JP2024023105A - 投影光学系及び露光装置 - Google Patents

投影光学系及び露光装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2024023105A
JP2024023105A JP2022126704A JP2022126704A JP2024023105A JP 2024023105 A JP2024023105 A JP 2024023105A JP 2022126704 A JP2022126704 A JP 2022126704A JP 2022126704 A JP2022126704 A JP 2022126704A JP 2024023105 A JP2024023105 A JP 2024023105A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical system
lens
lens array
projection optical
image
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2022126704A
Other languages
English (en)
Inventor
豊 末永
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
YOKOHAMA LEADING DESIGN LIMITED PARTNERSHIP COMPANY
Original Assignee
YOKOHAMA LEADING DESIGN LIMITED PARTNERSHIP COMPANY
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by YOKOHAMA LEADING DESIGN LIMITED PARTNERSHIP COMPANY filed Critical YOKOHAMA LEADING DESIGN LIMITED PARTNERSHIP COMPANY
Priority to JP2022126704A priority Critical patent/JP2024023105A/ja
Publication of JP2024023105A publication Critical patent/JP2024023105A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

【課題】光量損失が少なく、鮮鋭な光学像を形成することができる投影光学系及び露光装置を提供する。【解決手段】投影光学系1、1’、1”、20、40は、物体側から順に、物体側と像側の両方でテレセントリックな第1光学系2、21と、2次元に配列された第1レンズ素子30を有する第1レンズアレー22と、2次元に配列された第2レンズ素子31、50を有する第2レンズアレー23、41と、物体側と像側の両方でテレセントリックな第2光学系24と、を含み、第1レンズアレー22の2次元的配列と第2レンズアレー23、41の2次元的配列が一致する。【選択図】図1

Description

本発明は、投影光学系及び露光装置に関する。特に、空間変調器を用いた投影光学系及びこの投影光学系を用いた露光装置に関する。
両側テレセントリック光学系は、物体側と像側の両方でテレセントリックな光学系である。両側テレセントリック光学系では、光軸方向の位置ずれが物体側と像側のどちらで生じても、像の大きさは変化しない。そのため、両側テレセントリック光学系は、露光装置の投影光学系に用いられる。
空間変調器として、デジタル・マイクロミラー・デバイス(以下、「DMD」という)が知られている。特許文献1には、DMDを用いた投影光学系及び露光装置が開示されている。この投影光学系では、物体面にDMDが位置し、像面に対象物が位置している。投影光学系は、物体側から順に、DMDと、レンズグループと、光学システムと、追加レンズと、を有する。光学システムは、マイクロレンズアレイと、格子と、を有する。
特表2004-514280号公報
特許文献1に開示された投影光学系では、マイクロレンズアレイから発散光が出射する。発散光の広がりが大きいと、一部の光が追加レンズの外側に到達する。追加レンズの外側に到達した光は、鏡筒の内面で反射される。反射された光の一部から、迷光が生じる。迷光が像面に到達すると、フレアーが発生する。その結果、フレアーによって像が不鮮明になったり、像のコントラストが低下したりする。フレアーの発生を抑制するために格子が配置されているが、格子によって光量損失が生じる。
本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものである。すなわち、本発明は、光量損失が少なく、鮮鋭な光学像を形成することができる投影光学系及び露光装置を提供することを目的とする。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の投影光学系の態様は、物体側から順に、物体側と像側の両方でテレセントリックな第1光学系と、2次元に配列された第1レンズ素子を有する第1レンズアレーと、2次元に配列された第2レンズ素子を有する第2レンズアレーと、物体側と像側の両方でテレセントリックな第2光学系と、を含み、第1レンズアレーの2次元的配列と第2レンズアレーの2次元的配列が一致する。
上記目的を達成するために、本発明の投影光学系の態様によれば、第2レンズアレーでは、周辺光線が投影光学系の光軸と平行に出射し、第2光学系によって、第2光学系の像面に、第1光学系と第1レンズアレー及び第2レンズアレーによる合成の瞳の像が形成される。
上記目的を達成するために、本発明の投影光学系の態様によれば、第2レンズアレーでは、主光線が投影光学系の光軸と平行に出射し、第2光学系によって、第2光学系の像面に、第1光学系と第1レンズアレー及び第2レンズアレーによる合成の物体面の像が形成される。
上記目的を達成するために、本発明の投影光学系の態様では、第1光学系の倍率の範囲は、等倍から10倍までである。
上記目的を達成するために、本発明の投影光学系の態様では、第2光学系の倍率の範囲は、0.05倍から7倍までである。
上記目的を達成するために、本発明の投影光学系の態様では、空間変調素子を複数有する空間変調器が物体面に配置され、以下の条件式(1)を満足する。
2×(NA1×D1)/(P1×β1×β1)<0.71 (1)
ここで、
NA1は、第1光学系の開口数、
D1は、第1レンズアレーと第2レンズアレーの間の空気換算長、
β1は、第1光学系の倍率、
P1は、隣り合う2つの空間変調素子のピッチ、
である。
上記目的を達成するために、本発明の投影光学系の態様では、空間変調器が物体面に配置され、空間変調器は、190nm以上450nm以下の波長の光により照射される。
上記目的を達成するために、本発明の投影光学系の態様は、以下の条件式(2)を満足する。
(f1-D1)/f1<0.71 (2)
ここで、
f1は、第1レンズ素子の焦点距離、
D1は、第1レンズアレーと第2レンズアレーの間の空気換算長、
である。
上記目的を達成するために、本発明の投影光学系の態様では、空間変調器が物体面に配置され、空間変調器は、190nm以上450nm以下の波長の光により照射される。
上記目的を達成するために、本発明の露光装置の態様は、光源と、光源からの光を集光する照明光学系と、2次元に配列された空間変調素子を有し、照明光学系により照明される空間変調器と、空間変調器と対象物の間に配置された上述の投影光学系と、投影光学系の像面に位置する対象物を保持するステージと、を含む。
本発明に係るに投影光学系及び露光装置よれば、光量損失が少なく、鮮鋭な光学像を形成することができる投影光学系及び露光装置を提供することができる。
図1は、本実施形態の投影光学系を示す概略図である。 図2は、空間変調器を示す図である。 図3は、レンズアレーを示す図である。 図4は、第1実施形態の投影光学系を示す概略図である。 図5は、第1実施形態の投影光学系を示す概略図である。 図6は、レンズ素子と第2光学系を通過する光線を示す図である。 図7は、第2実施形態の投影光学系を示す概略図である。 図8は、第2実施形態の投影光学系を示す概略図である。 図9は、レンズ素子と第2光学系を通過する光線を示す図である。 図10は、本実施形態の露光装置を示す図である。
本実施形態の投影光学系は、物体側から順に、物体側と像側の両方でテレセントリックな第1光学系と、2次元に配列された第1レンズ素子を有する第1レンズアレーと、2次元に配列された第2レンズ素子を有する第2レンズアレーと、物体側と像側の両方でテレセントリックな第2光学系と、を含み、第1レンズアレーの2次元的配列と第2レンズアレーの2次元的配列が一致する。
図1は、本実施形態の投影光学系を示す概略図である。図1に示すように、投影光学系1は、物体側から順に、第1光学系2と、第1レンズアレー3と、第2レンズアレー4と、第2光学系5と、を含む。物体面6には、例えば空間変調器を配置することができる。
図2は、空間変調器を示す図である。空間変調器10は、空間変調素子10aを複数有する。空間変調素子10aは、2次元に配列されている。空間変調素子10aの形状が正方形で、一片の長さがLの場合、隣接する2つの空間変調素子10aの間隔はLである。空間変調素子10aでは、光の反射方向の変更、又は光の透過と遮光の切替えが行われる。
空間変調器10として、DMDを用いることができる。DMDでは、空間変調素子10aに微小ミラーが用いられている。微小ミラーによって、光の反射方向の変更が行われる。また、空間変調器10として、液晶空間変調器を用いることができる。液晶空間変調器では、空間変調素子10aに液晶が用いられている。液晶によって、光の透過と遮光の切替えが行われる。
空間変調器10では、空間変調素子10aの状態を、オン状態とオフ状態にすることができる。例えば、オン状態は光が投影光学系1に入射する状態で、オフ状態は光が投影光学系1に入射しない状態である。空間変調素子10aの各々で状態を変えることで、様々なパターンを生成することができる。
図1に戻って説明する。物体面6の像側には、第1光学系2が配置されている。第1光学系2は、物体側と像側の両方でテレセントリックな光学系である。
第1光学系2の像側には、第1レンズアレー3が配置されている。第1レンズアレー3は、2次元に配列された第1レンズ素子を有する。第1レンズアレー3の像側には、第2レンズアレー4が配置されている。第2レンズアレー4は、2次元に配列された第2レンズ素子を有する。
図3は、レンズアレーを示す図である。レンズアレー11は、レンズ素子11aを複数有する。複数のレンズ素子11aは、2次元に配列されている。レンズ素子11aは、レンズ面11bを有する。レンズ面11bと反対側の面は、平面である。図3では、レンズ面11bは凸面である。しかしながら、レンズ面11bは凹面であっても良い。
第1レンズアレー3では、レンズ素子11aが第1レンズ素子に対応する。第2レンズアレー4では、レンズ素子11aが第2レンズ素子に対応する。
図1に戻って説明する。投影光学系1では、第1光学系2によって、物体面6が第1レンズアレー3のレンズ面と共役になっている。よって、第1レンズアレー3のレンズ面に、物体面6の共役像6’が形成される。図1では、見易さのために、共役像6’は、第1レンズアレー3のレンズ面から離れた位置に描かれている。
第2レンズアレー4の像側には、第2光学系5が配置されている。第2光学系5は、物体側と像側の両方でテレセントリックな光学系である。
投影光学系1では、2つのレンズアレーを用いている。第1レンズアレー3の2次元配列と第2レンズアレー4の2次元配列は一致している。隣接する2つのレンズ素子11aの間隔は、第1レンズアレーと第2レンズアレーとで同じである。
第1レンズ素子から出射した光は、第2レンズ素子に入射する。そのため、レンズアレーが1つしかない場合に比べると、投影光学系1では、第1レンズ素子から出射した光を、第2光学系5にできるだけ多く入射させることができる。その結果、光量損失が少なく、鮮鋭な光学像を形成することができる。
空間変調器10では、様々なパターンを生成することができる。空間変調器10を物体面6に配置すると、空間変調器10で生成されたパターンが像面7に投影される。像面7は、第2光学系5の像面又は投影光学系1の像面である。像面7に対象物、例えば感光材料を位置させることで、様々なパターンを感光材料上に投影することができる。
第1光学系2の物体側は、テレセントリックである。そのため、空間変調器10が物体面6に対して光軸方向に少し移動しても、結像倍率が変化しない。また、第2光学系5の像側は、テレセントリックである。そのため、対象物が像面7に対して光軸方向に少し移動しても、結像倍率が変化しない。
このように、投影光学系1では、結像倍率が変化しない。そのため、空間変調器10が光軸方向にずれても、対象物が光軸方向にずれても、像面7に投影されるパターンの大きさを一定に保つことができる。
図2に示すように、空間変調素子10aの形状は正方形である。よって、図3に示すように、レンズ素子11aの形状も正方形である。隣接する2つのレンズ素子11aの間隔は、隣接する2つの空間変調素子10aの間隔と同じである。2つの空間変調素子10aの間隔はLなので、2つのレンズ素子11aの間隔もLである。間隔Lは、ピッチを表している。
図3では、レンズ素子11aの形状は正方形である。レンズ素子11aの全面を光が通過する場合、レンズ面の形状は正方形である。空間変調素子10aの各々に入射する光を円形の光にすると、レンズ素子11aの全面を光は通過しない。この場合、レンズ素子11aでは、レンズ面の形状を円形にすることができる。光束の形状が円形なので、瞳の形状も円形になる。
投影光学系1では、第1レンズアレーの2次元的配列と第2レンズアレーの2次元的配列が一致する。よって、隣接する2つのレンズ素子11aの間隔は、第1レンズアレーと第2レンズアレーとで同じである。
本実施形態の投影光学系について、より具体的に説明する。説明では、第1実施形態の投影光学系と第2実施形態の投影光学系を用いる。
第1実施形態の投影光学系では、第2レンズアレーから、周辺光線が投影光学系の光軸と平行に出射し、第2光学系によって、第2光学系の像面に、第1光学系と第1レンズアレー及び第2レンズアレーによる合成の瞳の像が形成される。
図4は、第1実施形態の投影光学系を示す概略図である。図1と同じ構成については同じ番号を付し、説明は省略する。図4では、軸上物点から出射した周辺光線が実線で示され、軸外物点から出射した主光線が点線で示されている。
周辺光線MRは、軸上物点OB1から出射した光である。主光線PRは、軸外物点OB2から出射した光である。周辺光線MRと主光線PRは第1光学系2に入射した後、第1レンズアレー3から出射する。
投影光学系1’では、第1レンズアレー3の像側に、第2レンズアレー4’が配置されている。第2レンズアレー4’の屈折力と位置を適切に設定することで、第2レンズアレー4’から周辺光線MRを光軸AXと平行に出射させることができる。
周辺光線MRは第2光学系5に入射した後、像面7に到達する。第2光学系5は両側テレセントリック光学系で、周辺光線MRは物体側で光軸AXと平行である。よって、周辺光線MRは、光軸AXと平行に第2光学系5から出射する。像面7では、周辺光線MRは光軸AXと平行である。
また、像面7では、主光線PRは光軸AXと交差している。第2光学系5によって、像面7に、第1光学系2と第1レンズアレー3及び第2レンズアレー4’による合成の瞳の像が形成される。
第1実施形態の投影光学系では、第1レンズ素子の各々は、平面の物体側面と、像側に凸面を向けた曲面の像側面と、を有し、第2レンズ素子の各々は、物体側に凸面を向けた曲面の物体側面と、平面の像側面と、を有する。
図5は、第1実施形態の投影光学系を示す概略図である。図5(a)は、物体面からレンズアレーまでの概略図である。図5(b)は、レンズアレーから像面までの概略図である。図1と同じ構成については同じ番号を付し、説明は省略する。
投影光学系20は、第1光学系21と、第1レンズアレー22と、第2レンズアレー23と、第2光学系24と、を有する。
第1光学系21は、レンズ21aと、レンズ21bと、を有する。図5(a)では、第1光学系21は、2枚のレンズで形成されている。しかしながら、第1光学系21は、2枚以上のレンズで形成されていても良い。
第1光学系21は、物体側と像側の両方でテレセントリックである。レンズ21aの焦点距離とレンズ21bの焦点距離をf1とすると、レンズ21aとレンズ21bは間隔2×f1で配置されている。
レンズ21aの物体側焦点に、物体面6が位置している。レンズ21bの像側焦点に、共役像6’が形成される。投影光学系20では、第1光学系21によって、物体面6が第1レンズアレー22のレンズ面と共役である。よって、レンズ21bの像側焦点に、第1レンズアレー22のレンズ面が位置している。
第1レンズアレー22では、第1レンズ素子の各々は、平面の物体側面22aと、像側に凸面を向けた曲面の像側面22bと、を有する。よって、第1レンズ素子の各々は、正の屈折力を有する。
第2レンズアレー23では、第2レンズ素子の各々は、物体側に凸面を向けた曲面の物体側面23aと、平面の像側面23bと、を有する。よって、第2レンズ素子の各々は、正の屈折力を有する。
第2光学系24は、レンズ24aと、レンズ24bと、を有する。図5(b)では、第2光学系24は、2枚のレンズで形成されている。しかしながら、第2光学系24は、2枚以上のレンズで形成されていても良い。
第2光学系24は、物体側と像側の両方でテレセントリックである。レンズ24aの焦点距離とレンズ24aの焦点距離をf2とすると、レンズ24aとレンズ24bは間隔2×f2で配置されている。
投影光学系20では、第1レンズアレー22と第2光学系24の間に、第2レンズアレー23が配置されている。第2レンズアレー23から、周辺光線MRが光軸AXと平行に出射する。
周辺光線MRは第2光学系24に入射した後、像面7に到達する。第2光学系24は両側テレセントリック光学系で、周辺光線MRは物体側で光軸AXと平行である。よって、周辺光線MRは、光軸AXと平行に第2光学系24から出射する。像面7では、周辺光線MRは光軸AXと平行である。
像面7では、主光線PRは光軸AXと交差している。第2光学系24によって、像面7に、第1光学系21と第1レンズアレー22及び第2レンズアレー23による合成の瞳の像が形成される。
図6は、レンズ素子と第2光学系を通過する光線を示す図である。図6(a)は、第1配置例における光線を示す図である。図6(b)は、第2の配置例における光線を示す図である。図6(c)は、第3の配置例における光線を示す図である。図5(b)と同じ構成については同じ番号を付し、説明は省略する。
第1配置例では、レンズ面が図示されている。第2の配置例と第3の配置例では、レンズ面の図示が省略され、レンズが直線で描かれている。
(第1の配置例)
第1レンズ素子30は、第1レンズアレー22のレンズ素子である。第1レンズ素子30は、平面の物体側面30aと、像側に凸面を向けた曲面の像側面30bと、を有する。物体面6は第1レンズアレー22のレンズ面と共役なので、第1レンズ素子30のレンズ面に、共役像6’が位置している。
第2レンズ素子31は、第2レンズアレー23のレンズ素子である。第2レンズ素子31は、物体側に凸面を向けた曲面の物体側面31aと、平面の像側面31bと、を有する。第2レンズ素子31の焦点距離をfa2とすると、第2レンズ素子31は、物体側焦点が共役像6’と一致するように配置されている。そのため、周辺光線MRは、第2レンズ素子31によってコリメートされる。その結果、第2レンズアレー23では、周辺光線MRが光軸AXと平行に出射する。
第1レンズ素子30から出射した主光線PRは、第1レンズ素子30の像側で光軸AXと交差する。交差する位置よりも物体側には、第1光学系21と第1レンズアレー22とで合成光学系が形成されている。よって、交差する位置には、合成光学系の射出瞳32が形成される。
第1レンズ素子30の焦点距離をfa1とすると、第1の配置例では、fa1とfa2の関係はfa1=fa2、又はfa1≒fa2である。よって、射出瞳32の位置に、第2レンズアレー23が位置する。図5(a)では、射出瞳32の位置に、第2レンズ素子31のレンズ面、すなわち第2レンズアレー23のレンズ面が配置されている。
第2光学系24は、レンズ24aの物体側焦点が射出瞳32と一致するように配置されている。そのため、第2光学系24の像面7では、主光線PRが光軸AXと交差する。その結果、第2光学系24によって、像面7に射出瞳32の像が形成される。
(第2の配置例)
第2の配置例でも、第2レンズ素子31は、物体側焦点が共役像6’と一致するように配置されている。そのため、周辺光線MRは、第2レンズ素子31によってコリメートされる。その結果、第2レンズアレー23では、周辺光線MRが光軸AXと平行に出射する。
第1レンズ素子30から出射した主光線PRは、第1レンズ素子30の像側で光軸AXと交差する。交差する位置よりも物体側には、第1光学系21と第1レンズアレー22とで合成光学系が形成されている。よって、交差する位置には、合成光学系の射出瞳32が形成される。
第2の配置例では、fa1とfa2の関係は、fa1<fa2である。この場合、射出瞳32は、第2レンズ素子31の物体側の近傍に位置する。よって、射出瞳32の近傍に、第2レンズ素子31、すなわち第2レンズアレー23が位置する。
射出瞳32の像側には、第2レンズアレー23と第2光学系24とで形成された合成光学系が位置している。第2光学系24は、合成光学系の物体側焦点が射出瞳32と一致するように配置されている。そのため、第2光学系24の像面7では、主光線PRが光軸AXと交差する。その結果、第2光学系24によって、像面7に射出瞳32の像が形成される。
(第3の配置例)
第3の配置例でも、第2レンズ素子31は、物体側焦点が共役像6’と一致するように配置されている。そのため、周辺光線MRは、第2レンズ素子31によってコリメートされる。その結果、第2レンズアレー23では、周辺光線MRが光軸AXと平行に出射する。
第1レンズ素子30から出射した主光線PRは、第1レンズ素子30の像側で光軸AXと交差する。交差する位置よりも物体側には、第1光学系21と第1レンズアレー22とで合成光学系が形成されている。よって、交差する位置には、合成光学系の射出瞳32が形成される。
ただし、第1レンズ素子30と射出瞳32の間には、第2レンズ素子31が位置している。よって、射出瞳32は、第2レンズアレー23によって投影される。投影位置に、射出瞳33が形成される。
第3の配置例では、fa1とfa2の関係は、fa1>fa2である。この場合、射出瞳32又は射出瞳33は、第2レンズ素子31の像側の近傍に位置する。よって、射出瞳32の近傍又は射出瞳33の近傍に、第2レンズ素子31、すなわち第2レンズアレー23が位置する。
第2光学系24は、レンズ24aの物体側焦点が射出瞳33と一致するように配置されている。そのため、第2光学系24の像面7では、主光線PRが光軸AXと交差する。その結果、第2光学系24によって、像面7に射出瞳32の像が形成される。
第1実施形態の投影光学系では、第2レンズアレー23から周辺光線MRが光軸AXと平行に出射する。また、周辺光線MRは、光軸AXと平行に第2光学系24から出射する。像面7では、周辺光線MRは光軸AXと平行である。
更に、像面7では、主光線PRは光軸AXと交差している。第1光学系21と第1レンズアレー22及び第2レンズアレー23によって、合成光学系が形成される。合成光学系で形成された瞳は、第2光学系24によって像面7に投影される。その結果、像面7に、瞳の像が形成される。
第2実施形態の投影光学系では、第2レンズアレーから、主光線が投影光学系の光軸と平行に出射し、第2光学系によって、第2光学系の像面に、第2光学系と第1レンズアレー及び第2レンズアレーによる合成の物体面の像が形成される。
図7は、第2実施形態の投影光学系を示す概略図である。図1と同じ構成については同じ番号を付し、説明は省略する。図7でも、軸上物点から出射した周辺光線が実線で示され、軸外物点から出射した主光線が点線で示されている。
周辺光線MRは、軸上物点OB1から出射した光である。主光線PRは、軸外物点OB2から出射した光である。周辺光線MRと主光線PRは第1光学系2に入射した後、第1レンズアレー3から出射する。
投影光学系1”では、第1レンズアレー3の像側に、第2レンズアレー4”が配置されている。第2レンズアレー4”の屈折力と位置を適切に設定することで、第2レンズアレー4”から主光線PRを光軸AXと平行に出射させることができる。
主光線PRは第2光学系5に入射した後、像面7に到達する。第2光学系5は両側テレセントリック光学系で、主光線PRは物体側で光軸AXと平行である。よって、主光線PRは、光軸AXと平行に第2光学系5から出射する。像面7では、主光線PRは光軸AXと平行である。
また、像面7では、周辺光線MRは光軸AXと交差している。第2光学系5によって、像面7に、第1光学系2と第1レンズアレー3及び第2レンズアレー4”による合成の物体面の像が形成される。
第2実施形態の投影光学系では、第1レンズ素子の各々は、平面の物体側面と、像側に凸面を向けた曲面の像側面と、を有し、第2レンズ素子の各々は、物体側に凹面を向けた曲面の物体側面と、平面の像側面と、を有する。
図8は、第2実施形態の投影光学系を示す概略図である。図8(a)は、物体面からレンズアレーまでの概略図である。図8(b)は、レンズアレーから像面までの概略図である。図5(a)、(b)と同じ構成については同じ番号を付し、説明は省略する。
投影光学系40は、第1光学系21と、第1レンズアレー22と、第2レンズアレー41と、第2光学系24と、を有する。
第2レンズアレー41では、第2レンズ素子の各々は、物体側に凹面を向けた曲面の物体側面41aと、平面の像側面41bと、を有する。よって、第2レンズ素子の各々は、負の屈折力を有する。
投影光学系40では、第1レンズアレー22と第2光学系24の間に、第2レンズアレー41が配置されている。第2レンズアレー41から、主光線PRが光軸AXと平行に出射する。
主光線PRは第2光学系24に入射した後、像面7に到達する。第2光学系24は両側テレセントリック光学系で、主光線PRは物体側で光軸AXと平行である。よって、主光線PRは、光軸AXと平行に第2光学系24から出射する。像面7では、主光線PRは光軸AXと平行である。
像面7では、周辺光線MRは光軸AXと交差している。第2光学系24によって、像面7に、第1光学系21と第1レンズアレー22及び第2レンズアレー41による合成の物体面の像が形成される。
図9は、レンズ素子と第2光学系を通過する光線を示す図である。図6(a)と同じ構成については同じ番号を付し、説明は省略する。
第2レンズ素子50は、第2レンズアレー41のレンズ素子である。第2レンズ素子50は、物体側に凹面を向けた曲面の物体側面50aと、平面の像側面50bと、を有する。
第2レンズ素子50の焦点距離をfa3とすると、第2レンズ素子50は、像側焦点が第1レンズ素子30の像側焦点と一致するように配置されている。そのため、主光線PRは、第2レンズ素子50によってコリメートされる。その結果、第2レンズアレー41では、主光線PRが光軸AXと平行に出射する。
第2レンズアレー41は、負の屈折力を有する。よって、第2レンズアレー41の物体側に、共役像6’の虚像6”が位置する。第2光学系24は、レンズ24aの物体側焦点が虚像6”と一致するように配置されている。そのため、第2光学系24の像面7では、周辺光線MRが光軸AXと交差する。その結果、第2光学系24によって、像面7に物体面6の像が形成される。
第2実施形態の投影光学系では、第2レンズアレー41から主光線PRが光軸AXと平行に出射する。また、主光線PRは、光軸AXと平行に第2光学系24から出射する。像面7では、主光線PRは光軸AXと平行である。
更に、像面7では、周辺光線MRは光軸AXと交差している。第1光学系21と第1レンズアレー22及び第2レンズアレー41によって、合成光学系が形成される。合成光学系で形成された物体面の像は、第2光学系24によって像面7に投影される。その結果、像面7に、物体面の像が形成される。
第1実施形態の投影光学系と第2実施形態の投影光学系では、第1レンズアレーの像側面と第2レンズアレーの物体側面がレンズ面である。レンズ面が向き合うようにすることで、第1レンズアレーの焦点距離と第1レンズアレーの焦点距離を短くしても、厚みを十分に確保することができる。そのため、第1レンズアレーの強度と第2レンズアレーの強度を高めることができる。
本実施形態の投影光学系では、第1光学系の倍率の範囲は、等倍から10倍までである。
等倍より小さい結像倍率では、第1レンズ素子を小さくする必要がある。そのため、第1レンズアレーの製造が難しくなる。また、10倍より大きい結像倍率では、第1レンズ素子が大きくなり過ぎる。そのため、第1レンズ素子の形状維持が難しくなる。等倍から10倍までとは、光学における数式で表現すると、-1倍から-10倍までのことである。
本実施形態の投影光学系では、第2光学系の倍率の範囲は、0.05倍から7倍までである。
上述のように、像面には、空間変調器10で生成したパターンの光学像が形成される。0.05倍より小さい結像倍率では、光学像の面積が小さくなり過ぎる。そのため、投影光学系を露光装置に用いた場合、露光面積が小さくなり過ぎる。その結果、スループット、つまり、量産効率が悪くなる。等倍より大きい結像倍率では、像面上の開口数(N.A.)が小さくなる。そのため、投影光学系の解像力及び光学像のコントラストが低下する。0.05倍から等倍までとは、光学における数式で表現すると、-0.05倍から-7倍までのことである。
投影光学系の実施例について説明する。ただし、この実施例によりこの発明が限定されるものではない。
各実施例の投影光学系は、物体側から順に、第1光学系と、第1レンズアレーと、第2レンズアレーと、第2光学系と、から構成される。
第1光学系は理想結像光学系であって、無収差の第1レンズと無収差の第2レンズとから構成される。第1レンズと第2レンズを薄肉レンズとみなすと、第1レンズから第2レンズまでの間隔は、第1レンズの焦点距離と第2レンズの焦点距離とを足した距離と等しい。よって、第1光学系は、物体側と像側の両方でテレセントリックな光学系である。物体面から第1レンズまでの間隔は、第1レンズの焦点距離と等しい。
第1レンズアレーは、平面と、像側に凸面を向けた曲面と、を有する。平面は物体側面で、曲面は像側面である。曲面には、球面又は非球面を用いることができる。第1レンズアレーには、合成石英が用いられている。
第2レンズアレーは、物体側に凸面を向けた曲面と平面とを有するか、又は物体側に凹面を向けた曲面と平面とを有する。曲面は物体側面で、平面は像側面である。曲面には、球面又は非球面を用いることができる。第2レンズアレーには、合成石英が用いられている。
実施例1~4では、第2レンズアレーは、物体側に凸面を向けた曲面と、平面と、を有する。実施例5~8では、第2レンズアレーは、物体側に凹面を向けた曲面と、平面と、を有する。
第2光学系は理想結像光学系であって、無収差の第3レンズと無収差の第4レンズとから構成される。第3レンズと第4レンズを薄肉レンズとみなすと、第3レンズから第4レンズまでの間隔は、第3レンズの焦点距離と第4レンズの焦点距離とを足した距離と等しい。よって、第2光学系は、物体側と像側の両方でテレセントリックな光学系である。
面データには、左側から順に、面番号、曲率半径(r)、面間隔(d)、波長365nmでの屈折率(ni)、kはコーニック係数を示している。
曲率半径r、面間隔d、及びその他の長さの単位は「mm」である。しかし光学系は、比例拡大または比例縮小しても同等の光学性能が得られるため、単位は「mm」に限られるものではない。
(第1実施例)
面データ
面番号 r d ni
1 ∞ 1 1.47469
2 -0.030 0.051
3 0.024 1 1.47469
4 ∞

第1光学系の入射側開口数:0.06
第1レンズの焦点距離:100
第2レンズの焦点距離:100
第1光学系の倍率:等倍(-1倍)
第3レンズの焦点距離:100
第4レンズの焦点距離:50
第2光学系の倍率:1/2倍(-0.5倍)
第2レンズと第1レンズアレーとの間隔:99.322
第2レンズアレーと第3レンズとの間隔:99.3317
(第2実施例)
面データ
面番号 r d ni
1 ∞ 1 1.47469
2 -0.023 0.053
3 0.025 1 1.47469
4 ∞

第1光学系の入射側開口数:0.06
第1レンズの焦点距離:100
第2レンズの焦点距離:100
第1光学系の倍率:等倍(-1倍)
第3レンズの焦点距離:100
第4レンズの焦点距離:20
第2光学系の倍率:1/5倍(-0.2倍)
第2レンズと第1レンズアレーとの間隔:99.322
第2レンズアレーと第3レンズとの間隔:99.3165
(第3実施例)
面データ
面番号 r d ni
1 ∞ 1 1.47469
2 -0.045 0.053
3 0.025 1 1.47469
4 ∞

第1光学系の入射側開口数:0.06
第1レンズの焦点距離:100
第2レンズの焦点距離:200
第1光学系の倍率:2倍(-2倍)
第3レンズの焦点距離:100
第4レンズの焦点距離:50
第2光学系の倍率:1/2倍(-0.5倍)
第2レンズと第1レンズアレーとの間隔:199.322
第2レンズアレーと第3レンズとの間隔:99.346
(第4実施例)
面データ
面番号 r d ni
1 ∞ 1 1.47469
2 -0.070 0.179
3 0.085 1 1.47469
4 ∞

第1光学系の入射側開口数:0.06
第1レンズの焦点距離:100
第2レンズの焦点距離:200
第1光学系の倍率:2倍(-2倍)
第3レンズの焦点距離:100
第4レンズの焦点距離:200
第2光学系の倍率:2倍(-2倍)
第2レンズと第1レンズアレーとの間隔:199.322
第2レンズアレーと第3レンズとの間隔:99.283
(第5実施例)
面データ
面番号 r d ni
1 ∞ 1 1.47469
2 -0.037 0.025
3 -0.025 1 1.47469
4 ∞

第3面
k=-1.0

第1光学系の入射側開口数:0.06
第1レンズの焦点距離:100
第2レンズの焦点距離:100
第1光学系の倍率:等倍(-1倍)
第3レンズの焦点距離:100
第4レンズの焦点距離:50
第2光学系の倍率:1/2倍(-0.5倍)
第2レンズと第1レンズアレーとの間隔:99.322
第2レンズアレーと第3レンズとの間隔:99.305
(第6実施例)
面データ
面番号 r d ni
1 ∞ 1 1.47469
2 -0.037 0.030
3 -0.022 1 1.47469
4 ∞

第3面
k=-1.0

第1光学系の入射側開口数:0.06
第1レンズの焦点距離:100
第2レンズの焦点距離:100
第1光学系の倍率:等倍(-1倍)
第3レンズの焦点距離:100
第4レンズの焦点距離:20
第2光学系の倍率:1/5倍(-0.2倍)
第2レンズと第1レンズアレーとの間隔:99.322
第2レンズアレーと第3レンズとの間隔:99.3035
(第7実施例)
面データ
面番号 r d ni
6 ∞ 1 1.47469
7 -0.041 0.040
8 -0.022 1 1.47469
9 ∞

第1光学系の入射側開口数:0.06
第1レンズの焦点距離:100
第2レンズの焦点距離:200
第1光学系の倍率:2倍(-2倍)
第3レンズの焦点距離:100
第4レンズの焦点距離:50
第2光学系の倍率:1/2倍(-0.5倍)
第2レンズと第1レンズアレーとの間隔:199.322
第2レンズアレーと第3レンズとの間隔:99.3006
(第8実施例)
面データ
面番号 r d ni
1 ∞ 1 1.47469
2 -0.049 0.042
3 -0.029 1 1.47469
4 ∞

第1光学系の入射側開口数:0.06
第1レンズの焦点距離:100
第2レンズの焦点距離:200
第1光学系の倍率:2倍(-2倍)
第3レンズの焦点距離:100
第4レンズの焦点距離:200
第2光学系の倍率:2倍(-2倍)
第2レンズと第1レンズアレーとの間隔:199.322
第2レンズアレーと第3レンズとの間隔:99.2971
f1、f2、D1、B1、B2、P1、β1の値を以下に示す。また、後述の条件式(1)、(2)の対応値も以下に示す。各実施例において、NA1の値は0.06である。
実施例 f1 f2 D1 B1 P1 β1 2×(NA1×D1)
/(P1×β1×β1)
1 0.063 0.051 0.051 0.010 0.01 -1 0.612
2 0.048 0.053 0.053 -0.055 0.01 -1 0.636
3 0.095 0.053 0.053 0.023 0.01 -2 0.159
4 0.147 0.179 0.179 -0.039 0.01 -2 0.537

実施例 f1 f2 D1 B2 P1 β1 (f1-D1)/f1
5 0.078 -0.053 0.025 -0.017 0.01 -1 0.6795
6 0.078 -0.048 0.030 -0.019 0.01 -1 0.6154
7 0.086 -0.046 0.040 -0.021 0.01 -1 0.5349
8 0.103 -0.061 0.042 -0.025 0.01 -1 0.5922

f1は、第1レンズ素子の焦点距離である。
f2は、第2レンズ素子の焦点距離である。
D1は、第1レンズアレーと第2レンズアレーとの間隔(空気換算長)である。
B1は、第1レンズアレーから射出した物体面の像の射出瞳が第2レンズアレーによって再結像する時、再結像した射出瞳の第2レンズアレーからの距離である。
B2は、第1レンズアレーから射出した物体面の像の光束が第2レンズアレーによって再結像する時、再結像した像の第2レンズアレーからの距離である。
第1実施例~第4実施例では、以下の式が成立する。
f2=D1
1/B1=1/f2-1/(D1-f1)
第5実施例~第8実施例では、以下の式が成立する。
f2=D1-f1
1/B2=1/f1-1/D1
第2レンズから第1レンズアレーまでの距離と、第3レンズから第2レンズアレーまでの距離について、第1実施例を例に説明する。他の実施例も同様な計算で実際の距離が計算できる。
第1実施例では、第1レンズアレーと第2レンズアレーに、合成石英が用いられている。第1実施例の面データにおける波長は365nmで、この波長における合成石英の屈折率は1.47469である。この場合、1mm厚の空気換算長は0.678mmとなる。
第1光学系に対する第1レンズアレーの位置は、第2レンズの後側焦点距離と空気換算長を用いて表すことができる。第2レンズの後側焦点距離を100mmとし、第1レンズアレーの厚みを1mmとすると、第2レンズから第1レンズアレーまでの距離は、以下のように求まる。
100mm-0.678mm=99.322mm
第2光学系に対する第2レンズアレーの位置は、第3レンズの前側焦点距離、空気換算長及びB1を用いて表すことができる。第2レンズの後側焦点距離を100mmとし、第1レンズアレーの厚みを1mmとし、B1を0.01mmすると、第3レンズから第2レンズアレーまでの距離は、以下のように求まる。
10mm0-0.678mm+0.01mm=99.332mm
第1実施形態の投影光学系では、空間変調素子を複数有する空間変調器が物体面に配置され、以下の条件式(1)を満足する。
2×(NA1×D1)/(P1×β1×β1)<0.71 (1)
ここで、
NA1は、第1光学系の開口数、
D1は、第1レンズアレーと第2レンズアレーの間の空気換算長、
β1は、第1光学系の倍率、
P1は、隣り合う2つの空間変調素子のピッチ、
である。
第1実施形態の投影光学系では、第2レンズアレーによって、第1レンズアレーから出射した光を、第2光学系5にできるだけ多く入射させることができる。よって、第1レンズアレーから出射した光は、第2レンズアレーにできるだけ多く入射させることが好ましい。
条件式(1)を満足することで、第2レンズアレーの外側に進行する光を少なくすることができる。そのため、第1レンズアレーから出射した光のほとんどを、第2レンズアレーに入射させることができる。その結果、光量損失が少なく、鮮鋭な光学像を形成することができる。
第2実施形態の投影光学系は、以下の条件式(2)を満足する。
(f1-D1)/f1<0.71 (2)
ここで、
f1は、第1レンズ素子の焦点距離、
D1は、第1レンズアレーと第2レンズアレーの間の空気換算長、
である。
第2実施形態の投影光学系では、第2レンズアレーによって、第1レンズアレーから出射した光を、第2光学系5にできるだけ多く入射させることができる。よって、第1レンズアレーから出射した光は、第2レンズアレーにできるだけ多く入射させることが好ましい。
条件式(2)を満足することで、第2レンズアレーの外側に進行する光を少なくすることができる。そのため、第1レンズアレーから出射した光のほとんどを、第2レンズアレーに入射させることができる。その結果、光量損失が少なく、鮮鋭な光学像を形成することができる。
本実施形態の投影光学系では、空間変調器が物体面に配置され、空間変調器は、190nm以上450nm以下の波長の光により照射される。
照射光の波長を190nm以上450nm以下にすることで、投影光学系の解像力及び光学像のコントラストが向上する。紫外光を用いることで、投影光学系の解像力及び光学像のコントラストがより向上する。
本実施形態の露光装置は、光源と、光源からの光を集光する照明光学系と、2次元に配列された空間変調素子を有し、照明光学系により照明される空間変調器と、空間変調器と対象物の間に配置された本実施形態の投影光学系と、投影光学系の像面に位置する対象物を保持するステージと、を含む。
図10は、本実施形態の露光装置を示す図である。図1及び図2と同じ構成については同じ番号を付し、説明は省略する。
露光装置60は、光源61と、照明光学系62と、空間変調器10と、投影光学系1と、ステージ63と、を含む。
光源61から、紫外光が出射する。光源61には、例えば、LED光源や水銀ランプ等を用いることができる。光源61には、可視光を出射する光源を用いることができる。
照明光学系62は、光源61から出射した紫外光を集光する。照明光学系62によって、紫外光が空間変調器10に照射される。その結果、紫外光で空間変調器10を照明することができる。空間変調器10の照明では、ケーラー照明を用いることが好ましい。ケーラー照明を用いることで、照明ムラが無い状態又は照明ムラ軽減された状態で、空間変調器10を照明することができる。
投影光学系1を挟んで空間変調器10の反対側には、ステージ63が配置されている。ステージ63は、対象物64を保持している。ステージ63は、空間変調器10の動作と同期して動く。
対象物64は、投影光学系1の像面に位置している。空間変調器10では、様々なパターンを生成することができる。よって、像面に対象物64、例えば感光材料を位置させることで、様々なパターンを感光材料上に投影することができる。
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
本発明は、光量損失が少なく、鮮鋭な光学像を形成することができる投影光学系及び露光装置に適している。
1、1’、1” 投影光学系
2 第1光学系
2a、2b レンズ
3 第1レンズアレー
4、4’、4” 第2レンズアレー
5 第2光学系
6 物体面
6’ 物体面の共役像
6” 共役像の虚像
7 像面
10 空間変調器
10a 空間変調素子
11 レンズアレー
11a レンズ素子
11b レンズ面
20 投影光学系
21 第1光学系
21a、21b レンズ
22 第1レンズアレー
22a、23a 物体側面
22b、23b 象側面
23 第2レンズアレー
24 第2光学系
24a、24b レンズ
30 第1レンズ素子
30a、31a 物体側面
30b、31b 象側面
31 第2レンズ素子
32、33 射出瞳
40 投影光学系
41 第2レンズアレー
41a 物体側面
41b 象側面
50 第2レンズ素子
50a 物体側面
50b 象側面
60 露光装置
61 光源
62 照明光学系
63 ステージ
64 対象物
AX 光軸
MR 周辺光線
PR 主光線
OB1 軸上物点
OB2 軸外物点

Claims (11)

  1. 物体側から順に、
    前記物体側と像側の両方でテレセントリックな第1光学系と、
    2次元に配列された第1レンズ素子を有する第1レンズアレーと、
    2次元に配列された第2レンズ素子を有する第2レンズアレーと、
    前記物体側と前記像側の両方でテレセントリックな第2光学系と、を含み、
    前記第1レンズアレーの2次元的配列と前記第2レンズアレーの2次元的配列が一致することを特徴とする投影光学系。
  2. 前記第2レンズアレーでは、周辺光線が前記投影光学系の光軸と平行に出射し、
    前記第2光学系によって、前記第2光学系の像面に、前記第1光学系と前記第1レンズアレー及び前記第2レンズアレーによる合成の瞳の像が形成されることを特徴とする請求項1に記載の投影光学系。
  3. 前記第2レンズアレーでは、主光線が前記投影光学系の光軸と平行に出射し、
    前記第2光学系によって、前記第2光学系の像面に、前記第1光学系と前記第1レンズアレー及び前記第2レンズアレーによる合成の物体面の像が形成されることを特徴とする請求項1に記載の投影光学系。
  4. 前記第1光学系の倍率の範囲は、等倍から10倍までであることを特徴とする請求項2または3に記載の投影光学系。
  5. 前記第2光学系の倍率の範囲は、0.05倍から7倍までであることを特徴とする請求項2または3に記載の投影光学系。
  6. 空間変調素子を複数有する空間変調器が物体面に配置され、
    以下の条件式(1)を満足することを特徴とする請求項2に記載の投影光学系。
    2×(NA1×D1)/(P1×β1×β1)<0.71 (1)
    ここで、
    NA1は、前記第1光学系の開口数、
    D1は、前記第1レンズアレーと前記第2レンズアレーの間の空気換算長、
    β1は、前記第1光学系の倍率、
    P1は、隣り合う2つの前記空間変調素子のピッチ、
    である。
  7. 前記空間変調器は、190nm以上450nm以下の波長の光により照射されることを特徴とする請求項6に記載の投影光学系。
  8. 光源と、
    前記光源からの光を集光する照明光学系と、
    2次元に配列された空間変調素子を有し、前記照明光学系により照明される前記空間変調器と、
    前記空間変調器と対象物の間に配置された請求項7に記載の投影光学系と、
    前記投影光学系の像面に位置する前記対象物を保持するステージと、を含むことを特徴とする露光装置。
  9. 以下の条件式(2)を満足することを特徴とする請求項3に記載の投影光学系。
    (f1-D1)/f1<0.71 (2)
    ここで、
    f1は、前記第1レンズ素子の焦点距離、
    D1は、前記第1レンズアレーと前記第2レンズアレーの間の空気換算長、
    である。
  10. 空間変調器が物体面に配置され、
    前記空間変調器は、190nm以上450nm以下の波長の光により照射されることを特徴とする請求項9に記載の投影光学系。
  11. 光源と、
    前記光源からの光を集光する照明光学系と、
    2次元に配列された空間変調素子を有し、前記照明光学系により照明される前記空間変調器と、
    前記空間変調器と対象物の間に配置された請求項10に記載の投影光学系と、
    前記投影光学系の像面に位置する前記対象物を保持するステージと、を含むことを特徴とする露光装置。

JP2022126704A 2022-08-08 2022-08-08 投影光学系及び露光装置 Pending JP2024023105A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022126704A JP2024023105A (ja) 2022-08-08 2022-08-08 投影光学系及び露光装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022126704A JP2024023105A (ja) 2022-08-08 2022-08-08 投影光学系及び露光装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2024023105A true JP2024023105A (ja) 2024-02-21

Family

ID=89930385

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022126704A Pending JP2024023105A (ja) 2022-08-08 2022-08-08 投影光学系及び露光装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2024023105A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100827874B1 (ko) 노광 장치, 노광 장치의 제조 방법, 노광 방법, 마이크로 장치의 제조 방법, 및 디바이스의 제조 방법
US6285443B1 (en) Illuminating arrangement for a projection microlithographic apparatus
US5675401A (en) Illuminating arrangement including a zoom objective incorporating two axicons
JP3005203B2 (ja) 照明装置、露光装置及びデバイス製造方法
KR100450556B1 (ko) 투사형-마이크로리소그래피장치용조명장치
US8004658B2 (en) Lighting optical device, exposure system, and exposure method
JP3608580B2 (ja) 照明光学装置、露光装置、露光方法、及びフライアイレンズ
US9146475B2 (en) Projection exposure system and projection exposure method
EP2253997A2 (en) Illumination system for a microlithographic contact and proximity exposure apparatus
WO2004008507A1 (ja) オプティカルインテグレータ、照明光学装置、露光装置および露光方法
TW536735B (en) Optical condenser system, optical illumination system provided with the same, and exposure system
JP7029564B2 (ja) カタディオプトリック光学系、照明光学系、露光装置および物品製造方法
JP2004198748A (ja) オプティカルインテグレータ、照明光学装置、露光装置および露光方法
KR101506748B1 (ko) 광학 적분기, 조명 광학 장치, 노광 장치, 및 디바이스 제조 방법
JP2002040327A (ja) 波面分割型のオプティカルインテグレータおよび該オプティカルインテグレータを備えた照明光学装置
JP2002222761A (ja) 照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置
JP2024023105A (ja) 投影光学系及び露光装置
JPH0684759A (ja) 照明装置
JP2001330964A (ja) 露光装置および該露光装置を用いたマイクロデバイス製造方法
US20050094997A1 (en) Illumination optical system and exposure apparatus having the same
CN117492333A (zh) 投影光学系统及曝光装置
TW530335B (en) Image-forming optical system and exposure device equipped therewith
CN108152940B (zh) 反射折射光学系统、照明光学系统、曝光装置
JP5570225B2 (ja) 照明光学系、それを用いた露光装置及びデバイスの製造方法
KR20160034806A (ko) 조명 광학장치, 노광장치, 및 물품의 제조방법