JP2023510326A

JP2023510326A - アブレーション焼灼巣の光学的探索のためのシステム及び方法

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Publication number: JP2023510326A
Application number: JP2022542281A
Authority: JP
Inventors: アミラナ，オマール; ランズベリー，テランス・ジェイ．; ジャガナサン，アルン
Original assignee: 460Medical Inc
Current assignee: 460Medical Inc
Priority date: 2020-01-08
Filing date: 2021-01-08
Publication date: 2023-03-13
Also published as: EP4087511A4; US20210205017A1; EP4087511A1; CN115103647A; WO2021142368A1

Abstract

幾つかの実施形態において、光学的組織探索のためのシステムは、複数の電極を有するカテーテルであって、複数の電極が、カテーテルの遠位端においてアレイで配設され、アブレーションエネルギーを組織に送達するように構成される、前記カテーテルと、光源から組織へ光を送達し、組織からセンサへ還元型ニコチンアミドアデニンジヌクレオチド（ＮＡＤＨ）蛍光を含む光学情報を送達するために、カテーテルを通して延在する１つ又は複数の光ファイバと、を備え、複数の電極における各電極は、１つ又は複数の光ファイバのうちの少なくとも１つの光ファイバに関連付けられる。
【選択図】図５Ａ

Description

［関連出願］
本出願は、２０２０年１月８日に出願された米国仮出願第６２／９５８，４１９号及び２０２１年１月８日に出願された米国出願第１７／１４５，１８８号に対する利益及び優先権を主張し、それらの全体は参照することにより本明細書に組み込まれる。

本開示は、一般に、アブレーション及び光学的組織探索システム並びに組織に対するエネルギー送達の影響を評価し、カテーテルと組織との間の接触の品質を評価するために組織を光学的に探索する方法に関する。

心房細動（ＡＦ：Atrial Fibrillation）は、世界で最も一般的な持続性不整脈であり、現在、何百万人もの人々に影響を与えている。米国では、ＡＦは２０５０年までに１０００万人に影響を及ぼすと予測されている。ＡＦは、高い死亡率、罹患率、及び生活の質の低下を伴い、また脳卒中の独立した危険因子である。ＡＦを発症するという実質的な生涯リスクは、その疾病の公衆衛生上の負担を強調しており、米国だけで年間処置コストは７０億ドルを超える。

ＡＦを有する患者のほとんどの発症は、肺静脈（ＰＶ：Pulmonary Vein）内に延在する筋肉スリーブ内で発生した限局性電気活動によって誘発されることが知られている。心房細動は、上大静脈又は他の心房組織、すなわち心臓伝導系内の他の心臓組織内の限局性活動によって誘発される場合もある。これらの限局性誘因は、興奮回帰性電気活動（又はロータ）によって駆動される心房頻拍を引き起こす可能性もあり、興奮回帰性電気活動（又はロータ）は、その後、心房細動に特徴的である多数の電気小波に断片化する場合がある。さらに、長引くＡＦは、心臓細胞膜の機能変化を引き起こす可能性があり、これらの変化は心房細動をさらに持続させる。

アブレーションシステムは、心房細動を処置するために医師によって使用される。医師はカテーテルを使用してエネルギーを誘導して、限局性誘因を破壊するか又は心臓の残りの組織及び伝導系から誘因を隔離する電気的隔離線を形成する。後者の技術は、肺静脈隔離術（ＰＶＩ：Pulmonary Vein Isolation）と呼ばれるものにおいて一般に使用される。しかしながら、ＡＦアブレーション治療の成功率は、比較的低迷したままであり、再発の推定値は、治療後１年で３０％～５０％程度である。カテーテルアブレーション後の最も一般的な再発理由は、ＰＶＩ線における１つ又は複数のギャップである。通常、ギャップは、治療中に一時的に電気信号を遮断するが、経時的に治癒し、心房細動の再発を促すことができる、抜けているエリア或いは無効な又は不完全な焼灼巣の結果である。

無効な又は不完全な焼灼巣は、しばしば、心筋との不十分なカテーテル接触の結果である。不十分な接触によって、カテーテルから心筋へのエネルギーの伝達は、非効率的であり、しばしば、適切な焼灼巣をもたらすのに不十分である。断続的な接触は安全でない可能性もある。

したがって、結果を改善しコストを低減するために、アブレーション焼灼巣を形成し検証するシステム及び方法についての必要性が存在する。

本開示は、組織アブレーションを実施しモニターするシステム及び方法を提供する。

幾つかの態様において、本開示は、光学的組織探索のためのシステムを提供し、システムは、複数の電極を有するカテーテルであって、複数の電極が、カテーテルの遠位端においてアレイで配設され、アブレーションエネルギーを組織に送達するように構成される、カテーテルと、光源から組織へ光を送達し、組織からセンサへ、還元型ニコチンアミドアデニンジヌクレオチド（ＮＡＤＨ：Nicotinamide Adenine Dinucleotide Hydrogen）蛍光を含む光学情報を送達するための、カテーテルを通して延在する１つ又は複数の光ファイバと、を備え、複数の電極における各電極は、１つ又は複数の光ファイバのうちの少なくとも１つの光ファイバに関連付けられる。

幾つかの実施形態において、光源は、組織内のミトコンドリア還元型ニコチンアミドアデニンジヌクレオチド（ＮＡＤＨ）を励起するのに十分な少なくとも１つの波長を有する。幾つかの実施形態において、センサは、組織からのＮＡＤＨ蛍光を検出するために、少なくとも１つの波長を有する光を受信するように構成される。幾つかの実施形態において、アブレーションエネルギーは、パルスフィールドアブレーションエネルギーである。幾つかの実施形態において、アブレーションエネルギーは、電気穿孔エネルギー、高周波エネルギー、マイクロ波エネルギー、電気エネルギー、電磁エネルギー、冷凍エネルギー、レーザエネルギー、超音波エネルギー、音響エネルギー、化学的エネルギー、及び熱エネルギーからなる群から選択される。幾つかの実施形態において、組織を照射する光は、約３００ｎｍと約４００ｎｍとの間の少なくとも１つの波長を有する。幾つかの実施形態において、センサは、約３７５ｎｍと約６５０ｎｍとの間の少なくとも１つの波長を有する光を受信するように構成される。幾つかの実施形態において、複数の電極のそれぞれは光学ポートを備え、１つ又は複数の光ファイバは、光が光学ポートを通過することを可能にするために光学ポートと整列する。幾つかの実施形態において、複数の電極は、カテーテルの遠位端で拡張可能部材上に配設される。

幾つかの実施形態において、システムは、センサと通信し、焼灼された組織と焼灼されていない組織とを識別するためにＮＡＤＨ蛍光のデジタル表現を生成するように構成されたプロセッサをさらに備える。幾つかの実施形態において、システムは、センサと通信するプロセッサをさらに備え、プロセッサは、組織のアブレーション中にセンサからＮＡＤＨ蛍光を取得し、組織のアブレーションの進行をモニターするためにＮＡＤＨ蛍光のデジタル表現を生成し、そのときのＮＡＤＨ蛍光の減少は、さらなるアブレーションについての必要性をユーザが判定することを可能にするために組織のアブレーションの進行を示し、組織が焼灼されている間、ＮＡＤＨ蛍光の減少をモニターし、組織のアブレーション全体を通してのＮＡＤＨ蛍光の減少を示すためにデジタル表現を更新するようにプログラムされる。幾つかの実施形態において、光学情報は、組織を焼灼することによって生成された組織内の焼灼巣の恒久性を予測するために使用される。幾つかの実施形態において、光及びセンサは、組織からのコラーゲン蛍光を検出するために、少なくとも１つの波長を有する光を受信するように構成される。幾つかの実施形態において、システムは、センサと通信し、組織の線維性負担を評価するために、コラーゲン蛍光のデジタル表現を生成するように構成されたプロセッサをさらに備える。

幾つかの態様において、本開示は、光学的組織探索のためのシステムを提供し、システムは、組織を照射する光を提供する光源であって、光が、組織内のミトコンドリア還元型ニコチンアミドアデニンジヌクレオチド（ＮＡＤＨ）を励起するのに十分な少なくとも１つの波長を有する、光源と、組織からのＮＡＤＨ蛍光を検出するセンサであって、組織からのＮＡＤＨ蛍光を検出するために、少なくとも１つの波長を有する光を受信するように構成される、センサと、１つ又は複数の光ファイバを含むシースであって、１つ又は複数の光ファイバが、シースを通して延在して、光源から組織へ光を送達し、組織からセンサへ光学情報を送達する、シースと、を備え、シースは、シースを通してカテーテルを受け取って、１つ又は複数の光ファイバのうちの少なくとも１つの光ファイバをカテーテルの遠位端に配設された電極に関連付けるように構成され、電極は、アブレーションエネルギーを組織に送達するように構成される。

幾つかの実施形態において、アブレーションエネルギーは、パルスフィールドアブレーションエネルギーである。幾つかの実施形態において、アブレーションエネルギーは、電気穿孔エネルギー、高周波エネルギー、マイクロ波エネルギー、電気エネルギー、電磁エネルギー、冷凍エネルギー、レーザエネルギー、超音波エネルギー、音響エネルギー、化学的エネルギー、及び熱エネルギーからなる群から選択される。幾つかの実施形態において、組織を照射する光は、約３００ｎｍと約４００ｎｍとの間の少なくとも１つの波長を有する。幾つかの実施形態において、センサは、約３７５ｎｍと約６５０ｎｍとの間の少なくとも１つの波長を有する光を受信するように構成される。幾つかの実施形態において、電極は光学ポートを備え、１つ又は複数の光ファイバは、光が光学ポートを通過することを可能にするために光学ポートと整列する。幾つかの実施形態において、光学情報はＮＡＤＨ蛍光を含む。

幾つかの実施形態において、システムは、センサと通信し、焼灼された組織と焼灼されていない組織とを識別するためにＮＡＤＨ蛍光のデジタル表現を生成するように構成されたプロセッサをさらに備える。幾つかの実施形態において、システムは、センサと通信するプロセッサをさらに備え、プロセッサは、組織のアブレーション中にセンサからＮＡＤＨ蛍光を取得し、組織のアブレーションの進行をモニターするためにＮＡＤＨ蛍光のデジタル表現を生成し、そのときのＮＡＤＨ蛍光の減少は、さらなるアブレーションについての必要性をユーザが判定することを可能にするために組織のアブレーションの進行を示し、組織が焼灼されている間、ＮＡＤＨ蛍光の減少をモニターし、組織のアブレーション全体を通してのＮＡＤＨ蛍光の減少を示すためにデジタル表現を更新するようにプログラムされる。

幾つかの実施形態において本開示は、光学的組織探索のためのシステムを提供し、システムは、複数の電極を有するカテーテルであって、前記複数の電極が、カテーテルの遠位端においてアレイで配設される、カテーテルと、複数の電極のうちの１つ又は複数の電極によって組織を焼灼するために複数の電極と導通状態にあるアブレーションエネルギー源と、組織を照射する光を提供する光源であって、光が、組織内のミトコンドリア還元型ニコチンアミドアデニンジヌクレオチド（ＮＡＤＨ）を励起するのに十分な少なくとも１つの波長を有する、光源と、組織からのＮＡＤＨ蛍光を検出するセンサであって、組織からのＮＡＤＨ蛍光を検出するために、少なくとも１つの波長を有する光を受信するように構成される、センサと、１つ又は複数の光ファイバを含むシースであって、１つ又は複数の光ファイバが、シースを通して延在して、光源から組織へ光を送達し、センサへＮＡＤＨ蛍光を送達する、シースと、を備え、シースは、シースを通してカテーテルを受け取って、１つ又は複数の光ファイバのうちの少なくとも１つの光ファイバを複数の電極のうちの１つの電極に関連付けるように構成される。

幾つかの実施形態において、アブレーションエネルギーは、パルスフィールドアブレーションエネルギーである。幾つかの実施形態において、アブレーションエネルギーは、電気穿孔エネルギー、高周波エネルギー、マイクロ波エネルギー、電気エネルギー、電磁エネルギー、冷凍エネルギー、レーザエネルギー、超音波エネルギー、音響エネルギー、化学的エネルギー、及び熱エネルギーからなる群から選択される。幾つかの実施形態において、組織を照射する光は、約３００ｎｍと約４００ｎｍとの間の少なくとも１つの波長を有する。幾つかの実施形態において、センサは、約３７５ｎｍと約６５０ｎｍとの間の少なくとも１つの波長を有する光を受信するように構成される。幾つかの実施形態において、電極は光学ポートを備え、１つ又は複数の光ファイバは、光が光学ポートを通過することを可能にするために光学ポートと整列する。

幾つかの態様において、本開示は、光学的組織探索のためのシステムを提供し、システムは、複数の電極を有するカテーテルであって、複数の電極が、カテーテルの遠位端においてアレイで配設され、アブレーションエネルギーを組織に送達するように構成される、カテーテルと、カテーテルを摺動可能に受け取るように構成されたシースと、を備え、シースは、光源から組織へ光を送達し、組織からセンサへ還元型ニコチンアミドアデニンジヌクレオチド（ＮＡＤＨ）蛍光を送達するために、シースを通して延在する１つ又は複数の光ファイバを備え、シースは、複数の電極における各電極を１つ又は複数の光ファイバのうちの少なくとも１つの光ファイバに関連付けるように構成される。

幾つかの実施形態において、光源は、組織内のミトコンドリア還元型ニコチンアミドアデニンジヌクレオチド（ＮＡＤＨ）を励起するのに十分な少なくとも１つの波長を有する。幾つかの実施形態において、センサは、組織からのＮＡＤＨ蛍光を検出するために、少なくとも１つの波長を有する光を受信するように構成される。幾つかの実施形態において、アブレーションエネルギーは、パルスフィールドアブレーションエネルギーである。幾つかの実施形態において、アブレーションエネルギーは、電気穿孔エネルギー、高周波エネルギー、マイクロ波エネルギー、電気エネルギー、電磁エネルギー、冷凍エネルギー、レーザエネルギー、超音波エネルギー、音響エネルギー、化学的エネルギー、及び熱エネルギーからなる群から選択される。幾つかの実施形態において、組織を照射する光は、約３００ｎｍと約４００ｎｍとの間の少なくとも１つの波長を有する。幾つかの実施形態において、センサは、約３７５ｎｍと約６５０ｎｍとの間の少なくとも１つの波長を有する光を受信するように構成される。幾つかの実施形態において、複数の電極のそれぞれは光学ポートを備え、１つ又は複数の光ファイバは、光が光学ポートを通過することを可能にするために光学ポートと整列する。幾つかの実施形態において、シースの遠位端から延在する複数の偏向可能延長部を備え、複数の偏向可能延長部の各偏向可能延長部は、各々を通して延在する少なくとも１つの光ファイバを有する。

幾つかの態様において、本開示は、組織を撮像するシステムを提供し、システムは、組織を照射する光を提供する光源であって、光が、組織内のミトコンドリア還元型ニコチンアミドアデニンジヌクレオチド（ＮＡＤＨ）を励起するのに十分な少なくとも１つの波長を有する、光源と、組織からのＮＡＤＨ蛍光を検出するセンサであって、組織からのＮＡＤＨ蛍光を検出するために、少なくとも１つの波長を有する光を受信するように構成される、センサと、１つ又は複数の光ファイバを含むシースであって、１つ又は複数の光ファイバが、シースを通して延在して、光源から組織へ光を送達し、センサへＮＡＤＨ蛍光を含む光学情報を送達する、シースと、を備え、シースは、シースを通してカテーテルを受け取って、１つ又は複数の光ファイバのうちの少なくとも１つの光ファイバをカテーテルの遠位端に配設された電極に関連付けるように構成され、電極は、組織にアブレーションエネルギーを送達するように構成され、シースの遠位端には、独立に可動な又は操縦可能なアームがあり、アームは、組織を光学的に探索するため、組織と接触状態になるように光ファイバを位置決めするように構成される。

幾つかの実施形態において、本開示は、光学的組織探索のための方法を提供し、方法は、組織にアブレーションエネルギーを送達するように構成される１つ又は複数の電極に関連付けられた１つ又は複数の光ファイバを通して光が照射された組織からＮＡＤＨ蛍光を受信することと、アブレーションエネルギーは、組織と接触状態にある１つ又は複数の電極のうちの電極からのみ送達されるときに、１つ又は複数の電極のうちのどの電極が組織と接触状態にあるかを示すことと、組織のアブレーションの進行をモニターするためにＮＡＤＨ蛍光のデジタル表現を生成することと、を含む。

幾つかの実施形態において、照射された組織からのＮＡＤＨ蛍光の減少は、さらなるアブレーションについての必要性をユーザが判定することを可能にするために組織のアブレーションの進行を示す。幾つかの実施形態において、方法は、組織が焼灼されている間、検出されたＮＡＤＨ蛍光の減少を判定し、組織のアブレーション全体を通しての検出されたＮＡＤＨ蛍光の減少を示すためにデジタル表現を更新することをさらに含む。幾つかの実施形態において、アブレーションエネルギーは、パルスフィールドアブレーションエネルギーである。幾つかの実施形態において、アブレーションエネルギーは、電気穿孔エネルギー、高周波エネルギー、マイクロ波エネルギー、電気エネルギー、電磁エネルギー、冷凍エネルギー、レーザエネルギー、超音波エネルギー、音響エネルギー、化学的エネルギー、及び熱エネルギーからなる群から選択される。幾つかの実施形態において、組織は、約３００ｎｍと約４００ｎｍとの間の少なくとも１つの波長を有する光によって照射される。幾つかの実施形態において、ＮＡＤＨ蛍光は、約３７５ｎｍと約６５０ｎｍとの間の少なくとも１つの波長を有する、組織から反射した光を検出することによってモニターされる。幾つかの実施形態において、本方法のステップのうちの１つ又は複数は、本開示の１つ又は複数のシステムを使用して実施される。

現在開示されている実施形態は、同様の構造が幾つかの図全体を通して同様の符号によって参照される添付図面を参照してさらに説明される。示す図面は、必ずしも一定比例尺に従っておらず、代わりに一般的に、現在開示されている実施形態の原理を示すことに力点が置かれる。

本開示のアブレーション光学的組織探索及びモニタリングシステムの一実施形態を示す図である。本開示のアブレーション光学的組織探索及びモニタリングシステムに関連して使用するための光学的組織探索システムの一実施形態のダイヤグラムを示す図である。本開示のシステム及び方法に関連して使用するのに適する例示的なコンピュータシステムを示す図である。パルスフィールドアブレーション（ＰＦＡ：Pulsed Field Ablation）に対する細胞応答を示す図である。本開示のカテーテルの種々の実施形態のうちの１つの実施形態を示す図である。本開示のカテーテルの種々の実施形態のうちの１つの実施形態を示す図である。本開示のカテーテルの種々の実施形態のうちの１つの実施形態を示す図である。アブレーションカテーテルの例示的な実施形態を示す図である。アブレーションカテーテルであって、その遠位端に拡張可能部材を有する、アブレーションカテーテルの例示的な実施形態を示す図である。図５Ａの拡張可能部材の斜視図である。アブレーションカテーテルであって、その遠位端に拡張可能部材を有する、アブレーションカテーテルの例示的な実施形態を示す図である。図５Ａ及び５Ｃの拡張可能部材の遠位端図である。アブレーションカテーテルであって、その遠位端に拡張可能部材を有する、アブレーションカテーテルの例示的な実施形態を示す図である。アブレーションカテーテルであって、その遠位端にバルーンの形態の拡張可能部材を有する、アブレーションカテーテルの例示的な実施形態を示す図である。アブレーションカテーテルと共に使用されることができる光学コンポーネントを含むシースの例示的な実施形態を示す図である。アブレーションカテーテルと共に使用されることができる光学コンポーネントを含むシースの例示的な実施形態を示す図である。アブレーションカテーテルと共に使用されることができる光学コンポーネントを含むシースの例示的な実施形態を示す図である。アブレーションカテーテルと共に使用されることができる光学コンポーネントを含むシースの例示的な実施形態を示す図である。組織を探索し、モニターし、焼灼する方法のフローチャートである。組織と接触状態にある電極及び組織と接触状態にない電極を有するアブレーションカテーテル並びにそれらの対応する応答信号の例示的な実施形態を示す図である。アブレーションカテーテルの電極が組織と接触状態にないときの応答光強度の例示的なグラフである。ＰＦＡ前の光強度を示す図である。ＰＦＡ後の光強度を示す図である。ＰＦＡ後の光強度を示す図である。アブレーション中の経時的なＮＡＤＨ蛍光の例示的なグラフである。健康組織の光学マッピングを示す図である。健康組織の光学マッピングを示す図である。アブレーション焼灼巣の光学マッピングを示す図である。アブレーション焼灼巣の光学マッピングを示す図である。

上記で特定された図面は、現在開示されている実施形態を記載するが、議論において述べたように、他の実施形態も企図される。本開示は、制限ではなく表現によって例示的な実施形態を提示する。現在開示されている実施形態の原理の範囲及び趣旨内に入る多数の他の修正形態及び実施形態が当業者によって考案されることができる。

本開示は、焼灼巣評価のための方法及びシステムを提供する。幾つかの実施形態において、焼灼巣は、電気穿孔を通して焼灼巣をもたらす、アブレーションエネルギー、例えば、パルスフィールドアブレーション（ＰＦＡ）エネルギーを使用して形成される。幾つかの実施形態において、本開示のシステムは、標的組織にアブレーション治療（例えば、パルスフィールドアブレーション）を送達する治療機能及び焼灼巣にアクセスするためにカテーテルと組織との接触ポイントからシグネチャスペクトルを収集する診断機能という２つの機能を果たすように構成されるカテーテルを含む。幾つかの実施形態において、本開示のシステム及び方法は、還元型ニコチンアミドアデニンジヌクレオチド（ＮＡＤＨ）蛍光（ｆＮＡＤＨ）を使用して組織を撮像するために使用されてもよい。一般に、システムは、組織とカテーテルとの間で光を交換するための光学システムを有するカテーテルを含んでもよい。幾つかの実施形態において、本システムは、紫外線（ＵＶ：ultraviolet）励起によって誘起される組織のＮＡＤＨ蛍光又はその欠如の直接光学的組織探索を可能にする。組織から反射したＮＡＤＨ蛍光シグネチャは、組織に対するエネルギーの影響並びに組織とカテーテルシステムとの間の接触の品質を判定するために使用されることができる。

幾つかの実施形態において、カテーテルはその遠位端にＰＦＡを送達するアブレーション治療システムを含み、レーザ等の光源及び分光計を備える診断ユニットに結合される。幾つかの実施形態において、焼灼巣が別個のカテーテルを使用して形成されてもよい、又は、予め形成された焼灼巣が探索されてもよい。カテーテルは、１つ又は複数の光ファイバを含んでもよく、１つ又は複数の光ファイバは、光源及び分光計からカテーテルの遠位先端まで延在して、カテーテルと組織との間の接触ポイントへ照射光を供給し、シグネチャＮＡＤＨスペクトルを、接触ポイントから受信し、分光計へ送達する。シグネチャＮＡＤＨスペクトルは標的組織内の焼灼巣を評価するために使用されてもよい。幾つかの実施形態において、本開示の方法は、焼灼巣を有する組織を照射すること、組織のシグネチャスペクトルを受信すること、及び、組織からのシグネチャスペクトルに基づいて焼灼巣の定性的評価を実施することを含む。分析は、焼灼巣形成前、形成中、及び形成後にリアルタイムに行われることができる。本開示のシステム及び方法が、心臓組織及びＮＡＤＨスペクトルに関連して説明されるが、本開示のシステム及び方法が、他のタイプの組織及び他のタイプの蛍光に関連して使用されてもよいことが留意されるべきである。

［システム：診断ユニット］

図１Ａを参照すると、アブレーション治療を提供するシステム１００は、アブレーション治療システム１１０、光学的組織探索システム１２０、及びカテーテル１４０を含んでもよい。幾つかの実施形態において、システム１００は、１つ又は複数の灌流システム（ポンプ）１７０、超音波システム１９０、及びナビゲーションシステム２００のうちの１つ又は複数を含んでもよい。システムは、以下に説明するように、別個のディスプレイ又は光学的組織探索システム１２０の一部とすることができるディスプレイ１８０を含んでもよい。幾つかの実施形態において、システムは、アブレーション発生器、灌流システム１７０、灌流先端アブレーションカテーテル１４０、及び光学的組織探索システム１２０を含む。

幾つかの実施形態において、アブレーション治療システム１１０は、カテーテル１４０にアブレーションエネルギーを供給するように設計される。幾つかの実施形態において、アブレーション治療システム１１０は、電気穿孔を通して焼灼巣をもたらすパルスフィールドアブレーション（ＰＦＡ）エネルギーを含んでもよい。ＰＦＡエネルギーを送達するために種々のシステムが使用されることができる。図２に示すように、パルス電気フィールドは、細胞アポトーシスを誘発する細胞膜内での非可逆的孔形成をもたらすために調節されて適用されることができる。ＰＦＡエネルギーを使用すると、パルス継続時間は、十分に短いため、エネルギー送達中に、蒸気形成が最小で、蒸気グローブ拡張（vapor globe expansion）がなく、アーク放電（arcing）がない。ＰＦＡエネルギーの例示的なパラメータ範囲は、１～５Ｈｚの周波数範囲を用いて、マイクロ秒の或る波長に対して、５００～３０００Ｖ／ｃｍの送達電圧、１～１００の送達パルスとすることができる。ＰＦＡの効果はほぼ瞬時とすることができる。例えば、単一ＰＦＡ送達は、１心拍以内で達成され、典型的には、焼灼巣は、３～５のＰＦＡ送達によって生成されることができる。ＰＦＡに加えて又はそれに対する代替として、高周波（ＲＦ：Radio Frequency）エネルギー、マイクロ波エネルギー、電気エネルギー、電磁エネルギー、冷凍エネルギー、レーザエネルギー、超音波エネルギー、音響エネルギー、化学的エネルギー、熱エネルギー、電気穿孔エネルギー、又は任意の他のタイプのエネルギーを生成することができる１つ又は複数のエネルギー源が、組織を焼灼するために使用されることができる。

図１Ｂを参照すると、光学的組織探索システム１２０は、光源１２２、光測定機器１２４、及びコンピュータシステム１２６を含んでもよい。

幾つかの実施形態において、光源１２２は、健康な心筋細胞内で蛍光を誘起するために、標的蛍光体（幾つかの実施形態において、ＮＡＤＨ）吸収範囲内の出力波長を有してもよい。幾つかの実施形態において、光源１２２は、ＮＡＤＨ蛍光を励起するためＵＶ光を生成することができる固体レーザである。幾つかの実施形態において、波長は、約３５５ｎｍ又は３５５ｎｍ±３０ｎｍであってもよい。幾つかの実施形態において、光源１２２は、ＵＶレーザとすることができる。レーザ生成ＵＶ光は、照射のためにはるかに多くのパワーを提供してもよく、カテーテル１４０の幾つかの実施形態において使用されるように、ファイバベース照射システム内により効率的に結合されてもよい。幾つかの実施形態において、本システムは、１５０ｍＷまでの調整可能パワーを有するレーザを使用することができる。

光源１２２に関する波長範囲は、関心の解剖学的構造によって境界付けられてもよく、わずかに短い波長のみで吸収ピークを示すコラーゲンの過剰蛍光を励起することなく最大ＮＡＤＨ蛍光をもたらす波長を、ユーザは、特に選択する。幾つかの実施形態において、光源１２２は、２５０ｎｍと４５０ｎｍとの間の少なくとも１つの波長を有する光を生成する。幾つかの実施形態において、光源１２２は、３００ｎｍと４００ｎｍとの間の少なくとも１つの波長を有する光を生成する。幾つかの実施形態において、光源１２２は、３３０ｎｍと３８５ｎｍとの間の少なくとも１つの波長を有する光を生成する。幾つかの実施形態において、光源１２２は、３３０ｎｍと３５５ｎｍとの間の少なくとも１つの波長を有する光を生成する。幾つかの実施形態において、狭帯域３５５ｎｍ光源が使用されてもよい。光源１２２の出力パワーは、回復可能な組織蛍光シグネチャを生成するのに十分に高いが、細胞損傷を誘起するほど高くなくてもよい。以下で説明するように、光源１２２は、光をカテーテル１４０に送達するため、および光をカテーテル１４０から送達するために光ファイバに結合されてもよい。

幾つかの実施形態において、本開示のシステムは、光測定機器１２４として分光計を利用してもよいが、他の光測定機器が使用されてもよい。光ファイバは、収集された光を、光測定機器１２４に送達することができる。コンピュータシステム１２６は、光測定機器１２４から情報を採取し、それを医師に表示する。

図１Ａを再び参照すると、幾つかの実施形態において、本開示のシステム１００は、超音波システム１９０をさらに含んでもよい。カテーテル１４０は、超音波システム１９０と通信状態にある超音波トランスデューサを装備してもよい。幾つかの実施形態において、超音波は、組織の深さを示すことができ、代謝活性又は損傷の深さと組み合わせて、焼灼巣が実際に貫壁性であるか否かを判定するために使用されてもよい。幾つかの実施形態において、超音波トランスデューサは、カテーテル１４０の先端部、任意選択で遠位電極の先端に位置付けられてもよい。超音波トランスデューサは、カテーテル先端の下の又はそれに隣接する組織厚を評価するように構成されてもよい。幾つかの実施形態において、カテーテル１４０は、カテーテル先端が心筋に対して比較的垂直であるか又は心筋と比較的平行である状況をカバーする深さ情報を提供するように適合された複数のトランスデューサを備えてもよい。

図１Ａを参照すると、上記で述べたように、システム１００は、灌流システム１７０を含んでもよい。幾つかの実施形態において、灌流システム１７０は、カテーテル１４０内に生理食塩水を圧送して、アブレーション治療中に先端電極を冷却する。これは、血栓塞栓（血流を通して移動することができるか又は移動することができない凝血塊）、スチームポップ、及び炭化形成を防止するのに役立つことができる。幾つかの実施形態において、灌流流体は、図３Ａに示すように、１つ又は複数の開口部（opening）１５４の連続的フラッシングのために、カテーテル１４０の外側の圧力に対して正の圧力に維持される。

図１Ａを参照すると、システム１００は、カテーテル１４０を位置特定しナビゲートするためのナビゲーションシステム２００を含んでもよい。幾つかの実施形態において、カテーテル１４０は、ナビゲーションシステム２００と通信状態にある１つ又は複数の電磁位置特定センサを含んでもよい。幾つかの実施形態において、電磁位置特定センサは、ナビゲーションシステム２００内でカテーテルの先端を位置特定するために使用されてもよい。センサは、発生源位置からの電磁エネルギーを受信し、三角測量又は他の手段によって位置を計算する。幾つかの実施形態において、カテーテル１４０は、ナビゲーションシステムのディスプレイ上にカテーテル本体１４２の位置及びカテーテル本体の湾曲を表現するように適合される２つ以上のトランスデューサを備える。幾つかの実施形態において、ナビゲーションシステム２００は１つ又は複数の磁石を備えても良く、電磁センサ上の磁石によって生成された磁場の変化は、カテーテルの先端を所望の方向に偏向させることができる。手動ナビゲーションを含む他のナビゲーションシステムが使用されてもよい。

コンピュータシステム１２６は、例えば、光源１２２に対する制御、光測定機器１２４に対する制御、アプリケーション特有のソフトウェアの実行、超音波システム、ナビゲーションシステム、及び灌流システムに対する制御、並びに同様の操作を含む、システム１００の種々のモジュールを制御するようにプログラムされることができる。図１Ｃは、本開示の方法及びシステムに関連して使用されてもよい典型的な処理アーキテクチャ３０８のダイヤグラムを、例として示す。コンピュータ処理デバイス３４０は、グラフィカル出力のためにディスプレイ３４０ＡＡに結合されることができる。プロセッサ３４２は、ソフトウェアを実行することが可能なコンピュータプロセッサ３４２とすることができる。典型的な例は、コンピュータプロセッサ（インテル（Ｉｎｔｅｌ）（登録商標）プロセッサ又はＡＭＤ（登録商標）プロセッサ等）、ＡＳＩＣ、マイクロプロセッサ、及び同様なものとすることができる。プロセッサ３４２は、プロセッサ３４２が実行している間に命令及びデータを記憶するための、典型的には揮発性ＲＡＭメモリとすることができるメモリ３４６に結合されることができる。プロセッサ３４２は、ハードドライブ、ＦＬＡＳＨ（登録商標）ドライブ、テープドライブ、ＤＶＤＲＯＭ、又は同様のデバイス等の不揮発性記憶媒体とすることができる記憶デバイス３４８に結合されてもよい。図示しないが、コンピュータ処理デバイス３４０は、種々の形態の入力及び出力を典型的には含む。Ｉ／Ｏは、ネットワークアダプタ、ＵＳＢアダプタ、ブルートゥース（Bluetooth）（登録商標）無線、マウス、キーボード、タッチパッド、ディスプレイ、タッチスクリーン、ＬＥＤ、振動デバイス、スピーカ、マイクロフォン、センサ、又はコンピュータ処理デバイス３４０と共に使用するための任意の他の入力又は出力デバイスを含んでもよい。プロセッサ３４２は、限定はしないが、プロセッサ３４２等のプロセッサにコンピュータ可読命令を提供することが可能な、電子デバイス、光デバイス、磁気デバイス、或いは他の記憶又は送信デバイスを含む、他のタイプのコンピュータ可読媒体に結合されてもよい。有線式及び無線式の両方の、ルータ、プライベート又はパブリックネットワーク、或るいは他の送信デバイス又はチャネルを含む、種々の他の形態のコンピュータ可読媒体は、コンピュータに命令を送信又は搬送することができる。命令は、例えば、Ｃ、Ｃ＋＋、Ｃ＃、ＶｉｓｕａｌＢａｓｉｃ、Ｊａｖａ、Ｐｙｔｈｏｎ、Ｐｅｒｌ、及びＪａｖａＳｃｒｉｐｔを含む任意のコンピュータプログラミング言語からのコードを含んでもよい。

プログラム３４９は、命令及び／又はデータを含むコンピュータプログラム又はコンピュータ可読コードとすることができ、記憶デバイス３４８に記憶されることができる。命令は、例えば、Ｃ、Ｃ＋＋、Ｃ＃、ＶｉｓｕａｌＢａｓｉｃ、Ｊａｖａ、Ｐｙｔｈｏｎ、Ｐｅｒｌ、及びＪａｖａＳｃｒｉｐｔを含む任意のコンピュータプログラミング言語からのコードを含んでもよい。典型的なシナリオにおいて、プロセッサ３４２は、実行するためにプログラム３４９の命令及び／又はデータのうちの一部又は全部をメモリ３４６にロードしてもよい。プログラム３４９は、限定はしないが、ウェブブラウザ、ブラウザアプリケーション、アドレス登録プロセス、アプリケーション、又は任意の他のコンピュータアプリケーション又はプロセスを含む、任意のコンピュータプログラム又はプロセスとすることができる。プログラム３４９は、メモリ３４６にロードされ、プロセッサ３４２によって実行されると、プロセッサ３４２に種々の操作を実施させる種々の命令及びサブルーチンを含んでもよく、種々の命令及びサブルーチンの一部又は全ては、本明細書で開示される医療ケアを管理する方法を実施してもよい。プログラム３４９は、限定はしないが、ハードドライブ、リムーバブルドライブ、ＣＤ、ＤＶＤ、又は任意の他のタイプのコンピュータ可読媒体等の、任意のタイプの非一時的コンピュータ可読媒体に記憶されてもよい。

幾つかの実施形態において、コンピュータシステムは、本開示の方法のステップを実行し、本開示の方法を達成するための必要な操作を実行するために本システムの種々の部分を制御するようにプログラムされてもよい。幾つかの実施形態において、プロセッサは、組織が半径方向、軸方向、又は両方向に照射されるカテーテルの遠位先端を通してＵＶ光で照射される組織からＮＡＤＨ蛍光を受信し、照射された組織のＮＡＤＨ蛍光のレベルから、カテーテルの遠位先端が組織と接触状態にあるときを判定し、遠位先端が組織と接触状態にあると判定すると、組織内に焼灼巣を形成するために組織へのアブレーションエネルギーの送達を（自動的に又はユーザを促すことによって）引き起こすようにプログラムされていてもよい。

プロセッサは、遠位先端が組織と接触したままであることを確認するために、アブレーションエネルギーの送達中にＮＡＤＨ蛍光のレベルをモニターするためにさらにプログラムされてもよい。幾つかの実施形態において、アブレーションエネルギーの送達中におけるＮＡＤＨ蛍光のレベルのモニタリングは、遠位先端と組織との間の接触の安定性を判定するために利用されてもよい。幾つかの実施形態において、組織のアブレーションは、遠位先端と組織との間の接触が安定していないときに停止されてもよい。幾つかの実施形態において、プロセッサは、組織のタイプを識別するために、照射された組織から反射した蛍光光のスペクトルを収集するようにさらにプログラムされてもよい。

幾つかの実施形態において、約４５０ｎｍと４７０ｎｍとの間の波長を有する反射光のレベルがモニターされる。幾つかの実施形態において、モニターされるスペクトルは、約４２０ｎｍと５００ｎｍとの間であってもよい。幾つかの実施形態において、モニターされるスペクトルは、約４００ｎｍと５２０ｎｍとの間であってもよい。付加的に又は代替的に、非制限的な例として、３７５ｎｍと６５０ｎｍとの間等の、より広いスペクトルがモニターされてもよい。幾つかの実施形態において、ＮＡＤＨ蛍光スペクトル及びより広いスペクトルはユーザに同時に表示されてもよい。幾つかの実施形態において、焼灼巣はアブレーションＰＦＡエネルギーによって生成されてもよい。幾つかの実施形態において、治療は、ＮＡＤＨ蛍光ピークが検出されると（プロセッサによって又はプロセッサがユーザを促すことによって）開始されてもよいため、ＮＡＤＨ蛍光ピークは、治療全体を通してモニターされることができる。上記で述べたように、プロセッサは、超音波モニタリング等の他の診断方法と組み合わせてこれらの方法を実行してもよい。

［システム：カテーテル］

幾つかの実施形態において、カテーテル１４０は、上記で論じたように、照射及び分光のために光ファイバ用の収容部を有する標準的なアブレーションカテーテルに基づいてもよい。幾つかの実施形態において、カテーテル１４０は、標準的な経中隔プロシージャ及び一般的なアクセスツールによって、シースを通して心内膜空間まで送達されることができる、操縦可能な灌流式アブレーションカテーテル（例えば、ＰＦＡアブレーションカテーテル）である。カテーテルのハンドル１４７上に、治療のための標準的なアブレーション発生器及び灌流システム１７０用の接続部が存在してもよい。カテーテルハンドル１４７は、光ファイバも通し、光ファイバは、その後、組織測定値を取得するために診断ユニットに接続される。

図１Ａを再び参照すると、カテーテル１４０は、近位端１４４及び遠位端１４６を有するカテーテル本体１４２を含む。カテーテル本体１４２は、生体適合性材料から作られてもよく、アブレーション部位へのカテーテル１４０を操縦及び前進を可能にするのに十分に可撓性であってもよい。幾つかの実施形態において、カテーテル本体１４２は、可変剛性のゾーンを有してもよい。例えば、カテーテル１４０の剛性は近位端１４４から遠位端１４６に向かって増加してもよい。幾つかの実施形態において、カテーテル本体１４２の剛性は、所望の心臓位置へのカテーテル１４０の送達を可能にするために選択される。幾つかの実施形態において、カテーテル１４０は、シースを通し心内膜空間に、また、心臓の左側の場合には、一般的なアクセスツールを使用する標準的な経中隔プロシージャによって、送達されることができる操縦可能なアブレーションカテーテルとすることができる。カテーテル１４０は、近位端１４４にハンドル１４７を含んでもよい。ハンドル１４７は、カテーテル１４０を通る機器又は材料の通過を可能にするために、カテーテルの１つ又は複数の管腔と連通状態にあってもよい。幾つかの実施形態において、ハンドル１４７は、治療のための標準的なＰＦＡ発生器及び灌流システム１７０用の接続部を含んでもよい。幾つかの実施形態において、カテーテル１４０は、照射及び分光のために光ファイバを収容するように構成される１つ又は複数のアダプタを含んでもよい。

幾つかの実施形態において、遠位先端１４８は、電気記録図検知のため等の診断のための、アブレーションエネルギーを放出するため等の治療のための、又は両方のための電極として働くように構成されてもよい。幾つかの実施形態において、アブレーションエネルギーが使用される場合、カテーテル１４０の遠位先端１４８は、アブレーション電極又はアブレーション要素として役立つことができる。幾つかの実施形態において、カテーテルの遠位端は、１つ又は複数の電極を含むことができる。幾つかの実施形態において、カテーテルの遠位端は、複数の電極を備える電極のアレイを含むことができる。幾つかの実施形態において、光ファイバは、組織接触を判定し、アブレーション中にどの電極を使用するかを決定するために、電極に関連付けられることができる。幾つかの実施形態において、電極のアレイは、図３Ａ～３Ｃに示すように、カテーテルの遠位端に配設されることができる。幾つかの実施形態において、電極のアレイは拡張可能部材上に配設されることができる。拡張可能部材は、図５Ａ～５Ｂに示すワイヤバスケット配置構成、図５Ｃに示すフラワー配置構成、及び図７に示すバルーンを含む種々の形態とすることができる。複数の電極は、拡張可能部材上に配設され、それにより、複数の電極のうちの少なくとも１つの電極は組織と接触状態になることができる。システムは、複数の電極のうちのどの電極が組織接触を有するかを決定する能力を有し、それにより、適切な組織接触を有する電極のみが、組織アブレーションのために使用される。システムは、各電極がそれと接触状態にある組織のタイプを決定する能力を有し、それにより、正しいタイプの組織に対する適切な組織接触を有する電極のみが、組織アブレーションのために使用される。例えば、電極がコラーゲンと接触状態にあると判定される場合、その電極はアブレーションのために使用されないことになる。

幾つかの実施形態において、遠位先端１４８上の電極は、例えばワイヤによってアブレーションエネルギー源（カテーテルの外部の）に、又は、アブレーションエネルギーを移送することができる別の管腔であって、カテーテルの管腔を通過することができる、別の管腔に結合される。遠位先端１４８は、カテーテルの１つ又は複数の管腔と連通状態にあるポートを含んでもよい。遠位先端１４８は任意の生体適合性材料で作られることができる。幾つかの実施形態において、遠位先端１４８が電極として働くように構成される場合、遠位先端１４８は、限定はないが、プラチナ、プラチナ－イリジウム、ステンレス鋼、チタン、又は同様の材料を含む金属で作られることができる。

図１Ａ及び３Ａ～３Ｃを参照すると、撮像バンドル１５０を含む例示的なアブレーションカテーテルの遠位端が示され、撮像バンドル１５０は、図１Ａの光学的組織探索システム１２０からカテーテル本体１４２を通って通過することができ、それにより、各光ファイバ１５２は、アレイ内の各電極まで通過することができる。幾つかの実施形態において、各光ファイバは各電極に整列する。幾つかの実施形態において、代替的に又は付加的に、撮像バンドルは、電極に関連付けられない光ファイバを含む。遠位端１４６にて、カテーテル１４０は、側壁１５６及び前壁１５８を有する遠位先端１４８を含んでもよい。前壁１５８は、例えば、平坦形、円錐形、又はドーム形であってもよい。遠位端１４６は、カテーテルと組織との間での光エネルギーの交換のために、電極１５５のアレイに関連付けられた１つ又は複数の光学ポート１５４を備えてもよい。幾つかの実施形態において、光学ポートは、電極を通して作られてもよく、それにより、光は、光ファイバから電極を通して通過することができる。幾つかの実施形態において、複数の開口部１５４があっても、アブレーション電極としての遠位先端１４８の機能は損なわれない。開口部は、側壁１５６、前壁１５８、又は両方に配設されることができる。開口部１５４は、灌流ポートとして使用されてもよい。光は、ファイバ１５０によって遠位先端１４８に送達され、遠位先端１４８に接近して組織を照射する。この照射光は、反射されるか、又は組織を蛍光発光させる。組織によって反射された及び組織から蛍光発光された光は、遠位先端１４８内の光ファイバ１５０によって収集され、光学的組織探索システム１２０に戻されてもよい。幾つかの実施形態において、同じ光ファイバ又はファイバ１５０のバンドルは、遠位先端の照射チャンバに光を誘導してカテーテル１４０の外側の組織を照射すると共に、組織から光を収集するために使用されてもよい。

図４は、遠位端１４６を有するアブレーションカテーテル１４０の一実施形態を示し、複数の電極を備える電極１５５のアレイは遠位端１４６に配設されている。

図５Ａ及び５Ｂに示すように、電極１５５のアレイは、拡張位置に移動するように構成される複数の延長部又はスプライン４０２を有する拡張可能部材４００上に位置決めされることができる。図５Ａは、２つの例示的な延長部４０２を示すが、拡張可能部材４００が任意の数の延長部４０２を含むことができることが理解されるであろう。図５Ａに示す拡張位置において、各延長部４０２は、弧を描き、それにより、各延長部の近位端４０４が互いに結合され、各延長部の遠位端４０６が互いに結合される。拡張可能部材４００の各延長部４０２は、各延長部４０２上に形成された少なくとも１つの電極１５５を含むことができ、各電極１５５は、ファイババンドル１５０内の少なくとも１つの光ファイバ１５２に結合される。幾つかの実施形態において、各電極１５５は単一光ファイバ１５２に結合される。

図５Ａに示す拡張可能部材と同様に、図５Ｃに示す拡張可能部材４１０は、複数の延長部又はスプライン４１２を含み、それにより、図５Ｃに示す拡張位置にあるとき、拡張可能部材４１０の近位端４１４と遠位端４１６との間の距離は、図５Ａに示す距離より短く、垂直軸に沿う長楕円形を拡張可能部材４１０に与える。拡張可能部材の近位端と遠位端との間の距離が変化するにつれて、組織に対するカテーテルの遠位端の位置が変化する。例えば、図５Ｃに示すように、カテーテル１４０の遠位端１４６は、電極１５５がカテーテル１４０の遠位端１４６に向いているため、電極１５５が組織と接触することを依然として可能にしながら、肺静脈の外側に位置決めされることができる。

図５Ｄは、図５Ａ～５Ｃに示すカテーテル１４０及び拡張可能部材４００、４１０の遠位端図を示す。拡張可能部材の形状は、組織と接触する複数の電極を最大にするために変更されることができる。例えば、拡張可能部材が圧縮されればされるほど（すなわち、拡張可能部材が垂直方向に長楕円形になればなるほど）、より多くの電極が組織に向くことになる。これは、より多くの電極が組織と接触し、カテーテルの遠位端が組織に隣接して位置決めされることを可能にすることができる。例えば、カテーテルが肺静脈に隣接して位置決めされる場合、カテーテルは、静脈に向く十分な電極を所望の組織に依然として接触させながら、心房側で肺静脈の外部に位置決めされることができる。

図６は、近位端４２４で互いに結合した複数の延長部又はアーム４２２を有する拡張可能部材４２０の一実施形態を示す。複数のアーム４２２のそれぞれのアームの遠位端４２６は、カテーテル本体１４２から外方に延在し、それにより、アーム４２２上に配設された複数の電極１５５は組織と接触する。アームの数並びにアームのサイズ及び形状が、焼灼される組織の位置を含む、種々の因子に応じて変動する可能性があることが理解されるであろう。

図７は、拡張可能部材４３０であって、その上に配設された複数の電極１５５を有するバルーンの形態の、拡張可能部材４３０の一実施形態を示し、各電極は光ファイバに関連付けられている。バルーンの形状は、組織と接触する複数の電極１５５を最大にするために変更されることができる。

図３Ａ～３Ｃを参照すると、幾つかの実施形態において、カテーテルは、光学的組織探索管腔１６１を有してもよく、光学的組織探索管腔１６１を通して、光ファイバ１５０は、カテーテル本体１４２を通して前進させられてもよい。光ファイバ１５０は、組織を照射し、反射光を、開口部１５４を通して受信するために、光学的組織探索管腔１６１を通して前進させられてもよい。必要に応じて、光ファイバ１５０は、開口部１５４を通して前進させられてもよい。

光学的組織探索管腔１６１に加えて、カテーテル１４０は、灌流システム１７０から遠位先端１４８の開口部１５４（灌流ポート）へ灌流流体を流すための灌流管腔１６３、及び、例えば、ＰＦＡアブレーションエネルギー用のアブレーション管腔１６４を通してワイヤを通過させることによって等で、アブレーション治療システム１１０から遠位先端１４８へアブレーションエネルギーを流すためのアブレーション管腔１６４をさらに含んでもよい。カテーテルの管腔が複数の目的で使用されてもよく、２つ以上の管腔が同じ目的のために使用されてもよいことが留意されるべきである。さらに、図３Ａ及び図３Ｂは管腔が同心であることを示すが、管腔の他の構成が使用されてもよい。

図３Ａ及び図３Ｂに示すように、幾つかの実施形態において、カテーテルの中心管腔は、光学的組織探索管腔１６１として利用されてもよい。幾つかの実施形態において、図３Ｃに示すように、光学的組織探索管腔１６１は、カテーテル１４０の中心アクセスに対してオフセットされてもよい。

幾つかの実施形態において、光は、カテーテルに対して軸方向に及び半径方向に誘導されてもよい。こうして、カテーテルと組織との間での光エネルギー交換は、カテーテルの長手方向中心軸に対して、軸方向に、半径方向に、又は両方の方向に複数の経路にわたって起こってもよい。これは、カテーテル先端が標的部位に垂直であることを、解剖学的構造が可能にしないことになるときに有用である。それは、照射の増加が必要とされるときにも有用である場合がある。幾つかの実施形態において、さらなる光ファイバ１５０が、使用されてもよく、また、照射光及び反射光がカテーテルの長さに沿って出て入ることを可能にするために、カテーテル１４０に対して半径方向に偏向されてもよい。

図８Ａ～８Ｄを参照すると、幾つかの実施形態において、アブレーションカテーテルは、光ファイバを含むシースと組み合わせて使用されることができ、それにより、シースに関連付けられる光ファイバは、ファイバが電極に関連付けられることを可能にするためにカテーテルに対して位置決めされることができる。幾つかの実施形態において、シースは、偏向可能及び／又は操縦可能シースの形態とすることができ、それにより、シースの遠位端及びシースに関連付けられた光学コンポーネントは、アブレーションのために組織に対して所望の位置に位置決めされることができる。

シースとアブレーションカテーテルの組合せは、種々の構成を有することができる。図８Ａに示す一実施形態において、シース５００は、シース５００の遠位端５０４から延在する複数の延長部又はアーム５０２を含む。各アームは、各アームを通して延在する少なくとも１つの光ファイバを有する。シースは、シースを通して延在する内側管腔を含み、それにより、アブレーションカテーテルは、シースを通過し、遠位端を通り過ぎて延在する。アブレーションカテーテルは、種々の構成を有することができるが、図８Ａにおいて、アブレーションカテーテル１４０は、複数の延長部又はアームを含み、各延長部は、各延長部上に配設された少なくとも１つの電極を有する。シースの遠位端の延長部及びアブレーションカテーテルの延長部は、互いに対して位置決めされて、アブレーションカテーテルの電極を介してアブレーションエネルギーを送達しながら、シースのアーム内の光ファイバによる組織探索を可能にする。幾つかの実施形態において、シースの延長部は、電極及び組織に対する延長部の適切な位置決めを可能にするために偏向可能及び／又は操縦可能とすることができる。幾つかの実施形態において、シースの延長部は、アブレーションエネルギー送達前、送達中、及び送達後に組織を光学的に探索するために、２つ以上の光ファイバを有してもよい。幾つかの実施形態において、ファイバを収容するシースの延長部は、組織をさらに評価するために、ファイバ上に電極を有することもできる。図８Ａに示すシースが、本明細書で説明する任意のアブレーションカテーテルと共に使用されることができることが理解されるであろう。

図８Ｂは、シース５１０を示し、シース５１０は、シース５１０の遠位端から延在する偏向可能及び／又は操縦可能な延長部又はアーム５１２を有する。シース５１０の遠位端は、アーム又は延長部５１２を形成するために分割されることができる。図８Ｂに示すシースは本明細書で説明する任意のアブレーションカテーテルと共に使用されることができるが、アブレーションカテーテル１４０は、その長さに沿って離間する複数の電極１５５を有するシース５１０の内側管腔を通過することができる。幾つかの実施形態において、シースのアームは、アブレーションエネルギー送達前、送達中、及び送達後に組織を光学的に探索するために、２つ以上の光ファイバを有してもよい。幾つかの実施形態において、ファイバを収容するシースのアームは、組織をさらに評価するために、ファイバ上に電極を有することもできる。

図８Ｃは、シース５２０の遠位端から延在する複数の光ファイバ１５２を有する偏向可能及び／又は操縦可能シース５２０の一実施形態を示す。図８Ｃに示すシースは本明細書で説明する任意のアブレーションカテーテルと共に使用されることができるが、アブレーションカテーテル１４０は、その長さに沿って配設された少なくとも１つの電極１５５を有するシース５２０の内側管腔を通過することができる。シースから延在する光ファイバ１５２は、組織及びアブレーションカテーテルの電極１５５に接触することができるような長さを有する。

図８Ｄは、シースの遠位端から延在する複数の光ファイバを有する偏向可能及び／又は操縦可能シース５３０の一実施形態を示す。シースを通して延在するアブレーションカテーテルは、本明細書で説明するアブレーションカテーテルのうちの任意のものを含む種々の構成を有することができるが、図８Ｄにおいて、アブレーションカテーテルは複数の延長部又はアーム５３２を含み、各延長部は、その上に配設された少なくとも１つの電極１５５を有する。シースの遠位端の延長部及びアブレーションカテーテルの延長部は、互いに対して位置決めされて、シースの延長部内の光ファイバとアブレーションカテーテルの延長部上の電極との間の接続を可能にする。

図８Ｄは、カテーテルの遠位端に複数の電極を有する偏向可能及び／又は操縦可能カテーテルの一実施形態も示す。アブレーションカテーテルの種々の可撓性アブレーションアームは種々の構成を有することができるが、図８Ｄにおいて、アブレーションカテーテルは、複数の延長部又はアームを含み、各延長部は、その上に配設された少なくとも１つの電極を有する。アブレーションカテーテルの延長部は、互いに対して位置決めされて、本開示のシースと組み合わされると、各光学ポートを介して組織に光を送達するファイバを使用して組織を光学的に探索しながら、組織に対してエネルギーを環状的パターンで最適に送達する。

図９は、本開示のシステムを使用する方法のフローチャートである。

図９を参照すると、本開示のシステム１００の動作が示される。最初に、カテーテル１４０は、肺静脈／左心房接合部又は心臓の別のエリア等の、焼灼される心臓組織のエリアに挿入される（ステップ６００）。例えば、図５Ａ及び５Ｃに示すように、幾つかの実施形態において、カテーテル１４０は、肺静脈を通して前進させられ、心臓組織に押し付けられてもよい。血液は、例えば灌流によって視野から除去されてもよい。

次に、ステップ６０２にて、電極と組織との間の接触が確認されることができる。幾つかの実施形態において、ファイバが電極に関連付けられる場合、組織は、ファイバを通して取り除かれることができ、反射光は、個々の電極と組織との間の接触を確認するために探索される。例えば、図１０及び図１１に示すように、心臓組織と接触状態にない電極について検出されるＮＡＤＨ蛍光は存在しないことになる。

ステップ６０４にて、組織と接触状態にある電極は、組織を焼灼するために作動されることができる。組織は、ステップ６０８にて、ファイバを使用して照射され、組織から反射した光は、ステップ６０８にて、アブレーションの進行をリアルタイムに示すために検出され分析される。図１２～１４に示すように、ＮＡＤＨ蛍光の強度は、アブレーションが進行するにつれて減少する。この効果は、細胞が焼灼されるときの、代謝活性の低下、したがって、ＮＡＤＨ蛍光の減少による。この降下は、アブレーションを停止するときの指示として使用されてもよい。例えば、図１５を参照すると、ユーザは、ステップ６１０で示すように、アブレーションの進行をモニターするときにユーザを補助するために、ＮＡＤＨ蛍光の変化を示すＮＡＤＨ蛍光のグラフ又は別のグラフィカル表現を提示されてもよい。このステップにて、ユーザは、アブレーションを継続するか、停止するかを判定することも可能にされる。幾つかの実施形態において、アブレーションは、ＮＡＤＨ蛍光のマグニチュードの所望の変化が達成されるまで継続することができ、その時点で、アブレーションは、手動で又はシステムによって自律的に停止されてもよい。例えば、幾つかの実施形態において、アブレーションは、ＮＡＤＨ信号が８０％以上だけ低下すると停止されてもよい。アブレーションが停止されると、本実施形態のシステムは、図１６Ａ～１６Ｄに示すように、損傷細胞（例えば、アブレーションによる等）のエリア又は焼灼されることができる健康な心筋のエリアを識別するため、ステップ６１２にて組織をマッピングするために使用されることができる。システムは、所与の位置の組織に対するエネルギー送達の程度を文書化するために、そのようなアブレーション前信号及びアブレーション後信号並びに光学情報を記憶することができる。幾つかの実施形態において、記憶された信号からのリアルタイムの又はアブレーション後のそのようなデータは、恒久的焼灼巣の生成の確率を評価又は予測するアルゴリズムによって分析されることができる。

幾つかの実施形態において、スペクトルシグネチャは、組織組成を決定するために収集され分析されてもよい。例えば、コラーゲン組織のスペクトルパターンは健康な心筋に関して見られるスペクトルパターンと異なる。この場合、３５５ｎｍＵＶ光源で照射されると、スペクトルのピークは、コラーゲン組織にわたって撮像されるときに左に（約４７０ｎｍから約４４５ｎｍに）、コラーゲン蛍光の効果の増加によってより短い波長にシフトする。これは、処置されているエリアをほぼ心筋であるとして又はコラーゲンによって覆われているとして識別するためにユーザによって使用されてもよく、そのエリアは、焼灼することがより難しい。特に、コラーゲン蛍光のデジタル表現は、組織の線維性負担の組織における線維形成を示す。アブレーション治療中の医師にとって、反射スペクトルの情報コンテンツに関連する潜在的な利益が存在する。カテーテル、又は特に、カテーテルの遠位先端のアブレーション電極から組織内に光を結合させる技法は、カテーテル又は電極が組織と有する接触の品質を決定し評価するために使用されることができる。焼灼される組織のタイプ、或いは、アブレーションエネルギー配備に先立って焼灼される組織内のコラーゲンの存在又は非存在そしておそらくは程度に関するより多くの情報を知ることは、その焼灼巣の最適生成のために医師によって使用されるアブレーション方策及び技法に影響を及ぼす場合もある。例えば、コラーゲンの存在下で、医師は、１つのアブレーションエネルギー源を別のアブレーションエネルギー源に対して選択することができ、パワー又は継続時間又は温度制限は、焼灼される組織のコラーゲンの性質を考慮してより深い焼灼巣を達成するために、より高くなるように調整されてもよい。コラーゲン組織は、筋肉組織と異なる線維性負担を有し、したがって、異なるアブレーション方策を必要とする可能性がある。

以下の例は、本開示のアッセイ（assay）、スクリーニング、及び治療法をどのように作り使用するかの完全な開示及び説明を当業者に提供するために述べられ、本発明者等が自分達の発明と見なすものの範囲を制限することを意図されない。

［例］

一連の３匹の麻酔をかけた豚が、右心房においてＰＦＡアブレーションを受けた。８電極円形カテーテルが、肺静脈隔離術（pulmonary vein isolation）をＡＦアブレーション治療の一部としてシミュレートするために、上大静脈の近くの右心房の高い位置に留置された。光学カテーテルが、シミュレーション電極対間で円形カテーテルに隣接して留置された。アデノシンのボーラスが、Ｔ波に対する刺激を回避する心静止窓（window of asystole）を生成するために投与された。バイポーラＰＦＡが、薬物注入直後に送達され、カテーテルからの光学シグネチャが、リアルタイムに記録され表示された。電気記録図が記録され、焼灼巣のマッピングが、ＰＦＡ送達後の以下の時間間隔、すなわち０分、１５秒、３０秒、１分（６０秒）、１５分、１時間、及び３時間で光学カテーテルによって実施された。剖検（necropsy）及び組織診断（histology）が治療に続いた。

この例の場合、別個のＰＦＡカテーテル及び光学的組織探索カテーテルが使用された。光学的組織探索の場合、以下のパラメータすなわち、励起波長３５５ｎｍ、コラーゲン応答３７５～４００ｎｍ、心筋応答４５０～４７５ｎｍ、及び４６５ｎｍにおけるピーク追跡対時間が使用された。

図１２～１４は、ＰＦＡ前及びＰＦＡ後の光強度を示す。図１０は、ＰＦＡに対する光強度応答を示す。

光信号は、ＰＦＡパルス列中に強度がとても高い。光信号は、即座のかなりの減少及びマッピング間隔にわたるゆっくりであるが着実な減衰を示した。電気記録図低下はＰＦＡ適用を伴い、マッピング間隔にわたる著しい低下も示した。光信号振幅は、予想通り、焼灼されていない健康な心筋と比較して、焼灼巣上にあるときに著しく低かった。

これらの結果は、光学的マッピングが、これらのエネルギーレベルでのＰＦＡ中に即座の組織変化を検出し、したがって、ＰＦＡエネルギー印加中及び印加後の焼灼巣形成を評価する実行可能な方法とすることができることを示す。光信号は、細胞損傷が、これらのエネルギーレベルで即座に起こり、ＲＦエネルギーによって作られた焼灼巣と比較してＰＦＡエネルギーで作られた焼灼巣においてゆっくり進行し続けることを示す。調査結果は、光学的マッピングが、ＰＦＡエネルギーによってリアルタイムに作られた短期の焼灼巣を識別することができ、光学的マッピングがＰＦＡギャップ検出器として使用されることができることを示唆することも提案する。調査結果は、光学的組織探索又はマッピングがＰＦＡ焼灼巣の恒久性又は非恒久性を予測するために使用されることができることも提案する。

［他の実施形態］

上記説明から、種々の使用及び条件に対して採用するために、本開示の実施形態に対して変形及び修正が行われてもよいことが明らかになるであろう。そのような実施形態は、同様に添付特許請求項の範囲内にある。

本明細書の変数の任意の規定における要素の列挙の記載は、その変数の、列挙された要素の任意の単一要素又は組合せ（または下位の組合せ）としての規定を含む。本明細書の一実施形態の記載は、その実施形態を、任意の単一の実施形態として又は任意の他の実施形態又はその一部分との組合せとして含む。

本明細書で述べた全ての特許及び出版物は、それぞれの独立した特許及び出版物が、参照によって組み込まれることを具体的にかつ個々に指示されたかのような場合と同じ程度に、参照によって本明細書に組み込まれる。

Claims

光学的組織探索のためのシステムであって、
複数の電極を有するカテーテルであって、前記複数の電極が、前記カテーテルの遠位端においてアレイで配設され、アブレーションエネルギーを組織に送達するように構成される、前記カテーテルと、
光源から前記組織へ光を送達し、前記組織からセンサへ還元型ニコチンアミドアデニンジヌクレオチド（ＮＡＤＨ）蛍光を含む光学情報を送達するための、前記カテーテルを通して延在する１つ又は複数の光ファイバと、を備え、
前記複数の電極における各電極は、前記１つ又は複数の光ファイバのうちの少なくとも１つの光ファイバに関連付けられる、システム。
前記光源は、前記組織内のミトコンドリア還元型ニコチンアミドアデニンジヌクレオチド（ＮＡＤＨ）を励起するのに十分な少なくとも１つの波長を有する、請求項１に記載のシステム。
前記センサは、前記組織からの前記ＮＡＤＨ蛍光を検出するために、少なくとも１つの波長を有する光を受信するように構成される、請求項１に記載のシステム。
前記アブレーションエネルギーは、パルスフィールドアブレーションエネルギーである、請求項１に記載のシステム。
前記アブレーションエネルギーは、電気穿孔エネルギー、高周波エネルギー、マイクロ波エネルギー、電気エネルギー、電磁エネルギー、冷凍エネルギー、レーザエネルギー、超音波エネルギー、音響エネルギー、化学的エネルギー、及び熱エネルギーからなる群から選択される、請求項１に記載のシステム。
前記組織を照射する前記光は、約３００ｎｍと約４００ｎｍとの間の少なくとも１つの波長を有する、請求項１に記載のシステム。
前記センサは、約３７５ｎｍと約６５０ｎｍとの間の少なくとも１つの波長を有する光を受信するように構成される、請求項４に記載のシステム。
前記複数の電極のそれぞれは光学ポートを備え、前記１つ又は複数の光ファイバは、前記光が前記光学ポートを通過することを可能にするために前記光学ポートと整列する、請求項１に記載のシステム。
前記複数の電極は、前記カテーテルの前記遠位端で拡張可能部材上に配設される、請求項１に記載のシステム。
前記センサと通信し、焼灼された組織と焼灼されていない組織とを識別するために前記ＮＡＤＨ蛍光のデジタル表現を生成するように構成されたプロセッサをさらに備える、請求項１に記載のシステム。
前記センサと通信するプロセッサをさらに備え、
前記プロセッサは、
前記組織のアブレーション中に前記センサから前記ＮＡＤＨ蛍光を取得し、
前記組織の前記アブレーションの進行をモニターするために前記ＮＡＤＨ蛍光のデジタル表現を生成し、そのときの前記ＮＡＤＨ蛍光の減少は、さらなるアブレーションについての必要性をユーザが判定することを可能にするために前記組織の前記アブレーションの前記進行を示し、
前記組織が焼灼されている間、前記ＮＡＤＨ蛍光の前記減少をモニターし、前記組織の前記アブレーション全体を通しての前記ＮＡＤＨ蛍光の前記減少を示すために前記デジタル表現を更新するようにプログラムされる、請求項１に記載のシステム。
前記光学情報は、前記組織を焼灼することによって生成された前記組織内の焼灼巣の持続時間を予測するために使用される、請求項１１に記載のシステム。
前記光及び前記センサは、前記組織からのコラーゲン蛍光を検出するために、少なくとも１つの波長を有する光を受信するように構成される、請求項１に記載のシステム。
前記センサと通信状態し、前記組織の線維性負担を評価するために、前記コラーゲン蛍光のデジタル表現を生成するように構成されたプロセッサをさらに備える、請求項１３に記載のシステム。
光学的組織探索のためのシステムであって、
組織を照射する光を提供する光源であって、前記光が、前記組織内のミトコンドリア還元型ニコチンアミドアデニンジヌクレオチド（ＮＡＤＨ）を励起するのに十分な少なくとも１つの波長を有する、前記光源と、
前記組織からのＮＡＤＨ蛍光を検出するセンサであって、前記組織からの前記ＮＡＤＨ蛍光を検出するために、少なくとも１つの波長を有する光を受信するように構成される、前記センサと、
１つ又は複数の光ファイバを含むシースであって、前記１つ又は複数の光ファイバが、前記シースを通して延在して、前記光源から前記組織へ前記光を送達し、前記組織から前記センサへ光学情報を送達する、前記シースと、を備え、
前記シースは、前記シースを通してカテーテルを受け取って、前記１つ又は複数の光ファイバのうちの少なくとも１つの光ファイバを前記カテーテルの遠位端に配設された電極に関連付けるように構成され、前記電極は、アブレーションエネルギーを前記組織に送達するように構成される、システム。
前記アブレーションエネルギーは、パルスフィールドアブレーションエネルギーである、請求項１５に記載のシステム。
前記アブレーションエネルギーは、電気穿孔エネルギー、高周波エネルギー、マイクロ波エネルギー、電気エネルギー、電磁エネルギー、冷凍エネルギー、レーザエネルギー、超音波エネルギー、音響エネルギー、化学的エネルギー、及び熱エネルギーからなる群から選択される、請求項１５に記載のシステム。
前記組織を照射する前記光は、約３００ｎｍと約４００ｎｍとの間の少なくとも１つの波長を有する、請求項１５に記載のシステム。
前記センサは、約３７５ｎｍと約６５０ｎｍとの間の少なくとも１つの波長を有する光を受信するように構成される、請求項１８に記載のシステム。
前記電極は、光学ポートを備え、前記１つ又は複数の光ファイバは、前記光が前記光学ポートを通過することを可能にするために前記光学ポートと整列する、請求項１５に記載のシステム。
前記光学情報は、ＮＡＤＨ蛍光を含む、請求項１５に記載のシステム。
前記センサと通信し、焼灼された組織と焼灼されていない組織とを識別するために前記ＮＡＤＨ蛍光のデジタル表現を生成するように構成されたプロセッサをさらに備える、請求項１５に記載のシステム。
前記センサと通信するプロセッサをさらに備え、
前記プロセッサは、
前記組織のアブレーション中に前記センサから前記ＮＡＤＨ蛍光を取得し、
前記組織の前記アブレーションの進行をモニターするために前記ＮＡＤＨ蛍光のデジタル表現を生成し、そのときの前記ＮＡＤＨ蛍光の減少は、さらなるアブレーションについての必要性をユーザが判定することを可能にするために前記組織の前記アブレーションの前記進行を示し、
前記組織が焼灼されている間、前記ＮＡＤＨ蛍光の前記減少をモニターし、前記組織の前記アブレーション全体を通しての前記ＮＡＤＨ蛍光の前記減少を示すために前記デジタル表現を更新するようにプログラムされる、請求項１５に記載のシステム。
光学的組織探索のためのシステムであって、
複数の電極を有するカテーテルであって、前記複数の電極が、前記カテーテルの遠位端においてアレイで配設される、前記カテーテルと、
前記複数の電極のうちの１つ又は複数の電極によって組織を焼灼するために前記複数の電極と導通状態にあるアブレーションエネルギー源と、
前記組織を照射する光を提供する光源であって、前記光が、前記組織内のミトコンドリア還元型ニコチンアミドアデニンジヌクレオチド（ＮＡＤＨ）を励起するのに十分な少なくとも１つの波長を有する、前記光源と、
前記組織からのＮＡＤＨ蛍光を検出するセンサであって、前記組織からの前記ＮＡＤＨ蛍光を検出するために、少なくとも１つの波長を有する光を受信するように構成される、前記センサと、
１つ又は複数の光ファイバを含むシースであって、１つ又は複数の光ファイバが、前記シースを通して延在して、前記光源から前記組織へ前記光を送達し、前記センサへ前記ＮＡＤＨ蛍光を送達する前記シースと、を備え、
前記シースは、前記シースを通して前記カテーテルを受け取って、前記１つ又は複数の光ファイバのうちの少なくとも１つの光ファイバを前記複数の電極のうちの１つの電極に関連付けるように構成される、システム。
前記アブレーションエネルギーは、パルスフィールドアブレーションエネルギーである、請求項２４に記載のシステム。
前記アブレーションエネルギーは、電気穿孔エネルギー、高周波エネルギー、マイクロ波エネルギー、電気エネルギー、電磁エネルギー、冷凍エネルギー、レーザエネルギー、超音波エネルギー、音響エネルギー、化学的エネルギー、及び熱エネルギーからなる群から選択される、請求項２４に記載のシステム。
前記組織を照射する前記光は、約３００ｎｍと約４００ｎｍとの間の少なくとも１つの波長を有する、請求項２４に記載のシステム。
前記センサは、約３７５ｎｍと約６５０ｎｍとの間の少なくとも１つの波長を有する光を受信するように構成される、請求項２７に記載のシステム。
前記電極は、光学ポートを備え、前記１つ又は複数の光ファイバは、前記光が前記光学ポートを通過することを可能にするために前記光学ポートと整列する、請求項２４に記載のシステム。
前記センサと通信し、焼灼された組織と焼灼されていない組織とを識別するために前記ＮＡＤＨ蛍光のデジタル表現を生成するように構成されたプロセッサをさらに備える、請求項２４に記載のシステム。
前記センサと通信するプロセッサをさらに備え、
前記プロセッサは、
前記組織のアブレーション中に前記センサから前記ＮＡＤＨ蛍光を取得し、
前記組織の前記アブレーションの進行をモニターするために前記ＮＡＤＨ蛍光のデジタル表現を生成し、そのときの前記ＮＡＤＨ蛍光の減少は、さらなるアブレーションについての必要性をユーザが判定することを可能にするために前記組織の前記アブレーションの前記進行を示し、
前記組織が焼灼されている間、前記ＮＡＤＨ蛍光の前記減少をモニターし、前記組織の前記アブレーション全体を通しての前記ＮＡＤＨ蛍光の前記減少を示すために前記デジタル表現を更新するようにプログラムされる、請求項２４に記載のシステム。
光学的組織探索のためのシステムであって、
複数の電極を有するカテーテルであって、前記複数の電極が、前記カテーテルの遠位端においてアレイで配設され、アブレーションエネルギーを組織に送達するように構成される、前記カテーテルと、
前記カテーテルを摺動可能に受け取るように構成されたシースと、を備え、前記シースは、光源から前記組織へ光を送達し、前記組織からセンサへ還元型ニコチンアミドアデニンジヌクレオチド（ＮＡＤＨ）蛍光を送達するために、前記シースを通して延在する１つ又は複数の光ファイバを備え、前記シースは、前記複数の電極における各電極を前記１つ又は複数の光ファイバのうちの少なくとも１つの光ファイバに関連付けるように構成される、システム。
前記光源は、前記組織内のミトコンドリア還元型ニコチンアミドアデニンジヌクレオチド（ＮＡＤＨ）を励起するのに十分な少なくとも１つの波長を有する、請求項３２に記載のシステム。
前記センサは、前記組織からの前記ＮＡＤＨ蛍光を検出するために、少なくとも１つの波長を有する光を受信するように構成される、請求項３２に記載のシステム。
前記アブレーションエネルギーは、パルスフィールドアブレーションエネルギーである、請求項３２に記載のシステム。
前記アブレーションエネルギーは、電気穿孔エネルギー、高周波エネルギー、マイクロ波エネルギー、電気エネルギー、電磁エネルギー、冷凍エネルギー、レーザエネルギー、超音波エネルギー、音響エネルギー、化学的エネルギー、及び熱エネルギーからなる群から選択される、請求項３２に記載のシステム。
前記組織を照射する前記光は、約３００ｎｍと約４００ｎｍとの間の少なくとも１つの波長を有する、請求項３２に記載のシステム。
前記センサは、約３７５ｎｍと約６５０ｎｍとの間の少なくとも１つの波長を有する光を受信するように構成される、請求項３７に記載のシステム。
前記複数の電極のそれぞれは光学ポートを備え、前記１つ又は複数の光ファイバは、前記光が前記光学ポートを通過することを可能にするために前記光学ポートと整列する、請求項３２に記載のシステム。
前記センサと通信状態し、焼灼された組織と焼灼されていない組織とを識別するために前記ＮＡＤＨ蛍光のデジタル表現を生成するように構成されたプロセッサをさらに備える、請求項３２に記載のシステム。
前記センサと通信するプロセッサをさらに備え、
前記プロセッサは、
前記組織のアブレーション中に前記センサから前記ＮＡＤＨ蛍光を取得し、
前記組織の前記アブレーションの進行をモニターするために前記ＮＡＤＨ蛍光のデジタル表現を生成し、そのときの前記ＮＡＤＨ蛍光の減少は、さらなるアブレーションについての必要性をユーザが判定することを可能にするために前記組織の前記アブレーションの前記進行を示し、
前記組織が焼灼されている間、前記ＮＡＤＨ蛍光の前記減少をモニターし、前記組織の前記アブレーション全体を通しての前記ＮＡＤＨ蛍光の前記減少を示すために前記デジタル表現を更新するようにプログラムされる、請求項３２に記載のシステム。
前記シースの前記遠位端から延在する複数の偏向可能延長部を備え、前記複数の偏向可能延長部の各偏向可能延長部は、各々を通して延在する少なくとも１つの光ファイバを有する、請求項３２に記載のシステム。
組織を撮像するシステムであって、
組織を照射する光を提供する光源であって、前記光が、前記組織内のミトコンドリア還元型ニコチンアミドアデニンジヌクレオチド（ＮＡＤＨ）を励起するのに十分な少なくとも１つの波長を有する、前記光源と、
前記組織からのＮＡＤＨ蛍光を検出するセンサであって、前記組織からの前記ＮＡＤＨ蛍光を検出するために、少なくとも１つの波長を有する光を受信するように構成される、前記センサと、
１つ又は複数の光ファイバを含むシースであって、前記１つ又は複数の光ファイバが、前記シースを通して延在して、前記光源から前記組織へ前記光を送達し、前記センサへ前記ＮＡＤＨ蛍光を含む光学情報を送達する、前記シースと、を備え、
前記シースは、前記シースを通してカテーテルを受け取って、前記１つ又は複数の光ファイバのうちの少なくとも１つの光ファイバを前記カテーテルの遠位端に配設された電極に関連付けるように構成され、前記電極は、前記組織にアブレーションエネルギーを送達するように構成され、前記シースの前記遠位端には、独立に可動な又は操縦可能なアームがあり、前記アームは、前記組織を光学的に探索するため、前記組織と接触状態になるように前記１つ又は複数の光ファイバを位置決めするように構成される、システム。
光学的組織探索のための方法であって、
組織にアブレーションエネルギーを送達するように構成される１つ又は複数の電極に関連付けられた１つ又は複数の光ファイバを通して光が照射された前記組織からＮＡＤＨ蛍光を受信することと、
前記アブレーションエネルギーは、前記１つ又は複数の電極のうちの前記組織と接触状態にある電極からのみ送達されるときに、前記１つ又は複数の電極のうちのどの電極が前記組織と接触状態にあるかを示すことと、
前記組織の前記アブレーションの進行をモニターするために前記ＮＡＤＨ蛍光のデジタル表現を生成することと、を含む、方法。
前記照射された組織からの前記ＮＡＤＨ蛍光の減少は、さらなるアブレーションについての必要性をユーザが判定することを可能にするために前記組織の前記アブレーションの前記進行を示す、請求項４４に記載の方法。
前記組織が焼灼されている間、前記ＮＡＤＨ蛍光の減少を判定し、前記組織の前記アブレーション全体を通しての前記ＮＡＤＨ蛍光の前記減少を示すために前記デジタル表現を更新することをさらに含む、請求項４４に記載の方法。
前記アブレーションエネルギーは、パルスフィールドアブレーションエネルギーである、請求項４４に記載の方法。
前記アブレーションエネルギーは、電気穿孔エネルギー、高周波エネルギー、マイクロ波エネルギー、電気エネルギー、電磁エネルギー、冷凍エネルギー、レーザエネルギー、超音波エネルギー、音響エネルギー、化学的エネルギー、及び熱エネルギーからなる群から選択される、請求項４４に記載の方法。
前記組織は、約３００ｎｍと約４００ｎｍとの間の少なくとも１つの波長を有する光によって照射される、請求項４４に記載の方法。
前記ＮＡＤＨ蛍光は、約３７５ｎｍと約６５０ｎｍとの間の少なくとも１つの波長を有する、前記組織から反射した光を検出することによってモニターされる、請求項４９に記載の方法。