子402は、瞳平面内の任意の位置における光の偏光を、任意の選択された量だけ選択的に回転させることができる。
さらに、表面ヘイズを排除するための選択された偏光方向(例えば、ヘイズ配向方向)は、任意の好適な方向であってもよい。例えば、選択された偏光方向は、粒子散乱試料光122の予期される分布(例えば、図3Bに示すように、)に基づいて選択され、拒絶された粒子散乱試料光122の強度を最小限にしてもよい。
図4B~図4Gは、本開示の1つ以上の実施形態による、図4Aに示す構成要素による表面ヘイズの電界分布の発展を示す。図4B~4Gにおいて、グレースケール強度マップは、表面ヘイズの強度に対応する。さらに、瞳平面にわたる選択された位置における偏光状態は、瞳平面にわたる偏光状態の分布を示すためのオーバーレイとして示される。
いくつかの実施形態では、第1の偏光回転子402aは、空間的に変動する偏光回転分布を提供し、表面ヘイズ(例えば、図3Aに示すように)の偏光を共通ヘイズ配向方向に回転させる。共通方向は、瞳平面内の任意に選択された方向を含むことができる。例えば、ヘイズ配向方向は、表面ヘイズが粒子散乱と区別され得るように、粒子散乱の偏光方向(例えば、図3Bに示すように)とは異なる瞳平面内の方向に対応するように選択され得る。別の例では、ヘイズ配向方向は、図4B(例えば、ヘイズ配向方向は、試料106上の照明ビーム114の入射面に対して垂直又は平行であるように選択することができる)に示される配向における垂直方向(例えば、Y方向)または水平方向(例えば、X方向)に対応するように選択され得る。
図4Bは、本開示の1つ以上の実施形態による、照明の方向(たとえば、X方向)に沿って表面ヘイズ(例えば、偏光楕円の長軸)の偏光楕円を整列させるように配置された第1の偏光回転子402aを通って伝搬した後の図3Aに示す表面ヘイズ電場分布のプロットである。図4Bに示されるように、偏光楕円の形状は、偏光が回転されるにつれて実質的に変化しないままである。図4Cは、本開示の1つ以上の実施形態による、図4Bの表面ヘイズ電場分布を生成するための第1の偏光回転子402aの空間的に変化する偏光回転分布を示すプロットである。
いくつかの実施形態では、1/4波長板404は、瞳平面を横断する楕円偏光を直線偏光に変換する。図4Dは、本開示の1つ以上の実施形態による、1/4波長板404を通して伝搬した後の図4Bに図示される表面ヘイズ電場分布のプロットである。図4Dに示されるように、1/4波長板404からの直線偏光の結果として生じる配向は、入射光の偏心に依存する。例えば、入射光の偏心が大きいほど、ヘイズ配向方向に対する回転の度合いが大きくなる。
いくつかの実施形態では、第2の偏光回転子402bは、表面ヘイズの偏光を回転させ、共通ヘイズ配向方向に戻す。図4Eは、本開示の1つ以上の実施形態による、第2の偏光回転子402bを通して伝搬した後の図4Dに図示される表面ヘイズ電場分布のプロットである。このようにして、第2の偏光回転子402bは、1/4波長板404によって誘発されるヘイズ配向方向からの偏光状態の任意の偏差を補償または別様に補正し得る。例えば、図4Eは、ヘイズ配向方向(例えば、X方向)に沿って瞳平面にわたって直線偏光される表面ヘイズを図示する。しかしながら、第2の偏光回転子402bは、瞳平面にわたる表面ヘイズの偏光を、第1の偏光回転子402aによって提供されるヘイズ配向方向と必ずしも同じである必要はない任意の任意に選択されたヘイズ配向方向に概して整列させ得ることを理解されたい。図4Fは、本開示の1つ以上の実施形態による、図4Eの表面ヘイズ電場分布を生成するための第2の偏光回転子402bの空間的に変化する偏光回転分布を示すプロットである。
図4Gは、本開示の1つ以上の実施形態による、直線偏光子108を通して伝搬した後の図4Eに図示される表面ヘイズ電場分布のプロットである。図4Gのマグニチュードスケールによって示されるように、ヘイズ配向方向に沿った直線偏光への表面ヘイズの正確な操作は、瞳平面全体にわたる表面ヘイズの高感度抑制を促進する。
ここで図4H-4Mを参照すると、図4Aに図示される構成要素の種々の実装が、本開示の1つ以上の実施形態に従って、より詳細に説明される。空間的に変化する量の偏光回転を提供する偏光回転子402は、概して米国特許10,948,423(2021年3月16日)で記述される。これは、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
いくつかの実施形態では、偏光回転子402は、セグメント化された半波長板406から形成される。図4Hは、本開示の1つ以上の実施形態による、セグメント化された半波長板406として形成された偏光回転子402のブロック図である。例えば、偏光回転子402は、瞳平面にわたって分布される2つ以上の半波長板を含んでもよく、それぞれ、偏光回転角の選択された空間分布を提供するように選択された方向に配向された光学軸(例えば、速軸または遅軸)を有する。このようにして、瞳平面の異なる領域内の試料光122の部分は、異なる量だけ回転され得る。例えば、瞳平面の各領域内の光学軸の配向は、瞳平面の各対応する領域内の表面ヘイズの偏光状態(例えば、図3Aに示すように)に基づいて選択されてもよい。そのような偏光回転子402は、概して、偏光回転の選択された空間的に変動する分布を提供するように、瞳平面にわたる任意の分布において、任意の数の半波長板(例えば、セグメント)を含んでもよい。例えば、偏光回転子402は、瞳平面(例えば、図3AのY方向である)内で線形方向に沿って分布する一連の半波長板を有する、線形区分半波長板406を含んでもよい。別の事例では、偏光回転子402は、限定ではないが、照明ビーム114の鏡面反射に対応する瞳平面の部分等の頂点場所の周囲に半径方向に分布される一連の楔形半波長板を有する、角度分割半波長板406を含んでもよい。
いくつかの実施形態では、偏光回転子402は、偏光回転角の選択された空間分布を提供するように空間的に変化する厚さを有する光学活性材料408(例えば、円複屈折または円二色性を示す材料、キラル材料などである)を含む。図4Iは、本開示の1つ以上の実施形態による、セグメント化された半波長板406として形成された偏光回転子402のブロック図である。
本明細書では、光学活性材料408を使用する偏光回転は、半波長板(例えば、セグメント化された半波長板である)を使用する偏光回転とは異なる機構に基づき得ることが認識される。特に、半波長板は、瞳平面内の直交方向(例えば、速軸および遅軸)に対して異なる屈折率値を提供する材料によって形成されてもよく、これらの直交方向に沿った光間にπの位相遅延(例えば、半波:ハーフウェーブ)をもたらすように設定された一定の厚さであってもよい。このように、半波長板によって誘起される偏光回転の量は、瞳平面内の半波長板の回転によって制御される。対照的に、光学活性材料408は、キラリティを示し得、厚さの関数として一定の偏光回転速度を提供し得る。このようにして、光学活性材料408によって誘発される偏光回転の量は、光学活性材料の厚さによって制御される。さらに、本明細書では、限定されないが、石英等のいくつかの材料は、瞳平面に対するその配向に基づいて、波長板または光学活性材料408として動作し得ることが認識される。例えば、瞳平面内の光学軸で配向された石英は、波長板として動作し得るが、瞳平面に直交する光学軸(例えば、試料光122の伝播方向に沿っている)で配向された石英は、光学活性材料408として動作し得る。しかしながら、これは単なる例示であり、光学活性偏光回転子402は、概して、任意の光学活性材料から形成され得ることを理解されたい。
いくつかの実施形態では、光学活性材料408から形成される偏光回転子402はさらに、検出器110上の粒子の画像の中心における粒子散乱と関連付けられる試料光122の建設的干渉を促進するように、位相補償器410を含んでもよい。例えば、位相補償器410は、光学活性材料408の空間的に変化する厚さに相補的である、瞳平面130にわたる空間的に変化する厚さを有する、光学均質材料を含んでもよい。このようにして、偏光回転子402を通る試料光122の全光路は、瞳平面にわたって一定であり得る。別の例として、位相補償器410は、偏光回転子402を含む光学活性材料408と反対のハンドネス(handedness:偏光の向き(右または左))を有する光学活性材料から形成され得る。一例では、光学活性材料408は右旋石英を含み、位相補償器410は左旋石英を含み、それぞれは、所望の偏光回転および位相補正が達成されるように選択された厚さプロファイルを有する。
本明細書では、光学活性材料408から形成される偏光回転子402は、したがって、偏光回転子402を2D連続空間変動厚さを伴う光学活性材料408から加工することによって、瞳平面を横断して連続的に変動する偏光回転を提供し得ることが検討される。いくつかの実施形態では、第1の偏光回転子402aおよび/または第2の偏光回転子402bは、瞳平面(例えば、図4C及び図4Fに示す分布に従う)にわたって精密な偏光回転を提供する2D厚さプロファイルを伴う光学活性材料408から形成される。
図4Jは、本開示の1つ以上の実施形態による、検査ツール102内の検出器110の画素サイズの関数として表面ヘイズを抑制する際のCDER104の粒子検査感度および効率を示すプロットである。表面ヘイズを抑制するためのCDER104を有する検査ツール102の粒子検出感度は、表面ヘイズに対する試料106上の粒子の特定の電場分布に依存し得ることが本明細書で企図される。例えば、3Bにおける電場分布は、特定の粒子に対応し得る。一般に、この分布は、限定されないが、粒径または組成などの様々なパラメータに基づいて変化する。
例えば、図4Jは、本開示の1つ以上の実施形態による、2D厚さプロファイル(例えば、図4C及び図4Fに示すように)を有する光学活性材料408から形成される偏光回転子402a、bを伴う、図4Aに図示されるようなCDER104の効率のシミュレーションに対応する。さらに、図4Jの輪郭上の凡例は、ナノメートル単位の粒子サイズに対応する。図4Jに示すように、CDER104のこの非限定的な例は、広範囲の画素サイズに対して高い効率(例えば、粒子によって散乱された光に対する表面ヘイズの抑制)を提供する。
しかしながら、本明細書では、場合によっては、特定のステップ(例えば、図4C及び図4Fに示される分布)に適した偏光回転の空間的に変化する分布を正確に提供する空間的に変化する厚さプロファイルを有する光学活性材料408を製造することが非実用的または望ましくない場合があることが企図される。したがって、いくつかの実施形態では、特定の偏光回転子402(例えば、第1の偏光回転子402aまたは第2の偏光回転子402b)は、選択された公差内で理想的な偏光回転分布に近似する空間偏光回転分布を提供することができる。このようにして、性能と製造可能性とをバランスさせることができる。
いくつかの実施形態では、偏光回転子402(例えば、第1の偏光回転子402aまたは第2の偏光回転子402bなどである)は、単一方向に沿って変動する厚さプロファイル(例えば、1D厚さプロファイル)を伴う光学活性材料408を有し、1D偏光回転分布を提供する。本明細書では、2D厚さプロファイルよりも1D厚さプロファイルを有する光学活性材料408を作製することがより容易かつ/またはより費用効果的であり得ることが企図される。また、図3(A)に示すように、表面ヘイズの偏光楕円は、Y方向に沿って大きく変化し、X方向に沿って比較的弱く変化する。したがって、Y方向に沿って変化する1D偏光回転分布は、理想的な偏光回転分布に合理的に近似し得る。
図4Kは、本開示の1つ以上の実施形態による、偏光回転子402a、bが、一次元的に変化する偏光回転分布を提供するために単一の方向(たとえば、Y方向)に沿って連続的に変化する厚さプロファイルを有する、図4Aに示す構成要素の概念断面図である。図4Lは、本開示の1つ以上の実施形態による、偏光回転子402a、bが、直線的に変動する偏光回転分布を提供するように、単一方向(例えば、Y方向)に沿って直線的に変動する厚さプロファイルを有する、図4Aに図示される構成要素の概念的断面図である。
いくつかの実施形態では、偏光回転子402(例えば、第1の偏光回転子402aおよび/または第2の偏光回転子402b)は、構成要素のスタックとして形成されてもよく、所望の特性(例えば、空間偏光回転分布)は、スタックを通る光の伝搬を通して達成される。例えば、直接実用的で(例えば、コスト、製造可能性などに基づく)を作製する(光学活性材料408(または対応する位相補償器410)、所望の複素spatially-varying厚プロファイル(例えば、1D又は2(d))。しかしながら、製造が比較的容易なプロファイル(例えば、球面、線状表面などである)を有する一連の光学活性材料408から、空間的に変化する厚さプロファイル(例えば、1Dまたは2D)またはその近似を構築することが可能であり得、その組み合わせは、所望の複雑な空間的に変化する厚さプロファイルまたはその妥当な近似を形成する。
図4Mは、本開示の1つ以上の実施形態による、偏光回転子402a、bが、2つの光学活性材料408および対応する位相補償器410を含む要素のスタックとして形成される、図4Aに図示される構成要素の概念的断面図である。例えば、図4Mの光学活性材料408および対応する位相補償器410は、球形および線形プロファイルで形成される。
本明細書では、位相マスク202または他のビーム調整要素をCDER104に組み込むことができることがさらに企図される。図4Mは、第1の偏光回転子402aと統合された位相マスク202をさらに示す。
ここで図5A~図5Fを参照すると、瞳平面にわたる表面ヘイズの楕円偏光を直線偏光に変換し、後続の直線偏光子108による抑制および/または分離のために共通のヘイズ配向方向に沿って直線偏光を整列させる機能的ステップが、様々な技法を使用して実行され得ることが本明細書で企図される。
図5Aは、本開示の1つ以上の実施形態による、CDER104を含む検査ツール102の集光経路124の第2の構成の概念図である。図4Aに関して説明されるように、図5Aに図示される構成要素のそれぞれは、単一の光学要素として形成されてもよく、または任意の数の瞳平面内の任意の数の光学要素間に分布されてもよい。
特に、図5Aは、単一の偏光回転子402およびセグメント化された1/4波長板502を含むCDER104の構成を示し、偏光回転子402およびセグメント化された1/4波長板502の両方は、瞳平面にわたって空間的に変化する動作を有する。本明細書では、直線偏光の向きに対するセグメント化された1/4波長板502の影響は、単一の偏光回転ステップのみが必要とされるように偏光回転子402を設計するときに考慮され得ることが企図される。この構成では、偏光回転子402は、図4Bに示すように楕円偏光の長軸を揃えない。むしろ、偏光回転子402は、表面ヘイズの偏心性に少なくとも部分的に基づく空間的に変化する偏光回転プロファイルを提供し、瞳平面を横断する表面ヘイズの偏光が、セグメント化された1/4波長板502を通して伝搬し、直線偏光に変換された後にのみ整列させられるようになっている。例えば、偏光回転子402は、偏光楕円の対角線が共通の方向(例えば、以下の図5Bに描写されるような照明方向または水平方向である)に沿って整列するように楕円偏光を整列させることができる。各偏光楕円の短軸に平行に配向された光学軸を有するセグメント化された1/4波長板502は、次いで、楕円偏光を直線偏光に変換し、直線偏光が共通ヘイズ配向方向(例えば、以下の図5Cに描写されるような照明方向またはX方向)に沿って整列されることを提供し得る。
図5Bは、本開示の1つ以上の実施形態による、図5Aの偏光回転子402を通して伝搬した後の図3Aに図示される表面ヘイズ電場分布のプロットである。図5Bに示すように、表面ヘイズの偏光楕円の長軸は互いに平行ではなく、楕円の対角線が互いに平行になるように偏心度によって異なる。図5Cは、本開示の1つ以上の実施形態による、図5Aのセグメント化された1/4波長板502を通って伝搬した後の図5Bに示す表面ヘイズ電場分布のプロットである。図5Dは、本開示の1つ以上の実施形態による、図5Aの直線偏光子108を通して伝搬した後の図5Cに図示される表面ヘイズ電場分布のプロットである。図5Dに示すように、表面ヘイズの大部分は直線偏光子108によって減衰又は方向転換されるので、強度は非常に低い。
図4Aに関して説明したように、図5Aの偏光回転子402およびセグメント化された1/4波長板502は、当技術分野で知られている任意の技法を使用して形成され得る。図5Eは、本開示の1つ以上の実施形態による、偏光回転子402がセグメント化された半波長板(例えば、図5B、図5C及び図5Dに示すように、セグメントが瞳平面130の水平方向に沿って分布している)として形成され、セグメント化された1/4波長板502がここでは水平方向(たとえば、X方向)に沿って分散されたセグメントで形成される、図5Aに示す構成要素の概念断面図である。図5Fは、本開示の1つ以上の実施形態による、偏光回転子402が連続要素(例えば、連続的に変化する厚さプロファイルを有する光学活性材料408)として形成され、セグメント化された1/4波長板502が照明方向(例えば、図5B、5C、および5Dに描写されるような瞳平面の水平方向である)に沿って分布するセグメントで形成される、図5Aに示す構成要素の概念断面図である。
図6Aは、本開示の1つ以上の実施形態による、CDER104を含む検査ツール102の集光経路124の第3の構成の概念断面図である。図4Aおよび5Aに関して説明されるように、図6Aに図示される構成要素のそれぞれは、単一の光学要素として形成されてもよく、または任意の数の瞳平面内の任意の数の光学要素間に分布されてもよい。
特に、図6Aは、表面ヘイズの偏光楕円を瞳にわたる直線偏光に変換し、直線偏光が共通ヘイズ配向方向に沿って整列されるようにする、空間的に変動する波長板602を含む、CDER104の構成を図示する。CDER104はさらに、表面ヘイズの直線偏光を共通ヘイズ配向方向に回転させる偏光回転子402を含んでもよい。偏光回転子402は、限定ではないが、図4Hおよび4Iに図示される設計等の任意の好適な設計を有してもよい。いくつかの実施形態では、偏光回転子402は、光学活性材料408と、随意に、位相補償器410とを含む。いくつかの実施形態では、偏光回転子402は、セグメント化された半波長板406を含む。例えば、図6Aは、偏光回転子402が光学活性材料408および位相補償器410を含むCDER104の非限定的な構成を示す。図6Aはさらに、表面ヘイズを隔離または抑制し、CDER104を通る光のPSF(例えば、試料106上の粒子からの関心のある試料光122に関連する)を再整形するための、本明細書で以前に説明されたような集光経路124内の直線偏光子108および位相マスク202を図示する。
いくつかの実施形態では、CDER104の1つ以上の構成要素は、空間的に変動する波長板602の厚さの空間的変動を(少なくとも選択された公差内で)補償するように、空間的に変動する厚さを有する。例えば図6Aは、CDER104が、Y方向(例えば、図2を参照して上述したように)に沿って偏光された光に対してpの位相シフトを導入するためにX方向に沿った光学軸を有する半波長板から形成されたセグメント204と、伝搬方向に沿って光学的に均質な材料から形成された補償板を含むセグメント206とを有する位相マスク202を含み、全ての光が伝搬する非限定的な構成を示す集光経路124は、同じ光路長(例えば、少なくとも選択された許容範囲内である)に沿って伝搬する。特に、図6Aは、空間的に変化する波長板602の空間的に変化する厚さプロファイルを補償するように設計された厚さプロファイルを有する空間的に変化する厚さを有するセグメント206を示す。別の例として、CDER104は、空間的に変化する波長板602の空間的に変化する厚さプロファイルを補償するように設計された厚さプロファイルを有する光学的均質材料から形成された追加の補償要素を含むことができる。
この空間的に変化する波長板602は、連続的に変化する波長板又は複屈折材料としてのセグメント化された波長板として形成されてもよく、光学軸の厚さ及び配向は、表面ヘイズの楕円偏光の直線偏光への変換の両方を提供するように(例えば、連続的に又はセグメント間で)変化する。
図6Bは、本開示の1つ以上の実施形態による、図6Aの空間的に変動する波長板602を通して伝搬した後の図3Aに図示される表面ヘイズ電場分布のプロットである。図6Bに示されるように、図3Aの楕円偏光は、瞳平面にわたって変化する配向を伴う直線偏光に変換される。図6Cは、本開示の1つ以上の実施形態による、図6Aの光学回転子402を通して伝搬した後の図6Bに図示される表面ヘイズ電場分布のプロットである。図6Cにおいて、直線偏光の配向は、共通のヘイズ配向方向(例えば、図6Cの水平方向である)に沿って配向される。図6Dは、本開示の1つ以上の実施形態による、図6Aの直線偏光子108を通して伝搬した後の図6Cに図示される表面ヘイズ電場分布のプロットである。図6Dに示すように、表面ヘイズの大部分は直線偏光子108によって減衰又は方向転換されるので、強度は非常に低い。
ここで全体的に図4A~図6Dを参照すると、実質的に同様の性能が、図4A、図5A、および図6Aに示される異なる設計によって達成され得ることに留意されたい。特に、図4E、5C、および6Cは、楕円偏光表面ヘイズの直線偏光への変換と、ヘイズ配向方向(ここでは、それぞれの図における水平方向)に沿った表面ヘイズの整列との両方を図示する。同様に、図4G、5D、及び6Dは、直線偏光子による表面ヘイズの実質的に同様の抑制を示す。したがって、図4Jに基づくCDER104の性能に関連する教示は、限定はしないが、図5Aおよび図6Aに示す変形形態を含む、CDER104のすべての変形形態に適用または拡張され得ることを理解されたい。
さらに、図4A~図6Dおよび関連する説明は、単に例示を目的として提供されており、限定として解釈されるべきではないことを理解されたい。特に、図4A~図6Cは、CDER104の非限定的な例を表す。
再び図1Aを参照すると、本開示の1つ以上の実施形態による、粒子検出システム100の種々の付加的構成要素が、より詳細に説明される。
いくつかの実施形態では、粒子検出システム100は、記憶媒体138(例えば、メモリ)上に維持されるプログラム命令を実行するように構成された1つ以上のプロセッサ136を含むコントローラ134を含む。さらに、コントローラ134は、粒子検出システム100の任意の構成要素に通信可能に結合され得る。この点に関して、コントローラ134の1つ以上のプロセッサ136は、本開示全体にわたって説明する様々なプロセスステップのいずれかを実行することができる。例えば、コントローラ134は、検出器110からのデータ(例えば、試料106の画像に関連付けられる)を受信、分析、および/または処理することができる。別の例として、コントローラ134は、制御信号を使用して粒子検出システム100の任意の構成要素を制御または他の方法で指示することができる。
コントローラ134の1つ以上のプロセッサ136は、当技術分野で知られている任意の処理要素を含むことができる。この意味で、1つ以上のプロセッサ136は、アルゴリズムおよび/または命令を実行するように構成された任意のマイクロプロセッサタイプのデバイスを含み得る。いくつかの実施形態では、1つ以上のプロセッサ136は、デスクトップコンピュータ、メインフレームコンピュータシステム、ワークステーション、画像コンピュータ、並列プロセッサ、または本開示全体を通して説明されるように、粒子検出システム100を動作させるように構成されるプログラムを実行するように構成される、任意の他のコンピュータシステム(例えば、ネットワーク化されたコンピュータ)から成ってもよい。さらに、「プロセッサ」という用語は、非一時的記憶媒体(メモリ)138からのプログラム命令を実行する1つ以上の処理要素を有する任意のデバイスを包含するように広く定義され得ることを認識されたい。さらに、本開示全体にわたって説明されるステップは、単一のコントローラ134によって、または代替として複数のコントローラによって実行され得る。さらに、コントローラ134は、共通のハウジングまたは複数のハウジング内に収容された1つ以上のコントローラを含むことができる。このようにして、任意のコントローラまたはコントローラの組み合わせは、粒子検出システム100への統合に好適なモジュールとして別個にパッケージ化されてもよい。
記憶媒体138は、関連する1つ以上のプロセッサ136によって実行可能なプログラム命令を記憶するのに適した、当技術分野で知られている任意の記憶媒体を含み得る。例えば、記憶媒体138は、非一時的な記憶媒体を含み得る。別の例として、記憶媒体138は、読取り専用メモリ(ROM)、ランダムアクセスメモリ(RAM)、磁気または光メモリデバイス(たとえば、ディスク)、磁気テープ、ソリッドステートドライブなどを含み得るが、それらに限定されない。さらに、記憶媒体138は、1つ以上のプロセッサ136とともに共通のコントローラハウジング内に収容され得ることに留意されたい。いくつかの実施形態では、記憶媒体138は、1つ以上のプロセッサ136およびコントローラ134の物理的場所に対して遠隔に位置してもよい。たとえば、コントローラ134の1つ以上のプロセッサ136は、ネットワーク(例えば、インターネット、イントラネットなど)を介してアクセス可能なリモートメモリ(たとえば、サーバ)にアクセスすることができる。したがって、上記の説明は、本発明を限定するものとして解釈されるべきではなく、単なる例示として解釈されるべきである。
ここで図7を参照すると、図7は、本開示の1つ以上の実施形態による、粒子検出のための方法700において実行されるステップを示す流れ図である。出願人は、粒子検出システム100の文脈において本明細書で前述された実施形態および有効化技術は、方法700にまで及ぶと解釈されるべきであることに留意する。しかしながら、方法700は粒子検出システム100のアーキテクチャに限定されないことにさらに留意されたい。
一実施形態では、方法700は、既知の入射角で既知の偏光を有する照明ビームに応答して試料の表面から散乱された光の第1の電場分布(例えば、表面ヘイズ)を受け取るステップ702を含み、第1の電場分布の少なくとも一部分は楕円偏光を含む。別の実施形態では、方法700は、照明ビームに応答して試料の表面上の粒子から散乱された光の第2の電場分布を受け取るステップ704を含む。
例えば、表面ヘイズが、表面上の粒子によって散乱される光とは異なる電場分布を結像システムの瞳平面内に有し得る場合があり得る。特に、本明細書では、表面ヘイズおよび粒子散乱は、斜めに入射するp偏光によって散乱されるとき、実質的に異なる電場分布を有することが認識される。
別の実施形態では、方法700は、第1の電場分布を変換して瞳平面にわたる完全直線偏光を含むことと、瞳平面にわたる直線偏光が共通の配向方向(例えば、ヘイズ)に沿って整列されることとの両方を行うように、撮像システムの瞳平面における配置に好適な1つ以上の偏光制御光学要素(例えば、CDER104)を設計するステップ706を含む配向方向)。いくつかの実施形態では、共通配向方向は、第2の電場分布内の光の偏光方向と実質的に異なる。このようにして、第1の電場分布は、偏光制御光学系を使用して、第2の電場分布から操作および区別され得る。
706で設計された(例えば、CDER104を形成する)偏光制御光学要素は、本開示の精神および範囲内で様々な構成で提供され得ることが本明細書で企図される。例えば、偏光制御光学要素は、第1の電場分布と関連付けられる光の偏光を第1の共通配向方向に回転させるための第1の偏光回転子と、瞳を横断する全ての偏光を直線偏光に変換するための1/4波長板と、直線偏光を第2の共通配向方向に回転させるための第2の偏光回転子とを含んでもよい。これは、第1の共通配向方向と同じであっても異なっていてもよい。別の例として、偏光制御光学要素は、単一偏光回転子および1/4波長板を含んでもよく、単一偏光回転子は、瞳を横断する光が、1/4波長板を通して伝搬した後、直線偏光され、共通配向方向にわたって整列させられるように、第1の電場分布と関連付けられる光の偏光を中間分布に回転させる。さらなる例として、偏光制御光学要素は、瞳平面にわたって分布する複数のセグメントを含むセグメント化されたウェーブライトを含んでもよい。例えば、セグメントの各々は、瞳平面内の光学軸と、セグメントに入射する光を直線偏光に変換することと、直線偏光が他のセグメントに共通の配向方向に沿って整列されることを更に提供することとの両方を行うように構成された厚さとを有する複屈折材料から形成され得る。
別の実施形態では、方法700は、瞳平面内の偏光制御光学系と、選択された配向方向に沿って偏光された光を拒絶するように位置合わせされた直線偏光子とを有する撮像システムを用いて、試料の暗視野画像を生成するステップ708を含み、暗視野画像は、直線偏光子によって通過された光に基づく。例えば、偏光子を通過した光は、選択された公差内で試料の表面上の1つ以上の粒子によって散乱された光に対応することができ、表面ヘイズは抑制されている。
本明細書で説明される主題は、場合によっては、他の構成要素内に含まれる、または他の構成要素と接続される、異なる構成要素を図示する。そのような描写されたアーキテクチャは、単なる例示であり、実際には、同じ機能性を達成する多くの他のアーキテクチャが実装され得ることを理解されたい。概念的な意味では、同じ機能を達成するための構成要素の任意の配置は、所望の機能が達成されるように効果的に「関連付けられる」。したがって、特定の機能を達成するために組み合わされた本明細書の任意の2つの構成要素は、アーキテクチャまたは中間構成要素にかかわらず、所望の機能が達成されるように互いに「関連付けられる」と見なすことができる。同様に、そのように関連付けられた任意の2つの構成要素はまた、所望の機能性を達成するために、相互に「接続」または「結合」されていると見なされることができ、そのように関連付けられることが可能な任意の2つの構成要素はまた、所望の機能性を達成するために、相互に「結合可能」であると見なされることができる。結合可能な特定の例は、物理的に相互作用可能な及び/又は物理的に相互作用するコンポーネント及び/又は無線で相互作用可能な及び/又は無線で相互作用するコンポーネント及び/又は論理的に相互作用可能な及び/又は論理的に相互作用するコンポーネントを含むが、これらに限定されない。
本開示およびその付随する利点の多くは、前述の説明によって理解されるであろうと考えられ、開示される主題から逸脱することなく、またはその物質的利点の全てを犠牲にすることなく、構成要素の形態、構造、および配置において種々の変更が行われ得ることが明白となるであろう。説明される形態は単なる説明であり、そのような変更を包含し、含むことが以下の特許請求の範囲の意図である。さらに、本発明は添付の特許請求の範囲によって定義されることを理解されたい。
Claims (52)
- システムであって、
照明ビームを生成するように構成された照明源と、
照明方向に沿って軸外角度で試料に前記照明ビームを向ける1つ以上の照明光学系と、
暗視野モードで前記照明ビームに応答して前記試料からの散乱光を集光する1つ以上の集光光学系であって、前記1つ以上の集光光学系によって集光された前記試料からの散乱光が、前記試料の表面から散乱された光に関連する表面ヘイズを含み、前記表面ヘイズの少なくとも一部が楕円偏光を有する、1つ以上の集光光学系と、
前記1つ以上の集光光学系の1つ以上の瞳平面に位置する1つ以上の光学素子であって、
選択された配向方向に前記表面ヘイズを回転させるための第1の空間的に変化する偏光回転分布を提供する第1の偏光回転子であって、前記表面ヘイズの回転は、前記選択された配向方向に対する前記楕円偏光の長軸の回転を含む、第1の偏光回転子と、
前記第1の偏光回転子からの前記表面ヘイズを直線偏光に変換するための1/4波長板と、
前記1/4波長板からの前記表面ヘイズの直線偏光を選択されたヘイズ配向方向に回転させる、第2の空間的に変化する偏光回転分布を提供する第2の偏光回転子と、
を含む光学素子と、
選択されたヘイズ配向方向に平行に偏光された光を拒絶し、前記第2の偏光回転子からの前記表面ヘイズを拒絶するように整列された直線偏光子と、
前記直線偏光子を通過した前記試料からの散乱光に基づいて前記試料の暗視野画像を生成する検出器であって、前記直線偏光子を通過した前記試料からの散乱光は、前記試料の表面上の1つ以上の粒子によって散乱された光の少なくとも一部を含む、検出器と、
を含む、
システム。 - 前記1つ以上の照明光学系は、前記照明ビームをp偏光で前記試料に向けるように構成される請求項1に記載のシステム。
- 前記直線偏光子は、前記試料からの散乱光を第1の光路に沿って方向付け、前記表面ヘイズを前記第1の光路とは異なる第2の光路に沿って方向付ける偏光ビームスプリッタを含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記第2の光路に沿った前記表面ヘイズに基づいて前記試料の暗視野画像を生成するように構成される追加の検出器を、さらに含む請求項3に記載のシステム。
- 前記第1または第2の偏光回転子の少なくとも1つは、セグメント化された半波長板を含む請求項1に記載のシステム。
- 前記セグメント化された半波長板は、瞳平面に分布する複数のセグメントを含む直線的にセグメント化された半波長板である請求項5に記載のシステム。
- 前記複数のセグメントは、瞳平面内の照明方向に直交する方向に沿って分布する請求項6に記載のシステム。
- 前記第1または第2の偏光回転子の少なくとも1つは、空間的に変化する厚さを有し、対応する第1または第2の空間的に変化する偏光回転分布を提供する光学活性材料を含む請求項1に記載のシステム。
- 前記光学活性材料は、光軸が1つ以上の瞳平面の対応する瞳平面に直交するように配向される請求項8に記載のシステム。
- 前記光学活性材料は、石英である請求項8に記載のシステム。
- 前記第1または第2の偏光回転子の少なくとも1つは、光学活性材料を通過する前記表面ヘイズの光路長を等しくする位相補償器をさらに含む請求項8に記載のシステム。
- 前記位相補償器は、前記位相補償器を通る伝播方向に沿って光学的に均質な材料から形成される請求項11に記載のシステム。
- 前記位相補償器は、前記光学活性材料の反対のハンドネスを有し、前記位相補償器を通る伝搬方向に沿った光学活性材料から形成される請求項11に記載のシステム。
- 前記1つ以上の集光光学系の1つ以上の瞳平面に位置する前記1つ以上の光学素子は、前記試料の表面上の1つ以上の粒子から散乱された光の点広がり関数を整形するために、集光領域の2つ以上の瞳領域内の光に対して異なる位相シフトを提供する位相マスクをさらに含む請求項1に記載のシステム。
- 前記位相マスクは、前記試料の表面上の1つ以上の粒子から散乱された光の点広がり関数を整形して、点広がり関数の中心ピークを提供する請求項14に記載のシステム。
- 選択されたヘイズ配向方向は、前記選択された配向方向と平行である請求項1に記載のシステム。
- 前記選択されたヘイズ配向方向は、前記選択された配向方向に直交する請求項1に記載のシステム。
- システムであって、
照明ビームを生成するように構成された照明源と、
照明方向に沿って軸外角度で試料に前記照明ビームを向ける1つ以上の照明光学系と、
暗視野モードで前記照明ビームに応答して前記試料からの散乱光を集光する1つ以上の集光光学系であって、前記1つ以上の集光光学系によって集光された前記試料からの前記散乱光が、前記試料の表面から散乱された光に関連する表面ヘイズを含み、前記表面ヘイズの少なくとも一部が楕円偏光を有する、集光光学系と、
前記1つ以上の集光光学系の1つ以上の瞳平面に位置する1つ以上の光学素子であって、
空間的に変化する偏光回転分布を提供して、選択された配向分布に前記表面ヘイズを回転させる偏光回転子であって、前記表面ヘイズの回転が、選択された配向分布への楕円偏光の長軸の回転を含む、偏光回転子と、
前記偏光回転子からの前記表面ヘイズを直線偏光に変換するためのセグメント化された1/4波長板であって、前記直線偏光が前記選択されたヘイズ配向方向に沿って整列される、セグメント化された1/4波長板と、
を含む、1つ以上の光学素子と、
前記選択されたヘイズ配向方向に平行に偏光された光を拒絶して、前記セグメント化された1/4波長板からの前記表面ヘイズを拒絶するように位置合わせされた直線偏光子と、
前記直線偏光子を通過した前記試料からの散乱光に基づいて前記試料の暗視野画像を生成する検出器であって、前記直線偏光子を通過した前記試料からの散乱光は、前記試料の表面上の1つ以上の粒子によって散乱された光の少なくとも一部を含む、検出器と、
を含む、
システム。 - 前記1つ以上の照明光学系は、前記照明ビームをp偏光で前記試料に向けるように構成される請求項18に記載のシステム。
- 前記直線偏光子は、前記試料からの散乱光を第1の光路に沿って方向付け、前記表面ヘイズを第1の光路とは異なる第2の光路に沿って方向付ける、偏光ビームスプリッタである請求項18に記載のシステム。
- 前記第2の光路に沿った前記表面ヘイズに基づいて前記試料の暗視野画像を生成するように構成される追加の検出器をさらに含む請求項20に記載のシステム。
- 前記偏光回転子はセグメント化された半波長板を含む請求項18に記載のシステム。
- 前記セグメント化された半波長板は、瞳平面に分布する複数のセグメントを含む直線的にセグメント化された半波長板である請求項22に記載のシステム。
- 前記複数のセグメントは、瞳平面内の照明方向に直交する方向に沿って分布する請求項23に記載のシステム。
- 前記偏光回転子は、空間的に変化する厚さを有し、対応する第1または第2の空間的に変化する偏光回転分布を提供する光学活性材料を含む請求項18に記載のシステム。
- 前記光学活性材料は、光軸が1つ以上の瞳平面の対応する瞳平面に直交するように配向される請求項25に記載のシステム。
- 前記光学活性材料は、石英である請求項25に記載のシステム。
- 前記偏光回転子は、前記光学活性材料を通過する前記表面ヘイズの光路長を等しくする位相補償器をさらに含む請求項25に記載のシステム。
- 前記位相補償器は、前記位相補償器を通る伝播方向に沿って光学的に均質な材料から形成される請求項28に記載のシステム。
- 前記位相補償器は、前記光学活性材料の反対のハンドネスを有し、前記位相補償器を通る伝搬方向に沿った光学活性材料から形成される請求項28に記載のシステム。
- 前記1つ以上の集光光学系の1つ以上の瞳平面に位置する1つ以上の光学素子は、前記試料の表面上の1つ以上の粒子から散乱された光の点広がり関数を整形するために、集光領域の2つ以上の瞳領域内の光に対して異なる位相シフトを提供する位相マスクをさらに含む請求項18に記載のシステム。
- 前記位相マスクは、前記試料の表面上の1つ以上の粒子から散乱された光の点広がり関数を整形して、点広がり関数の中心ピークを提供する請求項31に記載のシステム。
- 前記選択されたヘイズ配向方向は、前記選択された配向方向と平行である請求項18に記載のシステム。
- 前記選択されたヘイズ配向方向は、前記選択された配向方向に直交する請求項18に記載のシステム。
- システムであって、
照明ビームを生成するように構成された照明源と、
照明方向に沿って軸外角度で試料に前記照明ビームを向ける1つ以上の照明光学系と、
暗視野モードで照明ビームに応答して前記試料からの散乱光を集光する1つ以上の集光光学系であって、前記1つ以上の集光光学系によって集光された前記試料からの散乱光が、前記試料の表面から散乱された光に関連する表面ヘイズを含み、前記表面ヘイズの少なくとも一部が楕円偏光を有する、集光光学系と、
前記1つ以上の集光光学系の1つ以上の瞳平面に位置する1つ以上の光学素子であって、
前記表面ヘイズを直線偏光に変換するために、前記1つ以上の集光光学系の瞳平面に配置された空間的に変化する波長板と、
前記空間的に変化する波長板から選択された配向分布に前記表面ヘイズを回転させる空間的に変化する偏光回転分布を提供する偏光回転子であって、前記表面ヘイズの回転は、前記選択されたヘイズ配向方向への楕円偏光の長軸の回転を含む、偏光回転子と、
を含む1つ以上の光学素子と、
前記選択されたヘイズ配向方向に平行に偏光された光を拒絶して前記偏光回転子からの前記表面ヘイズを拒絶するように位置合わせされた直線偏光子と、
前記直線偏光子を通過した前記試料からの散乱光に基づいて前記試料の暗視野画像を生成する検出器であって、前記直線偏光子を通過した前記試料からの散乱光は、前記試料の表面上の1つ以上の粒子によって散乱された光の少なくとも一部を含む、検出器と、
含む、
システム。 - 前記空間的に変化する波長板は、連続的に変化する波長板である請求項35に記載のシステム。
- 前記空間的に変化する波長板は、セグメント化された波長板である請求項35に記載のシステム。
- 前記1つ以上の照明光学系は、前記照明ビームをp偏光で前記試料に向けるように構成される請求項35に記載のシステム。
- 前記直線偏光子は、前記試料からの散乱光を第1の光路に沿って方向付け、前記表面ヘイズを前記第1の光路とは異なる第2の光路に沿って方向付ける、偏光ビームスプリッタである請求項35に記載のシステム。
- 前記第2の光路に沿った前記表面ヘイズに基づいて前記試料の暗視野画像を生成するように構成される追加の検出器をさらに含む請求項39に記載のシステム。
- セグメント化された半波長板は、瞳平面内に分布する複数のセグメントを含む直線的にセグメント化された波長板を含む請求項37に記載のシステム。
- 前記複数のセグメントは、瞳平面内の照明方向に直交する方向に沿って分布する請求項41に記載のシステム。
- 前記偏光回転子は、空間的に変化する厚さを有し、対応する第1または第2の空間的に変化する偏光回転分布を提供する光学活性材料を含む請求項35に記載のシステム。
- 前記光学活性材料は、光軸が1つ以上の瞳平面の対応する瞳平面に直交するように配向される請求項43に記載のシステム。
- 前記光学活性材料は、石英である請求項43に記載のシステム。
- 前記偏光回転子は、前記光学活性材料を通過する前記表面ヘイズの光路長を等しくする位相補償器をさらに含む請求項43に記載のシステム。
- 前記位相補償器は、前記位相補償器を通る伝播方向に沿って光学的に均質な材料から形成される請求項46に記載のシステム。
- 前記位相補償器は、前記光学活性材料の反対のハンドネスを有し、前記位相補償器を通る伝搬方向に沿った光学活性材料から形成される請求項46に記載のシステム。
- 前記1つ以上の集光光学系の1つ以上の瞳平面に位置する1つ以上の光学素子は、前記試料の表面上の1つ以上の粒子から散乱された光の点広がり関数を整形するために、集光領域の2つ以上の瞳領域内の光に対して異なる位相シフトを提供する位相マスクをさらに含む請求項35に記載のシステム。
- 前記位相マスクは、前記試料の表面上の1つ以上の粒子から散乱された光の点広がり関数を整形して、点広がり関数の中心ピークを提供する請求項49に記載のシステム。
- 前記選択されたヘイズ配向方向は、選択された配向方向と平行である請求項35に記載のシステム。
- 選択されたヘイズ配向方向は、選択された配向方向に直交する請求項35に記載のシステム。
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