JP2024014871A - Ultrapure water production system and water quality control method therefor - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、超純水製造装置とその水質管理方法に関する。 The present invention relates to an ultrapure water production apparatus and a water quality control method thereof.
半導体製造プロセスにおけるシリコンウエハの洗浄用水など、多くの用途に、不純物が
高度に除去された超純水が用いられている。超純水は、一般に、原水（工業用水、市水、
井水等）を、必要に応じて前処理システムで処理し、そして一次純水システムおよび二次
純水システム（サブシステム）で順次処理することにより製造する。
Ultrapure water from which impurities have been highly removed is used for many purposes, such as water for cleaning silicon wafers in semiconductor manufacturing processes. Ultrapure water is generally raw water (industrial water, municipal water,
Well water, etc.) is treated with a pretreatment system as necessary, and then sequentially treated with a primary pure water system and a secondary pure water system (subsystem).
特許文献１には、超純水製造装置において、超純水を使用点（ユースポイント）に供給
するための供給ラインに、サンプリング用分岐ラインを設け、そこから超純水をサンプリ
ングし水質を確認することが記載される。この分岐ラインには、接液部がフッ素樹脂で構
成されたバルブが設けられる。特許文献２には、ユースポイントに供給される超純水の分
析のための試料を、バルブに起因する汚染を生じさせずに採取するために、金属製のバル
ブの接液部に金属溶出を低減する表面処理を施すことが開示される。特許文献３には、超
純水中の不純物の濃度の分析を連続的に行って、流体中の濃度変化等を精度良く監視でき
るようにした不純物濃度分析方法が開示される。
これらの文献に開示されるように、超純水製造装置における水質管理のために、製造し
た超純水の不純物濃度を測定する。しかし、製造した超純水の水質を管理するだけでは、
ユースポイントにおいて不純物濃度が要求仕様を満足しなくなった際に、その原因となる
異常の発生箇所を特定することが容易ではない。特に、超純水中の金属濃度に関しては、
要求仕様がいっそう厳しくなりつつあり、金属濃度が要求仕様を満足しなくなった場合に
異常の発生箇所を容易に特定する技術に対するニーズが高まっている。
As disclosed in these documents, the impurity concentration of the produced ultrapure water is measured for water quality control in an ultrapure water production apparatus. However, simply managing the quality of the ultrapure water produced is insufficient.
When the impurity concentration no longer satisfies the required specifications at the point of use, it is not easy to identify the location where the abnormality is occurring. In particular, regarding metal concentrations in ultrapure water,
Required specifications are becoming more stringent, and there is a growing need for technology that can easily identify the location of an abnormality when the metal concentration no longer satisfies the required specifications.
本発明の目的は、ユースポイントにおいて超純水の金属濃度が要求仕様を満足しなくな
った際に、その原因となる異常の発生箇所を特定することが容易な超純水製造装置および
その水質管理方法を提供することである。
An object of the present invention is to provide an ultrapure water production device and its water quality management system that can easily identify the location of an abnormality that causes the metal concentration in ultrapure water at a point of use when it no longer satisfies required specifications. The purpose is to provide a method.
本発明の一態様によれば、
一次純水タンクと、イオン交換装置と、限外ろ過膜装置と、前記限外ろ過膜装置に接続
され、ユースポイントに向けて超純水を送液する超純水送液ラインと、超純水送液ライン
から分岐して超純水の一部を一次純水タンクに戻す返送ラインとを含む超純水製造装置の
水質管理方法であって、
前記イオン交換装置の出口の水、前記限外ろ過膜装置の下流側であって前記超純水送液
ラインの返送ラインの分岐点より上流側を流れる水、および前記返送ラインを流れる水の
金属濃度をそれぞれ濃縮法を用いて分析する分析工程を含むことを特徴とする、水質管理
方法が提供される。
According to one aspect of the invention,
A primary pure water tank, an ion exchange device, an ultrafiltration membrane device, an ultrapure water delivery line that is connected to the ultrafiltration membrane device and sends ultrapure water toward a point of use, and an ultrapure A water quality control method for an ultrapure water production device comprising a return line branching from a water supply line and returning a part of the ultrapure water to a primary pure water tank,
Water at the outlet of the ion exchange device, water flowing downstream of the ultrafiltration membrane device and upstream from the branch point of the return line of the ultrapure water delivery line, and metals in the water flowing through the return line. A water quality management method is provided, which includes an analysis step of analyzing each concentration using a concentration method.
本発明の別の態様によれば、
一次純水タンクと、イオン交換装置と、限外ろ過膜装置と、前記限外ろ過膜装置に接続
され、ユースポイントに向けて超純水を送液する超純水送液ラインと、超純水送液ライン
から分岐して超純水の一部を一次純水タンクに戻す返送ラインとを含む超純水製造装置で
あって、
さらに、前記イオン交換装置の出口の水、前記限外ろ過膜装置の下流側であって前記超
純水送液ラインの返送ラインの分岐点より上流側を流れる水、および前記返送ラインを流
れる水の金属濃度をそれぞれ濃縮法を用いて分析する分析手段を含むことを特徴とする、
超純水製造装置が提供される。
According to another aspect of the invention:
A primary pure water tank, an ion exchange device, an ultrafiltration membrane device, an ultrapure water delivery line that is connected to the ultrafiltration membrane device and sends ultrapure water toward a point of use, and an ultrapure An ultrapure water production device comprising a return line branching from a water supply line and returning a portion of the ultrapure water to a primary pure water tank,
Further, water at the outlet of the ion exchange device, water flowing downstream of the ultrafiltration membrane device and upstream from a branch point of the return line of the ultrapure water delivery line, and water flowing through the return line. characterized by comprising an analytical means for analyzing the metal concentration of each using a concentration method,
An ultrapure water production device is provided.
本発明によれば、ユースポイントにおいて超純水の金属濃度が要求仕様を満足しなくな
った際に、その原因となる異常の発生箇所を特定することが容易な超純水製造装置および
その水質管理方法を提供することができる。
According to the present invention, when the metal concentration of ultrapure water no longer satisfies required specifications at a point of use, an ultrapure water production device and its water quality management that make it easy to identify the location of the abnormality that causes it, and its water quality management method can be provided.
以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明するが、本発明はこれによって限定され
るものではない。なお、本明細書において、特に断りの無い限り、用語「上流」「下流」
はそれぞれ、被処理水の流れ方向についての上流および下流を意味する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings, but the present invention is not limited thereto. In addition, in this specification, unless otherwise specified, the terms "upstream" and "downstream"
respectively mean upstream and downstream in the flow direction of the water to be treated.
図１に、本発明の一態様に係る超純水製造装置１の概略構成例を示す。超純水製造装置
１は、一次純水タンク２と、紫外線酸化装置３と、イオン交換装置４と、限外ろ過膜装置
５と、を有している。これらは、超純水製造装置の二次純水システム（サブシステム）を
構成し、一次純水システム（図示せず）で製造された一次純水をこの順に処理して超純水
を製造し、超純水をユースポイントに供給する。超純水の抵抗率（２５℃）は例えば１５
ＭΩ・ｃｍ超であり、場合によっては１８ＭΩ・ｃｍ超である。一次純水の抵抗率は、超
純水の抵抗率よりも低く、例えば０．１～１５ＭΩ・ｃｍである。
FIG. 1 shows a schematic configuration example of an ultrapure
It exceeds MΩ·cm, and in some cases exceeds 18 MΩ·cm. The resistivity of primary pure water is lower than that of ultrapure water, for example, 0.1 to 15 MΩ·cm.
一次純水タンク２には、ラインＬ１を経て一次純水システムから一次純水が適宜供給さ
れ、一次純水が被処理水として貯留される。一次純水タンク２と紫外線酸化装置３とを接
続するラインＬ２を経て、一次純水タンク２に貯留された被処理水が紫外線酸化装置３に
供給される。ここで被処理水に紫外線が照射され、被処理水中の有機物が分解される。紫
外線酸化装置３とイオン交換装置４とを接続するラインＬ３を経て、紫外線酸化装置３か
ら抜き出された被処理水がイオン交換装置４に供給される。ここで被処理水中の金属イオ
ンなどがイオン交換処理により除去される。イオン交換装置４と限外ろ過膜装置５とを接
続するラインＬ４を経て、イオン交換装置４から抜き出された被処理水（イオン交換装置
４の出口の水）が限外ろ過膜装置５に供給される。ここで被処理水中の微粒子が除去され
る。限外ろ過膜装置５から、限外ろ過膜を透過した被処理水（限外ろ過膜装置出口水）が
、超純水としてラインＬ５に抜き出される。ラインＬ５は、ユースポイントに向けて超純
水を送液する超純水送液ラインであり、限外ろ過膜装置５の透過水出口とユースポイント
とを接続する。図示しないが、限外ろ過膜装置５から、濃縮水（限外ろ過膜を透過しなか
った被処理水）を排出することができる。
Primary pure water is appropriately supplied to the primary
超純水送液ラインＬ５から、分岐点９において、超純水の一部を一次純水タンクに戻す
返送ラインＬ６が分岐する。ラインＬ６は一次純水タンク２に接続される。超純水送液ラ
インＬ５の分岐点９より上流側を流れる水のうちの一部がユースポイントに供給され、残
余の部分が返送ラインＬ６を経て一次純水タンク２に還流する。
A return line L6 that returns a portion of the ultrapure water to the primary pure water tank branches off from the ultrapure water supply line L5 at a branch point 9. Line L6 is connected to primary
必要に応じて、図１に示す機器以外の機器を用いることもできる。例えば、被処理水を
送液するためのポンプ、および被処理水の温度調節のための熱交換器を、一次純水タンク
２と紫外線酸化装置３との間（ラインＬ２）に設けることができる。さらに、イオン交換
装置４と限外ろ過膜装置５との間（ラインＬ４）に、酸素を除去する膜脱気装置を設ける
こともできる。
If necessary, equipment other than the equipment shown in FIG. 1 can also be used. For example, a pump for feeding the water to be treated and a heat exchanger for adjusting the temperature of the water to be treated can be provided between the primary
前処理システム、一次純水システムおよび二次純水システムを含めて超純水製造装置を
構成する各機器には、超純水製造の分野で公知の機器を適宜利用することができる。例え
ばイオン交換装置４として、非再生型混床式イオン交換樹脂塔（カートリッジポリッシャ
ー）を用いることができる。限外ろ過膜装置５は、例えば、ハウジング中に適宜の中空糸
膜モジュールを備える。なお、例えばラインＬ４、Ｌ５、Ｌ６には、金属の溶出を防止す
るために、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）やポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）などの非金属
材料（樹脂）を使用することができる。
For each device constituting the ultrapure water production apparatus, including the pretreatment system, primary pure water system, and secondary pure water system, devices known in the field of ultrapure water production can be used as appropriate. For example, as the
分岐点６において、ラインＬ４からサンプリングラインＬ１１が分岐する。分岐点７に
おいて、ラインＬ５からサンプリングラインＬ１２が分岐する。分岐点７は、分岐点９よ
りも上流側に位置する。分岐点８において、ラインＬ６からサンプリングラインＬ１３が
分岐する。サンプリングラインＬ１１、Ｌ１２およびＬ１３に、それぞれイオン交換装置
出口水、限外ろ過膜装置５の下流側であって超純水送液ラインＬ５の分岐点９より上流側
を流れる水（限外ろ過膜装置出口水）および返送ラインを流れる水の金属分析用試料がサ
ンプリングされる。例えば、ラインＬ４に膜脱気装置を設ける場合、分岐点６の下流に膜
脱気装置を設けることができる。この場合、膜脱気装置の下流、かつ限外ろ過膜装置５の
上流に、別途サンプリングラインを設けて、金属分析を行うことができる。これによって
、膜脱気装置からの汚れと限外ろ過膜からの汚れを分離して評価可能となる。
At branch point 6, sampling line L11 branches from line L4. At branch point 7, sampling line L12 branches from line L5. Branch point 7 is located upstream of branch point 9. At
サンプリングラインＬ１１、Ｌ１２およびＬ１３にはそれぞれ、弁１１、１２および１
３が設けられ、また分析手段１４、１５および１６が弁１１、１２および１３の下流側に
接続される。弁１１、１２および１３として、開閉弁を用いることができる。これらの弁
は、サンプリング時に開とし、サンプリングを行わない際には閉とすることができる。
Sampling lines L11, L12 and L13 are equipped with
3 are provided and analysis means 14, 15 and 16 are connected downstream of the
分析手段１４、１５および１６は、イオン交換装置出口水、超純水送液ラインの返送ラ
インの分岐点より上流側を流れる水（限外ろ過膜装置出口水）および返送ラインを流れる
水の金属濃度をそれぞれ分析する分析工程で使用される。分析工程で分析する金属は、特
に限定しないが、例えばＮａ、Ｋ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｃｒ、
およびＰｂからなる群から選ばれる１種または２種以上である。例えば、ＮａおよびＣａ
はイオン交換樹脂から、Ａｌ、Ｃｒ、Ｆｅ、ＮｉおよびＣｕは金属製部材から、Ｚｎは限
外ろ過膜から、溶出する可能性がある。
Analyzing means 14, 15, and 16 analyze metals in the ion exchanger outlet water, the water flowing upstream from the branch point of the return line of the ultrapure water supply line (ultrafiltration membrane device outlet water), and the water flowing in the return line. Used in the analysis process to analyze each concentration. The metals analyzed in the analysis step are not particularly limited, but include, for example, Na, K, Ca, Mg, Fe, Cu, Al, Zn, Ni, Cr,
and Pb, or one or more selected from the group consisting of Pb. For example, Na and Ca
may be eluted from the ion exchange resin, Al, Cr, Fe, Ni and Cu from the metal member, and Zn from the ultrafiltration membrane.
例えば、分析工程で分析する金属の少なくとも１種について、典型的には分析工程で分
析する全ての金属について、超純水の金属濃度（正常値）は１ｎｇ／Ｌ以下である。した
がって、金属濃度異常の的確な検知の観点から、分析工程の金属濃度の定量下限値は、０
．１ｎｇ／Ｌ以下が好ましく、０．０１ｎｇ／Ｌ以下がより好ましい。また、分析工程に
おける金属濃度の定量下限値が１ｐｇ／Ｌ程度であれば、１ｎｇ／Ｌの１／１０００のレ
ベルまで金属濃度を定量分析できる。したがって、分析工程の金属濃度の定量下限値は、
１ｐｇ／Ｌ以上であってよい。なお、分析工程でただ１種の金属を分析する場合、ここで
いう定量下限値は、その金属の定量下限値を意味する。分析工程で複数種の金属を分析す
る場合、分析する複数種の金属のうちの少なくとも１種について定量下限値が上記範囲に
あることが好ましいが、全ての金属についての定量下限値が上記の範囲にあることがより
好ましい。
For example, the metal concentration (normal value) of ultrapure water is 1 ng/L or less for at least one metal to be analyzed in the analysis step, typically for all metals to be analyzed in the analysis step. Therefore, from the viewpoint of accurate detection of metal concentration abnormalities, the lower limit of quantification of metal concentration in the analysis process is 0.
．． It is preferably 1 ng/L or less, more preferably 0.01 ng/L or less. Further, if the lower limit of determination of metal concentration in the analysis step is about 1 pg/L, the metal concentration can be quantitatively analyzed down to a level of 1/1000 of 1 ng/L. Therefore, the lower limit of determination of metal concentration in the analysis process is
It may be 1 pg/L or more. In addition, when only one type of metal is analyzed in the analysis step, the lower limit of quantification here means the lower limit of quantification of that metal. When multiple types of metals are analyzed in the analysis process, it is preferable that the lower limit of quantification for at least one of the multiple metals to be analyzed is within the above range, but the lower limit of quantification for all metals is preferably within the above range. It is more preferable that the
近年、半導体工場からはｎｇ／Ｌよりさらに低いレベルの水質管理が求められている。
また、ＩＲＤＳ（Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｒｏａｄｍａｐ
ｆｏｒ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒｓ）によると超純水中の金属要求水質は１ｎｇ／
Ｌであるが、実際には、要求水質の１／１０００のレベルの分析を行う必要がある場合も
ある。微量の金属をより正確に定量分析するためには、サンプル水中に弁から金属が溶出
することを防止することが好ましい。そのため、サンプリングラインに設けられる弁１１
、１２および１３の少なくとも接液部が非金属製であることが好ましく、これらの弁の全
体が非金属製であることがより好ましい。弁に用いる非金属材料は、典型的には樹脂、特
にはフッ素樹脂である。フッ素樹脂としては、例えば、ＰＶＤＦ（ポリフッ化ビニリデン
）、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ＰＦＡ（パーフルオロアルコキシアルカ
ン）、ＦＥＰ（四フッ化エチレン・六フッ化プロピレン共重合樹脂）、ＰＣＴＦＥ（三フ
ッ化塩化エチレン）、ＥＴＦＥ（四フッ化エチレン・エチレン共重合樹脂）などを使用で
きる。
In recent years, semiconductor factories have been demanding water quality management at a level even lower than ng/L.
In addition, IRDS (International Technology Roadmap)
For Semiconductors), the required quality of metal in ultrapure water is 1ng/
However, in reality, it may be necessary to perform analysis at a level of 1/1000 of the required water quality. In order to more accurately quantitatively analyze trace amounts of metals, it is preferable to prevent metals from eluting from the valve into the sample water. Therefore, the
, 12 and 13 are preferably made of non-metallic material, and it is more preferable that the entirety of these valves is made of non-metallic material. The non-metallic material used for the valve is typically a resin, particularly a fluororesin. Examples of fluororesins include PVDF (polyvinylidene fluoride), PTFE (polytetrafluoroethylene), PFA (perfluoroalkoxyalkane), FEP (tetrafluoroethylene/hexafluoropropylene copolymer resin), and PCTFE (trifluoropropylene). Ethylene chloride), ETFE (tetrafluoroethylene/ethylene copolymer resin), etc. can be used.
分析工程では、サンプル水中の金属を濃縮したうえで、金属濃度の測定装置、例えば誘
導結合プラズマ質量分析計（ＩＣＰ－ＭＳ）を用いてサンプル水（もしくは濃縮液）中の
金属濃度を測定することができる。その濃縮法としては、例えば、イオン吸着膜によって
サンプル水中の金属を捕捉し、捕捉した金属を酸等の溶離液を用いて溶離する方法を採用
することができる。濃縮法として、イオン吸着膜濃縮法のほかに加熱濃縮法（サンプル水
を加熱して濃縮する）があるが、高倍率でクリーンに濃縮するにはイオン吸着膜濃縮法が
好ましい。濃縮操作の濃縮倍率は、適宜決めることができる。イオン吸着膜に替えて、モ
ノリス状の樹脂からなるイオン交換体を用いてもよい。モノリス状の樹脂からなるイオン
交換体を用いると、イオン交換体にかかる差圧がイオン吸着膜法と比較して小さいため、
高ＳＶ（空間速度）でイオン交換体に通水でき、所要時間の短縮が可能である。上記以外
にも、分析工程（濃縮操作を含む）に、超純水中の金属定量分析の分野で公知の方法を適
宜採用することができる。
In the analysis process, after concentrating the metals in the sample water, the metal concentration in the sample water (or concentrated liquid) is measured using a metal concentration measuring device, such as an inductively coupled plasma mass spectrometer (ICP-MS). I can do it. As the concentration method, for example, a method can be adopted in which metals in the sample water are captured by an ion adsorption membrane and the captured metals are eluted using an eluent such as an acid. In addition to the ion adsorption membrane concentration method, there is a thermal concentration method (concentrating the sample water by heating it) as a concentration method, but the ion adsorption membrane concentration method is preferable for cleanly concentrating at a high magnification. The concentration ratio of the concentration operation can be determined as appropriate. An ion exchanger made of a monolithic resin may be used instead of the ion adsorption membrane. When an ion exchanger made of a monolithic resin is used, the differential pressure applied to the ion exchanger is smaller compared to the ion adsorption membrane method.
Water can be passed through the ion exchanger at a high SV (space velocity), and the required time can be shortened. In addition to the above, methods known in the field of quantitative analysis of metals in ultrapure water can be appropriately employed in the analysis step (including concentration operation).
分析手段は、金属濃度の測定装置を含む。濃縮操作を行う場合、分析手段は、さらに濃
縮手段を含む。濃縮手段は、例えば前述のようにイオン吸着膜、あるいはモノリス状の樹
脂からなるイオン交換体を含む。なお、図１では分析手段１４、１５、１６がサンプリン
グラインＬ１１、Ｌ１２、Ｌ１３ごとに別個に設けられているが、必ずしもその限りでは
ない。例えば、濃縮手段はサンプリングラインごとに別個に設けて各サンプル水を濃縮し
、それぞれの濃縮液を共用の測定装置で分析することができる。
The analysis means includes a metal concentration measuring device. When performing a concentration operation, the analysis means further includes a concentration means. The concentration means includes, for example, an ion adsorption membrane or an ion exchanger made of a monolithic resin as described above. In addition, although the analysis means 14, 15, and 16 are provided separately for each sampling line L11, L12, and L13 in FIG. 1, this is not necessarily the case. For example, a concentrating means can be provided separately for each sampling line to concentrate each sample water, and each concentrated liquid can be analyzed by a shared measuring device.
なお、サンプリングラインＬ１１、Ｌ１２、Ｌ１３や分析手段１４、１５、１６におい
て、弁１１、１２および１３以外の部材についても、サンプル水に接する部分の材料とし
て、適宜非金属材料（樹脂）を用いることができる。
In addition, in the sampling lines L11, L12, L13 and the analysis means 14, 15, 16, non-metallic materials (resin) may be used as appropriate for the parts other than the
ユースポイントにおいて超純水の金属濃度が要求仕様を満たさなかった場合、すなわち
水質異常があった場合、イオン交換装置出口水、超純水送液ラインＬ５の分岐点９より上
流側を流れる水（限外ろ過膜装置出口水）および返送ラインを流れる水の金属濃度がそれ
ぞれ要求仕様を満たしているか否かという情報に基づいて、容易に異常発生箇所を特定す
ることができる。図１に示される超純水製造装置について、その具体的な方法の例を以下
に説明する。表１には、ラインＬ１１、Ｌ１２およびＬ１３のサンプリング水の金属濃度
が「○」（正常）と判断とされるか「×」（異常）と判断されるかによって、ケース分け
した例を示す。ここで各水は正常時に０．１ｎｇ／Ｌ以下の金属濃度を有し、各水の金属
濃度が０．１ｎｇ／Ｌ以下の場合に「〇」（正常）、０．１ｎｇ／Ｌ超の場合に「×」（
異常）と判断するものとする。いずれのケースも、ユースポイントにおいて水の金属濃度
が０．１ｎｇ／Ｌ超であったものとする。
If the metal concentration of the ultrapure water does not meet the required specifications at the point of use, that is, if there is an abnormality in water quality, the ion exchanger outlet water, the water flowing upstream from the branch point 9 of the ultrapure water supply line L5 ( The location of the abnormality can be easily identified based on information as to whether the metal concentrations of the water flowing through the ultrafiltration membrane device outlet water) and the water flowing through the return line meet the required specifications. An example of a specific method for the ultrapure water production apparatus shown in FIG. 1 will be described below. Table 1 shows an example in which cases are divided depending on whether the metal concentration of the sampled water of lines L11, L12, and L13 is determined to be "○" (normal) or "x" (abnormal). Here, each water has a metal concentration of 0.1 ng/L or less under normal conditions, and if the metal concentration of each water is 0.1 ng/L or less, it is marked "○" (normal), and if it exceeds 0.1 ng/L, it is marked "○" (normal). "x" (
abnormality). In both cases, it is assumed that the metal concentration in the water was more than 0.1 ng/L at the point of use.
ケース１は、ユースポイントで水質異常があるが、いずれのサンプル水にも異常が認め
られない場合である。この場合、水質異常の原因は、ユースポイントの内部にあると推定
できる。
ケース２は、ラインＬ１１およびＬ１２のサンプル水には異常が認められないが、ライ
ンＬ１３のサンプル水に異常が認められた場合である。この場合、水質異常の原因は、分
岐点７から分岐点９までの配管にあると推定できる。
ケース３は、ラインＬ１１のサンプル水には異常が認められないが、ラインＬ１２およ
びＬ１３のサンプル水に異常が認められた場合である。この場合、水質異常の原因は、分
岐点７より上流かつ分岐点６より下流、特には限外ろ過膜装置５にあると推定できる。
ケース４は、ラインＬ１１、Ｌ１２およびＬ１３のサンプル水に異常が認められた場合
である。この場合、水質異常の原因は、分岐点６より上流、特にはイオン交換装置４にあ
ると推定できる。
〔参考例〕
以下、サンプリングラインに、金属（ＳＵＳ３１６）製の弁を設けた場合と、流体（サ
ンプル水）に接する部分の材質がフッ素樹脂（ＰＦＡもしくはＰＴＦＥ）である非金属製
の弁を設けた場合について、サンプル水を濃縮分析して、サンプル水の金属濃度（金属イ
オン濃度）を調べた例について説明する。図２に示すように、メイン配管２０に、分岐管
２１を２つ設けた。一方の分岐管に、全体が金属製の開閉弁２２を接続し、他方の分岐管
に、全体が非金属性の開閉弁２３を接続した。それぞれの弁の出口にコネクタ２４をねじ
込み、コネクタにチューブ２５を接続した。それぞれのチューブ２５に、多孔質イオン吸
着膜を備える濃縮装置２６を接続した。上記部材および装置（開閉弁を除く）の少なくと
もサンプル水に接する部分は非金属製とした。
[Reference example]
Below, we will explain the case where a metal (SUS316) valve is installed in the sampling line, and the case where a non-metallic valve whose part that comes into contact with the fluid (sample water) is made of fluororesin (PFA or PTFE) is installed. An example in which the metal concentration (metal ion concentration) of the sample water was investigated by concentrating and analyzing the sample water will be described. As shown in FIG. 2, two
開閉弁２２および２３を開にしてメイン配管２０にサンプル水を供給し、濃縮装置２６
に備わるイオン吸着膜に約２０００Ｌのサンプル水を通水し、サンプル水中の金属をイオ
ン吸着膜に捕捉した。その後、多摩化学社製の高純度硝酸（商品名：ＴＡＭＡＰＵＲＥ
ＡＡ－１００）を希釈した２Ｎ硝酸１００ｍｌを用いて、イオン吸着膜から金属を溶離し
た。得られた溶離液中の金属量をＩＣＰ－ＭＳで測定した。濃縮倍率は２０００／０．１
＝２００００倍であるから、溶離液中の金属量（ｎｇ）を濃縮倍率で除した値からサンプ
ル水中の金属濃度を求めた。
The on-off
Approximately 2000 L of sample water was passed through the ion adsorption membrane provided in the ion adsorption membrane, and the metals in the sample water were captured by the ion adsorption membrane. After that, high-purity nitric acid (product name: TAMAPURE) manufactured by Tama Chemical Co., Ltd.
Metals were eluted from the ion adsorption membrane using 100 ml of 2N nitric acid diluted with AA-100). The amount of metal in the obtained eluent was measured by ICP-MS. Concentration ratio is 2000/0.1
= 20,000 times, the metal concentration in the sample water was determined from the value obtained by dividing the amount of metal (ng) in the eluent by the concentration ratio.
その結果を表２に示す。金属製の開閉弁２２を用いた場合と比べて、非金属製の開閉弁
２３を用いた場合のほうが、いずれの金属濃度も低かったか、あるいは同等であった。
The results are shown in Table 2. Compared to the case where the metal on-off
表２によれば、例えばＮｉについては、金属製の弁による汚染分が約０．０３ｎｇ／Ｌ
ある。したがって、サンプリングラインに金属製の弁を用いた場合、金属分析の分析値が
、この程度の誤差を含む可能性がある。非金属製の弁を用いると、このような誤差を排除
することが容易である。その結果、異常箇所の特定も、より容易となる。また、金属製の
弁を用いると金属が溶出されて超純水の金属濃度を低濃度で評価することが困難になるこ
とがあるが、非金属性の弁を用いることで超純水中の金属濃度を低濃度で評価することが
可能となる。
According to Table 2, for example, for Ni, the amount of contamination caused by metal valves is approximately 0.03 ng/L.
be. Therefore, when a metal valve is used in the sampling line, there is a possibility that the analytical value of the metal analysis includes an error of this degree. Using non-metallic valves makes it easier to eliminate such errors. As a result, it becomes easier to identify abnormal locations. Additionally, if metal valves are used, metals may be eluted and it may be difficult to evaluate the metal concentration in ultrapure water at low concentrations, but by using nonmetallic valves, metals may be eluted. It becomes possible to evaluate metal concentrations at low concentrations.
１ 超純水製造装置
２ 一次純水タンク
３ 紫外線酸化装置
４ イオン交換装置
５ 限外ろ過膜装置
６、７、８、９ 分岐点
１１、１２、１３ 弁
１４、１５、１６ 分析手段
２０ メイン配管
２１ 分岐管
２２ 金属製の弁
２３ 非金属製の弁
２４ 非金属製コネクタ
２５ 非金属製チューブ
２６ 濃縮装置
1 Ultrapure
Claims (7)
され、ユースポイントに向けて超純水を送液する超純水送液ラインと、超純水送液ライン
から分岐して超純水の一部を一次純水タンクに戻す返送ラインとを含む超純水製造装置の
水質管理方法であって、
前記イオン交換装置の出口の水、前記限外ろ過膜装置の下流側であって前記超純水送液
ラインの返送ラインの分岐点より上流側を流れる水、および前記返送ラインを流れる水の
金属濃度をそれぞれ濃縮法を用いて分析する分析工程を含むことを特徴とする、水質管理
方法。 A primary pure water tank, an ion exchange device, an ultrafiltration membrane device, an ultrapure water delivery line that is connected to the ultrafiltration membrane device and sends ultrapure water toward a point of use, and an ultrapure A water quality control method for an ultrapure water production device comprising a return line branching from a water supply line and returning a part of the ultrapure water to a primary pure water tank,
Water at the outlet of the ion exchange device, water flowing downstream of the ultrafiltration membrane device and upstream from the branch point of the return line of the ultrapure water delivery line, and metals in the water flowing through the return line. A water quality management method characterized by comprising an analysis step of analyzing each concentration using a concentration method.
であって前記超純水送液ラインの返送ラインの分岐点より上流側を流れる水、及び前記返
送ラインを流れる水をそれぞれサンプリングするサンプリングラインを有し、
前記サンプリングラインがいずれも、少なくとも接液部が非金属製であるバルブを備え
る、請求項１に記載の水質管理方法。 The ultrapure water production device includes water at the outlet of the ion exchange device, water flowing downstream of the ultrafiltration membrane device and upstream from a branch point of the return line of the ultrapure water delivery line, and comprising a sampling line for sampling water flowing through the return line, respectively;
The water quality control method according to claim 1, wherein each of the sampling lines includes a valve whose at least a liquid contact part is made of non-metallic material.
ｉ、ＣｒおよびＰｂからなる群から選ばれる少なくとも１種である、請求項１または２に
記載の水質管理方法。 The metals analyzed in the analysis step are Na, K, Ca, Mg, Fe, Cu, Al, Zn, N
The water quality management method according to claim 1 or 2, wherein the water quality control method is at least one selected from the group consisting of i, Cr, and Pb.
ｇ／Ｌ以下である、請求項１～３のいずれか一項に記載の水質管理方法。 The ultrapure water has a metal concentration of 1n for at least one metal to be analyzed in the analysis step.
The water quality control method according to any one of claims 1 to 3, wherein the water quality control method is less than or equal to g/L.
１ｎｇ／Ｌ以下である、請求項１～４のいずれか一項に記載の水質管理方法。 For at least one of the metals analyzed in the analysis step, the lower limit of metal concentration quantification is 0.
The water quality control method according to any one of claims 1 to 4, wherein the water quality control method is 1 ng/L or less.
され、ユースポイントに向けて超純水を送液する超純水送液ラインと、超純水送液ライン
から分岐して超純水の一部を一次純水タンクに戻す返送ラインとを含む超純水製造装置で
あって、
さらに、前記イオン交換装置の出口の水、前記限外ろ過膜装置の下流側であって前記超
純水送液ラインの返送ラインの分岐点より上流側を流れる水、および前記返送ラインを流
れる水の金属濃度をそれぞれ濃縮法を用いて分析する分析手段を含むことを特徴とする、
超純水製造装置。 A primary pure water tank, an ion exchange device, an ultrafiltration membrane device, an ultrapure water delivery line that is connected to the ultrafiltration membrane device and sends ultrapure water toward a point of use, and an ultrapure An ultrapure water production device comprising a return line branching from a water supply line and returning a portion of the ultrapure water to a primary pure water tank,
Further, water at the outlet of the ion exchange device, water flowing downstream of the ultrafiltration membrane device and upstream from a branch point of the return line of the ultrapure water delivery line, and water flowing through the return line. characterized by comprising an analytical means for analyzing the metal concentration of each using a concentration method,
Ultrapure water production equipment.
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