JP2024077451A - 光学装置、変位量測定装置、入力装置、および振動モニタリング装置 - Google Patents
光学装置、変位量測定装置、入力装置、および振動モニタリング装置 Download PDFInfo
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Abstract
【課題】変位量測定装置の小型化、および、変位量測定装置による被測定物の微小変位量の高精度な検出を実現すること。【解決手段】光学装置は、光源から発せられたコヒーレント光の被測定物による反射光を反射する第1の凹曲面を有する第1の軸外し反射手段と、第1の軸外し反射手段と対向配置され、第1の凹曲面によって反射された反射光を反射する第2の凹曲面を有する第2の軸外し反射手段と、第1の軸外し反射手段と第2の軸外し反射手段との間において、互いに対向配置された一対の集光手段と、一対の集光手段の間における反射光の焦点に設けられ、反射光における空間領域の一部を抽出する微小開口部とを備える。【選択図】図5
Description
本発明は、光学装置、変位量測定装置、入力装置、および振動モニタリング装置に関する。
下記非特許文献1には、被測定物の微小変位量を計測する目的で、スペックルパターンをイベントベースビジョンセンサにより取得し、スペックルパターン画像を生成した上で画像処理を施すことで、被測定物の微小変位量を測定する技術が開示されている。
しかしながら、従来のイベントベースビジョンセンサを用いた変位量測定装置は、被測定物の微小変位量を計測する方法として、被測定物による反射光の干渉により形成されるスペックルパターンのシフト量を検出する方式を採用しているため、生体組織のように光が内部に浸透する物体を被測定物とした場合、被測定物による反射光に含まれる内部散乱光の影響により、スペックルパターンのシフト量の検出精度が低下するという問題があった。
また、従来のイベントベースビジョンセンサを用いた変位量測定装置は、比較的大型な据え置き型であるため、可搬性を有する装置形態(小型軽量、ウェアラブル、手持ち利用可能等)での実施が困難であった。
本発明は、上述した従来技術の課題を解決するため、変位量測定装置の小型化、および、変位量測定装置による被測定物の微小変位量の高精度な検出を実現することを目的とする。
上述した課題を解決するために、一実施形態に係る光学装置は、光源から発せられたコヒーレント光の被測定物による反射光を反射する第1の凹曲面を有する第1の軸外し反射手段と、第1の軸外し反射手段と対向配置され、第1の凹曲面によって反射された反射光を反射する第2の凹曲面を有する第2の軸外し反射手段と、第1の軸外し反射手段と第2の軸外し反射手段との間において、互いに対向配置された一対の集光手段と、一対の集光手段の間における反射光の焦点に設けられ、反射光における空間領域の一部を抽出する微小開口部とを備える。
一実施形態に係る光学装置によれば、変位量測定装置の小型化、および、変位量測定装置による被測定物の微小変位量の高精度な検出を実現することができる。
以下、図面を参照して、一実施形態について説明する。
(変位量測定装置100の全体構成)
図1は、一実施形態に係る変位量測定装置100の全体構成を示す図である。図1に示す変位量測定装置100は、被測定物10(例えば、人間の手)に対してコヒーレント光を照射し、被測定物10からの反射光に基づいて干渉像を形成し、形成された干渉像の瞬時強度変化を示すイベントデータ群に基づいて、被測定物10の微小な変位量を測定することができる装置である。変位量測定装置100によって測定された被測定物10の微小な変位量は、利用者への表示、外部被制御装置20の制御等に用いられる。
図1は、一実施形態に係る変位量測定装置100の全体構成を示す図である。図1に示す変位量測定装置100は、被測定物10(例えば、人間の手)に対してコヒーレント光を照射し、被測定物10からの反射光に基づいて干渉像を形成し、形成された干渉像の瞬時強度変化を示すイベントデータ群に基づいて、被測定物10の微小な変位量を測定することができる装置である。変位量測定装置100によって測定された被測定物10の微小な変位量は、利用者への表示、外部被制御装置20の制御等に用いられる。
図1に示すように、変位量測定装置100は、光源110(「投光手段」と呼ぶ場合もある)、光学装置120、光位置検出手段130、および情報処理部150を備える。
光源110は、被測定物10に照射されるコヒーレント光を発する。光源110は、被測定物10による反射光による干渉像を、光位置検出手段130の受光面上に形成できるようにするために、コヒーレンスの高いレーザ光源が用いられることが好ましい。光源110としては、例えば、レーザダイオード(LD)、垂直共振器型面発光レーザ(VCSEL)、小型のガスレーザ等を用いることができる。
光学装置120は、光源110から発せられたコヒーレント光を、被測定物10に導く。そして、光学装置120は、被測定物10による反射光(すなわち、被測定物10によって反射されたコヒーレント光)から干渉像を形成する。さらに、光学装置120は、形成された干渉像を光位置検出手段130に導く。特に、光学装置120は、変位量測定装置100の小型化、および、変位量測定装置100による被測定物10の微小変位量の高精度な検出を実現できるように構成されている。なお、光学装置120の詳細な構成については、図5を用いて詳述する。
光位置検出手段130は、光学装置120によって形成された干渉像の瞬時強度変化を検知する。本実施形態では、光位置検出手段130として、干渉像の瞬時強度変化を検知することが可能な、イベントベースビジョンセンサまたはイベントベースビジョンセンサを搭載したイベントベースカメラを用いている。そして、光位置検出手段130は、検知された干渉像の瞬時強度変化を示すイベントデータ群を出力する。イベントデータ群とは、デジタル化された数値データ列であり、一定以上の輝度変化が生じた画素に関し、時刻(T)、イベント発生画素位置(X,Y)、および輝度変化の極性(P)を含む信号の時系列データ群である。なお、イベントベースビジョンセンサの詳細については、図2を用いて後述する。なお、「干渉像の瞬時強度変化を検知する」とは、極めて短時間且つ極めて高速に干渉像の輝度の強度変化を検知することである。
光学装置120によって形成される干渉像の一例として、被測定物10の表面の粗さに起因したランダムな干渉像である、スペックル像が用いられる。スペックル像は、光の波動としての特性を反映したものであり、被測定物10の動きに対して極めて鋭敏にその像の輝度分布を変化させる。すなわち、スペックル像は、被測定物10の微小な変位を光位置検出手段130における撮像面で捉えられるレベルに感度をスケール変換したものとなっている。本実施形態では、光位置検出手段130に高速なフレームレートを有するイベントベースビジョンセンサを用いたことにより、鋭敏に変化するスペックル像を高速に取得し、被測定物10の微小な変位を確実に捉えることができる。
情報処理部150は、イベントデータ群取得手段151、データ記憶手段152、干渉像変位量計量手段153、被測定物変位量推定手段154、表示手段155、および伝送手段156を有する。
イベントデータ群取得手段151は、光位置検出手段130から出力されるイベントデータ群を取得する。
データ記憶手段152は、イベントデータ群取得手段151によって取得されたイベントデータ群を一時的に格納するバッファとして機能する。
干渉像変位量計量手段153は、データ記憶手段152に記憶されたイベントデータ群(第1のイベントデータ群)と、イベントデータ群取得手段151によって新たに取得されたイベントデータ群(第2のイベントデータ群)とに基づいて、干渉像における変位量を計量する。具体的には、干渉像変位量計量手段153は、第1のイベントデータ群および第2のイベントデータ群の各々をフレーム行列化することにより、2つのフレーム行列を生成する。各フレーム行列は、フレーム画像と同等である。そして、干渉像変位量計量手段153は、2つのフレーム行列の間の相互相関関数を算出し、相関ピーク値が最大値を示す相関ピーク座標(イベントベースビジョンセンサの画素単位の座標)を、干渉像における変位量として取得する。
被測定物変位量推定手段154は、干渉像変位量計量手段153によって取得された相関ピーク座標を、被測定物10の実空間における長さである実変位量に変換する。
表示手段155は、被測定物変位量推定手段154によって得られた実変位量を表示する。
伝送手段156は、被測定物変位量推定手段154によって推定された実変位量を、任意の通信手段(有線通信手段または無線通信手段)によって、外部被制御装置20に伝送する。これにより、外部被制御装置20は、被測定物変位量推定手段154によって推定された実変位量に応じた処理を実行することができる。
なお、情報処理部150の各機能は、一又は複数の処理回路によって実現することが可能である。ここで、本明細書における「処理回路」とは、電子回路により実装されるプロセッサのようにソフトウェアによって各機能を実行するようプログラミングされたプロセッサや、上記で説明した各機能を実行するよう設計されたASIC(Application Specific Integrated Circuit)、DSP(digital signal processor)、FPGA(field programmable gate array)や従来の回路モジュール等のデバイスを含むものとする。
(光位置検出手段130によるイベントデータの出力例)
図2は、一実施形態に係る変位量測定装置100が備える光位置検出手段130によるイベントデータの出力例を示す図である。
図2は、一実施形態に係る変位量測定装置100が備える光位置検出手段130によるイベントデータの出力例を示す図である。
図2(a)および図2(b)は、イベントベースビジョンセンサの受光面上に形成されるスペックル像の一例を示す図である。但し、図2(a)は、時刻tにおけるスペックル像200Aを示す。また、図2(b)は、時刻t+Δtにおけるスペックル像200Bを示す。図2(c)は、光位置検出手段130によって出力されるイベントデータの一例であり、図2(a)に示すスペックル像と、図2(b)に示すスペックル像とに基づいて生成されるイベントデータ210である。
光位置検出手段130が有するイベントベースビジョンセンサは、2次元配列された画素集合において、輝度変化が所定の閾値を超えた画素が検出されたとき(すなわち、イベント発生時)、その時刻(T)と、画素位置(X,Y)と、輝度変化の極性(P)とを含む信号を出力する光検出素子である。極性(P)は、「1:増加」または「0:減少」の2値を採り得る。
例えば、図2(a)に示す時刻tにおけるスペックル像200Aが、Δt後に、図2(b)に示す時刻t+Δtにおけるスペックル像200Bへと、水平方向に並進した場合、時刻t+Δtにおけるイベントベースビジョンセンサの輝度変化の極性は、図2(c)のイベントデータ210に示すように、輝度値が一定値以上の増加した増加成分210A(図中薄い網掛けがなされた領域)と、輝度値が一定値以上の減少した減少成分210B(図中濃い網掛けがなされた領域)とを有して、空間的に分布する。
この場合、イベントベースビジョンセンサは、増加成分210A内の全ての画素に関し、信号検出の時刻(T)、画素位置(X,Y)、および極性(1:増加)を含む信号の時系列データ群を出力する。また、イベントベースビジョンセンサは、減少成分210B内の全ての画素について、信号検出の時刻(T)、画素位置(X,Y)、および極性(0:減少)を含む信号の時系列データ群を出力する。この際、イベントベースビジョンセンサは、増加成分210Aおよび減少成分210Bの領域のいずれにも該当しない他の領域(図中網掛けが成されていない領域)の全ての画素について、データ出力を行わない。このため、イベントベースビジョンセンサから出力されるイベントデータ210は、フレーム画像データと比較して極めてデータ量が少ない。
このように、イベントベースビジョンセンサは、フレームレートによる制約がなく、フレーム画像データを出力するイメージセンサと比較して、高速にスペックル像のシフト情報を、イベントデータとして出力することができる。
例えば、イベントベースビジョンセンサは、センサ面内の全イベントデータのサンプリング時間は1~200us程度であり、通常のビデオカメラなどのフレームレートに対して極めて高速である。したがって、光位置検出手段130が有するイベントベースビジョンセンサは、被測定物10の変位に対して鋭敏に変化するスペックル像のシフト量を、高速且つ確実に検知することができる。
(光位置検出手段130による取得画像の比較例)
図3は、一実施形態に係る変位量測定装置100が備える光位置検出手段130(イベントベースビジョンセンサ)によって取得される画像と、従来のイメージセンサによって取得される画像との比較例を示す図である。
図3は、一実施形態に係る変位量測定装置100が備える光位置検出手段130(イベントベースビジョンセンサ)によって取得される画像と、従来のイメージセンサによって取得される画像との比較例を示す図である。
図3(a)に示す画像310は、従来のイメージセンサによって撮像された画像の一例である。図3(b)に示す画像320は、光位置検出手段130(イベントベースビジョンセンサ)によって再構成された画像の一例である。いずれも、被測定物10として人の手の甲にHeNeレーザを照射し、その反射光による画像を取得したものである。
図3(a)に示すように、従来のイメージセンサによって撮像された画像310は、一定のフレームレートで撮影したスペックル像であるが、手の震えによりスペックルが高速に移動し、さらには急峻にその空間分布が変化するために、フレームレート内の露光時間によりスペックル粒子がなまり、すなわちモーションブラーのために、十分なコントラストが得られていない。
一方、図3(b)に示すように、光位置検出手段130(イベントベースビジョンセンサ)によって再構成された画像320は、イベントベースビジョンセンサにより取得したイベントデータを、従来のイメージセンサの露光時間よりも十分に短い時間で積算し、フレーム画像化したものである。このように、一実施形態に係る変位量測定装置100は、光位置検出手段130にイベントベースビジョンセンサを用いたことにより、被測定物10の変位や揺らぎがある環境下であっても、高いコントラストを有するスペックル粒子を取得できる。
(干渉像変位量計量手段153による変位量の推定方法)
図4は、一実施形態に係る変位量測定装置100が備える干渉像変位量計量手段153による変位量の推定方法を説明するための図である。
図4は、一実施形態に係る変位量測定装置100が備える干渉像変位量計量手段153による変位量の推定方法を説明するための図である。
図4(a)および図4(b)は、イベントベースビジョンセンサから出力されたイベントデータに基づいて生成されたフレーム画像である。但し、図4(a)は、時刻tにおけるフレーム画像400Aを示す。また、図4(b)は、時刻t+Δtsにおけるフレーム画像400Bを示す。なお、フレーム画像400A,400Bでは、輝度値が一定値以上増加した増加成分410のみを示している。また、図4(c)は、フレーム画像400A,400Bに基づいて算出された相互相関関数の一例を示す。
まず、干渉像変位量計量手段153は、イベントベースビジョンセンサの時系列データから図4(a)のようなフレーム画像400Aを得るために、単位フレームを算出する積算時間を設定し、画像を表す2次元行列を用意し、積算時間内に画素位置に対応する行列番号が出現する回数をカウントする。
次に、干渉像変位量計量手段153は、図4(b)に示すように、図4(a)のフレーム画像400Aの時刻、例えば、積算開始時刻(t)よりΔtsだけ離れた時間を積算の開始点として、同様に積分時間内に出現する行列番号の出現回数をカウントする。
図4(b)のフレーム画像400Bにおける点線は、図4(a)のフレーム画像400Aのパターンを示しており、これらのパターンは、図4(b)のフレーム画像400Bにおいては、薄い網掛けで示す位置に並進している。
次に、干渉像変位量計量手段153は、フレーム画像400Aとフレーム画像400Bとの間の相互相関関数(図4(c)参照)を算出する。
図4(c)に示すように、相関関数の変数、すなわち変位量をΔX軸、ΔY軸とした場合に、スペックルパターンの並進量に対応した距離および位置(画像上のピクセル変位量)に相互相関関数のピーク値が得られる。例えば、干渉像変位量計量手段153は、フレーム画像400A,400BのいずれかをX軸方向およびY軸方向にずらして画像の重なり領域について積算することで、図4(c)に示す相互相関関数を算出できる。
また、干渉像変位量計量手段153における相互相関関数の算出に、フレーム画像400A,400Bをフーリエ変換して、一方の複素共役を他方に乗じた後に、逆フーリエ変換を施すことにより算出する方法(ウィーナー=ヒンチンの定理)を用いることもできる。
また、干渉像変位量計量手段153は、上述のウィーナー=ヒンチンの定理にもとづく方法をさらに発展させた方法として、位相限定相関法を用いてもよい。位相限定相関法とは、2つのフレーム画像をフーリエ変換した複素データについて、各画素の振幅値を算出し、その値で規格化した値を改めて画素値とし(すなわち、輝度情報を平滑化することで相関を取得する対象をフーリエ空間上の位相情報のみに限定し)、フーリエ空間における2つの規格化したデータに対して、一方の複素共役を他方に乗じたのちに、逆フーリエ変換を施し、上述の相互相関関数と同等のピーク値を取得する方法である。位相限定相関法を用いると、輝度情報を平滑化することで相互相関関数の関数形状を、よりシャープな(デルタ関数に近い)形状のものに変換することができ、変位量の位置推定精度が向上する。また、所定の関数でフィッティングをかけることにより、1ピクセル以下の分解能で変位量のピーク位置を推定することも可能になる。
(光学装置120の構成の一例(第1例))
図5は、一実施形態に係る変位量測定装置100が備える光学装置120の構成の一例(第1例)を示す図である。図5に示す光学装置120-1は、光学装置120の構成の第1例を有するものである。
図5は、一実施形態に係る変位量測定装置100が備える光学装置120の構成の一例(第1例)を示す図である。図5に示す光学装置120-1は、光学装置120の構成の第1例を有するものである。
なお、以降の説明においては、リレー光学系の間の光軸と一致する方向を第1の方向(図中X軸方向)とし、リレー光学系の間の光軸と直交する方向を第2の方向(図中Y軸方向)とする。
図5に示すように、光学装置120-1は、第1の軸外し反射手段121、第2の軸外し反射手段122、第1の集光手段123、第2の集光手段124、微小開口部125、および光分岐素子126を備える。
第1の軸外し反射手段121、第2の軸外し反射手段122、第1の集光手段123、第2の集光手段124、および微小開口部125は、第1の方向(図中、X軸方向)に並べて配置されており、「リレー光学系」を構成する。また、第1の集光手段123、第2の集光手段124、および微小開口部125は、いわゆる「空間フィルタ」を構成する。
第1の軸外し反射手段121および第2の軸外し反射手段122は、互いに対向配置された「一対の軸外し反射手段」の一例である。なお、「軸外し反射手段」とは、光線を入射方向とは異なる方向に反射することによって、光線の光軸方向を異ならせるものを意味する。
第1の軸外し反射手段121は、被測定物10よりも第2の方向側(図中Y軸正側)に設けられている。第1の軸外し反射手段121は、光源110から発せられたコヒーレント光の被測定物10による反射光を反射する第1の凹曲面121Aを有する。具体的には、第1の凹曲面121Aは、被測定物10側(図中Y軸負側)から入射された反射光を、第2の軸外し反射手段122側(図中X軸正側)に直角に(すなわち、90度)反射する。第1の凹曲面121Aによる反射光は、第2の軸外し反射手段122側(図中X軸正側)に進行する平行光となる。なお、第1の凹曲面121Aは、焦点距離となる位置に被測定物10が位置するように、被測定物10から第2の方向(図中Y軸方向)に離れた位置に設けられている。
第2の軸外し反射手段122は、第1の方向(図中X軸方向)において、第1の軸外し反射手段121と対向配置されている。第2の軸外し反射手段122は、第1の凹曲面121Aによって反射された反射光を反射する第2の凹曲面122Aを有する。具体的には、第2の凹曲面122Aは、第1の軸外し反射手段121側(図中X軸負側)から入射された反射光(すなわち、平行光)を、光位置検出手段130側(図中Y軸正側)に直角に(すなわち、90度)反射する。第2の凹曲面122Aによる反射光は、光位置検出手段130の受光面において結像する円錐状のものとなる。なお、第2の凹曲面122Aは、焦点距離の近傍となる位置に光位置検出手段130が位置するように、光位置検出手段130から第2の方向(図中Y軸方向)に離れた位置に設けられている。
なお、本実施形態では、第1の凹曲面121Aおよび第2の軸外し反射手段122による反射光の反射角度を90°としているが、その他の反射角度であってもよい。
第1の集光手段123および第2の集光手段124は、互いに対向配置された「一対の集光手段」の一例である。
第1の集光手段123および第2の集光手段124は、第1の軸外し反射手段121と第2の軸外し反射手段122との間における反射光の光軸上において、互いに対向配置されている。なお、一対の集光レンズの間隔は、第1の集光手段123の焦点距離と、第2の集光手段124の焦点距離との合計と等しい。
第1の集光手段123は、第1の軸外し反射手段121側(図中X軸負側)に設けられている。第1の集光手段123は、第1の軸外し反射手段121側(図中X軸負側)の面から入射された光を屈折して、第2の軸外し反射手段122側(図中X軸正側)の面から出射する。第2の軸外し反射手段122側(図中X軸正側)の面から出射する光は、焦点FPにて集光する。第1の集光手段123としては、例えば、凸レンズが用いられる。
第2の集光手段124は、第2の軸外し反射手段122側(図中X軸正側)に設けられている。第2の集光手段124は、第1の軸外し反射手段121側(図中X軸負側)の面から入射された光を屈折して、第2の軸外し反射手段122側(図中X軸正側)の面から出射する。第2の軸外し反射手段122側(図中X軸正側)の面から出射する光は、平行光となる。第2の集光手段124としては、例えば、凸レンズが用いられる。
微小開口部125は、一対の集光手段(第1の集光手段123および第2の集光手段124)の間における反射光の焦点FPに設けられ、反射光の一部が通過することにより、反射光における空間領域の一部を抽出する。すなわち、微小開口部125は、第1の集光手段123の焦点距離となり、且つ、第2の集光手段124の焦点距離となる位置に設けられている。なお、第1の集光手段123の焦点距離と第2の集光手段124の焦点距離とは、互いに等しいものであってもよく、互いに異なるものであってもよい。また、微小開口部125の開口径は、内部散乱光の除去効果を鑑み、光線の照射領域の直径以下であることが好ましい。
光分岐素子126は、被測定物10と第1の軸外し反射手段121の第1の凹曲面121Aとの間に配置されている。また、光分岐素子126は、光源110からのコヒーレント光の出射方向(図中X軸負方向)に配置されている。光分岐素子126は、光源110から発せられたコヒーレント光の一部を被測定物10に向けて反射する。これにより、光分岐素子126は、光源110から発せられたコヒーレント光の一部を、被測定物10に対して垂直に照射することができる。また、光分岐素子126は、被測定物10によるコヒーレント光の反射光の一部を、第1の軸外し反射手段121の第1の凹曲面121Aに向けて透過する。
一実施形態に係る光学装置120-1では、光源110から発せられたコヒーレント光の一部が、光分岐素子126によって被測定物10に向けて反射される。そして、被測定物10による反射光の一部が、光分岐素子126を透過して、第1の軸外し反射手段121の第1の凹曲面121Aで反射されることにより、平行光線として第1の集光手段123に入射される。さらに、第1の集光手段123に入射された平行光線が、焦点FPで集光し、第2の集光手段124から平行光線として出射される。さらに、第2の集光手段124から出射された平行光線が、第2の軸外し反射手段122の第2の凹曲面122Aで反射されることにより、光位置検出手段130の受光面において結像する。
この際、一実施形態に係る光学装置120-1は、焦点FPに設けられた微小開口部125によって、被測定物10による反射光に含まれる内部散乱光を除去することができ、よって、スペックルパターンのシフト量の検出精度の低下を抑制することができる。
また、一実施形態に係る光学装置120-1によれば、一対の軸外し反射手段(第1の軸外し反射手段121および第2の軸外し反射手段122)を設けたことにより、当該光学装置120-1よりも第2の方向(図中Y軸方向)における外側に、被測定物10、光源110、および光位置検出手段130の各々を配置することができる。すなわち、一実施形態に係る光学装置120-1によれば、当該光学装置120-1よりも第1の方向(図中X軸方向)における外側に、被測定物10、光源110、および光位置検出手段130の各々を配置しない構成とすることができる。したがって、一実施形態に係る光学装置120-1によれば、当該光学装置120-1の第1の方向(図中X軸方向)のサイズの小型化を実現することができ、よって、当該光学装置120-1を備える変位量測定装置100全体の小型化を実現することができる。このため、一実施形態に係る光学装置120-1によれば、例えば、可搬性を有する装置形態(小型軽量、ウェアラブル、手持ち利用可能等)での変位量測定装置100の実施を容易に実現可能である。
また、一実施形態に係る変位量測定装置100は、光源110と、図5に示す光学装置120-1と、第2の軸外し反射手段122の第2の凹曲面122Aによって反射された反射光から形成される干渉像の瞬時強度変化を検知する光位置検出手段130と、光位置検出手段130によって検知された瞬時強度変化に基づいて被測定物10の変位量を推定する被測定物変位量推定手段154と、被測定物変位量推定手段154によって推定された変位量を表示する表示手段155とを備える。
これにより、一実施形態に係る変位量測定装置100は、光学装置120-1を用いたことにより、光学装置120-1に対する被測定物10、光源110、および光位置検出手段130の各々の配置の自由度を高めることができ、したがって、変位量測定装置100全体の小型化を実現することができる。
また、一実施形態に係る変位量測定装置100は、光位置検出手段130としてイベントベースビジョンセンサを用いている。
これにより、一実施形態に係る変位量測定装置100は、スペックル像を高速且つ高精度に捉えることができ、したがって、被測定物10の変位に対して鋭敏に変化するスペックル像のシフト量を、高速且つ確実に検知することができる。
また、一実施形態に係る変位量測定装置100は、被測定物10と第1の軸外し反射手段121の第1の凹曲面121Aとの間に配置され、光源110から発せられたコヒーレント光の一部を被測定物10に向けて反射し、被測定物10によるコヒーレント光の反射光の一部を第1の軸外し反射手段121の第1の凹曲面121Aに向けて透過する光分岐素子126を備える。
これにより、一実施形態に係る変位量測定装置100は、図5に示すように、投光手段(光源110および光分岐素子126)と、リレー光学系(第1の軸外し反射手段121、第2の軸外し反射手段122、第1の集光手段123、第2の集光手段124、および微小開口部125)とを平行配置でき、したがって、変位量測定装置100全体の小型化を実現することができる。
(被測定物10に生じる照射領域および内部散乱領域)
図6は、被測定物10に照明光を照射したときに生じる照射領域および内部散乱領域を説明するための図である。図6(a)は、被測定物10の外観を模式的に表している。図6(b)は、被測定物10の断面を模式的に表している。なお、図6では、被測定物10の一例として、人間の皮膚を用いている。
図6は、被測定物10に照明光を照射したときに生じる照射領域および内部散乱領域を説明するための図である。図6(a)は、被測定物10の外観を模式的に表している。図6(b)は、被測定物10の断面を模式的に表している。なお、図6では、被測定物10の一例として、人間の皮膚を用いている。
図6に示すように、被測定物10の内部においては、照明光30が照射された領域である照射領域10Aの周囲に、内部散乱光による内部散乱領域10Bが生じる。これにより、被測定物10の表面における照明光30の反射領域は、内部散乱領域10Bの表面から出射される内部散乱光が加わることにより、照射領域10Aよりも拡大されたものとなる。
このようにして被測定物10による反射光に含まれる内部散乱光は、多重散乱の過程で時間的なゆらぎが蓄積されるために、スペックル像の形状に時間的なゆらぎを与え、これによって、スペックル像のシフトの推定に悪影響を及ぼす。
(スペックル像のシフトの一例)
図7は、スペックル像のシフトの一例を説明するための図である。図7(a)および図7(b)は、イベントベースビジョンセンサの受光面上に形成されるスペックル像のシフトの一例を示す図である。但し、図7(a)は、理想的な反射成分のみを含んだ反射光を用いたときの、スペックル像のシフトの一例を示す。一方、図7(b)は、内部散乱光を含んだ反射光を用いたときの、スペックル像のシフトの一例を示す。また、図7において、実線で示されているスペックル像700Aは、シフト前のスペックル像を示し、点線で示されているスペックル像700Bは、シフト後のスペックル像を示す。
図7は、スペックル像のシフトの一例を説明するための図である。図7(a)および図7(b)は、イベントベースビジョンセンサの受光面上に形成されるスペックル像のシフトの一例を示す図である。但し、図7(a)は、理想的な反射成分のみを含んだ反射光を用いたときの、スペックル像のシフトの一例を示す。一方、図7(b)は、内部散乱光を含んだ反射光を用いたときの、スペックル像のシフトの一例を示す。また、図7において、実線で示されているスペックル像700Aは、シフト前のスペックル像を示し、点線で示されているスペックル像700Bは、シフト後のスペックル像を示す。
図7(a)に示すように、反射光が理想的な反射成分のみを含んでいる場合、シフト後もスペックル像の形状が変化しないことによって、高い相関を維持できるため、スペックル像の全体変位量を高精度に推定することができる。
一方、図7(b)に示すように、反射光が内部散乱光を含んでいる場合、シフト後にスペックル像の形状が変化することによって、高い相関を維持できず、スペックル像の全体変位量を高精度に推定することができない。
そこで、一実施形態に係る光学装置120は、一対の集光手段の間の焦点FPに設けられた微小開口部125によって、被測定物10による反射光に含まれる内部散乱光を除去することで、スペックル像の全体変位量の高精度な推定を可能にしているのである。
(微小開口部125による内部散乱光の遮断機能)
図8は、微小開口部125による内部散乱光の遮断機能を説明するための図である。図8では、光学装置120-1の内部を、内部散乱光が伝搬する様子を表している。
図8は、微小開口部125による内部散乱光の遮断機能を説明するための図である。図8では、光学装置120-1の内部を、内部散乱光が伝搬する様子を表している。
図8に示すように、光学装置120-1の内部を伝搬する内部散乱光は、第1の軸外し反射手段121および第1の集光手段123によって、微小開口部125と異なる位置に集光されることで、微小開口部125により遮断される。これにより、撮像面に形成されるスペックル像に対する内部散乱光による影響は抑制される。
ここで、例えば、リレー光学系を透過型レンズを用いて直線的に構成した場合、一実施形態に係る光学装置120-1と同様に、内部散乱光を遮蔽することは可能である。しかしながら、この場合、被測定物10と微小開口部125とを結像するレンズの焦点距離f1とし、微小開口部125と光位置検出手段130とを結像するレンズの焦点距離f2とした場合、リレー光学系における全長が4f1+4f2=8fとなり、変位量測定装置100の小型化が困難となる。
そこで、一実施形態に係る光学装置120-1は、被測定物10側および光位置検出手段130側の各々に軸外焦点を持つ放物面のミラー(第1の凹曲面121Aおよび第2の凹曲面122A)を用いたことにより、リレー光学系における全長を最短2fまで抑制できるため、変位量測定装置100の小型化を容易に実現可能である。
(光分岐素子126における光量比)
図9は、一実施形態に係る光学装置120-1が備える光分岐素子126における光量比を説明するための図である。
図9は、一実施形態に係る光学装置120-1が備える光分岐素子126における光量比を説明するための図である。
図9に示す例では、透過率が50%であり、反射率が50%である光分岐素子126を用いている。ここで被測定物10の反射率をRとする。
この場合、光源110から発せられたコヒーレント光の50%が、光分岐素子126によって被測定物10に照射される。また、被測定物10による反射光の50%が、光分岐素子126を透過して、リレー光学系に伝搬される。
つまり、リレー光学系には、R×0.25の光量しか伝搬できず、スペックルがバックグラウンドノイズに埋もれてしまう虞がある。このような問題を解決する方法として、光源110の出力増加、光学系開口の大口径化、等が考えられるが、これらの場合、安全性の低下、装置全体の大型化、等の問題が生じる虞がある。
(光学装置120の構成の一例(第2例))
図10は、一実施形態に係る変位量測定装置100が備える光学装置120の構成の一例(第2例)を示す図である。図10に示す光学装置120-2は、光学装置120の構成の第2例を有するものである。
図10は、一実施形態に係る変位量測定装置100が備える光学装置120の構成の一例(第2例)を示す図である。図10に示す光学装置120-2は、光学装置120の構成の第2例を有するものである。
図10に示すように、光学装置120-2は、光分岐素子126を有しない点、反射手段127が第1の軸外し反射手段121よりもY軸正側に設けられている点、および、第1の軸外し反射手段121が貫通孔121Bを有する点で、図5に示す光学装置120-1と異なる。貫通孔121Bは、第1の軸外し反射手段121と第2の軸外し反射手段122との間の光軸と直交する方向(すなわち、図中Y軸方向)に貫通して設けられている。なお、図10に示すように、光学装置120-2を用いた場合、光源110は、光学装置120-2よりもY軸正側に設けられる。
光学装置120-2では、光源110から発せられたコヒーレント光が、反射手段127によって第1の軸外し反射手段121に向けて反射される。そして、反射手段127によって反射されたコヒーレント光が、第1の軸外し反射手段121の貫通孔121Bを通過して、被測定物10に照射される。さらに、被測定物10による反射光が、第1の軸外し反射手段121の第1の凹曲面121Aで反射されることにより、平行光線として第1の集光手段123に入射される。以降は、光学装置120-1と同様である。
光学装置120-2によれば、光分岐素子126を有しないため、光位置検出手段130に結像する反射光の光量の低下を抑制することができる。したがって、光学装置120-2によれば、スペックル像のシフトの高精度な推定を行うことができる。
(光学装置120の構成の一例(第3例))
図11は、一実施形態に係る変位量測定装置100が備える光学装置120の構成の一例(第3例)を示す図である。図11に示す光学装置120-3は、光学装置120の構成の第3例を有するものである。
図11は、一実施形態に係る変位量測定装置100が備える光学装置120の構成の一例(第3例)を示す図である。図11に示す光学装置120-3は、光学装置120の構成の第3例を有するものである。
図11に示すように、光学装置120-3は、光分岐素子126を有しない点、および、第2の軸外し反射手段122が貫通孔122Bを有する点で、図5に示す光学装置120-1と異なる。貫通孔122Bは、第1の軸外し反射手段121と第2の軸外し反射手段122との間の光軸と一致する方向(すなわち、図中X軸方向)に貫通して設けられている。なお、図11に示すように、光学装置120-3を用いた場合、光源110は、第2の軸外し反射手段122よりもX軸正側に設けられる。
光学装置120-3では、光源110から発せられたコヒーレント光が、第2の軸外し反射手段122の貫通孔122Bを通過して、微小開口部125で集光した後、第1の軸外し反射手段121の第1の凹曲面121Aに照射される。そして、第1の軸外し反射手段121の第1の凹曲面121Aによって反射されたコヒーレント光が、被測定物10に集光されながら照射される。さらに、被測定物10による反射光が、第1の軸外し反射手段121の第1の凹曲面121Aで反射されることにより、平行光線として第1の集光手段123に入射される。以降は、光学装置120-1と同様である。
光学装置120-3によれば、光分岐素子126を有しないため、光位置検出手段130に結像する反射光の光量の低下を抑制することができる。したがって、光学装置120-3によれば、スペックル像のシフトの高精度な推定を行うことができる。
また、光学装置120-3によれば、被測定物10に照射されるコヒーレント光が、第1の軸外し反射手段121と第2の軸外し反射手段122との間で、均一な位相波面を有する光線にビーム成型されるため、生体反射時における表面反射成分の可干渉性を増加させることができる。
(光学装置120の構成の一例(第4例))
図12は、一実施形態に係る変位量測定装置100が備える光学装置120の構成の一例(第4例)を示す図である。図12に示す光学装置120-4は、光学装置120の構成の第4例を有するものである。
図12は、一実施形態に係る変位量測定装置100が備える光学装置120の構成の一例(第4例)を示す図である。図12に示す光学装置120-4は、光学装置120の構成の第4例を有するものである。
図12に示すように、光学装置120-4は、光分岐素子126の代わりに偏光分岐素子128(偏光ビームスプリッタ)を備える点、および、偏光分岐素子128と被測定物10との間に波長板129が設けられている点で、図5に示す光学装置120-1と異なる。
なお、光学装置120-4は、波長板129として、1/4波長板を用いている。但し、1/4波長板の進相軸は、直線偏光の偏光軸に対して45度傾いた状態とする。また、光学装置120-4は、偏光分岐素子128として、s偏光を反射し、p偏光を透過するものを用いている。また、図12に示すように、光学装置120-4を用いた場合、光源110は、コヒーレント光としてs偏光を発するものが用いられる。
図13は、一実施形態に係る光学装置120-4におけるコヒーレント光の伝搬経路を説明するための図である。
図13に示すように、光学装置120-4では、光源110から発せられたコヒーレント光(s偏光)が、偏光分岐素子128によって反射された後、波長板129を透過することによって直線偏光から回転偏光となり、被測定物10に照射される。
そして、被測定物10の表面による反射光(回転偏光)が、波長板129を透過することによってp偏光となった後、偏光分岐素子128を透過し、第1の軸外し反射手段121の第1の凹曲面121Aで反射されることにより、平行光線として第1の集光手段123に入射される。以降は、光学装置120-1と同様である。
ここで、被測定物10において生じた内部散乱光は、多重散乱の過程で偏光特性が変化する。このため、内部散乱光は、波長板129を透過したときにランダムな偏光特性を有するものとなり、内部散乱光の一部は、偏光分岐素子128によって遮蔽される。
このように、光学装置120-4は、偏光分岐素子128および波長板129を設けたことにより、光位置検出手段130に結像する反射光の光量の低下を抑制することができ、且つ、被測定物10において生じた内部散乱光の除去効果を高めることができる。したがって、光学装置120-4によれば、スペックル像のシフトの高精度な推定を行うことができる。
(第1実施例)
図14は、一実施形態に係る変位量測定装置100の第1実施例であるc1100の概略図である。
図14は、一実施形態に係る変位量測定装置100の第1実施例であるc1100の概略図である。
図14に示すように、非接触入力装置1100は、筐体1101、結像プレート1103、および光学窓1104を備える。また、図示を省略するが、非接触入力装置1100は、筐体1101の内部に、一実施形態に係る変位量測定装置100を備える。
非接触入力装置1100において、変位量測定装置100は、筐体1101の上方且つ前方(結像プレート1103によって形成される虚像の近傍)に向けて、コヒーレント光をシート光として照射する。そして、虚像に対する被測定物10(操作者の指)の非接触操作に伴って、被測定物10がシート光を横切ると、被測定物10によるシート光の反射光が、光学窓1104および変位量測定装置100が備える光学装置120を介して、変位量測定装置100が備える光位置検出手段130に干渉像として入射されるようになっている。
これにより、変位量測定装置100が備える情報処理部150は、被測定物10の微小変位量を検出し、検出された被測定物10の微小変位量を示す情報を、非接触入力装置1100が備える非接触入力識別手段(図示省略Y)へ出力することができる。
非接触入力識別手段は、変位量測定装置100から出力された微小変位量を示す情報に基づいて、被測定物10による非接触操作(例えば、指の押し込み動作、手書き動作、スワイプ動作等)を高精度に検出し、その検出結果を、被操作装置(図示省略)へ出力したり、操作者へフィードバックしたりすることができる。
なお、非接触入力装置1100では、操作性向上のため、結像プレート1103を用いて、画像や映像情報から虚像を形成し、当該虚像を筐体1101の上方且つ前方に表示することができる。結像プレート1103とは、光線の透過偏向特性を有する部材であり、積層された反射構造により実現できる。
非接触入力装置1100は、一実施形態に係る変位量測定装置100を備えることにより、被測定物10(操作者の指)による反射光に含まれる内部散乱光を除去できるため、変位量測定装置100によって被測定物10の非接触操作の微小な動きを高速且つ確実に捉えることができ、したがって、被測定物10の非接触操作を高精度に検出することができる。
(第2実施例)
図15は、一実施形態に係る変位量測定装置100の第2実施例である振戦測定装置1200の概略図である。
図15は、一実施形態に係る変位量測定装置100の第2実施例である振戦測定装置1200の概略図である。
図15に示すように、振戦測定装置1200は、「生体微動測定装置」の一例であり、筐体1201、光学窓1204、支持台1205、および表示デバイス1206を備える。また、図示を省略するが、振戦測定装置1200は、筐体1201の内部に、一実施形態に係る変位量測定装置100を備える。
図15に示す振戦測定装置1200は、被測定物10である生体の小刻みな振動(例えば、振戦)を検知することが可能な装置である。振戦とは、筋肉の収縮、弛緩が繰り返される際に起こる不随意運動であり、手の震えなどが代表的である。振戦は、例えば、ストレス、不安、疲労、甲状腺機能亢進症、アルコールの離脱症状等を原因として生じ得る。また、安静時振戦はパーキンソン病の主症状の一つとされる。
振戦の測定は従来、筋電位計測や加速度センサを用いて行われている。振戦測定装置1200は、一実施形態に係る変位量測定装置100を備えることにより、被測定物10(生体)による反射光に含まれる内部散乱光を除去できるため、変位量測定装置100によってマイクロメートルレベルの被測定物10の微振動を高速且つ確実に捉えることができ、したがって、非接触環境で振戦を高精度に測定することができる。
図15に示すように、振戦測定装置1200による振戦の測定は、肘から前腕の角度が水平な支持台1205に対して45°となるようにして測定する。そして、振戦測定装置1200は、変位量測定装置100から手の甲にコヒーレント光を照射し、手の甲によるコヒーレント光の反射光が、光学窓1204と、変位量測定装置100が備える光学装置120とを介して、変位量測定装置100が備える光位置検出手段130に干渉像として入射されるようになっている。
これにより、変位量測定装置100が備える情報処理部150は、被測定物10の微小変位量を高速且つ確実に検出することができ、すなわち、被測定物10の振戦を高精度に測定することができる。変位量測定装置100によって測定された振戦データは周波数解析等を施すことにより、人の状態理解や医療データとして利用可能となる。
なお、一実施形態に係る変位量測定装置100は、非接触入力装置1100および振戦測定装置1200への適用に限らず、被測定物10の変位量を測定するその他の装置にも適用可能である。
例えば、一実施形態に係る変位量測定装置100は、変位量測定装置100と、変位量測定装置100が備える被測定物変位量推定手段154によって推定された被測定物10の変位量を外部被制御装置20に伝送する伝送手段156とを備える、入力装置(例えば、マウス)に適用可能である。
これにより、入力装置の小型化、および、入力装置による被測定物10の微小変位量の高精度な検出を実現することができ、例えば、小型且つ携帯可能な入力装置を実現することができる。
また例えば、一実施形態に係る変位量測定装置100は、表示手段155が、被測定物10の変位量の時間変動を視覚化して表示する、振動モニタリング装置に適用可能である。
これにより、振動モニタリング装置の小型化、および、振動モニタリング装置による被測定物10の微小変位量の高精度な検出を実現することができ、例えば、小型且つ携帯可能な(またはウェアラブル実装可能な)振動モニタリング装置を実現することができる。
(第3実施例)
図16は、一実施形態に係る変位量測定装置100の第3実施例である入力装置1700の概略図である。
図16は、一実施形態に係る変位量測定装置100の第3実施例である入力装置1700の概略図である。
図16に示すように、入力装置1700は、筐体1701の内部に、光源110、光学装置120、光位置検出手段130、および通信部1702を備える。
また、図16に示すように、入力装置1700は、筐体1701の外部に、処理部1703と、表示部1704とを備える。
なお、筐体1701は、コヒーレント光が外部に漏れださないように、被測定物10の周囲を覆うカバー1701Aを有する。
通信部1702は、無線通信によって、光位置検出手段130から出力されるイベントデータ群を、処理部1703へ送信する。
処理部1703は、図1の情報処理部150に相当するものであり、通信部1702から送信されたイベントデータ群に基づいて、被測定物10の変位量を推定する。
表示部1704は、処理部1703によって推定された被測定物10の変位量を表示する。
入力装置1700は、変位量測定装置100によって、被測定物10の一例である指先の動作(ジェスチャー)を、高精度に測定することができる。入力装置1700は、将来的には、指先の微細な震えから個人を推定する指紋認証等の用途に用いることができる。
入力装置1700は、一実施形態に係る変位量測定装置100を用いたことにより、筐体1701の小型化、および、被測定物10の微小変位量の高精度な検出を実現することができる。
(変位量測定装置100の機能配置例)
図17は、一実施形態に係る変位量測定装置100の機能配置例を示す図である。
図17は、一実施形態に係る変位量測定装置100の機能配置例を示す図である。
一実施形態に係る変位量測定装置100は、図17(a)に示すように、本体101に、機能Aおよび機能Bに加えて、機能C(演算器)と機能D(表示部)とを備えてもよい。
また、一実施形態に係る変位量測定装置100は、図17(b)に示すように、本体101に、機能Aおよび機能Bに加えて、機能C(演算器)と機能E(通信機)とを備え、本体101の外部に、表示装置102を備えてもよい。
また、一実施形態に係る変位量測定装置100は、図17(c)に示すように、本体101に、機能Aおよび機能Bに加えて、機能E(通信機)と機能D(表示部)とを備え、本体101の外部に、演算器103を備えてもよい。
また、一実施形態に係る変位量測定装置100は、図17(d)に示すように、本体101に、機能Aおよび機能Bに加えて、機能E(通信機)を備え、本体101の外部に、演算器103および表示装置102を備えてもよい。
要するに、一実施形態に係る変位量測定装置100は、一部の機能が、本体101の外部に設けられ、本体101との間でデータの送受信を行うように構成されてもよい。
以上、本発明の好ましい実施形態について詳述したが、本発明はこれらの実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形又は変更が可能である。
10 被測定物
10A 照射領域
10B 内部散乱領域
20 外部被制御装置
30 照明光
100 変位量測定装置
101 本体
102 表示装置
103 演算器
110 光源
120,120-1,120-2,120-3,120-4 光学装置
121 第1の軸外し反射手段
121A 第1の凹曲面
121B 貫通孔
122 第2の軸外し反射手段
122A 第2の凹曲面
122B 貫通孔
123 第1の集光手段
124 第2の集光手段
125 微小開口部
126 光分岐素子
127 反射手段
128 偏光分岐素子
129 波長板
130 光位置検出手段
150 情報処理部
151 イベントデータ群取得手段
152 データ記憶手段
153 干渉像変位量計量手段
154 被測定物変位量推定手段
155 表示手段
156 伝送手段
200A,200B スペックル像
210 イベントデータ
210A 増加成分
210B 減少成分
310,320 画像
400A,400B フレーム画像
410 増加成分
700A,700B スペックル像
1100 非接触入力装置
1101 筐体
1103 結像プレート
1104 光学窓
1200 振戦測定装置(生体微動測定装置)
1201 筐体
1204 光学窓
1205 支持台
1206 表示デバイス
1700 入力装置
1701 筐体
1702 通信部
1703 処理部
1704 表示部
1701A カバー
FP 焦点
10A 照射領域
10B 内部散乱領域
20 外部被制御装置
30 照明光
100 変位量測定装置
101 本体
102 表示装置
103 演算器
110 光源
120,120-1,120-2,120-3,120-4 光学装置
121 第1の軸外し反射手段
121A 第1の凹曲面
121B 貫通孔
122 第2の軸外し反射手段
122A 第2の凹曲面
122B 貫通孔
123 第1の集光手段
124 第2の集光手段
125 微小開口部
126 光分岐素子
127 反射手段
128 偏光分岐素子
129 波長板
130 光位置検出手段
150 情報処理部
151 イベントデータ群取得手段
152 データ記憶手段
153 干渉像変位量計量手段
154 被測定物変位量推定手段
155 表示手段
156 伝送手段
200A,200B スペックル像
210 イベントデータ
210A 増加成分
210B 減少成分
310,320 画像
400A,400B フレーム画像
410 増加成分
700A,700B スペックル像
1100 非接触入力装置
1101 筐体
1103 結像プレート
1104 光学窓
1200 振戦測定装置(生体微動測定装置)
1201 筐体
1204 光学窓
1205 支持台
1206 表示デバイス
1700 入力装置
1701 筐体
1702 通信部
1703 処理部
1704 表示部
1701A カバー
FP 焦点
Zhou Ge,Yizhao Gao,Hayden K.-h. So,Edmund Y. Lam,"Event-based laser speckle correlation for micro motion estimation",Optics Letters 46 (2021) 3885-3888
Claims (9)
- 光源から発せられたコヒーレント光の被測定物による反射光を反射する第1の凹曲面を有する第1の軸外し反射手段と、
前記第1の軸外し反射手段と対向配置され、前記第1の凹曲面によって反射された前記反射光を反射する第2の凹曲面を有する第2の軸外し反射手段と、
前記第1の軸外し反射手段と前記第2の軸外し反射手段との間において、互いに対向配置された一対の集光手段と、
前記一対の集光手段の間における前記反射光の焦点に設けられ、前記反射光における空間領域の一部を抽出する微小開口部と
を備えることを特徴とする光学装置。 - 前記光源と、
請求項1に記載の光学装置と、
前記第2の凹曲面によって反射された前記反射光から形成される干渉像の瞬時強度変化を検知する光位置検出手段と、
前記光位置検出手段によって検知された前記瞬時強度変化に基づいて前記被測定物の変位量を推定する変位量推定手段と、
前記変位量推定手段によって推定された前記変位量を表示する表示手段と
を備えることを特徴とする変位量測定装置。 - 前記光位置検出手段としてイベントベースビジョンセンサを用いた
ことを特徴とする請求項2に記載の変位量測定装置。 - 前記被測定物と前記第1の凹曲面との間に配置され、前記光源から発せられた前記コヒーレント光の一部を前記被測定物に向けて反射し、前記被測定物による前記コヒーレント光の前記反射光の一部を前記第1の凹曲面に向けて透過する光分岐素子を備える
ことを特徴とする請求項2に記載の変位量測定装置。 - 前記光分岐素子と前記被測定物との間に配置された波長板を備え、
前記光源は、前記コヒーレント光として偏光を発し、
前記光分岐素子として偏光ビームスプリッタを用いた
ことを特徴とする請求項4に記載の変位量測定装置。 - 前記第1の軸外し反射手段は、
前記第1の軸外し反射手段と前記第2の軸外し反射手段との間の光軸と直交する方向に貫通して設けられ、前記光源から発せられた前記コヒーレント光を通過させて、当該コヒーレント光を前記被測定物に照射させる貫通孔を有する
ことを特徴とする請求項2に記載の変位量測定装置。 - 前記第2の軸外し反射手段は、
前記第1の軸外し反射手段と前記第2の軸外し反射手段との間の光軸と一致する方向に貫通して設けられ、前記光源から発せられた前記コヒーレント光を通過させて、当該コヒーレント光を前記第1の軸外し反射手段の前記第1の凹曲面に反射させることにより、当該コヒーレント光を前記被測定物に照射させる貫通孔を有する
ことを特徴とする請求項2に記載の変位量測定装置。 - 請求項2から7のいずれか一項に記載の変位量測定装置と、
前記変位量推定手段によって推定された前記変位量を外部被制御装置に伝送する伝送手段と
を備えることを特徴とする入力装置。 - 請求項2から7のいずれか一項に記載の変位量測定装置を備え、
前記表示手段は、前記被測定物の変位量の時間変動を視覚化して表示する
ことを特徴とする振動モニタリング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022189557A JP2024077451A (ja) | 2022-11-28 | 2022-11-28 | 光学装置、変位量測定装置、入力装置、および振動モニタリング装置 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022189557A JP2024077451A (ja) | 2022-11-28 | 2022-11-28 | 光学装置、変位量測定装置、入力装置、および振動モニタリング装置 |
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JP2024077451A true JP2024077451A (ja) | 2024-06-07 |
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JP2022189557A Pending JP2024077451A (ja) | 2022-11-28 | 2022-11-28 | 光学装置、変位量測定装置、入力装置、および振動モニタリング装置 |
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- 2022-11-28 JP JP2022189557A patent/JP2024077451A/ja active Pending
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