JP2024062057A - Wax application device - Google Patents
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Abstract
【課題】 被塗布材の表面の傷つきを抑制し、かつ、被塗布材の表面に連続してワックスの薄膜を形成することが可能なワックス塗布装置を提供すること。【解決手段】 最初に被塗布材にワックスを塗布するときの塗布ローラー上のワックスの量が、その後、被塗布材に連続して塗布するときの塗布ローラー上のワックスの量よりも多くなるように制御するワックス量制御手段を備えることを特徴とするワックス塗布装置。【選択図】 図1[Problem] To provide a wax application device capable of suppressing damage to the surface of a workpiece and continuously forming a thin wax film on the surface of the workpiece. [Solution] A wax application device characterized by having a wax amount control means that controls the amount of wax on the application roller when the wax is first applied to the workpiece to be greater than the amount of wax on the application roller when the wax is subsequently applied to the workpiece in succession. [Selected drawing] Figure 1
Description
本発明は、ワックス塗布装置に関する。 The present invention relates to a wax application device.
近年、インクジェットやトナーなどで形成された画像に対し、記録画像の光沢性の向上、耐候性の向上、又はブロッキング抑制を目的として、ワックスを記録画像上に塗布することがある。この際のワックス層には厚さが均一であり、且つ、薄いことが求められる。特許文献1では、非浸透媒体上に均一なワックス層を形成するために、非浸透媒体にワックスを塗布する塗布ローラーの表面温度をワックスの融点以下に調節するワックス塗布装置が記載されている。
In recent years, wax has been applied to images formed by inkjet or toner in order to improve the gloss of the recorded image, improve weather resistance, or suppress blocking. The wax layer in this case is required to be uniform in thickness and thin.
特許文献1に記載のワックス塗布装置では、塗布ローラーが非浸透媒体に対して相対的に移動する方向とは逆方向に回転させることによって、非浸透媒体にワックスをとすることが開示されている。しかしながら、本発明者らの検討によると、非浸透媒体上にワックスの薄膜を形成するために、少ないワックス量で塗布ローラーを被塗布材である非浸透媒体に当接させると、非浸透媒体の表面を傷つける可能性があることが分かった。
The wax application device described in
従って、本発明の目的は、被塗布材の表面の傷つきを抑制し、かつ、被塗布材の表面に連続してワックスの薄膜を形成することが可能なワックス塗布装置を提供することにある。 The object of the present invention is therefore to provide a wax application device that can prevent damage to the surface of the material being applied and can form a continuous thin film of wax on the surface of the material being applied.
上記の目的は以下の本発明によって達成される。 The above objectives are achieved by the present invention.
すなわち、本発明によれば、ワックスを貯留可能なチャンバーと、
前記チャンバー内に貯留された前記ワックスを加熱する加熱手段と、
被塗布材に接触することで、前記加熱手段によって加熱された前記ワックスを前記被塗布材に塗布する塗布ローラーと、
前記塗布ローラー上の前記ワックスの量を制御するワックス量制御手段と、
を備えたワックス塗布装置であって、
前記ワックス量制御手段によって、最初に前記被塗布材に前記ワックスを塗布するときの前記塗布ローラー上の前記ワックスの量が、その後、前記被塗布材に連続して塗布するときの前記塗布ローラー上の前記ワックスの量よりも多くなるように制御されることを特徴とするワックス塗布装置が提供される。
That is, according to the present invention, a chamber capable of storing wax;
a heating means for heating the wax stored in the chamber;
an application roller that applies the wax heated by the heating means to a workpiece by contacting the workpiece;
a wax amount control means for controlling the amount of wax on the application roller;
A wax application device comprising:
A wax application device is provided, characterized in that the wax amount control means controls the amount of wax on the application roller when the wax is first applied to the workpiece to be greater than the amount of wax on the application roller when the wax is subsequently applied continuously to the workpiece.
本発明によれば、被塗布材の表面の傷つきを抑制し、かつ、被塗布材の表面に連続してワックスの薄膜を形成することが可能なワックス塗布装置を提供することができる。 The present invention provides a wax application device that can prevent damage to the surface of the material being applied and can form a continuous thin film of wax on the surface of the material being applied.
以下、好ましい実施の形態を挙げて本発明の詳細について説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではない。 The present invention will be described in detail below with reference to preferred embodiments, but the present invention is not limited to the following embodiments.
<ワックス塗布装置>
本実施形態におけるワックス塗布装置は、ワックスを貯留可能なチャンバーと、チャンバー内に貯留されたワックスを加熱する加熱手段と、被塗布材に接触することで、前記加熱手段によって加熱された前記ワックスを前記被塗布材に塗布する塗布ローラーと、前記塗布ローラー上の前記ワックスの量を制御するワックス量制御手段と、を備える。そして、前記ワックス量制御手段によって、最初に前記被塗布材に前記ワックスを塗布するときの前記塗布ローラー上の前記ワックスの量が、その後、前記被塗布材に連続して塗布するときの前記塗布ローラー上の前記ワックスの量よりも多くなるように制御される。この構成によって本発明の効果が得られる理由については必ずしも定かではないが、本発明者らは以下のように推測している。
<Wax application device>
The wax application device in this embodiment includes a chamber capable of storing wax, a heating means for heating the wax stored in the chamber, an application roller for contacting a workpiece with the wax heated by the heating means and a wax amount control means for controlling the amount of wax on the application roller. The wax amount control means controls the amount of wax on the application roller when the wax is first applied to the workpiece to be greater than the amount of wax on the application roller when the wax is subsequently applied to the workpiece in succession. The reason why the effect of the present invention is obtained by this configuration is not entirely clear, but the inventors speculate as follows.
ワックス量制御手段によって、被塗布材に最初にワックス塗布するときの塗布ローラー上のワックス量を、その後、連続して塗布するときよりも多くすることによって、塗布ローラー上に厚いワックス層が形成される。この厚いワックス層が、被塗布材と塗布ローラーとが接触する際にクッションとして機能するため、被塗布材の表面に傷が生じやすい最初に被塗布材と塗布ローラーとが接触するときであっても、被塗布材の表面への傷の発生を抑制することができる。さらに、その後、被塗布材に連続してワックスを塗布する際はワックスの塗布量が少なくなるため、被塗布材の表面にワックスの薄膜を形成することができる。 By using the wax amount control means to increase the amount of wax on the application roller when the material is first applied with wax compared to subsequent successive applications, a thick wax layer is formed on the application roller. This thick wax layer acts as a cushion when the material comes into contact with the application roller, so even when the material first comes into contact with the application roller, which is a time when scratches are likely to occur on the surface of the material, the occurrence of scratches on the surface of the material can be suppressed. Furthermore, when wax is subsequently applied to the material continuously, the amount of wax applied is reduced, so a thin film of wax can be formed on the surface of the material.
本実施形態で示したワックス塗布装置は、紙などの被塗布材である記録媒体に直接塗布するワックス塗布装置であってもよいし、被塗布材である転写体に一旦塗布するワックス塗布装置であってもよい。転写体にワックスを塗布する場合は、ワックスが塗布された転写体に、処理液やインクが付与することで画像を形成し、その後、転写体上に形成された画像を記録媒体に転写することで、記録物を作製することができる。 The wax application device shown in this embodiment may be a wax application device that applies wax directly to a recording medium such as paper, which is a material to be coated, or may be a wax application device that first applies wax to a transfer body, which is a material to be coated. When applying wax to a transfer body, an image is formed by applying a treatment liquid or ink to the transfer body to which the wax has been applied, and then the image formed on the transfer body is transferred to a recording medium, thereby producing a recorded product.
以下、本実施形態で使用したワックス塗布装置の構成について図1を用いて説明する。なお、本発明は、本実施形態で使用している塗布ローラーの材質や径、その他の各部材の構成材料については、本実施形態において記載されたものに限定されるわけではない。 The configuration of the wax application device used in this embodiment is described below with reference to Figure 1. Note that the material and diameter of the application roller used in this embodiment, and the constituent materials of each of the other members, are not limited to those described in this embodiment.
図1は、被塗布材として転写体7を用いたワックス塗布装置を示している。具体的に、図1に示すワックス塗布装置1は、グラビアローラー2、シリコンゴムローラー3、ワックスチャンバー4、ブレード5、及び胴6を備える。ワックス8を貯留可能なチャンバーであるワックスチャンバー4には、ワックス8が貯留される。ワックスチャンバー4には加熱手段であるヒーターが具備されており、このヒーターによってワックスチャンバー4内のワックス8を融解することができる。加熱によって液体状となったワックス8は、グラビアローラー2の回転によりワックスチャンバーから汲み上げられる。グラビアローラー2によってくみ上げられたワックス8の量は、ワックス量制御手段であるブレード5によってワックスの一部がかき取られることによって制御される。その後、量が制御されたワックス8は、グラビアローラー2と接触するシリコンゴムローラー3の表面に移動する。そして、シリコンゴムローラー3の表面に移動したワックス8は被塗布材7である転写体に塗布される。なお、転写体7は胴6の表面に固定されており、胴6が矢印の方向に回転することによって、転写体7が移動する。また、本実施形態では、第1の塗布ローラーであるグラビアローラー2と第2の塗布ローラーであるシリコンゴムローラー3とを合わせて被塗布材にワックスを塗布する塗布ローラーとして機能しているが、塗布ローラーは1つだけであってもよい。本実施形態では、水平面に対して15°の角度をもって各ローラーが配置されているが、角度については他の角度で配列してもよい。ワックス塗布装置の各構成部材について以下に説明する。
Figure 1 shows a wax application device using a
(ワックスチャンバー)
図1に記載のワックスチャンバー4は固体のワックス8をヒーターにより加熱して融解し、貯留することができる。本実施形態では、ラバーヒーターと呼ばれる変形自在なヒーター(不図示)をワックスチャンバー4の外側壁面に耐熱接着剤等で固定しているが、ヒーターに特に制限はなく、公知のものを用いることができる。
(Wax chamber)
1 can heat, melt, and store
(塗布ローラー)
図1に記載のワックス塗布装置は、塗布ローラーとしてグラビアローラーとゴムローラーを有する。グラビアローラーは、チャンバー内に貯留されたワックスをゴムローラーに搬送するローラーである。また、ゴムローラーは、グラビアローラーから搬送されたワックスを被塗布材に塗布するローラーである。塗布ローラーの表面温度は、ワックスの融点以上であり、被塗布材である転写体の表面温度は、ワックスの融点未満であることが好ましい。なお、本実施形態では、ゴムローラーとしてシリコンゴムローラーを用いているが、必ずしもこれに限定されるわけではない。
(Application roller)
The wax application device shown in FIG. 1 has a gravure roller and a rubber roller as application rollers. The gravure roller is a roller that transports wax stored in a chamber to the rubber roller. The rubber roller is a roller that applies the wax transported from the gravure roller to a material to be applied. It is preferable that the surface temperature of the application roller is equal to or higher than the melting point of the wax, and that the surface temperature of the transfer body, which is the material to be applied, is lower than the melting point of the wax. In this embodiment, a silicon rubber roller is used as the rubber roller, but this is not necessarily limited to this.
(グラビアローラー)
図1に記載のグラビアローラー2は、直径Φ100mm、長手方向の長さ780mmの円柱形状のローラーである。グラビアローラー2の断面図を図2に示す。グラビアローラー2の表面には、図3に示したように四角錐に類似した形状の凹部が規則性をもって複数配置されている。このグラビアローラー2の凹部にワックス8が入り込むことで、ワックス8が搬送される。さらに、後述のブレード5によってグラビアローラー2で搬送されるワックス8の量を一定に保つことができ、シリコンゴムローラー3及び転写体7へのワックスの供給量を制御することができる。本実施形態ではこの凹部の容積の合計は4.5cm3/m2である。グラビアローラー2の材料は一般構造用圧延鋼板であるSS400を使用している。また、グラビアローラー2は、グラビアローラー2を加熱するカートリッジヒーター9とグラビアローラー2の温度をセンシングするための熱電対10を内蔵している。図1に示す通りグラビアローラー2はワックスチャンバー4内のワックス8にその一部が浸かるように設置されており、ワックスチャンバー4で液状化されたワックス8がグラビアローラー2の表面の凹部に入り込むようになっている。なお、グラビアローラー2の端部は面取り形状を有していてもよい。
(gravure roller)
The
また、グラビアローラー2は、シリコンゴムローラー3の回転速度よりも低速、かつ、図1中の矢印で示されているように、シリコンゴムローラー3とカウンター方向で接触するように回転させることが好ましい。これによって縦スジ欠陥として現れるリビング現象の発生を抑制することができる。
It is also preferable to rotate the
(シリコンゴムローラー)
図1に記載のシリコンゴムローラー3は、表面にシリコンゴムを有する直径Φ100、長手方向の長さが780mmのローラーである。シリコンゴムローラー3の断面図を図4に示す。シリコンゴムローラー3の表面には、厚みが5mm、硬度が50~70°のシリコンゴム11が設置されている。硬度の低いシリコンゴム11を使用することで、ワックス8を転写体7に塗布する際に転写体7の表面へ与える影響を抑えることができる。さらに、シリコンゴムは熱伝導率が低く、熱を転写体7側に伝えにくいため、転写体7の表面に塗布されたワックスのはじきを抑制する効果も得ることができる。シリコンゴム11が巻かれているローラー材質はグラビアローラー2と同じくローラー中心部材料には一般構造用圧延鋼板であるSS400を使用している。また、シリコンゴムローラー3は、シリコンゴムローラー3を加熱するカートリッジヒーター12とシリコンゴムローラー3の温度をセンシングするための熱電対13を内蔵している。シリコンゴムローラー3の端部は面取り形状を有していてもよい。また、シリコンゴムローラーの表面硬度は50°~70°であることが好ましい。
(Silicon rubber roller)
The
また、シリコンゴムローラー3は、転写体7と最初に接触する際は、転写体7の移動速度と同じ速度、かつ、図1中の矢印で示されているように転写体7と順方向で接触するように回転させることが好ましい。これにより、被塗布材の表面の傷の発生を抑制することができる。さらに、転写体7と接触した後は、転写体7の移動速度よりも低速、かつ、転写体7と順方向で接触するように回転させることが好ましい。これにより、転写体7の表面にワックス8を引き延ばしながら塗布することができる。その結果、転写体7の表面にワックス8の薄膜を形成することができる。
When the
(胴)
図1に記載の胴6は、転写体7を支持する支持部材である。胴6は、金具などで転写体7を胴表面に固定することが可能であり、胴6が回転することでシリコンゴムローラー3と接して転写体7にワックス8が塗布される。さらに、胴6の周囲に処理液付与装置やインク付与装置を具備させることによって、胴6が回転することでワックス工程以降の処理液付与工程やインク付与工程を行うことができる。
(Torso)
The body 6 shown in Fig. 1 is a support member that supports the
(ブレード)
図1に記載のブレード5は、ワックス量制御手段に具備されており、ブレード5の先端とグラビアローラー2との間の距離を調整することによって、グラビアローラー2の表面のワックス量を制御することができる。本実施形態で使用したブレード5は厚みが0.8mm、長手方向の長さが800mm、幅が50mmであるPET製のブレードである。
(blade)
1 is provided in the wax amount control means, and by adjusting the distance between the tip of the blade 5 and the
シリコンゴムローラー3が転写体7に最初に接触するタイミング(すなわち、最初に転写体材7にワックスを塗布するタイミング)から逆算して、グラビアローラー2上のワックス量が多くなるようにブレード5とグラビアローラー2の間の距離を調整する。このとき、ブレード5はグラビアローラー2から離間してもよいし、グラビアローラー2から離間させなくてもブレード5の当て方を圧力や接する位置などを変えることでワックスの量を制御してもよい。ワックスの量が多くなることによって、グラビアローラー2上にあるワックス層の厚さを厚くすることができる。また、ワックス層を厚くする領域の長さはニップ幅よりも長いことが好ましく、具体的には20~200mm程度が好ましい。例えば、一つの塗布ローラーでワックスを被塗布材に塗布する場合、被塗布材が600mm/s、塗布ローラーが300mm/sの速度で図1の矢印の方向に回転させながら被塗布材に塗布ローラーを接触させる場合、塗布ローラーからブレードを200mm離間させれば60mmの厚さのワックス層の領域が形成される。
Calculating backwards from the timing when the
(ワックス量制御手段)
本実施形態では、ワックス量制御手段は、塗布ローラー上のワックスを一部かき取るブレードと、塗布ローラーとブレードとの離間距離を制御して、塗布ローラー上のワックスの量を制御するブレード位置制御手段と、を備えることが好ましい。
(Wax amount control means)
In this embodiment, the wax amount control means preferably includes a blade that scrapes off some of the wax on the application roller, and a blade position control means that controls the distance between the application roller and the blade to control the amount of wax on the application roller.
なお、本実施形態では、塗布ローラーであるグラビアローラー2に対するブレードの離間距離又は当接状態を制御することで塗布ローラー上のワックス量を制御しているが、塗布ローラー上のワックス量を制御する手段は必ずしもこれに限定されるものではない。
In this embodiment, the amount of wax on the application roller is controlled by controlling the separation distance or contact state of the blade with respect to the
例えば、ワックスチャンバー4の位置を上下させ、グラビアローラー2のワックス8への浸漬量を変えることで、塗布ローラー上のワックス量を制御してもよい。また、グラビアローラーの回転速度、塗布ローラー間の圧力、ワックスの温度を調整することによって、塗布ローラー上のワックス量を制御してもよい。以下に、塗布ローラーの使用条件について説明する。
For example, the amount of wax on the application roller can be controlled by raising or lowering the position of the wax chamber 4 to change the amount of immersion of the
塗布ローラーの回転速度を調整することによって、ワックス層の厚さを調整することができる。例えば、被塗布材上のワックス層を厚くしたい場合、塗布ローラー回転速度を上げる。逆にワックス層を薄くしたい場合、塗布ローラー回転側を下げる。本実施形態で使用したワックス塗布装置1では、図5に示すように、グラビアローラー2とシリコンゴムローラー3の各々にモーター14を備え、コントローラーによりグラビアローラー2とシリコンゴムローラー3の回転速度、加速度、回転方向を自在に変更可能である。
The thickness of the wax layer can be adjusted by adjusting the rotation speed of the application roller. For example, if a thicker wax layer is desired on the workpiece, the rotation speed of the application roller is increased. Conversely, if a thinner wax layer is desired, the rotation speed of the application roller is decreased. In the
また、本実施形態のように塗布ローラーとして2つのローラー(グラビアローラー2とシリコンゴムローラー3)を用いている場合、ローラー間の圧力を調整することによって、被塗布材上でのワックスの量を制御することができる。この2つのローラーの間の圧力は、0.059±0.019MPaとすることが好ましい。シリコンゴムローラー3と胴6との間の圧力を調整することによって、転写体7上でのワックス量を制御することができる。この2つのローラーの間の圧力は、0.098±0.049MPaとすることが好ましい。
In addition, when two rollers (
以下に、本実施形態で使用した被塗布材7、及び、ワックス8について説明する。
The
(転写体)
本実施形態で使用した被塗布材である転写体7は、B2サイズで、図1の胴6の円周方向がB2短手方向に相当する。転写体7の厚さは3mmであり、表面にシリコンゴムを備えている。
(Transcript)
The
(ワックス)
本実施形態で使用したワックス8は常温では固体であり、ワックスチャンバーが加熱されることによって融解可能なものであることが好ましい。例えば、融点は96℃であり、粘度は100℃で45mPa・sであるワックスを用いることができる。なお、ワックス8は常温で液体であるものを用いてもよい。
(wax)
The
以下、実施例及び比較例を用いて本発明をさらに詳細に説明する。本発明は、その要旨を超えない限り、下記の実施例によって限定されるものではない。 The present invention will be described in more detail below using examples and comparative examples. The present invention is not limited to the following examples as long as the gist of the invention is not exceeded.
本実施例では、図1に示したワックス塗布装置1を用いた。
In this example, the
ワックスとしては、融点が96℃で常温(25℃)では固形のワックスを使用した。ワックスチャンバー4内でこのワックスを融解するため、ワックスチャンバーに設置されたヒーターを100℃に設定した。 The wax used has a melting point of 96°C and is solid at room temperature (25°C). To melt this wax in the wax chamber 4, the heater installed in the wax chamber was set to 100°C.
グラビアローラー2及びシリコンゴムローラー3の内部に設置したカートリッジヒーター9及び12についてもそれぞれのローラー上でワックスが固化しないように、各ローラー内に設置された熱電対10及び13で測定した温度が100℃になるように調整した。なお、このとき、各ローラーの表面温度は、グラビアローラー2が100℃であり、シリコンゴムローラー3は表面のゴムの熱伝導性の影響で、97℃であった。
The
また、転写体7の表面はワックス8を塗布前の工程で、不図示の赤外線加熱装置によって加熱された。この加熱によって、ワックス塗布直前の転写体7の表面温度は50~65℃になるように調整された。なお、この温度範囲内での転写体7上に形成されるワックス8のワックス層の厚さの変化は生じなかった。
The surface of the
(実施例1~4)
下記表1に記載の回転速度で、塗布ローラーであるグラビアローラー2とシリコンゴムローラー3を回転させることによってワックスチャンバー4からワックス8を搬送した。そして、シリコンゴムローラー3条のワックス8を転写体7に塗布し、転写体7上にワックス層を形成した。このとき、グラビアローラー2とシリコンゴムローラー3は、図1の矢印の方向に回転させた。転写体7を固定する胴6は図1の矢印の方向に600mm/sの回転速度で回転させた。この転写体7へのワックス8の塗布の操作を1000回繰り返した。
(Examples 1 to 4)
実施例1では、塗布ローラーとしてシリコンゴムローラー3のみを用い、ブレード5をシリコンゴムローラー3に当接させた。そして、シリコンゴムローラー3に当接させたブレード5を表1に記載の離間時間だけ一時的に離間させることによって、シリコンゴムローラー3へのワックス8の塗布量を多くし、シリコンゴムローラー3上に厚いワックス層の領域を回転方向に90mm形成した。そして、シリコンゴムローラー3によって、最初に転写体7にワックス8を塗布する際に、この厚いワックス層の領域でシリコンゴムローラー3と転写体7を接触させた。
In Example 1, only the
実施例2及び4では、塗布ローラーとしてグラビアローラー2とシリコンゴムローラー3を用い、ブレード5をグラビアローラー2に当接させた。そして、グラビアローラー2に当接させたブレード5を表1に記載の離間時間だけ一時的に離間させることによって、グラビアローラー2へのワックス8の塗布量を多くし、グラビアローラー2上に厚いワックス層の領域を回転方向にそれぞれ90mm及び180mm形成した。このグラビアローラー2上に形成された厚いワックス領域は、シリコンゴムローラー3との接触により、シリコンゴムローラー3上に移動し、シリコンゴムローラー3上に厚いワックス領域を形成した。そして、シリコンゴムローラー3によって、最初に転写体7にワックス8を塗布する際に、この厚いワックス層の領域でシリコンゴムローラー3と転写体7を接触させた。
In Examples 2 and 4, a
実施例3では、塗布ローラーとしてグラビアローラー2とシリコンゴムローラー3を用い、ブレード5をグラビアローラー2に当接させた。グラビアローラー2に当接させているブレード5を離間させない状態でグラビアローラー2上にワックス層を形成した。このグラビアローラー2上に形成された厚いワックス領域は、シリコンゴムローラー3との接触により、シリコンゴムローラー3上に移動する。このとき、グラビアローラー2の回転速度を速くすることによって、シリコンゴムローラー3へのワックス8の塗布量を多くし、シリコンゴムローラー3上に厚いワックス層の領域を回転方向に90mm形成した。
In Example 3, a
また、実施例3及び4では、グラビアローラー2とシリコンゴムローラー3の回転速度を表1に記載のように変化させることによって、グラビアローラー2上に形成されるワックス層の厚さを調整し、転写体7上に形成されるワックス層の厚さを調整した。
In addition, in Examples 3 and 4, the rotation speeds of the
このようにワックスが塗布された転写体7の表面の傷を目視により評価した。転写体7の表面に傷が見られなかった場合をA、転写体7の表面にわずかに傷が見られたが許容レベルであった場合をB、転写体7の表面に大きな傷が見られた場合をCとした。この転写体の表面の傷の評価結果を表1に示す。また、実施例1~4のいずれも、転写体7へのワックス8の塗布の操作を1000回繰り返したとき、連続して転写体7の表面にワックス薄膜を形成することができた。
The surface of the
(比較例1)
比較例1では、シリコンゴムローラー3に当接されているブレード5を離間させなかったこと以外は、実施例1と同様の操作を行い、転写体7にワックス8を塗布した。その結果、転写体7の表面に、転写体7にシリコンゴムローラー3が接触したときの衝撃によって形成された傷が見られた。
(Comparative Example 1)
In Comparative Example 1, the same operation as in Example 1 was carried out to apply
(比較例2及び3)
比較例2及び3では、グラビアローラー2に当接されているブレード5を離間させなかったこと以外は、それぞれ実施例2及び4と同様の操作を行い、転写体7にワックス8を塗布した。その結果、比較例2及び3のいずれも、転写体7の表面に、転写体7にシリコンゴムローラー3が接触したときの衝撃によって形成された傷が見られた。
(Comparative Examples 2 and 3)
In Comparative Examples 2 and 3, the same operations as in Examples 2 and 4 were carried out, respectively, except that the blade 5 in contact with the
1 ワックス塗布装置
2 グラビアローラー
3 シリコンゴムローラー
4 ワックスチャンバー
5 ブレード
6 胴
7 転写体(被塗布材)
8 ワックス
9 カートリッジヒーター
10 熱電対
11 シリコンゴム
12 カートリッジヒーター
13 熱電対
14 モーター
REFERENCE SIGNS
8
Claims (6)
前記チャンバー内に貯留された前記ワックスを加熱する加熱手段と、
被塗布材に接触することで、前記加熱手段によって加熱された前記ワックスを前記被塗布材に塗布する塗布ローラーと、
前記塗布ローラー上の前記ワックスの量を制御するワックス量制御手段と、
を備えたワックス塗布装置であって、
前記ワックス量制御手段によって、最初に前記被塗布材に前記ワックスを塗布するときの前記塗布ローラー上の前記ワックスの量が、その後、前記被塗布材に連続して塗布するときの前記塗布ローラー上の前記ワックスの量よりも多くなるように制御されることを特徴とするワックス塗布装置。 A chamber capable of storing wax;
a heating means for heating the wax stored in the chamber;
an application roller that applies the wax heated by the heating means to a workpiece by contacting the workpiece;
a wax amount control means for controlling the amount of wax on the application roller;
A wax application device comprising:
A wax application device characterized in that the wax amount control means controls the amount of wax on the application roller when the wax is first applied to the workpiece to be greater than the amount of wax on the application roller when the wax is subsequently applied continuously to the workpiece.
前記塗布ローラー上の前記ワックスの一部をかき取るブレードと、
前記塗布ローラーと前記ブレードとの離間距離を制御して、前記塗布ローラー上の前記ワックスの量を制御するブレード位置制御手段と、
を備える請求項1に記載のワックス塗布装置。 The wax amount control means
a blade for scraping off a portion of the wax on the application roller;
a blade position control means for controlling a distance between the application roller and the blade to control the amount of wax on the application roller;
The wax application device of claim 1 .
前記グラビアローラーは、前記チャンバー内に貯留された前記ワックスを、前記ゴムローラーに搬送するローラーであり、
前記ゴムローラーは、前記グラビアローラーから搬送された前記ワックスを、前記被塗布材に塗布するローラーである請求項1に記載のワックス塗布装置。 The application roller includes a gravure roller and a rubber roller,
the gravure roller is a roller that transports the wax stored in the chamber to the rubber roller,
2. The wax application device according to claim 1, wherein the rubber roller is a roller that applies the wax conveyed from the gravure roller to the material to be applied.
前記ゴムローラーは、前記被塗布材と最初に接触する際は、前記被塗布材の移動速度と同じ速度、かつ、前記被塗布材と順方向で接触するように回転し、前記被塗布材と接触した後は、前記被塗布材の移動速度よりも低速、かつ、前記被塗布材と順方向で接触するように回転する請求項3に記載のワックス塗布装置。 the gravure roller rotates at a speed slower than the rotational speed of the rubber roller and in contact with the rubber roller in a counter direction;
4. The wax application device of claim 3, wherein when the rubber roller first comes into contact with the workpiece, the rubber roller rotates at the same speed as the moving speed of the workpiece and in a forward direction so as to contact the workpiece, and after coming into contact with the workpiece, the rubber roller rotates at a speed slower than the moving speed of the workpiece and in a forward direction so as to contact the workpiece.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022169812A JP2024062057A (en) | 2022-10-24 | 2022-10-24 | Wax application device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022169812A JP2024062057A (en) | 2022-10-24 | 2022-10-24 | Wax application device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2024062057A true JP2024062057A (en) | 2024-05-09 |
Family
ID=90970498
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022169812A Pending JP2024062057A (en) | 2022-10-24 | 2022-10-24 | Wax application device |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2024062057A (en) |
-
2022
- 2022-10-24 JP JP2022169812A patent/JP2024062057A/en active Pending
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