JP2023518020A - アブレーション器具のためのランプアップ機能 - Google Patents
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Abstract
Description
実施例4では、実施例1~3のいずれかの組織アブレーションシステムにおいて、第一の電力レベルは、20W~60Wであり、第二の電力レベルは、70W~150Wである。
実施例6では、実施例1~5のいずれかの組織アブレーションシステムにおいて、各中間電力レベルは、先行する中間電力レベルを1W~10W上回る。
実施例16では、組織アブレーションシステムは、標的部位にエネルギーを付与するように構成されたアブレーション器具と、アブレーション器具に電力を付与するように構成されたアブレーションジェネレータと、アブレーションジェネレータと通信するコントローラであって、アブレーションジェネレータに、第一の時点でアブレーション器具に第一の電力レベルを供給させ、アブレーションジェネレータに、第二の時点でアブレーション器具に第二の電力レベルを供給させ、第二の電力レベルは第一の電力レベルより高く、第二の時点は第一の時点の後である、ように構成されたコントローラとを含み、アブレーションジェネレータによってアブレーション器具に付与される電力は、第一の時点と第二の時点との間で第一の電力レベルから第二の電力レベルに調整され、電力を第一の電力レベルから第二の電力レベルに調整することは、アブレーションジェネレータに、アブレーション器具から標的部位に複数の中間エネルギーレベルを送達することに対応する複数の個別の中間電力レベルを付与させることを含み、中間電力レベルの各々は、第一の電力レベルと第二の電力レベルとの間であり、各連続する中間電力レベルは、先行する中間電力レベルを上回っており、アブレーション器具は、中間電力レベルの各々における電力を所定の時間にわたって付与する。
実施例18では、実施例17の組織アブレーションシステムにおいて、第一の電力レベルは、20W~60Wであり、及び第二の電力レベルは、70W~150Wである。
実施例20では、実施例18の組織アブレーションシステムにおいて、各中間電力レベルは、先行する中間電力レベルを1W~10W上回る。
実施例30では、実施例27の組織アブレーションシステムにおいて、アブレーション処置に関する情報を提供するように構成されたディスプレイと、ユーザインタフェースとをさらに含み、コントローラは、ディスプレイ及びユーザインタフェースと通信し、ユーザインタフェースから、全アブレーション時間、全アブレーションエネルギー及びアブレーション部位の寸法の少なくとも1つを含む入力を受け取り、受け取られた入力に基づいてアブレーション処置パラメータを特定し、アブレーションジェネレータに、アブレーション処置パラメータに基づいてアブレーション電力を第一又は第二のアブレーション器具に供給させる、ように構成される。
幾つかの実施形態が開示されているが、ここで開示される主題のさらに別の実施形態も、開示される主題の例示的な実施形態を図示し、説明する以下の詳細な説明から当業者に明らかとなるであろう。したがって、図面及び詳細な説明は、限定的ではなく、例示的な性質とみなされるものとする。
マイクロ波組織アブレーション器具300はハンドル305を含む。ハンドル305は、外科医が組織アブレーション器具300を扱うためにより確実に握ることができるように構成される。ハンドル305はさらに、冷却剤循環のための液体マニホルドと、フィードラインに電源供給するための同軸コネクタとを格納するように構成される。
1つの好ましい実施形態において、歪軽減領域は上記弾性要素を含み、これは非金属部分の近位端部を金属部分の遠位端部から離間させるような形状及び構成で形成される弾性環状スペーサを含み、スペーサは、近位面で金属部分と当接し、かつ遠位面で非金属部分と当接するように構成され、スペーサは半径方向に外方に延びて、プローブシャフトの外面と面一をなす表面を形成し、スペーサの半径方向に最も内側の部分は近位側に延びて、金属部分の遠位端面の内面を支持するように構成された環状のステップを形成し、歪軽減領域はそれに加えて、接合部の両側に、環状スペーサの半径方向に内側へと延びるアダプタスリーブを含む。好ましくは、スリーブは環状スペーサの近位側に延び、シャフトの金属部分の遠位端部の内面と接触してそれを支持するように構成されるとともに、好ましくはスペーサの遠位端側に延び、シャフトのセラミック部分の近位端部の内面と接触して、それを支持するように構成される。
図4Aは、本発明の1つの実施形態にかかるマイクロ波組織アブレーション器具400を示す斜視図である。図4Bは、冷却機構の1つの実施形態を説明するための線X-Yに沿った断面図である。
本明細書に記載のアンテナの線形アームはフィードラインの内側導体に電気的に接続され、好ましくは螺旋アーム及び/又はフィードラインと同軸をなす軸上で遠位側に延びる導体である。導体は好ましくは、直線ワイヤの形態である。特に好ましい実施形態において、線形アームは第一の近位側絶縁部分と第二の遠位側非絶縁部分を含む。一般に、第一の部分は誘電体により囲まれ、第一の部分の遠位側にある第二の部分は誘電体を欠く。第二の部分はアームの先端まで延びる。線形アームの第一の部分を囲む誘電体は、好ましくはフィードラインの遠位端部から延びる。その最も簡潔な形態では、アンテナの線形アームはフィードラインの内側導体の延長であり得る。誘電体は、よって、同軸をなすフィードラインの中心導体と外側導体の間に配置された誘電体の延長であり得る。
線形アーム420の長さ(Lla)は、好ましくは4mm~14mmであり、好ましくは8mm~10mmである。第二の露出部分423の長さ(L2)は、好ましくは0.1mm~2mm、好ましくは0.3mm~0.5mmである。
本明細書の他の箇所で述べるように、複数のアブレーション器具、例えば組織アブレーション器具300を同時に使用して、アブレーションプロセスを実行できる。このようなアブレーション器具は、様々な方法で配置され得る。図6Aは、マイクロ波アブレーションニードルの各種の構成の平面図を示す。ある例において、マイクロ波アブレーション器具は、配置600のように互いに等距離に配置することができる。ニードルは、配置600、610、及び620のように規則的な多角形の編成に配置できる。アブレーション器具を互いに等距離に配置することにより、好ましくは、複数のアブレーション器具により形成される、ほぼ対称の正味アブレーション容積を形成し得る。追加的に、アブレーション器具を規則的な多角形の編成に配置することにより、複数のアブレーション器具により形成される、ほぼ球形の正味アブレーション容積を形成し得る。代替的に、複数の器具は、その他の配置、たとえば配置630のように線形に、又は配置640のように不規則な形状に配置されてもよい。アブレーション器具は、特定の手術に適した所望のアブレーション容積を形成するように、様々な構成に配置され得る。
Claims (15)
- 組織アブレーションシステムであって、
標的部位にエネルギーを供給するアブレーション器具と、
前記アブレーション器具に電力を供給するアブレーション発生器と、
前記アブレーション発生器と通信するコントローラであって、前記コントローラは、前記アブレーション発生器に、第一の時点で前記アブレーション器具に第一の電力レベルを供給させ、且つ前記アブレーション発生器に、第二の時点で前記アブレーション器具に第二の電力レベルを供給させ、前記第二の電力レベルは、前記第一の電力レベルより高く、前記第二の時点は、前記第一の時点の後である、コントローラと
を備え、
前記アブレーション発生器によって前記アブレーション器具に供給される前記電力は、前記第一の時点と前記第二の時点との間で前記第一の電力レベルから前記第二の電力レベルに調整され、前記電力を前記第一の電力レベルから前記第二の電力レベルに調整することは、前記アブレーション発生器に、前記アブレーション器具から前記標的部位に複数の中間エネルギーレベルを送達することに対応する複数の個別の中間電力レベルを供給させることを含んでおり、前記中間電力レベルの各々は、前記第一の電力レベルと前記第二の電力レベルとの間であり、各連続する中間電力レベルは、先行する中間電力レベルを上回る、
組織アブレーションシステム。 - 前記アブレーション発生器は、前記中間電力レベルの各々における電力を予め定められた時間にわたって供給するように構成される、請求項1に記載の組織アブレーションシステム。
- 前記複数の個別の中間電力レベルは、ステップアップ機能を使用して増大される、請求項1又は2に記載の組織アブレーションシステム。
- 前記第一の電力レベルは、20W~60Wであり、
前記第二の電力レベルは、70W~150Wである、請求項1~3のいずれか一項に記載の組織アブレーションシステム。 - 前記第一の時点と前記第二の時点との間の時間は、40秒~100秒である、請求項1~4のいずれか一項に記載の組織アブレーションシステム。
- 各中間電力レベルは、先行する中間電力レベルを1W~10W上回る、請求項1~5のいずれか一項に記載の組織アブレーションシステム。
- 前記アブレーション器具のための冷却剤システムをさらに含み、前記冷却剤システムは、
前記アブレーション器具の遠位端部分を囲む冷却剤チャンバと、
冷却剤を前記冷却剤チャンバに供給する冷却剤入口と、
前記冷却剤を前記冷却剤チャンバから排出する冷却剤出口と、
前記冷却剤を前記冷却剤チャンバに供給する1つ以上のポンプと
を含む、請求項1~6のいずれか一項に記載の組織アブレーションシステム。 - アブレーション処置に関する情報を提供するディスプレイと、
ユーザインタフェースと
をさらに備え、
前記コントローラは、前記ディスプレイ及び前記ユーザインタフェースと通信し、且つ
前記ユーザインタフェースから、全アブレーション時間、全アブレーションエネルギー及びアブレーション領域の寸法の少なくとも1つを含む入力を受け取り、
受け取られた前記入力に基づいてアブレーション処置パラメータを特定し、且つ
前記アブレーション発生器に、前記アブレーション処置パラメータに基づいてアブレーション電力を前記アブレーション器具にさせる請求項1~7のいずれか一項に記載の組織アブレーションシステム。 - 前記ユーザインタフェースは、前記アブレーション処置中、前記アブレーション処置パラメータに関する入力を受け取る請求項8に記載の組織アブレーションシステム。
- 前記アブレーション処置中の受け取られた前記入力は、前記全アブレーション時間を増加させるための入力及び前記アブレーション処置を終了させるための入力の少なくとも一方を含む、請求項9に記載の組織アブレーションシステム。
- 前記アブレーション処置中の受け取られた前記入力は、前記アブレーション電力の前記電力レベルを調整するための入力を含む、請求項9に記載の組織アブレーションシステム。
- 前記ディスプレイは、前記アブレーション処置の持続時間、全エネルギーのうちの送達されるパーセント、前記アブレーション電力の現在の電力レベル及び経時的な前記アブレーションエネルギーの電力レベルの少なくとも1つを表示する請求項8に記載の組織アブレーションシステム。
- 前記標的部位にエネルギーを供給する第二のアブレーション器具をさらに含み、
前記アブレーション発生器は、前記第二のアブレーション器具に電力を供給し、前記コントローラは、
前記アブレーション発生器に、第三の時点で前記第二のアブレーション器具に前記第二のアブレーション器具から前記標的部位に第三のレベルのエネルギーを送達することに対応する第三の電力レベルを供給させ、
前記アブレーション発生器に、第四の時点で前記アブレーション器具に前記第二のアブレーション器具から前記標的部位に第四のレベルのエネルギーを送達することに対応する第四の電力レベルを供給させ、前記第四の電力レベルは、前記第三の電力レベルより高く、及び前記第四の時点は、前記第三の時点の後であり、
前記アブレーション発生器によって前記第二のアブレーション器具に供給される前記電力は、前記第三の時点と前記第四の時点との間で前記第三の電力レベルから前記第四の電力レベルに調整され、前記電力を前記第三の電力レベルから前記第四の電力レベルに調整することは、前記アブレーションジェネレータに、前記第二のアブレーション器具から前記標的部位に複数の第二のアブレーション器具中間エネルギーレベルを送達することに対応する複数の個別の第二のアブレーション器具中間電力レベルを供給させることを含み、前記第二のアブレーション器具中間電力レベルの各々は、前記第三の電力レベルと前記第四の電力レベルとの間であり、各連続する第二のアブレーション器具中間電力レベルは、先行する第二のアブレーション器具中間電力レベルを上回っており、
前記アブレーションジェネレータは、前記中間電力レベル及び前記第二のアブレーション器具中間電力レベルの各々における電力を所定の時間にわたって供給する、
請求項1~12のいずれか一項に記載の組織アブレーションシステム。 - 前記第一の電力レベルは、前記第三の電力レベルと同じであり、前記第二の電力レベルは、前記第四の電力レベルと同じである、請求項13に記載の組織アブレーションシステム。
- 前記第一の時点と前記第三の時点とは、ほぼ同じであり、前記第二の時点と前記第四の時点とは、ほぼ同じである、請求項13に記載の組織アブレーションシステム。
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