JP2023167868A - Ultrasonic water injection nozzle - Google Patents

Ultrasonic water injection nozzle Download PDF

Info

Publication number
JP2023167868A
JP2023167868A JP2022079393A JP2022079393A JP2023167868A JP 2023167868 A JP2023167868 A JP 2023167868A JP 2022079393 A JP2022079393 A JP 2022079393A JP 2022079393 A JP2022079393 A JP 2022079393A JP 2023167868 A JP2023167868 A JP 2023167868A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ultrasonic
water
diaphragm
positive electrode
frequency power
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2022079393A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
暁明 邱
Toshiaki Oka
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Abrasive Systems Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Abrasive Systems Ltd filed Critical Disco Abrasive Systems Ltd
Priority to JP2022079393A priority Critical patent/JP2023167868A/en
Publication of JP2023167868A publication Critical patent/JP2023167868A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

To increase an amplitude quantity of ultrasonic vibrations in an ultrasonic water injection nozzle.SOLUTION: In an ultrasonic water injection nozzle 2, high-frequency power is supplied for an ultrasonic diaphragm 3 via two pairs of electrodes, a circular positive electrode 36 and a negative electrode 39 and an annular positive electrode 37 and negative electrode 39. Thus, it is possible to increase (for example, to double) a current amount flowing in the ultrasonic diaphragm 3 in comparison with when only a pair of electrodes is used. Therefore, it is possible to increase an amplitude quantity of ultrasonic vibration 600 of the ultrasonic diaphragm 3 propagated to the ultrasonic water 501. As a result, it is possible to give large ultrasonic vibrations to a release layer 105 of an ingot 100. Thus, with the release layer 105 as an interface, it is possible to release a workpiece 107 from the ingot 100 in a short time.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、超音波水噴射ノズルに関する。 The present invention relates to an ultrasonic water jet nozzle.

超音波が伝播した超音波水を噴射して洗浄物を洗浄する超音波水噴射ノズルでは、特許文献1に開示のように、水を一時的に溜める溜め部に、超音波振動板を配置している。この超音波振動板に高周波電力を供給して、超音波が伝播した水を溜め部から噴射して、洗浄を実施している。 In an ultrasonic water injection nozzle that cleans objects by spraying ultrasonic water propagated by ultrasonic waves, an ultrasonic diaphragm is disposed in a reservoir for temporarily storing water, as disclosed in Patent Document 1. ing. Cleaning is performed by supplying high-frequency power to this ultrasonic diaphragm and spraying water into which ultrasonic waves have propagated from a reservoir.

超音波水噴射ノズルは、洗浄物の洗浄以外に、特許文献2に開示のように、インゴットからのワークの剥離にも用いられる。 The ultrasonic water jet nozzle is used not only for cleaning the object to be washed, but also for peeling a workpiece from an ingot, as disclosed in Patent Document 2.

特開2021-009947号公報JP2021-009947A 特開2021-176165号公報Japanese Patent Application Publication No. 2021-176165

洗浄力および剥離力を高めるために、大きな振幅の超音波振動を水に伝播させることが考えられる。そして、超音波振動の振幅を大きくするために、超音波振動板に流れる電流量を多くすることが考えられる。しかし、超音波振動板に流れる電流量は、超音波振動板の構造によって制限される。このため、超音波振動板に印加する高周波電力を大きくすることだけでは、超音波振動板に流れる電流量を多くすること、すなわち、超音波振動の振幅を大きくすることは困難である。 In order to increase the cleaning and stripping power, it is conceivable to propagate large amplitude ultrasonic vibrations into the water. In order to increase the amplitude of ultrasonic vibrations, it is conceivable to increase the amount of current flowing through the ultrasonic diaphragm. However, the amount of current flowing through the ultrasonic diaphragm is limited by the structure of the ultrasonic diaphragm. Therefore, it is difficult to increase the amount of current flowing through the ultrasonic diaphragm, that is, to increase the amplitude of the ultrasonic vibration, simply by increasing the high-frequency power applied to the ultrasonic diaphragm.

しがって、本発明の目的は、超音波水噴射ノズルにおける超音波振動の振幅量を大きくすることにある。 Therefore, an object of the present invention is to increase the amplitude of ultrasonic vibration in an ultrasonic water injection nozzle.

本発明の超音波水噴射ノズル(本超音波水噴射ノズル)は、被対象物に超音波振動が伝播した超音波水を噴射する超音波水噴射ノズルであって、高周波電力を受けて超音波振動を発振するドーム型の超音波振動板と、該超音波振動板の外周部分を支持し、該超音波振動板の凹んだ凹面側に一時的に水を溜める水溜部と、該水溜部に水を供給する水供給口と、該超音波振動板の該凹面に対向し該水溜部内の水を噴射する噴射口と、を備え、該超音波振動板は、凸面側の中央に配置された円形プラス電極と、該円形プラス電極の外側に環状の隙間を空けて配置された環状プラス電極と、該凹面側に接続されたマイナス電極とを備え、該円形プラス電極と該マイナス電極とが第1高周波電源に接続されているとともに、該環状プラス電極と該マイナス電極とが第2高周波電源に接続されており、該円形プラス電極および該環状プラス電極に高周波電力を供給することによって該超音波振動板を振動させ、該噴射口から超音波水を噴射する。
本超音波水噴射ノズルは、該超音波振動板の外周から外側に張り出した増幅板と、該増幅板を支持して、該水溜部を形成するケースとを備えてもよい。
The ultrasonic water injection nozzle of the present invention (this ultrasonic water injection nozzle) is an ultrasonic water injection nozzle that injects ultrasonic water in which ultrasonic vibrations are propagated to a target object, and receives high frequency power to generate ultrasonic waves. A dome-shaped ultrasonic diaphragm that oscillates vibrations; a water reservoir that supports the outer circumference of the ultrasonic diaphragm and temporarily stores water on the concave side of the ultrasonic diaphragm; The ultrasonic diaphragm is provided with a water supply port for supplying water, and an injection port that faces the concave surface of the ultrasonic diaphragm and injects water in the water reservoir, and the ultrasonic diaphragm is arranged at the center of the convex surface side. A circular positive electrode, an annular positive electrode arranged with an annular gap on the outside of the circular positive electrode, and a negative electrode connected to the concave side, wherein the circular positive electrode and the negative electrode The annular positive electrode and the negative electrode are connected to a second high frequency power source, and the ultrasonic wave is generated by supplying high frequency power to the circular positive electrode and the annular positive electrode. The diaphragm is vibrated and ultrasonic water is injected from the injection port.
The present ultrasonic water injection nozzle may include an amplification plate projecting outward from the outer periphery of the ultrasonic diaphragm, and a case that supports the amplification plate and forms the water reservoir.

本超音波水噴射ノズルは、超音波振動板の円形プラス電極および環状プラス電極に高周波電力を供給することによって、超音波振動板を振動させ、噴射口から超音波水を噴射するように構成されている。すなわち、本超音波水噴射ノズルでは、円形プラス電極およびマイナス電極と、環状プラス電極およびマイナス電極との2対の電極を介して、超音波振動板に高周波電力を供給している。これにより、1対の電極のみを用いる場合に比して、超音波振動板に流れる電流量を多くすることが可能となる。したがって、超音波水に伝播される超音波振動板の超音波振動の振幅量を、大きくすることができる。 This ultrasonic water injection nozzle is configured to vibrate the ultrasonic diaphragm by supplying high frequency power to the circular positive electrode and the annular positive electrode of the ultrasonic diaphragm, and to inject ultrasonic water from the injection port. ing. That is, in this ultrasonic water injection nozzle, high frequency power is supplied to the ultrasonic diaphragm through two pairs of electrodes: a circular positive electrode and a negative electrode, and an annular positive electrode and a negative electrode. This makes it possible to increase the amount of current flowing through the ultrasonic diaphragm compared to the case where only one pair of electrodes is used. Therefore, it is possible to increase the amplitude of the ultrasonic vibration of the ultrasonic diaphragm that is propagated to the ultrasonic water.

このため、本超音波水噴射ノズルを用いて被対象物であるインゴットからワークを剥離する際、剥離されるワークに大きな超音波振動を与えることができるので、ワークを短時間で剥離することができる。また、本超音波水噴射ノズルを用いて被対象物であるワークを洗浄する際には、洗浄時間を短縮することが可能となるとともに、ワークから大きな汚れを除去することができる。 Therefore, when peeling a workpiece from an ingot as a target object using this ultrasonic water jet nozzle, large ultrasonic vibrations can be applied to the workpiece to be peeled off, so the workpiece can be peeled off in a short time. can. Furthermore, when cleaning a workpiece using the ultrasonic water jet nozzle, it is possible to shorten the cleaning time and remove large amounts of dirt from the workpiece.

超音波水噴射装置の構成を示す斜視図である。It is a perspective view showing the composition of an ultrasonic water injection device. 超音波水噴射装置の構成を示す説明図である。It is an explanatory view showing the composition of an ultrasonic water injection device. 超音波水噴射ノズルの構成を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing the configuration of an ultrasonic water jet nozzle. 超音波水噴射ノズルの電極を示す上面図である。It is a top view showing the electrode of an ultrasonic water injection nozzle.

図1は、本実施形態に係る超音波水噴射装置1の構成を示す斜視図である。本実施形態では、超音波水噴射装置1は、図2に示す被対象物としてのインゴット100に超音波水を噴射して、インゴット100からワーク107を剥離するために用いられる。 FIG. 1 is a perspective view showing the configuration of an ultrasonic water injection device 1 according to this embodiment. In this embodiment, the ultrasonic water injection device 1 is used to inject ultrasonic water onto an ingot 100 as a target object shown in FIG. 2 to separate a workpiece 107 from the ingot 100.

インゴット100は、たとえばSiCから形成されており、円柱形状を有している。インゴット100は、その表面101側に、図示しないレーザ加工装置によって形成された剥離層105を有している。超音波水噴射装置1では、この剥離層105を基点に、インゴット100からワーク107を剥離する。 Ingot 100 is made of SiC, for example, and has a cylindrical shape. The ingot 100 has a peeling layer 105 formed by a laser processing device (not shown) on its surface 101 side. The ultrasonic water injection device 1 peels the workpiece 107 from the ingot 100 using this peeling layer 105 as a base point.

超音波水噴射装置1は、図1および図2に示すように、インゴット100を保持する保持テーブル10と、超音波水を噴射する超音波水噴射ノズル2と、超音波水噴射ノズル2をインゴット100に対して相対移動させる移動機構4と、超音波水噴射装置1の動作を制御する制御部70と、を備える。 As shown in FIGS. 1 and 2, the ultrasonic water injection device 1 includes a holding table 10 that holds an ingot 100, an ultrasonic water injection nozzle 2 that injects ultrasonic water, and an ultrasonic water injection nozzle 2 that holds an ingot 100. It includes a moving mechanism 4 that moves relative to the ultrasonic water injection device 100, and a control unit 70 that controls the operation of the ultrasonic water injection device 1.

インゴット100は、図2に示すように、裏面102側から保持テーブル10によって保持される。保持テーブル10は、円板状の保持部11と、保持部11を支持する枠体12とを備える。保持部11は、ポーラス材からなる板であり、枠体12の上面と面一に形成された保持面13を有する。保持部11が図示しない吸引源に連通されることにより、吸引源の吸引力が保持面13に伝達される。これにより、保持テーブル10は、保持面13によって、インゴット100を吸引保持することができる。 The ingot 100 is held by the holding table 10 from the back side 102, as shown in FIG. The holding table 10 includes a disk-shaped holding section 11 and a frame 12 that supports the holding section 11. The holding part 11 is a plate made of a porous material, and has a holding surface 13 formed flush with the upper surface of the frame 12. By communicating the holding portion 11 with a suction source (not shown), the suction force of the suction source is transmitted to the holding surface 13 . Thereby, the holding table 10 can hold the ingot 100 by suction using the holding surface 13.

また、保持テーブル10は、エアシリンダ等からなる図示しない昇降機構によって、上下方向に移動可能に構成されている。この昇降機構は、保持テーブル10を上昇させて、保持テーブル10を、インゴット100の搬入・搬出高さ位置に位置付ける。また、昇降機構は、インゴット100を保持した状態の保持テーブル10を下降させて、保持テーブル10を、筐体14内における剥離作業高さ位置に位置付ける。 Further, the holding table 10 is configured to be movable in the vertical direction by a lifting mechanism (not shown) including an air cylinder or the like. This elevating mechanism raises the holding table 10 and positions the holding table 10 at a height position for carrying in and carrying out the ingot 100. Further, the elevating mechanism lowers the holding table 10 holding the ingot 100, and positions the holding table 10 at a peeling work height position within the casing 14.

保持テーブル10は、図1に示す筐体14の内部空間に収容されている。筐体14は、保持テーブル10を囲繞する外側壁120と、底板122とを備えている。底板122は、外側壁120の下部に一体的に連接されており、中央に、スピンドル41が挿通される挿通孔(図示せず)を有する。
なお、図1においては、筐体14の外側壁120の一部を切欠いて、筐体14の内部を示している。
The holding table 10 is housed in the internal space of the casing 14 shown in FIG. The housing 14 includes an outer wall 120 surrounding the holding table 10 and a bottom plate 122. The bottom plate 122 is integrally connected to the lower part of the outer wall 120 and has an insertion hole (not shown) in the center through which the spindle 41 is inserted.
Note that in FIG. 1, a part of the outer wall 120 of the housing 14 is cut away to show the inside of the housing 14.

筐体14は、複数の脚部124により支持されている。脚部124の上端は、底板122の下面に固定されている。底板122には、図示しない排水口が、厚み方向に貫通形成されている。この排水口には、使用された水を筐体14の外部に排出するための部材(ドレンホース等)が接続されている。 The housing 14 is supported by a plurality of legs 124. The upper ends of the legs 124 are fixed to the lower surface of the bottom plate 122. A drain port (not shown) is formed through the bottom plate 122 in the thickness direction. A member (such as a drain hose) for discharging used water to the outside of the housing 14 is connected to this drain port.

移動機構4は、超音波水噴射ノズル2を、保持テーブル10に保持されているインゴット100の表面101に対して、この面に平行に相対的に移動させる。移動機構4は、図2に示すように、保持部11に保持されたインゴット100を回転させる回転機構40と、超音波水噴射ノズル2を水平方向(XY面(表面101)に平行な方向)に移動させるスライド機構44と、を備える。 The moving mechanism 4 moves the ultrasonic water jet nozzle 2 relative to the surface 101 of the ingot 100 held on the holding table 10 in parallel to this surface. As shown in FIG. 2, the moving mechanism 4 includes a rotating mechanism 40 that rotates the ingot 100 held in the holding part 11, and an ultrasonic water jet nozzle 2 that rotates the ingot 100 in the horizontal direction (direction parallel to the XY plane (surface 101)). and a slide mechanism 44 for moving.

回転機構40は、保持テーブル10の下側に配設されている。回転機構40は、保持部11に保持されたインゴット100を、保持部11の中心を通る回転軸A1を中心に回転させる。回転機構40は、スピンドル41と、スピンドル41を回転駆動するスピンドルモータ42と、エンコーダ43とを備えている。 The rotation mechanism 40 is arranged below the holding table 10. The rotation mechanism 40 rotates the ingot 100 held by the holding part 11 around a rotation axis A1 passing through the center of the holding part 11. The rotation mechanism 40 includes a spindle 41, a spindle motor 42 that rotationally drives the spindle 41, and an encoder 43.

スピンドル41は、その上端が保持テーブル10における枠体12の下面に固定されており、Z軸方向に延びている。スピンドルモータ42は、スピンドル41の下端側に連結されている。スピンドルモータ42が、矢印R2に示すようにスピンドル41を回転させることにより、保持テーブル10が回転される。これにより、保持テーブル10に保持されているインゴット100が回転される。エンコーダ43は、スピンドルモータ42の回転角度を検知することにより、保持テーブル10の回転角度を検知する。 The spindle 41 has its upper end fixed to the lower surface of the frame 12 of the holding table 10, and extends in the Z-axis direction. The spindle motor 42 is connected to the lower end side of the spindle 41. The holding table 10 is rotated by the spindle motor 42 rotating the spindle 41 as shown by arrow R2. As a result, the ingot 100 held on the holding table 10 is rotated. The encoder 43 detects the rotation angle of the holding table 10 by detecting the rotation angle of the spindle motor 42 .

スライド機構44は、超音波水噴射ノズル2を、インゴット100の表面101に平行な方向である水平方向に旋回移動させるように構成されている。 The slide mechanism 44 is configured to pivot the ultrasonic water jet nozzle 2 in the horizontal direction, which is a direction parallel to the surface 101 of the ingot 100.

スライド機構44は、水平方向に延びる旋回アーム45、旋回アーム45を支持して回転する旋回シャフト48、旋回シャフト48の下端側に連結された旋回モータ46、および、旋回モータ46の回転角度を検知するためのエンコーダ47を備えている。 The slide mechanism 44 detects a rotation arm 45 extending in the horizontal direction, a rotation shaft 48 that rotates while supporting the rotation arm 45, a rotation motor 46 connected to the lower end side of the rotation shaft 48, and a rotation angle of the rotation motor 46. It is equipped with an encoder 47 for

旋回シャフト48は、図1に示すように、筐体14の底板122に、図示しないベアリング等を介して立設されている。旋回シャフト48は、その先端によって旋回アーム45の基端側を支持している。旋回アーム45の先端側には、超音波水噴射ノズル2が配設されている。旋回モータ46は、旋回シャフト48を回転させることにより、旋回アーム45を旋回移動させる。エンコーダ47は、旋回モータ46の回転角度を検知することにより、旋回アーム45の先端に配設された超音波水噴射ノズル2の水平方向における位置を検知する。 As shown in FIG. 1, the rotation shaft 48 is erected on the bottom plate 122 of the housing 14 via a bearing (not shown) or the like. The swing shaft 48 supports the base end side of the swing arm 45 by its tip. The ultrasonic water jet nozzle 2 is disposed on the tip side of the swing arm 45. The swing motor 46 swings the swing arm 45 by rotating the swing shaft 48 . The encoder 47 detects the horizontal position of the ultrasonic water injection nozzle 2 disposed at the tip of the swing arm 45 by detecting the rotation angle of the swing motor 46 .

超音波水噴射ノズル2は、被対象物に超音波振動が伝播した超音波水を噴射する。本実施形態では、図2に示すように、超音波水噴射ノズル2は、被対称物であるインゴット100に超音波水を噴射して、インゴット100からワーク107を剥離する。図2および図3に示すように、超音波水噴射ノズル2は、水源60から供給される水500を一時的に溜めるケース20、ケース20の下面に形成された噴射口241、および、噴射口241に対向してケース20内に配設される超音波振動板3を備えている。 The ultrasonic water injection nozzle 2 injects ultrasonic water in which ultrasonic vibrations are propagated onto a target object. In this embodiment, as shown in FIG. 2, the ultrasonic water injection nozzle 2 injects ultrasonic water onto the ingot 100, which is the target object, to peel the workpiece 107 from the ingot 100. As shown in FIGS. 2 and 3, the ultrasonic water injection nozzle 2 includes a case 20 that temporarily stores water 500 supplied from a water source 60, an injection port 241 formed on the lower surface of the case 20, and an injection port. The ultrasonic diaphragm 3 is provided inside the case 20 so as to face the ultrasonic diaphragm 241 .

ケース20は、底板21と、底板21にZ軸方向において対向する天板22と、底板21と天板22とを連結する略円筒状の側壁23とを備えている。天板22の上面に、図1に示した旋回アーム45の先端が固定されている。 The case 20 includes a bottom plate 21, a top plate 22 facing the bottom plate 21 in the Z-axis direction, and a substantially cylindrical side wall 23 connecting the bottom plate 21 and the top plate 22. The tip of the swing arm 45 shown in FIG. 1 is fixed to the top surface of the top plate 22.

ケース20内は、超音波振動板3によって、上下の2部屋、すなわち、超音波振動板3よりも上側の第一室221と、超音波振動板3よりも下側の第二室222とに区画されている。下側の第二室222の側壁23には、水供給口231が貫通形成されている。 The inside of the case 20 is divided into two upper and lower chambers by the ultrasonic diaphragm 3, namely, a first chamber 221 above the ultrasonic diaphragm 3 and a second chamber 222 below the ultrasonic diaphragm 3. It is sectioned. A water supply port 231 is formed through the side wall 23 of the second chamber 222 on the lower side.

水供給口231は、ケース20内における超音波振動板3と噴射口241との間である第二室222に水500を供給するために用いられる。この水供給口231は、可撓性を備える樹脂チューブ等を介して、水源60に連通されている。水源60は、ポンプ等を備え、純水などの水500を供給するように構成されている。水源60から供給される水500は、ケース20の第二室222内に、一時的に溜められる。 The water supply port 231 is used to supply water 500 to the second chamber 222 between the ultrasonic diaphragm 3 and the injection port 241 in the case 20 . This water supply port 231 is communicated with the water source 60 via a flexible resin tube or the like. The water source 60 includes a pump and the like and is configured to supply water 500 such as pure water. Water 500 supplied from the water source 60 is temporarily stored in the second chamber 222 of the case 20.

底板21には、-Z方向側に突き出るノズル部24が形成されている。ノズル部24は、先端に向かうにつれて、徐々に縮径されている。そして、ノズル部24は、先端に、ケース20の第二室222内の水500を噴射する噴射口241を備えている。なお、ノズル部24は、噴射口241に向けて縮径されていない形状であってもよい。 A nozzle portion 24 that protrudes in the -Z direction is formed on the bottom plate 21. The diameter of the nozzle portion 24 gradually decreases toward the tip. The nozzle portion 24 is provided with a jetting port 241 at the tip thereof, which jets the water 500 in the second chamber 222 of the case 20 . Note that the nozzle portion 24 may have a shape that is not reduced in diameter toward the injection port 241.

円板の超音波振動板3は、ケース20内において、噴射口241に対向する位置に配置されている。超音波振動板3は、上面視で円形のドーム型に形成されており、噴射口241に対向する面である下面が凹んでいる凹球面板である。すなわち、噴射口241は、超音波振動板3の凹んだ凹面に対向するように配置されている。 The disc-shaped ultrasonic diaphragm 3 is arranged in the case 20 at a position facing the injection port 241 . The ultrasonic diaphragm 3 is formed into a circular dome shape when viewed from above, and is a concave spherical plate whose lower surface, which is the surface facing the injection port 241, is concave. That is, the injection port 241 is arranged to face the concave surface of the ultrasonic diaphragm 3 .

この超音波振動板3は、高周波電力を受けて超音波振動を発振するように構成されている。超音波振動板3は、図3に示すように、ケース20の第二室222内に溜められた水500に、超音波振動600を伝播する。 This ultrasonic diaphragm 3 is configured to receive high frequency power and oscillate ultrasonic vibrations. The ultrasonic diaphragm 3 propagates ultrasonic vibrations 600 to the water 500 stored in the second chamber 222 of the case 20, as shown in FIG.

超音波振動板3は、図3に示すように、凹球面板状のドーム部30と、ドーム部30の外周縁から径方向に外側に張り出したツバ部31とを備えている。 As shown in FIG. 3, the ultrasonic diaphragm 3 includes a concave spherical plate-shaped dome portion 30 and a flange portion 31 that protrudes outward in the radial direction from the outer peripheral edge of the dome portion 30.

ドーム部30は、圧電板、たとえば、セラミックスの一種であるピエゾ素子から構成されている。ドーム部30の下面261は超音波振動板3の凹面を形成している一方、ドーム部30の上面262は超音波振動板3の凸面を形成している。 The dome portion 30 is composed of a piezoelectric plate, for example, a piezo element which is a type of ceramic. The lower surface 261 of the dome section 30 forms a concave surface of the ultrasonic diaphragm 3, while the upper surface 262 of the dome section 30 forms a convex surface of the ultrasonic diaphragm 3.

超音波振動板3における円環板状のツバ部31は、ドーム部30と一体形成されており、ドーム部30の外周縁から、径方向に外側に、一体的に張り出している。このツバ部31は、ドーム部30と同様に、ピエゾ素子等で構成されている。 The annular plate-shaped collar portion 31 of the ultrasonic diaphragm 3 is integrally formed with the dome portion 30 and integrally protrudes outward in the radial direction from the outer peripheral edge of the dome portion 30 . Like the dome portion 30, the collar portion 31 is composed of a piezo element or the like.

また、図3および図4に示すように、超音波振動板3は、ドーム部30の上面262側に、上面262の中央に配置された円形プラス電極36、円形プラス電極36の外側に環状の隙間を空けて配置された環状プラス電極37、および、ドーム部30の下面261に接続されたマイナス電極端子38を備えている。 Further, as shown in FIGS. 3 and 4, the ultrasonic diaphragm 3 has a circular positive electrode 36 disposed on the upper surface 262 side of the dome portion 30 at the center of the upper surface 262, and an annular positive electrode 36 on the outside of the circular positive electrode 36. It includes an annular positive electrode 37 arranged with a gap and a negative electrode terminal 38 connected to the lower surface 261 of the dome part 30.

環状プラス電極37は、円形プラス電極36を環状の隙間を空けて同心円状に囲むように、ドーム部30の上面262に配置されている。
マイナス電極端子38は、環状プラス電極37の外側に環状の隙間を空けて、ツバ部31の上面に、環状に配置されている。マイナス電極端子38は、図3に示すように、ドーム部30の下面261を覆うように形成されたマイナス電極39に、電気的に接続されている。
マイナス電極39は、ドーム部30の下面261に接続されており、たとえば、金属層からなる。マイナス電極39の外周部分は、ツバ部31の外周縁を回り込んで、ツバ部31の下面および上面を覆うように形成されている。そして、マイナス電極端子38が、マイナス電極39の外周部分に覆われたツバ部31の上面に形成されることにより、マイナス電極端子38とマイナス電極39とが、電気的に接続されている。なお、図4では、マイナス電極39の描画を省略している。
The annular positive electrode 37 is arranged on the upper surface 262 of the dome portion 30 so as to concentrically surround the circular positive electrode 36 with an annular gap therebetween.
The negative electrode terminal 38 is arranged in an annular manner on the upper surface of the collar portion 31 with an annular gap left outside the annular positive electrode 37 . The negative electrode terminal 38 is electrically connected to a negative electrode 39 formed so as to cover the lower surface 261 of the dome portion 30, as shown in FIG.
The negative electrode 39 is connected to the lower surface 261 of the dome portion 30 and is made of, for example, a metal layer. The outer peripheral portion of the negative electrode 39 is formed to wrap around the outer peripheral edge of the collar portion 31 and cover the lower and upper surfaces of the collar portion 31 . The negative electrode terminal 38 is formed on the upper surface of the collar portion 31 covered with the outer peripheral portion of the negative electrode 39, so that the negative electrode terminal 38 and the negative electrode 39 are electrically connected. Note that in FIG. 4, the drawing of the negative electrode 39 is omitted.

また、図2および図3に示すように、超音波振動板3の円形プラス電極36と、マイナス電極39に接続されたマイナス電極端子38とには、第1高周波電源91が接続されている。第1高周波電源91は、円形プラス電極36およびマイナス電極端子38を介して、第1高周波電力を超音波振動板3に供給する。これにより、超音波振動板3の全体が、第1高周波電力によって超音波振動する。 Further, as shown in FIGS. 2 and 3, a first high-frequency power source 91 is connected to the circular positive electrode 36 of the ultrasonic diaphragm 3 and the negative electrode terminal 38 connected to the negative electrode 39. The first high frequency power supply 91 supplies first high frequency power to the ultrasonic diaphragm 3 via the circular positive electrode 36 and the negative electrode terminal 38. As a result, the entire ultrasonic diaphragm 3 is ultrasonically vibrated by the first high frequency power.

一方、超音波振動板3の環状プラス電極37と、マイナス電極39に接続されたマイナス電極端子38とには、第2高周波電源92が接続されている。第2高周波電源92は、環状プラス電極37およびマイナス電極端子38を介して、第2高周波電力を超音波振動板3に供給する。これにより、超音波振動板3の全体が、第2高周波電力によって超音波振動する。 On the other hand, a second high-frequency power source 92 is connected to the annular positive electrode 37 of the ultrasonic diaphragm 3 and the negative electrode terminal 38 connected to the negative electrode 39. The second high frequency power supply 92 supplies second high frequency power to the ultrasonic diaphragm 3 via the annular positive electrode 37 and the negative electrode terminal 38 . Thereby, the entire ultrasonic diaphragm 3 is ultrasonically vibrated by the second high frequency power.

なお、第2高周波電力は、第1高周波電力と同一の周波数および振幅を有する電力であってもよいし、第1高周波電力とは異なる周波数および振幅を有する電力であってもよい。 Note that the second high frequency power may be power having the same frequency and amplitude as the first high frequency power, or may be power having a frequency and amplitude different from the first high frequency power.

超音波振動板3の超音波振動は、超音波振動板3の凹面状の下面261から、ケース20の第二室222内に一時的に溜められた水500に向けて、超音波振動600として輻射される。すなわち、本実施形態では、下面261は、超音波振動600を輻射する輻射面となる。 The ultrasonic vibrations of the ultrasonic diaphragm 3 are transmitted as ultrasonic vibrations 600 from the concave lower surface 261 of the ultrasonic diaphragm 3 toward the water 500 temporarily stored in the second chamber 222 of the case 20. radiated. That is, in this embodiment, the lower surface 261 becomes a radiation surface that radiates the ultrasonic vibration 600.

また、超音波水噴射ノズル2は、超音波振動板3のツバ部31の外周から外側に張り出した増幅板32を備えている。この増幅板32は、その外周部分の端部がケース20の第二室222における側壁23に支持されていて、ドーム部30をケース20内で中空固定している。増幅板32は、側壁23に支持されていない部分によって、超音波振動600を増幅させる。 Further, the ultrasonic water jet nozzle 2 includes an amplification plate 32 extending outward from the outer periphery of the collar portion 31 of the ultrasonic diaphragm 3 . The amplifying plate 32 has an end portion of its outer circumferential portion supported by the side wall 23 of the second chamber 222 of the case 20, and fixes the dome portion 30 in the case 20 in a hollow manner. The amplifying plate 32 amplifies the ultrasonic vibration 600 by a portion not supported by the side wall 23.

このように、ケース20の第二室222は、超音波振動板3の外周部分であるツバ部31を増幅板32を介して支持しており、超音波振動板3の凹んだ凹面側に一時的に水を溜める水溜部として機能する。すなわち、ケース20は、増幅板32を支持して、水溜部である第二室222を形成するように構成されている。 In this way, the second chamber 222 of the case 20 supports the collar portion 31, which is the outer peripheral portion of the ultrasonic diaphragm 3, via the amplification plate 32, and is temporarily attached to the concave side of the ultrasonic diaphragm 3. Functions as a water reservoir for storing water. That is, the case 20 is configured to support the amplification plate 32 and form a second chamber 222 that is a water reservoir.

図1に示した制御部70は、制御プログラムに従って演算処理を行うCPU、および、メモリ等の記憶媒体等を備えている。制御部7は、各種の処理を実行し、超音波水噴射装置1の各構成要素を統括制御する。たとえば、制御部70は、超音波水噴射装置1の各部材を制御して、保持テーブル10に保持されているインゴット100からワーク107を剥離する剥離動作を実施する。 The control unit 70 shown in FIG. 1 includes a CPU that performs arithmetic processing according to a control program, a storage medium such as a memory, and the like. The control unit 7 executes various processes and centrally controls each component of the ultrasonic water injection device 1 . For example, the control unit 70 controls each member of the ultrasonic water injection device 1 to perform a peeling operation to peel the workpiece 107 from the ingot 100 held on the holding table 10.

以下に、超音波水噴射装置1による剥離動作について説明する。 The peeling operation by the ultrasonic water injection device 1 will be explained below.

まず、作業者は、図2に示すように、インゴット100の中心が保持テーブル10の保持面13の中心におおよそ合致するように、保持面13上に保持テーブル10を載置する。その後、制御部70が、図示しない吸引源を作動させて、吸引力を保持面13に伝達する。これにより、保持テーブル10の保持面13が、インゴット100の裏面102を吸引保持する。 First, the operator places the holding table 10 on the holding surface 13 so that the center of the ingot 100 approximately coincides with the center of the holding surface 13 of the holding table 10, as shown in FIG. Thereafter, the control unit 70 operates a suction source (not shown) to transmit suction force to the holding surface 13 . As a result, the holding surface 13 of the holding table 10 suction-holds the back surface 102 of the ingot 100.

その後、制御部70が、回転機構40を制御して、インゴット100を保持している保持テーブル10を、矢印R2方向に回転させる。また、制御部70は、スライド機構44の旋回モータ46を制御して、旋回シャフト48を、矢印R1方向に回転させる。これにより、旋回アーム45が旋回移動されて、超音波水噴射ノズル2が、保持テーブル10の外側の退避位置からインゴット100の上方に移動され、超音波水噴射ノズル2の噴射口241が、インゴット100の表面101に対向する。 Thereafter, the control unit 70 controls the rotation mechanism 40 to rotate the holding table 10 holding the ingot 100 in the direction of arrow R2. The control unit 70 also controls the swing motor 46 of the slide mechanism 44 to rotate the swing shaft 48 in the direction of arrow R1. As a result, the rotating arm 45 is pivoted, the ultrasonic water injection nozzle 2 is moved from the retracted position outside the holding table 10 to above the ingot 100, and the injection port 241 of the ultrasonic water injection nozzle 2 is 100 faces a surface 101.

その後、制御部70は、水源60からの水500の送出を開始する。水500は、水供給口231を通り、超音波水噴射ノズル2におけるケース20の第二室222に、一時的に溜められる。 After that, the control unit 70 starts sending water 500 from the water source 60. Water 500 passes through water supply port 231 and is temporarily stored in second chamber 222 of case 20 in ultrasonic water injection nozzle 2 .

ケース20の第二室222内に所定量の水500が溜められていき、第二室222内の圧力が上昇すると、水500が、噴射口241から下方に向かって噴射される。なお、水源60から水500が供給され続けることで、第二室222内における水500の量は、所定量に維持される。 When a predetermined amount of water 500 is accumulated in the second chamber 222 of the case 20 and the pressure in the second chamber 222 increases, the water 500 is injected downward from the injection port 241. Note that by continuing to supply the water 500 from the water source 60, the amount of water 500 in the second chamber 222 is maintained at a predetermined amount.

また、この際、制御部70は、第1高周波電源91を制御して、超音波振動板3における円形プラス電極36とマイナス電極端子38に接続されたマイナス電極39と(図3参照)に、第1高周波電力を供給する。さらに、制御部70は、第2高周波電源92を制御して、超音波振動板3における環状プラス電極37とマイナス電極端子38に接続されたマイナス電極39とに、第2高周波電力を供給する。 Also, at this time, the control unit 70 controls the first high-frequency power source 91 to connect the circular positive electrode 36 of the ultrasonic diaphragm 3 to the negative electrode 39 connected to the negative electrode terminal 38 (see FIG. 3). Supplying first high frequency power. Further, the control unit 70 controls the second high-frequency power supply 92 to supply the second high-frequency power to the annular positive electrode 37 and the negative electrode 39 connected to the negative electrode terminal 38 in the ultrasonic diaphragm 3 .

これにより、第1高周波電力および第2高周波電力によって、所定の周波数で電圧の印加のオンとオフとが繰り返され、ドーム部30に、上下方向における伸縮運動が発生する。そして、この伸縮運動が、機械的な超音波振動となる。つまり、第1高周波電力および第2高周波電力は同じ周波数で供給している。 As a result, voltage application is repeatedly turned on and off at a predetermined frequency using the first high-frequency power and the second high-frequency power, and the dome portion 30 undergoes an expansion and contraction movement in the vertical direction. This stretching motion becomes mechanical ultrasonic vibration. That is, the first high frequency power and the second high frequency power are supplied at the same frequency.

これにより、ドーム部30を含む超音波振動板3の全体が、水500を超音波振動させる。すなわち、超音波振動板3から、ケース20の第二室222に一時的に溜められた水500に、増幅板32によって増幅された超音波振動600が伝播される。水500に伝播された超音波振動600は、噴射口241に向かって集中する。すなわち、超音波振動600の集束点が、噴射口241の近傍に形成される。 Thereby, the entire ultrasonic diaphragm 3 including the dome portion 30 causes the water 500 to vibrate ultrasonically. That is, the ultrasonic vibration 600 amplified by the amplification plate 32 is propagated from the ultrasonic diaphragm 3 to the water 500 temporarily stored in the second chamber 222 of the case 20 . The ultrasonic vibrations 600 propagated to the water 500 are concentrated toward the injection port 241 . That is, the focal point of the ultrasonic vibration 600 is formed near the injection port 241.

このような超音波振動の伝播により、ノズル部24の噴射口241から外部に向かって、超音波振動600が伝播した水である超音波水501が噴射される。本実施形態では、図2に示すように、ノズル部24の噴射口241から、インゴット100におけるワーク107が生成される側の端面である表面101に向かって、超音波水501が噴射される。 Due to the propagation of such ultrasonic vibrations, ultrasonic water 501, which is water to which ultrasonic vibrations 600 have been propagated, is jetted outward from the injection port 241 of the nozzle portion 24. In this embodiment, as shown in FIG. 2, ultrasonic water 501 is injected from the injection port 241 of the nozzle section 24 toward the surface 101, which is the end surface of the ingot 100 on the side where the workpiece 107 is generated.

また、この際、制御部70は、インゴット100と超音波水噴射ノズル2とを、インゴット100の表面101に平行な方向に相対的に移動させる。本実施形態では、旋回モータ46によって旋回アーム45が旋回されることにより、超音波水噴射ノズル2が、保持テーブル10とともに回転しているインゴット100の上方を、インゴット100の中心と外周縁との間を往復するように旋回移動する。これにより、インゴット100の表面101の全面に、超音波水501が噴射される。 Also, at this time, the control unit 70 relatively moves the ingot 100 and the ultrasonic water jet nozzle 2 in a direction parallel to the surface 101 of the ingot 100. In the present embodiment, the rotation arm 45 is rotated by the rotation motor 46, so that the ultrasonic water jet nozzle 2 moves above the ingot 100, which is rotating together with the holding table 10, between the center and the outer peripheral edge of the ingot 100. It rotates back and forth between the two. As a result, the ultrasonic water 501 is sprayed onto the entire surface 101 of the ingot 100.

このような超音波水501の噴射により、インゴット100の剥離層105を界面として、インゴット100から、板状物であるワーク107が剥離される。また、超音波水501の噴射により、インゴット100の表面101が洗浄される。 By such jetting of the ultrasonic water 501, the workpiece 107, which is a plate-shaped object, is peeled off from the ingot 100 using the peeling layer 105 of the ingot 100 as an interface. Furthermore, the surface 101 of the ingot 100 is cleaned by spraying the ultrasonic water 501.

ワーク107が剥離された後、制御部70は、図示しない搬送部材を用いてワーク107を保持し、超音波水噴射装置1の外部に搬送させる。 After the workpiece 107 is peeled off, the control unit 70 holds the workpiece 107 using a transport member (not shown) and transports the workpiece 107 to the outside of the ultrasonic water injection device 1 .

以上のように、本実施形態にかかる超音波水噴射ノズル2は、超音波振動板3における円形プラス電極36に第1高周波電力を供給するとともに、環状プラス電極37に第2高周波電力を供給することによって、超音波振動板3を振動させ、噴射口241から超音波水を噴射するように構成されている。 As described above, the ultrasonic water jet nozzle 2 according to the present embodiment supplies the first high frequency power to the circular positive electrode 36 on the ultrasonic diaphragm 3 and supplies the second high frequency power to the annular positive electrode 37. By doing so, the ultrasonic diaphragm 3 is vibrated and ultrasonic water is injected from the injection port 241.

すなわち、超音波水噴射ノズル2では、円形プラス電極36およびマイナス電極39と、環状プラス電極37およびマイナス電極39との2対の電極を介して、超音波振動板3に高周波電力を供給している。これにより、1対の電極のみを用いる場合に比して、超音波振動板3に流れる電流量を多くすること(たとえば2倍に増やすこと)が可能となる。したがって、超音波水501に伝播される超音波振動板3の超音波振動600の振幅量を、大きくすることができる。その結果、インゴット100の剥離層105に、大きな超音波振動を与えることができる。このため、剥離層105を界面として、インゴット100から、ワーク107を短時間で剥離することができる。 That is, in the ultrasonic water injection nozzle 2, high frequency power is supplied to the ultrasonic diaphragm 3 through two pairs of electrodes: a circular positive electrode 36 and a negative electrode 39, and an annular positive electrode 37 and a negative electrode 39. There is. This makes it possible to increase the amount of current flowing through the ultrasonic diaphragm 3 (for example, double it) compared to the case where only one pair of electrodes is used. Therefore, the amplitude of the ultrasonic vibration 600 of the ultrasonic diaphragm 3 propagated to the ultrasonic water 501 can be increased. As a result, large ultrasonic vibrations can be applied to the peeling layer 105 of the ingot 100. Therefore, the workpiece 107 can be peeled from the ingot 100 in a short time using the peeling layer 105 as an interface.

なお、制御部70は、円形プラス電極36およびマイナス電極39に印加される第1高周波電力の周期と、環状プラス電極37およびマイナス電極39に印加される第2高周波電力の周期とを一致させることが好ましい。これにより、第1高周波電力および第2高周波電力によって振動される超音波振動板3の振幅量を、良好に大きくすることができるので、超音波振動600の振幅量を容易に大きくすることができる。 Note that the control unit 70 causes the period of the first high-frequency power applied to the circular positive electrode 36 and the negative electrode 39 to match the period of the second high-frequency power applied to the annular positive electrode 37 and the negative electrode 39. is preferred. As a result, the amplitude of the ultrasonic diaphragm 3 vibrated by the first high-frequency power and the second high-frequency power can be favorably increased, so the amplitude of the ultrasonic vibration 600 can be easily increased. .

また、本実施形態では、超音波振動600を発生する超音波振動板3が、ケース20の側壁23に、増幅板32を介して保持されている。このため、超音波振動板3に高周波電力を供給した際に、超音波振動板3が振動しやすくなる。これにより、水500に、効果的に、増幅板32によって増幅された大きな振幅の超音波振動600を伝播させることができる。 Further, in this embodiment, an ultrasonic diaphragm 3 that generates ultrasonic vibrations 600 is held on the side wall 23 of the case 20 via an amplification plate 32. Therefore, when high-frequency power is supplied to the ultrasonic diaphragm 3, the ultrasonic diaphragm 3 easily vibrates. Thereby, the large amplitude ultrasonic vibration 600 amplified by the amplification plate 32 can be effectively propagated through the water 500.

なお、本実施形態では、超音波振動板3のドーム部30およびツバ部31は、ピエゾ素子で構成されている。これに関し、ドーム部30およびツバ部31は、ピエゾ素子以外の振動体から構成されていてもよい。 Note that in this embodiment, the dome portion 30 and the collar portion 31 of the ultrasonic diaphragm 3 are composed of piezo elements. In this regard, the dome portion 30 and the collar portion 31 may be composed of a vibrating body other than a piezo element.

また、インゴット100の表面101に噴射口241から超音波水501を噴射してワーク107を剥離する際には、インゴット100の厚さによらず、噴射口241とインゴット100の表面101との距離を一定にすることが好ましい。このために、保持テーブル10を昇降させる昇降機構を用いてもよい。あるいは、超音波水噴射装置1の移動機構4が、超音波水噴射ノズル2を昇降させるノズル昇降機構を備え、このノズル昇降機構によって超音波水噴射ノズル2を昇降させてもよい。 Furthermore, when the ultrasonic water 501 is injected onto the surface 101 of the ingot 100 from the injection port 241 to peel off the workpiece 107, the distance between the injection port 241 and the surface 101 of the ingot 100 is determined regardless of the thickness of the ingot 100. It is preferable to keep constant. For this purpose, an elevating mechanism for elevating and lowering the holding table 10 may be used. Alternatively, the moving mechanism 4 of the ultrasonic water injection device 1 may include a nozzle elevating mechanism for elevating and lowering the ultrasonic water injection nozzle 2, and the ultrasonic water injection nozzle 2 may be moved up and down by this nozzle elevating mechanism.

また、超音波水噴射装置1は、被対象物としてのワークを洗浄する洗浄装置として機能することもできる。このワークは、たとえば、インゴット100から剥離されたワーク107であってもよい。この場合、保持テーブル10によって保持されたワークの上面に、超音波水噴射ノズル2から超音波水を噴射することによって、このワークの上面を洗浄することができる。超音波水噴射装置1では、ワークに大きな振幅の超音波振動を与えることができるので、洗浄時間を短縮することが可能となるとともに、ワークから大きな汚れを除去することが可能である。 Further, the ultrasonic water injection device 1 can also function as a cleaning device that cleans a workpiece as a target object. This work may be, for example, the work 107 peeled from the ingot 100. In this case, the top surface of the workpiece held by the holding table 10 can be cleaned by jetting ultrasonic water from the ultrasonic water jet nozzle 2 onto the top surface of the workpiece. The ultrasonic water injection device 1 can apply ultrasonic vibrations of large amplitude to the workpiece, thereby making it possible to shorten the cleaning time and removing large amounts of dirt from the workpiece.

また、本実施形態では、超音波水噴射装置1が、第1高周波電源91および第2高周波電源92の2つの高周波電源を備えている。これに関し、第1高周波電源91および第2高周波電源92は、第1高周波電力および第2高周波電力を個別に出力することの可能な1つの電源であってもよい。 Further, in this embodiment, the ultrasonic water injection device 1 includes two high-frequency power sources, a first high-frequency power source 91 and a second high-frequency power source 92. In this regard, the first high frequency power source 91 and the second high frequency power source 92 may be one power source that can individually output the first high frequency power and the second high frequency power.

1:超音波水噴射装置、2:超音波水噴射ノズル、3:超音波振動板、4:移動機構、
10:保持テーブル、11:保持部、12:枠体、13:保持面、14:筐体、
20:ケース、21:底板、22:天板、23:側壁、24:ノズル部、
30:ドーム部、31:ツバ部、32:増幅板、
36:円形プラス電極、37:環状プラス電極、38:マイナス電極端子、39:マイナス電極、
40:回転機構、41:スピンドル、42:スピンドルモータ、43:エンコーダ、
44:スライド機構、45:旋回アーム、46:旋回モータ、47:エンコーダ、
48:旋回シャフト、60:水源、70:制御部、91:第1高周波電源、
92:第2高周波電源、100:インゴット、101:表面、102:裏面、
105:剥離層、107:ワーク、120:外側壁、122:底板、124:脚部、
221:第一室、222:第二室、231:水供給口、241:噴射口、261:下面、
262:上面、500:水、501:超音波水、600:超音波振動
1: Ultrasonic water injection device, 2: Ultrasonic water injection nozzle, 3: Ultrasonic diaphragm, 4: Movement mechanism,
10: Holding table, 11: Holding section, 12: Frame, 13: Holding surface, 14: Housing,
20: Case, 21: Bottom plate, 22: Top plate, 23: Side wall, 24: Nozzle part,
30: Dome part, 31: Collar part, 32: Amplification plate,
36: Circular positive electrode, 37: Annular positive electrode, 38: Negative electrode terminal, 39: Negative electrode,
40: Rotation mechanism, 41: Spindle, 42: Spindle motor, 43: Encoder,
44: Slide mechanism, 45: Swivel arm, 46: Swivel motor, 47: Encoder,
48: Rotating shaft, 60: Water source, 70: Control unit, 91: First high frequency power supply,
92: second high frequency power supply, 100: ingot, 101: front surface, 102: back surface,
105: Peeling layer, 107: Work, 120: Outer wall, 122: Bottom plate, 124: Legs,
221: first chamber, 222: second chamber, 231: water supply port, 241: injection port, 261: bottom surface,
262: Top surface, 500: Water, 501: Ultrasonic water, 600: Ultrasonic vibration

Claims (2)

被対象物に超音波振動が伝播した超音波水を噴射する超音波水噴射ノズルであって、
高周波電力を受けて超音波振動を発振するドーム型の超音波振動板と、
該超音波振動板の外周部分を支持し、該超音波振動板の凹んだ凹面側に一時的に水を溜める水溜部と、該水溜部に水を供給する水供給口と、該超音波振動板の該凹面に対向し該水溜部内の水を噴射する噴射口と、を備え、
該超音波振動板は、凸面側の中央に配置された円形プラス電極と、該円形プラス電極の外側に環状の隙間を空けて配置された環状プラス電極と、該凹面側に接続されたマイナス電極とを備え、
該円形プラス電極と該マイナス電極とが第1高周波電源に接続されているとともに、該環状プラス電極と該マイナス電極とが第2高周波電源に接続されており、
該円形プラス電極および該環状プラス電極に高周波電力を供給することによって該超音波振動板を振動させ、該噴射口から超音波水を噴射する、超音波水噴射ノズル。
An ultrasonic water injection nozzle that injects ultrasonic water in which ultrasonic vibrations are propagated to a target object,
A dome-shaped ultrasonic diaphragm that receives high-frequency power and oscillates ultrasonic vibrations,
a water reservoir portion that supports the outer peripheral portion of the ultrasonic diaphragm and temporarily stores water on the concave side of the ultrasonic diaphragm, a water supply port that supplies water to the water reservoir portion, and the ultrasonic vibration a jetting port facing the concave surface of the plate and jetting water in the water reservoir,
The ultrasonic diaphragm includes a circular positive electrode placed in the center of the convex side, an annular positive electrode placed outside the circular positive electrode with an annular gap, and a negative electrode connected to the concave side. and
The circular positive electrode and the negative electrode are connected to a first high frequency power source, and the annular positive electrode and the negative electrode are connected to a second high frequency power source,
An ultrasonic water injection nozzle that vibrates the ultrasonic diaphragm by supplying high frequency power to the circular positive electrode and the annular positive electrode, and injects ultrasonic water from the injection port.
該超音波振動板の外周から外側に張り出した増幅板と、該増幅板を支持して、該水溜部を形成するケースとを備える、
請求項1記載の超音波水噴射ノズル。
comprising an amplification plate projecting outward from the outer periphery of the ultrasonic diaphragm, and a case supporting the amplification plate and forming the water reservoir;
The ultrasonic water jet nozzle according to claim 1.
JP2022079393A 2022-05-13 2022-05-13 Ultrasonic water injection nozzle Pending JP2023167868A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022079393A JP2023167868A (en) 2022-05-13 2022-05-13 Ultrasonic water injection nozzle

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022079393A JP2023167868A (en) 2022-05-13 2022-05-13 Ultrasonic water injection nozzle

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2023167868A true JP2023167868A (en) 2023-11-24

Family

ID=88837803

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022079393A Pending JP2023167868A (en) 2022-05-13 2022-05-13 Ultrasonic water injection nozzle

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2023167868A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2014112829A (en) Apparatus and method for processing substrate
JP2002280343A (en) Cleaning process apparatus and cutting work apparatus
TW202102309A (en) Ultrasonic water jet apparatus including piezoelectric vibration plate
JP2006007066A (en) Ultrasonic cleaner
JP2023167868A (en) Ultrasonic water injection nozzle
KR20080035890A (en) Cleaning device using ultrasonic
JP2000216126A (en) Substrate cleaning method and apparatus therefor
TWI791856B (en) Ultrasonic Water Jetting Device
JP7417464B2 (en) How to generate wafers
JP7295621B2 (en) Wafer cutting method and wafer division method
JP7409837B2 (en) Protective film forming device
JP3960516B2 (en) Substrate processing equipment
JP2022028313A (en) Ultrasonic cleaning nozzle
JP2010238744A (en) Ultrasonic cleaning unit, and ultrasonic cleaning device
JP2021190550A (en) Ultrasonic cleaning nozzle unit and ultrasonic cleaning device
JP7222635B2 (en) ultrasonic water injector
JP7405539B2 (en) Cleaning nozzle and cleaning method
JP2023082482A (en) Ultrasonic water injection device
JP2009208005A (en) Ultrasonic washing apparatus
JP2007237157A (en) Ultrasonic washing apparatus
JP2022149416A (en) Cleaning device
JP2006095458A (en) Single wafer processing cleaning method and single wafer processing cleaning apparatus
JP2006075775A (en) Ultrasonic cleaning apparatus
JP2007245129A (en) Ultrasonic cleaner
JP2010080531A (en) Ultrasonic cleaning apparatus and method