JP2024021002A - Aggregate sheet, and method of manufacturing the same - Google Patents
Aggregate sheet, and method of manufacturing the same Download PDFInfo
- Publication number
- JP2024021002A JP2024021002A JP2022123621A JP2022123621A JP2024021002A JP 2024021002 A JP2024021002 A JP 2024021002A JP 2022123621 A JP2022123621 A JP 2022123621A JP 2022123621 A JP2022123621 A JP 2022123621A JP 2024021002 A JP2024021002 A JP 2024021002A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- metal
- terminal
- frame
- inspection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 292
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 176
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 176
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims abstract description 110
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims abstract description 38
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 31
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims description 27
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 21
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 13
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 12
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 29
- 239000000463 material Substances 0.000 description 14
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 7
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229920002577 polybenzoxazole Polymers 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001256 stainless steel alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
- H01L23/49838—Geometry or layout
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/48—Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
- H01L21/4814—Conductive parts
- H01L21/4846—Leads on or in insulating or insulated substrates, e.g. metallisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
- H01L22/30—Structural arrangements specially adapted for testing or measuring during manufacture or treatment, or specially adapted for reliability measurements
- H01L22/32—Additional lead-in metallisation on a device or substrate, e.g. additional pads or pad portions, lines in the scribe line, sacrificed conductors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
- H01L23/49811—Additional leads joined to the metallisation on the insulating substrate, e.g. pins, bumps, wires, flat leads
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
- H01L23/49861—Lead-frames fixed on or encapsulated in insulating substrates
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Geometry (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Structure Of Printed Boards (AREA)
- Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
Abstract
Description
本発明は、集合体シート、および、集合体シートの製造方法に関する。 The present invention relates to an aggregate sheet and a method for manufacturing an aggregate sheet.
従来、配線回路基板の一例として、メタルベースと、メタルベース上に形成された絶縁層と、絶縁層上に所定パターンで形成された導体群とを備えるディスク装置用フレキシャが知られている(例えば、下記特許文献1参照。)。
Conventionally, as an example of a printed circuit board, a flexure for a disk device is known that includes a metal base, an insulating layer formed on the metal base, and a group of conductors formed in a predetermined pattern on the insulating layer (for example, , see
このディスク装置用フレキシャでは、メタルベースの一部に、電路部が形成されている。電路部は、絶縁層の孔を通して導体群の一部と接続される。電路部には、金めっき層が形成されている。 In this flexure for a disk device, an electric circuit portion is formed in a part of the metal base. The electric circuit section is connected to a part of the conductor group through the hole in the insulating layer. A gold plating layer is formed on the electric circuit section.
特許文献1に記載されるような配線回路基板において、品質検査として、例えば、電路部における金メッキ層の密着性を検査したい場合がある。
In a printed circuit board as described in
しかし、電路部を用いて品質検査を実施すると、電路部が破壊されてしまう可能性がある。 However, if a quality inspection is performed using the electrical circuit section, there is a possibility that the electrical circuit section will be destroyed.
本発明は、絶縁層と、厚み方向において絶縁層の一方側に配置される第1端子と、厚み方向において絶縁層の他方側に配置される金属支持層と、厚み方向における絶縁層の他方側に配置される第2端子とを有する配線回路基板において、第2端子を破壊することなく配線回路基板の品質検査を実施できる集合体シート、および、その集合体シートの製造方法を提供する。 The present invention includes an insulating layer, a first terminal disposed on one side of the insulating layer in the thickness direction, a metal support layer disposed on the other side of the insulating layer in the thickness direction, and a metal support layer disposed on the other side of the insulating layer in the thickness direction. Provided are an assembly sheet and a method for manufacturing the assembly sheet, in which the quality of the printed circuit board can be inspected without destroying the second terminal in a printed circuit board having a second terminal arranged in the second terminal.
本発明[1]は、配線回路基板と、前記配線回路基板から離れて配置される検査部とを備え、前記配線回路基板が、絶縁層と、厚み方向において前記絶縁層の一方側に配置される第1端子と、第1の金属からなり、前記厚み方向において前記絶縁層の他方側に配置される金属支持層と、前記厚み方向における前記絶縁層の他方側において、前記金属支持層から離れて配置される第2端子とを有し、前記第2端子が、前記第1の金属からなる端子本体と、前記第1の金属とは異なる第2の金属からなり、前記端子本体を被覆する被覆層とを有し、前記検査部が、前記第1の金属からなる第1層と、前記第2の金属からなり、前記第1層を被覆する第2層とを有する、集合体シートを含む。 The present invention [1] includes a printed circuit board and an inspection section disposed apart from the printed circuit board, and the printed circuit board includes an insulating layer and one side of the insulating layer in the thickness direction. a first terminal made of a first metal and disposed on the other side of the insulating layer in the thickness direction; and a metal support layer separated from the metal support layer on the other side of the insulating layer in the thickness direction. a second terminal disposed in the terminal body, the second terminal being made of a terminal body made of the first metal and a second metal different from the first metal, and covering the terminal body. a coating layer, and the inspection section has a first layer made of the first metal and a second layer made of the second metal and covering the first layer. include.
このような構成によれば、配線回路基板の第2端子は、第1の金属からなる層(端子本体)と第2の金属からなる層(被覆層)とからなる層構成を有する。配線回路基板から離れて配置される検査部も、第1の金属からなる層(第1層)と第2の金属からなる層(第2層)とからなる層構成を有する。つまり、検査部は、第2端子と同じ材料からなる同じ層構成を有する。 According to such a configuration, the second terminal of the printed circuit board has a layered structure including a layer made of the first metal (terminal body) and a layer made of the second metal (coating layer). The inspection section disposed apart from the printed circuit board also has a layer structure consisting of a layer made of a first metal (first layer) and a layer made of a second metal (second layer). That is, the inspection part has the same layer structure made of the same material as the second terminal.
そのため、検査部に対して実施した品質検査の結果に基づいて、第2端子の品質を推測できる。 Therefore, the quality of the second terminal can be estimated based on the results of the quality inspection performed on the inspection section.
その結果、検査部を用いて、第2端子を破壊することなく配線回路基板の品質検査を実施できる。 As a result, the quality of the printed circuit board can be inspected using the inspection section without destroying the second terminal.
本発明[2]は、前記第2の金属が、金またはニッケルである、上記[1]の集合体シートを含む。 The present invention [2] includes the aggregate sheet of the above [1], wherein the second metal is gold or nickel.
本発明[3]は、前記第2端子が、前記第1の金属および前記第2の金属の両方と異なる第3の金属からなり、前記被覆層を被覆する第2被覆層を、さらに有し、前記検査部が、前記第3の金属からなり、前記第2層を被覆する第3層を、さらに有する、上記[1]または[2]の集合体シートを含む。 In the present invention [3], the second terminal is made of a third metal different from both the first metal and the second metal, and further includes a second coating layer that covers the coating layer. , the inspection section includes the assembly sheet of [1] or [2] above, further comprising a third layer made of the third metal and covering the second layer.
本発明[4]は、前記第2の金属が、ニッケルであり、前記第3の金属が、金である、上記[3]の集合体シートを含む。 The present invention [4] includes the aggregate sheet of the above [3], wherein the second metal is nickel and the third metal is gold.
本発明[5]は、前記検査部の少なくとも一部の幅が、30μm以上である、上記[1]~[4]のいずれか1つの集合体シートを含む。 The present invention [5] includes the aggregate sheet according to any one of the above [1] to [4], wherein the width of at least a portion of the inspection portion is 30 μm or more.
このような構成によれば、検査部の大きさを確保でき、検査部を用いた品質検査を容易に実施できる。 According to such a configuration, the size of the inspection section can be ensured, and quality inspection using the inspection section can be easily carried out.
本発明[6]は、前記集合体シートが、前記配線回路基板を支持するフレームをさらに有し、前記検査部が、前記フレームに配置される、上記[1]~[5]のいずれか1つの集合体シートを含む。 The present invention [6] provides any one of the above [1] to [5], wherein the assembly sheet further includes a frame that supports the printed circuit board, and the inspection section is disposed on the frame. Contains two aggregate sheets.
このような構成によれば、配線回路基板を支持するフレームを利用して、検査部を設ける部分を別途設けることなく、配線回路基板から離れた位置に検査部を設けることができる。 According to such a configuration, by using the frame that supports the printed circuit board, the testing section can be provided at a position away from the printed circuit board without separately providing a portion where the testing section is provided.
本発明[7]は、前記フレームが、前記第1の金属からなる金属層を有し、前記検査部が、前記フレームの前記金属層から離れている、上記[6]の集合体シートを含む。 The present invention [7] includes the assembly sheet according to the above [6], wherein the frame has a metal layer made of the first metal, and the inspection section is separated from the metal layer of the frame. .
このような構成によれば、第2端子が金属支持層から離れているのと同様に、検査部も、フレームの金属層から離れている。 According to such a configuration, just as the second terminal is separated from the metal support layer, the inspection section is also separated from the metal layer of the frame.
そのため、検査部の構造を、第2端子の構造に、より近似させることができる。 Therefore, the structure of the inspection section can be made more similar to the structure of the second terminal.
本発明[8]は、前記フレームが、前記第1の金属からなる金属層を有し、前記検査部が、前記フレームの前記金属層と連続する、上記[6]の集合体シートを含む。 The present invention [8] includes the assembly sheet according to the above [6], wherein the frame has a metal layer made of the first metal, and the inspection section is continuous with the metal layer of the frame.
このような構成によれば、検査部を容易に形成することができる。 According to such a configuration, the inspection section can be easily formed.
本発明[9]は、上記[1]~[8]のいずれか1つの集合体シートの製造方法であって、前記第1の金属からなる金属箔の上に、前記絶縁層と前記第1端子とを順に形成する第1パターン工程と、前記金属箔の一部をエッチングして、前記第2端子の前記端子本体を形成する第2パターン工程と、前記第2端子の前記被覆層と、前記検査部の前記第2層とを、メッキにより同時に形成するメッキ工程とを含む、集合体シートの製造方法を含む。 The present invention [9] is a method for manufacturing an aggregate sheet according to any one of [1] to [8] above, in which the insulating layer and the first metal foil are formed on a metal foil made of the first metal. a first patterning step of sequentially forming a terminal; a second patterning step of etching a part of the metal foil to form the terminal body of the second terminal; and the covering layer of the second terminal. The method includes a plating step of simultaneously forming the second layer of the inspection section by plating.
このような方法によれば、検査部を、第2端子と同じ材料から、第2端子と同じ層構成で形成できる。 According to such a method, the inspection part can be formed from the same material as the second terminal and with the same layer structure as the second terminal.
本発明[10]は、前記集合体シートは、前記配線回路基板を支持するフレームをさらに有し、前記検査部は、前記フレームに配置され、前記フレームは、前記第1の金属からなる金属層を有し、前記第2パターン工程において、前記金属箔の一部をエッチングすることにより、前記検査部の前記第1層を、前記フレームの前記金属層から分離させる、上記[9]の集合体シートの製造方法を含む。 In the present invention [10], the assembly sheet further includes a frame that supports the printed circuit board, the inspection section is disposed on the frame, and the frame includes a metal layer made of the first metal. The aggregate according to [9] above, wherein the first layer of the inspection section is separated from the metal layer of the frame by etching a part of the metal foil in the second patterning step. Includes sheet manufacturing methods.
このような方法によれば、検査部をフレームの金属層から離すことができ、検査部の構造を、第2端子の構造に、より近似させることができる。 According to such a method, the test section can be separated from the metal layer of the frame, and the structure of the test section can be made more similar to the structure of the second terminal.
本発明の集合体シートによれば、第2端子を破壊することなく配線回路基板の品質検査を実施できる。 According to the assembly sheet of the present invention, the quality of the printed circuit board can be inspected without destroying the second terminal.
1.集合体シート
図1に示すように、集合体シート1は、第1方向および第2方向に延びるシート形状を有する。第2方向は、第1方向と直交する。集合体シート1は、複数の配線回路基板2と、フレーム3と、検査部4とを備える。
1. Aggregate Sheet As shown in FIG. 1, the
(1)配線回路基板
複数の配線回路基板2は、第1方向に互いに間隔を隔てて並ぶとともに、第2方向に互いに間隔を隔てて並ぶ。複数の配線回路基板2のそれぞれは、同じ構造を有する。そのため、複数の配線回路基板2のうちの1つの配線回路基板2について説明し、その他の配線回路基板2の説明を省略する。
(1) Wired Circuit Board The plurality of wired
配線回路基板2は、第1方向および第2方向に延びる。本実施形態では、配線回路基板2は、略矩形状を有する。なお、配線回路基板2の形状は、限定されない。
The printed
図2Aおよび図2Bに示すように、配線回路基板2は、金属支持層21(図2B参照)と、絶縁層の一例としてのベース絶縁層22と、第1導体パターン23と、第2導体パターン24と、カバー絶縁層25とを備える。
As shown in FIGS. 2A and 2B, the printed
(1-1)金属支持層
金属支持層21は、ベース絶縁層22、第1導体パターン23、および、カバー絶縁層25を支持する。金属支持層21は、第1の金属からなる。第1の金属として、例えば、ステンレス、および、銅合金が挙げられる。
(1-1) Metal Support Layer The
金属支持層21の厚みは、例えば、10μm以上、好ましくは、15μm以上であり、例えば、50μm以下、好ましくは、30μm以下である。
The thickness of the
(1-2)ベース絶縁層
ベース絶縁層22は、集合体シート1の厚み方向において、金属支持層21の一方側に配置される。言い換えると、金属支持層21は、厚み方向において、ベース絶縁層22の他方側に配置される。厚み方向は、第1方向および第2方向と直交する。詳しくは、ベース絶縁層22は、厚み方向において、金属支持層21の一方面上に配置される。ベース絶縁層22は、厚み方向において、金属支持層21と第1導体パターン23との間、および、第1導体パターン23と第2導体パターン24との間に配置される。ベース絶縁層22は、金属支持層21と第1導体パターン23とを絶縁する。また、ベース絶縁層22は、第1導体パターン23と第2導体パターン24とを絶縁する。ベース絶縁層22は、樹脂からなる。樹脂として、例えば、ポリイミド、マレイミド、エポキシ樹脂、ポリベンゾオキサゾール、および、ポリエステルが挙げられる。ベース絶縁層22は、ビアホール22A(図2B参照)を有する。
(1-2) Base Insulating Layer The
ベース絶縁層22の厚みは、例えば、1μm以上、好ましくは、3μm以上であり、例えば、30μm以下、好ましくは、15μm以下である。
The thickness of the
(1-3)第1導体パターン
第1導体パターン23は、厚み方向において、ベース絶縁層22の一方側に配置される。詳しくは、第1導体パターン23は、厚み方向において、ベース絶縁層22の一方面上に配置される。第1導体パターン23は、厚み方向において、ベース絶縁層22に対して、金属支持層21および第2導体パターン24の反対側に配置される。第1導体パターン23の形状は、限定されない。
(1-3) First Conductor Pattern The
本実施形態では、図1に示すように、第1導体パターン23は、複数の第1端子231A,231B,231Cと、複数の第1端子232A,232B,232C,232Dと、複数の第1配線233A,233B,233C,233Dとを有する。なお、第1端子の数、および、第1配線の数は、限定されない。
In this embodiment, as shown in FIG. 1, the
(1-3-1)第1端子
第1端子231A,231B,231Cは、第2方向における配線回路基板2の一端部に配置される。本実施形態では、第1端子231A,231B,231Cは、互いに間隔を隔てて、第1方向に並ぶ。第1端子231A,231B,231Cのそれぞれは、例えば、角ランド形状を有する。図2Aに示すように、第1端子231A,231B,231Cは、厚み方向において、ベース絶縁層22の一方側に配置される。詳しくは、第1端子231A,231B,231Cは、厚み方向において、ベース絶縁層22の一方面上に配置される。
(1-3-1) First Terminal The
第1端子231A,231B,231Cのそれぞれの幅W1は、例えば、20μm以上、好ましくは、25μm以上であり、例えば、100μm以下、好ましくは、50μm以下である。
The width W1 of each of the
第1端子231Aは、端子本体2311と、2つの被覆層2312A,2312Bとを有する。なお、第1端子231Aは、1つの被覆層2312を有してもよい。
The
端子本体2311は、第1端子231Aの本体部分である。端子本体2311は、厚み方向におけるベース絶縁層22の一方面上に配置される。端子本体2311は、金属からなる。金属として、例えば、銅、銀、金、鉄、アルミニウム、クロム、および、それらの合金が挙げられる。良好な電気特性を得る観点から、好ましくは、銅が挙げられる。
The terminal
端子本体2311の厚みは、例えば、3μm以上、好ましくは、5μm以上であり、例えば、50μm以下、好ましくは、30μm以下である。
The thickness of the terminal
被覆層2312Aは、端子本体2311を被覆する。被覆層2312Bは、被覆層2312Aを被覆する。被覆層2312A,2312Bは、端子本体2311の腐食を抑制する。被覆層2312Aおよび被覆層2312Bのそれぞれは、金属からなる。金属として、例えば、ニッケル、金、および、錫が挙げられる。
The
本実施形態では、被覆層2312Aおよび被覆層2312Bのそれぞれは、端子本体2311の金属とは異なる金属からなる。さらに、被覆層2312Aおよび被覆層2312Bのそれぞれは、互いに異なる金属からなる。具体的には、被覆層2312Aは、ニッケルからなり、被覆層2312Bは、金からなる。
In this embodiment, each of the
被覆層2312Aの厚みと被覆層2312Bの厚みとの総和は、端子本体2311の厚みよりも薄い。被覆層2312Aの厚みと被覆層2312Bの厚みとの総和は、例えば、0.1μm以上、好ましくは、0.2μm以上であり、例えば、5μm以下、好ましくは、4μm以下である。
The total thickness of the
第1端子231B,231Cについての説明は、第1端子231Aについての説明と同様である。そのため、第1端子231B,231Cの説明を省略する。
The explanation about the first terminals 231B and 231C is the same as the explanation about the
図1に示すように、第1端子232A,232B,232C,232Dは、第2方向における配線回路基板2の他端部に配置される。本実施形態では、第1端子232A,232B,232C,232Dは、互いに間隔を隔てて、第1方向に並ぶ。第1端子232A,232B,232C,232Dのそれぞれは、例えば、角ランド形状を有する。
As shown in FIG. 1, the
第1端子232A,232B,232C,232Dについての説明は、第1端子231Aについての説明と同様である。そのため、第1端子232A,232B,232C,232Dの説明を省略する。
The description of the
(1-3-2)第1配線
第1配線233Aの一端は、第1端子231Aと接続する。第1配線233Aの他端は、第1端子232Aと接続する。第1配線233Aは、第1端子231Aと第1端子232Aとを電気的に接続する。
(1-3-2) First Wiring One end of the first wiring 233A is connected to the
第1配線233Bの一端は、第1端子231Bと接続する。第1配線233Bの他端は、第1端子232Bと接続する。第1配線233Bは、第1端子231Bと第1端子232Bとを電気的に接続する。
One end of the
第1配線233Cの一端は、第1端子231Cと接続する。第1配線233Cの他端は、第1端子232Cと接続する。第1配線233Cは、第1端子231Cと第1端子232Cとを電気的に接続する。
One end of the
第1配線233Dの一端は、ビアホール22Aを通って、第2導体パターン24の第2配線242と接続する。第1配線233Dの他端は、第1端子232Dと接続する。第1配線233Dは、第2導体パターン24と第1端子232Dとを電気的に接続する。
One end of the
第1配線233A,233B,233C,233Dは、上記した端子本体2311と同じ材料からなる。
The
第1配線233A,233B,233C,233Dのそれぞれの厚みは、例えば、3μm以上、好ましくは、5μm以上であり、例えば、50μm以下、好ましくは、30μm以下である。
The thickness of each of the
(1-4)第2導体パターン
図2Aおよび図2Bに示すように、第2導体パターン24は、厚み方向において、ベース絶縁層22の他方側に配置される。詳しくは、第2導体パターン24は、厚み方向において、ベース絶縁層22の他方面上に配置される。第2導体パターン24は、金属支持層21から離れて配置される。第2導体パターン24の形状は、限定されない。
(1-4) Second Conductor Pattern As shown in FIGS. 2A and 2B, the
本実施形態では、図1に示すように、第2導体パターン24は、第2端子241と、第2配線242とを有する。
In this embodiment, as shown in FIG. 1, the
(1-4-1)第2端子
第2端子241は、第2方向における配線回路基板2の一端部に配置される。第2端子241は、例えば、角ランド形状を有する。図2Aに示すように、第2端子241は、厚み方向において、ベース絶縁層22の他方側に配置される。詳しくは、第2端子241は、厚み方向において、ベース絶縁層22の他方面上に配置される。第2端子241は、金属支持層21から離れて配置される。
(1-4-1) Second Terminal The
第2端子241の幅W2は、例えば、20μm以上、好ましくは、25μm以上であり、例えば、100μm以下、好ましくは、50μm以下である。
The width W2 of the
第2端子241は、端子本体2411と、被覆層2412とを有する。
The
端子本体2411は、第2端子241の本体部分である。端子本体2411は、厚み方向におけるベース絶縁層22の他方面上に配置される。端子本体2411は、上記した第1の金属からなる。言い換えると、端子本体2411は、金属支持層21と同じ材料からなる。
The terminal
端子本体2411の厚みは、例えば、10μm以上、好ましくは、15μm以上であり、例えば、50μm以下、好ましくは、30μm以下である。
The thickness of the terminal
被覆層2412は、端子本体2411を被覆する。なお、被覆層2412は、第2配線242(図2B参照)も被覆する。被覆層2412は、端子本体2411の腐食を抑制する。被覆層2412は、第2の金属からなる。第2の金属は、上記した第1の金属と異なる。第2の金属として、例えば、ニッケル、金、および、錫が挙げられる。具体的には、被覆層2412は、金からなる。
The
被覆層2412の厚みは、端子本体2411の厚みよりも薄い。被覆層2412の厚みは、例えば、0.1μm以上、好ましくは、0.2μm以上であり、例えば、5μm以下、好ましくは、4μm以下である。
The thickness of the
(1-4-2)第2配線
図1に示すように、第2配線242の一端は、第2端子241と接続する。第2配線242の他端は、第1導体パターン23の第1配線233Dと接続する。第2配線242は、第2端子241と第1配線233Dとを電気的に接続する。第2配線242は、上記した端子本体2411と同じ材料からなる。
(1-4-2) Second Wiring As shown in FIG. 1, one end of the
第2配線242の厚みは、例えば、10μm以上、好ましくは、15μm以上であり、例えば、50μm以下、好ましくは、30μm以下である。
The thickness of the
(1-5)カバー絶縁層
カバー絶縁層25は、第1配線233A,233B,233C,233Dを覆う。カバー絶縁層25は、厚み方向において、ベース絶縁層22の一方面上に配置される。なお、カバー絶縁層25は、第1端子231A,231B,231C,232A,232B,232C,232Dを覆わない。カバー絶縁層25は、樹脂からなる。樹脂としては、例えば、ポリイミド、マレイミド、エポキシ樹脂、ポリベンゾオキサゾール、および、ポリエステルが挙げられる。
(1-5) Cover Insulating Layer The
(2)フレーム
フレーム3は、集合体シート1の外周に配置される。フレーム3は、複数の配線回路基板2を囲む。本実施形態では、フレーム3は、枠形状を有する。詳しくは、フレーム3は、第1フレーム3A、第2フレーム3B、第3フレーム3C、および、第4フレーム3Dを有する。
(2) Frame The
第1フレーム3Aは、第1方向における集合体シート1の一端部に配置される。第1フレーム3Aは、第2方向に延びる。
The
第2フレーム3Bは、第1方向における集合体シート1の他端部に配置される。第2フレーム3Bは、第1方向において、第1フレーム3Aから離れて配置される。複数の配線回路基板2は、第1方向において、第1フレーム3Aと第2フレーム3Bとの間に配置される。第2フレーム3Bは、第2方向に延びる。
The
第3フレーム3Cは、第2方向における集合体シート1の一端部に配置される。第3フレーム3Cは、第1方向に延びる。第1方向における第3フレーム3Cの一端部は、第2方向における第1フレーム3Aの一端部に接続する。第1方向における第3フレーム3Cの他端部は、第2方向における第2フレーム3Bの一端部に接続する。
The
第4フレーム3Dは、第2方向における集合体シート1の他端部に配置される。第4フレーム3Dは、第2方向において、第3フレーム3Cから離れて配置される。複数の配線回路基板2は、第2方向において、第3フレーム3Cと第4フレーム3Dとの間に配置される。第4フレーム3Dは、第1方向に延びる。第1方向における第4フレーム3Dの一端部は、第2方向における第1フレーム3Aの他端部に接続する。第1方向における第4フレーム3Dの他端部は、第2方向における第2フレーム3Bの他端部に接続する。
The
本実施形態では、集合体シート1は、フレーム3と配線回路基板2との間、および、2つの配線回路基板2の間において、切欠き5を有する。また、集合体シート1は、フレーム3と配線回路基板2とを接続する接続部6A、および、2つの配線回路基板2同士を接続する接続部6Bを有する。複数の配線回路基板2は、接続部6Bによって互いに接続された状態で、接続部6Aにより、フレーム3に接続される。これにより、フレーム3は、複数の配線回路基板2を支持する。
In this embodiment, the
図2Aに示すように、フレーム3は、金属層31と、絶縁層32と、給電部33とを有する。
As shown in FIG. 2A, the
金属層31は、上記した第1の金属からなる。言い換えると、金属層31は、配線回路基板2の金属支持層21と同じ金属からなる。金属層31は、貫通穴31Aを有する。
The
絶縁層32は、厚み方向において、金属層31の一方側に配置される。言い換えると、金属層31は、厚み方向において、絶縁層32の他方側に配置される。詳しくは、絶縁層32は、厚み方向において、金属層31の一方面上に配置される。絶縁層32は、配線回路基板2のベース絶縁層22と同じ材料からなる。絶縁層32は、ビアホール32Aを有する。
The insulating
給電部33は、厚み方向において、絶縁層32の一方側に配置される。詳しくは、給電部33は、厚み方向において、絶縁層32の一方面上に配置される。給電部33は、配線回路基板2の第1端子231Aの端子本体2311と同じ材料からなる。給電部33は、ビアホール32Aを通って、検査部4と接続する。
The
(3)検査部
図1に示すように、検査部4は、複数の配線回路基板2から離れて配置される。検査部4は、フレーム3に配置される。図2Aに示すように、検査部4は、厚み方向において、絶縁層32の他方側に配置される。詳しくは、検査部4は、厚み方向において、絶縁層32の他方面上に配置される。検査部4は、貫通穴31A内に配置される。検査部4は、フレーム3の金属層31から離れて配置される。
(3) Inspection Section As shown in FIG. 1, the
検査部4の形状は、限定されない。図1に示すように、本実施形態では、検査部4は、配線回路基板2の第2端子241と異なる形状を有する。検査部4は、配線回路基板2の第2端子241と同じ形状を有していてもよい。具体的には、本実施形態では、検査部4は、円形状を有する。検査部4は、長方形状であってもよいし、正方形状であってもよい。
The shape of the
検査部4の少なくとも一部の幅W3は、例えば、30μm以上、好ましくは、50μm以上である。
The width W3 of at least a portion of the
検査部4の少なくとも一部の幅W3が上記下限値以上であると、後述する「端子本体2411に対する被覆層2412の密着性の検査」および「被覆層2412の厚みの検査」を安定に実施できる。
When the width W3 of at least a portion of the
なお、検査部4の全部の幅は、例えば、100μm以下、好ましくは、80μm以下である。
Note that the total width of the
検査部4の全部の幅は、第2端子241の幅W2よりも大きくてもよく、第2端子241の幅W2よりも小さくてもよい。第2端子241の幅W2が小さい(例えば、50μm未満)場合、好ましくは、検査部4の少なくとも一部の幅W3は、第2端子241の幅W2よりも大きい。
The total width of the
検査部4は、配線回路基板2の第2端子241と同じ材料からなる同じ層構成を有する。詳しくは、検査部4は、第1層41と、第2層42とを有する。
The
第1層41は、第1の金属からなる。言い換えると、第1層41は、配線回路基板2の第2端子241の端子本体2411と同じ材料からなる。
The
第1層41の厚みは、配線回路基板2の第2端子241の端子本体2411の厚みと、実質的に同じである。なお、「実質的に同じ」とは、互いの寸法に差が全く無い場合だけでなく、後述する品質検査において許容できる寸法公差の範囲内で寸法に差が生じている場合も、「同じ」寸法とみなすという意味である。第1層41の厚みは、例えば、10μm以上、好ましくは、15μm以上であり、例えば、50μm以下、好ましくは、30μm以下である。
The thickness of the
第2層42は、第1層41を被覆する。第2層42は、第2の金属からなる。言い換えると、第2層42は、配線回路基板2の第2端子241の被覆層2412と同じ材料からなる。
The
第2層42の厚みは、配線回路基板2の第2端子241の被覆層2412の厚みと、実質的に同じである。第2層42の厚みは、例えば、0.1μm以上、好ましくは、0.2μm以上であり、例えば、5μm以下、好ましくは、4μm以下である。
The thickness of the
2.集合体シート1の製造方法
次に、集合体シート1の製造方法について説明する。
2. Method for manufacturing
図3Aから図4Cに示すように、集合体シート1の製造方法は、第1パターン工程(図3Aから図3C参照)と、第2パターン工程(図4A参照)と、第1メッキ工程(図4B参照)と、第2メッキ工程(図4C参照)とを含む。
As shown in FIGS. 3A to 4C, the method for manufacturing the
(1)第1パターン工程
図3Aに示すように、第1パターン工程では、まず、第1の金属からなる金属箔Mを準備する。
(1) First patterning process As shown in FIG. 3A, in the first patterning process, first, a metal foil M made of a first metal is prepared.
次に、図3Bに示すように、金属箔Mの上に、ベース絶縁層22および絶縁層32を形成する。
Next, as shown in FIG. 3B, the
詳しくは、ベース絶縁層22および絶縁層32を形成するには、まず、金属箔Mの上に感光性樹脂の溶液(ワニス)を塗布して乾燥し、感光性樹脂の塗膜を形成する。次に、感光性樹脂の塗膜を露光および現像する。これにより、ベース絶縁層22および絶縁層32が、金属箔Mの上に形成される。
Specifically, in order to form the
次に、図3Cに示すように、ベース絶縁層22の上に、第1端子231A,231B,231C,232A,232B,232C,232Dのそれぞれの端子本体2311と、第1配線233A,233B,233C,233Dを形成し、絶縁層32の上に、給電部33を形成する。
Next, as shown in FIG. 3C, the
詳しくは、第1端子231A,231B,231C,232A,232B,232C,232Dのそれぞれの端子本体2311、第1配線233A,233B,233C,233D、および、給電部33を形成するには、まず、ベース絶縁層22および金属箔Mの表面にシード層を形成する。シード層は、例えば、スパッタリングにより形成される。シード層の材料としては、例えば、クロム、銅、ニッケル、チタン、および、これらの合金が挙げられる。
Specifically, in order to form the respective
次に、ベース絶縁層22および金属箔Mの上にメッキレジストを貼り合わせて、第1端子231A,231B,231C,232A,232B,232C,232Dのそれぞれの端子本体2311、第1配線233A,233B,233C,233D、および、給電部33が形成される部分を遮光した状態で、メッキレジストを露光する。
Next, a plating resist is pasted on the
次に、露光されたメッキレジストを現像する。すると、遮光された部分のメッキレジストが除去され、第1端子231A,231B,231C,232A,232B,232C,232Dのそれぞれの端子本体2311、第1配線233A,233B,233C,233D、および、給電部33が形成される部分にシード層が露出する。なお、露光された部分、すなわち、第1端子231A,231B,231C,232A,232B,232C,232Dのそれぞれの端子本体2311、第1配線233A,233B,233C,233D、および、給電部33が形成されない部分のメッキレジストは、残る。
Next, the exposed plating resist is developed. Then, the plating resist in the light-shielded portions is removed, and the
次に、露出したシード層の上に、電解メッキにより、第1端子231A,231B,231C,232A,232B,232C,232Dのそれぞれの端子本体2311、第1配線233A,233B,233C,233D、および、給電部33を形成する。電解メッキが終了した後、メッキレジストを剥離する。その後、メッキレジストによって覆われていたシード層を、エッチングにより除去する。これにより、第1端子231A,231B,231C,232A,232B,232C,232Dのそれぞれの端子本体2311と、第1配線233A,233B,233C,233Dとが、ベース絶縁層22の上に形成され、給電部33が、絶縁層32の上に形成される。
Next, the
次に、ベース絶縁層22の形成と同様にして、ベース絶縁層22および第1配線233A,233B,233C,233Dの上にカバー絶縁層25(図1および図2B参照)を形成する。
Next, in the same manner as the formation of the
以上により、第1パターン工程が完了する。 With the above steps, the first patterning process is completed.
(2)第2パターン工程
次に、図4Aに示すように、第2パターン工程では、金属箔Mの一部をエッチングして、金属支持層21(図2B参照)、第2端子241の端子本体2411、第2配線242(図2B参照)、金属層31、および、検査部4の第1層41を形成する。
(2) Second patterning process Next, as shown in FIG. 4A, in the second patterning process, a part of the metal foil M is etched to form the terminals of the metal support layer 21 (see FIG. 2B) and the
詳しくは、第2パターン工程では、まず、金属箔Mの上にドライフィルムレジストを貼り付ける。 Specifically, in the second patterning step, first, a dry film resist is pasted onto the metal foil M.
次に、ドライフィルムレジストを露光および現像して、エッチングレジストを形成する。エッチングレジストは、金属箔Mのうち、金属支持層21になる部分、第2端子241の端子本体2411になる部分、第2配線242になる部分、および、金属層31になる部分を覆う。
The dry film resist is then exposed and developed to form an etching resist. The etching resist covers a portion of the metal foil M that will become the
次に、金属箔Mのうち、エッチングレジストから露出された部分をエッチング液でエッチングする。 Next, the portion of the metal foil M exposed from the etching resist is etched with an etching solution.
これにより、金属箔Mのうち、エッチングレジストから露出された部分が除去され、金属支持層21、第2端子241の端子本体2411、第2配線242、金属層31、および、検査部4の第1層41が形成される。つまり、第2パターン工程では、金属箔Mの一部をエッチングすることにより、検査部4の第1層41を、フレーム3の金属層31から分離させる。
As a result, the portion of the metal foil M exposed from the etching resist is removed, and the
その後、エッチングレジストを剥離する。 After that, the etching resist is peeled off.
(3)第1メッキ工程
次に、図4Bに示すように、第1メッキ工程では、第2端子241の被覆層2412と、検査部4の第2層42とを、メッキにより同時に形成する。
(3) First plating step Next, as shown in FIG. 4B, in the first plating step, the
詳しくは、第2端子241の端子本体2411と、第2配線242と、検査部4の第1層41とが露出され、金属支持層21および金属層31が被覆されるように、金属箔Mの上にメッキレジストを貼り合わせる。また、第1端子231A,231B,231C,232A,232B,232C,232Dのそれぞれの端子本体2311、第1配線233A,233B,233C,233D、および、給電部33が被覆されるように、ベース絶縁層22の上にメッキレジストを貼り合わせる。
Specifically, the metal foil M is formed so that the terminal
次に、電解メッキにより、端子本体2411および第2配線242の上に被覆層2412を形成し、第1層41の上に第2層42を形成する。
Next, a
このとき、端子本体2411および第2配線242には、図示しないメッキリード、および、第1配線233D(図2B参照)を通じて、電力が供給される。また、第1層41には、図示しないメッキリード、および、給電部33を通じて、電力が供給される。
At this time, power is supplied to the terminal
その後、メッキレジストを剥離する。 After that, the plating resist is peeled off.
(4)第2メッキ工程
次に、図4Cに示すように、第2メッキ工程では、第1端子231A,231B,231C,232A,232B,232C,232Dのそれぞれの被覆層2312A,2312Bを、メッキにより、順に形成する。
(4) Second plating process Next, as shown in FIG. 4C, in the second plating process, the coating layers 2312A and 2312B of the
詳しくは、第1端子231A,231B,231C,232A,232B,232C,232Dのそれぞれの端子本体2311が露出され、給電部33が被覆されるように、ベース絶縁層22の上にメッキレジストを貼り合わせる。また、金属支持層21、第2導体パターン24、金属層31、および、検査部4が被覆されるように、金属箔Mの上にメッキレジストを貼り合わせる。
Specifically, a plating resist is pasted on the
次に、電解メッキにより、端子本体2311の上に、被覆層2312A,2312Bを、順に形成する。
Next,
その後、メッキレジストを剥離する。以上により、集合体シート1が製造される。
After that, the plating resist is peeled off. Through the above steps, the
3.検査部の使用方法
次に、検査部4の使用方法について説明する。
3. How to use the inspection section Next, how to use the
検査部4は、製造された集合体シート1の第2導体パターン24の品質検査に使用される。品質検査としては、例えば、端子本体2411に対する被覆層2412の密着性の検査、および、被覆層2412の厚みの検査が挙げられる。
The
(1)端子本体2411に対する被覆層2412の密着性の検査
端子本体2411に対する被覆層2412の密着性を検査するには、例えば、JIS H 8504:1999(めっきの密着性試験方法)に規定される引きはがし試験を、検査部4の第2層42に対して実施する。
(1) Inspecting the adhesion of the
上記したように、被覆層2412は、第1メッキ工程において、第2層42と同時に形成される。そのため、第2端子241は、第1の金属からなる層(端子本体2411)と、第2の金属からなる層(被覆層2412)とからなる層構成を有し、検査部4も、第1の金属からなる層(第1層41)と、第2の金属からなる層(第2層42)とからなる層構成を有する。つまり、検査部4は、第2端子241と同じ材料からなる同じ層構成を有する。
As described above, the
そのため、端子本体2411に対する被覆層2412の密着性は、第1層41に対する第2層42の密着性と同じ、または、近似している。なお、「近似している」とは、品質検査において同じ品質とみなすことができる程度に近似していることを意味する。
Therefore, the adhesion of the
そのため、第1層41に対する第2層42の密着性を検査することによって、端子本体2411に対する被覆層2412の密着性を推測できる。
Therefore, by inspecting the adhesion of the
(2)被覆層2412の厚みの検査
被覆層2412の厚みを検査するには、例えば、蛍光X線分析法で検査部4の第2層42の厚みを測定する。
(2) Inspecting the thickness of the
上記したように、被覆層2412は、第1メッキ工程において、第2層42と同時に形成される。そのため、被覆層2412の厚みは、第2層42の厚みと、実質的に同じである。
As described above, the
そのため、第2層42の厚みを検査することによって、被覆層2412の厚みを推測できる。
Therefore, by inspecting the thickness of the
4.効果
(1)集合体シート1によれば、図2Aに示すように、配線回路基板2の第2端子241は、第1の金属からなる層(端子本体2411)と第2の金属からなる層(被覆層2412)とからなる層構成を有する。配線回路基板2から離れて配置される検査部4も、第1の金属からなる層(第1層41)と第2の金属からなる層(第2層42)とからなる層構成を有する。つまり、検査部4は、第2端子241と同じ材料からなる同じ層構成を有する。
4. Effects (1) According to the
そのため、検査部4に対して実施した品質検査の結果に基づいて、第2端子241の品質を推測できる。
Therefore, the quality of the
その結果、検査部4を用いて、第2端子241を破壊することなく配線回路基板2の品質検査を実施できる。
As a result, the quality of the printed
(2)集合体シート1によれば、図2Aに示すように、検査部4の少なくとも一部の幅W3が、30μm以上である。
(2) According to the
そのため、検査部4の大きさを確保でき、検査部4を用いた品質検査を容易に実施できる。
Therefore, the size of the
(3)集合体シート1によれば、図1に示すように、検査部4は、フレーム3に配置される。
(3) According to the
そのため、配線回路基板2を支持するフレーム3を利用して、検査部4を設ける部分を別途設けることなく、配線回路基板2から離れた位置に検査部4を設けることができる。
Therefore, by using the
(4)集合体シート1によれば、図2Aに示すように、第2端子241が金属支持層21から離れているのと同様に、検査部4も、フレーム3の金属層31から離れている。
(4) According to the
そのため、検査部4の構造を、第2端子241の構造に、より近似させることができる。
Therefore, the structure of the
(5)集合体シート1の製造方法によれば、図4Bに示すように、
第1メッキ工程において、第2端子241の被覆層2412と、検査部4の第2層42とを、メッキにより同時に形成する。
(5) According to the manufacturing method of the
In the first plating step, the
そのため、検査部4を、第2端子241と同じ材料から、第2端子241と同じ層構成で形成できる。
Therefore, the
(6)集合体シート1の製造方法によれば、図4Aに示すように、第2パターン工程において、金属箔Mの一部をエッチングすることにより、検査部4の第1層41を、フレーム3の金属層31から分離させる。
(6) According to the manufacturing method of the
このような方法によれば、検査部4をフレーム3の金属層31から離すことができ、検査部4の構造を、第2端子241の構造に、より近似させることができる。
According to such a method, the
5.変形例
次に、図5から図8を参照して、変形例について説明する。変形例において、上記した実施形態と同様の部材には同じ符号を付し、説明を省略する。
5. Modification Next, a modification will be described with reference to FIGS. 5 to 8. In the modified example, members similar to those in the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and explanations thereof will be omitted.
(1)図5に示すように、検査部4は、フレーム3の金属層31と連続してもよい。詳しくは、検査部4の第1層41は、フレーム3の金属層31と連続していてもよい。フレーム3は、絶縁層32および給電部33を有さなくてもよい。
(1) As shown in FIG. 5, the
この変形例によれば、検査部4を容易に形成することができる。
According to this modification, the
詳しくは、第1パターン工程において、金属箔Mの上に絶縁層32および給電部33を形成しなくてもよい。
Specifically, in the first patterning step, the insulating
また、第2パターン工程において、金属層31に貫通穴31Aを形成しなくてもよい。
Further, in the second patterning step, it is not necessary to form the through
そして、第1メッキ工程において、第2端子241の端子本体2411と、第2配線242と、金属層31の一部(検査部4の第1層41になる部分)とが露出され、金属支持層21および金属層31の残部(検査部4を形成しない部分)が被覆されるように、金属箔Mの上にメッキレジストを貼り合わせる。
Then, in the first plating step, the terminal
次に、金属層31に電力を供給し、電解メッキにより、金属層31の一部(メッキレジストから露出している部分)の上に第2層42を形成する。
Next, power is supplied to the
それ以外は、上記した実施形態と同様にして、集合体シート1を製造できる。
Other than that, the
(2)図6に示すように、第2端子は、被覆層2412を被覆する第2被覆層2413を、さらに有してもよい。この場合、検査部4は、第2層42を被覆する第3層43を有する。第2被覆層2413および第3層43は、第3の金属からなる。第3の金属として、例えば、ニッケル、金、および、錫が挙げられる。第3の金属は、第1の金属および第2の金属の両方と異なる。具体的には、第2の金属が、ニッケルであり、第3の金属が、金である。
(2) As shown in FIG. 6, the second terminal may further include a
この変形例によれば、上記した実施形態の第1メッキ工程および第2メッキ工程に代えて、図7Aおよび図7Bに示すように、第1端子231A,231B,231C,232A,232B,232C,232Dのそれぞれの端子本体2311と、第2端子241の端子本体2411と、検査部4の第1層41とを、同時にメッキする(メッキ工程)。
According to this modification, instead of the first plating step and the second plating step of the above-described embodiment, as shown in FIGS. 7A and 7B,
詳しくは、図7Aに示すように、第1端子231A,231B,231Cのそれぞれの被覆層2312Aと、第2端子241の被覆層2412と、検査部4の第2層42とを、電解メッキにより、同時に形成する。
Specifically, as shown in FIG. 7A, the coating layers 2312A of the
次に、図7Bに示すように、第1端子231A,231B,231C,232A,232B,232C,232Dのそれぞれの被覆層2312Bと、第2端子241の第2被覆層2413と、検査部4の第3層43とを、電解メッキにより、同時に形成する。
Next, as shown in FIG. 7B, the
それ以外は、上記した実施形態と同様にして、集合体シート1を製造できる。
Other than that, the
(3)図8に示すように、集合体シート1は、複数の検査部4を有してもよい。1つの配線回路基板に対して1つの検査部4が設けられていてもよい。検査部4は、フレーム3と配線回路基板2との間に配置されていてもよい。
(3) As shown in FIG. 8, the
1 集合体シート
2 配線回路基板
3 フレーム
4 検査部
21 金属支持層
22 ベース絶縁層
31 金属層
41 第1層
42 第2層
43 第3層
231A 第1端子
241 第2端子
2411 端子本体
2412 被覆層
2413 第2被覆層
M 金属箔
W3 検査部の幅
1
Claims (10)
前記配線回路基板は、
絶縁層と、
厚み方向において前記絶縁層の一方側に配置される第1端子と、
第1の金属からなり、前記厚み方向において前記絶縁層の他方側に配置される金属支持層と、
前記厚み方向における前記絶縁層の他方側において、前記金属支持層から離れて配置される第2端子と
を有し、
前記第2端子は、
前記第1の金属からなる端子本体と、
前記第1の金属とは異なる第2の金属からなり、前記端子本体を被覆する被覆層と
を有し、
前記検査部は、
前記第1の金属からなる第1層と、
前記第2の金属からなり、前記第1層を被覆する第2層と
を有する、集合体シート。 comprising a printed circuit board and an inspection section located apart from the printed circuit board,
The printed circuit board includes:
an insulating layer;
a first terminal disposed on one side of the insulating layer in the thickness direction;
a metal support layer made of a first metal and disposed on the other side of the insulating layer in the thickness direction;
a second terminal located away from the metal support layer on the other side of the insulating layer in the thickness direction,
The second terminal is
a terminal body made of the first metal;
a coating layer made of a second metal different from the first metal and covering the terminal body;
The inspection department includes:
a first layer made of the first metal;
and a second layer made of the second metal and covering the first layer.
前記第1の金属および前記第2の金属の両方と異なる第3の金属からなり、前記被覆層を被覆する第2被覆層を、さらに有し、
前記検査部は、
前記第3の金属からなり、前記第2層を被覆する第3層を、さらに有する、請求項1に記載の集合体シート。 The second terminal is
further comprising a second coating layer made of a third metal different from both the first metal and the second metal and covering the coating layer,
The inspection department includes:
The aggregate sheet according to claim 1, further comprising a third layer made of the third metal and covering the second layer.
前記第3の金属は、金である、請求項3に記載の集合体シート。 the second metal is nickel,
The aggregate sheet according to claim 3, wherein the third metal is gold.
前記検査部は、前記フレームに配置される、請求項1に記載の集合体シート。 The assembly sheet further includes a frame that supports the printed circuit board,
The assembly sheet according to claim 1, wherein the inspection section is arranged on the frame.
前記検査部は、前記フレームの前記金属層から離れている、請求項6に記載の集合体シート。 The frame has a metal layer made of the first metal,
The assembly sheet according to claim 6, wherein the inspection portion is spaced apart from the metal layer of the frame.
前記検査部は、前記フレームの前記金属層と連続する、請求項6に記載の集合体シート。 The frame has a metal layer made of the first metal,
The assembly sheet according to claim 6, wherein the inspection portion is continuous with the metal layer of the frame.
前記第1の金属からなる金属箔の上に、前記絶縁層と前記第1端子とを順に形成する第1パターン工程と、
前記金属箔の一部をエッチングして、前記第2端子の前記端子本体を形成する第2パターン工程と、
前記第2端子の前記被覆層と、前記検査部の前記第2層とを、メッキにより同時に形成するメッキ工程と
を含む、集合体シートの製造方法。 A method for producing an aggregate sheet according to any one of claims 1 to 8, comprising:
a first patterning step of sequentially forming the insulating layer and the first terminal on the metal foil made of the first metal;
a second patterning step of etching a portion of the metal foil to form the terminal body of the second terminal;
A method for manufacturing an assembly sheet, comprising a plating step of simultaneously forming the coating layer of the second terminal and the second layer of the inspection part by plating.
前記検査部は、前記フレームに配置され、
前記フレームは、前記第1の金属からなる金属層を有し、
前記第2パターン工程において、前記金属箔の一部をエッチングすることにより、前記検査部の前記第1層を、前記フレームの前記金属層から分離させる、請求項9に記載の集合体シートの製造方法。 The assembly sheet further includes a frame that supports the printed circuit board,
The inspection unit is arranged on the frame,
The frame has a metal layer made of the first metal,
Manufacturing the assembly sheet according to claim 9, wherein in the second patterning step, the first layer of the inspection section is separated from the metal layer of the frame by etching a part of the metal foil. Method.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022123621A JP2024021002A (en) | 2022-08-02 | 2022-08-02 | Aggregate sheet, and method of manufacturing the same |
CN202310948595.2A CN117497509A (en) | 2022-08-02 | 2023-07-31 | Aggregate sheet and method for producing aggregate sheet |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022123621A JP2024021002A (en) | 2022-08-02 | 2022-08-02 | Aggregate sheet, and method of manufacturing the same |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2024021002A true JP2024021002A (en) | 2024-02-15 |
Family
ID=89678795
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022123621A Pending JP2024021002A (en) | 2022-08-02 | 2022-08-02 | Aggregate sheet, and method of manufacturing the same |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2024021002A (en) |
CN (1) | CN117497509A (en) |
-
2022
- 2022-08-02 JP JP2022123621A patent/JP2024021002A/en active Pending
-
2023
- 2023-07-31 CN CN202310948595.2A patent/CN117497509A/en active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN117497509A (en) | 2024-02-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7286370B2 (en) | Wired circuit board and connection structure of wired circuit board | |
JPH03270092A (en) | Forming method for multilayer circuit board | |
JP2018032660A (en) | Printed wiring board and method for manufacturing the same | |
JP2008085051A (en) | Wired circuit board and its manufacturing method | |
JP2019160929A (en) | Wiring board and manufacturing method of the same | |
US6629366B1 (en) | Method of producing a multilayer wiring board | |
JP2024021002A (en) | Aggregate sheet, and method of manufacturing the same | |
JP4848676B2 (en) | Component-embedded substrate, component-embedded module using the component-embedded substrate, and method of manufacturing the component-embedded substrate | |
JP2003179316A (en) | Structure of printed wiring board excellent in heat radiation property | |
JP2003110203A (en) | Wiring board for multiple pattern and method of manufacturing the same | |
TW201803417A (en) | Printed circuit board and mthod for manufacturing same | |
JPH1079568A (en) | Manufacturing method of printed circuit board | |
US11935822B2 (en) | Wiring substrate having metal post offset from conductor pad and method for manufacturing wiring substrate | |
JP4097636B2 (en) | Wiring circuit board precursor structure assembly sheet and method of manufacturing a wiring circuit board using the sheet | |
US20240164017A1 (en) | Wiring circuit board | |
JP2024046955A (en) | Method of manufacturing wiring circuit board, and wiring circuit board | |
JP2015002262A (en) | Manufacturing method of multilayer wiring board | |
JP2024072219A (en) | Manufacturing method of wiring circuit board, wiring circuit board with dummy pattern, and, aggregate sheet | |
US11832397B2 (en) | Printed wiring board and method for manufacturing printed wiring board | |
WO2022130807A1 (en) | Wiring circuit-board assembly sheet | |
JP2024046953A (en) | Method of manufacturing wiring circuit board, and wiring circuit board | |
JP7175691B2 (en) | wiring circuit board | |
WO2024143364A1 (en) | Method for manufacturing electrical element mounting board, electrical element mounting board, and electronic device | |
TW202243572A (en) | Assembly sheet and method for producing assembly sheet | |
JP2750809B2 (en) | Method of manufacturing thick film wiring board |