JP2024007749A - 固体撮像素子用半導体チップ、撮像装置及び固体撮像素子用半導体チップの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】集光効率を向上可能な固体撮像素子用半導体チップを提供すること。【解決手段】二次元状に配列された複数の画素11を有する固体撮像素子用半導体チップ2において、固体撮像素子用半導体チップ2の外形状を、正六角形とした。外形状が正六角形であるため、有効画素領域13の形状を正六角形とすることができる。それゆえ、例えば、撮像装置に適用した場合、撮像レンズの形状(円形)と有効画素領域13の形状との差を小さくすることができ、撮像レンズを通過した光の集光効率を向上できる。【選択図】図2
Description
本発明は、固体撮像素子用半導体チップ、撮像装置及び固体撮像素子用半導体チップの製造方法に関する。
従来、例えば、二次元状に配列された複数の画素を有する固体撮像素子用半導体チップが提供されている(例えば、特許文献1参照。)。特許文献1に記載の固体撮像素子用半導体チップの外形状は、矩形となっている。
ここで、特許文献1に記載の固体撮像素子用半導体チップでは、外形状が矩形であるため、有効画素領域の形状も矩形となっている。それゆえ、例えば、撮像装置に適用した場合、撮像レンズの形状(円形)と有効画素領域の形状(矩形)との差が大きいため、撮像レンズを通過した光の集光効率、つまり画素へ入射される割合が低減する可能性がある。
本発明は、集光効率を向上可能な固体撮像素子用半導体チップ、撮像装置及び固体撮像素子用半導体チップの製造方法を提供することを目的とする。
本発明は、集光効率を向上可能な固体撮像素子用半導体チップ、撮像装置及び固体撮像素子用半導体チップの製造方法を提供することを目的とする。
本発明の一態様に係る固体撮像素子用半導体チップは、(a)二次元状に配列された複数の画素を有する固体撮像素子用半導体チップであって、(b)固体撮像素子用半導体チップの外形状が、正六角形であることを要旨とする。
本発明の一態様に係る撮像装置は、(a)二次元状に配列された複数の画素を有する固体撮像素子用半導体チップと、(b)固体撮像素子用半導体チップの光入射面側に配置された撮像レンズとを備え、(c)固体撮像素子用半導体チップの外形状が、正六角形であり、(d)正六角形の各辺は、撮像レンズを通過した光を固体撮像素子用半導体チップの光入射面を延長した平面で破断した場合に得られる、円形断面の外周に接していることを要旨とする。
本発明の一態様に係る固体撮像素子用半導体チップの製造方法は、(a)半導体ウエハに対して二次元配列された複数の固体撮像素子を形成した後、固体撮像素子の間に設定された切断予定ラインに沿って半導体ウエハを切断して、複数の固体撮像素子用半導体チップを形成する固体撮像素子用半導体チップの製造方法であって、(b)固体撮像素子は、半導体ウエハにハニカム配列されており、(c)切断予定ラインは、ハニカム状のパターンであることを要旨とする。
本発明の一態様によれば、外形状が正六角形であるため、有効画素領域の形状を正六角形とすることができる。それゆえ、例えば、撮像装置に適用した場合、撮像レンズの形状(円形)と有効画素領域の形状(六角形)との差を小さくすることができ、撮像レンズを通過した光の集光効率を向上可能な固体撮像素子用半導体チップ、撮像装置及び固体撮像素子用半導体チップの製造方法を提供することができる。
以下に、本発明の実施形態に係る固体撮像素子用半導体チップ、撮像装置及び固体撮像素子用半導体チップの製造方法の一例を、図1~図10を参照しながら説明する。本発明の実施形態は以下の順序で説明する。
1.撮像装置の全体構成
2.固体撮像素子用半導体チップの製造方法
1.撮像装置の全体構成
2.固体撮像素子用半導体チップの製造方法
[1.撮像装置の全体構成]
本発明の実施形態に係る撮像装置1について説明する。図1は、撮像装置1の全体構成を示す図である。撮像装置1としては、例えば、カメラモジュールが挙げられる。
図1に示すように、撮像装置1は、固体撮像素子用半導体チップ2と、固体撮像素子用半導体チップ2の光入射面側S1に配置された撮像レンズ3とを備えている。
本発明の実施形態に係る撮像装置1について説明する。図1は、撮像装置1の全体構成を示す図である。撮像装置1としては、例えば、カメラモジュールが挙げられる。
図1に示すように、撮像装置1は、固体撮像素子用半導体チップ2と、固体撮像素子用半導体チップ2の光入射面側S1に配置された撮像レンズ3とを備えている。
固体撮像素子用半導体チップ2の外形状は、図2に示すように、正六角形となっている。また、正六角形の各辺は、撮像レンズ3を通過した光L(図1及び図3参照)を固体撮像素子用半導体チップ2の光入射面を延長した平面で破断した場合に得られる、円形断面の外周に接している。即ち、固体撮像素子用半導体チップ2の正六角形が、円形断面の外周円に外接している。固体撮像素子用半導体チップ2の外形状を正六角形とすることにより、撮像レンズ3からの光Lを固体撮像素子用半導体チップ2に最大限に集光できる。また、図4に示すように、固体撮像素子用半導体チップ2の製造時、半導体ウエハ4に対して複数の固体撮像素子5を形成する際に、固体撮像素子5の数を増やすことができる。ここで、固体撮像素子5は、半導体ウエハ4を切断してチップ状としたときに、各チップに搭載されて固体撮像素子用半導体チップ2を構成する素子である。例えば、半導体ウエハ4の直径300mm、撮像レンズ3のレンズ径7.5mmと想定した場合には、図5に示すように、固体撮像素子用半導体チップ2の外形状が矩形である場合、半導体ウエハ4に形成できる固体撮像素子5の数、つまり半導体ウエハ4から得られる固体撮像素子用半導体チップ2の数は「256」になる。これに対し、本実施形態のように、固体撮像素子用半導体チップ2の外形状が正六角形とした場合、半導体ウエハ4に形成できる固体撮像素子5の数、つまり半導体ウエハ4から得られる固体撮像素子用半導体チップ2の数は「283」になる。即ち、1枚の半導体ウエハ4から得られるチップ数を10%増やすことができる。また、ダイシング工程で一部が欠けた固体撮像素子用半導体チップ2は廃棄されるが、チップ数が増えることにより、廃棄される総面積を低減できる。また、固体撮像素子用半導体チップ2を小型化でき、チップ設置時の占有面積を低減することができる。
固体撮像素子用半導体チップ2は、図6に示すように、半導体基板6の一方の面S2に、遮光膜7と、カラーフィルタ層8と、マイクロレンズ層9とがこの順に積層された構成となっている。また、半導体基板6の他方の面S3には、配線層10が形成されている。
半導体基板6は、シリコン(Si)からなる基板であり、二次元状に配列された複数の画素11からなる画素領域12を有している。画素領域12は、有効画素領域13と、有効画素領域13の周囲に位置するその他の領域(OPB領域14)とから構成されている。
有効画素領域13は、遮光膜7で覆われておられず、被写体が撮像される画素領域であり、その外形状が正六角形となっている。即ち、有効画素領域13の外形状(正六角形)の各辺は、固体撮像素子用半導体チップ2の外形状(正六角形)の各辺と平行となっている。また、有効画素領域13の外形状の正六角形の各頂点は、撮像レンズ3を通過した光L(図1及び図3参照)を固体撮像素子用半導体チップ2の光入射面を延長した平面で破断した場合に得られる、円形断面の周上に位置している。即ち、有効画素領域13の正六角形が、円形断面の外周円に内接している。これにより、図3に示すように、有効画素領域13の面積を増大でき、画素11の数を増やすことができ、増えた画素11を用いることで、感度の向上を図ることができる。これに対し、例えば、図7に示すように、有効画素領域13の外形状を矩形とし、矩形の各頂点が上記した光Lの円形断面の外周円に内接している場合、有効画素領域13の面積が減少し、画素11の数が少なくなってしまう。
有効画素領域13は、遮光膜7で覆われておられず、被写体が撮像される画素領域であり、その外形状が正六角形となっている。即ち、有効画素領域13の外形状(正六角形)の各辺は、固体撮像素子用半導体チップ2の外形状(正六角形)の各辺と平行となっている。また、有効画素領域13の外形状の正六角形の各頂点は、撮像レンズ3を通過した光L(図1及び図3参照)を固体撮像素子用半導体チップ2の光入射面を延長した平面で破断した場合に得られる、円形断面の周上に位置している。即ち、有効画素領域13の正六角形が、円形断面の外周円に内接している。これにより、図3に示すように、有効画素領域13の面積を増大でき、画素11の数を増やすことができ、増えた画素11を用いることで、感度の向上を図ることができる。これに対し、例えば、図7に示すように、有効画素領域13の外形状を矩形とし、矩形の各頂点が上記した光Lの円形断面の外周円に内接している場合、有効画素領域13の面積が減少し、画素11の数が少なくなってしまう。
画素領域12(有効画素領域13、OPB領域14)に位置する複数の画素11それぞれの外形状は、互いに同一の正六角形となっている。画素11それぞれの外形状を正六角形とすることにより、例えば、矩形である場合に比べ、各画素11の光入射面の面積を増やすことができ、感度を向上させることができる。画素11の外形状(正六角形)の各辺は、固体撮像素子用半導体チップ2の外形状(正六角形)の各辺、つまり、有効画素領域13の外形状の各辺に対して30°傾いている。30°傾けることにより、チップへの敷地面積を最大にすることができる。即ち、有効画素領域13に配置可能な画素11の数を増やすことができる。また、各画素11は光電変換部15を有している。光電変換部15は、pn接合によってフォトダイオードを構成し、受光量に応じた電荷を生成する。
遮光膜7は、有効画素領域13の画素11間に対応する部分と、OPB領域14の全体とを覆っている。また、カラーフィルタ層8は、複数のカラーフィルタ16から構成され、1つの画素11に対して1つのカラーフィルタ16が配置されている。また、図8に示すように、画素11の外形状の各辺が有効画素領域13の各辺に対して30°傾いていることにより、カラーフィルタ16のベイヤー配列が実現されている。また、マイクロレンズ層9は、複数のマイクロレンズ17から構成され、図9に示すように、1つの画素11に対して1つのマイクロレンズ17が配置されている。カラーフィルタ16及びマイクロレンズ17は、有効画素領域13にのみ形成され、OPB領域14では省略されている。
図1に示すように、撮像レンズ3は、被写体からの光L(光学像)を撮像装置1内に導いて、固体撮像素子用半導体チップ2の画素領域12に集光させる。これにより、撮像レンズ3を通過した光学像を固体撮像素子用半導体チップ2に撮像させる。撮像レンズ3を通過した光Lの光軸と直交する断面の断面形状は円形となっている。撮像レンズ3としては、例えば、複数枚のレンズが積層されたレンズ構造体、1枚のレンズを採用できる。
以上説明のように、本実施形態に係る固体撮像素子用半導体チップ2では、固体撮像素子用半導体チップ2の外形状を正六角形とした。それゆえ、有効画素領域13の形状を正六角形とすることができる。そのため、例えば、固体撮像素子用半導体チップ2を撮像装置1に適用した場合、撮像レンズ3の形状(円形)と有効画素領域13の形状(六角形)との差を小さくすることができ、撮像レンズ3を通過した光Lの集光効率を向上できる。
[2.固体撮像素子用半導体チップの製造方法]
次に、固体撮像素子用半導体チップ2の製造方法について説明する。
まず、図4に示すように、半導体ウエハ4に対して、二次元配列された複数の固体撮像素子5を形成する。固体撮像素子5は、半導体ウエハ4にハニカム配列する。固体撮像素子5の間には、切断予定ライン18としてハニカム状のパターンが設定されている。続いて、切断予定ライン18に沿って半導体ウエハ4を切断して、固体撮像素子5を有する複数のチップ、つまり、複数の固体撮像素子用半導体チップ2(図2参照)を形成する。
次に、固体撮像素子用半導体チップ2の製造方法について説明する。
まず、図4に示すように、半導体ウエハ4に対して、二次元配列された複数の固体撮像素子5を形成する。固体撮像素子5は、半導体ウエハ4にハニカム配列する。固体撮像素子5の間には、切断予定ライン18としてハニカム状のパターンが設定されている。続いて、切断予定ライン18に沿って半導体ウエハ4を切断して、固体撮像素子5を有する複数のチップ、つまり、複数の固体撮像素子用半導体チップ2(図2参照)を形成する。
また、半導体ウエハ4への固体撮像素子5の形成時には、転写工程を実行する。転写工程では、半導体基板6の表面にレジストを塗布してレジスト膜を形成し、レチクル(フォトマスク)を介して光子を打ち込むことによって、レジストの分解又は化学増強を行う。続いて、露光後の半導体ウエハ4を現像液に浸すことで、ポジ型レジストの場合には分解された領域が溶け出し、またネガ型レジストの場合には化学増強のない部分が溶け出して、レチクルの転写領域内のパターンが転写される。特に、半導体ウエハ4に複数の固体撮像素子5を形成するための転写工程では、図10に示すように、レチクル19の転写領域20内のパターン21を、半導体ウエハ4上に位置するレジスト膜22の互いに異なる位置に繰り返し転写することで、レジスト膜22にパターン21を繋ぎ合わせて転写する。
転写領域20の外形状は、矩形とする。また、転写領域20内のパターン21は、転写領域20の四隅に固体撮像素子5(固体撮像素子用半導体チップ2)に対応する単位パターン23の1/4(以下、「1/4パターン24」とも呼ぶ)が配置され、且つ転写領域20の各辺に単位パターン23の1/2(以下、「1/2パターン25」とも呼ぶ)が配置されるように、単位パターン23がハニカム配列されて形成されている。転写領域20により、レジスト膜22には、転写領域20の四隅に対応する部分に、転写された1/4パターン24が4つ集まって1つの単位パターン23が転写された場合と同様のパターンが形成される。また、転写領域20の各辺に対応する部分に、転写された1/2パターン25が2つ集まって1つの単位パターン23が転写された場合と同様のパターンが形成される。したがって、六角形の固体撮像素子用半導体チップ2を、より適切に製造できる。
また、転写領域20の四隅付近には、ボックスマーク26が形成されている。ボックスマーク26により、レジスト膜22及び半導体ウエハ4には、ボックスマーク26によるパターンが周期的に現れる。したがって、本実施形態のレチクル19を用いて転写工程が行われたか否かが、半導体ウエハ4に形成されたパターンから判定可能となっている。
1…撮像装置、2…固体撮像素子用半導体チップ、3…撮像レンズ、4…半導体ウエハ、5…固体撮像素子、6…半導体基板、7…遮光膜、8…カラーフィルタ層、9…マイクロレンズ層、10…配線層、11…画素、12…画素領域、13…有効画素領域、14…OPB領域、15…光電変換部、16…カラーフィルタ、17…マイクロレンズ、18…切断予定ライン、19…レチクル、20…転写領域、21…パターン、22…レジスト膜、23…単位パターン、24…1/4パターン、25…1/2パターン、26…ボックスマーク
Claims (5)
- 二次元状に配列された複数の画素を有する固体撮像素子用半導体チップであって、
前記固体撮像素子用半導体チップの外形状が、正六角形である
固体撮像素子用半導体チップ。 - 複数の前記画素それぞれの外形状が、互いに同一の正六角形であり、
前記画素の外形状の各辺は、前記固体撮像素子用半導体チップの外形状の各辺に対して30°傾いている
請求項1に記載の固体撮像素子用半導体チップ。 - 二次元状に配列された複数の画素を有する固体撮像素子用半導体チップと、
前記固体撮像素子用半導体チップの光入射面側に配置された撮像レンズとを備え、
前記固体撮像素子用半導体チップの外形状が、正六角形であり、
前記正六角形の各辺は、前記撮像レンズを通過した光を前記固体撮像素子用半導体チップの光入射面を延長した平面で破断した場合に得られる、円形断面の外周に接している
撮像装置。 - 半導体ウエハに対して二次元配列された複数の固体撮像素子を形成した後、前記固体撮像素子の間に設定された切断予定ラインに沿って前記半導体ウエハを切断して、複数の固体撮像素子用半導体チップを形成する固体撮像素子用半導体チップの製造方法であって、
前記固体撮像素子は、前記半導体ウエハにハニカム配列されており、
前記切断予定ラインは、ハニカム状のパターンである
固体撮像素子用半導体チップの製造方法。 - 前記半導体ウエハに複数の前記固体撮像素子を形成するための転写工程において、レチクルの転写領域内のパターンを、前記半導体ウエハ上に位置するレジスト膜の互いに異なる位置に繰り返し転写することで、前記レジスト膜に該パターンを繋ぎ合わせて転写し、
前記転写領域の外形状は、矩形であり、
前記転写領域内のパターンは、前記転写領域の四隅に前記固体撮像素子に対応する単位パターンの1/4が配置され、且つ前記転写領域の各辺に前記単位パターンの1/2が配置されるように、前記単位パターンがハニカム配列されて形成されている
請求項4に記載の固体撮像素子用半導体チップの製造方法。
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