JP2024010043A - 分析物の検出及び分析のための方法及びシステム - Google Patents

分析物の検出及び分析のための方法及びシステム Download PDF

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Sullivan Jamie
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Abstract

【課題】生物試料の高効率でのサンプルの処理及び/又は分析方法及びシステムを提供する。【解決手段】分析物の検出及び分析のためのシステム及び方法が提供される。システムは、回転するように構成されている開放基板310を含むことができる。開放基板は、固定化分析物のアレイを含むことができる。複数のプローブを含む溶液を、前記基板の回転時に、遠心力によって、アレイを横断して移動させることで、前記複数のプローブの少なくとも一つを前記分析物の少なくとも一つと結合させて結合プローブを形成することができる。検出器は、基板の連続回転域スキャンを介した結合プローブからのシグナルを検出するように構成されていることができる。【選択図】図3

Description

相互参照
本願は、2017年11月17日出願の米国仮特許出願第62/588,139号、2
018年1月30日出願の米国仮特許出願第62/623,743号、2018年4月2
7日出願の米国仮特許出願第62/664,049号、2018年5月8日出願の米国特
許出願第15/974,364号、2018年5月8日出願の米国特許出願第15/97
4,441号、及び、2018年5月8日出願の米国特許出願第15/974,543号
(これらの出願はそれぞれ参照によりその全体が本明細書に組み入れられる。)の恩恵を
主張するものである。
生物試料処理は、分子生物学及び医学(例えば、診断)の分野に各種用途を有する。例
えば、核酸配列決定によって、対象者におけるある種の状態を診断し、場合によっては、
治療計画を作るのに用いることができる情報を得ることができる。配列決定は、分子生物
学的用途で広く用いられ、例えばベクター設計、遺伝子療法、ワクチン設計、工業的菌株
設計及びベリフィケーションがある。生物試料処理には、フルイディクスシステム及び/
又は検出システムが関与し得る。
生物試料処理のシステム及び方法が普及しているにも拘わらず、そのようなシステム及
び方法は効率が低い可能性があり、時間集約的であったり、試薬などの貴重なリソースを
消耗するものであったりし得る。そこで、高効率でのサンプルの処理及び/又は分析方法
及びシステムが必要とされていることがわかる。
本開示は、サンプルの処理及び/又は分析方法及びシステムを提供する。
1態様において、(a)開放基板を中心軸を中心として回転させること(当該開放基板
は、その上に固定化分析物のアレイを有する。);(b)複数のプローブを有する溶液を
中心軸近くの領域に送って、当該溶液を当該開放基板に導入すること;(c)少なくとも
遠心力によって、当該溶液を当該開放基板を横断して分散させて、前記複数のプローブの
少なくとも一つが、前記固定化分析物の少なくとも一つに結合して、結合プローブを形成
するようにすること;及び(d)検出器を用いて、前記開放基板の連続回転域スキャンを
介して、前記結合プローブからの少なくとも1つのシグナルを検出することを含む、分析
物の検出又は分析方法が提供される。
一部の実施形態において、前記連続回転域スキャンは、スキャン域内の中心軸に関する
前記アレイの異なる半径方向位置での速度差を補償する。一部の実施形態において、前記
連続回転域スキャンは、前記開放基板に沿ったスキャン方向に対して実質的に横断方向の
アナモルフィック倍率勾配を有する光学撮像システムを用いることを含み、当該アナモル
フィック倍率勾配は少なくとも部分的に、スキャン方向に対して実質的に垂直である接線
速度差を補償する。一部の実施形態において、前記連続回転域スキャンは、前記開放基板
上の2又はそれ以上の領域をそれぞれ2又はそれ以上のスキャン速度で読み取ることで、
前記2又はそれ以上の領域における接線速度差を少なくとも部分的に補償することを含む
一部の実施形態において、(d)はさらに、前記検出器及び前記開放基板と光学的に連
絡している液浸対物レンズを用いて、少なくとも1つのシグナルを検出することを含み、
その液浸対物レンズは前記開放基板に接触している流体に接触している。一部の実施形態
において、前記流体は容器中にあり、電場を用いて、前記容器の1又はそれ以上の表面の
疎水性を制御することで、前記液浸対物レンズ及び前記開放基板に接触している流体の少
なくとも一部を保持する。
一部の実施形態において、前記連続回転域スキャンは、第1の動作条件を有する第1の
環境で行い、前記溶液の送達は、前記第1の動作条件と異なる第2の動作条件を有する第
2の環境で行う。
一部の実施形態において、前記固定化分析物は核酸分子を含み、前記複数のプローブは
蛍光標識ヌクレオチドを含み、前記蛍光標識ヌクレオチドの少なくとも一つが、ヌクレオ
チド相補性結合を介して前記核酸分子の少なくとも一つに結合している。
一部の実施形態において、前記開放基板は実質的に平面的である。
別の態様において、上に固定化分析物のアレイを有する開放基板を受けるように構成さ
れた筐体;前記開放基板の中心軸に近くの領域に複数のプローブを有する溶液を送るよう
に構成された1又はそれ以上のディスペンサー;前記開放基板を中心軸を中心として回転
させるように構成された回転ユニット[その回転により、少なくとも遠心力によって前記
開放基板を横断して前記溶液が分散されて、前記複数のプローブの少なくとも一つが前記
分析物の少なくとも一つに結合して、結合プローブを形成する。];及び前記開放基板の
連続回転域スキャンを介して前記結合プローブからの少なくとも1つのシグナルを検出す
るように構成された検出器を含む、分析物の検出又は分析用の装置が提供される。
一部の実施形態において、前記検出器は、スキャン域内の前記中心軸に関して前記アレ
イの異なる半径方向位置での速度差を補償するように構成されている。一部の実施形態に
おいて、前記1又はそれ以上の光学器は、前記開放基板に沿ったスキャン方向に対して実
質的に横断的なアナモルフィック倍率勾配を発生させるように構成されており、前記アナ
モルフィック倍率勾配は少なくとも部分的に、前記スキャン方向に対して実質的に垂直な
接線速度差を補償する。一部の実施形態において、前記装置はさらに、前記アナモルフィ
ック倍率勾配を調節して、前記中心軸に関して異なる撮像半径方向位置を補償するよう構
成された処理装置を含む。
一部の実施形態において、前記検出器は、それぞれ2又はそれ以上のスキャン速度で前
記開放基板上の2又はそれ以上の領域をスキャンして、少なくとも部分的に前記2又はそ
れ以上の領域における接線速度差を補償するように構成されている。
一部の実施形態において、前記検出器は、センサ及び前記開放基板と光学的に連絡して
いる1又はそれ以上の光学器を含む。
一部の実施形態において、前記装置はさらに、前記検出器及び前記開放基板と光学的に
連絡している液浸対物レンズを含み、その液浸対物レンズは、前記開放基板に接触してい
る流体に接触しているように構成されている。一部の実施形態において、前記装置はさら
に、流体を保持するよう構成された容器及び前記容器の1又はそれ以上の表面の疎水性を
制御して、前記液浸対物レンズ及び前記開放基板に接触する前記流体の少なくとも一部を
保持するように構成された電場印加ユニットを含む。一部の実施形態において、前記液浸
対物レンズは、第1の環境を第2の環境から分離するように構成されており、前記第1の
環境及び第2の環境は異なる動作条件を有する。一部の実施形態において、前記液浸対物
レンズは、前記第1の環境と前記第2の環境の間のシールを形成している。
一部の実施形態において、前記検出器は、前記開放基板を横断する非線形スキャン路に
おける前記結合プローブからの前記少なくとも1つのシグナルを検出するように構成され
ている。一部の実施形態において、非線形スキャン路は、実質的に螺旋状スキャン路又は
実質的に環状スキャン路である。
別の態様において、実行されると1又はそれ以上のコンピュータ処理装置に分析物の検
出又は分析方法を実行させる保存された非一時的命令を含むコンピュータ可読媒体が提供
され、その方法は、中心軸を中心として開放基板を回転させること[当該開放基板は、上
に固定化分析物のアレイを有する];複数のプローブを有する溶液を中心軸近くの領域に
送って、当該溶液を当該開放基板に導入すること;当該溶液を、少なくとも遠心力によっ
て前記開放基板を横断して分散させることで、前記複数のプローブの少なくとも一つが前
記固定化分析物の少なくとも一つに結合して、結合プローブを形成させること;及び検出
器を用いて、前記開放基板の連続回転域スキャンを介して前記結合プローブからの少なく
とも1つのシグナルを検出することを含む。
一部の実施形態において、前記方法はさらに、前記検出器及び前記開放基板と光学的に
連絡している液浸対物レンズを用いて、前記少なくとも1つのシグナルを検出することを
含み、その液浸対物レンズは、前記開放基板に接触している流体に接触している。一部の
実施形態において、前記方法はさらに、電場を用いて容器の1又はそれ以上の表面の疎水
性を制御することで、前記液浸対物レンズ及び前記開放基板と接触している前記流体の少
なくとも一部を保持することを含む。
一部の実施形態において、前記固定化分析物は、核酸分子を含み、前記複数のプローブ
は蛍光標識ヌクレオチドを含み、前記蛍光標識ヌクレオチドの少なくとも一つが、プライ
マー伸長反応を介して前記核酸分子の少なくとも一つに結合する。
一部の実施形態において、前記連続回転域スキャンは、スキャン域内の前記中心軸に関
して前記アレイの異なる半径方向位置での速度差を補償する。一部の実施形態において、
前記連続回転域スキャンは、前記開放基板に沿ったスキャン方向に対して実質的に横断的
なアナモルフィック倍率勾配を有する光学撮像システムを用いることを含み、前記アナモ
ルフィック倍率勾配は少なくとも部分的に、前記スキャン方向に対して実質的に垂直な接
線速度差を補償する。一部の実施形態において、前記方法はさらに、前記アナモルフィッ
ク倍率勾配を調節して、前記中心軸に関して異なる撮像半径方向位置を補償することを含
む。一部の実施形態において、前記検出器は、それぞれ2又はそれ以上のスキャン速度で
前記開放基板上の2又はそれ以上の領域をスキャンして、前記2又はそれ以上の撮像領域
における接線速度差を少なくとも部分的に補償するよう構成されている。
一部の実施形態において、前記連続回転域スキャンは、前記開放基板に沿ったスキャン
方向に対して実質的に垂直な速度差のアルゴリズム的補償を用いることを含む。
一部の実施形態において、前記検出器は、前記開放基板を横断する非線形スキャン路に
おける前記結合プローブからの前記少なくとも1つのシグナルを検出するよう構成されて
いる。
別の態様において、(a)固定化された前記生体分析物のアレイを含む基板を提供する
こと[前記基板は、中心軸に対して回転可能である。];(b)前記基板の回転中に、複
数のプローブを含む溶液を、前記基板を横断して、前記生体分析物と接触するように移動
させること[前記溶液は、前記中心軸から離れる方向に沿って遠心的に移動する。];(
c)前記生体分析物を、前記複数のプローブのうちの少なくとも1つのプローブと前記生
体分析物との間の反応を行うのに十分な条件下として、前記少なくとも1つのプローブを
前記生体分析物に結合させること;及び(d)前記生体分析物に結合した前記少なくとも
1つのプローブからの1又はそれ以上のシグナルを検出することで、前記生体分析物を分
析することを含む、生体分析物の処理方法が提供される。
一部の実施形態において、前記生体分析物は核酸分子であり、前記生体分析物の分析は
、核酸分子の配列を確認することを含む。一部の実施形態において、前記複数のプローブ
は複数のヌクレオチドである。一部の実施形態において、(c)は、前記複数のヌクレオ
チドからの少なくとも1つのヌクレオチドを前記核酸分子に対して相補的である伸長鎖に
組み込むのに十分な条件下で、前記核酸分子についてプライマー伸長反応を行うことを含
む。一部の実施形態において、(d)で、前記1又はそれ以上のシグナルは、前記少なく
とも1つのヌクレオチドの組み込みを示すものである。一部の実施形態において、前記複
数のヌクレオチドは、ヌクレオチド類縁体を含む。一部の実施形態において、前記複数の
ヌクレオチドは、第1の正準塩基型のものである。一部の実施形態において、当該方法は
さらに、第2の正準塩基型のものであるさらなる複数のヌクレオチドで(b)及び(c)
を繰り返すことを含み、前記第2の正準塩基型は、前記第1の正準塩基型とは異なる。一
部の実施形態において、前記複数のプローブは複数のオリゴヌクレオチド分子である。
一部の実施形態において、前記生体分析物は核酸分子であり、(c)は、少なくとも1
つのプローブと前記核酸分子との間の相補性結合反応を行って、(d)で、前記少なくと
も1つのプローブと前記生体分析物の間の相同性の存在を確認することを含む。
一部の実施形態において、(d)における前記検出は、前記基板の回転時に非線形路に
沿って前記アレイを連続的にスキャンするセンサを用いて行う。
一部の実施形態において、前記方法はさらに、(b)の前に、(i)前記基板が静止し
ている時に前記基板上に前記溶液をディスペンスすること、及び(ii)前記基板を回転
させて、前記アレイを横断して前記溶液を移動させることを含む。
一部の実施形態において、前記方法はさらに、(i)(b)の前に前記基板を回転させ
ること、及び(ii)前記基板が回転している間、前記溶液を前記基板上にディスペンス
することを含む。
一部の実施形態において、前記方法はさらに、前記複数のプローブとは異なるさらなる
複数のプローブで(b)~(d)を繰り返すことを含む。
一部の実施形態において、前記溶液の液粘度又は前記基板の回転速度は、前記アレイに
隣接する前記溶液の層の所定の厚さを生じるように選択される。
一部の実施形態において、前記生体分析物は、リンカーを介して前記アレイに固定化さ
れている。
一部の実施形態において、前記生体分析物がビーズに結合されており、そのビーズは前
記アレイに固定化されている。
一部の実施形態において、前記溶液を、前記基板の中心軸に又はその近くに向かう1又
はそれ以上のディスペンスノズルを用いて前記アレイに移動させる。
一部の実施形態において、前記アレイは、複数の個々にアドレス可能な位置を含み、前
記生体分析物は、前記複数の個々にアドレス可能な位置のうちの所与の個々にアドレス可
能な位置に配置されている。
一部の実施形態において、前記アレイは、それに固定化された1又はそれ以上の別の生
体分析物を有する。
一部の実施形態において、前記基板は、テクスチャ化されているか、パターン化されて
いる。
一部の実施形態において、前記1又はそれ以上のシグナルには、1又はそれ以上の光学
シグナルなどがある。
一部の実施形態において、前記方法はさらに、(d)で前記1又はそれ以上のシグナル
を検出する前に、前記基板の回転を終了させることを含む。
一部の実施形態において、(b)及び/又は(c)は、前記基板を第1の角速度で回転
させながら行い、(d)は、前記基板を前記第1の角速度とは異なる第2の角速度で回転
させながら行う。
一部の実施形態において、前記基板は、前記中心軸に対して可動性であり、(b)及び
/又は(c)は、前記基板が前記中心軸の第1の位置にある時に行い、(d)は、前記基
板が前記中心軸の第2の位置にある時に行い、その第2の位置は前記第1の位置とは異な
る。一部の実施形態において、前記第1の位置で、前記基板は第1の角速度で回転し、前
記第2の位置で、前記基板は、前記第1の角速度と異なる第2の角速度で回転する。
一部の実施形態において、前記アレイは実質的に平面アレイである。
別の態様において、生体分析物の処理方法であって、(a)固定化された前記生体分析
物を有する実質的に平面アレイを含む基板を提供すること[前記基板は、中心軸に対して
回転可能である。];(b)複数のプローブを含む溶液を、前記基板の回転時に、前記実
質的に平面アレイを横断して、そして前記生体分析物と接触して移動させること;(c)
前記生体分析物を、前記複数のプローブのうちの少なくとも1つのプローブと前記生体分
析物の間の反応を行うのに十分な条件下として、前記少なくとも1つのプローブを前記生
体分析物に結合させること;及び(d)前記生体分析物に結合した前記少なくとも1つの
プローブからの1又はそれ以上のシグナルを検出することで、前記生体分析物を分析する
ことを含む方法が提供される。
一部の実施形態において、前記生体分析物は核酸分子であり、前記生体分析物の分析は
、前記核酸分子の配列を確認することを含む。
一部の実施形態において、(d)での検出は、前記基板の回転時に非線形路に沿って前
記実質的に平面アレイを連続的にスキャンするセンサを用いて行う。
一部の実施形態において、前記実質的に平面アレイは複数の個々にアドレス可能な位置
を含み、前記生体分析物は、前記複数の個々にアドレス可能な位置のうちの所与の個々に
アドレス可能な位置に配置される。
別の態様において、生体分析物を分析するシステムであって、前記生体分析物を固定化
するように構成されたアレイを有する基板[前記基板は、中心軸に対して回転するように
構成されている。];複数のプローブを含む溶液を前記アレイにディスペンスするように
構成された流体チャネルを含む液流ユニット[前記基板の回転時に、前記溶液は前記中心
軸から遠ざかる方向に遠心的に移動し、前記複数のプローブのうちの少なくとも1つのプ
ローブを前記生体分析物に結合させるのに十分な条件下で前記生体分析物と接触するよう
になる。];前記アレイと光学的に連絡している検出器[前記検出器は、前記生体分析物
に結合した前記少なくとも1つのプローブからの1又はそれ以上のシグナルを検出するよ
うに構成されている。];及び前記液流ユニット及び前記検出器に動作可能に連結された
1又はそれ以上のコンピュータ処理装置[前記1又はそれ以上のコンピュータ処理装置は
、(i)前記液流ユニットを、前記溶液を前記流体チャネルを通って前記アレイにディス
ペンスするよう命令するように(前記複数のプローブを含む前記溶液は、前記基板の回転
時に、前記中心軸から遠ざかる方向に遠心的に移動し、前記生体分析物と接触するように
なる。)、及び(ii)前記検出器を用いて前記生体分析物に結合した前記少なくとも1
つのプローブからの前記1又はそれ以上のシグナルを検出するように、個別に又は全体的
にプログラムされている。]を含むシステムが提供される。
一部の実施形態において、前記基板は、前記中心軸に沿って移動可能である。一部の実
施形態において、前記流体チャネルは、前記基板が前記中心軸に沿った第1の位置にある
時に前記溶液をディスペンスするように構成されており、前記検出器は、前記基板が前記
中心軸に沿った第2の位置(前記第2の位置は前記第1の位置とは異なる。)にある時に
前記1又はそれ以上のシグナルを検出するように構成されている。一部の実施形態におい
て、前記第1の位置では、前記基板は第1の角速度で回転可能であり、前記第2の位置で
は、前記基板は、前記第1の角速度とは異なる第2の角速度で回転可能である。
一部の実施形態において、前記システムはさらに、別の溶液を前記アレイにディスペン
スするように構成された別の流体チャネルを含み、前記流体チャネル及び前記別の流体チ
ャネルは、前記流体チャネル及び前記別の流体チャネルの出口の上流で互いに流体的に分
離されている。
一部の実施形態において、前記システムはさらに、前記基板と接触している流体に少な
くとも部分的に浸漬されるよう構成されている光学撮像対物レンズを含み、その光学撮像
対物レンズは前記検出器と光学的に連絡している。
一部の実施形態において、前記システムはさらに、前記光学撮像対物レンズを取り囲む
容器を含み、その容器は、前記流体の少なくとも一部を保持するように構成されている。
一部の実施形態において、前記流体チャネルは、前記基板と接触しない。
一部の実施形態において、前記アレイは実質的に平面アレイである。
一部の実施形態において、前記1又はそれ以上のコンピュータ処理装置は、前記液流ユ
ニットが、前記基板の回転の前に、前記溶液を前記流体チャネルを通って前記アレイにデ
ィスペンスするよう命令するように個別に又は全体的にプログラムされている。
一部の実施形態において、前記1又はそれ以上のコンピュータ処理装置は、前記液流ユ
ニットが、前記基板が回転させられている時に、前記溶液を前記流体チャネルを通って前
記アレイにディスペンスするよう命令するように個別に又は全体的にプログラムされてい
る。
一部の実施形態において、前記検出器は、前記基板の回転時に前記1又はそれ以上のシ
グナルを検出するように構成されている。一部の実施形態において、前記検出器は、前記
基板の回転時に非線形路に沿って前記アレイを連続的にスキャンするように構成されてい
る。
一部の実施形態において、前記検出器は、前記基板が回転していない時に、前記1又は
それ以上のシグナルを検出するように構成されている。
一部の実施形態において、前記検出器は光学検出器であり、前記1又はそれ以上のシグ
ナルは1又はそれ以上の光学シグナルである。
一部の実施形態において、前記アレイは、複数の個々にアドレス可能な位置を含む。一
部の実施形態において、前記複数の個々にアドレス可能な位置は、個別に物理的にアクセ
ス可能である。
一部の実施形態において、前記基板は、テクスチャ化されているか、パターン化されて
いる。
一部の実施形態において、前記システムはさらに、前記基板を含む容器を含む。一部の
実施形態において、前記システムはさらに、前記容器の環境の温度若しくは湿度を制御す
るように構成された環境ユニットを含む。一部の実施形態において、前記検出器は、時間
遅延積分(TDI)センサ又は疑似TDI急速フレームレートセンサを含む。一部の実施
形態において、前記システムはさらに、前記アレイと光学的に連絡している別の検出器を
含み、前記検出器及び前記別の検出器は、異なる経路に沿って前記アレイをスキャンする
ように構成されている。一部の実施形態において、前記異なる経路は非線形である。
一部の実施形態において、前記システムはさらに、前記アレイと前記検出器の間の、そ
してそれらと光学的に連絡している1又はそれ以上の光学器を含み、前記1又はそれ以上
の光学器は、前記アレイ横断的に光学倍率勾配を提供するよう構成されている。一部の実
施形態において、前記光学倍率勾配はアナモルフィックである。
別の態様において、生体分析物を固定化するよう構成された実質的に平面アレイを含む
基板[前記基板は、中心軸に対して回転するように構成されている。];前記実質的に平
面アレイに複数のプローブを含む溶液をディスペンスするよう構成されている流体チャネ
ルを含む液流ユニット[前記基板の回転時に、前記溶液は、前記実質的に平面アレイを横
断して移動し、前記複数のプローブのうちの少なくとも1つのプローブを前記生体分析物
に結合させるのに十分な条件下で前記生体分析物と接触するようになる。];前記実質的
に平面アレイと光学的に連絡している検出器[前記検出器は、前記生体分析物と結合した
前記少なくとも1つのプローブからの1又はそれ以上のシグナルを検出するよう構成され
ている。];及び前記液流ユニット及び前記検出器に動作可能に連結された1又はそれ以
上のコンピュータ処理装置[前記1又はそれ以上のコンピュータ処理装置は、(i)前記
液流ユニットを、前記溶液を前記流体チャネルを通って前記アレイにディスペンスするよ
う命令するように(前記複数のプローブを含む前記溶液は、前記基板の回転時に、前記実
質的に平面アレイを横断して移動し、前記生体分析物と接触するようになる。)、及び(
ii)前記検出器を用いて前記生体分析物に結合した前記少なくとも1つのプローブから
の前記1又はそれ以上のシグナルを検出するように、個別に又は全体的にプログラムされ
ている。]を含む核酸分子の配列決定システムが提供される。
一部の実施形態において、前記システムはさらに、前記基板と接触している流体に少な
くとも部分的に浸漬されるように構成されている光学撮像対物レンズを含み、その光学撮
像対物レンズは前記検出器と光学的に連絡している。前記流体は、例えば前記基板の領域
の1以上及び流体筐体の疎水性を制御する電場を用いることによって、閉じ込め又は制御
することができる。
一部の実施形態において、前記検出器は、時間遅延積分(TDI)センサ又は疑似TD
I急速フレームレートセンサを含む。
一部の実施形態において、前記検出器は、前記基板の回転時に前記1又はそれ以上のシ
グナルを検出するように構成されている一部の実施形態において、前記検出器は、前記基
板の回転時に非線形路に沿って前記アレイを連続的にスキャンするように構成されている
別の態様において、(a)固定化されている前記核酸分子を有する平面アレイを含む基
板を提供すること[前記基板は、軸に対して回転するように構成されている。];(b)
前記基板の回転時に複数のヌクレオチドを含む溶液を、前記平面アレイを横断して移動さ
せること;(c)前記複数のヌクレオチドからの少なくとも1つのヌクレオチドを前記核
酸分子に対して相補的である伸長鎖に組み込むのに十分な条件下で、前記核酸分子につい
てプライマー伸長反応を行うこと;及び(d)前記少なくとも1つのヌクレオチドの組み
込みを示すシグナルを検出することで、核酸分子の配列決定を行うことを含む、核酸分子
の配列決定方法を提供する。
前記方法はさらに、(b)の前に、(i)前記基板が静止している時に前記基板上に前
記溶液をディスペンスすること、及び(ii)前記基板を回転させて、前記溶液を前記平
面アレイを横断して移動させることを含むことができる。前記方法はさらに、(i)(b
)の前に前記基板を回転させ、及び(ii)前記基板が回転している間に、前記基板上に
前記溶液をディスペンスすることを含むことができる。前記方法はさらに、(b)~(d
)を1又はそれ以上の回数繰り返して、1又はそれ以上の別のヌクレオチドの取り込みを
示す1又はそれ以上の別のシグナルを確認することで、前記核酸分子の配列決定を行うこ
とを含むことができる。
異なる溶液を、連続サイクルのために、前記基板の回転時に前記平面アレイに移動させ
ることができる。前記回転は、遠心力を発生させることができ、それによって前記溶液が
前記平面アレイを流れる。前記平面アレイの層厚を、液粘度の調節に基づいて操作するこ
とができる。第1の粘度を有する第1の流体を前記平面アレイ上の前記核酸分子を有する
層を作るのに用いることができ、第2の粘度を有する第2の流体を前記平面アレイの洗浄
に用いることができる。前記第1の粘度は、前記第2の粘度と異なっていることができる
。前記第1の粘度は、前記第1の流体の温度を制御することによって制御することができ
る。前記第2の粘度は、前記第2の流体の温度を制御することによって制御することがで
きる。
前記平面アレイは、前記核酸サンプルに結合したリンカーを含むことができる。前記核
酸サンプルはビーズに結合していることができ、そのビーズは前記平面アレイに固定化さ
れている。
前記平面アレイは、少なくとも1つのサンプル注入口及び少なくとも1つのサンプル排
出口と流体で連絡していることができる。前記溶液は、1又はそれ以上のディスペンスノ
ズルを用いて前記平面アレイに移動させることができる。前記1又はそれ以上のノズルは
、前記基板の中心に又はその近くに向けることができる。
前記方法はさらに、前記基板と接触している前記溶液の一部分をリサイクルすることを
含むことができる。リサイクルは、前記溶液の前記一部分を回収、濾過及び再利用するこ
とを含むことができる。前記濾過は、分子濾過であることができる。
前記平面アレイは、複数の個々にアドレス可能な位置を含むことができる。前記平面ア
レイは、テクスチャ化されていることができる。前記平面アレイは、パターン化アレイで
あることができる。
前記シグナルは、光学シグナルであることができる。前記シグナルは蛍光シグナルであ
ることができる。
前記方法はさらに、(d)で前記シグナルを検出する前に、前記基板の回転を終了させ
ることを含むことができる。(d)における前記シグナルは、前記基板を回転させながら
検出することができる。
前記操作(b)及び/又は(c)は第1の位置で行うことができ、(d)は前記第1の
位置とは異なる第2の位置で行うことができる。前記第1の位置は第1の処理ベイを含む
ことができ、前記第2の位置は前記第2の位置と異なる第2の処理ベイを含むことができ
る。前記第1の位置は第2の回転スピンドルに対して内側の第1の回転スピンドルを含む
ことができ、前記第2の位置は前記第2の回転スピンドルを含むことができる。前記第1
の位置は第2の回転スピンドルに対して外側の第1の回転スピンドルを含むことができ、
前記第2の位置は前記第2の回転スピンドルを含むことができる。前記第1の回転スピン
ドル及び第2の回転スピンドルは、異なる角速度で回転するように構成されていることが
できる。前記操作(b)は前記第1の位置で行うことができる。前記操作(c)は前記第
2の位置で行うことができる。前記操作(c)は前記第1の位置で行うことができる。
前記方法はさらに、前記基板を前記第1の位置と前記第2の位置の間に移動させること
を含むことができる。前記操作(b)及び/又は(c)は、前記基板が第1の角速度で回
転している時に行うことができ、(d)は前記基板が前記第1の角速度と異なる第2の角
速度で回転している時に行うことができる。前記第1の角速度は、前記第2の角速度未満
であることができる。前記第1の角速度は、0回転/分(rpm)~100rpmである
ことができる。前記第2の角速度は、100rpm~5,000rpmであることができ
る。前記操作(b)は、前記基板が前記第1の角速度で回転している時に行うことができ
る。前記操作(c)は、前記基板が前記第2の角速度で回転している時に行うことができ
る。前記操作(c)は、前記基板が前記第1の角速度で回転している時に行うことができ
る。
1態様において、核酸分子の配列決定方法は、(a)固定化されている前記核酸分子を
有するアレイを含む基板を提供すること[前記基板は、軸に対して回転するように構成さ
れている。];(b)前記基板の回転時に前記アレイを横断して、複数の天然ヌクレオチ
ド及び/又は非天然ヌクレオチドを含む溶液を移動させること;(c)前記複数の天然ヌ
クレオチド及び非天然ヌクレオチドからの少なくとも1つのヌクレオチドを前記核酸分子
に対して相補的である伸長鎖に組み込むのに十分な条件下で前記核酸分子についてプライ
マー伸長反応を行うこと;及び(d)前記少なくとも1つのヌクレオチドの取り込みを示
すシグナルを検出することで、前記核酸分子を配列決定することを含むことができる。
前記方法はさらに、(b)の前に、(i)前記基板が静止している時に前記基板上に前
記溶液をディスペンスすること、及び(ii)前記基板を回転させて、前記溶液を前記ア
レイに移動させることを含むことができる。前記方法はさらに、(i)(b)の前に、前
記基板を回転させること、及び(ii)前記基板が回転している時に、前記基板上に前記
溶液をディスペンスすることを含むことができる。前記方法はさらに、(c)の後に、前
記少なくとも1つのヌクレオチドを修飾することを含むことができる。前記修飾は、前記
少なくとも1つのヌクレオチドを標識することを含むことができる。前記少なくとも1つ
のヌクレオチドは、開裂的に標識することができる。前記方法はさらに、(d)の後に、
前記少なくとも1つのヌクレオチドの標識を開裂又は修飾することを含むことができる。
前記方法はさらに、(b)~(d)を1又はそれ以上の回数繰り返して、1又はそれ以上
の別のヌクレオチドの取り込みを示す1又はそれ以上の別のシグナルを確認することで、
前記核酸分子を配列決定することを含むことができる。
連続サイクルのために、前記基板の回転時に、異なる溶液を前記アレイに移動させるこ
とができる。(d)の後、及び(b)の次の繰り返しの前に、前記少なくとも1つのヌク
レオチドを修飾することができる。前記回転は、遠心力を発生させることができ、それに
よって前記溶液が前記アレイを流れる。前記アレイの層厚を、液粘度の調節に基づいて操
作することができる。第1の粘度を有する第1の流体を前記アレイ上の前記核酸分子を有
する層を作るのに用いることができ、第2の粘度を有する第2の流体を前記アレイの洗浄
に用いることができる。前記第1の粘度は、前記第2の粘度と異なっていることができる
。前記第1の粘度は、前記第1の流体の温度を制御することによって制御することができ
る。前記第2の粘度は、前記第2の流体の温度を制御することによって制御することがで
きる。
前記アレイは、前記核酸サンプルに結合したリンカーを含むことができる。前記核酸サ
ンプルはビーズに結合していることができ、そのビーズは前記アレイに固定化されている
前記アレイは、少なくとも1つのサンプル注入口及び少なくとも1つのサンプル排出口
と流体で連絡していることができる。前記溶液は、1又はそれ以上のディスペンスノズル
を用いて前記アレイに移動させることができる。前記1又はそれ以上のノズルは、前記基
板の中心に又はその近くに向けることができる。
前記方法はさらに、前記基板と接触している前記溶液の一部分をリサイクルすることを
含むことができる。リサイクルは、前記溶液の前記一部分を回収、濾過及び再利用するこ
とを含むことができる。前記濾過は、分子濾過であることができる。
前記アレイは、複数の個々にアドレス可能な位置を含むことができる。前記アレイは平
面的であることができる。前記アレイは、テクスチャ化されていることができる。前記ア
レイは、パターン化アレイであることができる。
前記シグナルは、光学シグナルであることができる。前記シグナルは蛍光シグナルであ
ることができる。
前記方法はさらに、(b)の前に、前記軸に対して前記基板を回転させることを含むこ
とができる。前記方法はさらに、(d)で前記シグナルを検出する前に、前記基板の回転
を終了させることを含むことができる。(d)における前記シグナルは、前記基板が回転
している時に検出することができる。
前記操作(b)及び/又は(c)は第1の位置で行うことができ、(d)は前記第1の
位置と異なる第2の位置で行うことができる。前記第1の位置は、第1の処理ベイを含む
ことができ、前記第2の位置は、前記第1の処理ベイと異なる第2の処理ベイを含むこと
ができる。前記第1の位置は、第2の回転スピンドルの内側の第1の回転スピンドルを含
むことができ、前記第2の位置は前記第2の回転スピンドルを含むことができる。前記第
1の位置は、第2の回転スピンドルの外側の第1の回転スピンドルを含むことができ、前
記第2の位置は前記第2の回転スピンドルを含むことができる。前記第1の回転スピンド
ル及び第2の回転スピンドルは、異なる角速度で回転するように構成されていることがで
きる。前記操作(b)は、前記第1の位置で行うことができる。前記操作(c)は、前記
第2の位置で行うことができる。前記操作(c)は、前記第1の位置で行うことができる
前記方法はさらに、前記第1の位置と前記第2の位置の間に前記基板を移動させること
を含むことができる。前記操作(b)及び/又は(c)は、前記基板が第1の角速度で回
転している時に行うことができ、(d)は前記基板が前記第1の角速度と異なる第2の角
速度で回転している時に行うことができる。前記第1の角速度は、前記第2の角速度未満
であることができる。前記第1の角速度は、0rpm~100rpmであることができる
。前記第2の角速度は、100rpm~5,000rpmであることができる。前記操作
(b)は、前記基板が前記第1の角速度で回転している時に行うことができる。前記操作
(c)は、前記基板が前記第2の角速度で回転している時に行うことができる。前記操作
(c)は、前記基板が前記第1の角速度で回転している時に行うことができる。
1態様において、核酸分子の配列決定システムは、前記核酸分子を固定化するように構
成されているアレイを含む基板[前記基板は、(i)軸に対して回転するように及び(i
i)長軸に対して相対位置が変わるように構成されている。];第1の流体を前記アレイ
にディスペンスするように構成されている第1の流体出口を含む第1の流体チャネル;第
2の流体を前記アレイにディスペンスするように構成されている第2の流体出口を含む第
2の流体チャネル[前記第1の流体チャネル及び前記第2の流体チャネルは、前記第1の
流体出口の上流で流体的に分離されている。];及び前記アレイからシグナルを検出する
ように構成されている検出器を含むことができる。
前記第1の流体出口及び前記第2の流体出口は、前記基板に対して外側であることがで
きる。前記第1の流体出口及び前記第2の流体出口は、前記基板と接触することができる
。前記第1の流体出口及び前記第2の流体出口はノズルであることができる。
前記軸は、前記長軸と実質的に平行であることができる。前記長軸は、前記軸と一致し
ていることができる。前記長軸は、前記基板の表面に対して実質的に垂直であることがで
きる。前記基板の相対位置は、前記長軸に対して少なくとも第1の位置と及び第2の位置
の間で交代するように構成されていることができる。
前記システムはさらに、(i)前記長軸の第1の高さレベルにある第1の流体注入ポー
トを含む第3の流体チャネル[前記第1の流体注入ポートは、前記基板が前記第1の相対
位置にある時に、前記基板の下流にあり、前記基板と流体で連絡している。]、及び(i
i)前記長軸の第2の高さレベルにある第2の流体注入ポートを含む第4の流体チャネル
[前記第2の流体注入ポートは、前記相対的第2の位置にある時に、前記基板の下流にあ
り、前記基板と流体で連絡している。]を含むことができる。前記第3の流体チャネルは
前記第1の流体チャネルと流体で連絡していることができ、前記第4の流体チャネルは前
記第2の流体チャネルと流体で連絡していることができる。前記基板は、(i)前記第1
の流体出口からの前記第1の流体を受け取る前、途中若しくは後に前記第1の相対位置を
有する、そして(ii)前記第2の流体出口からの前記第2の流体を受け取る前、途中若
しくは後に前記第2の相対位置を有するように構成されていることができる。前記第3の
流体チャネル及び前記第1の流体チャネルは、第1の環状流体流路及び前記第4の流体チ
ャネルの少なくとも一部を規定することができ、前記第2の流体チャネルは第2の環状流
体流路の少なくとも一部を規定することができる。前記第1の環状流体流路及び前記第2
の環状流体流路の少なくとも一つがフィルターを含むことができる。前記フィルターは分
子フィルターであることができる。
前記システムはさらに、前記基板が前記第1の位置にある時に前記基板と(i)前記第
2の流体注入ポートの間の、そして前記基板が前記第2の位置にある時に前記基板と(i
i)前記第1の流体注入ポートの間の流体連絡を防止するシールドを含むことができる。
前記基板は、前記長軸に沿って移動可能であることができる。前記基板は、前記長軸に沿
って静止していることができる。前記第1の流体出口の第1の軸及び前記第2の流体出口
の第2の軸の少なくとも一つが、前記軸と実質的に一致していることができる。前記第1
の流体出口の第1の軸及び前記第2の流体出口の第2の軸の少なくとも一つが、前記軸と
実質的に平行であることができる。
前記第1の流体及び前記第2の流体は、異なる種類の試薬を含むことができる。前記第
1の流体は第1の種類のヌクレオチド又はヌクレオチド混合物を含むことができ、前記第
2の流体は第2の種類のヌクレオチド又はヌクレオチド混合物を含むことができる。前記
第1の流体又は前記第2の流体は、洗浄試薬を含むことができる。
前記検出器は、前記基板の回転時に前記基板からの前記シグナルを検出するように構成
されていることができる。前記検出器は、前記基板が回転していない時に、前記基板から
の前記シグナルを検出するように構成されていることができる。
前記シグナルは光学シグナルであることができる。前記シグナルは蛍光シグナルである
ことができる。
前記第1の流体出口は、前記基板の回転時に前記第1の流体を前記アレイにディスペン
スするように構成されていることができる。前記第2の流体出口は、前記基板の回転時に
前記第2の流体を前記アレイにディスペンスするように構成されていることができる。前
記第1の流体出口及び前記第2の流体出口は、時間が重ならないようにディスペンスする
ように構成されていることができる。前記基板は、前記第1の流体出口がディスペンスす
る時及び前記第2の流体出口がディスペンスする時に、(i)異なる速度及び(ii)異
なる回転数のうちの少なくとも一つで回転するように構成されていることができる。前記
回転中、前記アレイは、前記軸から遠ざかる実質的に半径方向に前記第1の流体を向ける
ように構成されていることができる。前記第1の流体出口は、前記基板の複数の全回転時
に前記第1の流体を前記アレイにディスペンスするように構成されていることができる。
前記アレイは、複数の個々にアドレス可能な位置を含むことができる。前記アレイは、
複数の個々にアドレス可能な位置を含むことができる。前記アレイは、前記核酸サンプル
に結合しているリンカーを含むことができる。前記核酸サンプルは、ビーズに結合してい
ることができ、そのビーズは前記アレイに固定化されている。前記アレイはテクスチャ化
されていることができる。前記アレイは、パターン化アレイであることができる。前記ア
レイは平面的であることができる。
1態様において、核酸分子の配列決定システムは、前記核酸分子を固定化するように構
成されている平面アレイを含む基板[前記基板は、軸に対して回転するように構成されて
いる。];前記基板の回転時に複数のヌクレオチドを含む溶液を前記平面アレイに移動さ
せるように構成されている液流ユニット;前記平面アレイとの連絡を感知する検出器;及
び前記液流ユニット及び前記検出器に動作可能に連結された1又はそれ以上のコンピュー
タ処理装置を含むことができ、前記1又はそれ以上のコンピュータ処理装置は、(i)前
記基板の回転時に前記液流ユニットを、前記平面アレイを横断して前記複数のヌクレオチ
ドを含む前記溶液を移動させるよう命令するように;(ii)前記複数のヌクレオチドか
らの1又はそれ以上のヌクレオチドを前記核酸分子に対して相補的である伸長鎖に取り込
むのに十分な条件下で、前記核酸分子についてプライマー伸長反応を行うように;及び(
iii)前記検出器を用いて、前記1又はそれ以上のヌクレオチドの取り込みを示す1又
はそれ以上のシグナルを検出することで、前記核酸分子の配列決定を行うように個別に又
は全体的にプログラムされている。
1態様において、核酸分子の配列決定システムは、前記核酸分子を固定化するように構
成されているアレイを含む基板[前記基板は、軸に対して回転するように構成されている
。];前記基板の回転時に複数のヌクレオチドを含む溶液を前記アレイに移動させるよう
に構成されている液流ユニット[前記複数のヌクレオチドは、天然ヌクレオチド及び/又
は非天然ヌクレオチドを含む。];前記平面アレイとの連絡を感知する検出器;及び前記
液流ユニット及び前記検出器に動作可能に連結された1又はそれ以上のコンピュータ処理
装置を含むことができ、前記1又はそれ以上のコンピュータ処理装置は、(i)前記アレ
イの回転時に前記液流ユニットを、前記アレイを横断して前記複数のヌクレオチドを含む
前記溶液を移動させるよう命令するように;(ii)前記複数のヌクレオチドの1又はそ
れ以上のヌクレオチドを、前記核酸分子に対して相補的である伸長鎖に取り込むのに十分
な条件下で、前記核酸分子についてプライマー伸長反応を行うように;及び(iii)前
記検出器を用いて、前記1又はそれ以上のヌクレオチドの取り込みを示す1又はそれ以上
のシグナルを検出することで、前記核酸分子の配列決定を行うように個別に又は全体的に
プログラムされている。
1態様において、前記基板の回転運動時に基板の連続域操作を行うための光学システム
[前記回転運動は、前記基板の軸に対するものである。]は、複数の領域に分割された焦
点面;前記複数の領域と光学的に連絡している1又はそれ以上のセンサ;及び前記1又は
それ以上のセンサに動作可能に連結された制御装置を含むことができ、前記制御装置は、
前記回転運動時に独立クロッキングを有する前記複数の領域の各領域からの光学シグナル
を処理するようにプログラムされており、前記独立クロッキングは、少なくとも部分的に
、前記軸の投影からの各領域の距離及び前記回転運動の角速度に基づく。
前記焦点面は、前記回転運動の投影方向に対して実質的に垂直な軸に沿って前記複数の
領域に分割されていることができる。前記焦点面は、前記回転運動の投影方向に対して平
行な軸に沿って前記複数の領域に分割することができる。前記焦点面は、光学的に分割さ
れていることができる。
前記1又はそれ以上のセンサの所与のセンサが、前記回転運動時に独立クロッキングを
有する前記複数の領域の各領域を処理するように構成されていることができる。前記1又
はそれ以上のセンサは、複数のセンサであることができ、前記複数のセンサのそれぞれは
前記複数の領域の異なる領域と光学的に連絡しており、前記制御装置は、前記回転運動時
に独立クロッキングを有する前記複数の領域のそれぞれからの光学シグナルを処理するよ
うに構成されている。前記1又はそれ以上のセンサは、1又はそれ以上の時間遅延積分(
TDI)、疑似TDI急速フレームレート、電荷結合素子(CCD)、又は相補型金属酸
化物半導体(CMOS)検出器を含むことができる。前記独立クロッキングは、TDIラ
インレート又は疑似TDIフレームレートを含むことができる。
前記センサの1以上が、前記焦点面中の前記複数の領域の少なくとも二つと光学的に連
絡しているように構成されていることができる。前記センサの1以上が複数のセグメント
を含むことができる。前記複数のセグメントの各セグメントが、前記複数の領域の1つの
領域と光学的に連絡していることができる。前記複数のセグメントの各セグメントが、独
立にクロックされることができる。セグメントの前記独立クロッキングは、前記焦点面の
関連領域における画像の速度に相当するものであることができる。
前記光学システムはさらに、流体中に浸漬されるように構成されている光学撮像対物レ
ンズを含むことができる。前記光学システムはさらに、前記光学撮像対物レンズを取り囲
む筐体を含むことができる。前記光学システムはさらに、前記筐体に連結された流体ライ
ンを含むことができ、前記流体ラインは前記筐体に流体を提供するように構成されている
。前記流体は、前記基板と接触していることができる。例えば前記基板及び/又は流体筐
体上の領域の1又はそれ以上の前記疎水性を制御する電場を用いることで、前記流体を制
限又は制御することができる。
1態様において、前記基板の回転運動時に基板を撮像する光学システム(前記回転運動
は前記支持体の軸に対するものである。)は、センサ;及び前記センサと光学的に連絡し
ている光学素子を含むことができ、前記光学素子は、前記基板からの光学シグナルを前記
センサに向けるように構成されており、前記センサ及び前記光学素子の少なくとも一つが
、前記回転運動の投影方向に対して実質的に垂直な方向に沿って前記検出器全体に光学倍
率勾配を発生させるように構成されている。前記システムはさらに、前記検出器及び前記
光学素子に動作可能に連結された制御装置を含むことができ、前記制御装置は、前記セン
サ及び前記光学素子の少なくとも1つの調節を行って、前記回転運動の投影方向に対して
実質的に垂直な方向に沿って前記センサ全体に光学倍率勾配を発生させるようにプログラ
ムされている。
前記光学素子はレンズであることができる。前記制御装置は、前記センサ及び前記光学
素子の少なくとも一つを調節してアナモルフィックな光学倍率勾配を生じさせるようにプ
ログラムすることができる。(i)前記軸の投影からの前記フィールド寸法における最小
距離を有するフィールド寸法の第1の半径方向位置での第1の光学倍率の(ii)前記軸
の前記投影からの前記フィールド寸法における最大距離を有する前記フィールド寸法の第
2の半径方向位置での第2の光学倍率に対する比が、前記最大距離の前記最小距離に対す
る比と実質的に等しいものであることができる。前記光学倍率勾配は、前記光学素子及び
前記回転運動の前記投影方向に対して実質的に垂直な焦点面の回転によって生じ得る。前
記制御装置は、前記光学素子の回転を行うようにプログラムされていることができる。前
記制御装置は、前記軸の投影と比べたフィールド寸法の放射状範囲に少なくとも部分的に
基づく前記倍率勾配を調節するようプログラムされている。前記制御装置は、前記基板に
対して前記回転運動を行うようプログラムされていることができる。
前記光学システムはさらに、流体中に浸漬されるように構成されている光学撮像対物レ
ンズを含むことができる。前記光学システムはさらに、前記光学撮像対物レンズを取り囲
む筐体を含むことができる。前記光学システムはさらに、前記筐体に連結された流体ライ
ンを含むことができ、前記流体ラインは、前記筐体に流体を提供するように構成されてい
る。前記流体は、前記基板と接触していることができる。
1態様において、前記基板の回転運動時に基板を撮像する光学システム(前記回転運動
は、前記支持体の軸に対するものである。)は、複数のセンサ[前記複数のセンサの各セ
ンサは前記基板と光学的に連絡している。];及び前記複数のセンサの各センサに動作可
能に連結された制御装置を含むことができ、前記制御装置は、前記複数のセンサの各セン
サを撮像路に沿うようにプログラムされており、前記複数のセンサの1又はそれ以上のセ
ンサについての撮像路は、前記複数のセンサの別のセンサの撮像路とは異なる。前記制御
装置は、前記複数のセンサの各センサを、螺旋形状又は環形状を有する撮像路に沿うよう
にプログラムされていることができる。前記複数のセンサの各センサは、所定の波長範囲
内の波長を有する光を受光するように構成されていることができる。
前記光学システムはさらに、流体に浸漬されるように構成されている光学撮像対物レン
ズを含むことができる。前記光学システムはさらに、前記光学撮像対物レンズを取り囲む
筐体を含むことができる。前記光学システムはさらに、前記筐体に連結された流体ライン
を含むことができ、前記流体ラインは、前記筐体に流体を提供するように構成されている
1態様において、分析物の処理方法は、(a)固定化された前記分析物を有する平面ア
レイを含む基板を提供すること[前記基板は、軸に対して回転するように構成されている
。];(b)前記基板の回転時に前記平面アレイを横断して複数のアダプターを含む溶液
を移動させること;(c)前記分析物を、前記分析物と前記複数のアダプターの間の反応
を生じさせるのに十分な条件下に置くこと;及び(d)前記分析物と前記複数のアダプタ
ーの間の前記反応を示すシグナルを検出することで前記分析物を分析することを含むこと
ができる。
前記平面アレイは、2又はそれ以上の種類の分析物を含むことができる。前記2又はそ
れ以上の種類の分析物は、ランダムに配置されていることができる。前記2又はそれ以上
の種類の分析物は、規則的パターンで配置されていることができる。前記分析物は、単細
胞分析物であることができる。前記分析物は、核酸分子であることができる。前記分析物
は、タンパク質分子であることができる。前記分析物は、単細胞であることができる。前
記分析物は、粒子であることができる。前記分析物は、生物であることができる。前記分
析物は、コロニーの一部であることができる。前記分析物は、前記平面アレイ上の個々に
アドレス可能な位置に固定化されていることができる。
前記複数のアダプターは、複数のプローブを含むことができる。前記複数のプローブの
所与のプローブは、長さ1~10塩基のオリゴヌクレオチドであることができる。所与の
プローブは、2塩基プローブであることができる。所与のプローブは、長さ10~20塩
基であることができる。前記複数のプローブは、標識されていることができる。
前記基板は、前記分析物に結合しているリンカーを含むことができる。前記リンカーは
、炭水化物分子を含むことができる。前記リンカーは、親和結合タンパク質を含むことが
できる。前記リンカーは親水性であることができる。前記リンカーは疎水性であることが
できる。前記リンカーは静電気的であることができる。前記リンカーは標識することがで
きる。前記リンカーは、前記基板に統合されている(integral)ことができる。
前記リンカーは、前記基板上の独立の層であることができる。
前記方法はさらに、(a)の前に、前記分析物を、前記リンカーを含む前記基板を横断
して移動させることを含むことができる。前記分析物(analytic)は、ビーズに
結合されていることができ、そのビーズは前記平面アレイに固定化されている。前記平面
アレイは、少なくとも1つのサンプル注入口及び少なくとも1つのサンプル排出口と流体
で連絡していることができる。前記溶液を、1又はそれ以上のディスペンスノズルを用い
て前記平面アレイに向かわせることができる。前記1又はそれ以上のノズルは、前記基板
の中心に又は中心近傍に向けることができる。
前記方法はさらに、前記基板と接触した前記溶液の一部分をリサイクルすることを含む
ことができる。前記リサイクルは、前記溶液の前記一部分を回収、濾過及び再使用するこ
とを含むことができる。前記濾過は分子濾過であることができる。
前記平面アレイは、複数の個々にアドレス可能な位置を含むことができる。前記平面ア
レイはテクスチャ化されていることができる。前記平面アレイは、パターン化アレイであ
ることができる。
前記シグナルは、光学シグナルであることができる。前記シグナルは、蛍光シグナルで
あることができる。前記シグナルは、光吸収シグナルであることができる。前記シグナル
は、光散乱シグナルであることができる。前記シグナルは、発光シグナルであることがで
きる。前記シグナルは、リン光シグナルであることができる。前記シグナルは、電気シグ
ナルであることができる。前記シグナルは、音シグナルであることができる。前記シグナ
ルは、磁気シグナルであることができる。
前記方法はさらに、(b)の前に、前記基板を前記軸に対して回転させることを含むこ
とができる。前記方法はさらに、(d)で前記シグナルを検出する前に、前記基板の回転
を終了させることを含むことができる。前記シグナルは、前記基板が回転している時に(
d)で検出することができる。
前記シグナルは、標識の前記分析物の結合によって発生し得る。前記標識は、分子、粒
子、細胞、又は生物に結合していることができる。前記標識は、(a)の前に、前記分子
、粒子、細胞、又は生物に結合していることができる。前記標識は、(a)の後に、前記
分子、粒子、細胞、又は生物に結合することができる。前記シグナルは、化学反応による
検出可能生成物の形成によって発生し得る。前記反応は、酵素反応を含むことができる。
前記シグナルは、物理的結合による検出可能生成物の形成によって発生し得る。前記シグ
ナルは、近接会合による検出可能生成物の形成によって発生し得る。前記近接会合は、フ
ェルスター共鳴エネルギー移動(FRET)を含むことができる。前記近接会合は、相補
酵素との会合を含むことができる。前記シグナルは、単一反応によって発生し得る。前記
シグナルは、複数の反応によって発生し得る。前記複数の反応は直列で起こり得る。前記
複数の反応は並列で起こり得る。前記複数の反応は、反応1又はそれ以上の繰り返しを含
むことができる。前記反応は、ハイブリダイゼーション反応又は連結反応を含むことがで
きる。前記反応は、ハイブリダイゼーション反応及び連結反応を含むことができる。
前記複数のアダプターは、複数の炭水化物分子を含むことができる。前記複数のアダプ
ターは複数の脂質分子を含むことができる。前記複数のアダプターは複数の親和結合タン
パク質を含むことができる。前記複数のアダプターは複数のアプタマーを含むことができ
る。前記複数のアダプターは複数の抗体を含むことができる。前記複数のアダプターは親
水性であることができる。前記複数のアダプターは疎水性であることができる。前記複数
のアダプターは静電気性であることができる。前記複数のアダプターは標識することがで
きる。前記複数のアダプターは、複数のオリゴヌクレオチド分子を含むことができる。前
記複数のアダプターは、ランダム配列を含むことができる。前記複数のアダプターは、標
的配列を含むことができる。前記複数のアダプターは、繰り返し配列を含むことができる
。前記繰り返し配列は、ホモポリマー配列であることができる。
前記方法はさらに、(b)~(d)を1回以上繰り返すことを含むことができる。異な
る溶液を、連続サイクルのために、前記基板の回転時に前記平面アレイに向けることがで
きる。
1態様において、分析物の検出又は分析方法は、(a)中心軸を中心に開放基板を回転
させること[前記開放基板は、その上に固定化分析物のアレイが固定化されている。];
(b)中心軸近くの領域に複数のプローブを有する溶液を送ることで、前記溶液を前記開
放基板に導入すること;(c)少なくとも遠心力によって前記開放基板を横断して前記溶
液をディスペンスして、前記複数のプローブの少なくとも一つが前記固定化分析物の少な
くとも一つに結合して、結合プローブを形成すること;及び(d)前記開放基板の回転時
に、同時に、第1の検出器を用いて第1のセットの1又はそれ以上のスキャン路に沿って
前記開放基板の第1のスキャンを行い、第2の検出器を用いて第2のセットの1又はそれ
以上のスキャン路に沿って前記開放基板の第2のスキャンを行うこと[前記第1のセット
の1又はそれ以上のスキャン路及び前記第2のセットの1又はそれ以上のスキャン路は異
なっており、前記第1の検出器又は前記第2の検出器は前記結合プローブからの少なくと
も1つのシグナルを検出し、前記第1の検出器は前記中心軸に対して第1の半径方向位置
に配置されており、前記第2の検出器は前記中心軸に対して第2の半径方向位置に配置さ
れており、前記第1の検出器及び前記第2の検出器は、同じ線形ベクトルに沿って前記中
心軸に対して相対運動することで、それぞれ前記第1のセットの1又はそれ以上のスキャ
ン路及び前記第2のセットの1又はそれ以上のスキャン路を発生させる。]を含むことが
できる。前記同じ線形ベクトルに沿った前記相対運動は、前記中心軸に対する共通の相対
運動であることができる。
一部の実施形態において、前記第1の検出器及び前記第2の検出器は、異なるスキャン
速度で動作する。一部の実施形態において、前記第1の検出器及び前記第2の検出器の前
記異なるスキャン速度は、それぞれ前記第1の半径方向位置及び前記第2の半径方向位置
の関数である。
一部の実施形態において、前記第1のセットの1又はそれ以上のスキャン路は、異なる
半径を有する複数の環状スキャン路を含む。一部の実施形態において、前記第1のセット
の1又はそれ以上のスキャン路は、螺旋形スキャン路を含む。
一部の実施形態において、前記同じ線形ベクトルは、前記中心軸を通る半径方向である
。一部の実施形態において、前記同じ線形ベクトルは、半径方向ではない。一部の実施形
態において、前記方法はさらに、前記中心軸に対する異なる半径方向位置での異なる区域
の速度方向差を補償することを含み、前記第1のセットの1又はそれ以上のスキャン路の
うちの所与のスキャン路は前記異なる区域を含む。一部の実施形態において、前記補償は
、1又はそれ以上のプリズムを用いること、1又はそれ以上のミラーを用いること、及び
/又は1又はそれ以上のセンサを回転させることを含む。
一部の実施形態において、前記第1の検出器及び前記第2の検出器は、前記相対運動時
に実質的に動かない。一部の実施形態において、前記開放基板は、前記相対運動時に回転
運動と並進運動の両方を行う。一部の実施形態において、前記第1の検出器及び前記第2
の検出器は、前記相対運動時に共通の運動をする。一部の実施形態において、(i)前記
開放基板は、前記第1の検出器及び前記第2の検出器に対して回転運動をし、(ii)前
記第1の検出器及び前記第2の検出器は前記中心軸に対して直線運動を行う。前記直線運
動は、前記中心軸に対して垂直であることができる。一部の実施形態において、前記第1
の検出器は、前記開放基板のスキャン(例えば、回転スキャン)時に前記相対運動を行う
。一部の実施形態において、前記第1の検出器は、スキャン(例えば、回転スキャン)し
ていない時に前記相対運動を行う。
一部の実施形態において、前記第1のセットの1又はそれ以上のスキャン路のうちの所
与のスキャン路は、前記同じ線形ベクトルに沿った前記相対運動時にスキャンされる区域
を含む。一部の実施形態において、前記第1のセットの1又はそれ以上の(one mo
re)スキャン路は、前記同じ線形ベクトルに沿った前記相対運動時にスキャンされる区
域を含まない。
一部の実施形態において、前記第1の検出器及び前記第2の検出器は、前記中心軸に対
して同じ角位置を有する。一部の実施形態において、前記第1の検出器及び前記第2の検
出器は、前記中心軸に対して異なる角位置を有する。一部の実施形態において、前記第1
の検出器及び前記第2の検出器は、前記中心軸に対して反対の角位置を有する。
一部の実施形態において、前記第1のセットの1又はそれ以上のスキャン路のうちの所
与のスキャン路は第1の区域及び第2の区域を含み、前記第1の区域及び前記第2の区域
は、前記中心軸に対して前記開放基板の異なる半径方向位置にあり、前記第1の区域及び
前記第2の区域は前記第1の検出器によって空間的に分けられている。
本開示の別の態様は、1又はそれ以上のコンピュータ処理装置による実行時に、前記方
法上記若しくは本明細書の他の箇所の前記方法のいずれかを実施する機械実行可能コード
を含む非一時的コンピュータ可読媒体を提供する。
本開示の別の態様は、1又はそれ以上のコンピュータ処理装置及びそれに連結されたコ
ンピュータメモリーを含むシステムを提供する。前記コンピュータメモリーは、前記1又
はそれ以上のコンピュータ処理装置による実行すると、上記若しくは本明細書における別
の箇所の前記方法のいずれかを実行する機械実行可能コードを含む。
本開示の別の態様及び利点については、下記の詳細な説明から当業者には容易に明らか
になろう。ここでは、本開示の例示的な実施形態のみを示し、説明する。以下の記載から
わかる通り、本開示は、他の及び異なる実施形態であることができ、それのいくつかの詳
細は、いずれも本開示から逸脱しない限りにおいて、各種明らかな点での変更が可能であ
る。従って、図面及び説明は、性質上例示的なものと見なすべきであり、限定的なもの見
なすべきではない。
参照による組み込み
本明細書で言及されている全ての刊行物、特許及び特許出願は、あたかも各個々の刊行
物、特許若しくは特許出願が具体的かつ個別に参照によって組み込まれたかと同程度に、
参照によって本明細書に組み込まれる。参照によって組み込まれた刊行物及び特許若しく
は特許出願が本明細書に含まれる開示内容と矛盾する場合、本明細書が、そのような矛盾
するものに優先するものとする。
本発明の新規な特徴については、添付の特許請求の範囲で詳細に説明される。本発明の
原理を用いる説明的な実施形態並びに添付の図面(本明細書においては、「図」及び「F
IG.」とも記される)を記載した下記の詳細な説明を参照することで、本発明の特徴及
び利点についての理解が深まるであろう。
図1は、本明細書で提供される方法を実行するようプログラム又は他の形で構成されているコンピュータ制御システムを示す図である。 図2は、核酸分子の配列決定方法の1例のフローチャートを示す図である。 図3は、核酸分子配列決定システムを示す図である。 図4Aは、第1の垂直レベルでの核酸分子配列決定システムを示す図である。 図4Bは、第2の垂直レベルでの核酸分子配列決定システムを示す図である。 図5Aは、流体流チャネルのアレイを用いる核酸分子配列決定システムの第1の例を示す図である。 図5Bは、流体流チャネルのアレイを用いる核酸分子配列決定システムの第2の例を示す図である。 図6は、コンピュータ化核酸分子配列決定システムを示す図である。 図7は、基板の回転運動時の基板の連続域スキャンのための光学システムを示す図である。 図8Aは、調整光学歪みを用いる、基板の回転運動時の基板を撮像するための光学システムを示す図である。 図8Bは、円筒レンズを用いる誘導調整光学歪みの1例を示す図である。 図9Aは、インターリーブ螺旋形撮像スキャンの第1の例を示す図である。 図9Bは、インターリーブ撮像スキャンの第2の例を示す図である。 図9Cは、ネスト化撮像スキャンの1例を示す図である。 図10は、ネスト化環状撮像スキャンの構成を示す図である。 図11は、浸漬光学システムの断面図である。 図12Aは、静止軸基板及び移動フルイディクス及び光学器を含むシステムの構造を示す図である。 図12Bは、移動軸基板及び静止フルイディクス及び光学器を含むシステムの構造を示す図である。 図12Cは、複数の静止基板及び移動フルイディクス及び光学器を含むシステムの構造を示す図である。 図12Dは、回転ステージ上の複数の移動基板及び静止フルイディクス及び光学器を含むシステムの構造を示す図である。 図12Eは、複数の静止基板及び移動光学器を含むシステムの構造を示す図である。 図12Fは、複数の移動基板及び静止フルイディクス及び光学器を含むシステムの構造を示す図である。 図12Gは、複数の処理ベイ間で移動される複数の基板を含むシステムの構造を示す図である。 図12Hは、共有移動軸及び回転軸でスキャンする複数の撮像ヘッド並びに独立に回転するフィールドを含むシステムの構造を示す図である。 図12Iは、共有光学検出システムでスキャンする複数スピンドルを含むシステムの構造を示す図である。 図13は、複数の回転スピンドルを含むシステムの構造を示す図である。 図14は、分析物処理方法の1例のフローチャートである。 図15は、分析物を単離するシステムの第1の例を示す図である。 図16は、分析物を単離するシステムの第2の例を示す図である。 図17は、スキャン時の速度勾配を補償するための制御システムの例を示す図である。 図18Aは、基板の回転の軸の同じ側にある2個の撮像ヘッドに対する基板の動きを示す図である。 図18Bは、基板の回転の軸の反対側にある2個の撮像ヘッドに対する基板の動きを示す図である。 図18Cは、3個の撮像ヘッドに対する基板の動きを示す図である。 図18Dは、4個の撮像ヘッドに対する基板の動きを示す図である。 図19Aは、基板の回転の軸の同じ側にある2個の撮像ヘッドの連続環状路を示す図である。 図19Bは、基板の回転の軸の反対側にある2個の撮像ヘッドの連続環状路を示す図である。 図19Cは、基板の回転の軸の同じ側にある2個の撮像ヘッドの互い違い環状路を示す図である。 図19Dは、基板の回転の軸の反対側にある2個の撮像ヘッドの互い違い環状路を示す図である。 図20は、基板の非半径方向運動による撮像ヘッドの回転スキャン方向を示す図である。 図21は、分析物の検出若しくは分析方法の1例のフローチャートである。
以上、本発明の各種実施形態を本明細書において示し、説明してきたが、そのような実
施形態が例としてのみ提供されることは当業者には明らかであろう。本発明を逸脱しない
限り、多くの変形形態、変更、及び置き換えが当業者には可能である。理解すべき点とし
て、本発明の実施形態に対する各種代替形態を用いることが可能である。
本明細書で使用される場合、「分析物の処理」という用語は、さらにもう1つのサンプ
ル物質との相互作用の1又はそれ以上の段階を指す。分析物の処理は、分析物との、それ
の存在下での、又はその上での化学反応、生化学反応、酵素反応、ハイブリダイゼーショ
ン反応、重合反応、物理的反応、いずれか他の反応、又はそれらの組み合わせを行うこと
を含むことができる。分析物の処理は、前記分析物の物理的及び/又は化学的操作を含む
ことができる。例えば、分析物の処理は、化学変化又は物理変化の検出、材料、原子若し
くは分子の付加若しくは減算、分子確認、蛍光標識の存在の検出、フェルスター共鳴エネ
ルギー移動(FRET)相互作用の検出、又は蛍光がないことの推定を含み得る。「分析
物」という用語は、分子、細胞、生物学的粒子、又は生物を指すことができる。場合によ
り、分子は、核酸分子、抗体、抗原、ペプチド、タンパク質、又は生物試料から得られる
若しくはそれ由来の他の生体分子であることができる。分析物は、細胞又は生物からのも
のなどの生物試料起源のもの、及び/又はそれ由来のものであることができる。分析物は
合成のものであることができる。
本明細書で使用される場合、「配列決定」という用語は、生体分子、例えば核分子の配
列を発生若しくは確認するプロセスを指す。そのような配列は、核酸塩基の配列を含むこ
とができる核酸配列であることができる。配列決定は、例えば、単一分子配列決定又は合
成による配列決定であることができる。配列決定は、支持体、例えばフローセル若しくは
1又はそれ以上のビーズ上に固定化されたテンプレート核酸分子を用いて行うことができ
る。
本明細書で使用される場合、「生物試料」という用語は、被験者又は検体からのサンプ
ルを指す。生物試料は、被験者又は検体からの流体又は組織であることができる。その流
体は、血液(例えば、全血)、唾液、尿又は汗であることができる。組織は、臓器(例え
ば、肝臓、肺又は甲状腺)からのもの、又は細胞材料の塊、例えば腫瘍からのものである
ことができる。生物試料は、糞便サンプル、細胞の採取物(例えば、口腔粘膜検体採取)
、又は毛髪サンプルであることができる。生物試料は、細胞を含まないサンプル又は細胞
サンプルであることができる。生物試料の例には、核酸分子、アミノ酸、ポリペプチド、
タンパク質、炭水化物、脂肪又はウィルスなどがある。1例において、生物試料は、1又
はそれ以上の核酸分子、例えばデオキシリボ核酸(DNA)及び/又はリボ核酸(RNA
)などの核酸サンプルである。核酸分子は、細胞を含まない又は細胞を含まない核酸分子
、例えば細胞を含まないDNA又は細胞を含まないRNAであることができる。核酸分子
は、各種入手源由来であることができ、例えばヒト、哺乳動物、非ヒト哺乳動物、類人猿
、サル、チンパンジー、爬虫類、両生類、鳥、又は植物源である。さらに、サンプルは、
細胞を含まない配列を含む各種動物流体、例えば、血液、血清、血漿、硝子体液、唾液、
尿、涙、汗、唾、精液、粘膜排出物、粘液、髄液、羊水、リンパ液など(これらに限定さ
れるものではない)から抽出することができる。細胞を含まないポリヌクレオチドは、胎
仔起源であることができるか(妊娠被験者から採取した体液を介して)、被験者自身の組
織由来のものであることができる。
本明細書で使用される場合、「被験者」という用語は、生物試料が得られる個体を指す
。被験者は、哺乳動物又は非哺乳動物であることができる。被験者は、動物、例えばサル
、イヌ、ネコ、トリ又は齧歯類であることができる。被験者は、ヒトであることができる
。被験者は、患者であることができる。被験者は、疾患の症状を示していることができる
。被験者は、無症候であることができる。被験者は、処置を受けていることができる。被
験者は、処置を受けていないことができる。被験者は、疾患、例えばがん(例えば、乳が
ん、結腸直腸がん、脳腫瘍、白血病、肺がん、皮膚がん、肝臓がん、膵臓がん、リンパ腫
、食道がん又は子宮頸がん)又は感染性疾患を有することができるか、それを有する疑い
があることができる。被験者は、遺伝性疾患、例えば軟骨形成不全、α-1抗トリプシン
欠乏症、抗リン脂質症候群、自閉症、常染色体優性多発性嚢胞腎、シャルコー・マリー・
ツース病、猫鳴き症候群、クローン病、嚢胞性線維症、有痛脂肪症、ダウン症候群、デュ
アン症候群、デュシェンヌ型筋ジストロフィー、第V因子ライデン血栓症、家族性高コレ
ステロール血症、家族性地中海熱、脆弱性X症候群、ゴーシェ病、血色素症、血友病、全
前脳症、ハンチントン病、クラインフェルター症候群、マルファン症候群、筋強直性ジス
トロフィー、神経線維腫症、ヌーナン症候群、骨形成不全症、パーキンソン病、フェニル
ケトン尿症、ポーランド症候群、ポルフィリン症、早期老化症、網膜色素変性症、重症複
合型免疫不全症、鎌状赤血球病、脊髄性筋萎縮症、テイ・サックス病、サラセミア、トリ
メチルアミン尿症、ターナー症候群、口蓋心臓顔面症候群、WAGR症候群又はウィルソ
ン病を有することができるか、それを有する疑いがあることができる。
本明細書で使用される場合、「核酸」、「核酸分子」、「核酸配列」、「核酸断片」、
「オリゴヌクレオチド」及び「ポリヌクレオチド」という用語は、各種長さを有すること
ができるポリヌクレオチド、例えばデオキシリボヌクレオチド又はデオキシリボ核酸(D
NA)又はリボヌクレオチド又はリボ核酸(RNA)、又はそれらの類縁体を指す。核酸
の例には、DNA、RNA、遺伝子若しくは遺伝子断片のゲノムDNA又は合成DNA/
RNA又はコード若しくは非コード領域、連鎖分析から規定される遺伝子座、エクソン、
イントロン、メッセンジャーRNA(mRNA)、トランスファーRNA、リボソームR
NA、低分子干渉RNA(siRNA)、短ヘアピンRNA(shRNA)、ミクロRN
A(miRNA)、リボザイム、cDNA、組換え核酸、分岐核酸、プラスミド、ベクタ
ー、あらゆる配列の単離DNA、及びあらゆる配列の単離RNAなどがあるが、これらに
限定されるものではない。核酸分子は、少なくとも約10核酸塩基(「塩基」)、20塩
基、30塩基、40塩基、50塩基、100塩基、200塩基、300塩基、400塩基
、500塩基、1キロ塩基(kb)、2kb、3、kb、4kb、5kb、10kb、2
0kb、30kb、40kb、50kb、100kb、200kb、300kb、400
kb、500kb、1メガ塩基(Mb)又はそれ以上の長さを有することができる。核酸
分子(例えば、ポリヌクレオチド)は、四つの天然ヌクレオチド塩基:アデニン(A);
シトシン(C);グアニン(G);及びチミン(T)(ポリヌクレオチドがRNAである
場合は、チミン(T)に代えてウラシル(U))の配列を含むことができる。核酸分子は
、1又はそれ以上の非標準ヌクレオチド、ヌクレオチド類縁体及び/又は修飾ヌクレオチ
ドを含むことができる。
非標準的ヌクレオチド、ヌクレオチド類縁体、及び/又は修飾類縁体には、ジアミノプ
リン、5-フルオロウラシル、5-ブロモウラシル、5-クロロウラシル、5-ヨードウ
ラシル、ヒポキサンチン、キサンチン、4-アセチルシトシン、5-(カルボキシヒドロ
キシルメチル)ウラシル、5-カルボキシメチルアミノメチル-2-チオウリジン、5-
カルボキシメチルアミノメチルウラシル、ジヒドロウラシル、β-D-ガラクトシルクエ
オシン(queosine)、イノシン、N6-イソペンテニルアデニン、1-メチルグ
アニン、1-メチルイノシン、2,2-ジメチルグアニン、2-メチルアデニン、2-メ
チルグアニン、3-メチルシトシン、5-メチルシトシン、N6-アデニン、7-メチル
グアニン、5-メチルアミノメチルウラシル、5-メトキシアミノメチル-2-チオウラ
シル、ベータ-D-マンノシルクエオシン、5’-メトキシカルボキシメチルウラシル、
5-メトキシウラシル、2-メチルチオ-D46-イソペンテニルアデニン、ウラシル-
5-オキシ酢酸(v)、ワイブトキソシン(wybutoxosine)、擬似ウラシル
、クエオシン、2-チオシトシン、5-メチル-2-チオウラシル、2-チオウラシル、
4-チオウラシル、5-メチルウラシル、ウラシル-5-オキシ酢酸メチルエステル、ウ
ラシル-5-オキシ酢酸(v)、5-メチル-2-チオウラシル、3-(3-アミノ-3
-N-2-カルボキシプロピル)ウラシル、(acp3)w、2,6-ジアミノプリン、
エチニルヌクレオチド塩基、1-プロピニルヌクレオチド塩基、アジドヌクレオチド塩基
、ホスホロセレノエート核酸などがあり得るが、これらに限定されるものではない。場合
により、ヌクレオチドは、それのリン酸部分に修飾を含むことができ、例えば三リン酸部
分への修飾である。修飾のさらなる非限定的な例には、より長いリン酸鎖(例えば、4、
5、6、7、8、9、10又はそれ以上のリン酸部分を有するリン酸鎖)、チオール部分
による修飾(例えば、α-及びβ-チオ三リン酸)又はセレン部分による修飾(例えば、
ホスホロセレノエート核酸)などがある。核酸分子は、塩基部分(例えば、代表的には相
補ヌクレオチドとの水素結合を形成するのに使える1又はそれ以上の原子で、及び/又は
代表的には相補ヌクレオチドと水素結合を形成することができない1又はそれ以上の原子
で)、糖部分又はリン酸骨格で修飾されていても良い。核酸分子は、アミン修飾基、例え
ばアミン反応性部分の共有結合を可能とするアミノアリル-dUTP(aa-dUTP)
及びアミノヘキシルアクリルアミド-dCTP(aha-dCTP)、例えばN-ヒドロ
キシコハク酸イミドエステル(NHS)を含むこともできる。本開示のオリゴヌクレオチ
ドにおける標準的なDNA塩基対又はRNA塩基対の代替物は、ビット/mmでのより
高い密度、より高い安全性(天然毒物の偶発的又は意図的な合成に対する抵抗性)、光プ
ログラム(photo-programmed)ポリメラーゼにおけるより容易な識別、
又はより低い二次構造を提供することができる。ヌクレオチド類縁体は、ヌクレオチド検
出において検出可能な部分と反応又は結合可能であることができる。
本明細書で使用される場合、「ヌクレオチド」という用語は、あらゆるヌクレオチド又
はヌクレオチド類縁体を指す。ヌクレオチドは、天然又は非天然であることができる。ヌ
クレオチド類縁体は、修飾、合成又は操作ヌクレオチドであることができる。ヌクレオチ
ド類縁体は、天然でなくても良いか、非標準塩基を含むことができる。天然ヌクレオチド
は、標準塩基を含むことができる。ヌクレオチド類縁体は、修飾ポリリン酸鎖(例えば、
フルオロフォアに結合した三リン酸)を含むことができる。ヌクレオチド類縁体は標識を
含むことができる。ヌクレオチド類縁体は終止していることができる(例えば、可逆的に
終止)。ヌクレオチド類縁体は、代替の塩基を含むことができる。
「増幅する」、「増幅」及び「核酸増幅」という用語は互換的に使用され、核酸若しく
はテンプレートの1又はそれ以上のコピーを発生させることを指す。例えば、DNAの「
増幅」は、DNA分子の1又はそれ以上のコピーを発生させることを指す。さらに、核酸
の増殖は、直線的、指数関数的又はそれらの組み合わせであることができる。増幅は、乳
濁液に基づくものであることができるか、乳濁液に基づかないものであることができる。
核酸増幅方法の非限定的な例には、逆転写、プライマー伸長、ポリメラーゼ連鎖反応(P
CR)、リガーゼ連鎖反応(LCR)、ヘリカーゼ依存性増幅、不斉増幅、ローリングサ
ークル増幅、組換えポリメラーゼ反応(RPA)、及び多置換増幅(MDA)などがある
。PCRを用いる場合、いかなる形のPCRも使用可能であり、その非限定的な例として
は、リアルタイムPCR、対立遺伝子特異的PCR、アセンブリPCR、不斉PCR、デ
ジタルPCR、エマルジョンPCR、ダイヤルアウト(dial-out)PCR、ヘリ
カーゼ依存PCR、ネスト化PCR、ホットスタートPCR、逆PCR、メチル化特異的
PCR、ミニプライマーPCR、マルチプレックスPCR、ネステッドPCR、オーバー
ラップ伸長PCR、熱非対称インターレースPCR及びタッチダウンPCRなどがある。
さらに、増幅は、増幅に関与又は増幅を促進する各種成分(例えば、プライマー、テンプ
レート、ヌクレオチド、ポリメラーゼ、緩衝剤成分、補因子など)を含む反応混合物中で
行うことができる。場合により、反応混合物は、ヌクレオチドのコンテキスト非依存的取
り込みを可能とする緩衝剤を含む。非限定的な例には、マグネシウムイオン、マンガンイ
オン及びイソクエン酸緩衝剤などがある。そのような緩衝剤の別の例は、Tabor,
S. et al. C.C. PNAS, 1989, 86, 4076-4080
並びに米国特許第5,409,811号及び同5,674,716号(これらはそれぞれ
、参照によってその全内容が本明細書に組み込まれる。)に記載されている。
単一分子からの有用なクローン増幅方法には、ローリングサークル増幅(RCA)(L
izardi et al., Nat. Genet. 19:225-232 (1
998)、参照によって本明細書に組み込まれる)、ブリッジPCR(Adams an
d Kron, Method for Performing Amplificat
ion of Nucleic Acid with Two Primers Bou
nd to a Single Solid Support, Mosaic Tec
hnologies, Inc. (Winter Hill, Mass.);Whi
tehead Institute for Biomedical Research
, Cambridge, Mass., (1997);Adessi et al.
, Nucl. Acids Res. 28:E87 (2000);Pemov e
t al., Nucl. Acids Res. 33:e11(2005);又は米
国特許第5,641,658号、これらはそれぞれ参照によって本明細書に組み込まれる
)、ポロニー(polony)発生(Mitra et al., Proc. Nat
l. Acad. Sci. USA 100:5926-5931 (2003);
Mitra et al., Anal. Biochem. 320:55-65(2
003)、これらはそれぞれ参照によって本明細書に組み込まれる)、並びに乳濁液を用
いるビーズ上でのクローン増幅(Dressman et al., Proc. Na
tl. Acad. Sci. USA 100:8817-8822 (2003)、
参照によって本明細書に組み込まれる)又はビーズベースアダプターライブラリへの連結
(Brenner et al., Nat. Biotechnol. 18:630
-634 (2000);Brenner et al., Proc. Natl.
Acad. Sci. USA 97:1665-1670 (2000));Rein
artz, et al., Brief Funct. Genomic Prote
omic 1:95-104 (2002)、参照によって本明細書に組み込まれる)な
どがある。
本明細書で使用される場合、「検出器」という用語は、1又はそれ以上の組み込まれた
ヌクレオチド又は蛍光標識の有無を示すシグナルなどのシグナルを検出する能力を有する
装置を指す。検出器は、複数シグナルを検出することができる。シグナル又は複数シグナ
ルは、実質的に生体反応、例えば配列決定反応(例えば、プライマー伸長反応時の配列決
定)時にリアルタイムで、又は生体反応後に検出することができる。場合により、検出器
は、シグナルを検出することができる光学部品及び/又は電子部品を含むことができる。
「検出器」という用語は、検出方法で用いることができる。検出方法の非限定的な例には
、光学的検出、顕微鏡検出、静電気検出、電気化学的検出、音検出、磁気検出などがある
。光学的検出方法には、光吸収、紫外-可視(UV-vis)光吸収、赤外線光吸収、光
散乱、レイリー散乱、ラマン散乱、表面増強ラマン散乱、ミー散乱、蛍光、発光、及びリ
ン光などがあるが、これらに限定されるものではない。分光検出方法には、質量分析、核
磁気共鳴(NMR)分光法、及び赤外線分光法などがあるが、これらに限定されるもので
はない。静電気検出方法には、ゲルに基づく技術、例えばゲル電気泳動などがあるが、こ
れに限定されるものではない。電気化学的検出方法には、増幅生成物の高速液体クロマト
グラフィー分離後に増幅生成物の電気化学的検出などがあるが、これに限定されるもので
はない。
本明細書で使用される場合、「連続域スキャン」という用語は、光学撮像システム及び
検出器を用いる回転基板上の環、螺旋若しくは弧での区域スキャンを指す。連続域スキャ
ンは、非線形路に沿って基板又はアレイをスキャンすることができる。或いは若しくはさ
らに、連続域スキャンは、直線路又は実質的に直線路に沿って基板又はアレイをスキャン
することができる。検出器は、連続域スキャン検出器であることができる。スキャン方向
は、対象物の回転運動がθ方向である(R,θ)座標システムで実質的にθであることが
できる。スキャンシステムによって撮像される対象物(基板)上の視界にわたり、見かけ
の速度は、
Figure 2024010043000002
としての対象物上のフィールドポイントの半径方向位置(R)によって変動し得る。連続
域スキャン検出器は、全ての画像位置に全て同じ速度でスキャンするであろうことから、
曲線(又はアーチ形若しくは非線形)スキャンでの全ての撮像ポイントについて正確なス
キャン速度で操作することはできない。従って、スキャンは、スキャン速度と異なる速度
で移動する撮像フィールドポイントについての速度ブレによってエラーを含み得る。連続
回転域スキャンは、この接線速度ブレを実質的に補償することでこのスキャン異常を低減
するためのアルゴリズム的、光学的及び/又は電子的補正を行う光学検出システム又は方
法を含むことができる。例えば、その補償は、回転基板上の異なる半径に相当する各種画
像位置での速度ブレ差を解く(deconvolve)ことで速度ブレ差を補償する画像
処理アルゴリズムを用いることによって、アルゴリズム的に行われる。
別の例において、補償は、アナモルフィック倍率勾配を用いることで行われる。これは
、スキャン方向に対して横断方向の2又はそれ以上の基板位置で異なる量だけ、1軸で基
板を拡大する(アナモルフィック倍率)のに役立ち得る。アナモルフィック倍率勾配は、
2又はそれ以上の位置の画像化速度を修正して、実質的に等しくすることで、基板上のそ
の2つの位置の接線速度差を補償することができる。この補償を調節することで、基板上
の異なる半径で視界を横断する異なる速度勾配を相殺することができる。
撮像視界は、2又はそれ以上の領域に分割することができ、その各領域は異なる速度で
スキャンするように制御されていることができる。これらの速度は、各領域内の平均投影
対象物速度に調節することができる。その領域は、1又はそれ以上のビーム分割器又は1
又はそれ以上のミラーを用いて光学的に定義することができる。前記2又はそれ以上の領
域は、2又はそれ以上の検出器に向かっていることができる。その領域は、単一の検出器
のセグメントと定義することができる。
「本明細書で使用される場合、連続域スキャン検出器」という用語は、スキャン区域に
わたる連続積分が可能である撮像アレイセンサを指し、そのスキャンは、相対運動におけ
る対象物の画像に電子的に同期される。連続域スキャン検出器は、時間遅延積分(TDI
)電荷結合素子(CCD)、ハイブリッドTDI、又は相補型金属酸化物半導体(CMO
S)疑似TDIを含むことができる。
本明細書で使用される場合、「開放基板」という用語は、単一活性表面が基板に対して
垂直な方向からいずれかの箇所で物理的にアクセス可能である、実質的に平面的基板を指
す。実質的に平面的とは、ミクロメートルレベル又はナノメートルレベルでの平面性を指
し得る。或いは、実質的に平面的とは、ナノメートル未満レベル又はミクロメートル超レ
ベル(例えば、ミリメートルレベル)での平面性を指し得る。
本明細書で使用される場合、「アナモルフィック倍率」という用語は、画像の2つの軸
間での倍率差を指す。アナモルフィック倍率勾配は、第2の軸での移動にわたる第1の軸
でのアナモルフィック倍率差を含むことができる。第2の軸での倍率は、1又はそのフィ
ールド全体で実質的に一定であるいずれか他の値であることができる。
本明細書で使用される場合、「視界」という用語は、検出器の活動域に光学的にマッピ
ングされるサンプル又は基板上の区域を指す。
回転アレイを用いる分析物の処理
従来のマイクロ流体システムは、多くの長く狭いチャネルを含む基板を用いていた。そ
のような基板用の代表的なフローセル幾何形状は、1)体積を小さくして試薬使用を減ら
す;及び2)有効水力直径を最大化してフロー時間を短縮するという2つの矛盾する要件
間で妥協する必要性を生じさせるものである。このトレードオフは、多量の洗浄液、従っ
て完了するために長時間が必要であり得る洗浄操作には特に重要であり得る。そのトレー
ドオフは、層流様式での流動を決めるポアズイユ式によって説明されることから、そのよ
うなフローセル幾何形状を利用するマイクロ流体システムに内在するものである。そのよ
うなフローセル幾何形状は、汚染の影響を受けやすい可能性もある。そのようなフローセ
ル幾何形状によってマイクロ流体システムにおいて有限の限定数のチャネルが可能となる
ことから、そのような有限数のチャネルを、異なる分析物、試薬、作用剤及び/又は緩衝
剤を含む複数の異なる混合物間で共有することができる。同一チャネルを流れる流体の内
容物は、汚染されている可能性がある。
本明細書では、少なくとも上記の問題に対処することができる、開放基板又はフローセ
ル幾何形状を用いる分析物を処理するための装置、システム及び方法について記載してい
る。その装置、システム及び方法を用いて、分析物と流体(例えば、試薬、作用剤、緩衝
剤、他の分析物などを含む流体)の間の反応若しくは相互作用が関与する使用又はプロセ
スを容易にすることができる。そのような反応又は相互作用は、化学的(例えば、ポリメ
ラーゼ反応)又は物理的(例えば、置き換え)であることができる。本明細書に記載のシ
ステム及び方法は、より高い効率から、例えばより迅速な試薬送り及び表面区域当たりの
必要な試薬のより低量からの恩恵を受けることができる。本明細書に記載のシステム及び
方法は、ある試薬から次の試薬へのキャリーオーバーの原因となり得る多ポートバルブか
ら供給されるマイクロ流体チャネルフローセルに共通する汚染問題を回避することができ
る。その装置、システム、及び方法は、より短い完了時間、より少ない数のリソース(例
えば、各種試薬)の使用、及び/又はシステム経費削減からの恩恵を受けることができる
。その開放基板又はフローセル幾何形状を用いて、本明細書に記載されるあらゆる分析物
、例えば核酸分子、タンパク質分子、抗体、抗原、細胞、及び/又は生物(これらに限定
されるものではない)を処理することができる。その開放基板又はフローセル幾何形状は
、本明細書に記載の合成による配列決定、連結による配列決定、増幅、プロテオミクス、
単細胞処理、バーコード化、及びサンプル調製など(これらに限定されるものではない)
のあらゆる用途又はプロセスに用いることができる。
当該システム及び方法は、個々にアドレス可能な位置のアレイ(例えば、平面アレイ)
を含む基板を用いることができる。各位置、又はそのような位置の一部分は、それに固定
化された分析物(例えば、核酸分子、タンパク質分子、炭水化物分子など)を有すること
ができる。例えば、分析物は、支持体、例えばビーズを介して個々にアドレス可能な位置
に固定化することができる。基板に固定化された複数の分析物は、テンプレート分析物の
コピーであることができる。例えば、前記複数の分析物は配列相同性を有することができ
る。他の場合では、基板に固定化された前記複数の分析物は異なっていることができる。
前記複数の分析物は、同じ種類の分析物(例えば、核酸分子)であることができるか、異
なる種類の分析物(例えば、核酸分子、タンパク質分子など)の組み合わせであることが
できる。前記基板は軸を中心に回転可能であり得る。分析物は、回転時に基板に固定化さ
れていることができる。試薬(例えば、ヌクレオチド、抗体、洗浄試薬、酵素など)は、
基板の回転の前又は回転中(例えば、高回転速度でスピン)に基板上にディスペンスする
ことで、アレイを試薬でコーティングし、分析物と試薬と相互作用させることができる。
例えば、分析物が核酸分子である場合、そして試薬がヌクレオチドを含む場合、核酸分子
は、1又はそれ以上のヌクレオチドを取り込むか、他の形でそのヌクレオチドと反応する
ことができる(例えば、一時的に結合する)。別の例において、分析物がタンパク質分子
である場合、そして試薬が抗体を含む場合、タンパク質分子は、1又はそれ以上の抗体に
結合するか、他の形態でその抗体と反応することができる。別の例において、試薬が洗浄
試薬を含む場合、基板(及び/又は基板上の分析物)は、未反応の(及び/又は未結合の
)試薬、作用剤、緩衝剤及び/又は他の粒子を洗い落とすことができる。
基板を横断する高速コーティングは、回転時の部分的に半径方向(即ち、回転の軸から
離れる方向)に非拘束回転している試薬を移動させる接線方向慣性、即ち遠心力と一般的
に言われる現象を介して達成することができる。高速回転には、少なくとも1回転/分(
rpm)、少なくとも2rpm、少なくとも5rpm、少なくとも10rpm、少なくと
も20rpm、少なくとも50rpm、少なくとも100rpm、少なくとも200rp
m、少なくとも500rpm、少なくとも1,000rpm、少なくとも2,000rp
m、少なくとも5,000rpm、少なくとも10,000rpm、又はそれより大きい
回転速度が関与し得る。基板全体への試薬移動のこのモードは、本明細書において、遠心
若しくは慣性ポンプ作用と称することができる。1又はそれ以上のシグナル(例えば、光
学シグナル)を、試薬のディスペンスの前、最中又は後に基板上の検出区域から検出して
、出力を発生させることができる。例えば、その出力は、分析物の処理から得られる中間
若しくは最終結果であることができる。シグナルは複数の場合で検出することができる。
ディスペンス、回転及び/又は検出操作は、いずれの順序でも(独立に又は同時に)、い
ずれかの回数繰り返して、分析物を処理することができる。一部の場合において、基板は
、試薬の連続ディスペンス間で洗浄することができる(例えば、洗浄試薬のディスペンス
によって)。
本明細書においては、生体分析物の処理方法であって、固定化された前記生体分析物を
有するアレイを含む基板を提供することを含み、前記基板が中心軸に対して回転可能であ
る方法が提供される。場合により、前記アレイは平面アレイであることができる。場合に
より、前記アレイはウェルのアレイであることができる。場合により、前記基板は、テク
スチャ化されているか、及び/又はパターン化されていることができる。当該方法は、溶
液を前記基板を横断して移動させること、そして、その溶液を前記基板の回転時に前記生
体分析物と接触させることを含むことができる。その溶液は、前記基板に対して半径方向
(例えば、外方向)に移動させて、当該基板をコーティングし、前記アレイに固定化され
た前記生体分析物と接触させることができる。場合により、前記溶液は複数のプローブを
含むことができる。場合により、前記溶液は、洗浄溶液であることができる。前記方法は
、前記生体分析物を、前記複数のプローブのうちの少なくとも1つのプローブと前記生体
分析物との間の反応を行うのに十分な条件下に置くことを含むことができる。当該反応は
、前記生体分析物に結合した少なくとも1つのプローブからの1又はそれ以上のシグナル
を発生させ得る。当該方法は、1又はそれ以上のシグナルを検出することで、前記生体分
析物を分析することを含むことができる。
基板は、固体基板であることができる。基板は、ガラス、ケイ素、金属、例えばアルミ
ニウム、銅、チタン、クロム若しくはスチール、セラミック、例えば二酸化チタン又は窒
化ケイ素、プラスチック、例えばポリエチレン(PE)、低密度ポリエチレン(LDPE
)、高密度ポリエチレン(HDPE)、ポリプロピレン(PP)、ポリスチレン(PS)
、高衝撃ポリスチレン(HIPS)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリ塩化ビニリデン(
PVDC)、アクロニトリルブタジエンスチレン(ABS)、ポリアセチレン、ポリアミ
ド類、ポリカーボネート類、ポリエステル類、ポリウレタン類、ポリエポキシド、ポリメ
タクリル酸メチル(PMMA)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、フェノール
ホルムアルデヒド(PF)、メラミンホルムアルデヒド(MF)、尿素-ホルムアルデヒ
ド(UF)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリエーテルイミド(PEI)
、ポリイミド類、ポリ乳酸(PLA)、フラン類、シリコーン類、ポリスルホン類、前述
の材料のいずれかの混合物、又はいずれか他の適切な材料の1以上を全体に又は部分的に
含むことができる。基板は、金属、例えばアルミニウム、銅、銀若しくは金、酸化物、例
えば酸化ケイ素(Si;x、yはいずれか可能な値を取り得る)、フォトレジスト
、例えばSU8、表面コーティング、例えばアミノシラン若しくはヒドロゲル、ポリアク
リル酸、ポリアクリルアミドデキストラン、ポリエチレングリコール(PEG)、又は前
述の材料のいずれかの組み合わせ、又はいずれか他の適切なコーティングの1又はそれ以
上の層で全体に又は部分的にコーティングされていることができる。前記1又はそれ以上
の層は、少なくとも1ナノメートル(nm)、少なくとも2nm、少なくとも5nm、少
なくとも10nm、少なくとも20nm、少なくとも50nm、少なくとも100nm、
少なくとも200nm、少なくとも500nm、少なくとも1ミクロメートル(μm)、
少なくとも2μm、少なくとも5μm、少なくとも10μm、少なくとも20μm、少な
くとも50μm、少なくとも100μm、少なくとも200μm、少なくとも500μm
、又は少なくとも1ミリメートル(mm)の厚さを有することができる。前記1又はそれ
以上の層は、前述の値のいずれか二つによって規定される範囲内の厚さを有することがで
きる。
基板は、円筒、円筒シェル若しくはディスク、直角プリズム、又はいずれか他の幾何形
状の概形を有することができる。基板は、少なくとも100μm、少なくとも200μm
、少なくとも500μm、少なくとも1mm、少なくとも2mm、少なくとも5mm、又
は少なくとも10mmの厚さ(例えば、最小寸法)を有することができる。基板は、前述
の値のいずれか二つによって規定される範囲内の厚さを有することができる。基板は、少
なくとも1mm、少なくとも2mm、少なくとも5mm、少なくとも10mm、少なくと
も20mm、少なくとも50mm、少なくとも100mm、少なくとも200mm、少な
くとも500mm、又は少なくとも1,000mmの第1の横寸法(例えば、直角プリズ
ムの概形を有する基板の幅、又は円筒の概形を有する基板の半径)を有することができる
。基板は、前述の値のいずれか二つによって規定される範囲内の第1の横寸法を有するこ
とができる。基板は、少なくとも1mm、少なくとも2mm、少なくとも5mm、少なく
とも10mm、少なくとも20mm、少なくとも50mm、少なくとも100mm、少な
くとも200mm、少なくとも500mm、又は少なくとも1,000mmの第2の横寸
法(例えば、直角プリズムの概形を有する基板の長さ)を有することができる。基板は、
前述の値のいずれか二つによって規定される範囲内の第2の横寸法を有することができる
。基板の表面は、平面であることができる。或いは又はさらに、基板の表面は、テクスチ
ャ化されているかパターン化されていることができる。例えば、基板は、溝、トラフ、ヒ
ル及び/又はピラーを含むことができる。基板は、1又はそれ以上の空洞を規定すること
ができる(例えば、ミクロレベルの空洞又はナノレベルの空洞)。基板は、基板表面全体
に規則的なテクスチャ及び/又はパターンを有することができる。例えば、基板は、表面
の基準レベルの上又は下の規則的幾何構造(例えば、楔形、立方体、円筒形、回転楕円体
、半球など)を有することができる。或いは、基板は、基板表面全体に不規則なテクスチ
ャ及び/又はパターンを有することができる。例えば、基板は、基板の基準レベルの上又
は下の任意の構造を有することができる。場合により、基板のテクスチャは、基板又は基
板の層の合計厚さの最大で約100%、90%、80%、70%、60%、50%、40
%、30%、20%、10%、9%、8%、7%、6%、5%、4%、3%、2%、1%
、0.1%、0.01%、0.001%、0.0001%、0.00001%の最大寸法
を有する構造を含むことができる。場合により、基板のテクスチャ及び/又はパターンが
、基板上の個々にアドレス可能な位置の少なくとも一部を規定することができる。テクス
チャ化及び/又はパターン化基板は実質的に平面的であることができる。
基板はアレイを含むことができる。例えば、アレイは、基板の側面にあることができる
。アレイは、平面アレイであることができる。アレイは、円形、環、矩形又はいずれか他
の形状の概形を有することができる。アレイは、直線及び/又は非直線列を含むことがで
きる。アレイは、均等に間隔を設けたり、分布されていることができる。アレイは任意に
間隔を設けたり、分布されていることができる。アレイは規則的間隔を有することができ
る。アレイは不規則な間隔を有することができる。アレイは、テクスチャ化アレイである
ことができる。アレイは、パターン化アレイであることができる。アレイは、複数の個々
にアドレス可能な位置を含むことができる。処理される分析物は、アレイに固定化するこ
とができる。アレイは、本明細書に記載の1又はそれ以上の結合剤、例えば生体分析物に
結合している1又はそれ以上の物理的若しくは化学的リンカー若しくはアダプターを含む
ことができる。例えば、アレイは、核酸分子に結合しているリンカー又はアダプターを含
むことができる。或いは又はさらに、前記生体分析物は、ビーズに結合していることがで
き;そのビーズはアレイに固定化されていることができる。
個々にアドレス可能な位置は、操作のためにアクセス可能な分析物又は分析物群の位置
を含むことができる。その操作は、配置、抽出、試薬ディスペンス、シード添加、加熱、
冷却又は攪拌を含むことができる。抽出は、個々の分析物又は分析物群を抽出することを
含むことができる。例えば、抽出は、少なくとも2、少なくとも5、少なくとも10、少
なくとも20、少なくとも50、少なくとも100、少なくとも200、少なくとも50
0、又は少なくとも1,000個の分析物又は分析物群を抽出することを含むことができ
る。或いは又はさらに、抽出は、最大1,000、最大500、最大200、最大100
、最大50、最大20、最大10、最大5、又は最大2個の分析物又は分析物群を抽出す
ることを含むことができる。その操作は、例えば、分析物又はそれの周囲との局所微小流
体、ピペット、光学的、レーザー、音、磁気、及び/又は電磁気的相互作用によって行う
ことができる。
アレイは、結合剤でコーティングすることができる。例えば、アレイは、結合剤でラン
ダムにコーティングすることができる。或いは、アレイは、規則的パターン(例えば、直
線アレイ、放射状アレイ、六角形アレイなどで)で配列された結合剤でコーティングする
ことができる。アレイは、個々にアドレス可能な位置又は基板の表面区域の数の少なくと
も10%、少なくとも20%、少なくとも30%、少なくとも40%、少なくとも50%
、少なくとも60%、少なくとも70%、少なくとも80%、少なくとも90%、少なく
とも91%、少なくとも92%、少なくとも93%、少なくとも94%、少なくとも95
%、少なくとも96%、少なくとも97%、少なくとも98%、又は少なくとも99%上
で結合剤でコーティングすることができる。アレイは、前述の値のいずれか二つによって
規定される範囲内である、個々にアドレス可能な位置又は基板の表面区域の一部上で結合
剤によってコーティングされていることができる。結合剤は、アレイに統合されているこ
とができる。結合剤は、アレイに加えることができる。例えば、結合剤は、アレイ上の1
又はそれ以上のコーティング層としてアレイに加えることができる。
結合剤は、非特異的相互作用、例えば親水性相互作用、疎水性相互作用、静電気的相互
作用、物理的相互作用(例えば、ピラーへの接着又はウェル内の沈殿)などの1以上によ
って生体分析物を固定化することができる。結合剤は、特異的相互作用によって生体分析
物を固定化することができる。例えば、前記生体分析物が核酸分子である場合、結合剤は
、核酸分子に結合するように構成されているオリゴヌクレオチドアダプターを含むことが
できる。或いは若しくはさらに、例えば他の種類の分析物に結合するため、結合剤は、抗
体、オリゴヌクレオチド、アプタマー、親和結合タンパク質、脂質、炭水化物などの1以
上を含むことができる。結合剤は、相互作用のいずれか可能な組み合わせを介して生体分
析物を固定化することができる。例えば、結合剤は、物理的及び化学的相互作用の組み合
わせを介して、タンパク質及び核酸相互作用の組み合わせなどを介して核酸分子を固定化
することができる。アレイは、少なくとも約10、100、1000、10,000、1
00,000、1,000,000、10,000,000、100,000,000又
はそれより多い結合剤を含むことができる。或いは若しくはさらに、アレイは、最大約1
00,000,000、10,000,000、1,000,000、100,000、
10,000、1000、100、10又はそれより少ない結合剤を含むことができる。
アレイは、前出の値のいずれか二つによって規定される範囲内である数の結合剤を有する
ことができる。場合により、単一の結合剤が単一の生体分析物(例えば、核酸分子)に結
合していることができる。場合により、単一の結合剤は、複数の生体分析物(例えば、複
数の核酸分子)に結合していることができる。場合により、複数の結合剤は、単一の生体
分析物に結合していることができる。本明細書の例には結合剤の核酸分子との相互作用が
記載されているが、結合剤は、他の分子(例えば、タンパク質)、他の粒子、細胞、ウィ
ルス、他の生物などを固定化することができる。
場合により、各位置、又はそのような位置の一部分は、固定化された分析物(例えば、
核酸分子、タンパク質分子、炭水化物分子など)を有することができる。他の場合、前記
複数の個々にアドレス可能な位置の一部が、固定化された分析物を有することができる。
基板に固定化された複数の分析物は、テンプレート分析物のコピーであることができる。
例えば、前記複数の分析物(例えば、核酸分子)は、配列相同性を有することができる。
他の場合、基板に固定化された前記複数の分析物はコピーでないことができる。前記複数
の分析物は、同種類の分析物(例えば、核酸分子)であることができるか、異なる種類の
分析物(例えば、核酸分子、タンパク質分子など)の組み合わせであることができる。
場合により、前記アレイは、例えば異なる種類の分析物に結合するために複数種類の結
合剤を含むことができる。例えば、アレイは、第1の種類の分析物(例えば、核酸分子)
に結合するように構成されている第1の種類の結合剤(例えば、オリゴヌクレオチド)及
び第2の種類の分析物(例えば、タンパク質)に結合するように構成されている第2の種
類の結合剤(例えば、抗体)などを含むことができる。別の例では、アレイは、第1の種
類の核酸分子に結合するための第1の種類の結合剤(例えば、第1の種類のオリゴヌクレ
オチド分子)及び第2の種類の核酸分子に結合するための第2の種類の結合剤(例えば、
第2の種類のオリゴヌクレオチド分子)などを含むことができる。例えば、基板は、基板
上の一定の部分又は特定の位置に異なる種類の結合剤を有することで、基板上の一定の部
分又は特定の位置に異なる種類の分析物に結合するように構成されていることができる。
生体分析物は、前記複数の個々にアドレス可能な位置のうちの所与の個々にアドレス可
能な位置でアレイに固定化されていることができる。アレイは、あらゆる数の個々にアド
レス可能な位置を有することができる。例えば、アレイは、少なくとも1、少なくとも2
、少なくとも5、少なくとも10、少なくとも20、少なくとも50、少なくとも100
、少なくとも200、少なくとも500、少なくとも1,000、少なくとも2,000
、少なくとも5,000、少なくとも10,000、少なくとも20,000、少なくと
も50,000、少なくとも100,000、少なくとも200,000、少なくとも5
00,000、少なくとも1,000,000、少なくとも2,000,000、少なく
とも5,000,000、少なくとも10,000,000、少なくとも20,000,
000、少なくとも50,000,000、少なくとも100,000,000、少なく
とも200,000,000、少なくとも500,000,000、少なくとも1,00
0,000,000、少なくとも2,000,000,000、少なくとも5,000,
000,000、少なくとも10,000,000,000、少なくとも20,000,
000,000、少なくとも50,000,000,000、又は少なくとも100,0
00,000,000個の個々にアドレス可能な位置を有することができる。アレイは、
前出の値のいずれか二つによって規定される範囲内である多くの個々にアドレス可能な位
置を有することができる。各個々にアドレス可能な位置は、個別に(前記複数の個々にア
ドレス可能な位置から)デジタル的に及び/又は物理的にアクセス可能であることができ
る。例えば、各個々にアドレス可能な位置は、機器(例えば、検出器、処理装置、ディス
ペンサーなど)、又は他の処理によってマッピング、感知、関連付けするために電子的又
はデジタル的に位置づけ、識別及び/又はアクセスすることができる。或いは又はさらに
、各個々にアドレス可能な位置は、例えば個々にアドレス可能な位置にある分析物、試薬
、粒子その他の成分の物理的操作若しくは抽出のために、物理的に位置づけ、識別及び/
又はアクセスすることができる。
各個々にアドレス可能な位置は、円、ピット、バンプ、矩形又はいずれか他の形状若し
くは形態の概形若しくは形態を有することができる。各個々にアドレス可能な位置は、第
1の横寸法(例えば、円の概形を有する個々にアドレス可能な位置の場合には半径、又は
矩形の概形を有する個々にアドレス可能な位置の場合には幅)を有することができる。第
1の横寸法は、少なくとも1ナノメートル(nm)、少なくとも2nm、少なくとも5n
m、少なくとも10nm、少なくとも20nm、少なくとも50nm、少なくとも100
nm、少なくとも200nm、少なくとも500nm、少なくとも1,000nm、少な
くとも2,000nm、少なくとも5,000nm、又は少なくとも10,000nmで
あることができる。第1の横寸法は、前出の値のいずれか二つによって規定される範囲内
であることができる。各個々にアドレス可能な位置は、第2の横寸法(例えば、矩形の概
形を有する個々にアドレス可能な位置については長さ)を有することができる。第2の横
寸法は、少なくとも1ナノメートル(nm)、少なくとも2nm、少なくとも5nm、少
なくとも10nm、少なくとも20nm、少なくとも50nm、少なくとも100nm、
少なくとも200nm、少なくとも500nm、少なくとも1,000nm、少なくとも
2,000nm、少なくとも5,000nm、又は少なくとも10,000nmであるこ
とができる。第2の横寸法は、前出の値のいずれか二つによって規定される範囲内である
ことができる。場合により、各個々にアドレス可能な位置は、本明細書に記載のように、
結合剤を有するか、結合剤に結合していることで、分析物をそれに固定化することができ
る。場合により、個々にアドレス可能な位置の一部のみが、結合剤を有することができる
か、結合剤に結合していることができる。場合により、個々にアドレス可能な位置は、複
数の結合剤を有するか、それに結合していることで、分析物をそれに固定化していること
ができる。
個々にアドレス可能な位置に結合した分析物には、分子、細胞、生物、核酸分子、核酸
コロニー、ビーズ、クラスター、ポロニー又はDNAナノボールなどがあり得るが、これ
らに限定されるものではない。結合分析物は、規則的、パターン化、周期的、ランダム又
は疑似ランダムな構成、又は何らかの他の配置でアレイに固定化されていることができる
基板は、軸に対して回転するように構成されていることができる。場合により、本明細
書に記載の前記システム、機器及び装置はさらに、基板を回転させるように構成されてい
る回転ユニットを含むことができる。その回転ユニットは、基板を回転させるためのモー
ター及び/又はローターを含むことができる。そのようなモーター及び/又はローターは
、直接又は中間部品(例えば、ギア、ステージ、アクチュエータ、ディスク、プーリーな
ど)を介して間接的に基板に機械的に連結されていることができる。回転ユニットは自動
化されていることができる。或いは若しくはさらに、回転ユニットは手動入力を受けるこ
とができる。回転の軸は、基板の中心を通る軸であることができる。その軸は、偏心軸で
あることができる。例えば、基板は、スピンコーティング装置のチャック(例えば、真空
チャック)に固定されていることができる。基板は、少なくとも1回転/分(rpm)、
少なくとも2rpm、少なくとも5rpm、少なくとも10rpm、少なくとも20rp
m、少なくとも50rpm、少なくとも100rpm、少なくとも200rpm、少なく
とも500rpm、少なくとも1,000rpm、少なくとも2,000rpm、少なく
とも5,000rpm、又は少なくとも10,000rpmの回転速度で回転するように
構成されていることができる。基板は、前出の値のいずれか二つによって規定される範囲
内である回転速度で回転するように構成されていることができる。基板は、本明細書に記
載の異なる操作時に異なる回転速度で回転するように構成されていることができる。基板
は、時間依存性関数、例えばランプ関数、シヌソイド関数、パルス関数その他の関数又は
関数の組み合わせに従って変動する回転速度で回転するように構成されていることができ
る。その時間依存性関数は、周期性又は非周期性であることができる。
溶液は、前記基板の回転前に又は回転時に基板に提供されて、アレイを横断して当該溶
液を遠心的に移動させるようにすることができる。場合により、溶液は、前記基板の回転
時にパルスで平面アレイに提供することで、半径方向で外向きに移動する溶液の環状波を
作ることができる。そのパルスは、周期的又は非周期的(例えば、任意の)間隔を有する
ことができる。一連のパルスは、表面-試薬交換を生じさせる一連の波を含むことができ
る。その表面-試薬交換は、各次パルスが低濃度の表面試薬を含む洗浄を含むことができ
る。その溶液は、基板の温度と異なる温度を有することで、基板又は基板上にある分析物
に熱エネルギーのソース又はヒケを提供することができる。その熱エネルギーは、基板又
は分析物への温度変化を提供することができる。その温度変化は一時的であることができ
る。その温度変化は、化学反応、例えば分析物に行われる化学反応を実行、停止、促進又
は阻害することができる。例えば、化学反応は、核酸分子の変性、ハイブリダイゼーショ
ン、又はアニーリングを含むことができる。その化学反応は、ポリメラーゼ連鎖反応(P
CR)、ブリッジ増幅その他の核酸増幅反応での1段階を含むことができる。その温度変
化は、分析物から検出されるシグナルを調節、増加又は減少させ得る。
アレイは、少なくとも1つのサンプル注入口(流体チャネルの)と流体で連絡している
ことができる。アレイは、空隙を介してサンプル注入口と流体で連絡していることができ
る。場合により、アレイはさらに、少なくとも1つのサンプル排出口と流体で連絡してい
ることができる。アレイは、空隙を介してサンプル排出口と流体で連絡していることがで
きる。サンプル注入口は、溶液をアレイに移動させるように構成されていることができる
。サンプル排出口は、アレイから溶液を受けるように構成されていることができる。その
溶液は、1又はそれ以上のディスペンスノズルを用いてアレイに送ることができる。例え
ば、その溶液は、少なくとも1、少なくとも2、少なくとも3、少なくとも4、少なくと
も5、少なくとも6、少なくとも7、少なくとも8、少なくとも9、少なくとも10、少
なくとも11、少なくとも12、少なくとも13、少なくとも14、少なくとも15、少
なくとも16、少なくとも17、少なくとも18、少なくとも19、又は少なくとも20
個のディスペンスノズルを用いてアレイに送ることができる。前記溶液は、前出の値のい
ずれか二つによって規定される範囲内である多くのノズルを用いてアレイに送ることがで
きる。場合により、異なる試薬(例えば、異なる種類のヌクレオチド溶液、異なるプロー
ブ、洗浄溶液など)は、例えば汚染を防止するために異なるノズルを介してディスペンス
することができる。各ノズルは、汚染をさらに防止することができる専用の流体ライン又
は流体バルブに連結されていることができる。1種類の試薬を、1又はそれ以上のノズル
を介してディスペンスすることができる。前記1又はそれ以上のノズルは、基板の中心に
又はその中心付近を向いていることができる。或いは、前記1又はそれ以上のノズルは、
基板の中心とは異なる基板上の位置に又はその位置付近に向いていることができる。或い
は又は組み合わせて、1又はそれ以上のノズルが、他のノズルの1以上より、基板の中心
近くに向いていることができる。例えば、洗浄試薬をディスペンスするのに用いられる1
又はそれ以上のノズルが、活性試薬をディスペンスするのに用いられる1又はそれ以上の
ノズルより基板の中心に近く向けることができる。前記1又はそれ以上のノズルは、基板
の中心から異なる半径で配置することができる。2又はそれ以上のノズルを組み合わせて
操作して、基板により効率的に流体を送ることができる。1又はそれ以上のノズルは、ジ
ェット、スプレー(又は他の分散流体)、及び/又は液滴として基板に流体を送るように
構成されていることができる。1又はそれ以上のノズルを操作して、基板への送りの前に
流体を霧化することができる。
その溶液は、基板が静止している時に基板上にディスペンスすることができ、次に、そ
の基板を、溶液のディスペンス後に回転させることができる。或いは、溶液のディスペン
ス前に、基板を回転させることができ、次に、その溶液を、基板が回転している時に基板
上にディスペンスすることができる。
基板の回転は、溶液上に遠心力(又は軸から遠ざかる方向の慣性力)を生じさせて、溶
液を、半径方向で外向きにアレイ上を流れさせることができる。このようにして、基板の
回転によって、アレイを横断して溶液を移動させることができる。期間にわたり基板を連
続回転させることで、アレイを横断してほぼ一定の厚さの流体フィルムをディスペンスす
ることができる。基板の回転速度を選択して、基板上の溶液の所望の厚さのフィルムを得
ることができる。そのフィルム厚は、下記方程式(1)によって回転速度に関連付けるこ
とができる。
Figure 2024010043000003
ここで、h(t)は時間tでの流体フィルムの厚さであり、μは流体の粘度であり、ω
は回転速度であり、Cは定数である。
或いは又は組み合わせて、溶液の粘度を選択して、基板の溶液のフィルムの所望の厚さ
を得ることができる。例えば、基板の回転速度又は溶液の粘度を選択して、少なくとも1
0ナノメートル(nm)、少なくとも20nm、少なくとも50nm、少なくとも100
nm、少なくとも200nm、少なくとも500nm、少なくとも1ミクロメートル(μ
m)、少なくとも2μm、少なくとも5μm、少なくとも10μm、少なくとも20μm
、少なくとも50μm、少なくとも100μm、少なくとも200μm、少なくとも50
0μm、又は少なくとも1mmのフィルム厚を得ることができる。基板の回転速度及び/
又は溶液の粘度を選択して、前出の値のいずれか二つによって規定される範囲内であるフ
ィルム厚を得ることができる。溶液の粘度は、溶液の温度を制御することによって制御す
ることができる。フィルムの厚さを測定又はモニタリングすることができる。フィルムの
厚さの測定又はモニタリングを、フィードバックシステムに組み込むことで、フィルム厚
をより良く制御することができる。フィルムの厚さは、各種技術によって測定又はモニタ
リングすることができる。例えば、フィルムの厚さは、薄膜スペクトル装置、例えばファ
イバースペクトル装置を用いる薄膜スペクトル測定によって測定又はモニタリングするこ
とができる。
当該溶液は、各種成分を含む反応混合物であることができる。例えば、当該溶液は、分
析物と相互作用するように構成されている複数のプローブを含むことができる。例えば、
プローブは、分析物に対する結合特異性を有することができる。別の例において、プロー
ブは、分析物への結合特異性を有しない可能性がある。プローブは、分析物に永久的に結
合するように構成されていることができる。プローブは、分析物に一時的に結合するよう
に構成されていることができる。例えば、ヌクレオチドプローブは、核酸分子分析物にハ
イブリダイズされた伸長鎖に永久的に組み込むことができる。或いは、ヌクレオチドプロ
ーブは、核酸分子分析物に一時的に結合することができる。次に、一時的に結合したプロ
ーブを分析物から除去することができる。次に、分析物から一時的に結合したプローブを
除去することで、分析物上の残留物(例えば、化学的残留物)が残るか、残らない可能性
がある。溶液中のプローブの種類は、分析物の種類によって決まり得る。プローブは、特
異的機能を行うように構成されている官能基若しくは官能部分を含むことができる。例え
ば、プローブは標識(例えば、色素)を含むことができる。プローブは、分析物との結合
その他の相互作用で、例えば標識を介して検出可能なシグナル(例えば、光学シグナル)
が発生するように構成されていることができる。場合により、プローブは、活性化(例え
ば、刺激)すると検出可能なシグナルを発生するように構成されていることができる。別
に例において、ヌクレオチドプローブは、ポリメラーゼ反応を停止(ブロック化されなく
なるまで)するように構成されている可逆的ターミネータ(例えば、ブロッキング基)を
含むことができる。その溶液は、プローブと分析物(例えば、酵素、触媒、緩衝液、生理
食塩水溶液、キレート剤、還元剤、他の作用剤など)との間の反応を支援、促進又は減速
するために他の成分を含むことができる。場合により、その溶液は、洗浄溶液であること
ができる。場合により、アレイ上に固定化された分析物を含む反応混合物溶液中での試薬
(例えば、プローブ)間の反応又は相互作用後に、洗浄溶液をアレイと接触させるために
、洗浄溶液を基板に移動させることができる。洗浄溶液は、以前の反応混合物溶液から遊
離試薬を洗い流すことができる。
溶液中のプローブと分析物の間の反応時に、検出可能なシグナル、例えば光学シグナル
(例えば、蛍光シグナル)が発生し得る。例えば、そのシグナルは、プローブ及び/又は
分析物由来のものであることができる。その検出可能シグナルは、プローブと分析物の間
の反応又は相互作用を示すものであることができる。その検出可能シグナルは、非光学シ
グナルであることができる。例えば、その検出可能シグナルは、電子シグナルであること
ができる。その検出可能シグナルは、1又はそれ以上のセンサによって検出することがで
きる。例えば、光学シグナルは、本明細書の他の箇所で記載の光学検出スキームにおける
1又はそれ以上の光学検出器を介して検出することができる。そのシグナルは、前記基板
の回転時に検出することができる。そのシグナルは、回転終了後に検出することができる
。そのシグナルは、分析物が溶液と流体接触している時に検出することができる。そのシ
グナルは、溶液の洗浄後に検出することができる。場合により、検出後、例えばプローブ
及び/又は分析物からの標識を開裂させ、プローブ及び/又は分析物を修飾することによ
って、シグナルを弱めることができる。そのような開裂及び/又は修飾は、1又はそれ以
上の刺激、例えば化学剤、酵素、光(例えば、紫外光)、又は温度変化(例えば、加熱)
への曝露によって行うことができる。場合により、前記シグナルは、或いは、1又はそれ
以上のセンサの動作停止若しくはモード変換(例えば、検出波長)、又はシグナル励起の
終了又は逆転によって検出不能となり得る。場合により、シグナルの検出は、画像のキャ
プチャー又はデジタル出力(例えば、異なる画像間)の発生を含み得る。
基板への溶液の移動及び溶液中のプローブとアレイ中の分析物の間の反応を示す1又は
それ以上のシグナルの検出という操作は、1回以上繰り返すことができる。そのような操
作は、反復的に繰り返すことができる。例えば、アレイ中の所与の位置に固定化された同
じ分析物は、複数の繰り返しサイクルで複数の溶液と相互作用することができる。各反復
において、検出される追加のシグナルは、処理時の分析物についての漸増するデータ又は
最終データを提供することができる。例えば、分析物が核酸分子であり、処理が配列決定
である場合、各反復で検出された追加のシグナルは、核酸分子の核酸配列中の塩基を示す
ものであることができる。その操作は、少なくとも1、少なくとも2、少なくとも5、少
なくとも10、少なくとも20、少なくとも50、少なくとも100、少なくとも200
、少なくとも500、少なくとも1,000、少なくとも2,000、少なくとも5,0
00、少なくとも10,000、少なくとも20,000、少なくとも50,000、少
なくとも100,000、少なくとも200,000、少なくとも500,000、少な
くとも1,000,000、少なくとも2,000,000、少なくとも5,000,0
00、少なくとも10,000,000、少なくとも20,000,000、少なくとも
50,000,000、少なくとも100,000,000、少なくとも200,000
,000、少なくとも500,000,000、又は少なくとも1,000,000,0
00サイクル繰り返して、分析物を処理することができる。場合により、各サイクルにお
いて、異なる溶液を基板に移動させることができる。例えば、少なくとも1、少なくとも
2、少なくとも5、少なくとも10、少なくとも20、少なくとも50、少なくとも10
0、少なくとも200、少なくとも500、少なくとも1,000、少なくとも2,00
0、少なくとも5,000、少なくとも10,000、少なくとも20,000、少なく
とも50,000、少なくとも100,000、少なくとも200,000、少なくとも
500,000、少なくとも1,000,000、少なくとも2,000,000、少な
くとも5,000,000、少なくとも10,000,000、少なくとも20,000
,000、少なくとも50,000,000、少なくとも100,000,000、少な
くとも200,000,000、少なくとも500,000,000、又は少なくとも1
,000,000,000種類の溶液を基板に移動させることができる。
場合により、各サイクル間(又は各サイクル時に少なくとも1回)に洗浄溶液を基板に
移動させることができる。例えば、各種類の反応混合物溶液を基板に移動させた後に、洗
浄溶液を基板に移動させることができる。洗浄溶液は、互いに異なるものであることがで
きる。洗浄溶液は同一であることができる。洗浄溶液は、回転時にパルスでディスペンス
されて、本明細書で記載のように環状波を作ることができる。例えば、少なくとも1、少
なくとも2、少なくとも5、少なくとも10、少なくとも20、少なくとも50、少なく
とも100、少なくとも200、少なくとも500、少なくとも1,000、少なくとも
2,000、少なくとも5,000、少なくとも10,000、少なくとも20,000
、少なくとも50,000、少なくとも100,000、少なくとも200,000、少
なくとも500,000、少なくとも1,000,000、少なくとも2,000,00
0、少なくとも5,000,000、少なくとも10,000,000、少なくとも20
,000,000、少なくとも50,000,000、少なくとも100,000,00
0、少なくとも200,000,000、少なくとも500,000,000、又は少な
くとも1,000,000,000種類の洗浄溶液を基板に移動させることができる。
場合により、溶液が基板と接触した後に、溶液の一部分又は全体をリサイクルすること
ができる。リサイクルは、その溶液の一部分又は全体の回収、濾過、及び再使用を含むこ
とができる。濾過は、分子濾過であることができる。
回転アレイを用いる核酸配列決定
場合により、配列決定方法は、プライマー伸長反応を用いて核酸分子を塩基1個ずつ配
列する合成手法による配列決定を用いることができる。例えば、核酸分子の配列決定方法
は、固定化されている前記核酸分子を有するアレイを含む基板を提供することを含むこと
ができる。アレイは、平面アレイであることができる。基板は、軸に対して回転するよう
に構成されていることができる。当該方法は、前記基板の回転前に若しくは回転時にアレ
イを横断して複数のヌクレオチドを含む溶液を移動させることを含むことができる。基板
の回転は、基板表面の溶液によるコーティングを促進し得るものである。前記複数のヌク
レオチドからの少なくとも1つのヌクレオチドを核酸分子に対して相補的である伸長鎖に
取り込むか特異的に結合させるのに十分な条件下で、核酸分子についてプライマー伸長反
応を行うことができる。少なくとも1つのヌクレオチドの取り込み若しくは結合を示すシ
グナルを検出することで、核酸分子を配列決定することができる。
場合により、当該方法は、固定化されている核酸分子を有する基板を提供する前に、基
板に核酸分子を固定化することを含むことができる。例えば、その核酸分子を含む複数の
核酸分子を含む溶液を、基板の回転前、回転中若しくは回転後に基板に移動させることが
でき、その基板を、前記複数の核酸分子の少なくとも一部分を基板上のアレイとして固定
化するのに十分な条件下に置くことができる。
図2は、核酸分子を配列決定する方法200の1例のフローチャートを示す。第1の操
作210において、当該方法は、本明細書の別の箇所に記載の方法に従って、基板を提供
することを含むことができる。当該基板は、複数の個々にアドレス可能な位置のアレイを
含むことができる。そのアレイは、平面アレイであることができる。そのアレイは、テク
スチャ化アレイであることができる。そのアレイは、パターン化アレイであることができ
る。例えば、アレイは、ウェル及び/又はピラーで個々にアドレス可能な位置を規定する
ことができる。同じ核酸分子のコピーであることができるかそれができない複数の核酸分
子が、アレイに固定化されていることができる。前記複数の核酸分子からの各核酸分子を
、前記複数の個々にアドレス可能な位置のうちの所与の個々にアドレス可能な位置でアレ
イに固定化することができる。
基板は、軸に対して回転するように構成されていることができる。軸は、基板の中心又
は実質的に中心を通る軸であることができる。その軸は、偏心軸であることができる。例
えば、基板は、スピンコーティング装置のチャック(例えば、真空チャック)に固定され
ていることができる。基板は、少なくとも1回転/分(rpm)、少なくとも2rpm、
少なくとも5rpm、少なくとも10rpm、少なくとも20rpm、少なくとも50r
pm、少なくとも100rpm、少なくとも200rpm、少なくとも500rpm、少
なくとも1,000rpm、少なくとも2,000rpm、少なくとも5,000rpm
、又は少なくとも10,000rpmの回転速度で回転するように構成されていることが
できる。基板は、前出の値のいずれか二つによって規定される範囲内である回転速度で回
転するように構成されていることができる。基板は、本明細書に記載の異なる操作時に異
なる回転速度で回転するように構成されていることができる。基板は、時間依存性関数、
例えばランプ関数、シヌソイド関数、パルス関数その他の関数又は関数の組み合わせに従
って変動する回転速度で回転するように構成されていることができる。その時間依存性関
数は、周期性又は非周期性であることができる。
第2の操作220において、当該方法は、前記基板の回転前に若しくは回転時にアレイ
を横断して溶液を移動させることを含むことができる。その溶液は、アレイを横断して遠
心的に移動させることができる。場合により、溶液は、前記基板の回転時にパルスでアレ
イに移動させることで、半径方向で外向きに移動する溶液の環状波を作ることができる。
その溶液は、基板の温度と異なる温度を有することで、基板又は基板上にある核酸分子に
熱エネルギーのソース又はヒケを提供することができる。その熱エネルギーは、基板又は
核酸分子への温度変化を提供することができる。その温度変化は一時的であることができ
る。その温度変化は、化学反応、例えば核酸分子に行われる化学反応を実行、停止、促進
又は阻害することができる。化学反応は、前記複数の核酸分子の変性、ハイブリダイゼー
ション、又はアニーリングを含むことができる。その化学反応は、ポリメラーゼ連鎖反応
(PCR)、ブリッジ増幅その他の核酸増幅反応での1段階を含むことができる。その温
度変化は、核酸分子から(又は溶液中のプローブから)検出されるシグナルを調節、増加
又は減少させ得る。
場合により、当該溶液は、核酸分子と相互作用するように構成されているプローブを含
むことができる。例えば、場合により、例えば合成による配列決定を行う場合、当該溶液
は、複数のヌクレオチド(単一塩基で)を含むことができる。前記複数のヌクレオチドは
、ヌクレオチド類縁体、天然ヌクレオチド及び/又は非天然ヌクレオチドを含むことがで
き、これらは本明細書において総称して「ヌクレオチド」と称される。前記複数のヌクレ
オチドは、同じ種類の塩基であることができるかそうでないこともできる(例えば、A、
T、G、Cなど)。例えば、当該溶液は、1種類のみの塩基を含むこともそうでないこと
もできる。当該溶液は、少なくとも1種類の塩基又は少なくとも2、少なくとも3、少な
くとも4、少なくとも5、少なくとも6、少なくとも7、少なくとも8、少なくとも9、
若しくは少なくとも10種類の塩基を含むことができる。例えば、前記溶液は、A、T、
C、及びGのいずれかの可能な混合物を含むことができる。場合により、当該溶液は、複
数の天然ヌクレオチド及び非天然ヌクレオチドを含むことができる。前記複数の天然ヌク
レオチド及び非天然ヌクレオチドは、同じ種類の塩基であることができるかそうでないこ
ともできる(例えば、A、T、G、C)。
前記複数のヌクレオチドの1又はそれ以上のヌクレオチドが停止され得る(例えば、可
逆的に停止)。例えば、1つのヌクレオチドは、可逆的ターミネータ、又はプライマー伸
長を可逆的に停止させることができる部分を含むことができる。可逆的ターミネータを含
むヌクレオチドは、ポリメラーゼによって受容され、非可逆的に停止したヌクレオチドと
同様に成長する核酸配列に取り込まれ得る。可逆的ターミネータを含むヌクレオチド類縁
体の核酸鎖への取り込み後、可逆的ターミネータを除去して、前記核酸鎖のさらなる伸長
を可能とすることができる。可逆的ターミネータは、ヌクレオチド又はヌクレオチド類縁
体の糖部分(例えば、ペントース)の3′-酸素原子に結合しているブロッキング基又は
キャッピング基を含むことができる。そのような部分は、3′-O-ブロック化可逆的タ
ーミネータと称される。3′-O-ブロック化可逆的ターミネータの例には、例えば、3
′-ONH可逆的ターミネータ、3′-O-アリル可逆的ターミネータ、及び3′-O
-アジオ(azio)メチル可逆的ターミネータなどがある。或いは、可逆的ターミネー
タは、ヌクレオチド類縁体のリンカー(例えば、開裂性リンカー)及び/又は色素部分に
ブロッキング基を含むことができる。3′-非ブロック化可逆的ターミネータは、ヌクレ
オチド類縁体の塩基並びに蛍光基(例えば、本明細書に記載の標識)の両方に結合してい
ることができる。3′-非ブロック化可逆的ターミネータの例には、Helicos B
ioSciences Corpによって開発された「バーチャルターミネータ」及びM
ichael L. Metzker et alによって開発された「ライトニングタ
ーミネータ」などがある。可逆的ターミネータの開裂は、例えば、可逆的ターミネータを
含む核酸分子の放射線照射によって行うことができる。
前記複数のヌクレオチドの1又はそれ以上のヌクレオチドは、色素、フルオロフォア、
又は量子ドットによって標識することができる。例えば、前記溶液は、標識ヌクレオチド
を含むことができる。別の例において、前記溶液は、非標識ヌクレオチドを含むことがで
きる。別の例において、前記溶液は標識ヌクレオチド及び非標識ヌクレオチドの混合物を
含むことができる。色素の非限定的な例には、SYBRグリーン、SYBRブルー、DA
PI、プロピジウムヨウ素、Hoechst、SYBRゴールド、臭化エチジウム、アク
リジン、プロフラビン、アクリジンオレンジ、アクリフラビン、フルオルクマリン(fl
uorcoumanin)、エリプチシン、ダウノマイシン、クロロキン、ジスタマイシ
ンD、クロモマイシン、ホミジウム、ミトラマイシン、ルテニウムポリピリジル類、アン
トラマイシン、フェナントリジン類及びアクリジン類、臭化エチジウム、ヨウ化プロピジ
ウム、ヨウ化ヘキシジウム、ジヒドロエチジウム、エチジウムホモダイマー-1及び-2
、エチジウムモノアジド、及びACMA、Hoechst33258、Hoechst3
3342、Hoechst34580、DAPI、アクリジンオレンジ、7-AAD、ア
クチノマイシンD、LDS751、ヒドロキシスチルバミジン、SYTOXブルー、SY
TOXグリーン、SYTOXオレンジ、POPO-1、POPO-3、YOYO-1、Y
OYO-3、TOTO-1、TOTO-3、JOJO-1、LOLO-1、BOBO-1
、BOBO-3、PO-PRO-1、PO-PRO-3、BO-PRO-1、BO-PR
O-3、TO-PRO-1、TO-PRO-3、TO-PRO-5、JO-PRO-1、
LO-PRO-1、YO-PRO-1、YO-PRO-3、PicoGreen、Oli
Green、RiboGreen、SYBRゴールド、SYBRグリーンI、SYBRグ
リーンII、SYBRDX、SYTO-40、-41、-42、-43、-44、-45
(ブルー)、SYTO-13、-16、-24、-21、-23、-12、-11、-2
0、-22、-15、-14、-25(グリーン)、SYTO-81、-80、-82、
-83、-84、-85(オレンジ)、SYTO-64、-17、-59、-61、-6
2、-60、-63(レッド)、フルオレセイン、フルオレセインイソチオシアネート(
FITC)、テトラメチルローダミンイソチオシアネート(TRITC)、ローダミン、
テトラメチルローダミン、R-フィコエリトリン、Cy-2、Cy-3、Cy-3.5、
Cy-5、Cy5.5、Cy-7、Texas Red、Phar-Red、アロフィコ
シアニン(APC)、Sybr Green I、Sybr Green II、Syb
r Gold、CellTracker Green、7-AAD、エチジウムホモダイ
マーI、エチジウムホモダイマーII、エチジウムホモダイマーIII、臭化エチジウム
、ウンベリフェロン、エオシン、緑色蛍光タンパク質、エリトロシン、クマリン、メチル
クマリン、ピレン、マラカイトグリーン、スチルベン、ルシファーイエロー、カスケード
ブルー(cascade blue)、ジクロロトリアジニルアミンフルオレセイン、塩
化ダンシル、蛍光ランタニド錯体(例えば、ユウロピウム及びテルビウムを含むもの)、
カルボキシテトラクロロフルオレセイン、5及び/又は6-カルボキシフルオレセイン(
FAM)、VIC、5-(又は6-)ヨードアセトアミドフルオレセイン、5-{[2(
及び3)-5-(アセチルメルカプト)-スクシニル]アミノ}フルオレセイン(SAM
SA-フルオレセイン)、リサミンローダミンBスルホニルクロライド、5及び/又は6
カルボキシローダミン(ROX)、7-アミノ-メチル-クマリン、7-アミノ-4-メ
チルクマリン-3-酢酸(AMCA)、BODIPYフルオロフォア類、8-メトキシピ
レン-1,3,6-トリスルホン酸三ナトリウム塩、3,6-ジスルホネート-4-アミ
ノ-ナフタルイミド、フィコビリタンパク質類、Atto390、425、465、48
8、495、532、565、594、633、647、647N、665、680及び
700色素、AlexaFluor350、405、430、488、532、546、
555、568、594、610、633、635、647、660、680、700、
750、及び790色素、DyLight350、405、488、550、594、6
33、650、680、755、及び800色素、又は他のフルオロフォア類、Blac
k Hole Quencher Dyes(Biosearch Technolog
ies)、例えばBH1-0、BHQ-1、BHQ-3、BHQ-10);QSY Dy
e蛍光クエンチャー類(Molecular Probes/Invitrogenから
)、例えばQSY7、QSY9、QSY21、QSY35、及び他のクエンチャー、例え
ばDabcyl及びDabsyl;Cy5Q及びC77Q及びDark Cyanine
色素(GE Healthcare);Dy-Quencher類(Dyomics)、
例えばDYQ-660及びDYQ-661;及びATTO蛍光クエンチャー類(ATTO
-TEC GmbH)、例えばATTO540Q、580Q、612Qなどがある。場合
により、前記標識は、リンカーを有するものであることができる。例えば、標識は、標識
に結合したジスルフィドリンカーを有することができる。そのような標識の非限定的な例
には、Cy5-アジド、Cy-2-アジド、Cy-3-アジド、Cy-3.5-アジド、
Cy5.5-アジド及びCy-7-アジドなどがある。場合により、リンカーは、開裂性
リンカーであることができる。場合により、前記標識は、自己クエンチングせず、近接ク
エンチングを示さない種類であることができる。自己クエンチングせず、近接クエンチン
グを示さない標識種類の非限定的な例には、ビマン誘導体、例えばモノブロモビマンなど
がある。或いは、当該標識は、自己クエンチングし、近接クエンチングを示す種類である
ことができる。そのような標識の非限定的な例には、Cy5-アジド、Cy-2-アジド
、Cy-3-アジド、Cy-3.5-アジド、Cy5.5-アジド及びCy-7-アジド
などがある。場合により、可逆的ターミネータのブロッキング基は、色素を含むことがで
きる。
前記溶液は、1又はそれ以上のノズルを用いてアレイに移動させることができる。場合
により、異なる試薬(例えば、異なる種類のヌクレオチド溶液、洗浄溶液など)を、異な
るノズルを介してディスペンスして、例えば汚染を防止することができる。各ノズルは、
専用の流体ライン又は流体バルブに連結されていることができ、それはさらに汚染を防ぐ
ことができる。1種類の試薬を、1又はそれ以上のノズルを介してディスペンスすること
ができる。前記1又はそれ以上のノズルは、基板の中心に又はその中心近傍に向けること
ができる。或いは、前記1又はそれ以上のノズルは、基板の中心以外の基板上の位置に又
はその位置近傍に向けることができる。2又はそれ以上のノズルを組み合わせて操作して
、流体を基板により効率的に送ることができる。
当該溶液は、基板が静止している時に基板上にディスペンスすることができ、次に、溶
液のディスペンス後に、その基板を回転させることができる。或いは、前記基板は、溶液
のディスペンス前に回転させることができ;次に、基板が回転している時に、溶液を基板
上のディスペンスすることができる。基板の回転は、溶液上に遠心力(又は軸から遠ざか
る方向の慣性力)を生じさせて、溶液を、半径方向で外向きにアレイ上を流れさせること
ができる。
第3の操作230において、当該方法は、核酸分子をプライマー伸長反応させることを
含むことができる。当該プライマー伸長反応は、前記複数のヌクレオチドからの少なくと
も1つのヌクレオチドを核酸分子に対して相補的である伸長鎖に取り込むのに十分な条件
下で行うことができる。取り込まれるヌクレオチドは標識されていても標識されていなく
ても良い。
場合により、操作230はさらに、少なくとも1つのヌクレオチドを修飾することを含
むことができる。ヌクレオチドの修飾は、ヌクレオチドの標識付与を含むことができる。
例えば、当該ヌクレオチドは、例えば色素、フルオロフォア又は量子ドットで標識するこ
とができる。ヌクレオチドは開裂的に標識することができる。場合により、ヌクレオチド
の修飾は、ヌクレオチドの標識を活性化(例えば、刺激)することを含むことができる。
第4の操作240において、当該方法は、前記少なくとも1つのヌクレオチドの取り込
みを示すシグナルを検出することを含むことができる。そのシグナルは、光学シグナルで
あることができる。そのシグナルは、蛍光シグナルであることができる。そのシグナルは
、前記基板の回転時に検出することができる。そのシグナルは、回転終了後に検出するこ
とができる。そのシグナルは、核酸分子が溶液と流体接触した状態で配列されている時に
検出することができる。そのシグナルは、核酸分子が溶液と流体接触した後に検出するこ
とができる。操作240はさらに、前記少なくとも1つのヌクレオチドの標識を修飾する
ことを含むことができる。例えば、操作240はさらに、ヌクレオチドの標識を開裂させ
ること(例えば、検出後)を含むことができる。前記ヌクレオチドは、化学剤、酵素、光
(例えば、紫外線)又は熱への曝露などの1又はそれ以上の刺激によって開裂させること
ができる。その標識が開裂すると、取り込まれたヌクレオチドを示すシグナルは、1又は
それ以上の検出器によって検出できない。
方法200はさらに、操作220、230、及び/又は240を1回以上繰り返して、
1又はそれ以上の追加のヌクレオチドの取り込みを示す1又はそれ以上の追加シグナルを
確認することで、核酸分子を配列決定することを含むことができる。方法200は、操作
220、230、及び/又は240を反復的に繰り返すことを含むことができる。各反復
について、追加のシグナルは、追加のヌクレオチドの取り込みを示すことができる。その
追加のヌクレオチドは、以前の反復で検出されたものと同じヌクレオチドであることがで
きる。その追加のヌクレオチドは、以前の反復で検出されたヌクレオチドとは異なるヌク
レオチドであることができる。場合により、少なくとも1つのヌクレオチドは、操作22
0、230又は240の各反復間で修飾されていることができる(例えば、標識及び/又
は開裂)。例えば、当該方法は、操作220、230、及び/又は240を、少なくとも
1、少なくとも2、少なくとも5、少なくとも10、少なくとも20、少なくとも50、
少なくとも100、少なくとも200、少なくとも500、少なくとも1,000、少な
くとも2,000、少なくとも5,000、少なくとも10,000、少なくとも20,
000、少なくとも50,000、少なくとも100,000、少なくとも200,00
0、少なくとも500,000、少なくとも1,000,000、少なくとも2,000
,000、少なくとも5,000,000、少なくとも10,000,000、少なくと
も20,000,000、少なくとも50,000,000、少なくとも100,000
,000、少なくとも200,000,000、少なくとも500,000,000、又
は少なくとも1,000,000,000回繰り返すことを含むことができる。当該方法
は、操作220、230、及び/又は240を、前出の値のいずれか二つによって規定さ
れる範囲内である回数繰り返すことを含むことができる。従って、方法200によって、
あらゆる大きさの核酸分子の配列決定を行うことができる。
当該方法は、前記基板の回転時に、異なる溶液を環状にアレイに移動させることを含む
ことができる。例えば、当該方法は、第1の種類のヌクレオチドを含む第1の溶液(例え
ば、前記第1の種類の複数のヌクレオチド中)をアレイに移動させ、次に第2の種類のヌ
クレオチドを含む第2の溶液を移動させ、次に、第3の種類のヌクレオチド、次に第4の
種類のヌクレオチドを移動するなどを含むことができる。別の例において、異なる溶液は
、ヌクレオチドの種類の異なる組み合わせを含むことができる。例えば、第1の溶液は、
第1の標準型のヌクレオチド(例えば、A)及び第2の標準型のヌクレオチド(例えば、
C)を含むことができ、第2の溶液は、前記第1の標準型のヌクレオチド(例えば、A)
及び第3の標準型のヌクレオチド(例えば、T)を含むことができ、第3の溶液は、前記
第1の標準型、第2の標準型、第3の標準型、及び第4の標準型(例えば、G)のヌクレ
オチドを含むことができる。別の例において、第1の溶液は標識ヌクレオチドを含むこと
ができ、第2の溶液は非標識ヌクレオチドを含むことができ、第3の溶液は標識標識ヌク
レオチド及び非標識ヌクレオチドの混合物を含むことができる。当該方法は、少なくとも
1、少なくとも2、少なくとも5、少なくとも10、少なくとも20、少なくとも50、
少なくとも100、少なくとも200、少なくとも500、少なくとも1,000、少な
くとも2,000、少なくとも5,000、少なくとも10,000、少なくとも20,
000、少なくとも50,000、少なくとも100,000、少なくとも200,00
0、少なくとも500,000、少なくとも1,000,000、少なくとも2,000
,000、少なくとも5,000,000、少なくとも10,000,000、少なくと
も20,000,000、少なくとも50,000,000、少なくとも100,000
,000、少なくとも200,000,000、少なくとも500,000,000、又
は少なくとも1,000,000,000の溶液をアレイに移動させることを含むことが
できる。当該方法は、前出の値のいずれか二つによって規定される範囲内である数の溶液
をアレイに移動させることを含むことができる。当該溶液は異なるものであることができ
る。当該溶液は同一であることができる。
当該方法は、少なくとも1、少なくとも2、少なくとも5、少なくとも10、少なくと
も20、少なくとも50、少なくとも100、少なくとも200、少なくとも500、少
なくとも1,000、少なくとも2,000、少なくとも5,000、少なくとも10,
000、少なくとも20,000、少なくとも50,000、少なくとも100,000
、少なくとも200,000、少なくとも500,000、少なくとも1,000,00
0、少なくとも2,000,000、少なくとも5,000,000、少なくとも10,
000,000、少なくとも20,000,000、少なくとも50,000,000、
少なくとも100,000,000、少なくとも200,000,000、少なくとも5
00,000,000、又は少なくとも1,000,000,000の洗浄溶液を基板に
移動させることを含むことができる。例えば、洗浄溶液は、各種類のヌクレオチドを基板
に移動させた後に、基板に移動させることができる。洗浄溶液は異なるものであることが
できる。洗浄溶液は、同一であることができる。洗浄溶液は、回転時にパルスでディスペ
ンスして、本明細書に記載のような環状波を作ることができる。
当該方法はさらに、溶液を基板と接触させた後に、その溶液の一部分又は全体をリサイ
クルすることを含むことができる。リサイクルは、溶液の一部分又は全体を回収、濾過及
び再使用することを含むことができる。濾過は、分子濾過であることができる。
操作220及び230は第1の位置で行うことができ、操作240は第2の位置で行う
ことができる。前記第1の位置及び第2の位置は、それぞれ、本明細書に記載の第1の及
び第2の処理ベイを含むことができる(例えば、図12Gに関して)。前記第1及び第2
の位置は、それぞれ、本明細書に記載の第1の及び第2の回転スピンドルを含むことがで
きる(例えば、図13に関して)。前記第1の回転スピンドルは、第2の回転スピンドル
の外側又は内側であることができる。前記第1及び第2の回転スピンドルは、異なる角速
度で回転するように構成されていることができる。或いは、操作220は第1の位置で行
うことができ、操作230及び240は第2の位置で行うことができる。
当該方法はさらに、基板を第1の位置と第2の位置の間で移送させることを含むことが
できる。操作220及び230は第1の角速度で回転している時に行うことができ、操作
240は基板が第2の角速度で回転している時に行うことができる。第1の角速度は第2
の角速度未満であることができる。第1の角速度は約0rpm~約100rpmであるこ
とができる。第2の角速度は約100rpm~約1,000rpmであることができる。
或いは、操作220は、基板が第1の角速度で回転している時に行うことができ、操作2
30及び240は、基板が第2の角速度で回転している時に行うことができる。
本明細書で提供の方法200に基づく多くの変動、変更及び調整が可能である。例えば
、方法200の操作の順序は変えることができ、操作の一部を削除することができ、操作
の一部を繰り返すことができ、適宜に追加の操作を加えることができる。操作の一部を順
次で行うことができる。操作の一部を並行して行うことができる。操作の一部を1回行う
ことができる。操作の一部を複数回行うことができる。操作の一部が、下位操作を含むこ
とができる。操作の一部は自動化することができる。操作の一部は手動であることができ
る。
例えば、場合により、第3の操作230で、プライマー伸長反応を促進する代わりに、
前記複数のヌクレオチドからのヌクレオチドの核酸分子への一時的結合を可能とする条件
下に核酸分子を置くことができる。一時的に結合したヌクレオチドは標識することができ
る。一時的に結合したヌクレオチドは、例えば検出後に、除去することができる(例えば
、操作240参照)。次に、第2の溶液を、今回は、プライマー伸長反応を促進する条件
下で基板に移動させて、第2の溶液のヌクレオチドを取り込む(例えば、核酸分子にハイ
ブリダイズされた伸長鎖へ)ようにすることができる。取り込まれたヌクレオチドは標識
されていないことができる。洗浄後、及び検出せずに、標識ヌクレオチドの別の溶液を、
例えば一時的結合の別のサイクルのために基板に移動させることができる。
場合により、例えば、連結反応によって配列決定を行うために、溶液は異なるプローブ
を含むことができる。例えば、溶液は、複数のオリゴヌクレオチド分子を含むことができ
る。例えば、オリゴヌクレオチド分子は、約2塩基、3塩基、4塩基、5塩基、6塩基、
7塩基、8塩基、9塩基、10塩基又はそれ以上の長さを有することができる。そのオリ
ゴヌクレオチド分子は、本明細書の他の場所で記載のように、色素(例えば、蛍光色素)
で標識することができる。場合により、例えば、核酸分子における反復配列、例えばホモ
ポリマー反復配列、ジヌクレオチド反復配列、及びトリヌクレオチド反復配列を検出する
ために、前記溶液は、反復配列に結合するように構成されている標的プローブ(例えば、
ホモポリマープローブ)を含むことができる。前記溶液は、1種類のプローブ(例えば、
ヌクレオチド)を含むことができる。前記溶液は、異なる種類のプローブ(例えば、ヌク
レオチド、オリゴヌクレオチド分子など)を含むことができる。前記溶液は、異なる種類
の分析物(例えば、核酸分子、タンパク質など)と相互作用するために異なる種類のプロ
ーブ(例えば、オリゴヌクレオチド分子、抗体など)を含むことができる。異なる種類の
プローブを含む異なる溶液を、いずれかの回数で基板に移動させて、連続サイクル間に検
出を行うか行わず(例えば、検出は、いくつかの連続サイクル間で行うが、一部の他のも
のの間では行わないようにすることができる。)、処理の種類に応じて、核酸分子を配列
決定又は他の形で処理することができる。
図3は、核酸分子を配列決定又は分析物を処理するためのシステム300を示す。当該
システムは、方法200又は1400を実施するように構成されていることができる。当
該システム(例えば、300、400、500a、500bなど)は核酸分子の処理に関
して記載されているがされているが、当システムを用いて、本明細書に記載のように、い
ずれか他の種類の生体分析物を処理することができる。
前記システムは、基板310を含むことができる。当該基板は、本明細書に記載の基板
、例えば図2に関して本明細書に記載されている基板を含むことができる。その基板は、
アレイを含むことができる。その基板は開放されていることができる。そのアレイは、1
又はそれ以上の核酸分子又は分析物を固定化するように構成されている1又はそれ以上の
位置320を含むことができる。当該アレイは、本明細書に記載のいずれかのアレイ、例
えば方法200に関して本明細書に記載のいずれかのアレイを含むことができる。例えば
、当該アレイは、複数の個々にアドレス可能な位置を含むことができる。当該アレイは、
配列決定される核酸分子に結合しているリンカー(例えば、本明細書に記載のいずれかの
結合剤)を含むことができる。或いは又は組み合わせて、配列決定される核酸分子は、ビ
ーズに結合していることができ;当該ビーズはアレイに固定化されていることができる。
当該アレイはテクスチャ化されていることができる。当該アレイは、パターン化アレイで
あることができる。当該アレイは平面的であることができる。
前記基板は、軸305に対して回転するように構成されていることができる。その軸は
、基板の中心を通る軸であることができる。前記軸は、偏心軸であることができる。当該
基板は、本明細書に記載のいずれかの回転速度、例えば方法200又は1400に関して
本明細書に記載のいずれかの回転速度で回転するように構成されていることができる。
当該基板は、第1又は第2の長軸315及び325に対して相対位置で変化するように
構成されていることができる。例えば、基板は、前記第1及び/又は第2の長軸に沿って
移動可能であることができる(図3に示したように)。或いは、前記基板は、前記第1及
び/又は第2の長軸に沿って静止していることができる。或いは又は組み合わせて、前記
基板は、その軸に沿って移動可能であることができる(図4に示したように)。或いは又
は組み合わせて、前記基板は、その軸によって静止していることができる。基板の相対位
置は、位置間で交代するように構成されていることができる。基板の相対位置は、長軸の
1以上又はその軸に対する位置間で交代するように構成されていることができる。基板の
相対位置は、本明細書に記載の流体チャネルのいずれかに対する位置間で交代するように
構成されていることができる。例えば、基板の相対位置は、第1の位置と第2の位置の間
で交代するように構成されていることができる。基板の相対位置は、少なくとも1、少な
くとも2、少なくとも3、少なくとも4、少なくとも5、少なくとも6、少なくとも7、
少なくとも8、少なくとも9、少なくとも10、少なくとも11、少なくとも12、少な
くとも13、少なくとも14、少なくとも15、少なくとも16、少なくとも17、少な
くとも18、少なくとも19、又は少なくとも20個の位置の間で交代するように構成さ
れていることができる。基板の相対位置は、前出の値のいずれか二つによって規定される
範囲内である数の位置間で交代するように構成されていることができる。前記第1又は第
2の長軸は、前記軸と実質的に垂直であることができる。前記第1又は第2の長軸は、前
記軸と実質的に平行であることができる。前記第1又は第2の長軸は、前記軸と一致する
ことができる。
当該システムは、第1の流体チャネル330を含むことができる。第1の流体チャネル
は第1の流体出口335を含むことができる。第1の流体出口は、第1の流体をアレイに
ディスペンスするように構成されていることができる。第1の流体出口は、本明細書に記
載のいずれかの流体、例えば本明細書に記載のいずれかの溶液をディスペンスするように
構成されていることができる。第1の流体出口は、基板に対して外側にあることができる
。第1の流体出口は基板と接触しないものであることができる。第1の流体出口は、ノズ
ルであることができる。第1の流体出口は、前記軸と実質的に一致する軸を有することが
できる。第1の流体出口は、前記軸と実質的に平行な軸を有することができる。
当該システムは、第2の流体チャネル340を含むことができる。第2の流体チャネル
は、第2の流体出口345を含むことができる。第2の流体出口は、第2の流体をアレイ
にディスペンスするように構成されていることができる。第2の流体出口は、本明細書に
記載のいずれかの流体、例えば本明細書に記載のいずれかの溶液をディスペンスするよう
に構成されていることができる。第2の流体出口は、基板に対して外側にあることができ
る。第2の流体出口は基板と接触しないものであることができる。第2の流体出口は、ノ
ズルであることができる。第2の流体出口は、前記軸と実質的に一致する軸を有すること
ができる。第2の流体出口は、前記軸と実質的に平行な軸を有することができる。
第1及び第2の流体は、異なる種類の試薬を含むことができる。例えば、前記第1の流
体は、第1の種類のヌクレオチド、例えば本明細書に記載のいずれかのヌクレオチド、又
はヌクレオチド混合物を含むことができる。第2の流体は、第2の種類のヌクレオチド、
例えば本明細書に記載のいずれかのヌクレオチド、又はヌクレオチド混合物を含むことが
できる。或いは、第1及び第2の流体は、同じ種類の試薬を含むことができる(例えば、
同じ種類の流体を、複数の流体出口(例えば、ノズル)からディスペンスして、コーティ
ング速度を高める。)。或いは又は組み合わせて、第1又は第2の流体は洗浄試薬を含む
ことができる。第1の流体チャネル330及び第2の流体チャネル340は、流体的に分
離されていても良い。有利には、第1及び第2の流体が異なる種類の試薬を含む場合、そ
れらの異なる試薬のそれぞれは、ディスペンス時に他の試薬からの汚染を受けない状態に
維持され得る。
第1の流体出口は、前記基板の回転時に前記第1の流体をディスペンスするように構成
されていることができる。第2の流体出口は、前記基板の回転時に第2の流体をディスペ
ンスするように構成されていることができる。第1及び第2の流体出口は、時間が重なら
ないようにディスペンスするように構成されていることができる。或いは、第1及び第2
の流体出口は、例えば第1の流体及び第2の流体が同じ種類の試薬を含む場合など、時間
を重ねてディスペンスするように構成されていることができる。基板は、第1及び第2の
出口がディスペンスする時に異なる速度若しくは異なる回転数で回転するように構成され
ていることができる。或いは、基板は、第1のび第2の出口がディスペンスする時に同じ
速度及び回転数で回転するように構成されていることができる。回転時に、アレイは、実
質的に半径方向で軸から離れるように前記第1の流体を移動させるように構成されている
ことができる。第1の流体出口は、基板の少なくとも1、少なくとも2、少なくとも5、
少なくとも10、少なくとも20、少なくとも50、少なくとも100、少なくとも20
0、少なくとも500、少なくとも1,000、少なくとも2,000、少なくとも5,
000、少なくとも10,000、少なくとも20,000、少なくとも50,000、
少なくとも100,000、少なくとも200,000、少なくとも500,000、又
は少なくとも1,000,000全回転時に、前記第1の流体をアレイに移動させるよう
に構成されていることができる。第1の流体出口は、前出の値のいずれか二つによって規
定される範囲内である数の全回転時に、第1の流体をアレイに移動させるように構成され
ていることができる。
当該システムは、第3の流体をディスペンスするように構成されている第3の流体出口
355を含む第3の流体チャネル350を含むことができる。当該システムは、第4の流
体をディスペンスするように構成されている第4の流体出口365を含む第4の流体チャ
ネル360を含むことができる。第3及び第4の流体チャネルは、本明細書に記載の第1
及び第2の流体チャネルと同様であることができる。第3及び第4の流体は、第1及び/
又は第2の流体と同一又は異なる流体であることができる。場合により、少なくとも1、
2、3、4、5、6、7、8、9、10、15、20又はそれ以上の流体(又は試薬)を
用いることができる。例えば、5~10の流体(又は試薬)を用いることができる。
図3は基板の位置変化を示しているが、代わりとして又はさらに、第1、第2、第3及
び第4の流体チャネルのうちの1以上が、位置変化を受けるように構成されていることが
できる。例えば、第1、第2、第3若しくは第4の流体チャネルのいずれかが、前記第1
及び/又は第2の縦軸に沿って移動可能であることができる。或いは、第1、第2、第3
若しくは第4の流体チャネルのいずれかが、前記第1及び/又は第2の縦軸に沿って静止
していることができる。或いは又はさらに、第1、第2、第3若しくは第4の流体チャネ
ルのいずれかが、前記軸に沿って移動可能であることができる。或いは又はさらに、第1
、第2、第3若しくは第4の流体チャネルのいずれかが、前記軸に沿って静止しているこ
とができる。
第1、第2、第3及び第4の流体チャネルのうちの1又はそれ以上の相対位置は、縦軸
又は前記軸のうちの1以上に対する位置間で交代するように構成されていることができる
。例えば、第1、第2、第3若しくは第4の流体チャネルのいずれかの相対位置は、第1
の位置と第2の位置の間で交代するように構成されていることができる(例えば、そのよ
うなチャネルを動かすことで、基板を動かすことで、又はチャネル及び基板を動かすこと
で)。第1、第2、第3若しくは第4の流体チャネルのいずれかの相対位置は、少なくと
も1、少なくとも2、少なくとも3、少なくとも4、少なくとも5、少なくとも6、少な
くとも7、少なくとも8、少なくとも9、少なくとも10、少なくとも11、少なくとも
12、少なくとも13、少なくとも14、少なくとも15、少なくとも16、少なくとも
17、少なくとも18、少なくとも19、少なくとも20又はそれ以上の位置の間で交代
するように構成されていることができる。第1、第2、第3若しくは第4の流体チャネル
のいずれかの相対位置は、前出の値のいずれか二つによって規定される範囲内である数の
位置間で交代するように構成されていることができる。第1又は第2の縦軸は、前記軸に
対して実質的に垂直であることができる。第1又は第2の縦軸は、前記軸と実質的に平行
であることができる。第1又は第2の縦軸は前記軸と一致していても良い。
場合により、当該システムは、基板から流体を受けるための1又はそれ以上の流体チャ
ネルを含むことができる(図3には不図示)。図4A~4Bを参照すると、第5の流体チ
ャネル430は第1の流体注入ポート435を含むことができる。第1の流体注入ポート
は、軸の第1のレベルに位置することができる(図4に示した通り)。場合により、第1
の流体注入ポートが、基板310の周囲を囲んでいることができる(例えば、環状)。基
板が例えば軸に対して第1の位置にある時、第1の流体注入ポートは、基板310の下流
にあって、それと流体で連絡していることができる。第5の流体チャネルは、前記第1の
流体チャネル330と流体で連絡していることができる。例えば、前記第1の流体注入ポ
ートは、前記第1の流体出口を通過して基板に至るそしてその後に基板から離れる(例え
ば、前記基板の回転時の慣性力による)溶液を受け取るように構成されていることができ
る。例えば、前記第1の流体注入ポートは、方法200又は1400に関して本明細書に
記載のリサイクルプロセスなどのリサイクルプロセスで溶液を受け取るように構成されて
いることができる。場合により、前記第1の流体注入ポートを介して第5の流体チャネル
が受け取った溶液は、前記第1の流体チャネルに戻されて(例えば、濾過後に)、前記第
1の流体出口を介して基板にディスペンスされることができる。第5の流体チャネル及び
前記第1の流体チャネルが、第1の環状流体流路の少なくとも一部を規定していることが
できる。第1の環状流体流路は、フィルター、例えば方法200又は1400に関して本
明細書に記載のフィルターを含むことができる。そのフィルターは、分子フィルターであ
ることができる。他の場合、第5の流体チャネルが受け取る溶液は、異なる流体チャネル
(前記第1の流体チャネル以外のもの)に戻されて(例えば、濾過後に)、異なる流体出
口を介してディスペンスされることができる。
当該システムは、第6の流体チャネル440を含むことができる。第6の流体チャネル
は、第2の流体注入ポート445を含むことができる。第2の流体注入ポートは、軸の第
2のレベルに位置することができる(図4に示した通り)。場合により、第2の流体注入
ポートが、基板310の周囲を囲んでいることができる。基板が例えば軸に対して第2の
位置にある時、第2の流体注入ポートは、基板310の下流にあって、それと流体で連絡
していることができる。第6の流体チャネルは、前記第2の流体チャネル340と流体で
連絡していることができる。例えば、前記第2の流体注入ポートは、前記第2の流体出口
を通過して基板に至るそしてその後に基板から離れる溶液を受け取るように構成されてい
ることができる。例えば、前記第2の流体注入ポートは、方法200又は1400に関し
て本明細書に記載のリサイクルプロセスなどのリサイクルプロセスで溶液を受け取るよう
に構成されていることができる。場合により、前記第2の流体注入ポートを介して第6の
流体チャネルが受け取った溶液は、前記第2の流体チャネルに戻されて(例えば、濾過後
に)、前記第2の流体出口を介して基板にディスペンスされることができる。第6の流体
チャネル及び前記第2の流体チャネルが、第2の環状流体流路の少なくとも一部を規定し
ていることができる。第2の環状流体流路は、フィルター、例えば方法200又は140
0に関して本明細書に記載のフィルターを含むことができる。そのフィルターは、分子フ
ィルターであることができる。
当該システムは、基板が前記第1の位置にある時に基板と第2の流体注入ポートの間の
流体連絡を防止し、基板が第2の位置にある時に基板と前記第1の流体注入ポートの間の
流体連絡を防止するシールド(不図示)を含むことができる。
当該システムはさらに、1又はそれ以上の検出器370を含むことができる。その検出
器は、光学検出器、例えば1又はそれ以上の光検出器、1又はそれ以上の光ダイオード、
1又はそれ以上のアバランシェ光ダイオード、1又はそれ以上の光電子増倍管、1又はそ
れ以上の光ダイオードアレイ、1又はそれ以上のアバランシェ光ダイオードアレイ、1又
はそれ以上のカメラ、1又はそれ以上の電荷結合素子(CCD)カメラ、又は1又はそれ
以上の相補型金属酸化物半導体(CMOS)カメラであることができる。それらのカメラ
は、TDI又は本明細書に記載の他の連続域スキャン検出器であることができる。その検
出器は蛍光検出器であることができる。検出器は、アレイと検知的に連絡していることが
できる。例えば、検出器は、アレイからのシグナルを検出するように構成されていること
ができる。シグナルは、光学シグナルであることができる。シグナルは、蛍光シグナルで
あることができる。検出器は、前記基板の回転時に基板からのシグナルを検出するように
構成されていることができる。検出器は、基板が回転していない時に基板からのシグナル
を検出するように構成されていることができる。検出器は、基板の回転終了後に基板から
のシグナルを検出するように構成されていることができる。図3は、検出器に光学的にマ
ッピングされた基板上の例示的領域375を示している。
当該システムは、電磁放射を基板に移動させるように構成されている1又はそれ以上の
線源(図3では不図示)を含むことができる。その線源は、1又はそれ以上の1又はそれ
以上の光源を含むことができる。その線源は、1又はそれ以上のインコヒーレント又はコ
ヒーレント光源を含むことができる。その線源は、1又はそれ以上の狭帯域又は広帯域の
光源を含むことができる。その線源は、最大1ヘルツ(Hz)、最大2Hz、最大5Hz
、最大10Hz、最大20Hz、最大50Hz、最大100Hz、最大200Hz、最大
500Hz、最大1キロヘルツ(kHz)、最大2kHz、最大5kHz、最大10kH
z、最大20kHz、最大50kHz、最大100kHz、最大200kHz、最大50
0kHz、最大1メガヘルツ(MHz)、最大2MHz、最大5MHz、最大10MHz
、最大20MHz、最大50MHz、最大100MHz、最大200MHz、最大500
MHz、最大1ギガヘルツ(GHz)、最大2GHz、最大5GHz、最大10GHz、
最大20GHz、最大50GHz、最大100GHzの帯域又は前出の値のいずれか二つ
によって規定される範囲内である帯域を有する光学的放射を放出するように構成されてい
ることができる。その線源は、1又はそれ以上のレーザーを含むことができる。その線源
は、1又はそれ以上の単一モードレーザー光源を含むことができる。その線源は、1又は
それ以上の多モードレーザー光源を含むことができる。その線源は、1又はそれ以上のレ
ーザーダイオードを含むことができる。その線源は、1又はそれ以上の発光ダイオード(
LED)を含むことができる。その線源は、電磁スペクトラムの紫外(約100nm~約
400nm)、可視(約400nm~約700nm)、又は赤外(約700nm~約10
,000nm)領域、又はそれらのいずれかの組み合わせにおける1又はそれ以上の波長
を含む光を発するように構成されていることができる。例えば、その線源は、600nm
~700nmの範囲の1又はそれ以上の波長を含む光を発することができる。その線源は
、個別に又は組み合わせて、少なくとも0.05ワット(W)、少なくとも0.1W、少
なくとも0.2W、少なくとも0.5W、少なくとも1W、少なくとも2W、少なくとも
5W、少なくとも10Wの光強度、又は前出の値のいずれか二つによって規定される範囲
内である光強度を有する光を発することができる。その線源は、基板上の分子と相互作用
して、光学検出器によって検出され得る検出可能な光学シグナルを発生させるように構成
されていることができる。例えば、その線源は、光吸収、光反射、散乱、リン光、蛍光、
又は本明細書に記載のいずれか他の光学シグナルを発生させるように構成されていること
ができる。
当該システムは、第7、第8、第9、第10、第11、第12、第13、第14、第1
5、第16、第17、第18、第19若しくは第20の流体チャネルを含むことができる
。各流体チャネルは、基板と流体で連絡している流体出口又は流体注入ポートを含むこと
ができる。例えば、第9、第10、第13、第14、第17若しくは第18の流体チャネ
ルは、流体出口を含むことができる。第7、第8、第11、第12、第15、第16、第
19若しくは第20の流体チャネルは、流体注入ポートを含むことができる。或いは、当
該システムは、流体出口又は流体注入ポートを含む20を超える流体チャネルを含むこと
ができる。
従って、当該システムは、第5、第6、第7、第8、第9若しくは第10の流体出口を
含むことができる。第5、第6、第7、第8、第9若しくは第10の流体出口は、アレイ
に第5、第6、第7、第8、第9若しくは第10の流体をディスペンスするように構成さ
れていることができる。第5、第6、第7、第8、第9若しくは第10の流体出口は、本
明細書に記載のいずれかの流体、例えば本明細書に記載のいずれかの溶液をディスペンス
するように構成されていることができる。第5、第6、第7、第8、第9若しくは第10
の流体出口は、本明細書に記載の第1、第2、第3若しくは第4の流体出口と同様である
ことができる。或いは、当該システムは、10を超える流体出口を含むことができる。
当該流体チャネルは、互いに流体的に分離されていることができる。例えば、流体チャ
ネルは、第1、第2、第3、第4、第5、第6、第7、第8、第9若しくは第10の流体
出口の上流で流体的に分離されていることができる。第5、第6、第7、第8、第9若し
くは第10の流体出口は、基板の外側であることができる。第5、第6、第7、第8、第
9若しくは第10の流体出口は、基板に接触しないことができる。第5、第6、第7、第
8、第9若しくは第10の流体出口は、ノズルであることができる。
当該システムは、第3、第4、第5、第6、第7、第8、第9若しくは第10の流体注
入ポートを含むことができる。第3、第4、第5、第6、第7、第8、第9若しくは第1
0の流体注入ポートは、基板がそれぞれ第3、第4、第5、第6、第7、第8、第9若し
くは第10の位置(例えば、軸に対して)にある時に、基板と流体で連絡していることが
できる。或いは、当該システムは、10を超える流体注入ポートを含むことができる。
第9、第10、第13、第14、第17の、又は第18の流体チャネルは、それぞれ第
7、第8、第11、第12、第15若しくは第16の流体チャネルと流体で連絡している
ことができ;流体チャネルの各ペアが、それぞれ第3、第4、第5、第6、第7、第8、
第9若しくは第10の環状流体流路の少なくとも一部を規定することができる。各環状流
体流路は、本明細書に記載の第1若しくは第2の環状流体流路と同様に構成することがで
き、環状流体流路の流体注入ポートは、環状流体流路の流体出口を通過して基板に行く溶
液を受けるように構成されている。各環状流体流路は、本明細書に記載のようにリサイク
ルプロセスで溶液を受けるように構成されていることができる。各環状流体流路は、本明
細書に記載のフィルターを含むことができる。
第5、第6、第7、第8、第9若しくは第10の流体は、異なる種類の試薬を含むこと
ができる。例えば、第5、第6、第7、第8、第9若しくは第10の流体は、それぞれ第
5、第6、第7、第8、第9若しくは第10の種類のヌクレオチド、例えば本明細書に記
載のいずれかのヌクレオチドを含むことができる。或いは又は組み合わせて、第5、第6
、第7、第8、第9若しくは第10の流体は、洗浄試薬を含むことができる。
第5、第6、第7、第8、第9若しくは第10の流体出口は、前記基板の回転時に、そ
れぞれ第5、第6、第7、第8、第9若しくは第10の流体をディスペンスするように構
成されていることができる。第5、第6、第7、第8、第9若しくは第10の流体出口は
、時間重複又は時間重複せずにディスペンスするように構成されていることができる。
図4Aは、第1の垂直レベルで核酸分子を配列決定するシステム400を示す。当該シ
ステムは、本明細書に記載のシステム300と実質的に同様であることができるか、それ
の要素の1又はそれ以上の配置においてシステム300と異なっていることができる。シ
ステム400は、本明細書に記載の基板310を含むことができる。システム400は、
軸305に平行な垂直運動を利用して、基板310を異なる流体チャネルに曝露すること
ができる(例えば、使用可能な流体連絡を作る)。当該システムは、本明細書に記載の第
1の流体チャネル330及び第1の流体出口335を含むことができる。当該システムは
、本明細書に記載の第2の流体チャネル340及び第2の流体出口345を含むことがで
きる。当該システムは、本明細書に記載の第3の流体チャネル350及び第3の流体出口
355を含むことができる。当該システムは、本明細書に記載の第4の流体チャネル36
0及び第4の流体出口365を含むことができる。当該システムは、本明細書に記載の検
出器370を含むことができる。当該検出器は、示した領域と光学的に連絡していること
ができる。当該システムは、本明細書に記載のいずれかの光源を含むことができる(図4
Aでは不図示)。
第5の流体チャネル430及び第1の流体注入ポート435は、図4A及び4Bに示し
たように、垂直軸に沿った第1の高さレベルで配置することができる。第6の流体チャネ
ル440及び第2の流体注入ポート445は、垂直軸に沿った第2の高さレベルに配置す
ることができる。このようにして、当該システムは、第1及び第2の流体流路を含むもの
と見なすことができ、各流体流路は異なる垂直レベルに位置している。基板310は、第
1の高さレベルと第2の高さレベルとの間で、第1の高さレベルから第2の高さレベルへ
、及び第2の高さレベルから第1の高さレベルへ垂直に動くことができる。別の形態とし
て、基板は垂直方向では固定されていることができるが、高さレベルは基板310に対し
て垂直方向に移動可能であることができる。別の形態として、基板及び高さレベルは垂直
方向に動くことができる。
システム400は複数の高さレベルを含むことができる。その高さレベルは、互いに対
して垂直に配向していることができる。当該システムは、少なくとも2、3、4、5、6
、7、8、9、10、20、30、40、50、100又はそれより多い高さレベルを含
むことができる。各高さレベルは、1又はそれ以上の下位高さレベル(例えば、いずれか
2つの高さレベルの間の徐々に上がるレベル)を含むことができる。各高さレベルは、異
なる流体(又は試薬)のディスペンス及び/又は回収のためのものであることができる。
一部の高さレベルは、同じ流体(又は試薬)をディスペンスするためのものであることが
できる。
第1の垂直レベルにある間、基板は第5の流体チャネル及び前記第1の流体注入ポート
と流体で連絡していることができるが、第6の流体チャネル及び第2の流体注入ポートと
は連絡していない。基板は、本明細書に記載のように、シールド(不図示)によって第6
の流体チャネル及び第2の流体注入ポートから分離されていることができる。基板がこの
第1の垂直レベルにある間、本明細書に記載の第1の流体又は第1の溶液が基板にディス
ペンスされ得る。例えば、基板から振り出された過剰の第1の溶液は、基板が第1の垂直
レベルにある間は、第1の流体注入ポートによって受けられ得る。別の例において、第1
の流体の一部とともに基板から振り出される洗浄溶液(例えば、第1の流体より異なる流
体出口からディスペンスされる)は、基板が前記第1の垂直レベルにある間は、第1の流
体注入ポートによって受けられ得る。次に、基板を垂直に動かすことによって、基板を第
2の垂直レベルに動かすことができる。或いは、第5又は第6の流体チャネルを垂直に動
かすことができる。或いは若しくはさらに、基板及び流体チャネルの1以上を、他のもの
に対して動かすことができる(例えば、軸に沿って)。
図4Bは、第2の垂直レベルでの核酸分子の配列決定システム400を示している。第
2の垂直レベルにある間、基板は第6の流体チャネル及び前記第2の流体注入ポートと流
体で連絡していることができるが、第5の流体チャネル及び第1の流体注入ポートとは連
絡していない。基板は、本明細書に記載のように、シールド(不図示)によって第5の流
体チャネル及び第1の流体注入ポートから分離されていることができる。基板がこの第2
の垂直レベルにある間、本明細書に記載の第2の流体又は第2の溶液が基板にディスペン
スされ得る。或いは、基板が第2の垂直位置にある間は、第1の溶液は除去され得る。場
合により、基板が第2の垂直位置にある間は、第1の溶液はリサイクルされ得る。次に、
基板を垂直に動かすことによって、基板を第1の垂直レベルに移動し戻すか、本明細書に
記載の別の垂直レベルに移動し戻すことができる。或いは、第5又は第6の流体チャネル
を垂直に動かすことができる。或いは若しくはさらに、基板及び流体チャネルの1以上を
、他のものに対して動かすことができる(例えば、軸に沿って)。
第3、第4、第5、第6、第7、第8、第9若しくは第10の流体注入ポートは、それ
ぞれ第3、第4、第5、第6、第7、第8、第9若しくは第10の垂直レベルに位置する
ことができる。基板を垂直に動かすことにより、又は第1、第2、第3、第4、第5、第
6、第7、第8、第9、第10、第11、第12、第13、第14、第15、第16、第
17、第18、第19若しくは第20の流体流チャネルを垂直に動かすことにより、基板
を第3、第4、第5、第6、第7、第8、第9若しくは第10の垂直レベルに動かすこと
ができる。第1、第2、第3、第4、第5、第6、第7、第8、第9、第10又はそれよ
り上の垂直レベルのいずれかで、本明細書に記載のいずれかの流体溶液を基板にディスペ
ンスすることができる。第1、第2、第3、第4、第5、第6、第7、第8、第9、第1
0又はそれより上の垂直レベルのいずれかで、本明細書に記載のいずれかの流体溶液を基
板から除去することができる。第1、第2、第3、第4、第5、第6、第7、第8、第9
、第10又はそれより上の垂直レベルのいずれかで、本明細書に記載のいずれかの流体溶
液を基板からリサイクルすることができる。
図5Aは、流体流チャネルのアレイを用いる核酸分子の配列決定システム500aの第
1の例を示すものである。当該システムは、本明細書に記載のシステム300若しくは4
00と実質的に同様であることができるか、それの要素の1又はそれ以上の配置において
システム300若しくは400と異なっていることができる。システム500aは、複数
の流体流チャネルの幾何配置を利用して、基板を異なる流体に曝露することができる。シ
ステム500aは、本明細書に記載の基板310を含むことができる。当該システムは、
本明細書に記載の第1の流体チャネル330及び第1の流体出口335を含むことができ
る。当該システムは、本明細書に記載の第2の流体チャネル340及び第2の流体出口3
45を含むことができる。当該システムは、本明細書に記載の第5の流体チャネル430
及び第1の流体注入ポート435(図5Aでは不図示)を含むことができる。当該システ
ムは、本明細書に記載の第6の流体チャネル440及び第2の流体注入ポート445を含
むことができる(図5Aでは不図示)。当該システムは、本明細書に記載の検出器370
を含むことができる(図5Aでは不図示)。当該システムは、本明細書に記載のいずれか
の光源を含むことができる(図5Aでは不図示)。
第1の流体チャネル及び第1の流体出口は、図5Aに示したように、第1の位置に配置
することができる。第2の流体チャネル及び第2の流体出口は、第2の位置に配置するこ
とができる。当該システムは、前記第1の流体出口から第1の流体及び第2の流体出口か
ら第2の流体をディスペンスするように構成されていることができる。
当該システムは、本明細書に記載の第3、第4、第7、第8、第9、第10、第11、
第12、第13、第14、第15、第16、第17、第18、第19若しくは第20の流
体チャネルのいずれかを含むことができる。当該システムは、本明細書に記載の第3、第
4、第5、第6、第7、第8、第9若しくは第10の流体出口のいずれかを含むことがで
きる。当該システムは、本明細書に記載の第3、第4、第5、第6、第7、第8、第9若
しくは第10の流体注入ポートのいずれかを含むことができる。
第3、第4、第5、第6、第7、第8、第9若しくは第10の流体出口は、それぞれ第
3、第4、第5、第6、第7、第8、第9若しくは第10の位置に位置していることがで
きる。当該システムは、それぞれ第3、第4、第5、第6、第7、第8、第9若しくは第
10の流体出口からの第3、第4、第5、第6、第7、第8、第9若しくは第10の流体
をディスペンスするように構成されていることができる。
第1、第2、第3、第4、第7、第8、第9、第10、第11、第12、第13、第1
4、第15、第16、第17、第18、第19、第20又はそれより上の流体チャネルの
いずれか2以上が、流体流チャネルのアレイを形成していることができる。流体流チャネ
ルの当該アレイは、移動可能である。或いは、流体流チャネルの当該アレイは、基板に対
して固定位置にあることができる。流体流チャネルの当該アレイの各流体流チャネルは、
流体流チャネルの縦軸が基板の回転軸と角度を形成するような位置にあることができる。
その角度は、少なくとも0°、少なくとも5°、少なくとも10°、少なくとも15°、
少なくとも20°、少なくとも25°、少なくとも30°、少なくとも35°、少なくと
も40°、少なくとも45°、少なくとも50°、少なくとも55°、少なくとも60°
、少なくとも65°、少なくとも70°、少なくとも75°、少なくとも80°、少なく
とも85°、又は少なくとも90°の値を有することができる。その角度は、前出の値の
いずれか二つによって規定される範囲内である値を有することができる。流体チャネルの
アレイの各流体チャネルは、基板と同様の角度を形成していることができる。或いは、1
又はそれ以上の流体チャネルは、基板と異なる角度を形成していることができる。
図5Bは、流体流チャネルのアレイを用いる核酸分子を配列決定するシステム500b
の第2の例を示すものである。
当該システムは、本明細書に記載のシステム300又は400と実質的に同様であるこ
とができ、要素の1又はそれ以上の配置においてシステム300又は400と異なること
ができる。当該システム500bは、基板に対して動くことで基板を異なる流体に曝露さ
せるように構成されている複数の流体流チャネルを用いることができる。当該システム5
00bは、本明細書に記載の基板310を含むことができる。当該システムは、本明細書
に記載の第1の流体チャネル330及び第1の流体出口335を含むことができる。当該
システムは、本明細書に記載の第2の流体チャネル340及び第2の流体出口345を含
むことができる。当該システムは、本明細書に記載の第5の流体チャネル430及び第1
の流体注入ポート435を含むことができる(図5Bでは不図示)。当該システムは、本
明細書に記載の第6の流体チャネル440及び第2の流体注入ポート445を含むことが
できる(図5Bでは不図示)。当該システムは、本明細書に記載の検出器370を含むこ
とができる(図5Bでは不図示)。当該システムは、本明細書に記載の光源を含むことが
できる(図5Bでは不図示)。
第1の流体チャネル及び第1の流体出口は、流体ディスペンサー510に取り付けられ
ていることができる。流体ディスペンサーは、例えば図5Bに示したように可動ガントリ
ーアームを含む、可動流体ディスペンサーであることができる。別の形態として、流体デ
ィスペンサーは固定されているか静止していることができる。流体ディスペンサーは、第
1の位置に移動して、前記第1の流体出口からの第1の流体ディスペンスするように構成
されていることができる。第2の流体チャネル及び第2の流体出口が、流体ディスペンサ
ーに取り付けられていることもできる。流体ディスペンサーは、第2の位置に移動して第
2の流体出口からの第2の流体をディスペンスするように構成されていることができる。
当該システムは、本明細書に記載の第3、第4、第7、第8、第9、第10、第11、
第12、第13、第14、第15、第16、第17、第18、第19若しくは第20の流
体チャネルのいずれかを含むことができる。当該システムは、本明細書に記載の第3、第
4、第5、第6、第7、第8、第9若しくは第10の流体出口のいずれかを含むことがで
きる。当該システムは、本明細書に記載の第3、第4、第5、第6、第7、第8、第9若
しくは第10の流体注入ポートのいずれかを含むことができる。
第3、第4、第5、第6、第7、第8、第9若しくは第10の流体出口が流体ディスペ
ンサーに取り付けられていることができる。流体ディスペンサーは、第3、第4、第5、
第6、第7、第8、第9若しくは第10の位置に移動して、それぞれ第3、第4、第5、
第6、第7、第8、第9若しくは第10の流体出口からの第3、第4、第5、第6、第7
、第8、第9若しくは第10の流体をディスペンスするように構成されていることができ
る。或いは、流体ディスペンサーは静止状態に維持されていることができ、基板310を
異なる位置に移動させて異なる流体を受けるようにすることができる。
図6は、核酸分子を配列決定するためのコンピュータ化システム600を示している。
当該システムは、方法200若しくは1400又はシステム300に関して基板310、
例えば本明細書に記載の基板を含むことができる。当該システムはさらに、液流ユニット
610を含むことができる。液流ユニットは、本明細書に記載の流体流関連の要素、例え
ばシステム300、400、500a若しくは500bに関して本明細書に記載の要素3
30、335、340、345、350、355、360、365、430、435、4
40、445及び370のいずれか又は全てを含むことができる。液流ユニットは、基板
の回転前に若しくは回転時に、本明細書に記載の複数のヌクレオチドを含む溶液を、基板
のアレイに移動させるように構成されていることができる。液流ユニットは、基板の回転
前に若しくは回転時に、本明細書に記載の洗浄溶液を基板のアレイに移動させるように構
成されていることができる。場合により、液流ユニットは、第1の位置からの流体流を第
2の位置に移動させるポンプ、コンプレッサ及び/又はアクチュエータを含むことができ
る。方法1400に関して、流体流システムは、溶液を基板310に移動させるように構
成されていることができる。方法1400に関して、流体流システムは、基板310から
の溶液を回収するように構成されていることができる。当該システムはさらに、検出器3
70、例えばシステム300又は400に関して本明細書に記載の検出器を含むことがで
きる。その検出器は、基板のアレイと検知的に連絡していることができる。
当該システムはさらに、1又はそれ以上のコンピュータ処理装置620を含むことがで
きる。当該1又はそれ以上の処理装置は、本明細書に記載の方法のいずれかを実行するよ
うに個別に又は全体的にプログラムされていることができる。例えば、当該1又はそれ以
上の処理装置は、本開示の方法、例えば方法200又は1400のいずれか又は全ての操
作を実行するよう個別に又は全体的にプログラムされていることができる。特に、前記1
又はそれ以上の処理装置は、(i)基板の回転時又は回転の前に、前記複数のヌクレオチ
ドを含む溶液をアレイを横断して移動させるよう、液流ユニットに指令を出し;(ii)
前記複数のヌクレオチドからの少なくとも1つのヌクレオチドを、核酸分子に対して相補
的である伸長鎖に取り込むのに十分な条件下で、核酸分子についてプライマー伸長反応を
行わせるように;及び(iii)検出器を用いて前記少なくとも1つのヌクレオチドの取
り込みを示すシグナルを検出することで、核酸分子の配列決定を行うように、個別に又は
全体的にプログラムされていることができる。
以上、回転システムについて、配列決定用途に関して説明したが、そのような回転法を
、他の用途(例えば、前配列決定用途、サンプル準備など)、例えばテンプレートシーデ
ィング及び表面増幅プロセスに用いることができる。例えば、基板の回転時又は回転前に
ディスペンスされる試薬を、他の用途に合わせることができる。以上において、当該回転
システムで基板にディスペンスされる試薬について、ヌクレオチドに関して説明したが、
基板に固定化された核酸分子(又は他のいずれかの分子若しくは細胞)と反応し得る試薬
、例えばプローブ、アダプター、酵素及び標識試薬を、回転前、回転時若しくは回転後に
基板にディスペンスして、ディスペンスされる試薬による基板の高速コーティングを行う
ことができる。
本明細書に記載の核酸分子の配列決定システム(例えば、システム300、400、5
00a若しくは500bのいずれか、又は本明細書に記載の他のいずれかのシステム)、
又はそれのいずれかの要素を、環境的に制御することができる。例えば、当該システムは
、特定の温度又は湿度下に維持することができる。当該システム(又はそれのいずれかの
要素)は、少なくとも摂氏20度(℃)、少なくとも25℃、少なくとも30℃、少なく
とも35℃、少なくとも40℃、少なくとも45℃、少なくとも50℃、少なくとも55
℃、少なくとも60℃、少なくとも65℃、少なくとも70℃、少なくとも75℃、少な
くとも80℃、少なくとも85℃、少なくとも90℃、少なくとも95℃、少なくとも1
00℃、最高100℃、最高95℃、最高90℃、最高85℃、最高80℃、最高75℃
、最高70℃、最高65℃、最高60℃、最高55℃、最高50℃、最高45℃、最高4
0℃、最高35℃、最高30℃、最高25℃、最高20℃の温度、又は前出の値のいずれ
か二つによって規定される範囲内である温度に維持することができる。当該システムの異
なる要素を、異なる温度に又は異なる温度範囲内に、例えば本明細書に記載の温度若しく
は温度範囲に維持することができる。当該システムの要素は、凝縮を防止するために露点
より高い温度に設定することができる。当該システムの要素は、凝縮物を回収するために
露点より低い温度に設定することができる。
当該システム(又はそれのいずれかの要素)は、少なくとも5%、少なくとも10%、
少なくとも15%、少なくとも20%、少なくとも25%、少なくとも30%、少なくと
も35%、少なくとも40%、少なくとも45%、少なくとも50%、少なくとも55%
、少なくとも60%、少なくとも65%、少なくとも70%、少なくとも75%、少なく
とも80%、少なくとも85%、少なくとも90%、少なくとも95%、少なくとも10
0%、最大100%、最大95%、最大90%、最大85%、最大80%、最大75%、
最大70%、最大65%、最大60%、最大55%、最大50%、最大45%、最大40
%、最大35%、最大30%、最大25%、最大20%、最大15%、最大10%、最大
5%の相対湿度、又は前出の値のいずれか二つによって規定される範囲内である相対湿度
に維持されていることができる。当該システム(又はそれのいずれかの要素)は、そのシ
ステム(又はそれのいずれかの要素)を外部環境から絶縁する密封容器、筐体、又はチャ
ンバ内に収容することで、温度若しくは室温の制御ができるようにすることができる。環
境ユニット(例えば、加湿器、ヒーター、熱交換器、コンプレッサなど)は、各環境での
1又はそれ以上の動作条件を制御するように構成されていることができる。場合により、
各環境は、独立の環境ユニットによって制御することができる。場合により、単一の環境
ユニットが複数の環境を制御することができる。場合により、複数の環境ユニットは、個
別に又は全体的に、異なる環境を制御することができる。環境ユニットは、能動的方法又
は受動的方法を用いて、動作条件を制御することができる。例えば、温度は、加熱要素若
しくは冷却要素を用いて制御することができる。湿度は、加湿器又は除湿器を用いて制御
することができる。場合により、容器又はチャンバ内の内部環境の一部を、その内部環境
の他の部分からさらに制御することができる。異なる部分は、異なる局部温度、圧力及び
/又は湿度を有することができる。例えば、内部環境は、シールによって分離された第1
の内部環境及び第2の内部環境を含むことができる。場合により、当該シールは、液浸対
物レンズを含むことができる。例えば、液浸対物レンズは、容器中の内部環境を、100
%(又は実質的に100%)湿度を有する第1の内部環境及び環境温度、圧力若しくは湿
度のうちの1以上を有する第2の環境に分離するシールの一部であることができる。液浸
対物レンズは、検出器及び結像レンズのうちの1以上と接触していることができる。
回転基板を撮像するための光学システム
円滑で安定した回転運動を示す基板の場合、直線運動システムに代えて回転運動システ
ムを用いて基板を撮像することが、より簡単又はより経費効果の高いものであり得る。本
明細書に記載の回転運動は、主として角度方向である極座標システムでの運動を指すこと
ができる。従来の光学撮像システムは、時間遅延積分(TDI)カメラを用いて、高デュ
ーティサイクル及びフィールドポイント当たり最大積分時間を達成していた。TDIカメ
ラは、電荷結合素子(CCD)カメラと同様の検出原理を用いることができる。CCDカ
メラと比較して、TDIカメラは、画像がカメラの焦点面を横断するのと同じ速度でセン
サを横断して列ごとに電荷をシフトさせることができる。このようにして、TDIカメラ
は、それを用いなければ長い画像露光時間に伴い得るぼやけなどのアーチファクトを低減
しながら、より長い画像積分時間を可能とすることができる。TDIカメラは、同時に読
み出しをしながら積分を行うことができることから、これらの機能を連続的に行うカメラ
より高いデューティサイクルを有することができる。積分時間延長のためのTDIカメラ
の使用は、蛍光寿命によってシグナル発生において制限され得る高スループット蛍光サン
プルには重要であり得る。例えば、別の撮像技術、例えば点スキャンは、色素分子の蛍光
寿命によって強いられる制限のゆえに高速とするのに必要な限られた積分時間量内で、あ
る点から十分な数の光子を獲得することができない可能性があることから、その技術は高
スループットシステムでの使用からは除外され得る。
従来のTDI検出法は、回転システム、例えば本明細書に記載の回転核酸配列決定シス
テムの撮像への利用性に制限がかかり得る。湾曲路、例えば本明細書に記載の回転システ
ムによって生じる湾曲路をスキャンする際、TDIセンサは、単一速度のために正確な速
度で電荷をシフトさせることしかできないと考えられる(一般に、クロッキング又はライ
ントリガリングと称される)。例えば、TDIセンサは、回転の中心から特定の距離に位
置する弧に沿って正しい速度でクロックすることしかできないと考えられる。回転の中心
からの距離がそれより短い位置は計測が早すぎる可能性があり、回転の中心からの距離が
それより短い位置は計測が遅すぎる可能性がある。いずれの場合も、回転システムの回転
速度とTDIセンサのクロック速度の間のミスマッチが、回転システムの中心からの位置
の距離に応じて変動するぼやけを引き起こし得る。この効果は、接線速度ブレと称するこ
とができる。接線速度ブレは、下記方程式(2)によって定義される大きさσの画像歪み
を生じさせ得る。
Figure 2024010043000004
ここで、h、w及びAは、それぞれ、対物平面(object plan)に投影され
たTDIセンサの有効高さ、幅及び面積である。Rは、回転システムの中心からのフィー
ルドの中央の距離である。センサの有効高さ、幅及び面積は、シグナルを生じる高さ、幅
及び面積である。蛍光撮像の場合、センサの有効高さ、幅及び面積は、それぞれ、サンプ
ル上の照明された面積に相当する高さ、幅及び区域であることができる。接線速度ブレ効
果に加えて、方程式(2)は、多くの撮像システムのゴールであることができるセンサ面
積増加によって、回転システムのTDI撮像で撮像が複雑になり得ることを示唆している
。結果的に、従来のTDIシステムは、回転システムを撮像するのに小型画像センサを必
要とし得ることから、そのようなシステムの同時高感度及び高スループット撮像に適さな
い可能性がある。
本明細書では、少なくとも上記問題を扱うことができる回転システムを撮像するための
システム及び方法について説明する。本明細書に記載のシステム及び方法は、より高い効
率から、例えばより早い撮像時間からの恩恵を受けることができる。
図7は、基板の回転運動時の基板の連続域スキャンのための光学システム700を示す
ものである。本明細書で使用される場合、「連続域スキャン(CAS)」という用語は、
検出面(焦点面)における対象運動を補償する速度でアレイセンサを繰り返し、電子的に
又はコンピュータ的に進める(クロッキング又はトリガリング)ことによって、相対運動
している対象を撮像する方法を指す。CASは、光学システムのフィールドより大きいス
キャン寸法を有する画像を作ることができる。TDIスキャンは、クロッキングがシグナ
ル積分時のエリアセンサへの光電電荷シフトを伴うCASの1例であることができる。T
DIセンサの場合、各クロッキング段階で、電荷を1列ずつシフトさせて、最後の列を読
み取り、デジタル化することができる。他の手段によって、高速エリア撮像及びデジタル
データの加算によって同様の機能を行って、連続スキャン若しくは段階的連続スキャンを
合成することができる。
当該光学システムは、1又はそれ以上のセンサ710を含むことができる。図7に示し
たように、そのセンサは、サンプルに光学的に投影されることができる。当該光学システ
ムは、1又はそれ以上の光学素子、例えば図8の文脈で記載されている光学素子810を
含むことができる。当該システムは、複数のセンサ、例えば少なくとも2、少なくとも5
、少なくとも10、少なくとも20、少なくとも50、少なくとも100、少なくとも2
00、少なくとも500、又は少なくとも1,000個のセンサを含むことができる。当
該システムは、少なくとも2、少なくとも4、少なくとも8、少なくとも16、少なくと
も32、少なくとも64、少なくとも128、少なくとも256、少なくとも512、又
は少なくとも1,024個のセンサを含むことができる。当該複数のセンサは、同じ種類
のセンサ又は異なる種類のセンサであることができる。或いは、当該システムは、最大約
1000、500、200、100、50、20、10、5、2個又はそれ以下のセンサ
を含むことができる。或いは、当該システムは、最大約1024、512、256、12
8、64、32、16、8、4、2個又はそれ以下のセンサを含むことができる。当該シ
ステムは、前出の値のいずれか二つによって規定される範囲内である数のセンサを含むこ
とができる。当該センサは、画像センサを含むことができる。当該センサは、CCDカメ
ラを含むことができる。当該センサは、CMOSカメラを含むことができる。当該センサ
は、TDIカメラを含むことができる。当該センサは、疑似TDI急速フレームレートセ
ンサを含むことができる。当該センサは、CMOS TDI又はハイブリッドカメラを含
むことができる。当該センサは、単一パッケージに集積されていることができる。当該セ
ンサは、単一の半導体基板に集積されていることができる。当該システムはさらに、本明
細書に記載のいずれかの光源を含むことができる(図7では不図示)。
当該センサは、基板の回転運動時に、基板、例えば本明細書に記載の基板310からの
画像を検出するように構成されていることができる。その回転運動は、基板の軸に対する
ものであることができる。その軸は、基板の中心を通る軸であることができる。その軸は
、偏心軸であることができる。当該基板は、本明細書に記載のいずれかの回転速度で回転
するように構成されていることができる。その回転運動は、複合運動を含むことができる
。当該複合運動は、径方向運動の追加成分を含むことができる。当該複合運動は、螺旋形
(又は実質的に螺旋形)であることができる。当該複合運動は、円形(又は実質的に円形
状)であることができる。
各センサは、基板と光学的に連絡している焦点面に位置していることができる。焦点面
は、基板のある領域の画像が形成する撮像システム(例えば、CASセンサ)における近
似平面であることができる。焦点面は、複数の領域、例えば少なくとも2、少なくとも5
、少なくとも10、少なくとも20、少なくとも50、少なくとも100、少なくとも2
00、少なくとも500、又は少なくとも1000の領域に区分され得る。焦点面は、少
なくとも2、少なくとも4、少なくとも8、少なくとも16、少なくとも32、少なくと
も64、少なくとも128、少なくとも256、少なくとも512、又は少なくとも1,
024の領域に区分され得る。焦点面は、前出の値のいずれか二つによって規定される範
囲内である数の領域に区分され得る。焦点面は、回転運動の投影方向に実質的に垂直な軸
に沿って複数の領域に区分され得る。回転運動の軸と投影方向の間の角度は、法線から1
゜以下、2°以下、3°以下、4°以下、5°以下、6°以下、7°以下、8°以下、9
°以下、10°以下、11°以下、12°以下、13°以下、14°以下若しくは15°
以下、又は前出の値のいずれか二つによって規定される範囲内である角度であることがで
きる。焦点面は、回転運動の投影方向に平行な軸に沿って複数の領域に区分されているこ
とができる。焦点面は空間的に区分されていることができる。例えば、焦点面は、単一焦
点面中で複数のセンサを隣接させたり他の形で配置し、各センサを独立にクロックするこ
とで区分されていることができる。
或いは又は組み合わせて、焦点面は、複数の別個の経路(それぞれが前記複数のセンサ
の独立のセンサ上に部分画像を形成することができ、独立にクロックされ得る。)に光学
的に分けることによって区分することができる。焦点路は、1又はそれ以上の光学素子、
例えばレンズアレイ、ミラー又はプリズムを用いて光学的に分けることができる。前記複
数のセンサの各センサは、回転する基板の異なる領域と光学的に連絡していることができ
る。例えば、各センサは、回転する基板の異なる領域を撮像することができる。前記複数
のセンサの各センサは、センサによって撮像される回転する基板の領域に適した速度(そ
れは、回転する基板の中心からの領域の距離又は領域の接線速度に基づくものであること
ができる。)でクロックすることができる。
それらセンサの1以上が、焦点面中の前記複数の領域のうちの少なくとも2領域と光学
的に連絡しているように構成されていることができる。前記センサの1以上が、複数のセ
グメントを含むことができる。前記複数のセグメントの各セグメントが、前記複数の領域
の1領域と光学的に連絡していることができる。前記複数のセグメントの各セグメントが
、独立にクロックされることができる。セグメントのその独立クロッキングは、焦点面の
関連領域における画像の速度に関連付けられていることができる。その独立クロッキング
は、TDIラインレート又は疑似TDIフレームレートを含むことができる。
当該システムはさらに、制御装置(不図示)を含むことができる。制御装置は、1又は
それ以上のセンサに動作可能に連結されていることができる。制御装置は、回転する基板
の各領域からの光学シグナルを処理するようプログラムされていることができる。例えば
、制御装置は、回転運動時に独立クロッキングで各領域からの光学シグナルを処理するよ
うプログラムされていることができる。独立クロッキングは、少なくとも部分的に、軸の
投影からの各領域の距離及び/又は回転運動の接線速度に基づくものであることができる
。独立クロッキングは、少なくとも部分的に、回転運動の角速度に基づくものであること
ができる。以上、単一の制御装置について説明したが、複数の制御装置を、個別に又は全
体的に、本明細書に記載の操作を行うように構成することができる。
図8Aは、調整光学歪みを用いて基板の回転運動時に基板を撮像するための光学システ
ム800を示す図である。当該光学システムは、1又はそれ以上のセンサ710を含むこ
とができる。当該1又はそれ以上のセンサは、本明細書に記載のいずれかのセンサを含む
ことができる。当該光学システムは、本明細書に記載のいずれかの光源を含むことができ
る(図8Aでは不図示)。
当該センサは、基板の回転運動時に基板、例えば本明細書に記載の基板310からの画
像を検出するように構成されていることができる。その回転運動は、基板の軸に対するも
のであることができる。その軸は、基板の中心を通る軸であることができる。その軸は、
偏心軸であることができる。基板は、本明細書に記載のいずれかの回転速度で回転するよ
うに構成されていることができる。
前記システム800はさらに、光学素子810を含むことができる。光学素子は、セン
サと光学的に連絡していることができる。光学素子は、基板からの光学シグナルをセンサ
に移動させるように構成されていることができる。光学素子は、センサを横断する光学倍
率勾配を作ることができる。光学素子及びセンサの少なくとも一つが調節可能である。例
えば、光学素子及びセンサのうちの少なくとも一つが、センサを横断する光学倍率勾配を
発生させるように調節することができる。光学倍率勾配は、基板の回転運動の投影方向に
対して実質的に垂直な方向に沿ったものであることができる。光学素子は、回転、傾斜又
は他の形で配置されて、光学倍率勾配を操作するように構成されていることができる。光
学素子は、ほぼ基板の軸までの距離の逆数として上がる倍率を生じさせることができる。
倍率勾配は、基板、光学素子、及びセンサの相対的配向を選択することで生じさせること
ができる。例えば、倍率勾配は、図8Aに示したように、対物面及び画像面を傾斜させる
ことで生じさせることができる。倍率勾配は、幾何学的特性を示し得る。例えば、基板の
中心からの最短距離にある第1の領域の第1の光学倍率の、基板の中心から最長距離にあ
る第2の領域の第2の光学倍率に対する比は、最長距離の最短距離に対する比と実質的に
等しいものであり得る。このようにして、第1及び第2の光学倍率は、それらの個々のサ
ンプル領域の半径と同じ比率であることができる。示されているシステム800は単一の
光学素子810を含むが、システム800は、複数の光学素子、例えば少なくとも2、3
、4、5、6、7、8、9、10、20、30、40、50、100又はそれより多い光
学素子を含むことができる。光学素子の多様な配置又は構成を用いることができる。例え
ば、システム800は光を方向付けするためのレンズ及びミラーを含むことができる。
光学素子は、レンズであることができる。レンズは、視野レンズであることができる。
レンズは、円筒レンズ(例えば、図8Bに示したもの)であることができる。円筒レンズ
は、平面-円筒形であることができる。レンズは、平凹又は平凸であることができる。円
筒レンズは、正曲率又は負曲率を有することができる。円筒レンズの曲率は変動し得る。
円筒レンズの曲率は、回転運動の投影方向に対して垂直な方向で変動し得る。レンズの表
面の形状は円錐形であることができる。レンズは、センサに対して傾斜していることで、
アナモルフィック倍率勾配を生じることができる。レンズの傾斜は調節可能であることで
、調節可能なアナモルフィック倍率勾配を生じさせることができる。
図8Bは、円筒レンズを用いる誘導調整光学歪みの1例を示す図である。図8Bに示し
たように、円筒レンズは第1のサイドA及び第2のサイドBを有することができる。第1
のサイドAは、第2のサイドBより画像センサ(例えば、本明細書に記載のTDIカメラ
センサ)に近くに位置していることができる。そのような構成は、画像センサに対して円
筒レンズを傾斜させることによって得ることができる。このようにして、円筒レンズは、
画像センサ上の異なる位置に光を向けることができ、サイドBを通過した光の方が、サイ
ドAを通過した光より発散的に進む。このようにして、円筒レンズは、図8Bに描いたよ
うに、画像センサを横断するアナモルフィック倍率勾配を提供することができる。
レンズの傾斜によって、センサを横断するアナモルフィック倍率勾配が提供され得る。
その傾斜、従ってアナモルフィック勾配は、センサ上の画像の動きに対して実質的に垂直
な方向であることができる。レンズの傾斜は、調節可能であることができる。その調節は
、制御装置を用いることによって自動であることができる。その調節は、回転の基板軸に
対するスキャンされる基板領域の半径に組み合わされ得る。最小:最大アナモルフィック
倍率の比は、正確に若しくは大体、回転の基板軸に対する最小:最大投影半径の比でのも
のであり得る。
或いは又は組み合わせて、レンズの曲率半径における勾配は、センサを横断するアナモ
ルフィック倍率勾配を提供し得る。曲率勾配は、センサの画像の動きに対して実質的に垂
直な方向でのものであることができる。
当該システムはさらに、制御装置(不図示)を含むことができる。制御装置は、センサ
及び光学素子に動作可能に連結されていることができる。制御装置は、センサ及び光学素
子のうちの少なくとも1つの調節を指示して、センサを横断する光学倍率勾配を発生させ
るようにプログラムされていることができる。倍率勾配は、回転運動の投影方向に対して
実質的に垂直な方向に沿って発生させることができる。制御装置は、センサ及び/又は光
学素子の調節を指示して、アナモルフィックな光学倍率勾配を生じさせるようにプログラ
ムされていることができる。光学倍率勾配は、センサを横断して、回転運動の投影方向に
対して実質的に垂直な方向であることができる。制御装置は、光学素子の回転又は傾斜を
指示するようプログラムされていることができる。制御装置は、倍率勾配の調節を指示す
るようにプログラムされていることができる。例えば、制御装置は、少なくとも部分的に
、基板の軸についての投影に対するフィールド寸法の放射状範囲に関して、倍率勾配の調
節を指示するようにプログラムされていることができる。制御装置は、基板を回転運動さ
せるようにプログラムされていることができる。以上、単一の制御装置について説明した
が、複数の制御装置を、個別に又は全体的に、本明細書に記載の操作を行うように構成す
ることができる。
本明細書に記載の光学システムは、複数のスキャンヘッドを用いることができる。その
複数のスキャンヘッドは、異なる撮像路に沿って平行に操作することができる。例えば、
それらのスキャンヘッドは、インターリーブ螺旋形スキャン、ネスト化螺旋形スキャン、
インターリーブリングスキャン、ネスト化リングスキャン、又はこれらの組み合わせを行
うよう操作することができる。
図9Aは、インターリーブ螺旋形撮像スキャンの第1の例を示す図である。スキャンヘ
ッドの第1の領域は、第1の螺旋路910aに沿って操作することができる。スキャンヘ
ッドの第2の領域は、第2の螺旋路920aに沿って操作することができる。スキャンヘ
ッドの第3の領域は、第3の螺旋路930aに沿って操作することができる。第1、第2
及び第3の領域のそれぞれは、独立にクロックすることができる。そのスキャンヘッドは
、本明細書に記載のいずれかの光学システムを含むことができる。複数の撮像スキャン路
の使用によって、撮像速度を高めることで、撮像スループットを高めることができる。
図9Bは、インターリーブ螺旋形撮像スキャンの第2の例を示す図である。第1のスキ
ャンヘッドは、第1の螺旋路910bに沿って操作することができる。第2のスキャンヘ
ッドは、第2の螺旋路920bに沿って操作することができる。第3のスキャンヘッドは
、第3の螺旋路930bに沿って操作することができる。第1、第2及び第3のスキャン
ヘッドのそれぞれは、独立にクロックされるか、一致してクロックされることができる。
第1、第2及び第3のスキャンヘッドのそれぞれは、本明細書に記載の光学システムを含
むことができる。複数の撮像スキャン路の使用によって、正味の撮像速度を高めることで
撮像スループットを高くすることができる。光学システムのスループットは、フィールド
幅の多くのスキャンヘッドを平行に操作することで増加させることができる。例えば、各
スキャンヘッドは、基板回転の中心に対して異なる角度で固定されていることができる。
図9Cは、ネスト化螺旋形撮像スキャンの1例を示す図である。第1のスキャンヘッド
は、第1の螺旋路910cに沿って操作することができる。第2のスキャンヘッドは、第
2の螺旋路920cに沿って操作することができる。第3のスキャンヘッドは、第3の螺
旋路930cに沿って操作することができる。第1、第2及び第3のスキャンヘッドのそ
れぞれを、独立にクロックすることができる。第1、第2及び第3のスキャンヘッドのそ
れぞれは、本明細書に記載のいずれかの光学システムを含むことができる。複数撮像スキ
ャン路を用いることで、撮像速度を高めることによって撮像スループットを高めることが
できる。スキャンヘッドは、半径方向で一緒に動くことができる。光学システムのスルー
プットは、フィールド幅の多くのスキャンヘッドを平行に操作することで増加させること
ができる。例えば、各スキャンヘッドを、異なる角度で固定することができる。スキャン
は、分離したリングで、又はむしろ螺旋で行うことができる。
図9A~9Cは三つの撮像路を示しているが、あらゆる数の撮像路及びあらゆる数のス
キャンヘッドがあっても良い。例えば、少なくとも約2、3、4、5、6、7、8、9、
10、又はそれより多い撮像路又はスキャンヘッドがあっても良い。或いは、最大約10
、9、8、7、6、5、4、3、2、又はそれよい少ない撮像路又はスキャンヘッドがあ
っても良い。各スキャンヘッドは、所与の波長範囲内の波長を有する光を受光するように
構成されていることができる。例えば、前記第1のスキャンヘッドは、第1の波長範囲内
の波長を有する第1の光を受光するように構成されていることができる。第2のスキャン
ヘッドは、第2の波長範囲内の波長を有する第2の光を受光するように構成されているこ
とができる。第3のスキャンヘッドは、第2の波長範囲内の波長を有する第3の光を受光
するように構成されていることができる。同様に、第4、第5、第6、第7、第8、第9
若しくは第10のスキャンヘッドは、それぞれ第4、第5、第6、第7、第8、第9若し
くは第10の光を受光するように構成されていることができ、第4、第5、第6、第7、
第8、第9若しくは第10の光のそれぞれは、それぞれ第4、第5、第6、第7、第8、
第9若しくは第10の波長範囲内の波長を有する。第1、第2、第3、第4、第5、第6
、第7、第8、第9若しくは第10の波長範囲は同一であることができる。第1、第2、
第3、第4、第5、第6、第7、第8、第9若しくは第10の波長範囲は部分的に重複し
ていることができる。第1、第2、第3、第4、第5、第6、第7、第8、第9若しくは
第10の波長範囲のうちのいずれか2、3、4、5、6、7、8、9又は10の範囲が異
なっていることができる。第1、第2、第3、第4、第5、第6、第7、第8、第9若し
くは第10の波長範囲は、電磁スペクトルの紫外、可視又は近赤外領域であることができ
る。第1、第2、第3、第4、第5、第6、第7、第8、第9若しくは第10の波長範囲
のそれぞれは、本明細書に記載のフルオロフォア、色素又は量子ドットによって放出され
る波長を含むことができる。このようにして、当該システムは、複数のフルオロフォア、
色素又は量子ドットからの光学シグナルを検出するように構成されていることができる。
図10は、ネスト化環状撮像スキャンを示す図である。第1のスキャンヘッド1005
は、第1のほぼ環状路1010に沿って操作することができる。第2のスキャンヘッド1
015は、第2のほぼ環状路1020に沿って操作することができる。第3のスキャンヘ
ッド1025は、第3のほぼ環状路1030に沿って操作することができる。第4のスキ
ャンヘッド1035は、第4のほぼ環状路1040に沿って操作することができる。第5
のスキャンヘッド1045は、第5のほぼ環状路1050に沿って操作することができる
。第6のスキャンヘッド1055は、第6のほぼ環状路1060に沿って操作することが
できる。第1、第2、第3、第4、第5及び第6のスキャンヘッドのそれぞれが、独立に
クロックされ得る。第1、第2、第3、第4、第5及び第6のスキャンヘッドのそれぞれ
が、本明細書に記載のいずれかの光学システムを含むことができる。第1、第2、第3、
第4、第5及び第6のスキャンヘッドのそれぞれが、基板のスキャン時に固定位置に留ま
るように構成されていることができる。或いは、第1、第2、第3、第4、第5及び第6
のスキャンヘッドのうちの1以上が、基板のスキャン時に動くように構成されていること
ができる。ほぼ環状撮像路に沿って撮像を行う複数のスキャンヘッドの使用によって、撮
像スループットが大きく増加し得る。例えば、図10に描かれたスキャンヘッドの構成に
より、基板上の全てのアドレス可能な位置を、基板1回転中に撮像することが可能となり
得る。そのような構成は、1回のスキャン動作しか必要としないことで(例えば、基板の
回転)、撮像システムの機械的複雑さが単純化されるというさらなる利点を有し得る。
図10には6個の撮像路及び6個のスキャンヘッドが示されているが、あらゆる数の撮
像路及びあらゆる数のスキャンヘッドがあっても良い。例えば、少なくとも約2、3、4
、5、6、7、8、9、10、又はそれ以上の撮像路又はスキャンヘッドがあっても良い
。或いは、最大約10、9、8、7、6、5、4、3、2又はそれより少ない撮像路又は
スキャンヘッドがあっても良い。各スキャンヘッドは、所与の波長範囲内の波長を有する
光を受光するように構成されていることができる。例えば、前記第1のスキャンヘッドは
、第1の波長範囲内の波長を有する第1の光を受光するように構成されていることができ
る。第2のスキャンヘッドは、第2の波長範囲内の波長を有する第2の光を受光するよう
に構成されていることができる。第3のスキャンヘッドは、第3の波長範囲内の波長を有
する第3の光を受光するように構成されていることができる。第4のスキャンヘッドは、
第4の波長範囲内の波長を有する第4の光を受光するように構成されていることができる
。第5のスキャンヘッドは、第5の波長範囲内の波長を有する第5の光を受光するように
構成されていることができる。第6のスキャンヘッドは、第6の波長範囲内の波長を有す
る第6の光を受光するように構成されていることができる。同様に、第7、第8、第9若
しくは第10のスキャンヘッドは、それぞれ第7、第8、第9若しくは第10の光を受光
するように構成されていることができ、第7、第8、第9若しくは第10の光のそれぞれ
は、それぞれ第7、第8、第9若しくは第10の波長範囲内の波長を有する。第1、第2
、第3、第4、第5、第6、第7、第8、第9若しくは第10の波長範囲は同一であるこ
とができる。第1、第2、第3、第4、第5、第6、第7、第8、第9若しくは第10の
波長範囲は、部分的に重複していることができる。第1、第2、第3、第4、第5、第6
、第7、第8、第9若しくは第10の波長範囲のうちのいずれか2、3、4、5、6、7
、8、9又は10の範囲が異なっていることができる。第1、第2、第3、第4、第5、
第6、第7、第8、第9若しくは第10の波長範囲は、電磁スペクトルの紫外、可視又は
近赤外領域であることができる。第1、第2、第3、第4、第5、第6、第7、第8、第
9若しくは第10の波長範囲のそれぞれは、本明細書に記載のフルオロフォア、色素又は
量子ドットによって放出される波長を含むことができる。このようにして、当該システム
は、複数のフルオロフォア、色素又は量子ドットからの光学シグナルを検出するように構
成されていることができる。
図11は、浸漬光学システム1100の断面図である。システム1100を用いて、本
明細書に記載の基板を光学的に撮像することができる。システム1100は、いずれか他
の光学システム又は本明細書に記載の核酸配列決定のためのシステム(例えば、システム
300、400、500a、500b、700、又は800のいずれか)、又はそれらの
いずれかの要素と統合されていることができる。当該システムは、光学撮像対物レンズ1
110を含むことができる。光学撮像対物レンズは、浸漬光学撮像対物レンズであること
ができる。光学撮像対物レンズは、基板、例えば本明細書に記載の基板310と光学的に
連絡しているように構成されていることができる。光学撮像対物レンズは、本明細書に記
載のいずれか他の光学素子と光学的に連絡しているように構成されていることができる。
光学撮像対物レンズは、筐体1120によって一部又は完全に囲まれていることができる
。筐体は、光学撮像対物レンズのサンプル対面端を一部又は完全に取り囲むことができる
。筐体及び流体は、基板と接触している雰囲気と環境雰囲気の間のインターフェースを有
することができる。基板と接触している雰囲気及び環境雰囲気は、相対湿度、温度及び/
又は圧力において異なっていることができる。筐体は、ほぼカップ状の形状又は形態を有
することができる。筐体は、何らかの容器であることができる。筐体は、光学撮像対物レ
ンズが浸漬されるべき流体1140(例えば、水又は水系若しくは有機溶液)を含むよう
に構成されていることができる。筐体は、基板と筐体の間の最短距離1150を維持して
、前記基板の回転時に筐体と基板の間の接触を回避するように構成されていることができ
る。その最短距離は、少なくとも100nm、少なくとも200nm、少なくとも500
nm、少なくとも1μm、少なくとも2μm、少なくとも5μm、少なくとも10μm、
少なくとも20μm、少なくとも50μm、少なくとも100μm、少なくとも200μ
m、少なくとも500μm、少なくとも1mm、又は前出の値のいずれか二つによって規
定される範囲内である距離であることができる。最短距離があっても、筐体は、表面張力
効果によって流体を収容することができる。当該システムは、筐体の内側に流体を送るよ
うに構成されている流体流管1130を含むことができる。流体流管は、アダプター11
35を介して筐体に連結されていることができる。そのアダプターは、ネジ式アダプター
、圧縮アダプター、又はいずれか他のアダプターを含むことができる。電場印加ユニット
(不図示)は、容器の1又はそれ以上の表面の疎水性を調整して、例えば電場を印加する
ことで流体の少なくとも一部が液浸対物レンズ及び開放基板と接触した状態に保持される
ように構成されていることができる。
流体は基板と接触していることができる。光学撮像対物レンズ及び筐体は、化学的処理
操作を行う第1の位置と検出操作を行う第2の位置との間の物理的障壁を提供するように
構成されていることができる。このようにして、化学的処理操作及び検出操作を、独立の
操作条件で行うことができ、検出器の汚染を回避することができる。第1及び第2の位置
は、異なる湿度、温度、圧力又は大気混合物を有することができる。
本開示のシステムは、容器又は他の密閉環境に収容されていることができる。例えば、
容器は、内部環境1160を外部環境1170から隔てることができる。内部環境116
0は、例えば、本明細書の他の箇所に記載のように、温度、圧力及び/又は湿度を限定す
るように制御されていることができる。場合により、外部環境1170は制御されている
ことができる。場合により、内部環境1160は、例えば筐体1120を介して、又はそ
れを用いてさらに区画して、内部環境の部分を別個に制御することができる(例えば、化
学的処理操作のための第1の内部環境、検出操作のための第2の内部環境など)。内部環
境の異なる部分は、シールによって隔てられていることができる。例えば、そのシールは
、本明細書に記載の浸漬対象を含むことができる。
高スループット処理のためのシステム構造
本明細書に記載の核酸配列決定システム及び光学システム(又はそれの要素)を、多様
な構造で組み合わせることができる。
図12Aは、固定基板及び移動フルイディクス及び光学器を含むシステム1200aの
構造を示す図である。システム1200aは、本明細書に記載の基板310を含むことが
できる。基板は、本明細書に記載のように回転するように構成されていることができる。
基板は、本明細書に記載のように、チャック(図12Aでは不図示)に固着又は他の形態
で固定されていることができる。当該システムはさらに、本明細書に記載の流体チャネル
330及び流体出口335、及び/又は本明細書に記載のいずれか他の流体チャネル及び
流体出口を含むことができる。流体チャネル及び流体出口は、本明細書に記載の溶液をデ
ィスペンスするように構成されていることができる。流体チャネル及び流体出口は、基板
に対して動く(1215a)ように構成されていることができる。例えば、流体チャネル
及び流体出口は、流体チャネル及び流体出口が溶液をディスペンスしている期間中、基板
の上(例えば、基板の中心近く)に動くように構成されていることができる。流体チャネ
ル及び流体出口は、流体チャネル及び流体出口が溶液をディスペンスしていない期間中、
基板から離れる位置に動くように構成されていることができる。或いは、逆も当てはまり
得る。当該システムはさらに、本明細書に記載の光学撮像対物レンズ1110を含むこと
ができる。光学撮像対物レンズは、基板に対して動く(1210a)ように構成されてい
ることができる。例えば、光学撮像対物レンズは、基板が撮像されている期間中、基板の
上(例えば、基板の中心近く)の位置に動くように構成されていることができる。光学撮
像対物レンズは、基板が撮像されていない期間中、基板から離れた位置に動くように構成
されていることができる。当該システムは、溶液のディスペンスと撮像の間で交代して、
本明細書に記載のシステム及び方法を用いて基板に付着した核酸の迅速な配列決定を可能
とし得るものである。
図12Bは、移動する基板及び固定フルイディクス及び光学器を含むシステム1200
bについての構造を示す図である。システム1200bは、本明細書に記載の基板310
を含むことができる。基板は、本明細書に記載のように回転するように構成されているこ
とができる。基板は、本明細書に記載のように、チャック(図12Bでは不図示)に固着
又は他の形態で固定することができる。当該システムはさらに、本明細書に記載の流体チ
ャネル330及び流体出口335、及び/又は本明細書に記載のいずれか他の流体チャネ
ル及び流体出口を含むことができる。流体チャネル及び流体出口は、本明細書に記載の溶
液をディスペンスするように構成されていることができる。当該システムはさらに、本明
細書に記載の光学撮像対物レンズ1110を含むことができる。流体チャネル、流体出口
、及び光学撮像対物レンズは静止していることができる。基板は、流体チャネル、流体出
口、及び光学撮像対物レンズに対して動く(1210b)ように構成されていることがで
きる。例えば、基板は、流体チャネル及び流体出口が溶液をディスペンスしている期間中
、流体チャネル及び流体出口が基板の上(例えば、それの中心付近)となるような位置に
動くように構成されていることができる。基板は、流体チャネル及び流体出口が溶液をデ
ィスペンスしていない期間中、流体チャネル及び流体出口から離れる位置に動くように構
成されていることができる。基板は、基板が撮像されている期間中、基板上の対象(ob
jective)を放射状にスキャンするように構成されていることができる。基板は、
基板が撮像されていない期間中、光学撮像対物レンズから離れた位置に動くように構成さ
れていることができる。当該システムは、溶液のディスペンスと撮像の間で交互に行って
、本明細書に記載のシステム及び方法を用いて基板に付着した核酸の迅速な配列決定を可
能とし得るものである。
溶液のディスペンス及び基板の撮像のタイミングは同期させることができる。例えば、
第2の基板を撮像している間に、溶液を第1の基板にディスペンスすることができる。溶
液を第1の基板にディスペンスし、第2の基板を撮像したら、光学撮像対物レンズは、第
2の基板から第1の基板に動かすことができる。次に、前記第1の基板を撮像している期
間中、溶液を第2の基板にディスペンスすることができる。ディスペンス及び撮像のこの
交互パターンを繰り返して、本明細書に記載のシステム及び方法を用いて第1及び第2の
基板に付着した核酸の迅速な配列決定を可能とすることができる。ディスペンス及び撮像
の交互パターンは、撮像プロセス又は溶液ディスペンスプロセスのデューティサイクルを
増加させることによって配列決定をスピードアップさせることができる。
図12Cでは2つの基板、2つの流体チャネル、2つの流体出口、及び1つの光学撮像
対物レンズを含むように描かれているが、システム1200cは、あらゆる数の基板、流
体チャネル、流体出口及び光学撮像対物レンズのそれぞれを含むことができる。例えば、
当該システムは、少なくとも1、少なくとも2、少なくとも3、少なくとも4、少なくと
も5、少なくとも6、少なくとも7、少なくとも8、少なくとも9、又は少なくとも10
個の基板を含むことができる。各基板は、本明細書に記載のようにチャックに固着又は他
の形態で固定されていることができる。当該システムは、少なくとも1、少なくとも2、
少なくとも3、少なくとも4、少なくとも5、少なくとも6、少なくとも7、少なくとも
8、少なくとも9、又は少なくとも10個の流体チャネル及び/又は少なくとも1、少な
くとも2、少なくとも3、少なくとも4、少なくとも5、少なくとも6、少なくとも7、
少なくとも8、少なくとも9、又は少なくとも10個の流体出口を含むことができる。各
流体チャネル及び流体出口は、本明細書に記載のように溶液をディスペンスするように構
成されていることができる。当該システムは、少なくとも1、少なくとも2、少なくとも
3、少なくとも4、少なくとも5、少なくとも6、少なくとも7、少なくとも8、少なく
とも9、又は少なくとも10個の光学撮像対物レンズを含むことができる。各光学撮像対
物レンズは、本明細書に記載のように基板間で動かすことができる。
図12Dは、回転ステージ上の複数の移動基板並びに固定フルイディクス及び光学器を
含むシステム1200dについての構造を示す図である。システム1200dは、第1及
び第2の基板310a及び310bを含むことができる。第1及び第2の基板は、本明細
書に記載の基板310と同様であることができる。第1及び第2の基板は、本明細書に記
載のように回転するように構成されていることができる。第1及び第2の基板は、本明細
書に記載のように第1及び第2のチャック(図12Dでは不図示)に固着又は他の形態で
固定されていることができる。第1及び第2の基板は、回転ステージ1220dに固定さ
れていることができる(例えば、回転ステージの対向する端部近く)。回転ステージは、
軸を中心に回転するように構成されていることができる。その軸は、基板の中心を通る軸
であることができる。その軸は、偏心軸であることができる。回転ステージは、基板31
0bの半径をほぼスキャンすることができる。当該システムはさらに、流体チャネル33
0及び流体出口335を含むことができる。流体チャネル及び流体出口は、本明細書に記
載のいずれかの溶液をディスペンスするように構成されていることができる。当該システ
ムはさらに、光学撮像対物レンズ1110を含むことができる。撮像対物レンズ1110
の縦軸は、第2の基板310bの中心軸と一致していなくても良い(ただし、それは図1
2Dでは識別が困難である。)。撮像対物レンズ1110は、第2の基板310bの中心
から少し離れた位置にあることができる。
回転ステージは、第1及び第2の基板の相対位置を変えて、異なる配列決定操作を行う
ように構成されていることができる。例えば、回転ステージは、光学撮像対物レンズが、
流体チャネル及び流体出口が第1の基板に溶液をディスペンスしていない期間中(及び第
1の基板が撮像される間)、第1の基板の上の位置(例えば、基板の中心付近、又は基板
を放射方向にスキャン)に位置するように回転するように構成されていることができる。
回転ステージは、光学撮像対物レンズが、流体チャネル及び流体出口が溶液を第1の基板
にディスペンスしている期間中、第1の基板から離れているように回転するように構成さ
れていることができる。回転ステージは、光学撮像対物レンズが、流体チャネル及び流体
出口が第2の基板に溶液をディスペンスしていない期間中(及び第2の基板が撮像される
間)、第2の基板の上の位置(例えば、基板の中心付近、又は基板を放射方向にスキャン
)にあるように回転するように構成されていることができる。回転ステージは、光学撮像
対物レンズが、流体チャネル及び流体出口が溶液を第2の基板にディスペンスしている期
間中、第2の基板から離れているように回転するように構成されていることができる。
溶液のディスペンス及び基板の撮像のタイミングは同期させることができる。例えば、
第2の基板を撮像している間に、溶液を第1の基板にディスペンスすることができる。溶
液を第1の基板にディスペンスし、第2の基板を撮像したら、前記第1の基板を撮像して
いる期間中に溶液を第2の基板にディスペンスできるように、回転ステージを回転させる
ことができる。ディスペンス及び撮像の交互パターンを繰り返すことで、本明細書に記載
のシステム及び方法を用いる第1及び第2の基板に付着した核酸の迅速な配列決定が可能
となり得る。ディスペンス及び撮像の交互パターンによって、撮像プロセス又は溶液ディ
スペンスプロセスのデューティサイクルを増加させることによって配列決定をスピードア
ップさせることができる。
図12Dでは2つの基板、1つの流体チャネル、1つの流体出口、及び1つの光学撮像
対物レンズを含むように描かれているが、システム1200dは、あらゆる数の基板、流
体チャネル、流体出口及び光学撮像対物レンズのそれぞれを含むことができる。例えば、
当該システムは、少なくとも1、少なくとも2、少なくとも3、少なくとも4、少なくと
も5、少なくとも6、少なくとも7、少なくとも8、少なくとも9、又は少なくとも10
個の基板を含むことができる。各基板は、本明細書に記載のようにチャックに固着又は他
の形態で固定されていることができる。当該システムは、少なくとも1、少なくとも2、
少なくとも3、少なくとも4、少なくとも5、少なくとも6、少なくとも7、少なくとも
8、少なくとも9、又は少なくとも10個の流体チャネル及び少なくとも1、少なくとも
2、少なくとも3、少なくとも4、少なくとも5、少なくとも6、少なくとも7、少なく
とも8、少なくとも9、又は少なくとも10個の流体出口を含むことができる。各流体チ
ャネル及び流体出口は、本明細書に記載のように溶液をディスペンスするように構成され
ていることができる。当該システムは、少なくとも1、少なくとも2、少なくとも3、少
なくとも4、少なくとも5、少なくとも6、少なくとも7、少なくとも8、少なくとも9
、又は少なくとも10個の光学撮像対物レンズを含むことができる。回転ステージを回転
させて、いつでも、いずれかの流体チャネル、流体出口又は光学撮像対物レンズの下にい
ずれかの基板を配置することができる。
図12Eは、複数の固定基板及び移動光学器を含むシステム1200eについての構造
を示す図である。システム1200dは、第1及び第2の基板310a及び310bを含
むことができる。第1及び第2の基板は、本明細書に記載の基板310と同様であること
ができる。第1及び第2の基板は、本明細書に記載のように回転するように構成されてい
ることができる。第1及び第2の基板は、本明細書に記載のように第1及び第2のチャッ
ク(図12Eでは不図示)に固着又は他の形態で固定されていることができる。当該シス
テムはさらに、第1の流体チャネル330a及び第1の流体出口335aを含むことがで
きる。第1の流体チャネル330aは、本明細書に記載の流体チャネル330又は本明細
書に記載のいずれか他の流体チャネルと同様であることができる。第1の流体出口335
aは、本明細書に記載の流体出口335又は本明細書に記載のいずれか他の流体出口と同
様であることができる。第1の流体チャネル及び第1の流体出口は、本明細書に記載のい
ずれかの溶液をディスペンスするように構成されていることができる。当該システムはさ
らに、第2の流体チャネル330b及び第2の流体出口335bを含むことができる。第
2の流体チャネル330bは、本明細書に記載の流体チャネル330又は本明細書に記載
のいずれか他の流体チャネルと同様であることができる。第2の流体出口335bは、本
明細書に記載の流体出口335又は本明細書に記載のいずれか他の流体出口と同様である
ことができる。第2の流体チャネル及び第2の流体出口は、本明細書に記載のいずれかの
溶液をディスペンスするように構成されていることができる。
当該システムはさらに、光学撮像対物レンズ1110を含むことができる。光学撮像対
物レンズは、撮像アーム1230eに取り付けられていることができる。光学撮像対物レ
ンズは、光学撮像アームに沿って1220eを動かして、第1又は第2の基板の全区域を
撮像するように構成されていることができる。光学撮像アームは、1210eを回転させ
るように構成されていることができる。光学撮像アームは、光学撮像対物レンズが、第1
の流体チャネル及び第1の流体出口が第1の基板に溶液をディスペンスしていない期間中
(及び第1の基板が撮像される間)、第1の基板の上の位置(例えば、基板の中心付近、
又は基板を放射方向にスキャン)に位置するように回転するように構成されていることが
できる。光学撮像アームは、光学撮像対物レンズが、第1の流体チャネル及び第1の流体
出口が溶液を第1の基板にディスペンスしている期間中、第1の基板から離れているよう
に回転するように構成されていることができる。光学撮像アームは、光学撮像対物レンズ
が、第2の流体チャネル及び第2の流体出口が第2の基板に溶液をディスペンスしていな
い期間中(及び第2の基板が撮像される間)、第2の基板の上の位置(例えば、基板の中
心付近、又は基板を放射方向にスキャン)にあるように回転するように構成されているこ
とができる。光学撮像アームは、光学撮像対物レンズが、第2の流体チャネル及び第2の
流体出口が溶液を第2の基板にディスペンスしている期間中、第2の基板から離れている
ように回転するように構成されていることができる。
溶液のディスペンス及び基板の撮像のタイミングは同期させることができる。例えば、
第2の基板を撮像している間に、溶液を第1の基板にディスペンスすることができる。溶
液を第1の基板にディスペンスし、第2の基板を撮像したら、光学撮像アームを回転させ
て、前記第1の基板を撮像している期間中に、溶液を第2の基板にディスペンスできるよ
うにすることができる。ディスペンス及び撮像のこの交互パターンを繰り返して、本明細
書に記載のシステム及び方法を用いて第1及び第2の基板に付着した核酸の迅速な配列決
定を可能とすることができる。ディスペンス及び撮像の交互パターンは、撮像プロセス又
は溶液ディスペンスプロセスのデューティサイクルを増加させることによって配列決定を
スピードアップさせることができる。
図12Eでは2つの基板、2つの流体チャネル、2つの流体出口、及び1つの光学撮像
対物レンズを含むように描かれているが、システム1200eは、あらゆる数の基板、流
体チャネル、流体出口及び光学撮像対物レンズのそれぞれを含むことができる。例えば、
当該システムは、少なくとも1、少なくとも2、少なくとも3、少なくとも4、少なくと
も5、少なくとも6、少なくとも7、少なくとも8、少なくとも9、又は少なくとも10
個の基板を含むことができる。各基板は、本明細書に記載のようにチャックに固着又は他
の形態で固定されていることができる。当該システムは、少なくとも1、少なくとも2、
少なくとも3、少なくとも4、少なくとも5、少なくとも6、少なくとも7、少なくとも
8、少なくとも9、又は少なくとも10個の流体チャネル及び少なくとも1、少なくとも
2、少なくとも3、少なくとも4、少なくとも5、少なくとも6、少なくとも7、少なく
とも8、少なくとも9、又は少なくとも10個の流体出口を含むことができる。各流体チ
ャネル及び流体出口は、本明細書に記載のように溶液をディスペンスするように構成され
ていることができる。当該システムは、少なくとも1、少なくとも2、少なくとも3、少
なくとも4、少なくとも5、少なくとも6、少なくとも7、少なくとも8、少なくとも9
、又は少なくとも10個の光学撮像対物レンズを含むことができる。光学撮像アームを回
転させて、あらゆる時点で基板を流体チャネル、流体出口、又は光学撮像対物レンズの下
に配置することができる。
図12Fは、複数の移動基板及び固定フルイディクス及び光学器を含むシステム120
0fに関する構造を示す図である。システム1200fは、第1及び第2の基板310a
及び310bを含むことができる。第1及び第2の基板は、本明細書に記載の基板310
と同様であることができる。第1及び第2の基板は、本明細書に記載のように回転するよ
うに構成されていることができる。第1及び第2の基板は、本明細書に記載のように第1
及び第2のチャック(図12Fでは不図示)に固着又は他の形態で固定されていることが
できる。第1及び第2の基板は、移動ステージ1220fの対向する端部に固定されてい
ることができる。移動ステージは、動くように構成されていることができる(1210f
)。当該システムはさらに、第1の流体チャネル330a及び第1の流体出口335aを
含むことができる。第1の流体チャネル330aは、本明細書に記載の流体チャネル33
0又は本明細書に記載のいずれか他の流体チャネルと同様であることができる。第1の流
体出口335aは、本明細書に記載の流体出口335又は本明細書に記載のいずれか他の
流体出口と同様であることができる。第1の流体チャネル及び第1の流体出口は、本明細
書に記載のいずれかの溶液をディスペンスするように構成されていることができる。当該
システムはさらに、第2の流体チャネル330b及び第2の流体出口335bを含むこと
ができる。第2の流体チャネル330bは、流体本明細書に記載のチャネル330又は本
明細書に記載のいずれか他の流体チャネルと同様であることができる。第2の流体出口3
35bは、本明細書に記載の流体出口335又は本明細書に記載のいずれか他の流体出口
と同様であることができる。第2の流体チャネル及び第2の流体出口は、本明細書に記載
のいずれかの溶液をディスペンスするように構成されていることができる。当該システム
はさらに、光学撮像対物レンズ1110を含むことができる。
移動ステージは、第1の流体チャネル及び第1の流体出口が溶液を第1の基板にディス
ペンスしていない期間中(及び第1の基板が撮像される間)、光学撮像対物レンズが第1
の基板の上の位置(例えば、基板の中心付近、又は基板を放射方向にスキャン)にあるよ
うに動くように構成されていることができる。移動ステージは、光学撮像対物レンズが第
1の流体チャネル及び第1の流体出口が溶液を第1の基板にディスペンスしている期間中
、第1の基板から離れているように、動くように構成されていることができる。移動ステ
ージは、光学撮像対物レンズが、第2の流体チャネル及び第2の流体出口が第2の基板に
溶液をディスペンスしていない期間中(及び第2の基板が撮像される間)、第2の基板の
上の位置(例えば、基板の中心付近、又は基板を放射方向にスキャン)にあるように、動
くように構成されていることができる。移動ステージは、光学撮像対物レンズが、第2の
流体チャネル及び第2の流体出口が溶液を第2の基板にディスペンスしている期間中、第
2の基板から離れているように、動くように構成されていることができる。
溶液のディスペンス及び基板の撮像のタイミングは同期させることができる。例えば、
第2の基板を撮像している間に、溶液を第1の基板にディスペンスすることができる。溶
液を第1の基板にディスペンスし、第2の基板を撮像したら、移動ステージを動かして、
前記第1の基板を撮像している期間中に、溶液を第2の基板にディスペンスできるように
することができる。ディスペンス及び撮像のこの交互パターンを繰り返して、本明細書に
記載のシステム及び方法を用いて第1及び第2の基板に付着した核酸の迅速な配列決定を
可能とすることができる。ディスペンス及び撮像の交互パターンは、撮像プロセス又は溶
液ディスペンスプロセスのデューティサイクルを増加させることによって配列決定をスピ
ードアップさせることができる。
図12Fでは2つの基板、2つの流体チャネル、2つの流体出口、及び1つの光学撮像
対物レンズを含むように描かれているが、システム1200fは、あらゆる数の基板、流
体チャネル、流体出口及び光学撮像対物レンズのそれぞれを含むことができる。例えば、
当該システムは、少なくとも1、少なくとも2、少なくとも3、少なくとも4、少なくと
も5、少なくとも6、少なくとも7、少なくとも8、少なくとも9、又は少なくとも10
個の基板を含むことができる。各基板は、本明細書に記載のようにチャックに固着又は他
の形態で固定されていることができる。当該システムは、少なくとも1、少なくとも2、
少なくとも3、少なくとも4、少なくとも5、少なくとも6、少なくとも7、少なくとも
8、少なくとも9、又は少なくとも10個の流体チャネル及び少なくとも1、少なくとも
2、少なくとも3、少なくとも4、少なくとも5、少なくとも6、少なくとも7、少なく
とも8、少なくとも9、又は少なくとも10個の流体出口を含むことができる。各流体チ
ャネル及び流体出口は、本明細書に記載のように溶液をディスペンスするように構成され
ていることができる。当該システムは、少なくとも1、少なくとも2、少なくとも3、少
なくとも4、少なくとも5、少なくとも6、少なくとも7、少なくとも8、少なくとも9
、又は少なくとも10個の光学撮像対物レンズを含むことができる。移動ステージを動か
して、あらゆる時点で基板を流体チャネル、流体出口、又は光学撮像対物レンズの下に配
置することができる。
図12Gは、複数の処理ベイ間で動かされる複数の基板を含むシステム1200gにつ
いての構造を示す図である。システム1200gは、それぞれ第1、第2、第3及び第4
の基板310a、310b、310c、310d、及び310eを含むことができる。第
1、第2、第3、第4及び第5の基板は、本明細書に記載の基板310と同様であること
ができる。第1、第2、第3、第4及び第5の基板は、本明細書に記載のように回転する
ように構成されていることができる。第1、第2、第3、第4及び第5の基板は、本明細
書に記載のように、それぞれ第1、第2、第3、第4及び第5のチャック(図12Gでは
不図示)に固着又は他の形態で固定されていることができる。
当該システムはさらに、第1の流体チャネル330a及び第1の流体出口335aを含
むことができる。第1の流体チャネル330aは、本明細書に記載の流体チャネル330
又は本明細書に記載のいずれか他の流体チャネルと同様であることができる。第1の流体
出口335aは、本明細書に記載の流体出口335又は本明細書に記載のいずれか他の流
体出口と同様であることができる。第1の流体チャネル及び第1の流体出口は、本明細書
に記載のいずれかの溶液をディスペンスするように構成されていることができる。第1の
流体チャネル及び第1の流体出口は、第1の処理ベイと見なすことができる。第1の処理
ベイは、第1の処理操作、例えば第1、第2、第3、第4若しくは第5の基板のいずれか
への第1の溶液のディスペンスを行うように構成されていることができる。
当該システムはさらに、第2の流体チャネル330b及び第2の流体出口335bを含
むことができる。第2の流体チャネル330bは、本明細書に記載の流体チャネル330
又は本明細書に記載のいずれか他の流体チャネルと同様であることができる。第2の流体
出口335bは、本明細書に記載の流体出口335又は本明細書に記載のいずれか他の流
体出口と同様であることができる。第2の流体チャネル及び第2の流体出口は、本明細書
に記載のいずれかの溶液をディスペンスするように構成されていることができる。第2の
流体チャネル及び第2の流体出口は、第2の処理ベイ又は処理ステーションと見なすこと
ができる。第2の処理ベイは、第2の処理操作、例えば第1、第2、第3、第4又は第5
の基板のいずれかへの第2の溶液のディスペンスを行うように構成されていることができ
る。
当該システムはさらに、第3の流体チャネル330c及び第3の流体出口335cを含
むことができる。第3の流体チャネル330cは、本明細書に記載の流体チャネル330
又は本明細書に記載のいずれか他の流体チャネルと同様であることができる。第3の流体
出口335cは、本明細書に記載の流体出口335又は本明細書に記載のいずれか他の流
体出口と同様であることができる。第3の流体チャネル及び第3の流体出口は、本明細書
に記載のいずれかの溶液をディスペンスするように構成されていることができる。第3の
流体チャネル及び第3の流体出口は、第3の処理ベイ又は処理ステーションと見なすこと
ができる。第3の処理ベイは、第3の処理操作、例えば第1、第2、第3、第4若しくは
第5の基板のいずれかへの第3の溶液のディスペンスを行うように構成されていることが
できる。
当該システムはさらに、第4の流体チャネル330d及び第4の流体出口335dを含
むことができる。第4の流体チャネル330dは、本明細書に記載の流体チャネル330
又は本明細書に記載のいずれか他の流体チャネルと同様であることができる。第4の流体
出口335dは、本明細書に記載の流体出口335又は本明細書に記載のいずれか他の流
体出口と同様であることができる。第4の流体チャネル及び第4の流体出口は、本明細書
に記載のいずれかの溶液をディスペンスするように構成されていることができる。第4の
流体チャネル及び第4の流体出口は、第4の処理ベイ又は処理ステーションと見なすこと
ができる。第4の処理ベイは、第4の処理操作、例えば第1、第2、第3、第4若しくは
第5の基板のいずれかに第4の溶液をディスペンスするように構成されていることができ
る。
当該システムはさらに、スキャニング光学撮像対物レンズ1110を含むことができる
。その光学撮像対物レンズは、第5の処理ベイ又は処理ステーションと見なすことができ
る。
当該システムはさらに、可動アーム1220gを含むことができる。可動アームは、横
方向に動く(1210g)か、回転する(1215g)ように構成されていることができ
る。可動アームは、異なる処理ステーション間で第1、第2、第3、第4又は第5の基板
のいずれかを動かすように構成されていることができる(例えば、基板をピックアップし
、それらを新たな位置に動かす)。例えば、第1の時間点で、第1の基板について第1の
処理ベイで第1の操作(例えば、第1の溶液のディスペンス)を行うことができ、第2の
基板について第2の処理ベイで第2の操作(例えば、第2の溶液のディスペンス)を行う
ことができ、第3の基板について第1の処理ベイで第3の操作(例えば、第3の溶液のデ
ィスペンス)を行うことができ、第4の基板について第4の処理ベイで第4の操作(例え
ば、第4の溶液のディスペンス)を行うことができ、第5の基板を第5の処理ベイで撮像
することができる。第1、第2、第3若しくは第4の操作の1以上、又は撮像が完了した
ら、可動アームが、第1、第2、第3、第4又は第5の基板のうちの1以上を第1、第2
、第3、第4又は第5の処理ベイのうちの1以上に動かすことができ、そこで別の操作を
完了させることができる。1又はそれ以上の操作の完了及び1又はそれ以上の基板の別の
処理ベイへの移動による別の操作の完了のパターンを繰り返して、本明細書に記載のシス
テム及び方法を用いて第1、第2、第3、第4及び第5の基板に付着した核酸の迅速な配
列決定を行うことが可能となる。ディスペンス及び撮像の交互パターンは、撮像プロセス
又は溶液ディスペンスプロセスのデューティサイクルを増加させることによって配列決定
をスピードアップさせることができる。
図12Gでは五つの基板、四つの流体チャネル、四つの流体出口、及び1つの光学撮像
対物レンズを含むように描かれているが、システム1200gは、あらゆる数の基板、流
体チャネル、流体出口及び光学撮像対物レンズのそれぞれを含むことができる。例えば、
当該システムは、少なくとも1、少なくとも2、少なくとも3、少なくとも4、少なくと
も5、少なくとも6、少なくとも7、少なくとも8、少なくとも9、又は少なくとも10
個の基板を含むことができる。各基板は、本明細書に記載のようにチャックに固着又は他
の形態で固定されていることができる。当該システムは、少なくとも1、少なくとも2、
少なくとも3、少なくとも4、少なくとも5、少なくとも6、少なくとも7、少なくとも
8、少なくとも9、又は少なくとも10個の流体チャネル及び少なくとも1、少なくとも
2、少なくとも3、少なくとも4、少なくとも5、少なくとも6、少なくとも7、少なく
とも8、少なくとも9、又は少なくとも10個の流体出口を含むことができる。各流体チ
ャネル及び流体出口は、本明細書に記載のように溶液をディスペンスするように構成され
ていることができる。当該システムは、少なくとも1、少なくとも2、少なくとも3、少
なくとも4、少なくとも5、少なくとも6、少なくとも7、少なくとも8、少なくとも9
、又は少なくとも10個の光学撮像対物レンズを含むことができる。可動アームを動かし
て、あらゆる時点で基板を流体チャネル、流体出口、又は光学撮像対物レンズの下に配置
することができる。
図12Hは、共有移動軸及び回転軸及び独立に回転するフィールドでスキャンを行う複
数の撮像ヘッドを含むシステム1200についての構造を示す図である。当該システムは
、基板310を撮像するように構成されている、それぞれ第1及び第2の読取ヘッド10
05及び1015を含むことができる。第1及び第2の読取ヘッドは、本明細書に記載の
いずれかの読取ヘッドと同様であることができる(例えば、図10に関して)。特定の時
間点で、第1及び第2の読取ヘッドは、それぞれ第1及び第2の経路1010及び102
0を撮像するように構成されていることができる。第1及び第2の経路は、本明細書に記
載のいずれかの経路(例えば、図10に関して)と同様であることができる。第1及び第
2の読取ヘッドは、回転する基板上を実質的に半径方向に動く(1210h)ことで、基
板をスキャンするように構成されていることができる。第1の又は第2の読取ヘッドのい
ずれかが正確に半径方向に動かない場合、読取ヘッドの画像フィールド又はセンサを回転
させて、実質的に接線スキャン方向を維持することができる。フィールド回転は、回転プ
リズムを用いて行うことができる。或いは若しくはさらに、ミラーその他の光学素子を用
いることができる。
図12Hでは2つの読取ヘッド及び2つの撮像路を含むように描かれているが、システ
ム1200hは、あらゆる数の読取ヘッド又は撮像路を含むことができる。例えば、当該
システムは、少なくとも1、少なくとも2、少なくとも3、少なくとも4、少なくとも5
、少なくとも6、少なくとも7、少なくとも8、少なくとも9、又は少なくとも10個の
読取ヘッドを含むことができる。当該システムは、少なくとも1、少なくとも2、少なく
とも3、少なくとも4、少なくとも5、少なくとも6、少なくとも7、少なくとも8、少
なくとも9、又は少なくとも10個の撮像路を含むことができる。
図12Iは、共有光学検出システムでスキャンを行う複数のスピンドルを含むシステム
1200iについての構造を示す図である。当該システムは、それぞれ第1及び第2の基
板310a及び310bを含むことができる。第1及び第2の基板は、本明細書に記載の
基板310と同様であることができる。第1及び第2の基板は、それぞれ第1及び第2の
スピンドルに固定されていることができる。第1及び第2のスピンドルは、それぞれ第1
及び第2の基板に回転運動を与えることができる。当該システムは、それぞれ第1及び第
2の光学撮像対物レンズ1110a及び1110bを含むことができる。第1及び第2の
光学撮像対物レンズは、本明細書に記載の光学撮像対物レンズ1110と同様であること
ができる。第1及び第2の光学撮像対物レンズは、それぞれ第1及び第2の基板から光を
集めるように構成されていることができる。第1及び第2の光学撮像対物レンズは、それ
ぞれ第1及び第2の基板から集めた光を、それぞれ第1及び第2のミラー1280a及び
1280bに送ることができる。場合により、第1及び第2の光学撮像対物レンズのうち
の一方のみが、特定の時点で光を集めるであろう。
第1及び第2のミラーは、共有可動ミラーに光を送ることができる。第1の構成128
5aでの場合、共有可動ミラーは、第1の基板からの光をビームスプリッタ1295に向
けることができる。ビームスプリッタは、ダイクロイックミラーを含むことができる。ビ
ームスプリッタは、検出器370に光を送って、前記第1の基板を撮像できるようにする
ことができる。第1の基板は、移動されて(1210i)、前記第1の基板上の異なる位
置を撮像できるように構成されていることができる。
第2の構成1285bでの場合、共有可動ミラーは、第2の基板からの光をビームスプ
リッタ1295に向けることができる。ビームスプリッタは、検出器370に光を送って
、前記第2の基板を撮像できるようにすることができる。第2の基板は、移動されて(1
210i)、前記第2の基板上の異なる位置を撮像できるように構成されていることがで
きる。従って、可動ミラーを動かすことで、共有光学システムによって第1及び第2の基
板を撮像することができる。
当該システムはさらに、励起光源1290を含むことができる。その光源は、第1の又
は第2の基板に励起光(例えば、蛍光撮像のため)を提供するように構成されていること
ができる。励起光は、本明細書に記載の検出についてと同様の方法で、可動ミラーを用い
て第1の又は第2の基板に選択的に送ることができる。
図12Iでは2つの基板、2つの撮像光学対物レンズ及び2つのミラーを含むように描
かれているが、システム1200iは、あらゆる数の基板、撮像光学対物レンズ又はミラ
ーを含むことができる。例えば、当該システムは、少なくとも1、少なくとも2、少なく
とも3、少なくとも4、少なくとも5、少なくとも6、少なくとも7、少なくとも8、少
なくとも9、又は少なくとも10個の基板を含むことができる。当該システムは、少なく
とも1、少なくとも2、少なくとも3、少なくとも4、少なくとも5、少なくとも6、少
なくとも7、少なくとも8、少なくとも9、又は少なくとも10個の撮像光学対物レンズ
を含むことができる。当該システムは、少なくとも1、少なくとも2、少なくとも3、少
なくとも4、少なくとも5、少なくとも6、少なくとも7、少なくとも8、少なくとも9
、又は少なくとも10個のミラーを含むことができる。
図12Hは、共有移動軸及び回転軸及び独立に回転するフィールドでスキャンを行う複
数の撮像ヘッドを含むシステムについての構造を示す図である。
図12Iは、共有光学検出システムでスキャンを行う複数のスピンドルを含むシステム
についての構造を示す図である。
図13は、複数の回転スピンドルを含むシステム1300についての構造を示す図であ
る。システム1300は、本明細書に記載の基板310を含むことができる。基板は、本
明細書に記載のように回転するように構成されていることができる。当該システムはさら
に、本明細書に記載の流体チャネル330及び流体出口335、又は本明細書に記載のい
ずれか他の流体チャネル及び流体出口を含むことができる。流体チャネル及び流体出口は
、本明細書に記載のいずれかの溶液をディスペンスするように構成されていることができ
る。流体チャネル及び流体出口は、基板に対して動く(1315a)ように構成されてい
ることができる。例えば、流体チャネル及び流体出口は、流体チャネル及び流体出口が溶
液をディスペンスしている期間中、基板の上の位置(例えば、基板の中心付近)に動くよ
うに構成されていることができる。流体チャネル及び流体出口は、流体チャネル及び流体
出口が溶液をディスペンスしていない期間中、基板から離れた位置に動くように構成され
ていることができる。当該システムはさらに、本明細書に記載の光学撮像対物レンズ11
10を含むことができる。光学撮像対物レンズは、基板に対して動く(1310a)よう
に構成されていることができる。例えば、光学撮像対物レンズは、基板が撮像されている
期間中、基板の上の位置(例えば、基板の中心付近、又は基板を放射方向にスキャン)に
動くように構成されていることができる。光学撮像対物レンズは、基板が撮像されていな
い期間中、基板から離れた位置に動くように構成されていることができる。
当該システムはさらに、第1のスピンドル1305a及び第2のスピンドル1305b
を含むことができる。第1のスピンドルは、第2のスピンドルの内側にあることができる
。第1のスピンドルは、第2のスピンドルの外側にあることができる。第2のスピンドル
は、第1のスピンドルの内側にあることができる。第2のスピンドルは、第1のスピンド
ルの外側にあることができる。第1及び第2のスピンドルはそれぞれ、互いに対して独立
に回転するように構成されていることができる。第1及び第2のスピンドルは、異なる角
速度で回転するように構成されていることができる。例えば、前記第1のスピンドルは第
1の角速度で回転するように構成されていることができ。第2のスピンドルは、第2の角
速度で回転するように構成されていることができる。第1の角速度は、第2の角速度未満
であることができる。第1のスピンドルは、溶液が基板にディスペンスされている期間中
、相対的に低い角速度(例えば、約0rpm~約100rpmの角速度)で回転するよう
に構成されていることができる。第2のスピンドルは、基板が撮像されている期間中、相
対的に高い角速度(例えば、約100rpm~約1,000rpmの角速度)で回転する
ように構成されていることができる。或いは、その逆もあり得る。基板を第1のスピンド
ルと第2のスピンドルの間で移動させて、ディスペンス操作及び撮像操作のそれぞれを行
うことができる。
当該システムは、あらゆる数のスピンドルを含むことができる。例えば、当該システム
は、少なくとも約2、3、4、5、6、7、8、9、10、20個又はそれより多いスピ
ンドルを含むことができる。或いは若しくはさらに、当該システムは、最大約20、10
、9、8、7、6、5、4、3、2、又は1個のスピンドルを含むことができる。所与の
スピンドルは、当該システムにおける1又はそれ以上の他のスピンドルに対して内側又は
外側にあることができる。場合により、それらのスピンドルのそれぞれは、互いに独立に
回転することができる。場合により、スピンドルの少なくとも一部が、互いに独立に回転
することができる。場合により、スピンドルの少なくとも一部が、互いに依存的に回転す
ることができる(例えば、同じ角速度で同時に)。スピンドルは、同じ軸又は異なる軸に
関して回転することができる。場合により、各スピンドルは、異なる角速度で回転するこ
とができる。場合により、スピンドルの少なくとも一部が、異なる角速度で回転すること
ができる。
図13では可動流体チャネル及び光学撮像対物レンズを用いて描いているが、システム
1300は、本明細書に記載のように他の形態で構成することができる。例えば、当該シ
ステムは、流体チャネル及び光学撮像対物レンズが静止しており、基板が動くように構成
されているように構成することができる。当該システムは、本明細書に記載のいずれか他
の形態で構成されていることができる。
他の分析物への応用
核酸の配列決定に有用であると本明細書において記載しているが、本明細書に記載のシ
ステム及び方法は、他の分析物及び/又はそのような分析物を処理する他の用途に利用す
ることができる。図14は、分析物処理方法1400の1例のフローチャートを示してい
る。
第1の操作1410において、当該方法は、固定化された分析物を有する平面アレイを
含む基板を提供することを含むことができ、前記基板は軸に対して回転するように構成さ
れている。その軸は、基板の中心を通る軸であることができる。その軸は、偏心軸である
ことができる。その基板は、本明細書に記載のいずれかの基板であることができる。場合
により、当該平面アレイは、1種類の分析物を含むことができる。他の場合、当該平面ア
レイは、2又はそれ以上の種類の分析物を含むことができる。その2又はそれ以上の種類
の分析物はランダムに配列することができる。その2又はそれ以上の種類の分析物は、規
則的パターンで配列することができる。分析物は、本明細書に記載のいずれかの生物試料
又はそれの誘導体であることができる。例えば、分析物は、単細胞分析物であることがで
きる。分析物は、核酸分子であることができる。分析物は、タンパク質分子であることが
できる。分析物は、単細胞であることができる。分析物は、粒子であることができる。分
析物は、生物であることができる。分析物は、コロニーの一部であることができる。場合
により、分析物は非生物試料であるか、非生物試料由来であることができる。分析物は、
平面アレイ上の個々にアドレス可能な位置に固定化することができる。分析物は、分析物
に結合するように構成されているリンカーを介して基板に固定化されていることができる
。例えば、リンカーは、炭水化物分子を含むことができる。そのリンカー(link)は
、親和結合タンパク質を含むことができる。リンカーは親水性であることができる。リン
カーは疎水性であることができる。リンカーは帯電していることができる。リンカーは標
識されていることができる。リンカーは基板と一体であることができる。リンカーは、基
板上の独立の層であることができる。
第2の操作1420において、当該方法は、前記基板の回転時に平面アレイを横切って
、複数のアダプターを含む溶液を移動させることを含むことができる。当該溶液は、本明
細書に記載のいずれかの溶液又は試薬を含むことができる。前記複数のアダプターは、平
面アレイに固定化された分析物と相互作用するように構成されていることができる。例え
ば、分析物が核酸分子である場合、前記複数のアダプターは、複数のプローブを含むこと
ができる。前記複数のプローブの所与のプローブは、ランダム配列又は標的配列、例えば
ホモポリマー配列又は二塩基若しくは三塩基繰り返し配列を含むことができる。場合によ
り、プローブは、二塩基プローブであることができる。場合により、プローブは、長さ約
1~10塩基であることができる。場合により、プローブは、長さ約10~20塩基であ
ることができる。場合により、プローブは、少なくとも約1、2、3、4、5、6、7、
8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、20、30、
40、50、又はそれより多い塩基であることができる。或いは又は組み合わせて、プロ
ーブは、最大約50、40、30、20、19、18、17、16、15、14、13、
12、11、10、9、8、7、6、5、4、3、2、1塩基であることができる。別の
例において、分析物がタンパク質分子である場合、前記複数のアダプターは、複数の抗体
を含むことができる。前記複数の抗体のうちの所与の抗体は、1又はそれ以上の種類のタ
ンパク質に対する結合特異性を有することができる。他の場合、前記複数のアダプターは
、複数のオリゴヌクレオチド分子、炭水化物分子、脂質分子、親和結合タンパク質、アプ
タマー、抗体、酵素、又は他の試薬のいずれかの組み合わせを含むことができる。前記複
数のアダプターは親水性であることができる。前記複数のアダプターは疎水性であること
ができる。前記複数のアダプターは帯電していることができる。前記複数のアダプターは
、標識されていることができる。前記複数のアダプターは、標識成分及び非標識成分の混
合物を含むことができる。場合により、前記複数のアダプターは標識されていなくても良
い。
操作1430では、当該方法は、分析物と前記複数のアダプターの間の反応を引き起こ
すのに十分な条件下に分析物を置くことを含むことができる。操作1440では、当該方
法は、分析物と前記複数のアダプターの間の反応を示すシグナルを検出することで分析物
を分析することを含むことができる。
当該方法はさらに、操作1410の前に、リンカーを含む基板を横断して分析物を移動
させることを含むことができる。例えば、分析物のディスペンス前又はディスペンス中、
基板を回転させて、基板表面及び/又は平面アレイを分析物でコーティングすることがで
きる。場合により、分析物をビーズに結合させることができ、そのビーズは平面アレイに
固定化されている。
当該方法はさらに、本明細書の他の箇所で記載のように、基板に接触した溶液の一部を
リサイクルすることを含むことができる。そのリサイクルは、溶液のその一部の回収、濾
過及び再使用を含むことができる。濾過は、分子濾過を含むことができる。分子濾過は、
特異的核酸濾過(即ち、特異的核酸についての濾過)を含むことができる。核酸濾過は、
汚染物質のヌクレオチド又は核酸に特異的に結合し得るオリゴヌクレオチド伸長化合物の
アレイへの溶液の曝露を含むことができる。
シグナルは、光学シグナルであることができる。シグナルは、蛍光シグナルであること
ができる。シグナルは、光吸収シグナルであることができる。シグナルは、光散乱シグナ
ルであることができる。シグナルは、発光シグナルであることができる。シグナルは、リ
ン光シグナルであることができる。シグナルは、電気シグナルであることができる。シグ
ナルは、音シグナルであることができる。シグナルは、磁気シグナルであることができる
。シグナルは、いずれかの検出可能なシグナルであることができる。或いは又は本明細書
に記載の光学センサに加えて、当該システムは、検出可能なシグナルを検出するように構
成されている1又はそれ以上の他の検出器(例えば、音検出器など)を含むことができる
場合により、当該方法はさらに、操作1420の前に、基板を中心に対して回転させる
ことを含むことができる。
場合により、当該方法はさらに、操作1440でシグナルを検出する前に、基板の回転
を停止することを含むことができる。他の場合、シグナルは、基板瓦解点中に操作144
0で検出することができる。
シグナルは、標識を分析物に結合させることで発生させることができる。標識は、分子
、粒子、細胞又は生物に結合していることができる。標識は、操作1410の前に、分子
、粒子、細胞又は生物に結合していることができる。標識は、操作1410の後に、分子
、粒子、細胞又は生物に結合させることができる。シグナルは、化学反応による検出可能
生成物の形成によって発生し得る。その反応は、酵素反応を含むことができる。シグナル
は、物理的会合による検出可能生成物の形成によって発生し得る。シグナルは、近接会合
による検出可能生成物の形成によって発生し得る。近接会合は、フェルスター共鳴エネル
ギー移動(FRET)を含むことができる。近接会合は、相補酵素との会合を含むことが
できる。シグナルは、単一反応によって発生し得る。シグナルは、複数の反応によって発
生し得る。その複数の反応は順次で起こり得る。その複数の反応は並行して起こり得る。
その複数の反応は、ある反応の1又はそれ以上の繰り返しを含むことができる。例えば、
その反応は、ハイブリダイゼーション反応又は連結反応を含むことができる。その反応は
、ハイブリダイゼーション反応及び連結反応を含むことができる。
当該方法はさらに、操作1420、1430、及び1440を1回以上繰り返すことを
含むことができる。連続サイクルのために、前記基板の回転時に、異なる溶液を平面アレ
イに移動させることができる。
本明細書で提供される方法1400に基づく多くの変更、改変及び調整が可能である。
例えば、方法1400の操作の順序を変えることができ、操作の一部を削除することがで
き、操作の一部を繰り返すことができ、適宜に追加の操作を加えることができる。操作の
一部を順次で行うことができる。操作の一部を並行して行うことができる。操作の一部を
1回行うことができる。操作の一部を複数回行うことができる。操作の一部が、下位操作
を含むことができる。操作の一部は自動化することができる。操作の一部は手動であるこ
とができる。
図15は、分析物の単離のためのシステム1500の第1の例を示す図である。当該シ
ステムは、複数のリンカー1510a、1510b、1510c、及び1510dを含む
ことができる。前記複数のリンカーは、本明細書に記載の基板310に固着又は他の形態
で固定されていることができる。例えば、各リンカーは、本明細書に記載の前記複数の個
々にアドレス可能な位置のうちの特定の個々にアドレス可能な位置に結合していることが
できる。リンカー1510a、1510b、1510c、及び1510dは、本明細書に
記載のいずれかのリンカーを含むことができる。リンカー1510a、1510b、15
10c、及び1510dの一部又は全てが同一であることができる。リンカー1510a
、1510b、1510c、及び1510dの一部又は全てが異なっていることができる
。リンカーは、分析物1520a及び1520bと相互作用するように構成されているこ
とができる。例えば、リンカーは、本明細書に記載のいずれかの相互作用によって分析物
1520a及び1520bに結合するように構成されていることができる。分析物152
0a及び1520bは、本明細書に記載の分析物を含むことができる。分析物1520a
及び1520bは同一であることができる。分析物1520a及び1520bは異なって
いることができる。リンカーは、特定の分析物及び/又はそれの種類と特異的に相互作用
するように構成されていることができる。例えば、リンカー1510bは、分析物152
0aと特異的に相互作用するように構成されていることができる。リンカー1510dは
、分析物1520bと特異的に相互作用するように構成されていることができる。いずれ
のリンカーも、いずれの分析物とも相互作用するように構成されていることができる。こ
のようにして、特定の分析物を、基板上の特定の位置に結合させることができる。図15
では四個のリンカー及び二個の分析物を含むように示されているが、システム1500は
、あらゆる数のリンカー及び分析物を含むことができる。例えば、システム1500は、
少なくとも1、少なくとも2、少なくとも5、少なくとも10、少なくとも20、少なく
とも50、少なくとも100、少なくとも200、少なくとも500、少なくとも1,0
00、少なくとも2,000、少なくとも5,000、少なくとも10,000、少なく
とも20,000、少なくとも50,000、少なくとも100,000、少なくとも2
00,000、少なくとも500,000、少なくとも1,000,000、少なくとも
2,000,000、少なくとも5,000,000、少なくとも10,000,000
、少なくとも20,000,000、少なくとも50,000,000、少なくとも10
0,000,000、少なくとも200,000,000、少なくとも500,000,
000、少なくとも1,000,000,000個のリンカー、又は前出の値のいずれか
二つによって規定される範囲内である数のリンカーを含むことができる。システム150
0は、少なくとも1、少なくとも2、少なくとも5、少なくとも10、少なくとも20、
少なくとも50、少なくとも100、少なくとも200、少なくとも500、少なくとも
1,000、少なくとも2,000、少なくとも5,000、少なくとも10,000、
少なくとも20,000、少なくとも50,000、少なくとも100,000、少なく
とも200,000、少なくとも500,000、少なくとも1,000,000、少な
くとも2,000,000、少なくとも5,000,000、少なくとも10,000,
000、少なくとも20,000,000、少なくとも50,000,000、少なくと
も100,000,000、少なくとも200,000,000、少なくとも500,0
00,000、少なくとも1,000,000,000個の分析物、又は前出の値のいず
れか二つによって規定される範囲内である数の分析物を含むことができる。
図16は、分析物の単離のためのシステム1600の第2の例を示す図である。当該シ
ステムは、粒子を物理的に捕捉するように構成されているウェルを含むことができる。そ
のウェルは、明細書に記載の前記複数の個々にアドレス可能な位置のうちの個々にアドレ
ス可能な位置を含むことができる。そのウェルは、分析物を捕捉するように構成されてい
ることができる。例えば、そのウェルは、1滴の血液1630を捕捉するように構成され
ていることができる。例えば、その1滴の血液は、白血球1640、赤血球1650及び
循環腫瘍細胞1660を含むことができる。そのウェルは、本明細書に記載のいずれか他
の分析物を捕捉するように構成されていることができる。そのウェルは、マイクロ加工材
料及び技術を用いて層状に構築されていることができる。例えば、そのウェルは、基底層
1605を含むことができる。基底層は、ケイ素を含むことができる。そのウェルは、酸
化物層1610を含むことができる。酸化物層は、酸化ケイ素を含むことができる。その
ウェルは、金属層1615を含むことができる。その金属は、ニッケル又はアルミニウム
を含むことができる。そのウェルは、ナノチューブ層1620を含むことができる。ナノ
チューブ層は、1又はそれ以上のカーボンナノチューブを含むことができる。そのウェル
は、閉じ込め層1625を含むことができる。閉じ込め層は、フォトレジストを含むこと
ができる。フォトレジストは、SU-8を含むことができる。ナノチューブ層及び閉じ込
め層は、一緒に細胞を捕捉するように構成されていることができる。
図17は、スキャン時の速度勾配を補償する制御システムの例を示す図である。そのよ
うな制御システムは、アルゴリズム的に速度勾配を補償することができる。制御システム
は、予測的又は適応的に接線速度勾配を補償することができる。図17の左側に示した第
1の制御システムでは、制御システムは、回転基板のスキャンに基づいて、スキャン時の
残留(未補正)速度誤差を測定し、補償補正率を計算し、補償補正率を用いて補償係数を
設定(又は調節)してスキャン結果における速度誤差を減らすことができる。第1の制御
システムは、速度誤差を除去(又は他の形で低下)する閉鎖ループ制御システムであるこ
とができる。図17の右側に示した第2の制御システムでは、制御システムは、基板に対
するスキャンの幾何学及び相対位置についての知識に基づいて、予想速度勾配を直接計算
(又は予測)し、その予想勾配をシステムが除去するように設定(又は調節)することが
できる。
共通直線運動を用いる多ヘッド撮像
本明細書に記載のシステム及び方法は、複数の撮像ヘッドを用いることができ、各撮像
ヘッドは本明細書に記載の基板上の異なる位置の撮像を担当する。例えば、本明細書に記
載のように、第1の撮像ヘッドが、第1の撮像路に沿って基板を撮像することができる。
第1の撮像路は、第1のシリーズの(1又はそれ以上の)環、第1のシリーズの(1又は
それ以上の)螺旋、又は異なる第1の撮像路を含むことができる。第2、第3、第4、第
5、第6、第7、第8、第9若しくは第10の撮像ヘッドは、第2、第3、第4、第5、
第6、第7、第8、第9若しくは第10の撮像路に沿って基板を撮像することができる。
第2、第3、第4、第5、第6、第7、第8、第9若しくは第10の撮像路は、第2、第
3、第4、第5、第6、第7、第8、第9若しくは第10のシリーズの環、第2、第3、
第4、第5、第6、第7、第8、第9若しくは第10の螺旋、又は異なる第2、第3、第
4、第5、第6、第7、第8、第9若しくは第10の撮像路を含むことができる。撮像路
又はスキャン路は、基板上又はサンプル上の撮像路又はスキャン路であることができる。
そのような多ヘッド撮像システム及び方法は、基板の撮像速度を高め、及び/又は基板
を撮像するのに必要となり得る時間量を低下させることができる。場合により、例えば撮
像ヘッドのそれぞれの動きを独立に制御することで、多撮像ヘッドは基板に対して独立に
動くことができる。
撮像ヘッドのそれぞれが基板に関して単一の直線運動を共有するように、撮像ヘッドの
それぞれに対して基板を動かすことによって、撮像ヘッドの必要な動きを減らすことがで
きる。そのような改善は、基板の中心からの異なる初期距離(例えば、半径方向距離)に
各スキャンヘッドを配置し、基板の中心からのスキャンヘッドの初期距離によって決まる
異なるスキャン速度で各スキャンヘッドを操作することによって達成することができる。
その単一共有直線運動は、線形ベクトルに沿ったものであることができる。例えば、その
単一共有直線運動によって、1又はそれ以上のスキャンヘッドの径方向運動(例えば、回
転の軸を通って進む運動)又は非半径方向運動(例えば、回転の軸を通って進まない運動
)となり得る。撮像ヘッドは、基板の回転の軸の同じ側で、又は基板の回転の軸の反対側
で動作し得る。1又はそれ以上のヘッドの非放射方向直線運動の場合、回転の軸に対する
角度変化のために、各撮像ヘッドのスキャン方向は回転し得る。そのような回転は、逆方
向回転(例えば、プリズムを用いて)によって補償されて、各撮像ヘッドについて固定ス
キャン方向が可能となり得る。
図18Aは、基板の回転の軸の同じ側にある2つの撮像ヘッドに対する基板の動きを示
す図である。基板310は、本明細書に記載のいずれかの基板であることができる。第1
の撮像ヘッド1005は、本明細書に記載のいずれかの第1の撮像ヘッドと同様であるこ
とができる。第2の撮像ヘッド1015は、本明細書に記載のいずれかの第2の撮像ヘッ
ドと同様であることができる。最初の時点で、第1の撮像ヘッド1005及び第2の撮像
ヘッド1015は、基板の回転(305)の軸の同じ側にあることで、第1の撮像ヘッド
1005が基板の回転時に第1の撮像路1010をトレースし、第2の撮像ヘッド101
5が前記基板の回転時に第2の撮像路1020をトレースすることができる。基板は、第
1及び第2の撮像ヘッドに対する直線の半径方向1810に動くように構成されているこ
とができる。従って、第1及び第2の撮像路は、経時的に基板に対する位置を変えること
ができる。
図18Bは、基板の回転の軸の反対側にある2つの撮像ヘッドに対する基板の動きを示
す図である。図18Aと比較すると、最初の時点で、第1の撮像ヘッド1005及び第2
の撮像ヘッド1015は、基板の回転(305)の軸の反対側にあることで、基板の回転
時に第1の撮像ヘッド1005が第1の撮像路1010をトレースし、及び基板の回転時
に第2の撮像ヘッド1015が第2の撮像路1020をトレースするようになることがで
きる。基板は、第1及び第2の撮像ヘッドに対して直線の半径方向1810で動くように
構成されていることができる。従って、第1及び第2の撮像路は、経時的に基板に対する
位置を変えることができる。
図18Cは、三つの撮像ヘッドに対する基板の動きを示す図である。第3の撮像ヘッド
1025は、本明細書に記載のいずれかの第3の撮像ヘッドと同様であることができる。
最初の時点で、第1の撮像ヘッド1005は、基板の回転(305)の軸の一方の側にあ
ることができ、第2の撮像ヘッド1015及び第3の撮像ヘッド1025は、基板の回転
の軸の反対側にあることができ、それによって、基板の回転時に第1の撮像ヘッド100
5が第1の撮像路1010をトレースし、基板の回転時に第2の撮像ヘッド1015が第
2の撮像路1020をトレースし、基板の回転時に第3の撮像ヘッド1025が第3の撮
像路1030をトレースする。基板は、第1、第2及び第3の撮像ヘッドに対して直線の
半径方向1810で動くように構成されていることができる。従って、第1、第2及び第
3の撮像路は、経時的に基板に対する位置を変えることができる。
図18Dは、四つの撮像ヘッドに対する基板の動きを示す図である。第4の撮像ヘッド
1035は、本明細書に記載のいずれかの第4の撮像ヘッドと同様であることができる。
最初の時点で、第1の撮像ヘッド1005及び第4の撮像ヘッド1035は、基板の回転
(305)の軸の一方の側にあることができ、第2の撮像ヘッド1015及び第3の撮像
ヘッド1025は基板の回転の軸の反対側にあることができて、それにより基板の回転時
に第1の撮像ヘッド1005が第1の撮像路1010をトレースし、基板の回転時に第2
の撮像ヘッド1015が第2の撮像路1020をトレースし、第3の撮像ヘッド1025
が第3の撮像路1030をトレースし、基板の回転時に第4の撮像ヘッド1025が第4
の撮像路1030をトレースする。基板は、第1、第2、第3及び第4の撮像ヘッドに対
して直線の半径方向1810で動くように構成されていることができる。従って、第1、
第2、第3及び第4の撮像路は、経時的に基板に対する位置を変えることができる。
図19Aは、基板の回転の軸の同じ側にある2つの撮像ヘッドの連続環状路を示す図で
ある。最初の時点で、前記第1の撮像ヘッド(図19Aでは描いていない)及び第2の撮
像ヘッド(図19Aでは描いていない)は、基板310の回転(305)の軸の同じ側に
あることができ、それによって前記基板の回転時に第1の時間点で前記第1の撮像ヘッド
が第1の撮像路1010aをトレースし、前記基板の回転時に前記第1の時間点で第2の
撮像ヘッドが第2の撮像路1020aをトレースする。例えば、前記2つの撮像ヘッドが
、図18Aでのように位置し、構成することができる。第1及び第2の撮像ヘッドに対し
て直線の半径方向1810に動きながら、前記基板の回転時に第1及び第2の撮像ヘッド
が一連の撮像路をトレースすることができる。例えば、第1及び第2の撮像ヘッドが基板
の回転の軸の同じ側にある場合、前記第1の撮像ヘッドが第2の時間点で撮像路1010
bを、第3の時間点で撮像路1010cを、及び第4の時間点で撮像路1010dをトレ
ースすることができ、第2の撮像路が第2の時間点で撮像路1020bを、第3の時間点
で撮像路1020cを、第4の時間点で撮像路1020dをトレースすることができる。
第1及び第2の撮像ヘッドが回転の軸の同じ側にある場合、一連の撮像路{1010a、
1010b、1010c、1010d}及び{1020a、1020b、1020c、1
020d}は、基板に関して同じ方向に進み得る。例えば、図19Aに描いたように、一
連の撮像路{1010a、1010b、1010c、1010d}及び{1020a、1
020b、1020c、1020d}は両方とも、基板の中心に向かう方向に進み得る。
図19Bは、基板の回転の軸の反対側にある2つの撮像ヘッドの連続環状路を示す図で
ある。図19Aと比較すると、最初の時点で、前記第1の撮像ヘッド(図19Bでは描い
ていない)及び第2の撮像ヘッド(図19Bでは描いていない)は、基板の回転(305
)の軸の反対側にあることができ、それによって前記基板の回転時に第1の時間点で前記
第1の撮像ヘッドが第1の撮像路1010aをトレースし、前記基板の回転時に前記第1
の時間点で第2の撮像ヘッドが第2の撮像路1020aをトレースする。例えば、前記2
つの撮像ヘッドが、図18Bでのように位置し、構成することができる。第1及び第2の
撮像ヘッドに対して直線の半径方向1810に動きながら、それらヘッドのうちの一方が
中心軸に向かって動き、他方のヘッドが中心軸から離れて動き、前記基板の回転時に第1
及び第2の撮像ヘッドそれぞれが一連の撮像路をトレースする。例えば、第1及び第2の
撮像ヘッドが基板の回転の軸の反対側にある場合、前記第1の撮像ヘッドが第2の時間点
で撮像路1010bを、第3の時間点で撮像路1010cを、及び第4の時間点で撮像路
1010dをトレースすることができ、第2の撮像路が第2の時間点で撮像路1020b
を、第3の時間点で撮像路1020cを、第4の時間点で撮像路1020dをトレースす
ることができる。第1及び第2の撮像ヘッドが回転の軸の反対側にある場合、一連の撮像
路{1010a、1010b、1010c、1010d}及び{1020a、1020b
、1020c、1020d}は、基板に関して反対方向に進み得る。例えば、図19Bに
描いたように、一連の撮像路{1010a、1010b、1010c、1010d}は基
板の中心に向かう方向に進み得るが、{1020a、1020b、1020c、1020
d}は、基板の中心から離れる方向に進み得る。
図19Cは、基板の回転の軸の同じ側にある2つの撮像ヘッドの互い違い環状路を示す
図である。最初の時点で、前記第1の撮像ヘッド(図19Cでは描いていない)及び第2
の撮像ヘッド(図19Cでは描いていない)は、基板310の回転(305)の軸の同じ
側にあることができ、それによって前記基板の回転時に第1の時間点で前記第1の撮像ヘ
ッドが第1の撮像路1010aをトレースし、前記基板の回転時に前記第1の時間点で第
2の撮像ヘッドが第2の撮像路1020aをトレースする。第1及び第2の撮像ヘッドに
対して直線の半径方向1810に動きながら、前記基板の回転時に第1及び第2の撮像ヘ
ッドが一連の撮像路をトレースすることができる。例えば、第1及び第2の撮像ヘッドが
基板の回転の軸の同じ側にある場合、前記第1の撮像ヘッドが第2の時間点で撮像路10
10bを、第3の時間点で撮像路1010cを、及び第4の時間点で撮像路1010dを
トレースすることができ、第2の撮像路が第2の時間点で撮像路1020bを、第3の時
間点で撮像路1020cを、第4の時間点で撮像路1020dをトレースすることができ
る。前記一連の撮像路{1010a、1010b、1010c、1010d}及び{10
20a、1020b、1020c、1020d}が互い違いになっていることができ、そ
れによって、基板の中心に向かう又はそれから離れる連続撮像路が、交互の撮像ヘッドに
よってトレースされる。第1及び第2の撮像ヘッドが回転の軸の同じ側にある場合、一連
の撮像路{1010a、1010b、1010c、1010d}及び{1020a、10
20b、1020c、1020d}は、基板に関して同じ方向に進み得る。例えば、図1
9Cに描いたように、一連の撮像路{1010a、1010b、1010c、1010d
}及び{1020a、1020b、1020c、1020d}は両方とも、基板の中心に
向かう方向に進み得る。
図19Dは、基板の回転の軸の反対側にある2つの撮像ヘッドの互い違い環状路を示す
図である。最初の時点で、前記第1の撮像ヘッド(図19Dでは描いていない)及び第2
の撮像ヘッド(図19Dでは描いていない)は、基板310の回転(305)の軸の反対
側にあることができ、それによって前記基板の回転時に第1の時間点で前記第1の撮像ヘ
ッドが第1の撮像路1010aをトレースし、前記基板の回転時に前記第1の時間点で第
2の撮像ヘッドが第2の撮像路1020aをトレースする。第1及び第2の撮像ヘッドに
対して直線の半径方向1810に動きながら、それらヘッドのうちの一方が中心軸に向か
って動き、他方のヘッドが中心軸から離れて動き、前記基板の回転時に第1及び第2の撮
像ヘッドがそれぞれ、一連の撮像路をトレースする。例えば、第1及び第2の撮像ヘッド
が基板の回転の軸の反対側にある場合、前記第1の撮像ヘッドが第2の時間点で撮像路1
010bを、第3の時間点で撮像路1010cを、及び第4の時間点で撮像路1010d
をトレースすることができ、第2の撮像路が第2の時間点で撮像路1020bを、第3の
時間点で撮像路1020cを、第4の時間点で撮像路1020dをトレースすることがで
きる。前記一連の撮像路{1010a、1010b、1010c、1010d}及び{1
020a、1020b、1020c、1020d}が互い違いになっていることができ、
それによって、基板の中心に向かう又はそれから離れる連続撮像路が、交互の撮像ヘッド
によってトレースされる。第1及び第2の撮像ヘッドが回転の軸の反対側にある場合、一
連の撮像路{1010a、1010b、1010c、1010d}及び{1020a、1
020b、1020c、1020d}は、基板に関して反対方向に進み得る。例えば、図
19Dに描いたように、一連の撮像路{1010a、1010b、1010c、1010
d}は基板の中心に向かう方向に進み得るが、一連の撮像路{1020a、1020b、
1020c、1020d}は、基板の中心から離れる方向に進み得る。
図20は、基板に対するヘッドの非半径方向運動による撮像ヘッドの回転スキャン方向
を示す図である。例えば、ヘッドは、基板に対して方向316(中心軸を通らない)に沿
って動いていることができる。最初の時点で、前記第1の撮像ヘッド(図20では描いて
いない)又は第2の撮像ヘッド(図20では描いていない)は、基板310の縦軸315
から軸外に位置し得る。そのような場合、第1又は第2の撮像ヘッドは、基板が第1の又
は第2の撮像ヘッドに対して動くにつれて方向を変える基板に対する接線速度を有し得る
。例えば、図20で描いたように、第2の撮像ヘッドは、撮像路1020aをトレースし
ながら基板に対する接線速度ベクトル2020a及び撮像路1020cをトレースしなが
ら基板に対する接線速度ベクトル2020bを有し得る。図20に示したように、接線速
度ベクトル2020a及び2020bは、実質的に異なる方向に向かい得る。そのような
効果は、前記第1の撮像ヘッドが一連の撮像路{1010a、1010b、1010c、
1010d}をトレースする時、又は第2の撮像ヘッドが一連の撮像路{1020a、1
020b、1020c、1020d}をトレースする時に、撮像フィールドの回転として
現れ得る。
撮像フィールドのそのような回転は、その撮像フィールドを逆回転させることによって
補償され得る。例えば、撮像フィールドを、プリズムシステム、例えばデルタローテータ
ープリズム(delta rotator prism)、シュミットローテーター、又
はダブプリズムを用いて逆回転させることができる。或いは若しくはさらに、前記補償は
、本明細書に記載のような1又はそれ以上のミラー又は他の光学素子(例えば、ビームス
プリッタ(例えば、ダイクロイックミラー))を用いることで行うことができる。或いは
若しくはさらに、前記補償は、光学ヘッドにある1又はそれ以上のセンサを回転させるこ
とで行うことができる。
図21は、分析物検出又は分析方法2100の1例についてのフローチャートを示す図
である。第1の操作2110で、方法2100は、中心軸を中心にして開放基板を回転さ
せることを含むことができ、当該開放基板はその上に固定化された分析物のアレイを有す
る。
第2の操作2120では、方法2100は、複数のプローブを有する溶液を中心軸近く
の領域に送って、その溶液を開放基板に送ることを含むことができる。
第3の操作2130では、方法2100は、開放基板を横切って溶液をディスペンスす
ることで(例えば、少なくとも遠心力によって)、複数のプローブの少なくとも一つが固
定化分析物のうちの少なくとも一つに結合して、結合プローブを形成することを含むこと
ができる。
第4の操作2140では、方法2100は、開放基板の回転時に、同時に、第1の検出
器を用いて、第1のセットの1又はそれ以上のスキャン路に沿った開放基板の第1のスキ
ャンを行い、第2の検出器を用いて、第2のセットの1又はそれ以上のスキャン路に沿っ
た開放基板の第2のスキャンを行うことを含むことができる。第1のセットの1又はそれ
以上のスキャン路及び第2のセットの1又はそれ以上のスキャン路は異なっていても良い
。第1の検出器又は第2の検出器は、結合プローブからの少なくとも1つのシグナルを検
出し得る。第1の検出器は、中心軸に対して第1の半径方向位置に配置されていても良い
。第2の検出器は、中心軸に対して第2の半径方向位置に配置されていても良い。第1の
検出器及び第2の検出器は、同じ線形ベクトルに沿って中心軸に関して相対運動を行うこ
とで、それぞれ、前記第1のセットの1又はそれ以上のスキャン路及び第2のセットの1
又はそれ以上のスキャン路を生じさせることができる。
第1の検出器及び第2の検出器は、異なるスキャン速度で動作することができる。例え
ば、前記第1の検出器及び第2の検出器の異なるスキャン速度は、それぞれ、前記第1の
半径方向位置及び第2の半径方向位置の関数であることができる。或いは、検出器は、固
定ラインレートで動作することができる。例えば、アルゴリズム的処理が、内側半径方向
位置にある光学ヘッドのオーバーサンプリングをなくすことができる。
第1のセットの1又はそれ以上のスキャン路は、異なる半径を有する1又はそれ以上の
環状スキャン路を含むことができる。例えば、前記第1のセットの1又はそれ以上のスキ
ャン路は、少なくとも約1、少なくとも約2、少なくとも約3、少なくとも約4、少なく
とも約5、少なくとも約6、少なくとも約7、少なくとも約8、少なくとも約9、少なく
とも約10、少なくとも約20、少なくとも約30、少なくとも約40、少なくとも約5
0、少なくとも約60、少なくとも約70、少なくとも約80、少なくとも約90、少な
くとも約100個又はそれより多い環状スキャン路、最大約100、最大約90、最大約
80、最大約70、最大約60、最大約50、最大約40、最大約30、最大約20、最
大約10、最大約9、最大約8、最大約7、最大約6、最大約5、最大約4、最大約3、
最大約2又は最大約1個の環状スキャン路、又は前出の値のいずれか二つによって規定さ
れる範囲内である数の環状スキャン路を含むことができる。
第2のセットの1又はそれ以上のスキャン路は、異なる半径を有する1又はそれ以上の
環状スキャン路を含むことができる。例えば、第2のセットの1又はそれ以上のスキャン
路は、少なくとも約1、少なくとも約2、少なくとも約3、少なくとも約4、少なくとも
約5、少なくとも約6、少なくとも約7、少なくとも約8、少なくとも約9、少なくとも
約10、少なくとも約20、少なくとも約30、少なくとも約40、少なくとも約50、
少なくとも約60、少なくとも約70、少なくとも約80、少なくとも約90、少なくと
も約100個又はそれより多い環状スキャン路、最大約100、最大約90、最大約80
、最大約70、最大約60、最大約50、最大約40、最大約30、最大約20、最大約
10、最大約9、最大約8、最大約7、最大約6、最大約5、最大約4、最大約3、最大
約2、又は最大約1個の環状スキャン路、又は前出の値のいずれか二つによって規定され
る範囲内である数の環状スキャン路を含むことができる。
第1のセットの1又はそれ以上のスキャン路は、1又はそれ以上の螺旋形スキャン路を
含むことができる。例えば、前記第1のセットの1又はそれ以上のスキャン路は、少なく
とも約1、少なくとも約2、少なくとも約3、少なくとも約4、少なくとも約5、少なく
とも約6、少なくとも約7、少なくとも約8、少なくとも約9、少なくとも約10、少な
くとも約20、少なくとも約30、少なくとも約40、少なくとも約50、少なくとも約
60、少なくとも約70、少なくとも約80、少なくとも約90、少なくとも約100個
又はそれより多い螺旋形スキャン路、最大約100、最大約90、最大約80、最大約7
0、最大約60、最大約50、最大約40、最大約30、最大約20、最大約10、最大
約9、最大約8、最大約7、最大約6、最大約5、最大約4、最大約3、最大約2、又は
最大約1個の螺旋形スキャン路、又は前出の値のいずれか二つによって規定される範囲内
である数の螺旋形スキャン路を含むことができる。
第2のセットの1又はそれ以上のスキャン路は、1又はそれ以上の螺旋形スキャン路を
含むことができる。例えば、第2のセットの1又はそれ以上のスキャン路は、少なくとも
約1、少なくとも約2、少なくとも約3、少なくとも約4、少なくとも約5、少なくとも
約6、少なくとも約7、少なくとも約8、少なくとも約9、少なくとも約10、少なくと
も約20、少なくとも約30、少なくとも約40、少なくとも約50、少なくとも約60
、少なくとも約70、少なくとも約80、少なくとも約90、少なくとも約100個又は
それより多い螺旋形スキャン路、最大約100、最大約90、最大約80、最大約70、
最大約60、最大約50、最大約40、最大約30、最大約20、最大約10、最大約9
、最大約8、最大約7、最大約6、最大約5、最大約4、最大約3、最大約2、又は最大
約1個の螺旋形スキャン路、又は前出の値のいずれか二つによって規定される範囲内であ
る数の螺旋形スキャン路を含むことができる。
同一の線形ベクトルは、中心軸を通って半径方向であることができる。同一の線形ベク
トルは、半径方向でなくても良い(例えば、中心軸を通らない)。当該方法はさらに、中
心軸に対して異なる半径方向位置で異なる区域の速度差(例えば、図20に関して本明細
書に記載のように接線速度差)を補償することを含むことができる。前記第1のセットの
1又はそれ以上のスキャン路のうちの所与のスキャン路は、異なる区域を含むことができ
る。第2のセットの1又はそれ以上のスキャン路のうちの所与のスキャン路は、異なる区
域を含むことができる。その補償は、1又はそれ以上のプリズム、例えば1又はそれ以上
のデルタローテータープリズム(delta rotator prism)、シュミッ
トローテーター又はダブプリズムを用いることを含むことができる。
第1の検出器及び第2の検出器は、相対運動中、実質的に静止していることができる。
開放基板は、相対運動中、回転運動及び移動運動の両方を行い得る。第1の検出器及び第
2の検出器は、相対運動中、動くことができる。開放基板は前記第1の検出器及び第2の
検出器に対して回転運動することができ、前記第1の検出器及び第2の検出器は中心軸に
対して直線運動することができる。第1の検出器は開放基板の回転時に相対運動すること
ができる。第2の検出器は開放基板の回転時に相対運動することができる。第1の検出器
は、開放基板が実質的に静止している時には相対運動することができる。第2の検出器は
、開放基板が実質的に静止している特には相対運動することができる。
前記第1のセットの1又はそれ以上のスキャン路のうちの所与のスキャン路が、相対運
動時にスキャンされる区域を含むことができる。第2のセットの1又はそれ以上のスキャ
ン路のうちの所与のスキャン路が、相対運動時にスキャンされる区域を含むことができる
。前記第1のセットの1又はそれ以上のスキャン路のうちの所与のスキャン路が、相対運
動時にスキャンされる区域を含まないことができる。第2のセットの1又はそれ以上のス
キャン路のうちの所与のスキャン路が、相対運動時にスキャンされる区域を含まないこと
ができる。
第1の検出器及び第2の検出器は、中心軸に対して同じ角度位置を有することができる
。第1の検出器及び第2の検出器は、中心軸に対して異なる角度位置を有することができ
る。第1の検出器及び第2の検出器は、中心軸に対して反対の角度位置(例えば、180
°分離を有する)を有することができる。
第1の検出器は、中心軸に対して少なくとも約1゜、少なくとも約2°、少なくとも約
3°、少なくとも約4°、少なくとも約5°、少なくとも約6°、少なくとも約7°、少
なくとも約8°、少なくとも約9°、少なくとも約10°、少なくとも約15°、少なく
とも約20°、少なくとも約25°、少なくとも約30°、少なくとも約35°、少なく
とも約40°、少なくとも約45°、少なくとも約50°、少なくとも約55°、少なく
とも約60°、少なくとも約65°、少なくとも約70°、少なくとも約75°、少なく
とも約80°、少なくとも約81°、少なくとも約82°、少なくとも約83°、少なく
とも約84°、少なくとも約85°、少なくとも約86°、少なくとも約87°、少なく
とも約88°、少なくとも約89°、又はそれより大きい、中心軸に対して最大約89°
、最大約88°、最大約87°、最大約86°、最大約85°、最大約84°、最大約8
3°、最大約82°、最大約81°、最大約80°、最大約75°、最大約70°、最大
約65°、最大約60°、最大約55°、最大約50°、最大約45°、最大約40°、
最大約35°、最大約30°、最大約25°、最大約20°、最大約15°、最大約10
°、最大約9°、最大約8°、最大約7°、最大約6°、最大約5°、最大約4°、最大
約3°、最大約2°、最大約1゜又はそれより小さい角度位置、又は前出の値のいずれか
二つによって規定される範囲内である中心軸に対する角度位置を有することができる。
第2の検出器は、中心軸に対して少なくとも約1゜、少なくとも約2°、少なくとも約
3°、少なくとも約4°、少なくとも約5°、少なくとも約6°、少なくとも約7°、少
なくとも約8°、少なくとも約9°、少なくとも約10°、少なくとも約15°、少なく
とも約20°、少なくとも約25°、少なくとも約30°、少なくとも約35°、少なく
とも約40°、少なくとも約45°、少なくとも約50°、少なくとも約55°、少なく
とも約60°、少なくとも約65°、少なくとも約70°、少なくとも約75°、少なく
とも約80°、少なくとも約81°、少なくとも約82°、少なくとも約83°、少なく
とも約84°、少なくとも約85°、少なくとも約86°、少なくとも約87°、少なく
とも約88°、少なくとも約89°又はそれより大きい、中心軸に対して最大約89°、
最大約88°、最大約87°、最大約86°、最大約85°、最大約84°、最大約83
°、最大約82°、最大約81°、最大約80°、最大約75°、最大約70°、最大約
65°、最大約60°、最大約55°、最大約50°、最大約45°、最大約40°、最
大約35°、最大約30°、最大約25°、最大約20°、最大約15°、最大約10°
、最大約9°、最大約8°、最大約7°、最大約6°、最大約5°、最大約4°、最大約
3°、最大約2°、最大約1゜若しくはそれより小さい角度位置、又は前出の値のいずれ
か二つによって規定される範囲内である中心軸に対する角度位置を有することができる。
前記第1のセットの1又はそれ以上のスキャン路のうちの所与のスキャン路は、第1の
区域及び第2の区域を含むことができる。第1の区域及び第2の区域は、中心軸に対して
開放基板の異なる半径方向位置にあることができる。第1の区域及び第2の区域は、第1
の検出器によって空間的に分けられていることができる。前記第2のセットの1又はそれ
以上のスキャン路のうちの所与のスキャン路は、第1の区域及び第2の区域を含むことが
できる。第1の区域及び第2の区域は、中心軸に対して開放基板の異なる半径方向位置に
あることができる。第1の区域及び第2の区域は、第2の検出器によって空間的に分けら
れていることができる。
コンピュータ制御システム
本開示は、本開示の方法を実行するようプログラムされたコンピュータ制御システムを
提供する。図1は、核酸サンプルの配列を行うようにプログラムその他の形で構成されて
いるコンピュータシステム101を示す図である。コンピュータシステム101は、本開
示の方法及びシステムの各種態様を制御することができる。
コンピュータシステム101は、中央処理装置(CPU、本明細書では「処理装置」及
び「コンピュータ処理装置」とも称される)105を含み、それはシングルコア若しくは
マルチコア処理装置、又は並列処理のための複数の処理装置であることができる。コンピ
ュータシステム101は、メモリー又はメモリー場所110(例えば、ランダムアクセス
メモリー、リードオンリーメモリー、フラッシュメモリー)、電子記憶装置115(例え
ば、ハードディスク)、1又はそれ以上の他のシステムと通信するための通信インターフ
ェース120(例えば、ネットワークアダプター)、及び周辺機器125、例えばキャッ
シュ、他のメモリー、データストレージ及び/又は電子ディスプレイアダプター類も含む
。メモリー110、記憶装置115、インターフェース120及び周辺機器125は、コ
ミュニケーション・バス(実線)、例えばマザーボードを介してCPU 105と通信し
ている。記憶装置115は、データを記憶するためのデータ記憶装置(又はデータリポジ
トリ)であることができる。コンピュータシステム101は、通信インターフェース12
0の支援によりコンピュータネットワーク(「ネットワーク」)130に動作可能に連結
されていることができる。ネットワーク130は、インターネット、インターネット及び
/又はエクストラネット、又はインターネットと通信しているイントラネット及び/又は
エクストラネットであることができる。ネットワーク130は、場合により、電気通信及
び/又はデータネットワークである。ネットワーク130は、1又はそれ以上のコンピュ
ータサーバーを含むことができ、それによって、分散コンピューティング、例えばクラウ
ドコンピューティングが可能となり得る。ネットワーク130は、場合により、コンピュ
ータシステム101によって支援されて、ピアツーピアネットワークを実行することがで
き、それによって、コンピュータシステム101に接続された機器がクライアント又はサ
ーバーとして動作することが可能となり得る。
CPU105は、プログラム又はソフトウェアで具現化することができる一連の機械可
読命令を実行することができる。命令は、メモリー場所、例えばメモリー110に記憶さ
せることができる。命令はCPU105に出されることができ、それは次に、本開示の方
法を実行するようにCPU105をプログラム又は他の形で構成することができる。CP
U105によって行われる操作の例には、フェッチ、デコード、実行、及びライトバック
などがあり得る。
CPU105は、回路、例えば集積回路の一部であることができる。システム101の
1又はそれ以上の他のコンポーネントが回路に含まれていることができる。場合により、
その回路は、特定用途向け集積回路(ASIC)である。
記憶装置115は、ファイル、例えばドライバー、ライブラリ及び保存プログラムを記
憶することができる。記憶装置115は、ユーザーデータ、例えば、ユーザー選択及びユ
ーザープログラムを記憶することができる。コンピュータシステム101は場合により、
コンピュータシステム101に対して外部である、例えばイントラネット又はインターネ
ットを介してコンピュータシステム101と連絡しているリモート・サーバー上にある1
又はそれ以上の追加のデータ記憶装置を含むことができる。
コンピュータシステム101は、ネットワーク130を介して1又はそれ以上のリモー
トコンピュータシステムと連絡していることができる。例えば、コンピュータシステム1
01は、ユーザーのリモートコンピュータシステムと連絡していることができる。リモー
トコンピュータシステムの例には、パーソナルコンピュータ(例えば、ポータブルPC)
、スレート若しくはタブレットPC(例えば、Apple(登録商標)iPad(登録商
標)、Samsung(登録商標)Galaxy Tab)、電話、スマートフォン(例
えば、Apple(登録商標)iPhone(登録商標)、アンドロイド対応機器、Bl
ackberry(登録商標))、又は携帯情報端末などがある。ユーザーは、ネットワ
ーク130を介してコンピュータシステム101にアクセスすることができる。
本明細書に記載の方法は、コンピュータシステム101の電子記憶場所に、例えばメモ
リー110又は電子記憶装置115に記憶された機械(例えば、コンピュータ処理装置)
実行可能コードによって実行することができる。機械実行可能コード若しくは機械可読コ
ードは、ソフトウェアの形で提供することができる。使用時に、そのコードは処理装置1
05によって実行することができる。場合により、そのコードは、記憶装置115から読
み出し、処理装置105によって即時にアクセスできるようにメモリー110に記憶させ
ることができる。状況によっては、電子記憶装置115を除外することができ、機械実行
可能命令をメモリー110に記憶させる。
そのコードは、コードを実行するように調整されたプロセッサを有する機械によって使
用するために、プリコンパイル及び構成することができるか、実行時間中にコンパイルす
ることができる。当該コードは、そのコードがプレコンパイル方式又はアズコンパイルド
(as-compiled)方式で実行することを可能にするように選択可能なプログラ
ミング言語で供給され得る。
コンピュータシステム101など、本明細書で提供されるシステム及び方法の態様は、
プログラミングに具体化することができる。本技術の各種態様は、代表的には機械(若し
くはプロセッサ)実行可能コード及び/又はある種の機械可読媒体に保持された若しくは
その中に具体化された関連データの形態をとる、「製品」又は「製造品」と考えられても
よい。機械実行可能コードは、メモリ(例えば、読み出し専用メモリ、ランダムアクセス
メモリ、フラッシュメモリ)又はハードディスクなどの電子記憶装置に記憶され得る。「
記憶」タイプの媒体は、コンピュータ、プロセッサなどの有形メモリ、又は様々な半導体
メモリ、テープドライブ、ディスクドライブなどのその関連モジュールのいずれか又は全
てを含むことができ、これらは、ソフトウェアプログラミングのためにいつでも非一時的
記憶を提供し得る。ソフトウェアの全部又は一部は、ときに、インターネット又は他の様
々な電気通信ネットワークを通じて通信される場合がある。例えば、そのような通信は、
あるコンピュータ又はプロセッサから別のコンピュータ又はプロセッサへの、例えば、管
理サーバ又はホストコンピュータからアプリケーションサーバのコンピュータプラットフ
ォームへの、ソフトウェアのロードを可能にする場合がある。従って、ソフトウェア要素
を保持し得る別の種類の媒体は、ローカルデバイス間の物理的インタフェースに亘って、
有線及び光地上ネットワークを通じて、並びに、各種エアリンクに亘って使用されている
ような光波、電波及び電磁波を含む。このような波を保持する物理的要素、例えば有線又
は無線リンク、光リンクなどもまた、ソフトウェアを保持する媒体と見なされる場合があ
る。本明細書で使用される場合、非一時的で有形の「記憶」媒体に限定されていない限り
、コンピュータ又は機械「可読媒体」などの用語は、実行のためにプロセッサに命令を与
えることに関与するあらゆる媒体を指す。
従って、コンピュータ実行可能コードなどの機械可読媒体は、有形記憶媒体、搬送波媒
体、又は物理的伝送媒体を含むがこれらに限定されない、多くの形態を取り得る。不揮発
性の記憶媒体としては、例えば、図面に示されるデータベースなどを実装するために使用
され得るものなど、コンピュータなどの記憶装置のいずれかなどの光ディスク又は磁気デ
ィスクが挙げられる。揮発性の記憶媒体としては、そのようなコンピュータプラットフォ
ームのメインメモリなどのダイナミックメモリが挙げられる。有形の伝送媒体としては、
同軸ケーブル;コンピュータシステム内のバスを構成するワイヤを含む、銅線及び光ファ
イバーが挙げられる。搬送波伝送媒体は、電気信号若しくは電磁信号の形態、又は、無線
(RF)データ通信及び赤外線(IR)データ通信時に発生するものなどの、音波若しく
は光波の形態を取り得る。従って、コンピュータ可読媒体の一般的な形態としては、例え
ばフロッピーディスク、フレキシブルディスク、ハードディスク、磁気テープ、あらゆる
他の磁気媒体、CD-ROM、DVD若しくはDVD-ROM、あらゆる他の光媒体、パ
ンチカード紙テープ、孔パターンを有するあらゆる他の物理的記憶媒体、RAM、ROM
、PROM及びEPROM、FLASH-EPROM、あらゆる他のメモリチップ若しく
はカートリッジ、データ若しくは命令を搬送する搬送波、そのような搬送波を搬送するケ
ーブル若しくはリンク、又は、コンピュータがプログラミングコード及び/若しくはデー
タを読み取ることができるあらゆる他の媒体などがある。これらの形態のコンピュータ可
読媒体の多くが、実行のために、1又はそれ以上の命令の1又はそれ以上のシーケンスを
プロセッサに搬送することに関与し得る。
コンピュータシステム101は、例えば、ユーザーに核酸配列決定情報を提供するため
のユーザーインターフェース(UI)140を含む、電子ディスプレイ135を含むか又
はそれと通信していることが可能である。UIの例としては、グラフィカルユーザーイン
タフェース(GUI)及びウェブベースのユーザーインターフェースが挙げられるが、こ
れらに限定されるものではない。
本開示の方法及びシステムは、1又はそれ以上のアルゴリズムによって実現することが
できる。アルゴリズムは、中央処理装置105による実行時にソフトウェアによって実行
され得る。
以上、本明細書において、本発明の好ましい実施形態を示し、説明してきたが、そのよ
うな実施形態が例示のみを目的として提供されていることは、当業者には明らかであろう
。本明細書内で提供される具体例によって本発明が制限されるものではない。上記の明細
書を参照しながら本発明を説明したが、本明細書における実施形態についての記載及び説
明は、限定する意味のものであると解釈されるものではない。本発明から逸脱しない限り
において、当業者には多くの変形形態、変更及び置き換えが可能であろう。さらに、理解
すべき点として、本発明の全ての態様が、多様な条件及び可変要素によって決まる本明細
書に記載の具体的な描写、構成又は相対的割合に限定されるものではない。理解すべき点
として、本明細書に記載の発明の実施形態に対する各種代替形態を、本発明を実施する上
で用いることができる。従って、本発明がまた、そのような代替形態、修正、変形形態又
は均等物を網羅するものであることが想到される。添付の特許請求の範囲は、本発明の範
囲を定義するものであり、これらの特許請求の範囲及びそれらの均等物の範囲内の方法及
び構造がそれによって網羅されるものとする。

Claims (111)

  1. 生体分析物の処理方法であって、
    (a)該生体分析物を固定したアレイを含み、中心軸に対して回転可能である基板を提
    供する段階と、
    (b)前記基板の回転中に、複数のプローブを含む溶液を、前記基板の全体に前記生体
    分析物に接触するように導く段階であって、前記溶液が前記中心軸から離れる方向に沿っ
    て遠心力により導かれる段階と、
    (c)前記生体分析物を、前記複数のプローブのうちの少なくとも1つのプローブと前
    記生体分析物との間の反応を行うのに十分な条件にさらして、前記少なくとも1つのプロ
    ーブを前記生体分析物に結合させる段階と、
    (d)前記生体分析物に結合した前記少なくとも1つのプローブから1又はそれ以上の
    シグナルを検出することにより、前記生体分析物を分析する段階と、
    を含む方法。
  2. 前記生体分析物が核酸分子であり、前記生体分析物を分析する段階が、該核酸分子の配
    列を識別することを含む請求項1に記載の方法。
  3. 前記複数のプローブが複数のヌクレオチドである、請求項2に記載の方法。
  4. 段階(c)が、前記複数のヌクレオチドからの少なくとも1つのヌクレオチドを前記核
    酸分子に対して相補的である伸長鎖に組み込むのに十分な条件下で、前記核酸分子をプラ
    イマー伸長反応にさらすことを含む、請求項3に記載の方法。
  5. 段階(d)において、前記1又はそれ以上のシグナルが、前記少なくとも1つのヌクレ
    オチドの組み込みを示す、請求項4に記載の方法。
  6. 前記複数のヌクレオチドがヌクレオチド類縁体を含む、請求項3に記載の方法。
  7. 前記複数のヌクレオチドが第1の正準塩基型である、請求項3に記載の方法。
  8. 第2の正準塩基型のものであるさらなる複数のヌクレオチドを用いて段階(b)及び段
    階(c)を繰り返す段階をさらに含み、前記第2の正準塩基型が前記第1の正準塩基型と
    は異なる、請求項7に記載の方法。
  9. 前記複数のプローブが複数のオリゴヌクレオチド分子である、請求項2に記載の方法。
  10. 前記生体分析物が核酸分子であり、段階(c)が、前記少なくとも1つのプローブと前
    記核酸分子との間の相補性結合反応を行って、段階(d)において前記少なくとも1つの
    プローブと前記生体分析物との間の相同性の存在を識別することを含む、請求項1に記載
    の方法。
  11. 段階(d)において前記検出することが、前記基板の回転中に非線形経路に沿って前記
    アレイを連続的にスキャンするセンサを用いて行われる、請求項1に記載の方法。
  12. 段階(b)の前に、
    (i)前記基板が静止しているときに前記基板の上に前記溶液を与える段階と、
    (ii)前記基板を回転させて、前記アレイ全体に前記溶液を導く段階と、
    をさらに含む、請求項1に記載の方法。
  13. (i)段階(b)の前に前記基板を回転させる段階と、
    (ii)前記基板が回転している間、前記溶液を前記基板の上に与える段階と、をさら
    に含む、請求項1に記載の方法。
  14. 前記複数のプローブとは異なるさらなる複数のプローブを用いて、段階(b)~段階(
    d)を繰り返す段階をさらに含む、請求項1に記載の方法。
  15. 前記溶液の液粘度又は前記基板の回転速度が、前記アレイに隣接する前記溶液の層の所
    定の厚さを生じるように選択される、請求項1に記載の方法。
  16. 前記生体分析物が、前記アレイに固定されたビーズに結合される、請求項1に記載の方
    法。
  17. 前記溶液が、前記基板の前記中心軸に又は該中心軸の近くに向けられた1又はそれ以上
    のディスペンスノズルを用いて前記アレイに導かれる、請求項1に記載の方法。
  18. 前記アレイが、複数の個々にアドレス可能な位置を含み、前記生体分析物が、該複数の
    個々にアドレス可能な位置のうちの所与の個々にアドレス可能な位置に配置されている、
    請求項1に記載の方法。
  19. 前記アレイが、1又はそれ以上の付加的な生体分析物を該アレイに固定している、請求
    項1に記載の方法。
  20. 前記基板が、テクスチャ化されているか又はパターン化されている、請求項1に記載の
    方法。
  21. 前記1又はそれ以上のシグナルが1又はそれ以上の光学シグナルを含む、請求項1に記
    載の方法。
  22. 段階(d)において前記1又はそれ以上のシグナルを検出する前に、前記基板の回転を
    終了させる段階をさらに含む、請求項1に記載の方法。
  23. 段階(b)及び/又は段階(c)が、前記基板を第1の角速度で回転させながら実行さ
    れ、段階(d)が、前記基板を前記第1の角速度とは異なる第2の角速度で回転させなが
    ら実行される、請求項1に記載の方法。
  24. 前記基板が、前記中心軸に対して移動可能であり、段階(b)及び/又は段階(c)は
    、前記基板が前記中心軸の第1の位置にあるときに実行され、段階(d)は、前記基板が
    、前記中心軸の前記第1の位置とは異なる第2の位置にあるときに実行される、請求項1
    に記載の方法。
  25. 前記第1の位置において前記基板が第1の角速度で回転し、前記第2の位置において、
    前記基板が、前記第1の角速度と異なる第2の角速度で回転する、請求項24に記載の方
    法。
  26. 前記アレイが実質的に平らなアレイである、請求項1に記載の方法。
  27. 生体分析物の処理方法であって、
    (a)該生体分析物を固定した実質的に平らなアレイを含み、中心軸に対して回転可能
    である基板を提供する段階と、
    (b)複数のプローブを含む溶液を、前記基板の回転中に、前記実質的に平らなアレイ
    の全体に前記生体分析物に接触するように導く段階と、
    (c)前記生体分析物を、前記複数のプローブのうちの少なくとも1つのプローブと前
    記生体分析物との間の反応を行うのに十分な条件にさらして、前記少なくとも1つのプロ
    ーブを前記生体分析物に結合させる段階と、
    (d)前記生体分析物に結合した前記少なくとも1つのプローブから1又はそれ以上の
    シグナルを検出することにより、前記生体分析物を分析する段階と、
    を含む方法。
  28. 前記生体分析物が核酸分子であり、前記生体分析物を分析する段階が、前記核酸分子の
    配列を識別することを含む、請求項27に記載の方法。
  29. 段階(d)において前記検出することが、前記基板の回転中に非線形経路に沿って前記
    実質的に平らなアレイを連続的にスキャンするセンサを用いて行われる、請求項27に記
    載の方法。
  30. 前記実質的に平らなアレイが複数の個々にアドレス可能な位置を含み、前記生体分析物
    が、前記複数の個々にアドレス可能な位置のうちの所与の個々にアドレス可能な位置に配
    置される、請求項27に記載の方法。
  31. 生体分析物を分析するシステムであって、
    前記生体分析物を固定するように構成されたアレイを含み、中心軸に対して回転するよ
    うに構成された基板と、
    複数のプローブを含む溶液を前記アレイに与えるように構成された流体チャネルを含む
    液流ユニットであって、前記基板の回転中に、前記溶液が、前記中心軸から遠ざかる方向
    に沿って遠心力により導かれ、前記複数のプローブのうちの少なくとも1つのプローブを
    前記生体分析物に結合させるのに十分な条件下で該生体分析物に接触するようになってい
    る、液流ユニットと、
    前記アレイに光学的に接続され、前記生体分析物に結合した前記少なくとも1つのプロ
    ーブから1又はそれ以上のシグナルを検出するように構成された検出器と、
    前記液流ユニット及び前記検出器に動作可能に結合された1又はそれ以上のコンピュー
    タプロセッサであって、
    (i)前記溶液を流体チャネルを通って前記アレイに与えるように、前記液流ユニット
    に命令して、前記複数のプローブを含む前記溶液が、前記基板の回転中に、前記中心軸か
    ら遠ざかる方向に沿って遠心力により導かれ前記生体分析物に接触するようにし、
    (ii)前記検出器を用いて前記生体分析物に結合した前記少なくとも1つのプローブ
    から前記1又はそれ以上のシグナルを検出する、
    ように、個別に又は全体的にプログラムされている、1又はそれ以上のコンピュータプロ
    セッサと、
    を具備するシステム。
  32. 前記基板が前記中心軸に沿って移動可能である、請求項31に記載のシステム。
  33. 前記流体チャネルは、前記基板が前記中心軸に沿った第1の位置にあるときに前記溶液
    を与えるように構成されており、前記検出器は、前記基板が前記中心軸に沿った前記第1
    の位置とは異なる第2の位置にあるときに前記1又はそれ以上のシグナルを検出するよう
    に構成されている、請求項32に記載のシステム。
  34. 前記第1の位置において、前記基板が第1の角速度で回転可能であり、前記第2の位置
    において、前記基板が、前記第1の角速度とは異なる第2の角速度で回転可能である、請
    求項33に記載のシステム。
  35. 付加的な溶液を前記アレイに与えるように構成された付加的な流体チャネルをさらに具
    備し、前記流体チャネル及び前記付加的な流体チャネルが、前記流体チャネル及び前記付
    加的な流体チャネルの出口の上流において相互に流体的に分離されている、請求項31に
    記載のシステム。
  36. 前記基板に接触している流体に少なくとも部分的に浸漬されるよう構成され、前記検出
    器に光学的に接続された光学撮像対物レンズをさらに具備する、請求項31に記載のシス
    テム。
  37. 前記光学撮像対物レンズを囲み、前記流体の少なくとも一部を保持するように構成され
    た容器をさらに具備する、請求項36に記載のシステム。
  38. 前記流体チャネルが前記基板に接触しない、請求項31に記載のシステム。
  39. 前記アレイが実質的に平らなアレイである、請求項31に記載のシステム。
  40. 前記1又はそれ以上のコンピュータプロセッサは、前記基板の回転の前に、前記溶液を
    前記流体チャネルを通って前記アレイに与えるよう前記液流ユニットに命令するように、
    個別に又は全体的にプログラムされている、請求項31に記載のシステム。
  41. 前記1又はそれ以上のコンピュータプロセッサは、前記基板が回転させられているとき
    に、前記溶液を前記流体チャネルを通って前記アレイに与えるよう前記液流ユニットに命
    令するように、個別に又は全体的にプログラムされている、請求項31に記載のシステム
  42. 前記検出器は、前記基板の回転中に前記1又はそれ以上のシグナルを検出するように構
    成されている、請求項31に記載のシステム。
  43. 前記検出器は、前記基板の回転中に非線形経路に沿って前記アレイを連続的にスキャン
    するように構成されている、請求項42に記載のシステム。
  44. 前記検出器は、前記基板が回転していないときに、前記1又はそれ以上のシグナルを検
    出するように構成されている、請求項31に記載のシステム。
  45. 前記検出器が光学検出器であり、前記1又はそれ以上のシグナルが1又はそれ以上の光
    学シグナルである、請求項31に記載のシステム。
  46. 前記アレイが複数の個々にアドレス可能な位置を含む、請求項31に記載のシステム。
  47. 前記複数の個々にアドレス可能な位置が、個別に物理的にアクセス可能である、請求項
    46に記載のシステム。
  48. 前記基板が、テクスチャ化されているか又はパターン化されている、請求項31に記載
    のシステム。
  49. 前記基板を含む容器をさらに具備する、請求項31に記載のシステム。
  50. 前記容器の環境の温度又は湿度を制御するように構成された環境ユニットをさらに具備
    する、請求項49に記載のシステム。
  51. 前記検出器が、時間遅延積分(TDI)センサ又は疑似TDI急速フレームレートセン
    サを含む、請求項31に記載のシステム。
  52. 前記アレイに光学的に接続される付加的な検出器をさらに具備し、前記検出器及び前記
    付加的な検出器が、異なる複数の経路に沿って前記アレイをスキャンするように構成され
    ている、請求項31に記載のシステム。
  53. 前記異なる複数の経路が非線形である、請求項52に記載のシステム。
  54. 前記アレイと前記検出器との間において該アレイ及び該検出器に光学的に接続され、前
    記アレイの全体に光学倍率勾配を提供するよう構成された、1又はそれ以上の光学器、を
    さらに具備する、請求項31に記載のシステム。
  55. 前記光学倍率勾配がアナモルフィックである、請求項54に記載のシステム。
  56. 生体分析物分析システムであって、
    前記生体分析物を固定するように構成された実質的に平らなアレイを含み、中心軸に対
    して回転するように構成された基板と、
    前記実質的に平らなアレイに複数のプローブを含む溶液を与えるよう構成されている流
    体チャネルを含む液流ユニットであって、前記基板の回転中に、前記溶液は、前記実質的
    に平らなアレイの全体に導かれ前記複数のプローブのうちの少なくとも1つのプローブを
    前記生体分析物に結合させるのに十分な条件下において該生体分析物に接触するようにな
    っている液流ユニットと、
    前記実質的に平らなアレイに光学的に接続され、前記生体分析物に結合した前記少なく
    とも1つのプローブから1又はそれ以上のシグナルを検出するよう構成されている検出器
    と、
    前記液流ユニット及び前記検出器に動作可能に結合された1又はそれ以上のコンピュー
    タプロセッサであって、
    (i)前記溶液を前記流体チャネルを通って前記アレイに与えるように前記液流ユニッ
    トに命令して、前記複数のプローブを含む前記溶液が、前記基板の回転中に、前記実質的
    に平らなアレイの全体に導かれ、前記生体分析物に接触するようにし、
    (ii)前記検出器を用いて前記生体分析物に結合した前記少なくとも1つのプローブ
    から前記1又はそれ以上のシグナルを検出する、
    ように、個別に又は全体的にプログラムされている、1又はそれ以上のコンピュータプロ
    セッサと、
    を具備するシステム。
  57. 前記基板に接触する流体に少なくとも部分的に浸漬されるように構成され、前記検出器
    と光学的に接続される光学撮像対物レンズをさらに具備する、請求項56に記載のシステ
    ム。
  58. 前記検出器が、時間遅延積分(TDI)センサ又は疑似TDI急速フレームレートセン
    サを含む、請求項56に記載のシステム。
  59. 前記検出器が、前記基板の回転中に前記1又はそれ以上のシグナルを検出するように構
    成されている、請求項56に記載のシステム。
  60. 前記検出器が、前記基板の回転中に非線形経路に沿って前記アレイを連続的にスキャン
    するように構成されている、請求項59に記載のシステム。
  61. 分析物の検出又は分析のための方法であって、
    (a)固定された分析物のアレイを有する開放基板を中心軸の周りに回転させる段階と

    (b)複数のプローブを有する溶液を前記中心軸に近い領域に搬送して、前記溶液を前
    記開放基板に導入する段階と、
    (c)少なくとも遠心力によって、前記溶液を前記開放基板の全体に分散させて、前記
    複数のプローブの少なくとも1つが、前記固定された分析物の少なくとも1つに結合して
    、結合プローブを形成するようにする段階と、
    (d)検出器を用いて、前記開放基板の連続回転領域スキャンを介して前記結合プロー
    ブから少なくとも1つのシグナルを検出する段階と、
    を含む方法。
  62. 前記連続回転領域スキャンが、スキャン領域の内部における前記中心軸に関する前記ア
    レイの異なる複数の径方向位置における速度差を補償する、請求項61に記載の方法。
  63. 前記連続回転領域スキャンが、前記開放基板に沿ったスキャン方向に対して実質的に交
    差するアナモルフィック倍率勾配を有する光学撮像システムを用いることを含み、該アナ
    モルフィック倍率勾配が、少なくとも部分的に、前記スキャン方向に対して実質的に垂直
    である接線速度差を補償する、請求項62に記載の方法。
  64. 前記連続回転領域スキャンが、前記開放基板の2又はそれ以上の領域をそれぞれ2又は
    それ以上のスキャン速度で読み取って、前記2又はそれ以上の領域における接線速度差を
    少なくとも部分的に補償することを含む、請求項62に記載の方法。
  65. 段階(d)が、さらに、前記検出器及び前記開放基板に光学的に接続され、該開放基板
    に接触する流体に接触する液浸対物レンズを用いて、前記少なくとも1つのシグナルを検
    出することを含む、請求項61に記載の方法。
  66. 前記流体が容器の中にあり、電場を用いて、該容器の1又はそれ以上の表面の疎水性を
    制御して、前記液浸対物レンズ及び前記開放基板に接触する前記流体の少なくとも一部を
    保持する、請求項65に記載の方法。
  67. 前記連続回転領域スキャンが、第1の動作条件を有する第1の環境において実行され、
    前記溶液の搬送が、前記第1の動作条件と異なる第2の動作条件を有する第2の環境にお
    いて実行される、請求項61に記載の方法。
  68. 前記固定化分析物が核酸分子を含み、前記複数のプローブが蛍光標識ヌクレオチドを含
    み、前記蛍光標識ヌクレオチドのうちの少なくとも1つが、ヌクレオチド相補性結合を介
    して前記核酸分子の少なくとも1つに結合している、請求項61に記載の方法。
  69. 前記開放基板が実質的に平らである、請求項61に記載の方法。
  70. 分析物の検出又は分析のための装置であって、
    固定された分析物のアレイを有する開放基板を受けるように構成されたハウジングと、
    前記開放基板の中心軸に近くの領域に複数のプローブを有する溶液を搬送ように構成さ
    れた1又はそれ以上のディスペンサーと、
    前記開放基板を中心軸の周りに回転させることにより、少なくとも遠心力によって前記
    開放基板の全体に前記溶液を分散させて、前記複数のプローブの少なくとも1つが前記分
    析物の少なくとも1つに結合して結合プローブを形成するようになっている回転ユニット
    と、
    前記開放基板の連続回転領域スキャンを介して前記結合プローブから少なくとも1つの
    シグナルを検出するように構成された検出器と、
    を具備する装置。
  71. 前記検出器が、スキャン領域の内部における前記中心軸に関する前記アレイの異なる複
    数の径方向位置における速度差を補償するように構成されている、請求項70に記載の装
    置。
  72. 前記1又はそれ以上の光学器が、前記開放基板に沿ったスキャン方向に実質的に交差す
    るアナモルフィック倍率勾配を発生させるように構成されており、該アナモルフィック倍
    率勾配が、少なくとも部分的に、前記スキャン方向に対して実質的に垂直な接線速度差を
    補償する、請求項71に記載の装置。
  73. 前記アナモルフィック倍率勾配を調節して前記中心軸に関して異なる複数の撮像径方向
    位置を補償するよう構成されたプロセッサをさらに具備する、請求項72に記載の装置。
  74. 前記検出器が、それぞれ2又はそれ以上のスキャン速度で前記開放基板の2又はそれ以
    上の領域をスキャンして、少なくとも部分的に前記2又はそれ以上の領域における接線速
    度差を補償するように構成されている、請求項71に記載の装置。
  75. 前記検出器が、センサと、前記開放基板に光学的に接続される1又はそれ以上の光学器
    と、を含む、請求項70に記載の装置。
  76. 前記検出器及び前記開放基板に光学的に接続され、該開放基板に接触する流体に接触す
    るように構成された、液浸対物レンズをさらに具備する、請求項70に記載の装置。
  77. 前記流体を保持するよう構成された容器と、該容器の1又はそれ以上の表面の疎水性を
    制御して、前記液浸対物レンズ及び前記開放基板に接触する前記流体の少なくとも一部を
    保持するように構成された電場印加ユニットと、をさらに具備する、請求項76に記載の
    装置。
  78. 前記液浸対物レンズが、第1の環境を第2の環境から分離するように構成されており、
    前記第1の環境及び前記第2の環境が異なる動作条件を有する、請求項76に記載の装置
  79. 前記液浸対物レンズが、前記第1の環境と前記第2の環境との間のシールを形成する、
    請求項78に記載の装置。
  80. 前記検出器が、前記開放基板を横断する非線形スキャン経路における前記結合プローブ
    から前記少なくとも1つのシグナルを検出するように構成されている、請求項70に記載
    の装置。
  81. 前記非線形スキャン経路が、実質的に螺旋状のスキャン経路又は実質的に環状のスキャ
    ン経路である、請求項80に記載の装置。
  82. コンピュータにより読み取り可能な媒体であって、実行されたときに1又はそれ以上の
    コンピュータプロセッサに対して分析物の検出又は分析のための方法を実行させる当該媒
    体に記憶される非一時的な命令、を含む媒体において、
    前記方法が、
    固定された分析物のアレイを有する開放基板を中心軸の周りに回転させる段階と、
    複数のプローブを有する溶液を前記中心軸に近い領域に搬送して、前記溶液を前記開放
    基板に導入する段階と、
    前記溶液を少なくとも遠心力によって前記開放基板の全体に分散させることにより、前
    記複数のプローブの少なくとも1つが前記固定された分析物の少なくとも1つに結合して
    結合プローブを形成するようになっている段階と、
    検出器を用いて、前記開放基板の連続回転領域スキャンを介して前記結合プローブから
    少なくとも1つのシグナルを検出する段階と、
    を含む、コンピュータにより読み取り可能な媒体。
  83. 前記検出器及び前記開放基板に光学的に接続され、前記開放基板に接触する流体に接触
    する液浸対物レンズを用いて、前記少なくとも1つのシグナルを検出することをさらに含
    む、請求項82に記載のコンピュータにより読み取り可能な媒体。
  84. 前記固定された分析物が核酸分子を含み、前記複数のプローブが蛍光標識ヌクレオチド
    を含み、該蛍光標識ヌクレオチドの少なくとも1つが、プライマー伸長反応を介して前記
    核酸分子の少なくとも1つに結合する、請求項82に記載のコンピュータにより読み取り
    可能な媒体。
  85. 前記連続回転領域スキャンが、スキャン領域の内部における前記中心軸に関して前記ア
    レイの異なる複数の半径方向位置での速度差を補償する、請求項82に記載のコンピュー
    タにより読み取り可能な媒体。
  86. 前記連続回転領域スキャンが、前記開放基板に沿ったスキャン方向に対して実質的に交
    差するアナモルフィック倍率勾配を有する光学撮像システムを用いることを含み、該アナ
    モルフィック倍率勾配が、少なくとも部分的に、前記スキャン方向に実質的に垂直な接線
    速度差を補償する、請求項85に記載のコンピュータにより読み取り可能な媒体。
  87. 前記アナモルフィック倍率勾配を調節して、前記中心軸に関して異なる複数の撮像径方
    向位置を補償することをさらに含む、請求項86に記載のコンピュータにより読み取り可
    能な媒体。
  88. 前記検出器が、それぞれ2又はそれ以上のスキャン速度で前記開放基板の2又はそれ以
    上の領域をスキャンして、前記2又はそれ以上の撮像領域における接線速度差を少なくと
    も部分的に補償するよう構成されている、請求項85に記載のコンピュータにより読み取
    り可能な媒体。
  89. 前記連続回転領域スキャンが、前記開放基板に沿ったスキャン方向に実質的に垂直な速
    度差のアルゴリズム補償を用いることを含む、請求項82に記載のコンピュータにより読
    み取り可能な媒体。
  90. 前記検出器が、前記開放基板を横断する非線形スキャン経路における前記結合プローブ
    から前記少なくとも1つのシグナルを検出するよう構成されている、請求項82に記載の
    コンピュータにより読み取り可能な媒体。
  91. 分析物の検出又は分析のための方法であって、
    (a)固定された分析物のアレイを有する開放基板を中心軸の周りに回転させる段階と

    (b)前記中心軸に近い領域に複数のプローブを有する溶液を搬送して、前記溶液を前
    記開放基板に導入する段階と、
    (c)少なくとも遠心力によって前記開放基板の全体に前記溶液を分散させて、前記複
    数のプローブの少なくとも1つが前記固定された分析物の少なくとも1つに結合して、結
    合プローブを形成するようになっている段階と、
    (d)前記開放基板の回転中に、同時に、第1の検出器を用いて第1のセットの1又は
    それ以上のスキャン経路に沿って前記開放基板の第1のスキャンを実行し、第2の検出器
    を用いて第2のセットの1又はそれ以上のスキャン経路に沿って前記開放基板の第2のス
    キャンを実行する段階であって、前記第1のセットの1又はそれ以上のスキャン経路及び
    前記第2のセットの1又はそれ以上のスキャン経路が異なっており、前記第1の検出器又
    は前記第2の検出器が前記結合プローブから少なくとも1つのシグナルを検出し、前記第
    1の検出器が前記中心軸に対して第1の径方向位置に配置されており、前記第2の検出器
    が前記中心軸に対して第2の径方向位置に配置されており、前記第1の検出器及び前記第
    2の検出器が、同一の線形ベクトルに沿って前記中心軸に対して相対運動して、それぞれ
    前記第1のセットの1又はそれ以上のスキャン経路及び前記第2のセットの1又はそれ以
    上のスキャン経路を発生させる、ようになっている段階と、
    を含む方法。
  92. 前記第1の検出器及び前記第2の検出器が異なるスキャン速度で動作する、請求項91
    に記載の方法。
  93. 前記第1の検出器及び前記第2の検出器の前記異なるスキャン速度が、それぞれ前記第
    1の径方向位置及び前記第2の径方向位置の関数である、請求項92に記載の方法。
  94. 前記第1のセットの1又はそれ以上のスキャン経路が、異なる半径を有する複数の環状
    のスキャン経路を含む、請求項91に記載の方法。
  95. 前記第1のセットの1又はそれ以上のスキャン経路が螺旋状のスキャン路を含む、請求
    項91に記載の方法。
  96. 前記同一の線形ベクトルが前記中心軸を通る径方向にある、請求項91に記載の方法。
  97. 前記同一の線形ベクトルが径方向にはない、請求項91に記載の方法。
  98. 前記中心軸に対する異なる複数の径方向位置での異なる領域の速度方向差を補償するこ
    とをさらに含み、前記第1のセットの1又はそれ以上のスキャン経路のうちの所与のスキ
    ャン経路が前記異なる領域を含む、請求項97に記載の方法。
  99. 前記補償が、1若しくはそれ以上のプリズムを用いること、1若しくはそれ以上のミラ
    ーを用いること、又は、1若しくはそれ以上のセンサを回転させることを含む、請求項9
    8に記載の方法。
  100. 前記第1の検出器及び前記第2の検出器が、前記相対運動中に実質的に静止している、
    請求項91に記載の方法。
  101. 前記開放基板が前記相対運動中に回転運動及び並進運動の両方を行う、請求項100に
    記載の方法。
  102. 前記第1の検出器及び前記第2の検出器が、前記相対運動中に共通の運動を行う、請求
    項91に記載の方法。
  103. (i)前記開放基板が、前記第1の検出器及び前記第2の検出器に対して回転運動をし
    、(ii)前記第1の検出器及び前記第2の検出器が前記中心軸に対して線形運動を行う
    、請求項102に記載の方法。
  104. 前記第1の検出器が、スキャン中に前記相対運動を行う、請求項91に記載の方法。
  105. 前記第1の検出器が、スキャンしていないときに前記相対運動を行う、請求項91に記
    載の方法。
  106. 前記第1のセットの1又はそれ以上のスキャン経路のうちの所与のスキャン経路が、前
    記同一の線形ベクトルに沿った前記相対運動中にスキャンされる領域を含む、請求項91
    に記載の方法。
  107. 前記第1のセットの1又はそれ以上のスキャン経路が、前記同一の線形ベクトルに沿っ
    た前記相対運動中にスキャンされる領域を含まない、請求項91に記載の方法。
  108. 前記第1の検出器及び前記第2の検出器が、前記中心軸に対して同一の角位置を有する
    、請求項91に記載の方法。
  109. 前記第1の検出器及び前記第2の検出器が、前記中心軸に対して異なる角位置を有する
    、請求項91に記載の方法。
  110. 前記第1の検出器及び前記第2の検出器が、前記中心軸に対して反対の角位置を有する
    、請求項109に記載の方法。
  111. 前記第1のセットの1又はそれ以上のスキャン経路のうちの所与のスキャン経路が第1
    の領域及び第2の領域を含み、該第1の領域及び該第2の領域が、前記中心軸に対して前
    記開放基板の異なる径方向位置にあり、前記第1の領域及び前記第2の領域が前記第1の
    検出器により空間上において分けられている、請求項91に記載の方法。
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