JP2023156243A - Liquid composition, prepreg, metal substrate with resin, wiring board and silica particle - Google Patents

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JP2023156243A JP2023060884A JP2023060884A JP2023156243A JP 2023156243 A JP2023156243 A JP 2023156243A JP 2023060884 A JP2023060884 A JP 2023060884A JP 2023060884 A JP2023060884 A JP 2023060884A JP 2023156243 A JP2023156243 A JP 2023156243A
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博道 加茂
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Abstract

To provide a liquid composition which enables formation of a cured product that is excellent in adhesion to a metal substrate layer.SOLUTION: A liquid composition contains a thermosetting resin, and silica particles having a median diameter d50 of 0.5-20.0 μm and a specific surface area of 0.1-3.5 m2/g, and has a viscosity measured at 25°C and a revolution of 1 rpm of 100-10,000 mPa s.SELECTED DRAWING: None

Description

本開示は、液状組成物、プリプレグ、樹脂付き金属基材、配線板及びシリカ粒子に関する。 The present disclosure relates to a liquid composition, a prepreg, a resin-coated metal substrate, a wiring board, and silica particles.

熱硬化性樹脂及びシリカ粒子を含む液状組成物は、プリント配線板に加工可能な金属張積層体が備える電気絶縁層の製造に使用されている(特許文献1及び2参照)。具体的には、金属基材層の表面に、上記液状組成物の半硬化物を電気絶縁層として積層した金属張積層体や、液状組成物を含浸させたガラスクロス等を電気絶縁層として、金属基材層の表面に積層した金属張積層体が使用されている。近年、プリント配線板が備える電気絶縁層には、より高度な、低誘電率、低誘電正接、低線膨張率等の特性が求められている。 A liquid composition containing a thermosetting resin and silica particles is used for manufacturing an electrical insulating layer included in a metal-clad laminate that can be processed into a printed wiring board (see Patent Documents 1 and 2). Specifically, a metal-clad laminate in which a semi-cured product of the liquid composition described above is laminated as an electrical insulating layer on the surface of a metal base layer, a glass cloth impregnated with the liquid composition, etc. as an electrical insulating layer, A metal clad laminate is used, which is laminated on the surface of a metal base layer. In recent years, electrical insulating layers included in printed wiring boards are required to have more advanced characteristics such as low dielectric constant, low dielectric loss tangent, and low coefficient of linear expansion.

特開2013-212956号公報JP2013-212956A 特開2015-36357号公報Japanese Patent Application Publication No. 2015-36357

一方、配線板の信頼性の観点等から、液状組成物の半硬化物又は液状組成物を含浸させたガラスクロス等の電気絶縁層を形成するために用いられる液状組成物には、電気絶縁層としたときの金属基材層に対する優れた密着性も要求される。液状組成物に含まれるシリカ粒子は、それから形成される電気絶縁層の特性を向上させる効果が期待できる反面、金属基材層との密着性に与える影響は不明確である場合が多かった。
本発明者は、液状組成物におけるシリカ粒子の含有率、シリカ粒子の物性によっては、半硬化物又は含浸状態における物性が変化し、金属基材層への密着性が低下するおそれがあるとの知見を得た。
On the other hand, from the viewpoint of reliability of wiring boards, liquid compositions used to form electrical insulating layers, such as semi-cured products of liquid compositions or glass cloth impregnated with liquid compositions, include Excellent adhesion to the metal base layer is also required. While the silica particles contained in the liquid composition can be expected to have the effect of improving the properties of the electrically insulating layer formed therefrom, the effect they have on the adhesion with the metal base layer is often unclear.
The present inventor believes that depending on the content of silica particles in the liquid composition and the physical properties of the silica particles, the physical properties of the semi-cured product or impregnated state may change and the adhesion to the metal base layer may decrease. I gained knowledge.

本開示の一実施形態が解決しようとする課題は、金属基材層への密着性に優れる硬化物を形成可能な液状組成物及びプリプレグの提供である。本開示の一実施形態が解決しようとする課題は、液状組成物、硬化物と金属基材層との密着性に優れる樹脂付き金属基材及び配線板の提供である。本開示の一実施形態が解決しようとする課題は、金属基材層への密着性に優れる液状組成物の粘度の調整に用いられるシリカ粒子の提供である。 A problem to be solved by an embodiment of the present disclosure is to provide a liquid composition and a prepreg that can form a cured product with excellent adhesion to a metal base layer. A problem to be solved by an embodiment of the present disclosure is to provide a resin-coated metal base material and a wiring board that have excellent adhesion between a liquid composition, a cured product, and a metal base layer. A problem to be solved by an embodiment of the present disclosure is to provide silica particles used for adjusting the viscosity of a liquid composition that has excellent adhesion to a metal base layer.

上記課題を解決するための手段は、以下の態様を含む。
<1> 熱硬化性樹脂と、メジアン径d50が0.5~20.0μmであり、比表面積が、0.1~3.5m/gであるシリカ粒子とを含有し、且つ25℃における回転数1rpmで測定される粘度が100~10000mPa・sである、液状組成物。
<2> 上記シリカ粒子のメジアン径d50が1.0~10.0μmである、上記<1>に記載の液状組成物。
<3> 上記シリカ粒子のメジアン径d50が1.0μm超5.0μm以下である、上記<1>又は<2>に記載の液状組成物。
<4> 上記シリカ粒子の比表面積が0.8~2.0m/gである、上記<1>~<3>のいずれか1つに記載の液状組成物。
<5> 上記熱硬化性樹脂100質量部に対する上記シリカ粒子の含有量が50~400質量部である、上記<1>~<4>のいずれか1つに記載の液状組成物。
<6> 上記熱硬化性樹脂が、エポキシ樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂又はオルトジビニルベンゼン樹脂である、上記<1>~<5>のいずれか1つに記載の液状組成物。
<7> 溶剤を更に含有し、且つ上記溶剤が、トルエン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、及びN-メチル-2-ピロリドンからなる群より選択される少なくとも1つを含む、上記<1>~<6>のいずれか1つに記載の液状組成物。
<8> 上記<1>~<7>のいずれか1つに記載の液状組成物又はその半硬化物と、繊維質基材と、を含むプリプレグ。
<9> 上記<1>~<7>のいずれか1つに記載の液状組成物若しくはその半硬化物又は上記<8>に記載のプリプレグと、金属基材層と、を含む樹脂付き金属基材。
<10> 上記金属基材層が、銅箔である、上記<9>に記載の樹脂付き金属基材。
<11> 上記銅箔の、前記液状組成物、前記半硬化物、又は前記プリプレグ側の面の最大高さ粗さRzが2μm以下である、上記<9>又は<10>に記載の樹脂付き金属基材。
<12> 上記<1>~<7>のいずれか1つに記載の液状組成物の硬化物と、金属配線と、を含む配線板。
<13> 熱硬化性樹脂を含む液状組成物の粘度を調整するために用いられる、メジアン径d50が0.5~20.0μmであり、且つ比表面積が0.1~3.5m/gであるシリカ粒子。
<14> メジアン径d50が1.0μm超5.0μm以下である、上記<13>に記載のシリカ粒子。
<15> 比表面積が0.8~2.0m/gである、上記<13>に記載のシリカ粒子。
Means for solving the above problems include the following aspects.
<1> Contains a thermosetting resin and silica particles having a median diameter d50 of 0.5 to 20.0 μm and a specific surface area of 0.1 to 3.5 m 2 /g, and at 25 ° C. A liquid composition having a viscosity of 100 to 10,000 mPa·s measured at a rotational speed of 1 rpm.
<2> The liquid composition according to <1> above, wherein the silica particles have a median diameter d50 of 1.0 to 10.0 μm.
<3> The liquid composition according to <1> or <2> above, wherein the silica particles have a median diameter d50 of more than 1.0 μm and no more than 5.0 μm.
<4> The liquid composition according to any one of <1> to <3> above, wherein the silica particles have a specific surface area of 0.8 to 2.0 m 2 /g.
<5> The liquid composition according to any one of <1> to <4> above, wherein the content of the silica particles is 50 to 400 parts by mass based on 100 parts by mass of the thermosetting resin.
<6> The liquid composition according to any one of <1> to <5> above, wherein the thermosetting resin is an epoxy resin, a polyphenylene ether resin, or an ortho-divinylbenzene resin.
<7> The above <1> to <6>, further comprising a solvent, and the solvent contains at least one selected from the group consisting of toluene, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, and N-methyl-2-pyrrolidone. Liquid composition according to any one of the above.
<8> A prepreg comprising the liquid composition or semi-cured product thereof according to any one of <1> to <7> above, and a fibrous base material.
<9> A resin-coated metal base comprising the liquid composition or semi-cured product thereof according to any one of <1> to <7> above, or the prepreg according to <8> above, and a metal base layer. Material.
<10> The resin-coated metal base material according to <9> above, wherein the metal base layer is copper foil.
<11> The resin-coated copper foil according to <9> or <10> above, wherein the maximum height roughness Rz of the surface of the liquid composition, the semi-cured product, or the prepreg side of the copper foil is 2 μm or less. Metal base material.
<12> A wiring board comprising a cured product of the liquid composition according to any one of <1> to <7> above, and metal wiring.
<13> Median diameter d50 is 0.5 to 20.0 μm and specific surface area is 0.1 to 3.5 m 2 /g, which is used to adjust the viscosity of a liquid composition containing a thermosetting resin. silica particles.
<14> The silica particles according to <13> above, having a median diameter d50 of more than 1.0 μm and 5.0 μm or less.
<15> The silica particles according to <13> above, having a specific surface area of 0.8 to 2.0 m 2 /g.

本開示の一実施形態によれば、金属基材層への密着性に優れる硬化物を形成可能な液状組成物及びプリプレグが提供される。本開示の一実施形態によれば、液状組成物又は硬化物と金属基材層との密着性に優れる樹脂付き金属基材及び配線板が提供される。本開示の一実施形態によれば、金属基材層への密着性に優れる硬化物を形成可能な液状組成物の粘度の調整に用いられるシリカ粒子が提供される。 According to an embodiment of the present disclosure, a liquid composition and prepreg capable of forming a cured product with excellent adhesion to a metal base layer are provided. According to one embodiment of the present disclosure, a resin-coated metal base material and a wiring board are provided that have excellent adhesion between a liquid composition or a cured product and a metal base layer. According to one embodiment of the present disclosure, silica particles are provided that are used to adjust the viscosity of a liquid composition capable of forming a cured product with excellent adhesion to a metal base layer.

以下、本開示の実施形態について詳細に説明する。但し、本開示の実施形態は以下の実施形態に限定されない。以下の実施形態において、その構成要素(要素ステップ等も含む)は、特に明示した場合を除き、必須ではない。数値及びその範囲についても同様であり、本開示の実施形態を制限するものではない。 Embodiments of the present disclosure will be described in detail below. However, embodiments of the present disclosure are not limited to the following embodiments. In the following embodiments, the constituent elements (including elemental steps and the like) are not essential unless otherwise specified. The same applies to numerical values and their ranges, and they do not limit the embodiments of the present disclosure.

本開示において「~」を用いて示された数値範囲には、「~」の前後に記載される数値がそれぞれ最小値及び最大値として含まれる。
本開示において各成分は該当する物質を複数種含んでいてもよい。組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合、各成分の含有率又は含有量は、特に記載しない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計の含有率又は含有量を意味する。
本開示において各成分に該当する粒子は複数種含まれていてもよい。組成物中に各成分に該当する粒子が複数種存在する場合、各成分の粒子径は、特に記載しない限り、組成物中に存在する当該複数種の粒子の混合物についての値を意味する。
本開示において、「シリカ粒子」とは、特に断りがない限り、複数のシリカ粒子の群を指す。
本開示において、「メジアン径d50(以下、単に「d50」とも記す。)」は、レーザー回折式の粒度分布測定装置(例えば、マイクロトラック・ベル株式会社製「MT3300EXII」)により求められる粒子の体積基準累積50%径である。すなわち、レーザー回折・散乱法によって粒度分布を測定し、粒子の全体積を100%として累積カーブを求め、その累積カーブ上で累積体積が50%となる点の粒子径である。
本開示において、「10%粒径d10」(以下、単に「d10」とも記す。)は、レーザー回折式の粒度分布測定装置(例えば、マイクロトラック・ベル株式会社製「MT3300EXII」)により求められる粒子の体積基準累積10%径である。すなわち、レーザー回折・散乱法によって粒度分布を測定し、粒子の全体積を100%として累積カーブを求め、その累積カーブ上で小粒径側からの累積体積が10%となる点の粒子径である。
本開示において、「粒子径10μm以上の粒子割合」は、コールターカウンター法により得られる個数基準の粒度分布から求められる粒子割合である。50000個の粒子のうち、粒子径が10μm以上の粒子数を算出し、総測定粒子数に対する粒子径10μm以上の粒子の割合(個数ppm)を求める。
本開示において、粒子径の「変動係数」(以下、「CV値」とも記す。)は、粒子径の相対的なばらつきの指標であり、粒子径の標準偏差を平均値(粒子径のd50)で割った値を百分率で示したものである。粒子径の標準偏差及び平均値は、コールターカウンター法により得られる体積基準の粒度分布から求められる。
コールターカウンター法は、例えば、精密粒度分布測定装置Multisizer 4e、Beckman Coulter社製を使用して行う。
本開示において、「比表面積」は、比表面積・細孔分布測定装置(例えば、マイクロメリティック社製「トライスターII」等)を用いた窒素吸着法に基づくBET法により求める。
本開示において、「真球度」は、走査型電子顕微鏡(SEM)により写真撮影して得られる写真投影図における任意の100個の粒子について、それぞれの最大径(DL)と、これと直交する短径(DS)とを測定し、最大径(DL)に対する最小径(DS)の比(DS/DL)を算出した平均値で表す。
本開示において、「誘電正接」及び「誘電率」は、専用の装置(例えば、キーコム株式会社製「ベクトルネットワークアナライザ E5063A」)を用い、摂動方式共振器法にて測定する。
本開示において、「粘度」は、25℃において、回転式レオメータ(例えば、アントンパール(Anton paar)社製、モジュラーレオメーター PhysicaMCR-301)でせん断速度1rpmで30秒測定し、得られた30秒時点での粘度を表す。
本開示において、「チキソ比」は、回転式レオメータを用いて、回転数1rpmで測定される粘度を回転数60rpmで測定される粘度で除して算出される。
本開示において、「重量平均分子量」は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用いて、ポリスチレン換算により求める。
本開示において、「表面張力」は、表面張力計を用いて、25℃の溶剤に対してウィルヘルミー法により測定する。
本開示において、「沸点」は、常圧1.013×10Paにおける沸点である。
本開示において、「蒸発速度」は、酢酸ブチル基準の蒸発速度とは、23℃における酢酸ブチルの蒸発速度を1としたときの相対的蒸発速度である。
本開示において、「液状組成物」とは、25℃において液状の組成物をいう。
本開示において、「半硬化物」とは、液状組成物の硬化物を示査走査熱分析測定した際に、熱硬化性樹脂の硬化に伴う発熱ピークが現れる状態にある硬化物を意味する。すなわち、半硬化物とは、未硬化の熱硬化性樹脂が残存している状態の硬化物を意味する。
本開示において、「硬化物」とは、液状組成物の硬化物を示査走査熱分析測定した際に、熱硬化性樹脂の硬化に伴う発熱ピークが現れない状態にある硬化物を意味する。すなわち、硬化物とは、未硬化の熱硬化性樹脂が残存していない状態の硬化物を意味する。
本開示において、最大高さ粗さRzは、JIS B 0601(2013)に準拠して測定する。
In the present disclosure, numerical ranges indicated using "~" include the numerical values written before and after "~" as minimum and maximum values, respectively.
In the present disclosure, each component may contain multiple types of corresponding substances. If there are multiple types of substances corresponding to each component in the composition, the content rate or content of each component is the total content rate or content of the multiple types of substances present in the composition, unless otherwise specified. means quantity.
In the present disclosure, a plurality of types of particles corresponding to each component may be included. When a plurality of types of particles corresponding to each component are present in the composition, the particle diameter of each component means a value for a mixture of the plurality of types of particles present in the composition, unless otherwise specified.
In this disclosure, "silica particles" refers to a group of multiple silica particles, unless otherwise specified.
In the present disclosure, "median diameter d50 (hereinafter also simply referred to as "d50")" refers to the volume of particles determined by a laser diffraction particle size distribution measuring device (for example, "MT3300EXII" manufactured by Microtrac Bell Co., Ltd.). This is the reference cumulative 50% diameter. That is, the particle size distribution is measured by a laser diffraction/scattering method, a cumulative curve is obtained with the total volume of the particles as 100%, and the particle diameter is the point on the cumulative curve where the cumulative volume becomes 50%.
In the present disclosure, "10% particle size d10" (hereinafter also simply referred to as "d10") refers to particles determined by a laser diffraction particle size distribution measuring device (for example, "MT3300EXII" manufactured by Microtrac Bell Co., Ltd.). This is the volume-based cumulative 10% diameter of . In other words, the particle size distribution is measured by laser diffraction/scattering method, and a cumulative curve is obtained with the total volume of the particles as 100%.The particle size is the point on the cumulative curve where the cumulative volume from the small particle size side is 10%. be.
In the present disclosure, "particle proportion with a particle diameter of 10 μm or more" is a particle proportion determined from a number-based particle size distribution obtained by the Coulter counter method. Among the 50,000 particles, the number of particles with a particle size of 10 μm or more is calculated, and the ratio (number ppm) of particles with a particle size of 10 μm or more to the total number of measured particles is determined.
In the present disclosure, the "coefficient of variation" (hereinafter also referred to as "CV value") of particle diameter is an index of relative dispersion of particle diameter, and the standard deviation of particle diameter is calculated as the average value (d50 of particle diameter). The value divided by is expressed as a percentage. The standard deviation and average value of the particle size are determined from the volume-based particle size distribution obtained by the Coulter Counter method.
The Coulter counter method is performed using, for example, a precision particle size distribution measuring device Multisizer 4e manufactured by Beckman Coulter.
In the present disclosure, the "specific surface area" is determined by the BET method based on the nitrogen adsorption method using a specific surface area/pore distribution measuring device (for example, "Tristar II" manufactured by Micromeritic Co., Ltd.).
In the present disclosure, "sphericity" refers to the maximum diameter (DL) of any 100 particles in a photographic projection obtained by photographing with a scanning electron microscope (SEM), and the diameter perpendicular to this. The short diameter (DS) is measured, and the ratio of the minimum diameter (DS) to the maximum diameter (DL) (DS/DL) is expressed as an average value.
In the present disclosure, "dielectric loss tangent" and "permittivity" are measured by a perturbation resonator method using a dedicated device (for example, "Vector Network Analyzer E5063A" manufactured by Keycom Co., Ltd.).
In the present disclosure, "viscosity" is measured at 25° C. with a rotary rheometer (for example, Modular Rheometer PhysicaMCR-301 manufactured by Anton Paar) for 30 seconds at a shear rate of 1 rpm, and the obtained 30 seconds Represents the viscosity at the point in time.
In the present disclosure, the "thixotropic ratio" is calculated by dividing the viscosity measured at a rotational speed of 1 rpm by the viscosity measured at a rotational speed of 60 rpm using a rotational rheometer.
In the present disclosure, the "weight average molecular weight" is determined in terms of polystyrene using gel permeation chromatography (GPC).
In the present disclosure, "surface tension" is measured by the Wilhelmy method in a solvent at 25° C. using a surface tension meter.
In the present disclosure, the "boiling point" is the boiling point at normal pressure of 1.013×10 5 Pa.
In the present disclosure, the "evaporation rate" refers to the evaporation rate based on butyl acetate, which is the relative evaporation rate when the evaporation rate of butyl acetate at 23°C is set to 1.
In the present disclosure, "liquid composition" refers to a composition that is liquid at 25°C.
In the present disclosure, the term "semi-cured product" refers to a cured product in which an exothermic peak accompanying curing of the thermosetting resin appears when the cured product of the liquid composition is measured by differential scanning calorimetry. That is, the semi-cured product means a cured product in which uncured thermosetting resin remains.
In the present disclosure, the term "cured product" refers to a cured product in which no exothermic peak associated with curing of the thermosetting resin appears when the cured product of the liquid composition is measured by differential scanning calorimetry. That is, the cured product means a cured product in which no uncured thermosetting resin remains.
In the present disclosure, the maximum height roughness Rz is measured in accordance with JIS B 0601 (2013).

本開示の液状組成物(以下、本組成物ともいう。)は、熱硬化性樹脂と、d50が0.5~20μmであり、比表面積が0.1~3.5m/gであるシリカ粒子とを含有し、且つ25℃における回転数1rpmで測定される粘度が100~10000mPa・sである。本組成物は、換言すれば、液状の熱硬化性組成物である。
本組成物の回転数1rpmで測定される粘度は、100~10000mPa・sであり、130~5000mPa・sが好ましく、150~3000mPa・sがより好ましく、180~1500mPa・sが更に好ましく、200~1000mPa・sが特に好ましい。
本組成物の保管容易性、使用時の流動性等の観点から、本組成物のチキソ比は、3.0以下が好ましく、2.5以下がより好ましく、2.0以下が更に好ましい。チキソ比の下限は、特に限定されるものではなく、0.5以上とできる。
The liquid composition of the present disclosure (hereinafter also referred to as the present composition) comprises a thermosetting resin and silica having a d50 of 0.5 to 20 μm and a specific surface area of 0.1 to 3.5 m 2 /g. particles, and has a viscosity of 100 to 10,000 mPa·s measured at a rotation speed of 1 rpm at 25°C. In other words, the present composition is a liquid thermosetting composition.
The viscosity of the present composition measured at a rotation speed of 1 rpm is 100 to 10,000 mPa·s, preferably 130 to 5,000 mPa·s, more preferably 150 to 3,000 mPa·s, even more preferably 180 to 1,500 mPa·s, and even more preferably 200 to 1,500 mPa·s. Particularly preferred is 1000 mPa·s.
From the viewpoint of ease of storage of the present composition, fluidity during use, etc., the thixotropic ratio of the present composition is preferably 3.0 or less, more preferably 2.5 or less, and even more preferably 2.0 or less. The lower limit of the thixotropic ratio is not particularly limited, and can be set to 0.5 or more.

本組成物は、金属基材層に対する密着性に優れる。その作用機構は定かではないが、概ね以下のように推定している。本組成物は、特定範囲のd50及び比表面積を有するシリカ粒子を含む。これにより、本組成物に含有されるシリカ粒子の濡れ性が向上し、その凝集が抑制されるため、本組成物中におけるシリカ粒子の均一分散性が向上し、組成物の粘度を所定範囲に収束させている。かかる状態のシリカ粒子を含む本組成物を用いることにより、シリカ粒子の偏在化が抑制された硬化物、換言すれば、表面にシリカ粒子が過度に露出することがない硬化物の形成が促されると考えられる。その結果、本組成物から得られる硬化物の金属基材層に対する密着性が向上すると考えられる。以下、金属基材層に対する密着性を、単に「密着性」という。 This composition has excellent adhesion to the metal base layer. Although its mechanism of action is not clear, it is generally estimated as follows. The composition includes silica particles having a specific range of d50 and specific surface area. This improves the wettability of the silica particles contained in the composition and suppresses their aggregation, thereby improving the uniform dispersibility of the silica particles in the composition and keeping the viscosity of the composition within a predetermined range. It is converging. By using the present composition containing silica particles in such a state, the formation of a cured product in which uneven distribution of silica particles is suppressed, in other words, the formation of a cured product in which silica particles are not excessively exposed on the surface is promoted. it is conceivable that. As a result, it is thought that the adhesiveness of the cured product obtained from the present composition to the metal base layer improves. Hereinafter, the adhesion to the metal base layer will be simply referred to as "adhesion".

本組成物は、熱硬化性樹脂を含有する。熱硬化性樹脂は1種を用いてもよく、2種以上を用いてもよい。熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂、オルトジビニルベンゼン樹脂等が挙げられる。密着性、耐熱性等の観点から、熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂又はオルトジビニルベンゼン樹脂が好ましい。 The composition contains a thermosetting resin. One type of thermosetting resin may be used, or two or more types may be used. Examples of thermosetting resins include epoxy resins, polyphenylene ether resins, polyimide resins, phenol resins, and ortho-divinylbenzene resins. From the viewpoints of adhesion, heat resistance, etc., the thermosetting resin is preferably an epoxy resin, a polyphenylene ether resin, or an orthodivinylbenzene resin.

エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、多官能フェノールのジグリシジルエーテル化物、多官能アルコールのジグリシジルエーテル化物等が挙げられる。
ポリフェニレンエーテル樹脂は、変性ポリフェニレンエーテルであってもよく、未変性ポリフェニレンエーテルであってもよいが、密着性の観点からは、変性ポリフェニレンエーテルが好ましい。変性ポリフェニレンエーテルは、ポリフェニレンエーテル鎖又はポリフェニレンエーテル鎖の末端に結合する置換基を有する。置換基は、反応性基を有する基が好ましく、ビニル基、(メタ)アクリロイルオキシ基又はエポキシ基を有する基がより好ましい。
Epoxy resins include bisphenol A epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, bisphenol S epoxy resin, alicyclic epoxy resin, phenol novolac epoxy resin, cresol novolak epoxy resin, bisphenol A novolac epoxy resin, and polyfunctional epoxy resin. Examples include diglycidyl etherified products of phenol and diglycidyl etherified products of polyfunctional alcohols.
The polyphenylene ether resin may be modified polyphenylene ether or unmodified polyphenylene ether, but from the viewpoint of adhesiveness, modified polyphenylene ether is preferable. The modified polyphenylene ether has a polyphenylene ether chain or a substituent bonded to the terminal of the polyphenylene ether chain. The substituent is preferably a group having a reactive group, more preferably a group having a vinyl group, (meth)acryloyloxy group, or epoxy group.

ポリフェニレンエーテル鎖中のフェニレン基の水素原子は、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ホルミル基、アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基又はアルキニルカルボニル基で置換されていてもよい。 The hydrogen atom of the phenylene group in the polyphenylene ether chain may be substituted with an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a formyl group, an alkylcarbonyl group, an alkenylcarbonyl group, or an alkynylcarbonyl group.

密着性、誘電特性等の観点から、熱硬化性樹脂の重量平均分子量は、1000~7000が好ましく、1000~5000がより好ましく、1000~3000が更に好ましい。 From the viewpoint of adhesion, dielectric properties, etc., the weight average molecular weight of the thermosetting resin is preferably from 1,000 to 7,000, more preferably from 1,000 to 5,000, and even more preferably from 1,000 to 3,000.

密着性等の観点から、本組成物の総質量に対する熱硬化性樹脂の含有率は、10~40質量%が好ましく、15~35質量%がより好ましく、20~30質量%が更に好ましい。 From the viewpoint of adhesion, etc., the content of the thermosetting resin based on the total mass of the composition is preferably 10 to 40% by mass, more preferably 15 to 35% by mass, and even more preferably 20 to 30% by mass.

本組成物は、d50が0.5~20.0μmであるシリカ粒子を含有する。
シリカ粒子のd50は、分散安定性、流動性等の本組成物自体の物性と、密着性、低誘電正接等の本組成物から形成される成形物の物性とを高度にバランスさせる観点から、1.0~10.0μmが好ましく、1.0μm超5.0μm以下がより好ましい。
シリカ粒子のd10は、本組成物における均一分散性を向上させつつ、シリカ粒子と熱硬化性樹脂の相互作用を高める観点から、0.5~5.0μmが好ましく、1.0~3.0μmがより好ましい。
The composition contains silica particles with a d50 of 0.5 to 20.0 μm.
The d50 of the silica particles is determined from the viewpoint of achieving a high balance between the physical properties of the composition itself, such as dispersion stability and fluidity, and the physical properties of the molded product formed from the composition, such as adhesion and low dielectric loss tangent. The thickness is preferably 1.0 to 10.0 μm, more preferably more than 1.0 μm and 5.0 μm or less.
The d10 of the silica particles is preferably 0.5 to 5.0 μm, and preferably 1.0 to 3.0 μm, from the viewpoint of improving the uniform dispersibility in the present composition and enhancing the interaction between the silica particles and the thermosetting resin. is more preferable.

シリカ粒子の比表面積は、分散安定性、流動性等の本組成物自体の物性と、密着性、低誘電正接等の本組成物から形成される成形物の物性とをより高度にバランスさせる観点から、0.3~3.0m/gが好ましく、0.8~2.0m/gがより好ましい。 The specific surface area of the silica particles is determined from the viewpoint of achieving a higher balance between the physical properties of the composition itself, such as dispersion stability and fluidity, and the physical properties of the molded product formed from the composition, such as adhesion and low dielectric loss tangent. Therefore, 0.3 to 3.0 m 2 /g is preferable, and 0.8 to 2.0 m 2 /g is more preferable.

d10に対するd50の比(d50/d10)は、本組成物における均一分散性を向上させつつ、シリカ粒子と熱硬化性樹脂の相互作用を高める観点から、1.0超5.0以下が好ましく、1.3~4.0がより好ましく、1.5~3.0が更に好ましい。
本組成物及びその硬化物の吸水率を低下させる観点から、シリカ粒子の比表面積と、シリカ粒子のd50との積Aは、2.7~5.0μm・m/gが好ましく、2.9~4.5μm・m/gがより好ましい。
本組成物に含まれるシリカ粒子の粒度分布は単峰性であることが好ましい。シリカ粒子の粒度分布が単峰性であることは、上述のレーザー回折・散乱法による粒度分布でピークが1つであることから確認できる。
The ratio of d50 to d10 (d50/d10) is preferably more than 1.0 and not more than 5.0 from the viewpoint of improving the uniform dispersibility in the present composition and increasing the interaction between the silica particles and the thermosetting resin. 1.3 to 4.0 is more preferable, and 1.5 to 3.0 is even more preferable.
From the viewpoint of reducing the water absorption rate of the present composition and its cured product, the product A between the specific surface area of the silica particles and the d50 of the silica particles is preferably 2.7 to 5.0 μm·m 2 /g; More preferably 9 to 4.5 μm·m 2 /g.
The particle size distribution of the silica particles contained in the present composition is preferably unimodal. The fact that the particle size distribution of the silica particles is unimodal can be confirmed from the fact that there is one peak in the particle size distribution determined by the laser diffraction/scattering method described above.

本組成物におけるシリカ粒子の粒子径のCV値は30~80%が好ましく、シリカ粒子の凝集を抑える観点、成形物の表面平滑性に優れる観点等から、30~70%がより好ましく、30~60%が更に好ましく、35~55%が特に好ましい。 The CV value of the particle diameter of the silica particles in the present composition is preferably 30 to 80%, more preferably 30 to 70%, from the viewpoint of suppressing agglomeration of silica particles and improving the surface smoothness of molded products. 60% is more preferred, and 35 to 55% is particularly preferred.

本組成物におけるシリカ粒子において、粒子径30μm以上の粒子割合は、500個数ppm以下が好ましく、特に成形物の表面平滑性に優れる観点から、300個数ppm以下がより好ましく、200個数ppm以下が更に好ましく、100個数ppm以下が特に好ましい。 In the silica particles in the present composition, the proportion of particles with a particle size of 30 μm or more is preferably 500 ppm or less, more preferably 300 ppm or less, and even more preferably 200 ppm or less, especially from the viewpoint of excellent surface smoothness of the molded product. It is preferably 100 ppm or less, particularly preferably 100 ppm or less.

シリカ粒子に含まれる個々のシリカ粒子の形状は、分散安定性、流動性等の本組成物自体の物性と、密着性、低誘電正接等の本組成物から形成される成形物の物性とを高度にバランスさせる観点から、球状が好ましい。同様の観点から、球状シリカ粒子の真球度は、0.75以上が好ましく、0.90以上がより好ましく、0.93以上が更に好ましく、1.00が特に好ましい。また、シリカ粒子は、同様の観点から、無孔質粒子であることが好ましい。 The shape of each silica particle contained in the silica particles depends on the physical properties of the composition itself, such as dispersion stability and fluidity, and the physical properties of the molded product formed from the composition, such as adhesion and low dielectric loss tangent. From the viewpoint of achieving a high degree of balance, a spherical shape is preferable. From the same viewpoint, the sphericity of the spherical silica particles is preferably 0.75 or more, more preferably 0.90 or more, even more preferably 0.93 or more, and particularly preferably 1.00. Further, from the same viewpoint, the silica particles are preferably non-porous particles.

樹脂付き金属基材をプリント配線板として使用した場合の回路における伝送損失を低減させる観点から、シリカ粒子の誘電正接は、周波数1GHzにおいて0.0020以下が好ましく、0.0010以下がより好ましく、0.0008以下が更に好ましい。
同様の観点から、シリカ粒子の誘電率は、周波数1GHzにおいて5.0以下が好ましく、4.5以下がより好ましく、4.1以下が更に好ましい。
From the viewpoint of reducing transmission loss in a circuit when a resin-coated metal base material is used as a printed wiring board, the dielectric loss tangent of silica particles is preferably 0.0020 or less, more preferably 0.0010 or less, and 0.0010 or less at a frequency of 1 GHz. More preferably, it is .0008 or less.
From the same viewpoint, the dielectric constant of the silica particles is preferably 5.0 or less, more preferably 4.5 or less, and even more preferably 4.1 or less at a frequency of 1 GHz.

個々のシリカ粒子は、シランカップリング剤によって処理されていてもよい。シリカ粒子の表面がシランカップリング剤によって処理されていることで、表面のシラノール基の残存量が少なくなり、表面が疎水化され、水分吸着を抑えて誘電損失を向上できるとともに、本組成物において熱硬化性樹脂との親和性が向上し、分散性、及び樹脂製膜後の強度を向上できる。
シランカップリング剤の種類としては、アミノシラン系カップリング剤、エポキシシラン系カップリング剤、メルカプトシラン系カップリング剤、シラン系カップリング剤、オルガノシラザン化合物等が挙げられる。シランカップリング剤は1種類を用いてもよいし2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
シランカップリング剤の付着量としては、シリカ粒子100質量部に対して、0.01~5質量部であることが好ましく、0.10~2質量部がより好ましい。
シリカ粒子の表面がシランカップリング剤で処理されていることはIRによるシランカップリング剤の置換基によるピークの検出により確認できる。また、シランカップリング剤の付着量は、炭素量により測定できる。
Individual silica particles may be treated with a silane coupling agent. By treating the surface of the silica particles with a silane coupling agent, the amount of residual silanol groups on the surface is reduced, making the surface hydrophobic, suppressing moisture adsorption, and improving dielectric loss. The affinity with the thermosetting resin is improved, and the dispersibility and strength after resin film formation can be improved.
Examples of the silane coupling agent include aminosilane coupling agents, epoxysilane coupling agents, mercaptosilane coupling agents, silane coupling agents, organosilazane compounds, and the like. One type of silane coupling agent may be used, or two or more types may be used in combination.
The amount of the silane coupling agent deposited is preferably 0.01 to 5 parts by mass, more preferably 0.10 to 2 parts by mass, per 100 parts by mass of silica particles.
It can be confirmed that the surface of the silica particles has been treated with the silane coupling agent by detecting a peak due to the substituent of the silane coupling agent using IR. Further, the amount of attached silane coupling agent can be measured by the amount of carbon.

シリカ粒子は、チタン(Ti)を30~1500質量ppm含むのが好ましく、100~1000質量ppm含むのがより好ましく、100~500質量ppm含むのがさらに好ましい。Tiは、シリカ粒子の製造において任意に含有させる成分である。シリカ粒子の製造時において、シリカ粒子の割れによる微粉の発生は、粒子の比表面積を増大させてしまう。シリカ粒子の製造時にTiを含ませることにより、焼成時に熱締まりしやすくさせ、粒子の割れを抑制できる。その結果、微粉の発生を抑制でき、シリカ粒子の母粒子表面に付着する付着粒子を少なくでき、よってシリカ粒子の比表面積が調整しやすくなる。Tiを30質量ppm以上含むことで焼成時に熱締りしやすいため割れによる微粉の発生を抑制でき、Ti含有量が1500質量ppm以下であると、前記効果が得られるとともにシラノール基量の増加を抑制し、誘電正接を上昇できる。 The silica particles preferably contain titanium (Ti) in an amount of 30 to 1500 ppm by mass, more preferably 100 to 1000 ppm by mass, and even more preferably 100 to 500 ppm by mass. Ti is a component that is optionally included in the production of silica particles. During production of silica particles, generation of fine powder due to cracking of silica particles increases the specific surface area of the particles. By including Ti during the production of silica particles, it is possible to facilitate heat compaction during firing and suppress cracking of the particles. As a result, the generation of fine powder can be suppressed, and the number of particles adhering to the surface of the base particle of the silica particles can be reduced, making it easier to adjust the specific surface area of the silica particles. Containing Ti in an amount of 30 mass ppm or more facilitates thermal compaction during firing, thereby suppressing the generation of fine powder due to cracking, and a Ti content of 1500 mass ppm or less provides the above effects and suppresses an increase in the amount of silanol groups. and can increase the dielectric loss tangent.

シリカ粒子は、本開示の効果を妨げない範囲において、チタン(Ti)以外の不純物元素を含んでいてもよい。不純物元素としては、Tiの他に、例えば、Na、K、Mg、Ca、Al、Fe等が挙げられる。不純物元素のうちアルカリ金属及びアルカリ土類金属の含有量は、総和が2000質量ppm以下であるのが好ましく、1000質量ppm以下がより好ましく、200質量ppm以下が更に好ましい。 The silica particles may contain impurity elements other than titanium (Ti) within a range that does not impede the effects of the present disclosure. In addition to Ti, impurity elements include, for example, Na, K, Mg, Ca, Al, Fe, and the like. The total content of alkali metals and alkaline earth metals among the impurity elements is preferably 2000 mass ppm or less, more preferably 1000 mass ppm or less, and even more preferably 200 mass ppm or less.

シリカ粒子は、湿式法により製造されたシリカ粒子であるのが好ましい。湿式法とは、シリカ源として液体のものを用い、これをゲル化させることでシリカ粒子の原料を得る工程を含む方式を指す。湿式法を用いることで、シリカ粒子の形状を調整しやすくなる、特に球状のシリカ粒子が調整しやすくなり、粉砕等により粒子の形状を整える必要が無く、結果、比表面積の小さい粒子が得られやすい。また、湿式法は、平均粒径に対して大幅に小さい粒子が生成しにくく、焼成後に比表面積が小さくなりやすい傾向がある。また、湿式法では、シリカ源の不純物を調整することで、チタンなどの不純物元素の量を調整でき、さらに前述の不純物元素を、粒子中に均一に分散させた状態とすることができる。 Preferably, the silica particles are silica particles produced by a wet process. The wet method refers to a method that includes a step of using a liquid silica source and gelling it to obtain a raw material for silica particles. By using the wet method, it is easier to adjust the shape of silica particles, especially spherical silica particles, and there is no need to adjust the shape of the particles by grinding, etc., and as a result, particles with a small specific surface area can be obtained. Cheap. In addition, in the wet method, it is difficult to produce particles that are significantly smaller than the average particle size, and the specific surface area tends to become small after firing. Furthermore, in the wet method, by adjusting the impurities in the silica source, the amount of impurity elements such as titanium can be adjusted, and the impurity elements described above can be uniformly dispersed in the particles.

湿式法としては、噴霧法、エマルション・ゲル化法等が挙げられる。エマルション・ゲル化法としては、例えば、シリカ前駆体を含む分散相と連続相とを乳化し、得られたエマルションをゲル化して球状のシリカ前駆体を得る。乳化方法としては、シリカ前駆体を含む分散相を連続相に微小孔部又は多孔質膜を介して供給しエマルションを作製する方法が好ましい。これによって、均一な液滴径のエマルションを作製して、結果として均一な粒子径の球状シリカ粒子が得られる。このような乳化方法としては、マイクロミキサー法や膜乳化法が挙げられる。例えば、マイクロミキサー法は国際公開第2013/062105号に開示されている。 Examples of the wet method include a spray method, an emulsion gelling method, and the like. As an emulsion gelling method, for example, a dispersed phase containing a silica precursor and a continuous phase are emulsified, and the resulting emulsion is gelled to obtain a spherical silica precursor. As the emulsification method, it is preferable to prepare an emulsion by supplying a dispersed phase containing a silica precursor to a continuous phase through micropores or a porous membrane. In this way, an emulsion with a uniform droplet size is produced, and as a result, spherical silica particles with a uniform particle size are obtained. Examples of such emulsification methods include a micromixer method and a membrane emulsification method. For example, the micromixer method is disclosed in International Publication No. 2013/062105.

シリカ粒子は、前記シリカ前駆体を熱処理することにより得られる。熱処理は、球状シリカ前駆体を焼き締め、シェルの緻密化を行うとともに、表面のシラノール基量を減らし、誘電正接を低下させる作用がある。熱処理の温度は、700℃以上が好ましい。また、粒子の凝集抑制という観点からは、1600℃以下が好ましい。また、得られたシリカ粒子をシランカップリング剤で表面処理してもよい。 Silica particles are obtained by heat-treating the silica precursor. The heat treatment has the effect of sintering the spherical silica precursor to densify the shell, as well as reducing the amount of silanol groups on the surface and lowering the dielectric loss tangent. The temperature of the heat treatment is preferably 700°C or higher. Further, from the viewpoint of suppressing particle aggregation, the temperature is preferably 1600°C or lower. Moreover, the obtained silica particles may be surface-treated with a silane coupling agent.

本組成物における熱硬化性樹脂100質量部に対するシリカ粒子の含有量は、50質量部以上が好ましく、70質量部以上がより好ましく、90質量部以上が更に好ましく、100質量部以上であってもよい。また、前記含有量は、600質量部以下が好ましく、400質量部以下がより好ましく、300質量部以下が更に好ましく、250質量部以下が特に好ましい。
本組成物中におけるシリカ粒子は、上述した作用機構により、充分に濡れて均一分散した状態にあり、熱硬化性樹脂とも高度に相互作用しやすい状態にある。そのため、前記含有量が、かかる範囲にある本組成物、すなわち熱硬化性樹脂に対しするシリカ粒子の充填が多い本組成物においても、両成分が安定化しやすく、金属基材層に対する密着性に優れた成形物を形成できる。
The content of silica particles per 100 parts by mass of the thermosetting resin in the present composition is preferably 50 parts by mass or more, more preferably 70 parts by mass or more, even more preferably 90 parts by mass or more, and even if it is 100 parts by mass or more. good. Further, the content is preferably 600 parts by mass or less, more preferably 400 parts by mass or less, even more preferably 300 parts by mass or less, and particularly preferably 250 parts by mass or less.
Due to the above-described mechanism of action, the silica particles in this composition are sufficiently wetted and uniformly dispersed, and are highly likely to interact with the thermosetting resin. Therefore, even in the present composition in which the content is within this range, that is, in the present composition in which the thermosetting resin is filled with a large amount of silica particles, both components are easily stabilized, and the adhesion to the metal base layer is improved. Excellent molded products can be formed.

本組成物は、硬化剤を1種又は2種以上含有してもよい。硬化剤は、熱の作用により熱硬化性樹脂の硬化反応を開始させる剤であり、具体的には、α,α’-ビス(t-ブチルパーオキシ-m-イソプロピル)ベンゼン、2,5-ジメチル-2,5-ジ(t-ブチルパーオキシ)-3-ヘキシン、過酸化ベンゾイル、3,3’,5,5’-テトラメチル-1,4-ジフェノキノン、クロラニル、2,4,6-トリ-t-ブチルフェノキシル、t-ブチルペルオキシイソプロピルモノカーボネート、アゾビスイソブチロニトリル等が挙げられる。熱硬化性樹脂100質量部に対する硬化剤の含有量は、0.1~5質量部が好ましい。 The composition may contain one or more curing agents. A curing agent is an agent that initiates a curing reaction of a thermosetting resin by the action of heat, and specifically, α,α'-bis(t-butylperoxy-m-isopropyl)benzene, 2,5- Dimethyl-2,5-di(t-butylperoxy)-3-hexyne, benzoyl peroxide, 3,3',5,5'-tetramethyl-1,4-diphenoquinone, chloranil, 2,4,6- Examples include tri-t-butylphenoxyl, t-butylperoxyisopropyl monocarbonate, azobisisobutyronitrile, and the like. The content of the curing agent per 100 parts by mass of the thermosetting resin is preferably 0.1 to 5 parts by mass.

本組成物は、硬化促進剤を1種又は2種以上含有してもよい。硬化促進剤としては、トリアリルイソシアヌレート等のトリアルケニルイソシアヌレート化合物、分子中にアクリロイル基又はメタクリロイル基を2個以上有する多官能アクリル系化合物、分子中にビニル基を2個以上有する多官能ビニル化合物、分子中にビニルベンジル基を有するスチレン等のビニルベンジル化合物等が挙げられる。熱硬化性樹脂100質量部に対する硬化促進剤の含有量は、10~100質量部が好ましい。 The composition may contain one or more curing accelerators. Examples of curing accelerators include trialkenyl isocyanurate compounds such as triallyl isocyanurate, polyfunctional acrylic compounds having two or more acryloyl or methacryloyl groups in the molecule, and polyfunctional vinyl having two or more vinyl groups in the molecule. Compounds include vinylbenzyl compounds such as styrene having a vinylbenzyl group in the molecule. The content of the curing accelerator relative to 100 parts by mass of the thermosetting resin is preferably 10 to 100 parts by mass.

本組成物は、溶剤を1種又は2種以上含有してもよい。本組成物及びその硬化物の吸水率を低下させる観点から、溶剤の表面張力は、45mN/m以下が好ましく、40mN/m以下がより好ましく、35mN/m以下が更に好ましく、30mN/m以下が特に好ましい。表面張力の下限は、特に限定されず、5mN/m以上とできる。本組成物を熱硬化させてプリプレグ等の成形物を形成させる際のハンドリング性の観点から、溶剤の沸点は、75℃以上が好ましく、80℃以上がより好ましく、90℃以上が更に好ましい。沸点の上限は、特に限定されず、200℃以下とできる。酢酸ブチルの蒸発速度を1としたとき、本組成物を熱硬化させてプリプレグ等の成形物を形成させる際のハンドリング性の観点から、溶剤の蒸発速度は、0.3~3.0が好ましく、0.4~2.0がより好ましい。
溶剤としては、アセトン、メタノール、エタノール、ブタノール、2-プロパノール、2-メトキシエタノール、2-エトキシエタノール、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、N,N-ジメチルホルムアミド、メチルイソブチルケトン、N-メチル-2-ピロリドン、n-ヘキサン、シクロヘキサン等が挙げられる。密着性等の観点から、溶剤は、トルエン(110℃、28mN/cm、0.58)、シクロヘキサノン(156℃、35mN/cm、0.32)、メチルエチルケトン(80℃、24.6mN/cm、3.7)、及びN-メチル-2-ピロリドン(202℃、42mN/m、0.3~4.0)からなる群より選択される少なくとも1つを含むことが好ましい。なお、括弧内は、順に、沸点、表面張力及び蒸発速度を示す。
本組成物の総質量に対する溶剤の含有率は、特に限定されるものではなく、10~60質量%とすることができる。
The composition may contain one or more solvents. From the viewpoint of reducing the water absorption of the present composition and its cured product, the surface tension of the solvent is preferably 45 mN/m or less, more preferably 40 mN/m or less, even more preferably 35 mN/m or less, and 30 mN/m or less. Particularly preferred. The lower limit of the surface tension is not particularly limited, and can be 5 mN/m or more. From the viewpoint of handling properties when thermosetting the present composition to form a molded article such as a prepreg, the boiling point of the solvent is preferably 75°C or higher, more preferably 80°C or higher, and even more preferably 90°C or higher. The upper limit of the boiling point is not particularly limited, and can be 200°C or less. When the evaporation rate of butyl acetate is 1, the evaporation rate of the solvent is preferably 0.3 to 3.0 from the viewpoint of handling properties when thermosetting the present composition to form a molded article such as prepreg. , 0.4 to 2.0 are more preferable.
Solvents include acetone, methanol, ethanol, butanol, 2-propanol, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, N,N-dimethylformamide, methyl isobutyl ketone, N-methyl-2-pyrrolidone. , n-hexane, cyclohexane and the like. From the viewpoint of adhesion, etc., the solvents were toluene (110°C, 28mN/cm, 0.58), cyclohexanone (156°C, 35mN/cm, 0.32), methyl ethyl ketone (80°C, 24.6mN/cm, 3 .7) and N-methyl-2-pyrrolidone (202° C., 42 mN/m, 0.3 to 4.0). Note that the numbers in parentheses indicate boiling point, surface tension, and evaporation rate in that order.
The content of the solvent with respect to the total mass of the present composition is not particularly limited, and can be 10 to 60% by mass.

本組成物における溶剤100質量部に対するシリカ粒子の含有量は、50~550質量部が好ましく、100~500質量部であってもよく、125~400質量部であってもよく、150~300質量部であってもよい。 The content of silica particles per 100 parts by mass of the solvent in the present composition is preferably 50 to 550 parts by mass, may be 100 to 500 parts by mass, may be 125 to 400 parts by mass, and may be 150 to 300 parts by mass. It may be a department.

本組成物は、可塑剤を1種又は2種以上含有してもよい。可塑剤としては、ブタジエン・スチレンコポリマー等が挙げられる。熱硬化性樹脂100質量部に対する可塑剤の含有量は、10~50質量部が好ましく、20~40質量部がより好ましい。 The composition may contain one or more plasticizers. Examples of the plasticizer include butadiene-styrene copolymer. The content of the plasticizer per 100 parts by mass of the thermosetting resin is preferably 10 to 50 parts by mass, more preferably 20 to 40 parts by mass.

本組成物は、上記成分以外にも、その効果を損なわない範囲で、界面活性剤、チキソ性付与剤、pH調整剤、pH緩衝剤、粘度調節剤、消泡剤、シランカップリング剤、脱水剤、耐候剤、酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、帯電防止剤、増白剤、着色剤、導電材、離型剤、表面処理剤、難燃剤、各種有機又は無機フィラー等の他の成分をさらに含んでいてもよい。 In addition to the above-mentioned ingredients, this composition also contains a surfactant, a thixotropy agent, a pH adjuster, a pH buffer, a viscosity adjuster, an antifoaming agent, a silane coupling agent, and a dehydrating agent within the range that does not impair its effects. Other components such as agents, weathering agents, antioxidants, heat stabilizers, lubricants, antistatic agents, brighteners, colorants, conductive materials, mold release agents, surface treatment agents, flame retardants, and various organic or inorganic fillers. may further include.

本開示のプリプレグは、本組成物又はその半硬化物と、繊維質基材と、を含む。繊維質基材としては、ガラスクロス、アラミドクロス、ポリエステルクロス、ガラス不織布、アラミド不織布、ポリエステル不織布、パルプ紙等が挙げられる。繊維質基材の厚さは、特に限定されるものではなく、3~10μmとできる。なお、本組成物については上記したため、ここでは記載を省略する。 The prepreg of the present disclosure includes the present composition or a semi-cured product thereof, and a fibrous base material. Examples of the fibrous base material include glass cloth, aramid cloth, polyester cloth, glass nonwoven fabric, aramid nonwoven fabric, polyester nonwoven fabric, and pulp paper. The thickness of the fibrous base material is not particularly limited, and can be 3 to 10 μm. Note that since the present composition has been described above, the description will be omitted here.

本開示のプリプレグは、繊維質基材に、本組成物を塗布又は含浸させることにより製造できる。本組成物の塗布又は含浸後に、液状組成物を加熱し、半硬化させてもよい。 The prepreg of the present disclosure can be produced by coating or impregnating a fibrous base material with the present composition. After coating or impregnating the present composition, the liquid composition may be heated and semi-cured.

本開示の樹脂付き金属基材は、本組成物若しくはその半硬化物又は上記プリプレグと、金属基材層と、を含む。金属基材層は、本組成物若しくはその半硬化物又は上記プリプレグの一方の表面に設けられてもよく、両面に設けられてもよい。
金属基材層の種類は特に限定されるものではなく、金属基材層を構成する金属としては、銅、銅合金、ステンレス鋼、ニッケル、ニッケル合金(42合金も含む。)、アルミニウム、アルミニウム合金、チタン、チタン合金等が挙げられる。金属基材層は、金属箔であるのが好ましく、圧延銅箔、電解銅箔等の銅箔であるのがより好ましい。金属箔の表面は、防錆処理(クロメート等の酸化物皮膜等)されていてもよく、粗化処理されていてもよい。金属箔として、キャリア銅箔(厚さ:10~35μm)と、剥離層を介してキャリア銅箔表面に積層された極薄銅箔(厚さ:2~5μm)とからなるキャリア付金属箔を使用してもよい。金属基材層の表面は、シランカップリング剤により処理されていてもよい。この場合、金属基材層の表面の全体がシランカップリング剤により処理されていてもよく、金属基材層の表面の一部がシランカップリング剤により処理されていてもよい。シランカップリング剤としては、上記したものを使用できる。
The resin-coated metal base material of the present disclosure includes the present composition, the semi-cured product thereof, or the above prepreg, and a metal base layer. The metal base layer may be provided on one surface of the present composition, its semi-cured product, or the prepreg, or may be provided on both surfaces.
The type of the metal base layer is not particularly limited, and examples of metals constituting the metal base layer include copper, copper alloy, stainless steel, nickel, nickel alloy (including 42 alloy), aluminum, and aluminum alloy. , titanium, titanium alloys, etc. The metal base layer is preferably a metal foil, more preferably a copper foil such as rolled copper foil or electrolytic copper foil. The surface of the metal foil may be subjected to anti-corrosion treatment (eg, an oxide film such as chromate) or roughening treatment. As the metal foil, a metal foil with a carrier consisting of a carrier copper foil (thickness: 10 to 35 μm) and an ultra-thin copper foil (thickness: 2 to 5 μm) laminated on the surface of the carrier copper foil via a release layer is used. May be used. The surface of the metal base layer may be treated with a silane coupling agent. In this case, the entire surface of the metal base layer may be treated with a silane coupling agent, or a part of the surface of the metal base layer may be treated with a silane coupling agent. As the silane coupling agent, those mentioned above can be used.

金属基材層の厚さは1~40μmが好ましく、2~15μmがより好ましい。樹脂付き金属基材をプリント配線板として使用した場合の伝送損失を低減できる観点から、金属基材層(例えば銅箔)の最大高さ粗さ(Rz)は、2μm以下が好ましく、1.2μm以下がより好ましい。金属基材層(例えば銅箔)の、液状組成物、半硬化物、又はプリプレグ側の面のRzが上記範囲であることが好ましい。樹脂付き金属基材をプリント配線板として使用した場合は一般的に伝送損失を低減できるが、金属基材層とプリプレグ等との密着性は一般的に低下する傾向にある。本開示の本組成物を用いたプリプレグによれば、上記密着性の低下を抑制でき、伝送損失を低減できる。 The thickness of the metal base layer is preferably 1 to 40 μm, more preferably 2 to 15 μm. From the viewpoint of reducing transmission loss when a resin-coated metal base material is used as a printed wiring board, the maximum height roughness (Rz) of the metal base layer (for example, copper foil) is preferably 2 μm or less, and 1.2 μm. The following are more preferred. It is preferable that the Rz of the surface of the metal base layer (for example, copper foil) on the liquid composition, semi-cured product, or prepreg side is within the above range. When a resin-coated metal base material is used as a printed wiring board, transmission loss can generally be reduced, but the adhesion between the metal base layer and prepreg etc. generally tends to decrease. According to the prepreg using the present composition of the present disclosure, it is possible to suppress the above-mentioned decrease in adhesion and reduce transmission loss.

一実施形態において、本開示の樹脂付き金属基材は、金属基材層の表面に、本組成物を塗布することにより製造できる。本組成物の塗布後に、液状組成物を加熱し、半硬化させてもよい。
他の実施形態において、本開示の樹脂付き金属基材は、金属基材層とプリプレグとを積層することにより製造できる。金属基材層とプリプレグとの積層方法としては、これらを熱圧着する方法等が挙げられる。
In one embodiment, the resin-coated metal base material of the present disclosure can be manufactured by applying the present composition to the surface of a metal base layer. After applying the present composition, the liquid composition may be heated and semi-cured.
In other embodiments, the resin-coated metal base material of the present disclosure can be manufactured by laminating a metal base layer and a prepreg. Examples of the method for laminating the metal base material layer and the prepreg include a method of thermocompression bonding them together.

本開示の配線板は、本組成物の硬化物と、金属配線とを含む。金属配線としては、上記した金属基材層をエッチング等することにより製造したものを使用できる。 The wiring board of the present disclosure includes a cured product of the present composition and metal wiring. As the metal wiring, one manufactured by etching or the like the above metal base layer can be used.

本開示の配線板は、上記樹脂付き金属基材が備える金属基材層をエッチングする方法、本組成物の硬化物表面に電解めっき法(セミアディティブ法(SAP法)、モディファイドセミアディティブ法(MSAP法)等)によってパターン回路に形成する方法等により製造できる。 The wiring board of the present disclosure includes a method of etching the metal base layer included in the resin-coated metal base material, an electrolytic plating method (semi-additive method (SAP method), a modified semi-additive method (MSAP method), etc.) on the surface of the cured product of the present composition. It can be manufactured by a method of forming a pattern circuit by a method such as a method (method), etc.).

一実施形態において、シリカ粒子は、熱硬化性樹脂を含む液状組成物の粘度を調整するために用いられ、d50が0.5~20.0μmであり、且つ比表面積が0.1~3.5m/gである。
シリカ粒子のd50、d10、比表面積、d50/d10、真球度、誘電正接等の好ましい数値範囲については、上記したため、ここでは記載を省略する。また、上記したように、シリカ粒子は、チタン、不純物元素を含んでもよい。
In one embodiment, the silica particles are used to adjust the viscosity of a liquid composition containing a thermosetting resin, have a d50 of 0.5 to 20.0 μm, and a specific surface area of 0.1 to 3.0 μm. 5 m 2 /g.
Preferable numerical ranges of d50, d10, specific surface area, d50/d10, sphericity, dielectric loss tangent, etc. of the silica particles have been described above, and therefore will not be described here. Further, as described above, the silica particles may contain titanium and an impurity element.

以下、実施例によって本開示の実施形態を詳細に説明するが、本開示の実施形態はこれらに限定されない。 Hereinafter, embodiments of the present disclosure will be described in detail using Examples, but the embodiments of the present disclosure are not limited thereto.

(シリカ粒子のd50の測定方法)
以下のシリカ粒子のd50は、レーザー回折・散乱法により、粒度分布測定装置(マイクロトラック・ベル社製、MT3300EXII)を用いて測定した。具体的には、装置内で超音波照射を60秒間3回行うことでシリカ粒子を分散させてから測定を行った。d50は60秒間2回ずつ測定し、その平均値とした。シリカ粒子A~Dに含まれるシリカ粒子のd50を表1にまとめた。
(Method for measuring d50 of silica particles)
The d50 of the following silica particles was measured by a laser diffraction/scattering method using a particle size distribution analyzer (MT3300EXII, manufactured by Microtrac Bell). Specifically, the measurement was performed after the silica particles were dispersed by performing ultrasonic irradiation three times for 60 seconds in the device. The d50 was measured twice for 60 seconds, and the average value was taken as the average value. Table 1 summarizes the d50 of the silica particles contained in silica particles A to D.

(シリカ粒子の比表面積の測定方法)
以下のシリカ粒子A~Dを230℃で減圧乾燥して水分を完全に除去し、試料とした。この試料について、マイクロメリティック社製の自動比表面積・細孔分布測定装置「トライスターII」にて、窒素ガスを用いて多点BET法により比表面積を求め、表1にまとめた。
(Method for measuring specific surface area of silica particles)
The following silica particles A to D were dried under reduced pressure at 230° C. to completely remove moisture and used as samples. Regarding this sample, the specific surface area was determined by the multi-point BET method using nitrogen gas using an automatic specific surface area/pore distribution measuring device "Tristar II" manufactured by Micromeritic Co., Ltd., and the results are summarized in Table 1.

1.液状組成物を製造するための各成分の準備
[熱硬化性樹脂]
ポリフェニレンエーテル樹脂:ポリフェニレンエーテルの末端水酸基をメタクリロイルオキシ基で変性した変性ポリフェニレンエーテル(SABIC社製:Noryl SA9000、Mw:1700、1分子あたりの官能基数:2個)
[シリカ粒子]
シリカ粒子A:球状シリカ前駆体として、湿式法で製造されたシリカ粉末1(AGCエスアイテック社製:H-31、d50:3.5μm)15gを、アルミナ坩堝に充填し、電気炉内温度1200℃にて1時間加熱処理し、25℃まで冷却し、めのう乳鉢で擂潰して得られたシリカ粒子。
シリカ粒子B:球状シリカ前駆体として、湿式法で製造されたシリカ粉末2(鈴木油脂社製、E-2C、d50:2.5μm)15gを、アルミナ坩堝に充填し、電気炉内温度1200℃にて1時間加熱処理し、25℃まで冷却し、めのう乳鉢で擂潰して得られたシリカ粒子。
シリカ粒子C:VMC(Vaporized Metal Combustion)法で製造されたシリカ粒子(アドマテックス社製:SC5500-SQ)。
シリカ粒子D:乾式法で製造されたシリカ粒子(マイクロン社製:SPH516)。
シリカ粒子E:湿式法で製造されたシリカ粒子(AGCエスアイテック社製:H-201、d50:20.0μm)。
シリカ粒子F:湿式法で製造されたシリカ粉末(鈴木油脂社製、E-2C、d50:2.5μm)。
シリカ粒子G:VMC法で製造されたシリカ粒子(アドマテックス社製:SO-C1)。
1. Preparation of each component for producing liquid composition [thermosetting resin]
Polyphenylene ether resin: Modified polyphenylene ether in which the terminal hydroxyl group of polyphenylene ether is modified with a methacryloyloxy group (manufactured by SABIC: Noryl SA9000, Mw: 1700, number of functional groups per molecule: 2)
[Silica particles]
Silica particles A: As a spherical silica precursor, 15 g of silica powder 1 (manufactured by AGC SI Tech Co., Ltd.: H-31, d50: 3.5 μm) manufactured by a wet method was filled into an alumina crucible, and the temperature inside the electric furnace was set to 1200. Silica particles obtained by heat treatment at ℃ for 1 hour, cooling to 25 ℃, and crushing in an agate mortar.
Silica particles B: As a spherical silica precursor, 15 g of silica powder 2 (manufactured by Suzuki Yushi Co., Ltd., E-2C, d50: 2.5 μm) manufactured by a wet method was filled into an alumina crucible, and the temperature inside the electric furnace was set at 1200°C. The silica particles were heat-treated for 1 hour, cooled to 25°C, and crushed in an agate mortar.
Silica particles C: Silica particles manufactured by VMC (Vaporized Metal Combustion) method (manufactured by Admatex: SC5500-SQ).
Silica particles D: Silica particles manufactured by a dry method (manufactured by Micron Corporation: SPH516).
Silica particles E: Silica particles manufactured by a wet method (manufactured by AGC SI Tech Co., Ltd.: H-201, d50: 20.0 μm).
Silica particles F: Silica powder manufactured by a wet method (manufactured by Suzuki Yushi Co., Ltd., E-2C, d50: 2.5 μm).
Silica particles G: Silica particles manufactured by the VMC method (manufactured by Admatex: SO-C1).

2.液状組成物、プリプレグ及び樹脂付き金属基材の製造
<例1>
ポリフェニレンエーテル樹脂の59質量部、ブタジエン・スチレンランダムコポリマー(Cray Valley社製、Ricon100)の16質量部、トリアリルイソシアヌレート(硬化促進剤、三菱ケミカル社製、TAIC)の25質量部、α,α’-ジ(t
-ブチルペルオキシ)ジイソプロピルベンゼン(硬化剤、日油社製、パーブチル(登録商標)P)
の1質量部、シリカ粒子Aの55質量部、トルエンの80質量部をポリビンに入れ、Φ20mmのアルミナボールを入れて30rpmで12時間混合し、アルミナボールを除いて液状組成物を得た。液状組成物は、トルエンの100質量部に対してシリカ粒子Aを68.75質量部含み、ポリフェニレンエーテル樹脂の100質量部に対してシリカ粒子Aを93質量部含む。
液状組成物を、IPCスペック2116のガラスクロスに含浸塗工し、160℃で4分間加熱乾燥してプリプレグを得た。
プリプレグの両面に、厚さ18μmのキャリア付銅箔(銅箔の厚さ:3μm、最大高さ粗さRz:2μm、三井金属社製、MT18E)を積層し、230℃、圧力30kg/cmで120分間加熱成形し、樹脂付き金属基材を得た。
2. Production of liquid composition, prepreg and resin-coated metal substrate <Example 1>
59 parts by mass of polyphenylene ether resin, 16 parts by mass of butadiene-styrene random copolymer (manufactured by Cray Valley, Ricon 100), 25 parts by mass of triallyl isocyanurate (curing accelerator, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, TAIC), α, α '-ji(t
-Butylperoxy) diisopropylbenzene (curing agent, manufactured by NOF Corporation, Perbutyl (registered trademark) P)
1 part by mass of silica particles A, 55 parts by mass of silica particles A, and 80 parts by mass of toluene were placed in a polyethylene bottle, and alumina balls with a diameter of 20 mm were added thereto and mixed at 30 rpm for 12 hours. The alumina balls were removed to obtain a liquid composition. The liquid composition contains 68.75 parts by mass of silica particles A per 100 parts by mass of toluene, and 93 parts by mass of silica particles A per 100 parts by mass of polyphenylene ether resin.
The liquid composition was impregnated and coated on a glass cloth of IPC spec 2116, and heated and dried at 160° C. for 4 minutes to obtain a prepreg.
Copper foil with a carrier having a thickness of 18 μm (copper foil thickness: 3 μm, maximum height roughness Rz: 2 μm, manufactured by Mitsui Kinzoku Co., Ltd., MT18E) was laminated on both sides of the prepreg, and the temperature was 230° C. and the pressure was 30 kg/cm 2 The resin was heat-molded for 120 minutes to obtain a resin-coated metal base material.

<例2~7>
シリカ粒子Aを、表1に記載のシリカ粒子に変更した以外は、例1と同様にして、液状組成物、プリプレグ及び樹脂付き金属基材を製造した。
<Examples 2 to 7>
A liquid composition, a prepreg, and a resin-coated metal base material were produced in the same manner as in Example 1, except that silica particles A were changed to the silica particles listed in Table 1.

<例8~9>
例1におけるトルエン量を40質量部とする以外は同様にして、トルエンの100質量部に対してシリカ粒子Aの137.5質量部を含む例8の液状組成物を得た。また、例3におけるトルエン量を40質量部とする以外は同様にして、トルエンの100質量部に対してシリカ粒子Cの137.5質量部を含む例9の液状組成物を得た。得られた液状組成物を用いて、例1と同様にして、プリプレグ及び樹脂付き金属基材を製造した。
<Examples 8-9>
A liquid composition of Example 8 containing 137.5 parts by mass of silica particles A based on 100 parts by mass of toluene was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount of toluene was changed to 40 parts by mass. Further, a liquid composition of Example 9 containing 137.5 parts by mass of silica particles C per 100 parts by mass of toluene was obtained in the same manner as in Example 3 except that the amount of toluene was changed to 40 parts by mass. Using the obtained liquid composition, a prepreg and a resin-coated metal base material were manufactured in the same manner as in Example 1.

<剥離強度の測定>
IPC-TM650-2.4.8に準拠し、プリプレグとキャリア付銅箔との間の剥離強度を、テンシロン万能試験機(A&D社製、RTC-1250A)を用いて測定した。測定結果を表1にまとめた。
なお、例1~3、8、9は実施例であり、例4~7は比較例である。
<Measurement of peel strength>
In accordance with IPC-TM650-2.4.8, the peel strength between the prepreg and the carrier-attached copper foil was measured using a Tensilon universal testing machine (manufactured by A&D, RTC-1250A). The measurement results are summarized in Table 1.
Note that Examples 1 to 3, 8, and 9 are examples, and Examples 4 to 7 are comparative examples.

表1より、本組成物を用いたプリプレグでは、金属基材層との密着性に優れていることが分かる。
Table 1 shows that the prepreg using this composition has excellent adhesion to the metal base layer.

Claims (15)

熱硬化性樹脂と、メジアン径d50が0.5~20.0μmであり、比表面積が、0.1~3.5m/gであるシリカ粒子とを含有し、且つ25℃における回転数1rpmで測定される粘度が100~10000mPa・sである、液状組成物。 Contains a thermosetting resin and silica particles having a median diameter d50 of 0.5 to 20.0 μm and a specific surface area of 0.1 to 3.5 m 2 /g, and a rotation speed of 1 rpm at 25° C. A liquid composition having a viscosity of 100 to 10,000 mPa·s as measured by 前記シリカ粒子のメジアン径d50が1.0~10.0μmである、請求項1に記載の液状組成物。 The liquid composition according to claim 1, wherein the silica particles have a median diameter d50 of 1.0 to 10.0 μm. 前記シリカ粒子のメジアン径d50が1.0μm超5.0μm以下である、請求項1に記載の液状組成物。 The liquid composition according to claim 1, wherein the silica particles have a median diameter d50 of more than 1.0 μm and 5.0 μm or less. 前記シリカ粒子の比表面積が0.8~2.0m/gである、請求項1に記載の液状組成物。 The liquid composition according to claim 1, wherein the silica particles have a specific surface area of 0.8 to 2.0 m 2 /g. 前記熱硬化性樹脂100質量部に対する前記シリカ粒子の含有量が50~400質量部である、請求項1に記載の液状組成物。 The liquid composition according to claim 1, wherein the content of the silica particles is 50 to 400 parts by mass based on 100 parts by mass of the thermosetting resin. 前記熱硬化性樹脂が、エポキシ樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂又はオルトジビニルベンゼン樹脂である、請求項1に記載の液状組成物。 The liquid composition according to claim 1, wherein the thermosetting resin is an epoxy resin, a polyphenylene ether resin, or an orthodivinylbenzene resin. 溶剤を更に含有し、且つ前記溶剤が、トルエン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、及びN-メチル-2-ピロリドンからなる群より選択される少なくとも1つを含む、請求項1に記載の液状組成物。 The liquid composition according to claim 1, further comprising a solvent, and the solvent includes at least one selected from the group consisting of toluene, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, and N-methyl-2-pyrrolidone. 請求項1に記載の液状組成物又はその半硬化物と、繊維質基材と、を含むプリプレグ。 A prepreg comprising the liquid composition according to claim 1 or a semi-cured product thereof, and a fibrous base material. 請求項1~7のいずれか一項に記載の液状組成物若しくはその半硬化物又は請求項8に記載のプリプレグと、金属基材層と、を含む樹脂付き金属基材。 A resin-coated metal base material comprising the liquid composition or semi-cured product thereof according to any one of claims 1 to 7, or the prepreg according to claim 8, and a metal base material layer. 前記金属基材層が、銅箔である、請求項9に記載の樹脂付き金属基材。 The resin-coated metal base material according to claim 9, wherein the metal base layer is copper foil. 前記銅箔の、前記液状組成物、前記半硬化物、又は前記プリプレグ側の面の最大高さ粗さRzが2μm以下である、請求項10に記載の樹脂付き金属基材。 The resin-coated metal base material according to claim 10, wherein the copper foil has a maximum height roughness Rz of a surface on the side of the liquid composition, the semi-cured product, or the prepreg of 2 μm or less. 請求項1に記載の液状組成物の硬化物と、金属配線と、を含む配線板。 A wiring board comprising a cured product of the liquid composition according to claim 1 and metal wiring. 熱硬化性樹脂を含む液状組成物の粘度を調整するために用いられる、メジアン径d50が0.5~20.0μmであり、且つ比表面積が0.1~3.5m/gであるシリカ粒子。 Silica having a median diameter d50 of 0.5 to 20.0 μm and a specific surface area of 0.1 to 3.5 m 2 /g, which is used to adjust the viscosity of a liquid composition containing a thermosetting resin. particle. メジアン径d50が1.0μm超5.0μm以下である、請求項13に記載のシリカ粒子。 The silica particles according to claim 13, having a median diameter d50 of more than 1.0 μm and less than or equal to 5.0 μm. 比表面積が0.8~2.0m/gである、請求項13に記載のシリカ粒子。
The silica particles according to claim 13, having a specific surface area of 0.8 to 2.0 m 2 /g.
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