JP2024000048A - Semiconductor device - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 27
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 50
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 10
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 4
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 claims description 3
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 24
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 19
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 10
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 4
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 2
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000004297 night vision Effects 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010408 sweeping Methods 0.000 description 1
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-
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- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03M—CODING; DECODING; CODE CONVERSION IN GENERAL
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- Manipulation Of Pulses (AREA)
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Abstract
Description
本開示は、半導体装置に関し、たとえば、カラムADC(Analog-to-Digital Convertor)に好適に用いられるものである。 The present disclosure relates to a semiconductor device, and is suitable for use in, for example, a column ADC (Analog-to-Digital Converter).
CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)イメージセンサなどでは、カラムごとに並列動作するカラムADCが一般的に用いられる。カラムADCでは、近年、小面積化と低ノイズ化のために、各ADCの比較器を2段のアンプ構成にしたダブルクランプ方式が用いられる。 In CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) image sensors, column ADCs that operate in parallel on a column-by-column basis are generally used. In column ADCs, in recent years, a double clamp method is used in which the comparators of each ADC have a two-stage amplifier configuration in order to reduce the area and reduce noise.
本件の発明者であるF. Morishita等(非特許文献1)は、さらなる小面積化と低ノイズ化のための技術を開示している。具体的に、この文献に記載のカラムADCでは、第1段目アンプが全差動アンプで構成されるのに対し、第2段目アンプがシングルエンドアンプで構成される。さらに、電源線およびグランド線におけるIRドロップを抑制するために、第2段目アンプと相補的に動作する電流補償回路が設けられる。 F. Morishita et al. (Non-Patent Document 1), the inventors of the present invention, have disclosed a technique for further reducing the area and noise. Specifically, in the column ADC described in this document, the first stage amplifier is composed of a fully differential amplifier, whereas the second stage amplifier is composed of a single-ended amplifier. Further, in order to suppress IR drop in the power supply line and the ground line, a current compensation circuit is provided that operates complementary to the second stage amplifier.
上記の非特許文献1の図6によれば、IRドロップに起因した出力低下(いわゆる、シェーディングノイズ)は従来よりも抑制されている。しかしながら、低照度(暗視)の場合のA/D変換誤差の改善は十分とは言えず、無視できない程度の誤差が見られる。
According to FIG. 6 of the above-mentioned
その他の課題と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。 Other objects and novel features will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.
一実施形態によるカラムADC用の電圧比較器は、外部から1段目の差動増幅器に供給される第1の電源電圧を降圧して、2段目のシングルエンド増幅器に供給する第2の電源電圧を生成する電圧変換回路を備える。電圧変換回路は、第1の電源電圧の変動によらずに、第2の電源電圧を一定に保つように動作する。 A voltage comparator for a column ADC according to one embodiment steps down a first power supply voltage that is externally supplied to a first stage differential amplifier, and converts the first power supply voltage to a second power supply voltage that is supplied to a second stage single-ended amplifier. It includes a voltage conversion circuit that generates a voltage. The voltage conversion circuit operates to keep the second power supply voltage constant regardless of fluctuations in the first power supply voltage.
上記の実施形態によれば、外部電源電圧のIRドロップに起因し、特に低照度の場合に顕著になるA/D変換誤差を抑制できる。 According to the embodiments described above, it is possible to suppress A/D conversion errors that are caused by IR drop of the external power supply voltage and become noticeable particularly in the case of low illuminance.
以下、各実施形態について図面を参照して詳しく説明する。以下では、イメージセンサにおけるカラムADCに用いられている電圧比較器について主として説明するが、本開示の技術はイメージセンサだけに適用されるものでない。たとえば、静電容量センサにも本開示のカラムADCを適用できる。なお、以下の説明において、同一または相当する部分には同一の参照符号を付して、その説明を繰り返さない場合がある。 Each embodiment will be described in detail below with reference to the drawings. Although a voltage comparator used in a column ADC in an image sensor will be mainly described below, the technology of the present disclosure is not applied only to image sensors. For example, the column ADC of the present disclosure can also be applied to a capacitance sensor. In addition, in the following description, the same reference numerals are attached to the same or corresponding parts, and the description may not be repeated.
<第1の実施形態>
[CMOSイメージセンサの構成例]
図1は、実施の形態1による半導体装置としてのCMOSイメージセンサ10の構成を示すブロック図である。なお、本開示における半導体装置は、半導体チップに形成された半導体集積回路全体を指す場合もあるし、その一部の回路を指す場合もある。たとえば、カラムADCを半導体装置としても良いし、各ADCに含まれる電圧比較器を半導体装置としても良い。
<First embodiment>
[Example of configuration of CMOS image sensor]
FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of a
以下、(1)画素信号を取得する部分、(2)取得した画素信号をA/D変換する部分、および(3)その他の部分に分けて、CMOSイメージセンサ10の構成および動作について説明する。
The configuration and operation of the
(1.画素信号の取得)
図1を参照して、CMOSイメージセンサ10は、行列状に配列された複数の画素を含む画素アレイ(Pixel Array)11と、垂直走査回路(V-Scanner)17とを備える。画素アレイ11の行方向をX方向または水平方向とも称し、列方向をY方向または垂直方向とも称する。後述するように、画素アレイ11の列にそれぞれ対応して垂直信号線26が設けられ、画素アレイ11の行にそれぞれ対応して水平信号線TX,RX,SLが設けられる。以下、各画素の構成および動作を簡単に説明する。
(1. Acquisition of pixel signal)
Referring to FIG. 1, a
図2は、図1の画素アレイ11を構成する各画素25の構成例を示す等価回路図である。図2に示すように、各画素25は、フォトダイオード(光電変換素子)3と、フローティングディフュージョン7と、転送トランジスタ2と、リセットトランジスタ1とを含む。フォトダイオード3は、光信号を電気信号(電荷)に変換する。フローティングディフュージョン7は、フォトダイオード3によって生成された電荷を蓄積することによって、生成された電荷量に応じた電圧を有する。転送トランジスタ2は、フォトダイオード3によって生成された電荷をフローティングディフュージョン7に転送する。リセットトランジスタ1は、フローティングディフュージョン7を所定の電圧レベル(たとえば、電源電圧VDD)にリセットする。
FIG. 2 is an equivalent circuit diagram showing a configuration example of each
各画素25は、さらに、増幅トランジスタ4と、選択トランジスタ5とを含む。増幅トランジスタ4は、フローティングディフュージョン7に生じた電圧をソースフォロアモードで取り出す。選択トランジスタ5は、増幅トランジスタ4によって取り出された電圧を対応する垂直信号線26に伝達する。同一列に設けられた各画素25の選択トランジスタ5のソースは、当該列に対応する垂直信号線26に接続される。
Each
また、同一行に設けられた各画素25のリセットトランジスタ1のゲートは、当該行に対応する水平信号線RXに接続される。同様に、同一行に設けられた各画素25の転送トランジスタ2のゲートは、当該行に対応する水平信号線TXに接続される。同一行に設けられた各画素25の選択トランジスタ5のゲートは、当該行に対応する水平信号線SLに接続される。
Further, the gate of the
図1の垂直走査回路17は、水平信号線TX,RX,SLの電圧を制御することにより各行を順次選択し、選択行の画素から光電変換によって得られた電気信号を取り出す。具体的には、行ごとに以下の制御が実行される。
The
まず、垂直走査回路17は、転送トランジスタ2をオフ、選択トランジスタ5をオン、リセットトランジスタ1をオンに制御する。これにより、フローティングディフュージョン7の電荷がリセットされる。
First, the
次に、垂直走査回路17は、リセットトランジスタ1をオフさせる。そして、このときのフローティングディフュージョン7の電位が、暗信号として垂直信号線26を介して後述するカラムADC12によって読み出される。
Next, the
その次に、垂直走査回路17は、転送トランジスタ2をオンさせることによって、光信号に応じてフォトダイオード3に蓄積された電荷をフローティングディフュージョン7に伝達させる。そして、このときのフローティングディフュージョン7の電位が、明信号として垂直信号線26を介して後述するカラムADC12によって読み出される。各画素の信号は、明信号と暗信号との差に相当する。このようにして、リセットノイズ(すなわち、kTCノイズ)を抑制した画素信号を取り出す手法を、CDS(Correlated Double Sampling:相関2重サンプリング)と称する。
Next, the
(2.画素信号のA/D変換)
再び図1を参照して、CMOSイメージセンサ10は、さらに、画素アレイ11の列ごとにAD変換を行うシングルスロープ型のカラムADC(Column ADCs)12を備える。具体的に、カラムADC12は、画素アレイ11の列ごとに設けられた電圧比較器(Voltage Comparator)30およびラッチ回路(Latch)13を備える。さらに、カラムADC12は、各列で共通のカウンタ回路(Global Counter)14、ランプ電圧生成器(Ramp)15、およびバイアス電圧生成器(Bias/BGR)16を備える。
(2. A/D conversion of pixel signal)
Referring again to FIG. 1, the
図3は、図1のカラムADC12の構成をより詳しく示した図である。図3では、画素アレイ11の列数をnとして、n個の電圧比較器30_1~30_nとn個のラッチ回路13_1~13_nとが設けられた例を示している。n個の電圧比較器30_1~30_nおよびn個のラッチ回路13_1~13_nは並列動作する。
FIG. 3 is a diagram showing the configuration of the
図3を参照して、各電圧比較器30は、差動増幅器31と、シングルエンド増幅器32と、二値化回路33とを含む。差動増幅器31およびシングルエンド増幅器32から構成される直列2段の構成(いわゆるダブルクランプ方式)にすることにより、小面積かつ低ノイズ化が可能になる。また、第2段目の増幅器をシングルエンド増幅器32にすることにより、さらなる小面積化と低消費電力化を図っている。
Referring to FIG. 3, each
具体的に、差動増幅器31の非反転入力ノード(node)は、容量素子C1を介して対応列の垂直信号線26に接続される。これにより、図1の垂直走査回路17によって選択された行の画素(Pix)25から検知電圧(図3の場合、画素電圧Vpix)が、差動増幅器31の非反転入力ノードに入力される。低照度ほど画素電圧Vpixは高く、高照度ほど画素電圧Vpixは低い。差動増幅器31の反転入力ノードは、共通の基準電圧(図3の場合、ランプ電圧Vramp)の供給を受けるための電圧供給線36に、容量素子C2を介して接続される。差動増幅器31は、画素電圧Vpixとランプ電圧Vrampの差分電圧を増幅し、増幅した差分電圧を出力する。
Specifically, a non-inverting input node of the
シングルエンド増幅器32には、差動増幅器31の出力電圧が入力される。シングルエンド増幅器32は、入力された電圧をさらに増幅して二値化回路33に出力する。二値化回路33は、シングルエンド増幅器32から入力された電圧の電圧レベルに応じて、ハイレベル(“1”)またはロウレベル(“0”)の信号を出力する。
The output voltage of the
ランプ電圧生成器15は、経過時間に比例して電圧値が減少するランプ電圧Vrampを生成し、生成したランプ電圧Vrampを電圧供給線36に出力する。ランプ電圧生成器15は、カウンタ回路14から出力されるデジタルコードに同期してランプ電圧Vrampを出力する。
The
一例として図3に示すように、ランプ電圧生成器15は、D/A(Digital-to-Analog)変換器34と、ユニティ・ゲイン・バッファ35とを含む。ランプ電圧生成器15は、D/A変換器34によって生成されたランプ電圧Vrampを、ユニティ・ゲイン・バッファ35を介して電圧供給線36に出力する。
As shown in FIG. 3 as an example, the
ラッチ回路13は、対応列の電圧比較器30の二値化回路33の出力信号がロウレベルからハイレベルに変化したときに、カウンタ回路14から出力されるデジタルコードを保持する。ラッチ回路13に保持されたデジタルコードは、図1の論理回路(Logic)20に出力される。論理回路20は、このデジタルコードに基づいて、画素電圧Vpixとランプ電圧Vrampとが交差したときのランプ電圧Vrampの電圧レベルを判定する。
The
図4は、電圧比較器30の入出力信号の一例を概念的に示すタイミング図である。図4のタイミング図は、電圧比較器30の入力信号(Inputs of Comparator)、すなわち、ランプ電圧Vrampおよび画素電圧Vpixの波形を示す。さらに、図4のタイミング図は、電圧比較器30の出力信号(Output of Comparator)の波形を示す。図4の横軸は、カウンタ回路14から出力されるデジタルコードを示す。カウンタ回路14から出力されるデジタルコードは経過時間(time)に対応する。
FIG. 4 is a timing diagram conceptually showing an example of input/output signals of the
図4を参照して、カウンタ回路14から出力されるデジタルコードが0にリセットされた後、デジタルコードがCt1のときに、ランプ電圧生成器15から出力されるランプ電圧Vrampが低下し始める。画素電圧Vpixとランプ電圧Vrampとが交差したとき、電圧比較器30の出力信号がロウ(L)レベルからハイ(H)レベルに切り替わる。
Referring to FIG. 4, after the digital code output from
各ラッチ回路13は、対応する電圧比較器30の出力信号の切り替わりに応答して、カウンタ回路14から出力されたデジタルコードCt2を保持する。したがって、デジタルコードCt2とCt1との差分に基づいて、画素電圧Vpixのデジタル値を検知できる。
Each
再び図3を参照して、バイアス電圧生成器(Bias/BGR)16は、各電圧比較器30で共通に使用されるバイアス電流を生成する。生成したバイアス電流は、カレントミラーを利用して各電圧比較器30に分配される。
Referring again to FIG. 3, bias voltage generator (Bias/BGR) 16 generates a bias current that is commonly used by each
一例として図3に示すように、バイアス電圧生成器16は、定電流源37とダイオード接続されたNMOS(N-channel MOS)トランジスタ38とを含む。定電流源37は、温度補償のために、バンドギャップリファレンス(BGR:Band Gap Reference)による基準電圧回路を利用して構成される。NMOSトランジスタ38は、定電流源37とグランド電圧GNDが与えられるグランド線との間に接続される。NMOSトランジスタ38のゲートが各電圧比較器30に設けられたNMOSトランジスタのゲートと共通のバイアス線39を介して接続されることにより、カレントミラーが構成される。
As shown in FIG. 3 as an example, the
バイアス電圧生成器16は、定電流源と、ダイオード接続されたPMOS(P-channel MOS)トランジスタとを含んでいてもよい。この場合、ダイオード接続されたPMOSトランジスタは、電源電圧VDDが与えられる電源線と定電流源との間に接続される。PMOSトランジスタのゲートが各電圧比較器30に設けられたPMOSトランジスタのゲートと共通のバイアス線を介して接続されることにより、カレントミラーが構成される。
(3.その他)
再び図1を参照して、CMOSイメージセンサ10は、さらに、レギュレータ回路(Regulator)18、高速インターフェイス(High-Speed I/F)19、および論理回路20を備える。
(3. Others)
Referring again to FIG. 1, the
レギュレータ回路18は、電源電圧を安定化するための回路である。高速インターフェイス19は、A/D変換されたn列分の画素信号をパラレル・シリアル変換によってシリアス信号に変換してからCMOSイメージセンサ10の外部に出力する。高速インターフェイス19は、さらに、コマンド等を外部から受信する。論理回路20は、外部から与えられたコマンドに従って、CMOSイメージセンサ10の全体の動作を制御する。
The
[カラムADCへの電源電圧供給の問題点]
図5は、カラムADC12を構成する各電圧比較器30への電源電圧VDDおよびグランド電圧GNDに供給について説明するための図である。
[Problems with power supply voltage supply to column ADC]
FIG. 5 is a diagram for explaining the supply of the power supply voltage VDD and ground voltage GND to each
図5の(A)は、電源端子40、グランド端子41、電源線44、およびグランド線45と、各電圧比較器30との接続を説明するための図である。通常、図5(A)に示すように、電源端子40およびグランド端子41は、行方向Xに配列されたn個(nは、例えば数千)の電圧比較器30の配列方向の両端に設けられる。もしくは、電源端子40およびグランド端子41は、n個の電圧比較器30の配列方向の片端のみに設けられる場合もある。電源線44およびグランド線45は、電源端子40およびグランド端子41にそれぞれ接続され、行方向Xに延在する。各電圧比較器30は、共通の電源線44およびグランド線45と接続される。
FIG. 5A is a diagram for explaining connections between the
図5の(B)は、電源線44およびグランド線45に生じるIRドロップについて説明するための図である。同図の横軸はカラム位置(Column Position)を表し、縦軸は電源線44およびグランド線45の電圧を表す。
FIG. 5B is a diagram for explaining the IR drop that occurs on the
カラムADC12の各電圧比較器30には定常的にバイアス電流が流れており、この大きさは1個の電圧比較器30あたり約10μA程度である。カラムADC12には数千個の電圧比較器30が設けられているので、電源線44およびグランド線45に生じるIRドロップは、無視できない大きさになる。
A bias current constantly flows through each
たとえば、図5の(B)に示すように、アナログ回路用の電源電圧として3.0Vが外部から供給され、ロジック回路用の電源電圧として1.2Vが外部から供給されている場合について例示する。この場合、電源線44の中央付近の電源電圧はIRドロップによって0.1V程度低下する場合がある。また、グランド線45の中央付近のグランド電圧はIRドロップによって0.1V程度上昇する場合がある。
For example, as shown in FIG. 5B, a case will be illustrated in which 3.0V is supplied from the outside as the power supply voltage for the analog circuit, and 1.2V is supplied from the outside as the power supply voltage for the logic circuit. . In this case, the power supply voltage near the center of the
上記のようなIRドロップに起因した電源電圧の低下およびグランド電圧の上昇によって、行方向Xの中央付近のバイアス電流が減少する。この結果、中央付近のカラムADC12においてA/D変換に誤差が生じる。特に低照度の画像の撮像において誤差が大きくなる。
The bias current near the center in the row direction X decreases due to the decrease in power supply voltage and increase in ground voltage caused by the IR drop as described above. As a result, an error occurs in A/D conversion in the
また、CMOSイメージセンサ10を他の機能ブロックと共に半導体チップ上に混載した場合には、チップ全体の電源線はカラムADC12への電源供給のために最適化されるわけでない。この結果、IRドロップがより著しくなる。次に説明する電圧比較器の回路構成は、上記の問題点を解消することを目的としている。
Furthermore, when the
[電圧比較器の回路構成]
図6は、本実施形態の電圧比較器30の詳細な構成例を示す回路図である。図6を参照して、電圧比較器30は、図3を参照して説明した差動増幅器31、シングルエンド増幅器32、および二値化回路33に加えて、電圧変換回路50およびリピータ(repeater)回路57を備える。
[Circuit configuration of voltage comparator]
FIG. 6 is a circuit diagram showing a detailed configuration example of the
さらに、電圧比較器30には、外部から与えられたアナログ回路用の電源電圧VDDAを供給する電源線51と、アナログ回路用のグランド電圧GNDAを供給するグランド線52とが設けられている。また、外部から与えられたロジック回路用の電源電圧VDDLを供給する電源線53と、ロジック回路用のグランド電圧GNDLを供給するグランド線54とが設けられている。さらに、電圧比較器30には、電圧変換回路50によって電源電圧VDDAから変換された電源電圧VDDCを供給するためのローカルの電源線56が設けられている。
Further, the
上記の電源電圧VDDLは、電源電圧VDDAよりも低い電圧値であり、電源電圧VDDCは、たとえば、電源電圧VDDLに等しい電圧値に設定される。一例として、電源電圧VDDAは3.0Vであり、電源電圧VDDL,VDDCは1.2Vである。 The above power supply voltage VDDL has a voltage value lower than the power supply voltage VDDA, and the power supply voltage VDDC is set, for example, to a voltage value equal to the power supply voltage VDDL. As an example, the power supply voltage VDDA is 3.0V, and the power supply voltages VDDL and VDDC are 1.2V.
以下、差動増幅器31の構成例について説明する。図6に示すように、差動増幅器31は、PMOSトランジスタPM1,PM2,PM3と、NMOSトランジスタNM1,NM2と、スイッチ素子AZ1,AZ2とを備える。差動増幅器31には、アナログ回路用の電源電圧VDDAおよびアナログ回路用のグランド電圧GNDAが供給される。以下、差動増幅器31を構成する各素子の接続について簡単に説明する。
An example of the configuration of the
PMOSトランジスタPM1およびNMOSトランジスタNM1は、中間ノードN1とグランド線52との間にこの順で直列に接続される。PMOSトランジスタPM2およびNMOSトランジスタNM2は、上記の直列接続されたMOSトランジスタPM1,NM1と並列に、中間ノードN1とグランド線52との間にこの順で直列に接続される。
PMOS transistor PM1 and NMOS transistor NM1 are connected in series in this order between intermediate node N1 and
PMOSトランジスタPM1,PM2は入力トランジスタ対を構成する。PMOSトランジスタPM1のゲートには、容量素子C2を介してランプ電圧Vrampが入力される。PMOSトランジスタPM2のゲートには、容量素子C1を介して画素電圧Vpixが入力される。NMOSトランジスタNM1のゲートは、自身のドレインとNMOSトランジスタNM2のゲートに接続される。これにより、NMOSトランジスタNM1,NM2はカレントミラー回路を構成する。 PMOS transistors PM1 and PM2 constitute an input transistor pair. A ramp voltage Vramp is input to the gate of the PMOS transistor PM1 via the capacitive element C2. The pixel voltage Vpix is input to the gate of the PMOS transistor PM2 via the capacitive element C1. The gate of the NMOS transistor NM1 is connected to its own drain and the gate of the NMOS transistor NM2. Thereby, NMOS transistors NM1 and NM2 constitute a current mirror circuit.
PMOSトランジスタPM3は、電源線51と中間ノードN1との間に接続される。PMOSトランジスタPM3のゲートには、共通のバイアス電圧Vbiasが供給される。これにより、PMOSトランジスタPM3は定電流源として機能する。
PMOS transistor PM3 is connected between
PMOSトランジスタPM2とNMOSトランジスタNM2との接続ノードN3は、差動増幅器31の出力ノードとして次段のシングルエンド増幅器32に接続される。
A connection node N3 between the PMOS transistor PM2 and the NMOS transistor NM2 is connected to the next-stage single-ended
スイッチ素子AZ1は、MOSトランジスタPM1およびNM1の接続ノードN2とPMOSトランジスタPM1のゲートとの間に接続される。スイッチ素子AZ2は、MOSトランジスタPM2およびNM2の接続ノードN3と、PMOSトランジスタPM2のゲートとの間に接続される。スイッチ素子AZ1,AZ2をオンすることによって、差動増幅器31の入力オフセットが除去される。その後、スイッチ素子AZ1,AZ2をオフしてから、カウンタ回路14のカウントアップとランプ電圧Vrampの掃引とが開始される。
Switch element AZ1 is connected between connection node N2 of MOS transistors PM1 and NM1 and the gate of PMOS transistor PM1. Switch element AZ2 is connected between connection node N3 of MOS transistors PM2 and NM2 and the gate of PMOS transistor PM2. By turning on switch elements AZ1 and AZ2, the input offset of
次に、シングルエンド増幅器32の構成例について説明する。図6に示すように、シングルエンド増幅器32は、PMOSトランジスタPM4と、NMOSトランジスタNM3と、容量素子C3と、スイッチ素子AZ3とを備える。シングルエンド増幅器32には、ローカルの電源電圧VDDCおよびアナログ回路用のグランド電圧GNDAが供給される。以下、シングルエンド増幅器32を構成する素子の接続について簡単に説明する。
Next, a configuration example of the single-ended
PMOSトランジスタPM4およびNMOSトランジスタNM3は、電源線56とグランド線52との間にこの順で直列に接続される。容量素子C3は、PMOSトランジスタPM4のゲートとソースとの間に接続される。スイッチ素子AZ3は、PMOSトランジスタPM4のゲートとソースとの間に接続される。スイッチ素子AZ3は、容量素子C3に所定電圧を充電する際に閉状態に制御され、電圧比較器30の動作中には開状態に制御される。
PMOS transistor PM4 and NMOS transistor NM3 are connected in series in this order between
容量素子C3の充電電圧がPMOSトランジスタPM4のゲートにバイアスされることにより、PMOSトランジスタPM4は電流i1を流す電流源として用いられる。したがって、NMOSトランジスタNM3は、電流源を負荷とするソース接地増幅回路として機能する。 By biasing the charging voltage of the capacitive element C3 to the gate of the PMOS transistor PM4, the PMOS transistor PM4 is used as a current source that flows the current i1 . Therefore, the NMOS transistor NM3 functions as a source-grounded amplifier circuit that uses the current source as a load.
シングルエンド増幅器32の入力ノードであるNMOSトランジスタNM3のゲートは、前段の差動増幅器31の出力ノードである接続ノードN3に接続される。PMOSトランジスタPM4とNMOSトランジスタNM3との接続ノードN4は、シングルエンド増幅器32の出力ノードとして次段の二値化回路33に接続される。
The gate of the NMOS transistor NM3, which is the input node of the single-ended
ここで、PMOSトランジスタPM4のバイアス電圧は、各電圧比較器30で共通のバイアス線を介して供給することも一応可能である。しかしながら、シングルエンド増幅器32の出力電圧は急峻に変化するために、共通のバイアス線にラッシュ電流と呼ばれるノイズがのってしまう。そこで、容量素子C3を用いた自己バイアス回路によって、他の電圧比較器30へのキックバックを防止する。
Here, it is also possible to supply the bias voltage of the PMOS transistor PM4 to each
図6に示すように、電圧変換回路50は、PMOSトランジスタPM5と差動増幅器L1とを含む。
As shown in FIG. 6,
PMOSトランジスタPM5は、外部からアナログ回路用の電源電圧VDDAが供給される電源線51とローカルの電源線56との間に接続される。差動増幅器L1の出力ノードはPMOSトランジスタPM5のゲートに接続され、差動増幅器L1の非反転入力ノードは、電源線56に接続される。差動増幅器L1の反転入力ノードには、ロジック回路用の電源電圧VDDLが与えられる。
The PMOS transistor PM5 is connected between a
上記の構成によれば、電圧変換回路50は、電源電圧VDDAからそれよりも低電圧の電源電圧VDDCを生成する。電源電圧VDDAがIRドロップにより低下したとしても、電圧変換回路50は電源電圧VDDCの値をロジック回路用の電源電圧VDDLに略等しい一定の値に保つことができる。この結果、PMOSトランジスタPM4を流れる電流i1もほぼ一定に保つことができるので、非特許文献1に開示されていたような電流補償回路が不要になる。
According to the above configuration, the
二値化回路33は、PMOSトランジスタPM6およびNMOSトランジスタNM4と含む。トランジスタPM6,NM4は、電圧変換回路50によって生成された電源電圧VDDCを供給するための電源線56とロジック回路用のグランド線54との間にこの順で直列に接続される。PMOSトランジスタPM6のゲートは、二値化回路33の入力ノードとして、シングルエンド増幅器32の出力ノードである接続ノードN4に接続される。PMOSトランジスタPM6とNMOSトランジスタNM4との接続ノードN5は、二値化回路33の出力ノードとして、次段のリピータ回路57に接続される。
二値化回路33の動作について簡単に説明すると次のとおりである。電圧比較器30の動作前に、NMOSトランジスタNM4のゲートにリセット信号RSPが入力されることによって、NMOSトランジスタNM4が導通状態になる。これにより、接続ノードN5がグランド電圧GNDLにリセットされる。この状態が、二値化回路33のL状態に相当する。しかる後に、PMOSトランジスタPM6のゲートへの入力信号に応じて、二値化回路33がH状態に変化する(後述する図7の時刻t4,t9に対応する)。
The operation of the
リピータ回路57は、縦続接続されたインバータL2,L3を含み、ロジック回路用の電源電圧VDDLとロジック回路用のグランド電圧GNDLによって動作する。インバータL2の入力ノードは、リピータ回路57の入力ノードとして、二値化回路33の出力ノードである接続ノードN5に接続される。
The
上記の電圧比較器30の構成において、差動増幅器31、電圧変換回路50、およびシングルエンド増幅器32のNMOSトランジスタNM3は、耐圧を電源電圧VDDA以上にする必要がある。したがって、これらの部分(図6において、一点鎖線58で囲まれていない部分)は、ゲート絶縁膜が比較的厚くかつしきい値電圧が比較的大きい、いわゆる厚膜トランジスタで構成される。一方、二値化回路33、リピータ回路57、シングルエンド増幅器32のPMOSトランジスタPM4の耐圧は、電源電圧VDDAより小さく電源電圧VDDL(VDDCに等しい)より大きければよい。したがって、これらの部分(図6において、一点鎖線58で囲まれている部分)は、ゲート絶縁膜が比較的薄くかつしきい値電圧が比較的小さい、いわゆる薄膜トランジスタで構成される。
In the configuration of the
上記のように比較的低耐圧のトランジスタPM6を用いることによって、低照度の画像信号にためにシングルエンド増幅器32の出力が低振幅であっても、PMOSトランジスタPM6を十分に導通状態にできる。この結果、二値化回路33の出力信号Coutを比較的急峻にHレベルに変化させることができるので、A/D変換誤差を低減できる。
By using the transistor PM6 having a relatively low breakdown voltage as described above, the PMOS transistor PM6 can be made sufficiently conductive even if the output of the single-ended
[カラムADCの動作]
図7は、カラムADCの動作を説明するためのタイミング図である。図7には、デジタルCDS動作(Digital CDS Operation)が示されている。以下、図6を参照してこれまでの説明を総括しながら、カラムADC12の動作について説明する。以下のカラムADC12の動作は、図1の論理回路20によって制御される。
[Column ADC operation]
FIG. 7 is a timing diagram for explaining the operation of the column ADC. FIG. 7 shows a digital CDS operation. Hereinafter, the operation of the
なお、図7の電源電圧VDDCおよび二値化回路33の出力電圧Coutの波形において、実線は本実施形態のカラムADC12の場合を示し、破線は従来技術(非特許文献1)の場合を示す。
Note that in the waveforms of the power supply voltage VDDC and the output voltage Cout of the
図7の時刻t5までは、リセット状態(Reset State)における画素電圧Vpixを検出するリセット変換(Reset Conversion)が示されている。 Until time t5 in FIG. 7, a reset conversion is shown in which the pixel voltage Vpix in the reset state is detected.
具体的に時刻t1において、カウンタ回路14はカウントを開始する。この時刻t1の時点において、ランプ電圧生成器15の出力電圧は、最大電圧(電源電圧VDD)である。また、NMOSトランジスタNM3は非導通状態であるので、PMOSトランジスタPM4を流れる電流i1は0である。
Specifically, at time t1, the
次の時刻t2において、ランプ電圧生成器15の出力電圧(ランプ電圧Vramp)は減少し始める。 At the next time t2, the output voltage of the ramp voltage generator 15 (ramp voltage Vramp) begins to decrease.
その次の時刻t3において、ランプ電圧Vrampとリセット状態の画素電圧Vpixとが交差するので、NMOSトランジスタNM3が導通し、PMOSトランジスタPM4に電流i1が流れ始める。これにより、アナログ回路用の電源電圧VDDAおよびアナログ回路用のグランド電圧GNDAには、IRドロップによる急激な電圧の変化が生じる。しかしながら、これらの電源電圧VDDAおよびグランド電圧GNDAは差動増幅器31において用いられるので、電圧比較器30の動作に影響を及ぼさない。一方、シングルエンド増幅器32において用いられる電源電圧VDDCにおけるIRドロップは、従来技術に比べて大幅に改善している。
At the next time t3, the ramp voltage Vramp and the pixel voltage Vpix in the reset state intersect, so the NMOS transistor NM3 becomes conductive and the current i1 begins to flow through the PMOS transistor PM4. As a result, a sudden voltage change occurs in the power supply voltage VDDA for the analog circuit and the ground voltage GNDA for the analog circuit due to the IR drop. However, since these power supply voltage VDDA and ground voltage GNDA are used in the
その次の時刻t4において、二値化回路33の出力電圧CoutがLレベルからHレベルに切り替わる。ラッチ回路13は、そのときにカウンタ回路14から出力されるデジタルコードをリセットデータ(Reset Data)Drとして格納する。本実施形態の場合には、二値化回路33の出力電圧Coutの上昇が急峻であるので、A/D変換誤差を低減できる。
At the next time t4, the output voltage Cout of the
図7の時刻t5以降には、画素信号(Pixel Signal)に対応する画素電圧Vpixを検出する信号変換(Signal Conversion)が示されている。 After time t5 in FIG. 7, signal conversion (Signal Conversion) for detecting the pixel voltage Vpix corresponding to the pixel signal (Pixel Signal) is shown.
具体的に時刻t6において、カウンタ回路14はカウントを開始する。この時刻t6の時点において、ランプ電圧生成器15の出力電圧は、最大電圧(電源電圧VDD)である。また、NMOSトランジスタNM3は非導通状態であるので、PMOSトランジスタPM4を流れる電流i1は0である。
Specifically, at time t6, the
次の時刻t7において、ランプ電圧生成器15の出力電圧(ランプ電圧Vramp)は減少し始める。 At the next time t7, the output voltage of the ramp voltage generator 15 (ramp voltage Vramp) begins to decrease.
その次の時刻t8において、ランプ電圧Vrampと画素信号の画素電圧Vpixとが交差するので、NMOSトランジスタNM3が導通し、PMOSトランジスタPM4に電流i1が流れ始める。シングルエンド増幅器32において用いられる電源電圧VDDCにおけるIRドロップは、従来技術に比べて改善している。
At the next time t8, the ramp voltage Vramp and the pixel voltage Vpix of the pixel signal intersect, so the NMOS transistor NM3 becomes conductive and the current i1 begins to flow through the PMOS transistor PM4. The IR drop at the power supply voltage VDDC used in single-ended
その次の時刻t9において、二値化回路33の出力電圧CoutがLレベルからHレベルに切り替わる。ラッチ回路13は、そのときにカウンタ回路14から出力されるデジタルコードを信号データ(Signal Data)Dsとして格納する。
At the next time t9, the output voltage Cout of the
[実施の形態1の効果]
上記のとおり実施の形態1のカラムADC12によれば、電源電圧VDDCを生成するためのローカルレギュレータとして電圧変換回路50が設けられている。これにより、電圧比較器30のシングルエンド増幅器32における電流変化をリアルタイムに補償できるので、電源電圧VDDCのIRドロップを抑制できる。結果として、低照度画像におけるA/D変換特性を改善できる。また、従来技術(非特許文献1)で必要であった電流補償回路を不要にできる。
[Effects of Embodiment 1]
As described above, according to the
さらに、実施の形態1のカラムADC12によれば、シングルエンド増幅器32のPMOSトランジスタPM4および二値化回路33を、ゲート絶縁膜が比較的薄いいわゆる薄膜トランジスタで構成できる。これにより、シングルエンド増幅器32以降の信号伝搬には、全てロジック回路用の電源電圧VDDL(またはVDDC)を用いることができる。これにより、低照度画像において生じる低振幅の画素信号の場合においても遅延が生じることがなく、A/D変換特性を劣化させない。
Furthermore, according to the
また、上記のように電流補償回路を不要にでき、かつ、シングルエンド増幅器32および二値化回路33を薄膜トランジスタで構成できるので、回路面積の小面積化が可能になる。
Furthermore, as described above, the current compensation circuit can be made unnecessary, and the single-
また、ローカルレギュレータとして電圧変換回路50を設けることにより、IRドロップを抑制するために電源配線の配置に対して課される過度の制限がなくなる。これにより、電圧比較器単体およびカラムADCの回路配線情報をIP(Intellectual Property)として提供することが容易になる。
Further, by providing the
<第2の実施形態>
第1の実施形態の場合、電圧変換回路50は電圧比較器30ごとに設けられていた。第2の実施形態のカラムADC12Aでは、複数の電圧比較器30に対して1個の電圧変換回路60を設けることにより、電圧変換回路60が分散配置される。これにより、カラムADCの回路面積をさらに削減できる。以下、図面を参照して詳しく説明する。
<Second embodiment>
In the case of the first embodiment, the
図8は、第2の実施形態のカラムADC12Aの構成を示すブロック図である。図8に示す例では、8個の電圧比較器30Aごとに1個のローカルレギュレータとしての電圧変換回路60が設けられる。電圧変換回路60は、8個の電圧比較器30Aに対応する8個のラッチ回路13の配列の間に配置される。電圧変換回路60から出力される電源電圧VDDCは、行方向Xに延在するローカルの電源線56を介して、対応する電圧比較器30Aに供給される。
FIG. 8 is a block diagram showing the configuration of the column ADC 12A of the second embodiment. In the example shown in FIG. 8, one
図8のその他の点は図3の場合と同様であるので、同一または相当する部分には同一の参照符号を付して説明を繰り返さない。 Other points in FIG. 8 are similar to those in FIG. 3, so the same or corresponding parts are given the same reference numerals and the description will not be repeated.
図9は、図8の各電圧比較器30Aの構成を示す回路図である。図9の電圧比較器30Aは、電圧変換回路50を含まない点で図6の電圧比較器30と異なる。図9のその他の点は図6の場合と同様であるので、同一または相当する部分には同一の参照符号を付して説明を繰り返さない。
FIG. 9 is a circuit diagram showing the configuration of each
図10は、図8の電圧変換回路60の構成を示す回路図である。図10の電圧変換回路60は、図6の電圧変換回路50に対応している。具体的に、電圧変換回路60は、PMOSトランジスタPM7と差動増幅器L4とを含む。
FIG. 10 is a circuit diagram showing the configuration of
PMOSトランジスタPM7は、外部からアナログ回路用の電源電圧VDDAが供給される電源線61とローカルの電源線56との間に接続される。差動増幅器L4の出力ノードはPMOSトランジスタPM7のゲートに接続され、差動増幅器L4の非反転入力ノードは、電源線56に接続される。差動増幅器L4の反転入力ノードには、ロジック回路用の電源電圧VDDLが与えられる。
The PMOS transistor PM7 is connected between a
上記に構成によれば、電源電圧VDDAの変化によらずに電源線56の電源電圧VDDCを一定に保つことができる。対応する8個の電圧比較器30Aに電流i1が流れるとき、電圧変換回路60のPMOSトランジスタPM7には8×i1が流れる。この電流8×i1の変動を抑制できる。
According to the above configuration, the power supply voltage VDDC of the
以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。 Although the invention made by the present inventor has been specifically explained based on the embodiments above, the present invention is not limited to the above embodiments, and various changes can be made without departing from the gist thereof. Needless to say.
1 リセットトランジスタ、2 転送トランジスタ、3 フォトダイオード、4 増幅トランジスタ、5 選択トランジスタ、7 フローティングディフュージョン、10 イメージセンサ、11 画素アレイ、12,12A カラムADC、13 ラッチ回路、14 カウンタ回路、15 ランプ電圧生成器、16 バイアス電圧生成器、17 垂直走査回路、18 レギュレータ回路、19 高速インターフェイス、20 論理回路、25 画素、26 垂直信号線、30,30A 電圧比較器、31 差動増幅器、32 シングルエンド増幅器、33 二値化回路、34 D/A変換器、35 バッファ、36 電圧供給線、37 定電流源、38,NM1~NM4,PM1~PM7 MOSトランジスタ、39 バイアス線、40 電源端子、41 グランド端子、44,51,53,56,61 電源線、45,52,54 グランド線、50,60 電圧変換回路、57 リピータ回路、AZ1,AZ2,AZ3 スイッチ素子、C1,C2,C3 容量素子、Cout 出力信号、GND,GNDA,GNDL グランド電圧、L1,L4 差動増幅器、L2,L3 インバータ、RSP リセット信号、RX,SL,TX 水平信号線、VDD,VDDA,VDDC,VDDL 電源電圧、Vbias バイアス電圧、Vpix 画素電圧、Vramp ランプ電圧。 1 reset transistor, 2 transfer transistor, 3 photodiode, 4 amplification transistor, 5 selection transistor, 7 floating diffusion, 10 image sensor, 11 pixel array, 12, 12A column ADC, 13 latch circuit, 14 counter circuit, 15 lamp voltage generation 16 bias voltage generator, 17 vertical scanning circuit, 18 regulator circuit, 19 high-speed interface, 20 logic circuit, 25 pixel, 26 vertical signal line, 30, 30A voltage comparator, 31 differential amplifier, 32 single-ended amplifier, 33 binarization circuit, 34 D/A converter, 35 buffer, 36 voltage supply line, 37 constant current source, 38, NM1 to NM4, PM1 to PM7 MOS transistor, 39 bias line, 40 power supply terminal, 41 ground terminal, 44, 51, 53, 56, 61 power supply line, 45, 52, 54 ground line, 50, 60 voltage conversion circuit, 57 repeater circuit, AZ1, AZ2, AZ3 switch element, C1, C2, C3 capacitive element, Cout output signal , GND, GNDA, GNDL ground voltage, L1, L4 differential amplifier, L2, L3 inverter, RSP reset signal, RX, SL, TX horizontal signal line, VDD, VDDA, VDDC, VDDL power supply voltage, Vbias bias voltage, Vpix pixel Voltage, Vramp Ramp voltage.
Claims (12)
外部から供給される第1の電源電圧で動作し、前記基準電圧が入力される第1の入力ノードと前記検知電圧が入力される第2の入力ノードとを有し、前記基準電圧と前記検知電圧との差分電圧を増幅して出力する差動増幅器と、
前記差動増幅器によって増幅された前記差分電圧が入力される、第2の電源電圧で動作するシングルエンド増幅器とを含み、
前記半導体装置は、さらに、前記第1の電源電圧を降圧することによって前記第2の電源電圧を生成する電圧変換回路を備え、
前記電圧変換回路は、前記第1の電源電圧の変動によらずに、前記第2の電源電圧を一定に保つように動作する、半導体装置。 A semiconductor device, comprising a voltage comparator that compares a reference voltage and a detection voltage, the voltage comparator comprising:
It operates with a first power supply voltage supplied from the outside, and has a first input node to which the reference voltage is input and a second input node to which the detection voltage is input, and the reference voltage and the detection voltage are connected to each other. A differential amplifier that amplifies and outputs the differential voltage,
a single-ended amplifier operating on a second power supply voltage to which the differential voltage amplified by the differential amplifier is input;
The semiconductor device further includes a voltage conversion circuit that generates the second power supply voltage by stepping down the first power supply voltage,
The semiconductor device, wherein the voltage conversion circuit operates to keep the second power supply voltage constant regardless of fluctuations in the first power supply voltage.
前記デジタルコードの変化に同期して変化するランプ電圧を、前記基準電圧として生成するランプ電圧生成器と、
前記電圧比較器の出力信号の変化に応じて、前記デジタルコードを前記検知電圧のデジタル変換値に対応する値として保持するラッチ回路とをさらに備える、請求項1に記載の半導体装置。 A counter circuit that outputs a digital code,
a lamp voltage generator that generates a lamp voltage that changes in synchronization with changes in the digital code as the reference voltage;
2. The semiconductor device according to claim 1, further comprising a latch circuit that holds the digital code as a value corresponding to a digital conversion value of the detected voltage in accordance with a change in the output signal of the voltage comparator.
前記差動増幅器によって増幅された前記差分電圧が制御電極に入力される第1の導電型の第1のトランジスタと、
前記第1のトランジスタと前記第2の電源電圧が供給される電源線との間に接続され、制御電極に定電圧が入力される、前記第1の導電型と反対の第2の導電型の第2のトランジスタとを含み、
前記差動増幅器を構成する複数のトランジスタおよび前記第1のトランジスタは、前記第1の電源電圧よりも高い耐圧を有する厚膜トランジスタで構成され、
前記第2のトランジスタは、前記第1の電源電圧よりも低く前記第2の電源電圧よりも高い耐圧を有する薄膜トランジスタで構成される、請求項1に記載の半導体装置。 The single-ended amplifier is
a first transistor of a first conductivity type, into which the differential voltage amplified by the differential amplifier is input to a control electrode;
A second conductivity type opposite to the first conductivity type, which is connected between the first transistor and a power supply line to which the second power supply voltage is supplied, and a constant voltage is input to the control electrode. a second transistor;
The plurality of transistors constituting the differential amplifier and the first transistor are composed of thick film transistors having a withstand voltage higher than the first power supply voltage,
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the second transistor is a thin film transistor having a breakdown voltage lower than the first power supply voltage and higher than the second power supply voltage.
前記二値化回路を構成するトランジスタは、前記薄膜トランジスタで構成される、請求項3に記載の半導体装置。 The voltage comparator further includes a binarization circuit to which the signal amplified by the single-ended amplifier is input and operates at the second power supply voltage,
4. The semiconductor device according to claim 3, wherein the transistors forming the binarization circuit are formed from the thin film transistors.
前記第2のトランジスタの前記制御電極と前記第2の電源電圧が供給される電源線との間に接続され、前記制御電極に入力される前記定電圧を保持する容量素子をさらに含む、請求項3に記載の半導体装置。 The single-ended amplifier is
Claim further comprising: a capacitive element connected between the control electrode of the second transistor and a power line to which the second power supply voltage is supplied, and holding the constant voltage input to the control electrode. 3. The semiconductor device according to 3.
外部から供給される共通の第1の電源電圧で動作し、前記基準電圧が入力される第1の入力ノードと前記対応する検知電圧が入力される第2の入力ノードとを有し、前記基準電圧と前記対応する検知電圧との差分電圧を増幅して出力する差動増幅器と、
前記差動増幅器によって増幅された前記差分電圧が入力され、第2の電源電圧で動作するシングルエンド増幅器とを含み、
前記半導体装置は、各々が1個以上の差動増幅器に対応して設けられた複数の電圧変換回路をさらに備え、
前記複数の電圧変換回路の各々は、前記第1の電源電圧を降圧することによって前記第2の電源電圧を生成し、前記生成した第2の電源電圧を前記対応する1個以上の差動増幅器に供給し、
前記複数の電圧変換回路の各々は、前記第1の電源電圧の変動によらずに、前記第2の電源電圧を一定に保つように動作する、半導体装置。 A semiconductor device, comprising n voltage comparators (n is an integer of 2 or more) that compare a common reference voltage with a corresponding detection voltage, each of the n voltage comparators comprising:
The reference voltage operates on a common first power supply voltage supplied from the outside, and has a first input node to which the reference voltage is input and a second input node to which the corresponding detection voltage is input; a differential amplifier that amplifies and outputs a differential voltage between the voltage and the corresponding detection voltage;
a single-ended amplifier to which the differential voltage amplified by the differential amplifier is input and operates on a second power supply voltage;
The semiconductor device further includes a plurality of voltage conversion circuits, each of which is provided corresponding to one or more differential amplifiers,
Each of the plurality of voltage conversion circuits generates the second power supply voltage by stepping down the first power supply voltage, and applies the generated second power supply voltage to the corresponding one or more differential amplifiers. supply to,
Each of the plurality of voltage conversion circuits operates to keep the second power supply voltage constant regardless of fluctuations in the first power supply voltage.
前記デジタルコードの変化に同期して変化するランプ電圧を、前記基準電圧として生成するランプ電圧生成器と、
前記n個の電圧比較器にそれぞれ対応するn個のラッチ回路とをさらに備え、
前記n個のラッチ回路の各々は、対応する前記電圧比較器の出力信号の変化に応じて、前記デジタルコードを前記対応する検知電圧のデジタル変換値に対応する値として保持する、請求項6に記載の半導体装置。 A counter circuit that outputs a digital code,
a lamp voltage generator that generates a lamp voltage that changes in synchronization with changes in the digital code as the reference voltage;
further comprising n latch circuits respectively corresponding to the n voltage comparators,
7. Each of the n latch circuits holds the digital code as a value corresponding to a digital conversion value of the corresponding detection voltage in response to a change in the output signal of the corresponding voltage comparator. The semiconductor device described.
前記半導体装置は、
前記n個の電圧比較器の配列方向の片端または両端に設けられ、前記第1の電源電圧の供給を外部から受ける1個または2個の電源端子と、
前記n個の電圧比較器の配列方向の片端または両端に設けられ、前記n個の電圧比較器に供給されるグランド電圧を外部から受ける1個または2個のグランド端子と、
前記1個または2個の電源端子と接続されて前記第1の方向に延在するメタルの電源配線と、
前記1個または2個のグランド端子と接続されて前記第1の方向に延在するメタルのグランド配線とをさらに備える、請求項7に記載の半導体装置。 the n voltage comparators are arranged in a first direction;
The semiconductor device includes:
one or two power supply terminals provided at one end or both ends of the n voltage comparators in the arrangement direction and receiving the first power supply voltage from the outside;
one or two ground terminals provided at one end or both ends of the n voltage comparators in the arrangement direction and receiving a ground voltage supplied to the n voltage comparators from the outside;
a metal power supply wiring connected to the one or two power supply terminals and extending in the first direction;
8. The semiconductor device according to claim 7, further comprising a metal ground wiring connected to said one or two ground terminals and extending in said first direction.
前記画素アレイを構成する前記m行のうち1行の画素行を選択する走査回路とをさらに備え、
前記n個の電圧比較器は、前記画素アレイの列方向に隣接して配置され、前記n列の画素列にそれぞれ対応して設けられ、
前記n個の電圧比較器の各々は、対応する画素列のうち前記走査回路によって選択された行からの画素信号を、前記対応する検知電圧として前記ランプ電圧と比較するように構成される、請求項7に記載の半導体装置。 a pixel array in which m rows (m is an integer of 2 or more) and n columns of pixels are arranged;
further comprising a scanning circuit that selects one pixel row among the m rows configuring the pixel array,
The n voltage comparators are arranged adjacent to each other in the column direction of the pixel array, and are provided corresponding to each of the n pixel columns,
Each of the n voltage comparators is configured to compare a pixel signal from a row selected by the scanning circuit among the corresponding pixel columns with the lamp voltage as the corresponding detection voltage. The semiconductor device according to item 7.
前記差動増幅器によって増幅された前記差分電圧が制御電極に入力される第1の導電型の第1のトランジスタと、
前記第1のトランジスタと前記第2の電源電圧が供給される電源線との間に接続され、制御電極に定電圧が入力される、前記第1の導電型と反対の第2の導電型の第2のトランジスタとを含み、
前記差動増幅器を構成する複数のトランジスタおよび前記第1のトランジスタは、前記第1の電源電圧よりも高い耐圧を有する厚膜トランジスタで構成され、
前記第2のトランジスタは、前記第1の電源電圧よりも低く前記第2の電源電圧よりも高い耐圧を有する薄膜トランジスタで構成される、請求項6に記載の半導体装置。 The single-ended amplifier is
a first transistor of a first conductivity type, into which the differential voltage amplified by the differential amplifier is input to a control electrode;
A second conductivity type opposite to the first conductivity type, which is connected between the first transistor and a power supply line to which the second power supply voltage is supplied, and a constant voltage is input to the control electrode. a second transistor;
The plurality of transistors constituting the differential amplifier and the first transistor are composed of thick film transistors having a withstand voltage higher than the first power supply voltage,
7. The semiconductor device according to claim 6, wherein the second transistor is a thin film transistor having a breakdown voltage lower than the first power supply voltage and higher than the second power supply voltage.
前記二値化回路を構成するトランジスタは、前記薄膜トランジスタで構成される、請求項10に記載の半導体装置。 Each of the n voltage comparators further includes a binarization circuit to which the signal amplified by the single-ended amplifier is input and operates at the second power supply voltage,
11. The semiconductor device according to claim 10, wherein a transistor forming the binarization circuit is formed of the thin film transistor.
前記第2のトランジスタの前記制御電極と前記第2の電源電圧が供給される電源線との間に接続され、前記制御電極に入力される前記定電圧を保持する容量素子をさらに含む、請求項11に記載の半導体装置。 The single-ended amplifier is
Claim further comprising: a capacitive element connected between the control electrode of the second transistor and a power line to which the second power supply voltage is supplied, and holding the constant voltage input to the control electrode. 12. The semiconductor device according to 11.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022098569A JP2024000048A (en) | 2022-06-20 | 2022-06-20 | Semiconductor device |
CN202310724345.0A CN117278038A (en) | 2022-06-20 | 2023-06-19 | Semiconductor device |
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Family
ID=89213147
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2022098569A Pending JP2024000048A (en) | 2022-06-20 | 2022-06-20 | Semiconductor device |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2024000048A (en) |
CN (1) | CN117278038A (en) |
-
2022
- 2022-06-20 JP JP2022098569A patent/JP2024000048A/en active Pending
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- 2023-06-19 CN CN202310724345.0A patent/CN117278038A/en active Pending
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Publication number | Publication date |
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CN117278038A (en) | 2023-12-22 |
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