JP2023534033A - ガスを濃縮するためのシステムおよび方法 - Google Patents

Abstract

本システム内でより低い動作流率および圧力を使用することによって、同一またはより良好なレベルの性能を取得するシステムおよび方法が、提供される。これは、システム構成要素の寿命を延ばし、エネルギー消費を低下させる。一実施形態では、従来の床と比較してより低い流動および圧力要件を有する、ガス状成分を分離するために使用されるガス分離（またはシーブ）床が、提供される。シーブ床は、例えば、シーブ材料を含有し、フィルタ媒体を支持するための適正な機械的性質を提供しながら、断面における低中実面積および流動のための最大開放面積を有する拡散器を含む。別の実施形態では、構成要素が点検または修理されたときのインジケータを有するシステムおよび方法が、提供される。

Description

（関連出願の相互参照）
本願は、「Ｓｙｓｔｅｍ ａｎｄ Ｍｅｔｈｏｄ ｆｏｒ Ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｎｇ Ｇａｓ」と題され、２０２０年７月１６日に出願された米国仮特許出願第６３／０５２，６９４号（弁理士整理番号第１２８７３－０７００４号）および２０２１年６月２１日に出願された第６３／２１２，９２０号（弁理士整理番号第１２８７３－０７１５６号）の優先権を主張する。

本願は、以下の特許出願、すなわち、全て２０２０年７月１６日に出願された、「Ｓｙｓｔｅｍ ａｎｄ Ｍｅｔｈｏｄ ｆｏｒ Ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｎｇ Ｇａｓ」と題された米国仮特許出願第６３／０５２，６９４号（弁理士整理番号第１２８７３－０７００４号）、「Ｓｙｓｔｅｍ ａｎｄ Ｍｅｔｈｏｄ ｆｏｒ Ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｎｇ Ｇａｓ」と題された米国仮特許出願第６３／０５２，７００号（弁理士整理番号第１２８７３－０７０３３号）、「Ｓｙｓｔｅｍ ａｎｄ Ｍｅｔｈｏｄ ｆｏｒ Ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｎｇ Ｇａｓ」と題された米国仮特許出願第６３／０５２，８６９号（弁理士整理番号第１２８７３－０７０４１号）、「Ｓｙｓｔｅｍ ａｎｄ Ｍｅｔｈｏｄ ｆｏｒ Ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｎｇ Ｇａｓ」と題された米国仮特許出願第６３／０５２，５３３号（弁理士整理番号第１２８７３－０７０４３号）、および「Ｓｙｓｔｅｍ ａｎｄ Ｍｅｔｈｏｄ ｆｏｒ Ｍａｎａｇｉｎｇ Ｍｅｄｉｃａｌ Ｄｅｖｉｃｅｓ」と題された米国仮特許出願第６３／０５２，６４７号（弁理士整理番号第１２８７３－０７０４４号）、および２０２１年６月２１日に出願された、「Ｓｙｓｔｅｍ ａｎｄ Ｍｅｔｈｏｄ ｆｏｒ Ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｎｇ Ｇａｓ」と題された米国仮特許出願第６３／２１２，９２０号（弁理士整理番号第１２８７３－０７１５６号）を参照することによって組み込む。

種々の用途が、ガス状混合物の分離に関して存在する。例えば、大気空気からの窒素の分離は、高濃度の酸素源を提供することができる。これらの種々の用途は、医療患者および飛行人員のための高濃度の酸素の提供を含む。したがって、ある濃度の酸素を伴う呼吸ガス等の濃縮製品ガスを提供するために、ガス状混合物を分離するシステムを提供することが、望ましい。

例えば、いくつかの既存の製品ガスまたは酸素濃縮システムおよび方法が、Ｉｎｖａｃａｒｅ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｅｌｙｒｉａ， Ｏｈｉｏ）に共同譲渡され、参照することによって本明細書に完全に組み込まれる、米国特許第４，４４９，９９０号、第５，９０６，６７２号、第５，９１７，１３５号、第５，９８８，１６５号、第７，２９４，１７０号、第７，４５５，７１７号、第７，７２２，７００号、第７，８７５，１０５号、第８，０６２，００３号、第８，０７０，８５３号、第８，６６８，７６７号、第９，１３２，３７７号、第９，２６６，０５３号、および第１０，０１０，６９６号に開示されている。

そのようなシステムは、定常、輸送可能、またはポータブルのいずれかであることが公知である。定常システムは、例えば、ユーザの寝室または居間等の１つの場所に留まることを意図している。輸送可能システムは、場所から場所に移動されることを意図しており、多くの場合、移動を促進するための車輪または他の機構を含む。ポータブルシステムは、例えば、肩ストラップまたは類似する付属品を介して等、ユーザとともに携行されることを意図している。

ガス濃縮システムは、典型的には、分離および濃縮プロセスの一部として、それらの作業構成要素内に動的流動および圧力を発生させる。これらの流動および圧力は、必要であるが、また、システム構成要素の機械的摩耗および寿命に影響を及ぼす。概して、システム内にある必要な流動および圧力が高いほど、システム構成要素の機械的摩耗および寿命に対するそれらの影響は、大きくなる。また、システム内にある必要な流動および圧力が高いほど、要求される流動および圧力を生成するために消費される必要があるエネルギーの量は、多くなる。所望されるものは、ガス分離および濃縮システムのこれらおよび他の側面に対処するシステムである。

別の側面では、ガス濃縮システムは、それらの寿命の間に点検を要求する。種々のガス分離構成要素は、交換、修理、または点検のいずれかを行われる必要がある。製造業者は、そのような構成要素が製造業者の領域外で点検されたときを把握する必要性を有する。所望されるものは、ガス分離または濃縮システムの本側面にも対処するシステムである。

ガス濃縮システムおよび方法が、提供される。一実施形態では、本システム内でより低い動作流率および圧力使用することによって、同一またはより良好なレベルの性能を取得するシステムおよび方法が、提供される。これは、システム構成要素の寿命を延ばし、エネルギー消費を低下させる。一実施形態では、従来の床と比較してより低い流動および圧力要件を有する、ガス状成分を分離するために使用されるガス分離（またはシーブ）床が、提供される。シーブ床は、例えば、シーブ材料を含有し、フィルタ媒体を支持するための適正な機械的性質を提供しながら、断面における低中実面積および流動のための最大開放面積を有する拡散器を含む。これは、シーブ床の内外へのガスの効率的な流動を可能にし、これは、圧力損失およびエネルギー消費を低減させ、シーブ床材料に対する動的および静的圧力を低下させ、シーブ床材料の寿命を改良し、シーブ床材料が機械的に故障する率を減少させる。他の実施形態もまた、開示される。

別の実施形態では、構成要素が点検または修理されたときのインジケータを有するシステムおよび方法が、提供される。これは、構成要素がいずれかの様式で改竄されたかどうかのインジケーションを提供する。これは、製造業者が、構成要素が製造業者の領域外で点検、修理、または改竄されたかどうかを決定することを可能にする。無許可の点検または修理は、早期の構成要素摩耗および故障をもたらし得る。

また別の実施形態では、シーブ床材料に進入するガスのより均一または最適化された流動分布および／または低速度を有するシステムおよび方法が、開示される。シーブ床キャップおよび／またはガス入力インターフェースは、流動をより均一に分配し、シーブ床材料に進入するガス流の速度を低下させるために、流動チャンバ内に流動修正構造、パーティション、または突出部を具備する。これらの構造、パーティション、および／または突出部は、キャップ／インターフェースの内側チャンバ内の隣接する空間の中に流入するガス流を導流し、シーブ材料に進入するガスのより均一な流動分布を提供する。より均一な流動分布は、シーブ床材料の中にガスをより均一に導入することによってシーブ床効率を増加させ、それによって、そうでなければこれがシーブ床材料に進入する際にガスが不均一に分配されるときにガスが到達しない場合があるシーブ材料のポケットを限定または排除する。また、低減されたガス流速度は、材料の発塵および流動化を引き起こす、シーブ床材料に対する機械的摩耗および引裂を低減させる。

より効率的なガス分離システムおよび方法を提供することが、１つの目的である。

より低い流率および圧力を有するガス分離システムおよび方法を提供することが、別の目的である。

断面において低中実面積を伴い、それによって、流動のための大きい開放面積を提供する拡散器構成要素を有するガス分離システムおよび方法を提供することが、別の目的である。

断面において低中実面積を伴い、それによって、流動のための大きい開放面積を提供しながら、また、シーブ材料を含有し、フィルタ媒体を支持するための適正な機械的性質を提供する拡散器構成要素を有するガス分離システムおよび方法を提供することが、別の目的である。

少なくとも１つの改竄インジケーションを提供するための構成要素を有するガス分離システムおよび方法を提供することが、別の目的である。

改竄インジケータを伴う少なくとも１つのシーブ床を有するガス分離システムおよび方法を提供することが、別の目的である。

少なくとも１つの改竄防止構成要素を有するガス分離システムおよび方法を提供することが、別の目的である。

少なくとも１つの改竄防止シーブ床を有するガス分離システムおよび方法を提供することが、別の目的である。

シーブ床に進入するガスのより均一な分配のために流動を所望のプロファイルに分配するガス分離システムおよび方法を提供することが、別の目的である。

ガスがシーブ床に進入する際に流動を所望のプロファイルに偏向および／または調整するための入力デバイス（例えば、キャップまたは挿入器）を有するガス分離システムおよび方法を提供することが、別の目的である。

また、シーブ床材料に進入するガスの流率を低減させ、シーブ材料の摩耗および引裂（例えば、発塵、流動化等）を低減させるガス分離システムおよび方法を提供することが、別の目的である。

これらおよび他の目的、特徴、および利点は、以下の説明、図面、および請求項の精査の後に明白になるであろう。

本明細書に組み込まれ、その一部を成す付随の図面では、本発明の実施形態が、図示され、これは、上記に与えられる本発明の一般的説明および下記に与えられる詳細な説明とともに、本発明の原理を例示する役割を果たす。

図１は、ガス濃縮システムの一実施形態を示す。

図２は、ガス濃縮システムの空気圧ブロック図の一実施形態である。

図３は、ガス分離またはシーブ床の一実施形態のブロック図である。

図４Ａ－４Ｂは、ガス分離床と併用される従来技術のフィルタディスクを図示する。

図５Ａ－５Ｂは、ガス分離床の一実施形態の斜視分解図を図示する。 図５Ａ－５Ｂは、ガス分離床の一実施形態の斜視分解図を図示する。

図６Ａ－６Ｂは、図５Ａ－５Ｂのガス分離床実施形態の種々の断面図である。 図６Ａ－６Ｂは、図５Ａ－５Ｂのガス分離床実施形態の種々の断面図である。

図７Ａ－７Ｆは、ハニカム構造を有する、拡散器の複数の実施形態の種々の図を図示する。 図７Ａ－７Ｆは、ハニカム構造を有する、拡散器の複数の実施形態の種々の図を図示する。

図８は、円筒形またはストロー様構造を有する、拡散器の第２の実施形態の上面図を図示する。

図９－１２は、異なる断面幾何学形状および外形を有する、拡散器の種々の実施形態の側面立面図を図示する。 図９－１２は、異なる断面幾何学形状および外形を有する、拡散器の種々の実施形態の側面立面図を図示する。 図９－１２は、異なる断面幾何学形状および外形を有する、拡散器の種々の実施形態の側面立面図を図示する。 図９－１２は、異なる断面幾何学形状および外形を有する、拡散器の種々の実施形態の側面立面図を図示する。

図１３は、改竄防止特徴を示す、一実施形態の部分的断面図を図示する。

図１４Ａ－Ｂは、改竄防止特徴を含む、シーブ床キャップの一実施形態の斜視および立面図を図示する。

図１５Ａ－Ｂは、改竄防止特徴を有する、シーブ床キャップのさらなる実施形態を図示する。

図１６Ａ－１６Ｄは、改竄防止特徴を有する、シーブ床キャップのまた別の実施形態を図示する。 図１６Ａ－１６Ｄは、改竄防止特徴を有する、シーブ床キャップのまた別の実施形態を図示する。

図１７Ａ－１７Ｉは、所望の流動プロファイルを発生させるためのシーブ床キャップの一実施形態を図示する。 図１７Ａ－１７Ｉは、所望の流動プロファイルを発生させるためのシーブ床キャップの一実施形態を図示する。

図１８Ａ－１８Ｃは、図１７Ａ－１７Ｉのシーブ床キャップ実施形態に関する種々の流動軌跡および分布を図示する。

図１８Ｄ－１８Ｅは、いかなる流動修正構造も存在しないが、図１７Ａ－１７Ｉのシーブ床キャップ実施形態に関する種々の流動軌跡および分布を図示する。

図１９Ａ－１９Ｂは、所望の流動プロファイルを発生させるためのシーブ床キャップの別の実施形態を図示する。

図２０Ａ－２０Ｃは、図１９Ａ－１９Ｃのシーブ床キャップ実施形態に関する種々の流動軌跡および分布を図示する。

図２１Ａ－２１Ｄは、所望の流動プロファイルを発生させるためのシーブ床キャップの別の実施形態の種々の図を図示する。

図２２Ａ－２２Ｄは、所望の流動プロファイルを発生させるためのシーブ床キャップの別の実施形態の種々の図を図示する。

図２３Ａ－２３Ｄは、所望の流動プロファイルを発生させるためのシーブ床キャップの別の実施形態の種々の図を図示する。

図２４Ａ－２４Ｄは、所望の流動プロファイルを発生させるためのシーブ床キャップの別の実施形態の種々の図を図示する。

図２５Ａ－２５Ｄは、所望の流動プロファイルを発生させるためのシーブ床キャップの別の実施形態の種々の図を図示する。

図２６Ａ－２６Ｄは、所望の流動プロファイルを発生させるためのシーブ床キャップの別の実施形態の種々の図を図示する。

図２６Ｅ－２６Ｆは、図２６Ａ－２６Ｄのシーブ床キャップ実施形態に関する種々の流動軌跡および分布を図示する。

図２７Ａ－２７Ｂは、所望の流動プロファイルを発生させるためのシーブ床キャップの別の実施形態の種々の図を図示する。

別様に示されない限り、各機械的図面は、縮尺に対して提示される。すなわち、各図面に図示される構成要素のサイズ、位置、および場所は、相互に対して縮尺通りに示され、これはまた、縮尺通りに拡大して示されることを含み得る。

説明
本明細書に説明されるように、１つまたはそれを上回る構成要素が、接続される、継合される、添着される、結合される、取り付けられる、または別様に相互接続されるものとして説明される、または示されるとき、そのような相互接続は、構成要素の間として直接的であってもよい、または１つまたはそれを上回る中間構成要素の使用を通して等、間接的であってもよい。また、本明細書に説明されるように、部材、構成要素、または部分の言及は、単一の構造的部材、構成要素、要素、または部分に限定されるものとせず、構成要素、部材、要素、または部分の集合体を含むことができる。

本発明の実施形態は、例えば、シーブ床の内外への作業ガスの効率的な流動、低減された圧力損失およびエネルギー消費、シーブ床材料に対するより低い動的および静的圧力、およびシーブ材料が機械的および／または構造的に故障する率を減少させることによるシーブ材料の改良された寿命を有する、ガス分離システムおよび方法を提供する。作業ガスの効率的な流動はまた、本システム内のガス流によって生成される騒音を低下させる。一実施形態では、ガス分離システムは、その断面における流動をより小さい流動のチャネルに細分化し、それによって、乱流およびエネルギー損失を低減させるように配列される拡散器を有する、少なくとも１つのシーブ床を含む。ガス流は、拡散器によって実質的に直線化され、より多くのエネルギーが、ガス流の意図される方向に伝達される。拡散器はまた、断面における低中実面積（例えば、低中実性）と、流動のための高い、および／または最大開放面積とを有する一方、また、シーブ材料を含有し、シーブ床内にフィルタ媒体を支持するための適正な機械的性質を提供する。

図１に図示されるものは、酸素濃縮システムであり得る、ガス分離システム１００の一実施形態である。本システムは、例えば、病院または患者の自宅における使用のため等、定常であってもよい。本システムはまた、例えば、患者が自宅から離れているときの患者による使用のため等、歩行性または可動性であり得る。本システムは、患者が、例えば、肩掛けストラップを通して、またはそれによって本システムが取っ手および車輪を含む配列を通して等、本システムを携行することを可能にする様式で構成されることができる。他の可動性構成もまた、含まれる。

酸素システム１００は、１つまたはそれを上回る区分にあり得る、筐体１０２を含む。筐体１０２は、例えば、室内空気の吸入および窒素および他のガスの排出等の種々のガスの吸入および排出のための複数の開口部を含む。酸素システム１００は、概して、大部分が酸素および窒素から成る室内空気を吸入し、酸素から窒素を分離する。酸素は、１つまたはそれを上回る内部または外部貯蔵または製品タンク内に貯蔵され、窒素は、室内空気に戻るように排出される。例えば、酸素ガスは、ポート１０４を通して、管類および鼻カニューレを通して患者に排出されてもよい。代替として、酸素ガスは、補助ポートを通して、Ｉｎｖａｃａｒｅ Ｃｏｒｐ．（Ｅｌｙｒｉａ， Ｏｈｉｏ， ＵＳＡ）によって製造されるＨＯＭＥＦＩＬＬ（登録商標）等の酸素ボンベ充填デバイスに排出されてもよく、その一実施例が、米国特許第５，９８８，１６５号（参照することによって組み込まれる）に説明されている。

図２は、圧力スイング吸着法（ＰＳＡ）を使用するガス濃縮システムに関する例示的空気圧ブロック図の一実施形態を図示する。本システムは、複数のガス分離シーブ床２０６ａおよび２０６ｂと、複数の弁２０４ａ、２０４ｂ、２０４ｃ、および２０４ｄと、１つまたはそれを上回る製品タンク２０８ａ、２０８ｂと、コンサーバ弁／デバイス２１８とを含むことができる。本実施形態では、製品タンク２０８ａ、２０８ｂは、接続されて示され、したがって、それらは、１つの製品タンクとして作用するが、また、２つの製品タンクとして作用するように配列されてもよい。本システムはまた、コンプレッサ／ポンプ２０３と、１つまたはそれを上回るフィルタ２０１と、マフラ２０２とを含む。

シーブ床２０６ａおよび２０６ｂは、物理的分離媒体または材料を用いて充填される。分離材料は、１つまたはそれを上回る吸着可能成分を選択的に吸着させ、ガス状混合物の１つまたはそれを上回る非吸着可能成分を通過させる。概して、物理的分離材料は、均一なサイズおよび本質的に同一の分子寸法の細孔を伴う分子シーブである。これらの細孔は、分子形状、極性、飽和度、および同等物に従って、分子を選択的に吸着させる。一実施形態では、物理的分離媒体は、４～５ＡＮＧ．（オングストローム）の細孔を伴うアルミナシリケート組成物である。より具体的には、分子シーブは、５Ａ型ゼロライト等のアルミナシリケートのナトリウムまたはカルシウム形態である。代替として、アルミナシリケートは、より高いシリコン対アルミニウム比、より大きい細孔、および極性分子に対する親和性、例えば、１３ｘ型ゼオライトを有してもよい。ゼオライトは、窒素、一酸化炭素、二酸化炭素、水蒸気、および空気の他の有意な成分を吸着させる。他のタイプの分離媒体もまた、周囲または室内空気から窒素を吸着させるために使用されてもよい。また、２つを上回るシーブ床が、使用されることができる。他の実施形態では、シーブ床２０６ａおよび２０６ｂは、米国特許第８，６６８，７６７号（本および他の特徴に関して参照することによって完全に本明細書に組み込まれる）に説明されるように、１つまたはそれを上回る製品タンク２０８ａおよび２０８ｂと構造的に統合されることができる。

動作時、図２の実線によって示されるように、分離床２０６ａの例示的充填サイクルの間、ポンプ／コンプレッサ２０３は、室内空気を、フィルタ２０１を通して、弁２０４ｄおよび分離床２０６ａに引き込み、これは、その出力において、弁２１０ａを通して製品タンク２０８ａ、２０８ｂの中に酸素を生成する。ポンプ／コンプレッサ２０３は、充填段階の間に１平方インチあたり最大約３２ポンドの空気をシーブ床に供給する。他の作業圧力範囲は、１平方インチあたり約１５～３２ポンドを含む。弁２１０ａおよび２１０ｂは、逆止弁または一方向流動を可能にする任意の他の同様に機能する弁であってもよい。

分離床２０６ａが、充填サイクルを受けている間、分離床２０６ｂは、以前の充填サイクルからのいずれの窒素ガスも排出するために、パージサイクルを受けてもよい。パージサイクルの間、以前に加圧された分離床２０６ｂは、弁２０４ａを通して、かつマフラ２０２を通して大気中に窒素ガスを排出する。分離床２０６ａは、その充填サイクルから加圧されている。パージサイクルの間、分離床２０６ａまたは製品タンク２０８ａ、２０８ｂからのある量の酸素が、図２に破線で示される、随意のブリード弁２１２および固定されたオリフィス２１４によって制御されるように、分離床２０６ｂを酸素を用いて事前装填または事前充填するために、分離床２０６ｂの中に給送されることができる。

図２の破線によって示されるように、いったん分離床２０６ａが充填される、および／または分離床２０６ａがパージされると、制御システム２２０は、分離床２０６ｂが充填サイクルに入る一方、分離床２０６ａがパージサイクルに入るように、弁２０４ａ、２０４ｂ、２０４ｃ、および２０４ｄを切り替える。本状態では、ポンプ２０３は、室内空気を分離床２０６ｂの中に指向し、これは、その出力において、弁２１０ｂを通して製品タンク２０８ａ、２０８ｂの中に酸素を生成する。パージサイクルの間、分離床２０６ｂまたは製品タンク２０８ａ、２０８ｂからのある量の酸素が、ここでは以前のサイクルと比較して反対方向に流動する酸素を用いて分離床２０６ａを事前装填または事前充填するために、分離床２０６ａの中に給送されることができる。図示されるシステムはまた、例示的圧力均等化弁２１６を含み、これは、パージ／充填サイクル変更に先立って、２つの分離床内の圧力を均等化する。とりわけ、ＰＳＡシステムの全ての実施形態が、圧力均等化弁を要求するわけではない。

圧力均等化弁２１６は、その充填サイクルの終わりに近い分離床（例えば、２０６ａ）およびそのパージサイクルの終わりに近い分離床（例えば、２０６ｂ）の出力の間で圧力を均等化することによって、酸素のより効率的な発生を可能にすることができる。例えば、圧力均等化弁２１６は、各パージ／充填サイクルの終わりに近い分離床２０６ａおよび分離床２０６ｂの出力の間で圧力を均等化するようにアクティブ化されてもよい。米国特許第４，４４９，９９０号および第５，９０６，６７２号（参照することによって本明細書に完全に組み込まれる）はさらに、圧力均等化弁の動作を説明している。このように、各分離床２０６ａ、２０６ｂは、制御システム２２０によって制御されるように交互する充填およびパージサイクルを周期的に受け、酸素を発生させる。

図２に示されるように、随意のコンサーバ弁／デバイス２１８が、ユーザ２２２への製品ガスの送達を制御するために使用されてもよい。コンサーバ弁２１８は、製品タンク２０８ａ、２０８ｂから濃縮製品ガスを提供することと室内空気に通気することとを切り替えてもよい。例えば、コンサーバ弁２１８は、制御システム２２０によって決定される量および時間において酸素濃縮製品ガスの種々の連続的またはパルス化流動を選択的に提供するために使用されてもよい。本時間は、典型的には、ユーザによる吸息を感知することに基づき、これは、典型的には、ユーザの鼻または口に近接する圧力の低下または（流動の増加）を感知することによって決定される。

本実施形態では、制御システム２２０は、例えば、圧力源２０３および弁２０４ａ、２０４ｂ、２０４ｃ、２０４ｄ、２１６、および２１２のアクティブ化、レベル、および相対的タイミングを制御することによって、濃縮製品ガスの生成および送達を最適化するために、種々の制御スキームを利用してもよい。これは、１つまたはそれを上回る圧力センサ２２４および／または酸素濃度センサ２２６の使用によって遂行される。一実施形態では、圧力および酸素センサ２２４および２２６は、製品タンク２０８Ａおよび２０８（ｂ）に進入する圧力および酸素濃度を監視する。他の実施形態では、時間指定サイクルの使用が、採用されることができ、サイクル時間は、工場において設定される、またはシステム始動時に診断プロセスを使用して決定または最適化される。他の実施形態では、サイクル時間は、流動設定および／または感知された患者流動要求から決定されることができる。

図２は、圧力スイング吸着法（ＰＳＡ）サイクルを図示するが、真空スイング吸着法（ＶＳＡ）、真空－圧力スイング吸着法（ＶＰＳＡ）、または他の類似するモードを含む、他のガス濃縮サイクルもまた、使用されてもよい。特定のガス濃縮モードは、それらがユーザへの酸素等の濃縮ガスを生成することが可能である限り、本明細書に説明される本発明の実施形態にとって重要ではない。上記の動作モードの実施例が、例えば、米国特許第９，２６６，０５３号および第９，１２０，０５０号（参照することによって完全に組み込まれている）に開示されている。

ここで図３を参照すると、シーブ床配列３００の一実施形態が、示される。シーブ床３００は、例えば、空気を受容し、吸着された窒素ガスを排気するための第１のガス入力／出力３０２を含む。随意のヘッドスペース３０４が、提供されることができる。シーブ床３００はさらに、ばね３０６と、有孔ディスクまたは拡散器３０８と、１つまたはそれを上回るフィルタ媒体３１０とを含む。ばね３０６は、シーブ材料３１２をともに充塞した状態に保ち、ガス分離プロセスの間にシーブ床３００を充填およびパージするために使用される動的圧力の間にシーブ材料３１２の機械的移動に抵抗するために、シーブ材料３１２（例えば、前述で説明されるような粒状分離またはゼオライト材料）に対して有孔ディスクまたは拡散器３０８を付勢する。シーブ材料３１２の他方の端部は、１つまたはそれを上回るフィルタ媒体３１４および第２の有孔ディスクまたは拡散器３１６に対して付勢される。第２のヘッドスペース３１８は、非吸着ガス（例えば、酸素）が、入力／出力ポート３２０を介してシーブ床に進入し、それから離れることを可能にする。本実施形態は、詳細に説明されたが、１つまたはそれを上回る構成要素が、省略されてもよい、またはいくつかの構成要素は、統合されてもよい。例えば、１つまたはそれを上回るヘッドスペース３０４および３１８は、実質的に低減または排除されることができる。さらに、１つを上回る拡散器３０８が、使用されることができる。例えば、２つまたはそれを上回る拡散器３０８が、背中合わせに使用されることができる、または２つまたはそれを上回る拡散器３０８が、その間の１つまたはそれを上回るフィルタ媒体３１０と併用されることができる。

図５Ａ－５Ｂは、シーブ床５００の別の実施形態を図示する。シーブ床５００は、例えば、図３のシーブ床３００に関連して説明される同一の機能的構成要素のうちの多くを含む。シーブ床５００は、入力／出力ガスキャップ５０４を保定するために使用される、保定リングまたはクリップ５０２を含む。ばね５０６、保定具５０８、拡散器５１０、およびフィルタ媒体５１２および５１４が、さらに提供される。ばね５０６は、保定具５０８、拡散器５１０、およびフィルタ媒体５１２および５１４を粒状シーブ材料５１６に対して付勢し、シーブ床容器壁内にこれをともに充塞した状態に保ち、分離プロセスの充填およびパージサイクルにおいて使用される動的圧力の間にシーブ床材料の機械的移動を防止する、または最小限にする。保定リング５１８および第２の拡散器５２４は、１つまたはそれを上回るフィルタ媒体５２０および５２２とともに、シーブ材料５１６の他方の端部に位置する。図３に関連して説明されるように、１つを上回る拡散器５１０が、本明細書に説明される任意の実施形態において使用されることができる。図６Ａ－６Ｂは、その構成要素がシーブ床容器壁６００内で組み立てられる、シーブ床５００の種々の断面斜視図を図示する。

図２に関連して上記に記述されるように、本システムは、コンプレッサを通して周囲空気を引き込み、窒素を保定する性質を有するシーブ床内のある体積の材料を通してこれを移動させ、したがって、本システムの出力において酸素の余りを残す。窒素を吸着させるために使用されるシーブ材料は、典型的には、形態において粒状であり、空気が流入し、酸素が流出し、シーブ床の周期的洗除が吸着された窒素を排気することを可能にするために、シーブ床内に保定されなければならない。ガスがシーブ床の内外に流動する際、粒状シーブ材料は、その相対的運動を最小限にするために、保定および保持されなければならない。例えば、シーブ床への圧力下の空気の導入は、シーブ材料に対するハンマリング効果を生成し、これは、顆粒を損傷させ、それらを粉塵に低減させ得、本システムからのその逃散は、最小限にされなければならない。シーブ材料の過剰な損失は、それ自体の故障モードであり、より多くの材料が失われるにつれて、残りの材料は、シーブ床内で自由に移動し、それによって、相対的運動および発塵への分解を加速させる。

半透過性膜またはフィルタタイプ媒体（例えば、５１２、５１４、５２０、および５２２）が、これを通したガスの流動を可能にしながら、シーブ材料を定位置に保持するために使用されてもよい。これらの膜またはフィルタは、可撓性構造であり得、その場合では、加圧された粒状媒体を運動から閉じ込められた体積に留保するために、機械的支持を必要とする。フィルタ媒体を十分に支持するために、フィルタ面積の一部は、図４Ａおよび４Ｂに示される従来技術のディスク等の支持機械的構造によって流動から閉塞されなければならない。多くの場合、本構造は、ガス流を可能にしながら、また、構造の中実部分を通して機械的支持を提供する孔を有する。しかしながら、中実部分は、ガス流を可能にしない。

拡散器構造に関して、個々の孔の開放面積および全ての孔の面積の総和の合計開放面積に対する限界が、存在する。個々の孔面積は、フィルタ媒体の機械的性質によって限定され、これは、孔の幾何学形状の径間（丸形の孔における直径）が大きすぎる場合、フィルタ媒体を垂れ下がらせ得る。合計開放面積はさらに、シーブ材料の応力および機械的性質およびシーブ床容器壁が静的および周期的荷重に耐える能力によって限定される。個々の孔の幾何学形状および孔のパターンもまた、流動するガスの圧力損失の原因となることによって、本システムのエネルギー損失および騒音の有意な原因となる。本明細書にさらに議論されるであろうように、適切な拡散器の幾何学形状は、孔サイズ、流動の方向における孔の長さ、孔および中実面積のパターン、孔の配向、および流動に影響を及ぼす他の孔特徴の適切な特徴が提供される場合、エネルギー損失を低減させることができる。これは、図３に関連して上記に説明されるような複数の拡散器の使用を含むことができる。複数の拡散器の場合では、各拡散器は、所望の流動および構造的性質を取得するために、同一または異なる幾何学形状を有することができる。また、シーブ床の中への、または排気サイクルの間のシーブ床から外への流動が均一ではない限り、他の損失が、存在し、これは、流動修正構造を有する１つまたはそれを上回る拡散器および／またはシーブキャップ／インターフェースによるシーブ床の面における流動改変特徴または幾何学形状の影響によって補正または改良されることができる。

図７Ａ－７Ｆは、シーブ床のための拡散器５１０の複数の実施形態の種々の図を図示する。拡散器５１０は、低中実性を有し、それによって、流動のための実質的に大きい開放面積を提供する。拡散器５１０はまた、フィルタ媒体を支持し、シーブ材料が充塞し、シーブ床容器壁内の機械的移動に耐える状態を維持するためにばねの力または付勢を伝達するための構造的強度を有する。拡散器５１０は、一実施形態では、ハニカム壁構造を有する、本体７００を含む。本体７００は、例えば、図に示されるディスク形状を含む、任意の適切なサイズおよび形状を有することができる。一実施例では、ディスクは、２．４４インチの直径と、０．５インチの高さＤ２とを有する。例えば、三角形、正方形、長方形、他の多角形、円形（例えば、円形開放面積７０４を画定する円形形状壁８０２を有する図８の本体８００参照）、楕円形等を含む、開放面積に関する他の寸法および形状もまた、可能性として考えられる。

図７Ｂの拡大図に示されるように、壁７０６は、開放空間７０４を封入するハニカム（または六角形）配列を有する。拡散器５１０の中実性（開放面積に対して中実な比率）は、約０．１０％～５０％であり得る。例えば、図７Ａ－Ｄに示される一実施形態では、０．１２５インチに等しいハニカムセルサイズＤ１および０．００１インチに等しい壁７０６厚さ、および２．４４インチに等しい拡散器本体直径では、２．４６％の中実性が、取得される。図７Ｅに示される別の実施形態では、０．５インチに等しいハニカムセルサイズＤ１および０．００１インチに等しい壁７０６厚さ、および２．４４インチに等しい拡散器本体直径では、０．４１％の中実性が、取得される。図７Ｆに示されるまた別の実施形態では、１．０インチに等しいハニカムセルサイズＤ１および０．００１インチに等しい壁７０６厚さ、および２．４４インチに等しい拡散器本体直径では、０．１７％の中実性が、取得される。理想的には、拡散器の開放面積を最大限にすることが、非常に望ましいが、従来技術よりも開放面積を改良する／増加させる配列もまた、望ましく、効率を提供する。すなわち、開放面積を最大限にすることは、効率が実現されるために必要ではない。

細分化されたチャネルのサイズを変動させる、および／または流動の方向におけるチャネルの長さを独立して変化させることによって、拡散器流動の流れの特性は、より低いエネルギー損失、シーブ床に進入するより均一な流動、シーブ材料の面またはその近傍のより低いピーク速度、シーブ床の任意の部分におけるより低いバルク流動速度、シーブ床の中へのより低い流動加速度、排気サイクルの間のシーブ床から外へのより低い流動加速度、シーブ材料に対するより低い力、動的圧力からの、または双方向流のより低いピーク間加速度からのシーブ材料に対するより少ない影響の利益を伴って修正されることができる。シーブ床に進入する流動の均一な流動または均一な圧力は、シーブ床を通した流動の全体的方向に平行ではないシーブ床内の流動を低減または排除し、これは、空気がシーブ材料を通して進むために進行しなければならない距離を増加させ、時間およびシーブの酸素生成における効率を低下させる。同様に、出口では、出口圧力に対する不均一な制限は、流動を収束または発散させ、シーブ床から外への流動の全体的方向に対して非平行にさせ、したがって、排気／パージサイクルの持続時間を延ばし、排気／パージサイクルおよび全体的双方向性（充填／パージ）サイクルの効率を低下させるであろう。

図９－１２は、拡散器５１０の断面本体プロファイルの種々の実施形態を図示する。例えば、図９は、第１の凹状表面プロファイル９０２を有する、本体９００を図示する。図１０は、第１および第２の凹状表面プロファイル１００２および１００４を有する、本体１０００を図示する。図１１は、第１の凸状表面プロファイル１１０２を有する、本体１１００を図示する。図１２は、第１および第２の凸状表面プロファイル１２０２および１２０４を有する、本体１２００を図示する。図１１および１２の実施形態は、拡散器壁およびそれらの部分のより長い高さに起因して、それらの中心区分において付加的構造的強度の特定の利点を提供する。これは、屈曲および他の所望されない機械的変形に抵抗する。例えば、波状または起伏プロファイル、三角形、鋸歯等を含む、他の断面本体プロファイルもまた、可能性として考えられる。拡散器本体は、任意の好適な材料から作製されることができる。これは、例えば、金属およびプラスチックを含む。好適な金属は、アルミニウムおよびステンレス鋼を含む。拡散器本体はまた、本明細書に開示されるものを含む、単純および複雑な空間および壁配列を可能にする、３Ｄ印刷技法を介して形成されることができる。

拡散器本体の高さ（例えば、図７ＣのＤ２）または図９－１２に示される本体断面プロファイルの種々の高さは、シーブ床への流入および／またはそれからの流出を直線化することによって、流動の非効率性を低減させる。それらはまた、拡散器壁の幾何学形状（例えば、ハニカム、円形等）を通して、かつ壁またはチャネルの数を介して、流動における乱流を低減させる。それらはまた、より長い距離を進行し、シーブ床の中に進む、および／またはそれから退出するように横断するように空気分子を指向するであろう、接線または軸外流動を低減させるために、シーブ床の全体的方向における内向きおよび外向き流動を配向する。高さＤ２または断面プロファイルの高さは、図９－１２に関連して示され、説明される様々な高さを含む、流動効率を改良するために決定される任意の高さであり得る。

拡散器本体の高さ（例えば、図７ＣのＤ２）または図９－１２に示される本体断面プロファイルの種々の高さはまた、前述で説明されるように、構造的または保定構成要素を提供する。すなわち、ばね５０６は、シーブ材料に対して付勢または力を印加し、これを固着された状態に保ち、拡散器を通して移動しないようにする（例えば、図６Ａ－６Ｂ参照）。理想的には、拡散器本体は、必要とされる機械的支持を提供するために（例えば、荷重下での垂れ下がりを防止するために）、適正な剪断、引張、および繰り返し疲労性質を伴う材料から作製される。したがって、流動に対して開放する断面積を拡大し、または最大限にしながら、依然として、シーブフィルタ媒体およびシーブ材料の保定のための適正な機械的強度を提供する、最適化された拡散器本体が、拡散器本体材料の性質を考慮し、拡散器本体材料の間隙容量を最小限にしながら可能である。

拡散器本体開放面積を拡大する、または最大限にすることは、一実施形態では、拡散器本体の保定機能のために必要とされる機械的性質と関連付けられることができる。拡散器本体保定機能は、充塞した状態においてフィルタ媒体およびシーブ材料を適正に支持する拡散器本体の能力に関連する。より高い剪断、引張、および繰り返し疲労性質を伴う潜在的により強い本体材料に加えて、利用可能な合計面積と比較して非常に高いパーセントの流動のための開放面積、したがって、低中実性比率を伴う拡散器が、（例えば、機械的荷重下での垂れ下がりを回避するために）フィルタ媒体の機械的必要性に基づいて、最適な孔サイズを使用し、流動の方向における機械的設計の慣性モーメントを増加させることによって材料の間隙容量を最小限にすることによって多数の孔を充塞させることによって作成され得る。

図７Ａ－７Ｄに示される拡散器５１０の使用は、分離プロセスが、シーブ床に進入する（すなわち、シーブ材料の面の近傍またはそれにおける）ガスのピーク速度を低下させながら、依然として、従来のガス分離結果を取得することによって、より効率的に行われ得ることを示している。最大１６８．６インチ／秒の従来のピーク速度は、７０．１インチ／秒まで低減され、これは、約６０％の低減である。シーブ床に進入するガスのピーク速度の低下は、多くの実践的な利点につながる。例えば、より少ないエネルギーが、より低いピーク流率に起因して、ガス分離プロセスを動作させるために必要とされる。より低いピーク流率はまた、コンプレッサが酷使される必要性がなく、それによって、構成要素摩耗を低減させ、コンプレッサ寿命を延ばすことを意味する。さらに、低減されたピーク速度は、シーブ材料内の圧力または機械的力を減少させ、したがって、シーブ床材料の相対的移動を低減させることによって、シーブ材料の発塵および機械的故障を低減させる。これはまた、シーブ床の面に対する、シーブフィルタに対する、および／またはシーブ材料に対する動的力を低減させ、それによって、シーブ床材料の機械的劣化を低減させる。またさらに、低減されたピーク速度は、本システム内の気流によって引き起こされる騒音を低下させる。

効率はまた、シーブ材料の内外への流動を直線化する、高さ／長さ（例えば、図７ＣのＤ２）を有する拡散器空間／チャネルによって取得される。流動を直線化することはまた、拡散器内の、および／またはシーブ材料の面において拡散器によって引き起こされる乱流を低減させることによって非効率性を低減させる。流動を直線化することはまた、より長い距離を進行し、シーブ床の中に進む、またはそれから退出するように横断するように空気分子を指向するであろう、接線または軸外流動を低減させるために、床の全体的方向における内向きおよび外向き流動を配向する。開示される拡散器配列はまた、流路内になければならないシーブ材料に関する任意の保定機構のための機械的支持を提供する。全体的結果として、ガス分離システムは、より低いエネルギー消費、より大きい酸素出力または比出力（エネルギー入力の単位あたりに生成される酸素）、発塵に対するシーブ床の寿命によって定義されるより高い信頼性、およびより低い騒音を有する。利益および利点の全てが、取得されることができるが、いずれか１つまたはそれを上回るものが、改良されたガス分離プロセスを提供するために十分である。

別の実施形態では、構成要素が点検または修理されたときのインジケータを有するシステムおよび方法が、提供される。一実施形態では、インジケータは、構成要素がいずれかの様式で改竄されたかどうかの視覚的インジケーションを提供する。これは、製造業者が、構成要素が製造業者の領域外で点検、修理、または改竄されたかどうかを決定することを可能にする。無許可の点検または修理は、早期の構成要素摩耗および故障をもたらし得る。

図１３に図示されるものは、改竄防止特徴または配列を有するシステムの一実施形態である。図１３は、図６Ａ－６Ｂからのシーブ床の上部部分の拡大された部分的断面図を示す。シーブ床は、シーブ床が、例えば、シーブ材料を交換するために開放されたかどうかの視覚的インジケーションを提供する、改竄防止特徴または配列を含む。シーブ材料５１６は、経時的に交換される必要がある構成要素である。これは、シーブ材料５１６が、例えば、発塵または機械的劣化、水分、飽和摩耗等に起因して、経時的に劣化するためである。典型的には、シーブ材料５１６は、約１８ヵ月毎に交換される必要がある。シーブ材料５１６と製造業者によって許可されていない材料との無許可の交換は、発塵および他のガス分離構成要素の早期の故障を引き起こし得る。図１３に示される配列は、シーブ床が開放されたかどうかの視覚的インジケーションを提供する。

図１３は、１つの改竄防止キャップ５０４が、単一のシーブ床容器６００と関連付けられ、他の実施形態では、共通の改竄防止キャップ５０４（マニホールドと同様に作用する）が、１つを上回るシーブ床容器を有するシーブ床容器アセンブリと使用され得る実施例を図示する。また他の実施形態では、シーブ床容器６００は、１つを上回る改竄防止キャップ５０４を使用してもよい。

依然として図１３を参照すると、シーブ床の改竄防止キャップ５０４は、本体１３００を含む。本体１３００は、１つまたはそれを上回る肋材１３０２Ａ－Ｄを含む（図１４Ａもまた参照）。肋材は、陥凹または空間１３０４Ａ－Ｄを含む。陥凹は、周縁１３０８とともに、シーブ床容器壁６００にキャップ５０４を保定するように設計される、保定リングまたはクリップ５０２を受容し、固着させるように配列される。シーブ床容器壁６００はまた、保定リング５０２の一部を受容し、固着させるための環状陥凹１３１０を含む。肋材１３０２Ａ－Ｄはまた、容器壁６００に接触する、またはほぼ接触するように配列される部分１３１６Ａ－Ｄを有する、外側表面または壁を含む。このように、保定リング５０２は、１つまたはそれを上回る肋材部分１３１６Ａ－Ｄが、保定クリップ５０２が除去されることを可能にするように改竄（例えば、切断、損傷、破壊、または別様に修正）されない限り、除去されることができない。肋材部分１３１６Ａ－Ｄを用いた改竄は、それへの可視の損傷を通して、シーブ床が開放された可能性が高いという視覚的インジケーションを提供する。さらに、肋材部分１３１６Ａ－Ｄを用いた改竄はまた、それらの場所におけるシーブ容器壁６００への視覚的損傷をもたらす可能性が高いであろう。またさらに、肋材部分１３１６Ａ－Ｄおよび／またはシーブ容器壁６００およびそれらの場所への損傷は、キャップ５０４および／またはシーブ床容器壁６００への回復不能な損傷をもたらす可能性が高いであろう。最終結果は、これが回復不能に損傷される可能性が高いであろうため、シーブ床の改竄または無許可の点検を思いとどまらせることである。

図１４Ａ－Ｂは、図１３に示されるキャップ５０４の実施形態の斜視および側面立面図を図示する。上記に説明されるように、キャップ本体１３００は、４つの肋材１３０２Ａ－Ｄを含み、各肋材は、保定リング５０２の一部を受容し、固着させるための陥凹または空間（例えば、１３０４Ａ－Ｄ）を含む。各肋材１３０２Ａ－Ｄはまた、それらの場所においてシーブ床容器壁６００の一部に接触する、またはほぼ接触するように配列される、１つまたはそれを上回る壁部分または表面（例えば、１３１６Ａ－Ｄ）を含む。それらの場所におけるシーブ床容器壁６００との接触は、作成される任意の間隙が、保定リング５０２の除去を制限するために十分に小さい限り、必要ではない。本体１３００はさらに、ガスケットまたはＯリングを保定し、シーブ床容器壁６００にキャップ本体１３００を保定する締まり嵌めを生成するための離間された周縁５１６および１３１４を（周縁１３０８とともに）含む。周縁１３０８、１３１２、１３１４は、改竄防止特徴の必要な部分ではないが、同様に含まれるように修正されることができる。

他の実施形態では、キャップ本体１３００が、４つを下回る肋材１３０２Ａ－Ｄを含み得、各肋材が、保定リング５０２を固着させるための壁および陥凹を有する必要がないことに留意されたい。少なくとも１つの肋材が、これらの特徴を含有することで十分である。さらに、肋材、壁、および陥凹の幾何学形状は、容易に除去（例えば、キャップ本体１３００および／またはシーブ床容器壁６００への物理的損傷または修正等、例えば、視覚的インジケータの作成を伴わない除去）されないように保定リング５０２を固着させるための部分が、キャップ本体１３００において提供される限り、本明細書の実施形態に示されるものから修正されることができる。例えば、キャップ本体１３００は、陥凹１３０４Ｂに隣接する突出部材またはタブ１３０６を含むことができる。突出タブ１３０６は、肋材１３０２Ｂの構成要素またはその独自のその上の別個の構成要素であり得る。１つの突出タブ１３０６が、示されるが、１つを上回るものが、肋材１３０２Ａ－Ｄの構成要素として提供されることができる。また他の実施形態では、肋材１３０２Ａ－Ｄは、排除され、その代わりに、タブ１３０６等の複数の突出タブが、同一の結果を遂行するために、肋材１３０２Ａ－Ｄと同一の場所において、またはより多くの場所において使用されることができる。また他の実施形態では、タブ１３０６等の複数のタブが、１つまたはそれを上回る肋材と併用されることができる。数、幾何学形状、および形状は、突出部材（例えば、肋材、タブ、およびそれらの組み合わせ）が、少なくとも部分的に本明細書に説明される様式で保定リングを封入し、改竄を思いとどまらせる、および／または改竄インジケータを提供する限り、重要ではない。

図１５Ａ－Ｂは、改竄防止特徴を有する、シーブキャップの他の実施形態を図示する。これは、肋材なしシーブキャップ設計を含む。一実施形態では、シーブキャップ本体は、種々の構成の旋回ドームを含むことができる。図１５Ａは、肋材なしシーブキャップ本体１３００の一実施形態を図示する。本体は、（例えば、個々の垂直に配置される肋材を有することに対して）水平に旋回され、本体１３００から突出または延在し、保定リングまたはクリップ５０２を固着させるためにシーブ容器壁６００に接触する、またはほぼ接触する、図１３－１４Ｂの壁部分１３１６Ａ－Ｄに類似する様式で縁部分１５０４を有して配列される、円筒形表面１５００を含む。図１５Ｂは、図１５Ａのものと比較してより少ない、またはより小さい円筒形表面１５０２を有する、肋材なしシーブキャップ本体１３００の別の実施形態を示す。円筒形表面１５０２はまた、保定リングまたはクリップ５０２を固着させるために、図１３－１４Ｂの壁部分１３１６Ａ－Ｄに類似する様式でシーブ容器壁６００に接触する、またはほぼ接触するために、縁領域１５０４を有して配列される。シーブキャップ本体の残りの特徴は、図１３－１４Ｂにすでに説明されたものに類似する。したがって、肋材なし壁／表面１５００および１５０２は、壁部分１３１６Ａ－Ｄと同一の様式であるが、個々の肋材１３０２Ａ－Ｄを使用することによるものを上回る外周に沿って保定リング／クリップ５０２を固着させる。図１５Ａおよび１５Ｂの実施形態からの保定リングまたはクリップ５０２の試行された除去は、保定リングまたはクリップ５０２を固着させる縁または外周部分１５０４への損傷をもたらし、それによって、改竄インジケーションを提供するであろう。したがって、本明細書に開示されるシーブキャップ本体は、肋材付き改竄防止特徴に限定されず、肋材付きおよび／または肋材なし配列の両方を含む。

図１６Ａ－Ｄは、改竄防止特徴を有する、シーブ床キャップ５０４の別の実施形態を図示する。本実施形態では、キャップ５０４は、保定リングまたはクリップ５０２の試行された除去に応じて破裂または破断し、それによって、キャップ５０４をもはや再使用不可能にする、１つまたはそれを上回る構造的部分を含む。これは、本体１３００において１つまたはそれを上回る弱化された部分を作成することによって遂行される。

示される実施形態では、本体１３００は、保定リングまたはクリップ５０２の試行された除去に応じて部分的または完全に破断するように配列される、ドーム部分１６００を含む。部分的または完全な破断または破裂は、とりわけ、要求される動作的シーブ床圧力で適切に機能する内部空間１６０４の能力を打ち破り、ガス分離システムを事実上無効にする。図１６Ｃおよび１６Ｄを参照すると、本体１３００は、少なくとも部分的に保定リングまたはクリップ５０２を固着させるための陥凹または空間１３０４Ａ－Ｄを含む。陥凹または空間１３０４Ａ－Ｄは、本体１３００の外周壁１６０２によって片側上で境界される。図１６Ｃに示されるように、壁１６０２は、第１の壁厚を有し、そこで、これは、陥凹または空間１３０４Ａ－Ｄを境界する。図１６Ｄに示されるように、外周壁１６０２が、陥凹または空間１３０４Ａ－Ｄを境界しない場合、壁１６０２は、図１６Ｃに示される第１の厚さを下回る第２の厚さを有する。厚さの差異は、保定リングまたはクリップ５０２の試行された除去に応じて、壁１６０２をより破裂または破断しやすくする任意の差異であり得る。一実施形態では、厚さの差異は、約２５％～９０％であり得る。精密な厚さの差異は、シーブ床キャップの部分が、保定リングまたはクリップ５０２の試行された除去に応じて破裂または破断する限り、重要ではない。

別の実施形態では、壁１６０２に隣接する下側ドーム外周壁１６０６は、同一の破裂または破断結果を遂行するために、壁１６０２に関して説明されるものと同一の様式で異なる厚さの部分を有することができる。すなわち、図１６Ｃに示される壁１６０６の部分は、図１６Ｄに示される壁１６０６の部分よりも大きい第１の厚さを有することができる。このように、図１６Ｄに示される壁１６０６の部分のより小さい厚さは、保定リングまたはクリップ５０２の試行された除去に応じて破裂または破断するように配列される。断裂、破裂、または破断するように配列される部分を有する、キャップ５０４の他の配列もまた、シーブ床への無許可のアクセスおよび／または改竄されたシーブ床およびキャップの再使用を防止するために使用されることができる。

キャップ５０４は、一実施形態では、ポリカーボネートまたは他のプラスチックおよび／または熱可塑性プラスチックから作製されることができる。材料組成は、保定リングまたはクリップ５０２の試行された除去に応じて破裂または破断し、それによって、キャップ５０４をもはや再使用不可能にする構造的部分を可能にする、任意の組成であり得る。これはさらに、金属、合金、セラミック、および他の成型可能、印刷可能、および／または機械加工可能な材料を含むことができる。

シーブ床材料の発塵および流動化を含む、シーブ床摩耗および引裂の原因となり得る別の因子は、シーブ床材料に進入するガス（例えば、空気）の不均一な流動分布および速度である。空気は、典型的には、キャップまたは他の入力インターフェースを介してシーブ床の中に入力される。キャップ／インターフェースの内部チャンバ幾何学形状は、シーブ床材料に進入するガスに関して不均一な流動分布および／または高流動速度の集中領域をもたらし得る。これらの望ましくない効果は、シーブ床材料に進入するガスのより均一な、および／または最適化された流動分布および流動速度を取得するために、流動修正構造、パーティション、および／または突出部を使用することによって対処されることができる。シーブ床材料に進入するガスの流動分布および／または流動速度を修正するためのシーブ床キャップ／インターフェースの種々の実施形態が、図１７Ａ－２７Ｂに示される。

ここで図１４Ａ、１４Ｂ、および１７Ａ－１７Ｂを参照すると、流動修正構造、パーティション、および／または突出部を有するシーブ床キャップ／インターフェース５０４の一実施形態が、示される。ここで図１７Ａの底面図を参照すると、本体１３００は、半球状またはドーム形壁または表面１７００と、第１の流動修正構造１７０２および１７０４と、第２の流動修正構造１７０６および１７０８と、第３の流動修正構造１７１０とを有する、内側チャンバ幾何学形状を含む。第１の間隙１７１２が、第１の流動修正構造１７０２と１７０４との間に位置する。第２の間隙１７１４が、第２の流動修正構造１７０６と１７０８との間に位置する。本実施形態では、流動修正構造は、概して、チャンバの中にガスを給送するガスポート１７１６から、３つの離間される列において配列される。第１の流動修正構造１７０２および１７０４は、約０．４５であり得る、第１の距離Ｄ１だけガスポート１７１６に近接して並置される（図１７Ａは、縮尺通りに拡大して示される）。第２の流動修正構造１７０６および１７０８は、約０．４２インチであり得る、距離Ｄ２だけ第１の流動修正構造１７０２および１７０４から離間される。第３の流動修正構造１７１０は、約０．３３インチであり得る、距離Ｄ３だけ第２の流動修正構造１７０６および１７０８から離間される。他の実施形態では、これらの距離は、流動修正結果を実質的に改変することなく、変更されることができる。

流動修正構造１７０２－１７１０は、一実施形態では、ポート１７１６から流入するガスを偏向させる、バッフルまたは肋材である。図１７Ａに示されるように、第１の流動修正構造１７０２および１７０４および第３の流動修正構造１７１０は、丸形または湾曲した端面を伴う略平坦な本体を有する。第２の流動修正構造１７０６および１７０８は、湾曲した端面を伴う湾曲した本体を有する。構造１７０６および１７０８の湾曲した本体は、本実施形態では、ガスポート１７１６に向かう一般的な方向に湾曲するように示される。他の実施形態では、これらの構造のうちのいずれかの平坦度および曲率の量は、流動修正結果に実質的に影響を及ぼすことなく、示されるものから変動することができる。

ここで図１７Ｂを参照すると、図１７Ａの断面図が、相対的な縮尺で示される。流動修正構造１７０２－１７１０の本体はそれぞれ、壁１７００からチャンバの中に下向きにある距離にわたって延在する。内部チャンバは、約１．２インチであり得る、示されるような高さＨ３を有する。第１の流動修正構造１７０２および１７０４は、約０．９１インチであり得る、示されるような高さＨ１まで下向きに延在する。第２および第３の流動修正構造１７０６、１７０８、および１７１０は、約０．７１インチであり得る、示されるような高さＨ２まで下向きに延在する。他の実施形態では、これらの寸法は、流動修正結果に実質的に影響を及ぼすことなく、変動されることができる。図１７Ｃは、流動修正構造１７０２－１７１０および間隙１７１２および１７１４のサイズ、場所、および形状をさらに図示する、底面斜視図である。図１７Ｄは、シーブ床キャップの断面斜視図であり、図１７Ｅは、第１の流動修正構造１７０２および１７０４および間隙１７１２を示す、図１７Ｄの関連付けられる断面図である。図１７Ｆは、別の断面斜視図であり、図１７Ｇは、第２の流動修正構造１７０６および１７０８および間隙１７１４を示す、図１７Ｆの関連付けられる断面図である。また、図１７Ｈは、別の断面斜視図であり、図１７Ｉは、第３の流動修正構造１７１０を示す、図１７Ｈの関連付けられる断面図である。

ここで再び図１７Ａを参照すると、ガスが、ポート１７１６からチャンバの中に給送され、第１の流動修正構造１７０２および１７０４および間隙１７１２に遭遇する。これは、第１の流動修正をガスに提供し、一部は、間隙１７１２を通して空間１７１８の中に通過し、他の部分は、空間１７２０および１７２２に偏向され、そこで、それらは、ドーム状表面１７００に遭遇する。ガス流は、次いで、第２の流動修正構造１７０６および１７０８および間隙１７１４に遭遇し、そこで、ガスのより小さい部分が、間隙１７１４を通して通過し、他の部分は、空間１７２０および１７２２に指向され、ドーム状表面１７００に遭遇する。示される実施形態では、間隙１７１４は、間隙１７１２よりも小さく、それによって、間隙１７１２と比較してより少ないガスがそれを通して通過することを可能にする。他の実施形態では、間隙１７１４は、間隙１７１２のサイズの約０．１～１．０倍であり得る。他の実施形態では、間隙１７１２は、対応して、間隙１７１４よりも小さくあり得る。第２の流動修正構造１７０６および１７０８は、それらの形状によって、ガスの一部を間隙１７１４に内向きに偏向させ、ガスの一部を空間１７２０および１７２２に向かって外向きに偏向させる。これは、さらなる、または第２の流動修正をガス流に提供する。ガス流は、次いで、第３の流動修正構造１７１０に遭遇する。これは、ガスを空間１７２６および１７２８に偏向させ、そこで、ドーム状表面１７００に遭遇する。以下に議論される図１８Ｂは、算出流体力学シミュレーションを通してこれらの流動パターンを図示する。

したがって、ガス流は、シーブ床材料に進入するガスの所望の流動分布および／または速度を取得するために、構造またはバッフルの各列を通して増分的に修正されることができる。これは、ガスがシーブ材料に進入する際により均一な分布および流動速度を取得するために、流動の最適化を提供し、それによって、シーブ材料の摩耗および引裂（例えば、発塵、流動化等）を低減させる。

図１８Ａ－１８Ｃは、Ａｎｓｙｓ， Ｉｎｃ．による算出流体力学ソフトウェアによってモデル化されるような図１７Ａ－１７Ｉのキャップ／インターフェースの構造、パーティション、および／または突出部によって発生される流動分布および速度を図示する。図１８Ａは、図１７Ｂに類似する断面図を示し、キャップ／インターフェース内で導流される結果として生じる算出された流動の流れ１８００およびそれらの速度が、ｘおよびｙ軸方向に沿って示される。図１８Ｂは、図１７Ａに類似する底面図を示し、結果として生じる算出された流動の流れ１８００およびそれらの速度が、ｘおよびｚ軸方向に沿って示される。図１８Ａおよび１８Ｂでは、速度は、流動の流れ１８００に関して、濃淡が薄いものから濃いものに進むにつれて、より高いものからより低いものになるように示される。

図１８Ｃは、シーブ床材料および／または拡散器（例えば、５１０）の面に近接する、図１８Ａに示される平面場所における結果として生じる算出された流動および／または速度分布を図示する。したがって、図１８Ｃは、シーブ床材料の面またはその近傍の算出された流動分布および速度を表す。示されるように、流動分布は、中心から外向きに延在する、流動領域１８０２の比較的に大きい略均一な分布を含む。円弧形状を有する第２のより小さい領域１８０４もまた、略均一な流動分布を有して存在する。図１８Ａおよび１８Ｂと同様に、速度は、濃淡が薄いものから濃いものに進むにつれて、より高いものからより低いものになるように示される。２つの例外は、小さい領域１８０６および１８０８であり、これらの濃い領域は、平均流動速度よりも高いことを表す。非常に小さい領域１８０６および１８０８を除いて、シーブ床材料の面に近接する面積の約７０～８０％（またはそれを上回るもの）を表すガスの最適化された略均一な流動分布が、取得される。本均一性は、ガスをシーブ床材料の中により均一に導入することによってシーブ床をより効率的にし、それによって、そうでなければこれがシーブ床材料に進入する際にガスが不均一に分配されるときにガスが到達しない場合があるシーブ材料のポケットを限定または排除する。

参照のために、図１８Ｄおよび１８Ｅは、いかなる流動修正構造、パーティション、および／または突出部も存在しないが、図１７Ａ－１７Ｉのキャップ／インターフェースの流動分布および速度を図示する。図１８Ｄに見られるように、流動の流れ１８００は、キャップの内部チャンバ内で均一に分配されていない。また、図１８Ｅに見られるように、結果として生じる流動分布は、ガスポート１７１６の反対の内部チャンバ境界壁に沿った幅狭の円弧１８１０に沿って集中する。本不均一な流動分布は、望ましくないより高い流動速度および／または要求される圧力を発生させ、これは、シーブ材料の発塵および流動化、フィルタ媒体の摩耗、コンプレッサ摩耗（経時的）等を含む、シーブ床摩耗および引裂の原因となる。

図１９Ａおよび１９Ｂは、流動修正構造を有する、シーブ床キャップ／インターフェース５０４の別の実施形態を図示する。図１９Ａおよび１９Ｂの実施形態は、第２の流動修正構造１９００および１９０２が湾曲していない（湾曲して示される、図１７Ａ－１７Ｉの第２の流動修正構造１７０６および１７０８に対して）ことを除いて、図１７Ａ－１７Ｉのものに類似する。図示されるように、第２の流動修正構造１９００および１９０２は、丸形または湾曲した端面を伴う略平坦な本体を有する。本差異以外に、図１７Ａ－１７Ｉおよび図１９Ａ－１９Ｂの実施形態は、（流動パターンを含め（図２０Ｂ参照））類似し、対応する説明が、参照することによって本明細書に組み込まれる。

図２０Ａ－２０Ｃは、Ａｎｓｙｓ， Ｉｎｃ．による算出流体力学ソフトウェアによってモデル化されるような図１９Ａ－１９Ｂのキャップ／インターフェースの構造、パーティション、および／または突出部によって発生される流動分布および速度を図示する。したがって、図１８Ａ－１８Ｃに示され、説明されるものと同一の分析が、図１９Ａ－１９Ｂの実施形態に対して実施された。図２０Ａは、図１９Ｂに類似する断面図を示し、キャップ／インターフェース内で導流される結果として生じる算出された流動の流れ２０００およびそれらの速度が、ｘおよびｙ軸方向に沿って示される。図２０Ｂは、図１９Ａに類似する底面図を示し、結果として生じる算出された流動の流れ１８００およびそれらの速度が、ｘおよびｚ軸方向に沿って示される。図２０Ａおよび２０Ｂでは、速度は、流動の流れ２０００に関して、濃淡が薄いものから濃いものに進むにつれて、より高いものからより低いものになるように示される。

図２０Ｃは、シーブ床材料および／または拡散器（例えば、５１０）の面に近接する、図２０Ａに示される平面場所における結果として生じる算出された流動および／または速度分布を図示する。したがって、図２０Ｃは、シーブ床材料の面の近傍の算出された流動分布および速度を表す。示されるように、流動分布は、中心から外向きに延在する、流動領域２００２の比較的に大きい略均一な分布を含む。わずかに乱れた円弧形状を伴う第２のより小さい領域２００４もまた、略均一な流動分布を有して存在する。図２０Ａおよび２０Ｂと同様に、速度は、濃淡が薄いものから濃いものに進むにつれて、より高いものからより低いものになるように示される。２つの例外は、小さい領域２００６および２００８であり、これらの濃い領域は、平均流動速度よりも高いことを表す。非常に小さい領域２００６および２００８を除いて、シーブ床材料の面に近接する面積の約７０～８０％（またはそれを上回るもの）を表すガスの最適化された略均一な流動分布が、取得される。前述で説明されるように、本均一性は、ガスをシーブ床材料の中により均一に導入することによってシーブ床をより効率的にし、それによって、そうでなければこれがシーブ床材料に進入する際にガスが不均一に分配されるときにガスが到達しない場合があるシーブ材料のポケットを限定または排除する。

シーブ床効率を支援する、分布がより均一であることに加えて、これらの実施形態による流動速度は、概して、そうでなければ提供されるものよりも低い。より低い流動速度は、発塵、流動化、およびシーブ床およびシーブ床材料に対する他の摩耗および引裂を低減させる。これは、シーブ床の寿命を延ばし、それによって、ガス濃縮システムの寿命を延ばす。

図２１Ａ－２１Ｄは、流動修正構造を有する、シーブ床キャップ／インターフェース５０４の別の実施形態を図示する。本実施形態は、２つの列の流動修正構造を含む。第１の列は、図１７Ａ－１７Ｉの実施形態のものと同一であり、第１の流動修正構造１７０２および１７０４と、間隙１７１２とを含む。第２の流動修正構造は、異なる。これらは、流動修正構造２１００および２１０２と、間隙２１０４とを含み、これらは、湾曲した脚部（例えば、２１００および２１０２）と、Ｖ形の頂点における小さい間隙（例えば、２１０４）とを有する、Ｖ形を形成する。前述で説明されるように、流動修正構造１７０２および１７０４および間隙１７１２は、第１のガス流修正を提供する。間隙１７１２を通して通過するガスは、空間２１０６に進入し、第２の流動修正構造２１００および２１０２および間隙２１０４に遭遇する。ガスの一部は、間隙２１０４を通して通過し、別の部分は、構造２１００および２１０２によって空間２１０８および２１１０の中に偏向され、そこで、それらは、ドーム状表面１７００に遭遇する。間隙２１０４を通して通過するガスは、空間２１１２に進入し、そこで、これは、ドーム状表面１７００に遭遇する。示される実施形態では、間隙２１０４は、間隙１７１２よりも小さく、それによって、間隙１７１２と比較してより少ないガスがそれを通して通過することを可能にする。他の実施形態では、間隙２１０４は、間隙１７１２のサイズの約０．１～１．０倍であり得る。他の実施形態では、間隙１７１２は、対応して、間隙２１０４よりも小さくあり得る。したがって、第２の流動修正構造２１００および２１０２および間隙２１０４は、第２の流動修正を提供する。

図２２Ａ－２２Ｄは、流動修正構造を有する、シーブ床キャップ／インターフェース５０４の別の実施形態を図示する。本実施形態は、段階的または起伏のある脚部２２０４および２２０６を伴うＶ形部分を有する、流動修正構造２２００を含む。内部チャンバに進入するガスは、Ｖ形部分に遭遇し、分割され、空間２２０８および２２１０に偏向される。しかしながら、Ｖ形部分の脚部２２０４および２２０６は、示されるような段階的または起伏のある表面を有するため、ガス流の小さい部分は、新しく現れる流動に対して戻るように偏向される。最終結果は、ガス流の一部が、空間２２０８および２２１０に偏向されず、流動の全てが、側空間２２０８および２２１０に偏向されるわけではないため、流動をより均一に分配することを支援することである。空間２２０８および２２１０に偏向される流動の部分はまた、ドーム状表面１７００および流動修正構造２２００の円筒形部分２２０２を介して空間２２１２の中に流動する。

図２３Ａ－２３Ｄは、流動修正構造を有する、シーブ床キャップ／インターフェース５０４の別の実施形態を図示する。本実施形態は、本質的に円筒形であり、円筒形である第１の部分２３０２と、テーパ状または円錐形である第２の部分２３０４とを含む、流動修正構造２３００を含む。第１の部分２３０２は、構造２３００の周囲のガスをドーム状表面１７００に近接する空間に偏向させることによって、第１のガス流修正を提供する。第２の部分２３０４は、そのテーパ状または円錐形幾何学形状によって、ガス流をシーブ床材料に下向きに偏向させることによって、第２の流動修正を提供する。他の実施形態では、第２の部分２３０４は、示されるものよりも多かれ少なかれテーパ状または円錐形であり得る。

図２４Ａ－２４Ｄは、流動修正構造を有する、シーブ床キャップ／インターフェース５０４の別の実施形態を図示する。本実施形態は、本質的に円筒形であり、略円筒形である、第１の部分２４０２と、斜角であり、湾曲し得る（示されるような凹状および／または凸状を含む）、第２の部分２４０４とを含む、流動修正構造２４００を含む。第１の部分２４０２は、構造２４００の周囲のガスをドーム状表面１７００に近接する空間に偏向させることによって、第１のガス流修正を提供する。第２の部分２４０４は、その斜角によって、ガス流をガス進入ポート１７１６に近接する領域においてシーブ床材料に下向きに偏向させることによって、第２の流動修正を提供する。他の実施形態では、第２の部分２４０４は、示されるものよりも多かれ少なかれ斜角であり得る。

図２５Ａ－２５Ｄは、流動修正構造を有する、シーブ床キャップ／インターフェース５０４の別の実施形態を図示する。本実施形態は、ガス進入ポート１７１６の非常に近傍に位置する、流動修正構造２５００を含む。そのようにガス進入ポート１７１６に近接近する理由は、流入するガス流の流れを少なくとも２つのより小さいガス流の流れに偏向させ、それによって、単一のガスの流れのみがドーム状表面１７００に遭遇した場合と比較して、ドーム状表面１７００が流動をより均一に分配することを可能にするためである。流動修正構造２５００は、それぞれ、その側上に湾曲した端面２５０２および２５０６を伴う略平坦な表面２５０４を含む。湾曲した端面２５０２および２５０６は、ドーム状表面１７００へのガス流の流れのより少ない乱流およびより騒音が少ない偏向を提供する。他の実施形態では、端面２５０２および２５０６は、湾曲する必要性はないが、表面２５０４に対して略平坦であり、角度付けられることができる。図２５Ｄに示されるように、流動修正構造２５００は、シーブ床キャップ／インターフェースの内部チャンバの中に有意に下に延在することができる。他の実施形態では、これは、例えば、ガス進入ポート１７１６の外周までのみ、またはそれをわずかに越えることを含め、示されるものよりも少なく延在することができる。

図２６Ａ－２６Ｄは、例えば、ドーム状表面１７００の代わりに、円筒形壁２６００を有する、シーブ床キャップ／インターフェース５０４の別の実施形態を図示する。本実施形態では、円筒形壁２６００の側および上部部分は、流動修正構造として作用し、流動を２つの領域の中に分配する。ポート１７１６から進入するガス流は、側壁部分２６０２に遭遇し、これは、流動を上側および下側の流動の流れに分割する。上側の流動の流れは、次いで、上面２６０４および側面部分２６０６によって下向きに戻るように偏向され、第２の下側の流動の流れを形成する。ガス進入ポート１７１６から進入する主要なガス流の流れの２つまたはそれを上回る流動の流れへの分割は、シーブ床材料に進入するガスのより均一な流動分布を提供する。表面２６０８、２６１０、２６１２、および２６１４は、随意に、本体１３００の下側部分を段階的様式で拡大させ、シーブ床容器壁６００への取付基部を提供する（図６参照）。

図２６Ｅ－２６Ｆは、Ａｎｓｙｓ， Ｉｎｃ．による算出流体力学ソフトウェアによってモデル化されるような図２６Ａ－２６Ｄのキャップ／インターフェースによって発生される流動分布および速度を図示する。したがって、図１８Ａ－１８Ｃに示され、説明されるものと同一の分析が、図２６Ａ－２６Ｄの実施形態に対して実施された。図２６Ｄは、図１９Ｂに類似する断面図を示し、キャップ／インターフェース内で導流される結果として生じる算出された流動の流れ２６１４およびそれらの速度が、ｘおよびｙ軸方向に沿って示される。図２６Ｄでは、速度は、流動の流れ２０００に関して、濃淡が薄いものから濃いものに進むにつれて、より高いものからより低いものになるように示される。

図２６Ｆは、シーブ床材料および／または拡散器（例えば、５１０）の面に近接する、図２６Ｅに示される平面場所における結果として生じる算出された流動および／または速度分布を図示する。したがって、図２６Ｅは、シーブ床材料の面における算出された流動分布および速度を表す。示されるように、流動分布は、流動領域２６１６の略均一な分布を含む。均一な流動分布の第２の領域２６１８もまた、存在する。図２６Ｅと同様に、速度は、濃淡が薄いものから濃いものに進むにつれて、より高いものからより低いものになるように示される。２つの例外は、小さい領域２６２２および２６２４であり、これらの濃い領域は、平均流動速度よりも高いことを表す。非常に小さい領域２６２２および２６２４を除いて、シーブ床材料の面に近接する面積の約７０～８０％（またはそれを上回るもの）を表すガスの最適化された略均一な流動分布が、取得される。前述で説明されるように、本均一性は、ガスをシーブ床材料の中により均一に導入することによってシーブ床をより効率的にし、それによって、そうでなければこれがシーブ床材料に進入する際にガスが不均一に分配されるときにガスが到達しない場合があるシーブ材料のポケットを限定または排除する。

図２７Ａおよび２７Ｂは、例えば、構造の離散的な行または列の代わりに、連続的流動修正構造２７００を有する、シーブ床キャップ／インターフェース５０４の別の実施形態を図示する。構造２７００は、湾曲した側部分２７１２および２７１４と、中心部分２７０６とを含む、いくつかの部分を含む。湾曲した側部分２７１２および２７１４および中心部分２７０６は、ドーム表面１７００から、湾曲した表面２７０２、２７０４、および２７０８、および表面２７１０を介して、キャップの内部チャンバの中に延在する。表面２７１０は、線形または曲線状（２７１６を介して示されるように）（複数の曲線を有することを含む）であり得、ポート１７１６から流入するガス流を少なくとも２つの流動の流れに分割することによって、第１の流動修正を実施する。湾曲した側部分２７１２および２７１４は、空間２７１８および２７２０に向かって戻るようにガス流の一部を指向し、そこで、ガス流が、ドーム表面１７００に遭遇し、シーブ材料に向かって下向きに指向される、第２の流動修正を提供することによって、湾曲した流動修正構造１７０６および１７０８（例えば、図１７Ａ）と同様に作用する。本再指向は、そうでなければ提供されたであろうものを上回る流動の分布を本領域（例えば、空間２７１８および２７２０）からシーブ床の中に提供し、それによって、シーブ材料に進入するガスのより均一な全体的流動分布を発生させる。本実施形態は、キャップの内部チャンバの中に延在する単一の中心部分２７０６を示すが、他の実施形態では、中心部分２７０６は、例えば、図１７Ａ－２１Ｄの低修正構造を模倣するいくつかの部分に分割されてもよく、それによって、これらの構造は、湾曲した表面によってドーム表面１７００から延在することができ、依然としてこれらの実施形態に示されるものと同一の一般的構成を維持しながら、湾曲した表面によって相互に接続される。

前述の実施形態の最終結果は、それと関連付けられるいかなる流動修正構造も有していないシーブ床キャップ５０４と比較して、より均一な流動分布およびより低い流動速度である。加えて、本明細書に示され、説明される種々の実施形態の流動修正構造は、流動修正構造の付加的組み合わせを作成するためにさらに組み合わせられることができる。さらに、示され、説明されるシーブ床キャップ／インターフェースの実施形態は、本明細書に開示される拡散器５１０等の流動拡散器とともに、またはそれを伴わずに使用されることができる。なおもさらに、流動修正構造は、実施例として、シーブ床キャップ／インターフェースの一部として示されたが、これらの同一の構造はまた、シーブ床キャップまたはインターフェースと併せて機能するように、既存のシーブ床キャップ／インターフェース内に設置される、またはシーブ床アセンブリ内に別個に搭載されるべき別個の構成要素、挿入器、および／またはアダプタとして実装されることができる。またさらに、シーブ床キャップ／インターフェースは、本明細書に開示されるような改竄防止特徴および流動修正構造の両方を含むことができる。

本発明は、その実施形態の説明によって例証され、実施形態は、かなり詳細に説明されたが、本開示の範囲をそのような詳細に制限する、またはいかなる方法でも限定することは、説明の意図ではない。付加的利点および修正が、当業者に容易に想起されるであろう。例えば、構成要素の相対的サイズ、寸法、および形状は、それらの機能性に有意に影響を及ぼすことなく、変更されることができる。したがって、本発明は、それらのより広い側面において、示され、説明される具体的詳細、代表的な装置、および例証的実施例に限定されない。故に、一般的な発明的概念の精神または範囲から逸脱することなく、そのような詳細からの逸脱が、行われることができる。

Claims (20)

1. ガス分離システムのための拡散器であって、前記拡散器は、
   本体であって、前記本体は、高さと、面積とを有し、前記面積は、中実面積と、開放面積とを備える、本体
   を備え、
   開放面積に対する中実面積の比率は、約５０％またはそれ未満を備える、拡散器。
2. 前記開放面積に対する中実面積の比率は、約０．１０％である、請求項１に記載の拡散器。
3. 前記開放面積に対する中実面積の比率は、約０．１０％～５０％である、請求項１に記載の拡散器。
4. 前記開放面積に対する中実面積の比率は、約２．４６％である、請求項１に記載の拡散器。
5. 前記開放面積に対する中実面積の比率は、約０．４１％である、請求項１に記載の拡散器。
6. 前記開放面積に対する中実面積の比率は、約０．１７％である、請求項１に記載の拡散器。
7. 前記開放面積は、少なくとも１つの多角形形状を有する、請求項１に記載の拡散器。
8. 前記開放面積は、少なくとも１つの六角形形状面積を有する、請求項１に記載の拡散器。
9. 前記開放面積は、少なくとも１つの円形形状面積を有する、請求項１に記載の拡散器。
10. 前記本体は、凹状プロファイルを有する、請求項１に記載の拡散器。
11. 前記本体は、第１および第２の凹状プロファイルを有する、請求項１に記載の拡散器。
12. 前記本体は、凸状プロファイルを有する、請求項１に記載の拡散器。
13. 前記本体は、第１および第２の凸状プロファイルを有する、請求項１に記載の拡散器。
14. 濃縮ガスを提供するためのシステムであって、
    少なくとも１つのシーブ床であって、
    ガスの混合物の１つまたはそれを上回る成分を吸着させるための分離媒体と、
    本体を有する少なくとも１つの拡散器であって、前記本体は、高さと、面積とを有し、前記面積は、中実面積と、開放面積とを備える、少なくとも１つの拡散器と
    を有する、少なくとも１つのシーブ床
    を備え、
    開放面積に対する中実面積の比率は、約５０％またはそれ未満を備える、システム。
15. 前記開放面積に対する中実面積の比率は、約０．１０％～５０％である、請求項１４に記載のシステム。
16. 前記開放面積は、少なくとも１つの多角形形状を有する、請求項１４に記載のシステム。
17. 前記開放面積は、少なくとも１つの六角形形状面積を有する、請求項１４に記載の拡散器。
18. 前記開放面積は、少なくとも１つの円形形状面積を有する、請求項１４に記載の拡散器。
19. 濃縮ガスを提供するための方法であって、
    中実面積と、開放面積とを有する拡散器にガス状混合物を指向するステップであって、開放面積に対する中実面積の比率は、約０．１０％～５０％である、ステップと、
    前記開放面積を通して、前記ガス状混合物の少なくとも成分を吸着させる分離媒体に前記ガス状混合物を指向するステップと
    を含む、方法。
20. 前記開放面積を通して前記ガス状混合物を指向するステップは、多角形形状を有する開放面積を通して前記ガス状混合物を指向するステップを含む、請求項１９に記載の方法。

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