JP2024051355A - Cleaning Ring - Google Patents

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Abstract

【課題】内部での洗浄材の滞留を抑制することが可能な清掃用リングを提供すること。【解決手段】部材に対して洗浄材を吹き付けて当該部材を清掃するために用いられる清掃用リング20であって、前記洗浄材の流通路となる空間部を内部に備えた中空リング状の本体部210を備え、該本体部210の径方向内側には、前記空間部に連通し、前記空間部に供給された前記洗浄材を吹き出すための貫通孔が設けられており、前記本体部210の中心軸210cが延びる方向である第1方向D1を有し、前記空間部を画定する前記本体部210の内面には、前記第1方向D1が垂直方向となるように前記本体部210を配した時に底面となる部位に径方向内向きに下り傾斜となるテーパー面が設けられている清掃用リング20を提供する。【選択図】図2[Problem] To provide a cleaning ring capable of suppressing retention of a cleaning material inside. [Solution] A cleaning ring 20 used for spraying a cleaning material against a component to clean the component, the cleaning ring 20 includes a hollow ring-shaped main body 210 with a space therein that serves as a flow path for the cleaning material, the main body 210 has a through hole on its radially inner side that communicates with the space and through which the cleaning material supplied to the space is blown out, the main body 210 has a first direction D1 that is the direction in which a central axis 210c of the main body 210 extends, and the inner surface of the main body 210 that defines the space has a tapered surface that slopes downward radially inward at a portion that becomes the bottom surface when the main body 210 is arranged so that the first direction D1 is vertical. [Selected Figure] Figure 2

Description

本発明は清掃用リングに関し、より詳しくは、部材に対して洗浄材を吹き付けて清掃するために用いられる清掃用リングに関する。 The present invention relates to a cleaning ring, and more specifically, to a cleaning ring used to clean components by spraying them with a cleaning agent.

従来、配管どうしの接続部に配管と同程度の内径を有する清掃用リングを介在させ、配管内を液体や粉末が通過した後に清掃用リングから配管の内壁に固体(粉体)や液体の洗浄材やエアなどを吹き付けて配管を清掃することが行われている。なかでも液体の洗浄材(洗浄液)を用いた清掃が広く行われている(下記特許文献1、2参照)。このような清掃用リングは、内周面にエアや洗浄液を吹き出すための貫通孔を有し、配管だけでなく、タンクの除き窓の清掃などにも用いられている。また、このような清掃用リングは、リング状であるために内側に棒状体を挿通して該棒状体の外表面を清掃する目的でも用いられる。例えば、反応槽などでは槽の天井部に開口部を設けて該開口部を通じて上下に延びる回転軸を配置し、該回転軸の下端部に攪拌翼を設けて反応物を攪拌するようなことが行われているが、清掃用リングは、この開口部に配置して回転軸や攪拌翼を清掃するためにも用いることができる。 Conventionally, a cleaning ring having an inner diameter similar to that of the pipe is interposed between the connection parts of the pipes, and after liquid or powder passes through the pipes, a solid (powder), liquid cleaning material, air, etc. are sprayed from the cleaning ring onto the inner wall of the pipe to clean the pipes. In particular, cleaning using a liquid cleaning material (cleaning liquid) is widely used (see Patent Documents 1 and 2 below). Such cleaning rings have through holes on the inner surface for blowing air or cleaning liquid, and are used not only for cleaning pipes but also for cleaning tank windows. In addition, since such cleaning rings are ring-shaped, they can also be used to insert a rod-shaped body inside and clean the outer surface of the rod-shaped body. For example, in a reaction tank, an opening is provided in the ceiling of the tank, a rotating shaft extending up and down is placed through the opening, and an agitating blade is provided at the lower end of the rotating shaft to agitate the reactants. A cleaning ring can also be placed in this opening to clean the rotating shaft and the agitating blade.

特許第6542561号公報Patent No. 6542561 独国特許出願公開第102009049296号明細書DE 10 2009 049 296 A1

清掃が行われた後の清掃用リングには、内部に洗浄材が滞留してしまうことがある。次なる清掃において異なる洗浄材を用いる場合、内部に滞留した洗浄材は異物となる。また、反応装置などに利用された場合、反応装置の内部を減圧したりした場合に清掃用リング内に滞留した洗浄材が排出されて装置内の収容物に混入するおそれがある。そのような問題はこれまで着目されておらず、解決策についても検討がされていない。そこで本発明は、内部での洗浄材の滞留を抑制することが可能な清掃用リングを提供することを課題としている。 After cleaning, cleaning material may remain inside the cleaning ring. If a different cleaning material is used for the next cleaning, the cleaning material remaining inside will become a foreign object. In addition, when used in a reaction device, the cleaning material remaining inside the cleaning ring may be discharged and become mixed into the contents inside the device when the inside of the reaction device is depressurized. Such problems have not been noticed so far, and no solutions have been considered. Therefore, the object of the present invention is to provide a cleaning ring that can suppress the retention of cleaning material inside.

上記課題を解決するために本発明は、
部材に対して洗浄材を吹き付けて当該部材を清掃するために用いられる清掃用リングであって、
前記洗浄材の流通路となる空間部を内部に備えた中空リング状の本体部を備え、
該本体部の径方向内側には、前記空間部に連通し、前記空間部に供給された前記洗浄材を吹き出すための貫通孔が設けられており、
前記本体部の中心軸が延びる方向である第1方向を有し、
前記空間部を画定する前記本体部の内面には、前記第1方向が垂直方向となるように前記本体部を配した時に底面となる部位に径方向内向きに下り傾斜となるテーパー面が設けられている清掃用リング、を提供する。
In order to solve the above problems, the present invention provides:
A cleaning ring used to clean a component by spraying a cleaning material onto the component,
The cleaning material is passed through a hollow ring-shaped main body having a space therein,
A through hole is provided on a radially inner side of the main body, the through hole being in communication with the space and for blowing out the cleaning material supplied to the space,
A first direction is a direction in which a central axis of the main body extends,
A cleaning ring is provided in which an inner surface of the main body portion defining the space has a tapered surface that slopes downward radially inward at a portion that becomes the bottom surface when the main body portion is positioned so that the first direction is vertical.

本発明の清掃用リングは、洗浄材が供給される空間部の底部となる位置にテーパー面が設けられている。テーパー面を有することで本発明では洗浄材を吹き出す貫通孔が設けられている径方向内側に洗浄材を誘導することができ、内部における洗浄材の滞留を抑制することができる。 The cleaning ring of the present invention has a tapered surface at the bottom of the space where the cleaning material is supplied. By having a tapered surface, the cleaning material can be guided radially inward where the through holes from which the cleaning material is sprayed are provided, and the cleaning material can be prevented from accumulating inside.

図1は、清掃機能付装置である反応装置を示した概略正面図である。FIG. 1 is a schematic front view showing a reaction apparatus which is an apparatus with a cleaning function. 図2は、清掃用リングの概略斜視図である。FIG. 2 is a schematic perspective view of the cleaning ring. 図3は、清掃用リングの断面形状を示した概略断面図(図2のIII-III線矢視断面図)である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view (cross-sectional view taken along line III-III in FIG. 2) showing the cross-sectional shape of the cleaning ring. 図4は、清掃用の流体が吹き出す様子を示した概略正面図である。FIG. 4 is a schematic front view showing how the cleaning fluid is sprayed out. 図5Aは、清掃用の流体が吹き出す様子を示した概略平面図である(図4でのブロック矢印V方向に本体部の様子を観察した概略図)。FIG. 5A is a schematic plan view showing the state in which the cleaning fluid is sprayed out (a schematic view of the main body as viewed in the direction of block arrow V in FIG. 4). 図5Bは、リング本体の中心軸と第1貫通孔の貫通方向とに平行な平面で第1貫通孔の形成箇所を切断した際の断面形状を表した概略断面図(図5AでのB-B線矢視断面図)である。Figure 5B is a schematic cross-sectional view (cross-sectional view taken along line B-B in Figure 5A) showing the cross-sectional shape when the location where the first through hole is formed is cut by a plane parallel to the central axis of the ring body and the penetration direction of the first through hole. 図5Cは、リング本体の中心軸と第2貫通孔の貫通方向とに平行な平面で第2貫通孔の形成箇所を切断した際の断面形状を表した概略断面図(図5AでのC-C線矢視断面図)である。Figure 5C is a schematic cross-sectional view (cross-sectional view taken along line CC in Figure 5A) showing the cross-sectional shape when the location where the second through hole is formed is cut by a plane parallel to the central axis of the ring body and the penetration direction of the second through hole. 図6は、清掃用リングのリング本体の構成を示した概略斜視図である。FIG. 6 is a schematic perspective view showing the configuration of a ring body of the cleaning ring. 図7Aは、テーパー面の配置について示した概略図である。FIG. 7A is a schematic diagram showing the arrangement of tapered surfaces. 図7Bは、テーパー面の別の配置について示した概略図である。FIG. 7B is a schematic diagram showing another arrangement of tapered surfaces. 図7Cは、テーパー面の別の配置について示した概略図である。FIG. 7C is a schematic diagram showing another arrangement of tapered surfaces. 図7Dは、傾斜姿勢でのテーパー面の状態を示した概略図である。FIG. 7D is a schematic diagram showing the state of the tapered surface in an inclined position. 図8は、図1とは異なる使用形態で清掃用リングを用いた反応装置を示す概略正面図である。FIG. 8 is a schematic front view showing a reaction apparatus using a cleaning ring in a different manner from that shown in FIG. 図9は、清掃用リングと仮想面とを示した概略斜視図である。FIG. 9 is a schematic perspective view showing a cleaning ring and an imaginary surface. 図10は、図9での仮想面に洗浄液が到達する様子を示した模式図である。FIG. 10 is a schematic diagram showing how the cleaning liquid reaches the imaginary surface in FIG. 図11は、図10とは異なる貫通孔を有する場合の模式図である。FIG. 11 is a schematic diagram showing a case where a through hole different from that in FIG. 10 is provided.

以下に、図を参照しつつ本発明の一つの実施の形態について説明する。本実施形態では、清掃用リングを設ける装置が反応装置であり、グラスライニングが施された反応槽を有する装置である場合を例示するが本実施形態の清掃用リングはグラスライニング製品以外にも使用でき、反応装置以外にも、例えば、濾過装置や乾燥装置といったその他の装置などにも使用可能なものである。 Below, one embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In this embodiment, the device in which the cleaning ring is provided is a reaction device, and an example is shown in which the device has a glass-lined reaction tank, but the cleaning ring of this embodiment can be used for products other than glass-lined products, and can be used for other devices other than reaction devices, such as filtration devices and drying devices.

図1は、本実施形態における清掃機能付装置である反応装置1を示したもので、反応装置1は、反応槽10を備え、該反応槽10に接続される配管を通じて原材料が供給されるように構成されている。反応装置1は、反応装置1に外部から原材料を供給するための配管(以下、「装置外配管PX」という)を接続可能な配管(以下、「装置配管11a」ともいう)を有している。本実施形態の装置配管11aは、前記反応槽10から短く延びるように設けられている。本実施形態の反応装置1は、前記装置配管11aの端部に着脱自在に装着される清掃用リング20をさらに備えている。即ち、前記清掃用リング20は、装置外配管PXの接続時に当該装置外配管PXと前記装置配管11aとの間に介装されるように備えられている。 Figure 1 shows a reaction apparatus 1, which is an apparatus with a cleaning function in this embodiment. The reaction apparatus 1 is equipped with a reaction tank 10, and is configured so that raw materials are supplied through a pipe connected to the reaction tank 10. The reaction apparatus 1 has a pipe (hereinafter also referred to as "apparatus pipe 11a") to which a pipe (hereinafter referred to as "external apparatus pipe PX") for supplying raw materials from the outside to the reaction apparatus 1 can be connected. The apparatus pipe 11a in this embodiment is provided so as to extend a short distance from the reaction tank 10. The reaction apparatus 1 in this embodiment further includes a cleaning ring 20 that is detachably attached to the end of the apparatus pipe 11a. That is, the cleaning ring 20 is provided so as to be interposed between the external apparatus pipe PX and the apparatus pipe 11a when the external apparatus pipe PX is connected.

本実施形態の清掃用リング20は、上記の通り2つの部材の間に介装させて用いられる。本実施形態では、2つの部材の内の一部材が他部材よりも上方に位置し、清掃用リング20が、2つの部材で上下方向から挟まれるようにして用いられる。本実施形態では、2つの部材の内の上方に位置する前記一部材が装置外配管PXであり、下方に位置する他部材が装置配管11aである場合を例示するが、清掃用リング20を間に介装させる2つの部材は、このような特定の部材に限定されない。 The cleaning ring 20 of this embodiment is used by being interposed between two members as described above. In this embodiment, one of the two members is located above the other member, and the cleaning ring 20 is used by being sandwiched between the two members from above and below. In this embodiment, an example is shown in which the one of the two members located above is the external piping PX, and the other member located below is the device piping 11a, but the two members between which the cleaning ring 20 is interposed are not limited to such specific members.

本実施形態の前記反応槽10は、反応を行う原材料を収容する収容空間10cを有している。本実施形態の前記反応槽10は、この収容空間10cに対して露出する箇所に対してグラスライニングが施されて耐食性が付与されている。本実施形態の前記反応槽10は、平面視円形の底壁部12と、該底壁部12の外周縁より円筒状になって上方に延びる周側壁部13と、前記底壁部12と上下方向に対向して前記周側壁部13の上端部を塞ぐように配される平面視円形の天井壁部14とを備えた槽本体110を有している。本実施形態の前記反応槽10では、該槽本体110の内側の壁面によって前記収容空間10cが画定されている。 The reaction tank 10 of this embodiment has a storage space 10c that stores raw materials to be reacted. The reaction tank 10 of this embodiment has a glass lining on the exposed portion of the storage space 10c to provide corrosion resistance. The reaction tank 10 of this embodiment has a tank body 110 including a bottom wall portion 12 that is circular in plan view, a peripheral wall portion 13 that is cylindrical and extends upward from the outer periphery of the bottom wall portion 12, and a ceiling wall portion 14 that is circular in plan view and is arranged to block the upper end of the peripheral wall portion 13 in a vertical direction opposite to the bottom wall portion 12. In the reaction tank 10 of this embodiment, the storage space 10c is defined by the inner wall surface of the tank body 110.

本実施形態の反応槽10は、収容空間10cと連通する開口部が前記天井壁部14の4箇所に設けられている。4つの開口部の内の一つは、ガラス板で構成された覗き窓を備えた蓋体の装着されたマンホール(図示せず)である。残り3つの開口部の内の一つは、前記装置外配管PXを通じて原材料の供給される材料供給口14aである。残る2つは、攪拌装置30とバッフル40とをそれぞれ取り付けるための攪拌装置取付口14bとバッフル取付口14cである。 In this embodiment, the reaction tank 10 has openings in four locations on the ceiling wall 14 that communicate with the storage space 10c. One of the four openings is a manhole (not shown) fitted with a lid equipped with a viewing window made of a glass plate. One of the remaining three openings is a material supply port 14a through which raw materials are supplied via the external piping PX. The remaining two are an agitator mounting port 14b and a baffle mounting port 14c for mounting an agitator 30 and a baffle 40, respectively.

前記攪拌装置取付口14bは、前記天井壁部14の概ね中央部において開口している。前記材料供給口14aと、前記バッフル取付口14cとは前記攪拌装置取付口14bを間に挟んで前記天井壁部14の左右に分かれて配されている。反応槽10は、槽本体110の前記材料供給口14a、前記攪拌装置取付口14b、及び、前記バッフル取付口14cのそれぞれからは上方に向けて短く延びる筒状部を更に備える。各筒状部の端縁における開口は、反応槽10の上端部における開口となっており、上方に向けて開口している。該開口は、前記収容空間10cと反応槽外の空間(外部空間)とを連通させるのに利用可能である。前記材料供給口14aから延びる第1の筒状部は、装置外配管PXに接続される装置配管11aである。前記攪拌装置取付口14bから延びる第2の筒状部11bは、前記攪拌装置30の回転軸31を挿通させるために利用されている。前記バッフル取付口14cから延びる第3の筒状部11cは前記バッフル40を挿通させるために利用されている。装置配管11aが装置外配管PXと連通しているのに対して第2の筒状部11bと第3の筒状部11cとは蓋体によって閉じられた状態になっている。 The agitator mounting port 14b opens at approximately the center of the ceiling wall 14. The material supply port 14a and the baffle mounting port 14c are arranged on the left and right sides of the ceiling wall 14 with the agitator mounting port 14b in between. The reaction tank 10 further includes a short cylindrical portion extending upward from each of the material supply port 14a, the agitator mounting port 14b, and the baffle mounting port 14c of the tank body 110. The openings at the edges of each cylindrical portion are openings at the upper end of the reaction tank 10 and open upward. The openings can be used to communicate the storage space 10c with the space outside the reaction tank (external space). The first cylindrical portion extending from the material supply port 14a is the device piping 11a connected to the device external piping PX. The second cylindrical portion 11b extending from the agitator mounting port 14b is used to insert the rotating shaft 31 of the agitator 30. The third cylindrical portion 11c extending from the baffle mounting port 14c is used to insert the baffle 40. The device piping 11a is connected to the external device piping PX, while the second cylindrical portion 11b and the third cylindrical portion 11c are closed by lids.

第1の筒状部である装置配管11aには装置外配管PXが接続されている一方で、第2の筒状部11bと第3の筒状部11cとのそれぞれには、図示されていない前記マンホールと同様に蓋体15が装着されている。該蓋体15は、それぞれの筒状部の上端縁における開口を塞ぐように筒状部の上方に装着されている。前記回転軸31は、第2の筒状部11bの中央部を通って上下方向に延び、該第2の筒状部11bの上方に装着されている前記蓋体15を貫通して蓋体15よりも上方まで延びている。第3の筒状部11cでは、上端部が前記蓋体15に固定されたバッフル40が、当該第3の筒状部11cの中央部を通って下方に延びている。 The external piping PX is connected to the first cylindrical portion, the device piping 11a, while the second cylindrical portion 11b and the third cylindrical portion 11c are each fitted with a lid 15, similar to the manhole (not shown). The lid 15 is fitted to the top of each cylindrical portion so as to cover the opening at the top edge of the cylindrical portion. The rotating shaft 31 extends vertically through the center of the second cylindrical portion 11b, passes through the lid 15 fitted to the top of the second cylindrical portion 11b, and extends above the lid 15. In the third cylindrical portion 11c, a baffle 40, the upper end of which is fixed to the lid 15, extends downward through the center of the third cylindrical portion 11c.

装置配管11aと装置外配管PXとの間には、前記の通り清掃用リング20が介装されている。装置配管11aと装置外配管PXとは、概ね内径が一致している。清掃用リング20は、図2に示すように円環状の本体部210を有し、該本体部210の内径が装置配管11aと装置外配管PXの内径と共通している。前記清掃用リング20は、反応槽10の上部開口を画定している装置配管11a(第1の筒状部)の上端縁の上方に前記本体部210を装着させて反応装置1に備えられている。リング状の本体部210は、前記開口の一部又は全部を包囲するように装置配管11aよりも上方に装着されている。より詳しくは、前記清掃用リング20は、前記装置配管11aの中心軸11acと前記本体部210の中心軸210cとが一致するように前記装置配管11aの上端部に装着されており、前記本体部210の中心軸方向での厚さ分だけ該装置配管11aの流路を延設するように配されている。装置外配管PXは、中心軸が前記清掃用リング20や前記装置配管11aの中心軸と一致するように配されている。即ち、本実施形態での装置配管11a、装置外配管PX、及び、本体部210は、内側の周面が面一となっていて3つの周面が一つの円筒を構成するように接続されている。 As described above, the cleaning ring 20 is interposed between the device pipe 11a and the external pipe PX. The device pipe 11a and the external pipe PX have roughly the same inner diameter. The cleaning ring 20 has a circular main body 210 as shown in FIG. 2, and the inner diameter of the main body 210 is the same as the inner diameter of the device pipe 11a and the external pipe PX. The cleaning ring 20 is provided in the reaction apparatus 1 by attaching the main body 210 above the upper edge of the device pipe 11a (first cylindrical part) that defines the upper opening of the reaction tank 10. The ring-shaped main body 210 is attached above the device pipe 11a so as to surround a part or all of the opening. More specifically, the cleaning ring 20 is attached to the upper end of the device pipe 11a so that the central axis 11ac of the device pipe 11a coincides with the central axis 210c of the main body 210, and is arranged to extend the flow path of the device pipe 11a by the thickness in the central axis direction of the main body 210. The external pipe PX is arranged so that its central axis coincides with the central axis of the cleaning ring 20 and the device pipe 11a. That is, in this embodiment, the device pipe 11a, the external pipe PX, and the main body 210 have the same inner circumferential surface, and the three circumferential surfaces are connected to form a single cylinder.

本実施形態の本体部210の外径は、装置配管11a、及び、装置外配管PXの外径以下である。即ち、径方向における本体部210の寸法は、該本体部210が装着される配管の肉厚と同じかそれよりも小さい。該配管の内径をφpi、外径をφpoとし、前記本体部の内径φri、外径をφroとしたときに、上記のように内径については「φpi=φri」となっていて外径については「φpo≧φro」となっている。本体部210の内径(φri)は配管の内径(φpi)よりも僅かに径大(φri>φpi)であってもよい。本体部210の外径(φro)は配管の内径(φpo)よりも僅かに径小(φro<φpo)であってもよい。即ち、本体部210は、中心軸の方向に沿って見た時に該本体部210が装着される配管の断面形状内に収まる形状を有していてもよい。本体部210を介して接続される装置配管11aと装置外配管PXとのそれぞれの端部にフランジ部が設けられており、該フランジ部を利用したクランプなどでの締結が行われる場合、本体部210の外径(φro)は配管の外径よりも僅かに径大で該本体部210が装着されるフランジ部の外径以下となるようにしてもよい。フランジ部どうしがボルト・ナットで締結される場合、本体部210の外径は、ボルトの位置よりも内側に収まる大きさとされる。 The outer diameter of the main body 210 in this embodiment is equal to or smaller than the outer diameter of the device piping 11a and the external piping PX . That is, the dimension of the main body 210 in the radial direction is equal to or smaller than the wall thickness of the piping to which the main body 210 is attached. When the inner diameter of the piping is φpi, the outer diameter is φpo, and the inner diameter of the main body is φri and the outer diameter is φro , as described above, the inner diameter is " φpi = φri " and the outer diameter is " φpoφro ". The inner diameter ( φri ) of the main body 210 may be slightly larger ( φri > φpi ) than the inner diameter ( φpi ) of the piping. The outer diameter ( φro ) of the main body 210 may be slightly smaller ( φro < φpo ) than the inner diameter ( φpo ) of the piping. That is, the main body 210 may have a shape that fits within the cross-sectional shape of the piping to which the main body 210 is attached when viewed along the direction of the central axis. When flanges are provided at the respective ends of the apparatus piping 11a and the external piping PX that are connected via the main body 210 and fastening is performed with a clamp or the like using the flanges, the outer diameter (φ ro ) of the main body 210 may be slightly larger than the outer diameter of the piping and equal to or smaller than the outer diameter of the flange to which the main body 210 is attached. When the flanges are fastened to each other with bolts and nuts, the outer diameter of the main body 210 is set to a size that fits inside the position of the bolts.

上記のように本実施形態の清掃用リング20は、被収容物が収容される収容空間10cと、該収容空間10cと外部空間とを連通させる開口部とを備え、被収容物の反応が行われる反応装置1に用いられている。本実施形態の清掃用リング20は、1つ若しくは複数の化学物質及び/又は1つ若しくは複数の化合物を含む被処理物の化学反応を伴った処理に用いられる装置の機器及び/又はその付帯設備として用いられ得る。本実施形態の清掃用リング20は、被処理物に含まれる化学物質や化合物を何らかの形で変化させる化学プロセスに用いられる機器及び/又はその付帯設備として用いられ得る。化学物質や化合物を変化させるために装置に供給するのは、変化させる化学物質や化合物と反応可能な別の化学物質や化合物だけでなく、例えば、熱エネルギー、光エネルギー、電気的エネルギー、磁気エネルギー、及び、運動エネルギーの内の少なくとも1つであってもよい。装置には、別の化学物質や化合物の供給とこれらのエネルギーの供給とが併用されてもよい。本実施形態の清掃用リング20を化学プロセスに用いられる機器及び/又はその付帯設備として用いる場合、被収容物は、化学物質や化合物のみを含むものであってもよく、化学物質や化合物を溶解可能な溶媒や分散媒を含んでいてもよい。被収容物は、変化させる化学物質や化合物を一つの成分として含む飲食品などであってもよく、化学物質や化合物を一成分として含む有機組成物(プラスチック組成物、ゴム組成物、薬剤など)や無機組成物(ガラス組成物、金属組成物、セラミック組成物など)などであってもよい。本実施形態の清掃用リング20は、例えば、医薬品製造、食品製造、半導体製造分野などでの機器及び/又はその付帯設備に用いられる。清掃用リング20は、被処理物に化学的な反応が施される反応装置だけでなく、化学反応以外の処理を行う装置に用いられてもよい。清掃用リング20は、混合、攪拌、ろ過、乾燥といった物理的な処理が施される処理装置(混合装置、攪拌装置、ろ過装置、乾燥装置など)であってもよい。これらの装置は、化学的な反応と物理的処理との両方が行われるものであっても物理的処理のみが行われるものであってもよい。本実施形態の清掃用リング20は、被収容物を貯留する貯留装置などにも好適に用いられ得る。清掃用リング20は、処理の施された被収容物が収容空間から排出された後に、次に処理が行われる被処理物が収容空間に導入される回分式処理装置などでのバッチ間の清掃に好適に用いられ得る。清掃用リング20は、前記開口部が機器類の取り付け口、覗き窓、被収容物の流路として用いられる回分式装置で用いられ得る。清掃用リング20は、被収容物の一部が入れ替えられる半回分式装置や連続式装置においても利用可能である。 As described above, the cleaning ring 20 of this embodiment is provided with a storage space 10c in which the object to be stored is stored, and an opening that connects the storage space 10c to an external space, and is used in a reaction device 1 in which the object to be stored undergoes a reaction. The cleaning ring 20 of this embodiment can be used as equipment and/or associated equipment of an apparatus used in a process involving a chemical reaction of an object to be processed that contains one or more chemical substances and/or one or more compounds. The cleaning ring 20 of this embodiment can be used as equipment and/or associated equipment of an apparatus used in a chemical process that changes in some way the chemical substances or compounds contained in the object to be processed. The energy supplied to the apparatus to change the chemical substances or compounds may be at least one of, for example, thermal energy, light energy, electrical energy, magnetic energy, and kinetic energy, as well as another chemical substance or compound that can react with the chemical substance or compound to be changed. The apparatus may be supplied with a combination of another chemical substance or compound and these energies. When the cleaning ring 20 of this embodiment is used as equipment and/or its auxiliary equipment used in a chemical process, the object may contain only chemical substances or compounds, or may contain a solvent or dispersion medium capable of dissolving chemical substances or compounds. The object may be food or drink containing the chemical substance or compound to be changed as one component, or may be an organic composition (plastic composition, rubber composition, medicine, etc.) or an inorganic composition (glass composition, metal composition, ceramic composition, etc.) containing the chemical substance or compound as one component. The cleaning ring 20 of this embodiment is used for equipment and/or its auxiliary equipment in, for example, pharmaceutical manufacturing, food manufacturing, semiconductor manufacturing, etc. The cleaning ring 20 may be used not only in a reaction device in which a chemical reaction is performed on the object to be processed, but also in an apparatus that performs a process other than a chemical reaction. The cleaning ring 20 may be a processing device (mixing device, stirring device, filtering device, drying device, etc.) in which a physical process such as mixing, stirring, filtering, or drying is performed. These devices may perform both a chemical reaction and a physical process, or may perform only a physical process. The cleaning ring 20 of this embodiment can also be suitably used in a storage device that stores the contents. The cleaning ring 20 can be suitably used for cleaning between batches in a batch processing device in which the processed contents are discharged from the storage space and the next processed contents are introduced into the storage space. The cleaning ring 20 can be used in a batch type device in which the opening is used as an attachment port for equipment, an observation window, or a flow path for the contained contents. The cleaning ring 20 can also be used in a semi-batch type device or a continuous type device in which a portion of the contained contents is replaced.

本実施形態の本体部210は、中心軸方向視における形状が上記のようになっていることで装置配管11aと装置外配管PXとに挟み込まれた状態でボルト・ナットやクランプで固定された際に全体的に圧力が作用し、一部にのみ強い圧力が加わることが防止される。一方でそのようにすると本体部210の大きさが制約されることになる。さらに、本体部210は、後述するように中空であり、壁の厚さなどが制約されることになる。本実施形態では当該本体部210を金属製とすることで小型でありながらも高い強度を有している。 The main body 210 of this embodiment has the above-described shape when viewed in the central axis direction, so that when it is sandwiched between the device piping 11a and the external piping PX and fixed with bolts, nuts, or clamps, pressure acts on the entire body, preventing strong pressure from being applied to only a portion. However, doing so restricts the size of the main body 210. Furthermore, as will be described later, the main body 210 is hollow, and the thickness of the wall, etc., is restricted. In this embodiment, the main body 210 is made of metal, so it is small but has high strength.

装置配管11a、装置外配管PX、及び、本体部210は、Oリングなどを挟んでそれらどうしが直接的に接するように接続されてもよく、ガスケットを挟んで接続されてもよい。 The device piping 11a, the external device piping PX, and the main body 210 may be connected so that they are in direct contact with each other via an O-ring or the like, or they may be connected via a gasket.

本実施形態での清掃用リング20は、内周側より洗浄液を吹き出して前記装置外配管PXや前記装置配管11aの内壁面に付着している原材料を洗い流して両配管を清掃するために用いられる。洗浄液は、水や有機溶媒などの溶媒に溶質が溶けた溶液であってもよく、浮遊固形物を含む分散液であってもよい。洗浄液は、溶質や浮遊固形物に加えて更にマイクロバブルのような気泡を含んでいてもよい。尚、本実施形態においては清掃用リング20から洗浄液を吹き出すようにしているが、配管を清掃するために清掃用リング20から吹き出す流体は液体に限らず粒子状の固体であってもよい。流体には、液体や固体などの洗浄材(液材、粒状材)以外にも気体などを採用してもよい。即ち、本実施形態では、前記流体として窒素ガスや二酸化炭素ガスを採用し、該気体による気流で清掃を行う清掃用リング20を採用してもよい。前記流体は、気流中に洗浄材の粒子を含んだものであってもよい。即ち、前記清掃用リング20で洗浄材を吹き出す具体的な態様としては、液体粒子を含んだ気流(ミストスプレー)や固体粒子を含んだ気流(パウダースプレー)であってもよい。前記清掃用リング20で洗浄材を吹き出す具体的な態様としては、固体粒子を含んだ液体(スラリー)や気泡を含んだ液体(気液混合流体)であってもよい。 The cleaning ring 20 in this embodiment is used to blow out a cleaning liquid from the inner periphery side to wash away raw materials adhering to the inner wall surface of the external pipe PX and the apparatus pipe 11a, thereby cleaning both pipes. The cleaning liquid may be a solution in which a solute is dissolved in a solvent such as water or an organic solvent, or a dispersion liquid containing suspended solids. The cleaning liquid may further contain air bubbles such as microbubbles in addition to the solute and suspended solids. In this embodiment, the cleaning liquid is blown out from the cleaning ring 20, but the fluid blown out from the cleaning ring 20 to clean the pipes is not limited to a liquid but may be a particulate solid. In addition to cleaning materials such as liquids and solids (liquid materials, granular materials), gases may be used as the fluid. That is, in this embodiment, nitrogen gas or carbon dioxide gas may be used as the fluid, and the cleaning ring 20 may be used to perform cleaning with an airflow of the gas. The fluid may contain particles of the cleaning material in the airflow. That is, the specific manner in which the cleaning material is sprayed by the cleaning ring 20 may be an airflow containing liquid particles (mist spray) or an airflow containing solid particles (powder spray). The specific manner in which the cleaning material is sprayed by the cleaning ring 20 may be a liquid containing solid particles (slurry) or a liquid containing bubbles (gas-liquid mixed fluid).

本実施形態での清掃用リング20の本体部210は、中実構造にはなっておらず、図3に示すように中空リング状である。即ち、本体部210は、内部に空間部210aを有する。該空間部210aは、前記洗浄液の流路として利用されるようになっている。本実施形態の空間部210aは、周方向Rに連続しており、本体部210の内部を通って当該本体部210の中心軸210cの周りを一周するように設けられている。即ち、本実施形態の本体部210は、前記洗浄液が流通される環状流路を有している。 The main body 210 of the cleaning ring 20 in this embodiment does not have a solid structure, but is a hollow ring as shown in FIG. 3. That is, the main body 210 has a space 210a inside. The space 210a is used as a flow path for the cleaning liquid. The space 210a in this embodiment is continuous in the circumferential direction R, and is provided so as to pass through the inside of the main body 210 and go around the central axis 210c of the main body 210. That is, the main body 210 in this embodiment has an annular flow path through which the cleaning liquid flows.

本実施形態での清掃用リング20は、前記本体部210の中心軸210cに沿った方向である第1方向D1を有する。該第1方向D1が垂直方向(鉛直方向)となるように配置した前記本体部210は、周方向Rに直交する平面での断面形状が図5Bに示すように縦長な長方形となっている。即ち、当該断面形状は、前記第1方向D1における寸法が径方向D2における寸法よりも僅かに大きな矩形である。 The cleaning ring 20 in this embodiment has a first direction D1 that is a direction along the central axis 210c of the main body 210. The main body 210 is arranged so that the first direction D1 is a vertical direction (perpendicular direction), and the cross-sectional shape in a plane perpendicular to the circumferential direction R is a vertically long rectangle as shown in FIG. 5B. In other words, the cross-sectional shape is a rectangle whose dimension in the first direction D1 is slightly larger than its dimension in the radial direction D2.

断面形状が長方形である本体部210は、その外形を画定する外側面210sが4つの面で構成されている。前記外側面210sは、円筒状の内周面210s1と、該内周面210s1よりも径が大きな外周面210s2と、上面210s3と、下面210s4との4つの面を有し、上面210s3、及び、下面210s4は、前記第1方向D1に沿った第1方向視における形状が何れも円環状(ドーナツ板状)である。上面210s3、及び、下面210s4は、内径及び外径が内周面210s1と外周面210s2との径に対応した円環状である。 The main body 210 has a rectangular cross-sectional shape, and the outer surface 210s that defines its outer shape is composed of four surfaces. The outer surface 210s has four surfaces: a cylindrical inner circumferential surface 210s1, an outer circumferential surface 210s2 that has a larger diameter than the inner circumferential surface 210s1, an upper surface 210s3, and a lower surface 210s4. The upper surface 210s3 and the lower surface 210s4 are both annular (donut plate) in shape when viewed in the first direction along the first direction D1. The upper surface 210s3 and the lower surface 210s4 are annular in inner and outer diameters that correspond to the diameters of the inner circumferential surface 210s1 and the outer circumferential surface 210s2.

前記空間部210aの断面形状は、図5Bに示すように台形となっている。従って、前記空間部210aを画定する本体部210の内面210iも4つの面で構成されている。該内面210iは、前記空間部210aの内周縁を画定する内周面210i1と、前記空間部の外周縁を画定する外周面210i2と、前記空間部210aの上縁を画定する天井面210i3と、前記空間部210aの下縁を画定する底面210i4とを含む。 The cross-sectional shape of the space 210a is trapezoidal as shown in FIG. 5B. Therefore, the inner surface 210i of the main body 210 that defines the space 210a is also composed of four surfaces. The inner surface 210i includes an inner peripheral surface 210i1 that defines the inner peripheral edge of the space 210a, an outer peripheral surface 210i2 that defines the outer peripheral edge of the space, a ceiling surface 210i3 that defines the upper edge of the space 210a, and a bottom surface 210i4 that defines the lower edge of the space 210a.

本体部210の内面210iにおける内周面210i1は、外側面210sでの内周面210s1よりも径が大きく、これらの径の差が内周側での本体部210の壁厚さとなっている。本体部210の内面210iにおける外周面210i2は、外側面210sでの外周面210s2よりも径が小さく、これらの径の差が外周側での本体部210の壁厚さとなっている。 The inner peripheral surface 210i1 of the inner surface 210i of the main body 210 is larger in diameter than the inner peripheral surface 210s1 of the outer surface 210s, and the difference between these diameters is the wall thickness of the main body 210 on the inner peripheral side. The outer peripheral surface 210i2 of the inner surface 210i of the main body 210 is smaller in diameter than the outer peripheral surface 210s2 of the outer surface 210s, and the difference between these diameters is the wall thickness of the main body 210 on the outer peripheral side.

本体部210の壁厚さは、当該本体部210の最も薄い部分でも0.5mm以上であることが好ましい。本体部210の壁の最小厚さは、1.0mm以上であってもよく、1.5mm以上であってもよく、2.0mm以上であってもよい。本体部210の壁の最小厚さは、通常、8mm以下とされる。本体部210の壁の厚さをこのような厚さとすることで放電加工により後述する貫通孔を精度よく加工することができる。 The wall thickness of the main body 210 is preferably 0.5 mm or more even at the thinnest part of the main body 210. The minimum wall thickness of the main body 210 may be 1.0 mm or more, 1.5 mm or more, or 2.0 mm or more. The minimum wall thickness of the main body 210 is usually 8 mm or less. By making the wall thickness of the main body 210 such a thickness, the through holes described below can be precisely machined by electric discharge machining.

前記天井面210i3は、外側面210sでの上面210s3と同様に板面が水平面となる円環状である。一方、前記底面210i4は、第1方向視における形状が円環状ではあるものの径方向内向きに先下がりとなるテーパー面となっている。即ち、前記天井面210i3から前記底面210i4までの距離は、外周面210i2から内周面210i1に向けて近付くにつれて大きくなっている。言い換えると、本実施形態での前記空間部210aは、径方向内側に向かうに従って第1方向D1での寸法が大きくなっており、内側に向けて軸方向に広幅になっている。 The ceiling surface 210i3 is annular with a horizontal plate surface, similar to the upper surface 210s3 of the outer surface 210s. On the other hand, the bottom surface 210i4 has an annular shape when viewed in the first direction, but is tapered downward toward the inside in the radial direction. That is, the distance from the ceiling surface 210i3 to the bottom surface 210i4 increases as it approaches from the outer peripheral surface 210i2 toward the inner peripheral surface 210i1. In other words, the dimension of the space 210a in this embodiment increases in the first direction D1 toward the inside in the radial direction, and becomes wider in the axial direction toward the inside.

本実施形態の本体部210の径方向D2内側には、図4、図5A~Cに示すように、前記空間部210aに連通し、前記空間部210aに供給された洗浄液を吹き出すための貫通孔210hが設けられている。該貫通孔210hは、内面210iにおける内周面210i1から外側面210sの内周面210s1に延び、該内周面210s1において開口している。本実施形態では後段において詳述するように複数の貫通孔210hが備えられており、該貫通孔210hが内周面210s1において周方向に等間隔に並んでいる。 As shown in Figs. 4 and 5A-C, in this embodiment, a through hole 210h is provided on the inside in the radial direction D2 of the main body 210, which is connected to the space 210a and for blowing out the cleaning liquid supplied to the space 210a. The through hole 210h extends from the inner peripheral surface 210i1 of the inner surface 210i to the inner peripheral surface 210s1 of the outer surface 210s, and opens at the inner peripheral surface 210s1. In this embodiment, as described in detail later, a plurality of through holes 210h are provided, and the through holes 210h are arranged at equal intervals in the circumferential direction on the inner peripheral surface 210s1.

本実施形態での清掃用リング20は、本体部210の外周部より径方向D2外向きに延びる配管部220を更に有する。配管部220は、その内部空間が前記本体部210の空間部210aに連通し、前記空間部210aへの洗浄液の供給経路として利用される。本実施形態の配管部220は、一旦、径方向D2に延びた後で前記第1方向D1と平行するように曲がっている。配管部220は、空間部210aの外周側において開口しており、より詳しくは、外周面210i2において開口している。 The cleaning ring 20 in this embodiment further has a piping section 220 that extends outward in the radial direction D2 from the outer periphery of the main body section 210. The internal space of the piping section 220 communicates with the space section 210a of the main body section 210, and is used as a supply path for cleaning liquid to the space section 210a. The piping section 220 in this embodiment first extends in the radial direction D2 and then bends so as to be parallel to the first direction D1. The piping section 220 opens on the outer periphery side of the space section 210a, more specifically, opens on the outer periphery surface 210i2.

前記の通り本実施形態での前記空間部210aは、配管部220の接続されている径方向D2外側に比べ、複数の貫通孔210hの形成されている径方向D2内側の方が軸方向に広幅になっている。そのため、本実施形態では、配管部220より供給される流体の圧力が周方向に伝搬され易くなっており、配管部220に近い貫通孔210hだけから勢いよく流体が吹き出して反対側では流体の勢いが弱まるといった問題を生じることが抑制されている。本実施形態では、高い圧力で本体部210に洗浄液が供給されて装置外配管PXの内壁面の清掃が行われるため、周方向に圧力勾配が生じ難い上記のような本体部210は好適であるといえる。 As described above, in the present embodiment, the space 210a is wider in the axial direction on the inner side in the radial direction D2 where the multiple through holes 210h are formed than on the outer side in the radial direction D2 where the piping section 220 is connected. Therefore, in this embodiment, the pressure of the fluid supplied from the piping section 220 is easily propagated in the circumferential direction, and the problem of the fluid being forcefully blown out only from the through holes 210h close to the piping section 220 and the fluid's force weakening on the opposite side is suppressed. In this embodiment, the cleaning liquid is supplied to the main body section 210 at high pressure to clean the inner wall surface of the external piping PX, so the main body section 210 as described above, which is less likely to generate a pressure gradient in the circumferential direction, is preferable.

前記本体部210を水平姿勢とし、前記第1方向が垂直方向となるように本体部210を配した時に前記底面210i4(テーパー面)が水平面HPに対して傾斜する角度θ1(径方向外向きでの仰角(径方向内向きでの俯角))は、例えば、15度以上とすることができる。前記角度θ1は、20度以上であってもよく、25度以上であってもよく、30度以上であってもよい。前記角度θ1は、例えば、50度以下とすることができる。前記角度θ1は、45度以下であってもよく、40度以下であってもよい。 When the main body 210 is in a horizontal position and the main body 210 is arranged so that the first direction is vertical, the angle θ1 (radially outward elevation angle (radially inward depression angle)) at which the bottom surface 210i4 (tapered surface) is inclined with respect to the horizontal plane HP can be, for example, 15 degrees or more. The angle θ1 may be 20 degrees or more, 25 degrees or more, or 30 degrees or more. The angle θ1 can be, for example, 50 degrees or less. The angle θ1 may be 45 degrees or less, or 40 degrees or less.

本実施形態での清掃用リング20は、前記本体部210とは反対側となる前記配管部220の端部から外向きに延びるフランジ部230をさらに備える。本実施形態の清掃用リング20は、該清掃用リング20に洗浄液を供給するための装置外配管PYと前記フランジ部230を利用して接続できるように構成されている。 The cleaning ring 20 in this embodiment further includes a flange portion 230 that extends outward from the end of the piping portion 220 on the opposite side to the main body portion 210. The cleaning ring 20 in this embodiment is configured so that it can be connected to an external piping PY for supplying cleaning liquid to the cleaning ring 20 using the flange portion 230.

本実施形態の清掃用リング20は、前記本体部210、前記配管部220、及び、前記フランジ部230が全て金属製であり、それぞれを構成する部材が溶接によって接続されている。即ち、本実施形態では空間部210aを画定する壁面を構成する全ての部材が金属製であり、該空間部210aと連通する空間の内壁面を画定する前記配管部220も金属製である。 In this embodiment, the cleaning ring 20 has the main body 210, the piping 220, and the flange 230 all made of metal, and the components that make up each are connected by welding. That is, in this embodiment, all the components that make up the wall surface that defines the space 210a are made of metal, and the piping 220 that defines the inner wall surface of the space that communicates with the space 210a is also made of metal.

清掃用リング20を構成する金属は、例えば、ニッケル基合金、鉄基合金、銅基合金、などとすることができる。前記金属は、例えば、ハステロイなどのニッケル基合金やステンレスなどの鉄基合金などといった耐食金属であってもよい。清掃用リング20は、前記本体部210やその他の部位にめっきが施されていてもよい。また、清掃用リング20は、異種金属が積層されたクラッド材で構成されてもよい。本実施形態では清掃用リング20として本体部210などが金属製であるものを例示しているが、清掃用リング20は、金属製でなくてもよく、樹脂製であってもよく、セラミックス製であってもよい。また、清掃用リング20は、金属、樹脂、セラミックスなど複数の素材で構成されてもよい。 The metal constituting the cleaning ring 20 may be, for example, a nickel-based alloy, an iron-based alloy, a copper-based alloy, etc. The metal may be, for example, a corrosion-resistant metal such as a nickel-based alloy such as Hastelloy or an iron-based alloy such as stainless steel. The cleaning ring 20 may be plated on the main body 210 or other parts. The cleaning ring 20 may also be made of a clad material in which different metals are laminated. In this embodiment, the cleaning ring 20 is exemplified by a cleaning ring in which the main body 210 and other parts are made of metal, but the cleaning ring 20 does not have to be made of metal, and may be made of resin or ceramics. The cleaning ring 20 may also be made of multiple materials such as metal, resin, and ceramics.

本実施形態での清掃用リング20は、本体部210の径方向D2内側に周方向Rに所定の間隔を設けて複数の貫通孔210hが備えられている。複数の貫通孔210hは、前記空間部210aと本体部210の径方向D2内側の壁面よりも内側の空間(外部空間)とを連通するように設けられている。即ち、本実施形態の本体部210は、洗浄液の流路(環状流路)を構成している単一の空間部に洗浄液を供給することで複数の貫通孔210hから同時に洗浄液を吹き出すことができるように構成されている。 The cleaning ring 20 in this embodiment is provided with a plurality of through holes 210h spaced at predetermined intervals in the circumferential direction R on the radially inner side D2 of the main body 210. The plurality of through holes 210h are provided to communicate the space 210a with the space (external space) inside the wall surface on the radially inner side D2 of the main body 210. That is, the main body 210 in this embodiment is configured so that the cleaning liquid can be sprayed simultaneously from the plurality of through holes 210h by supplying the cleaning liquid to a single space portion that constitutes a flow path (annular flow path) of the cleaning liquid.

本実施形態での複数の貫通孔210hには、前記第1方向D1に沿う第1方向視での洗浄液の吹き出し方向が前記中心軸210cに向けた方向となる第1貫通孔210h1と、洗浄液の吹き出し方向が前記中心軸210cに向けた方向に対して傾斜する方向(Dx)となる第2貫通孔210h2とが含まれている。本実施形態においては、複数の第2貫通孔210h2を有する。 The multiple through holes 210h in this embodiment include a first through hole 210h1 in which the cleaning liquid is sprayed in a direction toward the central axis 210c when viewed in a first direction along the first direction D1, and a second through hole 210h2 in which the cleaning liquid is sprayed in a direction (Dx) inclined with respect to the direction toward the central axis 210c. In this embodiment, there are multiple second through holes 210h2.

本実施形態での複数の貫通孔210hは、洗浄液の吹き出し方向が前記中心軸210cに向けた方向に対して時計回りの方向に傾斜しているか反時計回りの方向に傾斜しているかが共通する複数の第2貫通孔210h2を含む。本実施形態での複数の貫通孔210hは、洗浄液の吹き出し方向が前記中心軸210cに向けた方向に対して時計回りの方向に傾斜しているか反時計回りの方向に傾斜しているかが共通するとともに傾斜する角度も共通する複数の第2貫通孔210h2を含む。該複数の第2貫通孔210h2は、周囲方向に一定の間隔を保って本体部210の内周側に配されている。 The multiple through holes 210h in this embodiment include multiple second through holes 210h2 that have a common direction in which the cleaning liquid is sprayed out, either inclined clockwise or counterclockwise with respect to the direction toward the central axis 210c. The multiple through holes 210h in this embodiment include multiple second through holes 210h2 that have a common direction in which the cleaning liquid is sprayed out, either inclined clockwise or counterclockwise with respect to the direction toward the central axis 210c, and that also have a common angle of inclination. The multiple second through holes 210h2 are arranged on the inner periphery of the main body 210 at regular intervals in the circumferential direction.

本実施形態での清掃用リング20の第1貫通孔210h1と、第2貫通孔210h2とのそれぞれは、前記第1方向D1が垂直となるように配置した時に洗浄液の吹き出し方向が斜め上向きになるように設けられている。即ち、前記第1貫通孔210h1及び前記第2貫通孔210h2は、前記装置外配管PXの内壁面に対して斜め下から洗浄液を吹き付けるように配されている。 In this embodiment, the first through hole 210h1 and the second through hole 210h2 of the cleaning ring 20 are arranged so that the direction of spraying the cleaning liquid is obliquely upward when the ring is positioned so that the first direction D1 is vertical. In other words, the first through hole 210h1 and the second through hole 210h2 are arranged so that the cleaning liquid is sprayed obliquely downward against the inner wall surface of the external piping PX.

このとき前記第2貫通孔210h2からは、中心軸210cに向けた方向に対して傾斜する方向に洗浄液が吹き出されるので、装置外配管PXの内壁面には法線方向に対して斜めになって洗浄液が当り、その結果、壁面に当たった洗浄液が内壁面に沿って螺旋状に移動する。本実施形態では、傾斜する方向が共通する複数の第2貫通孔210h2を有するため、この複数の第2貫通孔210h2から吹き出した洗浄液は、勢いを互いに強め合いながら螺旋状に流れることになる。 At this time, the cleaning liquid is sprayed from the second through hole 210h2 in a direction inclined with respect to the direction toward the central axis 210c, so that the cleaning liquid hits the inner wall surface of the external pipe PX at an angle with respect to the normal direction, and as a result, the cleaning liquid that hits the wall surface moves in a spiral shape along the inner wall surface. In this embodiment, since there are multiple second through holes 210h2 that have a common inclination direction, the cleaning liquid sprayed from these multiple second through holes 210h2 flows in a spiral shape while strengthening each other's momentum.

複数の貫通孔より洗浄液を吹き出させる際には互いに干渉しないようにすることが好ましい。即ち、第2貫通孔の孔の向き(下記θd及びθh)は1つの第2貫通孔から吹き出される流体が別の貫通孔(隣り合う第1貫通孔又は第2貫通孔)から吹き出される流体の進行の妨げとならない方向とすることが好ましい。より具体的には第2貫通孔210h2から吹き出された流体が吹出方向に隣接する貫通孔から吹き出される流体よりも上方向に向けて流体を吹き出させることが好ましい。このように配置することによって第2貫通孔から吹き出された流体の勢いを弱めることなく螺旋状の流れを形成することができる。 When cleaning liquid is sprayed from multiple through-holes, it is preferable that they do not interfere with each other. In other words, it is preferable that the orientation of the second through-holes (θd and θh below) is such that the fluid sprayed from one second through-hole does not impede the progress of the fluid sprayed from another through-hole (the adjacent first through-hole or second through-hole). More specifically, it is preferable that the fluid sprayed from the second through-hole 210h2 is sprayed in a direction higher than the fluid sprayed from the through-hole adjacent in the spray direction. By arranging in this way, a spiral flow can be formed without weakening the momentum of the fluid sprayed from the second through-hole.

本実施形態では、前記第2貫通孔210h2の少なくとも1つが、前記流体の吹き出す方向に当該第2貫通孔から延ばした直線が、他の前記第2貫通孔から同様に延ばした直線とも交点を持たず、前記第1貫通孔210h1から延ばした直線とも交点を持たないように設けられている。本実施形態の本体部210では、複数の前記第2貫通孔210h2のそれぞれより流体の吹き出し方向延ばした前記直線は、互いに交点を持たず、且つ、全ての前記第1貫通孔210h1より延ばした前記直線とも交点を持たない。尚、流体の吹き出す方向に延ばした前記直線とは、それぞれの貫通孔の中心を通る直線の延長線を意味する。 In this embodiment, at least one of the second through holes 210h2 is provided so that a straight line extending from the second through hole in the direction in which the fluid is blown out does not intersect with straight lines similarly extending from the other second through holes, and does not intersect with a straight line extending from the first through hole 210h1. In the main body 210 of this embodiment, the straight lines extending from each of the multiple second through holes 210h2 in the direction in which the fluid is blown out do not intersect with each other, and do not intersect with the straight lines extending from all of the first through holes 210h1. The straight lines extending in the direction in which the fluid is blown out refer to extensions of straight lines passing through the centers of the respective through holes.

第2貫通孔210h2が本体部210の壁を貫通する方向が第1方向視において径方向D2に為す角度θdは、例えば、10度以上とすることができる。該角度θdは、例えば、20度以上とすることができる。該角度θdは、30度以上であってもよい。該角度θdは、例えば、60度以下とすることができる。角度θdは、50度以下であってもよく、45度以下であってもよい。尚、前記の角度θdは、第1方向視において中心軸210cと第2貫通孔210h2とを通る仮想線と、第2貫通孔210h2の貫通方向Dxに描いた仮想線との為す角度を測定して求めることができる。 The angle θd that the second through hole 210h2 makes with the radial direction D2 in the first direction view in the direction in which it penetrates the wall of the main body 210 can be, for example, 10 degrees or more. The angle θd can be, for example, 20 degrees or more. The angle θd may be, for example, 30 degrees or more. The angle θd can be, for example, 60 degrees or less. The angle θd may be, for example, 50 degrees or less, or 45 degrees or less. The angle θd can be determined by measuring the angle between a virtual line passing through the central axis 210c and the second through hole 210h2 in the first direction view and a virtual line drawn in the penetration direction Dx of the second through hole 210h2.

前記本体部210を水平姿勢とし、前記第1方向が垂直方向となるように本体部210を配した時に、第1貫通孔210h1や第2貫通孔210h2が本体部210の壁を貫通する方向と、水平面HPとが為す角度(仰角)θhは、例えば、0度以上であってもよく、例えば25度以上とすることができる。該角度θhは、35度以上であってもよい。該角度θhは、例えば、70度以下とすることができる。角度θhは、60度以下であってもよい。 When the main body 210 is in a horizontal position and arranged so that the first direction is vertical, the angle (elevation angle) θh between the direction in which the first through hole 210h1 and the second through hole 210h2 penetrate the wall of the main body 210 and the horizontal plane HP may be, for example, 0 degrees or more, and can be, for example, 25 degrees or more. The angle θh may be 35 degrees or more. The angle θh may be, for example, 70 degrees or less. The angle θh may be 60 degrees or less.

上記の通り本実施形態の清掃用リング20は、前記第1方向D1が垂直方向となるように前記本体部210を水平姿勢にした時に前記流体の吹き出し方向が斜め上向きとなるように前記貫通孔210hが設けられており、前記本体部210よりも上方に配される部材(装置外配管PX)の清掃に用いられる。 As described above, the cleaning ring 20 of this embodiment has the through holes 210h provided so that the fluid is blown out obliquely upward when the main body 210 is in a horizontal position so that the first direction D1 is vertical, and is used to clean components (external piping PX) arranged above the main body 210.

本実施形態では複数の第1貫通孔210h1と複数の第2貫通孔210h2とが本体部210に設けられ、該複数の第1貫通孔210h1と複数の第2貫通孔210h2とが周方向Rに交互に配されている。本実施形態で複数の第1貫通孔210h1が周方向Rに等間隔に配されているとともに複数の第2貫通孔210h2が周方向Rに等間隔に配されている。本実施形態では、周方向Rにおいて隣り合う第1貫通孔210h1と第2貫通孔210h2との間隔も一定である。 In this embodiment, a plurality of first through holes 210h1 and a plurality of second through holes 210h2 are provided in the main body 210, and the plurality of first through holes 210h1 and the plurality of second through holes 210h2 are arranged alternately in the circumferential direction R. In this embodiment, the plurality of first through holes 210h1 are arranged at equal intervals in the circumferential direction R, and the plurality of second through holes 210h2 are arranged at equal intervals in the circumferential direction R. In this embodiment, the interval between the first through holes 210h1 and the second through holes 210h2 adjacent to each other in the circumferential direction R is also constant.

複数の第1貫通孔210h1が設けられている位置は、水平姿勢での前記本体部210の下面210s4からの高さが共通している。複数の第2貫通孔210h2が設けられている位置も、水平姿勢での前記本体部210の下面210s4からの高さが共通している。そして、第1貫通孔210h1が設けられている高さと第2貫通孔210h2が設けられている高さも共通している。本実施形態の第1貫通孔210h1と第2貫通孔210h2とは高さ(第1方向D1における形成位置)が共通しており、本体部210の寸法の約半分の高さに位置している。即ち、前記第1貫通孔210h1と前記第2貫通孔210h2とは内側リング211の高さ方向中央部において当該内側リング211を貫通するように設けられている。 The positions where the multiple first through holes 210h1 are provided have a common height from the lower surface 210s4 of the main body 210 in a horizontal position. The positions where the multiple second through holes 210h2 are provided also have a common height from the lower surface 210s4 of the main body 210 in a horizontal position. The height at which the first through holes 210h1 are provided and the height at which the second through holes 210h2 are provided are also common. In this embodiment, the first through hole 210h1 and the second through hole 210h2 have a common height (position of formation in the first direction D1) and are located at a height that is approximately half the dimension of the main body 210. That is, the first through hole 210h1 and the second through hole 210h2 are provided so as to penetrate the inner ring 211 at the center of the height direction of the inner ring 211.

前記第1貫通孔210h1の貫通方向(流体吹き出し方向)が水平面HPに対して為す角度と前記第2貫通孔210h2の貫通方向(流体吹き出し方向)が水平面HPに対して為す角度は同じでもよく、異なる角度としてもよい。複数の第1貫通孔210h1の仰角は互いに共通していてもよく共通していなくてもよい。本実施形態では前記複数の第1貫通孔210h1の前記仰角(図5Bのθh1)は、互いに共通している。複数の第2貫通孔210h2の仰角も互いに共通していてもよく共通していなくてもよい。本実施形態では前記複数の第2貫通孔210h2の前記仰角(図5Cのθh2)も、互いに共通している。本実施形態では第1貫通孔210h1の前記仰角(θh1)と第2貫通孔210h2の前記仰角(θh2)とが共通している。 The angle of the through-hole 210h1 (fluid blowing direction) with respect to the horizontal plane HP and the angle of the through-hole 210h2 (fluid blowing direction) with respect to the horizontal plane HP may be the same or different. The elevation angles of the first through-holes 210h1 may or may not be common to each other. In this embodiment, the elevation angles of the first through-holes 210h1 (θh1 in FIG. 5B) are common to each other. The elevation angles of the second through-holes 210h2 may or may not be common to each other. In this embodiment, the elevation angles of the second through-holes 210h2 (θh2 in FIG. 5C) are also common to each other. In this embodiment, the elevation angle of the first through-hole 210h1 (θh1) and the elevation angle of the second through-hole 210h2 (θh2) are common to each other.

図5Aに示されているように第1貫通孔210h1から吹き出した流体と第2貫通孔210h2から吹き出した流体とが第1方向視において交差する地点XPまでの第1貫通孔210h1からの距離(L1)は、第2貫通孔210h2からの距離(L2)に比べて短い。そのため、第1貫通孔210h1の仰角(θh1)と第2貫通孔210h2の仰角(θh2)とを共通させると交差する地点XPまでに両者から吹き出された洗浄液に高低差が生じ、これらが衝突することを回避することができる。 5A, the distance (L1) from the first through hole 210h1 to the point XP where the fluid blown out from the first through hole 210h1 and the fluid blown out from the second through hole 210h2 intersect when viewed in the first direction is shorter than the distance (L2) from the second through hole 210h2. Therefore, if the elevation angle (θh1) of the first through hole 210h1 and the elevation angle (θh2) of the second through hole 210h2 are made the same, a difference in height will occur in the cleaning liquid blown out from both holes by the time they intersect at the point XP, and collision between them can be avoided.

前記第1貫通孔210h1から吹き出した洗浄液は法線方向に向けて装置外配管PXの内壁面に衝突するため、強い打力で内壁面を洗浄する。このように付着物の除去能力に優れた第1貫通孔210h1と広範囲の洗浄が可能な第2貫通孔210h2を有する本実施形態の清掃用リング20は、清掃対象となる部材を短時間で清浄な状態にすることができる。また、本実施形態では、本体部210が金属製であるため、空間部10aに高い圧力の洗浄液を供給することもできる。 The cleaning liquid sprayed out from the first through hole 210h1 hits the inner wall surface of the external pipe PX in the normal direction, cleaning the inner wall surface with a strong impact force. The cleaning ring 20 of this embodiment, which has the first through hole 210h1 with excellent ability to remove deposits and the second through hole 210h2 capable of cleaning a wide area, can make the member to be cleaned clean in a short time. In addition, in this embodiment, since the main body 210 is made of metal, high-pressure cleaning liquid can also be supplied to the space 10a.

第1貫通孔及び第2貫通孔を形成する孔は図3記載のように入口から出口にかけて同じ径となるように形成されてもよいがこれに限定されず、入口から出口にかけて径が大きくなるように形成されても良い。このようにすることで洗浄液や洗浄ガスの供給圧力を高めた際に洗浄範囲を広げることも可能となり、供給圧力を変化させることで洗浄範囲を可変とすることができる。
また、第1貫通孔及び第2貫通孔は同一の高さに形成されている。同一高さとすることによって空間部210aの底部に傾斜を設けた場合であってもそれぞれの貫通孔にかかる圧力を略均一とすることができ洗浄の偏りを押さえることができる。
The holes forming the first through hole and the second through hole may be formed so as to have the same diameter from the inlet to the outlet as shown in Fig. 3, but are not limited to this, and may be formed so as to have a larger diameter from the inlet to the outlet. In this way, it is possible to widen the cleaning range when the supply pressure of the cleaning liquid or cleaning gas is increased, and the cleaning range can be varied by changing the supply pressure.
In addition, the first through hole and the second through hole are formed at the same height. By making them at the same height, even if the bottom of the space 210a is inclined, the pressure applied to each through hole can be made approximately uniform, and uneven cleaning can be suppressed.

本実施形態では、圧力や温度を異ならせて洗浄液の吹き付けを複数回実施してもよい。また、本実施形態では、種類を異ならせて洗浄液の吹き付けを複数回実施してもよい。さらには、本実施形態では、液体の吹き付けと、気体の吹き付けとを行ってもよい。液体による洗浄後に気体を吹き付けるようにすると装置外配管PXの内壁面に付着した洗浄液を気流で吹き飛ばして内壁面を乾燥させることができる。装置外配管PXの内壁面から本来除去すべき物質が洗浄液に溶け込んでいたりすると、壁面に付着した液滴が乾燥する過程で当該物質が濃縮されてしまうことになるが、液滴を気流で吹き飛ばすとそのような問題も生じない。そのような場合、本体部210に供給する気体の圧力を、洗浄液の供給圧力よりも高く設定してもよい。 In this embodiment, the cleaning liquid may be sprayed multiple times with different pressures and temperatures. Also, in this embodiment, the cleaning liquid may be sprayed multiple times with different types. Furthermore, in this embodiment, liquid and gas may be sprayed together. If gas is sprayed after cleaning with liquid, the cleaning liquid attached to the inner wall surface of the external pipe PX can be blown off with an air flow to dry the inner wall surface. If a substance that should be removed from the inner wall surface of the external pipe PX is dissolved in the cleaning liquid, the substance will be concentrated in the process of drying the droplets attached to the wall surface, but if the droplets are blown off with an air flow, such a problem does not occur. In such a case, the pressure of the gas supplied to the main body 210 may be set higher than the supply pressure of the cleaning liquid.

上記のように本実施形態の清掃機能付装置(反応装置1)は、内部の清掃のために前記清掃用リング20から吹き出す前記流体の圧力条件や温度条件を切替可能であってもよく、前記流体の種類を切替可能であってもよい。清掃機能付装置は内部の清掃のために前記清掃用リング20から吹き出す前記流体を液体と気体とに切替可能であってもよい。 As described above, the cleaning function-equipped device (reaction device 1) of this embodiment may be capable of switching the pressure conditions and temperature conditions of the fluid blown out from the cleaning ring 20 for internal cleaning, and may be capable of switching the type of fluid. The cleaning function-equipped device may be capable of switching the fluid blown out from the cleaning ring 20 between liquid and gas for internal cleaning.

流体としては、気体のみを用いてもよい。気体を用いる場合、反応槽10に収容されている収容物(原材料を単に混合しただけの混合物や原材料に反応させた反応物など)がそのまま反応槽10に残された状態でも収容物に影響を与えずに清掃し易いという利点を有する。即ち、気体は、反応槽10の運転中、運転休止中に関わらず清掃のための流体として利用しやすい。該気体としては、例えば、窒素ガス、酸素ガス、空気、水蒸気、炭酸ガス、水素ガス、アルゴンガスなどの無機ガスやメタンガス、プロパンガスなどの有機ガスが挙げられる。一方で、流体を液体とする場合は、反応槽10の運転期間中に装置外配管PXの清掃などに用いと液体を収容物に混入させることになり得る。そのため、収容物が反応槽10に残された状態では、液体の使用を少量に留めることが望ましく、液体(洗浄液)は、当該反応槽10に収容物が収容されていない運転休止中に使用されることが望ましい。 As the fluid, only gas may be used. When gas is used, it has an advantage that the contents (such as a mixture of raw materials simply mixed together or a reactant reacted with raw materials) contained in the reaction tank 10 can be easily cleaned without affecting the contents even if they are left in the reaction tank 10 as they are. That is, gas is easy to use as a fluid for cleaning regardless of whether the reaction tank 10 is in operation or out of operation. Examples of the gas include inorganic gases such as nitrogen gas, oxygen gas, air, water vapor, carbon dioxide gas, hydrogen gas, and argon gas, and organic gases such as methane gas and propane gas. On the other hand, when the fluid is a liquid, the liquid may be mixed into the contents when used for cleaning the external piping PX during the operation of the reaction tank 10. Therefore, when the contents are left in the reaction tank 10, it is desirable to limit the use of liquid to a small amount, and it is desirable to use the liquid (cleaning liquid) during outages when the reaction tank 10 does not contain any contents.

洗浄液や気体などの清掃のために本体部210に供給する流体の圧力(ゲージ圧)は、例えば、50kPa以上900kPa以下とすることができる。圧力は、100kPa以上300kPa以下であることがより好ましい。また、本体部210に供給する流体の温度は、例えば-90℃以上260℃以下とすることができる。 The pressure (gauge pressure) of the fluid supplied to the main body 210 for cleaning, such as a cleaning liquid or gas, can be, for example, 50 kPa or more and 900 kPa or less. It is more preferable that the pressure is 100 kPa or more and 300 kPa or less. In addition, the temperature of the fluid supplied to the main body 210 can be, for example, -90°C or more and 260°C or less.

前記の通り本実施形態の清掃用リング20は、前記本体部210が金属製である。また、前記本体部210は、図6に示すように、前記貫通孔210hの設けられた内側リング211と、該内側リング211に径方向外側から当接されている外側リング212とを備え、該外側リング212と前記内側リング211とが溶接によって一体化されることによって構成されている。前記内側リング211は、第1方向D1(中心軸210cの方向)が垂直となるように本体部210を配置した時に、当該本体部210の内周面210s1を構成するように配されている。前記外側リング212は、本体部210の上面210s3、下面210s4、及び、外周面210s2の3面を構成するように配されている。 As described above, the cleaning ring 20 of this embodiment has the main body 210 made of metal. As shown in FIG. 6, the main body 210 includes an inner ring 211 having the through hole 210h and an outer ring 212 that is in contact with the inner ring 211 from the radial outside, and is configured by welding the outer ring 212 and the inner ring 211 together. The inner ring 211 is arranged to form the inner peripheral surface 210s1 of the main body 210 when the main body 210 is arranged so that the first direction D1 (the direction of the central axis 210c) is vertical. The outer ring 212 is arranged to form three surfaces of the main body 210: the upper surface 210s3, the lower surface 210s4, and the outer peripheral surface 210s2.

本体部210の上面210s3は、前記装置外配管PXの下端面に対向する面であり、前記中心軸210cが上下方向に延在する状態となる水平姿勢において当該本体部210の最上面となる面である。本体部210の下面210s4は、前記装置配管11aの上端面に対向する面であり、前記中心軸210cが上下方向に延在する状態となる水平姿勢において当該本体部210の最下面となる面である。 The upper surface 210s3 of the main body 210 faces the lower end surface of the external piping PX, and is the uppermost surface of the main body 210 in a horizontal position in which the central axis 210c extends vertically. The lower surface 210s4 of the main body 210 faces the upper end surface of the apparatus piping 11a, and is the lowermost surface of the main body 210 in a horizontal position in which the central axis 210c extends vertically.

前記本体部210は、洗浄液の流路となる空間部210aを内部に備えた中空リング状であり、前記空間部210aに連通し、前記空間部210aに供給された前記洗浄液を吹き出すための貫通孔210hが径方向内側に設けられている。前記本体部210は、内側部分を構成する筒状の内側リング211や該内側リング211よりも径方向外側に設けられた外側リング212などの複数の構成部材を備える。本実施形態では、前記外側リング212には径方向外向きに凹入した凹部が設けられている。前記本体部210での前記空間部210aは、該外側リング212の凹部を内側から塞ぐように前記内側リング211が前記外側リング212の内側に接合されて形成されている。そして、前記内側リング211には前記貫通孔210hが設けられ、前記外側リング212には前記空間部210aに前記洗浄液を供給するための流体供給孔210bが設けられている。 The main body 210 is a hollow ring having a space 210a therein that serves as a flow path for the cleaning liquid, and a through hole 210h is provided radially inwardly, which is connected to the space 210a and through which the cleaning liquid supplied to the space 210a is blown out. The main body 210 includes a plurality of components, such as a cylindrical inner ring 211 that constitutes the inner part and an outer ring 212 that is provided radially outwardly of the inner ring 211. In this embodiment, the outer ring 212 is provided with a recess that is recessed radially outward. The space 210a in the main body 210 is formed by joining the inner ring 211 to the inner side of the outer ring 212 so as to block the recess of the outer ring 212 from the inside. The inner ring 211 is provided with the through hole 210h, and the outer ring 212 is provided with a fluid supply hole 210b for supplying the cleaning liquid to the space 210a.

外側リング212の凹部は、当該外側リング212の内周側において周方向に延びる溝212dを形成するように設けられている。本実施形態での溝212dは、外側リング212の内周側の全周に亘って設けられている。本実施形態では、本体部210の内面210iの内の前記底面210i4は、径方向D2内向きに下り傾斜となるテーパー面である。言い換えると、前記底面210i4は、径方向D2外向きに上り傾斜となっている。従って、溝212dは、凹入方向(径方向D2外向き)に向かって溝幅が狭くなるように形成されている。 The recess of the outer ring 212 is provided so as to form a groove 212d extending in the circumferential direction on the inner periphery side of the outer ring 212. In this embodiment, the groove 212d is provided around the entire circumference of the inner periphery side of the outer ring 212. In this embodiment, the bottom surface 210i4 of the inner surface 210i of the main body 210 is a tapered surface that slopes downward inward in the radial direction D2. In other words, the bottom surface 210i4 slopes upward outward in the radial direction D2. Therefore, the groove 212d is formed so that the groove width narrows in the recessed direction (outward in the radial direction D2).

前記内側リング211は、筒状であり、本体部210の中心軸210cに共通する中心軸を有して第1方向D1に短く延びる円筒状である。前記の通り本実施形態の清掃用リング20は、内側リング211と外側リング212とを別々の部材によって構成させることができるので、それぞれを適切な形状に加工し易い。例えば、外側リング212を溶接する前の内側リング211に第1貫通孔210h1や第2貫通孔210h2を形成する方が、それらを正確な大きさや角度で形成し易くなる。このように本実施形態の清掃用リング20は、清掃される対象物に適した形状に容易に調製され得る。 The inner ring 211 is cylindrical and has a central axis common to the central axis 210c of the main body 210 and extends a short distance in the first direction D1. As described above, the cleaning ring 20 of this embodiment can be constructed with the inner ring 211 and the outer ring 212 made of separate materials, making it easy to process each into an appropriate shape. For example, it is easier to form the first through hole 210h1 and the second through hole 210h2 in the inner ring 211 before welding the outer ring 212 to them with accurate sizes and angles. In this way, the cleaning ring 20 of this embodiment can be easily prepared into a shape suitable for the object to be cleaned.

前記外側リング212は、前記本体部210の外周面を構成する外周壁部212aと、前記本体部210の上面を構成する第1鍔部212bと、前記本体部210の下面を構成する第2鍔部212cとを有する。前記流体供給孔210bは、この外側リング212の外周壁部212aを貫通するように設けられている。外周壁部212a、第1鍔部212b、及び、第2鍔部212cは、周方向Rに直交する平面での断面形状がコの字状となって外側リング212に備えられている。前記外側リング212は、内周側が全周に亘って開口しており、該開口より径方向外向きに凹入した形状を有することで断面形状がコの字状となっている。本実施形態では、内側リング211と外側リング212とを別々の部材によって構成させることができるので、この外側リング212の凹部の凹入形状などについても精度よく加工することができる。 The outer ring 212 has an outer wall 212a that constitutes the outer peripheral surface of the main body 210, a first flange 212b that constitutes the upper surface of the main body 210, and a second flange 212c that constitutes the lower surface of the main body 210. The fluid supply hole 210b is provided so as to penetrate the outer wall 212a of the outer ring 212. The outer wall 212a, the first flange 212b, and the second flange 212c are provided on the outer ring 212 so that the cross-sectional shape in a plane perpendicular to the circumferential direction R is U-shaped. The outer ring 212 has an opening on the inner peripheral side all around, and has a shape that is recessed radially outward from the opening, so that the cross-sectional shape is U-shaped. In this embodiment, the inner ring 211 and the outer ring 212 can be constructed from separate members, so that the recessed shape of the recess of the outer ring 212 can also be processed with high precision.

前記外周壁部212aは、前記内側リング211よりも径大な筒状であり、前記内側リング211を囲繞するように配されている。前記第1鍔部212bは、前記外周壁部212aの軸方向(第1方向D1)での一方の端部から径方向D2内向きに延びている。前記第2鍔部212cは、前記外周壁部212aの軸方向(第1方向D1)での他方の端部から径方向D2内向きに延びている。前記第1鍔部212bと前記第2鍔部212cとのそれぞれは、径方向D2内側の端縁部がそれぞれ前記内側リング211に溶接されている。 The outer peripheral wall portion 212a is cylindrical and has a larger diameter than the inner ring 211, and is arranged to surround the inner ring 211. The first flange portion 212b extends inward in the radial direction D2 from one end of the outer peripheral wall portion 212a in the axial direction (first direction D1). The second flange portion 212c extends inward in the radial direction D2 from the other end of the outer peripheral wall portion 212a in the axial direction (first direction D1). The first flange portion 212b and the second flange portion 212c each have an inner edge portion in the radial direction D2 welded to the inner ring 211.

第1方向D1における内側リング211の長さ(H1)は外側リング212の長さ(H2)以下である(H1≦H2)。本実施形態での内側リング211は、長さ(H1)が外側リング212よりも僅かに短く、外側リング212の長さ(H2)未満である(H1<H2)。本実施形態の本体部210は、中心軸210cからの径方向外向きに見た時に第1方向D1での内側リング211の両端縁の内の一方の端縁よりも外側に第1鍔部212bの径方向内側の端面の一部がはみ出すとともに内側リング211の他方の端縁よりも外側に第2鍔部212cの端面の一部がはみ出した状態になるように構成されている。内側リング211の一方の端縁では全周において内側リング211と第1鍔部212bとが溶接されている。内側リング211の他方の端縁では全周において内側リング211と第2鍔部212cとが溶接されている。 The length (H1) of the inner ring 211 in the first direction D1 is equal to or less than the length (H2) of the outer ring 212 (H1≦H2). The length (H1) of the inner ring 211 in this embodiment is slightly shorter than that of the outer ring 212 and is less than the length (H2) of the outer ring 212 (H1<H2). The main body 210 in this embodiment is configured such that, when viewed radially outward from the central axis 210c, a part of the radially inner end face of the first flange 212b protrudes outward from one of the two end edges of the inner ring 211 in the first direction D1, and a part of the end face of the second flange 212c protrudes outward from the other end edge of the inner ring 211. At one end edge of the inner ring 211, the inner ring 211 and the first flange 212b are welded to each other around the entire circumference. At the other end edge of the inner ring 211, the inner ring 211 and the second flange 212c are welded around the entire circumference.

本実施形態では、洗浄液などを高い圧力で吹き出すようにするため、前記第1鍔部212bと前記内側リング211との間や前記第2鍔部212cと前記内側リング211との間に隙間が形成されているとその部分に洗浄液が入り込んでしまうおそれがある。そのため、前記第1鍔部と前記内側リングとの前記溶接、及び、前記第2鍔部と前記内側リングとの前記溶接が何れも裏波溶接であることが好ましい。即ち、前記空間部210aに面する箇所において第1鍔部212bと内側リング211との境界線や第2鍔部と内側リング211との境界線が明確に現れないようにそれぞれが溶け合った裏波を形成させることで空間部210aに高い圧力で洗浄液を供給しても当該洗浄液が本体部210の内部に残留するおそれを低減することができる。 In this embodiment, in order to blow out the cleaning liquid etc. at high pressure, if a gap is formed between the first flange 212b and the inner ring 211 or between the second flange 212c and the inner ring 211, the cleaning liquid may get into the gap. Therefore, it is preferable that the welding between the first flange and the inner ring and the welding between the second flange and the inner ring are both uranami welding. That is, by forming a uranami in which the first flange 212b and the inner ring 211 and the boundary between the second flange and the inner ring 211 are melted together so that they do not clearly appear at the location facing the space 210a, the risk of the cleaning liquid remaining inside the main body 210 can be reduced even if the cleaning liquid is supplied to the space 210a at high pressure.

本実施形態の本体部210は、一部材(装置外配管PX)と他部材(装置配管11a)との間に介装され、上面210s3と下面210s4とのそれぞれがそれらの部材に直接又はガスケットなどを介して当接される形で用いられる。そのため、上面210s3と下面210s4とのそれぞれは、シール性を発揮させ易いという点で、平坦且つ平滑であることが望ましい。 The main body 210 of this embodiment is interposed between one member (external piping PX) and another member (apparatus piping 11a), and the upper surface 210s3 and the lower surface 210s4 are used in such a way that they are in contact with those members directly or via a gasket or the like. Therefore, it is desirable that the upper surface 210s3 and the lower surface 210s4 are each flat and smooth so that they can easily exhibit sealing properties.

本実施形態の本体部210は、構成部材として内側リング211と外側リング212とを備える。本実施形態のように本体部210が複数の構成部材の接合体である場合、内側リング211と外側リング212とは、前記上面210s3及び前記下面210s4にそれらの境界線が形成されないように接合されることが好ましい。そのことにより、前記上面210s3や前記下面210s4は、内側リング211と外側リング212との接合後(溶接後)に表面加工を施さなくても良好なシール性が発揮され得る。即ち、本実施形態の本体部210は、前記中心軸210cを上下方向に延在させた際に前記上面210s3が最上面となり、前記下面210s4が最下面となるように構成され、該本体部210を挟み込む2つの部材の内の一方に前記最上面が対向し、前記2つの部材の内の他方に前記最下面が対向するよう構成され、該本体部210が複数の構成部材の接合体で、該複数の構成部材は、部材間の境界が前記最上面と前記最下面との何れにも位置しないように接合されている。そのため、部材間に介装された状態において本実施形態の本体部210には良好なシール性が発揮され得る。 The main body 210 of this embodiment includes an inner ring 211 and an outer ring 212 as components. When the main body 210 is a joint of multiple components as in this embodiment, it is preferable that the inner ring 211 and the outer ring 212 are joined so that a boundary line between them is not formed on the upper surface 210s3 and the lower surface 210s4. As a result, the upper surface 210s3 and the lower surface 210s4 can exhibit good sealing properties without surface processing after joining (welding) the inner ring 211 and the outer ring 212. That is, the main body 210 of this embodiment is configured so that when the central axis 210c is extended in the vertical direction, the upper surface 210s3 becomes the uppermost surface and the lower surface 210s4 becomes the lowermost surface, the uppermost surface faces one of the two members that sandwich the main body 210, and the lowermost surface faces the other of the two members, and the main body 210 is a joint of multiple components, and the multiple components are joined so that the boundary between the components is not located on either the uppermost surface or the lowermost surface. Therefore, the main body 210 of this embodiment can exhibit good sealing properties when it is interposed between the members.

前記のように本体部210に洗浄液を供給して貫通孔210hより洗浄液を吹き出して洗浄を行った後で本体部210に気体を供給し、該気体で装置外配管PXの内壁面に付着した洗浄液の液滴を除去することは、前記本体部210の内部に残留する洗浄液を排出するのにも有効となる。また、洗浄液を供給した後の本体部への気体の供給は、清掃対象物に付着した液滴の除去を目的としたものでなく本体部210からの洗浄液の排出を目的としたものであってもよい。この後者の場合、本体部210への気体の供給圧力は洗浄液の供給圧力よりも低いものであってもよい。 As described above, supplying cleaning liquid to the main body 210 and spraying the cleaning liquid from the through hole 210h to perform cleaning, and then supplying gas to the main body 210 and using the gas to remove droplets of cleaning liquid adhering to the inner wall surface of the external piping PX, is also effective in discharging cleaning liquid remaining inside the main body 210. Furthermore, the supply of gas to the main body after supplying cleaning liquid may be for the purpose of discharging cleaning liquid from the main body 210, rather than for the purpose of removing droplets adhering to the object to be cleaned. In this latter case, the supply pressure of the gas to the main body 210 may be lower than the supply pressure of the cleaning liquid.

本体部210での洗浄液の残留を防止する観点からは、前記本体部210に第3貫通孔となるドレン孔210h3を設けるようにしてもよい。前記第1貫通孔210h1や前記第2貫通孔210h2が装置外配管PXの側(上側)に洗浄液を吹き出すように開口していたのに対して、当該ドレン孔210h3は、前記第1貫通孔210h1や前記第2貫通孔210h2とは反対側(装置配管11a側(下側))又は水平方向に向けて洗浄液が吹き出すように開口されていてもよい。 From the viewpoint of preventing the cleaning liquid from remaining in the main body 210, a drain hole 210h3 serving as a third through hole may be provided in the main body 210. While the first through hole 210h1 and the second through hole 210h2 are opened so as to blow out the cleaning liquid toward the external piping PX (upper side), the drain hole 210h3 may be opened so as to blow out the cleaning liquid toward the opposite side (apparatus piping 11a side (lower side)) from the first through hole 210h1 and the second through hole 210h2 or in the horizontal direction.

ドレン孔210h3は、本体部210を水平姿勢とした際の下面210s4からの高さが第1貫通孔210h1や第2貫通孔210h2よりも低くなるように設けられている。本実施形態でのドレン孔210h3は、複数の貫通孔210hの内、最も低い位置に設けられている。本実施形態の清掃用リング20は、本実施形態での清掃機能付装置である反応装置1において傾斜姿勢で配置されるのにおいて前記複数の貫通孔の内で前記ドレン孔210h3が最も低い位置となるように配置されている。 The drain hole 210h3 is provided so that its height from the bottom surface 210s4 when the main body 210 is in a horizontal position is lower than the first through hole 210h1 and the second through hole 210h2. In this embodiment, the drain hole 210h3 is provided at the lowest position among the multiple through holes 210h. The cleaning ring 20 of this embodiment is arranged in an inclined position in the reaction device 1, which is the device with cleaning function in this embodiment, and is arranged so that the drain hole 210h3 is at the lowest position among the multiple through holes.

前記第1貫通孔210h1と前記第2貫通孔210h2とは、前述のように内側リング211の高さ方向中央部に設けられている。より詳しくは、前記第1貫通孔210h1と前記第2貫通孔210h2とは、本体部210を水平姿勢とした際に、空間部210aの上端から下端までの高さ方向における中間点となる位置において開口している。前記第1貫通孔210h1と前記第2貫通孔210h2とは、空間部210aの下端から上端まで充満された洗浄液の内、上端から中間点までの洗浄液を排出できるように設けられている。一方でドレン孔210h3は、中間点よりも下部の洗浄液の少なくとも一部を排出できるように設けられている。空間部210aの中間部よりも下部の洗浄液がドレン孔210h3より排出される本実施形態の清掃用リング20は、洗浄後に本体部210に残留する洗浄液の量を低減することができる。ドレン孔210h3は、残留する洗浄液の下端からの高さが水平姿勢において中間点までの1/2以下となるように設けられることが好ましく、1/3以下となるように設けられることがより好ましい。 The first through hole 210h1 and the second through hole 210h2 are provided in the center of the height direction of the inner ring 211 as described above. More specifically, the first through hole 210h1 and the second through hole 210h2 are opened at a position that is the midpoint in the height direction from the upper end to the lower end of the space 210a when the main body 210 is in a horizontal position. The first through hole 210h1 and the second through hole 210h2 are provided so that the cleaning liquid from the upper end to the midpoint of the cleaning liquid filled from the lower end to the upper end of the space 210a can be discharged. On the other hand, the drain hole 210h3 is provided so that at least a part of the cleaning liquid below the midpoint can be discharged. The cleaning ring 20 of this embodiment, in which the cleaning liquid below the midpoint of the space 210a is discharged from the drain hole 210h3, can reduce the amount of cleaning liquid remaining in the main body 210 after cleaning. The drain hole 210h3 is preferably provided so that the height of the remaining cleaning liquid from the bottom end is 1/2 or less to the midpoint in the horizontal position, and more preferably 1/3 or less.

前記ドレン孔210h3は、前記第1方向D1が垂直方向となるように前記本体部210を配した時に前記空間部210aの下縁を画定する前記底面210i4と、前記空間部210aの内周縁を画定する前記内周面210i1とが交わる角部に設けられることが好ましい。本実施形態では、前記底面210i4が径方向D2内向きに下り傾斜となっているため、前記ドレン孔210h3から洗浄液が排出され易く洗浄液の残留を抑制できるようになっている。このことにより本実施形態では、空間部210aの下端まで実質的に全ての洗浄液を排出させることができる。 The drain hole 210h3 is preferably provided at a corner where the bottom surface 210i4, which defines the lower edge of the space 210a, intersects with the inner peripheral surface 210i1, which defines the inner peripheral edge of the space 210a, when the main body 210 is arranged so that the first direction D1 is vertical. In this embodiment, the bottom surface 210i4 is inclined downward in the radial direction D2, so that the cleaning liquid is easily discharged from the drain hole 210h3 and the remaining cleaning liquid can be suppressed. As a result, in this embodiment, substantially all of the cleaning liquid can be discharged to the lower end of the space 210a.

上記に例示の実施形態では、図7Aに示すように、前記底面210i4の全面がテーパー面TPLとなっているが、上記のような効果を得る上でテーパー面TPLは、前記底面210i4の一部であってもよい。より詳しくは、前記底面210i4は、図7B、図7Cに示すように、テーパー面TPLと水平面HPLとで構成されていてもよい。尚、図7Bのようにドレン孔210h3に隣り合う領域がテーパー面TPLでなく水平面HPLになっていると図7Dのように傾斜姿勢とした際に、水平面HPLがドレン孔210h3に向けて先上りした状態になり、テーパー面TPLと水平面HPLとの境界部がくぼんで洗浄液が僅かに溜まってしまうことにもなり得る。そのため、テーパー面TPLは、図7A、図7Cに示すように、内側リング211に到達するように設けられていることが好ましく、内周面210i1の下端部に達するように設けられていることが好ましい。即ち、テーパー面TPLは、径方向D2での内側の縁部がドレン孔210h3の開口位置に達していることが好ましい。 In the embodiment exemplified above, the entire surface of the bottom surface 210i4 is a tapered surface TPL as shown in FIG. 7A, but the tapered surface TPL may be a part of the bottom surface 210i4 to obtain the above-mentioned effect. More specifically, the bottom surface 210i4 may be composed of a tapered surface TPL and a horizontal surface HPL as shown in FIG. 7B and FIG. 7C. If the area adjacent to the drain hole 210h3 is a horizontal surface HPL rather than a tapered surface TPL as shown in FIG. 7B, when the inclined posture is taken as shown in FIG. 7D, the horizontal surface HPL will be in a state where the tip is raised toward the drain hole 210h3, and the boundary between the tapered surface TPL and the horizontal surface HPL may be recessed, causing a small amount of cleaning liquid to accumulate. Therefore, it is preferable that the tapered surface TPL is provided so as to reach the inner ring 211 as shown in FIG. 7A and FIG. 7C, and it is preferable that the tapered surface TPL is provided so as to reach the lower end of the inner peripheral surface 210i1. That is, it is preferable that the inner edge of the tapered surface TPL in the radial direction D2 reach the opening position of the drain hole 210h3.

ドレン孔210h3は、前記本体部210の径方向内向き方向での前記テーパー面TPLの端部に配され、該テーパー面TPLの端部に開口した状態となるように配されてもよい。その場合、ドレン孔210h3は、テーパー面TPLの径方向内側において水平面HPLが設けられたり、逆に径方向内側に向けて先上りとなる逆テーパー面が設けられたりしても空間部210aの下端に配されることになる。例えば、図7Bに示す本体部210では、径方向内側でのテーパー面TPLの端部は、テーパー面TPLと水平面HPLとの境界部となる。その場合、図7Bに示すような位置にドレン孔210h3を設けるのに代えてこの境界部にドレン孔210h3を配置するようにしてもよい。また、そのような位置に設けられたドレン孔210h3は、図7Dに記載されているような傾斜配置においても空間部210aの下端に位置することになり、洗浄液をより多く排出させる上で有効に機能する。 The drain hole 210h3 may be arranged at the end of the tapered surface TPL in the radially inward direction of the main body 210, and may be arranged so as to open at the end of the tapered surface TPL. In that case, the drain hole 210h3 will be arranged at the lower end of the space 210a even if a horizontal surface HPL is provided on the radially inner side of the tapered surface TPL, or conversely, an inverse tapered surface that rises toward the radially inner side is provided. For example, in the main body 210 shown in FIG. 7B, the end of the tapered surface TPL on the radially inner side is the boundary between the tapered surface TPL and the horizontal surface HPL. In that case, instead of providing the drain hole 210h3 at the position shown in FIG. 7B, the drain hole 210h3 may be arranged at this boundary. In addition, the drain hole 210h3 provided at such a position will be located at the lower end of the space 210a even in the inclined arrangement as shown in FIG. 7D, and will function effectively in discharging more cleaning liquid.

前記空間部210aは、前記本体部210を水平姿勢とし、当該空間部210aを水平面で切断した際の断面積を想定した場合、上記のようなテーパー面TPLを設けることによって、ドレン孔210h3の設けられている下方に向かって当該断面積が減少する。言い換えると、中心軸11acを含む垂直面(周方向Rに直交する平面)で前記本体部210を切断した際の前記空間部210aの断面形状は、該空間部210aの下端部に向けて先細りしている。そして、本実施形態では下端部に向けて先細りしている断面形状が最も細くなっている部位に前記ドレン孔が設けられている。本実施形態の空間部210aは、下端から同じ高さまでの容積を比較すると、断面積が減少せずに一定している場合に比べ前記容積が小さい。そのため、テーパー面TPLを設けることで、空間部210aに残留する洗浄液は、液面の低下に伴って体積が大きく減少し、より多くドレン孔210h3より排出されることになる。 When the main body 210 is in a horizontal position and the cross-sectional area of the space 210a is assumed to be a cross-sectional area when the main body 210 is cut on a horizontal plane, the cross-sectional area of the space 210a decreases toward the lower end where the drain hole 210h3 is provided by providing the tapered surface TPL as described above. In other words, when the main body 210 is cut on a vertical plane (a plane perpendicular to the circumferential direction R) including the central axis 11ac, the cross-sectional shape of the space 210a tapers toward the lower end of the space 210a. In this embodiment, the drain hole is provided at the portion where the cross-sectional shape tapering toward the lower end is the narrowest. When comparing the volume from the lower end to the same height, the volume of the space 210a in this embodiment is smaller than when the cross-sectional area is constant without decreasing. Therefore, by providing the tapered surface TPL, the volume of the cleaning liquid remaining in the space 210a is greatly reduced as the liquid level decreases, and more of it is discharged from the drain hole 210h3.

本実施形態では、前記本体部210が装着される装置配管11aは、その中心軸11acが垂直方向に対して傾きを有して上下に延びるように配されている。従って、本体部210も中心軸210cが垂直方向に対して傾いた状態で装置配管11aの端部に装着されている。装置配管11aの端部に装着するのに際しては本体部210の一端側を他端側よりも持ち上げて本体部210を傾斜姿勢とすることになるが、この姿勢での前記一端側は、水平姿勢よりも持ち上げられた状態になるので前記底面210i4の先下がり角度がより大きくなる。一方で前記他端側では逆に底面210i4の先下がり角度が浅くなる。そのため前記底面210i4が水平面HPに対して傾斜している第1の角度θ1は、前記傾斜姿勢において中心軸210cが垂直方向に対して傾いている第2の角度θ2を超えていることが好ましい。このことにより、底面210i4は、前記空間部210aの最下点となる箇所においても先下がりとなる状態を維持することができる。そして、前記ドレン孔210h3は、この最下点となる位置に設けられることが好ましい。即ち、前記清掃用リング20は、本体部210が傾斜姿勢となるように利用されるに際して空間部210aの最下点において前記ドレン孔210h3が開口している状態で用いられることが好ましい。 In this embodiment, the device piping 11a to which the main body 210 is attached is arranged so that its central axis 11ac extends up and down with an inclination to the vertical direction. Therefore, the main body 210 is also attached to the end of the device piping 11a with its central axis 210c inclined to the vertical direction. When attaching to the end of the device piping 11a, one end of the main body 210 is raised higher than the other end to put the main body 210 in an inclined position, and in this position, the one end is raised higher than the horizontal position, so the downward angle of the bottom surface 210i4 becomes larger. On the other hand, on the other end side, the downward angle of the bottom surface 210i4 becomes shallower. Therefore, it is preferable that the first angle θ1 at which the bottom surface 210i4 is inclined to the horizontal plane HP exceeds the second angle θ2 at which the central axis 210c is inclined to the vertical direction in the inclined position. This allows the bottom surface 210i4 to maintain a downward sloping state even at the lowest point of the space 210a. The drain hole 210h3 is preferably provided at this lowest point. In other words, the cleaning ring 20 is preferably used in a state where the drain hole 210h3 is open at the lowest point of the space 210a when the main body 210 is used in an inclined position.

前記ドレン孔210h3は、前記第1貫通孔210h1や前記第2貫通孔210h2と共通する径を有していてもよく、それらよりも径小であってもよく、径大であってもよい。前記ドレン孔210h3は、単一で設けられる必要は無く、複数設けられてもよい。前記ドレン孔210h3は、装置配管11aの洗浄に利用されてもよい。即ち、本実施形態の清掃用リング20は、前記本体部210を水平に配した時に斜め下向きに洗浄液を排出するように前記ドレン孔210h3を設け、該ドレン孔210h3から排出される洗浄液を装置配管11aの壁面に当てて装置外配管PXだけでなく装置配管11aに対しても優れた清浄化作用を発揮させるようにしてもよい。この時のドレン孔210h3からの洗浄液の吹き出す方向は、前記第1貫通孔210h1と同様に第1方向視において径方向内向きとなる方向であってもよく、前記第2貫通孔210h2と同様に径方向に対して傾きをもった方向であってもよい。 The drain hole 210h3 may have a diameter common to the first through hole 210h1 and the second through hole 210h2, or may be smaller or larger than them. The drain hole 210h3 does not need to be provided singly, and may be provided in multiple places. The drain hole 210h3 may be used to clean the device piping 11a. That is, the cleaning ring 20 of this embodiment is provided with the drain hole 210h3 so that the cleaning liquid is discharged diagonally downward when the main body 210 is arranged horizontally, and the cleaning liquid discharged from the drain hole 210h3 may hit the wall surface of the device piping 11a to exert an excellent cleaning effect not only on the device external piping PX but also on the device piping 11a. The direction in which the cleaning liquid is blown out from the drain hole 210h3 at this time may be a direction that is radially inward when viewed in the first direction, similar to the first through hole 210h1, or may be a direction inclined with respect to the radial direction, similar to the second through hole 210h2.

前記第1貫通孔210h1、前記第2貫通孔210h2、及び、前記ドレン孔210h3のそれぞれが貫通する方向に見た状態での孔径は、例えば、直径0.5mm以上とすることができる。該直径は、1mm以上であってもよい。該直径は、5mm以下とすることができる。該直径は4mm以下であってもよい。 The hole diameter of the first through hole 210h1, the second through hole 210h2, and the drain hole 210h3 when viewed in the penetrating direction can be, for example, 0.5 mm or more. The diameter may be 1 mm or more. The diameter may be 5 mm or less. The diameter may be 4 mm or less.

本実施形態では、複数の前記第1貫通孔210h1や複数の前記第2貫通孔210h2について、それぞれ孔径を共通させる必要は無く、異なっていてもよい。また、本実施形態での例示はあくまでも限定的なものであり、本発明は上記例示に何等限定されるものではない。本実施形態においては、前記内側リング211と外側リング212とを溶接しているが、本実施形態の清掃用リング20では前記内側リング211と外側リング212とが溶接されていなくてもよく、ネジ止めなどで両者が固定されていてもよい。例えば、前記内側リング211の外周面に螺子山を設けるとともに外側リング212の第1鍔部212bと第2鍔部212cとの先端面にも螺子山を設けるようにして前記内側リング211を外側リング212に螺合して両者を固定するようにしてもよい。 In this embodiment, the first through holes 210h1 and the second through holes 210h2 do not need to have the same hole diameter, and may have different diameters. The examples in this embodiment are merely restrictive, and the present invention is not limited to the above examples. In this embodiment, the inner ring 211 and the outer ring 212 are welded together, but in the cleaning ring 20 of this embodiment, the inner ring 211 and the outer ring 212 do not need to be welded together, and the two may be fixed together by screws or the like. For example, the inner ring 211 may have a screw thread on the outer peripheral surface thereof, and the first flange 212b and the second flange 212c of the outer ring 212 may also have a screw thread on the tip surface thereof, and the inner ring 211 may be screwed to the outer ring 212 to fix the two together.

内側リング211と外側リング212とを上記のように螺合させると外側リング212に対して内側リング211が回動自在となり、洗浄のための流体が清掃対象物に当たる位置を微調整できるようになる。また、内側リング211が外側リング212に着脱自在であれば、清掃対象物に応じて内側リング211を貫通孔の大きさや数の異なる別の内側リングに取り換えることも可能になる。 When the inner ring 211 and the outer ring 212 are screwed together as described above, the inner ring 211 can rotate freely relative to the outer ring 212, making it possible to fine-tune the position where the cleaning fluid hits the object to be cleaned. Also, if the inner ring 211 is detachable from the outer ring 212, it is possible to replace the inner ring 211 with another inner ring with a different size or number of through holes depending on the object to be cleaned.

本実施形態では配管の内壁面を清掃対象にしているが、例えば、前記本体部210を、第2の筒状部11bの端部に装着して回転軸31の清掃に用いたり、第3の筒状部11cの端部に装着してバッフル40の清掃に用いたりすることも可能である。 In this embodiment, the inner wall surface of the pipe is the object to be cleaned, but for example, the main body 210 can be attached to the end of the second cylindrical portion 11b and used to clean the rotating shaft 31, or attached to the end of the third cylindrical portion 11c and used to clean the baffle 40.

本実施形態では、本体部210の上部に覗き窓(サイトグラス)を設置して装置外部から装置内部を視認できるようにし、清掃用リング20を当該覗き窓の清掃に用いることも可能である。また、清掃用リング20は、本体部210の上方に圧力計等の計器を設置した場合には当該計器の清掃に用いることも可能である。本実施形態では清掃用リング20が第一方向視において流体の吹き出し方向が中心軸に向けた第1貫通孔210h1と、中心軸に向けた方向に対して傾斜する方向となる第2貫通孔210h2とを有するため、第2貫通孔210h2から吹き出す流体によって配管側面や、他部材との接合部(ガスケット部分など)を清掃しつつ、中心部に設けられた計器や覗き窓を効果的に清掃することもできる。 In this embodiment, a sight glass is installed on the top of the main body 210 to allow the inside of the device to be viewed from the outside, and the cleaning ring 20 can be used to clean the sight glass. In addition, if an instrument such as a pressure gauge is installed above the main body 210, the cleaning ring 20 can also be used to clean the instrument. In this embodiment, the cleaning ring 20 has a first through hole 210h1 in which the fluid blows out toward the central axis when viewed in the first direction, and a second through hole 210h2 in which the fluid blows out in a direction inclined relative to the direction toward the central axis. Therefore, the fluid blowing out from the second through hole 210h2 can effectively clean the instrument and sight glass provided in the center while cleaning the side of the pipe and the joint with other members (such as the gasket part).

本実施形態の清掃用リング20は、図8に示すように、第2の筒状部11bと第3の筒状部11cとのそれぞれに装着されてもよい。清掃用リング20は、第1の筒状部である装置配管11aに対して装置外配管PXではなく蓋体15が装着される場合に蓋体15と装置配管11aとの間に介装されてもよい。図8に例示の態様では、装置配管11aに対して清掃用リング20(本体部210)を介して装着された第1蓋体15aと、第2の筒状部11bに対して清掃用リング20(本体部210)を介して装着された第2蓋体15bと、第3の筒状部11cに対して清掃用リング20(本体部210)を介して装着された第3蓋体15cとが備えられている。 The cleaning ring 20 of this embodiment may be attached to each of the second cylindrical portion 11b and the third cylindrical portion 11c as shown in FIG. 8. The cleaning ring 20 may be interposed between the cover 15 and the device pipe 11a when the cover 15 is attached to the device pipe 11a, which is the first cylindrical portion, instead of the external pipe PX. In the embodiment illustrated in FIG. 8, a first cover 15a attached to the device pipe 11a via the cleaning ring 20 (main body 210), a second cover 15b attached to the second cylindrical portion 11b via the cleaning ring 20 (main body 210), and a third cover 15c attached to the third cylindrical portion 11c via the cleaning ring 20 (main body 210) are provided.

第1蓋体15aは、当該蓋体15を介して反応槽10の内部を視認するための開口部を有する円環板状の蓋本体151と、該蓋本体151の開口部を塞ぐガラス板を備えた覗き窓152とを備える。前記蓋本体151は、少なくとも収容空間10cに向けた面にグラスライニングが施された金属板によって構成されてもよい。前記覗き窓152が設けられる開口部は、その形状や位置が特に限定されない。本実施形態では前記開口部が円形で蓋本体151の中央部に設けられている。前記覗き窓152でのガラス板は、蓋本体151の外側から開口部を覆うように設けられている。従って、収容空間10cの側から前記第1蓋体15aを見た場合、ガラス板は、蓋本体151の内面より凹入した凹部を形成するように蓋本体151に装着されている。 The first lid body 15a includes a circular plate-shaped lid body 151 having an opening for visually observing the inside of the reaction tank 10 through the lid body 15, and a sight glass 152 having a glass plate that covers the opening of the lid body 151. The lid body 151 may be made of a metal plate with a glass lining applied to at least the surface facing the storage space 10c. The shape and position of the opening in which the sight glass 152 is provided are not particularly limited. In this embodiment, the opening is circular and provided in the center of the lid body 151. The glass plate in the sight glass 152 is provided so as to cover the opening from the outside of the lid body 151. Therefore, when the first lid body 15a is viewed from the storage space 10c side, the glass plate is attached to the lid body 151 so as to form a recess recessed from the inner surface of the lid body 151.

本実施形態では、清掃用リング20の前記本体部210に前記第1貫通孔210h1と、前記第2貫通孔210h2とを含む複数種類の前記貫通孔が含まれている。図9、図10に示すように、前記第1方向D1が垂直方向となるように本体部210を水平姿勢で配置し、前記本体部210の径方向内側の面と、該面を上方に延長した面とを含む筒状の面を仮想面VPとし、前記第1貫通孔210h1から前記流体の吹き出し方向に延長した仮想線を第1仮想線VL1とし、前記第2貫通孔210h2から前記流体の吹き出し方向に延長した仮想線を第2仮想線VL2とした際に、本実施形態では、前記第1仮想線VL1と前記第2仮想線VL2とで前記仮想面VPへの到達位置や入射方向が異なる。 In this embodiment, the main body 210 of the cleaning ring 20 includes a plurality of types of through holes including the first through hole 210h1 and the second through hole 210h2. As shown in FIG. 9 and FIG. 10, the main body 210 is arranged in a horizontal position so that the first direction D1 is vertical, and a cylindrical surface including the radially inner surface of the main body 210 and a surface extending upward from the surface is defined as a virtual surface VP, a virtual line extending from the first through hole 210h1 in the blowing direction of the fluid is defined as a first virtual line VL1, and a virtual line extending from the second through hole 210h2 in the blowing direction of the fluid is defined as a second virtual line VL2. In this embodiment, the first virtual line VL1 and the second virtual line VL2 have different arrival positions and incidence directions on the virtual surface VP.

本実施形態では、前記仮想面VPは、装置外配管PXの内面や本体部210の径方向内側の面と面一である。図10は、仮想面VPに対して周方向Rの一点を通る垂線で縦に切目を入れ、円筒状の仮想面VPを平坦になるように展開した様子を示した図であり、各貫通孔、第1仮想線VL1と仮想面VPとの交点(以下「第1交点XP1」という)、第2仮想線VL2と仮想面VPとの交点(以下「第2交点XP2」という)、仮想面VP(装置外配管PXなど)に到達した洗浄液の流動方向などを模式的に示したものである。 In this embodiment, the virtual surface VP is flush with the inner surface of the external piping PX and the radially inner surface of the main body 210. FIG. 10 is a diagram showing a state in which a vertical cut is made in the virtual surface VP along a perpendicular line passing through a point in the circumferential direction R, and the cylindrical virtual surface VP is developed so as to be flat, and the diagram shows each through hole, the intersection of the first virtual line VL1 and the virtual surface VP (hereinafter referred to as the "first intersection XP1"), the intersection of the second virtual line VL2 and the virtual surface VP (hereinafter referred to as the "second intersection XP2"), the flow direction of the cleaning liquid that has reached the virtual surface VP (such as the external piping PX), etc.

本実施形態では、中心軸210cの方向に洗浄液を吹き出す第1貫通孔210h1が周方向Rに等間隔で4つ設けられているため、第1貫通孔210h1から吹き出した洗浄液は、中心軸210cを介して反対側に位置する第1貫通孔210h1の上方に位置する第1交点XP1に到達し、洗浄液の勢いによって装置外配管PXの内壁面を伝って上方に移動する。この洗浄液は上方に移動しつつ横広がりとなり、重力の作用によって上方への移動の勢いが衰え、最終的には第1交点XP1よりも周方向Rに幅広な流れを形成して装置外配管PXの内壁面を伝って落下する。 In this embodiment, four first through holes 210h1 that spray cleaning liquid in the direction of the central axis 210c are provided at equal intervals in the circumferential direction R, so that the cleaning liquid sprayed out from the first through holes 210h1 reaches the first intersection XP1 located above the first through holes 210h1 located on the opposite side of the central axis 210c, and moves upward along the inner wall surface of the external piping PX due to the momentum of the cleaning liquid. As this cleaning liquid moves upward, it spreads out laterally, and the momentum of the upward movement weakens due to the action of gravity, and finally forms a flow wider in the circumferential direction R than the first intersection XP1 and falls along the inner wall surface of the external piping PX.

第2貫通孔210h2も複数の貫通孔が周方向Rに等間隔で設けられている点では第1貫通孔210h1と同じであるが第2貫通孔210h2は、中心軸210cの方向に対して傾きをもって洗浄液を放出するようにも設けられている。即ち、前記本体部210には、前記第1方向D1に沿う第1方向視において前記第2仮想線VL2が前記仮想面VPと斜めに交わるように前記第2貫通孔210h2が設けられている。そして、本実施形態において第2貫通孔210h2から放出された洗浄液は、図10に示すように、第2交点XP2に到達すると装置外配管PXの内壁面を伝って移動する。この時、洗浄液は、上方にも移動はするものの専ら周方向Rに大きく移動する。複数の第2貫通孔210h2からそれぞれ放出された洗浄液は、装置外配管PXの内壁面を周方向に移動する一つの旋回流を形成する。 The second through hole 210h2 is the same as the first through hole 210h1 in that a plurality of through holes are provided at equal intervals in the circumferential direction R, but the second through hole 210h2 is also provided so as to discharge the cleaning liquid at an angle with respect to the direction of the central axis 210c. That is, the second through hole 210h2 is provided in the main body 210 so that the second virtual line VL2 intersects the virtual plane VP obliquely when viewed in the first direction along the first direction D1. In this embodiment, the cleaning liquid discharged from the second through hole 210h2 moves along the inner wall surface of the external pipe PX when it reaches the second intersection point XP2, as shown in FIG. 10. At this time, the cleaning liquid moves mainly in the circumferential direction R, although it also moves upward. The cleaning liquid discharged from each of the plurality of second through holes 210h2 forms a swirling flow that moves in the circumferential direction on the inner wall surface of the external pipe PX.

本実施形態では、前記第1仮想線VL1と前記仮想面VPとの交点である第1交点XP1が前記第2仮想線VL2と前記仮想面VPとの交点である第2交点XP2よりも高い位置に形成されるように前記第1貫通孔210h1と前記第2貫通孔210h2とが前記本体部210に備えられている。そのため、本実施形態では、清掃範囲を広範囲とすることができる。第1方向D1における第1交点XP1の位置と第2交点XP2との位置の差(Dxp(mm))は、例えば、5mm以上とすることができる。該差は、10mm以上であってもよく、15mm以上であってもよい。該差は、例えば、100mm以下とすることができる。該差は、80mm以下であってもよく、70mm以下であってもよく、60mm以下であってもよく、50mm以下であってもよい。 In this embodiment, the first through hole 210h1 and the second through hole 210h2 are provided in the main body 210 so that the first intersection point XP1, which is the intersection point between the first virtual line VL1 and the virtual plane VP, is formed at a higher position than the second intersection point XP2, which is the intersection point between the second virtual line VL2 and the virtual plane VP. Therefore, in this embodiment, the cleaning range can be made wide. The difference (Dxp (mm)) between the position of the first intersection point XP1 and the position of the second intersection point XP2 in the first direction D1 can be, for example, 5 mm or more. The difference may be 10 mm or more, or 15 mm or more. The difference can be, for example, 100 mm or less. The difference may be 80 mm or less, 70 mm or less, 60 mm or less, or 50 mm or less.

前記本体部210と装置外配管PXとの間や前記本体部210と蓋体15との間の部分は、清掃が行き届き難く、清掃により取り除かれるべきものが蓄積されやすいため、第1交点XP1又は第2交点XP2が前記本体部210の上端部に位置するように前記第1貫通孔や第2貫通孔210h2が配されることが好ましく、第2交点XP2が前記本体部210の上端部に位置するように前記第2貫通孔が配されることがより好ましい。 The areas between the main body 210 and the external piping PX and between the main body 210 and the lid 15 are difficult to clean thoroughly and tend to accumulate materials that should be removed by cleaning. Therefore, it is preferable that the first through hole and the second through hole 210h2 are arranged so that the first intersection XP1 or the second intersection XP2 is located at the upper end of the main body 210, and it is even more preferable that the second through hole is arranged so that the second intersection XP2 is located at the upper end of the main body 210.

本実施形態においては、第1貫通孔210h1についても前記第1方向D1に沿う第1方向視において前記第1仮想線VL1が前記仮想面VPと斜めに交わるようにして第2貫通孔210h2から吹き出す洗浄液による旋回流の上方に第1貫通孔210h1から吹き出す洗浄液で旋回流を形成するようにしてもよい。そのようにすることで広範囲な清掃が実施可能になるだけでなく、旋回流が強め合う結果となって高い清掃効果が得られる。 In this embodiment, the first through-hole 210h1 may also be configured so that the first virtual line VL1 intersects the virtual plane VP obliquely when viewed in the first direction along the first direction D1, so that a swirling flow of the cleaning liquid sprayed out of the first through-hole 210h1 is formed above the swirling flow of the cleaning liquid sprayed out of the second through-hole 210h2. This not only makes it possible to clean a wide area, but also results in the swirling flows reinforcing each other, resulting in a high cleaning effect.

第1貫通孔210h1から放出された洗浄液で旋回流を形成する場合、第1交点XP1を通る平面に第1仮想線VL1を投影すると垂直方向と水平方向との何れに対しても傾いた斜線となる。該斜線を垂直方向(第1方向D1)へのベクトルと水平方向へのベクトルに分解した際の垂直方向のベクトルの大きさは、洗浄液が壁面を伝って上昇する運動エネルギーの大きさを表すことになる。一方で水平方向へのベクトルの大きさは、洗浄液が周方向Rに移動する運動エネルギーの大きさを表すことになる。良好な旋回流を形成させる上で前記斜線の仰角は、例えば、10度以上とすることができる。該仰角は15度以上であってもよく、20度以上であってもよく、25度以上であってもよい。該仰角は、例えば、60度以下とすることができる。該仰角は50度以下であってもよく、45度以下であってもよく、40度以下であってもよい。 When a swirling flow is formed by the cleaning liquid discharged from the first through hole 210h1, the first virtual line VL1 is projected onto a plane passing through the first intersection point XP1, resulting in a diagonal line inclined both vertically and horizontally. When the diagonal line is decomposed into a vector in the vertical direction (first direction D1) and a vector in the horizontal direction, the magnitude of the vertical vector represents the magnitude of the kinetic energy of the cleaning liquid rising along the wall surface. On the other hand, the magnitude of the vector in the horizontal direction represents the magnitude of the kinetic energy of the cleaning liquid moving in the circumferential direction R. In order to form a good swirling flow, the elevation angle of the diagonal line can be, for example, 10 degrees or more. The elevation angle may be 15 degrees or more, 20 degrees or more, or 25 degrees or more. The elevation angle can be, for example, 60 degrees or less. The elevation angle may be 50 degrees or less, 45 degrees or less, or 40 degrees or less.

上記のような好ましい仰角については、第2交点XP2を通る平面に第2仮想線VL2を投影した斜線についても同じである。 The above-mentioned preferred elevation angles also apply to the oblique line obtained by projecting the second virtual line VL2 onto the plane passing through the second intersection point XP2.

前記のような覗き窓152を有する第1蓋体15aを、洗浄液を吹き付ける相手部材とする場合、例えば、第1貫通孔210h1から吹き出す洗浄液を覗き窓152に当ててガラス板を洗浄し、第2貫通孔210h2から吹き出す洗浄液を蓋本体151に当ててグラスライニングが施された金属板を洗浄することもできる。 When the first lid body 15a having the sight glass 152 as described above is used as the component against which the cleaning liquid is sprayed, for example, the cleaning liquid sprayed from the first through hole 210h1 can be directed at the sight glass 152 to clean a glass plate, and the cleaning liquid sprayed from the second through hole 210h2 can be directed at the lid body 151 to clean a glass-lined metal plate.

この時、必要に応じて、第1貫通孔210h1の大きさ(流通方向に直交する断面の面積)を第2貫通孔210h2よりも大きくして、ガラス板の洗浄のために単位時間あたりに供給される洗浄液の量を増やすようにしてもよい。また、逆に、第1貫通孔210h1の大きさを第2貫通孔210h2よりも小さくして第1貫通孔210h1より吹き出す洗浄液の流速を高め、ガラス板に対する打力を向上させるようにしてもよい。 At this time, if necessary, the size of the first through hole 210h1 (the area of the cross section perpendicular to the flow direction) may be made larger than that of the second through hole 210h2 to increase the amount of cleaning liquid supplied per unit time for cleaning the glass plate. Conversely, the size of the first through hole 210h1 may be made smaller than that of the second through hole 210h2 to increase the flow rate of the cleaning liquid blown out of the first through hole 210h1 and improve the striking force against the glass plate.

本実施形態においては、第1貫通孔210h1や第2貫通孔210h2の開口形状を調整するなどして、洗浄液が上下方向よりも横方向に広がって吹き出すようにし、覗き窓152や蓋本体151に対して洗浄液が広幅な流れを形成するようにしてもよい。また、逆に、第1貫通孔210h1や第2貫通孔210h2の開口形状を調整するなどして、洗浄液が上下方向よりも縦方向に広がって吹き出すようにし、覗き窓152や蓋本体151の特定箇所に対して洗浄液が集中的に供給されるようにしてもよい。 In this embodiment, the opening shape of the first through hole 210h1 and the second through hole 210h2 may be adjusted so that the cleaning liquid spreads more horizontally than vertically when it is sprayed out, so that the cleaning liquid forms a wide flow on the peep hole 152 and the lid body 151. Conversely, the opening shape of the first through hole 210h1 and the second through hole 210h2 may be adjusted so that the cleaning liquid spreads more vertically when it is sprayed out, so that the cleaning liquid is supplied intensively to a specific location on the peep hole 152 or the lid body 151.

洗浄液が横広がりとなることは、前記第1方向D1が垂直方向となるように前記本体部210を水平姿勢で配置し、それぞれの貫通孔より水を吹き出させた場合に、吹き出した該水の空中での形状が上下方向よりも左右方向に大きいことで確認することができる。洗浄液が縦広がりとなることは、前記第1方向D1が垂直方向となるように前記本体部210を水平姿勢で配置し、それぞれの貫通孔より水を吹き出させた場合に、吹き出した該水の空中での形状が左右方向よりも上下方向に大きいことで確認することができる。より詳しくは、洗浄液が横広がりや縦広がりになっていることは、貫通孔から吹き出した後、所定の時間を経過した時点での洗浄液の断面形状を観察することで確認することができ、例えば、レーザー光などを用いた非接触式の形状測定装置を用いて洗浄液の形状を測定し、貫通孔から洗浄液の吹き出し方向に所定距離(例えば、20mm)離れた地点で吹き出し方向に直交する平面での断面形状を観察することで確認することができる。 The fact that the cleaning liquid spreads horizontally can be confirmed by arranging the main body 210 in a horizontal position so that the first direction D1 is vertical, and when water is sprayed from each through-hole, the shape of the sprayed water in the air is larger in the left-right direction than in the up-down direction. The fact that the cleaning liquid spreads vertically can be confirmed by arranging the main body 210 in a horizontal position so that the first direction D1 is vertical, and when water is sprayed from each through-hole, the shape of the sprayed water in the air is larger in the up-down direction than in the left-right direction. More specifically, the fact that the cleaning liquid spreads horizontally or vertically can be confirmed by observing the cross-sectional shape of the cleaning liquid at a predetermined time after it is sprayed from the through-hole. For example, the shape of the cleaning liquid can be measured using a non-contact shape measuring device using laser light or the like, and the cross-sectional shape can be confirmed by observing the cross-sectional shape in a plane perpendicular to the spray direction at a point a predetermined distance (e.g., 20 mm) away from the through-hole in the spray direction of the cleaning liquid.

本実施形態では、第1貫通孔210h1と第2貫通孔210h2との複数種類の貫通孔が備えられているため清掃対象に応じた適切な清掃が可能になる点では、第1蓋体15aの設けられた第1の筒状部(装置配管11a)だけでなく第2の筒状部11bや第3の筒状部11cにおいても同じである。 In this embodiment, multiple types of through holes, the first through hole 210h1 and the second through hole 210h2, are provided, making it possible to perform appropriate cleaning according to the object to be cleaned, not only in the first cylindrical portion (apparatus piping 11a) on which the first lid 15a is provided, but also in the second cylindrical portion 11b and the third cylindrical portion 11c.

第2の筒状部11bでは、その上方に清掃用リング20の本体部210が装着されているとともに当該本体部210のさらに上方には攪拌装置30の回転軸31を挿通可能な開口部を有する円環板状の蓋本体を有する第2蓋体15bが装着されている。第2の筒状部11bに装着された本体部210では、例えば、第1貫通孔210h1から吹き出す洗浄材を回転軸31に当てて主として回転軸31を洗浄させるようにし、第2貫通孔210h2から吹き出す洗浄液を第2蓋体15bの下面に当てて主として第2蓋体15bを洗浄させるようにしてもよい。その場合、第2貫通孔210h2は、前記回転軸31の周りを周回するような旋回流が第2蓋体15bの下面に形成されるように設けられていてもよい。第2貫通孔210h2は、吹き出した洗浄液が第2蓋体15bの下面において旋回流を形成した後に回転軸31に達し、当該回転軸31を伝って下方に流れ落ちるように設けられていてもよい。その場合、回転軸31の反応槽内における上端部(第2蓋体15bの下面に相当する位置)にまで第1貫通孔210h1から吹き出す洗浄液を到達させる必要性を低減させることができる。 In the second cylindrical portion 11b, the main body 210 of the cleaning ring 20 is attached above, and the second lid body 15b having a circular plate-shaped lid body having an opening through which the rotating shaft 31 of the agitator 30 can be inserted is attached above the main body 210. In the main body 210 attached to the second cylindrical portion 11b, for example, the cleaning material blown out from the first through hole 210h1 may be applied to the rotating shaft 31 to mainly clean the rotating shaft 31, and the cleaning liquid blown out from the second through hole 210h2 may be applied to the underside of the second lid body 15b to mainly clean the second lid body 15b. In that case, the second through hole 210h2 may be provided so that a swirling flow that revolves around the rotating shaft 31 is formed on the underside of the second lid body 15b. The second through hole 210h2 may be provided so that the sprayed cleaning liquid forms a swirling flow on the underside of the second lid 15b, reaches the rotating shaft 31, and flows downward along the rotating shaft 31. In this case, it is possible to reduce the need for the cleaning liquid sprayed from the first through hole 210h1 to reach the upper end of the rotating shaft 31 in the reaction tank (the position corresponding to the underside of the second lid 15b).

第1貫通孔210h1は、より確実に回転軸31に当たるように洗浄液が上下方向よりも左右方向に大きく広がる形状を有していてもよい。その場合、第1貫通孔210h1は、吹き出した洗浄液の一部が回転軸31に当たり、残りの洗浄液が第2蓋体15bに当たるように設けられてもよい。また、第1貫通孔210h1は、回転軸31の洗浄により多くの洗浄液が有効活用されるように洗浄材が左右方向よりも上下方向に大きく広がる形状を有していてもよい。 The first through hole 210h1 may have a shape in which the cleaning liquid spreads more widely in the left-right direction than in the up-down direction so that it hits the rotating shaft 31 more reliably. In this case, the first through hole 210h1 may be provided so that a part of the sprayed cleaning liquid hits the rotating shaft 31 and the remaining cleaning liquid hits the second lid body 15b. The first through hole 210h1 may also have a shape in which the cleaning material spreads more widely in the up-down direction than in the left-right direction so that more cleaning liquid is effectively used to clean the rotating shaft 31.

回転軸31の洗浄は、回転軸31を回転させながら実施してもよい。その場合、回転軸31の回転方向は、第2蓋体15bの下面に形成される旋回流と同方向であってもよい。回転軸31の回転方向は、第2蓋体15bの下面に形成される旋回流と逆方向であってもよい。 The cleaning of the rotating shaft 31 may be performed while rotating the rotating shaft 31. In this case, the rotation direction of the rotating shaft 31 may be the same as the swirling flow formed on the underside of the second lid body 15b. The rotation direction of the rotating shaft 31 may be the opposite direction to the swirling flow formed on the underside of the second lid body 15b.

第3の筒状部11cでは、その上方に清掃用リング20の本体部210が装着されているとともに当該本体部210のさらに上方にはバッフル40を吊下げ支持する第3蓋体15cが装着されている。 The main body 210 of the cleaning ring 20 is attached to the upper part of the third cylindrical part 11c, and the third lid 15c that suspends and supports the baffle 40 is attached further above the main body 210.

第3の筒状部11cに装着された本体部210では、例えば、第1貫通孔210h1から吹き出す洗浄材をバッフル40に当てて主としてバッフル40を洗浄させるようにし、第2貫通孔210h2から吹き出す洗浄液を第3蓋体15cの下面に当てて主として第3蓋体15cを洗浄させるようにしてもよい。その場合、第2貫通孔210h2は、前記バッフル40の周りを周回するような旋回流が第3蓋体15cの下面に形成されるように設けられていてもよい。第2貫通孔210h2は、吹き出した洗浄液が第3蓋体15cの下面において旋回流を形成した後にバッフル40に達し、当該バッフル40を伝って下方に流れ落ちるように設けられていてもよい。その場合、バッフル40の上端部にまで第1貫通孔210h1から吹き出す洗浄液を到達させる必要性を低減させることができる。 In the main body 210 attached to the third cylindrical portion 11c, for example, the cleaning material blown out from the first through hole 210h1 may be directed to the baffle 40 to mainly clean the baffle 40, and the cleaning liquid blown out from the second through hole 210h2 may be directed to the lower surface of the third cover body 15c to mainly clean the third cover body 15c. In this case, the second through hole 210h2 may be provided so that a swirling flow that revolves around the baffle 40 is formed on the lower surface of the third cover body 15c. The second through hole 210h2 may be provided so that the blown cleaning liquid forms a swirling flow on the lower surface of the third cover body 15c, reaches the baffle 40, and flows down along the baffle 40. In this case, it is possible to reduce the need for the cleaning liquid blown out from the first through hole 210h1 to reach the upper end of the baffle 40.

上記のように本実施形態では複数種類の貫通孔を有することで各種のものを清掃するのに容易に対応可能である。上記例示の第1貫通孔210h1と第2貫通孔210h2とは、流体を吹き出す角度が異なっているが、図11に示すように第1貫通孔210h1と第2貫通孔210h2とは流体を吹き出す角度が共通で孔の大きさだけが異なるものであってもよい。 As described above, in this embodiment, by having multiple types of through holes, it is possible to easily clean various objects. In the above example, the first through hole 210h1 and the second through hole 210h2 have different angles at which the fluid is blown out, but as shown in FIG. 11, the first through hole 210h1 and the second through hole 210h2 may have the same angle at which the fluid is blown out and only the size of the hole may be different.

第1貫通孔210h1と第2貫通孔210h2との孔の大きさの比較は、それぞれの貫通孔の流路と直交する平面での断面積を求めて行うことができる。小さい方の貫通孔の大きさ(断面積:SS(mm2))に対する大きい方の貫通孔の大きさ(断面積:SL(mm2))の比率(SL/SS)は、例えば、1.1倍以上とすることができる。該比率は、1.5倍以上であってもよく、2倍以上であってもよく、3倍以上であってもよい。該比率は、例えば、16倍以下とすることができる。該比率は、12倍以下であってもよく、8倍以下であってもよい。 The size of the first through hole 210h1 and the second through hole 210h2 can be compared by calculating the cross-sectional area in a plane perpendicular to the flow path of each through hole. The ratio (S L /S S ) of the size of the larger through hole (cross-sectional area: S L (mm 2 )) to the size of the smaller through hole (cross-sectional area: S S (mm 2 )) can be, for example, 1.1 times or more. The ratio may be 1.5 times or more, 2 times or more, or 3 times or more. The ratio may be, for example, 16 times or less. The ratio may be 12 times or less, or 8 times or less.

本実施形態では第1貫通孔210h1と第2貫通孔210h2の形成位置は、水平姿勢での本体部210の下面210s4からの高さが共通する位置となっているが、第1貫通孔210h1と第2貫通孔210h2の形成位置が異なるように配置してもよい。第1貫通孔210h1と第2貫通孔210h2とは前記第1方向D1における形成位置の比較は、本体部210の内周面210s1における開口の中心位置を求めて行うことができる。第1方向D1において低い側となる貫通孔の中心位置と高い側となる貫通孔の中心位置との差(Dh(mm))は、例えば、1mm以上とすることができる。該差は、2mm以上であってもよく、3mm以上であってもよい。該差は、例えば、50mm以下とすることができる。該差は、40mm以下であってもよく、30mm以下であってもよい。 In this embodiment, the first through hole 210h1 and the second through hole 210h2 are formed at the same height from the lower surface 210s4 of the main body 210 in a horizontal position, but the first through hole 210h1 and the second through hole 210h2 may be formed at different positions. The first through hole 210h1 and the second through hole 210h2 can be compared in the first direction D1 by obtaining the center position of the opening on the inner surface 210s1 of the main body 210. The difference (Dh (mm)) between the center position of the through hole on the lower side and the center position of the through hole on the higher side in the first direction D1 can be, for example, 1 mm or more. The difference may be 2 mm or more, or 3 mm or more. The difference may be, for example, 50 mm or less. The difference may be 40 mm or less, or 30 mm or less.

以上のように上記においては以下の開示を含む。 As stated above, the above includes the following disclosure:

(1)
部材に対して洗浄材を吹き付けて当該部材を清掃するために用いられる清掃用リングであって、
前記洗浄材の流通路となる空間部を内部に備えた中空リング状の本体部を備え、
該本体部の径方向内側には、前記空間部に連通し、前記空間部に供給された前記洗浄材を吹き出すための貫通孔が設けられており、
前記本体部の中心軸が延びる方向である第1方向を有し、
前記空間部を画定する前記本体部の内面には、前記第1方向が垂直方向となるように前記本体部を配した時に底面となる部位に径方向内向きに下り傾斜となるテーパー面が設けられている清掃用リング。
(1)
A cleaning ring used to clean a component by spraying a cleaning material onto the component,
The cleaning material is passed through a hollow ring-shaped main body having a space therein,
A through hole is provided on a radially inner side of the main body, the through hole being in communication with the space and for blowing out the cleaning material supplied to the space,
A first direction is a direction in which a central axis of the main body extends,
A cleaning ring in which an inner surface of the main body portion that defines the space has a tapered surface that slopes downward radially inward at a portion that becomes the bottom surface when the main body portion is positioned so that the first direction is vertical.

(2)
前記洗浄材を排出するドレン孔が前記空間部の下部に前記洗浄材を排出するドレン孔が設けられている(1)記載の清掃用リング。
(2)
The cleaning ring according to claim 1, wherein a drain hole for discharging the cleaning material is provided at a lower portion of the space.

(3)
前記中心軸を含む垂直面で前記本体部を切断した際の前記空間部の断面形状は、該空間部の下端部に向けて先細りしており、該断面形状が最も細くなる部位に前記ドレン孔が設けられている(2)記載の清掃用リング。
(3)
A cleaning ring as described in (2), wherein the cross-sectional shape of the space when the main body is cut by a vertical plane including the central axis tapers toward the lower end of the space, and the drain hole is provided at the point where the cross-sectional shape is narrowest.

(4)
前記本体部の内面には、前記第1方向が垂直方向となるように前記本体部を配した時に径方向内側に位置する内周面が含まれ、
前記テーパー面は、前記内周面の下端部に達するように設けられている(1)又は(2)記載の清掃用リング。
(4)
The inner surface of the main body portion includes an inner circumferential surface located radially inward when the main body portion is disposed so that the first direction is a vertical direction,
The cleaning ring according to (1) or (2), wherein the tapered surface is provided so as to reach a lower end portion of the inner circumferential surface.

尚、本明細書においては、詳細な説明をこれ以上繰り返すことはしないが、上記はあくまでも例示であり、本発明の清掃用リングは、本発明の効果が著しく損なわれない範囲において従来公知の技術事項を適宜採用することが可能である。即ち、本発明は上記例示に何等限定されない。 In this specification, we will not repeat the detailed explanation any further, but the above is merely an example, and the cleaning ring of the present invention can appropriately adopt conventionally known technical matters as long as the effect of the present invention is not significantly impaired. In other words, the present invention is not limited to the above examples in any way.

1:反応装置:10:反応槽、110:槽本体、
15:蓋体、
20:清掃用リング、210:本体部、
210a:空間部、210c:中心軸、
210h1:第1貫通孔、210h2:第2貫通孔、210h3:ドレン孔、
210i:内面、210i1:内周面、210i2:外周面、210i3:天井面、210i4:底面、
210s:外側面、
211:内側リング、212:外側リング、
D1:第1方向、D2:径方向、
HP:水平面、
R:周方向、
TPL:テーパー面
1: Reaction apparatus: 10: Reaction tank, 110: Tank body,
15: Lid body,
20: cleaning ring, 210: main body,
210a: space portion, 210c: central axis,
210h1: first through hole, 210h2: second through hole, 210h3: drain hole,
210i: inner surface, 210i1: inner peripheral surface, 210i2: outer peripheral surface, 210i3: ceiling surface, 210i4: bottom surface,
210s: outer surface,
211: inner ring, 212: outer ring,
D1: first direction, D2: radial direction,
HP: horizontal plane,
R: circumferential direction,
TPL: Tapered surface

Claims (4)

部材に対して洗浄材を吹き付けて当該部材を清掃するために用いられる清掃用リングであって、
前記洗浄材の流通路となる空間部を内部に備えた中空リング状の本体部を備え、
該本体部の径方向内側には、前記空間部に連通し、前記空間部に供給された前記洗浄材を吹き出すための貫通孔が設けられており、
前記本体部の中心軸が延びる方向である第1方向を有し、
前記空間部を画定する前記本体部の内面には、前記第1方向が垂直方向となるように前記本体部を配した時に底面となる部位に径方向内向きに下り傾斜となるテーパー面が設けられている清掃用リング。
A cleaning ring used to clean a component by spraying a cleaning material onto the component,
The cleaning material is passed through a hollow ring-shaped main body having a space therein,
A through hole is provided on a radially inner side of the main body, the through hole being in communication with the space and for blowing out the cleaning material supplied to the space,
A first direction is a direction in which a central axis of the main body extends,
A cleaning ring in which an inner surface of the main body portion that defines the space has a tapered surface that slopes downward radially inward at a portion that becomes the bottom surface when the main body portion is positioned so that the first direction is vertical.
前記洗浄材を排出するドレン孔が前記空間部の下部に設けられている請求項1記載の清掃用リング。前記空間部の下
部に設けられている
2. The cleaning ring according to claim 1, wherein a drain hole for discharging the cleaning material is provided in a lower portion of the space.
前記中心軸を含む垂直面で前記本体部を切断した際の前記空間部の断面形状は、該空間部の下端部に向けて先細りしており、該断面形状が最も細くなる部位に前記ドレン孔が設けられている請求項2記載の清掃用リング。 The cleaning ring according to claim 2, wherein the cross-sectional shape of the space when the main body is cut along a vertical plane including the central axis tapers toward the lower end of the space, and the drain hole is provided at the location where the cross-sectional shape is narrowest. 前記本体部の内面には、前記第1方向が垂直方向となるように前記本体部を配した時に径方向内側に位置する内周面が含まれ、
前記テーパー面は、前記内周面の下端部に達するように設けられている請求項1又は請求項2記載の清掃用リング。
The inner surface of the main body portion includes an inner circumferential surface located radially inward when the main body portion is disposed so that the first direction is a vertical direction,
3. The cleaning ring according to claim 1, wherein the tapered surface is provided so as to reach a lower end of the inner circumferential surface.
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