JP2024506779A - 新規な化合物およびこれを利用した有機発光素子 - Google Patents

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Abstract

本発明は、新規な化合物およびこれを利用した有機発光素子を提供する。

Description

［関連出願の相互参照］
本出願は、２０２１年３月３０日付の韓国特許出願第１０－２０２１－００４１２７３号および２０２２年３月３０日付の韓国特許出願第１０－２０２２－００３９６２３号に基づく優先権の利益を主張し、当該韓国特許出願の文献に開示された全ての内容は本明細書の一部として含まれる。
本発明は、新規な化合物およびこれを含む有機発光素子に関する。
一般的に、有機発光現象とは、有機物質を利用して電気エネルギーを光エネルギーに転換させる現象をいう。有機発光現象を利用する有機発光素子は、広い視野角、優れたコントラスト、速い応答時間を有し、輝度、駆動電圧および応答速度特性に優れて多くの研究が進められている。
有機発光素子は、一般的に正極と負極および前記正極と負極との間に有機物層を含む構造を有する。前記有機物層は、有機発光素子の効率と安全性を高めるために、それぞれ異なる物質から構成された多層の構造からなる場合が多く、例えば、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層などからなる。このような有機発光素子の構造において、２つの電極の間に電圧をかけると正極からは正孔が、負極からは電子が有機物層に注入され、注入された正孔と電子が接した時、エキシトン（ｅｘｃｉｔｏｎ）が形成されて、このエキシトンが再び基底状態に落ちる時、光が出るようになる。前記のような有機発光素子に用いられる有機物に対して新たな材料の開発が要求され続けている。
韓国公開特許第１０－２０００－００５１８２６号公報
本発明は、新規な化合物およびこれを含む有機発光素子に関する。
本発明は下記化学式１で表される化合物を提供する：
［化学式１］
前記化学式１中、
Ａ１は下記化学式１－ａで表され、
［化学式１－ａ］
前記化学式１－ａ中、
点線は、隣接した環と融合する部分であり、
ＸはＯまたはＳであり、
Ａｒ１は、置換または非置換の炭素数６～６０のアリール；または、置換または非置換のＮ、ＯおよびＳで構成される群より選択されるいずれか１つ以上のヘテロ原子を含む炭素数２～６０のヘテロアリールであり、
Ａ２は、下記化学式１－ｂ；または、下記化学式１－ｃで表される置換基であり、
［化学式１－ｂ］
［化学式１－ｃ］
前記化学式１－ｂおよび１－ｃ中、
Ｌ１～Ｌ４はそれぞれ独立して、単結合；置換または非置換の炭素数６～６０のアリーレン；または、置換または非置換のＮ、ＯおよびＳで構成される群より選択されるいずれか１つ以上のヘテロ原子を含む炭素数２～６０のヘテロアリーレンであり、
Ａｒ２～Ａｒ５はそれぞれ独立して、置換または非置換の炭素数６～６０のアリール；または、置換または非置換のＮ、ＯおよびＳで構成される群より選択されるいずれか１つ以上のヘテロ原子を含む炭素数２～６０のヘテロアリールであり、
Ｄは重水素であり、
ｎは０～５の整数である。
また、本発明は第１電極；前記第１電極と対向して備えられた第２電極；および前記第１電極と前記第２電極との間に備えられた１層以上の有機物層を含む有機発光素子であって、前記有機物層のうち１層以上は、前記化学式１で表される化合物を含む、有機発光素子を提供する。
上述した化学式１で表される化合物は、有機発光素子の有機物層の材料として使用することができ、有機発光素子において、効率の向上、低い駆動電圧および／または寿命特性を向上させることができる。特に、上述した化学式１で表される化合物は、正孔注入、正孔輸送、正孔注入および輸送、電子遮断、発光、電子輸送、または、電子注入材料で使用することができる。
基板１、正極２、有機物層３、負極４からなる有機発光素子の例を示す図である。 基板１、正極２、正孔注入層５、正孔輸送層６、電子遮断層７、発光層８、正孔抑制層９、電子輸送層１０、電子注入層１１および負極４からなる有機発光素子の例を示す図である。 基板１、正極２、正孔注入層５、正孔輸送層６、電子遮断層７、発光層８、正孔抑制層９、電子注入および輸送層１２、および負極４からなる有機発光素子の例を示す図である。
以下、本発明の理解を助けるためにより詳しく説明する。
本発明は前記化学式１で表される化合物を提供する。
本発明において、
および
は、他の置換基に連結される結合を意味する。
本発明において「置換または非置換の」という用語は、重水素；ハロゲン基；ニトリル基；ニトロ基；ヒドロキシ基；カルボニル基；エステル基；イミド基；アミノ基；ホスフィンオキシド基；アルコキシ基；アリールオキシ基；アルキルチオキシ基；アリールチオキシ基；アルキルスルホキシ基；アリールスルホキシ基；シリル基；ホウ素基；アルキル基；シクロアルキル基；アルケニル基；アリール基；アラルキル基；アラルケニル基；アルキルアリール基；アルキルアミン基；アラルキルアミン基；ヘテロアリールアミン基；アリールアミン基；アリールホスフィン基；またはＮ、ＯおよびＳ原子のうち１個以上を含む複素環基からなる群より選択された１個以上の置換基で置換または非置換されるか、前記例示された置換基のうち２以上の置換基が連結された置換または非置換されることを意味する。例えば、「２以上の置換基が連結された置換基」は、ビフェニル基であってもよい。即ち、ビフェニル基は、アリール基であってもよく、２個のフェニル基が連結された置換基と解釈されてもよい。
本発明において、カルボニル基の炭素数は特に限定されないが、炭素数１～４０であることが好ましい。具体的には、下記のような構造の化合物であってもよいが、これらに限定されるものではない。
本明細書において、エステル基は、エステル基の酸素が炭素数１～２５の直鎖、分岐鎖または環状アルキル基または炭素数６～２５のアリール基で置換されてもよい。具体的に、下記構造式の化合物であってもよいが、これらに限定されるものではない。
本明細書において、イミド基の炭素数は特に限定されないが、炭素数１～２５であることが好ましい。具体的には、下記のような構造の化合物であってもよいが、これらに限定されるものではない。
本明細書において、シリル基は、具体的には、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ－ブチルジメチルシリル基、ビニルジメチルシリル基、プロピルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、ジフェニルシリル基、フェニルシリル基などがあるが、これらに限定されるものではない。
本明細書において、ホウ素基は、具体的には、トリメチルホウ素基、トリエチルホウ素基、ｔ－ブチルジメチルホウ素基、トリフェニルホウ素基、フェニルホウ素基などがあるが、これらに限定されるものではない。
本明細書において、ハロゲン基の例としては、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素がある。
本明細書において、前記アルキル基は、直鎖または分岐鎖であってもよく、炭素数は特に限定されないが、１～４０であることが好ましい。一実施状態によれば、前記アルキル基の炭素数は１～２０である。さらに一つの実施状態によれば、前記アルキル基の炭素数は１～１０である。さらに一つの実施状態によれば、前記アルキル基の炭素数は１～６である。アルキル基の具体的な例としては、メチル、エチル、プロピル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ブチル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、１－メチル－ブチル、１－エチル－ブチル、ペンチル、ｎ－ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ－ペンチル、ヘキシル、ｎ－ヘキシル、１－メチルペンチル、２－メチルペンチル、４－メチル－２－ペンチル、３，３－ジメチルブチル、２－エチルブチル、ヘプチル、ｎ－ヘプチル、１－メチルヘキシル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、オクチル、ｎ－オクチル、ｔｅｒｔ－オクチル、１－メチルヘプチル、２－エチルヘキシル、２－プロピルペンチル、ｎ－ノニル、２，２－ジメチルヘプチル、１－エチル－プロピル、１，１－ジメチル－プロピル、イソヘキシル、２－メチルペンチル、４－メチルヘキシル、５－メチルヘキシルなどがあるが、これらに限定されるものではない。
本明細書において、前記アルケニル基は直鎖または分岐鎖であってもよく、炭素数は特に限定されないが、２～４０であることが好ましい。一実施状態によれば、前記アルケニル基の炭素数は２～２０である。さらに一つの実施状態によれば、前記アルケニル基の炭素数は２～１０である。さらに一つの実施状態によれば、前記アルケニル基の炭素数は２～６である。具体的な例としては、ビニル、１－プロフェニル、イソプロフェニル、１－ブテニル、２－ブテニル、３－ブテニル、１－ペンテニル、２－ペンテニル、３－ペンテニル、３－メチル－１－ブテニル、１，３－ブタジエニル、アリル、１－フェニルビニル－１－イル、２－フェニルビニル－１－イル、２，２－ジフェニルビニル－１－イル、２－フェニル－２－（ナフチル－１－イル）ビニル－１－イル、２，２－ビス（ジフェニル－１－イル）ビニル－１－イル、スチルベニル基、スチレニル基などがあるが、これらに限定されるものではない。
本明細書において、シクロアルキル基は特に限定されないが、炭素数３～６０であることが好ましく、一実施状態によれば、前記シクロアルキル基の炭素数は３～３０である。さらに一つの実施状態によれば、前記シクロアルキル基の炭素数は３～２０である。さらに一つの実施状態によれば、前記シクロアルキル基の炭素数は３～６である。具体的には、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、３－メチルシクロペンチル、２，３－ジメチルシクロペンチル、シクロヘキシル、３－メチルシクロヘキシル、４－メチルシクロヘキシル、２，３－ジメチルシクロヘキシル、３，４，５－トリメチルシクロヘキシル、４－ｔｅｒｔ－ブチルシクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチルなどがあるが、これらに限定されるものではない。
本明細書において、アリール基は特に限定されないが、炭素数６～６０であることが好ましく、単環式アリール基または多環式アリール基であってもよい。一実施状態によれば、前記アリール基の炭素数は６～３０である。一実施状態によれば、前記アリール基の炭素数は６～２０である。前記アリール基が単環式アリール基としては、フェニル基、ビフェニル基、ターフェニル基などであってもよいが、これらに限定されるものではない。前記多環式アリール基としては、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントリル基、ピレニル基、ペリレニル基、クリセニル基、フルオレニル基などであってもよいが、これらに限定されるものではない。
本明細書において、フルオレニル基は置換されてもよく、２つの置換基が互いに結合してスピロ構造を形成することができる。前記フルオレニル基が置換される場合、
などであってもよい。但し、これらに限定されるものではない。
本明細書において、複素環基は、異種元素としてＯ、Ｎ、ＳｉおよびＳのうち１個以上を含む複素環基であって、炭素数は特に限定されないが、炭素数２～６０であることが好ましい。複素環基の例としては、チオフェン基、フラン基、ピロール基、イミダゾール基、チアゾール基、オキサゾール基、オキサジアゾール基、トリアゾール基、ピリジル基、ビピリジル基、ピリミジル基、トリアジン基、アクリジル基、ピリダシン基、ピラジニル基、キノリニル基、キナゾリン基、キノキサリニル基、フタラジニル基、ピリドピリミジニル基、ピリドピラジニル基、ピラジノピラジニル基、イソキノリン基、インドール基、カルバゾール基、ベンゾオキサゾール基、ベンゾイミダゾール基、ベンゾチアゾール基、ベンゾカルバゾール基、ベンゾチオフェン基、ジベンゾチオフェン基、ベンゾフラニル基、フェナントロリン基（ｐｈｅｎａｎｔｈｒｏｌｉｎｅ）、イソオキサゾリル基、チアジアゾリル基、フェノチアジニル基およびジベンゾフラニル基などがあるが、これらにのみ限定されるものではない。
本明細書において、アラルキル基、アラルケニル基、アルキルアリール基、アリールアミン基のうちアリール基は上述したアリール基に関する説明が適用可能である。本明細書において、アラルキル基、アルキルアリール基、アルキルアミン基のうちアルキル基は上述したアルキル基に関する説明が適用可能である。本明細書において、ヘテロアリールアミンのうちヘテロアリールは上述した複素環基に関する説明が適用可能である。本明細書において、アラルケニル基のうちアルケニル基は、上述したアルケニル基に関する説明が適用可能である。本明細書において、アリーレンは、２価の基であることを除けば、上述したアリール基に関する説明が適用可能である。本明細書において、ヘテロアリーレンは、２価の基であることを除けば、上述した複素環基に関する説明が適用可能である。本明細書において、炭化水素環は１価の基ではなく、２個の置換基が結合して形成したことを除けば、上述したアリール基またはシクロアルキル基に関する説明が適用可能である。本明細書において、ヘテロ環は１価の基ではなく、２個の置換基が結合して形成したことを除けば、上述した複素環基に関する説明が適用可能である。
前記化学式１で表される化合物は、ベンゾチオフェン環にベンゾオキサゾール、またはベンゾチアゾール環が融合したコアを含み、これと結合したトリアジン、またはアミン置換基を含む。前記のような構造を満たすことにより、化学式１で表される化合物は、有機発光素子に適用時、低電圧を示して、効率、寿命特性に優れている。
前記化学式１は具体的には、下記化学式１－１～１－４のうちいずれか１つで表される：
［化学式１－１］
［化学式１－２］
［化学式１－３］
［化学式１－４］
前記化学式１－１～１－４中、
Ｘ、Ｌ１～Ｌ４、Ａｒ１～Ａｒ５、Ｄ、およびｎは化学式１で定義した通りである。
好ましくは、Ｌ１およびＬ２はそれぞれ独立して、単結合；または、置換または非置換の炭素数６～２０のアリーレンである。より好ましくは、Ｌ１およびＬ２はそれぞれ独立して、単結合；フェニレン；ビフェニルジイル；またはナフタレンジイルである。
好ましくは、Ｌ３およびＬ４はそれぞれ独立して、単結合；または、置換または非置換の炭素数６～２０のアリーレンである。より好ましくは、Ｌ３およびＬ４はそれぞれ独立して、単結合；フェニレン；ビフェニルジイル；またはナフタレンジイルである。
好ましくは、Ａｒ１は置換または非置換の炭素数６～２０のアリール；または、置換または非置換のＮ、ＯおよびＳで構成される群より選択されるいずれか１つ以上のヘテロ原子を含む炭素数２～２０のヘテロアリールである。
より好ましくは、Ａｒ１は、フェニル；ビフェニリル；ナフチル；ジベンゾフラニル；またはジベンゾチオフェニルである。
好ましくは、Ａｒ２～Ａｒ５はそれぞれ独立して、置換または非置換の炭素数６～２０のアリール；または、置換または非置換のＮ、ＯおよびＳで構成される群より選択されるいずれか１つ以上のヘテロ原子を含む置換または非置換の炭素数２～２０のヘテロアリールである。
好ましくは、Ａｒ２およびＡｒ３はそれぞれ独立して、フェニル；ビフェニリル；ナフチル；フェニルナフチル（即ち、１個のフェニルで置換されたナフチル）；ナフチルフェニル（即ち、１個のナフチルで置換されたフェニル）；フェナントレニルフェニル（即ち、１個のフェナントレニルで置換されたフェニル）；ジベンゾフラニル；ジベンゾチオフェニル；またはフェナントレニルである。
好ましくは、Ａｒ４およびＡｒ５はそれぞれ独立して、フェニル；ビフェニリル；ターフェニリル；ナフチル；ナフチルフェニル；フェニルナフチル；フェナントレニル；９－フェニルカルバゾリル；ジベンゾフラニル；またはジベンゾチオフェニルである。
一方、前記化学式１で表される化合物は１以上の水素が重水素で置換されたものであってもよい。即ち、前記化学式１中、ｎは１以上の整数であってもよく、および／または、前記化学式１のＬ１～Ｌ４およびＡｒ１～Ａｒ５のうち１つ以上の置換基は重水素で置換されたものであってもよい。
前記化学式１で表される化合物の代表的な例は下記の通りである：
また、本発明は前記化学式１で表される化合物の製造方法を提供する。
例えば、前記化学式１は、下記反応式１のような製造方法で製造されてもよい。
［反応式１］
前記において、Ｘ'を除いた残りは化学式１で定義した通りであり、Ｘ'はハロゲンで、好ましくはＸ'はクロロまたはブロモである。
前記反応式１は、鈴木カップリング反応であって、パラジウム触媒と塩基存在下で行うことが好ましく、鈴木カップリング反応のための反応基は当業界で公知のものに従って変更可能である。
または、化学式１中、Ａ２が化学式１－ｃであり、Ｌ２が単結合である場合、化学式１の化合物は下記反応式２のような製造方法で製造されてもよい。
［反応式２］
前記において、Ｘ'を除いた残りは化学式１で定義した通りであり、Ｘ'はハロゲンで、好ましくはＸ'はクロロまたはブロモである。
前記反応式２は、アミン置換反応であって、パラジウム触媒と塩基存在下で行うことが好ましく、アミン置換反応のための反応基は当業界で公知のものに従って変更可能である。
前記製造方法は、後述する製造例でより具体化される。
また、本発明は前記化学式１で表される化合物を含む有機発光素子を提供する。例えば、本発明は、第１電極；前記第１電極と対向して備えられた第２電極；および前記第１電極と前記第２電極との間に備えられた１層以上の有機物層を含む有機発光素子であって、前記有機物層のうち１層以上は、前記化学式１で表される化合物を含む、有機発光素子を提供する。
本発明の有機発光素子の有機物層は、単層構造からなってもよいが、２層以上の有機物層が積層された多層構造からなってもよい。例えば、本発明の有機発光素子は、有機物層として、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層などを含む構造を有し得る。しかし、有機発光素子の構造はこれに限定されず、より少ない数の有機層を含んでもよい。
また、前記有機物層は発光層を含んでもよく、前記発光層は前記化学式１で表される化合物を含む。特に、本発明に係る化合物は発光層のホストで用いられる。
また、前記有機物層は、正孔注入層、正孔輸送層、または、電子遮断層を含んでもよく、前記正孔注入層、正孔輸送層、または電子遮断層は、前記化学式１で表される化合物を含む。
また、本発明に係る有機発光素子は、基板上に正極、１層以上の有機物層および負極が順次積層された構造（ｎｏｒｍａｌ ｔｙｐｅ）の有機発光素子であり得る。さらに、本発明に係る有機発光素子は、基板上に負極、１層以上の有機物層および正極が順次積層された逆方向構造（ｉｎｖｅｒｔｅｄ ｔｙｐｅ）の有機発光素子であり得る。例えば、本発明の一実施例による有機発光素子の構造は図１～３に例示する。
図１は、基板１、正極２、有機物層３、負極４からなる有機発光素子の例を示す図である。このような構造において、前記化学式１で表される化合物は、前記有機物層に含まれてもよい。
図２は、基板１、正極２、正孔注入層５、正孔輸送層６、電子遮断層７、発光層８、正孔抑制層９、電子輸送層１０、電子注入層１１および負極４からなる有機発光素子の例を示す図である。このような構造において、前記化学式１で表される化合物は、前記正孔注入層、正孔輸送層、電子遮断層、発光層、正孔抑制層、電子輸送層、および電子注入層のうち１層以上に含まれてもよい。
図３は、基板１、正極２、正孔注入層５、正孔輸送層６、電子遮断層７、発光層８、正孔抑制層９、電子注入および輸送層１２、および負極４からなる有機発光素子の例を示す図である。このような構造において、前記化学式１で表される化合物は、前記正孔注入層、正孔輸送層、電子遮断層、発光層、正孔抑制層、電子注入および輸送層のうち１層以上に含まれてもよく、例えば、発光層または電子遮断層に含まれてもよい。
本発明に係る有機発光素子は、前記有機物層のうち１層以上が前記化学式１で表される化合物を含むことを除けば、当技術分野に周知の材料と方法で製造されてもよい。また、前記有機発光素子が複数の有機物層を含む場合、前記有機物層は同じ物質または異なる物質で形成されてもよい。
例えば、本発明に係る有機発光素子は、基板上に第１電極、有機物層および第２電極を順次積層させて製造することができる。この時、スパッタリング法（ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）や電子ビーム蒸発法（ｅ－ｂｅａｍ ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）などのＰＶＤ（ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）方法を利用して、基板上に金属または導電性を有する金属酸化物またはこれらの合金を蒸着させて正極を形成し、その上に正孔注入層、正孔輸送層、発光層および電子輸送層を含む有機物層を形成した後、その上に負極として用いられる物質を蒸着させて製造することができる。この方法以外にも、基板上に負極物質から有機物層、正極物質を順に蒸着させて有機発光素子を作ることができる。
また、前記化学式１で表される化合物は、有機発光素子の製造時に真空蒸着法のみならず溶液塗布法によって有機物層で形成され得る。ここで、溶液塗布法とは、スピンコーティング、ディップコーティング、ドクターブレーディング、インクジエットプリンティング、スクリーンプリンティング、スプレー法、ロールコーティングなどを意味するが、これらにのみ限定されるものではない。
このような方法以外にも、基板上に負極物質から有機物層、正極物質を順に蒸着させて有機発光素子を製造することができる（国際公開第２００３／０１２８９０号）。但し、製造方法がこれらに限定されるものではない。
例えば、前記第１電極は正極で、前記第２電極は負極であるか、または、前記第１電極は負極で、前記第２電極は正極である。
前記正極物質としては、通常有機物層への正孔注入が円滑となるように仕事関数が大きい物質が好ましい。前記正極物質の具体的な例としては、バナジウム、クロム、銅、亜鉛、金などの金属またはこれらの合金；亜鉛酸化物、インジウム酸化物、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）などの金属酸化物；ＺｎＯ：ＡｌまたはＳｎＯ２：Ｓｂなどの金属と酸化物との組み合わせ；ポリ（３－メチルチオフェン）、ポリ［３，４－（エチレン－１，２－ジオキシ）チオフェン］（ＰＥＤＯＴ）、ポリピロールおよびポリアニリンなどの導電性高分子などがあるが、これらにのみ限定されるものではない。
前記負極物質としては、通常有機物層への電子注入が容易となるように仕事関数が小さい物質であることが好ましい。前記負極物質の具体的な例としては、マグネシウム、カルシウム、ナトリウム、カリウム、チタニウム、インジウム、イットリウム、リチウム、ガドリニウム、アルミニウム、銀、スズおよび鉛などの金属またはこれらの合金；ＬｉＦ／ＡｌまたはＬｉＯ２／Ａｌなどの多層構造物質などがあるが、これらにのみ限定されるものではない。前記正孔注入層は、電極から正孔を注入する層で、正孔注入物質としては、正孔を輸送する能力を有し、正極からの正孔注入効果、発光層または発光材料に対して優れた正孔注入効果を有し、発光層で生成された励起子の電子注入層または電子注入材料への移動を防止し、また、薄膜形成能力に優れた化合物が好ましい。正孔注入物質のＨＯＭＯ（ｈｉｇｈｅｓｔ ｏｃｃｕｐｉｅｄ ｍｏｌｅｃｕｌａｒ ｏｒｂｉｔａｌ）が正極物質の仕事関数と周辺有機物層のＨＯＭＯとの間であることが好ましい。正孔注入物質の具体的な例としては、金属ポルフィリン（ｐｏｒｐｈｙｒｉｎ）、オリゴチオフェン、アリールアミン系の有機物、ヘキサニトリルヘキサアザトリフェニレン系の有機物、キナクリドン（ｑｕｉｎａｃｒｉｄｏｎｅ）系の有機物、ペリレン（ｐｅｒｙｌｅｎｅ）系の有機物、アントラキノンおよびポリアニリンとポリチオフェン系の導電性高分子などがあるが、これらにのみ限定されるものではない。
前記正孔輸送層は、正孔注入層から正孔を受け取って発光層まで正孔を輸送する層で、正孔輸送物質としては、正極や正孔注入層から正孔の輸送を受けて発光層に移し得る物質で、正孔に対する移動性が大きい物質が好適である。具体的な例としては、アリールアミン系の有機物、導電性高分子、および共役部分と非共役共に存在するブロック共重合体などがあるが、これらにのみ限定されるものではない。
前記電子遮断層は、負極から注入された電子が発光層で再結合されず正極側に伝達されるのを抑制して、有機発光素子の効率を向上させる役割をする。電子遮断層には電子輸送層より電子親和力が小さい物質が好ましい。好ましくは、本願発明の化学式１で表される物質が電子遮断層物質で用いられる。
前記発光物質としては、正孔輸送層と電子輸送層から正孔と電子の輸送をそれぞれ受けて結合させることによって、可視光領域の光を出すことができる物質であって、蛍光や燐光に対する量子効率が良い物質が好ましい。具体的な例として、８－ヒドロキシ－キノリンアルミニウム錯体（Ａｌｑ３）；カルバゾール系化合物；二量体化スチリル（ｄｉｍｅｒｉｚｅｄ ｓｔｙｒｙｌ）化合物；ＢＡｌｑ；１０－ヒドロキシベンゾキノリン－金属化合物；ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾールおよびベンゾイミダゾール系の化合物；ポリ（ｐ－フェニレンビニレン）（ＰＰＶ）系の高分子；スピロ（ｓｐｉｒｏ）化合物；ポリフルオレン、ルブレンなどがあるが、これらにのみ限定されるものではない。
前記発光層は、ホスト材料およびドーパント材料を含んでもよい。ホスト材料は、縮合芳香族環誘導体またはヘテロ環含有化合物などがある。具体的には、縮合芳香族環誘導体としては、アントラセン誘導体、ピレン誘導体、ナフタレン誘導体、ペンタセン誘導体、フェナントレン化合物、フルオランテン化合物などがあり、ヘテロ環含有化合物としては、カルバゾール誘導体、ジベンゾフラン誘導体、ラダー型フラン化合物、ピリミジン誘導体などがあるが、これらに限定されるものではない。特に、本発明では、前記化学式１で表される化合物を発光層のホスト材料で使用してもよく、この場合有機発光素子の低電圧、高効率および／または高寿命特性を得ることができる。
具体的には、前記化学式１中、Ａ２が化学式１－ｂで表されるトリアジン置換基である場合、Ｎ－ｔｙｐｅホスト材料で使用するのに適して、Ａ２が化学式１－ｃで表されるアミン置換基である場合、Ｐ－ｔｙｐｅホスト材料で使用するのに適している。そこで、前記化学式１中、Ａ２が化学式１－ｂで表されるトリアジン置換基である化合物のうち１種以上と、Ａ２が化学式１－ｃで表されるアミン置換基である化合物のうち１種以上を同時に発光層に含んでもよい。
ドーパント材料としては、芳香族アミン誘導体、スチリルアミン化合物、ホウ素錯体、フルオランテン化合物、金属錯体などがある。具体的には、芳香族アミン誘導体として、置換または非置換のアリールアミノ基を有する縮合芳香族環誘導体であって、アリールアミノ基を有するピレン、アントラセン、クリセン、ペリフランテンなどがあり、スチリルアミン化合物としては、置換または非置換のアリールアミンに少なくとも１個のアリールビニル基が置換されている化合物で、アリール基、シリル基、アルキル基、シクロアルキル基およびアリールアミノ基からなる群より１または２以上選択される置換基が置換または非置換される。具体的には、スチリルアミン、スチリルジアミン、スチリルトリアミン、スチリルテトラアミンなどがあるが、これらに限定されるものではない。また、金属錯体としては、イリジウム錯体、白金錯体などがあるが、これらに限定されるものではない。
前記電子輸送層は、電子注入層から電子を受け取って発光層まで電子を輸送する層で、電子輸送物質としては、負極から電子の注入を良好に受けて発光層に移すことができる物質であって、電子に対する移動性が大きい物質が好適である。具体的な例としては、８－ヒドロキシキノリンのＡｌ錯体；Ａｌｑ３を含む錯体；有機ラジカル化合物；ヒドロキシフラボン－金属錯体などがあるが、これらにのみ限定されるものではない。電子輸送層は、従来技術に従って用いられた通り任意の所望のカソード物質と共に用いられる。特に、適切なカソード物質の例としては、低い仕事関数を有し、アルミニウム層またはシルバー層がそれに続く通常の物質である。具体的には、セシウム、バリウム、カルシウム、イッテルビウムおよびサマリウムで、各々の場合、アルミニウム層またはシルバー層がそれに続く。
前記電子注入層は、電極から電子を注入する層で、電子を輸送する能力を有し、負極からの電子注入効果、発光層または発光材料に対して優れた電子注入効果を有し、発光層で生成された励起子の正孔注入層への移動を防止し、また、薄膜形成能力に優れた化合物が好ましい。具体的には、フルオレノン、アントラキノジメタン、ジフェノキノン、チオピランジオキシド、オキサゾール、オキサジアゾール、トリアゾール、イミダゾール、ペリレンテトラカルボン酸、フルオレニリデンメタン、アントロンなどとそれらの誘導体、金属錯体化合物および含窒素５員環誘導体などがあるが、これらに限定されるものではない。
前記金属錯体化合物としては、８－ヒドロキシキノリナトリチウム、ビス（８－ヒドロキシキノリナト）亜鉛、ビス（８－ヒドロキシキノリナト）銅、ビス（８－ヒドロキシキノリナト）マンガン、トリス（８－ヒドロキシキノリナト）アルミニウム、トリス（２－メチル－８－ヒドロキシキノリナト）アルミニウム、トリス（８－ヒドロキシキノリナト）ガリウム、ビス（１０－ヒドロキシベンゾ［ｈ］キノリナト）ベリリウム、ビス（１０－ヒドロキシベンゾ［ｈ］キノリナト）亜鉛、ビス（２－メチル－８－キノリナト）クロロガリウム、ビス（２－メチル－８－キノリナト）（ｏ－クレゾラト）ガリウム、ビス（２－メチル－８－キノリナト）（１－ナフトラト）アルミニウム、ビス（２－メチル－８－キノリナト）（２－ナフトラト）ガリウムなどがあるが、これらに限定されるものではない。
本発明の一実施例によると、前記電子輸送物質および電子注入物質を同時に蒸着して電子注入および輸送層の単一層で製造することができる。
本発明に係る有機発光素子は、背面発光（ｂｏｔｔｏｍ ｅｍｉｓｓｉｏｎ）素子、前面発光（ｔｏｐ ｅｍｉｓｓｉｏｎ）素子、または、両面発光素子であってもよく、特に相対的に高い発光効率が求められる背面発光素子であり得る。
また、前記化学式１で表される化合物は、有機発光素子以外にも有機太陽電池または有機トランジスターに含まれてもよい。
前記化学式１で表される化合物およびこれを含む有機発光素子の製造は、以下実施例で具体的に説明する。しかし、下記の実施例は本発明を例示するためのものに過ぎず、本発明の範囲がそれらによって限定されるものではない。
［実施例］
＜製造例：化学式１の化合物のコアの製造＞
（製造例１～４の合成スキーム）
製造例１：化学式ＡＡの合成
窒素雰囲気下で２－ａｍｉｎｏ－６－ｂｒｏｍｏｐｈｅｎｏｌ（１５ｇ、７９．８ｍｍｏｌ）と（３－ｃｈｌｏｒｏ－２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（１７ｇ、８３．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（３３．１ｇ、２３９．３ｍｍｏｌ）を水９９ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．４ｇ、０．８ｍｍｏｌ）を投入した。１１時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化学式ＡＡ_Ｐ１を１６．１ｇ製造した。（収率７６％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝２６６）
窒素雰囲気下で化学式ＡＡ_Ｐ１（１５ｇ、５６．６ｍｍｏｌ）とｈｙｄｒｏｇｅｎ ｐｅｒｏｘｉｄｅ（３．８ｇ、１１３．２ｍｍｏｌ）をａｃｅｔｉｃ ａｃｉｄ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。１０時間反応後、常温で冷やして有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化学式ＡＡ_Ｐ２を１１．８ｇ製造した。（収率７４％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝２８２）
窒素雰囲気下で化学式ＡＡ_Ｐ２（１５ｇ、５３．２ｍｍｏｌ）とＴｒｉfｌｕｏｒｏｍｅｔｈａｎｅｓｕｌfｏｎｉｃ ａｃｉｄ（１２ｇ、７９．９ｍｍｏｌ）をＰｙｉｒｉｄｉｎｅ ３００ｍｌに入れて常温で攪拌した。１１時間反応後、水６００ｍｌに注いで固体化した後ろ過した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化学式ＡＡ_Ｐ３を８．２ｇ製造した。（収率６２％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝２５０）
窒素雰囲気下で化学式ＡＡ_Ｐ３（１５ｇ、６０．２ｍｍｏｌ）とｃａｒｂｏｎ ｄｉｓｕｌfｉｄｅ（５．５ｇ、７２ｍｍｏｌ）、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｈｙｄｒｏｘｉｄｅ（４．１ｇ、７７ｍｍｏｌ）をＥｔＯＨ １５０ｍｌに入れて攪拌および還流した。１２時間反応後、常温で冷やして有機溶媒を減圧蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化学式ＡＡ_Ｐ４を９．９ｇ製造した。（収率６４％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝２５８）
窒素雰囲気下で化学式ＡＡ_Ｐ４（１５ｇ、５８．４ｍｍｏｌ）とＰｈｏｓｐｈｏｒｕｓ ｐｅｎｔａｃｈｌｏｒｉｄｅ（１２．２ｇ、７０ｍｍｏｌ）をＴｏｌｕｅｎｅ １５０ｍｌに入れて攪拌および還流した。１２時間反応後、常温で冷やして有機溶媒を減圧蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化学式ＡＡを１０．１ｇ製造した。（収率６７％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝２６０）
製造例２：化学式ＡＢの合成
（３－ｃｈｌｏｒｏ－２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄの代わりに（４－ｃｈｌｏｒｏ－２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄを使用したことを除いては、製造例１と同じ方法で化学式ＡＢを製造した。
製造例３：化学式ＡＣの合成
（３－ｃｈｌｏｒｏ－２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄの代わりに（５－ｃｈｌｏｒｏ－２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄを使用したことを除いては、製造例１と同じ方法で化学式ＡＣを製造した。
製造例４：化学式ＡＤの合成
（３－ｃｈｌｏｒｏ－２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄの代わりに（２－ｃｈｌｏｒｏ－６－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄを使用したことを除いては、製造例１と同じ方法で化学式ＡＤを製造した。
（製造例５～６の合成スキーム）
製造例５：化学式ＡＥの合成
２－ａｍｉｎｏ－６－ｂｒｏｍｏｐｈｅｎｏｌの代わりに２－ａｍｉｎｏ－６－ｂｒｏｍｏ－４－ｃｈｌｏｒｏｐｈｅｎｏｌを使用し、（３－ｃｈｌｏｒｏ－２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄの代わりに（２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄを使用したことを除いては、製造例１と同じ方法で化学式ＡＥを製造した。
製造例６：化学式ＡＦの合成
２－ａｍｉｎｏ－６－ｂｒｏｍｏｐｈｅｎｏｌの代わりに２－ａｍｉｎｏ－６－ｂｒｏｍｏ－３－ｃｈｌｏｒｏｐｈｅｎｏｌを使用し、（３－ｃｈｌｏｒｏ－２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄの代わりに（２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄを使用したことを除いては、製造例１と同じ方法で化学式ＡＥを製造した。
（製造例７～１０の合成スキーム）
製造例７：化学式ＢＡの合成
２－ａｍｉｎｏ－６－ｂｒｏｍｏｐｈｅｎｏｌの代わりに２－ａｍｉｎｏ－３－ｂｒｏｍｏｐｈｅｎｏｌを使用したことを除いては、製造例１と同じ方法で化学式ＢＡを製造した。
製造例８：化学式ＢＢの合成
２－ａｍｉｎｏ－６－ｂｒｏｍｏｐｈｅｎｏｌの代わりに２－ａｍｉｎｏ－３－ｂｒｏｍｏｐｈｅｎｏｌを使用し、（３－ｃｈｌｏｒｏ－２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄの代わりに（４－ｃｈｌｏｒｏ－２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄを使用したことを除いては、製造例１と同じ方法で化学式ＢＢを製造した。
製造例９：化学式ＢＣの合成
２－ａｍｉｎｏ－６－ｂｒｏｍｏｐｈｅｎｏｌの代わりに２－ａｍｉｎｏ－３－ｂｒｏｍｏｐｈｅｎｏｌを使用し、（３－ｃｈｌｏｒｏ－２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄの代わりに（５－ｃｈｌｏｒｏ－２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄを使用したことを除いては、製造例１と同じ方法で化学式ＢＣを製造した。
製造例１０：化学式ＢＤの合成
２－ａｍｉｎｏ－６－ｂｒｏｍｏｐｈｅｎｏｌの代わりに２－ａｍｉｎｏ－３－ｂｒｏｍｏｐｈｅｎｏｌを使用し、（３－ｃｈｌｏｒｏ－２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄの代わりに（２－ｃｈｌｏｒｏ－６－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄを使用したことを除いては、製造例１と同じ方法で化学式ＢＤを製造した。
（製造例１１～１２の合成スキーム）
製造例１１：化学式ＢＥの合成
２－ａｍｉｎｏ－６－ｂｒｏｍｏｐｈｅｎｏｌの代わりに２－ａｍｉｎｏ－３－ｂｒｏｍｏ－５－ｃｈｌｏｒｏｐｈｅｎｏｌを使用し、（３－ｃｈｌｏｒｏ－２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄの代わりに（２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄを使用したことを除いては、製造例１と同じ方法で化学式ＢＥを製造した。
製造例１２：化学式ＢＦの合成
２－ａｍｉｎｏ－６－ｂｒｏｍｏｐｈｅｎｏｌの代わりに２－ａｍｉｎｏ－３－ｂｒｏｍｏ－６－ｃｈｌｏｒｏｐｈｅｎｏｌを使用し、（３－ｃｈｌｏｒｏ－２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄの代わりに（２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄを使用したことを除いては、製造例１と同じ方法で化学式ＢＦを製造した。
（製造例１３～１６の合成スキーム）
製造例１３：化学式ＣＡの合成
窒素雰囲気下で３－ｂｒｏｍｏ－２－fｌｕｏｒｏａｎｉｌｉｎｅ（１５ｇ、７８．９ｍｍｏｌ）と（３－ｃｈｌｏｒｏ－２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（２４ｇ、１１８．４ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（３２．７ｇ、２３６．８ｍｍｏｌ）を水９８ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．４ｇ、０．８ｍｍｏｌ）を投入した。９時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化学式ＣＡ_Ｐ１を１０．８ｇ製造した。（収率５１％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝２６８）
窒素雰囲気下で化学式ＣＡ_Ｐ１（１５ｇ、５６．２ｍｍｏｌ）とｈｙｄｒｏｇｅｎ ｐｅｒｏｘｉｄｅ（２．９ｇ、８４．３ｍｍｏｌ）をａｃｅｔｉｃ ａｃｉｄ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。１０時間反応後、常温で冷やして有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化学式ＣＡ_Ｐ２を８．６ｇ製造した。（収率５４％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝２８４）
窒素雰囲気下で化学式ＣＡ_Ｐ２（１５ｇ、５３ｍｍｏｌ）とＴｒｉfｌｕｏｒｏｍｅｔｈａｎｅｓｕｌfｏｎｉｃ ａｃｉｄ（１１．９ｇ、７９．５ｍｍｏｌ）をＰｙｉｒｉｄｉｎｅ ３００ｍｌに入れて常温で攪拌した。１１時間反応後、水６００ｍｌに注いで固体化した後ろ過した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化学式ＣＡ_Ｐ３を６．９ｇ製造した。（収率５２％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝２５２）
窒素雰囲気下で化学式ＣＡ_Ｐ３（１５ｇ、５９．７ｍｍｏｌ）とＰｏｔａｓｓｉｕｍ Ｏ－ｅｔｈｙｌ ｄｉｔｈｉｏｃａｒｂｏｎａｔｅ（２１．０ｇ、１３１ｍｍｏｌ）をＤＭＦ １５０ｍｌに入れて攪拌および還流した。９時間反応後、常温で冷やして有機溶媒を減圧蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化学式ＣＡ_Ｐ４を１４．７ｇ製造した。（収率８０％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３０８）
窒素雰囲気下で化学式ＣＡ_Ｐ４（１５ｇ、４８．７ｍｍｏｌ） ＣＨＣｌ３ １５０ｍｌに入れてｉｃｅ ｂａｔｈを当てて０℃まで冷却した。以後Ｔｈｉｏｎｙｌ ｃｈｌｏｒｉｄｅ（１２．８ｇ、１０７．５ｍｍｏｌ）をゆっくり滴加後、攪拌した。４時間反応後、常温で冷やして有機溶媒を減圧蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで差し引いて化学式ＣＡ_Ｐ５を１０．３ｇ製造した。（収率６８％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３１０）
製造例１４：化学式ＣＢの合成
（３－ｃｈｌｏｒｏ－２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄの代わりに（４－ｃｈｌｏｒｏ－２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄを使用したことを除いては、製造例１３と同じ方法で化学式ＣＢを製造した。
製造例１５：化学式ＣＣの合成
（３－ｃｈｌｏｒｏ－２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄの代わりに（５－ｃｈｌｏｒｏ－２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄを使用したことを除いては、製造例１３と同じ方法で化学式ＣＣを製造した。
製造例１６：化学式ＣＤの合成
（３－ｃｈｌｏｒｏ－２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄの代わりに（２－ｃｈｌｏｒｏ－６－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄを使用したことを除いては、製造例１３と同じ方法で化学式ＣＤを製造した。
（製造例１７～１８の合成スキーム）
製造例１７：化学式ＣＥの合成
３－ｂｒｏｍｏ－２－fｌｕｏｒｏａｎｉｌｉｎｅの代わりに３－ｂｒｏｍｏ－５－ｃｈｌｏｒｏ－２－fｌｕｏｒｏａｎｉｌｉｎｅを使用し、（３－ｃｈｌｏｒｏ－２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄの代わりに（２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄを使用したことを除いては、製造例１３と同じ方法で化学式ＣＥを製造した。
製造例１８：化学式ＣＦの合成
３－ｂｒｏｍｏ－２－fｌｕｏｒｏａｎｉｌｉｎｅの代わりに３－ｂｒｏｍｏ－６－ｃｈｌｏｒｏ－２－fｌｕｏｒｏａｎｉｌｉｎｅを使用し、（３－ｃｈｌｏｒｏ－２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄの代わりに（２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄを使用したことを除いては、製造例１３と同じ方法で化学式ＣＦを製造した。
（製造例１９～２２の合成スキーム）
製造例１９：化学式ＤＡの合成
３－ｂｒｏｍｏ－２－fｌｕｏｒｏａｎｉｌｉｎｅの代わりに２－ｂｒｏｍｏ－６－fｌｕｏｒｏａｎｉｌｉｎｅを使用したことを除いては、製造例１３と同じ方法で化学式ＤＡを製造した。
製造例２０：化学式ＤＢの合成
３－ｂｒｏｍｏ－２－fｌｕｏｒｏａｎｉｌｉｎｅの代わりに２－ｂｒｏｍｏ－６－fｌｕｏｒｏａｎｉｌｉｎｅを使用し、（３－ｃｈｌｏｒｏ－２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄの代わりに（４－ｃｈｌｏｒｏ－２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄを使用したことを除いては、製造例１３と同じ方法で化学式ＤＢを製造した。
製造例２１：化学式ＤＣの合成
３－ｂｒｏｍｏ－２－fｌｕｏｒｏａｎｉｌｉｎｅの代わりに２－ｂｒｏｍｏ－６－fｌｕｏｒｏａｎｉｌｉｎｅを使用し、（３－ｃｈｌｏｒｏ－２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄの代わりに（５－ｃｈｌｏｒｏ－２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄを使用したことを除いては、製造例１３と同じ方法で化学式ＤＣを製造した。
製造例２２：化学式ＤＤの合成
３－ｂｒｏｍｏ－２－fｌｕｏｒｏａｎｉｌｉｎｅの代わりに２－ｂｒｏｍｏ－６－fｌｕｏｒｏａｎｉｌｉｎｅを使用し、（３－ｃｈｌｏｒｏ－２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄの代わりに（２－ｃｈｌｏｒｏ－６－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄを使用したことを除いては、製造例１３と同じ方法で化学式ＤＤを製造した。
（製造例２３～２４の合成スキーム）
製造例２３：化学式ＤＥの合成
３－ｂｒｏｍｏ－２－fｌｕｏｒｏａｎｉｌｉｎｅの代わりに２－ｂｒｏｍｏ－４－ｃｈｌｏｒｏ－６－fｌｕｏｒｏａｎｉｌｉｎｅを使用し、（３－ｃｈｌｏｒｏ－２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄの代わりに（２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄを使用したことを除いては、製造例１３と同じ方法で化学式ＤＥを製造した。
製造例２４：化学式ＤＦの合成
４－ｂｒｏｍｏ－２－fｌｕｏｒｏａｎｉｌｉｎｅの代わりに６－ｂｒｏｍｏ－３－ｃｈｌｏｒｏ－２－fｌｕｏｒｏａｎｉｌｉｎｅを使用し、（３－ｃｈｌｏｒｏ－２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄの代わりに（２－（ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ）ｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄを使用したことを除いては、製造例１３と同じ方法で化学式ＤＦを製造した。
＜合成例：化学式１の化合物の製造＞
合成例１－１
窒素雰囲気下で化学式ＡＡ（１５ｇ、５１ｍｍｏｌ）と［１，１'－ｂｉｐｈｅｎｙｌ］－４－ｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（１０．６ｇ、５３．５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（２１．１ｇ、１５３ｍｍｏｌ）を水６３ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。９時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＡＡ－１を１２．８ｇ製造した。（収率６１％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝４１２）
窒素雰囲気下でｓｕｂＡＡ－１（１５ｇ、３６．４ｍｍｏｌ）とｂｉｓ（ｐｉｎａｃｏｌａｔｏ）ｄｉｂｏｒｏｎ（１０．２ｇ、４０．１ｍｍｏｌ）を１，４－ｄｉｏｘａｎｅ ３００ｍｌに還流させながら攪拌した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ａｃｅｔａｔｅ（５．４ｇ、５４．６ｍｍｏｌ）を投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｄｉｂｅｎｚｙｌｉｄｅｎｅａｃｅｔｏｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、１．１ｍｍｏｌ）およびｔｒｉｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ（０．６ｇ、２．２ｍｍｏｌ）を投入した。７時間反応して常温で冷やしてクロロホルムと水を利用して有機層を分離後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＡＡ－２を１１．５ｇ製造した。（収率６３％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝５０４）
窒素雰囲気下でｓｕｂＡＡ－２（１５ｇ、２９．８ｍｍｏｌ）とＴｒｚ１（９．９ｇ、３１．３ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（１２．４ｇ、８９．４ｍｍｏｌ）を水３７ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．３ｍｍｏｌ）を投入した。１２時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物１－１を１３．７ｇ製造した。（収率７０％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６５９）
合成例１－２
窒素雰囲気下で化学式ＡＢ（１５ｇ、５１ｍｍｏｌ）とｐｈｅｎｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（６．５ｇ、５３．５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（２１．１ｇ、１５３ｍｍｏｌ）を水６３ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。９時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＡＢ－１を９．６ｇ製造した。（収率５６％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３３６）
窒素雰囲気下でｓｕｂＡＢ－１（１５ｇ、４４．７ｍｍｏｌ）とｂｉｓ（ｐｉｎａｃｏｌａｔｏ）ｄｉｂｏｒｏｎ（１２．５ｇ、４９．１ｍｍｏｌ）を１，４－ｄｉｏｘａｎｅ ３００ｍｌに還流させながら攪拌した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ａｃｅｔａｔｅ（６．６ｇ、６７ｍｍｏｌ）を投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｄｉｂｅｎｚｙｌｉｄｅｎｅａｃｅｔｏｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．８ｇ、１．３ｍｍｏｌ）およびｔｒｉｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ（０．８ｇ、２．７ｍｍｏｌ）を投入した。６時間反応して常温で冷やしてクロロホルムと水を利用して有機層を分離後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＡＢ－２を１２．６ｇ製造した。（収率６６％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝４２８）
窒素雰囲気下でｓｕｂＡＢ－２（１５ｇ、３５．１ｍｍｏｌ）とＴｒｚ２（９．９ｇ、３６．９ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（１４．６ｇ、１０５．３ｍｍｏｌ）を水４４ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．４ｍｍｏｌ）を投入した。８時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物１－２を１２ｇ製造した。（収率６４％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝５３３）
合成例１－３
窒素雰囲気下で化学式ＡＥ（１５ｇ、５１ｍｍｏｌ）とｐｈｅｎｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（６．５ｇ、５３．５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（２１．１ｇ、１５３ｍｍｏｌ）を水６３ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。１１時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＡＥ－１を９．４ｇ製造した。（収率５５％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３３６）
窒素雰囲気下でｓｕｂＡＥ－１（１５ｇ、４４．７ｍｍｏｌ）とＴｒｚ３（２２．５ｇ、４６．９ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（１８．５ｇ、１３４ｍｍｏｌ）を水５６ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．４ｍｍｏｌ）を投入した。８時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物１－３を２０ｇ製造した。（収率６１％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝７３５）
合成例１－４
窒素雰囲気下でｓｕｂＡＥ－１（１５ｇ、４４．７ｍｍｏｌ）とＴｒｚ４（２０．８ｇ、４６．９ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（１８．５ｇ、１３４ｍｍｏｌ）を水５６ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．４ｍｍｏｌ）を投入した。１２時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物１－４を１６．８ｇ製造した。（収率５４％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６９９）
合成例１－５
窒素雰囲気下で化学式ＡＦ（１５ｇ、５１ｍｍｏｌ）とｎａｐｈｔｈａｌｅｎ－２－ｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（９．２ｇ、５３．５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（２１．１ｇ、１５３ｍｍｏｌ）を水６３ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。１１時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＡＦ－１を１３．５ｇ製造した。（収率６９％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３８６）
窒素雰囲気下でｓｕｂＡＦ－１（１５ｇ、３８．９ｍｍｏｌ）とＴｒｚ５（１６．５ｇ、４０．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（１６．１ｇ、１１６．６ｍｍｏｌ）を水４８ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．４ｍｍｏｌ）を投入した。１１時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物１－５を１８．２ｇ製造した。（収率６６％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝７０９）
合成例１－６
窒素雰囲気下で化学式ＢＡ（１５ｇ、５１ｍｍｏｌ）とｐｈｅｎｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（６．５ｇ、５３．５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（２１．１ｇ、１５３ｍｍｏｌ）を水６３ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。９時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＢＡ－１を１１．８ｇ製造した。（収率６９％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３３６）
窒素雰囲気下でｓｕｂＢＡ－１（１５ｇ、４４．７ｍｍｏｌ）とｂｉｓ（ｐｉｎａｃｏｌａｔｏ）ｄｉｂｏｒｏｎ（１２．５ｇ、４９．１ｍｍｏｌ）を１，４－ｄｉｏｘａｎｅ ３００ｍｌに還流させながら攪拌した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ａｃｅｔａｔｅ（６．６ｇ、６７ｍｍｏｌ）を投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｄｉｂｅｎｚｙｌｉｄｅｎｅａｃｅｔｏｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．８ｇ、１．３ｍｍｏｌ）およびｔｒｉｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ（０．８ｇ、２．７ｍｍｏｌ）を投入した。８時間反応して常温で冷やしてクロロホルムと水を利用して有機層を分離後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＢＡ－２を１４．９ｇ製造した。（収率７８％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝４２８）
窒素雰囲気下でｓｕｂＢＡ－２（１５ｇ、３５．１ｍｍｏｌ）とＴｒｚ６（１４．５ｇ、３６．９ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（１４．６ｇ、１０５．３ｍｍｏｌ）を水４４ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．４ｍｍｏｌ）を投入した。１２時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物１－６を１３．６ｇ製造した。（収率５９％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６５９）
合成例１－７
窒素雰囲気下で化学式ＢＢ（１５ｇ、５１ｍｍｏｌ）とｐｈｅｎｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（６．５ｇ、５３．５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（２１．１ｇ、１５３ｍｍｏｌ）を水６３ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。８時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＢＢ－１を１０．３ｇ製造した。（収率６０％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３３６）
窒素雰囲気下でｓｕｂＢＢ－１（１５ｇ、４４．７ｍｍｏｌ）とＴｒｚ７（１８．９ｇ、４６．９ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（１８．５ｇ、１３４ｍｍｏｌ）を水５６ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．４ｍｍｏｌ）を投入した。１２時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物１－７を１７．９ｇ製造した。（収率６１％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６５９）
合成例１－８
窒素雰囲気下で化学式ＢＥ（１５ｇ、５１ｍｍｏｌ）とｄｉｂｅｎｚｏ［ｂ，ｄ］ｔｈｉｏｐｈｅｎ－１－ｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（１２．２ｇ、５３．５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（２１．１ｇ、１５３ｍｍｏｌ）を水６３ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。１０時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＢＥ－１を１１．７ｇ製造した。（収率５２％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝４４２）
窒素雰囲気下でｓｕｂＢＥ－１（１５ｇ、３３．９ｍｍｏｌ）とＴｒｚ８（１４．４ｇ、３５．６ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（１４．１ｇ、１０１．８ｍｍｏｌ）を水４２ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．３ｍｍｏｌ）を投入した。１２時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物１－８を１４．８ｇ製造した。（収率５７％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝７６５）
合成例１－９
窒素雰囲気下で化学式ＢＦ（１５ｇ、５１ｍｍｏｌ）とｐｈｅｎｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（６．５ｇ、５３．５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（２１．１ｇ、１５３ｍｍｏｌ）を水６３ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。８時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＢＦ－１を１１．３ｇ製造した。（収率６６％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３３６）
窒素雰囲気下でｓｕｂＢＦ－１（１５ｇ、４４．７ｍｍｏｌ）とＴｒｚ９（２２．５ｇ、４６．９ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（１８．５ｇ、１３４ｍｍｏｌ）を水５６ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．４ｍｍｏｌ）を投入した。１２時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物１－９を１６．７ｇ製造した。（収率５１％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝７３５）
合成例１－１０
窒素雰囲気下で化学式ＣＡ（１５ｇ、４８．４ｍｍｏｌ）とｐｈｅｎｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（６．２ｇ、５０．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（２０ｇ、１４５．１ｍｍｏｌ）を水６０ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。１１時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＣＡ－１を９．３ｇ製造した。（収率５５％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３５２）
窒素雰囲気下でｓｕｂＣＡ－１（１５ｇ、４２．６ｍｍｏｌ）とＴｒｚ１０（１９．２ｇ、４４．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（１７．７ｇ、１２７．９ｍｍｏｌ）を水５３ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．４ｍｍｏｌ）を投入した。９時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物１－１０を２０．６ｇ製造した。（収率６９％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝７０１）
合成例１－１１
窒素雰囲気下で化学式ＣＢ（１５ｇ、４８．４ｍｍｏｌ）とｐｈｅｎｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（６．２ｇ、５０．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（２０ｇ、１４５．１ｍｍｏｌ）を水６０ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。１０時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＣＢ－１を９．２ｇ製造した。（収率５４％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３５２）
窒素雰囲気下でｓｕｂＣＢ－１（１５ｇ、４２．６ｍｍｏｌ）とｂｉｓ（ｐｉｎａｃｏｌａｔｏ）ｄｉｂｏｒｏｎ（１１．９ｇ、４６．９ｍｍｏｌ）を１，４－ｄｉｏｘａｎｅ ３００ｍｌに還流させながら攪拌した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ａｃｅｔａｔｅ（６．３ｇ、６３．９ｍｍｏｌ）を投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｄｉｂｅｎｚｙｌｉｄｅｎｅａｃｅｔｏｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．７ｇ、１．３ｍｍｏｌ）およびｔｒｉｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ（０．７ｇ、２．６ｍｍｏｌ）を投入した。５時間反応して常温で冷やしてクロロホルムと水を利用して有機層を分離後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＣＢ－２を１４．２ｇ製造した。（収率７５％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝４４４）
窒素雰囲気下でｓｕｂＣＢ－２（１５ｇ、３３．８ｍｍｏｌ）とＴｒｚ１１（１４ｇ、３５．５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（１４ｇ、１０１．５ｍｍｏｌ）を水４２ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．３ｍｍｏｌ）を投入した。９時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物１－１１を１３．２ｇ製造した。（収率５８％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６７５）
合成例１－１２
窒素雰囲気下でｓｕｂＣＢ－１（１５ｇ、４２．６ｍｍｏｌ）とＴｒｚ１２（１８ｇ、４４．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（１７．７ｇ、１２７．９ｍｍｏｌ）を水５３ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．４ｍｍｏｌ）を投入した。１２時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物１－１２を１５．８ｇ製造した。（収率５５％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６７５）
合成例１－１３
窒素雰囲気下で化学式ＣＥ（１５ｇ、４８．４ｍｍｏｌ）とｄｉｂｅｎｚｏ［ｂ，ｄ］fｕｒａｎ－１－ｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（１０．８ｇ、５０．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（２０ｇ、１４５．１ｍｍｏｌ）を水６０ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。９時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＣＥ－１を１２．４ｇ製造した。（収率５８％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝４４２）
窒素雰囲気下でｓｕｂＣＥ－１（１５ｇ、３３．９ｍｍｏｌ）とＴｒｚ１３（１２．６ｇ、３５．６ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（１４．１ｇ、１０１．８ｍｍｏｌ）を水４２ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．３ｍｍｏｌ）を投入した。１２時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物１－１３を１５．５ｇ製造した。（収率６４％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝７１５）
合成例１－１４
窒素雰囲気下で化学式ＣＦ（１５ｇ、４８．４ｍｍｏｌ）とｎａｐｈｔｈａｌｅｎ－２－ｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（１０．８ｇ、５０．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（２０ｇ、１４５．１ｍｍｏｌ）を水６０ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。１２時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＣＦ－１を１３ｇ製造した。（収率６７％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝４０２）
窒素雰囲気下でｓｕｂＣＦ－１（１５ｇ、３７．３ｍｍｏｌ）とＴｒｚ５（１５．８ｇ、３９．２ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（１５．５ｇ、１１２ｍｍｏｌ）を水４６ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．４ｍｍｏｌ）を投入した。１０時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物１－１４を１８．４ｇ製造した。（収率６８％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝７２５）
合成例１－１５
窒素雰囲気下で化学式ＤＡ（１５ｇ、４８．４ｍｍｏｌ）とｐｈｅｎｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（６．２ｇ、５０．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（２０ｇ、１４５．１ｍｍｏｌ）を水６０ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。１０時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＤＡ－１を１１．７ｇ製造した。（収率６９％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３５２）
窒素雰囲気下でｓｕｂＤＡ－１（１５ｇ、４２．６ｍｍｏｌ）とｂｉｓ（ｐｉｎａｃｏｌａｔｏ）ｄｉｂｏｒｏｎ（１１．９ｇ、４６．９ｍｍｏｌ）を１，４－ｄｉｏｘａｎｅ ３００ｍｌに還流させながら攪拌した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ａｃｅｔａｔｅ（６．３ｇ、６３．９ｍｍｏｌ）を投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｄｉｂｅｎｚｙｌｉｄｅｎｅａｃｅｔｏｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．７ｇ、１．３ｍｍｏｌ）およびｔｒｉｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ（０．７ｇ、２．６ｍｍｏｌ）を投入した。９時間反応して常温で冷やしてクロロホルムと水を利用して有機層を分離後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＤＡ－２を１４．７ｇ製造した。（収率７８％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝４４４）
窒素雰囲気下でｓｕｂＤＡ－２（１５ｇ、３３．８ｍｍｏｌ）とＴｒｚ１４（１４ｇ、３５．５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（１４ｇ、１０１．５ｍｍｏｌ）を水４２ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．３ｍｍｏｌ）を投入した。１１時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物１－１５を１５．７ｇ製造した。（収率６９％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６７５）
合成例１－１６
窒素雰囲気下で化学式ＤＢ（１５ｇ、４８．４ｍｍｏｌ）とｎａｐｈｔｈａｌｅｎ－２－ｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（１０．８ｇ、５０．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（２０ｇ、１４５．１ｍｍｏｌ）を水６０ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。９時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＤＢ－１を９．９ｇ製造した。（収率５１％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝４０２）
窒素雰囲気下でｓｕｂＤＢ－１（１５ｇ、３７．３ｍｍｏｌ）とｂｉｓ（ｐｉｎａｃｏｌａｔｏ）ｄｉｂｏｒｏｎ（１０．４ｇ、４１．１ｍｍｏｌ）を１，４－ｄｉｏｘａｎｅ ３００ｍｌに還流させながら攪拌した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ａｃｅｔａｔｅ（５．５ｇ、５６ｍｍｏｌ）を投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｄｉｂｅｎｚｙｌｉｄｅｎｅａｃｅｔｏｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、１．１ｍｍｏｌ）およびｔｒｉｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ（０．６ｇ、２．２ｍｍｏｌ）を投入した。７時間反応して常温で冷やしてクロロホルムと水を利用して有機層を分離後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＤＢ－２を１２．３ｇ製造した。（収率６７％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝４９４）
窒素雰囲気下でｓｕｂＤＢ－２（１５ｇ、３０．４ｍｍｏｌ）とＴｒｚ２（８．５ｇ、３１．９ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（１２．６ｇ、９１．２ｍｍｏｌ）を水３８ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．３ｍｍｏｌ）を投入した。９時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物１－１６を１１．６ｇ製造した。（収率６４％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝５９９）
合成例１－１７
窒素雰囲気下で化学式ＤＦ（１５ｇ、４８．４ｍｍｏｌ）とｐｈｅｎｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（６．２ｇ、５０．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（２０ｇ、１４５．１ｍｍｏｌ）を水６０ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。１０時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＤＦ－１を９ｇ製造した。（収率５３％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３５２）
窒素雰囲気下でｓｕｂＤＦ－１（１５ｇ、４２．６ｍｍｏｌ）とＴｒｚ１５（１８ｇ、４４．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（１７．７ｇ、１２７．９ｍｍｏｌ）を水５３ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．４ｍｍｏｌ）を投入した。１２時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物１－１７を１９．５ｇ製造した。（収率６８％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６７５）
合成例２－１
窒素雰囲気下で化学式ＡＡ（１５ｇ、５１ｍｍｏｌ）とｎａｐｈｔｈａｌｅｎ－２－ｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（９．２ｇ、５３．５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（２１．１ｇ、１５３ｍｍｏｌ）を水６３ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。９時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＡＡ－３を１１．２ｇ製造した。（収率５７％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３８６）
窒素雰囲気下でｓｕｂＡＡ－３（１０ｇ、２５．９ｍｍｏｌ）、ａｍｉｎｅ１（８．７ｇ、２５．９ｍｍｏｌ）、ｓｏｄｉｕｍ ｔｅｒｔ－ｂｕｔｏｘｉｄｅ（８．３ｇ、３８．９ｍｍｏｌ）をＸｙｌｅｎｅ ２００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．１ｇ、０．３ｍｍｏｌ）を投入した。２時間後反応が終結して常温で冷やして減圧して溶媒を除去した。その後、化合物を再びクロロホルムに完全に溶かして水で２回洗浄した後、有機層を分離して無水硫酸マグネシウム処理後ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物２－１を９．６ｇ得た。（収率５４％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６８５）
合成例２－２
窒素雰囲気下でｓｕｂＡＢ－１（１０ｇ、２９．８ｍｍｏｌ）、ａｍｉｎｅ２（８．８ｇ、２９．８ｍｍｏｌ）、ｓｏｄｉｕｍ ｔｅｒｔ－ｂｕｔｏｘｉｄｅ（９．５ｇ、４４．７ｍｍｏｌ）をＸｙｌｅｎｅ ２００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．３ｍｍｏｌ）を投入した。２時間後反応が終結して常温で冷やして減圧して溶媒を除去した。その後、化合物を再びクロロホルムに完全に溶かして水で２回洗浄した後、有機層を分離して無水硫酸マグネシウム処理後ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物２－２を９．６ｇ得た。（収率５４％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝５９５）
合成例２－３
窒素雰囲気下で化学式ＡＣ（１５ｇ、５１ｍｍｏｌ）とｐｈｅｎｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（６．５ｇ、５３．５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（２１．１ｇ、１５３ｍｍｏｌ）を水６３ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。１１時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＡＣ－１を９．４ｇ製造した。（収率５５％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３３６）
窒素雰囲気下でｓｕｂＡＣ－１（１０ｇ、２９．８ｍｍｏｌ）、ａｍｉｎｅ３（１２．２ｇ、２９．８ｍｍｏｌ）、ｓｏｄｉｕｍ ｔｅｒｔ－ｂｕｔｏｘｉｄｅ（９．５ｇ、４４．７ｍｍｏｌ）をＸｙｌｅｎｅ ２００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．３ｍｍｏｌ）を投入した。３時間後反応が終結して常温で冷やして減圧して溶媒を除去した。その後、化合物を再びクロロホルムに完全に溶かして水で２回洗浄した後、有機層を分離して無水硫酸マグネシウム処理後ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物２－３を１１．２ｇ得た。（収率５３％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝７１０）
合成例２－４
窒素雰囲気下でｓｕｂＡＣ－１（１５ｇ、４４．７ｍｍｏｌ）とａｍｉｎｅ４（２２．８ｇ、４６．９ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（１８．５ｇ、１３４ｍｍｏｌ）を水５６ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．４ｍｍｏｌ）を投入した。９時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物２－４を１６．５ｇ製造した。（収率５０％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝７４１）
合成例２－５
窒素雰囲気下で化学式ＡＥ（１５ｇ、５１ｍｍｏｌ）と［１，１'－ｂｉｐｈｅｎｙｌ］－４－ｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（１０．６ｇ、５３．５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（２１．１ｇ、１５３ｍｍｏｌ）を水６３ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。９時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＡＥ－２を１１．１ｇ製造した。（収率５３％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝４１２）
窒素雰囲気下でｓｕｂＡＥ－２（１０ｇ、２４．３ｍｍｏｌ）、ａｍｉｎｅ５（７．２ｇ、２４．３ｍｍｏｌ）、ｓｏｄｉｕｍ ｔｅｒｔ－ｂｕｔｏｘｉｄｅ（７．７ｇ、３６．４ｍｍｏｌ）をＸｙｌｅｎｅ ２００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．１ｇ、０．２ｍｍｏｌ）を投入した。２時間後反応が終結して常温で冷やして減圧して溶媒を除去した。その後、化合物を再びクロロホルムに完全に溶かして水で２回洗浄した後、有機層を分離して無水硫酸マグネシウム処理後ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物２－５を８．９ｇ得た。（収率５５％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６７１）
合成例２－６
窒素雰囲気下で化学式ＡＦ（１５ｇ、５１ｍｍｏｌ）とｐｈｅｎｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（６．５ｇ、５３．５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（２１．１ｇ、１５３ｍｍｏｌ）を水６３ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。１１時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＡＦ－２を１１．３ｇ製造した。（収率６６％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３３６）
窒素雰囲気下でｓｕｂＡＦ－２（１５ｇ、４４．７ｍｍｏｌ）とａｍｉｎｅ６（２０．７ｇ、４６．９ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（１８．５ｇ、１３４ｍｍｏｌ）を水５６ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．４ｍｍｏｌ）を投入した。１２時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物２－６を１６．８ｇ製造した。（収率５４％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６９７）
合成例２－７
窒素雰囲気下でｓｕｂＢＡ－１（１５ｇ、４４．７ｍｍｏｌ）とａｍｉｎｅ７（１８．５ｇ、４６．９ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（１８．５ｇ、１３４ｍｍｏｌ）を水５６ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．４ｍｍｏｌ）を投入した。１１時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物２－７を１７．１ｇ製造した。（収率５９％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６５１）
合成例２－８
窒素雰囲気下でｓｕｂＢＢ－１（１５ｇ、４４．７ｍｍｏｌ）とａｍｉｎｅ８（２３ｇ、４６．９ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（１８．５ｇ、１３４ｍｍｏｌ）を水５６ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．４ｍｍｏｌ）を投入した。１１時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物２－８を２２ｇ製造した。（収率６６％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝７４７）
合成例２－９
窒素雰囲気下でｓｕｂＢＢ－１（１０ｇ、２９．８ｍｍｏｌ）、ａｍｉｎｅ９（１２．６ｇ、２９．８ｍｍｏｌ）、ｓｏｄｉｕｍ ｔｅｒｔ－ｂｕｔｏｘｉｄｅ（９．５ｇ、４４．７ｍｍｏｌ）をＸｙｌｅｎｅ ２００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．３ｍｍｏｌ）を投入した。２時間後反応が終結して常温で冷やして減圧して溶媒を除去した。その後、化合物を再びクロロホルムに完全に溶かして水で２回洗浄した後、有機層を分離して無水硫酸マグネシウム処理後ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物２－９を１１．４ｇ得た。（収率５３％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝７２４）
合成例２－１０
窒素雰囲気下で化学式ＢＣ（１５ｇ、５１ｍｍｏｌ）とｎａｐｈｔｈａｌｅｎ－２－ｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（９．２ｇ、５３．５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（２１．１ｇ、１５３ｍｍｏｌ）を水６３ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。８時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＢＣ－１を１３．７ｇ製造した。（収率７０％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３８６）
窒素雰囲気下でｓｕｂＢＣ－１（１０ｇ、２５．９ｍｍｏｌ）、ａｍｉｎｅ１０（８．３ｇ、２５．９ｍｍｏｌ）、ｓｏｄｉｕｍ ｔｅｒｔ－ｂｕｔｏｘｉｄｅ（８．３ｇ、３８．９ｍｍｏｌ）をＸｙｌｅｎｅ ２００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．１ｇ、０．３ｍｍｏｌ）を投入した。３時間後反応が終結して常温で冷やして減圧して溶媒を除去した。その後、化合物を再びクロロホルムに完全に溶かして水で２回洗浄した後、有機層を分離して無水硫酸マグネシウム処理後ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物２－１０を９ｇ得た。（収率５２％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６７１）
合成例２－１１
窒素雰囲気下で化学式ＢＣ（１５ｇ、５１ｍｍｏｌ）とｐｈｅｎｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（６．５ｇ、５３．５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（２１．１ｇ、１５３ｍｍｏｌ）を水６３ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。１１時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＢＣ－２を１０．３ｇ製造した。（収率６０％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３３６）
窒素雰囲気下でｓｕｂＢＣ－２（１５ｇ、４４．７ｍｍｏｌ）とａｍｉｎｅ１１（１７．８ｇ、４６．９ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（１８．５ｇ、１３４ｍｍｏｌ）を水５６ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．４ｍｍｏｌ）を投入した。１０時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物２－１１を１４．４ｇ製造した。（収率５１％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６３５）
合成例２－１２
窒素雰囲気下で化学式ＢＣ（１５ｇ、５１ｍｍｏｌ）とｄｉｂｅｎｚｏ［ｂ，ｄ］fｕｒａｎ－１－ｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（１１．４ｇ、５３．５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（２１．１ｇ、１５３ｍｍｏｌ）を水６３ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。１０時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＢＣ－３を１４．３ｇ製造した。（収率６６％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝４２６）
窒素雰囲気下でｓｕｂＢＣ－３（１５ｇ、３５．２ｍｍｏｌ）とａｍｉｎｅ１２（１６．３ｇ、３７ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（１４．６ｇ、１０５．７ｍｍｏｌ）を水４４ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．４ｍｍｏｌ）を投入した。１１時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物２－１２を１９．１ｇ製造した。（収率６９％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝７８７）
合成例２－１３
窒素雰囲気下で化学式ＢＥ（１５ｇ、５１ｍｍｏｌ）とｐｈｅｎｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（６．５ｇ、５３．５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（２１．１ｇ、１５３ｍｍｏｌ）を水６３ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。１０時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＢＥ－２を８．５ｇ製造した。（収率５０％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３３６）
窒素雰囲気下でｓｕｂＢＥ－２（１０ｇ、２９．８ｍｍｏｌ）、ａｍｉｎｅ１３（１０．３ｇ、２９．８ｍｍｏｌ）、ｓｏｄｉｕｍ ｔｅｒｔ－ｂｕｔｏｘｉｄｅ（９．５ｇ、４４．７ｍｍｏｌ）をＸｙｌｅｎｅ ２００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．３ｍｍｏｌ）を投入した。３時間後反応が終結して常温で冷やして減圧して溶媒を除去した。その後、化合物を再びクロロホルムに完全に溶かして水で２回洗浄した後、有機層を分離して無水硫酸マグネシウム処理後ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物２－１３ １１．５ｇを得た。（収率６０％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６４５）
合成例２－１４
窒素雰囲気下でｓｕｂＢＥ－２（１５ｇ、４４．７ｍｍｏｌ）とａｍｉｎｅ１４（２１．４ｇ、４６．９ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（１８．５ｇ、１３４ｍｍｏｌ）を水５６ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．４ｍｍｏｌ）を投入した。１０時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物２－１４を２０．３ｇ製造した。（収率６４％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝７１１）
合成例２－１５
窒素雰囲気下でｓｕｂＢＦ－１（１５ｇ、４４．７ｍｍｏｌ）とａｍｉｎｅ１５（２２．１ｇ、４６．９ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（１８．５ｇ、１３４ｍｍｏｌ）を水５６ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．４ｍｍｏｌ）を投入した。８時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物２－１５を１７．８ｇ製造した。（収率５５％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝７２７）
合成例２－１６
窒素雰囲気下で化学式ＣＡ（１５ｇ、４８．４ｍｍｏｌ）とｄｉｂｅｎｚｏ［ｂ，ｄ］ｔｈｉｏｐｈｅｎ－３－ｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（１１．６ｇ、５０．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（２０ｇ、１４５．１ｍｍｏｌ）を水６０ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。８時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＣＡ－２を１１．３ｇ製造した。（収率５１％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝４５８）
窒素雰囲気下でｓｕｂＣＡ－２（１５ｇ、３２．８ｍｍｏｌ）とａｍｉｎｅ１６（１４．３ｇ、３４．４ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（１３．６ｇ、９８．３ｍｍｏｌ）を水４１ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．３ｍｍｏｌ）を投入した。９時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物２－１６を１４．３ｇ製造した。（収率５５％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝７９３）
合成例２－１７
窒素雰囲気下でｓｕｂＣＢ－１（１０ｇ、２８．４ｍｍｏｌ）、ａｍｉｎｅ１７（１２ｇ、２８．４ｍｍｏｌ）、ｓｏｄｉｕｍ ｔｅｒｔ－ｂｕｔｏｘｉｄｅ（９ｇ、４２．６ｍｍｏｌ）をＸｙｌｅｎｅ ２００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．１ｇ、０．３ｍｍｏｌ）を投入した。３時間後反応が終結して常温で冷やして減圧して溶媒を除去した。その後、化合物を再びクロロホルムに完全に溶かして水で２回洗浄した後、有機層を分離して無水硫酸マグネシウム処理後ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物２－１７ １３．２ｇを得た。（収率６３％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝７３７）
合成例２－１８
窒素雰囲気下でｓｕｂＣＢ－１（１５ｇ、４２．６ｍｍｏｌ）とａｍｉｎｅ１８（２１．１ｇ、４４．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（１７．７ｇ、１２７．９ｍｍｏｌ）を水５３ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．４ｍｍｏｌ）を投入した。１２時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物２－１８を１８ｇ製造した。（収率５７％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝７４３）
合成例２－１９
窒素雰囲気下で化学式ＣＣ（１５ｇ、４８．４ｍｍｏｌ）とｐｈｅｎｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（６．２ｇ、５０．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（２０ｇ、１４５．１ｍｍｏｌ）を水６０ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。８時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＣＣ－１を８．７ｇ製造した。（収率５１％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３５２）
窒素雰囲気下でｓｕｂＣＣ－１（１０ｇ、２８．４ｍｍｏｌ）、ａｍｉｎｅ１９（１１．７ｇ、２８．４ｍｍｏｌ）、ｓｏｄｉｕｍ ｔｅｒｔ－ｂｕｔｏｘｉｄｅ（９ｇ、４２．６ｍｍｏｌ）をＸｙｌｅｎｅ ２００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．１ｇ、０．３ｍｍｏｌ）を投入した。３時間後反応が終結して常温で冷やして減圧して溶媒を除去した。その後、化合物を再びクロロホルムに完全に溶かして水で２回洗浄した後、有機層を分離して無水硫酸マグネシウム処理後ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物２－１９ １３．４ｇを得た。（収率６５％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝７２７）
合成例２－２０
窒素雰囲気下でｓｕｂＣＣ－１（１０ｇ、２８．４ｍｍｏｌ）、ａｍｉｎｅ２０（１０．６ｇ、２８．４ｍｍｏｌ）、ｓｏｄｉｕｍ ｔｅｒｔ－ｂｕｔｏｘｉｄｅ（９ｇ、４２．６ｍｍｏｌ）をＸｙｌｅｎｅ ２００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．１ｇ、０．３ｍｍｏｌ）を投入した。２時間後反応が終結して常温で冷やして減圧して溶媒を除去した。その後、化合物を再びクロロホルムに完全に溶かして水で２回洗浄した後、有機層を分離して無水硫酸マグネシウム処理後ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物２－２０ １２．３ｇを得た。（収率６３％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６８７）
合成例２－２１
窒素雰囲気下でｓｕｂＣＣ－１（１５ｇ、４２．６ｍｍｏｌ）とａｍｉｎｅ２１（２２ｇ、４４．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（１７．７ｇ、１２７．９ｍｍｏｌ）を水５３ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．４ｍｍｏｌ）を投入した。１１時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物２－２１を２１．１ｇ製造した。（収率６５％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝７６３）
合成例２－２２
窒素雰囲気下で化学式ＣＤ（１５ｇ、４８．４ｍｍｏｌ）とｐｈｅｎｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（６．２ｇ、５０．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（２０ｇ、１４５．１ｍｍｏｌ）を水６０ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。８時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＣＤ－１を８．７ｇ製造した。（収率５１％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３５２）
窒素雰囲気下でｓｕｂＣＤ－１（１５ｇ、４２．６ｍｍｏｌ）とａｍｉｎｅ２２（１９．８ｇ、４４．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（１７．７ｇ、１２７．９ｍｍｏｌ）を水５３ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．４ｍｍｏｌ）を投入した。１１時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物２－２２を１７．３ｇ製造した。（収率５７％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝７１３）
合成例２－２３
窒素雰囲気下で化学式ＣＥ（１５ｇ、４８．４ｍｍｏｌ）とｐｈｅｎｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（６．２ｇ、５０．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（２０ｇ、１４５．１ｍｍｏｌ）を水６０ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。１０時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＣＥ－２を１１．２ｇ製造した。（収率６６％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３５２）
窒素雰囲気下でｓｕｂＣＥ－２（１０ｇ、２８．４ｍｍｏｌ）、ａｍｉｎｅ２３（９．８ｇ、２８．４ｍｍｏｌ）、ｓｏｄｉｕｍ ｔｅｒｔ－ｂｕｔｏｘｉｄｅ（９ｇ、４２．６ｍｍｏｌ）をＸｙｌｅｎｅ ２００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．１ｇ、０．３ｍｍｏｌ）を投入した。２時間後反応が終結して常温で冷やして減圧して溶媒を除去した。その後、化合物を再びクロロホルムに完全に溶かして水で２回洗浄した後、有機層を分離して無水硫酸マグネシウム処理後ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物２－２３ １１．１ｇを得た。（収率５９％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６６１）
合成例２－２４
窒素雰囲気下で化学式ＣＦ（１５ｇ、４８．４ｍｍｏｌ）とｐｈｅｎｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（６．２ｇ、５０．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（２０ｇ、１４５．１ｍｍｏｌ）を水６０ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。１１時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＣＦ－２を９．８ｇ製造した。（収率５８％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３５２）
窒素雰囲気下でｓｕｂＣＦ－２（１０ｇ、２８．４ｍｍｏｌ）、ａｍｉｎｅ２４（１０ｇ、２８．４ｍｍｏｌ）、ｓｏｄｉｕｍ ｔｅｒｔ－ｂｕｔｏｘｉｄｅ（９ｇ、４２．６ｍｍｏｌ）をＸｙｌｅｎｅ ２００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．１ｇ、０．３ｍｍｏｌ）を投入した。２時間後反応が終結して常温で冷やして減圧して溶媒を除去した。その後、化合物を再びクロロホルムに完全に溶かして水で２回洗浄した後、有機層を分離して無水硫酸マグネシウム処理後ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物２－２４を１０．２ｇ得た。（収率５４％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６６７）
合成例２－２５
窒素雰囲気下でｓｕｂＤＢ－１（１５ｇ、３７．３ｍｍｏｌ）とａｍｉｎｅ２５（１７．３ｇ、３９．２ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（１５．５ｇ、１１２ｍｍｏｌ）を水４６ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．４ｍｍｏｌ）を投入した。８時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物２－２５を１４．８ｇ製造した。（収率５２％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝７６３）
合成例２－２６
窒素雰囲気下で化学式ＤＣ（１５ｇ、４８．４ｍｍｏｌ）とｐｈｅｎｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（６．２ｇ、５０．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（２０ｇ、１４５．１ｍｍｏｌ）を水６０ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。１２時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＤＢ－２を１１．２ｇ製造した。（収率６６％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３５２）
窒素雰囲気下でｓｕｂＤＢ－２（１０ｇ、２９．８ｍｍｏｌ）、ａｍｉｎｅ２６（１２．３ｇ、２９．８ｍｍｏｌ）、ｓｏｄｉｕｍ ｔｅｒｔ－ｂｕｔｏｘｉｄｅ（９．５ｇ、４４．７ｍｍｏｌ）をＸｙｌｅｎｅ ２００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．３ｍｍｏｌ）を投入した。２時間後反応が終結して常温で冷やして減圧して溶媒を除去した。その後、化合物を再びクロロホルムに完全に溶かして水で２回洗浄した後、有機層を分離して無水硫酸マグネシウム処理後ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物２－２６ １１．４ｇを得た。（収率５４％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝７１１）
合成例２－２７
窒素雰囲気下で化学式ＤＣ（１５ｇ、４８．４ｍｍｏｌ）とｎａｐｈｔｈａｌｅｎ－２－ｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（８．７ｇ、５０．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（２０ｇ、１４５．１ｍｍｏｌ）を水６０ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。１０時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＤＣ－１を１１．１ｇ製造した。（収率５７％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝４０２）
窒素雰囲気下でｓｕｂＤＣ－１（１０ｇ、２４．９ｍｍｏｌ）、ａｍｉｎｅ１０（８ｇ、２４．９ｍｍｏｌ）、ｓｏｄｉｕｍ ｔｅｒｔ－ｂｕｔｏｘｉｄｅ（７．９ｇ、３７．３ｍｍｏｌ）をＸｙｌｅｎｅ ２００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．１ｇ、０．２ｍｍｏｌ）を投入した。３時間後反応が終結して常温で冷やして減圧して溶媒を除去した。その後、化合物を再びクロロホルムに完全に溶かして水で２回洗浄した後、有機層を分離して無水硫酸マグネシウム処理後ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物２－２７ ８．７ｇを得た。（収率５１％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６８７）
合成例２－２８
窒素雰囲気下で化学式（１５ｇ、４８．４ｍｍｏｌ）とｐｈｅｎｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（６．２ｇ、５０．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（２０ｇ、１４５．１ｍｍｏｌ）を水６０ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。１２時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＤＣ－２を９ｇ製造した。（収率５３％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３５２）
窒素雰囲気下でｓｕｂＤＣ－２（１５ｇ、４２．６ｍｍｏｌ）とａｍｉｎｅ２７（２１ｇ、４４．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（１７．７ｇ、１２７．９ｍｍｏｌ）を水５３ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．４ｍｍｏｌ）を投入した。１０時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物２－２８を２２．１ｇ製造した。（収率７０％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝７４１）
合成例２－２９
窒素雰囲気下で化学式（１５ｇ、４８．４ｍｍｏｌ）とｄｉｂｅｎｚｏ［ｂ，ｄ］fｕｒａｎ－２－ｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（１０．８ｇ、５０．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（２０ｇ、１４５．１ｍｍｏｌ）を水６０ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。１０時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＤＥ－１を１１．９ｇ製造した。（収率５６％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝４４２）
窒素雰囲気下でｓｕｂＤＥ－１（１５ｇ、３３．９ｍｍｏｌ）とａｍｉｎｅ２８（１７．５ｇ、３５．６ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（１４．１ｇ、１０１．８ｍｍｏｌ）を水４２ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．３ｍｍｏｌ）を投入した。９時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物２－２９を１７．１ｇ製造した。（収率５９％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝８５３）
合成例２－３０
窒素雰囲気下で化学式（１５ｇ、４８．４ｍｍｏｌ）と［１，１'－ｂｉｐｈｅｎｙｌ］－４－ｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（１０．１ｇ、５０．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（２０ｇ、１４５．１ｍｍｏｌ）を水６０ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。１０時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＤＦ－２を１０．５ｇ製造した。（収率５１％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝４２８）
窒素雰囲気下でｓｕｂＤＦ－２（１５ｇ、３５．１ｍｍｏｌ）とａｍｉｎｅ２９（１８．１ｇ、３６．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（１４．５ｇ、１０５．２ｍｍｏｌ）を水４４ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、ｂｉｓ（ｔｒｉ－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．２ｇ、０．４ｍｍｏｌ）を投入した。１２時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物２－３０を１７．３ｇ製造した。（収率５９％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝８３９）
＜実施例および比較例＞
比較例Ａ
ＩＴＯ（ｉｎｄｉｕｍ ｔｉｎ ｏｘｉｄｅ）が１０００Åの厚さで薄膜コーティングされたガラス基板を洗剤を溶かした蒸溜水に入れて超音波で洗浄した。この時、洗剤としてはフィッシャー社（Ｆｉｓｃｈｅｒ Ｃｏ．）製品を使用し、蒸溜水としてはミリポア社（Ｍｉｌｌｉｐｏｒｅ Ｃｏ．）製品のフィルター（Ｆｉｌｔｅｒ）で２次ろ過した蒸留水を使用した。ＩＴＯを３０分間洗浄した後、蒸溜水で２回繰り返し超音波洗浄を１０分間進行した。蒸溜水洗浄が終わった後、イソプロピルアルコール、アセトン、メタノールの溶剤で超音波洗浄をし、乾燥させた後、プラズマ洗浄装置に輸送させた。また、酸素プラズマを利用して前記基板を５分間洗浄した後、真空蒸着装置に基板を輸送させた。
このように用意されたＩＴＯ透明電極上に正孔注入層で下記化合物ＨＩ－１を１１５０Åの厚さで形成し、下記化合物Ａ－１を１．５ｗｔ％濃度でｐ－ｄｏｐｉｎｇした。前記正孔注入層上に下記化合物ＨＴ－１を真空蒸着して膜厚８００Åの正孔輸送層を形成した。続いて、前記正孔輸送層上に膜厚１５０Åで下記化合物ＥＢ－１を真空蒸着して電子遮断層を形成した。続いて、前記ＥＢ－１蒸着膜上に下記化合物ＲＨ－１、化合物Ｄｐ－７を９８：２の重量比で真空蒸着して、４００Åの厚さの赤色発光層を形成した。前記発光層上に膜厚３０Åで下記化合物ＨＢ－１を真空蒸着して正孔抑制層を形成した。続いて、前記正孔抑制層上に下記化合物ＥＴ－１と下記化合物ＬｉＱを２：１の重量比で真空蒸着して、３００Åの厚さで電子注入および輸送層を形成した。前記電子注入および輸送層上に順次１２Åの厚さでフッ化リチウム（ＬｉＦ）と１０００Åの厚さでアルミニウムを蒸着して負極を形成した。
前記の過程で、有機物の蒸着速度は０．４～０．７Å／ｓｅｃを維持し、負極のフッ化リチウムは０．３Å／ｓｅｃ、アルミニウムは２Å／ｓｅｃの蒸着速度を維持し、蒸着時の真空度は２×１０－７～５×１０－６ｔｏｒｒを維持して、有機発光素子を製作した。
実施例１～実施例１７
比較例Ａの有機発光素子でホストとして化合物ＲＨ－１の代わりに、下記表１に記載された化合物を使用したことを除いては、前記比較例Ａと同じ方法で有機発光素子を製造した。
比較例１～比較例７
比較例Ａの有機発光素子でホストとして化合物ＲＨ－１の代わりに、下記表１に記載された化合物を使用したことを除いては、前記比較例Ａと同じ方法で有機発光素子を製造した。下記表１の化合物Ｂ－８～Ｂ－１４の構造は、以下の通りである。
実施例１８～実施例４７
比較例Ａの有機発光素子で化合物ＥＢ－１の代わりに、電子遮断層物質として下記表２に記載された化合物を使用したことを除いては、前記比較例Ａと同じ方法で有機発光素子を製造した。
比較例８～比較例１４
比較例Ａの有機発光素子で化合物ＥＢ－１の代わりに、電子遮断層物質として下記表２に記載された化合物を使用したことを除いては、前記比較例Ａと同じ方法で有機発光素子を製造した。下記表２の化合物Ｂ－１～Ｂ－７の構造は、以下の通りである。
実施例４８～実施例１１９
比較例Ａの有機発光素子でホストとして化合物ＲＨ－１の代わりに表３に記載された第１ホストと第２ホストの化合物を１：１の重量比で使用したことを除いては、前記比較例Ａと同じ方法で有機発光素子を製造した。
＜実験例＞
前記実施例１～実施例１６１および比較例Ａ、比較例１～比較例８８で製造した有機発光素子に電流を印加した時、電圧、効率、および寿命を測定（１５ｍＡ／ｃｍ２基準）して、その結果を下記表１～表３に示した。寿命Ｔ９５は、輝度が初期輝度７，０００ ｎｉｔ基準に寿命が９５％に減少するのに要する時間を意味する。
［表１］
［表２］
［表３］
実施例１～１１９および比較例１～１４によって製作された有機発光素子に電流を印加した時、前記表１～表３の結果を得た。
本発明の化合物１－１～１－１７を赤色ホストで使用した時、表１のように比較例化合物対比駆動電圧が減少して、効率および寿命が増加するのを確認した。また、本発明の化合物２－１～２－３０を電子遮断層で使用した時にも表２のように、対比駆動電圧は減少して、効率と寿命が増加する結果を示した。
表３では、化合物１－１～１－１７のうち一つを第１ホストで選択して、化合物２－１～２－３０のうち一つを第２ホストで選択して共蒸着することで、赤色ホストで使用した時、単一物質のホストを使用した時より駆動電圧が減少して、効率および寿命が増加する傾向を確認することができた。
前記表１～表３の結果から赤色を表現する素子で赤色発光層のホストまたは電子遮断層物質として化学式１の化合物を使用した時、有機発光素子の駆動電圧、発光効率および寿命特性を改善する可能性があることを確認することができる。
１ 基板
２ 正極
３ 有機物層
４ 負極
５ 正孔注入層
６ 正孔輸送層
７ 電子遮断層
８ 発光層
９ 正孔抑制層
１０ 電子輸送層
１１ 電子注入層
１２ 電子注入および輸送層
合成例２－２８
窒素雰囲気下で化学式ＤＣ（１５ｇ、４８．４ｍｍｏｌ）とｐｈｅｎｙｌｂｏｒｏｎｉｃ ａｃｉｄ（６．２ｇ、５０．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ ３００ｍｌに入れて攪拌および還流した。その後、ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ（２０ｇ、１４５．１ｍｍｏｌ）を水６０ｍｌに溶かして投入して十分に攪拌した後、Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（０）（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。１２時間反応後、常温で冷やして有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これをさらにクロロホルムに溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してｓｕｂＤＣ－２を９ｇ製造した。（収率５３％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３５２）

Claims (10)

  1. 下記化学式１で表される化合物：
    ［化学式１］
    前記化学式１中、
    Ａ１は下記化学式１－ａで表され、
    ［化学式１－ａ］
    前記化学式１－ａ中、
    点線は、隣接した環と融合する部分であり、
    ＸはＯまたはＳであり、
    Ａｒ１は、置換または非置換の炭素数６～６０のアリール；または、置換または非置換のＮ、ＯおよびＳで構成される群より選択されるいずれか１つ以上のヘテロ原子を含む炭素数２～６０のヘテロアリールであり、
    Ａ２は、下記化学式１－ｂ；または下記化学式１－ｃで表される置換基であり、
    ［化学式１－ｂ］
    ［化学式１－ｃ］
    前記化学式１－ｂおよび１－ｃ中、
    Ｌ１～Ｌ４はそれぞれ独立して、単結合；置換または非置換の炭素数６～６０のアリーレン；または、置換または非置換のＮ、ＯおよびＳで構成される群より選択されるいずれか１つ以上のヘテロ原子を含む炭素数２～６０のヘテロアリーレンであり、
    Ａｒ２～Ａｒ５はそれぞれ独立して、置換または非置換の炭素数６～６０のアリール；または、置換または非置換のＮ、ＯおよびＳで構成される群より選択されるいずれか１つ以上のヘテロ原子を含む炭素数２～６０のヘテロアリールであり、
    Ｄは重水素であり、
    ｎは０～５の整数である。
  2. 前記化学式１は、下記化学式１－１～１－４のうちいずれか１つで表される、請求項１に記載の化合物：
    ［化学式１－１］
    ［化学式１－２］
    ［化学式１－３］
    ［化学式１－４］
    前記化学式１－１～１－４中、
    Ｘ、Ｌ１～Ｌ４、Ａｒ１～Ａｒ５、Ｄ、およびｎは、請求項１で定義した通りである。
  3. Ｌ１およびＬ２はそれぞれ独立して、単結合；フェニレン；ビフェニルジイル；またはナフタレンジイルである、請求項１に記載の化合物。
  4. Ａｒ１は、フェニル；ビフェニリル；ナフチル；ジベンゾフラニル；またはジベンゾチオフェニルである、請求項１に記載の化合物。
  5. Ａｒ２およびＡｒ３はそれぞれ独立して、フェニル；ビフェニリル；ナフチル；フェニルナフチル；ナフチルフェニル；ジベンゾフラニル；ジベンゾチオフェニル；またはフェナントレニルである、請求項１に記載の化合物。
  6. Ｌ３およびＬ４はそれぞれ独立して、単結合；フェニレン；ビフェニルジイル；またはナフタレンジイルである、請求項１に記載の化合物。
  7. Ａｒ４およびＡｒ５はそれぞれ独立して、フェニル；ビフェニリル；ターフェニリル；ナフチル；ナフチルフェニル；フェニルナフチル；フェナントレニル；９－フェニルカルバゾリル；ジベンゾフラニル；またはジベンゾチオフェニルである、請求項１に記載の化合物。
  8. 前記化学式１で表される化合物は、下記で構成される群より選択されるいずれか１つである、請求項１に記載の化合物：

    。
  9. 第１電極；前記第１電極と対向して備えられた第２電極；および前記第１電極と前記第２電極との間に備えられた１層以上の有機物層を含む有機発光素子であって、前記有機物層のうち１層以上は、請求項１～８のいずれか１項に記載の化合物を含むものである、有機発光素子。
  10. 前記化合物を含む有機物層は、発光層および／または電子遮断層である、請求項９に記載の有機発光素子。
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