JP2023158363A - Aluminum member, and method of producing the same - Google Patents

Aluminum member, and method of producing the same Download PDF

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Abstract

To provide a dyed aluminum member of low angle-dependency, and a method of producing the same.SOLUTION: An aluminum member 1 comprises: a substrate 10 formed of aluminum or an aluminum alloy; and an anode oxidation film 20 including a barrier layer 21 in contact with the surface of the substrate 10, a first porous layer 22 disposed on the opposite side of the barrier layer 21 with respect to the substrate 10, and a second porous layer 23 in contact with the opposite surface of the first porous layer 22 with respect to the barrier layer 21. The anode oxidation film 20 incorporates a dye compound, the first porous layer 22 comprises a plurality of branched pores, and the second porous layer 23 comprises a plurality of pores linearly extending in the lamination direction of the first porous layer 22 and the second porous layer 23.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本開示は、アルミニウム部材及びその製造方法に関する。 The present disclosure relates to an aluminum member and a method for manufacturing the same.

近年、例えば携帯機器やパソコン筐体を、白色の外観にしたいという要望が増加している。このような要望に応えるため、アルミニウム又はアルミニウム合金により形成された基材の表面に陽極酸化皮膜を形成することによって、アルミニウム部材の外観を白色にする試みがなされている。 In recent years, there has been an increasing demand for, for example, the housings of mobile devices and personal computers to have a white appearance. In order to meet such demands, attempts have been made to make the appearance of aluminum members white by forming an anodic oxide film on the surface of a base material formed of aluminum or an aluminum alloy.

特許文献1には、基材の表面の算術平均高さSaが0.1μm~0.5μmであり、最大高さSzが0.2μm~5μmであり、粗さ曲線要素の平均長さRSmが0.5μm~10μmであるアルミニウム部材が開示されている。 Patent Document 1 states that the arithmetic mean height Sa of the surface of the base material is 0.1 μm to 0.5 μm, the maximum height Sz is 0.2 μm to 5 μm, and the average length RSm of the roughness curve element is Aluminum members are disclosed that are between 0.5 μm and 10 μm.

特許第6525035号公報Patent No. 6525035

特許文献1のアルミニウム部材によれば、基材の算術平均高さSa、最大高さSz及び粗さ曲線要素の平均長さRSmを所定の範囲内とすることにより、白色の外観を有するアルミニウム部材が得られる。ところで、アルミニウム部材に意匠性を付与する方法として、陽極酸化したアルミニウムを様々な色に染色する方法が知られている。しかしながら、染色したアルミニウム部材は、アルミニウム自体の光沢により、見る角度によって見え方が異なる場合がある。 According to the aluminum member of Patent Document 1, by setting the arithmetic mean height Sa, maximum height Sz, and average length RSm of the roughness curve elements of the base material within predetermined ranges, the aluminum member has a white appearance. is obtained. By the way, as a method of imparting design properties to aluminum members, a method of dyeing anodized aluminum in various colors is known. However, the appearance of a dyed aluminum member may differ depending on the viewing angle due to the luster of the aluminum itself.

本開示は、このような従来技術が有する課題に鑑みてなされたものである。そして、本開示の目的は、角度依存性が低く、染色されたアルミニウム部材及びその製造方法を提供することである。 The present disclosure has been made in view of the problems that the conventional technology has. An object of the present disclosure is to provide a dyed aluminum member with low angle dependence and a method for manufacturing the same.

本開示の第1の態様に係るアルミニウム部材は、アルミニウム又はアルミニウム合金により形成された基材と、基材の表面と接するバリア層と、バリア層の基材とは反対側に配置された第1ポーラス層と、第1ポーラス層のバリア層とは反対の面に接する第2ポーラス層とを含む陽極酸化皮膜と、を備え、陽極酸化皮膜には染料化合物が取り込まれており、第1ポーラス層は複数の分岐する孔を有し、第2ポーラス層は第1ポーラス層と第2ポーラス層との積層方向に直線状に延びる複数の孔を有する。 An aluminum member according to a first aspect of the present disclosure includes a base material formed of aluminum or an aluminum alloy, a barrier layer in contact with a surface of the base material, and a first layer disposed on the opposite side of the barrier layer from the base material. an anodic oxide film including a porous layer and a second porous layer in contact with a surface opposite to the barrier layer of the first porous layer, the anodic oxide film incorporates a dye compound, and the first porous layer has a plurality of branching pores, and the second porous layer has a plurality of pores extending linearly in the lamination direction of the first porous layer and the second porous layer.

本開示の第2の態様に係るアルミニウム部材の製造方法は、アルミニウム又はアルミニウム合金により形成された基材を、直線状に延びる複数の孔を形成可能な電解液で第1陽極酸化する工程と、第1陽極酸化された基材を、複数の分岐する孔を形成可能な電解液で第2陽極酸化する工程とを含み、基材の表面に陽極酸化皮膜を形成する陽極酸化工程と、陽極酸化皮膜に染料化合物を取り込む工程とを含む。 A method for manufacturing an aluminum member according to a second aspect of the present disclosure includes a step of first anodizing a base material made of aluminum or an aluminum alloy with an electrolytic solution capable of forming a plurality of linearly extending holes; a second anodizing step of the first anodized base material with an electrolytic solution capable of forming a plurality of branching pores; an anodizing step of forming an anodized film on the surface of the base material; incorporating a dye compound into the film.

本開示によれば、角度依存性が低く、染色されたアルミニウム部材及びその製造方法を提供することができる。 According to the present disclosure, it is possible to provide a dyed aluminum member with low angle dependence and a method for manufacturing the same.

本実施形態に係るアルミニウム部材の一例を示す断面図である。It is a sectional view showing an example of the aluminum member concerning this embodiment. 本実施形態に係るアルミニウム部材の製造方法の一例を示す図である。It is a figure showing an example of the manufacturing method of the aluminum member concerning this embodiment. 分光測色計を用いて角度依存性を評価する方法を説明する図である。It is a figure explaining the method of evaluating angle dependence using a spectrophotometer. ゴニオフォトメーターを用いて角度依存性を評価する方法を説明する図である。It is a figure explaining the method of evaluating angle dependence using a goniophotometer. 参考実施例1のアルミニウム部材の断面をFIB(集束イオンビーム)加工し、TEM(透過型電子顕微鏡)で2,550倍に拡大した画像である。This is an image obtained by subjecting the cross section of the aluminum member of Reference Example 1 to FIB (focused ion beam) processing and magnifying it 2,550 times using a TEM (transmission electron microscope). 参考実施例1のアルミニウム部材の断面をFIB加工し、TEMで19,500倍に拡大した画像である。This is an image obtained by subjecting the cross section of the aluminum member of Reference Example 1 to FIB processing and magnifying it 19,500 times using a TEM. 参考実施例1のアルミニウム部材の断面をFIB加工し、TEMで43,000倍に拡大した画像である。This is an image obtained by subjecting the cross section of the aluminum member of Reference Example 1 to FIB processing and magnifying it 43,000 times using a TEM. 参考比較例1のアルミニウム部材の断面をFIB加工し、TEMで2,550倍に拡大した画像である。This is an image obtained by subjecting the cross section of the aluminum member of Reference Comparative Example 1 to FIB processing and magnifying it 2,550 times using a TEM. 参考比較例1のアルミニウム部材の断面をFIB加工し、TEMで19,500倍に拡大した画像である。This is an image obtained by subjecting the cross section of the aluminum member of Reference Comparative Example 1 to FIB processing and magnifying it 19,500 times using a TEM. 参考比較例1のアルミニウム部材の断面をFIB加工し、TEMで43,000倍に拡大した画像である。This is an image obtained by subjecting the cross section of the aluminum member of Reference Comparative Example 1 to FIB processing and magnifying it 43,000 times using a TEM. 参考比較例2のアルミニウム部材の断面をFIB加工し、TEMで2,550倍に拡大した画像である。This is an image obtained by subjecting the cross section of the aluminum member of Reference Comparative Example 2 to FIB processing and magnifying it 2,550 times using a TEM. 参考比較例2のアルミニウム部材の断面をFIB加工し、TEMで19,500倍に拡大した画像である。This is an image obtained by subjecting the cross section of the aluminum member of Reference Comparative Example 2 to FIB processing and magnifying it 19,500 times using a TEM. 参考比較例2のアルミニウム部材の断面をFIB加工し、TEMで43,000倍に拡大した画像である。This is an image obtained by subjecting the cross section of the aluminum member of Reference Comparative Example 2 to FIB processing and magnifying it 43,000 times using a TEM. 参考実施例2のアルミニウム部材をGD-OES(グロー放電発光分析法)で測定した結果である。These are the results of measuring the aluminum member of Reference Example 2 using GD-OES (glow discharge optical emission spectrometry). 参考比較例3のアルミニウム部材をGD-OESで測定した結果である。These are the results of measuring the aluminum member of Reference Comparative Example 3 using GD-OES. 実施例7のアルミニウム部材をGD-OESで測定した結果である。These are the results of measuring the aluminum member of Example 7 using GD-OES. 比較例7のアルミニウム部材をGD-OESで測定した結果である。These are the results of measuring the aluminum member of Comparative Example 7 using GD-OES. 実施例9のアルミニウム部材をGD-OESで測定した結果である。This is the result of measuring the aluminum member of Example 9 using GD-OES. 比較例9のアルミニウム部材をGD-OESで測定した結果である。These are the results of measuring the aluminum member of Comparative Example 9 using GD-OES. 実施例11のアルミニウム部材をGD-OESで測定した結果である。These are the results of measuring the aluminum member of Example 11 using GD-OES. 比較例11のアルミニウム部材をGD-OESで測定した結果である。These are the results of measuring the aluminum member of Comparative Example 11 using GD-OES.

以下、図面を用いて本実施形態に係るアルミニウム部材及びアルミニウム部材の製造方法について詳細に説明する。なお、図面の寸法比率は説明の都合上誇張されており、実際の比率とは異なる場合がある。 Hereinafter, an aluminum member and a method for manufacturing the aluminum member according to the present embodiment will be described in detail with reference to the drawings. Note that the dimensional ratios in the drawings are exaggerated for convenience of explanation and may differ from the actual ratios.

[アルミニウム部材]
まず、本実施形態に係るアルミニウム部材1について図1を用いて説明する。図1に示すように、アルミニウム部材1は、基材10と、陽極酸化皮膜20とを備えている。以下において、これらの構成要素を説明する。
[Aluminum member]
First, an aluminum member 1 according to the present embodiment will be explained using FIG. 1. As shown in FIG. 1, the aluminum member 1 includes a base material 10 and an anodic oxide film 20. As shown in FIG. These components will be explained below.

(基材10)
基材10は、アルミニウム又はアルミニウム合金により形成される。基材10は、例えば、1000系合金、2000系合金、3000系合金、4000系合金、5000系合金、6000系合金、7000系合金又は8000系で形成されていてもよい。1000系合金としては、JIS規格に記載のA1050、A1050A、A1070、A1080、A1085、A1100、A1200、A1N00及びA1N30を例示することができる。2000系合金としては、JIS規格に記載のA2011、A2014、A2014A、A2017、A2017A、A2024、及びA2N01を例示することができる。3000系合金としては、JIS規格に記載のA3003、A3103、A3203、A3004、A3104、A3005及びA3105を例示することができる。4000系合金としては、JIS規格に記載のA4032を例示することができる。5000系合金としてはJIS規格に記載のA5005、A5N01、A5021、A5052、5N02及びA5042を例示することができる。6000系合金としては、JIS規格に記載のA6101、A6061、A6005、A6N01、A6151及びA6063を例示することができる。7000系合金としては、A7003、A7005、A7010、A7020、A7050、A7075A及びA7N01を例示することができる。8000系合金としては、JIS規格に記載のA8021、A8079を例示することができる。基材10は、0質量%~10質量%のマグネシウムと、5質量%以下の鉄と、13質量%以下のケイ素とを含有し、残部がアルミニウム及び不可避不純物であるアルミニウム又はアルミニウム合金により形成されてもよい。基材10は、0質量%~10質量%のマグネシウムと、5質量%以下の鉄と、13質量%以下のケイ素と、10質量%以下の亜鉛とを含有し、残部がアルミニウム及び不可避不純物であるアルミニウム又はアルミニウム合金により形成されてもよい。基材10は、0質量%~10質量%のマグネシウムと、5質量%以下の鉄と、13質量%以下のケイ素と、10質量%以下の銅とを含有し、残部がアルミニウム及び不可避不純物であるアルミニウム又はアルミニウム合金により形成されてもよい。基材10は、0質量%~10質量%のマグネシウムと、5質量%以下の鉄と、13質量%以下のケイ素と、10質量%以下の銅と、3質量%以下のマンガンとを含有し、残部がアルミニウム及び不可避不純物であるアルミニウム又はアルミニウム合金により形成されてもよい。
(Base material 10)
The base material 10 is formed of aluminum or an aluminum alloy. The base material 10 may be formed of, for example, a 1000 series alloy, a 2000 series alloy, a 3000 series alloy, a 4000 series alloy, a 5000 series alloy, a 6000 series alloy, a 7000 series alloy, or an 8000 series alloy. Examples of the 1000 series alloy include A1050, A1050A, A1070, A1080, A1085, A1100, A1200, A1N00, and A1N30 described in the JIS standard. Examples of the 2000 series alloy include A2011, A2014, A2014A, A2017, A2017A, A2024, and A2N01 described in the JIS standard. Examples of the 3000 series alloy include A3003, A3103, A3203, A3004, A3104, A3005, and A3105 described in the JIS standard. As the 4000 series alloy, A4032 described in the JIS standard can be exemplified. Examples of the 5000 series alloy include A5005, A5N01, A5021, A5052, 5N02, and A5042 listed in the JIS standard. Examples of the 6000 series alloy include A6101, A6061, A6005, A6N01, A6151, and A6063 described in the JIS standard. Examples of the 7000 series alloy include A7003, A7005, A7010, A7020, A7050, A7075A, and A7N01. Examples of the 8000 series alloy include A8021 and A8079 described in the JIS standard. The base material 10 is formed of aluminum or an aluminum alloy containing 0% by mass to 10% by mass of magnesium, 5% by mass or less of iron, and 13% by mass or less of silicon, with the balance being aluminum and inevitable impurities. It's okay. The base material 10 contains 0% to 10% by mass of magnesium, 5% by mass or less of iron, 13% by mass or less of silicon, and 10% by mass or less of zinc, with the balance being aluminum and unavoidable impurities. It may also be formed from certain aluminum or aluminum alloys. The base material 10 contains 0% to 10% by mass of magnesium, 5% by mass or less of iron, 13% by mass or less of silicon, and 10% by mass or less of copper, with the balance being aluminum and unavoidable impurities. It may also be formed from certain aluminum or aluminum alloys. The base material 10 contains 0% to 10% by mass of magnesium, 5% by mass or less of iron, 13% by mass or less of silicon, 10% by mass or less of copper, and 3% by mass or less of manganese. , and the remainder may be formed of aluminum or an aluminum alloy, which is aluminum and unavoidable impurities.

マグネシウムは必ずしも基材10に含有されている必要はないが、基材10がマグネシウムを含有していると、アルミニウムとマグネシウムとが固溶して、基材10の強度を向上させることができる。また、マグネシウムの含有量を10質量%以下とすることにより、基材10の耐食性の低下を抑制しつつ、基材10の強度を向上させることができる。マグネシウムの含有量は、0.5質量%以上であってもよく、1質量%以上であってもよい。また、マグネシウムの含有量は、8質量%以下であってもよく、5質量%以下であってもよい。 Although magnesium does not necessarily have to be contained in the base material 10, when the base material 10 contains magnesium, aluminum and magnesium form a solid solution, and the strength of the base material 10 can be improved. Further, by setting the magnesium content to 10% by mass or less, the strength of the base material 10 can be improved while suppressing a decrease in the corrosion resistance of the base material 10. The content of magnesium may be 0.5% by mass or more, or 1% by mass or more. Further, the content of magnesium may be 8% by mass or less, or 5% by mass or less.

鉄、マンガン及びケイ素はアルミニウムと固溶しにくい。そのため、基材10がこれらの元素を含有する場合、これらの元素は陽極酸化皮膜20内に鉄又はケイ素を含む第二相として析出しやすい。陽極酸化皮膜20がこれらのような第二相を含有する場合、陽極酸化皮膜20内を透過する光の一部が第二相に吸収されるため、アルミニウム部材1が黄色を帯びた色のように見えてしまうことがある。基材10は3質量%以下の鉄を含有していてもよい。また、基材10は2質量%以下のマンガンを含有していてもよい。また、基材10は8質量%以下のケイ素を含有していてもよい。 Iron, manganese and silicon are difficult to form solid solutions with aluminum. Therefore, when the base material 10 contains these elements, these elements tend to precipitate in the anodic oxide film 20 as a second phase containing iron or silicon. When the anodic oxide film 20 contains such a second phase, part of the light that passes through the anodic oxide film 20 is absorbed by the second phase, so that the aluminum member 1 has a yellowish color. Sometimes it looks like The base material 10 may contain 3% by mass or less of iron. Further, the base material 10 may contain 2% by mass or less of manganese. Further, the base material 10 may contain silicon in an amount of 8% by mass or less.

亜鉛は必ずしも基材10に含有されている必要はないが、基材10が亜鉛を含有していると、基材10の強度を維持することができる。また、亜鉛の含有量を10質量%以下とすることにより、基材10の強度を維持しつつアルミニウム部材1の外観が損なわれにくい。亜鉛の含有量は8質量%以下であってもよい。 Although zinc does not necessarily need to be contained in the base material 10, when the base material 10 contains zinc, the strength of the base material 10 can be maintained. Furthermore, by setting the zinc content to 10% by mass or less, the appearance of the aluminum member 1 is less likely to be impaired while maintaining the strength of the base material 10. The content of zinc may be 8% by mass or less.

基材10は不可避不純物を含有していてもよい。本実施形態において、不可避不純物とは、原料中に存在したり、製造工程において不可避的に混入したりするものを意味する。不可避不純物は、本来は不要なものであるが、微量であり、アルミニウム又はアルミニウム合金中の特性に影響を及ぼさないため、許容されている不純物である。アルミニウム又はアルミニウム合金中に含有される可能性がある不可避不純物は、アルミニウム、マグネシウム、鉄、及びケイ素以外の元素である。不可避不純物は、亜鉛以外の元素であってもよく、銅以外の元素であってもよい。アルミニウム又はアルミニウム合金中に含有される可能性がある不可避不純物としては、例えば、クロム、チタン、ガリウム、ホウ素、バナジウム、ジルコニウム、鉛、カルシウム及びコバルトなどが挙げられる。不可避不純物の量は、アルミニウム又はアルミニウム合金中に合計で0.5質量%以下であることが好ましく、0.2質量%以下であることがより好ましく、0.15質量%以下がさらに好ましく、0.10質量%以下が特に好ましい。また、不可避不純物として含まれる個々の元素の含有量は0.05質量%以下であることが好ましく、0.03質量%以下であることがより好ましく、0.01質量%以下であることがさらに好ましい。 The base material 10 may contain unavoidable impurities. In the present embodiment, unavoidable impurities refer to those present in raw materials or unavoidably mixed during the manufacturing process. Unavoidable impurities are essentially unnecessary impurities, but are allowed because they are in trace amounts and do not affect the properties of aluminum or aluminum alloys. Unavoidable impurities that may be contained in aluminum or aluminum alloys are elements other than aluminum, magnesium, iron, and silicon. The inevitable impurity may be an element other than zinc or an element other than copper. Unavoidable impurities that may be contained in aluminum or aluminum alloys include, for example, chromium, titanium, gallium, boron, vanadium, zirconium, lead, calcium, and cobalt. The total amount of unavoidable impurities in aluminum or aluminum alloy is preferably 0.5% by mass or less, more preferably 0.2% by mass or less, even more preferably 0.15% by mass or less, and 0. .10% by mass or less is particularly preferred. Further, the content of individual elements contained as unavoidable impurities is preferably 0.05% by mass or less, more preferably 0.03% by mass or less, and even more preferably 0.01% by mass or less. preferable.

基材10は陽極酸化皮膜20側の表面11に凹凸を有していてもよい。アルミニウム部材1は、表面11に形成された凹凸によって陽極酸化皮膜20を透過する光を拡散反射することができる。表面11の凹凸は、後述する粗面化処理によって形成することができる。陽極酸化皮膜20を除去した際の陽極酸化皮膜20側における基材10の表面11の算術平均高さSaは0.1μm~0.7μmであってもよい。また、陽極酸化皮膜20を除去した際の陽極酸化皮膜20側における基材10の表面11の最大高さSzは25μm~50μmであってもよい。また、陽極酸化皮膜20を除去した際の陽極酸化皮膜20側における基材10の表面11の粗さ曲線要素の平均長さRSmは5μm~50μmであってもよい。陽極酸化皮膜20を除去した際の陽極酸化皮膜20側における基材10の表面11の算術平均高さSaは0.1μm~0.7μmであり、最大高さSzは25μm~50μmであり、かつ、粗さ曲線要素の平均長さRSmは5μm~50μmであってもよい。 The base material 10 may have irregularities on the surface 11 on the anodic oxide film 20 side. The aluminum member 1 can diffusely reflect the light that passes through the anodic oxide film 20 due to the unevenness formed on the surface 11. The unevenness on the surface 11 can be formed by a roughening treatment described below. The arithmetic mean height Sa of the surface 11 of the base material 10 on the anodic oxide film 20 side when the anodic oxide film 20 is removed may be 0.1 μm to 0.7 μm. Further, the maximum height Sz of the surface 11 of the base material 10 on the anodic oxide film 20 side when the anodic oxide film 20 is removed may be 25 μm to 50 μm. Furthermore, the average length RSm of the roughness curve elements of the surface 11 of the base material 10 on the anodic oxide film 20 side when the anodic oxide film 20 is removed may be 5 μm to 50 μm. When the anodic oxide film 20 is removed, the arithmetic mean height Sa of the surface 11 of the base material 10 on the anodic oxide film 20 side is 0.1 μm to 0.7 μm, the maximum height Sz is 25 μm to 50 μm, and , the average length RSm of the roughness curve elements may be 5 μm to 50 μm.

算術平均高さSaを0.1μm以上とすることにより、陽極酸化皮膜20を透過した光が基材10の表面11で拡散反射するため、角度依存性をさらに改善することができる。また、算術平均高さSaを0.7μm以下とすることにより、陽極酸化皮膜20を透過した光が基材10の表面11の凹凸間で捕捉されるのを抑制することができるため、アルミニウム部材1の外観が灰色になるのを抑制することができる。算術平均高さSaは0.2μm以上であってもよく、0.3μm以上であってもよい。算術平均高さSaは0.4μm以下であってもよい。算術平均高さSaは、ISO25178に準じて測定することができる。 By setting the arithmetic mean height Sa to 0.1 μm or more, the light transmitted through the anodic oxide film 20 is diffusely reflected on the surface 11 of the base material 10, so that the angular dependence can be further improved. In addition, by setting the arithmetic mean height Sa to 0.7 μm or less, it is possible to suppress the light that has passed through the anodic oxide film 20 from being captured between the unevenness of the surface 11 of the base material 10. 1 can be suppressed from turning gray in appearance. The arithmetic mean height Sa may be 0.2 μm or more, or may be 0.3 μm or more. The arithmetic mean height Sa may be 0.4 μm or less. The arithmetic mean height Sa can be measured according to ISO25178.

最大高さSzを25μm以上とすることにより、陽極酸化皮膜20を透過した光が基材10の表面11で拡散反射するため、角度依存性をさらに改善することができる。また、最大高さSzを50μm以下とすることにより、陽極酸化皮膜20を透過した光が基材10の表面11の凹凸間で捕捉されるのを抑制することができるため、アルミニウム部材1の外観が灰色になるのを抑制することができる。最大高さSzは30μm以上であってもよい。最大高さSzは、ISO25178に準じて測定することができる。 By setting the maximum height Sz to 25 μm or more, the light transmitted through the anodic oxide film 20 is diffusely reflected on the surface 11 of the base material 10, so that the angular dependence can be further improved. Furthermore, by setting the maximum height Sz to 50 μm or less, it is possible to suppress the light that has passed through the anodic oxide film 20 from being captured between the unevenness of the surface 11 of the base material 10, so that the appearance of the aluminum member 1 can be reduced. can be prevented from turning gray. The maximum height Sz may be 30 μm or more. The maximum height Sz can be measured according to ISO25178.

粗さ曲線要素の平均長さRSmを5μm以上とすることにより、基材10の表面11の凹凸のピッチが小さくなりすぎないため、陽極酸化皮膜20を透過した光が基材10の表面11の凹凸間で捕捉されるのを抑制することができる。したがって、アルミニウム部材1の外観が灰色になるのをさらに抑制することができる。また、粗さ曲線要素の平均長さRSmを50μm以下とすることにより、基材10の表面11の凹凸のピッチが大きくなりすぎない。そのため、陽極酸化皮膜20を透過した光が基材10の表面11で拡散反射し、角度依存性をさらに改善することができる。粗さ曲線要素の平均長さRSmは、10μm以上であってもよく、15μm以上であってもよい。また、粗さ曲線要素の平均長さRSmは、40μm以下であってもよい。粗さ曲線要素の平均長さRSmは、JIS B0601:2013(ISO 4287:1997,Amd.1:2009)に準じて測定することができる。 By setting the average length RSm of the roughness curve element to 5 μm or more, the pitch of the unevenness on the surface 11 of the base material 10 does not become too small, so that the light transmitted through the anodic oxide film 20 can be transmitted to the surface 11 of the base material 10. It is possible to suppress capture between unevenness. Therefore, it is possible to further suppress the appearance of the aluminum member 1 from becoming gray. Further, by setting the average length RSm of the roughness curve elements to 50 μm or less, the pitch of the unevenness on the surface 11 of the base material 10 does not become too large. Therefore, the light transmitted through the anodic oxide film 20 is diffusely reflected on the surface 11 of the base material 10, and the angle dependence can be further improved. The average length RSm of the roughness curve elements may be 10 μm or more, or 15 μm or more. Moreover, the average length RSm of the roughness curve element may be 40 μm or less. The average length RSm of the roughness curve element can be measured according to JIS B0601:2013 (ISO 4287:1997, Amd.1:2009).

基材10の表面11の算術平均高さSa、最大高さSz及び粗さ曲線要素の平均長さRSmは、基材10から陽極酸化皮膜20を除去することにより測定することができる。なお、基材10の表面11の凹凸は陽極酸化によって滑らかになるため、陽極酸化前の基材10の表面11の凹凸と陽極酸化後の基材10の表面11の凹凸とは形状が異なっているおそれがある。そのため、本実施形態では、陽極酸化皮膜20除去後の基材10の表面11の形状を測定している。基材10から陽極酸化皮膜20を除去する方法は特に限定されない。例えばJIS H8688:2013(アルミニウム及びアルミニウム合金の陽極酸化皮膜の単位面積当たりの質量測定方法)に準じ、アルミニウム部材1をリン酸クロム酸(VI)溶液に浸し、陽極酸化皮膜20を溶解して除去することができる。 The arithmetic mean height Sa, maximum height Sz, and average length RSm of the roughness curve elements of the surface 11 of the base material 10 can be measured by removing the anodic oxide film 20 from the base material 10. Note that since the unevenness on the surface 11 of the base material 10 is smoothed by anodizing, the unevenness on the surface 11 of the base material 10 before anodizing is different from the unevenness on the surface 11 of the base material 10 after anodizing. There is a possibility that there may be. Therefore, in this embodiment, the shape of the surface 11 of the base material 10 after the anodic oxide film 20 is removed is measured. The method for removing the anodic oxide film 20 from the base material 10 is not particularly limited. For example, in accordance with JIS H8688:2013 (method for measuring mass per unit area of anodic oxide coatings on aluminum and aluminum alloys), the aluminum member 1 is immersed in a phosphoric acid chromic acid (VI) solution to dissolve and remove the anodic oxide coating 20. can do.

基材10の形状や厚さは特に限定されず、用途に応じて適宜変更することができる。また、基材10は、加工処理又は熱処理などがされていてもよい。 The shape and thickness of the base material 10 are not particularly limited and can be changed as appropriate depending on the application. Further, the base material 10 may be subjected to processing treatment, heat treatment, or the like.

(陽極酸化皮膜20)
陽極酸化皮膜20は、基材10の表面11に設けられる。このような陽極酸化皮膜20により、耐食性や耐摩耗性などを向上させることができる。陽極酸化皮膜20の膜厚は特に限定されないが、1μm~50μmであることが好ましい。陽極酸化皮膜20の膜厚を1μm以上とすることで、基材10が腐食するのを抑制することができる。また、陽極酸化皮膜20の膜厚を50μm以下とすることにより、光が陽極酸化皮膜20で吸光されるのを抑制することができる。陽極酸化皮膜20は、バリア層21と、第1ポーラス層22と、第2ポーラス層23とを含んでいる。
(Anodized film 20)
Anodic oxide film 20 is provided on surface 11 of base material 10 . Such an anodic oxide film 20 can improve corrosion resistance, wear resistance, and the like. The thickness of the anodic oxide film 20 is not particularly limited, but is preferably 1 μm to 50 μm. By setting the thickness of the anodic oxide film 20 to 1 μm or more, corrosion of the base material 10 can be suppressed. Further, by setting the thickness of the anodic oxide film 20 to 50 μm or less, light absorption by the anodic oxide film 20 can be suppressed. The anodic oxide film 20 includes a barrier layer 21 , a first porous layer 22 , and a second porous layer 23 .

バリア層21は基材10の表面11と接している。バリア層21は緻密な無孔質の層である。バリア層21の厚さは特に限定されないが、例えば1nm以上であってもよく、10nm以上であってもよい。また、バリア層21の厚さは、500nm以下であってもよく、300nm以下であってもよい。 Barrier layer 21 is in contact with surface 11 of base material 10 . Barrier layer 21 is a dense non-porous layer. The thickness of the barrier layer 21 is not particularly limited, but may be, for example, 1 nm or more, or 10 nm or more. Moreover, the thickness of the barrier layer 21 may be 500 nm or less, or may be 300 nm or less.

バリア層21は、酸化アルミニウムを含んでいる。また、バリア層21は、アルミニウム及び酸素の他、陽極酸化で用いた電解液の成分に由来する元素を含んでいてもよい。電解液の成分に由来する元素は、硫黄、炭素、ナトリウム、カリウム、リン、ケイ素、及び、アンモニアの構成元素である窒素からなる群より選択される少なくとも一種の元素であってもよい。 Barrier layer 21 contains aluminum oxide. In addition to aluminum and oxygen, the barrier layer 21 may also contain elements derived from the components of the electrolytic solution used in the anodic oxidation. The element derived from the components of the electrolytic solution may be at least one element selected from the group consisting of sulfur, carbon, sodium, potassium, phosphorus, silicon, and nitrogen, which is a constituent element of ammonia.

第1ポーラス層22はバリア層21の基材10とは反対側に配置されている。本実施形態では、第1ポーラス層22はバリア層21の基材10とは反対側の面に接しているが、バリア層21と第1ポーラス層22との間に図示しない第3ポーラス層が配置されていてもよい。 The first porous layer 22 is disposed on the opposite side of the barrier layer 21 from the base material 10. In this embodiment, the first porous layer 22 is in contact with the surface of the barrier layer 21 opposite to the base material 10, but a third porous layer (not shown) is provided between the barrier layer 21 and the first porous layer 22. may be placed.

第1ポーラス層22は複数の分岐する孔を有している。第1ポーラス層22の各孔は樹状構造を有しており、第1ポーラス層22にはバリア層21の表面から第2ポーラス層23に向かって分岐しながら延びる複数の孔が設けられてもよい。第1ポーラス層22には、バリア層21の表面から第2ポーラス層23に向かって延びる直線状の孔が設けられており、直線状の孔から分岐する孔が設けられていてもよい。 The first porous layer 22 has a plurality of branching pores. Each pore of the first porous layer 22 has a dendritic structure, and the first porous layer 22 is provided with a plurality of pores extending from the surface of the barrier layer 21 toward the second porous layer 23 while branching. Good too. The first porous layer 22 is provided with linear pores extending from the surface of the barrier layer 21 toward the second porous layer 23, and may be provided with pores branching from the linear pores.

第1ポーラス層22は第2ポーラス層23よりも大きい平均孔径の複数の孔を有していてもよい。孔径を大きくする場合、電圧を高くすることができ、成膜速度を速くすることができる。また、第1ポーラス層22は第2ポーラス層23よりも小さい平均孔径の複数の孔を有していてもよい。なお、本明細書において、平均孔径は、透過型電子顕微鏡でアルミニウム部材1の断面を観察して10以上の孔を測定した平均値である。 The first porous layer 22 may have a plurality of pores having a larger average pore diameter than the second porous layer 23. When the pore size is increased, the voltage can be increased and the film formation rate can be increased. Further, the first porous layer 22 may have a plurality of pores having a smaller average pore diameter than the second porous layer 23. In addition, in this specification, the average pore diameter is an average value obtained by observing the cross section of the aluminum member 1 with a transmission electron microscope and measuring 10 or more pores.

第1ポーラス層22の複数の孔の平均孔径は、5nm~350nmの範囲内であってもよい。第1ポーラス層22の平均孔径は、20nm以上であってもよく、50nm以上であってもよい。また、第1ポーラス層22の平均孔径は、300nm以下であってもよく、200nm以下であってもよく、150nm以下であってもよい。 The average pore diameter of the plurality of pores in the first porous layer 22 may be within the range of 5 nm to 350 nm. The average pore diameter of the first porous layer 22 may be 20 nm or more, or 50 nm or more. Moreover, the average pore diameter of the first porous layer 22 may be 300 nm or less, 200 nm or less, or 150 nm or less.

第1ポーラス層22の厚さは、特に限定されないが、10nm以上20000nm以下であってもよい。第1ポーラス層22の厚さを上記の範囲とすることにより、光の拡散反射を促進させることができる。第1ポーラス層22の厚さは、50nm以上であってもよく、100nm以上であってもよい。第1ポーラス層22の厚さは、15000nm以下であってもよく、10000nm以下であってもよい。 The thickness of the first porous layer 22 is not particularly limited, but may be 10 nm or more and 20,000 nm or less. By setting the thickness of the first porous layer 22 within the above range, diffuse reflection of light can be promoted. The thickness of the first porous layer 22 may be 50 nm or more, or 100 nm or more. The thickness of the first porous layer 22 may be 15,000 nm or less, or may be 10,000 nm or less.

第1ポーラス層22は、酸化アルミニウムを含んでいる。また、第1ポーラス層22は、アルミニウム及び酸素の他、陽極酸化の電解液に由来する成分を含んでいてもよい。電解液に由来する成分は、硫酸、リン酸及びこれらの塩類、蓚酸、サリチル酸、クエン酸、マレイン酸及び酒石酸等のようなカルボキシル基を含む酸並びにこれらの塩類、ケイ酸塩、並びに、アンモニウム塩などであってもよい。塩としては、ナトリウム塩及びカリウム塩などが挙げられる。 The first porous layer 22 contains aluminum oxide. In addition to aluminum and oxygen, the first porous layer 22 may also contain components derived from the electrolyte solution for anodic oxidation. Components derived from the electrolyte include acids containing carboxyl groups such as sulfuric acid, phosphoric acid and their salts, oxalic acid, salicylic acid, citric acid, maleic acid and tartaric acid, and their salts, silicates, and ammonium salts. etc. Examples of salts include sodium salts and potassium salts.

第2ポーラス層23は、第1ポーラス層22のバリア層21とは反対の面に接している。第2ポーラス層23はアルミニウム部材1の最外層として配置され、露出していてもよい。第2ポーラス層23は、陽極酸化皮膜20の最外層であってもよい。 The second porous layer 23 is in contact with the surface of the first porous layer 22 opposite to the barrier layer 21 . The second porous layer 23 is arranged as the outermost layer of the aluminum member 1 and may be exposed. The second porous layer 23 may be the outermost layer of the anodic oxide film 20.

第2ポーラス層23は第1ポーラス層22と第2ポーラス層23との積層方向に直線状に延びる複数の孔を有している。第2ポーラス層23は、第1ポーラス層22と接する面から露出する表面24に向かって整列して直線状に延びる複数の孔を有していてもよい。第2ポーラス層23の孔は、第1ポーラス層22の孔と連なっていてもよい。 The second porous layer 23 has a plurality of holes extending linearly in the lamination direction of the first porous layer 22 and the second porous layer 23. The second porous layer 23 may have a plurality of pores that are aligned and extend linearly from the surface in contact with the first porous layer 22 toward the exposed surface 24 . The pores of the second porous layer 23 may be continuous with the pores of the first porous layer 22.

第2ポーラス層23の複数の孔の平均孔径は、1nm~200nmの範囲内であってもよい。第2ポーラス層23の平均孔径は、5nm以上であってもよく、10nm以上であってもよい。また、第2ポーラス層23の平均孔径は、100nm以下であってもよく、50nm以下であってもよく、20nm以下であってもよい。 The average pore diameter of the plurality of pores in the second porous layer 23 may be within the range of 1 nm to 200 nm. The average pore diameter of the second porous layer 23 may be 5 nm or more, or 10 nm or more. Further, the average pore diameter of the second porous layer 23 may be 100 nm or less, 50 nm or less, or 20 nm or less.

第2ポーラス層23の厚さは、特に限定されないが、2μm以上50μm以下であってもよい。第2ポーラス層23の厚さを2μm以上とすることにより、基材10の上に生成された陽極酸化皮膜20の干渉色を抑制することができる。第2ポーラス層23の厚さを50μm以下とすることにより、陽極酸化皮膜20を形成する際の溶解を低減することができる。第2ポーラス層23の厚さは、5μm以上であってもよく、8μm以上であってもよい。また、第2ポーラス層23の厚さは、25μm以下であってもよく、15μm以下であってもよい。 The thickness of the second porous layer 23 is not particularly limited, but may be 2 μm or more and 50 μm or less. By setting the thickness of the second porous layer 23 to 2 μm or more, interference colors of the anodic oxide film 20 formed on the base material 10 can be suppressed. By setting the thickness of the second porous layer 23 to 50 μm or less, dissolution during formation of the anodic oxide film 20 can be reduced. The thickness of the second porous layer 23 may be 5 μm or more, or 8 μm or more. Moreover, the thickness of the second porous layer 23 may be 25 μm or less, or may be 15 μm or less.

第2ポーラス層23は、酸化アルミニウムを含んでいる。また、第2ポーラス層23は、酸化アルミニウムに加え、陽極酸化の電解液に由来する成分を含んでいてもよい。陽極酸化の電解液に由来する成分は、硫酸、アミド硫酸、リン酸及びこれらの塩類、蓚酸、サリチル酸、クエン酸、マレイン酸及び酒石酸等のようなカルボキシル基を含む酸並びにこれらの塩類、ケイ酸塩、並びに、アンモニウム塩などであってもよい。塩としては、ナトリウム塩及びカリウム塩などが挙げられる。第2ポーラス層23が上記成分を含むことにより、第2ポーラス層23の透光性が高くなることから、基材10の表面11で拡散された光を透過しやすくなる。 The second porous layer 23 contains aluminum oxide. Further, the second porous layer 23 may contain, in addition to aluminum oxide, a component derived from the electrolyte solution for anodization. Components derived from the electrolyte for anodizing include sulfuric acid, amidosulfuric acid, phosphoric acid and their salts, acids containing carboxyl groups such as oxalic acid, salicylic acid, citric acid, maleic acid and tartaric acid, and their salts, silicic acid Salts, ammonium salts, etc. may be used. Examples of salts include sodium salts and potassium salts. When the second porous layer 23 contains the above-mentioned components, the light transmittance of the second porous layer 23 becomes high, so that light diffused by the surface 11 of the base material 10 can easily pass through.

陽極酸化皮膜20には染料化合物が取り込まれている。これにより、アルミニウム部材1は、取り込まれた染料化合物に起因する色を呈することができ、意匠の自由度を高めることができる。染料化合物は、第1ポーラス層22及び第2ポーラス層23の少なくともいずれか一方に取り込まれていてもよい。染料化合物は、第1ポーラス層22の孔内に配置されていてもよく、第2ポーラス層23の孔内に配置されていてもよい。染料化合物は表面24を含む陽極酸化皮膜20の表層に配置されていてもよい。染料化合物は、有機染料化合物及び無機染料化合物の少なくともいずれか一方を含んでいてもよい。染料化合物は、例えば、窒素元素を有していてもよい。 A dye compound is incorporated into the anodic oxide film 20. Thereby, the aluminum member 1 can exhibit a color resulting from the incorporated dye compound, and the degree of freedom in design can be increased. The dye compound may be incorporated into at least one of the first porous layer 22 and the second porous layer 23. The dye compound may be located within the pores of the first porous layer 22 or within the pores of the second porous layer 23. The dye compound may be disposed on the surface layer of the anodic oxide coating 20, including the surface 24. The dye compound may include at least one of an organic dye compound and an inorganic dye compound. The dye compound may contain, for example, the element nitrogen.

有機染料化合物は、ニトロ基、アゾ基、スルホ基及びカルボニル基からなる群より選択される少なくとも一種の不飽和原子団を有していてもよい。また、有機染料化合物は、例えば、窒素元素を有していてもよい。例えば、染料化合物はアゾ基を有していてもよい。有機染料化合物は芳香族環を有していてもよい。有機染料化合物は、遷移金属元素を含んでいてもよい。有機染料化合物は、遷移金属元素より選ばれる少なくとも一種の元素を含んでいてもよく、二種以上の元素を含んでいてもよい。有機染料化合物は、クロム、コバルト、銅、ニッケル及び錫からなる群より選択される少なくとも一種を含んでいてもよい。例えば、染料化合物はクロムを有していてもよい。 The organic dye compound may have at least one unsaturated atomic group selected from the group consisting of a nitro group, an azo group, a sulfo group, and a carbonyl group. Further, the organic dye compound may contain, for example, a nitrogen element. For example, the dye compound may have an azo group. The organic dye compound may have an aromatic ring. The organic dye compound may contain a transition metal element. The organic dye compound may contain at least one element selected from transition metal elements, or may contain two or more elements. The organic dye compound may contain at least one selected from the group consisting of chromium, cobalt, copper, nickel, and tin. For example, the dye compound may contain chromium.

無機染料化合物は、遷移金属元素を含んでいてもよい。無機染料化合物は、遷移金属元素より選ばれる少なくとも一種の元素を含んでいてもよく、二種以上の元素を含んでいてもよい。無機染料化合物は、鉄、コバルト及び銅からなる群より選ばれる少なくとも一種を含んでいてもよい。無機染料化合物は、ニトロ基、アゾ基及びカルボニル基からなる群より選択される少なくとも一種の不飽和原子団を有していなくてもよい。無機染料化合物は芳香族環を有していなくてもよい。無機染料化合物は、シュウ酸鉄アンモニウム、シュウ酸鉄、シュウ酸コバルト、シュウ酸銅、酢酸鉄、酢酸コバルト、酢酸銅、硫酸鉄、硫酸コバルト、硫酸銅、塩化鉄、塩化コバルト、塩化銅、リン酸鉄、リン酸コバルト、及びリン酸銅からなる群より選択される少なくとも一種を含んでいてもよい。 The inorganic dye compound may contain a transition metal element. The inorganic dye compound may contain at least one element selected from transition metal elements, or may contain two or more elements. The inorganic dye compound may contain at least one selected from the group consisting of iron, cobalt, and copper. The inorganic dye compound does not need to have at least one unsaturated atomic group selected from the group consisting of a nitro group, an azo group, and a carbonyl group. The inorganic dye compound does not need to have an aromatic ring. Inorganic dye compounds include ammonium iron oxalate, iron oxalate, cobalt oxalate, copper oxalate, iron acetate, cobalt acetate, copper acetate, iron sulfate, cobalt sulfate, copper sulfate, iron chloride, cobalt chloride, copper chloride, phosphorus. It may contain at least one selected from the group consisting of iron acid, cobalt phosphate, and copper phosphate.

第1ポーラス層22及び第2ポーラス層23の少なくともいずれか一方の複数の孔は、アルミニウムが水和されたアルミニウム水和物を含む封孔物を有していてもよい。封孔物はニッケル化合物を含んでいてもよい。また、封孔処理の代わりに透明の有機系材料、無機系材料、複合材料でコーティングされてもよい。有機系材料のコーティングの例としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂及びフッ素樹脂のような樹脂コーティングなどが挙げられる。無機系材料のコーティングの例としては、DLC(Diamond-like Carbon)、ケイ素などの金属がスパッタリングされたスパッタ膜、及び株式会社ディ・アンド・ディ製のパーミエイト(登録商標)シリーズ等でコーティングされた無機成分を含有する無機コーティング膜などが挙げられる。複合材料のコーティングの例としては、樹脂と無機物質とを含むコーティングなどが挙げられる。 The plurality of pores in at least one of the first porous layer 22 and the second porous layer 23 may have a sealant containing an aluminum hydrate in which aluminum is hydrated. The sealant may contain a nickel compound. Furthermore, instead of sealing, coating may be performed with a transparent organic material, inorganic material, or composite material. Examples of coatings made of organic materials include resin coatings such as acrylic resins, urethane resins, and fluorine resins. Examples of inorganic material coatings include DLC (Diamond-like Carbon), sputtered films made by sputtering metals such as silicon, and Permeate (registered trademark) series manufactured by D&D Co., Ltd. Examples include inorganic coating films containing inorganic components. Examples of composite material coatings include coatings containing resin and inorganic substances.

陽極酸化皮膜20側から測定したアルミニウム部材1のL表色系におけるL値、a値、及びb値は特に限定されない。L値は、0以上、10以上、20以上、30以上、40以上、50以上、60以上、70以上、80以上、又は、90以上であってもよい。L値は、100以下、90以下、80以下、70以下、60以下、50以下、40以下、30以下、20以下、又は、10以下であってもよい。a値は、-90~+90以下であってもよい。a値は、-80以上、-70以上、-60以上、-50以上、-40以上、-30以上、-20以上、-10以上、0以上、10以上、20以上、30以上、40以上、50以上、60以上であってもよい。a値は、80以下、70以下、60以下、50以下、40以下、30以下、20以下、10以下、0以下、-10以下、-20以下、-30以下、-40以下、-50以下、-60以下であってもよい。b値は、-90~+90以下であってもよい。b値は、-80以上、-70以上、-60以上、-50以上、-40以上、-30以上、-20以上、-10以上、0以上、10以上、20以上、30以上、40以上、50以上、60以上であってもよい。b値は、80以下、70以下、60以下、50以下、40以下、30以下、20以下、10以下、0以下、-10以下、-20以下、-30以下、-40以下、-50以下、-60以下であってもよい。L表色系におけるL値、a値及びb値は、JIS Z8781-4:2013(測色-第4部:CIE 1976 L*a*b*色空間)に準じて求めることができる。L値、a値及びb値は色彩色差計などを用いて測定することができ、拡散照明垂直受光方式(D/0)、視野角2°、C光源のような条件で測定することができる。 The L * value, a* value, and b * value in the L * a * b * color system of the aluminum member 1 measured from the anodized film 20 side are not particularly limited. The L * value may be 0 or more, 10 or more, 20 or more, 30 or more, 40 or more, 50 or more, 60 or more, 70 or more, 80 or more, or 90 or more. The L * value may be 100 or less, 90 or less, 80 or less, 70 or less, 60 or less, 50 or less, 40 or less, 30 or less, 20 or less, or 10 or less. The a * value may be −90 to +90 or less. a * Values are -80 or more, -70 or more, -60 or more, -50 or more, -40 or more, -30 or more, -20 or more, -10 or more, 0 or more, 10 or more, 20 or more, 30 or more, 40 The number may be 50 or more, or 60 or more. a * Values are 80 or less, 70 or less, 60 or less, 50 or less, 40 or less, 30 or less, 20 or less, 10 or less, 0 or less, -10 or less, -20 or less, -30 or less, -40 or less, -50 Below, it may be -60 or less. The b * value may be −90 to +90 or less. b * Values are -80 or more, -70 or more, -60 or more, -50 or more, -40 or more, -30 or more, -20 or more, -10 or more, 0 or more, 10 or more, 20 or more, 30 or more, 40 The number may be 50 or more, or 60 or more. b * Values are 80 or less, 70 or less, 60 or less, 50 or less, 40 or less, 30 or less, 20 or less, 10 or less, 0 or less, -10 or less, -20 or less, -30 or less, -40 or less, -50 Below, it may be -60 or less. The L * value, a * value and b * value in the L * a * b * color system are in accordance with JIS Z8781-4:2013 (Colorimetry - Part 4: CIE 1976 L*a*b* color space) can be found. The L * value, a * value, and b * value can be measured using a colorimeter, etc., and are measured under conditions such as diffuse illumination vertical reception method (D/0), viewing angle 2°, and C light source. be able to.

アルミニウム部材1の表面24から基材10と陽極酸化皮膜20との界面よりも深い基材部分までをスパッタリングしながらグロー放電発光分析法(GD-OES)で測定し、アルミニウムの強度が最大強度の98%である位置を上記界面とし、スパッタリング開始時間を0%とし、スパッタリングが上記界面に到達した時間を100%とした場合に、スパッタリング開始後20%から100%までの測定時間における窒素の最小強度に対する最大強度の比が10以上であってもよい。この場合、染料化合物が窒素元素を有し、染料化合物による意匠性の向上を期待することができる。なお、スパッタリング開始時間の0%からスパッタリング開始後20%までの時間は、陽極酸化皮膜の表層部分にあたり、強度のばらつきが多いことから測定対象外としている。 The strength of the aluminum was measured by glow discharge optical emission spectrometry (GD-OES) while sputtering from the surface 24 of the aluminum member 1 to the part of the base material deeper than the interface between the base material 10 and the anodic oxide film 20, and the strength of the aluminum was determined to be the maximum strength. If the position at 98% is the interface, the sputtering start time is 0%, and the time when sputtering reaches the interface is 100%, then the minimum amount of nitrogen in the measurement time from 20% to 100% after the start of sputtering The ratio of maximum strength to strength may be 10 or more. In this case, the dye compound has a nitrogen element, and it can be expected that the dye compound will improve the design. Note that the time from 0% of the sputtering start time to 20% after the start of sputtering corresponds to the surface layer portion of the anodic oxide film and is excluded from measurement because there are many variations in strength.

陽極酸化皮膜20側から測定したアルミニウム部材1のL表色系におけるL値、a値及びb値を-15°、15°、25°、45°、75°及び110°の検出器角度で測定し、Lが最大となった値とLが最小となった値との差をΔL、aが最大となった値とaが最小となった値との差をΔa が最大となった値とbが最小となった値との差をΔbとし、(Δaと(Δbと(ΔLとの合計の平方根をΔEとした場合、ΔEは110以下であってもよい。ΔEは110以下であってもよく、100以下であってもよく、90以下であってもよく、80以下であってもよく、70以下であってもよく、60以下であってもよく、50以下であってもよい。ΔEの値を小さくするほど、角度依存性を改善することができる。そのため、上記比の下限値は0である。 The L * value, a * value and b * value of the aluminum member 1 measured from the anodized film 20 side in the L * a * b * color system are -15°, 15°, 25°, 45°, 75° and Measured at a detector angle of 110°, the difference between the value where L * is maximum and the value where L * is minimum is ΔL * , and the value where a * is maximum and a * is minimum The difference between the values is Δa * , and the difference between the value where b * is maximum and the value where b * is minimum is Δb * , and (Δa * ) 2 , (Δb * ) 2 , and (ΔL * ) 2 If ΔE is the square root of the sum of ΔE and ΔE, ΔE may be 110 or less. ΔE may be 110 or less, 100 or less, 90 or less, 80 or less, 70 or less, 60 or less, It may be 50 or less. The smaller the value of ΔE, the more the angle dependence can be improved. Therefore, the lower limit of the above ratio is 0.

ゴニオフォトメーターを用いて陽極酸化皮膜20側の反射強度を-80度~+20度の検出器角度で測定した場合において、最小反射強度に対する最大反射強度の比が400以下であってもよい。上記比は、200以下であってもよく、100以下であってもよく、50以下であってもよく、20以下であってもよく、10以下であってもよく、4以下であってもよい。上記比を小さくするほど、角度依存性を改善することができる。そのため、上記比の下限値は1である。 When the reflection intensity on the anodized film 20 side is measured using a goniophotometer at a detector angle of -80 degrees to +20 degrees, the ratio of the maximum reflection intensity to the minimum reflection intensity may be 400 or less. The above ratio may be 200 or less, 100 or less, 50 or less, 20 or less, 10 or less, or 4 or less. good. The smaller the above ratio is, the more the angle dependence can be improved. Therefore, the lower limit of the above ratio is 1.

以上の通り、アルミニウム部材1は、アルミニウム又はアルミニウム合金により形成された基材10を備える。アルミニウム部材1は、基材10の表面11と接するバリア層21と、バリア層21の基材10とは反対側に配置された第1ポーラス層22と、第1ポーラス層22のバリア層21とは反対の面に接する第2ポーラス層23とを含む陽極酸化皮膜20を備える。陽極酸化皮膜20には染料化合物が取り込まれている。第1ポーラス層22は複数の分岐する孔を有している。第2ポーラス層23は第1ポーラス層22と第2ポーラス層23との積層方向に直線状に延びる複数の孔を有する。 As described above, the aluminum member 1 includes the base material 10 made of aluminum or an aluminum alloy. The aluminum member 1 includes a barrier layer 21 in contact with the surface 11 of the base material 10, a first porous layer 22 disposed on the opposite side of the barrier layer 21 from the base material 10, and a barrier layer 21 of the first porous layer 22. has an anodic oxide film 20 including a second porous layer 23 in contact with the opposite surface. A dye compound is incorporated into the anodic oxide film 20. The first porous layer 22 has a plurality of branching pores. The second porous layer 23 has a plurality of holes extending linearly in the lamination direction of the first porous layer 22 and the second porous layer 23.

第2ポーラス層23は、直線状に延びる複数の孔を有するために透光性が高く、入射光の大部分が第2ポーラス層23で吸収されずに第1ポーラス層22まで到達する。第1ポーラス層22は複数の分岐する孔を有する。そのため、第1ポーラス層22を通過した光が第1ポーラス層22で拡散反射する。基材10の表面11で反射された光は、第1ポーラス層22でさらに拡散反射し、第2ポーラス層23を通過する。そのため、本実施形態の染色されたアルミニウム部材1は、角度依存性が低いと推定される。アルミニウム部材1は、例えばスマートフォンやパソコンなどの筐体に好ましく用いることができる。 The second porous layer 23 has a plurality of linearly extending pores and therefore has high translucency, and most of the incident light reaches the first porous layer 22 without being absorbed by the second porous layer 23 . The first porous layer 22 has a plurality of branching pores. Therefore, the light that has passed through the first porous layer 22 is diffusely reflected by the first porous layer 22. The light reflected by the surface 11 of the base material 10 is further diffusely reflected by the first porous layer 22 and passes through the second porous layer 23. Therefore, it is estimated that the dyed aluminum member 1 of this embodiment has low angle dependence. The aluminum member 1 can be preferably used, for example, in the case of a smartphone, a personal computer, or the like.

[アルミニウム部材の製造方法]
次に、本実施形態に係るアルミニウム部材1の製造方法について説明する。アルミニウム部材1の製造方法は、図2に示すように、粗面化処理工程S1と、エッチング工程S2と、陽極酸化工程S3と、染色工程S6と、封孔処理工程S7とを含んでいる。
[Method for manufacturing aluminum members]
Next, a method for manufacturing the aluminum member 1 according to this embodiment will be described. As shown in FIG. 2, the method for manufacturing the aluminum member 1 includes a roughening process S1, an etching process S2, an anodizing process S3, a dyeing process S6, and a sealing process S7.

(粗面化処理工程S1)
粗面化処理工程S1では、アルミニウム又はアルミニウム合金により形成される基材10の表面11に凹凸を形成する。粗面化処理工程S1は必須の工程ではないが、アルミニウム部材1の角度依存性をさらに改善することができる。凹凸を形成する基材10は、例えば、所定の元素を有する溶湯の調製、鋳造、押出、圧延、熱処理などにより作製してもよい。また、凹凸を形成する基材10は、鋳造後、圧延後又は熱処理後、特段の表面処理をせずに、そのまま用いてもよい。また、凹凸を形成する基材10は、フライス盤による研削、並びに、エメリー紙、バフ研磨、化学研磨及び電解研磨等により表面11を研磨して用いてもよい。凹凸を形成する基材10の表面11は、算術平均高さSaを100nm未満程度に研磨してもよい。基材10の表面11の算術平均高さSaを100nm未満とすることにより基材10の明度が高くなる。
(Surface roughening treatment step S1)
In the surface roughening treatment step S1, irregularities are formed on the surface 11 of the base material 10 formed of aluminum or aluminum alloy. Although the surface roughening treatment step S1 is not an essential step, the angular dependence of the aluminum member 1 can be further improved. The base material 10 forming the unevenness may be produced by, for example, preparing a molten metal containing a predetermined element, casting, extrusion, rolling, heat treatment, or the like. Moreover, the base material 10 forming the unevenness may be used as it is without any special surface treatment after casting, rolling, or heat treatment. Further, the base material 10 on which the irregularities are formed may be used by grinding with a milling machine, and polishing the surface 11 with emery paper, buffing, chemical polishing, electrolytic polishing, or the like. The surface 11 of the base material 10 on which the unevenness is formed may be polished to an arithmetic mean height Sa of less than about 100 nm. By setting the arithmetic mean height Sa of the surface 11 of the base material 10 to less than 100 nm, the brightness of the base material 10 becomes high.

基材10の表面11の凹凸は例えばブラスト処理で形成してもよい。ブラスト処理では、基材10の表面11に粒子を衝突させて凹凸を形成することができる。ブラスト処理の方法は特に限定されず、例えばウェットブラスト及びドライブラストの少なくともいずれか一方を用いることができる。凹凸を形成する工程では20μm以下の平均粒子径を有する粒子を基材10の表面11に衝突させて凹凸を形成してもよい。平均粒子径を20μm以下とすることにより、陽極酸化皮膜20を通過した光が基材10の表面11の凹凸で吸収されるのを抑制することができる。 The irregularities on the surface 11 of the base material 10 may be formed by, for example, blasting. In the blasting process, particles can collide with the surface 11 of the base material 10 to form irregularities. The method of blasting is not particularly limited, and for example, at least one of wet blasting and dry blasting can be used. In the step of forming the unevenness, the unevenness may be formed by colliding particles having an average particle diameter of 20 μm or less against the surface 11 of the base material 10. By setting the average particle diameter to 20 μm or less, light passing through the anodic oxide film 20 can be prevented from being absorbed by the unevenness of the surface 11 of the base material 10.

ブラスト処理の粒子の平均粒子径は、15μm以下であってもよく、12.5μm以下であってもよく、10.5μm以下であってもよい。一方、平均粒子径の下限は特に限定されないが、2μm以上であってもよい。平均粒子径を2μm以上とすることにより、基材10の表面11に適度に凹凸が形成されることから、陽極酸化皮膜20を通過してきた光を拡散反射させることができる。そのため、アルミニウム部材1の角度依存性をさらに改善することができる。ブラスト処理の粒子の平均粒子径は、5μm以上であってもよい。なお、平均粒子径は、体積基準における粒度分布の累積値が50%の時の粒子径を表し、例えば、レーザー回折・散乱法により測定することができる。 The average particle diameter of the blast-treated particles may be 15 μm or less, 12.5 μm or less, or 10.5 μm or less. On the other hand, the lower limit of the average particle diameter is not particularly limited, but may be 2 μm or more. By setting the average particle diameter to 2 μm or more, appropriate irregularities are formed on the surface 11 of the base material 10, so that the light that has passed through the anodic oxide film 20 can be diffused and reflected. Therefore, the angle dependence of the aluminum member 1 can be further improved. The average particle diameter of the blast-treated particles may be 5 μm or more. Note that the average particle diameter represents the particle diameter when the cumulative value of the particle size distribution on a volume basis is 50%, and can be measured by, for example, a laser diffraction/scattering method.

ブラスト処理に用いられる粒子としては、例えば、炭化ケイ素、炭化ホウ素、窒化ホウ素、アルミナ、ジルコニアなどを含むセラミックビーズ、ステンレス、スチールなどを含む金属ビーズ、ナイロン、ポリエステル、メラミン樹脂などを含む樹脂ビーズ、ガラスなどを含むガラスビーズなどが挙げられる。なお、ウェットブラストの場合は、粒子を水などの液体に混ぜて基材10に吹き付けることができる。ブラスト処理の際の噴射圧力、粒子総数などの条件は特に限定されず、基材10の状態などに応じて適宜変更することができる。ブラスト処理では、入射角が所定値以下となるように粒子を基材10の表面11に衝突させてもよい。入射角は、60度以下であってもよく、45度以下であってもよく、30度以下であってもよく、15度以下であってもよく、5度以下であってもよい。 Examples of particles used in blasting include ceramic beads containing silicon carbide, boron carbide, boron nitride, alumina, zirconia, etc., metal beads containing stainless steel, steel, etc., resin beads containing nylon, polyester, melamine resin, etc. Examples include glass beads containing glass. In the case of wet blasting, particles can be mixed with a liquid such as water and sprayed onto the base material 10. Conditions such as the injection pressure and the total number of particles during the blasting process are not particularly limited, and can be changed as appropriate depending on the state of the base material 10 and the like. In the blasting process, particles may be caused to collide with the surface 11 of the base material 10 such that the incident angle is equal to or less than a predetermined value. The angle of incidence may be 60 degrees or less, 45 degrees or less, 30 degrees or less, 15 degrees or less, or 5 degrees or less.

基材10の表面11に凹凸を形成する方法はブラスト処理に限定されず、レーザー加工及び粗面化処理剤などを用いたエッチング処理などの他の方法で形成してもよい。レーザー加工では、基材10の表面11にレーザー光を照射することで凹凸を形成する。基材10の表面11の凹部及び凸部の径、深さ及びピッチなどは、レーザー光のスポット径、波長、出力、周波数及びパルス幅、基材10に対するレーザー光の移動速度などを調節することによって変更することができる。エッチング処理による粗面化処理では、例えば、奥野製薬工業株式会社のアルサテン(登録商標)OL-25等のフッ化物を含有した薬品を用いてエッチング処理することで凹凸を形成してもよい。基材10の表面11の凹部の深さ及び凸部の高さなどは、エッチング液の温度、濃度及び時間などを調節することによって変更することができる。 The method for forming irregularities on the surface 11 of the base material 10 is not limited to blasting, and may be formed by other methods such as laser processing and etching using a surface roughening agent. In laser processing, unevenness is formed by irradiating the surface 11 of the base material 10 with laser light. The diameter, depth, pitch, etc. of the concave portions and convex portions on the surface 11 of the base material 10 can be adjusted by adjusting the spot diameter, wavelength, output, frequency and pulse width of the laser beam, the moving speed of the laser beam with respect to the base material 10, etc. can be changed by In the surface roughening treatment by etching treatment, for example, unevenness may be formed by etching treatment using a chemical containing fluoride such as Alsaten (registered trademark) OL-25 manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd. The depth of the recesses and the height of the projections on the surface 11 of the base material 10 can be changed by adjusting the temperature, concentration, time, etc. of the etching solution.

(エッチング工程S2)
エッチング工程S2は、必須の工程ではないが、粗面化処理工程S1で形成された基材10の表面11の凹凸の角を取り除き、凹凸を滑らかにすることができる。エッチングの条件は特に限定されない。
(Etching process S2)
Although the etching step S2 is not an essential step, it can remove the corners of the unevenness on the surface 11 of the base material 10 formed in the roughening treatment step S1 and smooth the unevenness. Etching conditions are not particularly limited.

エッチング工程S2では、粗面化された基材10を、酸性溶液及びアルカリ性溶液の少なくともいずれか一方によりエッチングしてもよい。酸性溶液としては、例えば、塩酸、硫酸及び硝酸などの水溶液を用いることができる。また、アルカリ性溶液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム及び炭酸ナトリウムなどの水溶液を用いることができる。酸性溶液及びアルカリ性溶液の濃度などは特に限定されないが、水酸化ナトリウム水溶液を用いる場合、例えば10g/L~100g/Lであってもよい。 In the etching step S2, the roughened base material 10 may be etched using at least one of an acidic solution and an alkaline solution. As the acidic solution, for example, aqueous solutions such as hydrochloric acid, sulfuric acid, and nitric acid can be used. Further, as the alkaline solution, for example, an aqueous solution of sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, etc. can be used. The concentrations of the acidic solution and the alkaline solution are not particularly limited, but when an aqueous sodium hydroxide solution is used, they may be, for example, 10 g/L to 100 g/L.

エッチング時間やエッチング温度も特に限定されず、基材10の状態やエッチング液に応じて適宜調整することができる。一例を挙げると、エッチング時間は5秒~90秒、エッチング温度は40℃~60℃である。 The etching time and etching temperature are not particularly limited either, and can be adjusted as appropriate depending on the state of the base material 10 and the etching solution. For example, the etching time is 5 seconds to 90 seconds, and the etching temperature is 40°C to 60°C.

(陽極酸化工程S3)
陽極酸化工程S3では、基材10の表面11に陽極酸化皮膜20を形成する。陽極酸化工程S3は、第1陽極酸化工程S4と、第2陽極酸化工程S5とを含んでいる。本実施形態では、第1陽極酸化工程S4と第2陽極酸化工程S5とによって基材10の表面11に陽極酸化皮膜20を形成しているが、第2陽極酸化工程S5の後に第3陽極酸化工程など、1以上の追加の陽極酸化を実施してもよい。
(Anodizing step S3)
In the anodic oxidation step S3, an anodic oxide film 20 is formed on the surface 11 of the base material 10. The anodizing step S3 includes a first anodizing step S4 and a second anodizing step S5. In this embodiment, the anodic oxide film 20 is formed on the surface 11 of the base material 10 by the first anodizing step S4 and the second anodizing step S5, but the third anodizing film 20 is formed after the second anodizing step S5. One or more additional anodization steps may be performed, such as steps.

(第1陽極酸化工程S4)
第1陽極酸化工程S4では、凹凸が形成された基材10を、直線状に延びる複数の孔を形成可能な電解液で第1陽極酸化する。第1陽極酸化で用いられる電解液は、第2ポーラス層23中にストレート状の複数の孔を形成可能であれば特に限定されない。電解液は、例えば、硫酸、アミド硫酸、リン酸及びこれらの塩類、カルボキシル基を含む酸並びにこれらの塩からなる群より選択される少なくとも1種の電解質を含む水溶液であってもよい。カルボキシル基を含む酸としては、蓚酸、サリチル酸、クエン酸、マレイン酸及び酒石酸からなる群より選択される少なくとも1種の酸が挙げられる。これらの中でも、第1陽極酸化の電解液は硫酸、アミド硫酸及びカルボキシル基を有する化合物からなる群より選択される少なくとも一種を含むことが好ましい。第1陽極酸化の電解液は酸性電解液であることが好ましく、電解液のpHは例えば0~2であることが好ましい。電解液における上記電解質の濃度は、例えば1g/L~600g/Lである。
(First anodic oxidation step S4)
In the first anodic oxidation step S4, the base material 10 on which the irregularities are formed is first anodized with an electrolytic solution capable of forming a plurality of linearly extending holes. The electrolytic solution used in the first anodic oxidation is not particularly limited as long as it can form a plurality of straight holes in the second porous layer 23. The electrolytic solution may be, for example, an aqueous solution containing at least one electrolyte selected from the group consisting of sulfuric acid, amidosulfuric acid, phosphoric acid, salts thereof, acids containing carboxyl groups, and salts thereof. Examples of the acid containing a carboxyl group include at least one acid selected from the group consisting of oxalic acid, salicylic acid, citric acid, maleic acid, and tartaric acid. Among these, it is preferable that the electrolytic solution for the first anodization contains at least one selected from the group consisting of sulfuric acid, amidosulfuric acid, and a compound having a carboxyl group. The electrolytic solution for the first anodization is preferably an acidic electrolytic solution, and the pH of the electrolytic solution is preferably 0 to 2, for example. The concentration of the electrolyte in the electrolytic solution is, for example, 1 g/L to 600 g/L.

第1陽極酸化の条件は特に制限されず、基材10の状態などに応じて適宜調整することができる。電解液の温度は、例えば0℃~30℃であってもよい。電流密度は、例えば1mA/cm~50mA/cmであってもよい。電解時間は、例えば3分~50分であってもよい。 The conditions for the first anodic oxidation are not particularly limited and can be adjusted as appropriate depending on the state of the base material 10 and the like. The temperature of the electrolyte may be, for example, 0°C to 30°C. The current density may be, for example, 1 mA/cm 2 to 50 mA/cm 2 . The electrolysis time may be, for example, 3 minutes to 50 minutes.

(第2陽極酸化工程S5)
第2陽極酸化工程S5では、第1陽極酸化された基材10を、複数の分岐する孔を形成可能な電解液で第2陽極酸化する。第2陽極酸化の電解液は、上記直線状に延びる複数の孔よりも大きい平均孔径を有する複数の孔を形成可能な電解液であってもよい。第2陽極酸化の電解液は、上記直線状に延びる複数の孔よりも小さい平均孔径を有する複数の孔を形成可能な電解液であってもよい。第2陽極酸化工程S5で用いられる電解液は、第1ポーラス層22中に複数の分岐する孔を形成可能であれば特に限定されない。電解液は、例えば蓚酸及び酒石酸などのようなカルボキシル基を有する化合物、リン酸、クロム酸、ホウ酸及びこれらの塩からなる群より選択される少なくとも一種の電解質を含む水溶液であってもよい。これらの中でも、第2陽極酸化の電解液は、カルボキシル基を有する化合物及びリン酸並びにこれらの塩からなる群より選択される少なくとも一種を含むことが好ましい。例えば、第2陽極酸化の電解液は酒石酸塩水溶液であってもよい。第2陽極酸化の電解液はナトリウム、カリウム及びアンモニアからなる群より選択される少なくとも一種を含有していてもよい。第2陽極酸化の電解液は酸性又はアルカリ性電解液であってもよい。第2陽極酸化の電解液がアルカリ性電解液である場合、電解液のpHは例えば9~14である。電解液をアルカリ性にするため、電解液に水酸化ナトリウムなどを混合してもよい。電解液における上記電解質の濃度は、例えば0.5g/L~300g/Lである。
(Second anodization step S5)
In the second anodic oxidation step S5, the first anodized base material 10 is second anodized using an electrolytic solution capable of forming a plurality of branching pores. The electrolytic solution for the second anodization may be an electrolytic solution capable of forming a plurality of pores having a larger average pore diameter than the plurality of linearly extending pores. The electrolytic solution for the second anodization may be an electrolytic solution capable of forming a plurality of pores having an average pore diameter smaller than the plurality of linearly extending pores. The electrolytic solution used in the second anodic oxidation step S5 is not particularly limited as long as it can form a plurality of branching pores in the first porous layer 22. The electrolytic solution may be an aqueous solution containing at least one electrolyte selected from the group consisting of compounds having a carboxyl group such as oxalic acid and tartaric acid, phosphoric acid, chromic acid, boric acid, and salts thereof. Among these, it is preferable that the electrolytic solution for the second anodic oxidation contains at least one selected from the group consisting of a compound having a carboxyl group, phosphoric acid, and salts thereof. For example, the electrolyte for the second anodization may be a tartrate aqueous solution. The electrolytic solution for the second anodization may contain at least one selected from the group consisting of sodium, potassium, and ammonia. The electrolyte for the second anodization may be an acidic or alkaline electrolyte. When the electrolyte for the second anodization is an alkaline electrolyte, the pH of the electrolyte is, for example, 9 to 14. In order to make the electrolytic solution alkaline, sodium hydroxide or the like may be mixed with the electrolytic solution. The concentration of the electrolyte in the electrolytic solution is, for example, 0.5 g/L to 300 g/L.

第2陽極酸化の条件は特に制限されず、基材10の状態などに応じて適宜調整することができる。一例を挙げると、電解液の温度は、例えば0℃~40℃であってもよい。電圧は、例えば2V~500Vであってもよい。単位面積当たりの電気量は、例えば0.05C/cm~40C/cmであってもよい。電解時間は、例えば0.1分~180分であってもよい。 The conditions for the second anodic oxidation are not particularly limited and can be adjusted as appropriate depending on the state of the base material 10 and the like. For example, the temperature of the electrolyte may be, for example, 0°C to 40°C. The voltage may be, for example, 2V to 500V. The amount of electricity per unit area may be, for example, 0.05 C/cm 2 to 40 C/cm 2 . The electrolysis time may be, for example, 0.1 minute to 180 minutes.

(染色工程S6)
染色工程S6では、陽極酸化皮膜20に染料化合物を取り込む。染色工程S6では、陽極酸化皮膜20を浸漬などによって染料に接触させることにより、陽極酸化皮膜20に染料化合物を取り込むことができる。電解着色法により、染料化合物を陽極酸化皮膜20に取り込んでもよい。染料化合物は、上述したものを用いることができる。
(Dyeing process S6)
In the dyeing step S6, a dye compound is incorporated into the anodic oxide film 20. In the dyeing step S6, the dye compound can be incorporated into the anodic oxide film 20 by bringing the anodic oxide film 20 into contact with the dye by immersion or the like. A dye compound may be incorporated into the anodic oxide film 20 by electrolytic coloring. As the dye compound, those mentioned above can be used.

染料は、アゾ染料、アニオン染料、アントラキノン染料、塩基性染料、カルボニウム染料、キノリン染料、キノンイミン染料、金属錯塩染料、蛍光染料、酸性染料、直接染料、天然染料、反応染料、バット染料、媒染染料、フタロシアニン染料、分散染料、メチン染料、硫化染料及び建染染料からなる群より選択される少なくとも一種を含んでいてもよい。なお、アゾ染料としてはナフトール染料などが挙げられる。カルボニウム染料としては、ローダミン染料などのキサンテン染料、アクリジン染料、トリフェニルメタン染料などが挙げられる。キノンイミン染料としては、オキサジン染料及びチアジン染料などが挙げられる。バット染料としては、ロイコエステル染料などが挙げられる。メチン染料としては、メロシアニン染料などのシアニン染料、アゾメチン染料及びポリメチン染料などが挙げられる。 Dyes include azo dyes, anionic dyes, anthraquinone dyes, basic dyes, carbonium dyes, quinoline dyes, quinone imine dyes, metal complex dyes, fluorescent dyes, acid dyes, direct dyes, natural dyes, reactive dyes, vat dyes, mordant dyes, It may contain at least one selected from the group consisting of phthalocyanine dyes, disperse dyes, methine dyes, sulfur dyes, and vat dyes. Note that examples of the azo dye include naphthol dyes. Examples of carbonium dyes include xanthene dyes such as rhodamine dyes, acridine dyes, and triphenylmethane dyes. Examples of quinoneimine dyes include oxazine dyes and thiazine dyes. Examples of vat dyes include leucoester dyes. Examples of methine dyes include cyanine dyes such as merocyanine dyes, azomethine dyes, and polymethine dyes.

染料は、有機染料及び無機染料の少なくともいずれか一方を含んでいてもよい。有機染料は、上述した有機染料化合物を含む染料である。無機染料は、上述した無機染料化合物を含む染料である。有機染料は、クロム酸塩アゾ染料、クロム錯塩アゾ染料及びコバルト錯塩アゾ染料からなる群より選択される少なくとも一種を含んでいてもよい。無機染料はシュウ酸鉄アンモニウム及び酢酸コバルトの少なくともいずれか一方を含んでいてもよい。 The dye may include at least one of an organic dye and an inorganic dye. The organic dye is a dye containing the above-mentioned organic dye compound. The inorganic dye is a dye containing the above-mentioned inorganic dye compound. The organic dye may include at least one selected from the group consisting of chromate azo dyes, chromium complex azo dyes, and cobalt complex azo dyes. The inorganic dye may contain at least one of iron ammonium oxalate and cobalt acetate.

(封孔処理工程S7)
封孔処理工程S7は必須の工程ではないが、第1ポーラス層22の孔及び第2ポーラス層23の孔を封孔することにより、アルミニウム部材1の耐食性を向上させることができる。封孔処理は公知の方法で実施することができ、例えば、高温の水、高温の水蒸気、酢酸ニッケル水溶液、フッ化ニッケル、ケイ酸塩及びこれらの組み合わせによって実施することができる。封孔処理により、アルミニウムが水和されたアルミニウム水和物が、孔内に生成される。
(Sealing process S7)
Although the sealing process S7 is not an essential process, the corrosion resistance of the aluminum member 1 can be improved by sealing the holes in the first porous layer 22 and the second porous layer 23. The sealing treatment can be carried out by a known method, for example, using high temperature water, high temperature steam, aqueous nickel acetate solution, nickel fluoride, silicate, or a combination thereof. Through the pore sealing treatment, aluminum hydrate, in which aluminum is hydrated, is generated within the pores.

以上の通り、本実施形態に係るアルミニウム部材1の製造方法は、基材10の表面11に陽極酸化皮膜20を形成する陽極酸化工程S3と、陽極酸化皮膜20に染料化合物を取り込む工程とを含む。陽極酸化工程S3は、アルミニウム又はアルミニウム合金により形成された基材10を、直線状に延びる複数の孔を形成可能な電解液で第1陽極酸化する工程S4を含む。陽極酸化工程S3は、第1陽極酸化された基材10を、複数の分岐する孔を形成可能な電解液で第2陽極酸化する工程S5を含む。 As described above, the method for manufacturing the aluminum member 1 according to the present embodiment includes the anodizing step S3 of forming the anodic oxide film 20 on the surface 11 of the base material 10, and the step of incorporating a dye compound into the anodic oxide film 20. . The anodizing step S3 includes a step S4 of first anodizing the base material 10 made of aluminum or an aluminum alloy with an electrolytic solution capable of forming a plurality of linearly extending holes. The anodizing step S3 includes a step S5 of performing a second anodizing on the first anodized base material 10 using an electrolytic solution capable of forming a plurality of branching pores.

上記方法は、第1陽極酸化工程S4及び第2陽極酸化工程S5を含むため、バリア層21と第1ポーラス層22と第2ポーラス層23とを含む陽極酸化皮膜20が形成される。そのため、上述したアルミニウム部材1を製造することができる。 Since the above method includes the first anodizing step S4 and the second anodizing step S5, the anodic oxide film 20 including the barrier layer 21, the first porous layer 22, and the second porous layer 23 is formed. Therefore, the aluminum member 1 described above can be manufactured.

以下、本実施形態を実施例及び比較例並びに参考実施例及び参考比較例によりさらに詳細に説明するが、本実施形態はこれらに限定されるものではない。 Hereinafter, the present embodiment will be described in more detail using Examples, Comparative Examples, Reference Examples, and Reference Comparative Examples, but the present embodiment is not limited thereto.

まず、実施例及び比較例に係るアルミニウム部材を作製した。 First, aluminum members according to Examples and Comparative Examples were produced.

[実施例1]
(粗面化処理)
圧延及び焼鈍した厚さ3mmの5000系アルミニウム合金板を、長さ50mm及び幅50mmに切り出したものを基材とした。5000系アルミニウム合金は、マグネシウム2.64質量%、鉄0.05質量%、ケイ素0.03質量%及び銅0.08質量%を含有し、残部がアルミニウム及び不可避不純物である。
[Example 1]
(Surface roughening treatment)
The base material was a rolled and annealed 5000-series aluminum alloy plate having a thickness of 3 mm and cut out to a length of 50 mm and a width of 50 mm. The 5000 series aluminum alloy contains 2.64% by mass of magnesium, 0.05% by mass of iron, 0.03% by mass of silicon, and 0.08% by mass of copper, with the balance being aluminum and inevitable impurities.

上記基材にドライブラストで粒子を衝突させ、基材の表面に凹凸を形成した。粒子は、株式会社不二製作所製のフジランダムWA 粒番号1200(アルミナ粒子、最大粒子径27.0 μm 平均粒子径 9.5±0.8μm)を用いた。ブラスト処理後、基材を200g/Lの硝酸水溶液に室温(約20℃)で2分間浸漬させて脱脂した。 Particles were bombarded with the base material by dry blasting to form irregularities on the surface of the base material. The particles used were Fuji Random WA particle number 1200 (alumina particles, maximum particle size 27.0 μm, average particle size 9.5±0.8 μm) manufactured by Fuji Seisakusho Co., Ltd. After the blasting, the base material was degreased by immersing it in a 200 g/L nitric acid aqueous solution at room temperature (about 20° C.) for 2 minutes.

(エッチング)
凹凸が形成された基材を、温度50℃で濃度50g/Lの水酸化ナトリウム水溶液に1分間浸漬してエッチングした後、濃度200g/Lの硝酸水溶液に室温(約20℃)で2分間浸漬してスマットを除去した。
(etching)
The base material on which the unevenness was formed was etched by immersing it in a sodium hydroxide aqueous solution with a concentration of 50 g/L at a temperature of 50 °C for 1 minute, and then immersing it in a nitric acid aqueous solution with a concentration of 200 g/L for 2 minutes at room temperature (about 20 °C). smut was removed.

(第1陽極酸化)
エッチングされた基材を、濃度180g/Lの硫酸を含むpH0の酸性水溶液に浸漬し、温度18℃、電流密度15mA/cm及び電解時間22分の電解条件で第1陽極酸化した。
(First anodic oxidation)
The etched base material was immersed in a pH 0 acidic aqueous solution containing sulfuric acid at a concentration of 180 g/L, and subjected to first anodization under electrolytic conditions of a temperature of 18° C., a current density of 15 mA/cm 2 , and an electrolysis time of 22 minutes.

(第2陽極酸化)
第1陽極酸化された部材を、濃度200g/Lの酒石酸二ナトリウム・2水和物と濃度3.5g/Lの水酸化ナトリウムとを含有するpH13のアルカリ性水溶液に浸漬させた。そして、上記部材を、温度5℃、電圧160V、昇圧速度1V/秒及び電解時間約3分の電解条件で第2陽極酸化した。
(Second anodization)
The first anodized part was immersed in an alkaline aqueous solution at pH 13 containing disodium tartrate dihydrate at a concentration of 200 g/L and sodium hydroxide at a concentration of 3.5 g/L. Then, the above-mentioned member was subjected to second anodic oxidation under electrolytic conditions of a temperature of 5° C., a voltage of 160 V, a pressure increase rate of 1 V/sec, and an electrolysis time of about 3 minutes.

(染色)
陽極酸化した部材を、3g/Lとなるように赤色染料(奥野製薬工業株式会社のTAC FIERY RED-GBM(Red105):クロム錯塩アゾ系酸性染料)を水に溶解して作製した染色液を用い、55℃で5分間染色した。
(staining)
The anodized parts were dyed using a dye solution prepared by dissolving red dye (TAC FIERY RED-GBM (Red105): chromium complex azo acid dye from Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.) in water to a concentration of 3 g/L. , and stained for 5 minutes at 55°C.

(封孔処理)
染色した部材を、酢酸ニッケル系封孔剤(花見化学株式会社製 商品名:Sealing X)を用いて封孔処理した。封孔条件は、封孔剤の濃度33mL/L、封孔温度95℃、封孔時間20分とした。このようにして、本例のアルミニウム部材を作製した。
(Sealing treatment)
The dyed member was sealed using a nickel acetate sealant (trade name: Sealing X, manufactured by Hanami Chemical Co., Ltd.). The sealing conditions were a sealing agent concentration of 33 mL/L, a sealing temperature of 95° C., and a sealing time of 20 minutes. In this way, the aluminum member of this example was produced.

[実施例2]
ブラスト処理をせずに基材を陽極酸化した以外は実施例1と同様にしてアルミニウム部材を作製した。
[Example 2]
An aluminum member was produced in the same manner as in Example 1, except that the base material was anodized without blasting.

[実施例3]
赤色染料に代えて青色染料(奥野製薬工業株式会社のTAC BLUE BRL(Blue507):有機染料)を用いた以外は実施例1と同様にしてアルミニウム部材を作製した。
[Example 3]
An aluminum member was produced in the same manner as in Example 1 except that a blue dye (TAC BLUE BRL (Blue507): organic dye manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.) was used instead of the red dye.

[実施例4]
ブラスト処理をせずに基材を陽極酸化した以外は実施例3と同様にしてアルミニウム部材を作製した。
[Example 4]
An aluminum member was produced in the same manner as in Example 3 except that the base material was anodized without blasting.

[実施例5]
赤色染料に代えて黒色染料(奥野製薬工業株式会社のTAC BLACK-SLH-AN(Black415):クロム錯塩アゾ系酸性染料)を用いた以外は実施例1と同様にしてアルミニウム部材を作製した。
[Example 5]
An aluminum member was produced in the same manner as in Example 1, except that a black dye (TAC BLACK-SLH-AN (Black415): chromium complex azo acid dye manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.) was used instead of the red dye.

[実施例6]
ブラスト処理をせずに基材を陽極酸化した以外は実施例5と同様にしてアルミニウム部材を作製した。
[Example 6]
An aluminum member was produced in the same manner as in Example 5, except that the base material was anodized without blasting.

[実施例7]
陽極酸化した部材を、10g/Lとなるように上記赤色染料を水に溶解した染色液を用い、55℃で10分間染色した以外は実施例1と同様にしてアルミニウム部材を作製した。
[Example 7]
An aluminum member was produced in the same manner as in Example 1, except that the anodized member was dyed at 55° C. for 10 minutes using a dye solution in which the above red dye was dissolved in water at a concentration of 10 g/L.

[実施例8]
ブラスト処理をせずに基材を陽極酸化した以外は実施例7と同様にしてアルミニウム部材を作製した。
[Example 8]
An aluminum member was produced in the same manner as in Example 7 except that the base material was anodized without blasting.

[実施例9]
陽極酸化した部材を、10g/Lとなるように上記青色染料を水に溶解した染色液を用い、55℃で10分間染色した以外は実施例3と同様にしてアルミニウム部材を作製した。
[Example 9]
An aluminum member was produced in the same manner as in Example 3, except that the anodized member was dyed at 55° C. for 10 minutes using a dye solution in which the above blue dye was dissolved in water at a concentration of 10 g/L.

[実施例10]
ブラスト処理をせずに基材を陽極酸化した以外は実施例9と同様にしてアルミニウム部材を作製した。
[Example 10]
An aluminum member was produced in the same manner as in Example 9 except that the base material was anodized without blasting.

[実施例11]
陽極酸化した部材を、10g/Lとなるように上記黒色染料を水に溶解した染色液を用い、55℃で10分間染色した以外は実施例5と同様にしてアルミニウム部材を作製した。
[Example 11]
An aluminum member was produced in the same manner as in Example 5, except that the anodized member was dyed at 55° C. for 10 minutes using a dye solution in which the above black dye was dissolved in water at a concentration of 10 g/L.

[実施例12]
ブラスト処理をせずに基材を陽極酸化した以外は実施例11と同様にしてアルミニウム部材を作製した。
[Example 12]
An aluminum member was produced in the same manner as in Example 11 except that the base material was anodized without blasting.

[比較例1]
第2陽極酸化をせずに第1陽極酸化した部材を染色した以外は実施例1と同様にしてアルミニウム部材を作製した。
[Comparative example 1]
An aluminum member was produced in the same manner as in Example 1, except that the member subjected to the first anodization was dyed without performing the second anodization.

[比較例2]
第2陽極酸化をせずに第1陽極酸化した部材を染色した以外は実施例2と同様にしてアルミニウム部材を作製した。
[Comparative example 2]
An aluminum member was produced in the same manner as in Example 2 except that the member subjected to the first anodization was dyed without performing the second anodization.

[比較例3]
第2陽極酸化をせずに第1陽極酸化した部材を染色した以外は実施例3と同様にしてアルミニウム部材を作製した。
[Comparative example 3]
An aluminum member was produced in the same manner as in Example 3, except that the member subjected to the first anodization was dyed without performing the second anodization.

[比較例4]
第2陽極酸化をせずに第1陽極酸化した部材を染色した以外は実施例4と同様にしてアルミニウム部材を作製した。
[Comparative example 4]
An aluminum member was produced in the same manner as in Example 4, except that the member subjected to the first anodization was dyed without performing the second anodization.

[比較例5]
第2陽極酸化をせずに第1陽極酸化した部材を染色した以外は実施例5と同様にしてアルミニウム部材を作製した。
[Comparative example 5]
An aluminum member was produced in the same manner as in Example 5, except that the member subjected to the first anodization was dyed without performing the second anodization.

[比較例6]
第2陽極酸化をせずに第1陽極酸化した部材を染色した以外は実施例6と同様にしてアルミニウム部材を作製した。
[Comparative example 6]
An aluminum member was produced in the same manner as in Example 6, except that the member subjected to the first anodization was dyed without performing the second anodization.

[比較例7]
第2陽極酸化をせずに第1陽極酸化した部材を染色した以外は実施例7と同様にしてアルミニウム部材を作製した。
[Comparative Example 7]
An aluminum member was produced in the same manner as in Example 7 except that the member subjected to the first anodization was dyed without performing the second anodization.

[比較例8]
第2陽極酸化をせずに第1陽極酸化した部材を染色した以外は実施例8と同様にしてアルミニウム部材を作製した。
[Comparative example 8]
An aluminum member was produced in the same manner as in Example 8 except that the member subjected to the first anodization was dyed without performing the second anodization.

[比較例9]
第2陽極酸化をせずに第1陽極酸化した部材を染色した以外は実施例9と同様にしてアルミニウム部材を作製した。
[Comparative Example 9]
An aluminum member was produced in the same manner as in Example 9, except that the member subjected to the first anodization was dyed without performing the second anodization.

[比較例10]
第2陽極酸化をせずに第1陽極酸化した部材を染色した以外は実施例10と同様にしてアルミニウム部材を作製した。
[Comparative Example 10]
An aluminum member was produced in the same manner as in Example 10, except that the member subjected to the first anodization was dyed without performing the second anodization.

[比較例11]
第2陽極酸化をせずに第1陽極酸化した部材を染色した以外は実施例11と同様にしてアルミニウム部材を作製した。
[Comparative Example 11]
An aluminum member was produced in the same manner as in Example 11, except that the member subjected to the first anodization was dyed without performing the second anodization.

[比較例12]
第2陽極酸化をせずに第1陽極酸化した部材を染色した以外は実施例12と同様にしてアルミニウム部材を作製した。
[Comparative example 12]
An aluminum member was produced in the same manner as in Example 12, except that the member subjected to the first anodization was dyed without performing the second anodization.

上記のようにして得られたアルミニウム部材の色調(L値、a値及びb値)、表面特性(Sa,Sz及びRSm)、第1ポーラス層平均孔径、及び、第2ポーラス層平均孔径を以下の通り評価した。結果を表1に示す。また、アルミニウム部材の角度依存性を、測色及び反射強度によって評価した。結果を表2~表13に示す。 The color tone (L * value, a * value and b * value), surface properties (Sa, Sz and RSm), first porous layer average pore diameter, and second porous layer average of the aluminum member obtained as above. The pore size was evaluated as follows. The results are shown in Table 1. Furthermore, the angular dependence of the aluminum member was evaluated by colorimetry and reflection intensity. The results are shown in Tables 2 to 13.

(色調)
JIS Z8722に準拠し、コニカミノルタジャパン株式会社製の色彩色差計CR400を用い、陽極酸化皮膜の表面からアルミニウム部材の色調を測色し、L値、a値及びb値を求めた。色調は、照明・受光光学系を拡散照明垂直受光方式(D/0)、観察条件をCIE2°視野等色関数近似、光源をC光源、及び、表色系をLの条件で測定した。
(color tone)
Based on JIS Z8722, the color tone of the aluminum member was measured from the surface of the anodized film using a color difference meter CR400 manufactured by Konica Minolta Japan Co., Ltd., and the L * value, a * value, and b * value were determined. For the color tone, the illumination/light receiving optical system is diffuse illumination vertical reception method (D/0), the observation conditions are CIE 2° field of view color matching function approximation, the light source is C light source, and the color system is L * a * b * . It was measured with

(算術平均高さSa及び最大高さSz)
まず、JIS H8688:2013に準じ、上記のようにして得られたアルミニウム部材をリン酸クロム酸(VI)溶液に浸し、陽極酸化皮膜を溶解させて除去した。次に、基材の陽極酸化皮膜側の表面の算術平均高さSa及び最大高さSzを、ブルカー・エイエックスエス株式会社の3次元白色干渉型顕微鏡ContourGT-Iを用いて、ISO25178に準じて測定した。算術平均高さSa及び最大高さSzは、測定範囲を60μm×79μm、対物レンズを115倍、内部レンズを1倍の条件で測定した。
(Arithmetic mean height Sa and maximum height Sz)
First, in accordance with JIS H8688:2013, the aluminum member obtained as described above was immersed in a phosphoric acid chromic acid (VI) solution to dissolve and remove the anodic oxide film. Next, the arithmetic mean height Sa and maximum height Sz of the surface of the anodized film side of the base material were determined according to ISO25178 using a three-dimensional white interference microscope Contour GT-I manufactured by Bruker AXS Co., Ltd. It was measured. The arithmetic mean height Sa and the maximum height Sz were measured under conditions of a measurement range of 60 μm×79 μm, an objective lens of 115 times, and an internal lens of 1 times.

(粗さ曲線要素の平均長さRSm)
まず、JIS H8688:2013に準じ、上記のようにして得られたアルミニウム部材の陽極酸化皮膜をリン酸クロム酸(VI)溶液に溶解させて除去した。次に、基材の陽極酸化皮膜側の表面における粗さ曲線要素の平均長さRSmを、ブルカー・エイエックスエス株式会社の3次元白色干渉型顕微鏡ContourGT-Iを用いて、JIS B0601:2013に準じて測定した。粗さ曲線要素の平均長さRSmは、カットオフλcを80μm、対物レンズを115倍、内部レンズを1倍、測定距離を79μmの条件で測定した。
(Average length RSm of roughness curve element)
First, in accordance with JIS H8688:2013, the anodic oxide film of the aluminum member obtained as described above was dissolved in a phosphoric acid chromic acid (VI) solution and removed. Next, the average length RSm of the roughness curve element on the surface of the anodized film side of the base material was determined according to JIS B0601:2013 using a three-dimensional white interference microscope Contour GT-I manufactured by Bruker AXS Co., Ltd. Measured according to the same method. The average length RSm of the roughness curve element was measured under the conditions of a cutoff λc of 80 μm, an objective lens of 115 times, an internal lens of 1 time, and a measurement distance of 79 μm.

(平均孔径)
アルミニウム部材の断面を透過型電子顕微鏡で観察し、ポーラス層の平均孔径を測定した。
(Average pore size)
A cross section of the aluminum member was observed using a transmission electron microscope, and the average pore diameter of the porous layer was measured.

(角度依存性-測色)
コニカミノルタジャパン株式会社製の分光測色計CM-M6を用い、L値、a値及びb値を測定した。具体的には、図3に示すように、光源からの光を入射角が45°となるようにアルミニウム部材101に照射し、反射角が45°となる角度を検出器角度0°とした。検出器角度0°よりも光源に近い位置を検出器角度の正の方向とし、検出器角度が-15°、15°、25°、45°、75°及び110°の場合のL値、a値及びb値を測定した。-15°、15°、25°、45°、75°及び110°におけるL値、a値及びb値のうち、Lが最大となった値(Lmax)とLが最小となった値(Lmin)との差をΔL、aが最大となった値(amax)とaが最小となった値(amin)との差をΔa が最大となった値(bmax)とbが最小となった値(bmin)との差をΔbとした。そして、(Δaと(Δbと(ΔLとの合計の平方根をΔEとして算出した。なお、測色の光源をD65光源、観察条件を2°視野とした。
(Angle dependence - colorimetry)
The L * value, a * value, and b * value were measured using a spectrophotometer CM-M6 manufactured by Konica Minolta Japan, Inc. Specifically, as shown in FIG. 3, the aluminum member 101 was irradiated with light from a light source so that the incident angle was 45°, and the angle at which the reflection angle was 45° was defined as the detector angle of 0°. The position closer to the light source than the detector angle of 0° is defined as the positive direction of the detector angle, and the L * value when the detector angle is -15°, 15°, 25°, 45°, 75°, and 110°, The a * and b * values were measured. Among the L * values, a * values, and b * values at -15°, 15°, 25°, 45°, 75°, and 110°, the value at which L * is maximum (L * max) and L * are The difference from the minimum value (L * min) is ΔL * , and the difference between the value where a * is maximum (a * max) and the value where a * is minimum (a * min) is Δa * , the difference between the value at which b * became maximum (b * max) and the value at which b * became minimum (b * min) was defined as Δb * . Then, the square root of the sum of (Δa * ) 2 , (Δb * ) 2 , and (ΔL * ) 2 was calculated as ΔE. Note that the light source for colorimetry was a D65 light source, and the observation condition was a 2° field of view.

(角度依存性-反射強度)
アルミニウム部材の角度依存性を、ニッカ電測株式会社製のゴニオフォトメーター(GP-2型)を用いて評価した。具体的には、図4に示すように、アルミニウム部材101に対して光を照射し、検出器102が受光する光の強度を測定した。検出器102は、アルミニウム部材101を中心として所定の距離をおいて回転可能に設けられている。入射光103の入射角が45度及び反射光104の反射角が45度の位置に検出器102が配置される場合を検出器角度0度とした。検出器角度が-80度~+40度の範囲において0.5度間隔でアルミニウム部材101が反射する反射光104の陽極酸化皮膜側の反射強度を測定した。そして、検出器角度が-80度~+20度の範囲における最小反射強度に対する最大反射強度(最大反射強度/最小反射強度)の比を算出した。
(Angle dependence - reflection intensity)
The angle dependence of the aluminum member was evaluated using a goniophotometer (Model GP-2) manufactured by Nikka Densoku Co., Ltd. Specifically, as shown in FIG. 4, the aluminum member 101 was irradiated with light, and the intensity of the light received by the detector 102 was measured. The detector 102 is rotatably provided around the aluminum member 101 at a predetermined distance. A case where the detector 102 is placed at a position where the incident angle of the incident light 103 is 45 degrees and the reflection angle of the reflected light 104 is 45 degrees is defined as a detector angle of 0 degrees. The reflection intensity on the anodic oxide film side of the reflected light 104 reflected by the aluminum member 101 was measured at 0.5 degree intervals in the detector angle range of -80 degrees to +40 degrees. Then, the ratio of the maximum reflection intensity to the minimum reflection intensity (maximum reflection intensity/minimum reflection intensity) in the detector angle range of -80 degrees to +20 degrees was calculated.

Figure 2023158363000002
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Figure 2023158363000014
Figure 2023158363000014

表2~表13に示すように、第1陽極酸化のみの場合と比較し、第1陽極酸化及び第2陽極酸化を実施したアルミニウム部材は、ΔE及び反射強度比の値が小さくなった。これらの結果から、第2陽極酸化により、角度依存性が低下し、アルミニウム部材を見る角度によって見え方が変わりにくくなったことが分かる。 As shown in Tables 2 to 13, compared to the case where only the first anodization was performed, the aluminum members subjected to the first anodization and the second anodization had smaller values of ΔE and reflection intensity ratio. From these results, it can be seen that the second anodic oxidation reduced the angle dependence and made it difficult for the appearance of the aluminum member to change depending on the viewing angle.

次に、実施例13~実施例16及び比較例13~比較例16に係るアルミニウム部材を作製した。そして、各例で得られたアルミニウム部材において、算術平均高さSa、最大高さ粗さSz、粗さ曲線要素の平均長さRSm、ΔE及び強度比をそれぞれ上記と同様に評価した。各例の詳細と評価結果をそれぞれ表14に示す。 Next, aluminum members according to Examples 13 to 16 and Comparative Examples 13 to 16 were produced. Then, in the aluminum members obtained in each example, the arithmetic mean height Sa, maximum height roughness Sz, average length RSm of roughness curve elements, ΔE, and intensity ratio were evaluated in the same manner as above. Details and evaluation results of each example are shown in Table 14.

[実施例13]
粒番号1200の粒子に代えて、株式会社不二製作所製のフジランダムWA 粒番号800(最大粒子径38.0μm 平均粒子径14.0±1.0μm)を用いてブラスト処理した以外は、実施例7と同様にしてアルミニウム部材を作製した。
[Example 13]
Except that blasting was performed using Fuji Random WA particle number 800 (maximum particle size 38.0 μm, average particle size 14.0 ± 1.0 μm) manufactured by Fuji Seisakusho Co., Ltd. in place of particles with particle number 1200. An aluminum member was produced in the same manner as in Example 7.

[比較例13]
粒番号1200の粒子に代えて、株式会社不二製作所製のフジランダムWA 粒番号800(最大粒子径38.0μm 平均粒子径14.0±1.0μm)を用いてブラスト処理した以外は、比較例7と同様にしてアルミニウム部材を作製した。
[Comparative Example 13]
Comparison except that blasting was performed using Fuji Random WA particle number 800 (maximum particle size 38.0 μm, average particle size 14.0 ± 1.0 μm) manufactured by Fuji Seisakusho Co., Ltd. instead of particle number 1200. An aluminum member was produced in the same manner as in Example 7.

[実施例14]
粒番号1200の粒子に代えて、株式会社不二製作所製のフジランダムWA 粒番号1000(最大粒子径32.0μm 平均粒子径11.5±1.0μm)を用いてブラスト処理した以外は、実施例7と同様にしてアルミニウム部材を作製した。
[Example 14]
Except that blasting was performed using Fuji Random WA particle number 1000 (maximum particle size 32.0 μm, average particle size 11.5 ± 1.0 μm) manufactured by Fuji Seisakusho Co., Ltd. in place of particles with particle number 1200. An aluminum member was produced in the same manner as in Example 7.

[比較例14]
粒番号1200の粒子に代えて、株式会社不二製作所製のフジランダムWA 粒番号1000(最大粒子径32.0μm 平均粒子径11.5±1.0μm)を用いてブラスト処理した以外は、比較例7と同様にしてアルミニウム部材を作製した。
[Comparative example 14]
Comparison except that blasting was performed using Fuji Random WA particle number 1000 (maximum particle size 32.0 μm, average particle size 11.5 ± 1.0 μm) manufactured by Fuji Seisakusho Co., Ltd. instead of particle number 1200. An aluminum member was produced in the same manner as in Example 7.

[実施例15]
実施例7と同様にしてアルミニウム部材を作製した。
[Example 15]
An aluminum member was produced in the same manner as in Example 7.

[比較例15]
比較例7と同様にしてアルミニウム部材を作製した。
[Comparative Example 15]
An aluminum member was produced in the same manner as Comparative Example 7.

[実施例16]
粒番号1200の粒子に代えて、株式会社不二製作所製のフジランダムWA 粒番号2000(最大粒子径19.0μm 平均粒子径6.7±0.9μm)を用いてブラスト処理した以外は、実施例7と同様にしてアルミニウム部材を作製した。
[Example 16]
Except that blasting was performed using Fuji Random WA particle number 2000 (maximum particle size 19.0 μm, average particle size 6.7 ± 0.9 μm) manufactured by Fuji Seisakusho Co., Ltd. instead of particle number 1200. An aluminum member was produced in the same manner as in Example 7.

[比較例16]
粒番号1200の粒子に代えて、株式会社不二製作所製のフジランダムWA 粒番号2000(最大粒子径19.0μm 平均粒子径6.7±0.9μm)を用いてブラスト処理した以外は、比較例7と同様にしてアルミニウム部材を作製した。
[Comparative Example 16]
Comparison except that blasting was performed using Fuji Random WA particle number 2000 (maximum particle size 19.0 μm, average particle size 6.7 ± 0.9 μm) manufactured by Fuji Seisakusho Co., Ltd. instead of particle number 1200. An aluminum member was produced in the same manner as in Example 7.

Figure 2023158363000015
Figure 2023158363000015

Figure 2023158363000016
Figure 2023158363000016

Figure 2023158363000017
Figure 2023158363000017

Figure 2023158363000018
Figure 2023158363000018

表14~表17に示すように、ブラスト粒子の平均粒子径が大きい程、Sa、Sz及びRSmが大きくなる傾向にあった。しかしながら、いずれのブラスト粒子を用いた場合であっても、第1陽極酸化のみの場合と比較し、第1陽極酸化及び第2陽極酸化を実施したアルミニウム部材は、ΔE及び反射強度比の値が小さくなった。これらの結果から、Sa、Sz及びRSmが変わっても、第2陽極酸化により、角度依存性が低下することが分かる。 As shown in Tables 14 to 17, Sa, Sz, and RSm tended to increase as the average particle diameter of the blast particles increased. However, regardless of which blast particles are used, the aluminum member subjected to the first anodization and the second anodization has a lower value of ΔE and reflection intensity ratio than the case of only the first anodization. It became smaller. These results show that even if Sa, Sz, and RSm change, the angle dependence is reduced by the second anodic oxidation.

次に、透過型電子顕微鏡で断面を観察するためにアルミニウム部材を以下のようにして作製した。 Next, an aluminum member was prepared in the following manner in order to observe its cross section using a transmission electron microscope.

[参考実施例1]
(粗面化処理)
圧延及び焼鈍した厚さ3mmの5000系アルミニウム合金板を、長さ50mm及び幅50mmに切り出したものを基材とした。5000系アルミニウム合金は、マグネシウム4.31質量%、鉄0.02質量%及びケイ素0.02質量%を含有し、残部がアルミニウム及び不可避不純物である。
[Reference Example 1]
(Surface roughening treatment)
The base material was a rolled and annealed 5000-series aluminum alloy plate having a thickness of 3 mm and cut out to a length of 50 mm and a width of 50 mm. The 5000 series aluminum alloy contains 4.31% by mass of magnesium, 0.02% by mass of iron, and 0.02% by mass of silicon, with the balance being aluminum and inevitable impurities.

上記基材にドライブラストで粒子を衝突させ、基材の表面に凹凸を形成した。粒子は、株式会社不二製作所製のフジランダムWA 粒番号1200(アルミナ粒子、最大粒子径27.0μm 平均粒子径9.5±0.8μm)を用いた。ブラスト処理後、基材を200g/Lの硝酸水溶液に室温(約20℃)で3分間浸漬させて脱脂した。 Particles were bombarded with the base material by dry blasting to form irregularities on the surface of the base material. The particles used were Fuji Random WA particle number 1200 (alumina particles, maximum particle size 27.0 μm, average particle size 9.5±0.8 μm) manufactured by Fuji Seisakusho Co., Ltd. After the blasting, the base material was degreased by immersing it in a 200 g/L nitric acid aqueous solution at room temperature (approximately 20° C.) for 3 minutes.

(エッチング)
凹凸が形成された基材を、温度60℃で濃度50g/Lの水酸化ナトリウム水溶液に60秒間浸漬してエッチングした後、濃度200g/Lの硝酸水溶液に室温(約20℃)で2分間浸漬してスマットを除去した。
(etching)
The base material on which the unevenness was formed was etched by immersing it in a sodium hydroxide aqueous solution with a concentration of 50 g/L at a temperature of 60 °C for 60 seconds, and then immersing it in a nitric acid aqueous solution with a concentration of 200 g/L for 2 minutes at room temperature (approximately 20 °C). smut was removed.

(第1陽極酸化)
エッチングされた基材を、濃度180g/Lの硫酸を含むpH0の酸性水溶液に浸漬し、温度18℃、電流密度15mA/cm及び電解時間11分の電解条件で第1陽極酸化した。
(First anodic oxidation)
The etched base material was immersed in a pH 0 acidic aqueous solution containing sulfuric acid at a concentration of 180 g/L, and subjected to first anodization under electrolytic conditions of a temperature of 18° C., a current density of 15 mA/cm 2 , and an electrolysis time of 11 minutes.

(第2陽極酸化)
第1陽極酸化された部材を、濃度106g/Lの酒石酸二ナトリウム・2水和物と濃度3g/Lの水酸化ナトリウムとを含有するpH13のアルカリ性水溶液に浸漬させた。そして、上記部材を、温度5℃、電圧160V、昇圧速度1V/秒及び電解時間180秒の電解条件で第2陽極酸化した。このようにして、本例のアルミニウム部材を作製した。
(Second anodization)
The first anodized part was immersed in an alkaline aqueous solution at pH 13 containing disodium tartrate dihydrate at a concentration of 106 g/L and sodium hydroxide at a concentration of 3 g/L. Then, the above member was subjected to second anodic oxidation under the electrolytic conditions of a temperature of 5° C., a voltage of 160 V, a pressure increase rate of 1 V/sec, and an electrolysis time of 180 seconds. In this way, the aluminum member of this example was produced.

[参考比較例1]
第2陽極酸化を実施しなかった以外は参考実施例1と同様にして本例のアルミニウム部材を作製した。
[Reference Comparative Example 1]
The aluminum member of this example was produced in the same manner as Reference Example 1 except that the second anodic oxidation was not performed.

[参考比較例2]
第1陽極酸化を実施せず、第2陽極酸化の電圧を110V、電解時間を11分とした以外は参考実施例1と同様にしてアルミニウム部材を作製した。
[Reference comparative example 2]
An aluminum member was produced in the same manner as in Reference Example 1 except that the first anodic oxidation was not performed, the voltage of the second anodic oxidation was 110 V, and the electrolysis time was 11 minutes.

図5、図6及び図7は、参考実施例1のアルミニウム部材の断面をFIB加工し、透過型電子顕微鏡で2,550倍、19,500倍及び43,000倍にそれぞれ拡大した画像である。図8、図9及び図10は、参考比較例1のアルミニウム部材の断面をFIB加工し、透過型電子顕微鏡で2,550倍、19,500倍及び43,000倍にそれぞれ拡大した画像である。図11、図12及び図13は、参考比較例2のアルミニウム部材の断面をFIB加工し、透過型電子顕微鏡で2,550倍、19,500倍及び43,000倍にそれぞれ拡大した画像である。図5~図13に示すように、第1ポーラス層は複数の分岐する孔を有し、第2ポーラス層は直線状に延びる複数の孔を有することが分かる。図5~図13並びに図示しないGD-OESによる元素分析の結果から、参考実施例1の陽極酸化皮膜は、第2陽極酸化に由来するバリア層及び第1ポーラス層が基材の表面に形成されていることが分かった。また、第1陽極酸化に由来する第2ポーラス層が第1ポーラス層の表面に形成されていることが分かった。 Figures 5, 6, and 7 are images of the cross section of the aluminum member of Reference Example 1 subjected to FIB processing and magnified 2,550 times, 19,500 times, and 43,000 times, respectively, using a transmission electron microscope. . FIGS. 8, 9, and 10 are images of the cross-section of the aluminum member of Reference Comparative Example 1 processed by FIB processing and magnified 2,550 times, 19,500 times, and 43,000 times, respectively, using a transmission electron microscope. . Figures 11, 12, and 13 are images of the cross section of the aluminum member of Reference Comparative Example 2 subjected to FIB processing and magnified 2,550 times, 19,500 times, and 43,000 times, respectively, using a transmission electron microscope. . As shown in FIGS. 5 to 13, it can be seen that the first porous layer has a plurality of branching pores, and the second porous layer has a plurality of linearly extending pores. 5 to 13 and the results of elemental analysis by GD-OES (not shown), in the anodic oxide film of Reference Example 1, a barrier layer and a first porous layer derived from the second anodic oxidation are formed on the surface of the base material. I found out that It was also found that a second porous layer derived from the first anodic oxidation was formed on the surface of the first porous layer.

なお、上記実施例のアルミニウム部材についても、第2ポーラス層は直線状に延びる複数の孔を有し、第1ポーラス層は複数の分岐する孔を有していた。以上の結果から、第1ポーラス層と第2ポーラス層を備え、第1ポーラス層が複数の分岐する孔を有し、陽極酸化皮膜には染料化合物が取り込まれているアルミニウム部材は、角度依存性が低いことが分かる。 Note that also in the aluminum member of the above example, the second porous layer had a plurality of linearly extending holes, and the first porous layer had a plurality of branching holes. From the above results, it is clear that an aluminum member comprising a first porous layer and a second porous layer, the first porous layer having a plurality of branching pores, and a dye compound incorporated into the anodic oxide film has angle-dependent is found to be low.

次に、染料の状態について確認するため、各例のアルミニウム部材をGD-OESにより測定した。図14~図21は、参考実施例2、参考比較例3、実施例7、比較例7、実施例9、比較例9、実施例11、及び比較例11に係るアルミニウム部材のGD-OES結果である。 Next, in order to confirm the state of the dye, the aluminum members of each example were measured by GD-OES. 14 to 21 show the GD-OES results of aluminum members according to Reference Example 2, Reference Comparative Example 3, Example 7, Comparative Example 7, Example 9, Comparative Example 9, Example 11, and Comparative Example 11. It is.

[参考実施例2]
陽極酸化した部材を染色せずに封孔処理した以外は、実施例7と同様にしてアルミニウム部材を作製した。
[Reference Example 2]
An aluminum member was produced in the same manner as in Example 7, except that the anodized member was sealed without being dyed.

[参考比較例3]
陽極酸化した部材を染色せずに封孔処理した以外は、比較例7と同様にしてアルミニウム部材を作製した。
[Reference Comparative Example 3]
An aluminum member was produced in the same manner as Comparative Example 7, except that the anodized member was sealed without being dyed.

図14及び図16並びに図15及び図17の結果から、赤色染料で染色したアルミニウム部材は、染料に由来するCrが陽極酸化皮膜中に存在することが確認できた。図14及び図18並びに図15及び図19の結果から、青色染料で染色したアルミニウム部材は、陽極酸化皮膜中にCrが存在していないことが確認できた。これは、青色染料には、Crが確認可能なくらいまで含まれていなかったためと考えられる。図14及び図20並びに図15及び図21の結果から、黒色染料で染色したアルミニウム部材は、染料に由来するCrが陽極酸化皮膜中に存在することが確認できた。 From the results shown in FIGS. 14 and 16, as well as FIGS. 15 and 17, it was confirmed that in the aluminum member dyed with the red dye, Cr derived from the dye was present in the anodic oxide film. From the results shown in FIGS. 14 and 18, as well as FIGS. 15 and 19, it was confirmed that Cr was not present in the anodic oxide film of the aluminum member dyed with the blue dye. This is considered to be because the blue dye did not contain Cr to the extent that it could be confirmed. From the results shown in FIGS. 14 and 20, as well as FIGS. 15 and 21, it was confirmed that in the aluminum member dyed with the black dye, Cr derived from the dye was present in the anodic oxide film.

また、GD-OESにより、染料に含まれる窒素元素を確認した。具体的には、陽極酸化皮膜側の露出した表面からアルミニウム部材をスパッタリングしながら、窒素の強度を0.2秒間隔で測定した。陽極酸化皮膜の表層部分にあたる部分は、窒素強度が安定していないと考えられる。したがって、陽極酸化皮膜に取り込まれた染料化合物の状態を確認するため、アルミニウムの強度が最大強度の98%である位置を基材と陽極酸化皮膜との界面とした。そして、スパッタリング開始時間を0%とし、スパッタリングが界面に到達した時間を100%とした場合に、スパッタリング開始後20%から100%までの測定時間における窒素の強度を測定した。そして、窒素の最小強度に対する最大強度の比を算出した。すなわち、スパッタリング開始からアルミニウムの強度が最大強度の98%に達するまで要した時間は、陽極酸化皮膜部分のスパッタリング時間に相当する。また、アルミニウムの強度が最大強度の98%に達した以降の時間は基材のスパッタリング時間に相当する。そして、本例では、陽極酸化皮膜部分の分析は、表層20%を除く残り80%の時間の窒素の強度値を用いた。また、最小強度及び最大強度は、スパッタリング開始よりX秒後からX+1秒後までの実測強度を平均したものを、スパッタリング開始よりX秒後における強度として使用した。例えば、スパッタリング開始より200秒後の強度は、200秒後、200.2秒後、200.4秒後、200.6秒後、200.8秒後、201秒後の強度の平均値とした。結果を表18に示す。 Furthermore, the nitrogen element contained in the dye was confirmed by GD-OES. Specifically, while sputtering the aluminum member from the exposed surface on the anodic oxide film side, the nitrogen intensity was measured at 0.2 second intervals. It is thought that the nitrogen strength is not stable in the surface layer of the anodic oxide film. Therefore, in order to confirm the state of the dye compound incorporated into the anodic oxide film, the interface between the base material and the anodic oxide film was set at a position where the aluminum strength was 98% of the maximum strength. Then, when the sputtering start time was set as 0% and the time when sputtering reached the interface was set as 100%, the nitrogen intensity was measured during the measurement time from 20% to 100% after the start of sputtering. Then, the ratio of the maximum intensity to the minimum intensity of nitrogen was calculated. That is, the time required from the start of sputtering until the strength of aluminum reaches 98% of the maximum strength corresponds to the sputtering time of the anodic oxide film portion. Further, the time after the aluminum strength reaches 98% of the maximum strength corresponds to the sputtering time of the base material. In this example, the anodic oxide film portion was analyzed using the nitrogen intensity value for the remaining 80% of the time, excluding the 20% surface layer. Moreover, for the minimum intensity and the maximum intensity, the average of the measured intensities from X seconds after the start of sputtering to X+1 seconds after the start of sputtering was used as the intensity at X seconds after the start of sputtering. For example, the intensity 200 seconds after the start of sputtering is the average value of the intensity after 200 seconds, 200.2 seconds, 200.4 seconds, 200.6 seconds, 200.8 seconds, and 201 seconds. . The results are shown in Table 18.

Figure 2023158363000019
Figure 2023158363000019

表18に示すように、染色されていない参考実施例2及び参考比較例3のアルミニウム部材と比較し、染色された実施例7、比較例7、実施例9、比較例9、実施例11及び比較例11のアルミニウム部材の窒素強度は大きいことが確認できた。具体的には、染色されたアルミニウム部材の窒素強度は10以上であることが確認できた。このことから、染色されたアルミニウム部材には、窒素を有する染料化合物が取り込まれていることが分かる。 As shown in Table 18, compared with the undyed aluminum members of Reference Example 2 and Reference Comparative Example 3, dyed Example 7, Comparative Example 7, Example 9, Comparative Example 9, Example 11 and It was confirmed that the nitrogen strength of the aluminum member of Comparative Example 11 was high. Specifically, it was confirmed that the nitrogen strength of the dyed aluminum member was 10 or more. This shows that the dye compound containing nitrogen is incorporated into the dyed aluminum member.

以上、本実施形態を実施例及び比較例によって説明したが、本実施形態はこれらに限定されるものではなく、本実施形態の要旨の範囲内で種々の変形が可能である。 Although this embodiment has been described above using examples and comparative examples, this embodiment is not limited to these, and various modifications can be made within the scope of the gist of this embodiment.

1 アルミニウム部材
10 基材
11 表面
20 陽極酸化皮膜
21 バリア層
22 第1ポーラス層
23 第2ポーラス層
1 Aluminum member 10 Base material 11 Surface 20 Anodic oxide film 21 Barrier layer 22 First porous layer 23 Second porous layer

Claims (15)

アルミニウム又はアルミニウム合金により形成された基材と、
前記基材の表面と接するバリア層と、前記バリア層の前記基材とは反対側に配置された第1ポーラス層と、前記第1ポーラス層の前記バリア層とは反対の面に接する第2ポーラス層とを含む陽極酸化皮膜と、
を備え、
前記陽極酸化皮膜には染料化合物が取り込まれており、
前記第1ポーラス層は複数の分岐する孔を有し、
前記第2ポーラス層は前記第1ポーラス層と前記第2ポーラス層との積層方向に直線状に延びる複数の孔を有する、アルミニウム部材。
A base material formed of aluminum or aluminum alloy,
a barrier layer in contact with the surface of the base material, a first porous layer disposed on a side of the barrier layer opposite to the base material, and a second porous layer in contact with a surface of the first porous layer opposite to the barrier layer. an anodized film including a porous layer;
Equipped with
A dye compound is incorporated into the anodic oxide film,
The first porous layer has a plurality of branching pores,
The second porous layer is an aluminum member having a plurality of holes extending linearly in the lamination direction of the first porous layer and the second porous layer.
前記陽極酸化皮膜側から測定した前記アルミニウム部材のL表色系におけるa値が-90~+90、b値が-90~+90である、請求項1に記載のアルミニウム部材。 The aluminum member according to claim 1, wherein the a * value in the L * a * b * color system of the aluminum member measured from the anodic oxide film side is -90 to +90, and the b * value is -90 to +90. . 前記アルミニウム部材の表面から前記基材と前記陽極酸化皮膜との界面よりも深い基材部分までをスパッタリングしながらグロー放電発光分析法で測定し、アルミニウムの強度が最大強度の98%である位置を前記界面とし、スパッタリング開始時間を0%とし、スパッタリングが前記界面に到達した時間を100%とした場合に、スパッタリング開始後20%から100%までの測定時間における窒素の最小強度に対する最大強度の比が10以上である、請求項1又は2に記載のアルミニウム部材。 While sputtering from the surface of the aluminum member to a base material part deeper than the interface between the base material and the anodic oxide film, the position where the aluminum strength is 98% of the maximum strength was determined by glow discharge emission spectrometry. The ratio of the maximum intensity to the minimum intensity of nitrogen in the measurement time from 20% to 100% after the start of sputtering, where the interface is defined as the sputtering start time, and the time when sputtering reaches the interface is 100%. The aluminum member according to claim 1 or 2, wherein is 10 or more. 前記染料化合物はアゾ基を有している、請求項1又は2に記載のアルミニウム部材。 The aluminum member according to claim 1 or 2, wherein the dye compound has an azo group. 前記染料化合物はクロムを有している、請求項1又は2に記載のアルミニウム部材。 3. An aluminum member according to claim 1 or 2, wherein the dye compound comprises chromium. 前記陽極酸化皮膜側から測定した前記アルミニウム部材のL表色系におけるL値、a値及びb値を-15°、15°、25°、45°、75°及び110°の検出器角度で測定し、Lが最大となった値とLが最小となった値との差をΔL、aが最大となった値とaが最小となった値との差をΔa が最大となった値とbが最小となった値との差をΔbとし、(Δaと(Δbと(ΔLとの合計の平方根をΔEとした場合、前記ΔEは110以下である、請求項1又は2に記載のアルミニウム部材。 The L * value, a * value and b * value in the L * a * b * color system of the aluminum member measured from the anodic oxide film side were -15°, 15°, 25°, 45°, 75° and Measured at a detector angle of 110°, the difference between the value where L * is maximum and the value where L * is minimum is ΔL * , and the value where a * is maximum and a * is minimum The difference between the values is Δa * , and the difference between the value where b * is maximum and the value where b * is minimum is Δb * , and (Δa * ) 2 , (Δb * ) 2 , and (ΔL * ) 2 The aluminum member according to claim 1 or 2, wherein ΔE is 110 or less when the square root of the sum of ΔE and ΔE is 110 or less. ゴニオフォトメーターを用いて前記陽極酸化皮膜側の反射強度を-80度~+20度の検出器角度で測定した場合において、最小反射強度に対する最大反射強度の比が400以下である、請求項1又は2に記載のアルミニウム部材。 Claim 1 or 2, wherein when the reflection intensity on the anodic oxide film side is measured using a goniophotometer at a detector angle of -80 degrees to +20 degrees, the ratio of the maximum reflection intensity to the minimum reflection intensity is 400 or less. 2. The aluminum member according to 2. 前記陽極酸化皮膜を除去した際の前記陽極酸化皮膜側における前記基材の表面の算術平均高さSaは0.1μm~0.7μmであり、最大高さSzは25μm~50μmであり、粗さ曲線要素の平均長さRSmは5μm~50μmである、請求項1又は2に記載のアルミニウム部材。 When the anodic oxide film is removed, the arithmetic mean height Sa of the surface of the base material on the anodic oxide film side is 0.1 μm to 0.7 μm, the maximum height Sz is 25 μm to 50 μm, and the roughness The aluminum member according to claim 1 or 2, wherein the average length RSm of the curved elements is 5 μm to 50 μm. 前記第1ポーラス層は前記第2ポーラス層よりも大きい平均孔径の複数の孔を有する、請求項1又は2に記載のアルミニウム部材。 The aluminum member according to claim 1 or 2, wherein the first porous layer has a plurality of pores having a larger average pore diameter than the second porous layer. アルミニウム又はアルミニウム合金により形成された基材を、直線状に延びる複数の孔を形成可能な電解液で第1陽極酸化する工程と、前記第1陽極酸化された基材を、複数の分岐する孔を形成可能な電解液で第2陽極酸化する工程とを含み、前記基材の表面に陽極酸化皮膜を形成する陽極酸化工程と、
前記陽極酸化皮膜に染料化合物を取り込む工程と、
を含む、アルミニウム部材の製造方法。
a step of first anodizing a base material formed of aluminum or an aluminum alloy with an electrolytic solution capable of forming a plurality of linearly extending pores; and a step of anodizing the first anodized base material with a plurality of branching pores. an anodizing step of forming an anodic oxide film on the surface of the base material;
Incorporating a dye compound into the anodic oxide film;
A method for manufacturing an aluminum member, including:
前記第1陽極酸化の電解液は酸性電解液であり、前記第2陽極酸化の電解液は酸性又はアルカリ性電解液である、請求項10に記載のアルミニウム部材の製造方法。 The method for manufacturing an aluminum member according to claim 10, wherein the electrolyte for the first anodization is an acidic electrolyte, and the electrolyte for the second anodization is an acidic or alkaline electrolyte. 前記第2陽極酸化の電解液はカルボキシル基を有する化合物及びリン酸並びにこれらの塩からなる群より選択される少なくとも一種を含む、請求項10又は11に記載のアルミニウム部材の製造方法。 The method for manufacturing an aluminum member according to claim 10 or 11, wherein the electrolytic solution for the second anodization contains at least one selected from the group consisting of a compound having a carboxyl group, phosphoric acid, and salts thereof. 前記第2陽極酸化の電解液はナトリウム、カリウム及びアンモニアからなる群より選択される少なくとも一種を含有する、請求項10又は11に記載のアルミニウム部材の製造方法。 The method for manufacturing an aluminum member according to claim 10 or 11, wherein the electrolytic solution for the second anodization contains at least one selected from the group consisting of sodium, potassium, and ammonia. 前記第1陽極酸化の電解液は硫酸、アミド硫酸及びカルボキシル基を有する化合物からなる群より選択される少なくとも一種を含む、請求項10又は11に記載のアルミニウム部材の製造方法。 The method for manufacturing an aluminum member according to claim 10 or 11, wherein the electrolytic solution for the first anodization contains at least one selected from the group consisting of sulfuric acid, amidosulfuric acid, and a compound having a carboxyl group. 前記基材の表面に凹凸を形成する工程を含み、前記凹凸が形成された基材が前記第1陽極酸化される、請求項10又は11に記載のアルミニウム部材の製造方法。 The method for manufacturing an aluminum member according to claim 10 or 11, comprising the step of forming irregularities on the surface of the base material, and the base material on which the irregularities are formed is subjected to the first anodic oxidation.
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