JP2023151896A - optical scanning device - Google Patents

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淳一 横井
Junichi Yokoi
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Abstract

To provide an optical scanning device that easily adjust an angle of a reflection mirror when the scanning optical device is assembled.SOLUTION: A scanning optical device includes: an incidence optical system for emitting beams; a polygon mirror; a motor for rotating the polygon mirror; a scanning optical system; and a frame F. The scanning optical system includes a scanning lens and a reflection mirror 81. In the frame F, the motor is fixed, and the polygon mirror and the scanning optical system are housed. The reflection mirror 81 reflects beams in a direction toward one side in an axial direction. The frame F has a seating face FsZ and a cover wall CW. The seating face FsZ supports the reflection mirror 81 and can adjust the angle of the reflection mirror 81. The cover wall CW is positioned in the other side in a first direction of the reflection mirror 81, covers the reflection mirror 81, and exposes the seating face FsZ to the other side in the first direction.SELECTED DRAWING: Figure 8

Description

本発明は、組立時において角度の調整が可能な反射ミラーを備えた光走査装置に関する。 The present invention relates to an optical scanning device equipped with a reflecting mirror whose angle can be adjusted during assembly.

従来、光源と、光源から出射されたビームを偏向するポリゴンミラーと、ポリゴンミラーを駆動するモータと、ベース壁および側壁を有する筐体と、を備えた光走査装置が知られている（特許文献１参照）。この光走査装置は、ベース壁にポリゴンモータが固定され、ベース壁とは反対側の開口から感光体に向けてビームが出射される。光走査装置の組立時にはビームの出射方向である開口側から反射ミラーの角度調整をする。 Conventionally, an optical scanning device is known that includes a light source, a polygon mirror that deflects a beam emitted from the light source, a motor that drives the polygon mirror, and a casing that has a base wall and side walls (Patent Document (see 1). In this optical scanning device, a polygon motor is fixed to a base wall, and a beam is emitted toward a photoreceptor from an opening on the opposite side of the base wall. When assembling the optical scanning device, the angle of the reflecting mirror is adjusted from the aperture side, which is the beam exit direction.

特開２０１４－１７８３４１号公報Japanese Patent Application Publication No. 2014-178341

しかしながら、特許文献１の光走査装置では、光走査装置の組立時には、反射ミラーの角度調整をビームの出射方向である開口側からするため、反射ミラーの角度調整が容易でないという問題点があった。 However, in the optical scanning device of Patent Document 1, when assembling the optical scanning device, the angle of the reflecting mirror is adjusted from the aperture side, which is the beam emission direction, so there was a problem that the angle of the reflecting mirror was not easy to adjust. .

そこで、本発明は、光走査装置の組立時において、反射ミラーの角度調整が容易な光走査装置を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide an optical scanning device in which the angle of a reflecting mirror can be easily adjusted when the optical scanning device is assembled.

前記課題を解決するため、本発明に係る光走査光学装置は、ビームを出射する入射光学系と、入射光学系から出射されたビームを偏向するポリゴンミラーと、軸方向に延びる回転軸線を中心にポリゴンミラーを回転させるモータと、走査光学系と、フレームと、を備える。
走査光学系は、ポリゴンミラーで偏向されたビームを像面に結像させる走査レンズと、ビームを反射する反射ミラーと、を有する。フレームは、モータが固定され、ポリゴンミラーおよび走査光学系を収容する。反射ミラーは、ビームを軸方向の一方側に反射する。フレームは、座面と、カバー壁と、を有する。座面は、反射ミラーを支持して反射ミラーの角度の調整が可能である。カバー壁は、反射ミラーの軸方向の他方側に位置し、反射ミラーを覆い、かつ、軸方向の他方側に座面を露出させる。 In order to solve the above problems, an optical scanning optical device according to the present invention includes an input optical system that outputs a beam, a polygon mirror that deflects the beam output from the input optical system, and a rotation axis that extends in the axial direction. It includes a motor that rotates a polygon mirror, a scanning optical system, and a frame.
The scanning optical system includes a scanning lens that focuses a beam deflected by a polygon mirror on an image plane, and a reflection mirror that reflects the beam. The frame has a fixed motor and houses the polygon mirror and scanning optics. The reflecting mirror reflects the beam to one side in the axial direction. The frame has a seat surface and a cover wall. The seat supports a reflective mirror, and the angle of the reflective mirror can be adjusted. The cover wall is located on the other axial side of the reflecting mirror, covers the reflecting mirror, and exposes the seat surface on the other axial side.

この構成によれば、反射ミラーの角度調整をビームの出射方向とは反対側から行うことができる。このため、光走査装置の組立時において、反射ミラーの角度調整が容易となる。 According to this configuration, the angle of the reflection mirror can be adjusted from the side opposite to the beam emission direction. Therefore, when assembling the optical scanning device, the angle of the reflecting mirror can be easily adjusted.

また、前記した走査光学装置において、反射ミラーは、軸方向と直交する長手方向に延びており、フレームは、ポリゴンミラーおよび走査光学系の長手方向における一方側に位置する第１側壁と、ポリゴンミラーおよび走査光学系の長手方向における他方側に位置する第２側壁と、を有し、第１側壁は、反射ミラーの長手方向の一方側の端面を露出させる開口を有する構成としてもよい。 Further, in the scanning optical device described above, the reflecting mirror extends in a longitudinal direction perpendicular to the axial direction, and the frame includes the polygon mirror and the first side wall located on one side in the longitudinal direction of the scanning optical system, and the polygon mirror. and a second side wall located on the other side in the longitudinal direction of the scanning optical system, and the first side wall may have an opening that exposes the end surface on one side in the longitudinal direction of the reflecting mirror.

この構成によれば、反射ミラーを走査光学装置に取り付ける場合に、反射ミラーを長手方向から取り付けることができる。 According to this configuration, when attaching the reflecting mirror to the scanning optical device, the reflecting mirror can be attached from the longitudinal direction.

また、前記した走査光学装置において、入射光学系は、光を出射する半導体レーザと、半導体レーザからの光をビームに変換するカップリングレンズと、を有し、走査光学系の長手方向における他方側に位置する構成としてもよい。 Further, in the above-described scanning optical device, the input optical system includes a semiconductor laser that emits light, and a coupling lens that converts the light from the semiconductor laser into a beam, and the input optical system has the other side in the longitudinal direction of the scanning optical system. It is also possible to have a configuration located at .

この構成によれば、反射ミラーを取り付けるときに入射光学系が邪魔にならない。 According to this configuration, the input optical system does not get in the way when attaching the reflecting mirror.

また、前記した走査光学装置において、反射ミラーは、軸方向において、走査レンズと重なる構成としてもよい。 Furthermore, in the above-described scanning optical device, the reflecting mirror may be configured to overlap the scanning lens in the axial direction.

この構成によれば、走査レンズに干渉しない方向（ビームの出射方向とは反対側）から反射ミラーの角度を調整できる。 According to this configuration, the angle of the reflection mirror can be adjusted from a direction that does not interfere with the scanning lens (opposite side to the beam emission direction).

また、前記した走査光学装置において、反射ミラーは、軸方向と直交する長手方向に延びており、長手方向において、カバー壁は、走査光学系の有効走査範囲を含む範囲に渡って延びる構成としてもよい。 Further, in the scanning optical device described above, the reflecting mirror may extend in a longitudinal direction perpendicular to the axial direction, and the cover wall may extend in the longitudinal direction over a range including the effective scanning range of the scanning optical system. good.

この構成によれば、走査光学系の有効走査範囲にゴミが付着するのを抑制できる。 According to this configuration, it is possible to suppress dust from adhering to the effective scanning range of the scanning optical system.

また、前記した走査光学装置において、座面に対する反射ミラーの向きを保持するスペーサをさらに備え、スペーサは、光硬化樹脂で構成されていてもよい。 Furthermore, the above-described scanning optical device may further include a spacer that maintains the orientation of the reflection mirror with respect to the seating surface, and the spacer may be made of photocurable resin.

また、前記した走査光学装置において、座面は、反射ミラーに向けて突出し、反射ミラーと接触して反射ミラーの向きを調整する際の支点となる突起を有する構成としてもよい。 Further, in the above-described scanning optical device, the seat surface may have a projection that protrudes toward the reflecting mirror and serves as a fulcrum when adjusting the direction of the reflecting mirror by contacting the reflecting mirror.

また、前記した走査光学装置において、反射ミラーを座面に向けて押圧するバネをさらに備え、バネは、光硬化樹脂を硬化させる光が透過可能な開口部を有する構成としてもよい。 Furthermore, the above-described scanning optical device may further include a spring that presses the reflecting mirror toward the seating surface, and the spring may have an opening through which light for curing the photocuring resin can pass.

また、前記した走査光学装置において、フレームに取り付けられ、座面を有する支持部材をさらに有する構成としてもよい。 Furthermore, the above-described scanning optical device may be configured to further include a support member that is attached to the frame and has a seat surface.

本発明によれば、光走査装置の組立時において、反射ミラーの角度調整が容易となる。 According to the present invention, the angle of the reflecting mirror can be easily adjusted when assembling the optical scanning device.

一実施形態に係る走査光学装置の斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of a scanning optical device according to one embodiment. カップリングレンズ周りの構造を示す斜視図（ａ）と、（ａ）とは異なる方向から見た斜視図（ｂ）である。They are a perspective view (a) showing a structure around a coupling lens, and a perspective view (b) seen from a different direction from (a). 走査光学装置を下側から見た斜視図である。FIG. 3 is a perspective view of the scanning optical device seen from below. 図１のＩＶ－ＩＶ断面図である。2 is a sectional view taken along line IV-IV in FIG. 1. FIG. 図１のＶ－Ｖ断面図である。2 is a sectional view taken along line VV in FIG. 1. FIG. 走査光学装置のフレームを上から見た図である。FIG. 3 is a top view of the frame of the scanning optics; フレームの側面図であり、反射ミラーを取り付ける開口を示す図である。It is a side view of a frame, and is a figure showing the opening in which a reflective mirror is attached. 反射ミラーを走査光学装置に取り付ける方法を説明する斜視図である。FIG. 3 is a perspective view illustrating a method of attaching a reflecting mirror to a scanning optical device. 走査光学系の有効走査範囲とカバー壁の延びる範囲を説明する図である。FIG. 3 is a diagram illustrating an effective scanning range of a scanning optical system and an extending range of a cover wall. 反射ミラーの角度調整をする方法を説明する図である。It is a figure explaining the method of adjusting the angle of a reflection mirror.

図１～図３に示すように、走査光学装置１は、フレームＦと、入射光学系Ｌｉと、偏向器５０と、走査光学系Ｌｏとを備える。走査光学装置１は、電子写真式の画像形成装置に適用される。以下の説明では、図３に示すポリゴンミラー５１の回転軸線Ｘ１に沿った方向を、「第１方向」と称する。また、第１方向に直交する方向であって、図３に示すポリゴンミラー５１と第１走査レンズ６０が並ぶ方向を、「第２方向」と称する。また、第１方向および第２方向に直交する方向を「第３方向」と称する。
なお、第３方向は、後述する反射ミラー８１の長手方向の一例であり、走査光学系Ｌｏにおいては主走査方向に相当する。第１方向は、ポリゴンミラー５１の軸方向の一例であり、副走査方向に相当する。また、図面における各方向を示す矢印は、各方向における「一方側」を指すこととする。 As shown in FIGS. 1 to 3, the scanning optical device 1 includes a frame F, an incident optical system Li, a deflector 50, and a scanning optical system Lo. The scanning optical device 1 is applied to an electrophotographic image forming apparatus. In the following description, the direction along the rotation axis X1 of the polygon mirror 51 shown in FIG. 3 will be referred to as a "first direction." Further, a direction perpendicular to the first direction, in which the polygon mirror 51 and the first scanning lens 60 shown in FIG. 3 are lined up, is referred to as a "second direction." Further, a direction perpendicular to the first direction and the second direction is referred to as a "third direction."
Note that the third direction is an example of the longitudinal direction of the reflecting mirror 81, which will be described later, and corresponds to the main scanning direction in the scanning optical system Lo. The first direction is an example of the axial direction of the polygon mirror 51, and corresponds to the sub-scanning direction. Further, arrows indicating each direction in the drawings indicate "one side" in each direction.

図１に示すように、入射光学系Ｌｉは、走査光学系Ｌｏの第３方向（長手方向）における他方側に位置する。図２（ａ），（ｂ）に示すように、入射光学系Ｌｉは、４つの半導体レーザ１０と、４つのカップリングレンズ２０と、絞り板３０と、集光レンズ４０とを備える。半導体レーザ１０とカップリングレンズ２０は、光源の一例である。 As shown in FIG. 1, the input optical system Li is located on the other side of the scanning optical system Lo in the third direction (longitudinal direction). As shown in FIGS. 2A and 2B, the input optical system Li includes four semiconductor lasers 10, four coupling lenses 20, an aperture plate 30, and a condenser lens 40. The semiconductor laser 10 and the coupling lens 20 are an example of a light source.

半導体レーザ１０は、光を出射する装置である。半導体レーザ１０は、走査光学装置１が走査露光する４つの感光ドラム２００（図５参照）に対応して４つ設けられている。各感光ドラム２００には、それぞれ異なる色のトナー像が形成される。 The semiconductor laser 10 is a device that emits light. Four semiconductor lasers 10 are provided corresponding to the four photosensitive drums 200 (see FIG. 5) scanned and exposed by the scanning optical device 1. Toner images of different colors are formed on each photosensitive drum 200 .

なお、本実施形態では、第１色を「イエロー（Ｙ）」、第２色を「マゼンタ（Ｍ）」、第３色を「シアン（Ｃ）」、第４色を「ブラック（Ｋ）」とする。以下の説明では、第１色に対応した部品の名称の頭に「第１」を付し、第１色に対応した部品の符号の末尾に「Ｙ」を付して区別する場合がある。また、第２色、第３色、第４色に対応した部品ついても同様に、名称の頭に「第２」、「第３」、「第４」を付し、符号の末尾に「Ｍ」、「Ｃ」、「Ｋ」を付して区別する場合がある。 In this embodiment, the first color is "yellow (Y)," the second color is "magenta (M)," the third color is "cyan (C)," and the fourth color is "black (K)." shall be. In the following description, "first" may be added to the beginning of the name of the part corresponding to the first color, and "Y" may be added to the end of the code of the part corresponding to the first color to distinguish them. Similarly, for parts corresponding to the second, third, and fourth colors, "2nd", "3rd", and "4th" are added to the beginning of the name, and "M" is added to the end of the code. ", "C", and "K" may be added to distinguish them.

第１半導体レーザ１０Ｙは、第２半導体レーザ１０Ｍに対して第１方向に間隔を空けて並んでいる。第１半導体レーザ１０Ｙは、第２半導体レーザ１０Ｍに対して第１方向の一方側に位置する。 The first semiconductor lasers 10Y are arranged at intervals in the first direction with respect to the second semiconductor lasers 10M. The first semiconductor laser 10Y is located on one side in the first direction with respect to the second semiconductor laser 10M.

第３半導体レーザ１０Ｃは、第２半導体レーザ１０Ｍに対して第２方向に間隔を空けて並んでいる。第３半導体レーザ１０Ｃは、第２半導体レーザ１０Ｍに対して第２方向の他方側に位置する。第４半導体レーザ１０Ｋは、第１方向において第３半導体レーザ１０Ｃと間隔を空けて並び、かつ、第２方向において第１半導体レーザ１０Ｙと間隔を空けて並んでいる。 The third semiconductor laser 10C is spaced apart from the second semiconductor laser 10M in the second direction. The third semiconductor laser 10C is located on the other side in the second direction with respect to the second semiconductor laser 10M. The fourth semiconductor laser 10K is spaced apart from the third semiconductor laser 10C in the first direction, and is spaced from the first semiconductor laser 10Y in the second direction.

カップリングレンズ２０は、半導体レーザ１０からの光をビームに変換するレンズである。各色に対応したカップリングレンズ２０Ｙ，２０Ｍ，２０Ｃ，２０Ｋは、対応する半導体レーザ１０Ｙ，１０Ｍ，１０Ｃ，１０Ｋと対向する位置に配置されている。 The coupling lens 20 is a lens that converts the light from the semiconductor laser 10 into a beam. Coupling lenses 20Y, 20M, 20C, and 20K corresponding to each color are arranged at positions facing the corresponding semiconductor lasers 10Y, 10M, 10C, and 10K.

図２（ｂ）に示すように、絞り板３０は、カップリングレンズ２０からのビームが通過する開口絞り３１を有する部位であり、フレームＦに一体に形成されている。絞り板３０は、カップリングレンズ２０と集光レンズ４０の間に位置している。 As shown in FIG. 2(b), the aperture plate 30 is a portion having an aperture stop 31 through which the beam from the coupling lens 20 passes, and is formed integrally with the frame F. The aperture plate 30 is located between the coupling lens 20 and the condensing lens 40.

集光レンズ４０は、カップリングレンズ２０からのビームを副走査方向においてポリゴンミラー５１に集光するレンズである。集光レンズ４０は、絞り板３０に対してカップリングレンズ２０とは反対側に位置している。 The condensing lens 40 is a lens that condenses the beam from the coupling lens 20 onto the polygon mirror 51 in the sub-scanning direction. The condensing lens 40 is located on the opposite side of the aperture plate 30 from the coupling lens 20.

図３に示すように、偏向器５０は、ポリゴンミラー５１と、モータ５２とを有する。ポリゴンミラー５１は、光源から出射されたビームを偏向する。具体的には、ポリゴンミラー５１は、集光レンズ４０を通過したビームを主走査方向に偏向する。ポリゴンミラー５１は、回転軸線Ｘ１から等距離に設けられた５つのミラー面を有している。モータ５２は、第１方向に延びる回転軸線Ｘ１を中心にポリゴンミラー５１を回転させるモータである。モータ５２は、フレームＦに固定されている。 As shown in FIG. 3, the deflector 50 includes a polygon mirror 51 and a motor 52. The polygon mirror 51 deflects the beam emitted from the light source. Specifically, the polygon mirror 51 deflects the beam that has passed through the condenser lens 40 in the main scanning direction. The polygon mirror 51 has five mirror surfaces provided at equal distances from the rotation axis X1. The motor 52 is a motor that rotates the polygon mirror 51 around the rotation axis X1 extending in the first direction. The motor 52 is fixed to the frame F.

走査光学系Ｌｏは、偏向器５０に偏向されたビームを、像面としての感光ドラム２００の表面に結像する光学系である。走査光学系Ｌｏは、フレームＦに固定されている。図５に示すように、走査光学系Ｌｏは、イエローに対応した第１走査光学系ＬｏＹと、マゼンタに対応した第２走査光学系ＬｏＭと、シアンに対応した第３走査光学系ＬｏＣと、ブラックに対応した第４走査光学系ＬｏＫとを有する。 The scanning optical system Lo is an optical system that images the beam deflected by the deflector 50 on the surface of the photosensitive drum 200 as an image plane. The scanning optical system Lo is fixed to the frame F. As shown in FIG. 5, the scanning optical system Lo includes a first scanning optical system LoY corresponding to yellow, a second scanning optical system LoM corresponding to magenta, a third scanning optical system LoC corresponding to cyan, and a third scanning optical system LoC corresponding to cyan. It has a fourth scanning optical system LoK corresponding to.

第１走査光学系ＬｏＹおよび第２走査光学系ＬｏＭは、第２方向において、ポリゴンミラー５１の一方側に配置されている。第３走査光学系ＬｏＣおよび第４走査光学系ＬｏＫは、第２方向において、ポリゴンミラー５１の他方側に配置されている。各走査光学系ＬｏＹ，ＬｏＭ，ＬｏＣ，ＬｏＫには、ポリゴンミラー５１によって主走査方向に偏向されたビームが入射する。 The first scanning optical system LoY and the second scanning optical system LoM are arranged on one side of the polygon mirror 51 in the second direction. The third scanning optical system LoC and the fourth scanning optical system LoK are arranged on the other side of the polygon mirror 51 in the second direction. A beam deflected in the main scanning direction by the polygon mirror 51 is incident on each scanning optical system LoY, LoM, LoC, and LoK.

第１走査光学系ＬｏＹ、第２走査光学系ＬｏＭ、第３走査光学系ＬｏＣおよび第４走査光学系ＬｏＫは、ポリゴンミラー５１で偏向されたビームが通る第１走査レンズと、第１走査レンズを通過し、像面に向かうビームを反射する少なくとも１つの反射ミラーと、反射ミラーに反射されたビームを副走査方向に集光する第２走査レンズと、をそれぞれ有する。
本実施形態では、第１走査光学系ＬｏＹの第１走査レンズと、第２走査光学系ＬｏＭの第１走査レンズとは共通の１つのレンズ６０ＹＭである。同様に、第３走査光学系ＬｏＣの第１走査レンズと、第４走査光学系ＬｏＫの第１走査レンズとは共通の１つのレンズ６０ＣＫである。
また、本実施形態では、第１走査光学系ＬｏＹおよび第４走査光学系ＬｏＫは、それぞれ、反射ミラーを１つ有する。また、第２走査光学系ＬｏＭおよび第３走査光学系ＬｏＣは、それぞれ、反射ミラーを２つ有する。 The first scanning optical system LoY, the second scanning optical system LoM, the third scanning optical system LoC, and the fourth scanning optical system LoK each include a first scanning lens through which the beam deflected by the polygon mirror 51 passes, and a first scanning lens. Each of the image forming apparatuses includes at least one reflecting mirror that reflects the beam that passes through the image plane toward the image plane, and a second scanning lens that focuses the beam reflected by the reflecting mirror in the sub-scanning direction.
In this embodiment, the first scanning lens of the first scanning optical system LoY and the first scanning lens of the second scanning optical system LoM are one common lens 60YM. Similarly, the first scanning lens of the third scanning optical system LoC and the first scanning lens of the fourth scanning optical system LoK are one common lens 60CK.
Further, in this embodiment, the first scanning optical system LoY and the fourth scanning optical system LoK each have one reflecting mirror. Further, the second scanning optical system LoM and the third scanning optical system LoC each have two reflecting mirrors.

第１走査光学系ＬｏＹは、ポリゴンミラー５１で偏向されたビームＢＹを第１感光ドラム２００Ｙの第１像面に向けて出射する。第１走査光学系ＬｏＹは、第１走査レンズ６０ＹＭと、第２走査レンズ７０Ｙと、第１反射ミラー８１Ｙとを有する。 The first scanning optical system LoY emits the beam BY deflected by the polygon mirror 51 toward the first image plane of the first photosensitive drum 200Y. The first scanning optical system LoY includes a first scanning lens 60YM, a second scanning lens 70Y, and a first reflecting mirror 81Y.

第１走査レンズ６０ＹＭは、偏向器５０で偏向されたビームＢＹを主走査方向に屈折させて像面に結像させるレンズである。また、第１走査レンズ６０ＹＭは、偏向器５０によって等角速度で走査された光を、像面において等速度となるようにするｆθ特性を有する。第１走査レンズ６０ＹＭは、第１走査光学系ＬｏＹのうちポリゴンミラー５１に最も近い走査レンズである。 The first scanning lens 60YM is a lens that refracts the beam BY deflected by the deflector 50 in the main scanning direction and forms an image on the image plane. Further, the first scanning lens 60YM has an fθ characteristic that causes the light scanned at a constant angular velocity by the deflector 50 to have a constant velocity on the image plane. The first scanning lens 60YM is the scanning lens closest to the polygon mirror 51 in the first scanning optical system LoY.

第１反射ミラー８１Ｙは、第１走査レンズ６０ＹＭからのビームＢＹを、第２走査レンズ７０Ｙに向けて反射するミラーである。第１反射ミラー８１Ｙは、第３方向（長手方向）に延びている。第２走査レンズ７０Ｙは、第１反射ミラー８１Ｙで反射されたビームＢＹを副走査方向に屈折させて像面に結像させるレンズである。第１反射ミラー８１Ｙは、第２走査レンズ７０Ｙと第１方向から見て重なる。第２走査レンズ７０Ｙは、ポリゴンミラー５１に対して第１方向の一方側に配置されている。第２走査レンズ７０Ｙは、第１走査光学系ＬｏＹのうち像面に最も近い走査レンズである。 The first reflecting mirror 81Y is a mirror that reflects the beam BY from the first scanning lens 60YM toward the second scanning lens 70Y. The first reflecting mirror 81Y extends in the third direction (longitudinal direction). The second scanning lens 70Y is a lens that refracts the beam BY reflected by the first reflecting mirror 81Y in the sub-scanning direction and forms an image on the image plane. The first reflection mirror 81Y overlaps the second scanning lens 70Y when viewed from the first direction. The second scanning lens 70Y is arranged on one side of the polygon mirror 51 in the first direction. The second scanning lens 70Y is the scanning lens closest to the image plane in the first scanning optical system LoY.

第２走査光学系ＬｏＭは、ポリゴンミラー５１で偏向されたビームＢＭを第２感光ドラム２００Ｍの第２像面に向けて出射する。第２走査光学系ＬｏＭは、第２方向において、第１走査光学系ＬｏＹのビームＢＹよりポリゴンミラー５１に近い位置でビームＢＭを第２感光ドラム２００Ｍの第２像面に向けて出射する。第２走査光学系ＬｏＭは、第１走査レンズ６０ＹＭと、第２走査レンズ７０Ｍと、第１反射ミラー８１Ｍと、第２反射ミラー８２Ｍとを有する。第１反射ミラー８１Ｍは、第３方向（長手方向）に延びている。 The second scanning optical system LoM emits the beam BM deflected by the polygon mirror 51 toward the second image plane of the second photosensitive drum 200M. The second scanning optical system LoM emits the beam BM toward the second image plane of the second photosensitive drum 200M at a position closer to the polygon mirror 51 than the beam BY of the first scanning optical system LoY in the second direction. The second scanning optical system LoM includes a first scanning lens 60YM, a second scanning lens 70M, a first reflecting mirror 81M, and a second reflecting mirror 82M. The first reflecting mirror 81M extends in the third direction (longitudinal direction).

第２走査光学系ＬｏＭの第１走査レンズ６０ＹＭは、第１反射ミラー８１Ｍから第２走査レンズ７０Ｍへ向けて進むビームＢＭとポリゴンミラー５１との間に位置する。 The first scanning lens 60YM of the second scanning optical system LoM is located between the polygon mirror 51 and the beam BM traveling from the first reflection mirror 81M to the second scanning lens 70M.

第２反射ミラー８２Ｍは、第１走査レンズ６０ＹＭからのビームを、第１反射ミラー８１Ｍに向けて反射するミラーである。第１反射ミラー８１Ｍは、第２反射ミラー８２ＭからのビームＢＭを第２走査レンズ７０Ｍに向けて反射するミラーである。第１反射ミラー８１Ｍは、第２走査レンズ７０Ｍと第１方向から見て重なる。第２走査レンズ７０Ｍは、第１反射ミラー８１Ｙで反射されたビームを副走査方向に屈折させて像面に結像させるレンズである。第２走査光学系ＬｏＭにおいて、第１走査レンズ６０ＹＭと第２走査レンズ７０Ｍは、第１方向から見て重なる。第２走査レンズ７０Ｍは、ポリゴンミラー５１に対して第１方向の一方側に配置されている。第２走査レンズ７０Ｍは、第２走査光学系ＬｏＭのうち像面に最も近い走査レンズである。 The second reflecting mirror 82M is a mirror that reflects the beam from the first scanning lens 60YM toward the first reflecting mirror 81M. The first reflecting mirror 81M is a mirror that reflects the beam BM from the second reflecting mirror 82M toward the second scanning lens 70M. The first reflection mirror 81M overlaps with the second scanning lens 70M when viewed from the first direction. The second scanning lens 70M is a lens that refracts the beam reflected by the first reflecting mirror 81Y in the sub-scanning direction and forms an image on the image plane. In the second scanning optical system LoM, the first scanning lens 60YM and the second scanning lens 70M overlap when viewed from the first direction. The second scanning lens 70M is arranged on one side of the polygon mirror 51 in the first direction. The second scanning lens 70M is the scanning lens closest to the image plane in the second scanning optical system LoM.

第３走査光学系ＬｏＣは、ポリゴンミラー５１で偏向されたビームを第３感光ドラム２００Ｃの第３像面に向けて出射する。第３走査光学系ＬｏＣは、第１走査レンズ６０ＣＫと、第２走査レンズ７０Ｃと、第１反射ミラー８１Ｃと、第２反射ミラー８２Ｃとを有する。第１反射ミラー８１Ｃは、第３方向（長手方向）に延びている。 The third scanning optical system LoC emits the beam deflected by the polygon mirror 51 toward the third image plane of the third photosensitive drum 200C. The third scanning optical system LoC includes a first scanning lens 60CK, a second scanning lens 70C, a first reflecting mirror 81C, and a second reflecting mirror 82C. The first reflecting mirror 81C extends in the third direction (longitudinal direction).

第１走査レンズ６０ＣＫは、偏向器５０で偏向されたビームを主走査方向に屈折させて像面に結像させるレンズである。また、第１走査レンズ６０ＣＫは、偏向器５０によって等角速度で走査された光を、像面において等速度となるようにするｆθ特性を有する。第１走査レンズ６０ＣＫは、第３走査光学系ＬｏＣのうちポリゴンミラー５１に最も近い走査レンズである。第３走査光学系ＬｏＣの第１走査レンズ６０ＣＫは、第１反射ミラー８１Ｃから第２走査レンズ７０Ｃへ向けて進むビームＢＣとポリゴンミラー５１との間に位置する。 The first scanning lens 60CK is a lens that refracts the beam deflected by the deflector 50 in the main scanning direction and forms an image on the image plane. Further, the first scanning lens 60CK has an fθ characteristic that causes the light scanned at a constant angular velocity by the deflector 50 to have a constant velocity on the image plane. The first scanning lens 60CK is the scanning lens closest to the polygon mirror 51 in the third scanning optical system LoC. The first scanning lens 60CK of the third scanning optical system LoC is located between the polygon mirror 51 and the beam BC traveling from the first reflecting mirror 81C to the second scanning lens 70C.

第２反射ミラー８２Ｃは、第１走査レンズ６０ＣＫからのビームを第１反射ミラー８１Ｃに向けて反射するミラーである。第１反射ミラー８１Ｃは、第２反射ミラー８２ＣからのビームＢＣを第２走査レンズ７０Ｃに向けて反射するミラーである。第１反射ミラー８１Ｃは、第２走査レンズ７０Ｃと第１方向から見て重なる。第２走査レンズ７０Ｃは、第１反射ミラー８１Ｃで反射されたビームを副走査方向に屈折させて像面に結像させるレンズである。第２走査レンズ７０Ｃは、ポリゴンミラー５１に対して第１方向の他方側に配置されている。第２走査レンズ７０Ｃは、第３走査光学系ＬｏＣのうち像面に最も近い走査レンズである。 The second reflecting mirror 82C is a mirror that reflects the beam from the first scanning lens 60CK toward the first reflecting mirror 81C. The first reflecting mirror 81C is a mirror that reflects the beam BC from the second reflecting mirror 82C toward the second scanning lens 70C. The first reflecting mirror 81C overlaps the second scanning lens 70C when viewed from the first direction. The second scanning lens 70C is a lens that refracts the beam reflected by the first reflecting mirror 81C in the sub-scanning direction and forms an image on the image plane. The second scanning lens 70C is arranged on the other side of the polygon mirror 51 in the first direction. The second scanning lens 70C is the scanning lens closest to the image plane in the third scanning optical system LoC.

第４走査光学系ＬｏＫは、ポリゴンミラー５１で偏向されたビームを第４感光ドラム２００Ｋの第４像面に向けて出射する。第４走査光学系ＬｏＫは、第２方向において、第４走査光学系ＬｏＫのビームＢＫよりポリゴンミラー５１に遠い位置でビームＢＫを第４感光ドラム２００Ｋの第４像面に向けて出射する。第４走査光学系ＬｏＫは、第１走査レンズ６０ＣＫと、第２走査レンズ７０Ｋと、第１反射ミラー８１Ｋを有する。 The fourth scanning optical system LoK emits the beam deflected by the polygon mirror 51 toward the fourth image plane of the fourth photosensitive drum 200K. The fourth scanning optical system LoK emits the beam BK toward the fourth image plane of the fourth photosensitive drum 200K at a position farther from the polygon mirror 51 than the beam BK of the fourth scanning optical system LoK in the second direction. The fourth scanning optical system LoK includes a first scanning lens 60CK, a second scanning lens 70K, and a first reflecting mirror 81K.

第１走査レンズ６０ＣＫは、偏向器５０で偏向されたビームＢＫを主走査方向に屈折させて像面に結像させるレンズである。また、第１走査レンズ６０ＣＫは、偏向器５０によって等角速度で走査された光を、像面において等速度となるようにするｆθ特性を有する。第１走査レンズ６０ＣＫは、第４走査光学系ＬｏＫのうちポリゴンミラー５１に最も近い走査レンズである。 The first scanning lens 60CK is a lens that refracts the beam BK deflected by the deflector 50 in the main scanning direction and forms an image on the image plane. Further, the first scanning lens 60CK has an fθ characteristic that causes the light scanned at a constant angular velocity by the deflector 50 to have a constant velocity on the image plane. The first scanning lens 60CK is the scanning lens closest to the polygon mirror 51 in the fourth scanning optical system LoK.

第１反射ミラー８１Ｋは、第１走査レンズ６０ＣＫからのビームＢＫを、第２走査レンズ７０Ｋに向けて反射するミラーである。第１反射ミラー８１Ｋは、第３方向（長手方向）に延びている。第１反射ミラー８１Ｋは、第２走査レンズ７０Ｋと第１方向から見て重なる。第２走査レンズ７０Ｋは、第１反射ミラー８１Ｋで反射されたビームＢＫを副走査方向に屈折させて像面に結像させるレンズである。第２走査レンズ７０Ｋは、ポリゴンミラー５１に対して第１方向の他方側に配置されている。第２走査レンズ７０Ｋは、第４走査光学系ＬｏＫのうち像面に最も近い走査レンズである。 The first reflecting mirror 81K is a mirror that reflects the beam BK from the first scanning lens 60CK toward the second scanning lens 70K. The first reflecting mirror 81K extends in the third direction (longitudinal direction). The first reflection mirror 81K overlaps the second scanning lens 70K when viewed from the first direction. The second scanning lens 70K is a lens that refracts the beam BK reflected by the first reflecting mirror 81K in the sub-scanning direction and forms an image on the image plane. The second scanning lens 70K is arranged on the other side of the polygon mirror 51 in the first direction. The second scanning lens 70K is the scanning lens closest to the image plane in the fourth scanning optical system LoK.

第１走査光学系ＬｏＹ、第２走査光学系ＬｏＭ、第３走査光学系ＬｏＣおよび第４走査光学系ＬｏＫの第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋのそれぞれは、第２方向に直線状に並んでいる。別の言い方をすれば、各第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋは、第２方向から見て、互いに、少なくとも一部が重なるように配置されている。 The second scanning lenses 70Y, 70M, 70C, and 70K of the first scanning optical system LoY, the second scanning optical system LoM, the third scanning optical system LoC, and the fourth scanning optical system LoK are arranged linearly in the second direction. They are lined up. In other words, the second scanning lenses 70Y, 70M, 70C, and 70K are arranged so as to at least partially overlap each other when viewed from the second direction.

図４に示すように、各半導体レーザ１０Ｙ～１０Ｋから出射された光は、各カップリングレンズ２０Ｙ～２０Ｋを通ることでビームＢＹ～ＢＫに変換される。ビームＢＹ～ＢＫは、絞り板３０の対応する開口絞り３１Ｙ～３１Ｋを通った後、集光レンズ４０を通って、ポリゴンミラー５１に入射される。集光レンズ４０は、ビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫが共通して通過するレンズであり、入射面が円筒面、出射面が平面で構成される。 As shown in FIG. 4, the light emitted from each of the semiconductor lasers 10Y to 10K is converted into beams BY to BK by passing through each coupling lens 20Y to 20K. The beams BY to BK pass through the corresponding aperture stops 31Y to 31K of the diaphragm plate 30, pass through the condenser lens 40, and enter the polygon mirror 51. The condensing lens 40 is a lens through which the beams BY, BM, BC, and BK commonly pass, and has a cylindrical entrance surface and a flat exit surface.

図５に示すように、ポリゴンミラー５１は、ビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＣＫを、対応する走査光学ＬｏＹ，ＬｏＭ，ＬｏＣ，ＬｏＫに向けて偏向する。第１走査光学系ＬｏＹに向かうビームＢＹは、第１走査レンズ６０ＹＭを通った後、第１反射ミラー８１Ｙで反射され、第２走査レンズ７０Ｙを通って第１方向の一方側の像面に向けて出射される。ビームＢＹは、第１方向と所定の角度をなして第２走査レンズ７０Ｙから出射される。ビームＢＹは、第１感光ドラム２００Ｙに結像され主走査方向に走査される。 As shown in FIG. 5, the polygon mirror 51 deflects the beams BY, BM, BC, and CK toward the corresponding scanning optics LoY, LoM, LoC, and LoK. The beam BY heading toward the first scanning optical system LoY passes through the first scanning lens 60YM, is reflected by the first reflecting mirror 81Y, passes through the second scanning lens 70Y, and is directed toward the image plane on one side in the first direction. is emitted. The beam BY is emitted from the second scanning lens 70Y at a predetermined angle with the first direction. The beam BY is imaged on the first photosensitive drum 200Y and scanned in the main scanning direction.

第２走査光学系ＬｏＭに向かうビームＢＭは、第１走査レンズ６０ＹＭを通った後、第２反射ミラー８２Ｍおよび第１反射ミラー８１Ｍで反射され、第２走査レンズ７０Ｍを通って第１方向の一方側の像面に向けて出射される。ビームＢＭは、第１方向と所定の角度をなして第２走査レンズ７０Ｍから出射される。ビームＢＭは、第２感光ドラム２００Ｍに結像され主走査方向に走査される。なお、ビームＢＣ，ＢＫも、同様に、対応する走査光学系ＬｏＣ，ＬｏＫによって、第１方向の一方側の像面に向けて出射されて、対応する感光ドラム２００Ｃ，２００Ｋに結像され主走査方向に走査される。 The beam BM heading toward the second scanning optical system LoM passes through the first scanning lens 60YM, is reflected by the second reflecting mirror 82M and the first reflecting mirror 81M, and passes through the second scanning lens 70M in one direction in the first direction. The light is emitted toward the image plane on the side. The beam BM is emitted from the second scanning lens 70M at a predetermined angle with the first direction. The beam BM is imaged on the second photosensitive drum 200M and scanned in the main scanning direction. Note that the beams BC and BK are similarly emitted toward the image plane on one side in the first direction by the corresponding scanning optical systems LoC and LoK, and are imaged on the corresponding photosensitive drums 200C and 200K for main scanning. scanned in the direction.

図３、図５に示すように、フレームＦは、ポリゴンミラー５１、モータ５２、第１走査光学系ＬｏＹ、第２走査光学系ＬｏＭ、第３走査光学系ＬｏＣおよび第４走査光学系ＬｏＫが固定されている。フレームＦは、樹脂製であり、成形によって一体に造られている。フレームＦは、図３に示す第１凹部ＣＰ１と、図１に示す第２凹部ＣＰ２とを有する。第１凹部ＣＰ１は、第１方向の一方側に開口する。第２凹部ＣＰ２は、第１方向の他方側に開口する。図５に示すように、第１凹部ＣＰ１内には、偏向器５０と、走査光学系Ｌｏとが配置されている。図２（ａ），（ｂ）に示すように、第２凹部ＣＰ２内には、カップリングレンズ２０、絞り板３０および集光レンズ４０が配置されている。 As shown in FIGS. 3 and 5, the frame F includes a polygon mirror 51, a motor 52, a first scanning optical system LoY, a second scanning optical system LoM, a third scanning optical system LoC, and a fourth scanning optical system LoK. has been done. The frame F is made of resin and is integrally formed by molding. The frame F has a first recess CP1 shown in FIG. 3 and a second recess CP2 shown in FIG. The first recess CP1 opens on one side in the first direction. The second recess CP2 opens on the other side in the first direction. As shown in FIG. 5, a deflector 50 and a scanning optical system Lo are arranged in the first recess CP1. As shown in FIGS. 2A and 2B, a coupling lens 20, a diaphragm plate 30, and a condensing lens 40 are arranged within the second recess CP2.

図５に示すように、走査光学装置１は、カバーＣをさらに備える。カバーＣは、偏向器５０および第１ベース壁Ｆｂ１を、第１方向の一方側から覆うカバーであり、フレームＦにネジで固定されている。詳しくは、カバーＣは、第１凹部ＣＰ１の開口を覆う。第１走査レンズ６０ＹＭ，６０ＣＫおよび第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋは、第１ベース壁Ｆｂ１とカバーＣとの間に配置され、第１凹部ＣＰ１に収容されている。 As shown in FIG. 5, the scanning optical device 1 further includes a cover C. The cover C is a cover that covers the deflector 50 and the first base wall Fb1 from one side in the first direction, and is fixed to the frame F with screws. Specifically, the cover C covers the opening of the first recess CP1. The first scanning lenses 60YM, 60CK and the second scanning lenses 70Y, 70M, 70C, 70K are arranged between the first base wall Fb1 and the cover C, and are housed in the first recess CP1.

図１および図３に示すように、フレームＦは、第１凹部ＣＰ１の底に位置するベース壁の一例としての第１ベース壁Ｆｂ１と、第２凹部ＣＰ２の底に位置する第２ベース壁Ｆｂ２とを有する。 As shown in FIGS. 1 and 3, the frame F includes a first base wall Fb1 as an example of a base wall located at the bottom of the first recess CP1, and a second base wall Fb2 located at the bottom of the second recess CP2. and has.

第１ベース壁Ｆｂ１および第２ベース壁Ｆｂ２は、第１方向に交差する壁である。詳しくは、第１ベース壁Ｆｂ１および第２ベース壁Ｆｂ２は、厚み方向が第１方向に沿っている壁である。つまり、第１ベース壁Ｆｂ１および第２ベース壁Ｆｂ２は、第１方向に直交する平面を有する壁である。 The first base wall Fb1 and the second base wall Fb2 are walls that intersect in the first direction. Specifically, the first base wall Fb1 and the second base wall Fb2 are walls whose thickness direction is along the first direction. That is, the first base wall Fb1 and the second base wall Fb2 are walls having a plane orthogonal to the first direction.

第２ベース壁Ｆｂ２は、第１ベース壁Ｆｂ１に対して、第１方向の一方側にずれた位置に位置する。図５に示すように、第１ベース壁Ｆｂ１には、偏向器５０と走査光学系Ｌｏが、直接または間接的に第１方向の一方側から取り付けられている。そのため、偏向器５０と走査光学系Ｌｏは、第１ベース壁Ｆｂ１に対して、第１方向の一方側に位置する。本実施形態では、偏向器５０すなわちポリゴンミラー５１およびモータ５２が複数のネジＮによって第１ベース壁Ｆｂ１に固定されている。 The second base wall Fb2 is located at a position shifted to one side in the first direction with respect to the first base wall Fb1. As shown in FIG. 5, a deflector 50 and a scanning optical system Lo are attached to the first base wall Fb1 directly or indirectly from one side in the first direction. Therefore, the deflector 50 and the scanning optical system Lo are located on one side in the first direction with respect to the first base wall Fb1. In this embodiment, the deflector 50, that is, the polygon mirror 51 and the motor 52 are fixed to the first base wall Fb1 with a plurality of screws N.

図５に示すように、走査光学系ＬｏＹ，ＬｏＭ，ＬｏＣ，ＬｏＫの各第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋは、第１ベース壁Ｆｂ１から各第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋに向かう方向にビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＣＫを出射する。第１反射ミラー８１Ｙ，８１Ｍ，８１Ｃ，８１Ｋは、ビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＣＫを第１方向の一方側に向かう方向に反射する。 As shown in FIG. 5, each second scanning lens 70Y, 70M, 70C, 70K of the scanning optical system LoY, LoM, LoC, LoK is connected from the first base wall Fb1 to each second scanning lens 70Y, 70M, 70C, 70K. The beams BY, BM, BC, and CK are emitted in the direction toward . The first reflecting mirrors 81Y, 81M, 81C, and 81K reflect the beams BY, BM, BC, and CK in a direction toward one side of the first direction.

図２（ａ），（ｂ）に示すように、半導体レーザ１０、カップリングレンズ２０および絞り板３０は、第２ベース壁Ｆｂ２に対して、第１方向の他方側に位置する。また、集光レンズ４０も、第２ベース壁Ｆｂ２に対して、第１方向の他方側に位置する。 As shown in FIGS. 2A and 2B, the semiconductor laser 10, the coupling lens 20, and the aperture plate 30 are located on the other side in the first direction with respect to the second base wall Fb2. Further, the condenser lens 40 is also located on the other side in the first direction with respect to the second base wall Fb2.

図１に示すように、フレームＦは、第１反射ミラー８１の少なくとも一部を第１ベース壁Ｆｂ１の第１方向の他方側（第１凹部ＣＰ１の開口と反対側）に露出させる形状を有する。 As shown in FIG. 1, the frame F has a shape that exposes at least a portion of the first reflective mirror 81 to the other side of the first base wall Fb1 in the first direction (the side opposite to the opening of the first recess CP1). .

具体的には、第１反射ミラー８１は、第１ベース壁Ｆｂ１付近に配置され、第３方向における中央部分が第１ベース壁Ｆｂ１に対して、第１方向の一方側に位置し、第３方向における両端部が第１ベース壁Ｆｂ１に対して、第１方向の他方側に露出している。 Specifically, the first reflective mirror 81 is arranged near the first base wall Fb1, the central portion in the third direction is located on one side of the first base wall Fb1 in the first direction, and the third Both end portions in the direction are exposed to the other side in the first direction with respect to the first base wall Fb1.

さらに具体的には、図６に示すように、フレームＦは、座面ＦｓＺと、カバー壁ＣＷと、を有する。本実施形態では、４つの反射ミラー８１Ｙ，８１Ｍ，８１Ｃ，８１Ｋに対応して、４つのカバー壁ＣＷＹ，ＣＷＭ，ＣＷＣ，ＣＷＫが設けられている。座面ＦｓＺは、カバー壁ＣＷの第３方向の一方側と他方側に並んで位置する。座面ＦｓＺは、反射ミラー８１の第３方向の両端に位置する。座面ＦｓＺは、反射ミラー８１を支持して反射ミラー８１の角度の調整が可能である。カバー壁ＣＷは、第１ベース壁Ｆｂ１の一部である。すなわち、４つのカバー壁ＣＷＹ，ＣＷＭ，ＣＷＣ，ＣＷＫは、フレームＦと一体に成型されている More specifically, as shown in FIG. 6, the frame F has a seat surface FsZ and a cover wall CW. In this embodiment, four cover walls CWY, CWM, CWC, and CWK are provided corresponding to the four reflecting mirrors 81Y, 81M, 81C, and 81K. The seat surface FsZ is located side by side on one side and the other side of the cover wall CW in the third direction. The seat surface FsZ is located at both ends of the reflecting mirror 81 in the third direction. The seat surface FsZ supports the reflecting mirror 81, and the angle of the reflecting mirror 81 can be adjusted. The cover wall CW is a part of the first base wall Fb1. That is, the four cover walls CWY, CWM, CWC, and CWK are integrally molded with the frame F.

カバー壁ＣＷは、反射ミラー８１の第１方向の他方側に位置する。カバー壁ＣＷは、反射ミラー８１を第１方向の他方側から覆い、かつ、第１方向の他方側に座面ＦｓＺを露出させる。図９に示すように、カバー壁ＣＷは、第３方向において、走査光学系の有効走査範囲Ｈ１を含む範囲Ｈ２に渡って延びている。 The cover wall CW is located on the other side of the reflective mirror 81 in the first direction. The cover wall CW covers the reflective mirror 81 from the other side in the first direction, and exposes the seat surface FsZ on the other side in the first direction. As shown in FIG. 9, the cover wall CW extends in the third direction over a range H2 that includes the effective scanning range H1 of the scanning optical system.

図３に示すように、フレームＦは、第１凹部ＣＰ１と第２凹部ＣＰ２の間に位置する第１仕切壁Ｆ１をさらに有する。第１仕切壁Ｆ１は、第１ベース壁Ｆｂ１と第２ベース壁Ｆｂ２に接続されている。第１仕切壁Ｆ１は、第２ベース壁Ｆｂ２から第１方向の他方側に突出するとともに、第１ベース壁Ｆｂ１から第１方向の一方側に突出している。 As shown in FIG. 3, the frame F further includes a first partition wall F1 located between the first recess CP1 and the second recess CP2. The first partition wall F1 is connected to the first base wall Fb1 and the second base wall Fb2. The first partition wall F1 projects from the second base wall Fb2 to the other side in the first direction, and also projects from the first base wall Fb1 to one side in the first direction.

第１仕切壁Ｆ１は、絞り板３０の各開口絞り３１からポリゴンミラー５１に向かうビームＢＹ～ＢＫが通過する２つの第１開口Ｆ１１，Ｆ１２を有する。第１開口Ｆ１１，Ｆ１２は、第１方向に長いスリット状に形成され、第３方向に貫通するとともに、第１方向の一方側に開口している。第１開口Ｆ１１は、ビームＢＹ，ＢＭを通す。第１開口Ｆ１２は、ビームＢＣ，ＢＫを通す。 The first partition wall F1 has two first apertures F11 and F12 through which beams BY to BK from each aperture stop 31 of the aperture plate 30 toward the polygon mirror 51 pass. The first openings F11 and F12 are formed in the shape of long slits in the first direction, penetrate in the third direction, and open on one side in the first direction. The first aperture F11 passes the beams BY and BM. The first aperture F12 passes the beams BC and BK.

図２（ｂ）に示すように、集光レンズ４０は、図３に示す第１開口Ｆ１１，Ｆ１２を塞ぐように配置されている。集光レンズ４０は、第１仕切壁Ｆ１と絞り板３０の間で挟まれている。 As shown in FIG. 2(b), the condenser lens 40 is arranged so as to close the first openings F11 and F12 shown in FIG. 3. The condensing lens 40 is sandwiched between the first partition wall F1 and the aperture plate 30.

図３に示すように、フレームＦは、第２方向においてポリゴンミラー５１の両側に位置する２つの第２仕切壁Ｆ２をさらに有する。第２方向の一方側の第２仕切壁Ｆ２は、ポリゴンミラー５１で反射されたビームＢＹ，ＢＭが通過する第２開口Ｆ２１を有する。第２方向の他方側の第２仕切壁Ｆ２は、ポリゴンミラー５１で反射されたビームＢＣ，ＢＫが通過する第２開口Ｆ２２を有する。各第２開口Ｆ２１，Ｆ２２は、第２方向に貫通するとともに、第１方向の一方側に開口する。 As shown in FIG. 3, the frame F further includes two second partition walls F2 located on both sides of the polygon mirror 51 in the second direction. The second partition wall F2 on one side in the second direction has a second opening F21 through which the beams BY and BM reflected by the polygon mirror 51 pass. The second partition wall F2 on the other side in the second direction has a second opening F22 through which the beams BC and BK reflected by the polygon mirror 51 pass. Each of the second openings F21 and F22 penetrates in the second direction and opens on one side in the first direction.

各第２仕切壁Ｆ２は、第１ベース壁Ｆｂ１から第１方向の一方側に突出する。各第２仕切壁Ｆ２は、第１仕切壁Ｆ１と後述する第１側壁Ｆ４１に接続されている。これにより、第１ベース壁Ｆｂ１、第１仕切壁Ｆ１、各第２仕切壁Ｆ２および第１側壁Ｆ４１によって、ポリゴンミラー５１を収容するための収容凹部ＣＰ３が形成されている。 Each second partition wall F2 protrudes from the first base wall Fb1 to one side in the first direction. Each second partition wall F2 is connected to the first partition wall F1 and a first side wall F41, which will be described later. As a result, an accommodation recess CP3 for accommodating the polygon mirror 51 is formed by the first base wall Fb1, the first partition wall F1, each of the second partition walls F2, and the first side wall F41.

フレームＦは、第１凹部ＣＰ１および第２凹部ＣＰ２を囲う略矩形の枠を構成する第１側壁Ｆ４１、第２側壁Ｆ４２、第３側壁Ｆ４３および第４側壁Ｆ４４をさらに有する。第１側壁Ｆ４１、第２側壁Ｆ４２、第３側壁Ｆ４３および第４側壁Ｆ４４は、第１ベース壁Ｆｂ１を囲う側壁である。
第１凹部ＣＰ１は、第１側壁Ｆ４１、第３側壁Ｆ４３、第４側壁Ｆ４４および第１仕切壁Ｆ１によって囲まれている。また、図１に示すように、第２凹部ＣＰ２は、第２側壁Ｆ４２、第３側壁Ｆ４３、第４側壁Ｆ４４および第１仕切壁Ｆ１によって囲まれている。本実施形態では、第３側壁Ｆ４３および第４側壁Ｆ４４は、第１凹部ＣＰ１に対応する部分と第２凹部ＣＰ２に対応する部分とで第２方向にずれている。 The frame F further includes a first side wall F41, a second side wall F42, a third side wall F43, and a fourth side wall F44, which constitute a substantially rectangular frame surrounding the first recess CP1 and the second recess CP2. The first side wall F41, the second side wall F42, the third side wall F43, and the fourth side wall F44 are side walls surrounding the first base wall Fb1.
The first recess CP1 is surrounded by the first side wall F41, the third side wall F43, the fourth side wall F44, and the first partition wall F1. Moreover, as shown in FIG. 1, the second recess CP2 is surrounded by the second side wall F42, the third side wall F43, the fourth side wall F44, and the first partition wall F1. In this embodiment, the third side wall F43 and the fourth side wall F44 are shifted in the second direction between a portion corresponding to the first recess CP1 and a portion corresponding to the second recess CP2.

第１側壁Ｆ４１は、フレームＦのポリゴンミラー５１および走査光学系Ｌｏの第３方向における一方側に位置する。第１側壁Ｆ４１は、偏向器５０に対して半導体レーザ１０とは反対側に位置する。第１側壁Ｆ４１は、第１ベース壁Ｆｂ１から第１方向の一方側に突出する。 The first side wall F41 is located on one side of the polygon mirror 51 of the frame F and the scanning optical system Lo in the third direction. The first side wall F41 is located on the side opposite to the semiconductor laser 10 with respect to the deflector 50. The first side wall F41 protrudes from the first base wall Fb1 to one side in the first direction.

第１側壁Ｆ４１は、反射ミラー８１の第３方向の一方側の端面を露出させる開口ＡＰを有する。本実施形態では、第１側壁Ｆ４１は、第１開口ＡＰＹと、第２開口ＡＰＭと、第３開口ＡＰＣと、第４開口ＡＰＫとを有する。 The first side wall F41 has an opening AP that exposes one end surface of the reflecting mirror 81 in the third direction. In this embodiment, the first side wall F41 has a first opening APY, a second opening APM, a third opening APC, and a fourth opening APK.

図７に示すように、第１開口ＡＰＹは、第１側壁Ｆ４１の第２方向における一方側の端部に位置している。第１開口ＡＰＹは、第３方向から見て第１側壁Ｆ４１を第１方向の一方側に切り欠いた形状となっている。第１開口ＡＰＹは、第３方向から見て第１反射ミラー８１Ｃの第３方向の一方側の端面を露出させる。このため、第１反射ミラー８１Ｙを走査光学装置１に取り付ける場合に、第１反射ミラー８１Ｙを第３方向の一方側から取り付けることができる（図８も参照）。 As shown in FIG. 7, the first opening APY is located at one end of the first side wall F41 in the second direction. The first opening APY has a shape in which the first side wall F41 is cut out on one side in the first direction when viewed from the third direction. The first opening APY exposes one end surface of the first reflecting mirror 81C in the third direction when viewed from the third direction. Therefore, when attaching the first reflective mirror 81Y to the scanning optical device 1, the first reflective mirror 81Y can be attached from one side in the third direction (see also FIG. 8).

第２開口ＡＰＭは、第１側壁Ｆ４１の第２方向における一方側に位置している。第２開口ＡＰＭは、第３方向から見て第１側壁Ｆ４１を第１方向の一方側に切り欠いた形状となっている。第２開口ＡＰＭは、第３方向から見て第１反射ミラー８１Ｍの第３方向の一方側の端面を露出させる。このため、第１反射ミラー８１Ｍを走査光学装置１に取り付ける場合に、第１反射ミラー８１Ｍを第３方向の一方側から取り付けることができる（図８も参照）。 The second opening APM is located on one side of the first side wall F41 in the second direction. The second opening APM has a shape in which the first side wall F41 is cut out on one side in the first direction when viewed from the third direction. The second opening APM exposes one end surface of the first reflecting mirror 81M in the third direction when viewed from the third direction. Therefore, when attaching the first reflective mirror 81M to the scanning optical device 1, the first reflective mirror 81M can be attached from one side in the third direction (see also FIG. 8).

第３開口ＡＰＣは、第１側壁Ｆ４１の第２方向における他方側に位置している。第３開口ＡＰＣは、第３方向から見て第１側壁Ｆ４１を第１方向の一方側に切り欠いた形状となっている。第３開口ＡＰＣは、第３方向から見て第１反射ミラー８１Ｃの第３方向の一方側の端面を露出させる。このため、第１反射ミラー８１Ｃを走査光学装置１に取り付ける場合に、第１反射ミラー８１Ｃを第３方向の一方側から取り付けることができる（図８も参照）。 The third opening APC is located on the other side of the first side wall F41 in the second direction. The third opening APC has a shape in which the first side wall F41 is cut out on one side in the first direction when viewed from the third direction. The third opening APC exposes one end surface of the first reflecting mirror 81C in the third direction when viewed from the third direction. Therefore, when attaching the first reflecting mirror 81C to the scanning optical device 1, the first reflecting mirror 81C can be attached from one side in the third direction (see also FIG. 8).

第４開口ＡＰＫは、第１側壁Ｆ４１の第２方向における他方側の端部に位置している。第４開口ＡＰＫは、第３方向から見て第１側壁Ｆ４１を第１方向の一方側に切り欠いた形状となっている。第４開口ＡＰＫは、第３方向から見て第１反射ミラー８１Ｋの第３方向の一方側の端面を露出させる。このため、第１反射ミラー８１Ｋを走査光学装置１に取り付ける場合に、第１反射ミラー８１Ｋを第３方向の一方側から取り付けることができる（図８も参照）。 The fourth opening APK is located at the other end of the first side wall F41 in the second direction. The fourth opening APK has a shape in which the first side wall F41 is cut out on one side in the first direction when viewed from the third direction. The fourth opening APK exposes one end surface of the first reflecting mirror 81K in the third direction when viewed from the third direction. Therefore, when attaching the first reflective mirror 81K to the scanning optical device 1, the first reflective mirror 81K can be attached from one side in the third direction (see also FIG. 8).

第２側壁Ｆ４２は、フレームＦのポリゴンミラー５１および走査光学系Ｌｏの第３方向における他方側に位置する。第２側壁Ｆ４２は、偏向器５０に対して第１側壁Ｆ４１とは反対側に位置する。詳しくは、第２側壁Ｆ４２は、カップリングレンズ２０に対して偏向器５０とは反対側に位置する。第２側壁Ｆ４２は、第２ベース壁Ｆｂ２から第１方向の他方側に突出する。 The second side wall F42 is located on the other side of the polygon mirror 51 of the frame F and the scanning optical system Lo in the third direction. The second side wall F42 is located on the opposite side of the first side wall F41 with respect to the deflector 50. Specifically, the second side wall F42 is located on the side opposite to the deflector 50 with respect to the coupling lens 20. The second side wall F42 protrudes from the second base wall Fb2 to the other side in the first direction.

第３側壁Ｆ４３は、第１走査レンズ６０ＹＭに対して偏向器５０とは反対側に位置する。第３側壁Ｆ４３は、第１側壁Ｆ４１、第１ベース壁Ｆｂ１、第２ベース壁Ｆｂ２および第２側壁Ｆ４２の第２方向における一方側の端部に接続されている。第３側壁Ｆ４３の一部は、第１ベース壁Ｆｂ１から第１方向の一方側に突出し、他部は、第２ベース壁Ｆｂ２から第１方向の他方側に突出する。 The third side wall F43 is located on the opposite side of the deflector 50 with respect to the first scanning lens 60YM. The third side wall F43 is connected to one end in the second direction of the first side wall F41, the first base wall Fb1, the second base wall Fb2, and the second side wall F42. A portion of the third side wall F43 protrudes from the first base wall Fb1 to one side in the first direction, and the other portion protrudes from the second base wall Fb2 to the other side in the first direction.

第４側壁Ｆ４４は、第１走査レンズ６０ＣＫに対して偏向器５０とは反対側に位置する。第４側壁Ｆ４４は、第１側壁Ｆ４１、第１ベース壁Ｆｂ１、第２ベース壁Ｆｂ２および第２側壁Ｆ４２の第２方向における他方側の端部に接続されている。第４側壁Ｆ４４の一部は、第１ベース壁Ｆｂ１から第１方向の一方側に突出し、他部は、第２ベース壁Ｆｂ２から第１方向の他方側に突出する。 The fourth side wall F44 is located on the opposite side of the deflector 50 with respect to the first scanning lens 60CK. The fourth side wall F44 is connected to the other end in the second direction of the first side wall F41, the first base wall Fb1, the second base wall Fb2, and the second side wall F42. A portion of the fourth side wall F44 protrudes from the first base wall Fb1 to one side in the first direction, and the other portion protrudes from the second base wall Fb2 to the other side in the first direction.

図１０に示すように、走査光学装置１は、前述した第１凹部ＣＰ１および第２凹部ＣＰ２等を有するフレームＦに着脱可能な支持部材Ｆｓをさらに有している。支持部材Ｆｓは、第１反射ミラー８１を支持する部材である。支持部材Ｆｓは、第１反射ミラー８１を支持して、第１反射ミラー８１の角度の調整が可能な座面ＦｓＺを有している。座面ＦｓＺは、第１反射ミラー８１を傾動可能に支持することが可能な球状の突起Ｆｓ１を有する。突起Ｆｓ１は、第１反射ミラー８１に向けて突出し、第１反射ミラー８１と接触して第１反射ミラー８１の向きを調整する際の支点となる。第１反射ミラー８１は、光硬化樹脂Ｐによって座面ＦｓＺに対する向きが固定されている。光硬化樹脂Ｐは、座面に対する反射ミラーの向きを保持するスペーサの一例である。光硬化樹脂Ｐは、例えば紫外線硬化樹脂とすることができる。光硬化樹脂Ｐによって固定された第１反射ミラー８１および支持部材Ｆｓは、Ｕ形状の板バネＳＰによって、フレームＦに取り付けられる。 As shown in FIG. 10, the scanning optical device 1 further includes a support member Fs that is detachable from the frame F having the first recess CP1 and the second recess CP2 described above. The support member Fs is a member that supports the first reflection mirror 81. The support member Fs supports the first reflective mirror 81 and has a seat surface FsZ that allows adjustment of the angle of the first reflective mirror 81. The seat surface FsZ has a spherical protrusion Fs1 that can tiltably support the first reflecting mirror 81. The protrusion Fs1 protrudes toward the first reflective mirror 81, contacts the first reflective mirror 81, and serves as a fulcrum when adjusting the orientation of the first reflective mirror 81. The direction of the first reflecting mirror 81 with respect to the seat surface FsZ is fixed by the photocuring resin P. The photocurable resin P is an example of a spacer that maintains the orientation of the reflective mirror with respect to the seat surface. The photocurable resin P can be, for example, an ultraviolet curable resin. The first reflecting mirror 81 and the support member Fs fixed by the photocuring resin P are attached to the frame F by a U-shaped leaf spring SP.

板バネＳＰは、バネの一例であり、第１反射ミラー８１を座面ＦｓＺに向けて押圧するバネである。板バネＳＰは、光硬化樹脂を硬化させる光が透過可能な開口部ＳＰＫを有する（図１参照）。 The plate spring SP is an example of a spring, and is a spring that presses the first reflecting mirror 81 toward the seat surface FsZ. The plate spring SP has an opening SPK through which light for curing the photocuring resin can pass (see FIG. 1).

フレームＦは、第１反射ミラー８１の座面ＦｓＺと厚み方向（反射面に直交する方向）に重なる部分を第１方向の他方側に露出させる形状を有する。第１反射ミラー８１は、第３方向の両端部には反射面を構成する反射膜を設けていない。これにより、開口部ＳＰＫを透過した光が光硬化樹脂に到達する。 The frame F has a shape that exposes a portion that overlaps the seating surface FsZ of the first reflective mirror 81 in the thickness direction (direction perpendicular to the reflective surface) on the other side in the first direction. The first reflective mirror 81 is not provided with a reflective film constituting a reflective surface at both ends in the third direction. Thereby, the light that has passed through the opening SPK reaches the photocurable resin.

図１に示すように、支持部材Ｆｓおよび板バネＳＰは、１つの第１反射ミラー８１に対して、第１反射ミラー８１の長手方向の両端部に１つずつ配置されている。１つの第１反射ミラー８１に対応した一対の支持部材Ｆｓと一対の板バネＳＰは、４つの第１反射ミラー８１のそれぞれに対して設けられている。 As shown in FIG. 1, one support member Fs and one leaf spring SP are arranged at each end of the first reflection mirror 81 in the longitudinal direction of each first reflection mirror 81. As shown in FIG. A pair of support members Fs and a pair of leaf springs SP corresponding to one first reflection mirror 81 are provided for each of the four first reflection mirrors 81.

図１０に示すように、フレームＦは、支持部材Ｆｓを支持する支持面Ｆｍ１を有する。支持面Ｆｍ１は、４つの第１反射ミラー８１の長手方向の各端部に対応した位置に配置されている。 As shown in FIG. 10, the frame F has a support surface Fm1 that supports the support member Fs. The support surface Fm1 is arranged at a position corresponding to each end of the four first reflecting mirrors 81 in the longitudinal direction.

第１反射ミラー８１をフレームＦに取り付ける場合には、まず、支持部材Ｆｓの突起Ｆｓ１の両側に光硬化樹脂Ｐを塗布し、支持部材Ｆｓを支持面Ｆｍ１に取り付ける。その後、第１反射ミラー８１を、支持部材Ｆｓの突起Ｆｓ１に接触させる。このとき、光硬化樹脂Ｐは、支持部材Ｆｓと第１反射ミラー８１の両方に接触した状態で配置される。その後、板ばねＳＰを取り付け、第１反射ミラー８１を支持部材ＦｓとともにフレームＦに向けて押圧する。次いで、半導体レーザ１０から光を出射させた状態で、像面におけるビームの位置を監視しながら、突起Ｆｓ１を起点にして第１反射ミラー８１を傾動させることで、第１反射ミラー８１の角度を調整する。第１反射ミラー８１の角度を調整するときには、アームＡＭを第１反射ミラー８１に押し当てて、第１反射ミラー８１を動かす。角度調整が完了した後、光硬化樹脂Ｐに紫外線などの光を当てることで、第１反射ミラー８１が支持部材Ｆｓに固定される。 When attaching the first reflective mirror 81 to the frame F, first, a photocuring resin P is applied to both sides of the protrusion Fs1 of the support member Fs, and the support member Fs is attached to the support surface Fm1. After that, the first reflecting mirror 81 is brought into contact with the protrusion Fs1 of the support member Fs. At this time, the photocurable resin P is placed in contact with both the support member Fs and the first reflective mirror 81. Thereafter, the leaf spring SP is attached, and the first reflecting mirror 81 is pressed toward the frame F together with the support member Fs. Next, while the semiconductor laser 10 is emitting light, the angle of the first reflecting mirror 81 is adjusted by tilting the first reflecting mirror 81 using the protrusion Fs1 as a starting point while monitoring the position of the beam on the image plane. adjust. When adjusting the angle of the first reflective mirror 81, the arm AM is pressed against the first reflective mirror 81 to move the first reflective mirror 81. After the angle adjustment is completed, the first reflecting mirror 81 is fixed to the support member Fs by exposing the photocurable resin P to light such as ultraviolet rays.

図３に示すように、フレームＦは、第１壁Ｗ１と、第２壁Ｗ２と、第３壁Ｗ３とをさらに有する。 As shown in FIG. 3, the frame F further includes a first wall W1, a second wall W2, and a third wall W3.

第１壁Ｗ１は、複数の第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ、７０Ｃ，７０Ｋを支持する壁である。第１壁Ｗ１は、第１ベース壁Ｆｂ１から第１方向の一方側に向けて立ち上がる壁である。第１壁Ｗ１は、第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ、７０Ｃ，７０Ｋの長手方向（第３方向）の両端部にそれぞれ配置されている。各第１壁Ｗ１には、第１方向の他方側に凹む切り欠き形状の第２レンズ座面Ｗ１１が形成されている。各第２レンズ座面Ｗ１１は、各第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ、７０Ｃ，７０Ｋの長手方向の両端部が入り込む。各第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ、７０Ｃ，７０Ｋは、両端部が第２レンズ座面Ｗ１１の第１方向の一方側を向く座面ＦｓＺに押し当てられた状態で図示しないバネによりフレームに固定される。 The first wall W1 is a wall that supports the plurality of second scanning lenses 70Y, 70M, 70C, and 70K. The first wall W1 is a wall rising from the first base wall Fb1 toward one side in the first direction. The first wall W1 is arranged at both ends of the second scanning lenses 70Y, 70M, 70C, and 70K in the longitudinal direction (third direction), respectively. A notch-shaped second lens seating surface W11 recessed toward the other side in the first direction is formed on each first wall W1. Both longitudinal ends of the second scanning lenses 70Y, 70M, 70C, and 70K fit into each of the second lens seating surfaces W11. Each of the second scanning lenses 70Y, 70M, 70C, and 70K is fixed to the frame by a spring (not shown) with both ends pressed against the seat surface FsZ facing one side in the first direction of the second lens seat surface W11. Ru.

第２壁Ｗ２は、第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ、７０Ｃ，７０Ｋの長手方向の両側に配置され、第１壁Ｗ１と平行に延びる壁である。本実施形態では、第１仕切壁Ｆ１および第１側壁Ｆ４１が第２壁Ｗ２を構成している。 The second wall W2 is a wall that is arranged on both sides of the second scanning lenses 70Y, 70M, 70C, and 70K in the longitudinal direction and extends parallel to the first wall W1. In this embodiment, the first partition wall F1 and the first side wall F41 constitute the second wall W2.

第３壁Ｗ３は、第１方向と直交する方向に延びる壁である。第３壁Ｗ３は、第１壁Ｗ１と第２壁Ｗ２を接続する。 The third wall W3 is a wall extending in a direction perpendicular to the first direction. The third wall W3 connects the first wall W1 and the second wall W2.

以上によれば、本実施形態において以下のような効果を得ることができる。
図１に示すように、走査光学装置１のフレームＦは、座面ＦｓＺと、カバー壁ＣＷとを有する。４つのカバー壁ＣＷＹ，ＣＷＭ，ＣＷＣ，ＣＷＫは、各反射ミラー８１Ｙ，８１Ｍ，８１Ｃ，８１Ｋを第１方向の他方側から覆い、かつ、第１方向の他方側に座面ＦｓＺを露出させる。このため、反射ミラー８１の角度調整をビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫの出射方向とは反対側から行うことができる。このため、走査光学装置１の組立時において、反射ミラー８１の角度調整が容易となる（図１０参照）。また、４つのカバー壁ＣＷＹ，ＣＷＭ，ＣＷＣ，ＣＷＫは、フレームＦと一体に成型されていることから、フレームＦの剛性を高めることができる。 According to the above, the following effects can be obtained in this embodiment.
As shown in FIG. 1, the frame F of the scanning optical device 1 has a seat surface FsZ and a cover wall CW. The four cover walls CWY, CWM, CWC, and CWK cover each of the reflecting mirrors 81Y, 81M, 81C, and 81K from the other side in the first direction, and expose the seating surface FsZ on the other side in the first direction. Therefore, the angle of the reflection mirror 81 can be adjusted from the side opposite to the direction in which the beams BY, BM, BC, and BK are emitted. Therefore, when assembling the scanning optical device 1, the angle of the reflection mirror 81 can be easily adjusted (see FIG. 10). Furthermore, since the four cover walls CWY, CWM, CWC, and CWK are integrally molded with the frame F, the rigidity of the frame F can be increased.

また、フレームＦの第１側壁Ｆ４１は、反射ミラー８１の第３方向の一方側の端面を露出させる開口ＡＰを有する。このため、図８に示すように、反射ミラー８１を走査光学装置１に取り付ける場合に、反射ミラー８１を第３方向から取り付けることができる。 Further, the first side wall F41 of the frame F has an opening AP that exposes one end surface of the reflecting mirror 81 in the third direction. Therefore, as shown in FIG. 8, when attaching the reflecting mirror 81 to the scanning optical device 1, the reflecting mirror 81 can be attached from the third direction.

また、入射光学系Ｌｉは、走査光学系Ｌｏの第３方向における他方側に位置する。このため、反射ミラー８１を取り付けるときに入射光学系Ｌｉが邪魔にならない。 Furthermore, the incidence optical system Li is located on the other side of the scanning optical system Lo in the third direction. Therefore, the input optical system Li does not get in the way when attaching the reflecting mirror 81.

また、各反射ミラー８１Ｙ，８１Ｍ，８１Ｃ，８１Ｋは、第１方向において、各第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋと重なる。このため、各第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋに干渉しない方向（ビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫの出射方向とは反対側）から各反射ミラー８１Ｙ，８１Ｍ，８１Ｃ，８１Ｋの角度を調整できる。 Further, each of the reflecting mirrors 81Y, 81M, 81C, and 81K overlaps each of the second scanning lenses 70Y, 70M, 70C, and 70K in the first direction. Therefore, the angle of each reflection mirror 81Y, 81M, 81C, 81K is adjusted from a direction that does not interfere with each second scanning lens 70Y, 70M, 70C, 70K (opposite to the emission direction of beams BY, BM, BC, BK). Can be adjusted.

また、各カバー壁ＣＷＹ，ＣＷＭ，ＣＷＣ，ＣＷＫは、走査光学系Ｌｏの有効走査範囲Ｈ１を含む範囲Ｈ２に渡って延びる（図９参照）。このため、走査光学系Ｌｏの有効走査範囲Ｈ１にゴミが付着するのを抑制できる。 Further, each of the cover walls CWY, CWM, CWC, and CWK extends over a range H2 that includes the effective scanning range H1 of the scanning optical system Lo (see FIG. 9). Therefore, it is possible to suppress dust from adhering to the effective scanning range H1 of the scanning optical system Lo.

なお、本発明は前記実施形態に限定されることなく、以下に例示するように様々な形態で利用できる。 Note that the present invention is not limited to the embodiments described above, and can be utilized in various forms as exemplified below.

前記実施形態では、第１凹部ＣＰ１内には、偏向器５０（ポリゴンミラー５１およびモータ５２）と、走査光学系Ｌｏとが配置されていたが、偏向器５０が第１凹部ＣＰ１の外側に配置される構成であってもよい。 In the embodiment described above, the deflector 50 (polygon mirror 51 and motor 52) and the scanning optical system Lo are arranged inside the first recess CP1, but the deflector 50 is arranged outside the first recess CP1. The configuration may be such that the

前記実施形態では、バネの一例として板バネＳＰを例示したが、バネは板バネに限られず、線バネなどであってもよい。 In the embodiment, the leaf spring SP is illustrated as an example of a spring, but the spring is not limited to a leaf spring, and may be a wire spring or the like.

前記実施形態では、フレームＦと、座面ＦｓＺを有する支持部材Ｆｓと、が異なる部材で構成されていたが、座面ＦｓＺがフレームＦと一体に構成されていてもよい。 In the embodiment described above, the frame F and the support member Fs having the seat surface FsZ are constructed of different members, but the seat surface FsZ may be constructed integrally with the frame F.

前記実施形態では、第２走査レンズ７０が図示しないバネによりフレームに固定されていたが、第２走査レンズ７０の固定方法は、特に限定されるものではなく、光硬化樹脂などによる接着で固定されていてもよい。 In the embodiment described above, the second scanning lens 70 was fixed to the frame by a spring (not shown), but the method of fixing the second scanning lens 70 is not particularly limited. You can leave it there.

前記実施形態では、半導体レーザ１０が１つの発光点を有する構成であったが、半導体レーザ１０は、複数の発光点を有する構成としてもよい。この場合、半導体レーザ１０からの複数の光が、１つのカップリングレンズ２０によって複数のビームに変換され、複数のビームが対応する走査光学系Ｌｏによって感光ドラム２００の表面に結像される。この構成では、前記実施形態のビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫがそれぞれ複数のビームを含む。 In the embodiment described above, the semiconductor laser 10 has a single light emitting point, but the semiconductor laser 10 may have a plurality of light emitting points. In this case, a plurality of lights from the semiconductor laser 10 are converted into a plurality of beams by one coupling lens 20, and images of the plurality of beams are formed on the surface of the photosensitive drum 200 by a corresponding scanning optical system Lo. In this configuration, each of the beams BY, BM, BC, and BK of the embodiment includes a plurality of beams.

前記した実施形態および変形例で説明した各要素を、任意に組み合わせて実施してもよい。 The elements described in the embodiments and modifications described above may be implemented in any combination.

１ 走査光学装置
５１ ポリゴンミラー
５２ モータ
６０ 第１走査レンズ
７０ 第２走査レンズ
８１ 反射ミラー
２００ 感光ドラム
ＡＭ アーム
ＡＰ 開口
ＣＷ カバー壁
Ｆ フレーム
Ｆ４１ 第１側壁
Ｆ４２ 第２側壁
Ｆ４３ 第３側壁
Ｆ４４ 第４側壁
Ｆｂ１ 第１ベース壁
Ｆｂ２ 第２ベース壁
ＦｓＺ 座面
Ｈ１ 有効走査範囲
Ｈ２ 範囲
Ｌｉ 入射光学系
Ｌｏ 走査光学系 1 Scanning optical device 51 Polygon mirror 52 Motor 60 First scanning lens 70 Second scanning lens 81 Reflection mirror 200 Photosensitive drum AM Arm AP Opening CW Cover wall F Frame F41 First side wall F42 Second side wall F43 Third side wall F44 Fourth side wall Fb1 First base wall Fb2 Second base wall FsZ Seat surface H1 Effective scanning range H2 Range Li Incident optical system Lo Scanning optical system

Claims (9)

ビームを出射する入射光学系と、
前記入射光学系から出射されたビームを偏向するポリゴンミラーと、
軸方向に延びる回転軸線を中心に前記ポリゴンミラーを回転させるモータと、
前記ポリゴンミラーで偏向されたビームを像面に結像させる走査レンズと、ビームを反射する反射ミラーと、を有する走査光学系と、
前記モータが固定され、前記ポリゴンミラーおよび前記走査光学系を収容するフレームと、を備え、
前記反射ミラーは、ビームを前記軸方向の一方側に向かう方向に反射し、
前記フレームは、
前記反射ミラーを支持して前記反射ミラーの角度の調整が可能な座面と、
前記反射ミラーの前記軸方向の他方側に位置し、前記反射ミラーを覆い、かつ、前記軸方向の他方側に前記座面を露出させるカバー壁と、を有することを特徴とする走査光学装置。 an input optical system that emits the beam;
a polygon mirror that deflects the beam emitted from the input optical system;
a motor that rotates the polygon mirror around a rotation axis extending in the axial direction;
a scanning optical system having a scanning lens that images the beam deflected by the polygon mirror on an image plane; and a reflecting mirror that reflects the beam;
a frame to which the motor is fixed and which houses the polygon mirror and the scanning optical system;
The reflecting mirror reflects the beam in a direction toward one side in the axial direction,
The frame is
a seat surface that supports the reflective mirror and allows adjustment of the angle of the reflective mirror;
A scanning optical device comprising: a cover wall located on the other side of the reflecting mirror in the axial direction, covering the reflecting mirror and exposing the seat surface on the other side in the axial direction. 前記反射ミラーは、前記軸方向と直交する長手方向に延びており、
前記フレームは、前記ポリゴンミラーおよび前記走査光学系の長手方向における一方側に位置する第１側壁と、前記ポリゴンミラーおよび前記走査光学系の長手方向における他方側に位置する第２側壁と、を有し、
前記第１側壁は、前記反射ミラーの前記長手方向の一方側の端面を露出させる開口を有することを特徴とする請求項１に記載の走査光学装置。 The reflecting mirror extends in a longitudinal direction perpendicular to the axial direction,
The frame includes a first side wall located on one side in the longitudinal direction of the polygon mirror and the scanning optical system, and a second side wall located on the other side in the longitudinal direction of the polygon mirror and the scanning optical system. death,
The scanning optical device according to claim 1, wherein the first side wall has an opening that exposes one end surface of the reflecting mirror in the longitudinal direction. 前記入射光学系は、光を出射する半導体レーザと、前記半導体レーザからの光をビームに変換するカップリングレンズと、を有し、前記走査光学系の前記長手方向における他方側に位置することを特徴とする請求項２に記載の走査光学装置。 The input optical system includes a semiconductor laser that emits light and a coupling lens that converts the light from the semiconductor laser into a beam, and is located on the other side of the scanning optical system in the longitudinal direction. A scanning optical device according to claim 2. 前記反射ミラーは、前記軸方向において、前記走査レンズと重なることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の走査光学装置。 The scanning optical device according to any one of claims 1 to 3, wherein the reflecting mirror overlaps the scanning lens in the axial direction. 前記反射ミラーは、前記軸方向と直交する長手方向に延びており、
前記長手方向において、前記カバー壁は、前記走査光学系の有効走査範囲を含む範囲に渡って延びることを特徴とする請求項１に記載の走査光学装置。 The reflecting mirror extends in a longitudinal direction perpendicular to the axial direction,
2. The scanning optical device according to claim 1, wherein in the longitudinal direction, the cover wall extends over a range that includes an effective scanning range of the scanning optical system. 前記座面に対する前記反射ミラーの向きを保持するスペーサをさらに備え、
前記スペーサは、光硬化樹脂で構成されていることを特徴とする請求項１に記載の走査光学装置。 further comprising a spacer that maintains the orientation of the reflective mirror with respect to the seat surface,
The scanning optical device according to claim 1, wherein the spacer is made of photocurable resin. 前記座面は、前記反射ミラーに向けて突出し、前記反射ミラーと接触して前記反射ミラーの向きを調整する際の支点となる突起を有することを特徴とする請求項６に記載の走査光学装置。 The scanning optical device according to claim 6, wherein the seat surface has a protrusion that protrudes toward the reflecting mirror and serves as a fulcrum when adjusting the direction of the reflecting mirror by contacting the reflecting mirror. . 前記反射ミラーを前記座面に向けて押圧するバネをさらに備え、
前記バネは、前記光硬化樹脂を硬化させる光が透過可能な開口部を有することを特徴とする請求項６または請求項７に記載の走査光学装置。 further comprising a spring that presses the reflective mirror toward the seat surface,
8. The scanning optical device according to claim 6, wherein the spring has an opening through which light for curing the photocuring resin can pass. 前記フレームに取り付けられ、前記座面を有する支持部材をさらに有することを特徴とする請求項１に記載の走査光学装置。 The scanning optical device according to claim 1, further comprising a support member attached to the frame and having the seat surface.
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