JP2024000048A - Semiconductor device - Google Patents

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玄 森下
Gen Morishita
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To further suppress an A/D conversion error that is caused by an IR drop in an external power supply voltage and become particularly noticeable in low illuminance in a column ADC.
SOLUTION: In a voltage comparator 30 for a column ADC, a differential amplifier 31 operates with a first power supply voltage VDDA supplied from the outside, and amplifies and outputs the differential voltage between a reference voltage Vramp and a detection voltage Vpix. A single-ended amplifier 32 operates on a second power supply voltage VDDC, and receives the differential voltage amplified by the differential amplifier 31 as input. A voltage conversion circuit 50 generates the second power supply voltage VDDC by stepping down the first power supply voltage VDDA. The voltage conversion circuit 50 operates to keep the second power supply voltage VDDC constant regardless of fluctuations in the first power supply voltage VDDA.
SELECTED DRAWING: Figure 6
COPYRIGHT: (C)2024,JPO&INPIT

Description

本開示は、半導体装置に関し、たとえば、カラムADC(Analog-to-Digital Convertor)に好適に用いられるものである。 The present disclosure relates to a semiconductor device, and is suitable for use in, for example, a column ADC (Analog-to-Digital Converter).

CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)イメージセンサなどでは、カラムごとに並列動作するカラムADCが一般的に用いられる。カラムADCでは、近年、小面積化と低ノイズ化のために、各ADCの比較器を2段のアンプ構成にしたダブルクランプ方式が用いられる。 In CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) image sensors, column ADCs that operate in parallel on a column-by-column basis are generally used. In column ADCs, in recent years, a double clamp method is used in which the comparators of each ADC have a two-stage amplifier configuration in order to reduce the area and reduce noise.

本件の発明者であるF. Morishita等(非特許文献1)は、さらなる小面積化と低ノイズ化のための技術を開示している。具体的に、この文献に記載のカラムADCでは、第1段目アンプが全差動アンプで構成されるのに対し、第2段目アンプがシングルエンドアンプで構成される。さらに、電源線およびグランド線におけるIRドロップを抑制するために、第2段目アンプと相補的に動作する電流補償回路が設けられる。 F. Morishita et al. (Non-Patent Document 1), the inventors of the present invention, have disclosed a technique for further reducing the area and noise. Specifically, in the column ADC described in this document, the first stage amplifier is composed of a fully differential amplifier, whereas the second stage amplifier is composed of a single-ended amplifier. Further, in order to suppress IR drop in the power supply line and the ground line, a current compensation circuit is provided that operates complementary to the second stage amplifier.

F. Morishita et al., "A CMOS Image Sensor and an AI Accelerator for Realizing Edge-Computing-Based Surveillance Camera Systems," 2021 Symposium on VLSI Circuits, 2021, pp. 1-2, doi: 10.23919/VLSICircuits52068.2021.9492514.F. Morishita et al., "A CMOS Image Sensor and an AI Accelerator for Realizing Edge-Computing-Based Surveillance Camera Systems," 2021 Symposium on VLSI Circuits, 2021, pp. 1-2, doi: 10.23919/VLSICircuits52068.2021.9492514.

上記の非特許文献1の図6によれば、IRドロップに起因した出力低下(いわゆる、シェーディングノイズ)は従来よりも抑制されている。しかしながら、低照度(暗視)の場合のA/D変換誤差の改善は十分とは言えず、無視できない程度の誤差が見られる。 According to FIG. 6 of the above-mentioned Non-Patent Document 1, the output reduction (so-called shading noise) caused by IR drop is suppressed more than before. However, the improvement of the A/D conversion error in the case of low illuminance (night vision) cannot be said to be sufficient, and an error that cannot be ignored is observed.

その他の課題と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。 Other objects and novel features will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

一実施形態によるカラムADC用の電圧比較器は、外部から1段目の差動増幅器に供給される第1の電源電圧を降圧して、2段目のシングルエンド増幅器に供給する第2の電源電圧を生成する電圧変換回路を備える。電圧変換回路は、第1の電源電圧の変動によらずに、第2の電源電圧を一定に保つように動作する。 A voltage comparator for a column ADC according to one embodiment steps down a first power supply voltage that is externally supplied to a first stage differential amplifier, and converts the first power supply voltage to a second power supply voltage that is supplied to a second stage single-ended amplifier. It includes a voltage conversion circuit that generates a voltage. The voltage conversion circuit operates to keep the second power supply voltage constant regardless of fluctuations in the first power supply voltage.

上記の実施形態によれば、外部電源電圧のIRドロップに起因し、特に低照度の場合に顕著になるA/D変換誤差を抑制できる。 According to the embodiments described above, it is possible to suppress A/D conversion errors that are caused by IR drop of the external power supply voltage and become noticeable particularly in the case of low illuminance.

実施の形態1による半導体装置としてのCMOSイメージセンサ10の構成を示すブロック図である。1 is a block diagram showing the configuration of a CMOS image sensor 10 as a semiconductor device according to a first embodiment. FIG. 図1の画素アレイ11を構成する各画素25の構成例を示す等価回路図である。FIG. 2 is an equivalent circuit diagram showing a configuration example of each pixel 25 configuring the pixel array 11 of FIG. 1. FIG. 図1のカラムADC12の構成をより詳しく示した図である。FIG. 2 is a diagram showing the configuration of the column ADC 12 in FIG. 1 in more detail. 電圧比較器30の入出力信号の一例を概念的に示すタイミング図である。3 is a timing diagram conceptually showing an example of input/output signals of a voltage comparator 30. FIG. カラムADC12を構成する各電圧比較器30への電源電圧VDDおよびグランド電圧GNDに供給について説明するための図である。FIG. 3 is a diagram for explaining supply of a power supply voltage VDD and a ground voltage GND to each voltage comparator 30 constituting the column ADC 12. FIG. 本実施形態の電圧比較器30の詳細な構成例を示す回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram showing a detailed configuration example of a voltage comparator 30 according to the present embodiment. カラムADCの動作を説明するためのタイミング図である。FIG. 3 is a timing diagram for explaining the operation of a column ADC. 第2の実施形態のカラムADC12Aの構成を示すブロック図である。It is a block diagram showing the composition of column ADC12A of a 2nd embodiment. 図8の各電圧比較器30Aの構成を示す回路図である。9 is a circuit diagram showing the configuration of each voltage comparator 30A in FIG. 8. FIG. 図8の電圧変換回路60の構成を示す回路図である。9 is a circuit diagram showing the configuration of a voltage conversion circuit 60 in FIG. 8. FIG.

以下、各実施形態について図面を参照して詳しく説明する。以下では、イメージセンサにおけるカラムADCに用いられている電圧比較器について主として説明するが、本開示の技術はイメージセンサだけに適用されるものでない。たとえば、静電容量センサにも本開示のカラムADCを適用できる。なお、以下の説明において、同一または相当する部分には同一の参照符号を付して、その説明を繰り返さない場合がある。 Each embodiment will be described in detail below with reference to the drawings. Although a voltage comparator used in a column ADC in an image sensor will be mainly described below, the technology of the present disclosure is not applied only to image sensors. For example, the column ADC of the present disclosure can also be applied to a capacitance sensor. In addition, in the following description, the same reference numerals are attached to the same or corresponding parts, and the description may not be repeated.

<第1の実施形態>
[CMOSイメージセンサの構成例]
図1は、実施の形態1による半導体装置としてのCMOSイメージセンサ10の構成を示すブロック図である。なお、本開示における半導体装置は、半導体チップに形成された半導体集積回路全体を指す場合もあるし、その一部の回路を指す場合もある。たとえば、カラムADCを半導体装置としても良いし、各ADCに含まれる電圧比較器を半導体装置としても良い。
<First embodiment>
[Example of configuration of CMOS image sensor]
FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of a CMOS image sensor 10 as a semiconductor device according to the first embodiment. Note that the semiconductor device in the present disclosure may refer to the entire semiconductor integrated circuit formed on a semiconductor chip, or may refer to a part of the circuit. For example, the column ADC may be a semiconductor device, or the voltage comparator included in each ADC may be a semiconductor device.

以下、(1)画素信号を取得する部分、(2)取得した画素信号をA/D変換する部分、および(3)その他の部分に分けて、CMOSイメージセンサ10の構成および動作について説明する。 The configuration and operation of the CMOS image sensor 10 will be described below by dividing into (1) a part that acquires pixel signals, (2) a part that A/D converts the acquired pixel signals, and (3) other parts.

(1.画素信号の取得)
図1を参照して、CMOSイメージセンサ10は、行列状に配列された複数の画素を含む画素アレイ(Pixel Array)11と、垂直走査回路(V-Scanner)17とを備える。画素アレイ11の行方向をX方向または水平方向とも称し、列方向をY方向または垂直方向とも称する。後述するように、画素アレイ11の列にそれぞれ対応して垂直信号線26が設けられ、画素アレイ11の行にそれぞれ対応して水平信号線TX,RX,SLが設けられる。以下、各画素の構成および動作を簡単に説明する。
(1. Acquisition of pixel signal)
Referring to FIG. 1, a CMOS image sensor 10 includes a pixel array 11 including a plurality of pixels arranged in a matrix, and a vertical scanning circuit (V-Scanner) 17. The row direction of the pixel array 11 is also referred to as the X direction or horizontal direction, and the column direction is also referred to as the Y direction or vertical direction. As will be described later, vertical signal lines 26 are provided corresponding to the columns of the pixel array 11, and horizontal signal lines TX, RX, and SL are provided corresponding to the rows of the pixel array 11, respectively. The configuration and operation of each pixel will be briefly described below.

図2は、図1の画素アレイ11を構成する各画素25の構成例を示す等価回路図である。図2に示すように、各画素25は、フォトダイオード(光電変換素子)3と、フローティングディフュージョン7と、転送トランジスタ2と、リセットトランジスタ1とを含む。フォトダイオード3は、光信号を電気信号(電荷)に変換する。フローティングディフュージョン7は、フォトダイオード3によって生成された電荷を蓄積することによって、生成された電荷量に応じた電圧を有する。転送トランジスタ2は、フォトダイオード3によって生成された電荷をフローティングディフュージョン7に転送する。リセットトランジスタ1は、フローティングディフュージョン7を所定の電圧レベル(たとえば、電源電圧VDD)にリセットする。 FIG. 2 is an equivalent circuit diagram showing a configuration example of each pixel 25 configuring the pixel array 11 of FIG. 1. As shown in FIG. 2, each pixel 25 includes a photodiode (photoelectric conversion element) 3, a floating diffusion 7, a transfer transistor 2, and a reset transistor 1. The photodiode 3 converts the optical signal into an electrical signal (charge). The floating diffusion 7 accumulates the charge generated by the photodiode 3 and has a voltage corresponding to the amount of the generated charge. Transfer transistor 2 transfers the charge generated by photodiode 3 to floating diffusion 7 . Reset transistor 1 resets floating diffusion 7 to a predetermined voltage level (for example, power supply voltage VDD).

各画素25は、さらに、増幅トランジスタ4と、選択トランジスタ5とを含む。増幅トランジスタ4は、フローティングディフュージョン7に生じた電圧をソースフォロアモードで取り出す。選択トランジスタ5は、増幅トランジスタ4によって取り出された電圧を対応する垂直信号線26に伝達する。同一列に設けられた各画素25の選択トランジスタ5のソースは、当該列に対応する垂直信号線26に接続される。 Each pixel 25 further includes an amplification transistor 4 and a selection transistor 5. The amplification transistor 4 extracts the voltage generated in the floating diffusion 7 in a source follower mode. The selection transistor 5 transmits the voltage extracted by the amplification transistor 4 to the corresponding vertical signal line 26. The source of the selection transistor 5 of each pixel 25 provided in the same column is connected to the vertical signal line 26 corresponding to the column.

また、同一行に設けられた各画素25のリセットトランジスタ1のゲートは、当該行に対応する水平信号線RXに接続される。同様に、同一行に設けられた各画素25の転送トランジスタ2のゲートは、当該行に対応する水平信号線TXに接続される。同一行に設けられた各画素25の選択トランジスタ5のゲートは、当該行に対応する水平信号線SLに接続される。 Further, the gate of the reset transistor 1 of each pixel 25 provided in the same row is connected to the horizontal signal line RX corresponding to the row. Similarly, the gates of the transfer transistors 2 of each pixel 25 provided in the same row are connected to the horizontal signal line TX corresponding to the row. The gate of the selection transistor 5 of each pixel 25 provided in the same row is connected to the horizontal signal line SL corresponding to the row.

図1の垂直走査回路17は、水平信号線TX,RX,SLの電圧を制御することにより各行を順次選択し、選択行の画素から光電変換によって得られた電気信号を取り出す。具体的には、行ごとに以下の制御が実行される。 The vertical scanning circuit 17 in FIG. 1 sequentially selects each row by controlling the voltages of the horizontal signal lines TX, RX, and SL, and extracts electrical signals obtained by photoelectric conversion from the pixels in the selected row. Specifically, the following control is executed for each row.

まず、垂直走査回路17は、転送トランジスタ2をオフ、選択トランジスタ5をオン、リセットトランジスタ1をオンに制御する。これにより、フローティングディフュージョン7の電荷がリセットされる。 First, the vertical scanning circuit 17 controls the transfer transistor 2 to be turned off, the selection transistor 5 to be turned on, and the reset transistor 1 to be turned on. As a result, the charge on the floating diffusion 7 is reset.

次に、垂直走査回路17は、リセットトランジスタ1をオフさせる。そして、このときのフローティングディフュージョン7の電位が、暗信号として垂直信号線26を介して後述するカラムADC12によって読み出される。 Next, the vertical scanning circuit 17 turns off the reset transistor 1. Then, the potential of the floating diffusion 7 at this time is read out as a dark signal by the column ADC 12, which will be described later, via the vertical signal line 26.

その次に、垂直走査回路17は、転送トランジスタ2をオンさせることによって、光信号に応じてフォトダイオード3に蓄積された電荷をフローティングディフュージョン7に伝達させる。そして、このときのフローティングディフュージョン7の電位が、明信号として垂直信号線26を介して後述するカラムADC12によって読み出される。各画素の信号は、明信号と暗信号との差に相当する。このようにして、リセットノイズ(すなわち、kTCノイズ)を抑制した画素信号を取り出す手法を、CDS(Correlated Double Sampling:相関2重サンプリング)と称する。 Next, the vertical scanning circuit 17 turns on the transfer transistor 2 to transfer the charges accumulated in the photodiode 3 to the floating diffusion 7 in accordance with the optical signal. Then, the potential of the floating diffusion 7 at this time is read out as a bright signal by the column ADC 12, which will be described later, via the vertical signal line 26. The signal of each pixel corresponds to the difference between the bright signal and the dark signal. The method of extracting a pixel signal with reset noise (that is, kTC noise) suppressed in this manner is called CDS (Correlated Double Sampling).

(2.画素信号のA/D変換)
再び図1を参照して、CMOSイメージセンサ10は、さらに、画素アレイ11の列ごとにAD変換を行うシングルスロープ型のカラムADC(Column ADCs)12を備える。具体的に、カラムADC12は、画素アレイ11の列ごとに設けられた電圧比較器(Voltage Comparator)30およびラッチ回路(Latch)13を備える。さらに、カラムADC12は、各列で共通のカウンタ回路(Global Counter)14、ランプ電圧生成器(Ramp)15、およびバイアス電圧生成器(Bias/BGR)16を備える。
(2. A/D conversion of pixel signal)
Referring again to FIG. 1, the CMOS image sensor 10 further includes single slope type column ADCs (Column ADCs) 12 that perform AD conversion for each column of the pixel array 11. Specifically, the column ADC 12 includes a voltage comparator 30 and a latch circuit 13 provided for each column of the pixel array 11. Further, the column ADC 12 includes a counter circuit (Global Counter) 14, a ramp voltage generator (Ramp) 15, and a bias voltage generator (Bias/BGR) 16 common to each column.

図3は、図1のカラムADC12の構成をより詳しく示した図である。図3では、画素アレイ11の列数をnとして、n個の電圧比較器30_1~30_nとn個のラッチ回路13_1~13_nとが設けられた例を示している。n個の電圧比較器30_1~30_nおよびn個のラッチ回路13_1~13_nは並列動作する。 FIG. 3 is a diagram showing the configuration of the column ADC 12 in FIG. 1 in more detail. FIG. 3 shows an example in which the number of columns of the pixel array 11 is n, and n voltage comparators 30_1 to 30_n and n latch circuits 13_1 to 13_n are provided. The n voltage comparators 30_1 to 30_n and the n latch circuits 13_1 to 13_n operate in parallel.

図3を参照して、各電圧比較器30は、差動増幅器31と、シングルエンド増幅器32と、二値化回路33とを含む。差動増幅器31およびシングルエンド増幅器32から構成される直列2段の構成(いわゆるダブルクランプ方式)にすることにより、小面積かつ低ノイズ化が可能になる。また、第2段目の増幅器をシングルエンド増幅器32にすることにより、さらなる小面積化と低消費電力化を図っている。 Referring to FIG. 3, each voltage comparator 30 includes a differential amplifier 31, a single-ended amplifier 32, and a binarization circuit 33. By adopting a two-stage configuration (so-called double clamp system) in series consisting of a differential amplifier 31 and a single-end amplifier 32, it is possible to reduce the area and reduce noise. Further, by using the single-ended amplifier 32 as the second stage amplifier, further reduction in area and power consumption is achieved.

具体的に、差動増幅器31の非反転入力ノード(node)は、容量素子C1を介して対応列の垂直信号線26に接続される。これにより、図1の垂直走査回路17によって選択された行の画素(Pix)25から検知電圧(図3の場合、画素電圧Vpix)が、差動増幅器31の非反転入力ノードに入力される。低照度ほど画素電圧Vpixは高く、高照度ほど画素電圧Vpixは低い。差動増幅器31の反転入力ノードは、共通の基準電圧(図3の場合、ランプ電圧Vramp)の供給を受けるための電圧供給線36に、容量素子C2を介して接続される。差動増幅器31は、画素電圧Vpixとランプ電圧Vrampの差分電圧を増幅し、増幅した差分電圧を出力する。 Specifically, a non-inverting input node of the differential amplifier 31 is connected to the vertical signal line 26 of the corresponding column via the capacitive element C1. As a result, the detection voltage (pixel voltage Vpix in the case of FIG. 3) from the pixel (Pix) 25 in the row selected by the vertical scanning circuit 17 in FIG. 1 is input to the non-inverting input node of the differential amplifier 31. The lower the illuminance, the higher the pixel voltage Vpix, and the higher the illuminance, the lower the pixel voltage Vpix. The inverting input node of the differential amplifier 31 is connected via a capacitive element C2 to a voltage supply line 36 for receiving a common reference voltage (ramp voltage Vramp in the case of FIG. 3). The differential amplifier 31 amplifies a differential voltage between the pixel voltage Vpix and the ramp voltage Vramp, and outputs the amplified differential voltage.

シングルエンド増幅器32には、差動増幅器31の出力電圧が入力される。シングルエンド増幅器32は、入力された電圧をさらに増幅して二値化回路33に出力する。二値化回路33は、シングルエンド増幅器32から入力された電圧の電圧レベルに応じて、ハイレベル(“1”)またはロウレベル(“0”)の信号を出力する。 The output voltage of the differential amplifier 31 is input to the single-ended amplifier 32 . The single-end amplifier 32 further amplifies the input voltage and outputs it to the binarization circuit 33. The binarization circuit 33 outputs a high level (“1”) or low level (“0”) signal depending on the voltage level of the voltage input from the single-end amplifier 32.

ランプ電圧生成器15は、経過時間に比例して電圧値が減少するランプ電圧Vrampを生成し、生成したランプ電圧Vrampを電圧供給線36に出力する。ランプ電圧生成器15は、カウンタ回路14から出力されるデジタルコードに同期してランプ電圧Vrampを出力する。 The lamp voltage generator 15 generates a lamp voltage Vramp whose voltage value decreases in proportion to elapsed time, and outputs the generated lamp voltage Vramp to the voltage supply line 36. The ramp voltage generator 15 outputs a ramp voltage Vramp in synchronization with the digital code output from the counter circuit 14.

一例として図3に示すように、ランプ電圧生成器15は、D/A(Digital-to-Analog)変換器34と、ユニティ・ゲイン・バッファ35とを含む。ランプ電圧生成器15は、D/A変換器34によって生成されたランプ電圧Vrampを、ユニティ・ゲイン・バッファ35を介して電圧供給線36に出力する。 As shown in FIG. 3 as an example, the lamp voltage generator 15 includes a D/A (Digital-to-Analog) converter 34 and a unity gain buffer 35. Ramp voltage generator 15 outputs ramp voltage Vramp generated by D/A converter 34 to voltage supply line 36 via unity gain buffer 35.

ラッチ回路13は、対応列の電圧比較器30の二値化回路33の出力信号がロウレベルからハイレベルに変化したときに、カウンタ回路14から出力されるデジタルコードを保持する。ラッチ回路13に保持されたデジタルコードは、図1の論理回路(Logic)20に出力される。論理回路20は、このデジタルコードに基づいて、画素電圧Vpixとランプ電圧Vrampとが交差したときのランプ電圧Vrampの電圧レベルを判定する。 The latch circuit 13 holds the digital code output from the counter circuit 14 when the output signal of the binarization circuit 33 of the voltage comparator 30 in the corresponding column changes from low level to high level. The digital code held in the latch circuit 13 is output to the logic circuit (Logic) 20 in FIG. Based on this digital code, the logic circuit 20 determines the voltage level of the ramp voltage Vramp when the pixel voltage Vpix and the ramp voltage Vramp intersect.

図4は、電圧比較器30の入出力信号の一例を概念的に示すタイミング図である。図4のタイミング図は、電圧比較器30の入力信号(Inputs of Comparator)、すなわち、ランプ電圧Vrampおよび画素電圧Vpixの波形を示す。さらに、図4のタイミング図は、電圧比較器30の出力信号(Output of Comparator)の波形を示す。図4の横軸は、カウンタ回路14から出力されるデジタルコードを示す。カウンタ回路14から出力されるデジタルコードは経過時間(time)に対応する。 FIG. 4 is a timing diagram conceptually showing an example of input/output signals of the voltage comparator 30. The timing diagram of FIG. 4 shows the waveforms of the input signals of the voltage comparator 30, that is, the ramp voltage Vramp and the pixel voltage Vpix. Furthermore, the timing diagram of FIG. 4 shows the waveform of the output signal (Output of Comparator) of the voltage comparator 30. The horizontal axis in FIG. 4 indicates the digital code output from the counter circuit 14. The digital code output from the counter circuit 14 corresponds to elapsed time (time).

図4を参照して、カウンタ回路14から出力されるデジタルコードが0にリセットされた後、デジタルコードがCt1のときに、ランプ電圧生成器15から出力されるランプ電圧Vrampが低下し始める。画素電圧Vpixとランプ電圧Vrampとが交差したとき、電圧比較器30の出力信号がロウ(L)レベルからハイ(H)レベルに切り替わる。 Referring to FIG. 4, after the digital code output from counter circuit 14 is reset to 0, when the digital code is Ct1, lamp voltage Vramp output from ramp voltage generator 15 starts to decrease. When the pixel voltage Vpix and the ramp voltage Vramp intersect, the output signal of the voltage comparator 30 switches from low (L) level to high (H) level.

各ラッチ回路13は、対応する電圧比較器30の出力信号の切り替わりに応答して、カウンタ回路14から出力されたデジタルコードCt2を保持する。したがって、デジタルコードCt2とCt1との差分に基づいて、画素電圧Vpixのデジタル値を検知できる。 Each latch circuit 13 holds the digital code Ct2 output from the counter circuit 14 in response to switching of the output signal of the corresponding voltage comparator 30. Therefore, the digital value of the pixel voltage Vpix can be detected based on the difference between the digital codes Ct2 and Ct1.

再び図3を参照して、バイアス電圧生成器(Bias/BGR)16は、各電圧比較器30で共通に使用されるバイアス電流を生成する。生成したバイアス電流は、カレントミラーを利用して各電圧比較器30に分配される。 Referring again to FIG. 3, bias voltage generator (Bias/BGR) 16 generates a bias current that is commonly used by each voltage comparator 30. The generated bias current is distributed to each voltage comparator 30 using a current mirror.

一例として図3に示すように、バイアス電圧生成器16は、定電流源37とダイオード接続されたNMOS(N-channel MOS)トランジスタ38とを含む。定電流源37は、温度補償のために、バンドギャップリファレンス(BGR:Band Gap Reference)による基準電圧回路を利用して構成される。NMOSトランジスタ38は、定電流源37とグランド電圧GNDが与えられるグランド線との間に接続される。NMOSトランジスタ38のゲートが各電圧比較器30に設けられたNMOSトランジスタのゲートと共通のバイアス線39を介して接続されることにより、カレントミラーが構成される。 As shown in FIG. 3 as an example, the bias voltage generator 16 includes a constant current source 37 and a diode-connected NMOS (N-channel MOS) transistor 38. The constant current source 37 is configured using a reference voltage circuit using a band gap reference (BGR) for temperature compensation. NMOS transistor 38 is connected between constant current source 37 and a ground line to which ground voltage GND is applied. A current mirror is configured by connecting the gate of the NMOS transistor 38 to the gate of the NMOS transistor provided in each voltage comparator 30 via a common bias line 39.

バイアス電圧生成器16は、定電流源と、ダイオード接続されたPMOS(P-channel MOS)トランジスタとを含んでいてもよい。この場合、ダイオード接続されたPMOSトランジスタは、電源電圧VDDが与えられる電源線と定電流源との間に接続される。PMOSトランジスタのゲートが各電圧比較器30に設けられたPMOSトランジスタのゲートと共通のバイアス線を介して接続されることにより、カレントミラーが構成される。 Bias voltage generator 16 may include a constant current source and a diode-connected PMOS (P-channel MOS) transistor. In this case, the diode-connected PMOS transistor is connected between a power supply line to which power supply voltage VDD is applied and a constant current source. A current mirror is configured by connecting the gate of the PMOS transistor to the gate of the PMOS transistor provided in each voltage comparator 30 via a common bias line.

(3.その他)
再び図1を参照して、CMOSイメージセンサ10は、さらに、レギュレータ回路(Regulator)18、高速インターフェイス(High-Speed I/F)19、および論理回路20を備える。
(3. Others)
Referring again to FIG. 1, the CMOS image sensor 10 further includes a regulator circuit (Regulator) 18, a high-speed interface (High-Speed I/F) 19, and a logic circuit 20.

レギュレータ回路18は、電源電圧を安定化するための回路である。高速インターフェイス19は、A/D変換されたn列分の画素信号をパラレル・シリアル変換によってシリアス信号に変換してからCMOSイメージセンサ10の外部に出力する。高速インターフェイス19は、さらに、コマンド等を外部から受信する。論理回路20は、外部から与えられたコマンドに従って、CMOSイメージセンサ10の全体の動作を制御する。 The regulator circuit 18 is a circuit for stabilizing the power supply voltage. The high-speed interface 19 converts the A/D-converted pixel signals for n columns into serial signals through parallel-to-serial conversion, and outputs the signals to the outside of the CMOS image sensor 10 . The high-speed interface 19 further receives commands and the like from the outside. The logic circuit 20 controls the overall operation of the CMOS image sensor 10 according to commands given from the outside.

[カラムADCへの電源電圧供給の問題点]
図5は、カラムADC12を構成する各電圧比較器30への電源電圧VDDおよびグランド電圧GNDに供給について説明するための図である。
[Problems with power supply voltage supply to column ADC]
FIG. 5 is a diagram for explaining the supply of the power supply voltage VDD and ground voltage GND to each voltage comparator 30 constituting the column ADC 12.

図5の(A)は、電源端子40、グランド端子41、電源線44、およびグランド線45と、各電圧比較器30との接続を説明するための図である。通常、図5(A)に示すように、電源端子40およびグランド端子41は、行方向Xに配列されたn個(nは、例えば数千)の電圧比較器30の配列方向の両端に設けられる。もしくは、電源端子40およびグランド端子41は、n個の電圧比較器30の配列方向の片端のみに設けられる場合もある。電源線44およびグランド線45は、電源端子40およびグランド端子41にそれぞれ接続され、行方向Xに延在する。各電圧比較器30は、共通の電源線44およびグランド線45と接続される。 FIG. 5A is a diagram for explaining connections between the power supply terminal 40, the ground terminal 41, the power supply line 44, and the ground line 45 and each voltage comparator 30. Usually, as shown in FIG. 5A, a power supply terminal 40 and a ground terminal 41 are provided at both ends of n voltage comparators 30 (n is, for example, several thousand) arranged in the row direction X. It will be done. Alternatively, the power supply terminal 40 and the ground terminal 41 may be provided only at one end in the arrangement direction of the n voltage comparators 30. The power supply line 44 and the ground line 45 are connected to the power supply terminal 40 and the ground terminal 41, respectively, and extend in the row direction X. Each voltage comparator 30 is connected to a common power supply line 44 and a common ground line 45.

図5の(B)は、電源線44およびグランド線45に生じるIRドロップについて説明するための図である。同図の横軸はカラム位置(Column Position)を表し、縦軸は電源線44およびグランド線45の電圧を表す。 FIG. 5B is a diagram for explaining the IR drop that occurs on the power supply line 44 and the ground line 45. The horizontal axis in the figure represents the column position, and the vertical axis represents the voltages of the power supply line 44 and the ground line 45.

カラムADC12の各電圧比較器30には定常的にバイアス電流が流れており、この大きさは1個の電圧比較器30あたり約10μA程度である。カラムADC12には数千個の電圧比較器30が設けられているので、電源線44およびグランド線45に生じるIRドロップは、無視できない大きさになる。 A bias current constantly flows through each voltage comparator 30 of the column ADC 12, and the magnitude of this current is approximately 10 μA per voltage comparator 30. Since several thousand voltage comparators 30 are provided in the column ADC 12, the IR drop occurring on the power supply line 44 and the ground line 45 becomes large enough to not be ignored.

たとえば、図5の(B)に示すように、アナログ回路用の電源電圧として3.0Vが外部から供給され、ロジック回路用の電源電圧として1.2Vが外部から供給されている場合について例示する。この場合、電源線44の中央付近の電源電圧はIRドロップによって0.1V程度低下する場合がある。また、グランド線45の中央付近のグランド電圧はIRドロップによって0.1V程度上昇する場合がある。 For example, as shown in FIG. 5B, a case will be illustrated in which 3.0V is supplied from the outside as the power supply voltage for the analog circuit, and 1.2V is supplied from the outside as the power supply voltage for the logic circuit. . In this case, the power supply voltage near the center of the power supply line 44 may drop by about 0.1V due to the IR drop. Further, the ground voltage near the center of the ground line 45 may rise by about 0.1V due to an IR drop.

上記のようなIRドロップに起因した電源電圧の低下およびグランド電圧の上昇によって、行方向Xの中央付近のバイアス電流が減少する。この結果、中央付近のカラムADC12においてA/D変換に誤差が生じる。特に低照度の画像の撮像において誤差が大きくなる。 The bias current near the center in the row direction X decreases due to the decrease in power supply voltage and increase in ground voltage caused by the IR drop as described above. As a result, an error occurs in A/D conversion in the column ADC 12 near the center. The error becomes particularly large when capturing images with low illuminance.

また、CMOSイメージセンサ10を他の機能ブロックと共に半導体チップ上に混載した場合には、チップ全体の電源線はカラムADC12への電源供給のために最適化されるわけでない。この結果、IRドロップがより著しくなる。次に説明する電圧比較器の回路構成は、上記の問題点を解消することを目的としている。 Furthermore, when the CMOS image sensor 10 is mounted together with other functional blocks on a semiconductor chip, the power lines of the entire chip are not optimized for supplying power to the column ADCs 12. As a result, the IR drop becomes more significant. The circuit configuration of the voltage comparator to be described next is aimed at solving the above problems.

[電圧比較器の回路構成]
図6は、本実施形態の電圧比較器30の詳細な構成例を示す回路図である。図6を参照して、電圧比較器30は、図3を参照して説明した差動増幅器31、シングルエンド増幅器32、および二値化回路33に加えて、電圧変換回路50およびリピータ(repeater)回路57を備える。
[Circuit configuration of voltage comparator]
FIG. 6 is a circuit diagram showing a detailed configuration example of the voltage comparator 30 of this embodiment. Referring to FIG. 6, voltage comparator 30 includes a voltage conversion circuit 50 and a repeater in addition to differential amplifier 31, single-end amplifier 32, and binarization circuit 33 described with reference to FIG. A circuit 57 is provided.

さらに、電圧比較器30には、外部から与えられたアナログ回路用の電源電圧VDDAを供給する電源線51と、アナログ回路用のグランド電圧GNDAを供給するグランド線52とが設けられている。また、外部から与えられたロジック回路用の電源電圧VDDLを供給する電源線53と、ロジック回路用のグランド電圧GNDLを供給するグランド線54とが設けられている。さらに、電圧比較器30には、電圧変換回路50によって電源電圧VDDAから変換された電源電圧VDDCを供給するためのローカルの電源線56が設けられている。 Further, the voltage comparator 30 is provided with a power line 51 that supplies an externally applied power supply voltage VDDA for the analog circuit, and a ground line 52 that supplies a ground voltage GNDA for the analog circuit. Further, a power line 53 that supplies a power supply voltage VDDL for the logic circuit applied from the outside, and a ground line 54 that supplies a ground voltage GNDL for the logic circuit are provided. Further, the voltage comparator 30 is provided with a local power line 56 for supplying the power supply voltage VDDC converted from the power supply voltage VDDA by the voltage conversion circuit 50.

上記の電源電圧VDDLは、電源電圧VDDAよりも低い電圧値であり、電源電圧VDDCは、たとえば、電源電圧VDDLに等しい電圧値に設定される。一例として、電源電圧VDDAは3.0Vであり、電源電圧VDDL,VDDCは1.2Vである。 The above power supply voltage VDDL has a voltage value lower than the power supply voltage VDDA, and the power supply voltage VDDC is set, for example, to a voltage value equal to the power supply voltage VDDL. As an example, the power supply voltage VDDA is 3.0V, and the power supply voltages VDDL and VDDC are 1.2V.

以下、差動増幅器31の構成例について説明する。図6に示すように、差動増幅器31は、PMOSトランジスタPM1,PM2,PM3と、NMOSトランジスタNM1,NM2と、スイッチ素子AZ1,AZ2とを備える。差動増幅器31には、アナログ回路用の電源電圧VDDAおよびアナログ回路用のグランド電圧GNDAが供給される。以下、差動増幅器31を構成する各素子の接続について簡単に説明する。 An example of the configuration of the differential amplifier 31 will be described below. As shown in FIG. 6, the differential amplifier 31 includes PMOS transistors PM1, PM2, PM3, NMOS transistors NM1, NM2, and switch elements AZ1, AZ2. The differential amplifier 31 is supplied with an analog circuit power supply voltage VDDA and an analog circuit ground voltage GNDA. The connection of each element constituting the differential amplifier 31 will be briefly explained below.

PMOSトランジスタPM1およびNMOSトランジスタNM1は、中間ノードN1とグランド線52との間にこの順で直列に接続される。PMOSトランジスタPM2およびNMOSトランジスタNM2は、上記の直列接続されたMOSトランジスタPM1,NM1と並列に、中間ノードN1とグランド線52との間にこの順で直列に接続される。 PMOS transistor PM1 and NMOS transistor NM1 are connected in series in this order between intermediate node N1 and ground line 52. The PMOS transistor PM2 and the NMOS transistor NM2 are connected in series in this order between the intermediate node N1 and the ground line 52 in parallel with the series-connected MOS transistors PM1 and NM1.

PMOSトランジスタPM1,PM2は入力トランジスタ対を構成する。PMOSトランジスタPM1のゲートには、容量素子C2を介してランプ電圧Vrampが入力される。PMOSトランジスタPM2のゲートには、容量素子C1を介して画素電圧Vpixが入力される。NMOSトランジスタNM1のゲートは、自身のドレインとNMOSトランジスタNM2のゲートに接続される。これにより、NMOSトランジスタNM1,NM2はカレントミラー回路を構成する。 PMOS transistors PM1 and PM2 constitute an input transistor pair. A ramp voltage Vramp is input to the gate of the PMOS transistor PM1 via the capacitive element C2. The pixel voltage Vpix is input to the gate of the PMOS transistor PM2 via the capacitive element C1. The gate of the NMOS transistor NM1 is connected to its own drain and the gate of the NMOS transistor NM2. Thereby, NMOS transistors NM1 and NM2 constitute a current mirror circuit.

PMOSトランジスタPM3は、電源線51と中間ノードN1との間に接続される。PMOSトランジスタPM3のゲートには、共通のバイアス電圧Vbiasが供給される。これにより、PMOSトランジスタPM3は定電流源として機能する。 PMOS transistor PM3 is connected between power supply line 51 and intermediate node N1. A common bias voltage Vbias is supplied to the gate of the PMOS transistor PM3. Thereby, the PMOS transistor PM3 functions as a constant current source.

PMOSトランジスタPM2とNMOSトランジスタNM2との接続ノードN3は、差動増幅器31の出力ノードとして次段のシングルエンド増幅器32に接続される。 A connection node N3 between the PMOS transistor PM2 and the NMOS transistor NM2 is connected to the next-stage single-ended amplifier 32 as an output node of the differential amplifier 31.

スイッチ素子AZ1は、MOSトランジスタPM1およびNM1の接続ノードN2とPMOSトランジスタPM1のゲートとの間に接続される。スイッチ素子AZ2は、MOSトランジスタPM2およびNM2の接続ノードN3と、PMOSトランジスタPM2のゲートとの間に接続される。スイッチ素子AZ1,AZ2をオンすることによって、差動増幅器31の入力オフセットが除去される。その後、スイッチ素子AZ1,AZ2をオフしてから、カウンタ回路14のカウントアップとランプ電圧Vrampの掃引とが開始される。 Switch element AZ1 is connected between connection node N2 of MOS transistors PM1 and NM1 and the gate of PMOS transistor PM1. Switch element AZ2 is connected between connection node N3 of MOS transistors PM2 and NM2 and the gate of PMOS transistor PM2. By turning on switch elements AZ1 and AZ2, the input offset of differential amplifier 31 is removed. Thereafter, after turning off the switch elements AZ1 and AZ2, the counter circuit 14 starts counting up and sweeping the lamp voltage Vramp.

次に、シングルエンド増幅器32の構成例について説明する。図6に示すように、シングルエンド増幅器32は、PMOSトランジスタPM4と、NMOSトランジスタNM3と、容量素子C3と、スイッチ素子AZ3とを備える。シングルエンド増幅器32には、ローカルの電源電圧VDDCおよびアナログ回路用のグランド電圧GNDAが供給される。以下、シングルエンド増幅器32を構成する素子の接続について簡単に説明する。 Next, a configuration example of the single-ended amplifier 32 will be described. As shown in FIG. 6, the single-ended amplifier 32 includes a PMOS transistor PM4, an NMOS transistor NM3, a capacitive element C3, and a switch element AZ3. The single-ended amplifier 32 is supplied with a local power supply voltage VDDC and a ground voltage GNDA for the analog circuit. Hereinafter, the connection of the elements constituting the single-ended amplifier 32 will be briefly explained.

PMOSトランジスタPM4およびNMOSトランジスタNM3は、電源線56とグランド線52との間にこの順で直列に接続される。容量素子C3は、PMOSトランジスタPM4のゲートとソースとの間に接続される。スイッチ素子AZ3は、PMOSトランジスタPM4のゲートとソースとの間に接続される。スイッチ素子AZ3は、容量素子C3に所定電圧を充電する際に閉状態に制御され、電圧比較器30の動作中には開状態に制御される。 PMOS transistor PM4 and NMOS transistor NM3 are connected in series in this order between power supply line 56 and ground line 52. Capacitive element C3 is connected between the gate and source of PMOS transistor PM4. Switch element AZ3 is connected between the gate and source of PMOS transistor PM4. Switch element AZ3 is controlled to be in a closed state when charging capacitive element C3 with a predetermined voltage, and is controlled to be in an open state while voltage comparator 30 is operating.

容量素子C3の充電電圧がPMOSトランジスタPM4のゲートにバイアスされることにより、PMOSトランジスタPM4は電流iを流す電流源として用いられる。したがって、NMOSトランジスタNM3は、電流源を負荷とするソース接地増幅回路として機能する。 By biasing the charging voltage of the capacitive element C3 to the gate of the PMOS transistor PM4, the PMOS transistor PM4 is used as a current source that flows the current i1 . Therefore, the NMOS transistor NM3 functions as a source-grounded amplifier circuit that uses the current source as a load.

シングルエンド増幅器32の入力ノードであるNMOSトランジスタNM3のゲートは、前段の差動増幅器31の出力ノードである接続ノードN3に接続される。PMOSトランジスタPM4とNMOSトランジスタNM3との接続ノードN4は、シングルエンド増幅器32の出力ノードとして次段の二値化回路33に接続される。 The gate of the NMOS transistor NM3, which is the input node of the single-ended amplifier 32, is connected to the connection node N3, which is the output node of the differential amplifier 31 at the previous stage. A connection node N4 between the PMOS transistor PM4 and the NMOS transistor NM3 is connected to the next stage binarization circuit 33 as an output node of the single-ended amplifier 32.

ここで、PMOSトランジスタPM4のバイアス電圧は、各電圧比較器30で共通のバイアス線を介して供給することも一応可能である。しかしながら、シングルエンド増幅器32の出力電圧は急峻に変化するために、共通のバイアス線にラッシュ電流と呼ばれるノイズがのってしまう。そこで、容量素子C3を用いた自己バイアス回路によって、他の電圧比較器30へのキックバックを防止する。 Here, it is also possible to supply the bias voltage of the PMOS transistor PM4 to each voltage comparator 30 via a common bias line. However, since the output voltage of the single-ended amplifier 32 changes rapidly, noise called rush current is added to the common bias line. Therefore, kickback to other voltage comparators 30 is prevented by a self-bias circuit using capacitive element C3.

図6に示すように、電圧変換回路50は、PMOSトランジスタPM5と差動増幅器L1とを含む。 As shown in FIG. 6, voltage conversion circuit 50 includes a PMOS transistor PM5 and a differential amplifier L1.

PMOSトランジスタPM5は、外部からアナログ回路用の電源電圧VDDAが供給される電源線51とローカルの電源線56との間に接続される。差動増幅器L1の出力ノードはPMOSトランジスタPM5のゲートに接続され、差動増幅器L1の非反転入力ノードは、電源線56に接続される。差動増幅器L1の反転入力ノードには、ロジック回路用の電源電圧VDDLが与えられる。 The PMOS transistor PM5 is connected between a power line 51 to which an analog circuit power supply voltage VDDA is supplied from the outside and a local power line 56. The output node of differential amplifier L1 is connected to the gate of PMOS transistor PM5, and the non-inverting input node of differential amplifier L1 is connected to power supply line 56. A logic circuit power supply voltage VDDL is applied to an inverting input node of the differential amplifier L1.

上記の構成によれば、電圧変換回路50は、電源電圧VDDAからそれよりも低電圧の電源電圧VDDCを生成する。電源電圧VDDAがIRドロップにより低下したとしても、電圧変換回路50は電源電圧VDDCの値をロジック回路用の電源電圧VDDLに略等しい一定の値に保つことができる。この結果、PMOSトランジスタPM4を流れる電流i1もほぼ一定に保つことができるので、非特許文献1に開示されていたような電流補償回路が不要になる。 According to the above configuration, the voltage conversion circuit 50 generates a lower voltage power supply voltage VDDC from the power supply voltage VDDA. Even if the power supply voltage VDDA decreases due to IR drop, the voltage conversion circuit 50 can maintain the value of the power supply voltage VDDC at a constant value that is approximately equal to the power supply voltage VDDL for the logic circuit. As a result, the current i1 flowing through the PMOS transistor PM4 can also be kept substantially constant, making the current compensation circuit as disclosed in Non-Patent Document 1 unnecessary.

二値化回路33は、PMOSトランジスタPM6およびNMOSトランジスタNM4と含む。トランジスタPM6,NM4は、電圧変換回路50によって生成された電源電圧VDDCを供給するための電源線56とロジック回路用のグランド線54との間にこの順で直列に接続される。PMOSトランジスタPM6のゲートは、二値化回路33の入力ノードとして、シングルエンド増幅器32の出力ノードである接続ノードN4に接続される。PMOSトランジスタPM6とNMOSトランジスタNM4との接続ノードN5は、二値化回路33の出力ノードとして、次段のリピータ回路57に接続される。 Binarization circuit 33 includes a PMOS transistor PM6 and an NMOS transistor NM4. Transistors PM6 and NM4 are connected in series in this order between a power supply line 56 for supplying the power supply voltage VDDC generated by the voltage conversion circuit 50 and a ground line 54 for the logic circuit. The gate of the PMOS transistor PM6 is connected to the connection node N4, which is the output node of the single-ended amplifier 32, as an input node of the binarization circuit 33. A connection node N5 between the PMOS transistor PM6 and the NMOS transistor NM4 is connected to the next stage repeater circuit 57 as an output node of the binarization circuit 33.

二値化回路33の動作について簡単に説明すると次のとおりである。電圧比較器30の動作前に、NMOSトランジスタNM4のゲートにリセット信号RSPが入力されることによって、NMOSトランジスタNM4が導通状態になる。これにより、接続ノードN5がグランド電圧GNDLにリセットされる。この状態が、二値化回路33のL状態に相当する。しかる後に、PMOSトランジスタPM6のゲートへの入力信号に応じて、二値化回路33がH状態に変化する(後述する図7の時刻t4,t9に対応する)。 The operation of the binarization circuit 33 will be briefly explained as follows. Before the voltage comparator 30 operates, the reset signal RSP is input to the gate of the NMOS transistor NM4, so that the NMOS transistor NM4 becomes conductive. This resets the connection node N5 to the ground voltage GNDL. This state corresponds to the L state of the binarization circuit 33. Thereafter, the binarization circuit 33 changes to the H state in response to the input signal to the gate of the PMOS transistor PM6 (corresponding to times t4 and t9 in FIG. 7, which will be described later).

リピータ回路57は、縦続接続されたインバータL2,L3を含み、ロジック回路用の電源電圧VDDLとロジック回路用のグランド電圧GNDLによって動作する。インバータL2の入力ノードは、リピータ回路57の入力ノードとして、二値化回路33の出力ノードである接続ノードN5に接続される。 The repeater circuit 57 includes cascade-connected inverters L2 and L3, and operates using a logic circuit power supply voltage VDDL and a logic circuit ground voltage GNDL. An input node of the inverter L2 is connected to a connection node N5, which is an output node of the binarization circuit 33, as an input node of the repeater circuit 57.

上記の電圧比較器30の構成において、差動増幅器31、電圧変換回路50、およびシングルエンド増幅器32のNMOSトランジスタNM3は、耐圧を電源電圧VDDA以上にする必要がある。したがって、これらの部分(図6において、一点鎖線58で囲まれていない部分)は、ゲート絶縁膜が比較的厚くかつしきい値電圧が比較的大きい、いわゆる厚膜トランジスタで構成される。一方、二値化回路33、リピータ回路57、シングルエンド増幅器32のPMOSトランジスタPM4の耐圧は、電源電圧VDDAより小さく電源電圧VDDL(VDDCに等しい)より大きければよい。したがって、これらの部分(図6において、一点鎖線58で囲まれている部分)は、ゲート絶縁膜が比較的薄くかつしきい値電圧が比較的小さい、いわゆる薄膜トランジスタで構成される。 In the configuration of the voltage comparator 30 described above, the differential amplifier 31, the voltage conversion circuit 50, and the NMOS transistor NM3 of the single-end amplifier 32 need to have a withstand voltage equal to or higher than the power supply voltage VDDA. Therefore, these portions (portions not surrounded by the dashed line 58 in FIG. 6) are constituted by so-called thick film transistors having a relatively thick gate insulating film and a relatively high threshold voltage. On the other hand, the withstand voltage of the PMOS transistor PM4 of the binarization circuit 33, the repeater circuit 57, and the single-end amplifier 32 only needs to be smaller than the power supply voltage VDDA and larger than the power supply voltage VDDL (equal to VDDC). Therefore, these portions (the portions surrounded by the dashed-dotted line 58 in FIG. 6) are constituted by so-called thin film transistors having relatively thin gate insulating films and relatively low threshold voltages.

上記のように比較的低耐圧のトランジスタPM6を用いることによって、低照度の画像信号にためにシングルエンド増幅器32の出力が低振幅であっても、PMOSトランジスタPM6を十分に導通状態にできる。この結果、二値化回路33の出力信号Coutを比較的急峻にHレベルに変化させることができるので、A/D変換誤差を低減できる。 By using the transistor PM6 having a relatively low breakdown voltage as described above, the PMOS transistor PM6 can be made sufficiently conductive even if the output of the single-ended amplifier 32 has a low amplitude due to the low-illuminance image signal. As a result, the output signal Cout of the binarization circuit 33 can be changed to H level relatively sharply, so that A/D conversion errors can be reduced.

[カラムADCの動作]
図7は、カラムADCの動作を説明するためのタイミング図である。図7には、デジタルCDS動作(Digital CDS Operation)が示されている。以下、図6を参照してこれまでの説明を総括しながら、カラムADC12の動作について説明する。以下のカラムADC12の動作は、図1の論理回路20によって制御される。
[Column ADC operation]
FIG. 7 is a timing diagram for explaining the operation of the column ADC. FIG. 7 shows a digital CDS operation. Hereinafter, the operation of the column ADC 12 will be explained while summarizing the explanation so far with reference to FIG. The following operations of the column ADC 12 are controlled by the logic circuit 20 in FIG.

なお、図7の電源電圧VDDCおよび二値化回路33の出力電圧Coutの波形において、実線は本実施形態のカラムADC12の場合を示し、破線は従来技術(非特許文献1)の場合を示す。 Note that in the waveforms of the power supply voltage VDDC and the output voltage Cout of the binarization circuit 33 in FIG. 7, the solid line indicates the case of the column ADC 12 of this embodiment, and the broken line indicates the case of the conventional technology (non-patent document 1).

図7の時刻t5までは、リセット状態(Reset State)における画素電圧Vpixを検出するリセット変換(Reset Conversion)が示されている。 Until time t5 in FIG. 7, a reset conversion is shown in which the pixel voltage Vpix in the reset state is detected.

具体的に時刻t1において、カウンタ回路14はカウントを開始する。この時刻t1の時点において、ランプ電圧生成器15の出力電圧は、最大電圧(電源電圧VDD)である。また、NMOSトランジスタNM3は非導通状態であるので、PMOSトランジスタPM4を流れる電流iは0である。 Specifically, at time t1, the counter circuit 14 starts counting. At this time t1, the output voltage of the lamp voltage generator 15 is the maximum voltage (power supply voltage VDD). Further, since the NMOS transistor NM3 is in a non-conducting state, the current i1 flowing through the PMOS transistor PM4 is zero.

次の時刻t2において、ランプ電圧生成器15の出力電圧(ランプ電圧Vramp)は減少し始める。 At the next time t2, the output voltage of the ramp voltage generator 15 (ramp voltage Vramp) begins to decrease.

その次の時刻t3において、ランプ電圧Vrampとリセット状態の画素電圧Vpixとが交差するので、NMOSトランジスタNM3が導通し、PMOSトランジスタPM4に電流iが流れ始める。これにより、アナログ回路用の電源電圧VDDAおよびアナログ回路用のグランド電圧GNDAには、IRドロップによる急激な電圧の変化が生じる。しかしながら、これらの電源電圧VDDAおよびグランド電圧GNDAは差動増幅器31において用いられるので、電圧比較器30の動作に影響を及ぼさない。一方、シングルエンド増幅器32において用いられる電源電圧VDDCにおけるIRドロップは、従来技術に比べて大幅に改善している。 At the next time t3, the ramp voltage Vramp and the pixel voltage Vpix in the reset state intersect, so the NMOS transistor NM3 becomes conductive and the current i1 begins to flow through the PMOS transistor PM4. As a result, a sudden voltage change occurs in the power supply voltage VDDA for the analog circuit and the ground voltage GNDA for the analog circuit due to the IR drop. However, since these power supply voltage VDDA and ground voltage GNDA are used in the differential amplifier 31, they do not affect the operation of the voltage comparator 30. On the other hand, the IR drop at the power supply voltage VDDC used in the single-ended amplifier 32 is significantly improved compared to the prior art.

その次の時刻t4において、二値化回路33の出力電圧CoutがLレベルからHレベルに切り替わる。ラッチ回路13は、そのときにカウンタ回路14から出力されるデジタルコードをリセットデータ(Reset Data)Drとして格納する。本実施形態の場合には、二値化回路33の出力電圧Coutの上昇が急峻であるので、A/D変換誤差を低減できる。 At the next time t4, the output voltage Cout of the binarization circuit 33 switches from the L level to the H level. The latch circuit 13 stores the digital code output from the counter circuit 14 at that time as reset data Dr. In the case of this embodiment, since the output voltage Cout of the binarization circuit 33 rises steeply, A/D conversion errors can be reduced.

図7の時刻t5以降には、画素信号(Pixel Signal)に対応する画素電圧Vpixを検出する信号変換(Signal Conversion)が示されている。 After time t5 in FIG. 7, signal conversion (Signal Conversion) for detecting the pixel voltage Vpix corresponding to the pixel signal (Pixel Signal) is shown.

具体的に時刻t6において、カウンタ回路14はカウントを開始する。この時刻t6の時点において、ランプ電圧生成器15の出力電圧は、最大電圧(電源電圧VDD)である。また、NMOSトランジスタNM3は非導通状態であるので、PMOSトランジスタPM4を流れる電流iは0である。 Specifically, at time t6, the counter circuit 14 starts counting. At this time t6, the output voltage of the lamp voltage generator 15 is the maximum voltage (power supply voltage VDD). Further, since the NMOS transistor NM3 is in a non-conducting state, the current i1 flowing through the PMOS transistor PM4 is zero.

次の時刻t7において、ランプ電圧生成器15の出力電圧(ランプ電圧Vramp)は減少し始める。 At the next time t7, the output voltage of the ramp voltage generator 15 (ramp voltage Vramp) begins to decrease.

その次の時刻t8において、ランプ電圧Vrampと画素信号の画素電圧Vpixとが交差するので、NMOSトランジスタNM3が導通し、PMOSトランジスタPM4に電流iが流れ始める。シングルエンド増幅器32において用いられる電源電圧VDDCにおけるIRドロップは、従来技術に比べて改善している。 At the next time t8, the ramp voltage Vramp and the pixel voltage Vpix of the pixel signal intersect, so the NMOS transistor NM3 becomes conductive and the current i1 begins to flow through the PMOS transistor PM4. The IR drop at the power supply voltage VDDC used in single-ended amplifier 32 is improved compared to the prior art.

その次の時刻t9において、二値化回路33の出力電圧CoutがLレベルからHレベルに切り替わる。ラッチ回路13は、そのときにカウンタ回路14から出力されるデジタルコードを信号データ(Signal Data)Dsとして格納する。 At the next time t9, the output voltage Cout of the binarization circuit 33 switches from the L level to the H level. The latch circuit 13 stores the digital code output from the counter circuit 14 at that time as signal data Ds.

[実施の形態1の効果]
上記のとおり実施の形態1のカラムADC12によれば、電源電圧VDDCを生成するためのローカルレギュレータとして電圧変換回路50が設けられている。これにより、電圧比較器30のシングルエンド増幅器32における電流変化をリアルタイムに補償できるので、電源電圧VDDCのIRドロップを抑制できる。結果として、低照度画像におけるA/D変換特性を改善できる。また、従来技術(非特許文献1)で必要であった電流補償回路を不要にできる。
[Effects of Embodiment 1]
As described above, according to the column ADC 12 of the first embodiment, the voltage conversion circuit 50 is provided as a local regulator for generating the power supply voltage VDDC. Thereby, the current change in the single-ended amplifier 32 of the voltage comparator 30 can be compensated for in real time, so that the IR drop of the power supply voltage VDDC can be suppressed. As a result, A/D conversion characteristics in low-light images can be improved. Further, the current compensation circuit required in the conventional technology (Non-Patent Document 1) can be made unnecessary.

さらに、実施の形態1のカラムADC12によれば、シングルエンド増幅器32のPMOSトランジスタPM4および二値化回路33を、ゲート絶縁膜が比較的薄いいわゆる薄膜トランジスタで構成できる。これにより、シングルエンド増幅器32以降の信号伝搬には、全てロジック回路用の電源電圧VDDL(またはVDDC)を用いることができる。これにより、低照度画像において生じる低振幅の画素信号の場合においても遅延が生じることがなく、A/D変換特性を劣化させない。 Furthermore, according to the column ADC 12 of the first embodiment, the PMOS transistor PM4 of the single-ended amplifier 32 and the binarization circuit 33 can be configured with so-called thin film transistors having a relatively thin gate insulating film. As a result, the logic circuit power supply voltage VDDL (or VDDC) can be used for all signal propagation after the single-end amplifier 32. As a result, even in the case of low-amplitude pixel signals that occur in low-illuminance images, no delay occurs and the A/D conversion characteristics do not deteriorate.

また、上記のように電流補償回路を不要にでき、かつ、シングルエンド増幅器32および二値化回路33を薄膜トランジスタで構成できるので、回路面積の小面積化が可能になる。 Furthermore, as described above, the current compensation circuit can be made unnecessary, and the single-end amplifier 32 and the binarization circuit 33 can be constructed of thin film transistors, so that the circuit area can be reduced.

また、ローカルレギュレータとして電圧変換回路50を設けることにより、IRドロップを抑制するために電源配線の配置に対して課される過度の制限がなくなる。これにより、電圧比較器単体およびカラムADCの回路配線情報をIP(Intellectual Property)として提供することが容易になる。 Further, by providing the voltage conversion circuit 50 as a local regulator, excessive restrictions imposed on the arrangement of power supply wiring in order to suppress IR drop are eliminated. This makes it easy to provide circuit wiring information for a single voltage comparator and a column ADC as IP (Intellectual Property).

<第2の実施形態>
第1の実施形態の場合、電圧変換回路50は電圧比較器30ごとに設けられていた。第2の実施形態のカラムADC12Aでは、複数の電圧比較器30に対して1個の電圧変換回路60を設けることにより、電圧変換回路60が分散配置される。これにより、カラムADCの回路面積をさらに削減できる。以下、図面を参照して詳しく説明する。
<Second embodiment>
In the case of the first embodiment, the voltage conversion circuit 50 was provided for each voltage comparator 30. In the column ADC 12A of the second embodiment, one voltage conversion circuit 60 is provided for a plurality of voltage comparators 30, so that the voltage conversion circuits 60 are distributed. Thereby, the circuit area of the column ADC can be further reduced. A detailed description will be given below with reference to the drawings.

図8は、第2の実施形態のカラムADC12Aの構成を示すブロック図である。図8に示す例では、8個の電圧比較器30Aごとに1個のローカルレギュレータとしての電圧変換回路60が設けられる。電圧変換回路60は、8個の電圧比較器30Aに対応する8個のラッチ回路13の配列の間に配置される。電圧変換回路60から出力される電源電圧VDDCは、行方向Xに延在するローカルの電源線56を介して、対応する電圧比較器30Aに供給される。 FIG. 8 is a block diagram showing the configuration of the column ADC 12A of the second embodiment. In the example shown in FIG. 8, one voltage conversion circuit 60 as a local regulator is provided for every eight voltage comparators 30A. The voltage conversion circuit 60 is arranged between the eight latch circuits 13 corresponding to the eight voltage comparators 30A. The power supply voltage VDDC output from the voltage conversion circuit 60 is supplied to the corresponding voltage comparator 30A via a local power supply line 56 extending in the row direction X.

図8のその他の点は図3の場合と同様であるので、同一または相当する部分には同一の参照符号を付して説明を繰り返さない。 Other points in FIG. 8 are similar to those in FIG. 3, so the same or corresponding parts are given the same reference numerals and the description will not be repeated.

図9は、図8の各電圧比較器30Aの構成を示す回路図である。図9の電圧比較器30Aは、電圧変換回路50を含まない点で図6の電圧比較器30と異なる。図9のその他の点は図6の場合と同様であるので、同一または相当する部分には同一の参照符号を付して説明を繰り返さない。 FIG. 9 is a circuit diagram showing the configuration of each voltage comparator 30A in FIG. 8. Voltage comparator 30A in FIG. 9 differs from voltage comparator 30 in FIG. 6 in that voltage conversion circuit 50 is not included. Other points in FIG. 9 are similar to those in FIG. 6, so the same or corresponding parts are given the same reference numerals and the description will not be repeated.

図10は、図8の電圧変換回路60の構成を示す回路図である。図10の電圧変換回路60は、図6の電圧変換回路50に対応している。具体的に、電圧変換回路60は、PMOSトランジスタPM7と差動増幅器L4とを含む。 FIG. 10 is a circuit diagram showing the configuration of voltage conversion circuit 60 of FIG. 8. The voltage conversion circuit 60 in FIG. 10 corresponds to the voltage conversion circuit 50 in FIG. Specifically, voltage conversion circuit 60 includes a PMOS transistor PM7 and a differential amplifier L4.

PMOSトランジスタPM7は、外部からアナログ回路用の電源電圧VDDAが供給される電源線61とローカルの電源線56との間に接続される。差動増幅器L4の出力ノードはPMOSトランジスタPM7のゲートに接続され、差動増幅器L4の非反転入力ノードは、電源線56に接続される。差動増幅器L4の反転入力ノードには、ロジック回路用の電源電圧VDDLが与えられる。 The PMOS transistor PM7 is connected between a power line 61 to which an analog circuit power supply voltage VDDA is supplied from the outside and a local power line 56. The output node of differential amplifier L4 is connected to the gate of PMOS transistor PM7, and the non-inverting input node of differential amplifier L4 is connected to power supply line 56. The logic circuit power supply voltage VDDL is applied to the inverting input node of the differential amplifier L4.

上記に構成によれば、電源電圧VDDAの変化によらずに電源線56の電源電圧VDDCを一定に保つことができる。対応する8個の電圧比較器30Aに電流iが流れるとき、電圧変換回路60のPMOSトランジスタPM7には8×iが流れる。この電流8×iの変動を抑制できる。 According to the above configuration, the power supply voltage VDDC of the power supply line 56 can be kept constant regardless of changes in the power supply voltage VDDA. When current i 1 flows through the eight corresponding voltage comparators 30A, 8×i 1 flows through the PMOS transistor PM7 of the voltage conversion circuit 60. Fluctuations in this current 8×i 1 can be suppressed.

以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。 Although the invention made by the present inventor has been specifically explained based on the embodiments above, the present invention is not limited to the above embodiments, and various changes can be made without departing from the gist thereof. Needless to say.

1 リセットトランジスタ、2 転送トランジスタ、3 フォトダイオード、4 増幅トランジスタ、5 選択トランジスタ、7 フローティングディフュージョン、10 イメージセンサ、11 画素アレイ、12,12A カラムADC、13 ラッチ回路、14 カウンタ回路、15 ランプ電圧生成器、16 バイアス電圧生成器、17 垂直走査回路、18 レギュレータ回路、19 高速インターフェイス、20 論理回路、25 画素、26 垂直信号線、30,30A 電圧比較器、31 差動増幅器、32 シングルエンド増幅器、33 二値化回路、34 D/A変換器、35 バッファ、36 電圧供給線、37 定電流源、38,NM1~NM4,PM1~PM7 MOSトランジスタ、39 バイアス線、40 電源端子、41 グランド端子、44,51,53,56,61 電源線、45,52,54 グランド線、50,60 電圧変換回路、57 リピータ回路、AZ1,AZ2,AZ3 スイッチ素子、C1,C2,C3 容量素子、Cout 出力信号、GND,GNDA,GNDL グランド電圧、L1,L4 差動増幅器、L2,L3 インバータ、RSP リセット信号、RX,SL,TX 水平信号線、VDD,VDDA,VDDC,VDDL 電源電圧、Vbias バイアス電圧、Vpix 画素電圧、Vramp ランプ電圧。 1 reset transistor, 2 transfer transistor, 3 photodiode, 4 amplification transistor, 5 selection transistor, 7 floating diffusion, 10 image sensor, 11 pixel array, 12, 12A column ADC, 13 latch circuit, 14 counter circuit, 15 lamp voltage generation 16 bias voltage generator, 17 vertical scanning circuit, 18 regulator circuit, 19 high-speed interface, 20 logic circuit, 25 pixel, 26 vertical signal line, 30, 30A voltage comparator, 31 differential amplifier, 32 single-ended amplifier, 33 binarization circuit, 34 D/A converter, 35 buffer, 36 voltage supply line, 37 constant current source, 38, NM1 to NM4, PM1 to PM7 MOS transistor, 39 bias line, 40 power supply terminal, 41 ground terminal, 44, 51, 53, 56, 61 power supply line, 45, 52, 54 ground line, 50, 60 voltage conversion circuit, 57 repeater circuit, AZ1, AZ2, AZ3 switch element, C1, C2, C3 capacitive element, Cout output signal , GND, GNDA, GNDL ground voltage, L1, L4 differential amplifier, L2, L3 inverter, RSP reset signal, RX, SL, TX horizontal signal line, VDD, VDDA, VDDC, VDDL power supply voltage, Vbias bias voltage, Vpix pixel Voltage, Vramp Ramp voltage.

Claims (12)

半導体装置であって、基準電圧と検知電圧とを比較する電圧比較器を備え、前記電圧比較器は、
外部から供給される第1の電源電圧で動作し、前記基準電圧が入力される第1の入力ノードと前記検知電圧が入力される第2の入力ノードとを有し、前記基準電圧と前記検知電圧との差分電圧を増幅して出力する差動増幅器と、
前記差動増幅器によって増幅された前記差分電圧が入力される、第2の電源電圧で動作するシングルエンド増幅器とを含み、
前記半導体装置は、さらに、前記第1の電源電圧を降圧することによって前記第2の電源電圧を生成する電圧変換回路を備え、
前記電圧変換回路は、前記第1の電源電圧の変動によらずに、前記第2の電源電圧を一定に保つように動作する、半導体装置。
A semiconductor device, comprising a voltage comparator that compares a reference voltage and a detection voltage, the voltage comparator comprising:
It operates with a first power supply voltage supplied from the outside, and has a first input node to which the reference voltage is input and a second input node to which the detection voltage is input, and the reference voltage and the detection voltage are connected to each other. A differential amplifier that amplifies and outputs the differential voltage,
a single-ended amplifier operating on a second power supply voltage to which the differential voltage amplified by the differential amplifier is input;
The semiconductor device further includes a voltage conversion circuit that generates the second power supply voltage by stepping down the first power supply voltage,
The semiconductor device, wherein the voltage conversion circuit operates to keep the second power supply voltage constant regardless of fluctuations in the first power supply voltage.
デジタルコードを出力するカウンタ回路と、
前記デジタルコードの変化に同期して変化するランプ電圧を、前記基準電圧として生成するランプ電圧生成器と、
前記電圧比較器の出力信号の変化に応じて、前記デジタルコードを前記検知電圧のデジタル変換値に対応する値として保持するラッチ回路とをさらに備える、請求項1に記載の半導体装置。
A counter circuit that outputs a digital code,
a lamp voltage generator that generates a lamp voltage that changes in synchronization with changes in the digital code as the reference voltage;
2. The semiconductor device according to claim 1, further comprising a latch circuit that holds the digital code as a value corresponding to a digital conversion value of the detected voltage in accordance with a change in the output signal of the voltage comparator.
前記シングルエンド増幅器は、
前記差動増幅器によって増幅された前記差分電圧が制御電極に入力される第1の導電型の第1のトランジスタと、
前記第1のトランジスタと前記第2の電源電圧が供給される電源線との間に接続され、制御電極に定電圧が入力される、前記第1の導電型と反対の第2の導電型の第2のトランジスタとを含み、
前記差動増幅器を構成する複数のトランジスタおよび前記第1のトランジスタは、前記第1の電源電圧よりも高い耐圧を有する厚膜トランジスタで構成され、
前記第2のトランジスタは、前記第1の電源電圧よりも低く前記第2の電源電圧よりも高い耐圧を有する薄膜トランジスタで構成される、請求項1に記載の半導体装置。
The single-ended amplifier is
a first transistor of a first conductivity type, into which the differential voltage amplified by the differential amplifier is input to a control electrode;
A second conductivity type opposite to the first conductivity type, which is connected between the first transistor and a power supply line to which the second power supply voltage is supplied, and a constant voltage is input to the control electrode. a second transistor;
The plurality of transistors constituting the differential amplifier and the first transistor are composed of thick film transistors having a withstand voltage higher than the first power supply voltage,
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the second transistor is a thin film transistor having a breakdown voltage lower than the first power supply voltage and higher than the second power supply voltage.
前記電圧比較器は、前記シングルエンド増幅器によって増幅された信号が入力され、前記第2の電源電圧で動作する二値化回路をさらに備え、
前記二値化回路を構成するトランジスタは、前記薄膜トランジスタで構成される、請求項3に記載の半導体装置。
The voltage comparator further includes a binarization circuit to which the signal amplified by the single-ended amplifier is input and operates at the second power supply voltage,
4. The semiconductor device according to claim 3, wherein the transistors forming the binarization circuit are formed from the thin film transistors.
前記シングルエンド増幅器は、
前記第2のトランジスタの前記制御電極と前記第2の電源電圧が供給される電源線との間に接続され、前記制御電極に入力される前記定電圧を保持する容量素子をさらに含む、請求項3に記載の半導体装置。
The single-ended amplifier is
Claim further comprising: a capacitive element connected between the control electrode of the second transistor and a power line to which the second power supply voltage is supplied, and holding the constant voltage input to the control electrode. 3. The semiconductor device according to 3.
半導体装置であって、共通の基準電圧と各々に対応する検知電圧とを比較するn個(nは2以上整数)の電圧比較器を備え、前記n個の電圧比較器の各々は、
外部から供給される共通の第1の電源電圧で動作し、前記基準電圧が入力される第1の入力ノードと前記対応する検知電圧が入力される第2の入力ノードとを有し、前記基準電圧と前記対応する検知電圧との差分電圧を増幅して出力する差動増幅器と、
前記差動増幅器によって増幅された前記差分電圧が入力され、第2の電源電圧で動作するシングルエンド増幅器とを含み、
前記半導体装置は、各々が1個以上の差動増幅器に対応して設けられた複数の電圧変換回路をさらに備え、
前記複数の電圧変換回路の各々は、前記第1の電源電圧を降圧することによって前記第2の電源電圧を生成し、前記生成した第2の電源電圧を前記対応する1個以上の差動増幅器に供給し、
前記複数の電圧変換回路の各々は、前記第1の電源電圧の変動によらずに、前記第2の電源電圧を一定に保つように動作する、半導体装置。
A semiconductor device, comprising n voltage comparators (n is an integer of 2 or more) that compare a common reference voltage with a corresponding detection voltage, each of the n voltage comparators comprising:
The reference voltage operates on a common first power supply voltage supplied from the outside, and has a first input node to which the reference voltage is input and a second input node to which the corresponding detection voltage is input; a differential amplifier that amplifies and outputs a differential voltage between the voltage and the corresponding detection voltage;
a single-ended amplifier to which the differential voltage amplified by the differential amplifier is input and operates on a second power supply voltage;
The semiconductor device further includes a plurality of voltage conversion circuits, each of which is provided corresponding to one or more differential amplifiers,
Each of the plurality of voltage conversion circuits generates the second power supply voltage by stepping down the first power supply voltage, and applies the generated second power supply voltage to the corresponding one or more differential amplifiers. supply to,
Each of the plurality of voltage conversion circuits operates to keep the second power supply voltage constant regardless of fluctuations in the first power supply voltage.
デジタルコードを出力するカウンタ回路と、
前記デジタルコードの変化に同期して変化するランプ電圧を、前記基準電圧として生成するランプ電圧生成器と、
前記n個の電圧比較器にそれぞれ対応するn個のラッチ回路とをさらに備え、
前記n個のラッチ回路の各々は、対応する前記電圧比較器の出力信号の変化に応じて、前記デジタルコードを前記対応する検知電圧のデジタル変換値に対応する値として保持する、請求項6に記載の半導体装置。
A counter circuit that outputs a digital code,
a lamp voltage generator that generates a lamp voltage that changes in synchronization with changes in the digital code as the reference voltage;
further comprising n latch circuits respectively corresponding to the n voltage comparators,
7. Each of the n latch circuits holds the digital code as a value corresponding to a digital conversion value of the corresponding detection voltage in response to a change in the output signal of the corresponding voltage comparator. The semiconductor device described.
前記n個の電圧比較器は、第1の方向に配列され、
前記半導体装置は、
前記n個の電圧比較器の配列方向の片端または両端に設けられ、前記第1の電源電圧の供給を外部から受ける1個または2個の電源端子と、
前記n個の電圧比較器の配列方向の片端または両端に設けられ、前記n個の電圧比較器に供給されるグランド電圧を外部から受ける1個または2個のグランド端子と、
前記1個または2個の電源端子と接続されて前記第1の方向に延在するメタルの電源配線と、
前記1個または2個のグランド端子と接続されて前記第1の方向に延在するメタルのグランド配線とをさらに備える、請求項7に記載の半導体装置。
the n voltage comparators are arranged in a first direction;
The semiconductor device includes:
one or two power supply terminals provided at one end or both ends of the n voltage comparators in the arrangement direction and receiving the first power supply voltage from the outside;
one or two ground terminals provided at one end or both ends of the n voltage comparators in the arrangement direction and receiving a ground voltage supplied to the n voltage comparators from the outside;
a metal power supply wiring connected to the one or two power supply terminals and extending in the first direction;
8. The semiconductor device according to claim 7, further comprising a metal ground wiring connected to said one or two ground terminals and extending in said first direction.
m行(mは2以上の整数)およびn列の画素が配列された画素アレイと、
前記画素アレイを構成する前記m行のうち1行の画素行を選択する走査回路とをさらに備え、
前記n個の電圧比較器は、前記画素アレイの列方向に隣接して配置され、前記n列の画素列にそれぞれ対応して設けられ、
前記n個の電圧比較器の各々は、対応する画素列のうち前記走査回路によって選択された行からの画素信号を、前記対応する検知電圧として前記ランプ電圧と比較するように構成される、請求項7に記載の半導体装置。
a pixel array in which m rows (m is an integer of 2 or more) and n columns of pixels are arranged;
further comprising a scanning circuit that selects one pixel row among the m rows configuring the pixel array,
The n voltage comparators are arranged adjacent to each other in the column direction of the pixel array, and are provided corresponding to each of the n pixel columns,
Each of the n voltage comparators is configured to compare a pixel signal from a row selected by the scanning circuit among the corresponding pixel columns with the lamp voltage as the corresponding detection voltage. The semiconductor device according to item 7.
前記シングルエンド増幅器は、
前記差動増幅器によって増幅された前記差分電圧が制御電極に入力される第1の導電型の第1のトランジスタと、
前記第1のトランジスタと前記第2の電源電圧が供給される電源線との間に接続され、制御電極に定電圧が入力される、前記第1の導電型と反対の第2の導電型の第2のトランジスタとを含み、
前記差動増幅器を構成する複数のトランジスタおよび前記第1のトランジスタは、前記第1の電源電圧よりも高い耐圧を有する厚膜トランジスタで構成され、
前記第2のトランジスタは、前記第1の電源電圧よりも低く前記第2の電源電圧よりも高い耐圧を有する薄膜トランジスタで構成される、請求項6に記載の半導体装置。
The single-ended amplifier is
a first transistor of a first conductivity type, into which the differential voltage amplified by the differential amplifier is input to a control electrode;
A second conductivity type opposite to the first conductivity type, which is connected between the first transistor and a power supply line to which the second power supply voltage is supplied, and a constant voltage is input to the control electrode. a second transistor;
The plurality of transistors constituting the differential amplifier and the first transistor are composed of thick film transistors having a withstand voltage higher than the first power supply voltage,
7. The semiconductor device according to claim 6, wherein the second transistor is a thin film transistor having a breakdown voltage lower than the first power supply voltage and higher than the second power supply voltage.
前記n個の電圧比較器の各々は、前記シングルエンド増幅器によって増幅された信号が入力され、前記第2の電源電圧で動作する二値化回路をさらに備え、
前記二値化回路を構成するトランジスタは、前記薄膜トランジスタで構成される、請求項10に記載の半導体装置。
Each of the n voltage comparators further includes a binarization circuit to which the signal amplified by the single-ended amplifier is input and operates at the second power supply voltage,
11. The semiconductor device according to claim 10, wherein a transistor forming the binarization circuit is formed of the thin film transistor.
前記シングルエンド増幅器は、
前記第2のトランジスタの前記制御電極と前記第2の電源電圧が供給される電源線との間に接続され、前記制御電極に入力される前記定電圧を保持する容量素子をさらに含む、請求項11に記載の半導体装置。
The single-ended amplifier is
Claim further comprising: a capacitive element connected between the control electrode of the second transistor and a power line to which the second power supply voltage is supplied, and holding the constant voltage input to the control electrode. 12. The semiconductor device according to 11.
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