JP2023536154A - 低傾斜トレンチエッチングのための薄いシャドウリング - Google Patents
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Abstract
基板処理システムのための薄いシャドウリングは、内径と外径とを有する環状本体を含む。内径および外径は、内径と外径との間の環状本体の断面幅を画定する。少なくとも2つのタブは、環状本体から半径方向外向きに延びる。内径と外径との間の環状本体の断面幅は、1.0インチ未満である。【選択図】図1B
Description
関連出願の相互参照
本出願は、2020年7月31日に出願された、米国特許出願第63/059,936号および2020年8月21日に出願された、米国特許出願第63/068,677号の利益を主張するものである。上記で参照された出願の開示全体が、参照により本明細書に組み込まれる。
本出願は、2020年7月31日に出願された、米国特許出願第63/059,936号および2020年8月21日に出願された、米国特許出願第63/068,677号の利益を主張するものである。上記で参照された出願の開示全体が、参照により本明細書に組み込まれる。
本開示は、半導体処理システムのためのシャドウリングに関する。
ここに述べられる背景の説明は、本開示の関連において一般的に述べるためのものである。この「背景技術」の項で述べられる範囲における本明細書で名前が挙げられる発明者らの活動、ならびにその他出願の時点において従来技術として分類され得ない本説明の態様は、明示的にも暗黙的にも、本開示に対して従来技術として認められるものではない。
半導体ウェハなど基板の生産中、エッチングプロセスおよび堆積プロセスは、処理チャンバ内で行われ得る。基板は、静電チャック(Electrostatic Chuck:ESC)または台座などの基板支持体上で、処理チャンバ内に配置される。処理チャンバ内にプロセスガスが導入され、プラズマが打ち当てられる。
いくつかの基板処理システムは、シリコン深掘りエッチング(Deep Silicon Etch:DSiE)処理および/または急速交互プロセス(Rapid Alternating Process:RAP)を行うように構成されることができ、これはエッチングと堆積プロセスとの間を高速に切り換えることを含む。例えば、RAPは、微小電気機械システム(MEMS)エッチング、DSiE処理などで用いられ得る。
基板処理システムのための薄いシャドウリングは、内径と外径とを有する環状本体を含む。内径および外径は、内径と外径との間の環状本体の断面幅を画定する。少なくとも2つのタブは、環状本体から半径方向外向きに延びる。内径と外径との間の環状本体の断面幅は、1.0インチ未満である。
他の特徴において、内径と外径との間の環状本体の断面幅は、0.5インチ未満である。内径と外径との間の環状本体の断面幅は、0.25インチ未満である。少なくとも2つのタブは、環状本体から半径方向外向きに延びる少なくとも3つのタブを含む。2つのタブの少なくとも1つは、タブを通って延びる開口を含む。2つのタブの少なくとも1つの下面は、リフトピンを受け入れるように構成された凹部を含む。環状本体の上面は、傾きが付けられている。
他の特徴において、基板支持体は、薄いシャドウリングを含み、薄いシャドウリングを上昇および降下させるために、薄いシャドウリングの少なくとも2つのタブと係合するように構成された、少なくとも2つのリフトピンをさらに含む。薄いシャドウリングの2つのタブの少なくとも1つは、基板支持体の外縁の上に延びる。基板支持体は、外径を有する基板を支持するように構成され、環状本体の内径は、基板の外径未満である。基板支持体の上面は、基板を受け入れるように構成された凹部を画定し、薄いシャドウリングの環状本体の一部分は、凹部に重なる。
他の特徴において、環状本体の上面と環状本体の下面との間の、環状本体の内径において、鋭角が画定される。上面と下面とは、シャドウリングの内縁において鋭い隅部を形成し、内縁は、丸みを帯びており、内縁は、0.0~0.025インチの半径を有し、鋭角は、1~35度であり、または内縁の厚さは、0.01インチ未満である。
深いトレンチエッチングおよび浅いトレンチエッチングを行うように構成された基板処理システムのための基板支持体は、基板支持体の上面内に画定された凹部を含む。凹部は、基板を受け入れるように構成される。シャドウリングは、内径と外径とを有する環状本体を含む。内径および外径は、内径と外径との間の環状本体の断面幅を画定する。少なくとも2つのタブは、基板支持体の外縁の上を、環状本体から半径方向外向きに延びる。内径と外径との間の環状本体の断面幅は、1.0インチ未満であり、環状本体の内径は、凹部の外径未満である。リフティングピンは、シャドウリングの少なくとも2つのタブの1つに整列される。リフティングピンは、降下位置と上昇位置との間で、シャドウリングを移動するように構成される。
他の特徴において、内径と外径との間の環状本体の断面幅は、0.5インチ未満である。内径と外径との間の環状本体の断面幅は、0.25インチ未満である。シャドウリングは、少なくとも3つのタブを含む。2つのタブの少なくとも1つは、タブを通って延びる開口を含む。環状本体の上面は、傾きが付けられている。環状本体の内径は、基板の外径未満である。
他の特徴において、基板処理システムは、基板支持体を含む。基板処理システムは、浅いトレンチエッチングプロセスの間、シャドウリングを上昇位置まで上昇させ、深いトレンチエッチングプロセスの間、シャドウリングを降下位置まで降下させるように、リフティングピンを作動するように構成される。
他の特徴において、環状本体の上面と環状本体の下面との間の、環状本体の内径において、鋭角が画定される。上面と下面とは、シャドウリングの内縁において鋭い隅部を形成し、内縁は、丸みを帯びており、内縁は、0.0~0.025インチの半径を有し、鋭角は、1~35度であり、または内縁の厚さは、0.01インチ未満である。
基板処理システムのためのシャドウリングは、環状本体、内径、外径、ならびに内径と外径との間に画定された下面および上面とを含む。上面は、外側部分と内側部分とを含み、内側部分は、傾きが付けられ、上面の内側部分は、シャドウリングの下面に接して、シャドウリングの内径における内縁を画定し、鋭角は、内側部分と下面との間の、内縁において画定される。
他の特徴において、上面の内側部分および下面は、内縁において鋭い隅部を形成する。内縁は、丸みを帯びている。内縁は、0.0~0.025インチの半径を有する。鋭角は、1~35度である。内縁の厚さは、0.01インチ未満である。上面の外側部分は、水平である。内側部分は、平坦である。
他の特徴において、内径および外径は、内径と外径との間の環状本体の断面幅を画定し、内径と外径との間の環状本体の断面幅は、1.0インチ未満である。内径と外径との間の環状本体の断面幅は、0.5インチ未満である。内径と外径との間の環状本体の断面幅は、0.25インチ未満である。
他の特徴において、シャドウリングは、環状本体から半径方向外向きに延びる、少なくとも2つのタブをさらに含む。基板支持体は、シャドウリングを含み、シャドウリングを上昇および降下させるために、シャドウリングの少なくとも2つのタブと係合するように構成された、少なくとも2つのリフトピンをさらに含む。シャドウリングの2つのタブの少なくとも1つは、基板支持体の外縁の上に延びる。基板支持体は、外径を有する基板を支持するように構成され、環状本体の内径は、基板の外径未満である。基板支持体の上面は、基板を受け入れるように構成された凹部を画定し、シャドウリングの内縁は、凹部に重なる。
基板処理システムのための基板支持体は、深いトレンチエッチングおよび浅いトレンチエッチングを行うように構成される。基板支持体は、基板支持体の上面内に画定された凹部を含み、基板を受け入れるように構成される。基板支持体は、内径、外径、ならびに内径と外径との間に画定された下面および上面とを有する環状本体を含んだ、シャドウリングをさらに含む。上面は、外側部分と内側部分とを含み、内側部分は、傾きが付けられ、上面の内側部分は、シャドウリングの下面に接して、シャドウリングの内径における内縁を画定し、鋭角は、内側部分と下面との間の、内縁において画定される。内径および外径は、内径と外径との間の環状本体の断面幅を画定し、内径と外径との間の環状本体の断面幅は、1.0インチ未満であり、環状本体の内径は、凹部の外径未満である。
他の特徴において、上面の内側部分と下面とは、内縁において鋭い隅部を形成する。内縁は、丸みを帯びている。内縁は、0.0~0.025インチの半径を有する。鋭角は、1~35度である。内縁の厚さは、0.01インチ未満である。内径と外径との間の環状本体の断面幅は、0.5インチ未満である。内径と外径との間の環状本体の断面幅は、0.25インチ未満である。
本開示の適用性のさらなる領域は、「発明を実施するための形態」、「特許請求の範囲」、および図面から明らかになるであろう。「発明を実施するための形態」および特定の例は、例示のためのみであり、本開示の範囲を限定するためのものではない。
本開示は、「発明を実施するための形態」、および添付の図面から、より十分に理解されるであろう。
図面において、参照番号は、同様なおよび/または同一の要素を識別するために、再使用され得る。
いくつかの基板支持体(例えば、深いトレンチエッチングプロセスを行うように構成された基板処理システムにおける基板支持体)は、シャドウリングを含み得る。エッチングプロセスの間、基板は、基板支持体上に配置される。基板の外縁での斜面は、エッチングに曝され得る。基板の斜面をエッチングから保護するために、シャドウリングが用いられ得る。例えば、シャドウリングは、基板支持体への基板の移送を容易にするために上昇され、次いで降下され得る。シャドウリングの内径は、深いトレンチエッチングプロセスの間に斜面がエッチングされるのを保護するために、基板の外縁に重なる。
シャドウリングは、基板の上のプロセスガスの流れを乱し、およびプラズマシースの曲がりを引き起こす場合があり、これはエッチングされたトレンチの傾斜を誘発し得る。深いトレンチエッチングプロセスは通常、厳密な傾斜要件をもたないが、他のエッチングプロセス(例えば、浅いトレンチエッチングプロセス)は、厳密な傾斜要件を有し得る。反対に、浅いトレンチエッチングプロセスは、斜面保護を必要としなくてもよい。従って、深いトレンチおよび浅いトレンチエッチングの両方を行うように構成された処理チャンバでは、シャドウリングは、深いトレンチエッチングプロセスの間は降下されることができ(基板の斜面の保護するために)、浅いトレンチエッチングまたは他のプロセスの間は上昇され得る(傾斜を最小化するために)。
シャドウリングを上昇させることは、プロセスガス流の乱れ、およびプラズマシースの曲がりを低減するが、シャドウリングの存在は、依然として傾斜を誘発する。例えば、典型的なシャドウリングは、2.0~4.0インチ(50.8~101.6mm)の一様な断面幅を有し得る。従って、シャドウリングは、基板支持体の上に位置するシャワーヘッドからのガス流を乱す。降下位置にあるとき、シャドウリングは、プラズマシースの曲がりを引き起こすことによって、傾斜を誘発し得る。反対に、上昇位置にあるとき、シャドウリングは、プロセスガス流を乱すことによって、傾斜を誘発し得る。
本開示によるシャドウリングは、プラズマシースの曲がりおよびプロセスガス流の乱れを、最小化するように構成される。いくつかの実施形態では、シャドウリングの幅(すなわち、シャドウリングの断面の幅)は、上昇位置にあるときにはプロセスガス流の乱れを最小化するように、それの環状本体のいくつかの部分に沿って低減され、一方、降下位置にあるときには基板の斜面を依然として保護する。
次に図1Aを参照すると、本開示による基板処理システム10の例が示される。基板処理システム10は、コイル駆動回路11を含む。示されるように、コイル駆動回路11は、RF源12と、チューニング回路13とを含む。チューニング回路13は、1つまたは複数の誘導性変圧器結合型プラズマ(Transformer Coupled Plasma:TCP)コイル16に直接、接続され得る。代替として、チューニング回路13は、任意選択の反転回路15によって、コイル16の1つまたは複数に接続され得る。チューニング回路13は、RF源12の出力を所望の周波数および/または所望の位相にチューニングし、コイル16のインピーダンスを整合させ、TCPコイル16の間でパワーを分割する。反転回路15は、TCPコイル16の1つまたは複数を通る電流の極性を選択的に切り換えるために用いられる。いくつかの例では、コイル駆動回路11は、TCPコイル16を駆動するための、変圧器結合型容量チューニング(TCCT)整合ネットワークを実装する。
ガス分配装置(例えば、1つまたは複数のプレナムをその中に画定するシャワーヘッド20)は、誘電体窓24と、処理チャンバ28との間に配置される。例えば、誘電体窓24は、セラミックを備える。いくつかの実施形態では、シャワーヘッド20は、セラミックまたは他の誘電体材料を備える。処理チャンバ28は、基板支持体(または台座)32をさらに備える。基板支持体32は、静電チャック(ESC)、または機械的チャックもしくは他のタイプのチャックを含み得る。
プロセスガスは、シャワーヘッド20を通じて処理チャンバ28に供給され、プラズマ40が、処理チャンバ28の内側に発生される。例えば、RF信号は、TCPコイルから、誘電体窓24を通って、処理チャンバ28の内部に送信される。RF信号は、処理チャンバ28内のガス分子を励起して、プラズマ40を発生させる。プラズマ40は、基板34の露出面をエッチングする。RF源50およびバイアス整合回路52は、イオンエネルギーを制御するために動作の間、基板支持体32をバイアスするために用いられ得る。
ガス送出システム56は、プロセスガス混合物を、処理チャンバ28に供給するために用いられ得る。ガス送出システム56は、プロセスおよび不活性ガス源57(例えば、堆積ガス、エッチングガス、キャリアガス、不活性ガスなどを含む)と、弁および流量比コントローラ(例えば、質量流量コントローラ(MFC)などのガス計量システム58-1および58-1と、それぞれのマニホールド59-1および59-2とを含み得る。例えば、ガス計量システム58-1およびマニホールド59-1は、エッチングの間、エッチングガス混合物を処理チャンバ28にもたらすように配置されることができ、ガス計量システム58-2およびマニホールド59-2は、堆積の間、堆積ガス混合物を処理チャンバ28にもたらすように配置され得る。例えば、エッチングおよび堆積ガス混合物は、コイル16を通り、誘電体窓24内のそれぞれの通路を通じて、シャワーヘッド20のプレナムにもたらされ得る。加熱器/冷却器64は、基板支持体32を、所定の温度に加熱/冷却するために用いられ得る。排気システム65は、パージングまたは真空引きによって、処理チャンバ28から反応物を除去するための、弁66とポンプ67とを含む。
コントローラ54は、エッチングプロセスを制御するために用いられ得る。コントローラ54は、システムパラメータを監視し、ガス混合物の送出、プラズマを打ち当てること、維持すること、および消すこと、反応物の除去などを制御する。加えて、コントローラ54は、コイル駆動回路11、RF源50、およびバイアス整合回路52などの様々な側面を制御し得る。いくつかの実施形態では、基板支持体32は、温度調整可能である。一定の実施形態では、温度コントローラ68は、基板支持体32内に配置された熱制御要素(TCE)など、複数の発熱体70に接続され得る。温度コントローラ68は、基板支持体32および基板34の温度を制御するように、複数の発熱体70を制御するために用いられ得る。
引き続き図1Aを参照しながら、次に図1Bおよび1Cを参照すると、基板支持体32は、本開示のいくつかの実施形態による薄いシャドウリング100を含む。薄いシャドウリング100は、従来のシャドウリングと比べて著しく低減された断面幅W1を有する。いくつかの実施形態では、薄いシャドウリング100は、アルミナ(例えば、Al2O3)など、セラミック材料からなるものとすることができる。いくつかの実施形態では、薄いシャドウリング100は、酸化イットリウムなど、耐プラズマ性材料において被覆される。図1Bおよび1Cに示されるように、いくつかの実施形態による、薄いシャドウリング100は、降下位置(図1Bに示されるような)と、上昇位置(図1Cに示されるような)との間で、移動されるように構成される。
本開示のいくつかの実施形態による、薄いシャドウリング100の本体104の幅W1は、約1.0インチ(25.4mm)未満とすることができる。いくつかの実施形態では、幅W1は、約0.20~0.5インチ(5.08~12.7mm)である。従って、シャワーヘッド20に面する、薄いシャドウリング100の本体104の上面領域は、著しく低減される。幅の低減は、薄いシャドウリング100が上昇位置にあるとき(例えば、図1Cに示されるように)、シャワーヘッド20と基板34との間の、プロセスガス流の乱れを最小化する。降下位置において、薄いシャドウリング100の内縁128は、基板34に重なり、基板34のエッジ132をエッチングから保護する(例えば、図1Bに示されるように)。一定の実施形態では、薄いシャドウリング100は、基板34のエッジ132の約1.0~2.0mmに重なる。言い換えれば、基板34が外径Dsubを有する場合、薄いシャドウリング100の環状本体104の内径は、Dsub未満となる。基板支持体32の上面は、基板34を受け入れるように構成された凹部134を画定することができ、薄いシャドウリング100は、凹部134の一部分に重なる。いくつかの実施形態では、薄いシャドウリング100の本体104の上面は、上昇位置にあるとき、薄いシャドウリング100の周りのプロセスガスの流れを容易にするように、傾きが付けられる。
いくつかの実施形態では、薄いシャドウリング100は、薄いシャドウリング100の本体104から半径方向外向きに延びる、アームまたはタブ136を含む。いくつかの実施形態では、薄いシャドウリング100は、3つのタブ136を含む。いくつかの実施形態では、薄いシャドウリング100は、3つ未満(例えば、2つ)または3つより多いタブ136を含む。タブ136は、基板支持体32の外縁140の上に延びる。言い換えれば、タブ136によって画定される外径は、基板支持体32の外径より大きくなり得る。いくつかの実施形態では、タブ136は、基板支持体32の上に延び、リフトピン144に整列される。このようにして、タブ136は、薄いシャドウリング100を上昇および降下させるために、リフトピン144の1つまたは複数によって係合され得る。アクチュエータ148(例えば、コントローラ54に応答するリニアクチュエータ)は、リフトピン144を上昇および降下させて、薄いシャドウリング100を上昇および降下させる。
いくつかの実施形態では、タブ136の垂直厚さは、本体104の垂直厚さ未満(例えば、その50%、60%、70%、80%、90%未満)である。他の実施形態では、タブ136の垂直厚さは、本体104の垂直厚さに近くなり得る(例えば、その5%、10%以内)。
次に図2A、2B、および2Cを参照すると、本開示による薄いシャドウリング200の例示の実施形態が示される。図2Aでは、薄いシャドウリング200は、基板支持体204上に配置されて、等角図において示される。図2Bおよび2Cは、薄いシャドウリング200の平面図を示す。薄いシャドウリング200は、環状本体208と、本体208から半径方向外向きに延びる複数のタブ212(例えば、タブ212の3つ)とを含む。図2Aに示されるように、タブ212は、基板支持体204の外径または外周の上に延びる。
概して三角の形状を有するように示されるが、タブ212は、他の適切な形状(例えば、矩形、半円形など)を有し得る。タブ212の数量、およびタブ212の上面216の表面積は、タブ212の周りのプロセスガス流に対する乱れを最小化するように最小にされる。いくつかの実施形態では、図2Aおよび2Bに示されるように、タブ212の上面216は、連続である。いくつかの実施形態では、図2Cに示されるように、上面216は、タブ212通過する開口220を含む。いくつかの実施形態では、シャドウリングは、連続面を有する1つまたは複数のタブと、開口220を有する1つまたは複数のタブとを有し得る(図示せず)。図2Cでは、タブ212のそれぞれは、開口220を画定する外枠224を含み得る。開口220は、プロセスガスが、シャワーヘッド20から下方に流れて、タブ212を通過することを可能にする。従って、開口220は、タブ212を取り囲むプロセスガス流の乱れを低減し、タブ212の位置に対応する基板34の位置における傾斜を最小化する。
図2Dは、図2C内のタブ212の下面228を示す、薄いシャドウリング200の底面図である。いくつかの実施形態では、下面228は、リフトピン120のそれぞれ1つ(図1Bおよび1Cに示される)を受け入れるように配置された凹部232を含む。いくつかの実施形態では、凹部232は、薄いシャドウリング200の、リフトピン120および基板支持体204との整列を容易にする。
いくつかのシャドウリングは、図1Bおよび1Cに示されるように、直角にされた内径または内縁(すなわち、直角の輪郭)を有する。図1Bおよび1Cに示されるように、薄いシャドウリング100の内縁128は、実質的に垂直である。例のみとして、内縁128の高さまたは厚さは、約0.125インチ(3.175mm)以上である。シャドウリングの内径の直角の輪郭は、基板の外径または外縁における、プラズマシースの輪郭に影響を与える。例えば、直角の輪郭は、プラズマシースを変化させ、エッチングされたフィーチャにおいて傾斜を引き起こし得る。いくつかのプロセスでは傾斜は最小となり得るが、傾斜は高いアスペクト比のエッチングプロセスにおいて増大され、トレンチ側壁損傷を引き起こし得る。
本開示のいくつかの実施形態では、シャドウリングの内径は、プラズマシースに対する影響を低減し、傾斜を最小化するように修正される。例えば、内径の輪郭は、鋭い、アールが付けられた(すなわち、丸みが付けられた)、または以下でより詳しく述べられるように低減された高さを有する直角の輪郭を有するように修正される。
次に図3A、3B、3C、3D、および3Eを参照すると、本開示によるシャドウリング300の実施形態の断面図(すなわち、側面図)が示される。シャドウリング300は、図1B、1Cおよび2A~2Dで上述されたように、低減された断面幅を有する薄いシャドウリングに対応する。図3Aでは、基板支持体304上に配置された薄いシャドウリング300が示される。簡単にするために、薄いシャドウリング300は、図3B、3C、3D、および3Eでは基板支持体304なしに示される。
図3Aに示されるように、薄いシャドウリング300の上面は、外側の、概して水平な部分308と、内側の、傾き部分312とを含む。概して平面状(すなわち、平坦)に示されるが、いくつかの実施形態では傾き部分312は、凸面または凹面とすることができる。基板320の外径の上に延びる薄いシャドウリング300の内縁316は、「鋭い」。いくつかの実施形態では、「鋭い」とは、傾き部分312の上面と、シャドウリングの下面324との間に、鋭い先端または隅部を画定するものと定義され得る。他の実施形態では、「鋭い」とは約0.0~0.025インチ(例えば、0.0~0.635mm)の半径を有するものとして定義され得る。傾き部分312の上面は、シャドウリングの下面324に接して、鋭角θを画定する。言い換えれば、鋭角は、傾き部分312と、下面324との間の交差部分において定義される。例えば、角度θは、約1~35度である。一実施形態では、角度θは、おおよそ20度(例えば、19~21度)である。
示されるように、薄いシャドウリング300の本体336から延びる、アームまたはタブ332の高さまたは厚さは、本体336の高さまたは厚さ未満である。言い換えれば、アーム332の上面は、本体336の上面と比べて、下向きに段差が付けられる。他の例では、アーム332の厚さは、本体336の厚さと大体同じである(すなわち、アーム332の上面は、本体336の上面と同一平面上にある。
図3Bに示される別の実施形態では、薄いシャドウリング300の内縁316は、約0.025~0.0625インチ(例えば、0.635~1.5875mm)の半径を有する。従って、図3Bに示されるように内縁316の厚さは、図3Aに示されるような内縁316の厚さよりわずかに大きいが、同じまたはそれ以上の厚さを有する直角の輪郭と比べて、プラズマシースに対して依然として影響は低減されている。
図3Cに示される一実施形態では、薄いシャドウリング300の内縁316は、概して直角であるが、低減された厚さ(例えば、約0.025インチ(0.635mm)未満)を有する。言い換えれば、内縁316は、概して直角であるが、内縁316の厚さは、上述の内縁128の厚さ(例えば、約0.125インチ)と比べて著しく低減される。従って、図3Cによる概して直角の内縁316は、「鋭い」と定義され得る。言い換えれば、図3Cに示されるような内縁316の厚さは、図3Aに示されるような内縁316の厚さよりわずかに大きいが、より大きな厚さを有する直角の輪郭と比べて、プラズマシースに対して依然として影響は低減されている。
図3Dに示される一実施形態では、傾き部分312は、内側の、概して水平な棚部分328に移行する。棚部分328の厚さは、約0.0625インチ(1.5875mm)未満である。従って、図3Dに示されるように、薄いシャドウリング300の内縁316は、約0.0625インチ(1.5875mm)未満の厚さを有する。内縁316は、丸みが付けられることができ(例えば、約0.025~0.0625インチ(例えば、0.635~1.5875mm)の半径で)、または直角の輪郭を有し得る。従って、丸みが付けられた、または図3Dによる概して直角の内縁316は、「鋭い」として定義され得る。言い換えれば、図3Dに示されるような内縁316の厚さは、図3Aに示されるような内縁316の厚さよりわずかに大きいが、より大きな厚さを有する直角の輪郭と比べて、プラズマシースに対して依然として影響は低減されている。棚部分328の長さは、本体336と比べて変わり得る。
図3Eに示される実施形態では、傾き部分312は、内側の、概して水平な棚部分328に移行する。棚部分328の厚さは、約0.05インチ(1.27mm)未満である。従って、図3Dに示されるように、薄いシャドウリング300の内縁316は、約0.05インチ(1.27mm)未満の厚さを有する。示されるように、内縁316の隅部は、丸みが付けられる。従って、図3Eによる丸みが付けられた内縁316は、「鋭い」として定義され得る。言い換えれば、図3Eに示されるような内縁316の厚さは、図3Aに示されるような内縁316の厚さよりわずかに大きいが、より大きな厚さを有する円形または直角の輪郭と比べて、プラズマシースに対して依然として影響は低減されている。棚部分328の長さは、本体336と比べて変わり得る。
従って、図3A~3Eに示されるように、内縁316における薄いシャドウリング300の厚さは、著しく(例えば、いくつかの実施形態では、約0まで)低減され、および/または内縁316の輪郭の形状は、プラズマシースに対する影響を最小化するように修正される。
いくつかの実施形態では、薄いシャドウリング300の内径は、約0.5mmの、基板320の重なりをもたらすように選択される(例えば、11.771インチ(299mm)の内径)。他の実施形態では、薄いシャドウリング300の内径は、約1.0mm(例えば、11.732インチ(298mm)の内径)、または2.0mm(例えば、11.654インチ(296mm)の内径)の、基板320の重なりをもたらすように選択される。薄いシャドウリング300の内縁316の輪郭、および重なりの量は、基板320の外径の保護、およびプラズマシースに対する影響の低減を最適化するように選択され得る。
次に図4A、4B、4C、4D、および4Eを参照すると、本開示の原理によるシャドウリング400の別の実施形態の一部分の断面図(すなわち、側面図)が示される。図4Aでは、基板支持体404上に配置されたシャドウリング400が示される。簡単にするために、シャドウリング400は、図4B、4C、4D、および4Eでは基板支持体404なしに示される。これらの実施形態では、シャドウリング400は、上述のシャドウリング300の低減された断面幅をもたない。言い換えれば、シャドウリング400の外径は、図1Bおよび1Cに示される基板支持体32の外縁140の上に延び得る。
図4Aに示されるように、シャドウリング400の上面は、外側の、概して水平な部分408と、内側の、傾き部分412とを含む。概して平面状(すなわち、平坦)に示されるが、いくつかの実施形態では傾き部分412は、凸面または凹面とすることができる。図3A~3Eに関して上記で定義されたように、基板420の外径の上に延びるシャドウリング400の内縁416は、「鋭い」。例えば、「鋭い」とは、傾き部分412の上面と、シャドウリングの下面424との間に、鋭い先端または隅部を画定するものと定義されることができ、約0.0~0.025インチ(例えば、0.0~0.635mm)の半径を有するなどである。傾き部分412の上面は、シャドウリングの下面424に接して、鋭角θを画定する。言い換えれば、鋭角は、傾き部分412と、下面424との間の交差部分において定義される。例えば、角度θは、約1~35度である。一実施形態では、角度θは、おおよそ20度(例えば、19~21度)である。従って、内縁416におけるシャドウリング400の厚さは、著しく(例えば、いくつかの実施形態では、本質的に0(約0.01インチ未満)まで低減されて、プラズマシースに対する影響を最小化する。
図4Bに示される別の実施形態では、シャドウリング400の内縁416は、約0.025~0.0625インチ(例えば、0.635~1.5875mm)の半径を有する。従って、図4Bに示されるように内縁416の厚さは、図4Aに示されるような内縁416の厚さより大きいが、それ以上の厚さを有する直角の輪郭と比べて、プラズマシースに対して依然として影響は低減されている。
図4Cに示される一実施形態では、シャドウリング400の内縁416は、概して直角であるが、低減された厚さ(例えば、約0.025インチ(0.635mm)未満)を有する。従って、図4Cに示されるように内縁416は、より大きな厚さを有する直角の輪郭と比べて、プラズマシースに対して依然として影響は低減され得る。
図4Dに示される一実施形態では、傾き部分412は、内側の、概して水平な棚部分428に移行する。棚部分428の厚さは、約0.0625インチ(1.5875mm)未満である。従って、図4Dに示されるように、シャドウリング400の内縁416は、約0.0625インチ(1.5875mm)未満の厚さを有する。内縁416は、丸みが付けられることができ(例えば、約0.025~0.0625インチ(例えば、0.635~1.5875mm)の半径で)、または直角の輪郭を有し得る。
図4Eに示される一実施形態では、傾き部分412は、内側の、概して水平な棚部分428に移行する。棚部分428の厚さは、約0.05インチ(1.27mm)未満である。従って、図4Dに示されるように、シャドウリング400の内縁416は、約0.05インチ(1.27mm)未満の厚さを有する。示されるように、内縁416の隅部は、丸みが付けられる。
いくつかの実施形態では、シャドウリング400の内径は、約0.5mmの、基板420の重なりをもたらすように選択される(例えば、11.771インチ(299mm)の内径)。他の実施形態では、シャドウリング400の内径は、約1.0mm(例えば、11.732インチ(298mm)の内径)、または2.0mm(例えば、11.654インチ(296mm)の内径)の、基板420の重なりをもたらすように選択される。シャドウリング400の内縁416の輪郭、および重なりの量は、基板420の外径の保護、およびプラズマシースに対する影響の低減を最適化するように選択され得る。
次に図5を参照すると、基板500のエッジの画像は、異なる内径を有するシャドウリングを用いてエッチングを行った後の、基板のエッジにおけるフィーチャの傾斜を示す。傾斜とは、所望(例えば、完全に垂直、または90度)の方向に対して、トレンチなど、垂直のフィーチャの側壁の傾斜を指す。フィーチャ傾斜は、90度からの(すなわち、基板の水平面に対する)オフセットの程度として表現され得る。傾斜は、半導体デバイスの性能を低下させ、過度な傾斜は歩留まりを低下させ得る。
上述のシャドウリング300および400は、半導体基板のエッジでの傾斜を低減する。例えば、より厚い、直角にされた内径(すなわち、約0.125インチ以上の厚さを有する直角にされた内径など、図3A~3Eまたは4A~4Eで述べられた低減された厚さをもたない)を有するシャドウリングを用いたときの、エッジ傾斜が504で示される。鋭いまたは低減された厚さの内径(例えば、それぞれ図3Bまたは4Bに示される内縁316または416に対応する、0.05インチ未満)と、基板500の1.0mmの重なりとを有する、シャドウリングを用いたときのエッジ傾斜は、508で示される。この例では、エッジ傾斜は、504に示されるエッジ傾斜と比べて改善される(例えば、約1.26度の傾斜改善に対する、88.49度から89.75度への測定された側壁角度から)。言い換えれば、傾斜効果は低減され、ここでのフィーチャは、基板の上面に対してより垂直である。
鋭いまたは低減された厚さの内径(例えば、それぞれ図3Bまたは4Bに示される内縁316または416に対応する、0.05インチ未満)と、基板500の0.5mmの重なりとを有する、シャドウリングを用いたときのエッジ傾斜は、512で示される。この例では、エッジ傾斜はまた、504に示されるエッジ傾斜と比べて改善される(例えば、1.17度の傾斜改善に対する、88.49度から90.34度への測定された側壁角度から)。さらに、重なりを1.0mmから0.5mmに減少させることで、側壁損傷を減少させる。
図5に示される例は、本開示による2つのシャドウリング構成に対する傾斜改善を実証しているが、内径でのシャドウリングの厚さをさらに低減することで、さらに傾斜を低減し得る。内径の厚さおよび重なり量は、種々の用途、処理チャンバ、およびプロセスに対する、所望の傾斜改善結果を得るように、さらに調整され得る。
上記の説明は、本質的に単に例示的なものであり、本開示、その応用例、または使用を限定するものでは全くない。本開示の広範な教示は、多様な形で実施され得る。従って、図面、仕様書、および添付の「特許請求の範囲」を考察することから、他の変更形態は明らかとなるので、本開示は特定の例を含むが本開示の真の範囲はそのように限定されない。方法における1つまたは複数のステップは、本開示の原理を変えずに、異なる順序で(または並行して)実行され得ることが理解されるべきである。さらに、実施形態のそれぞれは一定の特徴を有するものとして上述されているが、本開示のいずれかの実施形態に関して述べられるそれらの特徴の任意の1つまたは複数は、他の実施形態の任意のものの特徴において実施されることができ、および/またはその組み合わせが明示的に述べられなくてもそれらと組み合わされ得る。言い換えれば、述べられる実施形態は相互に排他的ではなく、1つまたは複数の実施形態の互いの置換は本開示の範囲内のままである。
要素の間の(例えば、モジュール、回路要素、半導体層などの間の)、空間的および機能的関係は、「接続された(connected)」、「係合された(engaged)」、「結合された(coupled)」、「隣接した(adjacent)」、「の隣(next to)」、「の上部(on top of)」、「の上(above)」、「の下(below)」、および「配置された(disposed)」を含む、様々な用語を用いて述べられる。「直接」であることが明示的に述べられない限り、上記の開示において第1および第2の要素の間の関係が述べられるとき、関係は、第1および第2の要素の間に他の介在する要素がない直接の関係とすることができるが、第1および第2の要素の間に1つまたは複数の介在する要素が存在する(空間的または機能的に)間接的関係であってもよい。本明細書で用いられる、A、B、およびCの少なくとも1つという語句は、非排他的論理ORを用いて、論理(A OR B OR C)を意味すると解釈されるべきであり、Aの少なくとも1つ、Bの少なくとも1つ、およびCの少なくとも1つを意味すると解釈されるべきではない。さらに、A、B、またはCという語句は、非排他的論理ORを用いて、論理(A OR B OR C)を意味すると解釈されるべきであり、AまたはBまたはCのうちの1つのみを意味すると解釈されるべきではない。「約」という用語は、参照される値の10%以内であるように定義される。
いくつかの実装形態において、コントローラはシステムの一部であり、これは上述の例の一部となり得る。このようなシステムは、1つまたは複数の処理ツール、1つまたは複数のチャンバ、処理のための1つまたは複数のプラットフォーム、および/または特定の処理構成要素(ウェハ台座、ガス流システムなど)を含んだ、半導体処理装置を備えることができる。これらのシステムは、半導体ウェハまたは基板の処理の前、その間、およびその後の、それらの動作を制御するための電子機器と統合され得る。電子機器は「コントローラ」と呼ばれることができ、これは1つまたは複数のシステムの様々な構成要素またはサブパーツを制御し得る。コントローラは、処理要件および/またはシステムのタイプに応じて、本明細書で開示されるプロセスの任意のものを制御するようにプログラムされることができ、プロセスは、処理ガスの送出、温度設定(例えば、加熱および/または冷却)、圧力設定、真空設定、パワー設定、無線周波数(RF)発生器設定、RF整合回路設定、周波数設定、流量設定、流体送出設定、位置および動作設定、特定のシステムに接続されたまたはインターフェースされたツールおよび他の移送ツールおよび/またはロードロック内へのおよびそれらからのウェハ移送を含む。
大まかに言えば、コントローラは、命令を受信する、命令を発行する、動作を制御する、洗浄作業を可能にする、エンドポイント測定を可能にするなどの、様々な集積回路、ロジック、メモリ、および/またはソフトウェアを有する電子機器として定義され得る。集積回路は、プログラム命令を記憶するファームウェアの形でのチップ、デジタル信号プロセッサ(DSP)、特定用途向け集積回路(ASIC)として定義されるチップ、および/またはプログラム命令(例えば、ソフトウェア)を実行する1つまたは複数のマイクロプロセッサもしくはマイクロコントローラを含み得る。プログラム命令は、様々な個別の設定(またはプログラムファイル)の形でコントローラに通信される命令とすることができ、半導体ウェハに対してもしくはそのために、またはシステムに対して、特定のプロセスを遂行するための作業パラメータを定義する。作業パラメータは、いくつかの実施形態において、1つまたは複数の層、材料、金属、酸化物、シリコン、二酸化シリコン、表面、回路、および/またはウェハのダイの、製造の間に、1つまたは複数の処理ステップを達成するように、プロセスエンジニアによって定義されるレシピの一部とすることができる。
コントローラは、いくつかの実装形態において、システムに統合された、システムに結合された、他の形でシステムにネットワーク化された、またはそれらの組み合わせの、コンピュータの一部とすることができ、またはそれに結合され得る。例えば、コントローラは、「クラウド」、または製造工場ホストコンピュータシステムのすべてもしくは一部内に存在することができ、これはウェハ処理のリモートアクセスを可能にすることができる。コンピュータは、製造作業の現在の進行を監視する、過去の製造作業の履歴を調べる、複数の製造作業から傾向もしくは性能メトリクスを調べる、現在の処理のパラメータを変更する、現在の処理に続く処理ステップを設定する、または新たなプロセスを開始するために、システムへのリモートアクセスを可能にすることができる。いくつかの例では、リモートコンピュータ(例えば、サーバ)は、ネットワークを通してシステムにプロセスレシピをもたらすことができ、ネットワークはローカルネットワークまたはインターネットを含み得る。リモートコンピュータはユーザインターフェースを含むことができ、ユーザインターフェースはパラメータおよび/または設定の入力もしくはプログラミングを可能にし、次いでそれらはリモートコンピュータからシステムに通信される。いくつかの例では、コントローラは、1つまたは複数の作業の間に行われることになる処理ステップのそれぞれに対する、パラメータを指定する、データの形で命令を受信する。パラメータは、行われることになるプロセスのタイプと、コントローラがそれとインターフェースするまたはそれを制御するように構成されるツールのタイプとに、固有とすることができることが理解されるべきである。従って上述されたように、コントローラは、本明細書で述べられるプロセスおよび制御など、一緒にネットワーク化され共通の目的に向かって働く、1つまたは複数の個別のコントローラを備えることなどによって、分散され得る。このような目的のための分散されたコントローラの例は、一緒になってチャンバ上のプロセスを制御する、遠隔に位置する1つまたは複数の集積回路(プラットフォームレベルで、またはリモートコンピュータの一部としてなど)と通信する、チャンバ上の1つまたは複数の集積回路であろう。
限定せずに、例示のシステムは、プラズマエッチングチャンバもしくはモジュール、堆積チャンバもしくはモジュール、スピンリンスチャンバもしくはモジュール、金属メッキチャンバもしくはモジュール、洗浄チャンバもしくはモジュール、斜面エッジエッチングチャンバもしくはモジュール、物理気相成長法(PVD)チャンバもしくはモジュール、化学気相成長法(CVD)チャンバもしくはモジュール、原子層堆積(ALD)チャンバもしくはモジュール、原子層エッチング(ALE)チャンバもしくはモジュール、イオン注入チャンバもしくはモジュール、トラックチャンバもしくはモジュール、および半導体ウェハの製造および/または生産に関連し得るもしくはそこで用いられ得る任意の他の半導体処理システムを含み得る。
上記のように、ツールによって行われることになる1つまたは複数のプロセスステップに応じて、コントローラは、他のツール回路もしくはモジュール、他のツール構成要素、クラスタツール、他のツールインターフェース、隣接するツール、近傍のツール、工場全体にわたって位置するツール、メインコンピュータ、他のコントローラ、または半導体生産工場内のツール位置および/またはロードポートにまたはそれらからウェハの容器を運ぶ材料輸送において用いられるツールの、1つまたは複数と通信し得る。
Claims (21)
- 基板処理システムのための薄いシャドウリングであって、
内径と外径とを有する環状本体であって、前記内径および前記外径は、前記内径と前記外径との間の前記環状本体の断面幅を画定する、環状本体と、
前記環状本体から半径方向外向きに延びる、少なくとも2つのタブと、
を備え、前記内径と前記外径との間の前記環状本体の前記断面幅は、1.0インチ未満である、薄いシャドウリング。 - 請求項1に記載の薄いシャドウリングであって、前記内径と前記外径との間の前記環状本体の前記断面幅は、0.5インチ未満である、薄いシャドウリング。
- 請求項1に記載の薄いシャドウリングであって、前記内径と前記外径との間の前記環状本体の前記断面幅は、0.25インチ未満である、薄いシャドウリング。
- 請求項1に記載の薄いシャドウリングであって、前記少なくとも2つのタブは、前記環状本体から半径方向外向きに延びる少なくとも3つのタブを含む、薄いシャドウリング。
- 請求項1に記載の薄いシャドウリングであって、前記2つのタブの少なくとも1つは、前記タブを通って延びる開口を含む、薄いシャドウリング。
- 請求項1に記載の薄いシャドウリングであって、前記2つのタブの少なくとも1つの下面は、リフトピンを受け入れるように構成された凹部を含む、薄いシャドウリング。
- 請求項1に記載の薄いシャドウリングであって、前記環状本体の上面は、傾きが付けられている、薄いシャドウリング。
- 請求項1に記載の薄いシャドウリングを含んだ基板支持体であって、前記薄いシャドウリングを上昇および降下させるために、前記薄いシャドウリングの前記少なくとも2つのタブと係合するように構成された、少なくとも2つのリフトピンをさらに備える、基板支持体。
- 請求項8に記載の基板支持体であって、前記薄いシャドウリングの前記2つのタブの少なくとも1つは、前記基板支持体の外縁の上に延びる、基板支持体。
- 請求項8に記載の基板支持体であって、前記基板支持体は、外径を有する基板を支持するように構成され、前記環状本体の内径は、前記基板の前記外径未満である、基板支持体。
- 請求項8に記載の基板支持体であって、前記基板支持体の上面は、基板を受け入れるように構成された凹部を画定し、前記薄いシャドウリングの前記環状本体の一部分は、前記凹部に重なる、基板支持体。
- 請求項1に記載の薄いシャドウリングであって、前記環状本体の上面と前記環状本体の下面との間の、前記環状本体の前記内径において、鋭角が画定され、
前記上面と前記下面とは、前記シャドウリングの内縁において鋭い隅部を形成し、
前記内縁は、丸みを帯びており、
前記内縁は、0.0~0.025インチの半径を有し、
前記鋭角は、1~35度であり、または
前記内縁の厚さは、0.01インチ未満である、薄いシャドウリング。 - 深いトレンチエッチングおよび浅いトレンチエッチングを行うように構成された基板処理システムのための基板支持体であって、
前記基板支持体の上面内に画定された凹部であって、前記凹部は、基板を受け入れるように構成される、凹部と、
シャドウリングであって、内径と外径とを有する環状本体であって、前記内径および前記外径は、前記内径と前記外径との間の前記環状本体の断面幅を画定する、環状本体と、前記基板支持体の外縁の上を、前記環状本体から半径方向外向きに延びる、少なくとも2つのタブとを含み、前記内径と前記外径との間の前記環状本体の前記断面幅は、1.0インチ未満であり、前記環状本体の前記内径は、前記凹部の外径未満である、シャドウリングと、
前記シャドウリングの前記少なくとも2つのタブの1つに整列されたリフティングピンであって、降下位置と上昇位置との間で、前記シャドウリングを移動するように構成された、リフティングピンと、
を備える、基板支持体。 - 請求項13に記載の基板支持体であって、前記内径と前記外径との間の前記環状本体の前記断面幅は、0.5インチ未満である、基板支持体。
- 請求項13に記載の基板支持体であって、前記内径と前記外径との間の前記環状本体の前記断面幅は、0.25インチ未満である、基板支持体。
- 請求項13に記載の基板支持体であって、前記シャドウリングは、少なくとも3つのタブを含む、基板支持体。
- 請求項13に記載の基板支持体であって、前記2つのタブの少なくとも1つは、前記タブを通って延びる開口を含む、基板支持体。
- 請求項13に記載の基板支持体であって、前記環状本体の上面は、傾きが付けられている、基板支持体。
- 請求項13に記載の基板支持体であって、前記環状本体の前記内径は、前記基板の外径未満である、基板支持体。
- 請求項13に記載の基板支持体を含んだ基板処理システムであって、前記基板処理システムは、浅いトレンチエッチングプロセスの間、前記シャドウリングを前記上昇位置まで上昇させ、深いトレンチエッチングプロセスの間、前記シャドウリングを前記降下位置まで降下させるように、前記リフティングピンを作動するように構成される、基板処理システム。
- 請求項13に記載の基板支持体であって、前記環状本体の上面と前記環状本体の下面との間の、前記環状本体の前記内径において、鋭角が画定され、
前記上面および前記下面は、前記シャドウリングの内縁において、鋭い隅部を形成し、
前記内縁は、丸みを帯び、
前記内縁は、0.0~0.025インチの半径を有し、
前記鋭角は、1~35度であり、または
前記内縁の厚さは、0.01インチ未満である、基板支持体。
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