JP2023539013A - 光学コンポーネントアライメントのための装置及び方法 - Google Patents

Abstract

像統合光学システムを使用して正しいビームアライメントを容易にするためにミラーなどの光学コンポーネントをアライメントするための装置及び方法が、左ミラーバンク及び右ミラーバンクの両方からなどの複数の光学フィーチャからの像を統合して、カメラシステムに像を同時に提示するために使用される。蛍光材料を使用して、ビームフットプリントを目に見える状態にすることができ、フットプリント及びアライメントフィーチャの相対位置を使用して、光学フィーチャをアライメントすることができる。【選択図】 図９Ｂ

Description

関連出願の相互参照
[0001] 本出願は、２０２０年８月３１日に出願され、参照により本明細書に全体として援用される、「APPARATUS FOR AND METHOD OF OPTICAL COMPONENT ALIGNMENT」という名称の米国特許出願第６３／０７２，３９０号に対する優先権を主張するものである。

[0002] 本開示は、例えばリソグラフィ装置で使用される光学コンポーネントをアライメントするためのシステム及び方法に関し、特に、レーザ源の出力のパルスを引き伸ばすのに有用な光パルスストレッチャのコンポーネントに関する。

[0003] リソグラフィ装置は、半導体材料のウェーハなどの基板上に（通常、基板のターゲット部分上に）、所望のパターンを施す。ウェーハの個々の層上に形成される回路パターンを生成するために、パターニングデバイス（これは、代替的にマスク又はレチクルと呼ばれる）が使用され得る。パターンの転写は、一般的に、基板上に設けられる放射感応性材料（レジスト）層上へのイメージングによって達成される。一般に、単一の基板は、連続してパターン形成される隣接ターゲット部分を含む。

[0004] リソグラフィ装置は、パターン全体を１回でターゲット部分上に露光させることによって各ターゲット部分が照射される、いわゆるステッパと、所与の方向（「スキャン」方向）に放射ビームを用いてパターンをスキャンすると同時に、この方向に対して平行又は逆平行に基板を同期してスキャンすることによって各ターゲット部分が照射される、いわゆるスキャナとを含む。パターンを基板上にインプリントすることによって、パターニングデバイスから基板にパターンを転写することも可能である。本明細書では、簡単にするために、ステッパ及びスキャナの両方を単にスキャナと呼ぶ。

[0005] パターンを照明し、それを基板上に投影するために使用される光源は、幾つかの構成のうちの任意のものでもよい。リソグラフィシステムでよく使用される深紫外線エキシマレーザは、２４８ｎｍの波長のフッ化クリプトン（ＫｒＦ）レーザ、及び１９３ｎｍの波長のフッ化アルゴン（ＡｒＦ）レーザを含む。レーザ源は、高出力ガス放電レーザシステムの出力のパルスを引き伸ばすための光パルスストレッチャを含み得る。

[0006] リソグラフィスキャナ性能のより新しい要件は、パルス長の時間積分二乗（ＴＩＳ（time integral square））によって測定される、より長いパルス長を必要とする。例えば、チップフィーチャのエッジ配置誤差（ＥＰＥ）の改善は、より長いＴＩＳを必要とする。パルスを引き伸ばして所望のＴＩＳを達成するために、光パルスストレッチャ（ＯＰｕＳ）が使用される。ＴＩＳの増加は、より大きいＯＰｕＳを必要とする。ＯＰｕＳのサイズを増大させることにより、ＯＰｕＳのコンポーネントが適切な光学アライメント状態にあることがさらに一層重要になる。

[0007] ＯＰｕＳのコンポーネントをアライメントする従来の方法は、ＯＰｕＳエンクロージャを開けること、及びアライメントされるコンポーネントの光学面付近にターゲットカードを物理的に位置決めすることを伴う。次に、ターゲットカードのビームのランディング位置に基づいて、到来ビームがアライメントされる。次に、アライメントを必要とする光学コンポーネントのすべてが適切にアライメントされるまで、ターゲットカードが、アライメントを必要とする次の光学コンポーネントへと移され続ける。

[0008] オープンビームペーパーターゲットアライメント（open beam paper target alignment）と呼ばれることがあるこのアライメントプロセスは、カードを配置するために、密閉されたレーザエンクロージャを開けることを必要とする。それは、オープンビーム操作のリスクを伴い、アライメントを行う人の肌をＵＶ放射にさらすことを回避するために、非常に注意深く実行される必要がある。また、それは時間がかかり、大量のマニピュレーション及び他の手動操作を必要とする。それは、アライメントが行われている光学面を汚染にさらし、重要な光学コンポーネントの光学的寿命の減少をもたらし得る。さらに、ビームアライメントターゲットを確立する複雑さ、及びビーム位置の主観的判断により、正確なアライメントを達成することも難しい。

[0009] 以下は、実施形態の基本的理解をもたらすために、１つ又は複数の実施形態の簡潔な概要を提示する。この概要は、すべての企図される実施形態の広範囲に及ぶ要約ではなく、すべての実施形態の重要な又は必須の要素を識別することも、何れか又はすべての実施形態の範囲を詳述することも意図していない。その唯一の目的は、下記に提示される、より詳細な説明への導入部として、単純化した形で１つ又は複数の実施形態の幾つかの概念を提示することである。

[0010] ある実施形態のある態様によれば、正しいビームアライメントを容易にするために、カメラシステムを使用して、ミラーなどのＯｐｕＳコンポーネント上のビーム位置がモニタリングされる。幾つかの実施形態では、左ミラーバンク及び右ミラーバンクの両方からなどの複数の光学フィーチャからの像を統合して、カメラシステムに像を同時に提示するために、像統合光学システムが使用される。これは、設計を単純化し、フィーチャを個々に検査するための複数のカメラを有する費用を回避する。ある実施形態のある態様によれば、カメラシステムは、オープンビーム操作のリスクを軽減し、及びパージの破壊を回避するために、ＯＰｕＳエンクロージャのパージボリュームの外に設置される。本明細書では、「カメラ」という用語は、像を捕捉する（変換する）ためのあらゆるデバイス、システム、又は配置を包含することが意図される。

[0011] ある実施形態の複数の態様によれば、アライメント中に、「蛍光フットプリント」によって明らかにされるようなビームのランディング位置は、アライメントされているコンポーネントのアライメントフィーチャに一致するように、又はオーバーラップするように位置決めされる。例えば、光学コンポーネントがＯＰｕＳ内のダイクロイックミラーである場合、アライメントフィーチャは、ビームの位置決めを容易にするために、ダイクロイックミラーを介して後方支持板上に配置されてもよい。

[0012] したがって、幾つかの実施形態によれば、カメラシステムの使用は、アライメント中に必要とされるオープンビーム操作量を最小限に抑える。これは、アライメント手順の安全性を大幅に向上させる。また、このアライメントシステムの非接触性は、表面汚染のリスクを含む、直接的なクローズ光学系ハンドリングに固有のリスクを減少させる。このシステムは、エンクロージャを開けてパージを破壊する必要性、及び手動ターゲット位置決めの必要性をなくすことにより、ＯＰｕＳモジュールのフィールドサービス時間の大幅な減少も可能にする。

[0013] ある実施形態のある態様によれば、可視光を透過させるウィンドウを含む、密閉エンクロージャと、エンクロージャ内の第１の位置に位置決めされた第１の光学フィーチャと、エンクロージャ内の第２の位置に位置決めされた第２の光学フィーチャと、第１の光学フィーチャから第１の光学フィーチャ光、及び第２の光学フィーチャから第２の光学フィーチャ光を受け取るように配置され、第１の光学フィーチャ光及び第２の光学フィーチャ光をウィンドウを通して方向転換させ、第２の光学フィーチャ光からの像と並置される第１の光学フィーチャ光からの像を形成するように適応した、像統合モジュールと、を含む光学コンポーネントが開示される。光学コンポーネントは、光パルスストレッチャでもよい。第１の光学フィーチャは第１のミラーを含んでもよく、第２の光学フィーチャは第２のミラーを含んでもよい。第１のミラーは第１の凹面ダイクロイックミラーを含んでもよく、第２のミラーは第２の凹面ダイクロイックミラーを含んでもよい。第１の光学フィーチャ及び第２の光学フィーチャは、像統合モジュールに対して実質的に対称的に位置決めされてもよい。

[0014] ある実施形態の別の態様によれば、像統合モジュールは、第１の光学フィーチャからの光を方向転換させるように配置された第１の反射面、及び第２の光学面からの光を方向転換させるように配置された第２の反射面を含んでもよい。第１の反射面は、第１のプリズムの第１のプリズム反射面を含んでもよく、第２の反射面は、第２のプリズムの第２のプリズム反射面を含んでもよい。像統合モジュールは、第１の光学フィーチャに向けて配向された第１の反射面と第２の光学フィーチャに向けて配向された第２の反射面とを有するプリズムを含んでもよい。像統合モジュールは、２つの平坦面取りミラーを含んでもよい。

[0015] ある実施形態の別の態様によれば、光学コンポーネントは、エンクロージャ内の第３の位置に位置決めされた第３の光学フィーチャと、エンクロージャ内の第４の位置に位置決めされた第４の光学フィーチャと、をさらに含んでもよく、像統合モジュールは、第３の光学フィーチャから第３の光学フィーチャ光、及び第４の光学フィーチャから第４の光学フィーチャ光を受け取るように配置され、ウィンドウを通して第３の光学フィーチャ光及び第４の光学フィーチャ光を結合し、方向転換させて、第４の光学フィーチャ光からの像に隣接して第３の光学フィーチャ光からの像を形成するように適応してもよい。

[0016] ある実施形態の別の態様によれば、光学コンポーネントは、ウィンドウを通して第１の光学フィーチャ光及び第２の光学フィーチャ光を受け取るように配置されたカメラシステムをさらに含んでもよい。カメラシステムは、ウィンドウを通して第１の光学フィーチャ光及び第２の光学フィーチャ光を受け取るように配置されたレンズシステムと、レンズシステムから第１の光学フィーチャ光及び第２の光学フィーチャ光を受け取るように配置されたカメラと、を含んでもよい。光学コンポーネントは、第１の光学フィーチャ光及び第２の光学フィーチャ光の光路の方向を変えるための、像統合モジュールとウィンドウとの間に光学的に位置決めされた折り畳みミラーをさらに含んでもよい。

[0017] ある実施形態の別の態様によれば、第１の光学フィーチャ及び第２の光学フィーチャの少なくとも一方が調整可能であってもよく、第１の光学フィーチャ及び第２の光学フィーチャの少なくとも一方の配向を調整するために、第１の光学フィーチャ及び第２の光学フィーチャの少なくとも一方に機械的に結合されたアクチュエータをさらに含んでもよい。

[0018] ある実施形態の別の態様によれば、第１の光学フィーチャは、第１の蛍光材料及び第１のアライメントフィーチャを含んでもよく、第２の光学フィーチャは、第２の蛍光材料及び第２のアライメントフィーチャを含んでもよい。第１の光学フィーチャは、可視光を透過させる第１の基板と、ＵＶ放射を反射する第１の反射コーティングと、第１のミラーサポートとを含む第１のミラーを含んでもよく、第２の光学フィーチャは、可視光を透過させる第２の基板と、ＵＶ放射を反射する第２の反射コーティングと、第２のミラーサポートとを含む第２のミラーを含んでもよい。第１のミラーサポートは、第１のミラーサポートの前面上に第１のアライメントフィーチャを含んでもよく、第２のミラーサポートは、第２のミラーサポートの前面上に第２のアライメントフィーチャを含んでもよい。第１のアライメントフィーチャは、第１のミラー上のアライメントされたビームフットプリントの位置と一致することができ、第２のアライメントフィーチャは、第２のミラー上のアライメントされたビームフットプリントの位置と一致することができる。

[0019] ある実施形態の別の態様によれば、第１の光学フィーチャは、第１の蛍光材料を含む第１の反射コーティングを含んでもよく、第２の光学フィーチャは、第２の蛍光材料を含む第２の反射コーティングを含んでもよい。第１の蛍光材料は第１の基板の裏面上に設けられてもよく、第２の蛍光材料は第２の基板の裏面上に設けられてもよい。第１の蛍光材料は、第１のミラーサポートの前面上に設けられてもよく、第２の蛍光材料は、第２のミラーサポートの前面上に設けられてもよい。第１のミラーサポートは第１の蛍光材料を含んでもよく、第２のミラーサポートは第２の蛍光材料を含んでもよい。

[0020] ある実施形態の別の態様によれば、可視光を透過させるウィンドウを含む、密閉エンクロージャと、エンクロージャ内の第１の視野内に位置決めされた第１の光学フィーチャと、エンクロージャ内の第１の視野内に位置決めされた第２の光学フィーチャと、第１の視野から第１の視野光を受け取るように配置され、ウィンドウを通して第１の視野光を結合し、方向転換させるように適応した像統合モジュールと、を含み、像統合モジュールが、関係

によって与えられる角度θだけ、平面鏡面の中心を通過し、及び第１の視野と実質的に平行なラインに対して傾斜した平面鏡面を含んでもよく、ｈが、第１の視野の高さであり、ｄが、第１の視野の中心と平面鏡面の中心との間の垂直距離であり、ｓが、第１の視野と平面鏡面の中心との間の水平距離である、光学コンポーネントが開示される。

[0021] ある実施形態の別の態様によれば、ウィンドウを有する密閉エンクロージャ内に配置された複数の光学フィーチャをアライメントする方法であって、光学フィーチャのそれぞれからの光を結合して結合光信号を生成することと、ウィンドウを通ってエンクロージャの外に結合光信号を誘導することと、少なくとも部分的に結合光信号に基づいて、複数の光学フィーチャの少なくとも幾つかをアライメントすることと、を含む方法が開示される。方法は、ウィンドウを通ってエンクロージャの外に結合光信号を誘導した後に、密閉エンクロージャの外に位置決めされ、結合光信号を受信するように配置されたカメラシステムを使用して、結合光信号をイメージングすることをさらに含んでもよい。複数の光学フィーチャのそれぞれは、アライメントフィーチャと、光学フィーチャに衝突するＵＶビームの可視フットプリントを生成するように配置された蛍光材料とを含んでもよく、方法は、光学フィーチャのそれぞれからの光を結合して結合光信号を生成することの前に、光学フィーチャのそれぞれをＵＶ放射ビームに露光させることと、光学フィーチャのそれぞれの上に、ＵＶ放射ビームの照明フットプリントを生成することと、をさらに含んでもよく、少なくとも部分的に結合光信号に基づいて、複数の光学フィーチャの少なくとも幾つかをアライメントすることが、少なくとも部分的に、光学フィーチャごとに照明フットプリント及びアライメントフィーチャの位置関係に基づいて、複数の光学フィーチャの少なくとも幾つかをアライメントすることを含んでもよい。アライメントすることは、複数の光学フィーチャの１つ又は複数を調整することを含んでもよい。複数の光学フィーチャの１つ又は複数を調整することは、複数の光学フィーチャの１つ又は複数にそれぞれ機械的に結合された１つ又は複数のアクチュエータを手動で操作することを含んでもよい。複数の光学フィーチャの１つ又は複数を調整することは、複数の光学フィーチャの１つ又は複数にそれぞれ機械的に結合された１つ又は複数のモータ駆動アクチュエータを作動させる信号を供給することを含んでもよい。複数の光学フィーチャの１つ又は複数を調整することは、複数の光学フィーチャの１つ又は複数の配向を調整することを含んでもよい。

[0022] 本発明のさらなる特徴及び利点、並びに本発明の様々な実施形態の構造及び動作は、添付の図面を参照して以下に詳細に記載される。本発明は、本明細書に記載される特定の実施形態に限定されないことに留意されたい。そのような実施形態は、本明細書では、単なる例示目的で提示されるものである。さらなる実施形態は、本明細書に含まれる教示に基づいて当業者には明らかとなるだろう。

[0023] 本明細書に組み込まれ、及び本明細書の一部を成す添付の図面は、本発明の実施形態の方法及びシステムを限定する目的ではなく例として図示する。発明の詳細な説明と共に、図面は、本明細書に提示される方法及びシステムの原理を説明すること、並びに当業者が本明細書に提示される方法及びシステムを製造及び使用することを可能にすることにさらに役立つ。図面では、同様の参照番号は、同一又は機能的に類似した要素を示す。

[0024]開示される主題のある態様による、フォトリソグラフィシステムの全体的な広義概念の概略図をノンスケールで示す。 [0025]開示される主題のある態様による、リソグラフィシステムで使用されるレーザシステムの全体的な広義概念の概略図をノンスケールで示す。 [0026]開示される主題のある態様による、光パルスストレッチャの図である。 [0027]開示される主題のある態様による、光パルスストレッチャ内の様々な光路を示す図である。 [0028]開示される主題のある態様による、光パルスストレッチャ内の様々な光路を示す図である。 [0028]開示される主題のある態様による、光パルスストレッチャ内の様々な光路を示す図である。 [0029]開示される主題のある態様による、光パルスストレッチャの片側のミラーの配置の部分斜視図である。 [0030]光学コンポーネント内の光学フィーチャをアライメントする従来の方法を示す図である。 [0031]開示される主題のある態様による、光学フィーチャをアライメントするためのシステムを示す図である。 [0031]開示される主題のある態様による、光学フィーチャをアライメントするためのシステムを示す図である。 [0032]開示される主題のある態様による、光学フィーチャをアライメントするためのシステムを示す図である。 [0033]開示される主題のある態様による、光学フィーチャをアライメントするためのシステムにおける像の並置を示す図である。 [0034]開示される主題のある態様による、最大視野を達成するための条件を示す図である。 [0035]開示される主題のある態様による、像統合モジュールの代替コンポーネントを示す。 [0035]開示される主題のある態様による、像統合モジュールの代替コンポーネントを示す。 [0036]開示される主題のある態様による、視野上の光学像統合モジュール内のコンポーネントの配置の効果を示す図である。 [0037]開示される主題のある態様による、光学フィーチャをアライメントするためのシステムを示す図である。 [0038]開示される主題のある態様による、光学フィーチャをアライメントするためのシステムにおける像の並置を示す図である。 [0039]開示される主題のある態様による、光学フィーチャの構造の一態様を示す。 [0039]開示される主題のある態様による、光学フィーチャの構造の一態様を示す。 [0039]開示される主題のある態様による、光学フィーチャの構造の一態様を示す。 [0039]開示される主題のある態様による、光学フィーチャの構造の一態様を示す。 [0040]開示される主題のある態様による、光学フィーチャの構造の一態様を示す。 [0040]開示される主題のある態様による、光学フィーチャの構造の一態様を示す。 [0040]開示される主題のある態様による、光学フィーチャの構造の一態様を示す。 [0040]開示される主題のある態様による、光学フィーチャの構造の一態様を示す。 [0041]開示される主題のある態様による、アライメントプロセス前のＵＶフットプリント及びアライメントマークの相対位置決めを示す。 [0041]開示される主題のある態様による、アライメントプロセス後のＵＶフットプリント及びアライメントマークの相対位置決めを示す。 [0042]開示される主題のある態様による、光学コンポーネントにおいて光学フィーチャをアライメントする方法を示すフローチャートである。

[0043] 本発明のさらなる特徴及び利点、並びに本発明の様々な実施形態の構造及び動作は、添付の図面を参照して以下に詳細に記載される。本発明は、本明細書に記載される特定の実施形態に限定されないことに留意されたい。そのような実施形態は、本明細書では、単なる例示目的で提示されるものである。さらなる実施形態は、本明細書に含まれる教示に基づいて当業者には明らかとなるだろう。

[0044] 本明細書は、本発明のフィーチャを組み込んだ１つ又は複数の実施形態を開示する。１つ又は複数の開示される実施形態は、単に本発明を例示するものである。本発明の範囲は、１つ又は複数の開示される実施形態に限定されない。本発明は、本明細書に添付される特許請求の範囲によって規定される。

[0045] １つ又は複数の記載される実施形態、及び本明細書における「一実施形態（one embodiment）」、「ある実施形態（an embodiment）」、「実施形態例（an example embodiment）」、「例示的実施形態（an exemplary embodiment）」などへの言及は、１つ又は複数の記載される実施形態が、ある特定のフィーチャ、構造、又は特性を含み得るが、すべての実施形態が、その特定のフィーチャ、構造、又は特性を必ずしも含まなくてもよいことを示す。また、そのような表現は、必ずしも同じ実施形態を指すわけではない。さらに、ある特定のフィーチャ、構造、又は特性が、ある実施形態との関連で説明される場合、明示的な記載の有無にかかわらず、他の実施形態との関連で、そのようなフィーチャ、構造、又は特性を生じさせることは当業者の知識の範囲内であることが理解される。

[0046] 「～の真下に（beneath）」、「～の下に（below）」、「下側の（lower）」、「～の上に（above）」、「～上に（on）」、「上側の（upper）」、「左の（left）」、「右の（right）」などの空間相対的用語は、本明細書では、図面に示されるような、別の１つ又は複数の要素又はフィーチャに対する、ある要素又はフィーチャの関係性を説明するために、説明の便宜上使用され得る。空間相対的用語は、図面に示される配向に加えて、使用中又は動作中のデバイスの異なる配向を包含することが意図される。装置は、別様に配向されてもよく（９０度回転される、又は他の配向で）、本明細書で使用される空間相対的記述子は、それに応じて同様に解釈され得る。

[0047] 具体的な実施形態をより詳細に説明する前に、本発明の実施形態が実装され得る環境例を示すことが有益である。図１を参照すると、フォトリソグラフィシステム１００は、照明システム１０５を含む。以下により完全に説明されるように、照明システム１０５は、パルス光ビーム１１０を生成し、それをウェーハ１２０上にマイクロ電子フィーチャをパターン形成するフォトリソグラフィ露光装置又はスキャナ１１５に誘導する光源を含む。ウェーハ１２０は、ウェーハ１２０を保持するように構築され、特定のパラメータに従ってウェーハ１２０を正確に位置決めするように構成されたポジショナ（図示せず）に接続されるウェーハテーブル１２５上に配置される。

[0048] フォトリソグラフィシステム１００は、深紫外線（ＤＵＶ）領域の波長を有する、例えば、２４８ナノメートル（ｎｍ）又は１９３ｎｍの波長を有する光ビーム１１０を使用する。ウェーハ１２０上にパターン形成することができるマイクロ電子フィーチャの最小サイズは、光ビーム１１０の波長に依存し、低波長であるほど、最小フィーチャサイズの縮小が可能となる。光ビーム１１０の波長が２４８ｎｍ又は１９３ｎｍである場合、マイクロ電子フィーチャの最小サイズは、例えば５０ｎｍ以下となり得る。光ビーム１１０の帯域幅は、それの光学スペクトル（又は発光スペクトル）の実際の瞬時帯域幅となり得、これは、どのように光ビーム１１０の光エネルギーが異なる波長にわたり分散されるかに関する情報を含む。スキャナ１１５は、例えば、１つ又は複数の集光レンズ、マスク、及び対物系配置を有する光学配置を含む。マスクは、光ビーム１１０の光軸に沿う、又は光軸に垂直な平面内などの１つ又は複数の方向に沿って移動可能である。対物系配置は、投影レンズを含み、マスクからウェーハ１２０上のフォトレジストへと像転写が生じることを可能にする。照明システム１０５は、マスクに衝突する光ビーム１１０の角度範囲を調整する。また、照明システム１０５は、マスクにわたる光ビーム１１０の強度分布を均質化する（均一にする）。

[0049] スキャナ１１５は、数あるフィーチャの中でも、リソグラフィコントローラ１３０、空調デバイス、及び様々な電気コンポーネントの電源を含み得る。リソグラフィコントローラ１３０は、どのように層がウェーハ１２０上にプリントされるかを制御する。リソグラフィコントローラ１３０は、プロセスレシピなどの情報を保存するメモリを含む。プロセスプログラム又はレシピは、例えば、使用されるマスク、及び露光に影響を与える他の要因に基づいて、ウェーハ１２０に対する露光の長さを決定する。リソグラフィ中に、光ビーム１１０の複数のパルスが、照明ドーズを構成するように、ウェーハ１２０の同じエリアを照明する。

[0050] フォトリソグラフィシステム１００は、好ましくは、制御システム１３５も含む。一般に、制御システム１３５は、デジタル電子回路、コンピュータハードウェア、ファームウェア、及びソフトウェアの１つ又は複数を含む。制御システム１３５は、読取り専用メモリ及び／又はランダムアクセスメモリでもよいメモリも含む。コンピュータプログラム命令及びデータを有形的に具現化するのに適したストレージデバイスは、例として、ＥＰＲＯＭ、ＥＥＰＲＯＭ、及びフラッシュメモリデバイスなどの半導体メモリデバイス、内蔵ハードディスク及びリムーバブルディスクなどの磁気ディスク、光磁気ディスク、並びにＣＤ－ＲＯＭディスクを含む、あらゆる形態の不揮発性メモリを含む。

[0051] 制御システム１３５は、１つ又は複数の入力デバイス（キーボード、タッチスクリーン、マイクロホン、マウス、ハンドヘルド入力デバイスなど）、及び１つ又は複数の出力デバイス（スピーカ又はモニタなど）も含み得る。制御システム１３５は、１つ又は複数のプログラマブルプロセッサ、及び１つ又は複数のプログラマブルプロセッサによる実行のために機械可読ストレージデバイスで有形的に具現化された１つ又は複数のコンピュータプログラムも含み得る。１つ又は複数のプログラマブルプロセッサのそれぞれは、入力データに対して演算を行い、適切な出力を生成することによって所望の機能を行うように命令のプログラムを実行することができる。一般に、プロセッサは、メモリから命令及びデータを受け取る。上記の何れも、特別に設計されたＡＳＩＣ（特定用途向け集積回路）によって補完されてもよく、又はそのようなＡＳＩＣに組み込まれてもよい。制御システム１３５は、一元化されてもよく、又はフォトリソグラフィシステム１００中に部分的又は全体的に分散されてもよい。

[0052] 図２を参照すると、照明システム１０５内の例示的レーザ源システムは、光ビーム１１０としてパルスレーザビームを生成するパルスレーザ源である。図２は、開示する主題の特定の態様のある実施形態によるガス放電レーザシステムを説明的に、及びブロック図で示す。ガス放電レーザシステムは、例えば、ソリッドステート又はガス放電シードレーザシステム１４０、増幅段、例えば、パワーリング増幅器（「ＰＲＡ（power ring amplifier）」）段１４５、リレー光学系１５０、及びレーザシステム出力サブシステム１６０を含んでもよい。シードシステム１４０は、例えば、主発振器（「ＭＯ」）チャンバ１６５を含んでもよい。

[0053] シードレーザシステム１４０は、主発振器出力カプラ（「ＭＯ ＯＣ」）１７５も含んでもよく、ＭＯ ＯＣ １７５は、シードレーザ１４０がシードレーザ出力パルスを形成するために、すなわち主発振器（「ＭＯ」）を形成するために振動する発振器キャビティをライン狭隘化モジュール（「ＬＮＭ（line narrowing module）」）１７０内の反射格子（図示せず）と共に形成する部分反射ミラーを含んでもよい。システムは、ライン中心解析モジュール（「ＬＡＭ（line-center analysis module）」）１８０も含んでもよい。ＬＡＭ １８０は、精密波長測定のためのエタロンスペクトロメータ、及びより粗い解像度の格子スペクトロメータを含んでもよい。ＭＯ波面エンジニアリングボックス（「ＷＥＢ（wavefront engineering box）」）１８５は、ＭＯシードレーザシステム１４０の出力を増幅段１４５に向けて方向転換するように機能することができ、例えばマルチプリズムビームエキスパンダ（図示せず）を用いた、例えばビームエキスパンド、及び例えば光遅延路（図示せず）の形態のコヒーレンス破壊（coherence busting）を含み得る。

[0054] 増幅段１４５は、例えばＰＲＡレージングチャンバ２００を含んでもよく、ＰＲＡレージングチャンバ２００は、例えば、ＰＲＡ ＷＥＢ ２１０に組み込まれてもよく、及びビーム反転器２２０によってチャンバ２００内の利得媒体を介して戻るように方向転換され得るシードビーム入射及び出力結合光学系（図示せず）によって形成される発振器でもあり得る。ＰＲＡ ＷＥＢ ２１０は、（例えば、ＡｒＦシステムの場合、およそ１９３ｎｍの）公称動作波長及び１つ又は複数のプリズムのための部分反射入力／出力カプラ（図示せず）及び最大反射ミラーを組み込んでもよい。

[0055] 増幅段１４５の出力における帯域幅解析モジュール（「ＢＡＭ」）２３０は、増幅段からパルスの出力レーザ光ビームを受け取り、メトロロジ目的で（例えば、出力帯域幅及びパルスエネルギーを測定するために）、光ビームの一部をピックオフすることができる。次に、パルスのレーザ出力光ビームは、パルスエネルギーメータの場所でもあり得る、光パルスストレッチャ（「ＯＰｕＳ」）２４０及び出力結合オートシャッタメトロロジモジュール（「ＣＡＳＭＭ（output combined autoshutter metrology module）」）２５０を通過する。ＯＰｕＳ ２４０の目的の１つは、例えば、単一の出力レーザパルスをパルス列に変換することであり得る。元の単一の出力パルスから作成される二次パルスは、互いに対して遅延してもよい。元のレーザパルスエネルギーを二次パルスの列に分散することによって、レーザの有効パルス長を拡張することができ、同時に、ピークパルス強度を低下させることができる。したがって、ＯＰｕＳ ２４０は、ＢＡＭ ２３０を介してＰＲＡ ＷＥＢ ２１０からレーザビームを受け取り、ＯＰｕＳ ２４０の出力をＣＡＳＭＭ２５０に誘導することができる。他の実施形態では、他の適切な配置が使用されてもよい。

[0056] ＰＲＡレージングチャンバ２００及びＭＯ １６５は、電極間の放電が、レージングガス内でレージングガス放電を生じさせて、当該技術分野で公知のように、ライン狭隘化モジュール（「ＬＮＭ」）１７０において選択された比較的非常に狭い帯域幅及び中心波長にまでライン狭隘化することができる、比較的広帯域の放射を生成するために、例えば、Ａｒ、Ｋｒ、及び／又はＸｅを含む高エネルギー分子の反転分布を生じさせることができるチャンバとして構成される。

[0057] 一般的に、調整は、ＬＮＭ内で生じる。ライン狭隘化及びレーザの調整に使用される一般的な技術は、レーザの放電キャビティの後ろにウィンドウを設けることであって、ウィンドウを通ってレーザビームの一部がＬＮＭ内に入る。そこでは、ビームの一部が、プリズムビームエキスパンダを用いてエキスパンドされ、レーザのより広域のスペクトルのうちの狭い選択された部分を、それが増幅される放電チャンバ内に戻るように反射する格子へと誘導される。レーザは、一般的に、例えばピエゾアクチュエータなどのアクチュエータを使用してビームが格子を照明する角度を変更することによって調整される。

[0058] 動作時に、ＯＰｕＳ ２４０は、所与のパルス長及びＴＩＳを有するエキシマ又は他のガス放電レーザ（例えば、分子フッ化ガス放電レーザ）を、幾つかのピーク及びより大きいＴＩＳを有する、より長いパルスに引き伸ばす。

[0059] 図３は、本開示の幾つかの実施形態による、第１の光パルスストレッチャ４０１ａ及び第２の光パルスストレッチャ４０１ｂを有する光パルスストレッチャ４０１の一例の正面図の概略図である。光パルスストレッチャ４０１は、入力ビームパルス４１１を受け取り、それを引き伸ばして、引き伸ばし出力ビームパルス４１３を出力する。

[0060] 幾つかの実施形態によれば、及びより詳細に以下に述べるように、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂは、共焦点光パルスストレッチャの２つ以上の（例えば３つの）段を含んでもよい。幾つかの例では、共焦点光パルスストレッチャのこれら３つの段は、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂにおいて互いにほぼ平行に位置決めすることができる。幾つかの実施形態では、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂは、第１の光パルスストレッチャ４０１ａに対して垂直又はほぼ垂直に位置決めすることができる。つまり、幾つかの実施形態では、第１の光パルスストレッチャ４０１ａ（例えば、垂直に位置決めされ得る直交光パルスストレッチャ）は、図面で垂直に位置決めされる第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの共焦点光パルスストレッチャの２つ以上の（例えば３つの）段に対して垂直又はほぼ垂直に位置決めされる。幾つかの実施形態によれば、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂは、さらなる光遅延を提供するように設計される。

[0061] 幾つかの実施形態によれば、拡張光パルスストレッチャ４０１は、２つ以上の共焦点光パルスストレッチャを組み合わせる。例えば、拡張光パルスストレッチャ４０１は、光回路構成につき、４回反射、４回反射、１２回反射、及び１２回反射の組み合わせで共焦点光パルスストレッチャを組み合わせる。幾つかの実施形態によれば、異なるミラー分離及び遅延路長の組み合わせ（例えば、４回反射及び１２回反射遅延長）の包含は、非常に長いパルス引き伸ばし及び最小限の効率損失をもたらし得る。

[0062] 幾つかの実施形態によれば、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂは、共焦点光パルスストレッチャの３つの段を含んでもよい。しかしながら、本開示の実施形態は、これらの例に限定されず、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂは、共焦点光パルスストレッチャの他の数の段を含んでもよい。幾つかの例では、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第１の段は、２つのミラーを有すると説明される。しかしながら、本開示の実施形態は、これらの例に限定されず、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第１の段は、他の数（例えば、２つ以上）及び／又は構成のミラーを含んでもよい。幾つかの例では、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第１の段で使用される複数のミラーは、それらの間でレーザビームの４回反射を生成するように構成される。

[0063] 幾つかの例では、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第２の段は、４つのミラーを有すると説明される。しかしながら、本開示の実施形態は、これらの例に限定されず、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第２の段は、他の数（例えば、４つ以上）及び／又は構成のミラーを含んでもよい。幾つかの例では、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第２の段で使用される複数のミラーは、それらの間でレーザビームの１２回反射を生成するように構成される。

[0064] 幾つかの例では、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第３の段は、４つのミラーを有すると説明される。しかしながら、本開示の実施形態は、これらの例に限定されず、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第３の段は、他の数（例えば、４つ以上）及び／又は構成のミラーを含み得る。幾つかの例では、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第３の段で使用される複数のミラーは、それらの間でレーザビームの１２回反射を生成するように構成される。

[0065] 幾つかの実施形態によれば、第１の光パルスストレッチャ４０１ａ及び第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの段は、光遅延が第１の光パルスストレッチャ４０１ａから第２の光パルスストレッチャ４０１ｂへと増加するように設計される。同様に、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの各段の光遅延は、第１の段から第３の段へと増加する。例えば、第１の光パルスストレッチャ４０１ａ（例えば、直交光パルスストレッチャ）は、光遅延を有し得る。第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第１の段は、第１の光パルスストレッチャ４０１ａの光遅延以上の第１の光遅延を有し得る。第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第２の段は、第１の光遅延以上の第２の光遅延を有し得る。第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第３の段は、第２の光遅延以上の第３の光遅延を有し得る。幾つかの実施形態によれば、光遅延は、ビームが光パルスストレッチャ内で移動する距離に基づいて決定することができる。

[0066] 幾つかの実施形態によれば、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第１の段は、ミラー間でレーザビームの４回反射を生成する２つのミラー（例えば、図３のミラー５０１及び５０２の２つの下側ミラー）を含む光学設計を有してもよい。この例は、２つのミラーを用いて説明されるが、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第１の段は、他の数のミラー（例えば、２つ以上のミラー）を含んでもよい。これらのミラーは、それらの間で、レーザビームの４回反射を生成するように位置決めすることができる。幾つかの実施形態では、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第１の段の２つのミラーは、約２ｍ～４ｍの物理的距離によって互いから分離されてもよい。例えば、物理的距離は、約２．５ｍ～３．５ｍでもよい。これらの距離は、単なる例として提供されるものであり、他の実施形態では、他の距離を使用することができる。幾つかの例では、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第１の段は、例から、約６０ｎｓ～８０ｎｓの光遅延を有する光パルス引き伸ばしが可能であり得る。例えば、約６５ｎｓ～７５ｎｓの光遅延。例えば、約７０ｎｓ～７５ｎｓの光遅延。２つのミラー間の物理的距離例、及び提供される光遅延例は、本開示の実施形態を限定しないことに留意されたい。第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第１の段は、様々な他の物理的距離及び／又は様々な光遅延が達成されるように設計することができる。

[0067] 幾つかの実施形態によれば、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第１の段のミラー（例えば、ミラー５０１及び５０２の２つの下側ミラー）は、矩形凹面ミラーを含んでもよい。例えば、２つの大型矩形凹面ミラーを使用することができるが、他の実施形態では、他の形状が使用される。幾つかの実施形態によれば、ミラーの反射面は、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第１の段の２つのミラー（例えば、ミラー５０１及び５０２の２つの下側ミラーの表面）間の距離が、２つのミラーのそれぞれの曲率半径に等しい（又はほぼ等しい）ように、球状凹面でもよい。例えば、ミラーは、テレセントリック設計に基づいて、設計及び位置決めが行われてもよい。凹面ミラーは、幾つかの実施形態によれば、直交ティップ－ティルト調整（orthogonal tip-tilt adjustment）及びＺ軸（例えば、ビームの伝搬方向）調整も有して、設計することができる。

[0068] 幾つかの実施形態によれば、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第１の段は、さらなる光学素子を含み得る。一例では、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第１の段は、レーザビームを分割し、レーザビームのコピーを生成するために使用されるビームスプリッタを含んでもよい。第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第１の段のビームスプリッタは、例えば、約４５％～６５％の反射率を有してもよい。幾つかの例では、ビームスプリッタは、約５０％～６０％の反射率を有してもよい。しかしながら、本開示の実施形態は、これらの例に限定されず、反射率の様々な他の値を使用することができる。幾つかの例では、ビームスプリッタの反射率は、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第１の段で使用されるミラーの反射率に依存してもよく、及び／又はそのような反射率に基づいて計算されてもよい。

[0069] 幾つかの実施形態によれば、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第２の段は、ミラー間でレーザビームの１２回反射を生成する４つのミラー（例えば、図３のミラー５０１及び５０２の４つの中間ミラー）を含む光学設計を有してもよい。この例は、４つのミラーを用いて説明されるが、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第２の段は、他の数のミラー（例えば、４つ以上のミラー）を含んでもよい。これらのミラーは、それらの間で、レーザビームの１２回反射を生成するように位置決めすることができる。幾つかの実施形態では、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第２の段の２対のミラーは、約２ｍ～４ｍの物理的距離によって互いから分離されてもよい。例えば、物理的距離は、約２．５ｍ～３．５ｍでもよい。これらの距離は、単なる例として提供されるものであり、他の実施形態では、他の距離を使用することができる。幾つかの例では、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第２の段は、例から、約１７０ｎｓ～２１０ｎｓの光遅延を有する光パルス引き伸ばしが可能であり得る。例えば、約１８０ｎｓ～１９０ｎｓの光遅延。例えば、約１８５ｎｓ～１９５ｎｓの光遅延。２対のミラー間の物理的距離例、及び提供される光遅延例は、本開示の実施形態を限定しないことに留意されたい。第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第２の段は、様々な他の物理的距離及び／又は様々な光遅延が達成されるように設計することができる。

[0070] 幾つかの実施形態によれば、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第２の段のミラー（例えば、ミラー５０１及び５０２の４つの中間ミラー）は、矩形凹面ミラーを含んでもよい。例えば、４つの大型矩形凹面ミラーを使用することができるが、他の実施形態では、他の形状が使用される。幾つかの実施形態によれば、ミラーの反射面は、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第２の段の２対のミラー（例えば、ミラー５０１及び５０２の２対の中間ミラーの表面）間の距離が、４つのミラーのそれぞれの曲率半径に等しい（又はほぼ等しい）ように、球状凹面でもよい。例えば、ミラーは、テレセントリック設計に基づいて、設計及び位置決めが行われてもよい。凹面ミラーは、幾つかの実施形態によれば、直交ティップ－ティルト調整を有して、設計することができる。

[0071] 幾つかの実施形態によれば、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第２の段は、さらなる光学素子を含んでもよい。一例では、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第２の段は、レーザビームを分割し、レーザビームのコピーを生成するために使用されるビームスプリッタ（図３のビームスプリッタ５０３の中間ビームスプリッタ）を含んでもよい。第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第２の段のビームスプリッタは、例えば、約４５％～６５％の反射率を有してもよい。幾つかの例では、ビームスプリッタは、約５０％～６０％の反射率を有してもよい。しかしながら、本開示の実施形態は、これらの例に限定されず、反射率の様々な他の値を使用することができる。幾つかの例では、ビームスプリッタの反射率は、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第２の段で使用されるミラーの反射率に依存してもよく、及び／又はそのような反射率に基づいて計算されてもよい。

[0072] 光パルスストレッチャに関する他の詳細は、内容全体が参照により本明細書に援用される、２００８年５月６日に発行された、「Laser Output Light Pulse Stretcher」という名称の米国特許第７，３６９，５９７号から入手することができる。

[0073] 図４は、本開示の幾つかの実施形態による、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂにおけるレーザビームパスの一部の概略図を示す。

[0074] 図４に示されるように、第１の光パルスストレッチャ４０１ａの段を使用して光学的に引き伸ばされたレーザビーム６０１が、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂに入る。第１のビームスプリッタ５０３ａを使用して、レーザビーム６０１が、レーザビーム６０３及びレーザビーム６０５に分割される。レーザビーム６０５は、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第２の段に入る。レーザビーム６０３は、２つのミラーを含む、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第１の段に入る。図５Ａに示されるように、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第１の段の２つのミラー５０１ａ、５０２ａからの４回反射後に、レーザビームの一部が、ビームスプリッタ５０３ａに反射することによって第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第２の段に入り、ビームの残りの部分は、光パルスストレッチャ４００内でさらにループし続ける。

[0075] レーザビーム６０５（及び／又は第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第１の段からのレーザビーム）は、レーザビーム６０７及びレーザビーム６０９に分割される。レーザビーム６０９は、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第３の段に入る。レーザビーム６０７は、図５Ｂに示されるように、４つのミラー５０１ｃ、５０１ｂ、５０２ｂ、及び５０１ｃを含む第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第２の段に入る。第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第２の段の４つのミラーからの１２回反射（１～１２の番号で示される）後に、レーザビームの一部が、ビームスプリッタ５０３ｂに反射することによって第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第３の段に入る。

[0076] レーザビーム６０９（及び／又は第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第２の段からのレーザビーム）は、レーザビーム６１１及びレーザビーム６１３に分割される。レーザビーム６１３は、ミラー５０５ａ及び５０５ｂを使用して、第１の光パルスストレッチャ４０１ａに戻るように反射される。レーザビーム６１１は、４つのミラーを含む第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第３の段に入る。第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第３の段の４つのミラーからの１２回反射後に、レーザビームの一部が、ビームスプリッタ５０３ｃ並びに折り畳みミラー５０５ａ及び５０５ｂ（図４）を使用して、第１の光パルスストレッチャ４０１ａに向けて反射される。

[0077] 図６は、本開示の幾つかの実施形態による、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂにおけるレーザビームパスの一部、及び第２の光パルスストレッチャ４０１ｂで使用されるミラーの一部の概略図を示す。

[0078] 図６では、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの片側の５つのミラーが示されている。幾つかの実施形態によれば、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂにおいて、ほぼ対称の配置も存在することが理解されるだろう。この例では、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第１の段のミラー５０２ａが示されている。ミラー（例えば、ミラー５０１ａ）が、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第１の段の反対側にあり、これは、この図には示されていない。この例では、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第２の段の１対のミラー５０２ｂ及び５０２ｃが示されている。別の１対のミラー（例えば、１対のミラー５０１ｂ及び５０１ｃ）が、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第２の段の反対側にあり、これは、この図には示されていない。同様に、この例では、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第３の段の１対のミラー５０２ｄ及び５０２ｅが示されている。別の１対のミラー（例えば、１対のミラー５０１ｄ及び５０１ｅ）が、第２の光パルスストレッチャ４０１ｂの第３の段の反対側にあり、これは、この図には示されていない。

[0079] 以下の説明は、ミラーなどのＯＰｕＳ内の光学コンポーネントが、説明を円滑に行うために具体例を有する目的で、中心軸に対してほぼ左右対称である２つのバンクに配置される配置に関する。しかしながら、本明細書で明らかにされる原理は、他の配置に適用可能であり、本明細書に記載される具体的な例が制限的なものではないことが理解されるだろう。本明細書で訴えられるように、「ほぼ対称」及び「実質的に対称」とは、ＯＰｕＳが意図された目的のために機能することができ、以下に記載されるような像統合モジュールがすべてのミラーを同時に「見る」ことができるほど十分な対称性を意味する。ある実施形態の態様によれば、そのような配置において、像統合モジュールは、この例では凹面ミラーである左側光学系及び右側光学系の両方から物体光線を収集するように配置される。したがって、この配置では、幾つかの左右ミラー対が存在する。カメラ及びレンズシステムを含むカメラシステムは、密閉されたＯＰｕＳエンクロージャの外に位置決めされる。カメラは、スペクトルの可視部、すなわち、約３８０～約７００ｎｍの波長範囲内の光を透過させる密閉ウィンドウを通る光線を収集するように配置される。光線は、ミラー対の左側凹面ミラーに由来する像の半分、及びミラー対の右側凹面ミラーに由来する像の残りの半分を用いて、像を生成する。

[0080] これを背景にして、ＯＰｕＳにおいて光学素子をアライメントする従来の方法が、図７に関連して説明される。図７に見られるように、ＯＰｕＳ７００は、エンクロージャ７１０を含む。エンクロージャ７１０内に、光学素子７２０、７３０、７４０、及び７５０が位置決めされる。これらの光学素子は、例えば、ミラーでもよい。これらの光学素子は、到来ビームが正しい位置で光学素子に衝突するようにアライメントされなければならない。このアライメント手順を行うために、エンクロージャ７１０が開けられ、アライメントカード７６０が、光学素子の１つ（図では、光学素子７５０）の光学面の位置に隣接して配置される。次に、ビームがアライメントカード７６０上の正しい位置に当たるように光学素子がアライメントされる。上記に記載したように、この方法は、エンクロージャ７１０を開けてパージを破壊する必要性、及びオープンビーム状況でオペレータがエンクロージャ７１０内に手を挿入する必要性（これは、オペレータの手を紫外線にさらし得る）などの幾つかの欠点を含む。それは、光学汚染及び結果として生じる光学系の耐用寿命の減少のリスクも増加させる。

[0081] 図８Ａに示されるように、ある実施形態の態様によれば、アライメント方法の向上を可能にするＯＰｕＳ ８００は、エンクロージャ８１０を含む。エンクロージャ８１０内には、光学フィーチャ８２０、８３０、８４０、及び８５０が位置する。エンクロージャ８１０の中央部分には、像統合モジュール８６０が位置する。以下にさらに詳細に説明されるように、この像統合モジュール８６０は、光学フィーチャからの光を収集し、密閉ウィンドウ８７０及びレンズ８８０を通してカメラ８９０に光を提示する。事実上、カメラ８９０は、エンクロージャ８１０を開ける必要なしに、エンクロージャ８１０内のすべての光学フィーチャを同時に「見る」。これは、先行技術の方法の欠点を回避しながら、ＯＰｕＳ ８００のアライメント状態の連続的観察を可能にする。幾つかの実施形態では、像統合モジュール８６０は、利用可能な視野を最大化するために、可能な限りカメラシステムの近くに配置される。素子８３５及び８５５は、以下でより詳細に説明されるように、アジャスタである。図８Ｂは、図５Ｂに示される配置との関連で、像統合モジュール８６０の配置を示す。ここでも、１～１２の番号は、４つのミラーからの１２回反射の位置を示す。

[0082] 図９Ａは、ある実施形態の態様による、像統合モジュール８６０の可能な実装形態を示す。図のように、像統合モジュール８６０は、１対のミラープリズム９１０、９２０として実装されてもよい。プリズム９１０は、少なくとも１つの光学フィーチャ８２０を含む関心領域８２５から光を受け取り、図のように、密閉ウィンドウ８７０を通って外に光を方向転換させるように配置される。同様に、プリズム９２０は、関心領域８３５から光を受け取り、図のように、密閉ウィンドウ８７０を通って光を方向転換させるように配置される。したがって、密閉ウィンドウ８７０の反対側に配置されたカメラ及び１つ又は複数のレンズを含むカメラシステムは、左側関心領域８２５及び右側関心領域８３５の両方から像形成光を同時に受け取る。つまり、像統合モジュール８６０は、左側光学フィーチャ及び右側光学フィーチャの両方から物体光線を収集する。密閉ＯＰｕＳエンクロージャ８２０カメラの外に位置決めされたカメラ及びレンズシステムは、可視透過密閉ウィンドウを通して物体光線を収集し、像の半分が左側光学フィーチャからのものであり、残りの半分が右側光学フィーチャからのものである像を生成する。

[0083] 図９Ｂは、像統合モジュール８６０が、少なくとも１つの光学フィーチャを含む左側関心領域８２５、及び少なくとも１つの光学フィーチャを含む右側関心領域８３５の両方から光を受け取り、その光を位置Ａへと方向転換させ、位置Ａから、左側関心領域８２５の像である仮想物体８２５ａ、及び右側関心領域８３５の像である仮想物体８３５ａが、位置Ａに配置された単一のカメラシステムによって同時に見ることができるように、並置されるように、すなわち並んで位置決めされるように見える方法を示す図である。

[0084] ある実施形態の態様によれば、像統合モジュール８６０は、１対の鏡面を用いて実装することもできる。一例として、ミラー９５０が図１０に示され、他方のミラーは、軸９７０に対して実質的に対称に配置される。そのような配置における最大視野の条件は、同様に図１０に示されるように、幾何学的に確立される。図では、ｈは、関心フィールド９６０の高さであり、ｄは、フィールドの中心とミラー９５０の中心との間の垂直距離であり、ｓは、フィールドとミラー９５０との間の水平距離である。図の上側部分は、（図における）ミラーの下から見た虚像の位置である。関心フィールド９６０に平行であり、及びミラー９５０の中心を通るライン９８０間の最大視野のための角度θは、関係：

によって与えられ、光学垂直線に対するミラー９５０の傾斜角である角度θｓは、

によって与えられる。

[0085] 上述の通り、像統合モジュール８６０は、幾つかのやり方の何れか１つで実装されてもよい。幾つかの実施形態の態様によれば、像統合モジュール８６０は、図９Ａに示されるように、１対のプリズム９１０、９２０として、又は図１１Ａに示されるように、２つの鏡面１０１０及び１０２０を備えた単一プリズム１０００として、又は図１１Ｂに示されるように、２つの平坦面取りミラー１０３０及び１０４０として実装されてもよい。しかしながら、像統合モジュール８６０が実装され、幾つかの実施形態では、光学素子又は鏡面間のギャップは、図１１Ｃに示されるようにギャップにより失われる視野部分を無駄にしないように、最小限に抑えられる。図１１Ｃでは、矢印Ａは、光学フィーチャの一方（例えば、ミラー）からの視野を示し、矢印Ｂは、他方の対を成す光学フィーチャからの視野を示し、矢印Ｃは、プリズム９１０と９２０との間のギャップにより失われる視野を示す。

[0086] 図９Ａは、密閉ウィンドウ８７０を通過する光が、直線でレンズシステム８８０へと直接移動する配置を示す。幾つかの実施形態によっては、密閉ウィンドウ８７０からレンズシステム８８０への経路において、さらなる光学素子を挿入することが有利な場合がある。例えば、図１２Ａは、折り畳みミラー１１００が、光路を折り畳み、よりコンパクトな配置を提供する可能性を生じさせるために、この経路に配置される配置を示す。図１２Ａの配置では、ミラー１１００は、より大きな視野を得るために、エンクロージャ内に位置決めされる。この配置は、像の配向を調整し、フィールドのサイズ及び形状とカメラ内のイメージセンサとのマッチングを向上させる能力も提供する。図１２Ｂは、プリズム９１０ａ、９２０ａが、光路を折り畳むために部分的に回転される配置を示す。図１２Ｂは、像統合モジュール８６０ａが、左側関心領域８２５及び右側関心領域８３５の両方から光を受け取り、その光を位置Ｂへと方向転換させ、位置Ｂから、左側関心領域８２５の像である仮想物体８２５ｂ、及び右側関心領域８３５の像である仮想物体８３５ｂが、位置Ｂに配置された単一のカメラシステムによって同時に見ることができるように、並置されるように、すなわち並んで位置決めされるように見える方法を示す。図のように、この配置は、像の配向を調整し、フィールドのサイズ及び形状とカメラ内のイメージセンサとのマッチングを向上させる能力も提供する。

[0087] 幾つかの実施形態によっては、アライメントフィーチャを設けることによって、及び紫外光の吸収によって生成される蛍光による（カメラにとっての）可視光を使用することによって、関心領域の可視度を向上させることも有利な場合がある。アライメントされるべき光学素子としてダイクロイックミラーの例を使用して、ミラーは全般に、サポート１３１０及び少なくとも１つのアライメントフィーチャ１３２０を含むミラー支持板１３００によって支持される。幾つかの実施形態によれば、図１３に示されるように、ダイクロイックミラーアセンブリ１３３０は、図１３Ｂに示されるような可視光を透過させる基板１３４０、及びＵＶ反射コーティング１３６０（図１３Ｄ）を含む。ダイクロイックミラーアセンブリ１３３０は、図１３Ｃ及び１３Ｄに示されるサンドイッチ状構造を製造するために、ミラー支持板１３００の上に重ねられる。ダイクロイックミラーアセンブリ１３３０に衝突するＵＶ放射は、より完全に以下で説明される方法で、可視ビーム蛍光フットプリント１３５０を生じさせる。紫外線によって生成される蛍光及び後方アライメントフィーチャは、例えば可視スペクトル領域で動作するカメラによって観察することができる。ミラー又は基板を通して蛍光の場所及びアライメントフィーチャを比較することによって、システムは、以下に説明するように、簡単にアライメントされ得る。この例では可視光が使用されるが、スペクトルの可視部の外の放射が使用されてもよいことが理解されるだろう。

[0088] 様々な実施形態の態様によれば、照明ビームフットプリントは、幾つかの異なるやり方の何れか１つで、ＵＶ露光時に生成され得る。例えば、図１４Ａに示されるように、ＵＶ反射コーティング１３６０は、ＵＶ露光時に、内在蛍光特性を示すものであるように選択されてもよい。これは、入射ＵＶ放射を示す太矢印、及び蛍光によって生じる光を示す波状矢印を用いて図１４Ａ～１４Ｄに示される。代替的に、図１４Ｂに示されるように、基板１３４０の裏面は、反射コーティング１３６０を通るＵＶの漏れによって光が生じる、蛍光コーティング１３７０が設けられてもよい。基板１３４０に言及する際の「裏面」という用語は、到来するＵＶ放射とは反対方向を向く基板表面を意味する。代替的に、図１４Ｃに示されるように、サポート１３１０の前面は、反射コーティング１３６０を通るＵＶの漏れによって光が生じる、蛍光コーティング１３８０が設けられてもよい。サポート１３１０に言及する際の「前面」という用語は、到来するＵＶ放射の方向を向くサポート表面を意味する。代替的に、図１４Ｄに示されるように、サポート１３１０は、反射コーティング１３６０を通るＵＶの漏れによって光が生じる、蛍光材料から作られてもよい。

[0089] 図１５Ａは、アライメントフィーチャ１３２０を有するミラー支持板１３００の上に重ねられたダイクロイックミラーアセンブリ１３３０の平面図である。アライメントフィーチャ１３２０を有するミラー支持板１３００は、ダイクロイックミラーアセンブリ１３３０の後ろにあるため、透視図で示される。ダイクロイックミラーアセンブリ１３３０に衝突するＵＶ放射は、説明したように、可視ビーム蛍光フットプリント１３５０を生成する。つまり、ＵＶ放射ビームは、例えば図５Ｂに示されるように、１つ又は複数の特定の場所でダイクロイックミラーアセンブリ１３３０に衝突する。ビームが衝突した特定のエリアは、蛍光フットプリント１３５０によって示されるように蛍光を発する。ビームが衝突していないダイクロイックミラーアセンブリ１３３０の表面の残りの部分は、蛍光を発しない。図１５Ａは、蛍光フットプリント１３５０がアライメントフィーチャ１３２０と十分に一致していない非アライメント位置を示す。図１５Ｂは、蛍光フットプリント１３５０がアライメントフィーチャ１３２０と十分に一致するアライメント位置を示す。これは、蛍光により、ＵＶフットプリント及びアライメントフィーチャの相対位置決めを照らし出して明らかにする正しい場所（この例では２つ）でＵＶビームがダイクロイックミラーアセンブリ１３３０上にランディングするようにアライメントによって達成される。アライメントを補正するために、すべてのミラー上の正しい位置にビームがランディングするように、１つ又は複数のミラーの配向が調整される。アライメントフィーチャと並置してランディングするビームの像は、カメラによって捕捉され、つまり、アライメント動作を行いながらオペレータが見ることができるデジタル画像に変換される。

[0090] 幾つかの実施形態によれば、パルスストレッチャのアライメントは、ミラーの少なくとも一部が調整可能であること、例えば、４つのミラー配置の場合、４つのイメージングリレーミラーのうちの少なくとも２つが調整可能であることを必要とする。２つの調整可能ミラーのそれぞれが、合計４自由度を生じさせるティップ／ティルト調整を有する。２つの調整可能ミラーは、システムの共焦点設計のために、ＯＰｕＳの両端に位置してもよい。調整可能ミラーは、幾つかの実施形態によれば、Ｚ軸（例えば、ビームの伝搬方向）調整を有して設計することもできる。

[0091] 一般的に、アライメントを実施するためのこれらのコンポーネントに対する調整は、アジャスタ８５５及び８３５（図８Ａ）などの壁貫通アジャスタ（「ＴＷＡ（through-the-wall adjustor）」）を使用して行われる。これらは、光学系又はモジュールを傾ける（tip）、又は斜めにする（tilt）、又は平行移動させるために手動で操作される六角ドライバの使用を伴う。ＴＷＡは、特定の調整に密閉機械的フィードスルーを提供することができ、例えば、密閉機械的フィードスルーを介してカバーを通ってアクセスされ得る。調整は、手動で作動するＴＷＡの代わりに電気的に作動するＴＷＡを用いて実施することもできる。モータが、ＴＷＡに機械的に結合される。例えば、モータがシャフトを回転させるときに、六角ドライバも回転し、それによって、ＴＷＡの端部がシャフトの回転方向に従って、それの軸に沿って平行移動させられるように、モータは、六角アダプタが取り付けられたシャフトを有してもよい。電気的に作動するＴＷＡの使用は、カメラ８９０からのデジタル画像が、制御システム１３５（図１）に運ばれ、次に、制御システム１３５が、画像を解析し、ＴＷＡを作動させてアライメントを実施する、アライメントプロセスの自動化を可能にする。

[0092] アライメントが、１つの光学フィーチャのみを調整することを伴い得ること、及び第１の光学フィーチャの正しい部分にビームを衝突させることが、第２の光学フィーチャ光学フィーチャを調整することを必要とし得ることが理解されるものとする。

[0093] 図１６は、実施形態の態様に従って、密閉エンクロージャ内に位置決めされた光学フィーチャをアライメントするプロセスを示すフローチャートである。ステップＳ１０では、エンクロージャ内の光学フィーチャが、ＵＶ放射ビームに露光させられる。ＵＶ放射ビームは、ＵＶ放射ビームのフットプリントを目に見えるようにする。ステップＳ２０では、ＵＶ放射ビーム蛍光によって生成された光が、光学フィーチャからの単一像に結合される。単一像は、ステップＳ３０において、閉鎖チャンバの外でカメラに運ばれる。ステップＳ４０では、カメラによって捕捉された画像を見ながら技術者によって、又は上記のような制御システムによって、フィーチャは、フィーチャから結合された光から作られた像に基づいてアライメントされる。本質的に、各フィーチャがアライメントフィーチャを含む例では、アライメントは、光学フィーチャごとに、ビームフットプリントの像及びアライメントフィーチャ内の位置関係に基づいて決定される。

[0094] 特定の機能の実装及びそれらの関係を示す機能的構成要素を用いて、本発明を上記に説明した。これらの機能的構成要素の境界は、説明の便宜上、本明細書では任意に定義されている。特定の機能及びそれらの関係が適切に行われる限り、別の境界が定義され得る。

[0095] 特定の実施形態の上記の説明は、他の人たちが当該技術分野の技能の範囲内の知識を適用することによって、過度の実験を行うことなく、本発明の一般概念から逸脱することなく、様々な用途のためにそのような特定の実施形態を容易に変更すること、及び／又は適応させることができるように、本発明の一般的性質を完全に明らかにする。したがって、そのような適応形態及び変更形態は、本明細書に提示される教示及び案内に基づいて、開示される実施形態の均等物の意味及び範囲内にあることが意図される。本明細書の用語又は専門用語は、本明細書の専門用語又は用語が教示及びガイダンスに鑑みて当業者によって解釈されるように説明を目的としたものであり、限定を目的としたものではないことが理解されるものとする。

[0096] 本発明の他の態様は、以下の番号付き条項に記載される。
１．可視光を透過させるウィンドウを含む、密閉エンクロージャと、
エンクロージャ内の第１の位置に位置決めされた第１の光学フィーチャと、
エンクロージャ内の第２の位置に位置決めされた第２の光学フィーチャと、
第１の光学フィーチャから第１の光学フィーチャ光、及び第２の光学フィーチャから第２の光学フィーチャ光を受け取るように配置され、第１の光学フィーチャ光及び第２の光学フィーチャ光をウィンドウを通して方向転換させ、第２の光学フィーチャ光からの像と並置される第１の光学フィーチャ光からの像を形成するように適応した、像統合モジュールと、
を含む、光学コンポーネント。
２．光学コンポーネントが、光パルスストレッチャである、条項１に記載の光学コンポーネント。
３．第１の光学フィーチャが第１のミラーを含み、第２の光学フィーチャが第２のミラーを含む、条項１に記載の光学コンポーネント。
４．第１のミラーが第１の凹面ダイクロイックミラーを含み、第２のミラーが第２の凹面ダイクロイックミラーを含む、条項３に記載の光学コンポーネント。
５．第１の光学フィーチャ及び第２の光学フィーチャが、像統合モジュールに対して実質的に対称的に位置決めされる、条項１に記載の光学コンポーネント。
６．像統合モジュールが、第１の光学フィーチャからの光を方向転換させるように配置された第１の反射面、及び第２の光学面からの光を方向転換させるように配置された第２の反射面を含む、条項１に記載の光学コンポーネント。
７．第１の反射面が、第１のプリズムの第１のプリズム反射面を含み、第２の反射面が、第２のプリズムの第２のプリズム反射面を含む、条項６に記載の光学コンポーネント。
８．像統合モジュールが、第１の光学フィーチャに向けて配向された第１の反射面と第２の光学フィーチャに向けて配向された第２の反射面とを有するプリズムを含む、条項１に記載の光学コンポーネント。
９．像統合モジュールが、２つの平坦面取りミラーを含む、条項１に記載の光学コンポーネント。
１０．エンクロージャ内の第３の位置に位置決めされた第３の光学フィーチャと、
エンクロージャ内の第４の位置に位置決めされた第４の光学フィーチャと、
をさらに含み、
像統合モジュールが、第３の光学フィーチャから第３の光学フィーチャ光、及び第４の光学フィーチャから第４の光学フィーチャ光を受け取るように配置され、ウィンドウを通して第３の光学フィーチャ光及び第４の光学フィーチャ光を結合し、方向転換させて、第４の光学フィーチャ光からの像と並置される第３の光学フィーチャ光からの像を形成するように適応した、条項１に記載の光学コンポーネント。
１１．ウィンドウを通して第１の光学フィーチャ光及び第２の光学フィーチャ光を受け取るように配置されたカメラシステムをさらに含む、条項１に記載の光学コンポーネント。
１２．カメラシステムが、
ウィンドウを通して第１の光学フィーチャ光及び第２の光学フィーチャ光を受け取るように配置されたレンズシステムと、
レンズシステムから第１の光学フィーチャ光及び第２の光学フィーチャ光を受け取るように配置されたカメラと、
を含む、条項１１に記載の光学コンポーネント。
１３．第１の光学フィーチャ光及び第２の光学フィーチャ光の光路の方向を変えるための、像統合モジュールとウィンドウとの間に光学的に位置決めされた折り畳みミラーをさらに含む、条項１１に記載の光学コンポーネント。
１４．第１の光学フィーチャ及び第２の光学フィーチャの少なくとも一方が調整可能であり、第１の光学フィーチャ及び第２の光学フィーチャの少なくとも一方の配向を調整するために、第１の光学フィーチャ及び第２の光学フィーチャの少なくとも一方に機械的に結合されたアクチュエータをさらに含む、条項１に記載の光学コンポーネント。
１５．第１の光学フィーチャが、第１の蛍光材料及び第１のアライメントフィーチャを含み、第２の光学フィーチャが、第２の蛍光材料及び第２のアライメントフィーチャを含む、条項１に記載の光学コンポーネント。
１６．第１の光学フィーチャが、可視光を透過させる第１の基板と、ＵＶ放射を反射する第１の反射コーティングと、第１のミラーサポートとを含む第１のミラーを含み、
第２の光学フィーチャが、可視光を透過させる第２の基板と、ＵＶ放射を反射する第２の反射コーティングと、第２のミラーサポートとを含む第２のミラーを含む、条項１に記載の光学コンポーネント。
１７．第１のミラーサポートが、第１のミラーサポートの前面上に第１のアライメントフィーチャを含み、第２のミラーサポートが、第２のミラーサポートの前面上に第２のアライメントフィーチャを含む、条項１６に記載の光学コンポーネント。
１８．第１のアライメントフィーチャが、第１のミラー上のアライメントされたビームフットプリントの位置と一致し、第２のアライメントフィーチャが、第２のミラー上のアライメントされたビームフットプリントの位置と一致する、条項１７に記載の光学コンポーネント。
１９．第１の光学フィーチャが第１の蛍光材料をさらに含み、第２の光学フィーチャが第２の蛍光材料をさらに含む、条項１８に記載の光学コンポーネント。
２０．第１の光学フィーチャが、第１の蛍光材料を含む第１の反射コーティングを含み、第２の光学フィーチャが、第２の蛍光材料を含む第２の反射コーティングを含む、条項１９に記載の光学コンポーネント。
２１．第１の蛍光材料が、第１の基板の裏面上に設けられ、第２の蛍光材料が、第２の基板の裏面上に設けられる、条項１９に記載の光学コンポーネント。
２２．第１の蛍光材料が、第１のミラーサポートの前面上に設けられ、第２の蛍光材料が、第２のミラーサポートの前面上に設けられる、条項１９に記載の光学コンポーネント。
２３．第１のミラーサポートが第１の蛍光材料を含み、第２のミラーサポートが第２の蛍光材料を含む、条項１９に記載の光学コンポーネント。
２４．可視光を透過させるウィンドウを含む、密閉エンクロージャと、
エンクロージャ内の第１の視野内に位置決めされた第１の光学フィーチャと、
エンクロージャ内の第１の視野内に位置決めされた第２の光学フィーチャと、
第１の視野から第１の視野光を受け取るように配置され、ウィンドウを通して第１の視野光を結合し、方向転換させるように適応した像統合モジュールと、
を含み、
像統合モジュールが、関係

によって与えられる角度θだけ、平面鏡面の中心を通過し、及び第１の視野と実質的に平行なラインに対して傾斜した平面鏡面を含み、
ｈが、第１の視野の高さであり、ｄが、第１の視野の中心と平面鏡面の中心との間の垂直距離であり、ｓが、第１の視野と平面鏡面の中心との間の水平距離である、光学コンポーネント。
２５．ウィンドウを有する密閉エンクロージャ内に配置された複数の光学フィーチャをアライメントする方法であって、方法が、
光学フィーチャのそれぞれからの光を結合して結合光信号を生成することと、
ウィンドウを通ってエンクロージャの外に結合光信号を誘導することと、
少なくとも部分的に結合光信号に基づいて、複数の光学フィーチャの少なくとも幾つかをアライメントすることと、
を含む、方法。
２６．ウィンドウを通ってエンクロージャの外に結合光信号を誘導した後に、密閉エンクロージャの外に位置決めされ、結合光信号を受信するように配置されたカメラシステムを使用して、結合光信号をイメージングすることをさらに含む、条項２５に記載の方法。
２７．複数の光学フィーチャのそれぞれが、アライメントフィーチャと、光学フィーチャに衝突するＵＶビームの可視フットプリントを生成するように配置された蛍光材料とを含み、光学フィーチャのそれぞれからの光を結合して結合光信号を生成することの前に、
光学フィーチャのそれぞれをＵＶ放射ビームに露光させることと、
光学フィーチャのそれぞれの上に、ＵＶ放射ビームの照明フットプリントを生成することと、
をさらに含み、
少なくとも部分的に結合光信号に基づいて、複数の光学フィーチャの少なくとも幾つかをアライメントすることが、少なくとも部分的に、光学フィーチャごとに照明フットプリント及びアライメントフィーチャの位置関係に基づいて、複数の光学フィーチャの少なくとも幾つかをアライメントすることを含む、条項２５に記載の方法。
２８．アライメントすることが、複数の光学フィーチャの１つ又は複数を調整することを含む、条項２５に記載の方法。
２９．複数の光学フィーチャの１つ又は複数を調整することが、複数の光学フィーチャの１つ又は複数にそれぞれ機械的に結合された１つ又は複数のアクチュエータを手動で操作することを含む、条項２８に記載の方法。
３０．複数の光学フィーチャの１つ又は複数を調整することが、複数の光学フィーチャの１つ又は複数にそれぞれ機械的に結合された１つ又は複数のモータ駆動アクチュエータを作動させる信号を供給することを含む、条項２８に記載の方法。
３１．複数の光学フィーチャの１つ又は複数を調整することが、複数の光学フィーチャの１つ又は複数の配向を調整することを含む、条項２８に記載の方法。

Claims (31)

1. 可視光を透過させるウィンドウを含む、密閉エンクロージャと、
   前記エンクロージャ内の第１の位置に位置決めされた第１の光学フィーチャと、
   前記エンクロージャ内の第２の位置に位置決めされた第２の光学フィーチャと、
   前記第１の光学フィーチャから第１の光学フィーチャ光、及び前記第２の光学フィーチャから第２の光学フィーチャ光を受け取るように配置され、前記第１の光学フィーチャ光及び前記第２の光学フィーチャ光を前記ウィンドウを通して方向転換させ、前記第２の光学フィーチャ光からの像と並置される前記第１の光学フィーチャ光からの像を形成するように適応した、像統合モジュールと、
   を含む、光学コンポーネント。
2. 前記光学コンポーネントが、光パルスストレッチャである、請求項１に記載の光学コンポーネント。
3. 前記第１の光学フィーチャが第１のミラーを含み、前記第２の光学フィーチャが第２のミラーを含む、請求項１に記載の光学コンポーネント。
4. 前記第１のミラーが第１の凹面ダイクロイックミラーを含み、前記第２のミラーが第２の凹面ダイクロイックミラーを含む、請求項３に記載の光学コンポーネント。
5. 前記第１の光学フィーチャ及び前記第２の光学フィーチャが、前記像統合モジュールに対して実質的に対称的に位置決めされる、請求項１に記載の光学コンポーネント。
6. 前記像統合モジュールが、前記第１の光学フィーチャからの光を方向転換させるように配置された第１の反射面、及び前記第２の光学面からの光を方向転換させるように配置された第２の反射面を含む、請求項１に記載の光学コンポーネント。
7. 前記第１の反射面が、第１のプリズムの第１のプリズム反射面を含み、前記第２の反射面が、第２のプリズムの第２のプリズム反射面を含む、請求項６に記載の光学コンポーネント。
8. 前記像統合モジュールが、前記第１の光学フィーチャに向けて配向された第１の反射面と前記第２の光学フィーチャに向けて配向された第２の反射面とを有するプリズムを含む、請求項１に記載の光学コンポーネント。
9. 前記像統合モジュールが、２つの平坦面取りミラーを含む、請求項１に記載の光学コンポーネント。
10. 前記エンクロージャ内の第３の位置に位置決めされた第３の光学フィーチャと、
    前記エンクロージャ内の第４の位置に位置決めされた第４の光学フィーチャと、
    をさらに含み、
    前記像統合モジュールが、前記第３の光学フィーチャから第３の光学フィーチャ光、及び前記第４の光学フィーチャから第４の光学フィーチャ光を受け取るように配置され、前記ウィンドウを通して前記第３の光学フィーチャ光及び前記第４の光学フィーチャ光を結合し、方向転換させて、前記第４の光学フィーチャ光からの像と並置される前記第３の光学フィーチャ光からの像を形成するように適応した、請求項１に記載の光学コンポーネント。
11. 前記ウィンドウを通して前記第１の光学フィーチャ光及び前記第２の光学フィーチャ光を受け取るように配置されたカメラシステムをさらに含む、請求項１に記載の光学コンポーネント。
12. 前記カメラシステムが、
    前記ウィンドウを通して前記第１の光学フィーチャ光及び前記第２の光学フィーチャ光を受け取るように配置されたレンズシステムと、
    前記レンズシステムから前記第１の光学フィーチャ光及び前記第２の光学フィーチャ光を受け取るように配置されたカメラと、
    を含む、請求項１１に記載の光学コンポーネント。
13. 前記第１の光学フィーチャ光及び前記第２の光学フィーチャ光の光路の方向を変えるための、前記像統合モジュールと前記ウィンドウとの間に光学的に位置決めされた折り畳みミラーをさらに含む、請求項１１に記載の光学コンポーネント。
14. 前記第１の光学フィーチャ及び前記第２の光学フィーチャの少なくとも一方が調整可能であり、前記第１の光学フィーチャ及び前記第２の光学フィーチャの前記少なくとも一方の配向を調整するために、前記第１の光学フィーチャ及び前記第２の光学フィーチャの前記少なくとも一方に機械的に結合されたアクチュエータをさらに含む、請求項１に記載の光学コンポーネント。
15. 前記第１の光学フィーチャが、第１の蛍光材料及び第１のアライメントフィーチャを含み、前記第２の光学フィーチャが、第２の蛍光材料及び第２のアライメントフィーチャを含む、請求項１に記載の光学コンポーネント。
16. 前記第１の光学フィーチャが、可視光を透過させる第１の基板と、ＵＶ放射を反射する第１の反射コーティングと、第１のミラーサポートとを含む第１のミラーを含み、
    前記第２の光学フィーチャが、可視光を透過させる第２の基板と、ＵＶ放射を反射する第２の反射コーティングと、第２のミラーサポートとを含む第２のミラーを含む、請求項１に記載の光学コンポーネント。
17. 前記第１のミラーサポートが、前記第１のミラーサポートの前面上に第１のアライメントフィーチャを含み、前記第２のミラーサポートが、前記第２のミラーサポートの前面上に第２のアライメントフィーチャを含む、請求項１６に記載の光学コンポーネント。
18. 前記第１のアライメントフィーチャが、前記第１のミラー上のアライメントされたビームフットプリントの位置と一致し、前記第２のアライメントフィーチャが、前記第２のミラー上のアライメントされたビームフットプリントの位置と一致する、請求項１７に記載の光学コンポーネント。
19. 前記第１の光学フィーチャが第１の蛍光材料をさらに含み、前記第２の光学フィーチャが第２の蛍光材料をさらに含む、請求項１８に記載の光学コンポーネント。
20. 前記第１の光学フィーチャが、前記第１の蛍光材料を含む第１の反射コーティングを含み、前記第２の光学フィーチャが、前記第２の蛍光材料を含む第２の反射コーティングを含む、請求項１９に記載の光学コンポーネント。
21. 前記第１の蛍光材料が、前記第１の基板の裏面上に設けられ、前記第２の蛍光材料が、前記第２の基板の裏面上に設けられる、請求項１９に記載の光学コンポーネント。
22. 前記第１の蛍光材料が、前記第１のミラーサポートの前面上に設けられ、前記第２の蛍光材料が、前記第２のミラーサポートの前面上に設けられる、請求項１９に記載の光学コンポーネント。
23. 前記第１のミラーサポートが前記第１の蛍光材料を含み、前記第２のミラーサポートが前記第２の蛍光材料を含む、請求項１９に記載の光学コンポーネント。
24. 可視光を透過させるウィンドウを含む、密閉エンクロージャと、
    前記エンクロージャ内の第１の視野内に位置決めされた第１の光学フィーチャと、
    前記エンクロージャ内の前記第１の視野内に位置決めされた第２の光学フィーチャと、
    前記第１の視野から第１の視野光を受け取るように配置され、前記ウィンドウを通して前記第１の視野光を結合し、方向転換させるように適応した像統合モジュールと、
    を含み、
    前記像統合モジュールが、前記関係
    

    

    によって与えられる角度θだけ、平面鏡面の中心を通過し、及び前記第１の視野と実質的に平行なラインに対して傾斜した前記平面鏡面を含み、
    ｈが、前記第１の視野の高さであり、ｄが、前記第１の視野の前記中心と前記平面鏡面の前記中心との間の垂直距離であり、ｓが、前記第１の視野と前記平面鏡面の前記中心との間の水平距離である、光学コンポーネント。
25. ウィンドウを有する密閉エンクロージャ内に配置された複数の光学フィーチャをアライメントする方法であって、前記方法が、
    前記光学フィーチャのそれぞれからの光を結合して結合光信号を生成することと、
    前記ウィンドウを通って前記エンクロージャの外に前記結合光信号を誘導することと、
    少なくとも部分的に前記結合光信号に基づいて、前記複数の光学フィーチャの少なくとも幾つかをアライメントすることと、
    を含む、方法。
26. 前記ウィンドウを通って前記エンクロージャの外に前記結合光信号を誘導した後に、前記密閉エンクロージャの外に位置決めされ、前記結合光信号を受信するように配置されたカメラシステムを使用して、前記結合光信号をイメージングすることをさらに含む、請求項２５に記載の方法。
27. 前記複数の光学フィーチャのそれぞれが、アライメントフィーチャと、前記光学フィーチャに衝突するＵＶビームの可視フットプリントを生成するように配置された蛍光材料とを含み、前記光学フィーチャのそれぞれからの光を結合して結合光信号を生成することの前に、
    前記光学フィーチャのそれぞれをＵＶ放射ビームに露光させることと、
    前記光学フィーチャのそれぞれの上に、前記ＵＶ放射ビームの照明フットプリントを生成することと、
    をさらに含み、
    少なくとも部分的に前記結合光信号に基づいて、前記複数の光学フィーチャの少なくとも幾つかをアライメントすることが、少なくとも部分的に、光学フィーチャごとに前記照明フットプリント及び前記アライメントフィーチャの位置関係に基づいて、前記複数の光学フィーチャの少なくとも幾つかをアライメントすることを含む、請求項２５に記載の方法。
28. アライメントすることが、前記複数の光学フィーチャの１つ又は複数を調整することを含む、請求項２５に記載の方法。
29. 前記複数の光学フィーチャの１つ又は複数を調整することが、前記複数の光学フィーチャの前記１つ又は複数にそれぞれ機械的に結合された１つ又は複数のアクチュエータを手動で操作することを含む、請求項２８に記載の方法。
30. 前記複数の光学フィーチャの１つ又は複数を調整することが、前記複数の光学フィーチャの前記１つ又は複数にそれぞれ機械的に結合された１つ又は複数のモータ駆動アクチュエータを作動させる信号を供給することを含む、請求項２８に記載の方法。
31. 前記複数の光学フィーチャの１つ又は複数を調整することが、前記複数の光学フィーチャの１つ又は複数の配向を調整することを含む、請求項２８に記載の方法。

Images