JP2024017567A - Latent image appearing pattern, method of creating latent image appearing pattern data, and latent image appearing pattern data - Google Patents

Latent image appearing pattern, method of creating latent image appearing pattern data, and latent image appearing pattern data Download PDF

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Abstract

To provide a latent image appearing pattern which has a phase modulation pattern and a visible pattern component, and in which the visible pattern can be visually recognized when not using a determination tool and the latent image can be visually recognized by using the determination tool.SOLUTION: The present invention is a latent image appearing pattern comprising, in a line pattern in which a plurality of colored streaks are disposed so as to have a constant pitch in a first direction, a phase modulation pattern that configures a latent image part and a background part by moving the phase of a part of the colored streaks in the first direction, and a visible pattern component that configures a visible pattern. The visible pattern component is provided in a region where the colored streaks are not provided in the phase modulation pattern, and the phase of a latent image configuring streak that configures the latent image part in the phase modulation pattern has a region not overlapped with the phase of the visible pattern component.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、万線模様の画線の一部の位相を変えて潜像部と背景部を構成した位相変調模様と、可視模様を構成する可視模様構成要素を有する、潜像発現模様に関する。 The present invention relates to a latent image expression pattern that has a phase modulation pattern in which the phases of some of the lines of a parallel line pattern are changed to form a latent image part and a background part, and visible pattern constituent elements that make up a visible pattern.

銀行券、旅券、有価証券等のセキュリティ印刷物は、その性質上、偽造や複製がされにくいことが要求される。セキュリティ性を高める代表的な施策として、潜像と呼ばれる不可視模様を埋め込む施策が一般的であり、施策の一つとして、位相変調を用いたものがある。位相変調を用いる技術は、例えば、一方が万線模様(均一な線幅の直線又は波線が、所定の周期をもって複数配置された模様)で、他方が一方の万線模様に対して潜像の濃度階調に応じて位相変調されている位相変調万線模様によって構成される。 Security printed materials such as banknotes, passports, and securities are required to be difficult to forge or copy due to their nature. A typical measure to improve security is to embed an invisible pattern called a latent image, and one such measure is to use phase modulation. A technique using phase modulation is, for example, when one line pattern is a line pattern (a pattern in which a plurality of straight lines or wavy lines with uniform line width are arranged at a predetermined period), and the other side is a latent image of the line pattern. It is composed of a phase-modulated parallel line pattern that is phase-modulated according to the density gradation.

また、万線模様と位相変調万線模様を用いて、表裏合成模様の潜像化を可能とする技術として、光を透過する被印刷体の表裏いずれか一方に万線や網点等によって万線模様を印刷し、他方には万線や網点等により潜像とすべき図柄を施した画線から成る位相変調万線模様を、互いに印刷位置が合うように印刷し、この印刷物を光で透かしてみると表裏の模様が合成され、潜像が連続階調の画像として出現する技術がある。 In addition, as a technology that uses parallel line patterns and phase modulation parallel line patterns to create a latent image of a front and back composite pattern, we have developed a technique that uses parallel lines or halftone dots on either the front or back of a printing medium that transmits light. A line pattern is printed, and on the other side, a phase modulation line pattern is printed, which consists of lines or halftone dots with a design to be a latent image, so that the printing positions match each other, and this printed material is exposed to light. There is a technology in which the patterns on the front and back are combined and the latent image appears as a continuous tone image when viewed through the image.

この技術において、被印刷体の一方の面に形成する万線模様は、画線と非画線の関係が1対1の万線であり、被印刷体の他方の面に形成する位相変調万線模様は、画線の周期に対し、任意の位相変調法によって位相差(ここでは、画線の周期の半周期)を設けることによって潜像を形成する構成である。位相変調万線模様の画線と非画線の関係も1対1の万線であって、画線の周期の半周期の位相差を設けると、潜像を形成する画線とその周りの画線は、異なる位相に配置される。
そして、一方の面に万線模様を、他方の面に位相変調万線模様を備えた被印刷体を、透過視できる環境で観察すると、位相変調万線模様に位相差がない領域は、万線模様と同じ位置で重なる一方で、位相変調万線模様に位相差がある領域は、万線模様と重ならないことで濃淡差が生じ、潜像として視認することができる。なお、こうした周期性を伴う2種類の模様を重ね合わせて任意の画像が現れることはモアレ発現現象とも称され、セキュリティ印刷物において様々な偽造防止技術として応用されている。
In this technique, the line pattern formed on one side of the printing material is a line pattern with a one-to-one relationship between object lines and non-object lines, and the phase modulation pattern formed on the other side of the printing object is The line pattern has a configuration in which a latent image is formed by providing a phase difference (here, a half period of the period of the image) with respect to the period of the image using an arbitrary phase modulation method. The relationship between objects and non-objects in a phase modulation line pattern is also one-to-one, and if a phase difference of half the period of the object line is provided, the image line forming the latent image and the surrounding area The objects are placed in different phases.
When a printing material with a parallel line pattern on one side and a phase-modulated line pattern on the other side is observed in an environment where the phase-modulated line pattern can be seen through, the areas where there is no phase difference in the phase-modulated line pattern are Areas that overlap at the same position as the line pattern but have a phase difference in the phase modulated line pattern do not overlap with the line pattern, resulting in a difference in shading and can be visually recognized as a latent image. Note that the appearance of an arbitrary image by superimposing two types of patterns with such periodicity is also called a moiré phenomenon, and is applied as a variety of counterfeit prevention techniques in security printed materials.

本出願人の出願に係る特許文献1には、位相変調万線模様に対して、透過視の環境で観察すると潜像が階調を伴って視認できる表裏模様合成印刷物が開示されている。特許文献1の技術は、画像情報の濃淡に従って位相差を設けることで、濃淡のある潜像が視認できるもので、位相差が大きいほど透過視で潜像が濃く視認される。特許文献1に記載された発明の原理によれば、例えば、画線の周期に対して1/4周期の位相差を設けた位相変調万線模様と、画線の周期に対して1/2周期の位相差を設けた位相変調万線模様とでは、1/2周期の位相差を設けた位相変調万線模様の方が、位相差が大きいことから、透過視の環境では、濃い濃度の潜像が視認可能となる。 Patent Document 1 filed by the present applicant discloses a front and back pattern composite printed matter in which a latent image of a phase-modulated parallel line pattern is visible with gradation when observed in a transparent environment. The technique disclosed in Patent Document 1 allows a latent image with shading to be visually recognized by providing a phase difference according to the shading of image information, and the larger the phase difference, the darker the latent image is visually recognized in transparent viewing. According to the principle of the invention described in Patent Document 1, for example, a phase modulated parallel line pattern with a phase difference of 1/4 period with respect to the period of the drawing line, and a pattern with a phase difference of 1/2 period with respect to the period of the drawing line, Compared to a phase modulation line pattern with a phase difference of 1/2 period, the phase modulation line pattern with a phase difference of 1/2 period has a larger phase difference. The latent image becomes visible.

本出願人の出願に係る特許文献2には、透過視できる環境で観察した際に、潜像がカラー画像として出現する表裏模様合成印刷物が開示されている。特許文献2の技術は、プロセス色分解又は人為的に色分けすることで得られたシアン、マゼンタ及びイエローの三原色の分解画像を、三原色ごとに位相変調された万線、網点等の各種スクリーン模様として被印刷体の一方に施し、被印刷体の他方に万線模様を施した構成であり、透過視できる環境で観察すると、三原色ごとに位相差がある領域が合成されて、カラーの潜像が視認可能となるものである。 Patent Document 2 filed by the present applicant discloses a front and back pattern composite printed matter in which a latent image appears as a color image when observed in a transparent environment. The technology disclosed in Patent Document 2 converts separated images of the three primary colors cyan, magenta, and yellow obtained through process color separation or artificial color separation into various screen patterns such as parallel lines and halftone dots that are phase-modulated for each of the three primary colors. It has a structure in which a line pattern is applied to one side of the printing material and a parallel line pattern is applied to the other side of the printing material. When observed in a transparent environment, areas with phase differences for each of the three primary colors are combined, forming a color latent image. becomes visible.

特許文献3には、位相変調万線模様を用いて、傾けて観察すると潜像が視認できる技術として、基材上に所定のピッチで凹凸形状を形成し、更に、その凹凸形状の側部である一方の面に第1の模様を形成する印刷万線を付与し、他方の面に第2の模様を形成する印刷万線を付与することにより潜像模様が形成された印刷物が開示されている。特許文献3の技術は、第1の模様と第2の模様が、位相差のある画線の構成であり、作製した印刷物は、凹凸形状の一方の側から基材を傾けると第1の模様が視認され、凹凸形状の反対方向の側から傾けると第2の模様が視認可能となるものである。 Patent Document 3 describes a technique that uses a phase modulation parallel line pattern to make a latent image visible when observed at an angle, in which an uneven shape is formed at a predetermined pitch on a base material, and furthermore, a pattern is formed on the sides of the uneven shape. Disclosed is a printed matter in which a latent image pattern is formed by applying printing lines forming a first pattern on one side and applying printing lines forming a second pattern on the other side. There is. In the technology of Patent Document 3, the first pattern and the second pattern are composed of lines with a phase difference, and when the printed material is tilted from one side of the uneven shape, the first pattern is formed. is visible, and when tilted from the opposite side of the uneven shape, a second pattern becomes visible.

本出願人の出願に係る特許文献4には、有色の画線が万線状に配置され、その一部の位相が異なることで潜像部と背景部に区分けされた位相変調模様と、万線模様が重なることで潜像模様が視認できる潜像模様発現構造であって、潜像部は、背景部の画線と異なる位相に配置された潜像構成画線及び背景部の画線の少なくとも一部と同じ位相に配置された濃度緩和画線が隣接して成る潜像画線から成る潜像模様発現構造が開示されている。特許文献4に開示されている潜像模様発現構造は、通常時の観察で位相差によって現わされた潜像の図柄の隠蔽性が向上した位相変調模様を備えている。 Patent Document 4 filed by the present applicant describes a phase modulation pattern in which colored image lines are arranged in parallel lines and are divided into a latent image area and a background area by different phases of some of them. It is a latent image pattern expression structure in which a latent image pattern can be visually recognized by overlapping line patterns, and the latent image part is composed of latent image constituent images arranged in a phase different from the images in the background area and the image lines in the background area. A latent image pattern expression structure is disclosed that includes a latent image image adjacent to which at least some of the density relaxation images are arranged in the same phase. The latent image pattern expression structure disclosed in Patent Document 4 includes a phase modulation pattern that improves the concealability of the latent image pattern that appears due to the phase difference during normal observation.

特開平5-139022号公報Japanese Patent Application Publication No. 5-139022 特許第3362171号公報Patent No. 3362171 特許第4910244号公報Patent No. 4910244 特開2021-115799号公報JP 2021-115799 Publication

特許文献1から3における位相変調万線模様は、透過視で観察した際に、潜像が明瞭に視認できることで、真偽判別を行うことができるとともに、単純に万線のみを真似することで偽造しようとする印刷物の真偽判別を行うことができる。しかし、注意して観察すると、万線模様に備わった位相差が目視において視認されてしまうという問題があった。特に、潜像を形成する部分においては、隣り合う画線の距離が、周辺の画線の周期よりも短く、周りの領域よりも濃い色で視認できる領域と、隣り合う画線の距離が、周辺の画線の周期より長く、空白が目立つ領域が形成されてしまう。このため、透過視で潜像として出現する画像も推測されやすく、偽造防止の観点から満足できるものではなかった。 The phase-modulated parallel line patterns in Patent Documents 1 to 3 can be clearly recognized as a latent image when observed through transparent vision, making it possible to determine authenticity, and by simply imitating only the parallel lines. It is possible to determine the authenticity of printed matter to be counterfeited. However, if observed carefully, there was a problem in that the phase difference inherent in the line pattern could be visually recognized. In particular, in the area where a latent image is formed, the distance between adjacent drawing lines is shorter than the period of surrounding drawing lines, and the distance between adjacent drawing lines is A region is formed that is longer than the period of the surrounding drawing lines and has a noticeable blank space. For this reason, images that appear as latent images in transparent vision are also easily guessed, which is not satisfactory from the standpoint of preventing forgery.

また、特許文献4における位相変調万線模様は、潜像を形成する部分において、隣り合う画線の距離が、周辺の画線の周期よりも短く、周りの領域よりも濃い色で視認できる領域における万線の太さを部分的に細くするとともに、隣り合う画線の距離が、周辺の画線の周期より長く、空白が目立つ領域における万線の太さを部分的に太くして、それぞれの領域を緩和することで、潜像の隠蔽性が向上したものである。
しかし、正面から観察した際は万線模様のみ視認され、他に別の可視模様(画像)が見えるものではないため、特許文献1から3における位相変調万線模様よりは潜像が確認しづらいものの、注意して観察すると、潜像として出現する画像が推測可能であり、偽造防止の観点から満足できるものではなかった。
Furthermore, in the phase modulation parallel line pattern in Patent Document 4, in the part where the latent image is formed, the distance between adjacent drawing lines is shorter than the period of the surrounding drawing lines, and the area is visible in a darker color than the surrounding area. At the same time, the distance between adjacent strokes is longer than the period of the surrounding strokes, and the thickness of the lines is partially increased in areas where blank spaces are noticeable. By relaxing the area, the hiding ability of the latent image is improved.
However, when observed from the front, only the line pattern is visible and no other visible pattern (image) is visible, so the latent image is harder to confirm than the phase modulation line pattern in Patent Documents 1 to 3. However, if observed carefully, it was possible to guess which image appeared as a latent image, and this was not satisfactory from the standpoint of preventing forgery.

本発明が解決しようとする第1の課題は、位相変調模様と可視模様構成要素を有し、判別具を用いない状態では潜像画像が完全に視認することができず、可視模様のみが視認でき、判別具を用いることではじめて潜像が視認できる、潜像発現模様を提供することである。
また、本発明が解決しようとする第2の課題は、位相変調模様と可視模様構成要素を有し、判別具を用いない状態では可視模様が視認でき、判別具を用いることで潜像が視認できる、潜像発現模様データ及びその作成方法を提供することである。
The first problem to be solved by the present invention is that the latent image has a phase modulation pattern and a visible pattern component, and the latent image cannot be completely recognized without using a discriminator, and only the visible pattern is visible. The object of the present invention is to provide a latent image expression pattern that can be visually recognized only by using a discriminator.
Further, the second problem to be solved by the present invention is that the present invention has a phase modulation pattern and a visible pattern component, and the visible pattern is visible without a discriminator, and the latent image is visible when a discriminator is used. It is an object of the present invention to provide latent image expression pattern data and a method for creating the same.

発明者等は、上記第1の課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の構成を有する潜像発現模様によって、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
さらに、発明者等は、上記第2の課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の工程を含む潜像発現模様データの作成方法及び当該作成方法により得られる潜像発現模様データによって、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、以下の潜像発現模様、潜像発現模様の作成方法及び潜像発現模様データを提供するものである。
As a result of intensive studies to solve the first problem, the inventors found that the problem could be solved by a latent image expression pattern having a specific configuration, and the present invention was completed.
Furthermore, as a result of intensive studies to solve the second problem, the inventors have discovered that the above-mentioned The inventors have discovered that the problem can be solved and have completed the present invention.
That is, the present invention provides the following latent image development pattern, method for creating the latent image development pattern, and latent image development pattern data.

本発明は、第1の方向に一定のピッチとなるように有色の画線が複数配置された万線模様において、前記有色の画線の一部の位相を第1の方向に移動することで潜像部と背景部を構成した位相変調模様と、可視模様を構成する可視模様構成要素を有し、前記可視模様構成要素は、前記位相変調模様における有色の画線が設けられていない領域に設けられ、前記位相変調模様における潜像部を構成する潜像構成画線の位相は、前記可視模様構成要素の位相と重ならない領域を有する潜像発現模様である。 In the present invention, in a line pattern in which a plurality of colored lines are arranged at a constant pitch in a first direction, the phase of some of the colored lines is moved in the first direction. It has a phase modulation pattern that constitutes a latent image part and a background part, and a visible pattern component that constitutes a visible pattern, and the visible pattern component is located in an area where colored lines are not provided in the phase modulation pattern. The phase modulation pattern is a latent image expression pattern having a region in which the phase of the latent image constituent image line forming the latent image portion in the phase modulation pattern does not overlap with the phase of the visible pattern constituent element.

また、本発明は、前記潜像構成画線が、前記背景部を構成する背景構成画線と異なる位相に配置されており、潜像構成画線は、前記背景構成画線の位相の少なくとも一部と同じ位相に配置された濃度緩和画線が隣接して成り、濃度緩和画線は、前記背景構成画線の画線幅より画線幅が狭く、前記第1の方向に隣り合う画線との中心線間の距離が前記一定のピッチより小さくなるように配置されている第1潜像構成画線、及び、前記背景構成画線の画線幅より画線幅が広く、前記第1の方向に隣り合う画線との中心線間の距離が前記一定のピッチより大きくなるように配置されている第2潜像構成画線のうち少なくともいずれか一方、を有する潜像発現模様である。 Further, in the present invention, the latent image constituent image line is arranged at a phase different from the background constituent image line forming the background portion, and the latent image constituent image line is arranged at least one phase of the background constituent image line. The density-reduced objects are arranged adjacently in the same phase as the object, and the density-reduced objects have an object width narrower than the object line width of the background constituent objects, and the density-reduced objects are arranged in the same phase as the object lines adjacent to each other in the first direction. and a first latent image constituent picture line arranged such that the distance between the center lines thereof is smaller than the certain pitch; A latent image expression pattern having at least one of the second latent image constituent images arranged such that the distance between the center lines of adjacent image lines in the direction is larger than the certain pitch. .

また、本発明は、万線模様中の潜像構成画線と背景構成画線が隣接する領域において、潜像構成画線と隣接する可視模様構成要素の線幅と、背景構成画線と隣接する可視模様構成要素の線幅の比は、対応する潜像構成画線の線幅と背景構成画線の線幅の比とほぼ同じである潜像発現模様である。 Furthermore, in the area where the latent image constituent image line and the background constituent image line in the line pattern are adjacent, the line width of the visible pattern constituent element adjacent to the latent image constituent image line, and the line width of the visible pattern constituent element adjacent to the background constituent image line, This is a latent image expression pattern in which the line width ratio of the visible pattern constituent elements is approximately the same as the ratio of the line width of the corresponding latent image constituent image to the line width of the background constituent image.

また、本発明は、以下の要件(a)及び(b)のうち少なくともいずれか一方;
(a)位相変調模様における潜像構成画線が、1色以上の有彩色の色調である、
(b)位相変調模様における潜像構成画線が、潜像構成画線の中心線を境にして互いに補色の関係にある色調で構成されている潜像発現模様である。
Further, the present invention provides at least one of the following requirements (a) and (b);
(a) The latent image constituent image line in the phase modulation pattern is a tone of one or more chromatic colors,
(b) A latent image expression pattern in which the latent image constituent image lines in the phase modulation pattern are composed of color tones that are complementary to each other with the center line of the latent image constituent image line as a boundary.

また、本発明は、第1の方向に一定のピッチとなるように有色の画線が複数配置された万線模様において、前記有色の画線の一部の位相を第1の方向に移動することで潜像部と背景部を構成した位相変調模様と、可視模様を構成する可視模様構成要素を有し、前記可視模様構成要素は、前記位相変調模様における有色の画線が設けられていない領域に設けられ、前記位相変調模様における潜像部を構成する潜像構成画線の位相は、前記可視模様構成要素の位相と重ならない領域を有する潜像発現模様データの作成方法であって、
以下の工程;
位相変調模様における潜像部が現す図柄を第1基画像として設定する第1基画像設定工程、
前記第1基画像設定工程の後に必要に応じて設けられる、前記第1基画像をグレースケール処理した後に、前記第1の方向に配置される画線のピッチのn倍(nは、1<n≦10である。)に相当する領域毎に濃度の平均化を行って得られた縦方向平均化画像を第2の基画像として設定する第2基画像設定工程、
前記第1基画像又は第2基画像の濃淡を反転して、反転画像を生成する階調反転処理工程、
前記第1基画像又は第2基画像に第1の臨界値配列画像を適用して、位相変調模様における潜像部を構成する第1の潜像構成画線の2値画像を生成する第1の臨界値配列画像変換処理工程、
前記反転画像に第1の臨界値配列画像を適用して、位相変調模様における背景部を構成する第2の背景部構成画線の2値画像を生成する第2の臨界値配列画像変換処理工程、
前記第1の潜像構成画線の2値画像と、前記第2の背景部構成画線の2値画像の合成を含む、第1の位相変調模様データの生成工程、
前記第1基画像又は第2基画像に第2の臨界値配列画像を適用して、位相変調模様における潜像部を構成する第2の潜像構成画線の2値画像を生成する第3の臨界値配列画像変換処理工程、
前記反転画像に第2の臨界値配列画像を適用して、位相変調模様における背景部を構成する第2の背景部構成画線の2値画像を生成する第4の臨界値配列画像変換処理工程、
前記第2の潜像構成画線の2値画像と、前記第2の背景部構成画線の2値画像の合成を含む、第2の位相変調模様データの生成工程、
前記第1の位相変調模様データを反転させ、反転した第1の位相変調模様データを生成する工程、
前記第2の位相変調模様データと、前記反転した第1の位相変調模様データの合成を含む、可視模様用マスクデータの生成工程、
任意の図柄、色調を有する可視模様データと、前記可視模様用マスクデータを合成して、可視模様構成データを生成する工程、
前記第1の位相変調模様データと前記可視模様構成データを合成する工程、
を有し、
前記第1の位相変調模様データと前記第2の位相変調模様データは、前記第1の方向に位相が異なるものである潜像発現模様データの作成方法である。
Further, in the present invention, in a parallel line pattern in which a plurality of colored drawing lines are arranged at a constant pitch in the first direction, the phase of some of the colored drawing lines is moved in the first direction. A phase modulation pattern that constitutes a latent image portion and a background portion, and a visible pattern component that constitutes a visible pattern, wherein the visible pattern component is not provided with colored lines in the phase modulation pattern. A method for creating latent image pattern data having an area in which a phase of a latent image constituent image line provided in a region and forming a latent image portion in the phase modulation pattern does not overlap with a phase of the visible pattern constituent element, the method comprising:
The following steps;
a first base image setting step of setting a pattern expressed by the latent image portion in the phase modulation pattern as a first base image;
After performing gray scale processing on the first base image, which is provided as necessary after the first base image setting step, n times the pitch of the drawing lines arranged in the first direction (n is 1< a second base image setting step of setting a vertically averaged image obtained by averaging the density for each region corresponding to n≦10 as a second base image;
a gradation inversion processing step of inverting the shading of the first base image or the second base image to generate a reversed image;
A first method of applying a first critical value array image to the first base image or the second base image to generate a binary image of a first latent image constituent line constituting a latent image portion in the phase modulation pattern. critical value array image conversion processing step,
a second critical value array image conversion process step of applying the first critical value array image to the inverted image to generate a binary image of the second background part constituent lines that constitute the background part in the phase modulation pattern; ,
a step of generating first phase modulation pattern data, including combining a binary image of the first latent image constituent lines and a binary image of the second background part constituent lines;
A third method of applying a second critical value array image to the first base image or the second base image to generate a binary image of the second latent image constituent lines constituting the latent image portion in the phase modulation pattern. critical value array image conversion processing step,
A fourth critical value array image conversion process step of applying a second critical value array image to the inverted image to generate a binary image of the second background part constituent lines that constitute the background part in the phase modulation pattern. ,
a step of generating second phase modulation pattern data, including combining a binary image of the second latent image constituent lines and a binary image of the second background part constituent lines;
inverting the first phase modulation pattern data to generate inverted first phase modulation pattern data;
a step of generating visible pattern mask data, including combining the second phase modulation pattern data and the inverted first phase modulation pattern data;
a step of synthesizing visible pattern data having an arbitrary pattern and color tone with the visible pattern mask data to generate visible pattern configuration data;
combining the first phase modulation pattern data and the visible pattern configuration data;
has
The first phase modulation pattern data and the second phase modulation pattern data have different phases in the first direction, which is a method for creating latent image expression pattern data.

また、本発明は、第1の方向に一定のピッチとなるように有色の画線が複数配置された万線模様において、前記有色の画線の一部の位相を第1の方向に移動することで潜像部と背景部を構成した位相変調模様と、
可視模様を構成する可視模様構成要素を有し、
前記可視模様構成要素は、前記位相変調模様における有色の画線が設けられていない領域に設けられ、前記位相変調模様における潜像部を構成する潜像構成画線の位相は、前記可視模様構成要素の位相と重ならない領域を有する、
潜像発現模様のための、潜像発現模様データの作成方法であって、
以下の工程;
位相変調模様における潜像部が現す図柄を基画像として設定する基画像設定工程、
前記基画像の濃淡を反転して、反転画像を生成する階調反転処理工程、
前記基画像に第1の臨界値配列画像を適用して、位相変調模様における潜像部を構成する第1の潜像構成画線の2値画像を生成する第1の臨界値配列画像変換処理工程、
前記反転画像に第1の臨界値配列画像を適用して、位相変調模様における背景部を構成する第2の背景部構成画線の2値画像を生成する第2の臨界値配列画像変換処理工程、
前記第1の潜像構成画線の2値画像と、前記第2の背景部構成画線の2値画像の合成を含む、第1の位相変調模様データの生成工程、
前記第1基画像又は第2基画像に第2の臨界値配列画像を適用して、位相変調模様における潜像部を構成する第2の潜像構成画線の2値画像を生成する第3の臨界値配列画像変換処理工程、
前記反転画像に第2の臨界値配列画像を適用して、位相変調模様における背景部を構成する第2の背景部構成画線の2値画像を生成する第4の臨界値配列画像変換処理工程、
前記第2の潜像構成画線の2値画像と、前記第2の背景部構成画線の2値画像の合成を含む、第2の位相変調模様データの生成工程、
前記第1の位相変調模様データを反転させ、反転した第1の位相変調模様データを生成する工程、
前記第2の位相変調模様データと、前記反転した第1の位相変調模様データの合成を含む、可視模様用マスクデータの生成工程、
任意の図柄、色調を有する可視模様データと、前記可視模様用マスクデータを合成して、可視模様構成データを生成する工程、
位相変調模様における潜像部が現すカラー図柄をカラー基画像として設定する工程、
前記カラー基画像からポジ用潜像画像データを生成する工程、
前記ポジ用潜像画像のカラー反転処理を行い、ネガ用潜像画像データを生成する工程、
前記位相変調模様データと、前記可視模様用マスクデータを合成して、ポジ用カラー潜像用マスクデータを生成する工程、
前記位相変調データと、前記前記可視模様用マスクデータを反転させて得られる反転した可視模様用マスクデータを合成して、ネガ用カラー潜像用マスクデータを生成する工程、
前記ポジ用潜像画像データと前記ポジ用カラー潜像用マスクデータを合成して、ポジ用位相変調模様データを生成する工程、
前記ネガ用潜像画像データと前記ネガ用カラー潜像用マスクデータを合成して、ネガ用位相変調模様データを生成する工程、
前記可視模様構成データと、前記ポジ用位相変調模様データと、前記ネガ用位相変調模様データを合成する工程、
を有し、
前記第1の位相変調模様データと前記第2の位相変調模様データは、前記第1の方向に位相が異なるものである潜像発現模様データの作成方法である。
Further, in the present invention, in a parallel line pattern in which a plurality of colored drawing lines are arranged at a constant pitch in the first direction, the phase of some of the colored drawing lines is moved in the first direction. As a result, the phase modulation pattern that formed the latent image part and the background part,
It has visible pattern constituent elements that constitute a visible pattern,
The visible pattern component is provided in an area where no colored image line is provided in the phase modulation pattern, and the phase of the latent image component image line forming the latent image part in the phase modulation pattern is different from the phase of the visible pattern component. having a region that does not overlap with the topology of the element,
A method for creating latent image expression pattern data for a latent image expression pattern, the method comprising:
The following steps;
a base image setting step of setting a pattern expressed by a latent image portion in the phase modulation pattern as a base image;
a gradation inversion processing step of inverting the shading of the base image to generate an inverted image;
a first critical value array image conversion process that applies a first critical value array image to the base image to generate a binary image of a first latent image constituent image that constitutes a latent image portion in the phase modulation pattern; process,
a second critical value array image conversion process step of applying the first critical value array image to the inverted image to generate a binary image of the second background part constituent lines that constitute the background part in the phase modulation pattern; ,
a step of generating first phase modulation pattern data, including combining a binary image of the first latent image constituent lines and a binary image of the second background part constituent lines;
A third method of applying a second critical value array image to the first base image or the second base image to generate a binary image of the second latent image constituent lines constituting the latent image portion in the phase modulation pattern. critical value array image conversion processing step,
A fourth critical value array image conversion process step of applying a second critical value array image to the inverted image to generate a binary image of the second background part constituent lines that constitute the background part in the phase modulation pattern. ,
a step of generating second phase modulation pattern data, including combining a binary image of the second latent image constituent lines and a binary image of the second background part constituent lines;
inverting the first phase modulation pattern data to generate inverted first phase modulation pattern data;
a step of generating visible pattern mask data, including combining the second phase modulation pattern data and the inverted first phase modulation pattern data;
a step of synthesizing visible pattern data having an arbitrary pattern and color tone with the visible pattern mask data to generate visible pattern configuration data;
a step of setting a color pattern expressed by a latent image portion in the phase modulation pattern as a color base image;
generating positive latent image data from the color base image;
performing color inversion processing on the positive latent image to generate negative latent image data;
combining the phase modulation pattern data and the visible pattern mask data to generate positive color latent image mask data;
generating negative color latent image mask data by combining the phase modulation data and inverted visible pattern mask data obtained by inverting the visible pattern mask data;
combining the positive latent image data and the positive color latent image mask data to generate positive phase modulation pattern data;
combining the negative latent image data and the negative color latent image mask data to generate negative phase modulation pattern data;
combining the visible pattern configuration data, the positive phase modulation pattern data, and the negative phase modulation pattern data;
has
The first phase modulation pattern data and the second phase modulation pattern data have different phases in the first direction, which is a method for creating latent image expression pattern data.

また、本発明は、段落0018及び段落0019に記載の潜像発現模様の作成方法により得られる潜像発現模様データである。 Further, the present invention is latent image development pattern data obtained by the method for creating a latent image development pattern described in paragraphs 0018 and 0019.

本発明により、位相変調模様と可視模様構成要素を有し、判別具を用いない状態では潜像模様を完全に視認することができずに可視模様のみが視認でき、判別具を用いることではじめて潜像が視認できる、潜像発現模様が提供される。
また、本発明により、位相変調模様と可視模様構成要素を有し、判別具を用いない状態では可視模様が視認でき、判別具を用いることで潜像が視認できる、潜像発現模様データ及びその作成方法が提供される。
The present invention has a phase modulation pattern and a visible pattern component, and when a discriminator is not used, the latent image pattern cannot be completely visualized, and only the visible pattern can be visually recognized, and only when a discriminator is used. A latent image development pattern is provided in which the latent image can be visually recognized.
The present invention also provides latent image expression pattern data and its data, which has a phase modulation pattern and a visible pattern component, the visible pattern is visible without a discriminator, and the latent image is visible when a discriminator is used. A method of creation is provided.

本発明の第1の実施形態に係る潜像発現模様及びその展開図Latent image development pattern and its development diagram according to the first embodiment of the present invention 本発明の位相変調模様の構成を示す図A diagram showing the configuration of a phase modulation pattern of the present invention 本発明の可視模様の構成を示す図A diagram showing the structure of the visible pattern of the present invention 本発明の第1の実施形態に係る潜像発現模様の可視模様構成要素の配置例を示す図A diagram showing an example of arrangement of visible pattern components of a latent image expression pattern according to the first embodiment of the present invention. 本発明の潜像模様及び可視模様構成要素の詳細を示す図Diagram showing details of latent image pattern and visible pattern components of the present invention 本発明の潜像発現模様の視認状態を示す図A diagram showing the visual recognition state of the latent image development pattern of the present invention 万線フィルタの構成を示す図Diagram showing the configuration of line filter 本発明の位相変調模様と可視模様構成要素の詳細を示す図Diagram showing details of the phase modulation pattern and visible pattern components of the present invention 本発明の第1の実施形態に係る潜像部の構成を示す図A diagram showing the configuration of a latent image section according to the first embodiment of the present invention 図9の潜像部の拡大図Enlarged view of the latent image part in Figure 9 本発明の第1の潜像画線のより詳細な構成を示す図A diagram showing a more detailed configuration of the first latent image image of the present invention 本発明の潜像部の拡大図Enlarged view of the latent image part of the present invention 本発明の潜像発現模様データの作成装置(M)の構成を示すブロック図A block diagram showing the configuration of the latent image expression pattern data creation device (M) of the present invention 本発明の第2の実施の形態の可視模様(30)の構成を説明するための図A diagram for explaining the configuration of a visible pattern (30) according to the second embodiment of the present invention 本発明の第1の潜像画線(21A)の拡大図Enlarged view of the first latent image line (21A 1 ) of the present invention 本発明の潜像発現模様(10)を構成する位相変調模様(20)と可視模様(30)の一部の領域を示す図A diagram showing a partial region of a phase modulation pattern (20) and a visible pattern (30) that constitute the latent image expression pattern (10) of the present invention 図16に示す構成の比較例を示す図A diagram showing a comparative example of the configuration shown in FIG. 16 本発明の潜像発現模様(10)を構成する位相変調模様(20)と可視模様(30)において図16に示す領域とは別の一部の領域を示す図A diagram showing a partial region other than the region shown in FIG. 16 in the phase modulation pattern (20) and visible pattern (30) that constitute the latent image expression pattern (10) of the present invention. 一般的にレンチキュラー(T2)と呼ばれている判定具の構成を示す図Diagram showing the configuration of a determination tool commonly called a lenticular (T2) 本発明のベース基材(50)の上に画線(51)が複数配置されて一体型となっている構成を示す図A diagram showing a configuration in which a plurality of drawing lines (51) are arranged on the base material (50) of the present invention to form an integrated structure. 本発明の凸状万線模様(60)の構成を示す図A diagram showing the configuration of the convex line pattern (60) of the present invention 本発明の基材(2)に形成された凸状万線模様(60)と潜像発現模様(10)の配置の一例を示す平面図A plan view showing an example of the arrangement of the convex line pattern (60) and the latent image expression pattern (10) formed on the base material (2) of the present invention 本発明の基材(2)の一方の面に潜像発現模(10)が形成され、他方の面に万線模様(70)が形成された潜像模様形成体を示す図A diagram showing a latent image pattern forming body in which a latent image pattern (10) is formed on one side of the base material (2) of the present invention and a parallel line pattern (70) is formed on the other side. 本発明における万線模様(70)の変形例を示す図A diagram showing a modification of the parallel line pattern (70) in the present invention 本発明における有色万線模様の拡大図Enlarged view of colored line pattern in the present invention 本発明における隠蔽層(80)を備えた潜像模様形成体(1)を示す図A diagram showing a latent image pattern forming body (1) provided with a hiding layer (80) in the present invention 特願2018-220872号公報に記載の位相変調万線模様(120)の構成を示す図A diagram showing the configuration of the phase modulation parallel line pattern (120) described in Japanese Patent Application No. 2018-220872 本発明の位相変調模様データの生成工程(S1)を示すフロー図A flow diagram showing the phase modulation pattern data generation step (S1) of the present invention 図28に示す位相変調模様データの生成工程(S1)の詳細を示すフロー図A flow diagram showing details of the phase modulation pattern data generation step (S1) shown in FIG. 28 本発明におけるデータベースにあらかじめ登録されたモノクロの2値画像(100)を用いた例を示す図A diagram showing an example using a monochrome binary image (100) registered in advance in the database in the present invention 本発明における平均化画像を示す図A diagram showing an averaged image in the present invention 本発明における階調反転処理工程(f3)によって生成された画像を示す図A diagram showing an image generated by the tone inversion processing step (f3) in the present invention 図30(b)に示す基画像(101)の破線で囲む領域の拡大図Enlarged view of the area surrounded by the broken line of the base image (101) shown in FIG. 30(b) 図32(a)に示す反転画像(102)の破線で囲む領域(17a)の拡大図Enlarged view of the region (17a) surrounded by a broken line in the inverted image (102) shown in FIG. 32(a) 図31に示す平均化画像(102)の破線で囲む領域(16a)の拡大図Enlarged view of the area (16a) surrounded by a broken line in the averaged image (102) shown in FIG. 31 図32(b)に示す反転画像(102’)の破線で囲む領域(17a)の拡大図Enlarged view of the region (17a) surrounded by a broken line in the inverted image (102') shown in FIG. 32(b) 本発明における位相変調模様の画像を示す図A diagram showing an image of a phase modulation pattern in the present invention 本発明における可視画像マスクの生成工程(S2)の詳細を示すフロー図A flow diagram showing details of the visible image mask generation step (S2) in the present invention 本発明における位相変調模様データ(19)を示す図A diagram showing phase modulation pattern data (19) in the present invention 本発明における位相変調模様データ(19)を示す図A diagram showing phase modulation pattern data (19) in the present invention 本発明における位相変調模様のデータ(19)をネガポジ反転して得られたデータを示す図A diagram showing data obtained by negative/positive inversion of phase modulation pattern data (19) in the present invention 本発明の第2の位相変調模様データ(19A)の領域を示す図A diagram showing the area of the second phase modulation pattern data (19A) of the present invention 本発明における可視画像マスクの画像データを示す図A diagram showing image data of a visible image mask in the present invention 本発明における可視画像データの生成工程(S3)の詳細を示すフロー図A flow diagram showing details of the visible image data generation step (S3) in the present invention 本発明における可視画像用基画像として「三角形」の図柄を示す図A diagram showing a "triangle" pattern as a base image for visible images in the present invention 本発明における可視画像用基画像と可視画像用マスクの画像データ(19D、19d)を重ねた画像を示す図A diagram showing an image in which the visible image base image and the visible image mask image data (19D, 19d) in the present invention are superimposed 本発明における位相変調模様データを示す図A diagram showing phase modulation pattern data in the present invention 図27(b)に示す構成の位相変調模様の画像のデータを作成する方法のフロー図Flowchart of a method for creating image data of a phase modulation pattern having the configuration shown in FIG. 27(b) 本発明におけるマスク画像を示す図A diagram showing a mask image in the present invention 本発明における第3の位相変調模様データ及び第4の位相変調模様データの関係を示す図A diagram showing the relationship between the third phase modulation pattern data and the fourth phase modulation pattern data in the present invention 本発明における平均化画像(102)全体に第Mの臨界値配列画像を適用して2値画像に変換された第Mの2値画像(18M)を示した図A diagram showing the Mth binary image (18M) converted into a binary image by applying the Mth critical value array image to the entire averaged image (102) in the present invention 本発明におけるカラー潜像基画像(「円形」)(130)と、カラー潜像基画像(130)の色が反転したカラー潜像反転基画像(131)を示す図A diagram showing a color latent image base image (“circular”) (130) and a color latent image inversion base image (131) in which the color of the color latent base image (130) is inverted in the present invention. 本発明におけるカラー潜像基画像とカラー潜像用マスクにおいて、互いの画像が重複する領域を抽出する比較合成の処理によってカラー潜像画像データ(140)を生成することを示す図A diagram illustrating that color latent image data (140) is generated by comparison and synthesis processing that extracts areas where mutual images overlap in a color latent image base image and a color latent image mask according to the present invention.

以下、本発明を実施するための実施態様について、図面を参照して詳細に説明する。しかしながら、本発明は、以下の実施態様に限定されるものではなく、本発明の技術的思想の範囲内であれば、各種の変形した実施態様が含まれる。 Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the following embodiments, and includes various modified embodiments within the scope of the technical idea of the present invention.

本発明の潜像発現模様は、有色の画線が、第1の方向に一定のピッチとなるように複数配置された万線模様において、有色の画線の一部の位相を第1の方向に移動することで潜像部と背景部を構成した位相変調模様と、通常の目視で観察した際に視認できる可視模様を有し、可視模様構成要素は、位相変調模様における有色の画線が設けられていない領域に設けられ、位相変調模様における潜像部を構成する画線の位相は、可視模様構成要素の位相と重ならない領域を有するものである。 The latent image expression pattern of the present invention is a parallel line pattern in which a plurality of colored lines are arranged at a constant pitch in a first direction, and the phase of some of the colored lines is shifted in the first direction. It has a phase modulation pattern that constitutes a latent image area and a background area by moving to The phase of the image line that is provided in the area where the pattern is not provided and that constitutes the latent image portion in the phase modulation pattern has an area that does not overlap with the phase of the visible pattern constituent elements.

図1は、本発明の第1の実施の態様に係る潜像発現模様(10)及びその展開図を示す図である。図1に示す潜像発現模様(10)は、位相変調模様(20)と、可視模様(30)から構成されている。位相変調模様(20)と可視模様(30)の詳細な構成については、後述するが、図1(b)に示す位相変調模様(20)は、万線の位相差を設けることで、「円形」の図柄を現した例であり、図1(c)に示す可視模様(30)は、「三角形」の図柄を現した例である。
以下、本発明の潜像発現模様(10)を構成する位相変調模様(20)及び可視模様(30)の詳細な構成について説明する。
FIG. 1 is a diagram showing a latent image development pattern (10) and a developed view thereof according to a first embodiment of the present invention. The latent image development pattern (10) shown in FIG. 1 is composed of a phase modulation pattern (20) and a visible pattern (30). The detailed structure of the phase modulation pattern (20) and the visible pattern (30) will be described later, but the phase modulation pattern (20) shown in FIG. The visible pattern (30) shown in FIG. 1(c) is an example of a "triangle" pattern.
Hereinafter, detailed configurations of the phase modulation pattern (20) and visible pattern (30) that constitute the latent image expression pattern (10) of the present invention will be explained.

図2は、位相変調模様(20)の構成を示す図である。位相変調模様(20)は、有色の画線(21)が第1の方向(図2においては、上下方向(V1))に一定のピッチ(P)で配置された万線において、一部の位相が異なることで、潜像の図柄を現す潜像部(図2では、符号(20A)で示される「円形」の図柄)とその背景を現す背景部(20B)に区分けされる。 FIG. 2 is a diagram showing the configuration of the phase modulation pattern (20). The phase modulation pattern (20) is a line in which colored object lines (21) are arranged at a constant pitch (P) in a first direction (vertical direction (V1) in FIG. 2). By having different phases, it is divided into a latent image part (a "circular" pattern indicated by reference numeral (20A) in FIG. 2) that shows the pattern of the latent image and a background part (20B) that shows the background thereof.

本発明において、「画線の位相が異なる」とは、潜像部(20A)を構成する画線と背景部(20B)を構成する画線が、互いに画線の方向と直行する方向に移動する(ずれる)ことで万線の位相差が設けられることである。図2で示される位相変調模様(20)では、潜像部(20A)を構成する画線が、第1の方向(上下方向)のうちの上方向(V1))に移動することで位相差を設けた例を示しているが、これと逆方向の第1の方向(上下方向)のうちの下方向に移動することで位相差を設けてもよい。本実施の形態では、潜像部(20A)を構成する画線が第1の方向(V1)にずれて配置された例について説明する。また、位相変調模様(20)を構成する画線(21)において、潜像部(20A)を構成する画線(21)と背景部(20B)を構成する画線(21)を個別に説明する場合は、潜像部(20A)を構成する画線を、「潜像画線(21A)」とし、背景部(20B)を構成する画線を、「背景画線(21B)」として説明する。 In the present invention, "the phases of the images are different" means that the images forming the latent image area (20A) and the images forming the background area (20B) are mutually moved in a direction perpendicular to the direction of the images. By doing this (shifting), a phase difference between the parallel lines is provided. In the phase modulation pattern (20) shown in FIG. 2, the image lines constituting the latent image portion (20A) move in the upper direction (V1) of the first direction (vertical direction), thereby creating a phase difference. Although an example is shown in which the phase difference is provided, the phase difference may be provided by moving downward in the first direction (vertical direction) opposite to this. In this embodiment, an example will be described in which the image lines constituting the latent image portion (20A) are arranged shifted in the first direction (V1). Also, among the lines (21) forming the phase modulation pattern (20), the lines (21) forming the latent image portion (20A) and the drawing line (21) forming the background portion (20B) will be explained separately. In the case of do.

潜像部(20A)を構成する画線と背景部(20B)を構成する画線が、互いに画線の方向と直行する方向に移動する移動量(ずれ幅)は、潜像の隠蔽性や視認性等の観点から、万線における一定ピッチ(P)を100%としたとき、例えば1%以上、好ましくは10%以上、より好ましくは20%以上であり、例えば99%以下、好ましくは90%以下、より好ましくは80%以下である。 The amount of movement (shift width) by which the image line constituting the latent image portion (20A) and the image line constituting the background portion (20B) move in a direction perpendicular to the direction of the image line is determined by the concealability of the latent image and the image line constituting the background portion (20B). From the viewpoint of visibility etc., when the constant pitch (P) in parallel lines is taken as 100%, it is, for example, 1% or more, preferably 10% or more, more preferably 20% or more, and for example, 99% or less, preferably 90%. % or less, more preferably 80% or less.

図3は、可視模様(30)の構成を示す図である。可視模様(30)は、位相変調模様(20)を構成する有色の画線(21)が設けられていない領域に、有色の可視模様構成要素(31)が複数配置されて成り、図3は、可視模様として、「三角形」が構成された例である。図3では、位相変調模様(20)を構成する有色の画線(21)のピッチ(P)と同じピッチ(P)で、可視模様構成要素(31)が複数配置された例を示しているが、可視模様構成要素(31)は、位相変調模様(20)を構成する有色の画線(21)と重ならない領域に設ければよく、可視模様構成要素(31)のピッチは、特に限定されるものではない。
なお、可視模様構成要素は、必ずしも画線の形態でなくてもよい(例えば網点)が、潜像の隠蔽性や視認性等の観点から、画線形態が好ましい。
FIG. 3 is a diagram showing the configuration of the visible pattern (30). The visible pattern (30) is composed of a plurality of colored visible pattern constituent elements (31) arranged in an area where the colored lines (21) constituting the phase modulation pattern (20) are not provided. , is an example in which a "triangle" is configured as a visible pattern. FIG. 3 shows an example in which a plurality of visible pattern constituent elements (31) are arranged at the same pitch (P) as the pitch (P) of colored drawing lines (21) constituting the phase modulation pattern (20). However, the visible pattern constituent elements (31) may be provided in areas that do not overlap with the colored lines (21) constituting the phase modulation pattern (20), and the pitch of the visible pattern constituent elements (31) is not particularly limited. It is not something that will be done.
Note that the visible pattern constituent elements do not necessarily have to be in the form of drawing lines (for example, halftone dots), but are preferably in the form of drawing lines from the viewpoint of latent image concealment and visibility.

図4は、図1に示される潜像発現模様(10)において、潜像部、背景部を構成する画線(21)及び可視模様構成要素(31)の配置を示すものである。図4に示すように、可視模様構成要素(31)は、位相変調模様(20)において、有色の画線(21)が設けられていない領域、すなわち、潜像部(20A)を構成する有色の画線(21A)が設けられていない領域であり、かつ、背景部(20B)を構成する有色の画線(21B)が設けられていない領域に設けられる。このような領域に可視模様構成要素(31)を選択的に設ける(配置する)ことにより、潜像発現模様(10)における濃淡差又は色味の差に起因して、目視による可視模様(30)が現す図柄の視認が可能となる。 FIG. 4 shows the arrangement of the latent image portion, the drawing lines (21) forming the background portion, and the visible pattern constituent elements (31) in the latent image expression pattern (10) shown in FIG. As shown in FIG. 4, the visible pattern component (31) is a region in which the colored image line (21) is not provided in the phase modulation pattern (20), that is, a colored part constituting the latent image portion (20A). It is provided in an area in which no drawing line (21A) is provided, and in which a colored drawing line (21B) constituting the background portion (20B) is not provided. By selectively providing (arranging) the visible pattern constituent elements (31) in such areas, the visible pattern (30 ) becomes visible.

可視模様構成要素(31)の色は、位相変調模様(20)を構成する有色の画線(21)と同じ色であってもよいし、異なる色であってもよく、可視模様構成要素(31)の色調を調整することで、可視模様構成要素(31)から視認される色を調整することが可能であり、また、可視模様構成要素の大きさ(面積)を調整することで、可視模様構成要素から視認される濃度を調整することが可能である。 The color of the visible pattern component (31) may be the same color as the colored line (21) constituting the phase modulation pattern (20), or may be a different color. By adjusting the color tone of the visible pattern component (31), it is possible to adjust the color visually recognized from the visible pattern component (31), and by adjusting the size (area) of the visible pattern component, the visible pattern component (31) can be adjusted. It is possible to adjust the density seen from the pattern components.

図5は、本発明の位相変調模様(20)において、潜像部(20A)を構成する潜像画線(21A)の位相が、可視模様構成要素(31)の位相と重ならない領域を有する構成について説明する図である。本発明において、潜像画線(21A)の位相とは、位相変調模様(21)における潜像画線(21A)が配置された領域とその延長線上にある領域のことである。また、本発明において、可視模様構成要素(31)の位相とは、可視模様(30)における可視模様構成要素(31)が配置された領域とその延長線上にある領域のことである。 FIG. 5 shows that in the phase modulation pattern (20) of the present invention, there is a region where the phase of the latent image line (21A) constituting the latent image portion (20A) does not overlap with the phase of the visible pattern component (31). It is a figure explaining a structure. In the present invention, the phase of the latent image line (21A) refers to the area in the phase modulation pattern (21) where the latent image line (21A) is arranged and the area on the extension line thereof. Furthermore, in the present invention, the phase of the visible pattern component (31) refers to the region in the visible pattern (30) where the visible pattern component (31) is arranged and the region on the extension line thereof.

図5(a)において、潜像画線(21A)の画線幅(W21A)に対応した領域が、潜像画線(21A)の位相であり、可視模様構成要素(31)の第1の方向における幅(W31)に対応した領域が、可視模様構成要素(31)の位相である。図5(a)に示す構成のとき、潜像画線(21A)の一部の位相に、可視模様構成要素(31)の位相の全部が重なっており、残りの潜像画線(21A)は、可視模様構成要素(31)と重ならない領域(S)を有する構成となっている。また、図5(b)においては、図5(a)に示す構成に対して、可視模様構成要素(31)の位相が異なるが、可視模様構成要素(31)と重ならない二つの領域(S)を有する構成となっている。 In FIG. 5(a), the area corresponding to the image line width (W 21A ) of the latent image image line (21A) is the phase of the latent image image line (21A), and the area corresponding to the image line width (W 21A ) of the latent image image line (21A) is The area corresponding to the width (W 31 ) in the direction is the phase of the visible pattern component (31). In the configuration shown in FIG. 5(a), the entire phase of the visible pattern component (31) overlaps with a part of the phase of the latent image image (21A), and the remaining latent image image (21A) has a region (S) that does not overlap with the visible pattern component (31). In addition, in FIG. 5(b), the phase of the visible pattern component (31) is different from the configuration shown in FIG. 5(a), but there are two regions (S) that do not overlap with the visible pattern component (31). ).

図5(c)は、本発明の構成の比較のため、潜像画線(21A)の位相と可視模様構成要素(31)の位相が同じであり、潜像画線(21A)の位相が、可視模様構成要素(31)の位相と重ならない領域を有しない例を示す図であり、この場合、通常の目視で観察した際に、「円形」の図柄を視認することはできるが、潜像発現模様(10)に、後述する判定具を重ねた際に視認できる図柄が変化する効果を得ることができない。 For comparison of the configurations of the present invention, FIG. 5(c) shows that the phase of the latent image image (21A) and the phase of the visible pattern component (31) are the same, and the phase of the latent image image (21A) is the same. , is a diagram illustrating an example in which there is no region that does not overlap with the phase of the visible pattern component (31). In this case, when observed with normal eyes, the "circular" pattern can be visually recognized, but the hidden It is not possible to obtain the effect that the visually recognizable pattern changes when a determining tool, which will be described later, is placed on the image expression pattern (10).

本発明において、潜像発現模様(10)における潜像の図柄は、図1示す「円形」の図柄に限定されるものではなく、任意の図柄(数字、文字、記号、画等)とすることができる。また、潜像発現模様(10)における可視模様(30)の図柄についても、図1に示す「三角形」に限定されるものではなく、任意の図柄(数字、文字、記号、画等)とすることができる。 In the present invention, the pattern of the latent image in the latent image expression pattern (10) is not limited to the "circular" pattern shown in FIG. 1, but may be any pattern (numbers, letters, symbols, pictures, etc.). I can do it. Furthermore, the visible pattern (30) in the latent image expression pattern (10) is not limited to the "triangle" shown in FIG. 1, but may be any pattern (numbers, letters, symbols, strokes, etc.). be able to.

図6(a)は、潜像発現模様(10)を紙等の基材(2)に印刷した際における、視認状態を示す図である。図6(a)に示すように、潜像発現模様(10)を目視で視認した際には、図6(a)に示す可視模様(30)が現す「三角形」の図柄が視認され、潜像である「円形」の図柄は目視において視認することは困難である。仮に、可視模様構成要素(31)の色と、位相変調模様(20)を構成する有色の画線(21)を同じ色とした場合、面積率差による濃淡差が生じ、「三角形」の図柄が濃い色で視認される。また、可視模様構成要素(31)の色と、位相変調模様(20)を構成する有色の画線(21)を異なる色とした場合、位相変調模様(21)の色を背景とした「三角形」の図柄が異なる色で視認される。なお、本発明において、「面積率」とは、潜像発現模様が形成された一定の領域(ここでは、基材(2))における有色の画線(21)と可視模様構成要素(31)が形成された面積の割合のことである。 FIG. 6(a) is a diagram showing the visual recognition state when the latent image expression pattern (10) is printed on a base material (2) such as paper. As shown in FIG. 6(a), when the latent image development pattern (10) is visually recognized, the "triangle" pattern represented by the visible pattern (30) shown in FIG. It is difficult to visually recognize the "circular" pattern that is the image. If the color of the visible pattern component (31) and the colored lines (21) constituting the phase modulation pattern (20) are the same color, a difference in shading will occur due to the difference in area ratio, resulting in a "triangle" pattern. is visible in dark color. In addition, when the color of the visible pattern component (31) and the colored lines (21) constituting the phase modulation pattern (20) are different colors, "triangles" with the color of the phase modulation pattern (21) as the background ” pattern is visible in different colors. In the present invention, "area ratio" refers to the colored image line (21) and the visible pattern constituent elements (31) in a certain area (here, the base material (2)) in which the latent image expression pattern is formed. It is the proportion of the area where

一方、図1の潜像発現模様(10)は、位相変調模様(20)における所定のピッチ(P)と同じピッチである判定具を重ねることで、潜像部(20A)の画線がサンプリングされ、図6(b)に示す「円形」の図柄を視認することが可能となる。判定具としては、特に限定されないが、例えば、万線フィルタ、レンチキュラー等が挙げられる。 On the other hand, the latent image development pattern (10) in FIG. This makes it possible to visually recognize the "circular" pattern shown in FIG. 6(b). Examples of the determining tool include, but are not limited to, a line filter, a lenticular, and the like.

ここで、潜像発現模様(10)において、潜像の図柄を視認する際に用いる判定具として万線フィルタの例について説明する。 Here, in the latent image expression pattern (10), an example of a parallel line filter will be described as a determination tool used when visually recognizing the pattern of the latent image.

図7は、潜像の図柄を視認する際に用いる判定具の一例として、万線フィルタ(T1)の構成を示す図である。万線フィルタ(T1)は、光透過性の基材(40)に、例えば、有色のインキを印刷して万線模様(41)が形成される。なお、万線模様(41)の色は、潜像発現模様(10)と同じ色でもよいし、異なる色でもよい。万線模様(41)は、図7の拡大図に示すように、所定の画線幅(W41)の画線(41A)が、位相変調模様(20)を構成する有色画線(21)と同じピッチ(P1)で複数配置されてなる。万線模様(41)を形成する基材(40)が備える光透過性とは、位相変調模様(20)が形成された基材(2)に重ねて観察した際に、位相変調模様(20)が透けて見えることであり、位相変調模様(20)が透けて見えれば着色されていてもよいが、万線模様(41)を形成する基材(40)は、好ましくは、透明なフィルムやポリマー基材がよい。 FIG. 7 is a diagram showing the configuration of a parallel line filter (T1) as an example of a determining tool used when visually recognizing a pattern of a latent image. In the line filter (T1), a line pattern (41) is formed by printing, for example, colored ink on a light-transmitting base material (40). In addition, the color of the line pattern (41) may be the same color as the latent image expression pattern (10), or may be a different color. As shown in the enlarged view of FIG. 7, the line pattern (41) is a colored object line (21) in which the object line (41A) with a predetermined object width (W 41 ) constitutes the phase modulation pattern (20). A plurality of them are arranged at the same pitch (P1). The light transmittance of the base material (40) forming the line pattern (41) means that when observed over the base material (2) on which the phase modulation pattern (20) is formed, the phase modulation pattern (20) ) can be seen through, and may be colored as long as the phase modulation pattern (20) can be seen through, but the base material (40) forming the parallel line pattern (41) is preferably a transparent film. Or polymer base material is good.

万線模様の画線幅(W41)について、具体的に説明する。
本発明において、位相変調模様(20)の潜像が視認されるためには、万線模様(41)が、背景画線(21B)と可視模様構成要素(31)を隠蔽する必要がある。
The line width (W 41 ) of the line pattern will be specifically explained.
In the present invention, in order for the latent image of the phase modulation pattern (20) to be visually recognized, the line pattern (41) needs to hide the background image (21B) and the visible pattern component (31).

図8は、図5(a)に示す位相変調模様(20)の背景画線(21B)と可視模様構成要素(31)を隠蔽する万線模様(41)の構成を示す図である。なお、図8において、万線模様(41)のうちの一つの画線(41A)は、背景画線(21B)と可視模様構成要素(31)との配置関係を分かり易く説明するため、画線(41A)の領域を太線で示している。図8において、背景画線(21B)の画線幅を符号(W21B)としているが、本実施の形態において、背景画線(21B)の画線幅(W21B)は、潜像画線(21A)の画線幅(W21A)と同じである。 FIG. 8 is a diagram showing the configuration of a line pattern (41) that hides the background lines (21B) and visible pattern constituent elements (31) of the phase modulation pattern (20) shown in FIG. 5(a). In addition, in FIG. 8, one drawing line (41A) of the line pattern (41) is shown in the drawing in order to clearly explain the arrangement relationship between the background drawing line (21B) and the visible pattern component (31). The area indicated by line (41A) is indicated by a thick line. In FIG. 8, the image width of the background image line (21B) is indicated by the symbol (W 21B ), but in this embodiment, the image width (W 21B ) of the background image line ( 21B ) is the same as that of the latent image image. It is the same as the drawing width (W 21A ) of (21A).

万線模様(40)が図8に示す構成のとき、万線模様(41)によって、背景画線(21B)と可視模様構成要素(31)が隠蔽される中で、可視模様構成要素(31)の位相と重ならない領域(S)の位相にある潜像画線(21A)が視認でき、潜像部(20A)の図柄を視認することができる。したがって、図8に示す潜像発現模様(10)において、万線模様(41)を構成する画線(41A)の画線幅(W41)は、背景画線(21B)の画線幅(W21B)と可視模様構成要素(31)の第1の方向における幅(W31)の和と同じであればよい。なお、万線模様(41)を構成する画線(41A)の画線幅(W41)が、これよりも大きくてもよいが、潜像の視認性が低下するため、好ましくない。 When the line pattern (40) has the configuration shown in FIG. The latent image line (21A) in the phase of the region (S) that does not overlap with the phase of ) can be visually recognized, and the pattern in the latent image portion (20A) can be visually recognized. Therefore, in the latent image expression pattern ( 10 ) shown in FIG. W 21B ) and the width (W 31 ) of the visible pattern component (31) in the first direction. Note that the drawing width (W 41 ) of the drawing lines (41A) constituting the parallel line pattern (41) may be larger than this, but this is not preferable because the visibility of the latent image decreases.

ここでは、図8に示す構成の背景画線(21B)と可視模様構成要素(31)を隠蔽する万線模様(41)について説明したが、位相変調模様(20)における有色の画線(21)の位相差、可視模様構成要素(31)の第1の方向における幅(W31)及び可視模様構成要素(31)の配置によって、潜像を視認するための万線模様(41)の構成は異なるので、潜像発現模様(10)における背景画線(21B)と可視模様構成要素(31)に応じた万線フィルタを用いればよい。 Here, we have explained the parallel line pattern (41) that hides the background line (21B) and the visible pattern component (31) in the configuration shown in FIG. ), the width (W 31 ) of the visible pattern component (31) in the first direction, and the arrangement of the visible pattern component (31), the configuration of the parallel line pattern (41) for visually recognizing the latent image. Since they are different, it is sufficient to use parallel line filters according to the background image line (21B) and the visible pattern component (31) in the latent image expression pattern (10).

本発明において、位相変調模様における潜像部を構成する潜像構成画線の位相が、前記可視模様構成要素の位相と重ならない領域の割合は、特に限定されず、潜像構成画線の位相(第1の方向の幅)を100%として、例えば100%未満、好ましくは90%未満、より好ましく80%未満であり、例えば1%以上、好ましくは10%以上、より好ましくは20%とすることができる。
位相変調模様における潜像部を構成する潜像構成画線の位相が、前記可視模様構成要素の位相と重ならない領域を有することで、可視模様構成要素が構成する可視模様を目視で明確に視認することが可能となり、潜像の隠蔽性をより高めることが可能となる。
In the present invention, the ratio of the area in which the phase of the latent image constituent image forming the latent image portion in the phase modulation pattern does not overlap with the phase of the visible pattern constituent element is not particularly limited, and the phase of the latent image constituent image is not particularly limited. (width in the first direction) as 100%, for example less than 100%, preferably less than 90%, more preferably less than 80%, for example 1% or more, preferably 10% or more, more preferably 20%. be able to.
By having a region in which the phase of the latent image constituent image forming the latent image portion in the phase modulation pattern does not overlap with the phase of the visible pattern constituent elements, the visible pattern composed of the visible pattern constituent elements can be clearly visually recognized. This makes it possible to further improve the concealing performance of the latent image.

本発明の潜像発現模様(10)は、有色の画線(21)が、第1の方向(V1)に一定のピッチ(P)となるように複数配置された万線模様において、有色の画線の一部の位相を第1の方向に移動することで潜像部と背景部を構成した位相変調模様(20)における有色の画線が設けられていない領域に、可視模様(30)を構成する可視模様構成要素(31)を設けるとともに、位相変調模様(20)における潜像部(20A)を構成する潜像画線(21A)の位相が、可視模様構成要素(31)の位相と重ならない領域を有するように構成されている。
このような構成とすることで、目視により本発明の潜像発現模様(10)を観察した際には、主として可視模様(30)が視認され、判別具を用いて本発明の潜像発現模様(10)を観察した際には、潜像を明確に視認することが可能となる。また、目視により潜像発現模様を観察した際は、可視模様(30)が主体的に視認されることから、潜像の隠蔽性を高めることが可能である。
The latent image development pattern (10) of the present invention is a parallel line pattern in which a plurality of colored lines (21) are arranged at a constant pitch (P) in a first direction (V1). A visible pattern (30) is applied to an area where a colored image line is not provided in a phase modulation pattern (20) that constitutes a latent image area and a background area by moving the phase of a part of the image line in the first direction. A visible pattern component (31) is provided, and the phase of the latent image image line (21A) constituting the latent image portion (20A) in the phase modulation pattern (20) is the same as the phase of the visible pattern component (31). It is configured to have an area that does not overlap with the .
With such a configuration, when the latent image development pattern (10) of the present invention is visually observed, the visible pattern (30) is mainly visible, and the latent image development pattern of the present invention can be detected using a discriminator. When (10) is observed, the latent image can be clearly seen. Furthermore, when the latent image expression pattern is visually observed, the visible pattern (30) is primarily visible, so it is possible to improve the concealability of the latent image.

第2の実施の形態は、位相変調模様(20)において潜像部(20A)における隣同士の画線の間隔が所定のピッチ(周期)より短い場合と、潜像部(20A)における隣同士の画線の間隔が所定のピッチ(周期)より長い場合に、潜像の図柄が推測されてしまう課題を解決した潜像発現模様(10)である。図9は、第1の実施の形態で説明した位相変調模様(20)の潜像部(20A)において、潜像の図柄が推測されてしまうという課題を示す図であり、図9において、破線で囲った領域(E1)は、隣り合う画線の距離が、周辺の画線の周期よりも短く周りの領域よりも濃い色として目立ち、点線で囲った領域(E2)は、隣り合う画線の距離が、周辺の画線の周期よりも長く、空白が目立ってしまう。以下、この課題を解決する第2の実施の形態の位相変調模様(20)の詳細な構成について説明する。 The second embodiment deals with cases in which the interval between adjacent lines in the latent image part (20A) in the phase modulation pattern (20) is shorter than a predetermined pitch (period), and the case in which the interval between adjacent lines in the latent image part (20A) This is a latent image expression pattern (10) that solves the problem that the pattern of the latent image is guessed when the interval between the image lines is longer than a predetermined pitch (period). FIG. 9 is a diagram illustrating the problem that the pattern of the latent image is guessed in the latent image portion (20A) of the phase modulation pattern (20) described in the first embodiment. The area surrounded by dotted lines (E1) stands out as a darker color than the surrounding areas, where the distance between adjacent drawing lines is shorter than the period of the surrounding drawing lines, and the area surrounded by dotted lines (E2) stands out because the distance between adjacent drawing lines is shorter than the period of the surrounding drawing lines. The distance is longer than the period of the surrounding drawing lines, and the blank space becomes noticeable. The detailed configuration of the phase modulation pattern (20) of the second embodiment that solves this problem will be described below.

図10は、図9に示す第1の実施の形態の位相変調模様(20)において隣同士の画線の間隔が所定のピッチ(周期)より短い場合に、潜像の図柄が推測されてしまう課題を解決した潜像部(20A)の構成を示す図である。図10に示すように、潜像部(20A)は、背景部(20B)と隣接する境界部分に、一例として、一つの第1の潜像画線(21A)を備え、第1の潜像画線(21A)は、図10の拡大図に示すように、背景画線(21B)と異なる位相に配置された潜像構成画線(21a)と、背景画線(21B)の少なくとも一部と同じ位相に配置された濃度緩和画線(21b)が隣接して成る。ここで、潜像構成画線(21a)が、背景画線(21B)と異なる位相に配置されるとは、図10の拡大図に示すように、背景画線(21B)の延長線上に、潜像構成画線(21a)が重ならず、隣の背景画線(21B)との間の位相に配置されることである。また、濃度緩和画線(21b)が背景画線(21B)と同じ位相に配置されるとは、図10の拡大図に示すように、背景画線(21B)の延長線上の少なくとも一部に濃度緩和画線(21b)が重なって配置されることであり、図10の拡大図は、背景画線(21B)の一部と同じ位相に、濃度緩和画線(21b)が配置された例を示している。 FIG. 10 shows that in the phase modulation pattern (20) of the first embodiment shown in FIG. 9, when the interval between adjacent lines is shorter than a predetermined pitch (period), the pattern of the latent image is inferred. It is a figure showing the composition of the latent image part (20A) which solved the problem. As shown in FIG. 10, the latent image portion (20A) includes, for example, one first latent image line (21A 1 ) in a boundary portion adjacent to the background portion (20B). As shown in the enlarged view of FIG. 10, the image image line (21A 1 ) is composed of a latent image constituent image line (21a 1 ) arranged at a different phase from the background image line (21B) and a background image line (21B). Concentration relaxation lines (21b 1 ) arranged in the same phase as at least some of the lines are adjacent to each other. Here, the latent image forming line (21a 1 ) is arranged in a phase different from the background line (21B), as shown in the enlarged view of FIG. 10, on the extension line of the background line (21B). , the latent image constituent lines (21a) do not overlap and are arranged in phase with the adjacent background line (21B). In addition, the expression that the density relaxation line (21b 1 ) is arranged in the same phase as the background line (21B) means that at least a portion on the extension line of the background line (21B), as shown in the enlarged view of FIG. In the enlarged view of FIG. 10, the density relaxation image (21b 1 ) is placed in the same phase as a part of the background image ( 21B ). An example is shown below.

図11は、第1の潜像画線(21A)のより詳細な構成を示す図である。背景部(20B)には、第1の実施の形態の位相変調模様(20)と同様に、一定の画線幅(W)の背景画線(21B)が、一定のピッチ(P1)で複数配置される。また、潜像部(20A)において、上から2番目以降の画線もまた、第1の実施の形態の位相変調模様(20)と同様に、背景画線(21B)から1/2ピッチ異なる位相に潜像画線(21A)が配置され、潜像画線(21A)は、背景画線(21B)の画線幅(W)と同じ画線幅(W)で構成され、かつ、背景画線(21B)と同じピッチ(P1)で配置される。 FIG. 11 is a diagram showing a more detailed configuration of the first latent image line (21A 1 ). In the background part (20B), background lines (21B) with a constant line width (W B ) are arranged at a constant pitch (P1), similar to the phase modulation pattern (20) of the first embodiment. Multiple locations. In addition, in the latent image area (20A), the second and subsequent lines from the top also differ by 1/2 pitch from the background line (21B), similar to the phase modulation pattern (20) of the first embodiment. A latent image image (21A) is arranged in the phase, and the latent image image (21A) has the same image width (W A ) as the image width (W B ) of the background image (21B), and , are arranged at the same pitch (P1) as the background drawing lines (21B).

一方、第1の潜像画線(21A)の画線幅(WA1)は、背景画線の画線幅(W)及び潜像画線(21A)の画線幅(W)より小さく、潜像構成画線(21a)の画線幅(Wa)及び濃度緩和画線(21b)の画線幅(Wb)もまた、背景画線の画線幅(W)よりも小さい。また、第1の方向(V1)に隣り合う第1の潜像画線(21A)と背景画線(21B)の中心線間の距離(LA1-B)及び第1の潜像画線(21A)と潜像画線(21A)の中心線間の距離(LA1-A0)が、潜像画線(21A)及び背景画線(21B)が配置されるピッチ(P1)より小さい。図11に示す構成によれば、第1の実施の形態の位相変調万線模様(20)よりも、潜像部(20A)と背景部(20B)の間の非画線部が大きくなり、第1の実施の形態の位相変調万線模様(20)において、隣り合う画線の距離が所定のピッチよりも短く濃い色で視認されるという問題を解決することができる。 On the other hand, the line width (W A1 ) of the first latent image line (21A 1 ) is equal to the line width (W A ) of the background image line and the line width (W A ) of the latent image line (21A). The image width (Wa 1 ) of the latent image constituent image (21a 1 ) and the image width (Wb 1 ) of the density relaxation image (21b 1 ) are also smaller than the image width (W B ) of the background image. ) is smaller than. Further, the distance (L A1-B ) between the center lines of the first latent image line (21A 1 ) and the background image line (21B) adjacent in the first direction (V1) and the distance between the first latent image line ( 21A 1 ) and the center line of the background image line (21B) The distance ( LA1-A0 ) between the center line of (21A 1 ) and the latent image line (21A) is smaller than the pitch (P1) at which the latent image line (21A) and the background image line (21B) are arranged. . According to the configuration shown in FIG. 11, the non-image area between the latent image area (20A) and the background area (20B) is larger than the phase modulation parallel line pattern (20) of the first embodiment, In the phase modulation parallel line pattern (20) of the first embodiment, it is possible to solve the problem that the distance between adjacent lines is shorter than a predetermined pitch and is visually recognized as a dark color.

図11では、第1の潜像画線(21A)の画線幅(WA1)、第1の潜像画線(21A)と隣り合う背景画線(21B)の間の非画線部の距離(MA1-B)及び第1の潜像画線(21A)と隣り合う潜像画線(21A)の間の非画線部の距離(MA1-A)が異なる例を示しているが、これらを同じ構成とすると、潜像部(20A)と背景部(20B)の境界部分において、単位面積当たりの画線面積率が一定で濃淡差がなくなり潜像の図柄の隠蔽性が高まることから好ましい。また、第1の潜像画線(21A)と隣り合う背景画線(21B)の間の非画線部の距離(MA1-B)と、第1の潜像画線(21A)と隣り合う潜像画線(21A)の間の非画線部の距離(MA1-A)を同じにすることも潜像の図柄の隠蔽性が高まるために好ましい形態であるが、前者の方が効果が高い。 In FIG. 11, the line width (W A1 ) of the first latent image line (21A 1 ), the non-image line between the first latent image line (21A 1 ) and the adjacent background line (21B), An example in which the distance of the non-image area (M A1-B ) and the distance of the non-image area (M A1-A ) between the first latent image image (21A 1 ) and the adjacent latent image image (21A) are different. However, if they have the same configuration, the image area ratio per unit area is constant at the boundary between the latent image area (20A) and the background area (20B), and there is no difference in shading, thus concealing the latent image pattern. This is preferable because it improves performance. Furthermore, the distance (M A1-B ) of the non-image area between the first latent image line (21A 1 ) and the adjacent background image line (21B) and the first latent image line (21A 1 ) It is also a preferable form to make the distance (M A1-A ) of the non-image area between the adjacent latent image image (21A) the same in order to increase the concealability of the latent image pattern, but the former is more effective.

ここでは、図10及び図11に示すように、背景部(20B)と隣接する境界部分に、一例として、一つの第1の潜像画線(21A)を備えた位相変調模様(20)について説明したが、前述した構成の第1の潜像画線(21A)を複数設けてもよい。仮に、二つの第1の潜像画線(21A)を設け、二つの第1の潜像画線(21A)の画線幅(WA1)を同じ構成とする場合、第1の潜像画線(21A)と、それと隣り合う画線との間の非画線部の距離を同じにすることで、潜像の図柄の隠蔽性を高めることができる。また、仮に、二つの第1の潜像画線(21A)を設ける場合、背景部(20B)との境界から、潜像画線(21A)に向かって、徐々に第1の潜像画線(21A)の画線幅(WA1)を大きくしたり、それに応じて隣り合う画線との間の非画線部の距離を大きくすると、画線と非画線部の変化が緩やかであり、潜像の図柄の隠蔽効果が高い構成であり好ましい。なお、第1の潜像画線(21A)を複数設ける構成については、本出願人に係る特許出願(特願2020-11655号(特開2021-115799号公報))に記載された技術を用いることができる。 Here, as shown in FIGS. 10 and 11, as an example, a phase modulation pattern (20) including one first latent image line (21A 1 ) is provided at a boundary portion adjacent to the background portion (20B). However, a plurality of first latent image lines (21A 1 ) having the above-described configuration may be provided. If two first latent image lines (21A 1 ) are provided and the line widths (W A1 ) of the two first latent image lines (21A 1 ) are the same, the first latent image lines (21A 1 ) By making the distance between the image image line (21A 1 ) and the non-image area between the image line (21A 1 ) and the image line adjacent thereto the same, it is possible to improve the concealability of the pattern of the latent image. Furthermore, if two first latent image lines (21A 1 ) are provided, the first latent image lines gradually increase from the boundary with the background part (20B) toward the latent image line (21A). If you increase the drawing width (W A1 ) of the line (21A 1 ) or increase the distance of the non-printing area between adjacent drawing lines accordingly, the change between the drawing line and the non-printing area will be gradual. This is preferable because it has a high effect of hiding the latent image pattern. In addition, regarding the configuration in which a plurality of first latent image images (21A 1 ) are provided, the technology described in the patent application (Japanese Patent Application No. 2020-11655 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2021-115799)) filed by the present applicant is used. Can be used.

続いて、第1の実施の形態の位相変調万線模様(20)において隣同士の画線の間隔が所定のピッチ(周期)より長い場合に、潜像の図柄が推測されてしまう課題を解決した潜像部(20A)の構成について、図12を用いて説明する。 Next, in the phase modulation parallel line pattern (20) of the first embodiment, when the interval between adjacent lines is longer than a predetermined pitch (period), the problem that the pattern of the latent image is guessed is solved. The configuration of the latent image section (20A) will be explained using FIG. 12.

図12は、第1の実施の形態の位相変調万線模様(20)において、隣同士の画線の間隔が所定のピッチより長い場合に、潜像の図柄が推測されてしまう課題を解決した潜像部(20A)の構成を示す図である。図12の拡大図に示すように、潜像部(20A)は、背景部(20B)と隣接する境界部分に、一例として、一つの第2の潜像画線(21A)を備え、第2の潜像画線(21A)は、図12の拡大図に示すように、背景画線(21B)と異なる位相に配置された潜像構成画線(21a)と、背景画線(21B)の少なくとも一部と同じ位相に配置された濃度緩和画線(21b)が隣接して成る。 FIG. 12 solves the problem that the pattern of the latent image is guessed when the interval between adjacent lines is longer than a predetermined pitch in the phase modulation parallel line pattern (20) of the first embodiment. It is a figure showing the composition of a latent image part (20A). As shown in the enlarged view of FIG. 12, the latent image portion (20A) includes, for example, one second latent image line (21A 2 ) at the boundary portion adjacent to the background portion (20B). As shown in the enlarged view of FIG. 12, the latent image image line (21A 2 ) of No. 2 is composed of a latent image constituent image line (21a 2 ) arranged at a different phase from the background image line (21B), and a background image line (21A 2 ). Concentration relaxation lines (21b 2 ) arranged in the same phase as at least a part of 21B) are formed adjacent to each other.

図13は、第2の潜像画線(21A)のより詳細な構成を示す図である。背景部(20B)には、第1の実施の形態の位相変調模様(20)と同様に、一定の画線幅(W)の背景画線(21B)が、一定のピッチ(P1)で複数配置され、潜像部(20A)において、下から2番目より上の画線もまた、第1の実施の形態の位相変調模様(20)と同様に、背景画線(21B)から1/2ピッチ異なる位相に配置された潜像画線(21A)であり、潜像画線(21A)は、背景画線(21B)の画線幅(W)と同じ画線幅(W)で構成され、かつ、背景画線(21B)と同じピッチ(P1)で配置される。 FIG. 13 is a diagram showing a more detailed configuration of the second latent image line (21A 2 ). In the background part (20B), background lines (21B) with a constant line width (W B ) are arranged at a constant pitch (P1), similar to the phase modulation pattern (20) of the first embodiment. A plurality of lines are arranged, and in the latent image area (20A), the lines above the second from the bottom are also 1/1/2 from the background line (21B), similar to the phase modulation pattern (20) of the first embodiment. The latent image image (21A) is arranged at a phase different by two pitches, and the latent image image (21A) has the same image width (W A ) as the image width (W B ) of the background image (21B). and are arranged at the same pitch (P1) as the background drawing lines (21B).

一方、第2の潜像画線(21A)の画線幅(WA2)は、背景画線の画線幅(W)及び潜像画線(21A)の画線幅(W)より大きい。図13に示す第2の潜像画線(21A)において、濃度緩和画線(21b)の画線幅(Wb)は、背景画線(21B)の画線幅(W)と同じ構成とした例を示しているが、第2の潜像画線(21A)の画線幅(WA2)が、背景画線の画線幅(W)及び潜像画線(21A)の画線幅(W)より大きければ、濃度緩和画線(21b)の画線幅(Wb)が、背景画線(21B)の画線幅(W)より小さくてもよい。また、第1の方向(V1)に隣り合う第2の潜像画線(21A)と背景画線(21B)の中心線間の距離(LA2-B)及び第2の潜像画線(21A)と潜像画線(21A)の中心線間の距離(LA-A2)が、潜像画線(21A)及び背景画線(21B)が配置されるピッチ(P1)より大きい。図13に示す構成によれば、第1の実施の形態の位相変調模様(20)よりも、潜像部(20A)と背景部(20B)の間の非画線部が小さいことで、潜像の図柄の一部が空白となり目立って視認されるという問題を解決することができる。 On the other hand, the line width (W A2 ) of the second latent image line (21A 2 ) is equal to the line width (W B ) of the background image line and the line width (W A ) of the latent image line (21A). bigger. In the second latent image image (21A 2 ) shown in FIG. 13, the image width (Wb 2 ) of the density relaxation image (21b 2 ) is equal to the image width (W B ) of the background image (21B). Although an example with the same configuration is shown, the line width (W A2 ) of the second latent image line (21A 2 ) is different from the line width (W B ) of the background image line and the latent image line (21A 2 ). ), the line width (Wb 2 ) of the density relaxation line (21b 2 ) may be smaller than the line width (W B ) of the background line (21B). . Further, the distance ( LA2-B ) between the center lines of the second latent image line (21A 2 ) and the background image line (21B) adjacent to each other in the first direction (V1) and the second latent image line (21A 2 ) and the center line of the latent image line (21A) (LA -A2 ) is larger than the pitch (P1) at which the latent image line (21A) and the background image line (21B) are arranged. . According to the configuration shown in FIG. 13, the non-image area between the latent image area (20A) and the background area (20B) is smaller than the phase modulation pattern (20) of the first embodiment. It is possible to solve the problem that a part of the pattern of the statue becomes blank and is visually recognized conspicuously.

図13では、第2の潜像画線(21A)の画線幅(WA2)、第2の潜像画線(21A)と隣り合う背景画線(21B)の間の非画線部の距離(MA2-B)及び第2の潜像画線(21A)と隣り合う潜像画線(21A)の間の非画線部の距離(MA-A2)が異なる例を示しているが、これらを同じ構成とすると、潜像部(20A)と背景部(20B)の境界部分において、単位面積当たりの画線面積率が一定で濃淡差がなくなり潜像の図柄の隠蔽性が高まることから好ましい。また、第2の潜像画線(21A)と隣り合う背景画線(21B)の間の非画線部の距離(MA2-B)と、第2の潜像画線(21A)と隣り合う潜像画線(21A)の間の非画線部の距離(MA-A2)を同じにすることも潜像の図柄の隠蔽性が高まるために好ましい形態であるが、前者の方が効果が高い。 In FIG. 13, the line width (W A2 ) of the second latent image line (21A 2 ), the non-image line between the second latent image line (21A 2 ) and the adjacent background line (21B), An example in which the distance of the non-image area (M A2-B ) and the distance of the non-image area (M A-A2 ) between the second latent image image (21A 2 ) and the adjacent latent image image (21A) are different. However, if they have the same configuration, the image area ratio per unit area is constant at the boundary between the latent image area (20A) and the background area (20B), and there is no difference in shading, thus concealing the latent image pattern. This is preferable because it improves performance. Furthermore, the distance (M A2-B ) of the non-image area between the second latent image line (21A 2 ) and the adjacent background image line (21B) and the second latent image line (21A 2 ) It is also preferable to make the distance (M A - A2 ) of the non-image area between the adjacent latent image image (21A) the same in order to increase the concealability of the latent image pattern, but the former is more effective.

ここでは、図12及び図13に示すように、背景部(20B)と隣接する境界部分に、一例として、一つの第2の潜像画線(21A)を備えた位相変調模様(20)について説明したが、前述した構成の第2の潜像画線(21A)を複数設けてもよい。仮に、二つの第2の潜像画線(21A)を設け、二つの第2の潜像画線(21A)の画線幅(WA2)を同じ構成とする場合、第2の潜像画線(21A)と、それと隣り合う画線との間の非画線部の距離を同じにすることで、潜像の図柄の隠蔽性を高めることができる。また、仮に、二つの第2の潜像画線(21A)を設ける場合、背景部(20B)との境界から、潜像画線(21A)に向かって、徐々に第2の潜像画線(21A)の画線幅(WA2)を小さくしたり、それに応じて隣り合う画線との間の非画線部の距離を小さくすると、画線と非画線部の変化が緩やかであり、潜像の図柄の隠蔽効果が高い構成であり好ましい。なお、第2の潜像画線(21A)を複数設ける構成についても、本出願人に係る特許出願(特願2020-11655号(特開2021-115799号公報))に記載された技術を用いることができる。 Here, as shown in FIGS. 12 and 13, a phase modulation pattern (20) including one second latent image line (21A 2 ) is provided in a boundary portion adjacent to the background portion (20B), as an example. However, a plurality of second latent image lines (21A 2 ) having the above-described configuration may be provided. If two second latent image lines (21A 2 ) are provided and the line widths (W A2 ) of the two second latent image lines (21A 2 ) are the same, the second latent image lines (21A 2 ) By making the distance between the image image line (21A 2 ) and the non-image area between the image line (21A 2 ) and the image line adjacent thereto the same, it is possible to improve the concealability of the pattern of the latent image. Furthermore, if two second latent image lines (21A 2 ) are provided, the second latent image lines gradually increase from the boundary with the background part (20B) toward the latent image line (21A). If the drawing width (W A2 ) of the line (21A 2 ) is made smaller or the distance of the non-printing part between adjacent drawing lines is reduced accordingly, the change between the drawing line and the non-printing part will be gradual. This is preferable because it has a high effect of hiding the latent image pattern. In addition, regarding the configuration in which a plurality of second latent image images (21A 2 ) are provided, the technology described in the patent application (Japanese Patent Application No. 2020-11655 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2021-115799)) filed by the present applicant is also applied. Can be used.

第2の実施の形態の位相変調模様(20)においても、潜像の図柄は、任意の図柄(数字、文字、記号、画等)とすることができるが、潜像の図柄(輪郭)に応じて、隣り合う画線の間隔が狭くなる領域(位置)と、広くなる領域(位置)が異なるので、潜像の図柄に応じて、適宜、第1の潜像画線(21A)と第2の潜像画線(21A)を設ければよい。また、第2の実施の形態の位相変調模様(20)において、潜像画線(21A)が、第1の方向(V1)と逆の方向に位相が異なる構成の場合には、位相変調模様(20)において、濃く視認される領域と空白となる領域が入れ替わるため、背景画線(21B)の画線幅(W)より小さい画線幅の第1の潜像画線(21A)と、背景画線(21B)の画線幅(W)より大きい画線幅の第2の潜像画線(21A)を設ける位置を入れ替えて配置すればよい。 Also in the phase modulation pattern (20) of the second embodiment, the pattern of the latent image can be any pattern (numbers, letters, symbols, pictures, etc.), but the pattern (outline) of the latent image Accordingly, since the area (position) where the interval between adjacent image lines becomes narrower and the area (position) where the interval between adjacent image lines becomes wider are different, the first latent image image (21A 1 ) and A second latent image line (21A 2 ) may be provided. Further, in the phase modulation pattern (20) of the second embodiment, if the latent image image line (21A) has a different phase in the opposite direction to the first direction (V1), the phase modulation pattern (20) In (20), since the darkly visible area and the blank area are replaced, the first latent image image (21A 1 ) has a smaller image width than the image width (W B ) of the background image ( 21B ). The second latent image line (21A 2 ) having a line width larger than the line width (W B ) of the background image line (21B) may be interchanged.

図14は、第2の実施の形態の可視模様(30)の構成を説明するための図であり、位相変調模様(20)との関係を説明するため、二つの模様(20、30)を図示している。第2の実施の形態においても可視模様(30)は、位相変調模様(20)を構成する有色の画線(21)が設けられていない領域に、有色の可視模様構成要素(31)が複数配置されて成る。また、第2の実施の形態において位相変調模様(20)は、潜像部(20A)を構成する潜像画線(21A)、第1の潜像画線(21A)及び第2の潜像画線(21A)が、可視模様構成要素(31)の位相と重ならない領域を有する。 FIG. 14 is a diagram for explaining the configuration of the visible pattern (30) of the second embodiment, and for explaining the relationship with the phase modulation pattern (20), two patterns (20, 30) are shown. Illustrated. Also in the second embodiment, the visible pattern (30) has a plurality of colored visible pattern constituent elements (31) in an area where the colored lines (21) constituting the phase modulation pattern (20) are not provided. It consists of being arranged. Further, in the second embodiment, the phase modulation pattern (20) is formed by a latent image line (21A), a first latent image line (21A 1 ), and a second latent image line (21A) constituting the latent image section (20A). The image line (21A 2 ) has a region that does not overlap with the phase of the visible pattern component (31).

第2の潜像画線(21A)が、可視模様構成要素(31)の位相と重ならない領域を有する構成として、図14の拡大図に示すように、第2の潜像画線(21A)を構成する潜像構成画線(21a)の位相と可視模様構成要素(31)の位相が重ならない構成を示している。図14の拡大図に示す領域を、前述した判定具を用いて観察すると、潜像の図柄の一部を構成する潜像画線(21A)と潜像構成画線(21a)を視認することができる。なお、「円形」の図形を現す潜像部(20A)に配置された可視模様構成要素(31)は、背景画線(21B)の位相と重なっているため、潜像に影響することはない。 As shown in the enlarged view of FIG. 14, the second latent image image (21A 2 ) has a region that does not overlap with the phase of the visible pattern component (31). 2 ) shows a configuration in which the phase of the latent image constituent image line (21a 2 ) and the phase of the visible pattern constituent element (31) do not overlap. When the area shown in the enlarged view of FIG. 14 is observed using the judgment tool described above, the latent image image line (21A) and the latent image constituent image line (21a 2 ) forming part of the latent image pattern are visually recognized. be able to. Note that the visible pattern component (31) placed in the latent image area (20A) that shows a "circular" shape overlaps with the phase of the background image line (21B), so it does not affect the latent image. .

図15は、第1の潜像画線(21A)が、可視模様構成要素(31)の位相と重ならない領域を有する構成として、図15の拡大図に示すように、第1の潜像画線(21A)を構成する潜像構成画線(21a)の位相と可視模様構成要素(31)の位相が重ならない構成を示している。図15の拡大図に示す領域を、前述した判定具を用いて観察すると、潜像の図柄の一部を構成する潜像画線(21A)と潜像構成画線(21a)を視認することができる。なお、「円形」の図形を現す潜像部(20A)に配置された可視模様構成要素(31)は、背景画線(21B)の位相と重なっているため、潜像に影響することはない。
図15の拡大図に示す領域では、背景部(20B)に可視模様構成要素(31)が配置されていないが、仮に、潜像部(20A)の図柄の背景となる領域(20B)に、可視模様構成要素(31)が配置される場合においても、潜像構成画線(21a)が可視模様構成要素(31)の位相と重ならない領域を有する構成とすればよい。
FIG. 15 shows a configuration in which the first latent image line (21A 1 ) has a region that does not overlap with the phase of the visible pattern component (31), and as shown in the enlarged view of FIG. A configuration is shown in which the phase of the latent image constituent image line (21a 1 ) constituting the image line (21A 1 ) and the phase of the visible pattern constituent element (31) do not overlap. When the area shown in the enlarged view of FIG. 15 is observed using the judgment tool described above, the latent image image line (21A) and the latent image constituent image line (21a 1 ) forming part of the latent image pattern are visually recognized. be able to. Note that the visible pattern component (31) placed in the latent image area (20A) that shows a "circular" shape overlaps with the phase of the background image line (21B), so it does not affect the latent image. .
In the area shown in the enlarged view of FIG. 15, the visible pattern component (31) is not arranged in the background part (20B), but if the area (20B) that becomes the background of the pattern in the latent image part (20A), Even when the visible pattern component (31) is arranged, a configuration may be adopted in which the latent image component image line (21a 1 ) has an area where the phase of the visible pattern component (31) does not overlap.

第2の実施の形態において、潜像の図柄(ここでは、「円形」の図柄)の隠蔽効果が高い構成について、図16を用いて説明する。
図16は、潜像発現模様(10)を構成する位相変調模様(20)と可視模様(30)の一部の領域を示す図であり、位相変調模様(20)は、第2の潜像画線(21A)を備えた領域を示している。ここで、図16に示す第2の潜像要素(21A)と潜像要素(21A)の間の距離(Y)、その間に設けられる可視模様構成要素(31)の幅(y)、背景要素(21B)同士の間の距離(X)、その間に設けられる可視模様構成要素(31)の幅(x)の関係を数式1とすることで、潜像の図柄の隠蔽性が高くなることから好ましい。
第2の実施の形態の位相変調模様(20)は、潜像の図柄の濃淡が目立つ領域を隠蔽するために、第1の潜像画線(21A)と第2の潜像画線(21A)を設けて、濃度を緩和する作用がある中で、図16に示す領域では、空白が目立つことを解消するために、第2の潜像画線(21A)を設けている。
その際に、背景部(20B)に設ける可視模様構成要素(31)と、潜像部に設ける可視模様構成要素(31)を数式2の構成とすることで、空白が目立つ領域の濃度を緩和した位相変調模様(20)の濃度バランスが保たれることで、潜像の図柄を隠蔽する効果が得られる。
In the second embodiment, a configuration with a high hiding effect of a latent image pattern (here, a "circular" pattern) will be described with reference to FIG. 16.
FIG. 16 is a diagram showing a part of the phase modulation pattern (20) and visible pattern (30) that constitute the latent image expression pattern (10). An area with a drawing line (21A 2 ) is shown. Here, the distance (Y) between the second latent image element (21A 2 ) and the latent image element (21A) shown in FIG. 16, the width (y) of the visible pattern component (31) provided therebetween, and the background By setting the relationship between the distance (X) between the elements (21B) and the width (x) of the visible pattern component (31) provided therebetween to be expressed by Formula 1, the concealability of the latent image pattern is increased. preferred.
The phase modulation pattern (20) of the second embodiment has a first latent image line (21A 1 ) and a second latent image line ( While the second latent image line (21A 2 ) is provided to have the effect of relaxing the density, in the area shown in FIG. 16, a second latent image line (21A 2 ) is provided in order to eliminate the conspicuous blank space.
At that time, by setting the visible pattern component (31) provided in the background part (20B) and the visible pattern component (31) provided in the latent image part to have the configuration shown in Formula 2, the density in areas where blank spaces are conspicuous is reduced. By maintaining the density balance of the phase modulation pattern (20), the effect of hiding the latent image pattern can be obtained.

Figure 2024017567000002
Figure 2024017567000002

Figure 2024017567000003
Figure 2024017567000003

図17(a)は、図16に示す構成の比較例を示す図であり、図16に示す潜像部(20A)に設ける可視模様構成要素(31)の幅(y)を短くした例である。この場合、第2の潜像画線(21A)と潜像画線(21A)の間の空白が目立つことで、潜像の図柄の隠蔽性が低下してしまう。 FIG. 17(a) is a diagram showing a comparative example of the configuration shown in FIG. 16, and is an example in which the width (y) of the visible pattern component (31) provided in the latent image area (20A) shown in FIG. 16 is shortened. be. In this case, the blank space between the second latent image line (21A 2 ) and the latent image line (21A) becomes conspicuous, and the concealability of the latent image pattern deteriorates.

図17(b)は、図16に示す構成の別の比較例を示す図であり、図16に示す潜像部(20A)に設ける可視模様構成要素(31)の幅(y)を長くした例である。この場合、第2の潜像画線(21A)と潜像画線(21A)の間が暗くなって目立つことで、潜像の図柄の隠蔽性が低下してしまう。 FIG. 17(b) is a diagram showing another comparative example of the configuration shown in FIG. 16, in which the width (y) of the visible pattern component (31) provided in the latent image area (20A) shown in FIG. 16 is lengthened. This is an example. In this case, the space between the second latent image line (21A 2 ) and the latent image line (21A) becomes dark and stands out, and the concealability of the latent image pattern decreases.

図17に示す構成においても、前述した判定具を用いて観察すると、本発明の可視模様(30)と潜像が変化する効果は得られるが、潜像の隠蔽性が高いのは、図16に示す形態である。 Even in the configuration shown in FIG. 17, when observed using the judgment tool described above, the effect of changing the visible pattern (30) and the latent image of the present invention can be obtained, but the structure shown in FIG. It has the form shown in .

図18は、潜像発現模様(10)を構成する位相変調模様(20)と可視模様(30)において、図16に示す領域とは別の一部の領域を示す図であり、位相変調模様(20)は、第1の潜像画線(21A)を備えた領域を示している。
ここで、図18に示す第1の潜像要素(21A)と背景要素(21B)の間の距離(Y)、その間に設けられる可視模様構成要素(31)の幅(y)、背景要素(21B)同士の間の距離(X)、その間に設けられる可視模様構成要素(31)の幅(x)の関係もまた、前述した式1とすることで、潜像の図柄の隠蔽性が高くなる。
また、図18に示す第1の潜像要素(21A)と潜像要素(21A)の間の距離(Y)、その間に設けられる可視模様構成要素(31)の幅(y)、背景要素(21B)同士の間の距離(X)、その間に設けられる可視模様構成要素(31)の幅(x)の関係もまた、前述した数式1とすることで、潜像の図柄の隠蔽性が高くなる。
FIG. 18 is a diagram showing a part of the phase modulation pattern (20) and the visible pattern (30) that constitute the latent image expression pattern (10), which are different from the area shown in FIG. (20) shows the area with the first latent image line (21A 1 ).
Here, the distance (Y 1 ) between the first latent image element (21A 1 ) and the background element (21B) shown in FIG. 18, the width (y 1 ) of the visible pattern component ( 31 ) provided therebetween, The relationship between the distance (X 1 ) between the background elements (21B) and the width (x 1 ) of the visible pattern component (31) provided therebetween is also determined by formula 1 described above, so that the pattern of the latent image is Concealability increases.
Further, the distance (Y 2 ) between the first latent image element (21A 1 ) and the latent image element (21A) shown in FIG. 18, the width (y 2 ) of the visible pattern component (31) provided therebetween, The relationship between the distance (X 2 ) between the background elements (21B) and the width (x 2 ) of the visible pattern component (31) provided therebetween can also be determined by formula 1 described above, so that the pattern of the latent image can be Concealability increases.

以上が、本発明潜像発現模様(10)を構成する位相変調模様(20)と可視模様(30)の詳細な構成の説明であるが、続いて、本発明の潜像発現模様(10)において、潜像を視認するための判定具の別の例ついて説明する。 The above is a detailed explanation of the phase modulation pattern (20) and the visible pattern (30) that constitute the latent image expression pattern (10) of the present invention.Next, the latent image expression pattern (10) of the present invention , another example of a determination tool for visually recognizing a latent image will be described.

図19は、レンズ構造の画線(51)が万線状に配置された、一般的にレンチキュラー(T2)と呼ばれている判定具の構成を示す図であり、図19(a)は、レンチキュラー(T2)平面図、図19(b)は、図19(a)のX-X’線における断面図を示している。レンズ構造の画線(51)は、第2の方向(V2)に、位相変調模様(20)を構成する有色の画線(21)が配置されるピッチ(P)と同じピッチ(P)で、万線状に配置される。また、レンズ構造の画線(51)の画線幅(W)は、一つの画線(51)が、1ピッチ(P1)分の領域に配置された位相変調模様(20)をサンプリングできる大きさとする。具体的に、例えば、図8に示す位相変調模様(20)においては、背景画線(21B)の画線幅(W21B)と潜像画線(21A)の画線幅(W21A)の和となる。また、レンズ構造の画線の高さ(H)は、位相変調模様(20)の上に重ねて観察する際の、焦点距離に応じて適宜調整される。 FIG. 19 is a diagram showing the configuration of a determination tool generally called a lenticule (T2) in which drawing lines (51) of a lens structure are arranged in parallel, and FIG. The lenticular (T2) plan view, FIG. 19(b), shows a cross-sectional view taken along the line XX' in FIG. 19(a). The lines (51) of the lens structure are arranged in the second direction (V2) at the same pitch (P) as the pitch (P) at which the colored lines (21) constituting the phase modulation pattern (20) are arranged. , arranged in a line. In addition, the image width (W) of the image line (51) of the lens structure is large enough that one image line (51) can sample the phase modulation pattern (20) arranged in an area corresponding to one pitch (P1). Satoru. Specifically, for example, in the phase modulation pattern (20) shown in FIG. 8, the line width (W 21B ) of the background image line ( 21B ) and the line width (W 21A ) of the latent image line ( 21A ) are different. It becomes peace. Further, the height (H) of the image line of the lens structure is adjusted as appropriate depending on the focal length when observing the image by superimposing it on the phase modulation pattern (20).

図19に示すレンチキュラー(T2)は、画線(51)が離れて配置された状態を示しているが、画線(51)同士が隣接して一体型となっている構成であってもよいし、図20に示すように、ベース基材(50)の上に画線(51)が複数配置されて一体型となっている構成でもよい。図19及び図20に示すレンチキュラー(T2)は、基材(2)に形成された位相変調模様(20)の上に形成した一体型の構成としてもよいし、図7に示す構成と同様に、位相変調模様(20)が形成された基材(2)の上に、レンチキュラー(T2)を備えたベース基材(50)を重ねて潜像を視認する分離型でもよいが、位相変調模様(20)の上にレンチキュラー(T2)を重ねる際に、第2の方向(V2)と第1の方向(V1)を同じ方向にして、重ねることで潜像を視認することができる。 Although the lenticular (T2) shown in FIG. 19 shows a state in which the drawing lines (51) are arranged separately, it may also have a configuration in which the drawing lines (51) are adjacent to each other and are integrated. However, as shown in FIG. 20, a plurality of drawing lines (51) may be arranged on a base substrate (50) to form an integrated structure. The lenticular (T2) shown in FIGS. 19 and 20 may have an integrated structure formed on the phase modulation pattern (20) formed on the base material (2), or may have a structure similar to the structure shown in FIG. A separate type may be used, in which a base material (50) having lenticules (T2) is superimposed on a base material (2) on which a phase modulation pattern (20) is formed, and the latent image is visually recognized. When overlapping the lenticular (T2) on top of (20), the second direction (V2) and the first direction (V1) are set in the same direction, and by overlapping, the latent image can be visually recognized.

続いて、本発明の潜像発現模様(10)と、潜像を観察するための画線を基材(2)に形成した潜像発現模様形成体(1)について説明する。 Next, the latent image expression pattern (10) of the present invention and the latent image expression pattern forming body (1) in which image lines for observing the latent image are formed on the base material (2) will be explained.

図21(a)は、基材(2)に凸形状の画線(61)が、第1の方向(V1)に、位相変調模様(20)を構成する有色の画線(21)が配置されるピッチ(P)と同じピッチ(P)で配置されて成る凸状万線模様(60)の構成を示す図であり、図21(b)は、図21(a)のX-X’線における断面図である。凸形状の画線(61)は、紙を製造する工程で、円網やダンディロールによる公知の抄き入れ加工を施す方法や、紙又はポリマーの基材(2)にレーザ加工により、基材(2)の一部を除去することでも形成することができる。また、基材(2)に凹版印刷やスクリーン印刷等の盛りのある印刷を行うことで、凸形状の画線(61)を形成することができる。 In FIG. 21(a), a convex object line (61) is arranged on the base material (2), and a colored object line (21) forming a phase modulation pattern (20) is arranged in the first direction (V1). 21(b) is a diagram showing the configuration of a convex line pattern (60) arranged at the same pitch (P) as the pitch (P) shown in FIG. FIG. The convex drawing line (61) can be formed by applying a known paper-cutting process using a circular net or dandy roll, or by laser processing the paper or polymer base material (2) in the paper manufacturing process. It can also be formed by removing part of (2). In addition, by performing printing with bulges such as intaglio printing or screen printing on the base material (2), the convex drawing lines (61) can be formed.

図21(b)の断面図において、凸形状の画線(61)の頂点(T)を境として、真上にある視点の位置(S1)から観察すると、基材(2)全体を観察することができ、基材(2)に対して傾いた方向の視点の位置(S2)から観察すると、凸形状の画線(61)の死角となって、一部の基材(2)を視認することができない。この原理を利用し、基材(2)に対して斜めの方向から観察した際に、潜像画線(21A)のみ視認できる配置で、凸状万線模様(60)の上に、潜像発現模様(10)を重ねて形成することで、潜像を視認することができる。 In the cross-sectional view of FIG. 21(b), when observed from the viewpoint position (S1) directly above the vertex (T) of the convex drawing line (61), the entire base material (2) is observed. When observed from the viewpoint position (S2) in a direction tilted with respect to the base material (2), it becomes a blind spot of the convex drawing line (61) and a part of the base material (2) is visually recognized. Can not do it. Using this principle, the latent image is placed on the convex parallel line pattern (60) in an arrangement where only the latent image image (21A) is visible when observed from an oblique direction with respect to the base material (2). By forming the expression patterns (10) in an overlapping manner, the latent image can be visually recognized.

図22(a)は、基材(2)に形成された凸状万線模様(60)と潜像発現模様(10)の配置の一例を示す平面図であり、実際には、凸状万線模様(60)の上に、潜像発現模様(10)が重なる構成であるが、ここでは、互いの位置関係を分かり易く説明するため、別々に図示している。また、潜像発現模様(10)と凸状万線模様(60)の対応する位置を一点鎖線で示すとともに、凸形状の画線(61)の頂点(T)の位置を破線で示している。 FIG. 22(a) is a plan view showing an example of the arrangement of the convex line pattern (60) and the latent image expression pattern (10) formed on the base material (2). Although the latent image expression pattern (10) overlaps the line pattern (60), they are shown separately here in order to explain their positional relationship in an easy-to-understand manner. Furthermore, the corresponding positions of the latent image development pattern (10) and the convex parallel line pattern (60) are indicated by dashed lines, and the position of the apex (T) of the convex object line (61) is indicated by a broken line. .

図22(b)は、図22(a)のX-X’線における断面図であり、背景部(20B)の状態を示している。図22(b)において、凸形状の画線(61)に対して、斜めの方向の視点の位置(S2)から観察すると、可視模様構成要素(31)と背景画線(21B)は、凸形状の画線(61)の死角となって、視認することができない。図22(c)は、図22(a)のX-X’線における断面図であり、潜像部(20A)の状態を示している。図22(c)において、凸形状の画線(61)に対して、斜めの方向の視点の位置(S2)から観察すると、潜像画線(21A)は、視認されるが、可視模様構成要素(31)は、凸形状の画線(61)の死角となって、視認することができない。この結果、凸形状の画線(61)に対して、斜めの方向の視点の位置(S2)から観察すると、可視模様構成要素(31)は視認することできず、潜像画線(21A)のみ視認されることで、潜像の図柄を視認することができる。なお、図22に示す凸状万線模様(60)と潜像発現模様(10)の配置は、これに限定されるものではない。例えば、潜像画線(21A)によって潜像の図柄を視認するときに、背景画線(21B)が視認されていても、潜像部(20A)と背景部(20B)の濃淡差が生じていれば、潜像の図柄を視認することができる。また、背景画線(21B)のみ視認される場合には、ネガポジ反転した状態で潜像の図柄を視認することができる。 FIG. 22(b) is a cross-sectional view taken along the line X 1 -X 1 ' in FIG. 22(a), and shows the state of the background portion (20B). In FIG. 22(b), when observed from a viewpoint (S2) diagonally with respect to the convex object line (61), the visible pattern component (31) and the background object line (21B) are convex. It becomes a blind spot of the drawing line (61) of the shape and cannot be visually recognized. FIG. 22(c) is a cross-sectional view taken along the line X 2 -X 2 ' in FIG. 22(a), showing the state of the latent image portion (20A). In FIG. 22(c), when observed from the viewpoint position (S2) diagonally with respect to the convex image line (61), the latent image image line (21A) is visually recognized, but the visible pattern structure The element (31) becomes a blind spot of the convex drawing line (61) and cannot be visually recognized. As a result, when observing the convex image line (61) from the oblique viewpoint position (S2), the visible pattern component (31) cannot be visually recognized, and the latent image image (21A) The pattern of the latent image can be visually recognized by only being visually recognized. Note that the arrangement of the convex line pattern (60) and the latent image expression pattern (10) shown in FIG. 22 is not limited to this. For example, when a latent image pattern is visually recognized by the latent image image line (21A), even if the background image line (21B) is visible, a difference in shading between the latent image area (20A) and the background area (20B) may occur. If it is, the latent image pattern can be visually recognized. Further, when only the background image line (21B) is visually recognized, the pattern of the latent image can be visually recognized in a state in which the negative and positive images are reversed.

図23は、基材(2)の一方の面に潜像発現模様(10)が形成され、他方の面に万線模様(70)が形成された潜像模様形成体(1)であり、特許文献1と同様に、透過光下で基材(2)の表裏に形成された位相変調模様(20)と万線模様(30)が合成される。万線模様(70)は、図7(b)に示す構成と同様の画線(71)から成り、基材(2)に潜像発現模様(10)が形成される面とは反対側の面に形成される。基材(2)の表裏に形成する潜像発現模様(20)と万線模様(70)の位置関係は、万線模様(70)を構成する画線(71)が、位相変調模様(20)を構成する背景画線(21B)と重なる配置で形成すると、最も潜像の視認性が高いが、わずかにずれていても、潜像を視認することは可能である。この形態において基材(2)は、目視で潜像発現模様(10)側から観察した際に、万線模様(70)が視認できない程度に不透明であって、透過光で観察した際に、二つの模様が合成される程度の光透過性を有する紙材や樹脂材を用いればよい。 FIG. 23 shows a latent image pattern forming body (1) in which a latent image expression pattern (10) is formed on one surface of a base material (2) and a line pattern (70) is formed on the other surface, Similar to Patent Document 1, the phase modulation pattern (20) and parallel line pattern (30) formed on the front and back sides of the base material (2) are combined under transmitted light. The line pattern (70) is composed of lines (71) similar to the configuration shown in FIG. formed on the surface. The positional relationship between the latent image expression pattern (20) and the line pattern (70) formed on the front and back surfaces of the base material (2) is such that the line pattern (71) forming the line pattern (70) is similar to the phase modulation pattern (20). ) The visibility of the latent image is highest when it is formed so as to overlap with the background image (21B) constituting the background image (21B), but it is possible to visually recognize the latent image even if it is slightly shifted. In this form, the base material (2) is opaque to such an extent that the line pattern (70) cannot be seen when visually observed from the side of the latent image expression pattern (10), and when observed with transmitted light, It is sufficient to use a paper or resin material that has a light transmittance that allows the two patterns to be combined.

図24は、本発明における万線模様(70)の変形例であり、画線(71)と異なる色の画線(72)が、画線(71)の間に画線(71)と同じピッチ(P1)で配置されて成る万線模様(70)とした例である。この場合、透過光下で観察すると、位相変調模様(20)と万線模様(70)が合成されて、「円形」の数字を現す潜像部とその周りの背景部が、それぞれの画線(71、72)の色で視認することができる。なお、図24では、万線模様(70)が基材(2)に形成された構成を示しているが、図7に示す光透過性の基材(3)に形成された、所謂、万線フィルタの構成であってもよい。 FIG. 24 is a modification of the parallel line pattern (70) according to the present invention, in which a drawing line (72) of a different color from the drawing line (71) is placed between the drawing lines (71) and the same drawing line (71). This is an example of a line pattern (70) arranged at a pitch (P1). In this case, when observed under transmitted light, the phase modulation pattern (20) and parallel line pattern (70) are combined, and the latent image area showing the "circular" number and the surrounding background area are the same as each image line. It can be visually recognized by the colors (71, 72). Although FIG. 24 shows a configuration in which the parallel line pattern (70) is formed on the base material (2), the so-called multi-line pattern (70) formed on the light-transmissive base material (3) shown in FIG. It may also be a line filter configuration.

また、本発明の万線模様(70)の別の形態として、特開2018-199323号公報に記載の有色万線模様とすることで、潜像の色彩表現を豊かにすることができる。特開2018-199323号公報に記載の有色万線模様(70’)は、位相変調模様(20)の潜像部(20A)の図柄に対応して有色万線模様(70’)を構成する画線の色が異なる。具体的には、図25(a)に示すように、有色万線模様(70’)を反射光下で観察すると、無彩色の画線が一定の間隔(P1)で配置されているように見えるが、図25(a)の拡大図に示すように、「円形」の図柄に対応した部分では、補色関係の画線(71)と画線(72)が隣接して成り、「円形」の図柄の背景に対応した部分では、無彩色の画線から成る。図25(a)に示す有色万線模様(70’)と潜像発現模様(10)が形成された潜像模様形成体(1)を透過光下で観察すると、位相変調模様(20)と有色万線模様(70’)の配置により、「円形」の図柄が、画線(71)の色又は画線(72)の色で視認され、「円形」の図柄の背景は、無彩色として視認される。 Further, as another form of the parallel line pattern (70) of the present invention, a colored parallel line pattern described in JP-A-2018-199323 can be used to enrich the color expression of the latent image. The colored line pattern (70') described in JP-A-2018-199323 constitutes the colored line pattern (70') corresponding to the pattern of the latent image part (20A) of the phase modulation pattern (20). The color of the lines is different. Specifically, as shown in FIG. 25(a), when the colored line pattern (70') is observed under reflected light, it appears that achromatic lines are arranged at regular intervals (P1). However, as shown in the enlarged view of FIG. 25(a), in the part corresponding to the "circular" pattern, the drawing line (71) and the drawing line (72) of complementary colors are adjacent to each other, and the "circular" pattern is formed. The part corresponding to the background of the pattern consists of achromatic lines. When the latent image pattern forming body (1) on which the colored line pattern (70') and the latent image development pattern (10) shown in FIG. 25(a) are observed under transmitted light, the phase modulation pattern (20) is observed. Due to the arrangement of the colored line pattern (70'), the "circular" pattern is visible in the color of the drawing line (71) or the color of the drawing line (72), and the background of the "circular" pattern is seen as an achromatic color. Visible.

なお、特開2018-199323号公報に記載の有色万線模様(70’)において、図25(a)に示す画線(71)は、補色関係の色の組合せのうちの一色で構成され、画線(72)は、補色関係の色の組合せのうちの残りの一色とする構成の他に、図25(b)の拡大図に示すように、画線(71)の中で、部分的に色が異なってもよい。その場合、異なる色で構成される画線(71)の各部毎に、隣接する画線(72)の色が異なる。なお、図25(b)の拡大図において、異なる色で構成された画線(71、72)は、異なるパターンで図示しているが、実際には、潜像の図柄に応じて、「青色と黄色」や「緑色と赤色」等の補色関係にある画線が隣接した構成となる。図25(b)に示す有色万線模様(70’)においては、位相変調模様(20)の重なる配置により、画線(71)又は画線(72)の色が潜像として視認することができ、色彩が豊かな潜像を視認することができる。 In addition, in the colored parallel line pattern (70') described in JP-A-2018-199323, the drawing line (71) shown in FIG. In addition to the configuration in which the drawing line (72) is composed of the remaining color in the combination of complementary colors, the drawing line (72) is partially composed of the remaining color in the drawing line (71), as shown in the enlarged view of FIG. 25(b). The colors may be different. In that case, each part of the object line (71) composed of a different color has a different color of the adjacent object line (72). In the enlarged view of FIG. 25(b), the lines (71, 72) composed of different colors are shown in different patterns; This is a configuration in which lines of complementary colors such as ``and yellow'' or ``green and red'' are adjacent to each other. In the colored line pattern (70') shown in FIG. 25(b), the color of the object line (71) or object line (72) can be visually recognized as a latent image due to the overlapping arrangement of the phase modulation pattern (20). A latent image with rich colors can be visually recognized.

図26は、基材(2)の上に、万線模様(70)、隠蔽層(80)、潜像発現模様(10)が順に積層された潜像模様形成体(1)を示す図であり、万線模様(70)と潜像発現模様(10)の構成及び各模様を構成する画線が重なる配置については、前述したとおりであるため、説明を省略する。 FIG. 26 is a diagram showing a latent image pattern forming body (1) in which a line pattern (70), a concealing layer (80), and a latent image expression pattern (10) are laminated in this order on a base material (2). The configurations of the line pattern (70) and the latent image expression pattern (10) and the arrangement in which the lines constituting each pattern overlap are the same as described above, and therefore the description thereof will be omitted.

図26に示す潜像模様形成体(1)において隠蔽層(80)は、潜像発現模様(10)側から目視で観察した際に、その下の万線模様(70)を隠蔽し、透過光下で万線模様(70)が視認できるための光透過性を有する。隠蔽層(80)は、印刷用の黒以外の色の色材、例えば、一般的なプロセスCMYインキや白インキによって形成され、万線模様(70)を覆い隠すように設けられる。万線模様(70)を隠蔽する作用は、隠蔽層(80)の印刷濃度が濃い程、隠蔽効果が高く、用いる色材に含まれる顔料の粒径や、色材の厚さによっても調整可能であり、万線模様(70)が反射光下で隠蔽されるように、適宜、調整すればよい。なお、前述した隠蔽層(80)を形成する色材であれば、透過光下で万線模様(70)が透けて見え、位相変調模様(20)と合成される作用が生じるが、黒色の色材は、光が透過しないため、隠蔽層(80)を形成する材料として用いることができない。また、隠蔽層(80)を形成する色材は、透過光下の観察で視認される潜像模様の色に影響しないため、白インキを用いることが好ましい。 In the latent image pattern forming body (1) shown in FIG. 26, the hiding layer (80) hides the underlying line pattern (70) when visually observed from the latent image expression pattern (10) side, and transmits through the latent image pattern forming body (1). It has light transparency so that the line pattern (70) can be seen under light. The hiding layer (80) is formed of a coloring material other than black for printing, such as general process CMY ink or white ink, and is provided so as to cover the line pattern (70). The effect of hiding the line pattern (70) is higher as the printing density of the hiding layer (80) is higher, and can be adjusted by adjusting the particle size of the pigment contained in the coloring material used and the thickness of the coloring material. , and may be adjusted as appropriate so that the parallel line pattern (70) is hidden under reflected light. Note that if the coloring material forms the above-mentioned concealing layer (80), the parallel line pattern (70) will be visible under transmitted light and will be combined with the phase modulation pattern (20), but black Since the coloring material does not transmit light, it cannot be used as a material for forming the hiding layer (80). Further, it is preferable to use white ink as the coloring material forming the hiding layer (80) because it does not affect the color of the latent image pattern that is visually recognized when observed under transmitted light.

図26に示す潜像模様形成体(1)は、隠蔽層(80)を備えることによって、目視で観察した際に潜像発現模様(10)による可視模様(30)が現す図柄が視認され、透過光下で観察した際に位相変調模様(20)と万線模様(70)が合成されて潜像を視認することができる。 The latent image pattern forming body (1) shown in FIG. 26 is provided with the hiding layer (80), so that when visually observed, the pattern expressed by the visible pattern (30) formed by the latent image expression pattern (10) is visually recognized. When observed under transmitted light, the phase modulation pattern (20) and the parallel line pattern (70) are combined and a latent image can be visually recognized.

本発明において、潜像発現模様(10)は、前述した基材(2)に印刷して形成される構成の他に、PCやスマートフォン、携帯電話等の液晶ディスプレイや、有機ELディスプレイによって画面上に表示される構成でもよい。この場合、潜像発現模様(10)は、光の3原色であるRGBの光によって構成され、RGBの光とそれらの光の強弱により、任意の色で表現することができる。また、万線模様(70)は、段落0038で説明した万線フィルタの構成でもよいし、潜像発現模様(10)と同様に、RGBの光とそれらの光の強弱により、任意の色で表現された構成でもよい。仮に、万線模様(70)が万線フィルタの構成の場合、潜像発現模様(10)を表示する画面上に万線フィルタを重ねることで、潜像模様を視認することができる。 In the present invention, in addition to being formed by printing on the base material (2) described above, the latent image expression pattern (10) can also be formed on a screen by a liquid crystal display of a PC, a smartphone, a mobile phone, or an organic EL display. The configuration shown in . In this case, the latent image expression pattern (10) is composed of RGB light, which is the three primary colors of light, and can be expressed in any color by changing the RGB light and the strength of these lights. Furthermore, the line pattern (70) may have the configuration of the line filter described in paragraph 0038, or, like the latent image expression pattern (10), it can be formed into any color by using RGB light and the strength of those lights. It may also be an expressed configuration. If the line pattern (70) is configured as a line filter, the latent image pattern can be visually recognized by superimposing the line filter on the screen displaying the latent image expression pattern (10).

また、RGBの光によって潜像発現模様(10)が構成されディスプレイに表示される場合、画像処理ソフトウェアである、例えば、Photoshop(登録商標)において、潜像発現模様(10)のRGB画像を表示させ、万線模様(70)に相当するRGB画像を重ねることで、潜像を視認することができる。また、位相変調模様(20)が現す潜像を表示させる方法については、位相変調模様(20)の画像を部分的に加算又は減算処理を行うことでも可能であり、Photoshop(登録商標)の画像処理機能を用いて行ってもよいし、潜像模様を表示させる処理のみを行う専用のソフトを用いてもよい。 Further, when the latent image pattern (10) is formed by RGB light and displayed on a display, the RGB image of the latent image pattern (10) is displayed in image processing software such as Photoshop (registered trademark). By overlapping the RGB images corresponding to the line pattern (70), the latent image can be visually recognized. In addition, as for the method of displaying the latent image that the phase modulation pattern (20) appears, it is also possible to partially perform addition or subtraction processing on the image of the phase modulation pattern (20). This may be done by using a processing function, or by using dedicated software that only performs the process of displaying the latent image pattern.

本発明の潜像発現模様(1)において、位相変調模様(20)を複数の色の画線によって形成する構成について説明する。基本的な構成は、本出願人が提案している特願2018-220872号公報に記載されており、図27を用いて説明する。 In the latent image expression pattern (1) of the present invention, a configuration in which the phase modulation pattern (20) is formed by image lines of a plurality of colors will be described. The basic configuration is described in Japanese Patent Application No. 2018-220872 proposed by the present applicant, and will be explained using FIG. 27.

図27(a)は、特願2018-220872号公報に記載の位相変調万線模様(120)の構成を示す図であり、位相変調万線模様(120)は、図27(a)の拡大図に示すように、有色の画線が第1の方向(V1)に一定のピッチ(P)で配置された万線において、部分的に位相が異なることで、「円形」を現す潜像部(120A)と背景部(120B)に区分けされている。位相変調万線模様(120)の特徴は、図27(a)の拡大図に示すように、潜像部(120A)を構成する画線の中心線を境として、画線の色が異なり、異なる色の画線(121A、121A)は、補色関係となっている。また、背景部(120B)を構成する画線(121B)は、補色関係の画線(121A、121A)の色の混合色である無彩色となっている。したがって、潜像部(120A)と背景部(120B)は、同じ無彩色の色であることから、反射光下で観察すると、潜像部(120A)と背景部(120B)を構成する画線の色の差を視認することができない。 FIG. 27(a) is a diagram showing the configuration of the phase modulation parallel line pattern (120) described in Japanese Patent Application No. 2018-220872, and the phase modulation parallel line pattern (120) is an enlarged version of FIG. 27(a). As shown in the figure, in a parallel line in which colored lines are arranged at a constant pitch (P) in the first direction (V1), the latent image area appears as a "circle" due to partially different phases. It is divided into a background area (120A) and a background area (120B). The feature of the phase modulation parallel line pattern (120) is that, as shown in the enlarged view of FIG. Objects of different colors (121A 1 , 121A 2 ) have a complementary color relationship. Furthermore, the object line (121B) constituting the background portion (120B) is an achromatic color that is a mixture of the colors of the complementary color object lines (121A 1 , 121A 2 ). Therefore, since the latent image part (120A) and the background part (120B) have the same achromatic color, when observed under reflected light, the image forming the latent image part (120A) and the background part (120B) It is not possible to visually recognize the difference in color.

図27(a)に示す位相変調万線模様(120)と位相変調万線模様(120)に対応した万線模様(図示せず)が形成された潜像模様形成体を透過光下で観察すると、位相変調万線模様(120)と万線模様の配置により、「円形」が、画線(121A)の色又は画線(121A)の色で視認される。 Observe under transmitted light the latent image pattern forming body in which the phase modulation line pattern (120) shown in FIG. 27(a) and the line pattern (not shown) corresponding to the phase modulation line pattern (120) are formed. Then, due to the arrangement of the phase modulated line pattern (120) and the line pattern, the "circle" is visually recognized in the color of the object line (121A 1 ) or the color of the object line (121A 2 ).

図27(b)は、図27(a)の位相変調万線模様(120)の要部における別の例を拡大して示す図であり、潜像部(120A)を構成する画線(121A、121A)と同じ色を、背景部(120B)を構成する画線の中心を境として配置した例である。画線(121A、121A)が補色関係であれば、画線(121A、121A)の色を背景部(120B)の画線に用いることで、背景部(120B)を無彩色の色とすることができる。 FIG. 27(b) is an enlarged view of another example of the main part of the phase modulation parallel line pattern (120) in FIG. 27(a), in which the image line (121A 1 , 121A 2 ) are arranged with the center of the drawing line forming the background portion (120B) as the border. If the drawing lines (121A 1 , 121A 2 ) are complementary colors, by using the color of the drawing lines (121A 1 , 121A 2 ) for the drawing line of the background part (120B), the background part (120B) can be made into an achromatic color. It can be any color.

また、図27(c)は、図27(a)及び図27(b)に示す位相変調万線模様(120)の要部とは別の例を拡大して示す図であり、画線(121A)の中で、部分的に色が異なってもよい。その場合、異なる色で構成される画線(121A)の各部毎に、隣接する画線(121A)の色が異なり、かつ、隣接する画線の各部の色は、補色関係となっている。図27(b)に示す位相変調万線模様(120)においては、万線模様の重なる配置により、画線(121A)又は画線(121A)の色が潜像模様として視認することができ、色彩が豊かな潜像模様を視認することができる。 Moreover, FIG. 27(c) is an enlarged view showing another example of the main part of the phase modulation line pattern (120) shown in FIGS. 27(a) and 27(b). 121A 1 ), the colors may be partially different. In that case, each part of the object line (121A 1 ) composed of a different color has a different color in the adjacent object line (121A 2 ), and the colors of each part of the adjacent object line have a complementary color relationship. There is. In the phase modulation line pattern (120) shown in FIG. 27(b), the color of the object line (121A 1 ) or object line (121A 2 ) can be visually recognized as a latent image pattern due to the overlapping arrangement of the line patterns. A latent image pattern with rich colors can be visually recognized.

図27に示す特願2018-220872号公報に記載されている位相変調模様(120)においては、第1の実施の形態の潜像発現模様(10)で説明した位相変調模様(20)と置き換えて用いることができる。一方、第2の実施の形態で説明した位相変調模様(20)に用いる場合は、図27に示す潜像部(120A)の画線と同様にして、第1の潜像画線(21A)と第2の潜像画線(21A)のそれぞれの中心線を境として、画線の色を異ならせ、かつ、異色の画線を補色関係とすればよい(図示せず)。 The phase modulation pattern (120) described in Japanese Patent Application No. 2018-220872 shown in FIG. 27 is replaced with the phase modulation pattern (20) described in the latent image development pattern (10) of the first embodiment. It can be used as On the other hand, when used for the phase modulation pattern (20) described in the second embodiment, the first latent image image (21A 1 ) and the second latent image line (21A 2 ), the colors of the lines may be made different from each other, and the lines of different colors may have a complementary color relationship (not shown).

本発明の潜像発現模様は、紙、金属、ガラス、プラスチック等の1種以上から構成される基材の少なくとも一部に、基材と異なる色の有色のインキを用いて印刷して形成することができる。例えば、銀行券、切手、旅券、免許証や保険証等の各種証明書、有価証券等のセキュリティ印刷物に、本発明の潜像発現模様を用いることができる。
潜像発現模様を印刷する手段としては、特に限定されない。例えば、オフセット印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、凹版印刷、凸版印刷等の印刷機を用いた印刷手段や、インクジェットプリンタやレーザプリンタ等を用いた印刷手段等が挙げられる。
また、本発明の潜像発現模様は、レーザ照射等により基材の一部に形成できる。なお、本明細書において、潜像発現模様が形成された基材を「潜像模様形成体」という場合がある。
The latent image expression pattern of the present invention is formed by printing on at least a part of a base material made of one or more types of paper, metal, glass, plastic, etc. using colored ink that is different from the base material. be able to. For example, the latent image pattern of the present invention can be used for security printed materials such as banknotes, stamps, passports, various certificates such as driver's licenses and insurance cards, and securities.
The means for printing the latent image pattern is not particularly limited. Examples include printing means using printing machines such as offset printing, flexographic printing, screen printing, intaglio printing, and letterpress printing, and printing means using inkjet printers, laser printers, and the like.
Further, the latent image pattern of the present invention can be formed on a part of the base material by laser irradiation or the like. In addition, in this specification, the base material on which the latent image expression pattern is formed may be referred to as a "latent image pattern forming body."

本発明の潜像発現模様データの作成方法の第1及び第2の実施態様は、概略、図28に示されるフロー図で表すことができる。
第1ステップ(S1)は、位相変調模様データ(1)の生成ステップであり、概略、図29に示されるフローチャートで表すことができる。
第2ステップ(S2)は、可視模様用マスクデータ(2)の生成ステップであり、概略、図30に示されるフローチャートで表すことができる。
第3ステップ(S3)は、可視模様データ(3)の生成ステップであり、概略、図31に示されるフローチャートで表すことができる。
第4ステップ(S4)は、潜像発現模様データ(4)の生成ステップであり、第1ステップ(S1)で生成した位相変調模様データ(1)と、第3ステップ(S3)で生成した可視模様データ(3)を合成することで、潜像発現模様データを生成するものである。
以下、各工程(S1、S2、S3、S4)の詳細に説明する。
The first and second embodiments of the method for creating latent image pattern data of the present invention can be schematically represented by the flow diagram shown in FIG. 28.
The first step (S1) is a step of generating phase modulation pattern data (1), and can be roughly represented by the flowchart shown in FIG. 29.
The second step (S2) is a step of generating visible pattern mask data (2), and can be roughly represented by the flowchart shown in FIG. 30.
The third step (S3) is a step of generating visible pattern data (3), and can be roughly represented by the flowchart shown in FIG. 31.
The fourth step (S4) is a step of generating latent image appearance pattern data (4), in which the phase modulation pattern data (1) generated in the first step (S1) and the visible image generated in the third step (S3) are used. Latent image expression pattern data is generated by combining the pattern data (3).
Each step (S1, S2, S3, S4) will be explained in detail below.

図29は、図28に示す位相変調模様データの生成工程(S1)の詳細を示すフロー図であり、位相変調模様データの生成工程(S1)は、特願2018-220872号公報に記載の方法と同様にして行うことができる。図29を用いて、位相変調模様データの生成工程(S1)の詳細について説明する。
位相変調模様データの生成方法としては、従来公知の方法を採用することができる。
例えば、位相変調模様における潜像部が現す図柄を基画像として設定する基画像設定工程、
前記基画像の濃淡を反転して、反転画像を生成する階調反転処理工程、
前記基画像に第1の臨界値配列画像を適用して、位相変調模様における潜像部を構成する第1の潜像構成画線の2値画像を生成する第1の臨界値配列画像変換処理工程、
前記反転画像に第1の臨界値配列画像を適用して、位相変調模様における背景部を構成する第2の背景部構成画線の2値画像を生成する第2の臨界値配列画像変換処理工程、
前記第1の潜像構成画線の2値画像と、前記第2の背景部構成画線の2値画像の合成を含む、位相変調模様データの生成工程、
により、位相変調模様データを生成することができる。
FIG. 29 is a flowchart showing details of the phase modulation pattern data generation step (S1) shown in FIG. It can be done in the same way. The details of the phase modulation pattern data generation step (S1) will be explained using FIG. 29.
As a method for generating phase modulation pattern data, a conventionally known method can be adopted.
For example, a base image setting step of setting a pattern expressed by a latent image part in a phase modulation pattern as a base image;
a gradation inversion processing step of inverting the shading of the base image to generate an inverted image;
a first critical value array image conversion process that applies a first critical value array image to the base image to generate a binary image of a first latent image constituent image that constitutes a latent image portion in the phase modulation pattern; process,
a second critical value array image conversion process step of applying the first critical value array image to the inverted image to generate a binary image of the second background part constituent lines that constitute the background part in the phase modulation pattern; ,
a step of generating phase modulation pattern data, including combining a binary image of the first latent image constituent lines and a binary image of the second background part constituent lines;
Accordingly, phase modulation pattern data can be generated.

本発明における基画像は、有色の画像であり、白色と白以外の1つの色から形成されるものである。また、基画像は、グレースケール処理された画像であってもよい。基画像を構成する色が、黒色以外の色である場合、グレースケール処理された画像は、当該色の濃淡により表された画像である。本発明における「グレースケール」は、白黒におけるグレースケールだけではなく、グレースケールにおける黒色を所定の色に代えて形成させたものも含んでいる。 The base image in the present invention is a colored image, and is formed from white and one color other than white. Further, the base image may be an image that has been subjected to grayscale processing. When the color constituting the base image is a color other than black, the grayscale-processed image is an image expressed by the shading of the color. The term "grayscale" in the present invention includes not only a black and white grayscale, but also a grayscale in which black is replaced with a predetermined color.

図29に示す符号(f1)は、位相変調模様(20)に埋め込む潜像の図柄の基画像をグレースケール画像の形式で設定する工程(以降、「基画像設定工程(f1)」という。)であり、デジタルカメラによる撮像した画像や、あらかじめデータベースに登録された画像を用いる。なお、画像がグレースケール画像の場合、図30のように、そのまま基画像(101)として設定し、仮にRGB画像、モノクロの2値画像の場合、グレースケール変換を行ってグレースケール画像(8bit)に変換して基画像(101)とする。 The code (f1) shown in FIG. 29 is a step of setting the base image of the latent image pattern to be embedded in the phase modulation pattern (20) in the form of a grayscale image (hereinafter referred to as "base image setting step (f1)"). This uses images captured by a digital camera or images registered in a database in advance. Note that if the image is a grayscale image, it is set as the base image (101) as shown in Figure 30, and if it is an RGB image or a monochrome binary image, it is converted to a grayscale image (8 bits) by performing grayscale conversion. The image is converted into a base image (101).

図30(a)は、基画像設定工程(f1)として、データベースにあらかじめ登録されたモノクロの2値画像(100)を用いた例を示しており、図30(a)のモノクロの2値画像(100)において、「円形」の図柄は「1」の濃度データを備え、その周りは「0」の濃度データを備えた構成となっている。図30(b)は、グレースケール変換によりグレースケール画像に変換した基画像(101)を示す図であり、この場合、「円形」の図柄は「255」の濃度データを備え、その周りは「0」の濃度データを備えた構成に変換される。 FIG. 30(a) shows an example in which a monochrome binary image (100) registered in advance in the database is used as the base image setting step (f1), and the monochrome binary image in FIG. 30(a) In (100), the "circular" pattern has density data of "1", and the surrounding area has density data of "0". FIG. 30(b) is a diagram showing a base image (101) converted into a grayscale image by grayscale conversion. In this case, the "circular" pattern has density data of "255", and the surrounding area is " 0'' density data.

図29に示す符号(f2)は、図30(b)に示すグレースケールの基画像(101)を、縦方向平均化処理によって、位相変調模様(20)を構成する画線(潜像画線と背景画線)のピッチ(P1)の2倍数で、画素のグレーレベル(濃度)を縦方向に平均化する工程(以降、「縦方向平均化処理(f2)」という。)である。縦方向平均化処理工程(f2)は、第2の実施の形態の潜像発現模様(10)に係る潜像発現模様データを作成する場合に行う処理であり、第1の実施の形態の潜像発現模様(10)に係る潜像発現模様データを作成する場合は行わない。 The code (f2) shown in FIG. 29 indicates the image line (latent image image) that constitutes the phase modulation pattern (20) by vertically averaging the grayscale base image (101) shown in FIG. 30(b). This is a step (hereinafter referred to as "vertical averaging process (f2)") of vertically averaging the gray level (density) of the pixels at twice the pitch (P1) of the pixels (and background lines). The vertical averaging processing step (f2) is a process performed when creating latent image development pattern data related to the latent image development pattern (10) of the second embodiment, and This step is not performed when creating latent image expression pattern data related to image expression pattern (10).

この平均化については空間フィルタリング等の公知の画像処理技術を用いればよい。例えば、位相変調模様(20)を構成する画線のピッチ(P1)が16ピクセルであった場合、縦方向平均化処理工程(f2)で平均化される画素は32ピクセルとなり、図30(b)に示すグレースケールの基画像(101)を縦方向32ピクセル毎に平均化処理を行うことで、図31に示す平均化画像(102)が得られる。なお、縦方向平均化処理工程(f2)において、横方向の大きさは、任意であり、1ピクセルでもよいし、複数のピクセルでもよい。 For this averaging, a known image processing technique such as spatial filtering may be used. For example, if the pitch (P1) of the lines constituting the phase modulation pattern (20) is 16 pixels, the number of pixels averaged in the vertical averaging process (f2) is 32 pixels, which is shown in FIG. 30(b). ) The averaged image (102) shown in FIG. 31 is obtained by averaging the gray scale base image (101) shown in FIG. 31 every 32 pixels in the vertical direction. Note that in the vertical averaging processing step (f2), the horizontal size is arbitrary and may be one pixel or a plurality of pixels.

図29に示す符号(f3)は、基画像(101)又は平均化画像(102)の濃淡を反転して反転画像(102、102’)を作成する工程(以降、「階調反転処理(f3)」という。)であり、位相変調模様生成手段によって処理される。濃淡を反転する処理は、例えば、モノクロの2値画像において、黒の画像が白の画像に変換され、白の画像が黒の画像に変換されることであり、更に、グレースケール画像においては、濃い黒の画像は、淡い黒の画像に変換され、淡い黒の画像は、濃い黒の画像に、それぞれ階調に応じて変換される。図32は、階調反転処理工程(f3)によって生成された画像を示す図であり、図32(a)は、基画像(101)の濃淡が反転された反転画像(102)を示し、図32(b)は、平均画像(101)の濃淡が反転された反転画像(102’)を示している。 The code (f3) shown in FIG. 29 refers to the step (hereinafter referred to as "gradation inversion processing (f3) )") and is processed by the phase modulation pattern generation means. For example, in a monochrome binary image, the process of reversing the shading is converting a black image into a white image, and converting a white image into a black image.Furthermore, in a grayscale image, A deep black image is converted to a light black image, and a light black image is converted to a deep black image according to the respective gradations. FIG. 32 is a diagram showing an image generated by the gradation inversion processing step (f3), and FIG. 32(b) shows an inverted image (102') in which the shading of the average image (101) is inverted.

図29に示す符号(f4)は、潜像画線(21A)に相当する2値画像を生成する工程であり、符号(f4)は、背景画線(21B)に相当する2値画像を生成する工程であり、例えば、臨界値配列画像を適用する処理によって変換することができる。まず、第1の実施の形態における位相変調模様(20)に係るデータを生成する処理について説明する。なお、図30(b)に示す基画像(101)の破線で囲む領域(16a)と図32(a)に示す反転画像(102)の破線で囲む領域(17a)を変換する処理について説明する。 The symbol (f4) shown in FIG. 29 is a step of generating a binary image corresponding to the latent image line (21A), and the symbol (f4) is a step of generating a binary image corresponding to the background image line (21B). For example, it can be converted by a process that applies a critical value array image. First, a process for generating data related to the phase modulation pattern (20) in the first embodiment will be described. Note that processing for converting the region (16a) surrounded by a broken line in the base image (101) shown in FIG. 30(b) and the region (17a) surrounded by a broken line in the inverted image (102) shown in FIG. 32(a) will be explained. .

図33(a)は、図30(b)に示す基画像(101)の破線で囲む領域(16a)の拡大図であり、基画像(101)の所定の領域の濃度情報を基に、臨界値配列画像(以降、「第1の臨界値配列画像」という。)を適用して、図33(b)に示す2値画像に変換する。
なお、基画像(101)の所定の領域とは、図33(a)に示す画像において、位相変調模様(20)を構成する画線のピッチ(P1)に相当する16ピクセル分の領域(h)のことであり、図33(a)に示す画像において、横方向は任意であるが、ここでは、8ピクセル分の領域(i)とした例で説明する。
FIG. 33(a) is an enlarged view of the region (16a) surrounded by a broken line in the base image (101) shown in FIG. 30(b), and the critical A value array image (hereinafter referred to as "first critical value array image") is applied to convert it into a binary image shown in FIG. 33(b).
Note that the predetermined area of the base image (101) is a 16-pixel area (h ), and in the image shown in FIG. 33(a), the horizontal direction is arbitrary, but here, an example will be explained in which the area (i) is 8 pixels.

本発明において、第1の臨界値配列画像とは、2値画像に変換前の画像である基画像(101)の所定の領域の濃度情報に応じて、2値画像に変換するためのパターン画像であり、あらかじめ、データベースに登録されている。また、第1の臨界値配列画像は、潜像画線の位相に2値画像を変換するもので、図33(b)において、潜像画線の位相に相当する領域を符号「A」で示し、背景画線の位相に相当する領域を符号「B」で示している。また、第1の臨界値配列画像の大きさは、濃度情報を参照する基画像(101)の所定の領域の大きさと同じ大きさであり、ここでは、縦方向に16ピクセル、横方向に8ピクセルのパターン画像である。 In the present invention, the first critical value array image is a pattern image for converting into a binary image according to the density information of a predetermined area of the base image (101), which is an image before conversion into a binary image. , and is registered in the database in advance. In addition, the first critical value array image is for converting a binary image into the phase of the latent image image, and in FIG. The region corresponding to the phase of the background image is indicated by the symbol "B". Further, the size of the first critical value array image is the same size as the predetermined area of the base image (101) that refers to the density information, and here, the size is 16 pixels in the vertical direction and 8 pixels in the horizontal direction. This is a pixel pattern image.

図33(a)に示す基画像(101)に対して、第1の臨界値配列画像と同じ大きさの領域毎に2値画像に変換することで、図33(b)に示す第1の2値画像(18A)が得られる。第1の臨界値配列画像によって変換する2値画像は、図33(a)に示す基画像(101)の所定の領域の濃度が高い程、変換された2値画像の面積が大きく変換される。また、第1の臨界値配列画像を適用して2値画像に変換する処理により、図33(a)に示す基画像(101)の所定の領域の濃度が高い程、潜像画線の位相に相当する領域(A)と背景画線の位相に相当する領域(B)の境界から、順次、面積が大きく変換される。図33(a)に示す基画像(101)において、所定の領域の濃度が同じであることから、図33(b)に示す所定の領域において変換された2値画像の面積も同じになる。
なお、臨界値配列画像を適用する処理については、例えば、Adobe(登録商標)社製の画像処理ソフトウェアであるPhotoshop(登録商標)の、モード変換処理機能において、あらかじめ作成したカスタムパターンを用いて行うことができる。
By converting the base image (101) shown in FIG. 33(a) into a binary image for each region of the same size as the first critical value array image, the first critical value array image shown in FIG. 33(b) is converted into a binary image. A binary image (18A) is obtained. In the binary image converted by the first critical value array image, the higher the density of the predetermined area of the base image (101) shown in FIG. 33(a), the larger the area of the converted binary image is converted. . Furthermore, by applying the first critical value array image to convert it into a binary image, the higher the density of the predetermined area of the base image (101) shown in FIG. 33(a), the higher the phase of the latent image line. Starting from the boundary between the region (A) corresponding to the phase of the background image and the region (B) corresponding to the phase of the background image, the area is successively converted to a larger value. In the base image (101) shown in FIG. 33(a), since the density of the predetermined region is the same, the area of the converted binary image in the predetermined region shown in FIG. 33(b) is also the same.
Note that the process of applying the critical value array image is performed, for example, using a custom pattern created in advance in the mode conversion processing function of Photoshop (registered trademark), which is an image processing software manufactured by Adobe (registered trademark). be able to.

図33(c)は、基画像(101)全体に第1の臨界値配列画像を適用して2値画像に変換された第1の2値画像(18A)を示したものであり、図33(b)示す第1の2値画像(18A)は、図33(c)の破線で囲む領域(18a1)に配置される。 FIG. 33(c) shows the first binary image (18A) which has been converted into a binary image by applying the first critical value array image to the entire base image (101). The first binary image (18A) shown in FIG. 33(b) is placed in the area (18a1) surrounded by the broken line in FIG. 33(c).

図34(a)は、図32(a)に示す反転画像(102’)の破線で囲む領域(17a)の拡大図であり、反転画像(102’)の所定の領域の濃度情報を基に、臨界値配列画像(以降、「第2の臨界値配列画像」という。)を適用して、図34(b)に示す2値画像に変換する。なお、反転画像(102)の所定の領域とは、図34(a)に示す画像において、位相変調模様(20)を構成する画線のピッチ(P1)に相当する16ピクセル分の領域(h)のことであり、図34(a)に示す画像において、横方向は任意であるが、ここでは、8ピクセル分の領域(i)とした例で説明する。 FIG. 34(a) is an enlarged view of a region (17a) surrounded by a broken line in the reversed image (102') shown in FIG. 32(a). , a threshold value array image (hereinafter referred to as "second threshold value array image") is applied to convert it into a binary image shown in FIG. 34(b). Note that the predetermined area of the inverted image (102) is a 16-pixel area (h ), and in the image shown in FIG. 34(a), the horizontal direction is arbitrary, but here, an example will be explained in which the area (i) is 8 pixels.

本発明において、第2の臨界値配列画像とは、2値画像に変換前の画像である反転画像(102)の所定の領域の濃度情報に応じて、2値画像に変換するためのパターン画像であり、あらかじめデータベースに登録されている。また、第2の臨界値配列画像は、背景画線の位相に2値画像を変換するもので、図34(b)において、潜像画線の位相に相当する領域を符号「A」で示し、背景画線の位相に相当する領域を符号「B」で示している。また、第2の臨界値配列画像の大きさは、濃度情報を参照する反転画像(102)の所定の領域の大きさと同じ大きさであり、ここでは、縦方向に16ピクセル、横方向に8ピクセルのパターン画像である。 In the present invention, the second critical value array image is a pattern image for converting into a binary image according to the density information of a predetermined area of the inverted image (102), which is an image before conversion into a binary image. , and is registered in the database in advance. The second critical value array image is for converting a binary image into the phase of the background image, and in FIG. , an area corresponding to the phase of the background image is indicated by the symbol "B". The size of the second critical value array image is the same size as the predetermined area of the inverted image (102) that refers to the density information, and here, the size is 16 pixels in the vertical direction and 8 pixels in the horizontal direction. This is a pixel pattern image.

図34(a)に示す反転画像(102)に対して、第2の臨界値配列画像と同じ大きさの領域毎に2値画像に変換することで、図34(b)に示す第2の2値画像(18B)が得られる。第2の臨界値配列画像によって変換する2値画像は、図34(a)に示す反転画像(102)の所定の領域の濃度が高い程、変換された2値画像の面積が大きく変換される。また、第2の臨界値配列画像を適用して2値画像に変換する処理により、図34(a)に示す反転画像(102)の所定の領域の濃度が高い程、潜像画線の位相に相当する領域(A)と背景画線の位相に相当する領域(B)の境界から、順次、面積が大きく変換される。 By converting the inverted image (102) shown in FIG. 34(a) into a binary image for each region of the same size as the second critical value array image, the second critical value array image (102) shown in FIG. A binary image (18B) is obtained. For the binary image to be converted using the second critical value array image, the higher the density of the predetermined area of the inverted image (102) shown in FIG. 34(a), the larger the area of the converted binary image is converted. . In addition, by applying the second critical value array image to convert into a binary image, the higher the density of a predetermined area of the inverted image (102) shown in FIG. 34(a), the higher the phase of the latent image line. Starting from the boundary between the region (A) corresponding to the phase of the background image and the region (B) corresponding to the phase of the background image, the area is successively converted to a larger value.

図34(c)は、反転画像(102)全体に第2の臨界値配列画像を適用して2値画像に変換された第2の2値画像(18B)を示したものであり、図34(b)示す第2の2値画像(18B)は、図34(c)の破線で囲む領域(18b1)に配置される。 FIG. 34(c) shows a second binary image (18B) that has been converted into a binary image by applying the second critical value array image to the entire inverted image (102). The second binary image (18B) shown in FIG. 34(b) is placed in the area (18b1) surrounded by the broken line in FIG. 34(c).

続いて、第2の実施の形態における位相変調模様(20)に係るデータを生成する処理について説明する。なお、図31に示す平均化画像(102)の破線で囲む領域(16a)と図32(b)に示す反転画像(102’)の破線で囲む領域を変換する処理について説明する。 Next, a process for generating data related to the phase modulation pattern (20) in the second embodiment will be described. Note that processing for converting the area (16a) surrounded by the broken line in the averaged image (102) shown in FIG. 31 and the area surrounded by the broken line in the inverted image (102') shown in FIG. 32(b) will be described.

図35(a)は、図31に示す平均化画像(102)の破線で囲む領域(16a)の拡大図であり、平均化画像(102)の所定の領域の濃度情報を基に、第1の臨界値配列画像を適用して、図35(b)に示す2値画像に変換する。第1の臨界値配列画像を適用して2値画像に変換する処理は、前述のとおりであるが、縦方向平均化処理工程(f2)によって縦方向に平均化した平均化画像(102)を変換する点が異なる。
図35(a)に示す平均化画像(102)は、下側から上側に向かう所定の領域(h)毎に、徐々に濃度が淡くなっている画像であり、所定の領域(h)毎の濃度を基に第1の臨界値配列画像を適用して変換すると、第1の2値画像(18A)は、図35(b)に示すように、徐々に面積が小さくなって変換される。
FIG. 35(a) is an enlarged view of the area (16a) surrounded by the broken line of the averaged image (102) shown in FIG. The critical value array image is applied to convert it into a binary image shown in FIG. 35(b). The process of applying the first critical value array image to convert it into a binary image is as described above. The difference is in the point of conversion.
The averaged image (102) shown in FIG. 35(a) is an image whose density gradually becomes lighter in each predetermined region (h) from the bottom to the top. When the first threshold array image is applied and converted based on the density, the first binary image (18A) is converted so that its area gradually becomes smaller, as shown in FIG. 35(b).

図35(c)は、平均化画像(102)全体に第1の臨界値配列画像を適用して2値画像に変換された第1の2値画像(18A)を示したものであり、図35(b)に示す第1の2値画像(18A)は、図35(c)の破線で囲む領域(18a1)に配置される。 FIG. 35(c) shows the first binary image (18A) that has been converted into a binary image by applying the first critical value array image to the entire averaged image (102). The first binary image (18A) shown in FIG. 35(b) is placed in the area (18a1) surrounded by the broken line in FIG. 35(c).

図36(a)は、図32(b)に示す反転画像(102’)の破線で囲む領域(17a)の拡大図であり、反転画像(102’)の所定の領域の濃度情報を基に、第2の臨界値配列画像を適用して、図36(b)に示す2値画像に変換する。第2の臨界値配列画像を適用して2値画像に変換する処理は、前述のとおりであるが、縦方向平均化処理工程(f2)によって縦方向に平均化した平均化画像(102)を反転した反転画像(102‘)を変換する点が異なる。図36(a)に示す反転画像(102’)は、下側から上側に向かう所定の領域(h)毎に、徐々に濃度が濃くなっている画像であり、所定の領域(h)毎の濃度を基に第2の臨界値配列画像を適用して変換すると、第2の2値画像(18B)は、図36(b)に示すように、徐々に面積が大きくなって変換される。 FIG. 36(a) is an enlarged view of the region (17a) surrounded by a broken line in the reversed image (102') shown in FIG. , the second critical value array image is applied to convert it into a binary image shown in FIG. 36(b). The process of applying the second critical value array image to convert it into a binary image is as described above. The difference is that the reversed image (102') is converted. The inverted image (102') shown in FIG. 36(a) is an image in which the density gradually increases in each predetermined area (h) from the bottom to the top. When the second threshold value array image is applied and converted based on the density, the second binary image (18B) is converted so that the area gradually increases as shown in FIG. 36(b).

図36(c)は、反転画像(102’)全体に第2の臨界値配列画像を適用して2値画像に変換された第2の2値画像(18B)を示したものであり、図36(b)示す第2の2値画像(18B)は、図36(c)の破線で囲む領域(18b1)に配置される。 FIG. 36(c) shows a second binary image (18B) that has been converted into a binary image by applying the second critical value array image to the entire inverted image (102'). The second binary image (18B) shown in FIG. 36(b) is placed in the area (18b1) surrounded by the broken line in FIG. 36(c).

図29に示す符号(f6)は、第1及び第2の臨界値配列画像変換処理工程(f4、f5)によって得られた第1の2値画像(18A)と第2の2値画像(18B)を合成する工程(以降、「合成(f6)」という。)であり、第1の実施の形態の位相変調模様(20)に係るデータとして、図33(c)に示す第1の2値画像(18A)と、図34(c)に示す第2の2値画像(18B)を合成して、図37(a)に示す位相変調模様の画像(19)を作成する。また、第2の実施の形態の位相変調模様(20)に係るデータとして、図35(c)に示す第1の2値画像(18A)と、図36(c)に示す第2の2値画像(18B)を合成して、図37(b)に示す位相変調模様の画像(19)を作成する。 The code (f6) shown in FIG. ) (hereinafter referred to as "synthesis (f6)"), the first binary value shown in FIG. 33(c) is the data related to the phase modulation pattern (20) of the first embodiment. The image (18A) and the second binary image (18B) shown in FIG. 34(c) are combined to create the phase modulation pattern image (19) shown in FIG. 37(a). Furthermore, as data related to the phase modulation pattern (20) of the second embodiment, a first binary image (18A) shown in FIG. 35(c) and a second binary image (18A) shown in FIG. 36(c) are used. The images (18B) are combined to create a phase modulation pattern image (19) shown in FIG. 37(b).

続いて、図28に示す可視画像マスクの生成工程(S2)について、図38を用いて説明する。図38は、可視画像マスクの生成工程(S2)の詳細を示すフロー図であり、可視画像データの生成工程(S3)によって生成する可視画像マスクの詳細については、後述するが、可視模様(30)の基画像をマスク処理して、可視模様(30)に係る画像データを生成するために用いる。 Next, the visible image mask generation step (S2) shown in FIG. 28 will be explained using FIG. 38. FIG. 38 is a flowchart showing details of the visible image mask generation step (S2). Details of the visible image mask generated in the visible image data generation step (S3) will be described later, but the visible pattern (30 ) is subjected to mask processing and used to generate image data related to the visible pattern (30).

図38に示す符号(S2-1)は、位相変調模様データの生成工程(S1)によって生成された位相変調模様の画像(19)とは異なる位相に配置された位相変調模様データ(以降、「第2の位相変調模様データ(19A)」という。)を生成する工程(以降、「第2の位相変調模様データの生成(S2-1)という。」)である。
図39(a)は、第1の実施の形態の位相変調模様(20)に係る位相変調模様のデータの生成工程(S1)によって生成された位相変調模様のデータ(19)を示す図であり、第2の位相変調模様のデータを生成する工程(S2-1)では、例えば、図39(b)に示すように、位相変調模様(20)に対応した画像の全体を上側に位相を異ならせた画像データ(19A)を生成する。図39(b)に示す第2の位相変調模様のデータ(19A)は、図39(a)に示す位相変調模様のデータ(19)に対して、上側に位相を異ならせた例であるが、下側に位相を異ならせてもよい。
第2の位相変調模様のデータ(19A)を生成する方法としては、基画像(101)と平均化画像(102)に対しては、前述した第1の臨界値配列画像を適用する処理と同様にして、基画像(101)と平均化画像(102)の所定の領域の濃度に応じて2値画像に変換するが、2値画像に変換する位置が異なる。
The code (S2-1) shown in FIG. 38 indicates phase modulation pattern data (hereinafter referred to as " This is a step of generating "second phase modulation pattern data (19A)" (hereinafter referred to as "generation of second phase modulation pattern data (S2-1)").
FIG. 39(a) is a diagram showing phase modulation pattern data (19) generated in the phase modulation pattern data generation step (S1) related to the phase modulation pattern (20) of the first embodiment. In the step (S2-1) of generating data of the second phase modulation pattern, for example, as shown in FIG. image data (19A) is generated. The second phase modulation pattern data (19A) shown in FIG. 39(b) is an example in which the phase is different on the upper side from the phase modulation pattern data (19) shown in FIG. 39(a). , the phase may be different on the lower side.
The method of generating the second phase modulation pattern data (19A) is the same as the process of applying the first critical value array image described above to the base image (101) and the averaged image (102). Then, the base image (101) and the averaged image (102) are converted into binary images according to the density of predetermined areas, but the positions of the conversion into the binary images are different.

具体的には、第1の臨界値配列画像による変換の場合は、潜像画線の位相に相当する領域(A)と背景画線の位相に相当する領域(B)の境界から、順次、2値画像に変換するが、第2の位相変調模様のデータ(19A)の場合は、潜像画線の位相に相当する領域(A)内又は背景画線の位相に相当する領域(B)内に、2値画像に変換する基準位置を設定する。潜像画線の位相に相当する領域(A)を基準にして、2値画像に変換する場合には、図39(a)に示すように、上側に位相が異なる第2の位相変調模様のデータ(19A)が生成され、背景画線の位相に相当する領域(B)内を基準にして、2値画像に変換する場合には、下側に位相が異なる第2の位相変調模様データ(19A)が生成される(図示せず)。 Specifically, in the case of conversion using the first critical value array image, starting from the boundary between the region (A) corresponding to the phase of the latent image image and the region (B) corresponding to the phase of the background image, When converting to a binary image, in the case of the second phase modulation pattern data (19A), the area (A) corresponding to the phase of the latent image line or the area (B) corresponding to the phase of the background image line is converted to a binary image. The reference position for converting to a binary image is set within. When converting to a binary image using the area (A) corresponding to the phase of the latent image line as a reference, as shown in FIG. When data (19A) is generated and converted into a binary image based on the area (B) corresponding to the phase of the background image, second phase modulation pattern data ( 19A) is generated (not shown).

図40(a)は、第2の実施の形態の位相変調模様(20)に係る位相変調模様データの生成工程(S1)によって生成された位相変調模様データ(19)を示す図であり、第2の位相変調模様データを生成する工程(S2-1)によって、例えば、図40(b)に示すように、位相変調模様(20)に対応した画像の全体を上側に位相を異ならせた画像データ(19A)を生成する。図40(b)に示す第2の位相変調模様のデータ(19A)は、図40(a)に示す位相変調模様データ(19)に対して、上側に位相を異ならせた例であるが、下側に位相を異ならせてもよい。 FIG. 40(a) is a diagram showing phase modulation pattern data (19) generated in the phase modulation pattern data generation step (S1) related to the phase modulation pattern (20) of the second embodiment. In the step (S2-1) of generating phase modulation pattern data in step 2, for example, as shown in FIG. Generate data (19A). The second phase modulation pattern data (19A) shown in FIG. 40(b) is an example in which the phase is different from the phase modulation pattern data (19) shown in FIG. 40(a) on the upper side. The phase may be different on the lower side.

図38に示す符号(S2-2)は、位相変調模様のデータ(19)を、ネガポジ反転した反転画像(19C)を生成する工程(以降、「位相変調模様データの反転画像生成工程(S2-2)」という。)である。ネガポジ反転することによって、位相変調模様のデータ(19)において、「黒」の部分は「白」に変換され、「白」の部分は「黒」に変換される。位相変調模様データの反転画像生成工程(S2-2)によって、第1の実施の形態の位相変調模様(20)に係る位相変調模様のデータ(19)をネガポジ反転すると、図41(a)に示す画像(19C)が生成され、第2の実施の形態の位相変調模様(20)に係る位相変調模様のデータ(19)をネガポジ反転すると図41(b)に示す画像(19c)が生成される。 The code (S2-2) shown in FIG. 38 indicates the step of generating an inverted image (19C) by inverting the phase modulation pattern data (19) between negative and positive (hereinafter referred to as "inverted image generation step of phase modulation pattern data (S2-2)"). 2). By inverting the negative and positive, in the phase modulation pattern data (19), "black" parts are converted to "white" and "white" parts are converted to "black". When the phase modulation pattern data (19) related to the phase modulation pattern (20) of the first embodiment is reversed from negative to positive in the phase modulation pattern data inversion image generation step (S2-2), the result is shown in FIG. 41(a). An image (19C) shown in FIG. Ru.

図38に示す符号(S2-3)は、第2の位相変調模様データ(19A)と位相変調模様データの反転画像(19C、19c)を用いて、可視画像マスクの画像データ(19D)を生成する工程(以降、可視画像マスクの生成工程(S2-3)という。)であり、具体的には、第2の位相変調模様データ(19A)と位相変調模様データの反転画像(19C、19c)において、「黒」の画像部分が重複する領域を抽出する比較合成の処理を行う。 The code (S2-3) shown in FIG. 38 generates the image data (19D) of the visible image mask using the second phase modulation pattern data (19A) and the inverted images (19C, 19c) of the phase modulation pattern data. (hereinafter referred to as the visible image mask generation step (S2-3)), specifically, the second phase modulation pattern data (19A) and the inverted images of the phase modulation pattern data (19C, 19c) In this step, comparison and synthesis processing is performed to extract regions where "black" image parts overlap.

図42(a)は、第2の位相変調模様データ(19A)の領域を示す図であり、図42(b)は、位相変調模様データの反転画像(19C)の領域を示す図である。この二つの画像を図42(c)に示すように重ねた際に、重複する領域のみを抽出することで、図42(d)に示す可視画像マスクの画像データ(19D)が生成される。
同様にして、第2の位相変調模様データ(19a)と位相変調模様データの反転画像(19c)において、「黒」の画像部分が重複する領域を抽出する比較合成の処理を行うことで、図43に示す可視画像マスクの画像データ(19d)が生成される。
FIG. 42(a) is a diagram showing the area of the second phase modulation pattern data (19A), and FIG. 42(b) is a diagram showing the area of the inverted image (19C) of the phase modulation pattern data. When these two images are superimposed as shown in FIG. 42(c), only the overlapping area is extracted, thereby generating visible image mask image data (19D) shown in FIG. 42(d).
Similarly, in the second phase modulation pattern data (19a) and the inverted image (19c) of the phase modulation pattern data, a comparative synthesis process is performed to extract an area where the "black" image part overlaps, so that the image shown in FIG. Image data (19d) of the visible image mask shown in 43 is generated.

続いて、図28に示す可視画像データの生成工程(S3)について、図44を用いて説明する。図44は、可視画像データの生成工程(S3)の詳細を示すフロー図である。 Next, the visible image data generation step (S3) shown in FIG. 28 will be explained using FIG. 44. FIG. 44 is a flow diagram showing details of the visible image data generation step (S3).

図44に示す符号(S3-1)は、可視画像(30)の図柄の基画像(以降、「可視画像用基画像(X)」という。)を設定する工程(以降、「可視画像用基画像設定工程(S3-1)」という。)であり、画像入力手段(M1a)としてデジタルカメラによる撮像した画像や、あらかじめデータベースに登録された画像を用いる。
可視画像用基画像(X)の画像形成式については、特に限定がなく、RGB画像、モノクロの2値画像、グレースケール画像等を用いることができる。ここでは、図45に示す「三角形」の図柄であり、モノクロの2値画像を設定した例について説明する。
The reference numeral (S3-1) shown in FIG. In this step, an image captured by a digital camera or an image registered in a database in advance is used as the image input means (M1a).
There is no particular limitation on the image formation formula for the visible image base image (X), and an RGB image, a monochrome binary image, a gray scale image, etc. can be used. Here, an example will be described in which the "triangle" pattern shown in FIG. 45 is set as a monochrome binary image.

図44に示す符号(S3-2)は、可視画像用基画像(X)と、可視画像用マスクの画像データ(19D、19d)を用いて、可視模様(30)に係る可視画像データ(XXX)を生成する工程(以降、「可視画像データ生成工程(S3-2)」という。)であり、具体的には、可視画像用基画像(X)と可視画像用マスクの画像データ(19D、19d)において、「黒」の画像部分が重複する領域を抽出する比較合成の処理を行う。 The symbol (S3-2) shown in FIG. 44 indicates the visible image data (XXX ) (hereinafter referred to as the "visible image data generation step (S3-2)"), specifically, the step is to generate the visible image base image (X) and the image data of the visible image mask (19D, In step 19d), comparison and synthesis processing is performed to extract regions where "black" image parts overlap.

図46(a)は、可視画像データ生成工程(S3-2)において、可視画像用基画像(X)と可視画像用マスクの画像データ(19D、19d)を重ねた画像を示しており、可視画像用基画像(X)において、可視画像用マスクの画像データ(19D、19d)と重複する領域のみを抽出することで、図46(b)に示す可視画像データ(XXX)が生成される。 FIG. 46(a) shows an image in which the visible image base image (X) and the visible image mask image data (19D, 19d) are superimposed in the visible image data generation step (S3-2). By extracting only the region that overlaps with the image data (19D, 19d) of the visible image mask in the image base image (X), visible image data (XXX) shown in FIG. 46(b) is generated.

続いて、図28に示す潜像発現模様データの生成工程(S4)について説明する。
潜像発現模様データの生成工程(S4)では、位相変調模様データ(19)と可視画像データ(XXX)を合成する処理を行う。
具体的には、図47(a)に示す位相変調模様データ(19)と、図47(b)に示す可視画像データ(XXX)を合成して、図47(c)に示す潜像発現模様データ(ZZ)を生成する。
Next, the step of generating latent image pattern data (S4) shown in FIG. 28 will be explained.
In the latent image expression pattern data generation step (S4), a process of synthesizing the phase modulation pattern data (19) and visible image data (XXX) is performed.
Specifically, the phase modulation pattern data (19) shown in FIG. 47(a) and the visible image data (XXX) shown in FIG. 47(b) are combined to create the latent image development pattern shown in FIG. 47(c). Generate data (ZZ).

位相変調模様データ(19)と可視画像データ(XXX)を合成する合成処理工程(f4)により、作成されたデータは、データベースに保存してもよいし、モニター等の表示手段に表示してもよいし、プリンタ等の出力手段によって、基材(2)に印刷してもよい。 The data created by the synthesis processing step (f4) of synthesizing the phase modulation pattern data (19) and the visible image data (XXX) may be stored in a database or displayed on a display means such as a monitor. Alternatively, it may be printed on the base material (2) using an output means such as a printer.

続いて、図27に示す構成の位相変調模様のデータを生成する方法について説明する。図27に示す位相変調模様(120)は、画線の中心を境に色が異なることで、色彩が豊かな潜像を視認することができるものである。ここでは、一例として、図27(b)に示す構成の位相変調模様の画像(19X)であり、平均化画像(102)を用いて処理するデータを作成する方法について説明する。 Next, a method of generating phase modulation pattern data having the configuration shown in FIG. 27 will be described. The phase modulation pattern (120) shown in FIG. 27 has different colors at the center of the image line, so that a latent image with rich colors can be visually recognized. Here, as an example, a method of creating data to be processed using an averaged image (102), which is an image (19X) of a phase modulation pattern having the configuration shown in FIG. 27(b), will be described.

図48は、図27(b)に示す構成の位相変調模様の画像データを作成する方法のフロー図を示す図である。図48において、工程(S1-1)から工程(S1-5)については、前述した特願2018-220872号公報に記載の方法と同じであるため、説明を省略し、各工程(S1-6、S1-7、S1-8)の詳細について説明する。 FIG. 48 is a diagram showing a flowchart of a method for creating image data of a phase modulation pattern having the configuration shown in FIG. 27(b). In FIG. 48, the steps (S1-1) to (S1-5) are the same as the method described in the above-mentioned Japanese Patent Application No. 2018-220872, so the explanation will be omitted. , S1-7, S1-8) will be explained in detail.

図48に示す符号(S1-6)は、図27(b)に示す位相変調模様の画線の中心を境として、一方の側にある画線と他方の側にある画線に対応した画像を抽出するための二つのマスク画像を生成するための工程(以降、「カラー潜像用マスクの生成(S1-6)」という。)である。
具体的には、図49(a)に示すように、位相変調模様データ(19)の画線の中心(破線で図示)を境として分割することで、図49(b)に示すマスク画像(19M)と、図49(c)に示すマスク画像(19N)を生成する。
The symbol (S1-6) shown in FIG. 48 indicates an image corresponding to the object line on one side and the object line on the other side with the center of the object line of the phase modulation pattern shown in FIG. 27(b) as the border. (hereinafter referred to as "color latent image mask generation (S1-6)").
Specifically, as shown in FIG. 49(a), the mask image ( 19M) and a mask image (19N) shown in FIG. 49(c).

図49(b)は、図27(b)に示す位相変調模様の画線の中心を境として、上側にある画線を抽出するためのマスク(19M)であり、図49(a)に示す位相変調模様データ(19)における画線の中心から上側にある画像を抽出したものである。また、図49(c)は、図27(b)に示す位相変調模様の画線の中心を境として、下側にある画線を抽出するためのマスク(19N)であり、図49(a)に示す位相変調模様データ(19)における画線の中心から下側にある画像を抽出したものである。以降、図49(b)に示すマスクを「第1のカラー潜像用マスク(19M)」とし、図49(c)に示すマスクを「第2のカラー潜像用マスク(19N)」」として説明する。 FIG. 49(b) is a mask (19M) for extracting the drawing line located above the center of the drawing line of the phase modulation pattern shown in FIG. 27(b) as a border, and This is an image extracted from the center of the drawing line in the phase modulation pattern data (19). Moreover, FIG. 49(c) is a mask (19N) for extracting the drawing line on the lower side with the center of the drawing line of the phase modulation pattern shown in FIG. 27(b) as the border, and FIG. ) is an extracted image below the center of the object line in the phase modulation pattern data (19) shown in FIG. Hereinafter, the mask shown in FIG. 49(b) will be referred to as the "first color latent image mask (19M)" and the mask shown in FIG. 49(c) will be referred to as the "second color latent image mask (19N)". explain.

第1のカラー潜像用マスク(19M)は、位相変調模様データ(19)と、位相変調模様データ(19)とは異なる位相に配置された位相変調模様データ(以降、「第3の位相変調模様データ(19XX)という。」)において、「黒」の画像部が重複する領域を抽出する比較合成の処理によって生成される。また、第2のカラー潜像用マスク(19N)は、位相変調模様データ(19)と、第3の位相変調模様データ(19XX)を反転した第4の位相変調模様データ(19YY)において、「黒」の画像部が重複する領域を抽出する比較合成の処理によって生成される。以下、第1のカラー潜像用マスク(19M)と第2のカラー潜像用マスク(19N)を生成する処理の詳細について説明する。 The first color latent image mask (19M) includes phase modulation pattern data (19) and phase modulation pattern data (hereinafter referred to as "third phase modulation") arranged at a different phase from the phase modulation pattern data (19). In the pattern data (referred to as "19XX"), "black" image parts are generated by comparison and synthesis processing to extract overlapping areas. In addition, the second color latent image mask (19N) has the phase modulation pattern data (19) and the fourth phase modulation pattern data (19YY) which is the inversion of the third phase modulation pattern data (19XX). The "black" image portion is generated by comparison and synthesis processing that extracts overlapping areas. The details of the process for generating the first color latent image mask (19M) and the second color latent image mask (19N) will be described below.

図50は、位相変調模様データ(19)、第3の位相変調模様データ(19XX)及び第4の位相変調模様データ(19YY)の関係を示す図である。前述のように、図50(a)に示す位相変調模様データ(19)に対して、図50(b)に示す第3の位相変調模様データ(19XX)は、位相が異なり(二つの画像における共通の位置を示す破線の位置に対して位相が異なっている)、図50(b)の拡大図に示すように、第3の位相変調模様データ(19XX)の全体は、位相変調模様(19)の全体に対して、画線の幅(W)の半分だけ位相がずれている。図50(b)に示す第3の位相変調模様データ(19XX)は、位相変調模様データ(19)に対して、下型に位相を異ならせた例であるが、上側に位相を異ならせてもよい。図50(c)に示す第4の位相変調模様データ(19YY)は、第3の位相変調模様データ(19XX)を反転した画像であり、第3の位相変調模様データ(19XX)において、「白」の画像の領域と「黒」の画像の領域が入れ替わった構成となっている。 FIG. 50 is a diagram showing the relationship between phase modulation pattern data (19), third phase modulation pattern data (19XX), and fourth phase modulation pattern data (19YY). As mentioned above, the phase modulation pattern data (19) shown in FIG. 50(a) is different from the phase modulation pattern data (19XX) shown in FIG. As shown in the enlarged view of FIG. 50(b), the entire third phase modulation pattern data (19XX) is different from the phase modulation pattern (19 ) is out of phase by half the width (W) of the drawing line. The third phase modulation pattern data (19XX) shown in FIG. 50(b) is an example of the phase modulation pattern data (19) in which the lower part has a different phase, but the upper part has a different phase. Good too. The fourth phase modulation pattern data (19YY) shown in FIG. 50(c) is an image obtained by inverting the third phase modulation pattern data (19XX). '' image area and the ``black'' image area are swapped.

図50(b)に示す第3の位相変調模様データ(19XX)を生成するためには、前述した第1の臨界値配列画像と第2の臨界値配列画像によって2値画像に変換する処理に対して、画線の幅の半分だけずれた位置から2値画像に変換する「第Mの臨界値配列画像」と「第Nの臨界値配列画像」を適用して2値画像に変換する。
具体的には、図51(a)に示す平均化画像(102)に第Mの臨界値配列画像を適用して、平均化画像(102)の所定の領域(h)毎の濃度に応じて、図51(b)の右上がり斜線で示す位相に画像を変換して、図51(c)に示す第Mの2値画像(18M)を生成する処理と、図51(d)に示す平均化画像(102)を反転した反転画像(102’)に、第Nの臨界値配列画像を適用して、図51(e)の左上がり斜線で示す位相に画像を変換して、図51(f)に示す第Nの2値画像(18N)を生成する処理を行う。
In order to generate the third phase modulation pattern data (19XX) shown in FIG. On the other hand, the "M-th critical value array image" and the "N-th critical value array image" which are converted into a binary image from a position shifted by half the width of the image line are applied to convert the image into a binary image.
Specifically, by applying the M-th critical value array image to the averaged image (102) shown in FIG. 51(a), , the process of converting the image to the phase indicated by the upward diagonal line in FIG. 51(b) to generate the M-th binary image (18M) shown in FIG. 51(c), and the average processing shown in FIG. 51(d) The N-th critical value array image is applied to the inverted image (102') obtained by inverting the converted image (102), and the image is converted to the phase indicated by the upward diagonal line in FIG. 51(e). The process of generating the Nth binary image (18N) shown in f) is performed.

図51(b)は、第Mの臨界値配列画像を適用して2値画像に変換される領域を示しており、第Mの臨界値配列画像を適用する処理は、潜像画線の位相に相当する領域(A)と背景画線の位相に相当する領域(B)の境界から、下側に向かって1/4h分だけ位相が異なっており、その位置の位相から、平均化画像(102)における所定の領域の濃度に応じて、順次、面積が大きくなるように変換する。
図51(c)は、平均化画像(102)全体に第Mの臨界値配列画像を適用して2値画像に変換された第Mの2値画像(18M)を示したものであり、図51(b)示す第Mの2値画像(18M)は、図51(c)の破線で囲む領域(18M1)に配置される。
FIG. 51(b) shows an area to be converted into a binary image by applying the M-th critical value array image, and the process of applying the M-th critical value array image is based on the phase of the latent image image. From the boundary between the area (A) corresponding to the phase of the background line and the area (B) corresponding to the phase of the background line, the phase differs by 1/4 h toward the bottom, and from the phase at that position, the averaged image ( In step 102), the area is converted to become larger in accordance with the density of the predetermined area.
FIG. 51(c) shows the M-th binary image (18M) which is converted into a binary image by applying the M-th critical value array image to the entire averaged image (102). The M-th binary image (18M) shown in 51(b) is placed in the area (18M1) surrounded by the broken line in FIG. 51(c).

図51(d)は、平均化画像(102)を反転した反転画像(102’)に第Nの臨界値配列画像を適用して2値画像に変換される領域を示しており、第Nの臨界値配列画像を適用する処理は、潜像画線の位相に相当する領域(A)と背景画線の位相に相当する領域(B)の境界から、下側に向かって1/4h分だけ位相が異なっており、その位置の位相から、反転画像(102’)における所定の領域の濃度に応じて、順次、面積が大きくなるように変換する。図51(f)は、反転画像(102’)全体に第Nの臨界値配列画像を適用して2値画像に変換された第Nの2値画像(18N)を示したものであり、図51(e)示す第Nの2値画像(18N)は、図51(f)の破線で囲む領域(18N1)に配置される。
なお、第Nの臨界値配列画像によって2値画像に変換する方向(図51(e)における上下方向)は、第Mの臨界値配列画像によって2値画像に変換する方向(図51(b)における上下方向)と異なり、図51(b)では、第Mの臨界値配列画像は、潜像画線の位相に相当する領域(A)と背景画線の位相に相当する領域(B)の境界に対して、下側に向かって1/4h分だけ位相が異なる位置から上側に向かって2値画像に変換し、図51(e)では、第Nの臨界値配列画像は、潜像画線の位相に相当する領域(A)と背景画線の位相に相当する領域(B)の境界に対して、下側に向かって1/4h分だけ位相が異なる位置から下側に向かって2値画像に変換した例を示している。
FIG. 51(d) shows a region that is converted into a binary image by applying the Nth critical value array image to the inverted image (102') obtained by inverting the averaged image (102). The process of applying the critical value array image is carried out by 1/4 h downward from the boundary between the region (A) corresponding to the phase of the latent image image and the region (B) corresponding to the phase of the background image. The phases are different, and conversion is performed so that the area is sequentially increased according to the density of a predetermined region in the inverted image (102') based on the phase at that position. FIG. 51(f) shows the Nth binary image (18N) which is converted into a binary image by applying the Nth critical value array image to the entire inverted image (102'). The Nth binary image (18N) shown in 51(e) is placed in the area (18N1) surrounded by the broken line in FIG. 51(f).
Note that the direction in which the N-th critical value array image is converted into a binary image (vertical direction in FIG. 51(e)) is the same as the direction in which the M-th critical value array image is converted into a binary image (FIG. 51(b)). 51(b), the M-th critical value array image has a region (A) corresponding to the phase of the latent image line and a region (B) corresponding to the phase of the background image line. With respect to the boundary, the image is converted into a binary image from a position where the phase differs by 1/4 h toward the lower side and toward the upper side. In FIG. 51(e), the Nth critical value array image is the latent image image. With respect to the boundary between the area (A) corresponding to the phase of the line and the area (B) corresponding to the phase of the background image, 2 An example of conversion to a value image is shown.

図51(c)に示す第Mの2値画像(18M)と図51(f)に示す第Nの2値画像を合成することで、図50(b)に示す第3の位相変調模様データ(19XX)が得られる。ここでは、第Mの臨界値配列画像と第Nの臨界値配列画像を適用する処理によって、第3の位相変調模様データ(19XX)を生成する処理について説明したが、位相変調模様データ(19)において、画線の中心を境に半分を除去する処理をするとで、同じ第3の位相変調模様データ(19XX)を生成することができる。 By combining the Mth binary image (18M) shown in FIG. 51(c) and the Nth binary image shown in FIG. 51(f), the third phase modulation pattern data shown in FIG. 50(b) is generated. (19XX) is obtained. Here, the process of generating the third phase modulation pattern data (19XX) by the process of applying the Mth critical value array image and the Nth critical value array image has been explained, but the phase modulation pattern data (19XX) The same third phase modulation pattern data (19XX) can be generated by performing processing to remove half of the drawing line with the center as the boundary.

図49(b)に示す第1のカラー潜像用マスク(19M)は、位相変調模様データ(19)と、位相変調模様データ(19)とは、画線の幅の半分だけ下側に位相がずれた第3の位相変調模様データ(19XX)において、「黒」の画像部が重複する領域を抽出する比較合成の処理によって生成される。すなわち、図49(a)に示す位相変調模様データ(19)において、画線の中心から下側の画線が第3の位相変調模様データ(19XX)と重複することで、図49(b)に示す第1のカラー潜像用マスク(19M)が生成される。 The first color latent image mask (19M) shown in FIG. In the shifted third phase modulation pattern data (19XX), "black" image parts are generated by comparison and synthesis processing to extract overlapping areas. That is, in the phase modulation pattern data (19) shown in FIG. 49(a), the lower object line from the center of the object overlaps with the third phase modulation pattern data (19XX), so that the image shown in FIG. 49(b) A first color latent image mask (19M) shown in is generated.

図49(c)に示す第2のカラー潜像用マスク(19N)は、第3の位相変調模様データ(19XX)を反転した第4の位相変調模様データ(19YY)と、位相変調模様データ(19)において、「黒」の画像部が重複する領域を抽出する比較合成の処理によって生成される。第4の位相変調模様データ(19YY)は、第3の位相変調模様データ(19XX)を反転した画像であることから、これを位相変調模様データ(19)と比較合成すると、図49(a)に示す位相変調模様データ(19)において、画線の中心から上側の画線が重複することで、図49(c)に示す第2のカラー潜像用マスク(19N)が生成される。 The second color latent image mask (19N) shown in FIG. In step 19), the "black" image portion is generated by a comparative synthesis process that extracts overlapping areas. Since the fourth phase modulation pattern data (19YY) is an image obtained by inverting the third phase modulation pattern data (19XX), when this is compared and synthesized with the phase modulation pattern data (19), the result is shown in FIG. 49(a). In the phase modulation pattern data (19) shown in FIG. 49, the upper lines from the center of the lines overlap to generate the second color latent image mask (19N) shown in FIG. 49(c).

図48に示す符号(S1-7)は、潜像が複数の色で視認される位相変調模様(20)のデータを形成するための基画像(Z)を設定する工程(以降、「カラーの基画像設定(S1-7)という。」)である。ここでは、図27に示す位相変調模様(XXX)において、「円形」の図柄とその背景が、補色関係にある2色の色で視認される例について説明する。
カラーの基画像設定工程(S1-7)では、図52(a)に示す「円形」とその背景の色が異なる色であり、かつ、補色関係で構成されたカラー潜像基画像(130)と、図52(b)に示すカラー潜像基画像(130)の色が反転したカラー潜像反転基画像(131)を設定する。補色関係の色の例としては、青色と黄色、緑色と赤色等の組合せがあり、所望とする色のカラー潜像基画像(130)とカラー潜像反転基画像(131)を設定すればよい。
The code (S1-7) shown in FIG. 48 indicates the step (hereinafter referred to as "color color This is referred to as "base image setting (S1-7)"). Here, in the phase modulation pattern (XXX) shown in FIG. 27, an example will be described in which a "circular" pattern and its background are visually recognized as two complementary colors.
In the color base image setting step (S1-7), a color latent image base image (130) is created in which the "circle" shown in FIG. 52(a) and its background are different colors and are configured in a complementary color relationship. Then, a color latent image inversion base image (131) in which the color of the color latent base image (130) shown in FIG. 52(b) is inverted is set. Examples of complementary colors include combinations of blue and yellow, green and red, etc., and it is sufficient to set a color latent image base image (130) and a color latent image inversion base image (131) of the desired color. .

図48に示す符号(S1-8)は、図27(b)に示す位相変調模様(20)のデータを生成する工程(以降、「カラー画像用位相変調模様データの生成(S1-8)という。」である。 The code (S1-8) shown in FIG. 48 indicates the step of generating data of the phase modulation pattern (20) shown in FIG. .”

具体的には、図53(a)に示すように、カラー潜像基画像(130)と第1のカラー潜像用マスク(19M)において、互いの画像が重複する領域を抽出する比較合成の処理によって、第1のカラー潜像画像データ(140)を生成する。また、図53(b)に示すように、カラー潜像反転基画像(131)と第2のカラー潜像用マスク(19N)において、互いの画像が重複する領域を抽出する比較合成の処理によって、第2のカラー潜像画像データ(141)を生成する。第1のカラー潜像マスク(19M)は、位相変調模様データ(19)において、画線の中心から下側の画線を抽出することから、生成された第1のカラー潜像画像データ(140)もまた、図27(b)に示す画線(121A)に対応した画像データとなる。また、第2のカラー潜像マスク(19N)は、位相変調模様データ(19)において、画線の中心から上側の画線を抽出することから、生成された第2のカラー潜像画像データ(141)もまた、図27(b)に示す画線(121A)に対応した画像データとなる。 Specifically, as shown in FIG. 53(a), comparative synthesis is performed to extract areas where the images overlap between the color latent image base image (130) and the first color latent image mask (19M). The processing generates first color latent image data (140). In addition, as shown in FIG. 53(b), a comparative synthesis process is performed to extract areas where the images overlap in the color latent image inversion base image (131) and the second color latent image mask (19N). , generates second color latent image data (141). The first color latent image mask (19M) is generated by extracting the lower line from the center of the line in the phase modulation pattern data (19). ) also becomes image data corresponding to the object line (121A 1 ) shown in FIG. 27(b). In addition, the second color latent image mask (19N) extracts the upper image line from the center of the image line in the phase modulation pattern data (19), so the generated second color latent image data ( 141) is also image data corresponding to the drawing line (121A 2 ) shown in FIG. 27(b).

ここでは、図27(b)に示す位相変調模様(XX)を形成するための画像データを生成する例について説明したが、 図27(c)の画像データの生成でもよい。 Here, an example has been described in which image data for forming the phase modulation pattern (XX) shown in FIG. 27(b) is generated, but image data shown in FIG. 27(c) may also be generated.

10 潜像発現模様
18 2値画像
19 位相変調模様データ
20 位相変調模様
21 有色の画線
21A 潜像構成画線
21B 背景構成画線
30 可視模様
31 可視模様構成要素
41 万線模様
61 凸形状の画線
70 万線模様
101 基画像
102 反転画像
10 Latent image development pattern 18 Binary image 19 Phase modulation pattern data 20 Phase modulation pattern 21 Colored lines 21A Latent image constituent lines 21B Background constituent lines 30 Visible pattern 31 Visible pattern constituent elements 41 Line pattern 61 Convex shape 700,000-line pattern 101 Base image 102 Reversed image

Claims (7)

第1の方向に一定のピッチとなるように有色の画線が複数配置された万線模様において、
前記有色の画線の一部の位相を第1の方向に移動することで潜像部と背景部を構成した位相変調模様と、
可視模様を構成する有色の可視模様構成要素を有し、
前記可視模様構成要素は、前記位相変調模様における前記有色の画線が設けられていない領域に設けられ、
前記位相変調模様における前記潜像部を構成する潜像構成画線は、前記可視模様構成要素と重ならない領域を有する、潜像発現模様。
In a line pattern in which a plurality of colored lines are arranged at a constant pitch in the first direction,
a phase modulation pattern in which a latent image part and a background part are formed by moving the phase of a part of the colored image line in a first direction;
It has colored visible pattern constituent elements that make up the visible pattern,
The visible pattern component is provided in an area in the phase modulation pattern where the colored line is not provided,
A latent image expression pattern, in which a latent image constituent image line constituting the latent image portion in the phase modulation pattern has a region that does not overlap with the visible pattern constituent element.
前記潜像構成画線は、前記背景部を構成する背景構成画線と異なる位相に配置されており、
前記潜像構成画線は、前記背景構成画線の位相の少なくとも一部と同じ位相に配置された濃度緩和画線が隣接して成り、
前記濃度緩和画線は、前記背景構成画線の画線幅より画線幅が狭く、前記第1の方向に隣り合う画線との中心線間の距離が前記一定のピッチより小さくなるように配置されている第1潜像構成画線、
及び前記背景構成画線の画線幅より画線幅が広く、前記第1の方向に隣り合う画線との中心線間の距離が前記一定のピッチより大きくなるように配置されている第2潜像構成画線、
のうち少なくともいずれか一方、を有する、請求項1に記載の潜像発現模様。
The latent image forming line is arranged at a different phase from the background forming line forming the background part,
The latent image forming line is composed of adjacent density relaxation lines arranged in the same phase as at least part of the phase of the background forming line,
The density reduction drawing line has a drawing width narrower than the drawing width of the background constituent drawing line, and the distance between the center lines of the drawing line adjacent to the drawing line in the first direction is smaller than the certain pitch. a first latent image constituent image line arranged;
and a second object having a drawing width wider than the drawing width of the background constituent drawings and arranged such that the distance between the center lines of the drawings adjacent in the first direction is larger than the certain pitch. latent image composition line,
The latent image expression pattern according to claim 1, which has at least one of the following.
前記万線模様中の前記潜像構成画線と前記背景構成画線が隣接する領域において、前記潜像構成画線と隣接する前記可視模様構成要素の画線幅と、
前記背景構成画線と隣接する前記可視模様構成要素の画線幅の比は、対応する前記潜像構成画線の画線幅と前記背景構成画線の画線幅の比とほぼ同じである、
請求項1又は2に記載の潜像発現模様。
In a region in the line pattern where the latent image constituent image line and the background constituent image line are adjacent, the line width of the visible pattern constituent element adjacent to the latent image constituent image line;
The ratio of the line width of the background constituent line and the adjacent visible pattern constituent element is approximately the same as the ratio of the line width of the corresponding latent image constituent line to the line width of the background constituent line. ,
The latent image development pattern according to claim 1 or 2.
以下の要件(a)及び(b)のうち少なくともいずれか一方;
(a)前記位相変調模様における前記潜像構成画線が、1色以上の有彩色の色調である、
(b)前記位相変調模様における前記潜像構成画線が、前記潜像構成画線の中心線を境にして互いに補色の関係にある色調で構成されている、
を満たす、請求項1に記載の潜像発現模様。
At least one of the following requirements (a) and (b);
(a) the latent image constituent lines in the phase modulation pattern are in one or more chromatic tones;
(b) the latent image constituent image lines in the phase modulation pattern are composed of color tones that are complementary to each other with the center line of the latent image constituent image lines as a boundary;
The latent image expression pattern according to claim 1, which satisfies the following.
第1の方向に一定のピッチとなるように有色の画線が複数配置された万線模様において、
前記有色の画線の一部の位相を第1の方向に移動することで潜像部と背景部を構成した位相変調模様と、
可視模様を構成する可視模様構成要素を有し、
前記可視模様構成要素は、前記位相変調模様における前記有色の画線が設けられていない領域に設けられ、
前記位相変調模様における前記潜像部を構成する潜像構成画線の位相は、前記可視模様構成要素の位相と重ならない領域を有する、潜像発現模様データの作成方法であって、
以下の工程;
前記位相変調模様における前記潜像部が現す図柄を第1基画像として設定する第1基画像設定工程、
前記第1基画像設定工程の後に必要に応じて設けられる、前記第1基画像をグレースケール処理した後に、前記第1の方向に配置される画線のピッチのn倍(nは、1<n≦10である。)に相当する領域毎に濃度の平均化を行って得られた縦方向平均化画像を第2の基画像として設定する第2基画像設定工程、
前記第1基画像又は前記第2基画像の濃淡を反転して、反転画像を生成する階調反転処理工程、
前記第1基画像又は前記第2基画像に第1の臨界値配列画像を適用して、前記位相変調模様における前記潜像部を構成する第1の潜像構成画線の2値画像を生成する第1の臨界値配列画像変換処理工程、
前記反転画像に前記第1の臨界値配列画像を適用して、前記位相変調模様における前記背景部を構成する第2の背景部構成画線の2値画像を生成する第2の臨界値配列画像変換処理工程、
前記第1の潜像構成画線の2値画像と、前記第2の背景部構成画線の2値画像の合成を含む、第1の位相変調模様データの生成工程、
前記第1基画像又は前記第2基画像に第2の臨界値配列画像を適用して、前記位相変調模様における前記潜像部を構成する第2の潜像構成画線の2値画像を生成する第3の臨界値配列画像変換処理工程、
前記反転画像に前記第2の臨界値配列画像を適用して、前記位相変調模様における前記背景部を構成する第2の背景部構成画線の2値画像を生成する第4の臨界値配列画像変換処理工程、
前記第2の潜像構成画線の2値画像と、前記第2の背景部構成画線の2値画像の合成を含む、第2の位相変調模様データの生成工程、
前記第1の位相変調模様データを反転させ、反転した第1の位相変調模様データを生成する工程、
前記第2の位相変調模様データと、前記反転した第1の位相変調模様データの合成を含む、可視模様用マスクデータの生成工程、
任意の図柄、色調を有する可視模様データと、前記可視模様用マスクデータを合成して、可視模様構成データを生成する工程、
前記第1の位相変調模様データと前記可視模様構成データを合成する工程、を有し、
前記第1の位相変調模様データと前記第2の位相変調模様データは、前記第1の方向に位相が異なるものである、潜像発現模様データの作成方法。
In a line pattern in which a plurality of colored lines are arranged at a constant pitch in the first direction,
a phase modulation pattern in which a latent image part and a background part are formed by moving the phase of a part of the colored image line in a first direction;
It has visible pattern constituent elements that constitute a visible pattern,
The visible pattern component is provided in an area in the phase modulation pattern where the colored line is not provided,
A method for creating latent image expression pattern data, wherein the phase of a latent image constituent image forming the latent image portion in the phase modulation pattern has an area that does not overlap with the phase of the visible pattern constituent element,
The following steps;
a first base image setting step of setting a pattern expressed by the latent image portion in the phase modulation pattern as a first base image;
After performing gray scale processing on the first base image, which is provided as necessary after the first base image setting step, n times the pitch of the drawing lines arranged in the first direction (n is 1< a second base image setting step of setting a vertically averaged image obtained by averaging the density for each region corresponding to n≦10 as a second base image;
a gradation inversion processing step of inverting the shading of the first base image or the second base image to generate a reversed image;
Applying a first critical value array image to the first base image or the second base image to generate a binary image of a first latent image constituent image line that constitutes the latent image portion in the phase modulation pattern. a first critical value array image conversion process step;
a second critical value array image that applies the first critical value array image to the inverted image to generate a binary image of a second background part constituent line that constitutes the background part in the phase modulation pattern; conversion process,
a step of generating first phase modulation pattern data, including combining a binary image of the first latent image constituent lines and a binary image of the second background part constituent lines;
Applying a second critical value array image to the first base image or the second base image to generate a binary image of a second latent image constituent image line that constitutes the latent image portion in the phase modulation pattern. a third critical value array image conversion processing step,
a fourth critical value array image that applies the second critical value array image to the inverted image to generate a binary image of a second background part constituent line that constitutes the background part in the phase modulation pattern; conversion process,
a step of generating second phase modulation pattern data, including combining a binary image of the second latent image constituent lines and a binary image of the second background part constituent lines;
inverting the first phase modulation pattern data to generate inverted first phase modulation pattern data;
a step of generating visible pattern mask data, including combining the second phase modulation pattern data and the inverted first phase modulation pattern data;
a step of synthesizing visible pattern data having an arbitrary pattern and color tone with the visible pattern mask data to generate visible pattern configuration data;
composing the first phase modulation pattern data and the visible pattern configuration data;
The method for creating latent image pattern data, wherein the first phase modulation pattern data and the second phase modulation pattern data have different phases in the first direction.
第1の方向に一定のピッチとなるように有色の画線が複数配置された万線模様において、前記有色の画線の一部の位相を第1の方向に移動することで潜像部と背景部を構成した位相変調模様と、
可視模様を構成する可視模様構成要素を有し、
前記可視模様構成要素は、前記位相変調模様における前記有色の画線が設けられていない領域に設けられ、前記位相変調模様における前記潜像部を構成する潜像構成画線の位相は、前記可視模様構成要素の位相と重ならない領域を有する、
潜像発現模様のための、潜像発現模様データの作成方法であって、
以下の工程;
前記位相変調模様における前記潜像部が現す図柄を基画像として設定する基画像設定工程、
前記基画像の濃淡を反転して、反転画像を生成する階調反転処理工程、
前記基画像に第1の臨界値配列画像を適用して、前記位相変調模様における前記潜像部を構成する第1の潜像構成画線の2値画像を生成する第1の臨界値配列画像変換処理工程、
前記反転画像に前記第1の臨界値配列画像を適用して、前記位相変調模様における前記背景部を構成する第2の背景部構成画線の2値画像を生成する第2の臨界値配列画像変換処理工程、
前記第1の潜像構成画線の2値画像と、前記第2の背景部構成画線の2値画像の合成を含む、第1の位相変調模様データの生成工程、
前記基画像に第2の臨界値配列画像を適用して、前記位相変調模様における前記潜像部を構成する第2の潜像構成画線の2値画像を生成する第3の臨界値配列画像変換処理工程、
前記反転画像に前記第2の臨界値配列画像を適用して、前記位相変調模様における前記背景部を構成する第2の背景部構成画線の2値画像を生成する第4の臨界値配列画像変換処理工程、
前記第2の潜像構成画線の2値画像と、前記第2の背景部構成画線の2値画像の合成を含む、第2の位相変調模様データの生成工程、
前記第1の位相変調模様データを反転させ、反転した第1の位相変調模様データを生成する工程、
前記第2の位相変調模様データと、前記反転した第1の位相変調模様データの合成を含む、可視模様用マスクデータの生成工程、
任意の図柄、色調を有する可視模様データと、前記可視模様用マスクデータを合成して、可視模様構成データを生成する工程、
前記位相変調模様における前記潜像部が現すカラー図柄をカラー基画像として設定する工程、
前記カラー基画像からポジ用潜像画像データを生成する工程、
前記ポジ用潜像画像のカラー反転処理を行い、ネガ用潜像画像データを生成する工程、
前記位相変調模様データと、前記可視模様用マスクデータを合成して、ポジ用カラー潜像用マスクデータを生成する工程、
前記位相変調データと、前記可視模様用マスクデータを反転させて得られる反転した可視模様用マスクデータを合成して、ネガ用カラー潜像用マスクデータを生成する工程、
前記ポジ用潜像画像データと前記ポジ用カラー潜像用マスクデータを合成して、ポジ用位相変調模様データを生成する工程、
前記ネガ用潜像画像データと前記ネガ用カラー潜像用マスクデータを合成して、ネガ用位相変調模様データを生成する工程、
前記可視模様構成データと、前記ポジ用位相変調模様データと、前記ネガ用位相変調模様データを合成する工程、を有し、
前記第1の位相変調模様データと前記第2の位相変調模様データは、前記第1の方向に位相が異なるものである、潜像発現模様データの作成方法。
In a line pattern in which a plurality of colored lines are arranged at a constant pitch in a first direction, by moving the phase of a part of the colored lines in the first direction, a latent image portion is formed. The phase modulation pattern that made up the background part,
It has visible pattern constituent elements that constitute a visible pattern,
The visible pattern component is provided in an area in the phase modulation pattern where the colored image line is not provided, and the phase of the latent image component image forming the latent image portion in the phase modulation pattern is having a region that does not overlap with the phase of the pattern constituent elements,
A method for creating latent image expression pattern data for a latent image expression pattern, the method comprising:
The following steps;
a base image setting step of setting a pattern expressed by the latent image portion in the phase modulation pattern as a base image;
a gradation inversion processing step of inverting the shading of the base image to generate an inverted image;
A first critical value array image that applies a first critical value array image to the base image to generate a binary image of a first latent image constituent image line that constitutes the latent image portion in the phase modulation pattern. conversion process,
a second critical value array image that applies the first critical value array image to the inverted image to generate a binary image of a second background part constituent line that constitutes the background part in the phase modulation pattern; conversion process,
a step of generating first phase modulation pattern data, including combining a binary image of the first latent image constituent lines and a binary image of the second background part constituent lines;
a third critical value array image that applies a second critical value array image to the base image to generate a binary image of a second latent image constituent image line that constitutes the latent image portion in the phase modulation pattern; conversion process,
a fourth critical value array image that applies the second critical value array image to the inverted image to generate a binary image of a second background part constituent line that constitutes the background part in the phase modulation pattern; conversion process,
a step of generating second phase modulation pattern data, including combining a binary image of the second latent image constituent lines and a binary image of the second background part constituent lines;
inverting the first phase modulation pattern data to generate inverted first phase modulation pattern data;
a step of generating visible pattern mask data, including combining the second phase modulation pattern data and the inverted first phase modulation pattern data;
a step of synthesizing visible pattern data having an arbitrary pattern and color tone with the visible pattern mask data to generate visible pattern configuration data;
setting a color pattern expressed by the latent image portion in the phase modulation pattern as a color base image;
generating positive latent image data from the color base image;
performing color inversion processing on the positive latent image to generate negative latent image data;
combining the phase modulation pattern data and the visible pattern mask data to generate positive color latent image mask data;
generating negative color latent image mask data by combining the phase modulation data and inverted visible pattern mask data obtained by inverting the visible pattern mask data;
combining the positive latent image data and the positive color latent image mask data to generate positive phase modulation pattern data;
combining the negative latent image data and the negative color latent image mask data to generate negative phase modulation pattern data;
a step of synthesizing the visible pattern configuration data, the positive phase modulation pattern data, and the negative phase modulation pattern data,
The method for creating latent image expression pattern data, wherein the first phase modulation pattern data and the second phase modulation pattern data have different phases in the first direction.
請求項5又は6に記載の潜像発現模様の作成方法により得られる、潜像発現模様データ。 Latent image development pattern data obtained by the method for creating a latent image development pattern according to claim 5 or 6.
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