JP2024031969A - 内部コリメート及び外部コリメートを用いるｘ線システム - Google Patents

Abstract

【課題】Ｘ線ビームが真空外囲器内で重なり合う場合でもＦＯＶの制御を可能にする内部コリメート及び外部コリメートを実現する。【解決手段】真空外囲器と、真空外囲器内に配置された複数の電子源と、真空外囲器内で平面アレイ状に配置された複数の焦点を有する少なくとも１つのターゲットを含むアノードであって、各焦点が、電子源の対応する１つからの電子ビームを受けてＸ線ビームを発生させるように構成される、アノードと、真空外囲器内に配置された複数の第１のコリメータであって、各第１のコリメータが、焦点の対応する１つに関連付けられ、対応する焦点のＸ線ビームをコリメートするように構成される、複数の第１のコリメータと、真空外囲器の外被と一体化された、または真空外囲器の外部にある第２のコリメータであって、Ｘ線ビームのそれぞれをコリメートするように構成される、第２のコリメータと、を備える、Ｘ線システムを含む。【選択図】図１Ａ

Description

Ｘ線システム内で使用されるＸ線管は、複数のターゲットまたはターゲット上の複数の焦点を有するアノードを含み得る。複数のＸ線ビームは、ターゲット上または別個のターゲット上の複数の焦点から生成され得る。Ｘ線ビームは、Ｘ線ビームの視野（ＦＯＶ）を制御するためにコリメートされ得る。

いくつかの実施形態によるＸ線システムのブロック図である。 いくつかの実施形態によるＸ線システムのブロック図である。 いくつかの実施形態によるＸ線システムのブロック図である。 いくつかの実施形態によるＸ線システムのブロック図である。 いくつかの実施形態によるＸ線システムのＸ線窓及びコリメータのブロック図である。 いくつかの実施形態によるＸ線管のアノードの様々な図である。 いくつかの実施形態によるＸ線管のアノードの様々な図である。 いくつかの実施形態によるＸ線管のアノードの様々な図である。 いくつかの実施形態による非直線アノードを備えるＸ線システムのブロック図である。 いくつかの実施形態によるＸ線システムの動作のフローチャートである。 いくつかの実施形態によるＸ線撮影システムのブロック図である。

いくつかの実施形態は、内部コリメート及び外部コリメートを用いるＸ線システムに関する。Ｘ線システムは、複数のＸ線源を含み得る。複数のＸ線源からのＸ線ビームは、Ｘ線検出器などの単一の場所に向けられ得る。Ｘ線源の間隔が減少するにつれて、Ｘ線ビームは、よりＸ線源の近くで重なり始める。Ｘ線源が十分に近接している場合、Ｘ線ビームは、真空外囲器内で重なり合うことがある。本来、各Ｘ線ビームをコリメートするのに十分であり得た外部コリメートが、Ｘ線検出器上のＸ線ビームの視野（ＦＯＶ）に様々に影響を与えることなく行うことができなくなる可能性がある。本明細書で説明される実施形態は、Ｘ線ビームが真空外囲器内で重なり合う場合でもＦＯＶの制御を可能にする内部コリメート及び外部コリメートの両方を含む。

図１Ａから図１Ｄは、いくつかの実施形態によるＸ線システムのブロック図である。図１Ａから図１Ｃを参照すると、Ｘ線システム１００は、アノード１０１、複数の第１のコリメータ１０６、第２のコリメータ１１４、複数の電子源１１６、及び真空外囲器１１０を含む。

アノード１０１は、入射電子に応答して複数のＸ線ビーム１０８を発生させるように構成されている。アノード１０１は、複数の焦点１０４を有する少なくとも１つのターゲット１０２を含む。各ターゲット１０２は、スカンジウム（Ｓｃ）、チタン（Ｔｉ）、コバルト（Ｃｏ）、モリブデン（Ｍｏ）、ロジウム（Ｒｈ）、パラジウム（Ｐｄ）、タングステン（Ｗ）、プラチナ（Ｐｔ）、炭化ニオブ（ＮｂＣまたはＮｂ２Ｃ）、炭化タンタル（ＴａＣｘ）、他のＸ線発生材料、または入射電子に応答してＸ線を発生させるように構成されたそれらの組み合わせなどの材料を含む。実施形態では、アノード１０１は直線アノードであり、アノードの（Ｘ軸に沿った）長さがアノードの（Ｚ軸に沿った）幅の５倍、１０倍、２０倍、または５０倍であり、長さ及び幅は（例えば、Ｘ－Ｚ平面における）ターゲット側面の寸法に対応する。別の実施形態では、アノード１０１は湾曲したアノード（非直線）であり、アノードアーク長がアノードアーク幅の５倍、１０倍、２０倍、または５０倍であり、アーク長及びアーク幅は（例えば、Ｘ－Ｚ平面における）ターゲット側面の寸法に対応する。焦点１０４は、電子ビーム１１６'がターゲット１０２に当たる、または衝突する領域またはエリアである。ターゲット１０２は、図１Ａに示すように、複数の焦点１０４を有する上述の材料を含む連続構造であり得る。いくつかの実施形態では、ターゲット１０２は、平面及び直線であってもよく、または連続曲線、区分的に線形な曲線、そのような曲線の組み合わせ、または同様の曲線などの曲線であってもよい直線状ターゲットである。連続ターゲットを用いる実施形態では、湾曲ターゲットのアーク長（または直線ターゲットの長さ）は、アーク幅（または幅）の５倍、１０倍、２０倍、または５０倍であり、ここで、アーク長（または長さ）及びアーク幅（または幅）は、電子ビーム１１６'の大部分を受け取る（例えば、Ｘ－Ｚ平面における）側面の寸法に対応する。区分的線形曲線または異なる種類の曲線の組み合わせを用いるいくつかの実施形態では、上述の連続ターゲットと同様の寸法を有することができる。あるいは、ターゲット１０２は、関連する焦点１０４より大きくてもよい、それぞれが上述の材料を含む、複数の個別のターゲット要素であってもよい。

複数の電子源１１６のそれぞれは、焦点１０４のうちの対応する１つに向けられる電子ビーム１１６'を生成するように構成されている。電子源１１６は、熱電子エミッタ、低仕事関数（ＬＷＦ）エミッタ、電界エミッタ、ディスペンサカソード、光エミッタなどを含むことができる。

電子源１１６及びアノード１０１は、真空外囲器１１０内に配置される。真空外囲器１１０は、外部１１０ｂから分離された内部１１０ａを真空に維持する構造体である。この例では、電子源１１６は、電子ビーム１１６'を概して負のＹ方向に放出するように配置されている。ターゲット１０２及び焦点１０４は、Ｘ線ビーム１０８を概してＺ方向に放出するように配置されている。

焦点１０４は、平面アレイ状に配置される。この例では、焦点１０４は、概してＸ－Ｚ平面内に配置される。焦点１０４のそれぞれは、Ｙ－Ｚ平面に対して傾斜していてもよく、すなわち、（図１Ｂに示すように）Ｘ軸を中心に回転していてもよい。しかし、焦点１０４は、（例えば、放出されたＸ線が同じ対象物体及び／またはＸ線検出器に当たることができるように）Ｘ－Ｚ平面内などで、焦点１０４が互いに平行移動し、場合によっては互いに対して回転するように配置される。

各焦点１０４は、電子源１１６からの入射電子ビーム１１６'に応答してＸ線を生成するように構成されている。Ｘ線窓１１２に向けられたＸ線部分が、Ｘ線ビーム１０８を構成する。Ｘ線ビーム１０８は、Ｚが増加するにつれてＸ方向及びＹ方向に広がる特定のＦＯＶを有し得る。Ｘ線ビーム１０８が２次元（２Ｄ）Ｘ線検出器（図示せず）上に投影されるならば、Ｘ線ビーム１０８のＦＯＶは、Ｘ線検出器エリアよりも大きくなり得る。したがって、Ｘ線ビーム１０８の一部は患者、物体などを通過し得るが、それらのＸ線はＸ線検出器エリアの外側にあるため、Ｘ線検出器によって検出することができない。こうした検出されないＸ線は、Ｘ線検出器の画像に対応するより大きな画像または値を失って、より大きな線量になる。

Ｘ線ビーム１０８のＦＯＶを制御するために、Ｘ線ビーム１０８はコリメートされ得る。コリメートは、Ｘ線ビーム１０８のＦＯＶがＸ線検出器のエリアと一致するように狭められるように実行されてもよい。コリメートは、多段式コリメート構造によって実行されてもよい。ある１つのステージは、Ｘ線ビーム１０８をＸ－Ｚ平面内またはファン角内でコリメートするように構成することができ、また別のステージは、Ｘ線ビーム１０８をＹ－Ｚ平面内またはコーン角内でコリメートするように構成することができる。

第１のコリメータ１０６は、真空外囲器１１０内に配置される。各第１のコリメータ１０６は、焦点１０４のうちの対応する１つに関連付けられ、対応する焦点１０４のＸ線ビーム１０８をコリメートするように構成される。その結果、焦点１０４のそれぞれに関連付けられた第１のコリメートＸ線ビーム１０８'が得られる。第２のコリメータ１１４は、ストリップ１１４ａ及び１１４ｂでもって示され、Ｘ線ビーム１０８'のそれぞれをコリメートするように構成される。すなわち、第２のコリメータ１１４は、第１のコリメータ１０６の下流にある。下流はＸ線ビーム１０８、１０８'、１０８''及び／または電子ビーム１１６'の方向に従い、上流はＸ線ビーム１０８、１０８'、１０８''及び／または電子ビーム１１６'の反対の方向に従う。

いくつかの実施形態では、第２のコリメータ１１４は、真空外囲器１１０の外被と一体化される。他の実施形態では、第２のコリメータ１１４は、真空外囲器１１０の外部にある。図１Ｂに示すように、真空外囲器１１０には、真空を維持するために窓１１２が組み込まれている。いくつかの実施形態では、窓１１２はＸ線に対して実質的に透明である。ここで、実質的にとは、放出される全てのＸ線の約９０パーセンタイルにおけるＸ線ビームの減衰が、エネルギーで、２％未満、５％未満、または２０％未満であることを意味する。例えば、１４０ｋＶｐで動作するＸ線源の窓１１２は、１４０ｋｅＶから１２６ｋｅＶの間などの特定の範囲のエネルギーを有するＸ線の２％未満、５％未満、または２０％未満を減衰させることになる。他の実施形態では、窓１１２には、真空外囲器１１０の外被、第２のコリメータ１１４などよりも２倍、１０倍、またはそれ以上に小さいＸ線ビームの減衰があるなど、窓１１２が比較的透明であり得る。第２のコリメータ１１４は、真空外囲器１１０の外部１１０ｂ面上にある。第２のコリメータの有無は、真空外囲器１１０の完全性に影響を及ぼさない。したがって、第２のコリメータ１１４は、真空外囲器１１０の外部にあってもよい。第２のコリメータ１１４が真空外囲器１１０の外部にあり得る場合の例では、第２のコリメータは、真空に対応しない材料を使用することもできる。いくつかの実施形態では、第２のコリメータ１１４は、真空外囲器１１０内に（破線で示すように）配置され得るが、第１のコリメータ１０６からのオフセットが設けられて、引き離されてもよい。ここで、オフセットとは、第１のコリメータ１０６と（Ｚ方向で）下流の第２のコリメータ１１４との間の空間を意味する。

第１のコリメータ１０６及び第２のコリメータ１１４は、様々な材料から形成され得る。例えば、十分な量のＸ線を阻止できる（Ｘ線エネルギーに対して）十分な厚さを有する任意の材料を、第１のコリメータ１０６及び第２のコリメータ１１４の一部として使用することができる。そのような材料（コリメート材料）の例としては、鉛（Ｐｂ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、ステンレス鋼などが挙げられる。いくつかの実施形態では、第１のコリメータ１０６及び第２のコリメータ１１４の材料は同じであってもよいが、他の実施形態では、第１のコリメータ１０６の材料は第２のコリメータ１１４の材料と異なっていてもよい。

いくつかの実施形態では、第１のコリメータ１０６は、アノード１０１の近くに配置され、アノード１０１と一体化され、及び／またはアノード１０１と同じ電位に配置され得る。第１のコリメータ１０６がアノード１０１及び焦点１０４に近づくほど、Ｘ線ビーム１０８をコリメートするために必要な第１のコリメータ１０６は小さくなる。その結果、必要な材料が減り、Ｘ線システム１００の軽量化につながる。より軽いＸ線システム１００は、移動式Ｘ線システムに、より適用可能であり得、設置がより容易であり得る。しかしながら、真空外囲器１１０内のコリメータは、Ｘ線システム１００が動作中に経験することになる真空レベル及び温度範囲にわたって真空に対応していなければならない。さらに、真空外囲器１１０内に真空が確立された後に、第１のコリメータ１０６を変更するか、または修正することは、より困難であるか、または非現実的である場合がある。

Ｘ線ビーム１０８のそれぞれは、コリメートを必要とし得る。コリメートは、Ｘ－Ｚ平面及びＹ－Ｚ平面の両方で必要になり得る。第１のコリメータ１０６は、Ｘ－Ｚ平面内でコリメートするように構成することができ、第２のコリメータ１１４は、Ｙ－Ｚ平面内でコリメートするように構成することができる。しかしながら、焦点１０４及び関連するＸ線ビーム１０８は、コリメート後のＸ線ビーム１０８の所望のＦＯＶが真空外囲器１１０内で重なり合うことができるように、互いに対して配置され得る。真空外囲器１１０内の第１のコリメータ１０６により、Ｘ線ビーム１０８の所望のＦＯＶが真空外囲器１１０内で重なり合うことが可能になる。具体的には、Ｘ線ビーム１０８は、コリメート後に、関連するＸ線ビーム１０８''のＦＯＶとなる部分を有し得る。ＦＯＶ１１５及びＦＯＶ１１５'は、それぞれ、真空外囲器１１０内の、ＦＯＶが重ならない位置、及びＦＯＶが重なる位置の例を表す。ここで、ＦＯＶ１１５は、Ｘ方向における関連するＸ線ビーム１０８''のＦＯＶを表す。真空外囲器１１０内の位置では、異なるＸ線ビーム１０８'のＦＯＶ１１５は重ならない。しかしながら、真空外囲器１１０内のＦＯＶ１１５'の位置では、ＦＯＶ１１５'は重なる。ＦＯＶ１１５'は、重なりを示すために、Ｚ方向にわずかにオフセットされて示されている。異なる焦点１０４からの所望のＦＯＶを有するＸ線ビーム１０８の部分が重なる場合、１つのＸ線ビーム１０８を、隣接するＸ線ビーム１０８のＦＯＶに影響を与えることなく、コリメートすることはできない。そのために、各第１のコリメータ１０６が、関連するＸ線ビーム１０８をコリメートして、第１のコリメートＸ線ビーム１０８'を、隣接する第１のコリメートＸ線ビーム１０８'のＦＯＶに影響を与えることなく、生成するように、構成され得るように、第１のコリメータ１０６は配置される。すなわち、第１のコリメータ１０６からのコリメートは、ＦＯＶ１１５が重なる前の位置で、Ｘ線ビーム１０８に対して実行される。図１Ｄは、Ｘ線ビーム１０８'のＦＯＶが真空外囲器１１０内で重なり合わないＸ線システム１００'を示す。システム１００'は、システム１００と同様であってもよい。しかしながら、第１のコリメータ１０６'は、ＦＯＶ１１５''が真空外囲器１１０の外側で重なるように、Ｘ線ビーム１０８をコリメートするように構成されている。例えば、第１のコリメータ１０６'は、第１のコリメータ１０６よりも相対的に狭くてもよく、これにより重なりの位置を真空外囲器１１０の外側に移動させる。他の実施形態では、焦点１０４の位置は、第１のコリメータ１０６'が、第１のコリメータ１０６と同一であるか、または第１のコリメータ１０６よりも広い場合でも、ＦＯＶ１１５''が依然として真空外囲器１１０の外側で重なるように、十分な距離だけ離すことがある。真空外囲器１１０に対するアノード１０１の距離など、他の寸法を変更し、その結果、真空外囲器１１０の外側でＦＯＶ１１５''が重なることになってもよい。

図１Ａから図１Ｃを参照すると、第１のコリメートＸ線ビーム１０８'及び関連するＦＯＶは、真空外囲器１１０内でＸ－Ｚ平面において重なり合い得る。しかしながら、第２のコリメータ１１４は、実質的にＹ－Ｚ平面内でのみコリメートすることができ、Ｘ－Ｚ平面内ではコリメートすることができないため、ここで実質的にとは、第２のコリメータ１１４からのＸ－Ｚ平面内での任意のコリメートが、第１のコリメータ１０６及び第２のコリメータ１１４を位置合わせする製造公差、第２のコリメータ１１４の製造公差などによるものであり得ることを意味する。Ｘ－Ｚ平面では（窓またはその他の機構による）追加のコリメートが行われない場合がある。Ｘ－Ｚ平面における第１のコリメートＸ線ビーム１０８'のＦＯＶは同じままである。つまり、ＦＯＶが重なった後は、Ｘ－Ｚ平面内でさらなるコリメートが行われない場合がある。第２のコリメータ１１４によるコリメートは、コリメートのＹ－Ｚ平面内に重なりがないため、ＦＯＶが重なり合った後に実行されてもよい。

コリメートを第１のコリメータ１０６と第２のコリメータ１１４とに分離することには、さらなる利点がある。真空外囲器１１０内に配置されるコリメータの機械加工は困難な場合がある。具体的には、タングステン及びモリブデンなどの高温材料、またはコリメータに使用できる上記の他の材料は、Ｘ－Ｚ平面及びＹ－Ｚ平面の両方においてなど、特に３次元（３Ｄ）でのコリメートでは、微細な機械加工が難しい場合がある。コリメータが焦点１０４に近づくほど、同じＦＯＶを達成するためのコリメータの寸法は小さくなる。

さらに、コリメータの幾何学的形状が複雑になり、したがって機械加工の難易度が高くなる場合がある。例えば、Ｘ－Ｚ平面及びＹ－Ｚ平面の両方でコリメートを行うコリメータの開口部を機械加工するには、比較的薄い厚さ内で２軸の穴に、制御されたテーパを機械加工する必要があり得る。さらに、個々のコリメータの位置及び向きは、各焦点１０４の位置または回転の相対的なシフトと、ターゲットが非直線のアーク上に配置される可能性とに起因して、変化し得る。加えて、Ｘ線システム１００は、数十から数百の焦点１０４を含む場合があり、数十から数百のそのような複雑な構造を機械加工する必要がある。

しかしながら、第１のコリメータ１０６の規定のコリメートを、Ｘ－Ｚ平面においてコリメートするように制限することにより、第１のコリメータ１０６の幾何学的形状の複雑さは、はるかに小さくなる。第１のコリメータ１０６用の開口部を形成するために、一度に一方向のみの機械加工を実行することができる。第１のコリメータ１０６の一部は、図１Ｂの破線の第１のコリメータ１０６によって示されるように、Ｙ－Ｚ平面内でコリメートを実行することができる。しかしながら、いずれかのそのようなコリメートは、第２のコリメータ１１４のコリメートが第１のコリメータ１０６の任意のコリメートよりも狭くなり得るため、重要でない場合がある。したがって、Ｘ－Ｚ平面内のコリメートは第１のコリメータ１０６によって規定することができ、Ｙ－Ｚ平面内のコリメートは第２のコリメータ１１４によって規定することができる。

いくつかの実施形態では、第２のコリメータ１１４は、平面アレイのＸ－Ｚ平面に垂直なＹ－Ｚ平面内のみで実質的にコリメートするように構成されており、ここで実質的にとは、第２のコリメータ１１４からのＸ－Ｚ平面内での任意のコリメートが、第１のコリメータ１０６及び第２のコリメータ１１４を位置合わせする製造公差、第２のコリメータ１１４の製造公差などによるものであり得ることを意味する。いくつかの実施形態では、第２のコリメータ１１４のストリップ１１４ａ及び１１４ｂのそれぞれは、焦点１０４の平面アレイの平面であるＸ－Ｚ平面に対して実質的に平行にのみ延在することができ、ここで、実質的に平行にとは、平行から２°もしくは５°以内、またはストリップ１１４ａ及び１１４ｂならびに真空外囲器１１０の製造公差内で平行であることを意味する。第２のコリメータ１１４は、Ｘ線を遮断するためにＹ方向にある程度の厚みを有していてもよい。しかしながら、ストリップ１１４ａ及び１１４ｂの長軸はＸ－Ｚ平面に平行である。図示されるように、ストリップ１１４ａ及び１１４ｂは、実質的にＸ方向のみに延在し、ここで、実質的にとは、特定の方向の２°または５°以内、またはストリップ１１４ａ及び１１４ｂならびに真空外囲器１１０の製造公差内を意味する。しかしながら、以下でさらに詳細に説明するように、他の実施形態では、焦点１０４、したがってストリップ１１４ａ及び１１４ｂは、非直線アークに沿って配置され得る。すなわち、ストリップ１１４ａ及び１１４ｂのアークは、実質的にＸ－Ｚ平面内にのみ延在することができ、ここで実質的にとは、ストリップ１１４ａ及び１１４ｂの長さ（または長寸法）が、ストリップ１１４ａ及び１１４ｂならびに真空外囲器１１０の製造公差内でＸ－Ｚ平面内にのみ存在することを意味する。

ストリップ１１４ａ及び１１４ｂは、Ｙ方向に互いにオフセットされて、開口部を画定する。開口部は窓１１２を露出させ、Ｘ線ビーム１０８''のＦＯＶの少なくとも一部を画定する。

いくつかの実施形態では、真空外囲器１１０の窓１１２は連続窓１１２であり、これは、Ｘ線ビーム１０８'のそれぞれが連続窓１１２を通過するように配置される。Ｘ線ビーム１０８'が連続窓１１２に到達すると、Ｘ線ビーム１０８'のＦＯＶが重なり得るので、窓１１２とは異なる形でＸ線に影響を与える壁、支持体、または他の構造物などのいずれかの障害物がＸ線ビーム１０８'に異なる影響を与え得る。例えば、障害物は、１つのＸ線ビーム１０８'のＦＯＶの１つの位置に影響をもたらし、別の１つのＸ線ビーム１０８'のＦＯＶの異なる位置に影響をもたらすことがある。したがって、窓１１２内に障害物が現れないように、窓１１２は連続していてよい。

いくつかの実施形態では、第２のコリメータ１１４は、窓１１２の下流に配置される。第２のコリメータ１１４は、窓１１２上に直接配置されてもよい。他の実施形態では、第２のコリメータ１１４は、窓１１２のさらに下流側で窓１１２からオフセットされることがある。

上記のように、いくつかの実施形態では、Ｘ線ビーム１０８'のＦＯＶは、真空外囲器１１０内で重なり合う場合がある。具体的には、少なくとも１つのＸ線ビーム１０８'のＦＯＶは、第１のコリメータ１０６によってコリメートされた後に、真空外囲器１１０内で、別の１つのＸ線ビーム１０８'のＦＯＶと重なる。しかしながら、他の実施形態では、Ｘ線ビーム１０８'のＦＯＶは、真空外囲器１１０の外側で重なり合う場合がある。

いくつかの実施形態では、第２のコリメータ１１４は、窓１１２に構造的支持を提供することがある。窓１１２は、原子番号の低い安定した軽量材料から形成することができ、約４００Ｃまでの真空中に対応することができる。例えば、窓１１２は、アルミニウム（Ａｌ）、チタン（Ｔｉ）、ベリリウム（Ｂｅ）、高密度炭素（ダイヤモンドまたはグラファイトのようなＣ）、または銅（Ｃｕ）などの材料から形成することができる。さらに、窓１１２、及び／または窓１１２に隣接する真空外囲器１１０の外被は、比較的薄くてもよい。したがって、窓は、撓み、反り、または他の歪みの影響を受けやすい比較的薄い構造であり得る。そのような薄い構造の影響されやすさは、窓１１２が連続窓１１２である場合に悪化する可能性がある。第２のコリメータ１１４によって、追加の構造的支持が提供され得る。第２のコリメータ１１４は、窓１１２の周囲に沿って延在し得る。いくつかの実施形態では、第２のコリメータ１１４は、窓１１２及び真空外囲器１１０の両方に取り付けられてもよい。さらに、第２のコリメータ１１４は、窓１１２または真空外囲器１１０に対して追加の材料または厚さを含むことができる。いくつかの実施形態では、第２のコリメータ１１４は、窓１１２に直接取り付けられるのではなく、窓１１２の近傍で真空外囲器１１０に取り付けられるので、第２のコリメータ１１４が、真空外囲器１１０を介して間接的に窓１１２に構造的支持をなおも提供する。

図２は、いくつかの実施形態によるＸ線システムのＸ線窓及びコリメータのブロック図である。真空外囲器１１０、窓１１２、及び第２のコリメータ１１４のみが示されているが、この構造は図１Ａから図１ＣのＸ線システム１００に使用することができる。いくつかの実施形態では、第２のコリメータ１１４は、真空外囲器１１０の外被と一体化されている。これは、組み合わされた１１０／１１４の参照番号を用いて示されている。例えば、真空外囲器１１０の外被はステンレス鋼で形成されてもよい。Ｘ線ビーム１０８'を十分にコリメートするために、窓１１２に隣接して、窓１１２からＹ方向に十分な距離だけ延在する十分な量のステンレス鋼を設けることができる。

いくつかの実施形態では、Ｘ方向に延在する窓１１２に隣接する真空外囲器１１０の縁１１０ｃは、傾斜を有してもよい。この傾斜は、第２のコリメートＸ線ビーム１０８''を形成するために、Ｙ－Ｚ平面内の所望のコリメートによって画定され得る。

図３Ａから図３Ｃは、いくつかの実施形態によるＸ線管のアノードの様々な図である。図３Ａは、負のＹ方向の上面図である。図３Ｂは、負のＺ方向の側面図である。図３Ｃは、等角図である。いくつかの実施形態では、第１のコリメータ１０６は、アノード１０１と一体化されてもよい。例えば、アノード１０１は、コリメート材料の連続ストリップ１０１'を含むことができる。第１のコリメータ１０６のそれぞれは、連続ストリップ１０１'内に形成される。したがって、アノード１０１を製造するときに、コリメート材料のブロックを所望の形状に機械加工して、第１のコリメータ１０６をアノード１０１と一体化させることができる。

いくつかの実施形態では、各第１のコリメータ１０６は複数の表面を含む。第１の表面３０６は、焦点１０４の平面アレイのＸ－Ｚ平面に実質的に平行である。各第１のコリメータ１０６の第２の表面３０２及び第３の表面３０４のそれぞれは、第１の表面３０６に対して実質的に垂直である。ここで、実質的に垂直とは、第１の表面３０６の８８°から９２°の間、８５°から９５°の間、もしくは８０°から９０°の間であるか、またはアノード１０１の製造公差内で垂直であることを意味する。各第１のコリメータ１０６の第２の表面３０２及び第３の表面３０４は、Ｘ線ビーム１０８のコリメートを実行して第１のコリメートＸ線ビーム１０８'を形成する表面を形成し得る。

いくつかの実施形態では、各第１のコリメータ１０６の第２の表面３０２及び第３の表面３０４は、Ｘ線ビーム１０８'のＦＯＶと、第１のコリメータ１０６によってコリメートされた後に、隣接するＸ線ビーム１０８'のＦＯＶの重なりが、真空外囲器１１０内または真空外囲器１１０外で生じるかどうかとを規定し得る。例えば、第１のコリメータ１０６の第２の表面３０２によって形成される平面が、隣接する任意の第１のコリメータ１０６について（図１Ａに示すように）窓１１２の前で、隣接する第１のコリメータ１０６の第３の表面３０４によって形成される平面と下流で交差する場合に、第１のコリメータ１０６によってコリメートされた後に、真空外囲器１１０内で、少なくとも１つのＸ線ビーム１０８'のＦＯＶが、別の１つのＸ線ビーム１０８'のＦＯＶと重なる。あるＸ線ビーム１０８'のＦＯＶと別のＸ線ビーム１０８'のＦＯＶとの重なりは、Ｘ線システム１００及び電子源１１６を作動させることなく、窓１１２に対する第１のコリメータ１０６の幾何学的形状及び間隔によって決定することができる。ある例では、第１のコリメータ１０６の第２の表面３０２によって形成される平面が、隣接する第１のコリメータ１０６ごとに（図１Ａに示すように）窓１１２の後で、隣接する第１のコリメータ１０６の第３の表面３０４によって形成される平面と下流で交差する場合に、第１のコリメータによってコリメートされた後に、真空外囲器内で、少なくとも１つのＸ線ビーム１０８'のＦＯＶが、別の１つのＸ線ビームのＦＯＶと重ならない。他の実施形態では、Ｘ線ビーム１０８'のＦＯＶの重なりは、焦点１０４の幅、ターゲット１０２の幅によって決まり得る。

いくつかの実施形態では、第１の表面３０６、第２の表面３０２、及び第３の表面３０４は、電子源１１６に向かう方向に向かって開かれているチャネル３０８を形成する。例えば、図１Ｂに示すように、Ｙ方向は電子源１１６の方向を向き得る。したがって、チャネル３０８はＹ方向に開かれ得る。

チャネル３０８は、連続ストリップ１０１'の機械加工を簡略化することができる。例えば、焦点１０４は、連続ストリップ１０１'の開口部３１０内に配置され得る。開口部３１０は、電子源１１６からの電子ビーム１１６'が焦点１０４に到達できるように、Ｙ方向に開かれ得る。チャネル３０８及び開口部３１０の機械加工は、同じ作業の一部であってもよい。チャネル３０８及び開口部３１０は、連続していてもよい。

さらに、より単純な機械加工プロセスにより、上述の垂直な表面３０２及び３０４が得られる場合がある。コンピュータ数値制御（ＣＮＣ）機械のビットをＸ－Ｚ平面内で平行移動させて、チャネル３０８及び開口部３１０の両方を削り出すことができる。

一例では、第１のコリメータ１０６はアノード１０１と一体化されるものとして説明されているが、第１のコリメータ１０６は他の方法でアノード１０１と一体化されてもよい。例えば、第１のコリメータ１０６は、後方散乱電子を閉じ込めるように構成された囲い板３３０と一体化されてもよい。囲い板３３０は、アノード１０１の上、及び焦点１０４と電子源１１６との間に延在してもよい。囲い板は、電子ビーム１１６'が通過する開口部３３２を含むことができる。

実質的に全てのコリメート材料から形成されるアノード１０１が、一例として使用されているが、第１のコリメータ１０６は他の方法でアノード１０１と一体化されてもよい。ここで、実質的に全てとは、９０％、９５％、または９８％のコリメート材料を意味する。例えば、第１のコリメータ１０６は、基板上に取り付けられた連続ストリップ１０１'内に形成されてもよい。焦点１０４は、その基板上に別々に取り付けられてもよい。

第１の表面３０６は、一例としてＸ－Ｚ平面に平行であると説明されているが、他の実施形態では、第１の表面３０６がＸ－Ｚ平面に平行でない場合がある。しかしながら、第１の表面３０６は、第２の表面３０２及び第３の表面３０４に対して依然として垂直であり得る。

図４は、いくつかの実施形態による非直線アノードを備えるＸ線システムのブロック図である。Ｘ線システム１００''は、図１Ａから図１Ｃに示される様々な構造を含む上述のＸ線システム１００と同様のものであり得る。しかしながら、焦点１０４は、非直線アークに沿って配置されている。アークはＸ－Ｚ平面に実質的に平行であり得るので、焦点１０４は依然として実質的にＸ－Ｚ平面内に配置され得る。しかしながら、焦点１０４は、Ｘ方向及びＺ方向の両方において互いにオフセットされ得る。さらに、焦点１０４は、Ｙ方向を中心に互いに対して回転され得る。第１のコリメータ１０６も同様に平行移動させ、場合によっては、関連する焦点１０４に対応するように回転させて、Ｘ線ビーム１０８をＸ線ビーム１０８'にコリメートすることができる。Ｘ－Ｚ平面内のＦＯＶ１１５'は、上述のシステム１００と同様に、真空外囲器１１０内で重なる。

いくつかの実施形態では、Ｘ線システム１００''はＸ線検出器４２０を含む。Ｘ線検出器４２０は、入射Ｘ線１０８''を検出するように構成された検出器エリア４２０'を含む。第２のコリメータ１１４及び対応する第１のコリメータ１０６によるコリメート後の各Ｘ線ビーム１０８''のＦＯＶは、Ｘ線検出器４２０の検出器エリア４２０'と実質的に一致する。ここで、実質的に一致するとは、Ｘ線ビーム１０８''と検出器エリア４２０'との重なりが、８０％以上、９０％以上、９５％以上、または９８％以上であることを意味する。Ｘ線検出器４２０の好ましい位置は、第１のコリメータ１０６のコリメートによって、Ｘ方向及びＺ方向に確立され得る。Ｘ線検出器４２０の位置は、図１Ｂのものと同様である第２のコリメータ１１４に基づいて、Ｙ方向に確立され得る。

図５は、いくつかの実施形態によるＸ線システムの動作のフローチャートである。図１Ａから図１ＣのＸ線システム１００が、一例として使用されることになる。しかしながら、この動作は、Ｘ線システム１００''または同種のものなどの他のＸ線システムを使用して実行されてもよい。

５００では、真空外囲器１１０内で複数のＸ線ビーム１０８を発生させる。例えば、電子源１１６は、ターゲット１０２の焦点１０４に向けられる複数の電子ビーム１１６'を生成することができる。電子ビーム１１６'を受けて、焦点１０４では、複数のＸ線ビーム１０８が発生し得る。

５０２では、Ｘ線ビーム１０８が、真空外囲器１１０内で第１のコリメータ１０６を用いてコリメートされる。いくつかの実施形態では、Ｘ線ビーム１０８は、真空外囲器１１０内で、少なくとも１つのコリメートＸ線ビーム１０８'のＦＯＶが別のコリメートＸ線ビーム１０８'のＦＯＶと重なるようにコリメートされる。５０４では、コリメートされたＸ線ビーム１０８'のそれぞれが、真空外囲器１１０の外被と一体化された、または真空外囲器１１０の外部にある第２のコリメータ１１４を用いてコリメートされる。

図６は、いくつかの実施形態によるＸ線撮影システムのブロック図である。Ｘ線撮影システム６００は、Ｘ線源６０２及び検出器６１０を含む。Ｘ線源６０２は、上記のようにＸ線システム１００などを含み得る。いくつかの実施形態では、Ｘ線源６０２は、複数の電界エミッタ（ＦＥ）６２４を含む。電界エミッタ６２４からの電子ビームは、Ｘ線６２０を発生させるためにアノード６２６に向けられ得る。Ｘ線源６０２は、Ｘ線６２０が検体６２２を通過するように発生して、検出器６１０によって検出され得るように、検出器６１０に相対して配置される。いくつかの実施形態では、検出器６１０は医療用イメージングシステムの一部である。他の実施形態では、Ｘ線撮影システム６００は、貨物走査システムの一部として可搬式車両走査システムを含み得る。システム６００は、Ｘ線検出器を含み得る任意のシステムであり得る。

いくつかの実施形態は、真空外囲器１１０と、真空外囲器１１０内に配置された複数の電子源１１６と、真空外囲器１１０内で平面アレイ状に配置された複数の焦点１０４を有する少なくとも１つのターゲット１０２を含むアノード１０１であって、各焦点１０４が、電子源１１６の対応する１つからの電子ビームを受けてＸ線ビームを発生させるように構成される、アノード１０１と、真空外囲器１１０内に配置された複数の第１のコリメータ１０６であって、各第１のコリメータ１０６が、焦点１０４の対応する１つに関連付けられ、対応する焦点１０４のＸ線ビームをコリメートするように構成される、複数の第１のコリメータ１０６と、真空外囲器１１０の外被と一体化された、または真空外囲器１１０の外部にある第２のコリメータ１１４であって、第２のコリメータ１１４が、Ｘ線ビームのそれぞれをコリメートするように構成される、第２のコリメータ１１４と、を備える、Ｘ線システムを含む。

いくつかの実施形態では、第２のコリメータ１１４は、平面アレイの平面に対して実質的に垂直な第１の平面内のみで実質的にコリメートするように構成される。

いくつかの実施形態では、少なくとも１つのＸ線ビームの視野（ＦＯＶ）は、第１のコリメータ１０６によってコリメートされた後に、真空外囲器１１０内で、別の１つのＸ線ビームのＦＯＶと重なる。

いくつかの実施形態では、第２のコリメータ１１４は、真空外囲器１１０の外被と一体化される。

いくつかの実施形態では、第２のコリメータ１１４は、真空外囲器１１０の外部にある。

いくつかの実施形態では、第２のコリメータ１１４は、第１のストリップ１１４ａ及び第２のストリップ１１４ｂを備え、第１のストリップ１１４ａは、第２のストリップ１１４ｂからオフセットされて、開口部を画定し、第１のストリップ１１４ａ及び第２のストリップ１１４ｂのそれぞれが、コリメートを実行するように構成された材料を含み、平面アレイの平面に対して実質的に平行である。

いくつかの実施形態では、真空外囲器１１０は、Ｘ線ビームのそれぞれが連続窓１１２を通過するように配置された連続窓１１２を備える。

いくつかの実施形態では、第２のコリメータ１１４は、連続窓１１２の下流に配置される。

いくつかの実施形態では、第２のコリメータ１１４は、連続窓１１２を支持するように構成される。

いくつかの実施形態では、第１のコリメータ１０６は、アノード１０１と一体化される。

いくつかの実施形態では、アノード１０１は、コリメート材料の連続ストリップ１０１'を含み、第１のコリメータ１０６のそれぞれは、連続ストリップ１０１'内に形成される。

いくつかの実施形態では、連続ストリップ１０１'が、各Ｘ線ビームのために、平面アレイの平面に実質的に平行である第１の表面３０６と、第１の表面３０６に実質的に垂直である第２の表面３０２と、第１の表面３０６に実質的に垂直である第３の表面３０４と、を備える。第３の表面３０４は、第２の表面３０２に面し得る。

いくつかの実施形態では、第１の表面２０６、第２の表面３０２、及び第３の表面３０４は、電子源１１６に向かう方向に向かって開かれているチャネル３０８を形成する。

いくつかの実施形態では、少なくとも１つのターゲット１０２は複数のターゲット１０２を含み、各ターゲット１０２が焦点１０４の１つに対応しており、アノード１０１は複数の開口部を含み、各開口部が、ターゲット１０２の１つ及び対応する焦点１０４に対応しているとともに、電子源１１６の対応する１つから焦点１０４に電子ビームを入れるように構成されており、チャネルのそれぞれは、アノード１０１の対応する開口部と連続している。

いくつかの実施形態では、少なくとも１つのターゲット１０２の焦点１０４は、非直線アークに沿って配置される。

いくつかの実施形態では、Ｘ線システムは、Ｘ線検出器をさらに備えており、第２のコリメータ１１４及び対応する第１のコリメータ１０６によるコリメート後のＸ線ビームの大部分の視野が、Ｘ線検出器の検出器エリアと実質的に一致する。このＸ線ビームの大部分は、いくつかの実施形態における各Ｘ線ビームを含むことができる。

いくつかの実施形態では、Ｘ線システムは、電子源１１６とアノード１０１との間に配置された囲い板３３０をさらに備える。

いくつかの実施形態は、真空外囲器１１０内で複数のＸ線ビームを発生させることと、真空外囲器１１０内で複数の第１のコリメータ１０６を用いてＸ線ビームをコリメートすることと、コリメートされたＸ線ビームのそれぞれを、真空外囲器１１０の外被と一体化された、または真空外囲器１１０の外部にある第２のコリメータ１１４を用いてコリメートすることと、を含む方法を含む。

いくつかの実施形態では、真空外囲器１１０内で第１のコリメータ１０６を用いてＸ線ビームをコリメートすることは、少なくとも１つのコリメートＸ線ビームの視野（ＦＯＶ）が、真空外囲器１１０内で、別の１つのコリメートＸ線ビームのＦＯＶと重なるように、真空外囲器１１０内で第１のコリメータ１０６を用いてＸ線ビームをコリメートすることを含む。

いくつかの実施形態は、真空外囲器１１０と、真空外囲器１１０内に配置された複数の電子源１１６と、真空外囲器１１０内で平面アレイ状に配置された複数のターゲット１０２を含むアノード１０１であって、各ターゲット１０２が、電子源１１６の対応する１つからの電子ビームを受けてＸ線ビームを発生させるように構成される、アノード１０１と、真空外囲器１１０内に配置された複数の第１のコリメータ１０６であって、各第１のコリメータ１０６が、ターゲット１０２の対応する１つに関連付けられ、対応するターゲット１０２のＸ線ビームをコリメートするように構成される、複数の第１のコリメータ１０６と、真空外囲器１１０内に配置され、第１のコリメータ１０６からオフセットされた第２のコリメータ１１４であって、第２のコリメータ１１４が、Ｘ線ビームのそれぞれをコリメートするように構成される、第２のコリメータ１１４と、を備える、Ｘ線システムを含む。

いくつかの実施形態では、Ｘ線システムは、真空外囲器１１０の外被と一体化された、または真空外囲器１１０の外部にある第３のコリメータ１１４をさらに備え、第３のコリメータは、Ｘ線ビームのそれぞれをコリメートするように構成されている。第３のコリメータ１１４は、真空外囲器１１０の外被と一体化されるか、または真空外囲器１１０の外部にある、上述の第２のコリメータ１１４と同様であってもよい。

いくつかの実施形態は、真空外囲器内で複数のＸ線ビームを発生させる手段と、真空外囲器内でＸ線ビームのそれぞれをコリメートする手段と、真空外囲器で、または真空外囲器の外部で、Ｘ線ビームのそれぞれをコリメートする手段と、を備える、Ｘ線システムを含む。

真空外囲器内で複数のＸ線ビームを発生させる手段の例には、電子源１１６、アノード１０１、ターゲット１０２、焦点１０４などが含まれる。真空外囲器内でＸ線ビームのそれぞれをコリメートする手段の例には、第１のコリメータ１０６などが含まれる。真空外囲器で、または真空外囲器の外部で、Ｘ線ビームのそれぞれをコリメートする手段の例には、第２のコリメータ１１４が含まれる。

いくつかの実施形態では、真空外囲器内でＸ線ビームのそれぞれをコリメートする手段が、さらに、少なくとも１つのコリメートＸ線ビームの視野（ＦＯＶ）が、真空外囲器内で、別の１つのコリメートＸ線ビームのＦＯＶと重なるように、Ｘ線ビームのそれぞれをコリメートする手段を備える。少なくとも１つのコリメートＸ線ビームの視野（ＦＯＶ）が、真空外囲器内で、別の１つのコリメートＸ線ビームのＦＯＶと重なるように、Ｘ線ビームのそれぞれをコリメートする手段の例には、第１のコリメータ１０６などが含まれる。

構造、デバイス、方法、及びシステムを特定の実施形態に従って説明しているが、当業者は、特定の実施形態に対する多くの変形が可能であることを容易に認識し、したがって、任意の変形は、本明細書で開示した趣旨及び範囲内にあると考えられるべきである。したがって、添付の特許請求の範囲の趣旨及び範囲から逸脱することなく、当業者によって多くの変更が行われ得る。

この書面での開示に続く特許請求の範囲は、ここで本書面での開示に明確に組み込まれ、各請求項は別個の実施形態としてそれ自体で成立する。この開示には、従属クレームを伴う独立クレームの全ての変形が含まれる。さらに、以下の独立請求項及び従属請求項から派生することが可能である追加の実施形態も、本書面での説明に明示的に組み込まれる。これらの追加の実施形態は、所与の従属請求項の依存関係を語句「請求項［ｘ］で始まり、この請求項の直前の請求項で終わる請求項のいずれか」に置き換えることによって決定され、ここで、括弧付きの用語「［ｘ］」は、直近に記載した独立請求項の番号に置き換えられる。例えば、独立請求項１で始まる第一請求項の組について、請求項４は請求項１及び３のいずれかに従属し、これらの別々の従属関係によって２つの異なる実施形態を得ることができ、請求項５は請求項１、３または４のいずれか１項に従属し、これらの別々の従属関係によって３つの異なる実施形態を得ることができ、請求項６は請求項１、３、４または５のいずれか１項に従属し、これらの別々の従属関係によって４つの異なる実施形態を得ることができる、などである。

特徴または要素に関する用語「第１」の請求項における記載は、第２の、または追加のそのような特徴または要素の存在を必ずしも示唆するものではない。存在する場合、ミ－ンズ・プラス・ファンクション形式で具体的に記載された要素は、米国特許法第１１２条（ｆ）項に従って、本明細書で説明された対応する構造、材料または動作及びそれらの均等物を網羅するように解釈されることが意図される。排他的な所有または特権が請求される本発明の実施形態は、以下のように定められる。

Claims (20)

1. 真空外囲器と、
   前記真空外囲器内に配置された複数の電子源と、
   前記真空外囲器内で平面アレイの形状に配置された複数の焦点を有する少なくとも１つのターゲットを含むアノードであって、各焦点が、前記複数の電子源の対応する１つからの電子ビームを受けてＸ線ビームを発生させるように構成される、前記アノードと、
   前記真空外囲器内に配置された複数の第１のコリメータであって、各第１のコリメータが、前記複数の焦点の対応する１つに関連付けられ、前記対応する焦点のＸ線ビームをコリメートするように構成される、前記複数の第１のコリメータと、
   前記真空外囲器の外被と一体化された、または前記真空外囲器の外部にある第２のコリメータであって、前記第２のコリメータが、前記Ｘ線ビームのそれぞれをコリメートするように構成される、前記第２のコリメータと、
   を備える、Ｘ線システム。
2. 前記第２のコリメータは、前記平面アレイの平面に対して実質的に垂直な第１の平面内のみで実質的にコリメートするように構成される、請求項１に記載のＸ線システム。
3. 少なくとも１つの前記Ｘ線ビームの視野（ＦＯＶ）は、前記複数の第１のコリメータによってコリメートされた後に、前記真空外囲器内で、別の１つの前記Ｘ線ビームのＦＯＶと重なる、請求項１に記載のＸ線システム。
4. 前記第２のコリメータは、前記真空外囲器の前記外被と一体化される、請求項１に記載のＸ線システム。
5. 前記第２のコリメータは、前記真空外囲器の外部にある、請求項１に記載のＸ線システム。
6. 前記第２のコリメータは、第１のストリップ及び第２のストリップを備え、
   前記第１のストリップは、前記第２のストリップからオフセットされて、開口部を画定し、
   前記第１のストリップ及び前記第２のストリップのそれぞれが、
   前記コリメートを実行するように構成された材料を含み、
   前記平面アレイの平面に対して実質的に平行である、請求項１に記載のＸ線システム。
7. 前記複数の第１のコリメータは、前記アノードと一体化される、請求項１に記載のＸ線システム。
8. 前記少なくとも１つのターゲットの前記焦点は、非直線アークに沿って配置される、請求項１に記載のＸ線システム。
9. Ｘ線検出器をさらに備えており、
   前記第２のコリメータ及び前記対応する第１のコリメータによるコリメート後の前記Ｘ線ビームの大部分の視野が、前記Ｘ線検出器の検出器エリアと実質的に一致する、請求項１に記載のＸ線システム。
10. 前記複数の電子源と前記アノードとの間に配置された囲い板をさらに備える、請求項１に記載のＸ線システム。
11. 前記真空外囲器は、前記Ｘ線ビームのそれぞれが連続窓を通過するように配置された前記連続窓を備える、請求項１から請求項１０のいずれか１項に記載のＸ線システム。
12. 前記第２のコリメータは、前記連続窓の下流に配置され、及び／または
    前記第２のコリメータは、前記連続窓を支持するように構成される、請求項１１に記載のＸ線システム。
13. 前記アノードは、コリメート材料の連続ストリップを含み、
    前記複数の第１のコリメータのそれぞれは、前記連続ストリップ内に形成される、請求項１から請求項１０のいずれか１項に記載のＸ線システム。
14. 前記連続ストリップが、各Ｘ線ビームのために、
    前記平面アレイの平面に実質的に平行である第１の表面と、
    前記第１の表面に実質的に垂直である第２の表面と、
    前記第１の表面に実質的に垂直である第３の表面と、
    を備える、請求項１３に記載のＸ線システム。
15. 前記第１の表面、前記第２の表面、及び前記第３の表面は、前記複数の電子源に向かう方向に向かって開かれているチャネルを形成する、請求項１４に記載のＸ線システム。
16. 前記少なくとも１つのターゲットは複数のターゲットを含み、各ターゲットが前記焦点の１つに対応しており、
    前記アノードは複数の開口部を含み、各開口部が、前記ターゲットの１つ及び前記対応する焦点に対応しているとともに、前記複数の電子源の前記対応する１つから前記焦点に前記電子ビームを入れるように構成されており、
    前記チャネルのそれぞれは、前記アノードの対応する開口部と連続している、請求項１５に記載のＸ線システム。
17. 真空外囲器内で複数のＸ線ビームを発生させることと、
    前記真空外囲器内で複数の第１のコリメータを用いて前記複数のＸ線ビームをコリメートすることと、
    前記コリメートされたＸ線ビームのそれぞれを、前記真空外囲器の外被と一体化された、または前記真空外囲器の外部にある第２のコリメータを用いてコリメートすることと、
    を含む、方法。
18. 前記真空外囲器内で前記複数の第１のコリメータを用いて前記複数のＸ線ビームをコリメートすることは、少なくとも１つの前記コリメートされたＸ線ビームの視野（ＦＯＶ）が、前記真空外囲器内で、別の１つの前記コリメートされたＸ線ビームのＦＯＶと重なるように、前記真空外囲器内で前記複数の第１のコリメータを用いて前記複数のＸ線ビームをコリメートすることを含む、請求項１７に記載の方法。
19. 真空外囲器内で複数のＸ線ビームを発生させる手段と、
    前記真空外囲器内で前記複数のＸ線ビームのそれぞれをコリメートする手段と、
    前記真空外囲器で、または前記真空外囲器の外部で、前記複数のＸ線ビームのそれぞれをコリメートする手段と、
    を備える、Ｘ線システム。
20. 前記真空外囲器内で前記複数のＸ線ビームのそれぞれをコリメートする前記手段が、さらに、
    少なくとも１つの前記コリメートされたＸ線ビームの視野（ＦＯＶ）が、前記真空外囲器内で、別の１つの前記コリメートされたＸ線ビームのＦＯＶと重なるように、前記Ｘ線ビームのそれぞれをコリメートする手段
    を備える、請求項１９に記載のＸ線システム。