JP2023528819A - 流動床反応器、装置及び応用 - Google Patents
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Abstract
Description
前記第1のバッフル板には、前記触媒流通孔が開設されていなく、前記第2ないし第nのバッフル板には、いずれも前記触媒流通孔が開設され、
前記第1のバッフル板及び前記第2のバッフル板によって分割形成された第1のコークス制御領域サブ領域には、コークス制御領域触媒入口が設けられ、
前記第1のバッフル板及び前記第nのバッフル板によって分割形成された第nのコークス制御領域サブ領域には、コークス制御触媒輸送管が設けられ、前記コークス制御触媒輸送管の出口は、前記反応領域に位置し、
前記コークス制御領域サブ領域の下方には、コークス制御領域分配器であるコークス制御原料入口が設けられ、
前記コークス制御領域サブ領域の頂部には、コークス制御領域ガス輸送管が設けられ、前記コークス制御領域ガス輸送管の出口は、固気分離領域に位置する。
前記反応領域分配器は、反応原料を通入するために用いられる。
前記再生領域分配器は、再生ガスを通入するために用いられる。
前記方法は、
触媒とコークス制御原料をコークス制御領域に通入し、前記触媒が前記コークス制御領域サブ領域に沿って環形方向で流れながら、コークス制御原料と反応させ、改質のDMTO触媒であるコークス制御触媒を含む生成物を生成するステップを含む。
前記生成物には、コークス制御生成ガスをさらに含み、前記コークス制御生成ガスは、コークス制御領域ガス輸送管を介して固気分離領域に入る。
前記流れBは、第2の固気分離器に入って固気分離し、軽オレフィンを含有する生成ガスである気相流れCと、使用済み触媒を含む固相流れDとを得る。
前記固相流れDは、流動床反応器の反応領域に戻り、
前記反応領域における触媒は、第1のストリッパー入口管の開口端を経て前記第1のストリッパーに入り、ストリッピングし、ストリッピングされた後、下流領域に入る。
好ましくは、前記炭化水素系化合物は、C1-C6のアルカン、C1-C6のアルケンから選ばれる少なくとも一つである。
前記アルコール系化合物と水との合計含有量のコークス制御原料における質量含有量は、10wt%以上50wt%以下であり、
選択的に、前記アルコール系化合物は、メタノール、エタノールから選ばれる少なくとも一つである。
前記触媒におけるコークス含有量は、≦3wt%であり、
前記コークス制御触媒におけるコークス含有量は、4~9wtであり、
前記コークス制御触媒におけるコークス含有量分布の四分位偏差は、1wt%よりも小さい。
前記ポリメチルベンゼンとポリメチルナフタレンとの合計質量のコークス合計質量における含有量は、≧70wt%であり、
分子量が>184であるコークス種の質量のコークス合計質量における含有量は、≦25wt%であり、
ここで、前記コークス合計質量とは、コークス種の合計質量である。
前記軽オレフィンを製造する方法は、上記のいずれか1項に記載の方法を含み、
前記軽オレフィンを製造する方法は、
反応領域中の使用済み触媒を流動床再生器に通入し、再生処理を行い、再生触媒を生成し、前記再生触媒を流動床反応器のコークス制御領域に通入し、コークス制御原料と接触して反応させるステップをさらに含む。
分離された後の前記再生触媒が第2のストリッパー、再生剤輸送管、第1の固気分離器に順次に通過して流動床反応器のコークス制御領域に戻り、コークス制御原料と接触して反応させることとを含む。
(1)DMTO触媒の主な特徴の1つは、メタノール転化プロセスの軽オレフィンの選択性が触媒のコークス含有量が高くなるにつれて上昇することであり、本明細書に記載の軽オレフィンとはエチレンとプロペンである。本発明者らの研究から、DMTO触媒の活性と軽オレフィンの選択性に影響を与える主な要素は、触媒におけるコークス含有量、コークス含有量分布とコークス種であることが明らかになった。触媒の平均コークス含有量が同じである場合、コークス含有量分布が狭いと、軽オレフィンの選択性が高く、活性が高い。触媒におけるコークス種は、ポリメチル芳香族炭化水素とポリメチル環式アルカンなどを含み、ここで、ポリメチルベンゼンとポリメチルナフタレンは、エチレンの生成を促進することができる。従って、触媒におけるコークス含有量、コークス含有量分布及びコークス種を制御することは、DMTO触媒の活性の制御、軽オレフィンの選択性の向上のキーポイントである。
本願における流動床反応器は、コークス制御領域を設け、コークス制御領域に設けられたバッフル板により、コークス制御領域を複数のサブ領域に分割し、触媒がサブ領域に沿って順次に流れ、サブ領域により触媒の滞留時間分布を制御し、滞留時間分布を狭くすることによって、触媒におけるコークス含有量分布を制御し、コークス含有量分布を狭くする。これとともに、コークス含有量及びコークス種も制御する。最終的に、DMTO触媒の活性と軽オレフィンの選択性を向上させた。
(2)本願の方法では、触媒は、コークス制御領域におけるバッフル板中の触媒流通孔のみを介して上流サブ領域から下流サブ領域に流れ、第一、コークス制御領域における触媒の平均滞留時間を制御することによって、触媒におけるコークス含有量を制御させることができる。第二、n個のサブコークス制御領域の構造を採用して触媒の滞留時間分布を制御し、その滞留時間分布がn個の直列の完全混合釜反応器に近似し、それによって、コークス含有量分布が狭い触媒を得た。
(3)本願は、触媒におけるコークス種の転化と生成を制御することによって、一方で、再生触媒に残留された不活性の高分子コークス種を低分子コークス種に転化し、もう一方で、コークス制御原料は、触媒中に入って高活性の低分子コークス種を生成することができ、且つ低分子コークス種は、ポリメチルベンゼンとポリメチルナフタレンを主とし、エチレンの選択性を向上させることができる。
(4)本願におけるDMTO触媒をコークス制御反応によりオンライン改質する方法は、コークス含有量が高く、コークス含有量分布が狭く、コークス種の主要成分がポリメチルベンゼンとポリメチルナフタレンであるコークス制御触媒を得て、軽オレフィンの選択性が比較的に低い再生触媒を軽オレフィンの選択性が高いコークス制御触媒に転化することができる。
(5)本願における再生触媒は、コークス制御プロセス処理を経ずに、含酸素化合物から軽オレフィンを製造するプロセスに直接使用されてもよく、コークス制御処理を経ない場合、得られた生成ガスにおける軽オレフィンの選択性が80~83wt%であり、本願における再生触媒は、コークス制御プロセス処理を経た後、含酸素化合物から軽オレフィンを製造するプロセスに使用され、得られた生成ガスにおける軽オレフィンの選択性が93~96wt%であった。
(6)本願の方法では、再生器からの高温再生触媒は、コークス制御領域で冷却してから反応領域に入り、即ち、反応領域には局部高温領域が存在しないため、含酸素化合物を含有する原料のコークス化率が低い。
(7)本願の流動床反応器の反応領域は、流動床反応器熱除去器を含み、反応領域の温度を正確に制御することができる。
a)再生触媒をコークス制御領域に送ることと、
b)水素ガス、メタン、エタン、エチレン、プロパン、プロペン、ブタン、ブテン、ペンタン、ペンテン、ヘキサン、ヘキセン、メタノール、エタノールと水を含むコークス制御原料をコークス制御反応器に送ることと、
c)コークス制御原料と再生触媒をコークス制御反応器で接触させ、反応させ、コークス制御原料を再生触媒上でコークス化させることであって、コークス化された後の触媒は、コークス制御触媒と称され、コークス制御触媒におけるコークス含有量が4~9wt%であり、コークス種には、ポリメチルベンゼンとポリメチルナフタレンとが含まれ、ポリメチルベンゼンとポリメチルナフタレンとの質量のコークス合計質量における含有量が≧70wt%であり、分子量が>184であるコークス種の質量のコークス合計質量における含有量が≦25wt%である、ことと、
d)コークス制御触媒をメタノール転化反応器に送ることとを含む。
前記コークス制御領域は、反応領域上方の環形領域に位置し、コークス制御領域内には、n個のバッフル板1-5が設けられ、バッフル板1-5は、コークス制御領域をn個のコークス制御領域サブ領域に分割し、nは、2≦n≦10である整数であり、各サブコークス制御領域の底部には、いずれもコークス制御領域分配器1-4が独立して設けられ、コークス制御領域の断面は、環形であり、コークス制御領域サブ領域の断面は、扇環形であり、第1ないし第nのコークス制御領域サブ領域は、同心に順次配列され、バッフル板1-5には触媒流通孔が含まれるが、第1のコークス制御領域サブ領域と第nのコークス制御領域サブ領域との間の共用バッフル板には触媒流通孔が含まれなく、
第1の固気分離器1-6は、流動床反応器1の固気分離領域に位置し、第1の固気分離器1-6の入口は、再生剤輸送管2-9の出口に接続され、第1の固気分離器1-6のガス出口は、固気分離領域に位置し、第1の固気分離器1-6の触媒出口は、第1のコークス制御領域サブ領域に位置し、コークス制御触媒輸送管1-7の入口は、第nのコークス制御領域サブ領域に接続され、コークス制御触媒輸送管1-7の出口は、反応領域に位置し、
前記各コークス制御領域サブ領域の頂部は、いずれもコークス制御領域ガス輸送管1-8が独立して設けられ、コークス制御領域ガス輸送管1-8の出口は、固気分離領域に位置し、第2の固気分離器1-9と第1のガス収集室1-10は、流動床反応器1の固気分離領域に位置し、第2の固気分離器1-9の入口は、流動床反応器1の固気分離領域に位置し、第2の固気分離器1-9のガス出口は、第1のガス収集室1-10に接続され、第2の固気分離器1-9の触媒出口は、反応領域に位置し、生成ガス輸送管1-11は、第1のガス収集室1-10の頂部に接続され、第1のストリッパー1-12は、流動床反応器1の下方に位置し、第1のストリッパー1-12の入口管は、流動床反応器1の底部から流動床反応器下ハウジングを貫通して、反応領域分配器1-2の上方に開口され、使用済み滑動弁1-13の入口は、第1のストリッパー1-12底部の出口管に接続され、使用済み滑動弁1-13の出口は、管路を経て使用済み剤輸送管1-14の入口に接続され、使用済み剤輸送管1-14の出口は、流動床再生器2の中部に接続される。
前記再生器分配器2-2は、流動床再生器2の底部に位置し、第3の固気分離器2-3は、流動床再生器2の上部に位置し、第3の固気分離器2-3の入口は、流動床再生器2の上部に位置し、第3の固気分離器2-3のガス出口は、第2のガス収集室2-4に接続され、第3の固気分離器2-3の触媒出口は、流動床再生器2の下部に位置し、第2のガス収集室2-4は、流動床再生器2の頂部に位置し、排煙輸送管2-5は、第2のガス収集室2-4の頂部に接続され、
前記第2のストリッパー2-6は、再生器ハウジング2-1の外に位置し、第2のストリッパー2-6の入口管は、再生器ハウジング2-1を貫通して、再生器分配器2-2の上方に開口され、再生器熱除去器2-7は、第2のストリッパー2-6の中に位置し、再生滑動弁2-8の入口は、管路を経て再生器ストリッパー2-6の底部に接続され、再生滑動弁2-8の出口は、管路を経て再生剤輸送管2-9の入口に接続され、再生剤輸送管2-9の出口は、第1の固気分離器1-6の入口に接続され、再生滑動弁2-8は、再生触媒の循環量を制御するために用いられる。
コークス制御原料をコークス制御領域分配器1-4から流動床反応器1のコークス制御領域に通入し、再生触媒を再生剤輸送管2-9から第1の固気分離器1-6に通入し、固気分離された後、ガスが第1の固気分離器1-6のガス出口から流動床反応器1の固気分離領域に排入され、再生触媒が第1の固気分離器1-6の触媒出口から流動床反応器1のコークス制御領域に排入され、コークス制御原料をコークス制御領域で再生触媒と接触させ、化学反応を発生させ、コークス制御触媒とコークス制御生成ガスを生成し、コークス制御触媒は、バッフル板1-5における触媒流通孔を経て第1ないし第nのコークス制御領域サブ領域を順次に通過し、そしてコークス制御触媒輸送管1-7を経て流動床反応器1の反応領域に入り、コークス制御生成ガスは、コークス制御領域ガス輸送管1-8を経て流動床反応器1の固気分離領域に入り、含酸素化合物を含有する原料を反応領域分配器1-2から流動床反応器1の反応領域に通入し、コークス制御触媒と接触させ、軽オレフィンと使用済み触媒を含有する流れAを生成し、流れAとコークス制御生成ガスは、固気分離領域で混合して流れBを形成し、流れBは、第2の固気分離器1-9に入り、固気分離された後、軽オレフィンを含有する生成ガスである気相流れCと使用済み触媒である固相流れDとに分けられ、気相流れCが第1のガス収集室1-10に入り、その後、生成ガス輸送管1-11を経て下流工程に入り、固相流れDが流動床反応器1の反応領域に戻り、反応領域の使用済み触媒は、第1のストリッパー1-12の入口管を経て流動床反応器ストリッパー1-12に入り、ストリッピングされた後、使用済み触媒は、使用済み滑動弁1-13と使用済み剤輸送管1-14を経て流動床再生器2の中部に入るステップと、
再生ガスを再生器分配器2-2から流動床再生器2の底部に通入し、流動床再生器2において、再生ガスを使用済み触媒と接触させ、化学反応を発生させ、使用済み触媒における一部のコークスが燃焼されて除去され、排煙と再生触媒を含有する流れEを生成し、流れEが第3の固気分離器2-3に入り、固気分離された後、排煙と再生触媒とに分けられ、排煙が第2のガス収集室2-4に入り、次に、排煙輸送管2-5を経て下流の排煙処理システムに入り、再生触媒が流動床再生器2の底部に戻り、流動床再生器2中の再生触媒が第2のストリッパー2-6に入り、ストリッピング・熱除去された後、再生滑動弁2-8と再生剤輸送管2-9を経て第1の固気分離器1-6に入るステップとを含む。
本実施形態は、図1と図2に示した装置を用い、流動床反応器中のコークス制御領域には、二枚のバッフル板が含まれ、即ちn=2であり、コークス制御領域には、2つのコークス制御領域サブ領域が含まれ、第1の固気分離器は、固気サイクロン分離器を採用した。
本実施形態は、図1と図2に示した装置を用い、流動床反応器中のコークス制御領域には、十枚のバッフル板が含まれ、即ちn=10であり、コークス制御領域には、10つのコークス制御領域サブ領域が含まれ、第1の固気分離器は、固気サイクロン分離器を採用した。
本実施形態は、図1と図2に示した装置を用い、流動床反応器中のコークス制御領域には、四枚のバッフル板が含まれ、即ちn=4であり、コークス制御領域には、4つのコークス制御領域サブ領域が含まれ、第1の固気分離器は、固気高速分離器を採用した。
本実施形態は、図1と図2に示した装置を用い、流動床反応器中のコークス制御領域には、六枚のバッフル板が含まれ、即ちn=6であり、コークス制御領域には、6つのコークス制御領域サブ領域が含まれ、第1の固気分離器は、固気高速分離器を採用した。
該対比例が実施例4と異なる点は、コークス制御反応オンライン改質DMTO触媒を用いず、コークス制御領域に通入された原料が窒素ガスであることである。窒素ガスは、不活性ガスであるため、コークス制御領域で再生触媒の性質を変化させることなく、即ち、反応領域に入る触媒が再生触媒であることに相当する。
1-3 流動床反応器熱除去器、 1-4コークス制御領域分配器、
1-5 バッフル板、 1-6 第1の固気分離器、
1-7 コークス制御触媒輸送管、 1-8 コークス制御領域ガス輸送管、
1-9 第2の固気分離器、 1-10 第1のガス収集室、
1-11 生成ガス輸送管、 1-12 第1のストリッパー、
1-13 使用済み滑動弁、 1-14 使用済み触媒輸送管、
2 流動床再生器、 2-1 再生器ハウジング、 2-2 再生器分配器、
2-3 第3の固気分離器、 2-4 第2のガス収集室、
2-5 排煙輸送管、 2-6 第2のストリッパー、 2-7 再生器熱除去器、
2-8 再生滑動弁、 2-9 再生剤輸送管。
Claims (34)
- メインハウジングと、コークス制御領域ハウジングとを含む流動床反応器であって、
前記メインハウジングは、固気分離領域を包囲形成する上ハウジングと、反応領域を包囲形成する下ハウジングとを含み、
前記反応領域は、固気分離領域と軸方向連通され、
前記コークス制御領域ハウジングは、前記メインハウジングの外壁に周方向に沿って設けられ、
前記コークス制御領域ハウジングと前記メインハウジングは、コークス制御領域である環形キャビティを包囲形成し、
前記コークス制御領域において、n個のバッフル板が径方向に沿って設けられ、前記n個のバッフル板は、前記コークス制御領域をn個のコークス制御領域サブ領域に分割し、nは、整数であり、
前記コークス制御領域サブ領域には、コークス制御原料入口が設けられ、
ここで、n-1個の前記バッフル板には、前記コークス制御領域に入った触媒とコークス制御原料とが環形方向に沿って流れるように触媒流通孔が設けられる、ことを特徴とする流動床反応器。 - 前記コークス制御領域において、前記n個のバッフル板は、第1のバッフル板、第2のバッフル板ないし第nのバッフル板を含み、
前記第1のバッフル板には、前記触媒流通孔が開設されていなく、
前記第2ないし第nのバッフル板には、いずれも前記触媒流通孔が開設され、
前記第1のバッフル板及び前記第2のバッフル板によって分割形成された第1のコークス制御領域サブ領域には、コークス制御領域触媒入口が設けられ、
前記第1のバッフル板及び前記第nのバッフル板によって分割形成された第nのコークス制御領域サブ領域には、コークス制御触媒輸送管が設けられ、前記コークス制御触媒輸送管の出口は、前記反応領域に位置し、
前記コークス制御領域サブ領域の下方には、コークス制御領域分配器であるコークス制御原料入口が設けられ、
前記コークス制御領域サブ領域の頂部には、コークス制御領域ガス輸送管が設けられ、前記コークス制御領域ガス輸送管の出口は、固気分離領域に位置する、ことを特徴とする請求項1に記載の流動床反応器。 - 前記nの値取り範囲は、2≦n≦10である、ことを特徴とする請求項1に記載の流動床反応器。
- 前記反応領域の内下方には、反応領域分配器がさらに設けられ、
前記反応領域分配器は、反応原料を通入するために用いられる、ことを特徴とする請求項1に記載の流動床反応器。 - 前記反応領域には、流動床反応器熱除去器が設けられ、前記反応領域の底部には、第1のストリッパーが設けられ、
前記第1のストリッパーの入口は、前記下ハウジング内に位置し、
前記第1のストリッパーの出口は、前記下ハウジング外に位置し、
前記第1のストリッパーの入口の開口端は、コークス制御触媒輸送管の出口端の上方に位置し、
前記コークス制御触媒輸送管の出口端は、前記反応領域分配器の上方に位置する、ことを特徴とする請求項4に記載の流動床反応器。 - 前記固気分離領域には、第1の固気分離器と第2の固気分離器とが設けられ、
前記第1の固気分離器の触媒出口管は、コークス制御領域頂部を貫通して第1のコークス制御領域サブ領域に挿設し、
前記第1の固気分離器のガス出口は、固気分離領域に設けられ、
前記第2の固気分離器の入口は、前記固気分離領域に位置し、
前記第2の固気分離器の触媒出口端は、反応領域に位置する、ことを特徴とする請求項1に記載の流動床反応器。 - 前記固気分離領域の内上部には、第1のガス収集室がさらに設けられ、
前記第2の固気分離器のガス出口は、前記第1のガス収集室と連通され、
前記第1のガス収集室は、さらに、生成ガス輸送管と連通される、ことを特徴とする請求項6に記載の流動床反応器。 - 含酸素化合物から軽オレフィンを製造するための装置であって、
前記装置は、流動床再生器と、請求項1~7のいずれか1項に記載の流動床反応器とを含む、ことを特徴とする装置。 - 前記流動床再生器は、再生器上ハウジングと、再生器下ハウジングとを含む再生器ハウジングを含み、前記再生器上ハウジングは、固気分離領域を包囲形成し、前記再生器下ハウジングは、再生領域を包囲形成し、
前記再生器ハウジングには、使用済み剤入口が設けられ、
前記使用済み剤入口は、使用済み剤輸送管を介して第1のストリッパー出口管と連通される、ことを特徴とする請求項8に記載の装置。 - 前記再生領域の底部には、再生領域分配器がさらに設けられ、
前記再生領域分配器は、再生ガスを通入するために用いられる、ことを特徴とする請求項8に記載の装置。 - 前記再生領域の底部には、第2のストリッパーが設けられ、
前記第2のストリッパーの入口は、前記再生器ハウジング内に位置し、
前記第2のストリッパーの出口は、前記再生器ハウジング外に位置し、
前記第2のストリッパーは、再生剤輸送管を介して第1の固気分離器と連通され、
前記第2のストリッパーの入口の開口端は、前記再生領域分配器の上方に位置する、ことを特徴とする請求項10に記載の装置。 - 前記再生器ハウジングには、第3の固気分離器と、第2のガス収集室とがさらに設けられ、
前記第2のガス収集室は、前記再生器ハウジングの内頂部に位置し、
前記第3の固気分離器のガス出口は、前記第2のガス収集室と連通され、
前記第2のガス収集室は、排煙輸送管と連通され、
前記第3の固気分離器の触媒出口端は、前記第2のストリッパー入口管開口端の上方に位置する、ことを特徴とする請求項8に記載の装置。 - 含酸素化合物から軽オレフィンを製造する方法であって、
前記方法は、請求項1~7のいずれか1項に記載の流動床反応器により、コークス制御反応でDMTO触媒をオンライン改質することを含み、
前記方法は、
触媒とコークス制御原料をコークス制御領域に通入し、前記触媒が前記コークス制御領域サブ領域に沿って環形方向で流れながら、コークス制御原料と反応させ、改質のDMTO触媒であるコークス制御触媒を含む生成物を生成するステップを含む、ことを特徴とする方法。 - 前記触媒は、バッフル板に設けられた触媒流通孔に沿って環形方向で流れ、
前記コークス制御原料は、コークス制御領域分配器を経てコークス制御領域サブ領域に入り、触媒と反応させる、ことを特徴とする請求項13に記載の方法。 - 製造された前記コークス制御触媒は、コークス制御触媒輸送管を介して反応領域に入り、反応領域分配器から通入された含酸素化合物を含有する原料と接触し、反応させ、軽オレフィンと使用済み触媒を含有する流れAを生成し、
前記生成物には、コークス制御生成ガスをさらに含み、前記コークス制御生成ガスは、コークス制御領域ガス輸送管を介して固気分離領域に入る、ことを特徴とする請求項14に記載の方法。 - 前記流れAと固気分離領域に入ったコークス制御生成ガスとを混合して、流れBを形成し、
前記流れBは、第2の固気分離器に入って固気分離し、軽オレフィンを含有する生成ガスである気相流れCと、使用済み触媒を含む固相流れDとを得る、ことを特徴とする請求項15に記載の方法。 - 前記気相流れCは、第1のガス収集室に入り、生成ガス輸送管を経て下流工程に入り、
前記固相流れDは、流動床反応器の反応領域に戻り、
前記反応領域における触媒は、第1のストリッパー入口管の開口端を経て前記第1のストリッパーに入り、ストリッピングし、ストリッピングされた後、下流領域に入る、ことを特徴とする請求項16に記載の方法。 - 前記コークス制御原料は、C1~C6の炭化水素系化合物を含む、ことを特徴とする請求項13に記載の方法。
- 前記炭化水素系化合物は、C1~C6のアルカン、C1~C6のアルケンから選ばれる少なくとも一つである、ことを特徴とする請求項18に記載の方法。
- 前記コークス制御原料は、水素ガス、アルコール系化合物、水のうちの少なくとも一つをさらに含み、
前記アルコール系化合物と水との合計含有量のコークス制御原料における質量含有量は、10wt%以上50wt%以下である、ことを特徴とする請求項18に記載の方法。 - 前記アルコール系化合物は、メタノール、エタノールから選ばれる少なくとも一つである、ことを特徴とする請求項20に記載の方法。
- 前記コークス制御原料は、水素ガス0~20wt%、メタン0~50wt%、エタン0~50wt%、エチレン0~20wt%、プロパン0~50wt%、プロペン0~20wt%、ブタン0~90wt%、ブテン0~90wt%、ペンタン0~90wt%、ペンテン0~90wt%、ヘキサン0~90wt%、ヘキセン0~90wt%、メタノール0~50wt%、エタノール0~50wt%、水0~50wt%を含み、炭化水素系化合物の総量は、0ではない、ことを特徴とする請求項20に記載の方法。
- 前記触媒は、SAPO分子篩を含み、
前記触媒におけるコークス含有量は、≦3wt%であり、
前記コークス制御触媒におけるコークス含有量は、4~9wtであり、
前記コークス制御触媒におけるコークス含有量分布の四分位偏差は、1wt%よりも小さい、ことを特徴とする請求項13に記載の方法。 - 前記コークス制御触媒におけるコークス種は、ポリメチルベンゼンと、ポリメチルナフタレンとを含み、
前記ポリメチルベンゼンとポリメチルナフタレンとの合計質量のコークス合計質量における含有量は、≧70wt%であり、
分子量が>184であるコークス種の質量のコークス合計質量における含有量は、≦25wt%であり、
ここで、前記コークス合計質量とは、コークス種の合計質量である、ことを特徴とする請求項13に記載の方法。 - 前記使用済み触媒におけるコークス含有量は、9~13wt%である、ことを特徴とする請求項15に記載の方法。
- 前記含酸素化合物は、メタノール、ジメチルエーテルから選ばれる少なくとも一つである、ことを特徴とする請求項15に記載の方法。
- コークス制御領域のプロセス条件は、ガスの見かけ線速度が0.1~0.5m/s、反応温度が300~700℃、反応圧力が100~500kPa、ベッド密度が400~800kg/m3である、ことを特徴とする請求項13に記載の方法。
- 反応領域のプロセス条件は、ガスの見かけ線速度が0.5~2.0m/s、反応温度が350~550℃、反応圧力が100~500kPa、ベッド密度が150~500kg/m3である、ことを特徴とする請求項15に記載の方法。
- 軽オレフィンを製造する方法であって、
前記軽オレフィンを製造する方法は、請求項8~12のいずれか1項に記載の装置により軽オレフィンを製造することを含み、
前記軽オレフィンを製造する方法は、請求項13~28のいずれか1項に記載の方法を含み、
前記軽オレフィンを製造する方法は、
流動床反応器反応領域中の使用済み触媒を流動床再生器に通入し、再生処理を行い、再生触媒を生成し、前記再生触媒を流動床反応器のコークス制御領域に通入し、コークス制御原料と接触して反応させるステップをさらに含む、ことを特徴とする方法。 - 前記方法は、反応領域中の使用済み触媒を第1のストリッパー及び使用済み剤輸送管に順次に通過させ、流動床再生器に入り、再生ガスと接触し、反応させ、排煙と再生触媒を含有する流れEを得、前記流れEが第3の固気分離器に入り、排煙を再生触媒から分離させることと、
分離された後の前記再生触媒が第2のストリッパー、再生剤輸送管、第1の固気分離器に順次に通過して流動床反応器のコークス制御領域に戻り、コークス制御原料と接触して反応させることとを含む、ことを特徴とする請求項29に記載の方法。 - 前記再生触媒におけるコークス含有量は、≦3wt%である、ことを特徴とする請求項29に記載の方法。
- 前記再生ガスは、酸素ガス、窒素ガス、水蒸気、空気から選ばれる少なくとも一つである、ことを特徴とする請求項30に記載の方法。
- 前記再生ガスは、空気0~100wt%、酸素ガス0~50wt%、窒素ガス0~50wt%及び水蒸気0~50wt%を含み、
前記空気、酸素ガス、窒素ガスと水蒸気の含有量は、同時に0ではない、ことを特徴とする請求項32に記載の方法。 - 再生領域のプロセス条件は、ガスの見かけ線速度が0.5~2.0m/s、再生温度が600~750℃、再生圧力が100~500kPa、ベッド密度が150~700kg/m3である、ことを特徴とする請求項29に記載の方法。
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