JP2024504043A - ホノキオールの結晶形および非晶質形、ならびにそれらの製造方法 - Google Patents

ホノキオールの結晶形および非晶質形、ならびにそれらの製造方法 Download PDF

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Abstract

ホノキオールの結晶形Ａ、結晶形Ｂ、結晶形Ｃおよび非晶質形、ならびにそれらの製造方法が提供される。前記製造方法は、ホノキオールをｎ－ヘプタンに溶解し、室温で一晩静置し（分離された結晶がホノキオールの結晶形Ａである）；ホノキオールの結晶形Ａを加熱し、次いで室温に冷却し（得られた固体がホノキオールの結晶形Ｂである）；ホノキオールの結晶形Ａを溶融状態に加熱し、次いで溶融状態の結晶形を急冷温度に置き（分離された結晶がホノキオールの結晶形Ｃである）；およびホノキオールの結晶形ＡにＤＭＳＯ／Ｈ２Ｏ系貧溶媒を添加することによって油状物（ホノキオールの非晶質形である）を得る、ことを含む。前記ホノキオールの結晶形Ａ、結晶形Ｂ、結晶形Ｃは良好な溶解性、良好な安定性、低い吸湿性、長期保存性、良好な再現性を有し、薬剤開発に適している。前記ホノキオールの非晶質形は、良好な溶解性を有し、薬物製剤の開発に適している。

Description

発明の詳細な説明
〔技術分野〕
本発明は医療分野に関し、特にホノキオールの結晶形および非晶質形、ならびにそれらの製造方法に関する。
〔発明の背景〕
３’，５－ジアリル－［１，１’－ビフェニル］－２，４’－ジオールの化学名を有するホノキオールは、式（Ｉ）で示される下記の構造式を有する：
Magnolia officinalis Rehd. et Wilsの樹皮から抽出されるホノキオールは広範な生物学的活性を有する小分子化合物であり、その主な生物学的活性は、抗菌活性、抗酸化活性、抗不安活性、抗うつ活性、および抗血栓活性を含む。近年、ますます多くの研究が、ホノキオールが良好な抗腫瘍活性を有することを示しており、その抗腫瘍効果は、複数の標的、複数の影響、ならびにより低減された毒性および副作用によって特徴づけられる。動物研究は、ホノキオールが多くの種類の急速に増殖する腫瘍に対して広範な抗腫瘍活性を有することを示している。それは、腫瘍細胞アポトーシスを誘導し、腫瘍細胞のマイグレーションおよび増殖を阻害し、腫瘍新生血管形成を阻害することによって抗腫瘍効果を発揮する。
薬物結晶形の研究は、新薬の研究における重要なコンテンツの１つである。したがって、より良好な物理化学的性質およびバイオアベイラビリティを有するホノキオール相状態を開発することは非常に重要である。
〔要約〕
本発明の目的は、溶解性、安定性、吸湿性等に優れたホノキオール結晶形を提供することである。
本発明の第１の態様では、以下ホノキオール結晶形Ａと呼ばれるホノキオール結晶形が提供され、ここで、本発明に係るホノキオール結晶形ＡのＸ線粉末回折パターンは、Ｃｕ－Ｋα放射線下で、６．７９°±０．２°、９．１０°±０．２°、１３．９７°±０．２°、１４．９７°±０．２°および１７．５４°±０．２°の２θ値に特徴的なピークを含む。
さらに、本発明に係るホノキオール結晶形ＡのＸ線粉末回折パターンは、Ｃｕ－Ｋα放射線下で、６．７９°±０．２°、９．１０°±０．２°、１３．９７°±０．２°、１４．９７°±０．２°、１７．５４°±０．２°、２０．６１°±０．２°、２２．０８°±０．２°および２４．０１°±０．２°の２θ値に特徴的なピークを含む。
非限定的に、本発明に係るホノキオール結晶形Ａは、図１、図３～図９に示されるようなＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンを有する。
非限定的に、本発明に係るホノキオール結晶形Ａは、図２に示されるような熱重量分析（ＴＧＡ）／示差走査熱量測定（ＤＳＣ）サーモグラムを有する。
本発明はまた、ホノキオール結晶形Ａの製造方法を提供し、当該方法は以下を含む：
方法Ｉ：再結晶によるホノキオール結晶形Ａの製造
ホノキオールを７８～８５℃で有機溶媒に溶解してホノキオール溶液を得、当該ホノキオール溶液を別の容器に急速に注ぎ、室温で一晩静置し、遠心分離して固体をホノキオール結晶形Ａとして回収し、
前記有機溶媒は、ｎ－ヘプタン、石油エーテル、シクロヘキサン、ｎ－ヘキサン、トルエン、ＤＣＭ、ＤＭＳＯ、ＮＭＰ、クロロホルム、メタノール／水、またはエタノール／水である；
方法ＩＩ：気固浸透によるホノキオール結晶形Ａの製造
ホノキオールを容器に入れ、次いで、別の容器に有機溶媒を加え、ホノキオールを含む開封容器を、有機溶媒を含む容器に入れ、密封して（ホノキオールの表面がわずかに濡れるまで）室温で静置し、遠心分離して固体をホノキオール結晶形Ａとして回収し、
前記有機溶媒は、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、メチルｔｅｒｔ－ブチルエーテル、トリクロロメタン、Ｎ－メチルピロリドン、エタノールまたはアセトニトリルである；
方法ＩＩＩ：気液浸透によるホノキオール結晶形Ａの製造
ホノキオールを容器に入れ、溶媒に溶解し、ろ過して透明なホノキオール溶液を得、別の容器に貧溶媒を加え、透明なホノキオール溶液を含む開封容器を、貧溶媒を含む前記容器に入れ、密封して室温で静置し、遠心分離して固体をホノキオール結晶形Ａとして回収し、
前記溶媒は、エタノール、テトラヒドロフラン、トリクロロメタン、酢酸エチルまたはイソプロパノールであってもよく、かつ、前記貧溶媒は、ｎ－ヘキサンまたは水であってもよい；
方法ＩＶ：室温での懸濁撹拌によるホノキオール結晶形Ａの製造
ホノキオールを容器に入れ、有機溶媒を加えて懸濁液を得、得られた懸濁液を室温での磁気撹拌に供し、遠心分離して固体をホノキオール結晶形Ａとして回収し、
前記有機溶媒は、メタノール／水（９４：６、８４：１６、６９：３１、４２：５８）、アセトニトリル／水（１：９）、アセトン／水（１：９）、またはジクロロメタン／ｎ－ヘキサン（１：９）であってもよい；
方法Ｖ：４０～６０℃での懸濁撹拌によるホノキオール結晶形Ａの製造
ホノキオールを容器に入れ、有機溶媒を加えて懸濁液を得、得られた懸濁液を４０～６０℃での磁気撹拌に供し、遠心分離して固体をホノキオール結晶形Ａとして回収し、
前記有機溶媒は、ｎ－ヘプタン、Ｔｗｅｅｎ／ｎ－ヘプタン（１：９）、トリクロロメタン／ｎ－ヘプタン（１：９）、またはイソプロパノール／水（１：９）であってもよい；
方法ＶＩ：温度サイクルでの撹拌によるホノキオール結晶形Ａの製造
ホノキオールを容器に入れ、有機溶媒を加えて懸濁液を得、得られた懸濁液を温度サイクルでの磁気撹拌に供し、遠心分離して固体をホノキオール結晶形Ａとして回収し、
前記温度サイクルは、６０℃→５℃、０．１℃／ｍｉｎ、および５℃→６０℃、１．５℃／ｍｉｎの２サイクル、好ましくは５０℃→５℃、０．１℃／ｍｉｎ、および５℃→５０℃、１．５℃／ｍｉｎの２サイクルからなり、
前記有機溶媒は、ｎ－ヘプタン、エタノール／水（１：９）、アセトン／水（１：９）、テトラヒドロフラン／水（１：９）、アセトニトリル／水（１：９）、酢酸エチル／ｎ－ヘプタン（１：９）、メチルｔｅｒｔ－ブチルエーテル／ｎ－ヘキサン（１：９）、またはメチルイソブチルケトン／ｎ－ヘキサン（１：９）であってもよい；
方法ＶＩＩ：緩やかな揮発によるホノキオール結晶形Ａの製造
ホノキオールを容器に入れ、有機溶媒に溶解し、ろ過してろ液を採取し、前記ろ液を含む容器を密封膜を用いて密封し、前記密封膜上に小孔を開け、室温で静置して緩やかに揮発させ、遠心分離して固体をホノキオール結晶形Ａとして回収し、
前記有機溶媒は、トリクロロメタン、ジクロロメタン、メタノール、イソプロパノール、またはメチルイソブチルケトンであってもよく；および
方法ＶＩＩＩ：貧溶媒の添加によるホノキオール結晶形Ａの製造
ホノキオールを容器に入れ、溶媒に溶解し、磁気攪拌下で貧溶媒を滴下しながら添加し、静置し、遠心分離して固体をホノキオール結晶形Ａとして回収し、
前記溶媒は、エタノール、アセトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、メチルｔｅｒｔ－ブチルエーテル、アセトニトリル、ジクロロメタン、またはトリクロロメタンであってもよく、かつ、貧溶媒は、ｎ－ヘプタンまたは水であってもよい。
本発明の第２の態様では、以下ホノキオール結晶形Ｂと呼ばれるホノキオール結晶形が提供され、ここで、本発明に係るホノキオール結晶形ＢのＸ線粉末回折パターンは、Ｃｕ－Ｋα放射線下で、６．１５°±０．２°、６．７６°±０．２°、８．９６°±０．２°および１５．９０°±０．２°の２θ値に特徴的なピークを含む。
さらに、本発明に係るホノキオール結晶形ＢのＸ線粉末回折パターンは、Ｃｕ－Ｋα放射線下で、６．１５°±０．２°、６．７６°±０．２°、８．９６°±０．２°、１５．９０°±０．２°、１７．４９°±０．２°および１８．５５°±０．２°の２θ値に特徴的なピークを含む。
非限定的に、本発明に係るホノキオール結晶形Ｂは、図１０、図１２～図１５に示されるようなＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンを有する。
非限定的に、本発明に係るホノキオール結晶形Ｂは、図１１に示されるような熱重量分析（ＴＧＡ）／示差走査熱量測定（ＤＳＣ）サーモグラムを有する。
本発明はさらに、ホノキオール結晶形Ａを８０℃～８２℃に加熱し、次いで室温に冷却することにより、固体をホノキオール結晶形Ｂとして得る工程を含む、ホノキオール結晶形Ｂの製造方法を提供する。
本発明の第３の態様では、以下ホノキオール結晶形Ｃと呼ばれるホノキオール結晶形が提供され、ここで、本発明に係るホノキオール結晶形ＣのＸ線粉末回折パターンは、Ｃｕ－Ｋα放射線下で、１４．０４°±０．２°、１５．８４°±０．２°、１７．４２°±０．２°および１９．４８°±０．２°の２θ値に特徴的なピークを含む。
さらに、本発明に係るホノキオール結晶形ＣのＸ線粉末回折パターンは、Ｃｕ－Ｋα放射線下で、１４．０４°±０．２°、１５．８４°±０．２°、１７．４２°±０．２°、１９．４８°±０．２°、２１．２６°±０．２°、２３．１０°±０．２°および２４．０６°±０．２°の２θ値に特徴的なピークを含む。
非限定的に、本発明に係るホノキオール結晶形Ｃは、図１６および図１８に示されるようなＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンを有する。
非限定的に、本発明に係るホノキオール結晶形Ｃは、図１７に示されるような熱重量分析（ＴＧＡ）／示差走査熱量測定（ＤＳＣ）サーモグラムを有する。
本発明はさらに、以下の工程を含む、ホノキオール結晶形Ｃの製造方法を提供する：
（１）ホノキオール結晶形Ａを８３℃～１００℃で溶融状態に加熱し、明らかな微粒子が存在しなくなるまで攪拌して完全に混合する工程；および
（２）工程（１）で得られた溶融物を－２０℃～－１９６℃の急冷温度に直ちに置いて、結晶をホノキオール結晶形Ｃとして分離する工程。
好ましくは、ホノキオール結晶形Ｃの製造方法において、工程（２）の急冷温度は－８０℃～－１９６℃である。
本発明の第４の態様では、ホノキオール非晶質形が提供され、ここで、本発明に係るホノキオール非晶質形は良好な溶解性を有し、薬物製剤の開発に適している。
非限定的に、本発明に係るホノキオール非晶質形は、図１９に示されるようなＸ線粉末回折（ＸＲＰＤ）パターンを有する。
本発明はさらに、以下の工程を含む、ホノキオール非晶質形の製造方法を提供する：
（１）ホノキオール結晶形ＡをＤＭＳＯを用いて溶解させる工程；
（２）工程（１）で得られた溶液に貧溶媒の水を加え、撹拌する工程；および
（３）遠心分離し、上清を廃棄し、室温で静置して、油状物をホノキオール非晶質形として得る工程。
本発明の別の目的は、治療有効量のホノキオール結晶形Ａ、ホノキオール結晶形Ｂ、ホノキオール結晶形Ｃ、またはホノキオール非晶質形、および医薬賦形剤を含む、医薬組成物または医薬品を提供することである。医薬組成物または医薬品は医薬分野において周知の方法で製造され、一般に、治療有効量のホノキオール結晶形Ａ、ホノキオール結晶形Ｂ、ホノキオール結晶形Ｃ、またはホノキオール非晶質形を、１つ以上の医薬賦形剤と混合または接触させて、医薬組成物または医薬品を製造する。
本発明のさらなる目的は、治療有効量のホノキオール結晶形Ａ、ホノキオール結晶形Ｂ、ホノキオール結晶形Ｃ、またはホノキオール非晶質形を含む、ホノキオールナノリポソーム凍結乾燥粉末を提供することである。ホノキオールナノリポソーム凍結乾燥粉末は、以下の方法によって製造される：ホノキオール結晶形Ａ、ホノキオール結晶形Ｂ、ホノキオール結晶形Ｃもしくはホノキオール非晶質形（１部）、リン脂質（０．１～１００部）、ホスファチジルエタノールアミン（０．０１～１００部）およびコレステロール（０～１００部）を無水エタノールに溶解し、精製水に完全に溶解した溶液を注入し、攪拌し、ロータリーエバポレーションに供してエタノールを除去し、凍結乾燥賦形剤（１～５０部）を添加し、凍結乾燥してホノキオールナノリポソーム凍結乾燥粉末を得る。凍結乾燥粉末を再構成した後、ホノキオールナノリポソームの粒径は、レーザー粒径分析器によって測定して８０～１７０ｎｍである。
リン脂質は、大豆リン脂質、卵黄レシチン、水素添加大豆レシチン、水素添加卵黄レシチン、ホスファチジルコリン、ホスファチジルエタノールアミン、ホスファチジルグリセロールおよびそのナトリウム塩、ホスファチジルイノシトール、カルジオリピン、スフィンゴミエリン、またはホスファチジルセリンのうちの１つ以上から選択され；ホスファチジルエタノールアミンは、培養ホスファチジルエタノールアミン、大豆ホスファチジルエタノールアミン、ジステアリルホスファチジルエタノールアミン－ポリエチレングリコール６００－２００００、ジパルミトイルホスファチジルエタノールアミン－ポリエチレングリコール６００－２００００、ジオレオイルホスファチジルエタノールアミン－ポリエチレングリコール６００－２００００、ステアロイルオレオイルホスファチジルエタノールアミン－ポリエチレングリコール６００－２００００、ステアロイルイミジルホスファチジルエタノールアミン－ポリエチレングリコール６００－２００００、パルミトイルオレオイルホスファチジルエタノールアミン－ポリエチレングリコール６００－２００００、ジミリストイルホスファチジルエタノールアミン－ポリエチレングリコール６００－２００００、ジラウリルホスファチジルエタノールアミン－ポリエチレングリコール６００－２００００、ジデカノイルホスファチジルエタノールアミン－ポリエチレングリコール６００－２００００、ジオクタノイルホスファチジルエタノールアミン－ポリエチレングリコール６００－２００００、またはジヘキサノイルホスファチジルエタノールアミン－ポリエチレングリコール６００－２００００のうちの１つ以上から選択され；賦形剤は、グルコース、グリシン、マンニトール、イノシトール、ソルビトール、スクロース、トレハロース、ラクトース、ガラクトース、グルタミン酸、プロリン、リジンまたはアラニンのうちの１つ以上から選択される。
本発明のさらなる目的は、腫瘍を治療するための医薬の製造における、ホノキオール結晶形Ａ、ホノキオール結晶形Ｂ、ホノキオール結晶形Ｃ、またはホノキオール非晶質形の使用を提供することである。
本発明のさらに別の目的は、抗菌剤、抗酸化剤、抗不安剤、抗うつ剤または抗血栓剤の製造における、ホノキオール結晶形Ａ、ホノキオール結晶形Ｂ、ホノキオール結晶形Ｃ、またはホノキオール非晶質形の使用を提供することである。
本発明のホノキオール結晶形Ａ、ＢおよびＣは、良好な溶解性、良好な安定性、低い吸湿性、長期保存性、および良好な再現性の利点を有し、薬剤開発に適している。本発明のホノキオール非晶質形は、良好な溶解性を有し、薬物製剤の開発に適している。
〔図面の簡単な説明〕
図１は、実施例１におけるホノキオール結晶形ＡのＸＲＰＤパターンである。
図２は、実施例１におけるホノキオール結晶形ＡのＴＧＡ／ＤＳＣサーモグラムである。
図３は、実施例２におけるホノキオール結晶形ＡのＸＲＰＤパターンである。
図４は、実施例３におけるホノキオール結晶形ＡのＸＲＰＤパターンである。
図５は、実施例４におけるホノキオール結晶形ＡのＸＲＰＤパターンである。
図６は、実施例５におけるホノキオール結晶形ＡのＸＲＰＤパターンである。
図７は、実施例６におけるホノキオール結晶形ＡのＸＲＰＤパターンである。
図８は、実施例７におけるホノキオール結晶形ＡのＸＲＰＤパターンである。
図９は、実施例８におけるホノキオール結晶形ＡのＸＲＰＤパターンである。
図１０は、実施例９において、８０℃に加熱した直後に室温まで冷却した後に処理したホノキオール結晶形ＢのＸＲＰＤパターンである。
図１１は、実施例９において、８０℃に加熱した直後に室温まで冷却した後に処理したホノキオール結晶形ＢのＴＧＡ／ＤＳＣサーモグラムである。
図１２は、実施例１０において、８０℃に加熱して１時間保持し、次いで室温に冷却した後に処理したホノキオール結晶形ＢのＸＲＰＤパターンである。
図１３は、実施例１１において、８０℃に加熱して４時間保持し、次いで室温に冷却した後に処理したホノキオール結晶形ＢのＸＲＰＤパターンである。
図１４は、実施例１２において、８０℃に加熱して８時間保持し、次いで室温に冷却した後に処理したホノキオール結晶形ＢのＸＲＰＤパターンである。
図１５は、実施例１３において８２℃に加熱した直後に室温に冷却した後に処理したホノキオール結晶形ＢのＸＲＰＤパターンである。
図１６は、実施例１４において－８０℃で処理したホノキオール結晶形ＣのＸＲＰＤパターンである。
図１７は、実施例１４において－８０℃で処理したホノキオール結晶形ＣのＴＧＡ／ＤＳＣサーモグラムである。
図１８は、実施例１５において－１９６℃で処理したホノキオール結晶形ＣのＸＲＰＤパターンである。
図１９は、実施例１６において製造したホノキオール非晶質形のＸＲＰＤパターンである。
図２０は、日光に曝された後のホノキオール結晶形Ａ、ＢおよびＣの写真である。
図２１は、応力試験前のホノキオール結晶形ＡのＨＰＬＣパターンである。
図２２は、高温試験後のホノキオール結晶形ＡのＨＰＬＣパターンである。
図２３は、高湿度試験後のホノキオール結晶形ＡのＨＰＬＣパターンである。
図２４は、高光照射試験後のホノキオール結晶形ＡのＨＰＬＣパターンである。
図２５は、応力試験前のホノキオール結晶形ＢのＨＰＬＣパターンである。
図２６は、高温試験後のホノキオール結晶形ＢのＨＰＬＣパターンである。
図２７は、高湿度試験後のホノキオール結晶形ＢのＨＰＬＣパターンである。
図２８は、高光照射試験後のホノキオール結晶形ＢのＨＰＬＣパターンである。
図２９は、応力試験前のホノキオール結晶形ＣのＨＰＬＣパターンである。
図３０は、高温試験後のホノキオール結晶形ＣのＨＰＬＣパターンである。
図３１は、高湿度試験後のホノキオール結晶形ＣのＨＰＬＣパターンである。
図３２は、高光照射試験後のホノキオール結晶形ＣのＨＰＬＣパターンである。
〔例示的な実施形態の説明〕
以下の実施形態は本発明をさらに説明するものであり、実施例は本発明の範囲を限定するものではない。
本発明の実施例において使用される試薬は、当該分野における従来の試薬である。以下、特に断りのない限り、本発明で使用される試薬は当該分野で周知であるが、本発明では試薬を可能な限り詳細に説明する。
実施例で使用した原料およびホノキオール粉末の製造方法は、Journal ofChromatography A, 1142 (2007) 115-122に詳述されている。
実施例１：ｎ－ヘプタンを用いた再結晶によるホノキオール結晶形Ａの製造
２０１．２５ｍｇのホノキオール粉末を、８０℃でｎ－ヘプタンに完全に溶解し、次いで、溶液を別のビーカーに迅速に注ぎ、室温で一晩静置し、結晶をホノキオール結晶形Ａとして得、そのＸＲＰＤパターンを図１に示し、ＴＧＡ／ＤＳＣサーモグラムを図２に示した。
本実施例におけるホノキオール結晶形Ａの２θ値および強度の対応値を表１に示した：

実施例２：気固浸透によるホノキオール結晶形Ａの製造
約１５ｍｇのホノキオール粉末を３ｍＬのバイアルに秤量し、約３ｍＬのＮ－メチルピロリドンを別の２０ｍＬのバイアルに加え、３ｍＬの開封バイアルを２０ｍＬのバイアルに入れ、当該２０ｍＬのバイアルを密封した。２０ｍＬのバイアルを、試料の表面がわずかに濡れるまで室温で静置し、試料を遠心分離して、固体をホノキオール結晶形Ａとして回収した。得られた固体はＸＲＰＤ試験によって確認したところホノキオール結晶形Ａであり、そのＸＲＰＤパターンは図３に示され、ＴＧＡ／ＤＳＣサーモグラムは、実施例１で製造したホノキオール結晶形ＡのＴＧＡ／ＤＳＣサーモグラムと一致していた。
実施例３：気液浸透によるホノキオール結晶形Ａの製造
約１５ｍｇのホノキオール粉末を３ｍＬのバイアルに秤量し、０．５ｍＬの溶媒イソプロパノールに溶解し、０．４５μｍのＰＴＦＥ膜を通して濾過して透明な溶液を得た。別の２０ｍＬのバイアルに約３ｍＬの貧溶媒の水を加え、透明な溶液を入れた３ｍＬの開封バイアルを２０ｍＬのバイアルに入れ、次いで２０ｍＬのバイアルを密封し、室温で９日間静置した。試料を遠心分離して、固体をホノキオール結晶形Ａとして回収した。得られた固体はＸＲＰＤ試験によって確認したところホノキオール結晶形Ａであり、そのＸＲＰＤパターンは図４に示され、ＴＧＡ／ＤＳＣサーモグラムは、実施例１で製造されたホノキオール結晶形ＡのＴＧＡ／ＤＳＣサーモグラムと一致していた。
実施例４：室温での懸濁撹拌によるホノキオール結晶形Ａの製造
約１５ｍｇのホノキオール粉末を３ｍＬのバイアルに秤量し、０．３～０．５ｍＬのアセトニトリル／水（１：９）をバイアルに加えた。得られた懸濁液を４日間、室温での磁気撹拌に供した後、遠心分離して固体をホノキオール結晶形Ａとして回収した。得られた固体はＸＲＰＤ試験によって確認したところホノキオール結晶形Ａであり、そのＸＲＰＤパターンは図５に示されており、ＴＧＡ／ＤＳＣサーモグラムは実施例１で製造したホノキオール結晶形ＡのＴＧＡ／ＤＳＣサーモグラムと一致していた。
実施例５：５０℃での懸濁攪拌によるホノキオール結晶形Ａの製造
約１５ｍｇのホノキオール粉末を３ｍＬのバイアルに秤量し、０．５ｍＬのトリクロロメタン／ｎ－ヘプタン（１：９）をバイアルに加えた。得られた懸濁液を４日間、５０℃、１，０００ｒｐｍでの磁気撹拌に供し、遠心分離して固体をホノキオール結晶形Ａとして回収した。得られた固体はＸＲＰＤ試験によって確認したところホノキオール結晶形Ａであり、そのＸＲＰＤパターンは図６に示されており、ＴＧＡ／ＤＳＣサーモグラムは実施例１で製造したホノキオール結晶形ＡのＴＧＡ／ＤＳＣサーモグラムと一致していた。
実施例６：温度サイクルでの撹拌によるホノキオール結晶形Ａの製造
約１５ｍｇのホノキオール粉末を３ｍＬのバイアルに秤量し、０．５ｍＬのエタノール／水（１：９）をバイアルに加えた。得られた懸濁液を、温度サイクル（２サイクル：５０℃→５℃、０．１℃／ｍｉｎ、および５℃→５０℃、１．５℃／ｍｉｎ）および１，０００ｒｐｍで１６時間の磁気攪拌に供し、次いで、試料を遠心分離して、固体をホノキオール結晶形Ａとして回収した。得られた固体はＸＲＰＤ試験によって確認したところホノキオール結晶形Ａであり、そのＸＲＰＤパターンは図７に示され、ＴＧＡ／ＤＳＣサーモグラムは、実施例１で製造されたホノキオール結晶形ＡのＴＧＡ／ＤＳＣサーモグラムと一致していた。
実施例７：緩やかな揮発によるホノキオール結晶形Ａの製造
約１５ｍｇのホノキオール粉末を３ｍＬのバイアルに秤量し、１．０ｍＬのトリクロロメタンに溶解し、（孔径０．４５μｍのＰＴＦＥ膜を用いて）濾過し、次いで濾液を採取した。透明な溶液を含有するバイアルを密封膜を用いて密封し、当該密封膜上にいくつかの小孔を開け、バイアルを室温で静置して緩やかに揮発させて固体を分離し、次いで、遠心分離によって固体をホノキオール結晶形Ａとして回収した。得られた固体はＸＲＰＤ試験によって確認したところホノキオール結晶形Ａであり、そのＸＲＰＤパターンは図８に示され、ＴＧＡ／ＤＳＣサーモグラムは、実施例１で製造されたホノキオール結晶形ＡのＴＧＡ／ＤＳＣサーモグラムと一致していた。
実施例８：貧溶媒の添加によるホノキオール結晶形Ａの製造
約１５ｍｇのホノキオール粉末を３ｍＬのバイアルに秤量し、０．５～１．０ｍＬのエタノールに溶解し、磁気撹拌下でｎ－ヘプタンを加え、当該系は滴下しながら撹拌され、一晩静置した後、遠心分離して固体をホノキオール結晶形Ａとして回収した。得られた固体はＸＲＰＤ試験によって確認したところホノキオール結晶形Ａであり、そのＸＲＰＤパターンは図９に示され、ＴＧＡ／ＤＳＣサーモグラムは、実施例１で製造されたホノキオール結晶形ＡのＴＧＡ／ＤＳＣサーモグラムと一致していた。
実施例９：ホノキオール結晶形Ｂの製造
２００．７５ｍｇのホノキオール結晶形Ａを８０℃に加熱した後、試料を直ちに室温に置いて固体をホノキオール結晶形Ｂとして得、そのＸＲＰＤスペクトルを図１０に示し、ＴＧＡ／ＤＳＣサーモグラムを図１１に示した。
本実施例におけるホノキオール結晶形Ｂの２θ値および強度の対応値を表２に示した：
実施例１０：ホノキオール結晶形Ｂの製造
２００．６５ｍｇのホノキオール結晶形Ａを８０℃に加熱し、温度を１時間維持した後、試料を直ちに室温に置いて固体をホノキオール結晶形Ｂとして得、そのＸＲＰＤスペクトルを図１２に示し、ＴＧＡ／ＤＳＣサーモグラムは、実施例９で製造されたホノキオール結晶形ＢのＴＧＡ／ＤＳＣサーモグラムと一致していた。
本実施例におけるホノキオール結晶形Ｂの２θ値および強度の対応値を表３に示した：
実施例１１：ホノキオール結晶形Ｂの製造
２００．２５ｍｇのホノキオール結晶形Ａを８０℃に加熱し、温度を４時間維持した後、試料を直ちに室温に置いて固体をホノキオール結晶形Ｂとして得、そのＸＲＰＤスペクトルを図１３に示し、ＴＧＡ／ＤＳＣサーモグラムは、実施例９で製造したホノキオール結晶形ＢのＴＧＡ／ＤＳＣサーモグラムと一致していた。
本実施例におけるホノキオール結晶形Ｂの２θ値および強度の対応値を表４に示した：

実施例１２：ホノキオール結晶形Ｂの製造
２０１．２５ｍｇのホノキオール結晶形Ａを８０℃に加熱し、温度を８時間維持した後、試料を直ちに室温に置いて固体をホノキオール結晶形Ｂとして得、そのＸＲＰＤスペクトルを図１４に示し、ＴＧＡ／ＤＳＣサーモグラムは、実施例９で製造したホノキオール結晶形ＢのＴＧＡ／ＤＳＣサーモグラムと一致していた。
本実施例におけるホノキオール結晶形Ｂの２θ値および強度の対応値を表５に示した：
実施例１３：ホノキオール結晶形Ｂの製造
２００．１５ｍｇのホノキオール結晶形Ａを８２℃に加熱した後、試料を直ちに室温に置いて、固体をホノキオール結晶形Ｂとして得、そのＸＲＰＤスペクトルを図１５に示し、ＴＧＡ／ＤＳＣサーモグラムは、実施例９で製造したホノキオール結晶形ＢのＴＧＡ／ＤＳＣサーモグラムと一致していた。
本実施例におけるホノキオール結晶形Ｂの２θ値および強度の対応値を表６に示した：
実施例１４：ホノキオール結晶形Ｃの製造
１，００２．５ｍｇのホノキオール結晶形Ａをるつぼ内で８５℃で溶融状態に加熱し、次いで該るつぼを－８０℃の冷蔵庫に素早く入れ、一晩静置して、固体をホノキオール結晶形Ｃとして得、そのＸＲＰＤスペクトルを図１６に示し、ＴＧＡ／ＤＳＣサーモグラムを図１７に示した。
本実施例におけるホノキオール結晶形Ｃの２θ値および強度の対応値を表７に示した：
実施例１５：ホノキオール結晶形Ｃの製造
９９８．３ｍｇのホノキオール結晶形Ａをるつぼ内で８５℃で溶融状態に加熱し、次いで該るつぼを液体窒素（－１９６℃）中に素早く入れ、一晩静置して、固体をホノキオール結晶形Ｃとして得、そのＸＲＰＤスペクトルを図１８に示し、ＴＧＡ／ＤＳＣサーモグラムは、実施例１４で製造したホノキオール結晶形ＣのＴＧＡ／ＤＳＣサーモグラムと一致していた。
本実施例におけるホノキオール結晶形Ｃの２θ値および強度の対応値を表８に示した：
実施例１６：ホノキオール非晶質形の製造
約１５ｍｇのホノキオール結晶形Ａを２０ｍＬのバイアル中に秤量し、０．５～１．０ｍＬの溶媒ＤＭＳＯに溶解し、磁気攪拌下で貧溶媒のＨ２Ｏを加え、滴下しながら攪拌した。得られた溶液を遠心分離し、上清を廃棄した後、残ったものを室温で放置し、油状物を非晶質形として得、そのＸＲＰＤパターンを図１９に示した。
実施例１７：ホノキオール結晶形Ａ、ＢおよびＣについてのＴＧＡ／ＤＳＣ試験
熱重量分析（ＴＧＡ）：器具製造業者：ＭＥＴＴＬＥＲ－ＴＯＬＥＤＯ；器具モデル：ＴＧＡ／ＤＳＣ２／１６００；試験条件：３０～３５０℃の窒素雰囲気下で適正量の試作試料を採取し、１０℃／ｍｉｎの一定速度で温度を上昇させ、温度による物質の重量変化を測定し、重量－温度変化曲線－ＴＧＡ曲線をプロットする；
示差走査熱量計（ＤＳＣ）：器具製造業者：ＭＥＴＴＬＥＲ－ＴＯＬＥＤＯ；器具モデル：ＤＳＣ３＋／５００；試験条件：窒素雰囲気下、３０～１５０℃で適正量の試作試料を採取し、１０℃／ｍｉｎの一定速度で温度を上昇させ、試料のＤＳＣ曲線を決定する；および
ホノキオール結晶形Ａ、ＢおよびＣをそれぞれ室温から１５０℃に加熱する。
ホノキオール結晶形ＡのＴＧＡ結果は１．０％の重量減少を示し、ＤＳＣ結果は図２に示されるように、７８．１℃および８６．１℃（ピーク温度）で２つの吸熱シグナルを示す。
ホノキオール結晶形ＢのＴＧＡ結果は１．３％の重量減少を示し、ＤＳＣ結果は図１１に示されるように、８６．１℃（ピーク温度）で吸熱シグナルを示す。
ホノキオール結晶形ＣのＴＧＡ結果は９３．３％の重量減少を示し、ＤＳＣ結果は図１７に示されるように、８６．３℃（ピーク温度）で吸熱シグナルを示す。
実施例１８：ホノキオール結晶形Ａ、ＢおよびＣについての溶解度試験
薬剤の溶解度(solubility)は医薬品の溶解度(dissolution)および経口バイオアベイラビリティに直接影響を及ぼすため、本発明者はホノキオール結晶形Ａ、ＢおよびＣのＰＢＳへの溶解度を調べた。ホノキオール結晶形Ａ、ＢおよびＣのそれぞれの飽和溶液を調製し、３７℃で４時間振盪し、遠心分離し、次いで上清を高速液体クロマトグラフに供給した。同時に、ホノキオール標準溶液（供給源：中国食品薬品検定研究所(China Institutes for Food and Drug Control)、バッチ番号：１１０７３０－２０１９１５、ＩＤ：ＥＨ２Ｈ－ＢＭＴＷ）および外部標準法を定量に用いた。その結果、ホノキオール結晶形Ａの溶解度は４１．３５μｇ／ｍｌであり、ホノキオール結晶形Ｂの溶解度は４３．６６μｇ／ｍｌであり、ホノキオール結晶形Ｃの溶解度は４８．１２μｇ／ｍｌであった。
実施例１９：ホノキオール結晶形Ａ、ＢおよびＣについての光安定性試験
ホノキオール結晶形Ａ、Ｂ、およびＣをそれぞれ、ホノキオール結晶形Ａ、Ｂ、およびＣのそれぞれの安定性を調べるために、日光中で小型ビーカー中に静置した。日光への曝露後のホノキオール結晶形Ａ、Ｂ、およびＣの写真を図２０に示した。
実施例２０：ホノキオール結晶形Ａ、ＢおよびＣについての応力試験
ホノキオール結晶形Ａ、ＢおよびＣをそれぞれ高温（６０°Ｃ）、高湿（相対湿度９２．５％、２５°Ｃ）および高光照射（照度４５，００１ｘ±５，００１ｘ）下で処理し、メタノールで希釈し、ＨＰＬＣ試験により類縁物質の変化を調べた。
ホノキオール結晶形Ａの純度は、応力試験前は９９．８３％であり、高温試験後のホノキオール結晶形Ａの純度は９９．６３％であり；高湿度試験後のホノキオール結晶形Ａの純度は９９．６７％であり；高光照射試験後のホノキオール結晶形Ａの純度は９９．６４％であった。応力試験前のホノキオール結晶形ＡのＨＰＬＣパターンを図２１に、高温試験後のＨＰＬＣパターンを図２２に、高湿度試験後のＨＰＬＣパターンを図２３に、高光照射試験後のＨＰＬＣパターンを図２４に示した。
ホノキオール結晶形Ｂの純度は、応力試験前は９９．８８％であり、高温試験後のホノキオール結晶形Ｂの純度は９９．７０％であり；高湿度試験後のホノキオール結晶形Ｂの純度は９９．７０％であり；高光照射試験後のホノキオール結晶形Ｂの純度は９９．６０％であった。応力試験前のホノキオール結晶形ＢのＨＰＬＣパターンを図２５に、高温試験後のＨＰＬＣパターンを図２６に、高湿度試験後のＨＰＬＣパターンを図２７に、高光照射試験後のＨＰＬＣパターンを図２８に示した。
ホノキオール結晶形Ｃの純度は、応力試験前は９９．８６％であり、高温試験後のホノキオール結晶形Ｃの純度は９９．３６％であり；高湿度試験後のホノキオール結晶形Ｃの純度は９９．５９％であり；高光照射試験後のホノキオール結晶形Ｃの純度は９９．３１％であった。応力試験前のホノキオール結晶形ＣのＨＰＬＣパターンを図２９に、高温試験後のＨＰＬＣパターンを図３０に、高湿度試験後のＨＰＬＣパターンを図３１に、高光照射試験後のＨＰＬＣパターンを図３２に示した。
実施例２１：ホノキオールナノリポソーム凍結乾燥粉末の製造
ホノキオール結晶形Ａ、ＢおよびＣ、ならびに非晶質形の全てを用いて、同じ製造方法でホノキオールナノリポソーム凍結乾燥粉末を製造した。ホノキオール結晶形Ｂを例に挙げて、製造方法を以下に示した：
ホノキオール結晶形Ｂ５０ｍｇ、大豆リン脂質５００ｍｇ、コレステロール２００ｍｇおよび培養ホスファチジルエタノールアミン２００ｍｇを無水エタノール５０ｍＬに溶解し、完全に溶解した後、溶液を精製水３００ｍＬに注入し、攪拌し、ロータリーエバポレーションに供してエタノールを除去し、凍結乾燥賦形剤としてショ糖８００ｍｇを加え、凍結乾燥してホノキオールナノリポソーム凍結乾燥粉末を得る。凍結乾燥粉末を再構成した後、ホノキオールナノリポソームの粒径は、レーザー粒径分析器によって測定して１１４ｎｍであった。
図１は、実施例１におけるホノキオール結晶形ＡのＸＲＰＤパターンである。 図２は、実施例１におけるホノキオール結晶形ＡのＴＧＡ／ＤＳＣサーモグラムである。 図３は、実施例２におけるホノキオール結晶形ＡのＸＲＰＤパターンである。 図４は、実施例３におけるホノキオール結晶形ＡのＸＲＰＤパターンである。 図５は、実施例４におけるホノキオール結晶形ＡのＸＲＰＤパターンである。 図６は、実施例５におけるホノキオール結晶形ＡのＸＲＰＤパターンである。 図７は、実施例６におけるホノキオール結晶形ＡのＸＲＰＤパターンである。 図８は、実施例７におけるホノキオール結晶形ＡのＸＲＰＤパターンである。 図９は、実施例８におけるホノキオール結晶形ＡのＸＲＰＤパターンである。 図１０は、実施例９において、８０℃に加熱した直後に室温まで冷却した後に処理したホノキオール結晶形ＢのＸＲＰＤパターンである。 図１１は、実施例９において、８０℃に加熱した直後に室温まで冷却した後に処理したホノキオール結晶形ＢのＴＧＡ／ＤＳＣサーモグラムである。 図１２は、実施例１０において、８０℃に加熱して１時間保持し、次いで室温に冷却した後に処理したホノキオール結晶形ＢのＸＲＰＤパターンである。 図１３は、実施例１１において、８０℃に加熱して４時間保持し、次いで室温に冷却した後に処理したホノキオール結晶形ＢのＸＲＰＤパターンである。 図１４は、実施例１２において、８０℃に加熱して８時間保持し、次いで室温に冷却した後に処理したホノキオール結晶形ＢのＸＲＰＤパターンである。 図１５は、実施例１３において８２℃に加熱した直後に室温に冷却した後に処理したホノキオール結晶形ＢのＸＲＰＤパターンである。 図１６は、実施例１４において－８０℃で処理したホノキオール結晶形ＣのＸＲＰＤパターンである。 図１７は、実施例１４において－８０℃で処理したホノキオール結晶形ＣのＴＧＡ／ＤＳＣサーモグラムである。 図１８は、実施例１５において－１９６℃で処理したホノキオール結晶形ＣのＸＲＰＤパターンである。 図１９は、実施例１６において製造したホノキオール非晶質形のＸＲＰＤパターンである。 図２０は、日光に曝された後のホノキオール結晶形Ａ、ＢおよびＣの写真である。 図２１は、応力試験前のホノキオール結晶形ＡのＨＰＬＣパターンである。 図２２は、高温試験後のホノキオール結晶形ＡのＨＰＬＣパターンである。 図２３は、高湿度試験後のホノキオール結晶形ＡのＨＰＬＣパターンである。 図２４は、高光照射試験後のホノキオール結晶形ＡのＨＰＬＣパターンである。 図２５は、応力試験前のホノキオール結晶形ＢのＨＰＬＣパターンである。 図２６は、高温試験後のホノキオール結晶形ＢのＨＰＬＣパターンである。 図２７は、高湿度試験後のホノキオール結晶形ＢのＨＰＬＣパターンである。 図２８は、高光照射試験後のホノキオール結晶形ＢのＨＰＬＣパターンである。 図２９は、応力試験前のホノキオール結晶形ＣのＨＰＬＣパターンである。 図３０は、高温試験後のホノキオール結晶形ＣのＨＰＬＣパターンである。 図３１は、高湿度試験後のホノキオール結晶形ＣのＨＰＬＣパターンである。 図３２は、高光照射試験後のホノキオール結晶形ＣのＨＰＬＣパターンである。

Claims (17)

  1. ホノキオール結晶形ＡのＸ線粉末回折パターンが、Ｃｕ－Ｋα放射線下で、６．７９°±０．２°、９．１０°±０．２°、１３．９７°±０．２°、１４．９７°±０．２°および１７．５４°±０．２°の２θ値に特徴的なピークを含む、ホノキオール結晶形Ａ。
  2. 前記ホノキオール結晶形ＡのＸ線粉末回折パターンが、Ｃｕ－Ｋα放射線下で、６．７９°±０．２°、９．１０°±０．２°、１３．９７°±０．２°、１４．９７°±０．２°、１７．５４°±０．２°、２０．６１°±０．２°、２２．０８°±０．２°および２４．０１°±０．２°の２θ値に特徴的なピークを含む、請求項１に記載のホノキオール結晶形Ａ。
  3. 以下を含む、請求項１または２に記載のホノキオール結晶形Ａの製造方法：
    方法Ｉ：再結晶によるホノキオール結晶形Ａの製造
    ホノキオールを７８℃～８５℃で有機溶媒に溶解してホノキオール溶液を得、当該ホノキオール溶液を別の容器に急速に注ぎ、室温で一晩静置し、遠心分離して固体をホノキオール結晶形Ａとして回収し、
    前記有機溶媒は、ｎ－ヘプタン、石油エーテル、シクロヘキサン、ｎ－ヘキサン、トルエン、ＤＣＭ、ＤＭＳＯ、ＮＭＰ、トリクロロメタン、メタノール／水、またはエタノール／水である；
    方法ＩＩ：気固浸透によるホノキオール結晶形Ａの製造
    ホノキオールを容器に入れ、次いで、別の容器に有機溶媒を加え、ホノキオールを含む開封容器を、有機溶媒を含む前記容器に入れ、密封して室温で静置し、遠心分離して固体をホノキオール結晶形Ａとして回収し、
    前記有機溶媒は、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、メチルｔｅｒｔ－ブチルエーテル、トリクロロメタン、Ｎ－メチルピロリドン、エタノールまたはアセトニトリルである；
    方法ＩＩＩ：気液浸透によるホノキオール結晶形Ａの製造
    ホノキオールを容器に入れ、溶媒に溶解し、ろ過して透明なホノキオール溶液を得、別の容器に貧溶媒を加え、透明なホノキオール溶液を含む開封容器を、貧溶媒を含む前記容器に入れ、密封して室温で静置し、遠心分離して固体をホノキオール結晶形Ａとして回収し、
    前記溶媒は、エタノール、テトラヒドロフラン、トリクロロメタン、酢酸エチルまたはイソプロパノールであり、かつ、前記貧溶媒は、ｎ－ヘキサンまたは水である；
    方法ＩＶ：室温での懸濁撹拌によるホノキオール結晶形Ａの製造
    ホノキオールを容器に入れ、有機溶媒を加えて懸濁液を得、得られた懸濁液を室温での磁気撹拌に供し、遠心分離して固体をホノキオール結晶形Ａとして回収し、
    前記有機溶媒は、メタノール／水、アセトニトリル／水、アセトン／水、またはジクロロメタン／ｎ－ヘキサンである；
    方法Ｖ：４０～６０℃での懸濁撹拌によるホノキオール結晶形Ａの製造
    ホノキオールを容器に入れ、有機溶媒を加えて懸濁液を得、得られた懸濁液を４０～６０℃での磁気撹拌に供し、遠心分離して固体をホノキオール結晶形Ａとして回収し、
    前記有機溶媒は、ｎ－ヘプタン、Ｔｗｅｅｎ／ｎ－ヘプタン、トリクロロメタン／ｎ－ヘプタン、またはイソプロパノール／水である；
    方法ＶＩ：温度サイクルでの撹拌によるホノキオール結晶形Ａの製造
    ホノキオールを容器に入れ、有機溶媒を加えて懸濁液を得、得られた懸濁液を温度サイクルでの磁気撹拌に供し、遠心分離して固体をホノキオール結晶形Ａとして回収し、
    前記温度サイクルは、６０℃→５℃、０．１℃／ｍｉｎ、および５℃→６０℃、１．５℃／ｍｉｎの２サイクル、好ましくは５０℃→５℃、０．１℃／ｍｉｎ、および５℃→５０℃、１．５℃／ｍｉｎの２サイクルを含み、
    前記有機溶媒は、ｎ－ヘプタン、エタノール／水、アセトン／水、テトラヒドロフラン／水、アセトニトリル／水、酢酸エチル／ｎ－ヘプタン、メチルｔｅｒｔ－ブチルエーテル／ｎ－ヘキサン、またはメチルイソブチルケトン／ｎ－ヘキサンである；
    方法ＶＩＩ：緩やかな揮発によるホノキオール結晶形Ａの製造
    ホノキオールを容器に入れ、有機溶媒に溶解し、ろ過してろ液を採取し、前記ろ液を含む容器を密封膜を用いて密封し、前記密封膜上に小孔を開け、室温で静置して緩やかに揮発させ、遠心分離して固体をホノキオール結晶形Ａとして回収し、
    前記有機溶媒は、トリクロロメタン、ジクロロメタン、メタノール、イソプロパノール、またはメチルイソブチルケトンである；および
    方法ＶＩＩＩ：貧溶媒の添加によるホノキオール結晶形Ａの製造
    ホノキオールを容器に入れ、溶媒に溶解し、磁気攪拌下で貧溶媒を滴下しながら添加し、静置し、遠心分離して固体をホノキオール結晶形Ａとして回収し、
    前記溶媒は、エタノール、アセトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、メチルｔｅｒｔ－ブチルエーテル、アセトニトリル、ジクロロメタン、またはトリクロロメタンであり、かつ、貧溶媒は、ｎ－ヘプタンまたは水である。
  4. ホノキオール結晶形ＢのＸ線粉末回折パターンが、Ｃｕ－Ｋα放射線下で、６．１５°±０．２°、６．７６°±０．２°、８．９６°±０．２°および１５．９０°±０．２°の２θ値に特徴的なピークを含む、ホノキオール結晶形Ｂ。
  5. 前記ホノキオール結晶形ＢのＸ線粉末回折パターンが、Ｃｕ－Ｋα放射線下で、６．１５°±０．２°、６．７６°±０．２°、８．９６°±０．２°、１５．９０°±０．２°、１７．４９°±０．２°および１８．５５°±０．２°の２θ値に特徴的なピークを含む、請求項４に記載のホノキオール結晶形Ｂ。
  6. 請求項１または２に記載のホノキオール結晶形Ａを８０℃～８２℃に加熱し、次いで室温に冷却することにより、固体をホノキオール結晶形Ｂとして得る工程を含む、請求項４または５に記載のホノキオール結晶形Ｂの製造方法。
  7. ホノキオール結晶形ＣのＸ線粉末回折パターンが、Ｃｕ－Ｋα放射線下で、１４．０４°±０．２°、１５．８４°±０．２°、１７．４２°±０．２°および１９．４８°±０．２°の２θ値に特徴的なピークを含む、ホノキオール結晶形Ｃ。
  8. 前記ホノキオール結晶形ＣのＸ線粉末回折パターンが、Ｃｕ－Ｋα放射線下で、１４．０４°±０．２°、１５．８４°±０．２°、１７．４２°±０．２°、１９．４８°±０．２°、２１．２６°±０．２°、２３．１０°±０．２°および２４．０６°±０．２°の２θ値に特徴的なピークを含む、請求項７に記載のホノキオール結晶形Ｃ。
  9. 以下の工程を含む、請求項７または８に記載のホノキオール結晶形Ｃの製造方法：
    （１）請求項１または２に記載のホノキオール結晶形Ａを８３℃～１００℃で溶融状態に加熱し、攪拌する工程；および
    （２）工程（１）で得られた溶融物を－２０℃～－１９６℃の急冷温度に直ちに置いて、結晶をホノキオール結晶形Ｃとして分離する工程。
  10. 前記工程（２）における急冷温度が－８０℃～－１９６℃である、請求項９に記載の方法。
  11. ホノキオール非晶質形が、図１９に示されるようなＸ線粉末回折パターンを有する、ホノキオール非晶質形。
  12. 以下の工程を含む、請求項１１に記載のホノキオール非晶質形の製造方法：
    （１）請求項１または２に記載のホノキオール結晶形ＡをＤＭＳＯを用いて溶解させる工程；
    （２）工程（１）で得られた溶液に貧溶媒の水を加え、撹拌する工程；および
    （３）遠心分離し、上清を廃棄し、室温で静置して、油状物をホノキオール非晶質形として得る工程。
  13. 治療有効量の請求項１もしくは２に記載のホノキオール結晶形Ａ、請求項４もしくは５に記載のホノキオール結晶形Ｂ、請求項７もしくは８に記載のホノキオール結晶形Ｃ、または請求項１１に記載のホノキオール非晶質形、および医薬賦形剤を含む、医薬組成物または医薬品。
  14. 治療有効量の請求項１もしくは２に記載のホノキオール結晶形Ａ、請求項４もしくは５に記載のホノキオール結晶形Ｂ、請求項７もしくは８に記載のホノキオール結晶形Ｃ、または請求項１１に記載のホノキオール非晶質形を含む、ホノキオールナノリポソーム凍結乾燥粉末。
  15. ホノキオール結晶形Ａ、ホノキオール結晶形Ｂ、ホノキオール結晶形Ｃもしくはホノキオール非晶質形、リン脂質、ホスファチジルエタノールアミンおよびコレステロールを無水エタノールに溶解し、完全に溶解した溶液を精製水に注入し、攪拌し、ロータリーエバポレーションに供してエタノールを除去し、凍結乾燥賦形剤を添加し、凍結乾燥してホノキオールナノリポソーム凍結乾燥粉末を得る工程を含む、請求項１４に記載のホノキオールナノリポソーム凍結乾燥粉末の製造方法。
  16. 腫瘍を治療するための医薬の製造における、請求項１もしくは２に記載のホノキオール結晶形Ａ、請求項４もしくは５に記載のホノキオール結晶形Ｂ、請求項７もしくは８に記載のホノキオール結晶形Ｃ、または請求項１１に記載のホノキオール非晶質形の使用。
  17. 抗菌剤、抗酸化剤、抗不安剤、抗うつ剤または抗血栓剤の製造における、請求項１もしくは２に記載のホノキオール結晶形Ａ、請求項４もしくは５に記載のホノキオール結晶形Ｂ、請求項７もしくは８に記載のホノキオール結晶形Ｃ、または請求項１１に記載のホノキオール非晶質形の使用。
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