JP2023083747A - Optical scanning device - Google Patents

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Junichi Yokoi
洋平 ▲高▼橋
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Abstract

To provide an optical scanning device that allows an angle of a reflection mirror to be easily adjusted when the optical scanning device is assembled.SOLUTION: An optical scanning device 1 is provided with a light source, a polygon mirror, a motor, a scanning optical system Lo, a frame F and a seat surface FsZ. The scanning optical system Lo has a first scanning lens to which a beam deflected with the polygon mirror is made incident, a second scanning lens 70 that emits a beam toward an image surface, a reflection mirror (a first reflection mirror 81) that reflects a beam toward the second scanning lens. The frame F has a base wall fixed with the motor and side walls surrounding the base wall. The frame F is fixed with the scanning optical system and is open toward one side in a first direction. The seating surface FsZ supports the reflection mirror and can adjust an angle of the reflection mirror. The reflection mirror reflects a beam in a direction from the base wall of the frame F toward an opening of the base wall. The frame F is formed in a shape in which a portion overlapping, in a thickness direction, with the seat surface FsZ, of the reflection mirror is exposed toward the opposite side of the opening of the base wall.SELECTED DRAWING: Figure 9

Description

本発明は、ポリゴンミラーを備えた光走査装置に関する。 The present invention relates to an optical scanning device having a polygon mirror.

従来、光源と、光源から出射されたビームを偏向するポリゴンミラーと、ポリゴンミラーを駆動するモータと、ベース壁および側壁を有する筐体と、を備えた光走査装置が知られている（特許文献１参照）。この光走査装置は、ベース壁にポリゴンモータが固定され、ベース壁とは反対側の開口から感光体に向けてビームが出射される。光走査装置の組立時にはビームの出射方向である開口側から反射ミラーの角度調整をする。 Conventionally, an optical scanning device is known that includes a light source, a polygon mirror that deflects a beam emitted from the light source, a motor that drives the polygon mirror, and a housing having a base wall and side walls (Patent Document 1). In this optical scanning device, a polygon motor is fixed to a base wall, and a beam is emitted from an opening on the side opposite to the base wall toward the photosensitive member. When assembling the optical scanning device, the angle of the reflecting mirror is adjusted from the aperture side, which is the direction in which the beam is emitted.

特開２０１４－１７８３４１号公報JP 2014-178341 A

しかしながら、特許文献１の光走査装置では、光走査装置の組立時には、反射ミラーの角度調整をビームの出射方向である開口側からするため、反射ミラーの角度調整が容易でないという問題点があった。 However, in the optical scanning device of Patent Document 1, since the angle of the reflecting mirror is adjusted from the opening side, which is the direction in which the beam is emitted, when the optical scanning device is assembled, there is a problem that the angle of the reflecting mirror cannot be easily adjusted. .

そこで、本発明は、光走査装置の組立時において、反射ミラーの角度調整が容易な光走査装置を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide an optical scanner in which the angle of a reflecting mirror can be easily adjusted during assembly of the optical scanner.

前記課題を解決するため、本発明に係る光走査光学装置は、光源と、ポリゴンミラーと、モータと、走査光学系と、フレームと、座面と、を備える。
光源は、ビームを出射する。ポリゴンミラーは、光源から出射されたビームを偏向する。モータは、第１方向に延びる回転軸線を中心にポリゴンミラーを回転させる。走査光学系は、ポリゴンミラーで偏向されたビームが入射する第１走査レンズと、像面に向けてビームを出射する第２走査レンズと、ビームを第２走査レンズに向けて反射させる反射ミラーと、を有する。フレームは、モータが固定されたベース壁と、ベース壁から第１方向の一方側に突出してベース壁を囲う側壁とを有する。フレームは、走査光学系が固定され、第１方向の一方側に開口する。座面は、反射ミラーを支持して反射ミラーの角度の調整が可能である。反射ミラーは、ビームをフレームのベース壁から開口に向かう方向に反射する。フレームは、反射ミラーの、座面と厚み方向に重なる部分をベース壁の開口と反対側に露出させる形状を有する。 In order to solve the above problems, an optical scanning optical device according to the present invention includes a light source, a polygon mirror, a motor, a scanning optical system, a frame, and a seating surface.
A light source emits a beam. A polygon mirror deflects the beam emitted from the light source. The motor rotates the polygon mirror about a rotation axis extending in the first direction. The scanning optical system includes a first scanning lens into which the beam deflected by the polygon mirror is incident, a second scanning lens that emits the beam toward the image plane, and a reflecting mirror that reflects the beam toward the second scanning lens. , has The frame has a base wall to which the motor is fixed, and a side wall that protrudes from the base wall to one side in the first direction and surrounds the base wall. The frame has a scanning optical system fixed and opens on one side in the first direction. The seat surface supports the reflecting mirror and allows the angle of the reflecting mirror to be adjusted. A reflecting mirror reflects the beam in a direction from the base wall of the frame toward the aperture. The frame has a shape that exposes the portion of the reflecting mirror that overlaps the seat surface in the thickness direction to the side opposite to the opening of the base wall.

この構成によれば、反射ミラーの角度調整をビームの出射方向とは反対側から行うことができる。このため、光走査装置の組立時において、反射ミラーの角度調整が容易となる。 According to this configuration, the angle of the reflecting mirror can be adjusted from the side opposite to the beam emission direction. Therefore, it becomes easy to adjust the angle of the reflecting mirror when assembling the optical scanning device.

また、前記した走査光学装置において、ベース壁は、反射ミラーの反射面を開口側に露出させる孔を有する構成としてもよい。 Further, in the scanning optical device described above, the base wall may have a hole for exposing the reflecting surface of the reflecting mirror to the opening side.

また、前記した走査光学装置において、反射ミラーは、第２走査レンズと第１方向から見て重なる構成としてもよい。 Further, in the scanning optical device described above, the reflecting mirror may overlap the second scanning lens when viewed from the first direction.

また、前記した走査光学装置において、反射ミラーは、光硬化樹脂によって、座面に対する向きが固定されている構成としてもよい。 Further, in the scanning optical device described above, the reflecting mirror may have a configuration in which the orientation with respect to the seating surface is fixed by a photocurable resin.

また、前記した走査光学装置において、座面は、反射ミラーに向けて突出し、反射ミラーと接触して反射ミラーの向きを調整する際の支点となる突起を有する構成としてもよい。 Further, in the scanning optical device described above, the seat surface may have a projection that protrudes toward the reflecting mirror and is in contact with the reflecting mirror to serve as a fulcrum for adjusting the orientation of the reflecting mirror.

これによれば、反射ミラーの向きの調整がしやすい。 According to this, it is easy to adjust the orientation of the reflecting mirror.

また、前記した走査光学装置において、反射ミラーを座面に向けて押圧するバネをさらに備え、バネは、光硬化樹脂を硬化させる光が透過可能な開口部を有する構成としてもよい。 Further, the scanning optical device described above may further include a spring for pressing the reflecting mirror toward the seating surface, and the spring may have an opening through which light for curing the photocurable resin can pass.

また、前記した走査光学装置において、フレームに取り付けられ、座面を有する支持部材をさらに有する構成としてもよい。 Further, the scanning optical apparatus described above may be configured to further include a support member attached to the frame and having a seat surface.

これによれば、走査光学装置の組立時に反射ミラーの角度の調整に失敗した場合に、フレームに影響を及ぼさずに反射ミラーを取り外すことができる。このため、走査光学装置の組立時に反射ミラーの角度の調整に失敗した場合に、反射ミラーの取り付けをやり直すことができる。 According to this, if the adjustment of the angle of the reflecting mirror fails during assembly of the scanning optical device, the reflecting mirror can be removed without affecting the frame. Therefore, if the adjustment of the angle of the reflecting mirror fails during assembly of the scanning optical device, the reflecting mirror can be attached again.

本発明によれば、光走査装置の組立時において、反射ミラーの角度調整が容易な光走査装置を提供できる。 According to the present invention, it is possible to provide an optical scanning device in which the angle of the reflecting mirror can be easily adjusted during assembly of the optical scanning device.

一実施形態に係る走査光学装置を第１方向の他方側から見た斜視図である。3 is a perspective view of the scanning optical device according to one embodiment as viewed from the other side in the first direction; FIG. カップリングレンズ周りの構造を示す斜視図である。4 is a perspective view showing a structure around a coupling lens; FIG. 走査光学装置を第１方向の一方側から見た斜視図である。4 is a perspective view of the scanning optical device as seen from one side in a first direction; FIG. 図１のＩＶ－ＩＶ断面図である。FIG. 2 is a sectional view along IV-IV in FIG. 1; 図１のＶ－Ｖ断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line VV of FIG. 1; 図５における各第２走査レンズの位置と角度を詳しく説明する図である。FIG. 6 is a diagram illustrating in detail the position and angle of each second scanning lens in FIG. 5; フレームを第１方向の他方側から見た斜視図である。FIG. 10 is a perspective view of the frame viewed from the other side in the first direction; フレームを第１方向の一方側から見た斜視図である。It is the perspective view which looked at the flame|frame from one side of the 1st direction. 反射ミラーをフレームに取り付けるための構造を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a structure for attaching a reflecting mirror to a frame;

図１～図３に示すように、走査光学装置１は、フレームＦと、入射光学系Ｌｉと、偏向器５０と、走査光学系Ｌｏとを備える。走査光学装置１は、電子写真式の画像形成装置に適用される。以下の説明では、図３に示すポリゴンミラー５１の回転軸線Ｘ１に沿った方向を、「第１方向」と称する。また、第１方向に直交する方向であって、図３に示すポリゴンミラー５１と第１走査レンズ６０が並ぶ方向を、「第２方向」と称する。また、第１方向および第２方向に直交する方向を「第３方向」と称する。なお、第３方向は、走査光学系Ｌｏにおいては主走査方向に相当し、第１方向は、副走査方向に相当する。また、図面における各方向を示す矢印は、各方向における「一方側」を指すこととする。 As shown in FIGS. 1 to 3, the scanning optical device 1 includes a frame F, an incident optical system Li, a deflector 50, and a scanning optical system Lo. The scanning optical device 1 is applied to an electrophotographic image forming apparatus. In the following description, the direction along the rotation axis X1 of the polygon mirror 51 shown in FIG. 3 is referred to as "first direction". A direction orthogonal to the first direction and in which the polygon mirror 51 and the first scanning lens 60 shown in FIG. 3 are arranged is referred to as a "second direction". Also, a direction orthogonal to the first direction and the second direction is referred to as a "third direction". Note that the third direction corresponds to the main scanning direction in the scanning optical system Lo, and the first direction corresponds to the sub-scanning direction. Also, an arrow indicating each direction in the drawings indicates "one side" in each direction.

図２に示すように、入射光学系Ｌｉは、４つの半導体レーザ１０と、４つのカップリングレンズ２０と、絞り板３０と、集光レンズ４０とを備える。半導体レーザ１０とカップリングレンズ２０は、光源の一例である。 As shown in FIG. 2, the incident optical system Li includes four semiconductor lasers 10, four coupling lenses 20, an aperture plate 30, and a condenser lens . The semiconductor laser 10 and the coupling lens 20 are an example of a light source.

半導体レーザ１０は、光を出射する装置である。半導体レーザ１０は、走査光学装置１が走査露光する４つの感光ドラム２００（図５参照）に対応して４つ設けられている。各感光ドラム２００には、それぞれ異なる色のトナー像が形成される。 The semiconductor laser 10 is a device that emits light. Four semiconductor lasers 10 are provided corresponding to the four photosensitive drums 200 (see FIG. 5) that are scanned and exposed by the scanning optical device 1 . A toner image of a different color is formed on each photosensitive drum 200 .

なお、本実施形態では、第１色を「イエロー（Ｙ）」、第２色を「マゼンタ（Ｍ）」、第３色を「シアン（Ｃ）」、第４色を「ブラック（Ｋ）」とする。以下の説明では、第１色に対応した部品の名称の頭に「第１」を付し、第１色に対応した部品の符号の末尾に「Ｙ」を付して区別する場合がある。また、第２色、第３色、第４色に対応した部品ついても同様に、名称の頭に「第２」、「第３」、「第４」を付し、符号の末尾に「Ｍ」、「Ｃ」、「Ｋ」を付して区別する場合がある。 In this embodiment, the first color is "yellow (Y)," the second color is "magenta (M)," the third color is "cyan (C)," and the fourth color is "black (K)." and In the following description, the name of the part corresponding to the first color may be prefixed with "first" and the part corresponding to the first color may be distinguished by adding "Y" to the end of the reference numeral. Parts corresponding to the second, third, and fourth colors are similarly prefixed with "second," "third," and "fourth," and suffixed with "M , “C”, and “K” may be used for distinction.

第１半導体レーザ１０Ｙは、第２半導体レーザ１０Ｍに対して第１方向に間隔を空けて並んでいる。第１半導体レーザ１０Ｙは、第２半導体レーザ１０Ｍに対して第１方向の一方側に位置する。 The first semiconductor laser 10Y is arranged with a gap in the first direction from the second semiconductor laser 10M. The first semiconductor laser 10Y is positioned on one side in the first direction with respect to the second semiconductor laser 10M.

第３半導体レーザ１０Ｃは、第２半導体レーザ１０Ｍに対して第２方向に間隔を空けて並んでいる。第３半導体レーザ１０Ｃは、第２半導体レーザ１０Ｍに対して第２方向の他方側に位置する。第４半導体レーザ１０Ｋは、第１方向において第３半導体レーザ１０Ｃと間隔を空けて並び、かつ、第２方向において第１半導体レーザ１０Ｙと間隔を空けて並んでいる。 The third semiconductor laser 10C is spaced apart from the second semiconductor laser 10M in the second direction. The third semiconductor laser 10C is positioned on the other side in the second direction with respect to the second semiconductor laser 10M. The fourth semiconductor laser 10K is spaced apart from the third semiconductor laser 10C in the first direction and spaced from the first semiconductor laser 10Y in the second direction.

カップリングレンズ２０は、半導体レーザ１０からの光をビームに変換するレンズである。各色に対応したカップリングレンズ２０Ｙ，２０Ｍ，２０Ｃ，２０Ｋは、対応する半導体レーザ１０Ｙ，１０Ｍ，１０Ｃ，１０Ｋと対向する位置に配置されている。 The coupling lens 20 is a lens that converts the light from the semiconductor laser 10 into a beam. Coupling lenses 20Y, 20M, 20C and 20K corresponding to each color are arranged at positions facing corresponding semiconductor lasers 10Y, 10M, 10C and 10K.

図１に示すように、絞り板３０は、カップリングレンズ２０からのビームが通過する開口絞り３１を有する部位であり、フレームＦに一体に形成されている。絞り板３０は、カップリングレンズ２０と集光レンズ４０の間に位置している。 As shown in FIG. 1, the diaphragm plate 30 is a part having an aperture diaphragm 31 through which the beam from the coupling lens 20 passes, and is formed integrally with the frame F. As shown in FIG. A diaphragm plate 30 is located between the coupling lens 20 and the condenser lens 40 .

集光レンズ４０は、カップリングレンズ２０からのビームを副走査方向においてポリゴンミラー５１に集光するレンズである。集光レンズ４０は、絞り板３０に対してカップリングレンズ２０とは反対側に位置している。 The condenser lens 40 is a lens for condensing the beam from the coupling lens 20 onto the polygon mirror 51 in the sub-scanning direction. The condenser lens 40 is located on the side opposite to the coupling lens 20 with respect to the aperture plate 30 .

図３に示すように、偏向器５０は、ポリゴンミラー５１と、モータ５２とを有する。ポリゴンミラー５１は、光源から出射されたビームを偏向する。具体的には、ポリゴンミラー５１は、集光レンズ４０を通過したビームを主走査方向に偏向する。ポリゴンミラー５１は、回転軸線Ｘ１から等距離に設けられた５つのミラー面を有している。モータ５２は、第１方向に延びる回転軸線Ｘ１を中心にポリゴンミラー５１を回転させるモータである。モータ５２は、フレームＦに固定されている。 As shown in FIG. 3, the deflector 50 has a polygon mirror 51 and a motor 52 . A polygon mirror 51 deflects the beam emitted from the light source. Specifically, the polygon mirror 51 deflects the beam that has passed through the condenser lens 40 in the main scanning direction. The polygon mirror 51 has five mirror surfaces equidistant from the rotation axis X1. The motor 52 is a motor that rotates the polygon mirror 51 about the rotation axis X1 extending in the first direction. The motor 52 is fixed to the frame F.

走査光学系Ｌｏは、偏向器５０に偏向されたビームを、像面としての感光ドラム２００の表面に結像する光学系である。走査光学系Ｌｏは、フレームＦに固定されている。図５に示すように、走査光学系Ｌｏは、イエローに対応した第１走査光学系ＬｏＹと、マゼンタに対応した第２走査光学系ＬｏＭと、シアンに対応した第３走査光学系ＬｏＣと、ブラックに対応した第４走査光学系ＬｏＫとを有する。 The scanning optical system Lo is an optical system that forms an image of the beam deflected by the deflector 50 on the surface of the photosensitive drum 200 as an image plane. The scanning optical system Lo is fixed to the frame F. As shown in FIG. 5, the scanning optical system Lo includes a first scanning optical system LoY for yellow, a second scanning optical system LoM for magenta, a third scanning optical system LoC for cyan, and a scanning optical system LoC for black. and a fourth scanning optical system LoK corresponding to .

第１走査光学系ＬｏＹおよび第２走査光学系ＬｏＭは、第２方向において、ポリゴンミラー５１の一方側に配置されている。第３走査光学系ＬｏＣおよび第４走査光学系ＬｏＫは、第２方向において、ポリゴンミラー５１の他方側に配置されている。各走査光学系ＬｏＹ，ＬｏＭ，ＬｏＣ，ＬｏＫには、ポリゴンミラー５１によって主走査方向に偏向されたビームが入射する。 The first scanning optical system LoY and the second scanning optical system LoM are arranged on one side of the polygon mirror 51 in the second direction. The third scanning optical system LoC and the fourth scanning optical system LoK are arranged on the other side of the polygon mirror 51 in the second direction. A beam deflected in the main scanning direction by a polygon mirror 51 is incident on each of the scanning optical systems LoY, LoM, LoC, and LoK.

第１走査光学系ＬｏＹ、第２走査光学系ＬｏＭ、第３走査光学系ＬｏＣおよび第４走査光学系ＬｏＫは、ポリゴンミラー５１で偏向されたビームが通る第１走査レンズと、第１走査レンズを通過したビームを反射する少なくとも１つの反射ミラーと、反射ミラーに反射されたビームを副走査方向に集光する第２走査レンズと、をそれぞれ有する。
本実施形態では、第１走査光学系ＬｏＹの第１走査レンズと、第２走査光学系ＬｏＭの第１走査レンズとは共通の１つのレンズ６０ＹＭである。同様に、第３走査光学系ＬｏＣの第１走査レンズと、第４走査光学系ＬｏＫの第１走査レンズとは共通の１つのレンズ６０ＣＫである。
また、本実施形態では、第１走査光学系ＬｏＹおよび第４走査光学系ＬｏＫは、それぞれ、反射ミラーを１つ有する。また、第２走査光学系ＬｏＭおよび第３走査光学系ＬｏＣは、それぞれ、反射ミラーを２つ有する。 The first scanning optical system LoY, the second scanning optical system LoM, the third scanning optical system LoC, and the fourth scanning optical system LoK include a first scanning lens through which the beam deflected by the polygon mirror 51 passes, and a first scanning lens. It has at least one reflecting mirror that reflects the beam that has passed therethrough, and a second scanning lens that converges the beam reflected by the reflecting mirror in the sub-scanning direction.
In this embodiment, the first scanning lens of the first scanning optical system LoY and the first scanning lens of the second scanning optical system LoM are one common lens 60YM. Similarly, the first scanning lens of the third scanning optical system LoC and the first scanning lens of the fourth scanning optical system LoK are one common lens 60CK.
Further, in the present embodiment, each of the first scanning optical system LoY and the fourth scanning optical system LoK has one reflecting mirror. Also, the second scanning optical system LoM and the third scanning optical system LoC each have two reflecting mirrors.

第１走査光学系ＬｏＹは、ポリゴンミラー５１で偏向されたビームＢＹを第１感光ドラム２００Ｙの第１像面に向けて出射する。第１走査光学系ＬｏＹは、第１走査レンズ６０ＹＭと、第２走査レンズ７０Ｙと、第１反射ミラー８１Ｙとを有する。 The first scanning optical system LoY emits the beam BY deflected by the polygon mirror 51 toward the first image surface of the first photosensitive drum 200Y. The first scanning optical system LoY has a first scanning lens 60YM, a second scanning lens 70Y, and a first reflecting mirror 81Y.

第１走査レンズ６０ＹＭは、偏向器５０で偏向されたビームＢＹを主走査方向に屈折させて像面に結像させるレンズである。また、第１走査レンズ６０ＹＭは、偏向器５０によって等角速度で走査された光を、像面において等速度となるようにするｆθ特性を有する。第１走査レンズ６０ＹＭは、第１走査光学系ＬｏＹのうちポリゴンミラー５１に最も近い走査レンズである。 The first scanning lens 60YM is a lens that refracts the beam BY deflected by the deflector 50 in the main scanning direction and forms an image on the image plane. Further, the first scanning lens 60YM has an fθ characteristic that causes the light scanned at a constant angular velocity by the deflector 50 to have a constant velocity on the image plane. The first scanning lens 60YM is the scanning lens closest to the polygon mirror 51 in the first scanning optical system LoY.

第１反射ミラー８１Ｙは、第１走査レンズ６０ＹＭからのビームＢＹを、第２走査レンズ７０Ｙに向けて反射するミラーである。第２走査レンズ７０Ｙは、第１反射ミラー８１Ｙで反射されたビームＢＹを副走査方向に屈折させて像面に結像させるレンズである。第１反射ミラー８１Ｙは、第２走査レンズ７０Ｙと第１方向から見て重なる。第２走査レンズ７０Ｙは、ポリゴンミラー５１に対して第１方向の一方側に配置されている。第２走査レンズ７０Ｙは、第１走査光学系ＬｏＹのうち像面に最も近い走査レンズである。 The first reflecting mirror 81Y is a mirror that reflects the beam BY from the first scanning lens 60YM toward the second scanning lens 70Y. The second scanning lens 70Y is a lens that refracts the beam BY reflected by the first reflecting mirror 81Y in the sub-scanning direction and forms an image on the image plane. The first reflecting mirror 81Y overlaps the second scanning lens 70Y when viewed from the first direction. The second scanning lens 70Y is arranged on one side of the polygon mirror 51 in the first direction. The second scanning lens 70Y is the scanning lens closest to the image plane in the first scanning optical system LoY.

第２走査光学系ＬｏＭは、ポリゴンミラー５１で偏向されたビームＢＭを第２感光ドラム２００Ｍの第２像面に向けて出射する。第２走査光学系ＬｏＭは、第２方向において、第１走査光学系ＬｏＹのビームＢＹよりポリゴンミラー５１に近い位置でビームＢＭを第２感光ドラム２００Ｍの第２像面に向けて出射する。第２走査光学系ＬｏＭは、第１走査レンズ６０ＹＭと、第２走査レンズ７０Ｍと、第１反射ミラー８１Ｍと、第２反射ミラー８２Ｍとを有する。 The second scanning optical system LoM emits the beam BM deflected by the polygon mirror 51 toward the second image surface of the second photosensitive drum 200M. The second scanning optical system LoM emits the beam BM toward the second image plane of the second photosensitive drum 200M at a position closer to the polygon mirror 51 than the beam BY of the first scanning optical system LoY in the second direction. The second scanning optical system LoM has a first scanning lens 60YM, a second scanning lens 70M, a first reflecting mirror 81M, and a second reflecting mirror 82M.

第２走査光学系ＬｏＭの第１走査レンズ６０ＹＭは、第１反射ミラー８１Ｍから第２走査レンズ７０Ｍへ向けて進むビームＢＭとポリゴンミラー５１との間に位置する。 The first scanning lens 60YM of the second scanning optical system LoM is positioned between the polygon mirror 51 and the beam BM traveling from the first reflecting mirror 81M toward the second scanning lens 70M.

第２反射ミラー８２Ｍは、第１走査レンズ６０ＹＭからのビームを、第１反射ミラー８１Ｍに向けて反射するミラーである。第１反射ミラー８１Ｍは、第２反射ミラー８２ＭからのビームＢＭを第２走査レンズ７０Ｍに向けて反射するミラーである。第１反射ミラー８１Ｍは、第２走査レンズ７０Ｍと第１方向から見て重なる。第２走査レンズ７０Ｍは、第１反射ミラー８１Ｙで反射されたビームを副走査方向に屈折させて像面に結像させるレンズである。第２走査光学系ＬｏＭにおいて、第１走査レンズ６０ＹＭと第２走査レンズ７０Ｍは、第１方向から見て重なる。第２走査レンズ７０Ｍは、ポリゴンミラー５１に対して第１方向の一方側に配置されている。第２走査レンズ７０Ｍは、第２走査光学系ＬｏＭのうち像面に最も近い走査レンズである。 The second reflecting mirror 82M is a mirror that reflects the beam from the first scanning lens 60YM toward the first reflecting mirror 81M. The first reflecting mirror 81M is a mirror that reflects the beam BM from the second reflecting mirror 82M toward the second scanning lens 70M. The first reflecting mirror 81M overlaps the second scanning lens 70M when viewed from the first direction. The second scanning lens 70M is a lens that refracts the beam reflected by the first reflecting mirror 81Y in the sub-scanning direction and forms an image on the image plane. In the second scanning optical system LoM, the first scanning lens 60YM and the second scanning lens 70M overlap when viewed from the first direction. The second scanning lens 70M is arranged on one side of the polygon mirror 51 in the first direction. The second scanning lens 70M is the scanning lens closest to the image plane in the second scanning optical system LoM.

第３走査光学系ＬｏＣは、ポリゴンミラー５１で偏向されたビームを第３感光ドラム２００Ｃの第３像面に向けて出射する。第３走査光学系ＬｏＣは、第１走査レンズ６０ＣＫと、第２走査レンズ７０Ｃと、第１反射ミラー８１Ｃと、第２反射ミラー８２Ｃとを有する。 The third scanning optical system LoC emits the beam deflected by the polygon mirror 51 toward the third image plane of the third photosensitive drum 200C. The third scanning optical system LoC has a first scanning lens 60CK, a second scanning lens 70C, a first reflecting mirror 81C, and a second reflecting mirror 82C.

第１走査レンズ６０ＣＫは、偏向器５０で偏向されたビームを主走査方向に屈折させて像面に結像させるレンズである。また、第１走査レンズ６０ＣＫは、偏向器５０によって等角速度で走査された光を、像面において等速度となるようにするｆθ特性を有する。第１走査レンズ６０ＣＫは、第３走査光学系ＬｏＣのうちポリゴンミラー５１に最も近い走査レンズである。第３走査光学系ＬｏＣの第１走査レンズ６０ＣＫは、第１反射ミラー８１Ｃから第２走査レンズ７０Ｃへ向けて進むビームＢＣとポリゴンミラー５１との間に位置する。 The first scanning lens 60CK is a lens that refracts the beam deflected by the deflector 50 in the main scanning direction and forms an image on the image plane. Also, the first scanning lens 60CK has an fθ characteristic that causes the light scanned at a constant angular velocity by the deflector 50 to have a constant velocity on the image plane. The first scanning lens 60CK is the scanning lens closest to the polygon mirror 51 in the third scanning optical system LoC. The first scanning lens 60CK of the third scanning optical system LoC is positioned between the polygon mirror 51 and the beam BC traveling from the first reflecting mirror 81C toward the second scanning lens 70C.

第２反射ミラー８２Ｃは、第１走査レンズ６０ＣＫからのビームを第１反射ミラー８１Ｃに向けて反射するミラーである。第１反射ミラー８１Ｃは、第２反射ミラー８２ＣからのビームＢＣを第２走査レンズ７０Ｃに向けて反射するミラーである。第１反射ミラー８１Ｃは、第２走査レンズ７０Ｃと第１方向から見て重なる。第２走査レンズ７０Ｃは、第１反射ミラー８１Ｃで反射されたビームを副走査方向に屈折させて像面に結像させるレンズである。第２走査レンズ７０Ｃは、ポリゴンミラー５１に対して第１方向の他方側に配置されている。第２走査レンズ７０Ｃは、第３走査光学系ＬｏＣのうち像面に最も近い走査レンズである。 The second reflecting mirror 82C is a mirror that reflects the beam from the first scanning lens 60CK toward the first reflecting mirror 81C. The first reflecting mirror 81C is a mirror that reflects the beam BC from the second reflecting mirror 82C toward the second scanning lens 70C. The first reflecting mirror 81C overlaps the second scanning lens 70C when viewed from the first direction. The second scanning lens 70C is a lens that refracts the beam reflected by the first reflecting mirror 81C in the sub-scanning direction and forms an image on the image plane. The second scanning lens 70C is arranged on the other side of the polygon mirror 51 in the first direction. The second scanning lens 70C is the scanning lens closest to the image plane in the third scanning optical system LoC.

第４走査光学系ＬｏＫは、ポリゴンミラー５１で偏向されたビームを第４感光ドラム２００Ｋの第４像面に向けて出射する。第４走査光学系ＬｏＫは、第２方向において、第４走査光学系ＬｏＫのビームＢＫよりポリゴンミラー５１に遠い位置でビームＢＫを第４感光ドラム２００Ｋの第４像面に向けて出射する。第４走査光学系ＬｏＫは、第１走査レンズ６０ＣＫと、第２走査レンズ７０Ｋと、第１反射ミラー８１Ｋを有する。 The fourth scanning optical system LoK emits the beam deflected by the polygon mirror 51 toward the fourth image plane of the fourth photosensitive drum 200K. The fourth scanning optical system LoK emits the beam BK toward the fourth image plane of the fourth photosensitive drum 200K at a position farther from the polygon mirror 51 than the beam BK of the fourth scanning optical system LoK in the second direction. The fourth scanning optical system LoK has a first scanning lens 60CK, a second scanning lens 70K, and a first reflecting mirror 81K.

第１走査レンズ６０ＣＫは、偏向器５０で偏向されたビームＢＫを主走査方向に屈折させて像面に結像させるレンズである。また、第１走査レンズ６０ＣＫは、偏向器５０によって等角速度で走査された光を、像面において等速度となるようにするｆθ特性を有する。第１走査レンズ６０ＣＫは、第４走査光学系ＬｏＫのうちポリゴンミラー５１に最も近い走査レンズである。 The first scanning lens 60CK is a lens that refracts the beam BK deflected by the deflector 50 in the main scanning direction and forms an image on the image plane. Also, the first scanning lens 60CK has an fθ characteristic that causes the light scanned at a constant angular velocity by the deflector 50 to have a constant velocity on the image plane. The first scanning lens 60CK is the scanning lens closest to the polygon mirror 51 in the fourth scanning optical system LoK.

第１反射ミラー８１Ｋは、第１走査レンズ６０ＣＫからのビームＢＫを、第２走査レンズ７０Ｋに向けて反射するミラーである。第１反射ミラー８１Ｋは、第２走査レンズ７０Ｋと第１方向から見て重なる。第２走査レンズ７０Ｋは、第１反射ミラー８１Ｋで反射されたビームＢＫを副走査方向に屈折させて像面に結像させるレンズである。第２走査レンズ７０Ｋは、ポリゴンミラー５１に対して第１方向の他方側に配置されている。第２走査レンズ７０Ｋは、第４走査光学系ＬｏＫのうち像面に最も近い走査レンズである。 The first reflecting mirror 81K is a mirror that reflects the beam BK from the first scanning lens 60CK toward the second scanning lens 70K. The first reflecting mirror 81K overlaps the second scanning lens 70K when viewed from the first direction. The second scanning lens 70K is a lens that refracts the beam BK reflected by the first reflecting mirror 81K in the sub-scanning direction and forms an image on the image plane. The second scanning lens 70K is arranged on the other side of the polygon mirror 51 in the first direction. The second scanning lens 70K is the scanning lens closest to the image plane in the fourth scanning optical system LoK.

第１走査光学系ＬｏＹ、第２走査光学系ＬｏＭ、第３走査光学系ＬｏＣおよび第４走査光学系ＬｏＫの第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋのそれぞれは、第２方向に直線状に並んでいる。別の言い方をすれば、各第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋは、第２方向から見て、互いに、少なくとも一部が重なるように配置されている。 Each of the second scanning lenses 70Y, 70M, 70C, and 70K of the first scanning optical system LoY, the second scanning optical system LoM, the third scanning optical system LoC, and the fourth scanning optical system LoK linearly extends in the second direction. Lined up. In other words, the second scanning lenses 70Y, 70M, 70C, and 70K are arranged so as to at least partially overlap each other when viewed from the second direction.

図６に示すように、ポリゴンミラー５１に反射されたビームは、ポリゴンミラー５１におけるビームの反射点を通る平面ＨＭであって、第１方向に直交する平面ＨＭに対して斜めに進行する。第１走査光学系ＬｏＹおよび第４走査光学系ＬｏＫでは、ポリゴンミラー５１に反射されたビームは、平面ＨＭに対して第１方向の他方側（図６における上側）に斜めに進行する。第２走査光学系ＬｏＭおよび第３走査光学系ＬｏＣでは、ポリゴンミラー５１に反射されたビームは、平面ＨＭに対して第１方向の一方側（図６における下側）に斜めに進行する。
第１走査光学系ＬｏＹ、第２走査光学系ＬｏＭ、第３走査光学系ＬｏＣおよび第４走査光学系ＬｏＫの各第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋの光学面は、副走査方向に関して対称である。 As shown in FIG. 6, the beam reflected by the polygon mirror 51 travels obliquely to the plane HM passing through the reflection point of the beam on the polygon mirror 51 and perpendicular to the first direction. In the first scanning optical system LoY and the fourth scanning optical system LoK, the beam reflected by the polygon mirror 51 travels obliquely in the other side of the first direction (upper side in FIG. 6) with respect to the plane HM. In the second scanning optical system LoM and the third scanning optical system LoC, the beam reflected by the polygon mirror 51 travels obliquely to one side (lower side in FIG. 6) in the first direction with respect to the plane HM.
The optical surfaces of the second scanning lenses 70Y, 70M, 70C, and 70K of the first scanning optical system LoY, the second scanning optical system LoM, the third scanning optical system LoC, and the fourth scanning optical system LoK are symmetrical with respect to the sub-scanning direction. is.

第１走査光学系ＬｏＹおよび第２走査光学系ＬｏＭにおいて、第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍの副走査方向における光学面の中心Ｃ１，Ｃ２は、第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍを通るビームＢＹ，ＢＭに対し第２方向の一方側（図６における左側）にオフセットしている。
一方、第３走査光学系ＬｏＣおよび第４走査光学系ＬｏＫにおいて、第２走査レンズ７０Ｃの副走査方向における光学面の中心Ｃ３，Ｃ４は、第２走査レンズ７０Ｃ，７０Ｋを通るビームＢＣ，ＢＫに対し第２方向の他方側（図６における右側）にオフセットしている。
すなわち、第１走査光学系ＬｏＹおよび第２走査光学系ＬｏＭの第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍと、第３走査光学系ＬｏＣおよび第４走査光学系ＬｏＫの第２走査レンズ７０Ｃ，７０Ｋは、互いに、離れるようにオフセットされて配置されている。 In the first scanning optical system LoY and the second scanning optical system LoM, the centers C1 and C2 of the optical surfaces of the second scanning lenses 70Y and 70M in the sub-scanning direction are aligned with the beams BY and BM passing through the second scanning lenses 70Y and 70M. On the other hand, it is offset to one side (left side in FIG. 6) in the second direction.
On the other hand, in the third scanning optical system LoC and the fourth scanning optical system LoK, the centers C3 and C4 of the optical surfaces of the second scanning lens 70C in the sub-scanning direction are aligned with the beams BC and BK passing through the second scanning lenses 70C and 70K. On the other hand, it is offset to the other side in the second direction (right side in FIG. 6).
That is, the second scanning lenses 70Y and 70M of the first scanning optical system LoY and the second scanning optical system LoM, and the second scanning lenses 70C and 70K of the third scanning optical system LoC and the fourth scanning optical system LoK are mutually They are placed offset apart.

第１走査光学系ＬｏＹの第２走査レンズ７０Ｙの副走査方向に平行な直線Ｌ１は、第２走査光学系ＬｏＭの第２走査レンズ７０Ｍの副走査方向に平行な直線Ｌ２と平行である。第３走査光学系ＬｏＣの第２走査レンズ７０Ｃの副走査方向に平行な直線Ｌ３は、第４走査光学系ＬｏＫの第２走査レンズ７０Ｋの副走査方向に平行な直線Ｌ４と平行である。
第１走査光学系ＬｏＹおよび第２走査光学系ＬｏＭの各第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍの副走査方向に平行な直線Ｌ１，Ｌ２は、第３走査光学系ＬｏＣおよび第４走査光学系ＬｏＫの各第２走査レンズ７０Ｃ，７０Ｋの副走査方向に平行な直線Ｌ３，Ｌ４とは、第２方向となす角が異なる。
具体的には、第３走査光学系ＬｏＣおよび第４走査光学系ＬｏＫの各第２走査レンズ７０Ｃ，７０Ｋの副走査方向に平行な直線Ｌ３，Ｌ４方が、第１走査光学系ＬｏＹおよび第２走査光学系ＬｏＭの各第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍの副走査方向に平行な直線Ｌ１，Ｌ２よりも第２方向に延びる平面ＨＭとなす角が大きい。 A straight line L1 parallel to the sub-scanning direction of the second scanning lens 70Y of the first scanning optical system LoY is parallel to a straight line L2 parallel to the sub-scanning direction of the second scanning lens 70M of the second scanning optical system LoM. A straight line L3 parallel to the sub-scanning direction of the second scanning lens 70C of the third scanning optical system LoC is parallel to a straight line L4 parallel to the sub-scanning direction of the second scanning lens 70K of the fourth scanning optical system LoK.
Straight lines L1 and L2 parallel to the sub-scanning direction of the second scanning lenses 70Y and 70M of the first scanning optical system LoY and the second scanning optical system LoM are the straight lines L1 and L2 of the third scanning optical system LoC and the fourth scanning optical system LoK. The angles formed with the second direction are different from the straight lines L3 and L4 parallel to the sub-scanning direction of the second scanning lenses 70C and 70K.
Specifically, the straight lines L3 and L4 parallel to the sub-scanning direction of the second scanning lenses 70C and 70K of the third scanning optical system LoC and the fourth scanning optical system LoK are aligned with the first scanning optical system LoY and the second scanning optical system LoY. The angles formed by the second scanning lenses 70Y and 70M of the scanning optical system LoM with the plane HM extending in the second direction are larger than the straight lines L1 and L2 parallel to the sub-scanning direction.

図４に示すように、各半導体レーザ１０Ｙ～１０Ｋから出射された光は、各カップリングレンズ２０Ｙ～２０Ｋを通ることでビームＢＹ～ＢＫに変換される。ビームＢＹ～ＢＫは、絞り板３０の対応する開口絞り３１Ｙ～３１Ｋを通った後、集光レンズ４０を通って、ポリゴンミラー５１に入射される。集光レンズ４０は、ビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫが共通して通過するレンズであり、入射面が円筒面、出射面が平面で構成される。 As shown in FIG. 4, the lights emitted from the semiconductor lasers 10Y-10K are converted into beams BY-BK by passing through the coupling lenses 20Y-20K. The beams BY to BK pass through the corresponding aperture stops 31Y to 31K of the aperture plate 30, pass through the condenser lens 40, and are incident on the polygon mirror 51. FIG. The condenser lens 40 is a lens through which the beams BY, BM, BC, and BK commonly pass, and has a cylindrical entrance surface and a plane exit surface.

図５に示すように、ポリゴンミラー５１は、ビームＢＹ～ＢＫを、対応する走査光学系ＬｏＹ～ＬｏＫに向けて偏向する。第１走査光学系ＬｏＹに向かうビームＢＹは、第１走査レンズ６０ＹＭを通った後、第１反射ミラー８１Ｙで反射され、第２走査レンズ７０Ｙを通って第１方向の一方側の像面に向けて出射される。ビームＢＹは、第１方向と所定の角度をなして第２走査レンズ７０Ｙから出射される。ビームＢＹは、第１感光ドラム２００Ｙに結像され主走査方向に走査される。 As shown in FIG. 5, the polygon mirror 51 deflects the beams BY-BK toward the corresponding scanning optical systems LoY-LoK. The beam BY directed toward the first scanning optical system LoY passes through the first scanning lens 60YM, is reflected by the first reflecting mirror 81Y, passes through the second scanning lens 70Y, and is directed toward the image plane on one side in the first direction. emitted by The beam BY is emitted from the second scanning lens 70Y at a predetermined angle with respect to the first direction. The beam BY is imaged on the first photosensitive drum 200Y and scanned in the main scanning direction.

第２走査光学系ＬｏＭに向かうビームＢＭは、第１走査レンズ６０ＹＭを通った後、第２反射ミラー８２Ｍおよび第１反射ミラー８１Ｍで反射され、第２走査レンズ７０Ｍを通って第１方向の一方側の像面に向けて出射される。ビームＢＭは、第１方向と所定の角度をなして第２走査レンズ７０Ｍから出射される。ビームＢＭは、第２感光ドラム２００Ｍに結像され主走査方向に走査される。なお、ビームＢＣ，ＢＫも、同様に、対応する走査光学系ＬｏＣ，ＬｏＫによって、第１方向の一方側の像面に向けて出射されて、対応する感光ドラム２００Ｃ，２００Ｋに結像され主走査方向に走査される。 The beam BM heading for the second scanning optical system LoM passes through the first scanning lens 60YM, is reflected by the second reflecting mirror 82M and the first reflecting mirror 81M, passes through the second scanning lens 70M, and passes through the first direction. emitted toward the image plane on the side. The beam BM is emitted from the second scanning lens 70M at a predetermined angle with respect to the first direction. The beam BM is imaged on the second photosensitive drum 200M and scanned in the main scanning direction. Similarly, the beams BC and BK are also emitted toward one image plane in the first direction by the corresponding scanning optical systems LoC and LoK, and are imaged on the corresponding photosensitive drums 200C and 200K for main scanning. direction is scanned.

図３、図５に示すように、フレームＦは、ポリゴンミラー５１、モータ５２、第１走査光学系ＬｏＹ、第２走査光学系ＬｏＭ、第３走査光学系ＬｏＣおよび第４走査光学系ＬｏＫが固定されている。フレームＦは、樹脂製であり、成形によって一体に造られている。フレームＦは、図８に示す第１凹部ＣＰ１と、図７に示す第２凹部ＣＰ２とを有する。第１凹部ＣＰ１は、第１方向の一方側に開口する。第２凹部ＣＰ２は、第１方向の他方側に開口する。図５に示すように、第１凹部ＣＰ１内には、偏向器５０と、走査光学系Ｌｏの一部とが配置されている。具体的には、走査光学系Ｌｏのうち各第１反射ミラー８１を除く部材が、第１凹部ＣＰ１内に配置されている。図２に示すように、第２凹部ＣＰ２内には、カップリングレンズ２０、絞り板３０および集光レンズ４０（図１参照）が配置されている。 As shown in FIGS. 3 and 5, the frame F has a fixed polygon mirror 51, motor 52, first scanning optical system LoY, second scanning optical system LoM, third scanning optical system LoC, and fourth scanning optical system LoK. It is The frame F is made of resin and integrally formed by molding. The frame F has a first recess CP1 shown in FIG. 8 and a second recess CP2 shown in FIG. The first recess CP1 opens on one side in the first direction. The second recess CP2 opens on the other side in the first direction. As shown in FIG. 5, the deflector 50 and part of the scanning optical system Lo are arranged in the first concave portion CP1. Specifically, the members of the scanning optical system Lo other than the first reflecting mirrors 81 are arranged in the first concave portion CP1. As shown in FIG. 2, the coupling lens 20, the aperture plate 30 and the condenser lens 40 (see FIG. 1) are arranged inside the second recess CP2.

図５に示すように、走査光学装置１は、カバーＣをさらに備える。カバーＣは、偏向器５０および第１ベース壁Ｆｂ１を、第１方向の一方側から覆うカバーであり、フレームＦにネジで固定されている。詳しくは、カバーＣは、第１凹部ＣＰ１の開口を覆う。第１走査レンズ６０ＹＭ，６０ＣＫおよび第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋは、第１ベース壁Ｆｂ１とカバーＣとの間に配置され、第１凹部ＣＰ１に収容されている。 The scanning optical device 1 further comprises a cover C, as shown in FIG. The cover C is a cover that covers the deflector 50 and the first base wall Fb1 from one side in the first direction, and is fixed to the frame F with screws. Specifically, the cover C covers the opening of the first recess CP1. The first scanning lenses 60YM, 60CK and the second scanning lenses 70Y, 70M, 70C, 70K are arranged between the first base wall Fb1 and the cover C and accommodated in the first recess CP1.

図７および図８に示すように、フレームＦは、第１凹部ＣＰ１の底に位置するベース壁の一例としての第１ベース壁Ｆｂ１と、第２凹部ＣＰ２の底に位置する第２ベース壁Ｆｂ２とを有する。 As shown in FIGS. 7 and 8, the frame F includes a first base wall Fb1 as an example of a base wall positioned at the bottom of the first recess CP1 and a second base wall Fb2 positioned at the bottom of the second recess CP2. and

第１ベース壁Ｆｂ１および第２ベース壁Ｆｂ２は、第１方向に交差する壁である。詳しくは、第１ベース壁Ｆｂ１および第２ベース壁Ｆｂ２は、厚み方向が第１方向に沿っている壁である。つまり、第１ベース壁Ｆｂ１および第２ベース壁Ｆｂ２は、第１方向に直交する平面を有する壁である。 The first base wall Fb1 and the second base wall Fb2 are walls that intersect in the first direction. Specifically, the first base wall Fb1 and the second base wall Fb2 are walls whose thickness direction is along the first direction. That is, the first base wall Fb1 and the second base wall Fb2 are walls having planes orthogonal to the first direction.

第２ベース壁Ｆｂ２は、第１ベース壁Ｆｂ１に対して、第１方向の一方側にずれた位置に位置する。図５に示すように、第１ベース壁Ｆｂ１には、偏向器５０と走査光学系Ｌｏの前述した一部が、直接または間接的に第１方向の一方側から取り付けられている。そのため、偏向器５０と走査光学系Ｌｏの一部は、第１ベース壁Ｆｂ１に対して、第１方向の一方側に位置する。本実施形態では、偏向器５０すなわちポリゴンミラー５１およびモータ５２が複数のネジＮによって第１ベース壁Ｆｂ１に固定されている。 The second base wall Fb2 is located at a position shifted to one side in the first direction with respect to the first base wall Fb1. As shown in FIG. 5, the deflector 50 and the aforementioned part of the scanning optical system Lo are directly or indirectly attached to the first base wall Fb1 from one side in the first direction. Therefore, the deflector 50 and part of the scanning optical system Lo are positioned on one side in the first direction with respect to the first base wall Fb1. In this embodiment, the deflector 50, that is, the polygon mirror 51 and the motor 52 are fixed to the first base wall Fb1 with a plurality of screws N. As shown in FIG.

図５に示すように、走査光学系ＬｏＹ，ＬｏＭ，ＬｏＣ，ＬｏＫの各第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋは、第１ベース壁Ｆｂ１から各第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋに向かう方向にビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＣＫを出射する。 As shown in FIG. 5, the second scanning lenses 70Y, 70M, 70C, and 70K of the scanning optical systems LoY, LoM, LoC, and LoK extend from the first base wall Fb1 to the second scanning lenses 70Y, 70M, 70C, and 70K. beams BY, BM, BC, and CK are emitted in the direction toward .

図２に示すように、半導体レーザ１０、カップリングレンズ２０および絞り板３０は、第２ベース壁Ｆｂ２に対して、第１方向の他方側に位置する。また、図１に示すように、集光レンズ４０および第１反射ミラー８１も、第２ベース壁Ｆｂ２に対して、第１方向の他方側に位置する。 As shown in FIG. 2, the semiconductor laser 10, the coupling lens 20 and the aperture plate 30 are positioned on the other side in the first direction with respect to the second base wall Fb2. Further, as shown in FIG. 1, the condenser lens 40 and the first reflecting mirror 81 are also positioned on the other side in the first direction with respect to the second base wall Fb2.

図７に示すように、フレームＦは、第１反射ミラー８１の少なくとも一部を第１ベース壁Ｆｂ１の第１方向の他方側（第１凹部ＣＰ１の開口と反対側）に露出させる形状を有する。具体的には、第１反射ミラー８１は、第１ベース壁Ｆｂ１付近に配置され、第１ベース壁Ｆｂ１に対して、第１方向の他方側に露出している。言い換えると、第１ベース壁Ｆｂ１は、第１反射ミラー８１の第１方向の他方側に位置する部分を有していない。これにより、第１反射ミラー８１は、第１ベース壁Ｆｂ１で隠されることなく第１方向の他方側に露出して、フレームＦに対して、第１方向の他方側から取付可能となっている。 As shown in FIG. 7, the frame F has a shape that exposes at least part of the first reflecting mirror 81 to the other side of the first base wall Fb1 in the first direction (the side opposite to the opening of the first recess CP1). . Specifically, the first reflecting mirror 81 is arranged near the first base wall Fb1 and exposed on the other side in the first direction with respect to the first base wall Fb1. In other words, the first base wall Fb1 does not have a portion located on the other side of the first reflecting mirror 81 in the first direction. Accordingly, the first reflecting mirror 81 is exposed on the other side in the first direction without being hidden by the first base wall Fb1, and can be attached to the frame F from the other side in the first direction. .

第１ベース壁Ｆｂ１は、第１反射ミラー８１の反射面を第１方向の一方側（開口側）に露出させる孔Ｈを有する（図５、図８も参照）。孔Ｈは、第３方向に延びており、各第１反射ミラー８１に対応して４つ配置されている。 The first base wall Fb1 has a hole H that exposes the reflecting surface of the first reflecting mirror 81 to one side (opening side) in the first direction (see also FIGS. 5 and 8). The holes H extend in the third direction, and four holes H are arranged corresponding to the respective first reflecting mirrors 81 .

フレームＦは、第１凹部ＣＰ１と第２凹部ＣＰ２の間に位置する第１仕切壁Ｆ１をさらに有する。第１仕切壁Ｆ１は、第１ベース壁Ｆｂ１と第２ベース壁Ｆｂ２に接続されている（図８も参照）。第１仕切壁Ｆ１は、第２ベース壁Ｆｂ２から第１方向の他方側に突出するとともに、第１ベース壁Ｆｂ１から第１方向の一方側に突出している。 The frame F further has a first partition wall F1 located between the first recess CP1 and the second recess CP2. The first partition wall F1 is connected to the first base wall Fb1 and the second base wall Fb2 (see also FIG. 8). The first partition wall F1 protrudes from the second base wall Fb2 to the other side in the first direction and protrudes from the first base wall Fb1 to one side in the first direction.

第１仕切壁Ｆ１は、絞り板３０の各開口絞り３１からポリゴンミラー５１に向かうビームＢＹ～ＢＫが通過する２つの第１開口Ｆ１１，Ｆ１２を有する。第１開口Ｆ１１，Ｆ１２は、第１方向に長いスリット状に形成され、第３方向に貫通するとともに、第１方向の一方側に開口している（図８参照）。第１開口Ｆ１１は、ビームＢＹ，ＢＭを通す。第１開口Ｆ１２は、ビームＢＣ，ＢＫを通す。 The first partition wall F1 has two first apertures F11 and F12 through which beams BY to BK directed from each aperture stop 31 of the diaphragm plate 30 to the polygon mirror 51 pass. The first openings F11 and F12 are formed in a slit shape elongated in the first direction, penetrate in the third direction, and open on one side in the first direction (see FIG. 8). The first aperture F11 passes the beams BY and BM. The first aperture F12 passes the beams BC, BK.

図１に示すように、集光レンズ４０は、図７に示す第１開口Ｆ１１，Ｆ１２を塞ぐように配置されている。集光レンズ４０は、第１仕切壁Ｆ１と絞り板３０の間で挟まれている。 As shown in FIG. 1, the condenser lens 40 is arranged to block the first openings F11 and F12 shown in FIG. The condensing lens 40 is sandwiched between the first partition wall F1 and the diaphragm plate 30 .

図３および図８に示すように、フレームＦは、第２方向においてポリゴンミラー５１（図３参照）の両側に位置する２つの第２仕切壁Ｆ２をさらに有する。第２方向の一方側の第２仕切壁Ｆ２は、ポリゴンミラー５１で反射されたビームＢＹ，ＢＭが通過する第２開口Ｆ２１を有する。第２方向の他方側の第２仕切壁Ｆ２は、ポリゴンミラー５１で反射されたビームＢＣ，ＢＫが通過する第２開口Ｆ２２を有する。各第２開口Ｆ２１，Ｆ２２は、第２方向に貫通するとともに、第１方向の一方側に開口する。 As shown in FIGS. 3 and 8, the frame F further has two second partition walls F2 positioned on both sides of the polygon mirror 51 (see FIG. 3) in the second direction. The second partition wall F2 on one side in the second direction has a second opening F21 through which the beams BY and BM reflected by the polygon mirror 51 pass. The second partition wall F2 on the other side in the second direction has a second opening F22 through which the beams BC and BK reflected by the polygon mirror 51 pass. Each of the second openings F21 and F22 penetrates in the second direction and opens on one side in the first direction.

各第２仕切壁Ｆ２は、第１ベース壁Ｆｂ１から第１方向の一方側に突出する。各第２仕切壁Ｆ２は、第１仕切壁Ｆ１と後述する第１側壁Ｆ４１に接続されている。これにより、第１ベース壁Ｆｂ１、第１仕切壁Ｆ１、各第２仕切壁Ｆ２および第１側壁Ｆ４１によって、ポリゴンミラー５１を収容するための収容凹部ＣＰ３が形成されている。 Each second partition wall F2 protrudes from the first base wall Fb1 to one side in the first direction. Each second partition wall F2 is connected to a first partition wall F1 and a first side wall F41, which will be described later. Thus, the first base wall Fb1, the first partition wall F1, the second partition walls F2, and the first side wall F41 form an accommodation recess CP3 for accommodating the polygon mirror 51. As shown in FIG.

第１走査レンズ６０ＹＭは、第２開口Ｆ２１の一部を塞ぐように配置されている。第１走査レンズ６０ＣＫは、第２開口Ｆ２２の一部を塞ぐように配置されている。第１走査レンズ６０ＹＭ，６０ＣＫが、第１ベース壁Ｆｂ１の一部である第１レンズ座面Ｂ１に固定されている。第１レンズ座面Ｂ１は、第１ベース壁Ｆｂ１の偏向器５０が取り付けられた部分から、第１方向の一方側にずれた面である。 The first scanning lens 60YM is arranged so as to block part of the second opening F21. The first scanning lens 60CK is arranged so as to block part of the second opening F22. The first scanning lenses 60YM and 60CK are fixed to the first lens bearing surface B1 that is part of the first base wall Fb1. The first lens bearing surface B1 is a surface that deviates to one side in the first direction from the portion of the first base wall Fb1 to which the deflector 50 is attached.

フレームＦは、各凹部ＣＰ１，ＣＰ２を囲う略矩形の枠を構成する第１側壁Ｆ４１、第２側壁Ｆ４２、第３側壁Ｆ４３および第４側壁Ｆ４４をさらに有する。第１側壁Ｆ４１、第２側壁Ｆ４２、第３側壁Ｆ４３および第４側壁Ｆ４４は、第１ベース壁Ｆｂ１を囲う側壁の一例である。
第１凹部ＣＰ１は、第１側壁Ｆ４１、第３側壁Ｆ４３、第４側壁Ｆ４４および第１仕切壁Ｆ１によって囲まれている。また、図７に示すように、第２凹部ＣＰ２は、第２側壁Ｆ４２、第３側壁Ｆ４３、第４側壁Ｆ４４および第１仕切壁Ｆ１によって囲まれている。本実施形態では、第３側壁Ｆ４３および第４側壁Ｆ４４は、第１凹部ＣＰ１に対応する部分と第２凹部ＣＰ２に対応する部分とで第２方向にずれている。 The frame F further has a first side wall F41, a second side wall F42, a third side wall F43 and a fourth side wall F44 forming a substantially rectangular frame surrounding the recesses CP1 and CP2. The first side wall F41, the second side wall F42, the third side wall F43, and the fourth side wall F44 are examples of side walls surrounding the first base wall Fb1.
The first recess CP1 is surrounded by a first side wall F41, a third side wall F43, a fourth side wall F44 and a first partition wall F1. Also, as shown in FIG. 7, the second recess CP2 is surrounded by a second side wall F42, a third side wall F43, a fourth side wall F44 and a first partition wall F1. In the present embodiment, the third side wall F43 and the fourth side wall F44 are shifted in the second direction between the portion corresponding to the first recess CP1 and the portion corresponding to the second recess CP2.

図３に示すように、第１側壁Ｆ４１は、偏向器５０に対して半導体レーザ１０とは反対側に位置する。第１側壁Ｆ４１は、第１ベース壁Ｆｂ１から第１方向の一方側に突出する。 As shown in FIG. 3, the first side wall F41 is located on the side opposite to the semiconductor laser 10 with respect to the deflector 50. As shown in FIG. The first side wall F41 protrudes from the first base wall Fb1 to one side in the first direction.

第２側壁Ｆ４２は、偏向器５０に対して第１側壁Ｆ４１とは反対側に位置する。詳しくは、第２側壁Ｆ４２は、カップリングレンズ２０に対して偏向器５０とは反対側に位置する。第２側壁Ｆ４２は、第２ベース壁Ｆｂ２から第１方向の他方側に突出する。 The second side wall F42 is located on the opposite side of the deflector 50 from the first side wall F41. Specifically, the second side wall F42 is located on the side opposite to the deflector 50 with respect to the coupling lens 20 . The second side wall F42 protrudes from the second base wall Fb2 to the other side in the first direction.

第３側壁Ｆ４３は、第１走査レンズ６０ＹＭに対して偏向器５０とは反対側に位置する。第３側壁Ｆ４３は、第１側壁Ｆ４１、第１ベース壁Ｆｂ１、第２ベース壁Ｆｂ２および第２側壁Ｆ４２の第２方向における一方側の端部に接続されている。第３側壁Ｆ４３の一部は、第１ベース壁Ｆｂ１から第１方向の一方側に突出し、他部は、第２ベース壁Ｆｂ２から第１方向の他方側に突出する。 The third side wall F43 is located on the side opposite to the deflector 50 with respect to the first scanning lens 60YM. The third side wall F43 is connected to one end in the second direction of the first side wall F41, the first base wall Fb1, the second base wall Fb2, and the second side wall F42. A portion of the third side wall F43 protrudes from the first base wall Fb1 to one side in the first direction, and the other portion protrudes from the second base wall Fb2 to the other side in the first direction.

第４側壁Ｆ４４は、第１走査レンズ６０ＣＫに対して偏向器５０とは反対側に位置する。第４側壁Ｆ４４は、第１側壁Ｆ４１、第１ベース壁Ｆｂ１、第２ベース壁Ｆｂ２および第２側壁Ｆ４２の第２方向における他方側の端部に接続されている。第４側壁Ｆ４４の一部は、第１ベース壁Ｆｂ１から第１方向の一方側に突出し、他部は、第２ベース壁Ｆｂ２から第１方向の他方側に突出する。 The fourth side wall F44 is located on the side opposite to the deflector 50 with respect to the first scanning lens 60CK. The fourth side wall F44 is connected to ends of the first side wall F41, the first base wall Fb1, the second base wall Fb2, and the second side wall F42 on the other side in the second direction. A portion of the fourth side wall F44 protrudes from the first base wall Fb1 to one side in the first direction, and the other portion protrudes from the second base wall Fb2 to the other side in the first direction.

図９に示すように、走査光学装置１は、前述した第１凹部ＣＰ１および第２凹部ＣＰ２等を有するフレームＦに着脱可能な支持部材Ｆｓをさらに有している。支持部材Ｆｓは、第１反射ミラー８１を支持する部材である。支持部材Ｆｓは、第１反射ミラー８１を支持して、第１反射ミラー８１の角度の調整が可能な座面ＦｓＺを有している。座面ＦｓＺは、第１反射ミラー８１を傾動可能に支持することが可能な球状の突起Ｆｓ１を有する。突起Ｆｓ１は、第１反射ミラー８１に向けて突出し、第１反射ミラー８１と接触して第１反射ミラー８１の向きを調整する際の支点となる。第１反射ミラー８１は、光硬化樹脂Ｐによって座面ＦｓＺに対する向きが固定されている。光硬化樹脂Ｐは、例えば紫外線硬化樹脂とすることができる。光硬化樹脂Ｐによって固定された第１反射ミラー８１および支持部材Ｆｓは、Ｕ形状の板バネＳＰによって、フレームＦに取り付けられる。 As shown in FIG. 9, the scanning optical device 1 further has a support member Fs that can be attached to and detached from the frame F having the above-described first recess CP1 and second recess CP2. The support member Fs is a member that supports the first reflecting mirror 81 . The support member Fs supports the first reflecting mirror 81 and has a seating surface FsZ that allows the angle of the first reflecting mirror 81 to be adjusted. The seat surface FsZ has a spherical protrusion Fs1 capable of tiltably supporting the first reflecting mirror 81 . The protrusion Fs1 protrudes toward the first reflecting mirror 81 and becomes a fulcrum for adjusting the orientation of the first reflecting mirror 81 by coming into contact with the first reflecting mirror 81 . The orientation of the first reflecting mirror 81 with respect to the seating surface FsZ is fixed by the photocurable resin P. As shown in FIG. The photocurable resin P can be, for example, an ultraviolet curable resin. The first reflecting mirror 81 and the support member Fs fixed by the photocurable resin P are attached to the frame F by U-shaped leaf springs SP.

板バネＳＰは、バネの一例であり、第１反射ミラー８１を座面ＦｓＺに向けて押圧するバネである。板バネＳＰは、光硬化樹脂を硬化させる光が透過可能な開口部ＳＰＫを有する（図１参照）。フレームＦは、第１反射ミラー８１の座面ＦｓＺと厚み方向（反射面に直交する方向）に重なる部分を第１方向の他方側に露出させる形状を有する。第１反射ミラー８１は、第３方向の両端部には反射面を構成する反射膜を設けていない。これにより、開口部ＳＰＫを透過した光が光硬化樹脂に到達する。 The leaf spring SP is an example of a spring, and is a spring that presses the first reflecting mirror 81 toward the seating surface FsZ. The plate spring SP has an opening SPK through which the light that cures the photocurable resin can pass (see FIG. 1). The frame F has a shape such that a portion overlapping the bearing surface FsZ of the first reflecting mirror 81 in the thickness direction (direction orthogonal to the reflecting surface) is exposed to the other side in the first direction. The first reflecting mirror 81 does not have a reflecting film forming a reflecting surface on both ends in the third direction. As a result, the light transmitted through the opening SPK reaches the photocurable resin.

支持部材Ｆｓおよび板バネＳＰは、１つの第１反射ミラー８１に対して、第１反射ミラー８１の長手方向の両端部に１つずつ配置されている。１つの第１反射ミラー８１に対応した一対の支持部材Ｆｓと一対の板バネＳＰは、４つの第１反射ミラー８１のそれぞれに対して設けられている。 One supporting member Fs and one plate spring SP are arranged at both ends of the first reflecting mirror 81 in the longitudinal direction for one first reflecting mirror 81 . A pair of supporting members Fs and a pair of plate springs SP corresponding to one first reflecting mirror 81 are provided for each of the four first reflecting mirrors 81 .

フレームＦは、支持部材Ｆｓを支持する支持面Ｆｍ１を有する。支持面Ｆｍ１は、４つの第１反射ミラー８１の長手方向の各端部に対応した位置に配置されている（図７参照）。 The frame F has a support surface Fm1 that supports the support member Fs. The support surface Fm1 is arranged at a position corresponding to each longitudinal end of the four first reflecting mirrors 81 (see FIG. 7).

第１反射ミラー８１をフレームＦに取り付ける場合には、まず、支持部材Ｆｓの突起Ｆｓ１の両側に光硬化樹脂Ｐを塗布し、支持部材Ｆｓを支持面Ｆｍ１に取り付ける。その後、第１反射ミラー８１を、支持部材Ｆｓの突起Ｆｓ１に接触させる。このとき、光硬化樹脂Ｐは、支持部材Ｆｓと第１反射ミラー８１の両方に接触した状態で配置される。その後、板ばねＳＰを取り付け、第１反射ミラー８１を支持部材ＦｓとともにフレームＦに向けて押圧する。次いで、半導体レーザ１０から光を出射させた状態で、像面におけるビームの位置を監視しながら、突起Ｆｓ１を起点にして第１反射ミラー８１を傾動させることで、第１反射ミラー８１の角度を調整する。第１反射ミラー８１の角度を調整するときには、図９に二点鎖線で示すアームＡＭを第１反射ミラー８１に押し当てて、第１反射ミラー８１を動かす。角度調整が完了した後、光硬化樹脂Ｐに紫外線などの光を当てることで、第１反射ミラー８１が支持部材Ｆｓに固定される。 When attaching the first reflecting mirror 81 to the frame F, first, a photocurable resin P is applied to both sides of the protrusion Fs1 of the support member Fs, and the support member Fs is attached to the support surface Fm1. After that, the first reflecting mirror 81 is brought into contact with the protrusion Fs1 of the support member Fs. At this time, the photocurable resin P is arranged in contact with both the support member Fs and the first reflecting mirror 81 . After that, the plate spring SP is attached, and the first reflecting mirror 81 is pressed toward the frame F together with the support member Fs. Next, while light is being emitted from the semiconductor laser 10, the angle of the first reflecting mirror 81 is changed by tilting the first reflecting mirror 81 with the protrusion Fs1 as a starting point while monitoring the position of the beam on the image plane. adjust. When adjusting the angle of the first reflecting mirror 81, the first reflecting mirror 81 is moved by pressing the arm AM indicated by the chain double-dashed line in FIG. After the angle adjustment is completed, the first reflecting mirror 81 is fixed to the support member Fs by irradiating the photocurable resin P with light such as ultraviolet light.

図３、図８に示すように、フレームＦは、第１壁Ｗ１と、第２壁Ｗ２と、第３壁Ｗ３とをさらに有する。 As shown in FIGS. 3 and 8, the frame F further has a first wall W1, a second wall W2 and a third wall W3.

第１壁Ｗ１は、複数の第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ、７０Ｃ，７０Ｋを支持する壁である。第１壁Ｗ１は、第１ベース壁Ｆｂ１から第１方向の一方側に向けて立ち上がる壁である。第１壁Ｗ１は、第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ、７０Ｃ，７０Ｋの長手方向（第３方向）の両端部にそれぞれ配置されている。各第１壁Ｗ１には、第１方向の他方側に凹む切り欠き形状の第２レンズ座面Ｗ１１が形成されている。各第２レンズ座面Ｗ１１は、各第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ、７０Ｃ，７０Ｋの長手方向の両端部が入り込む。各第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ、７０Ｃ，７０Ｋは、両端部が第２レンズ座面Ｗ１１の第１方向の一方側を向く座面に押し当てられた状態で図示しないバネによりフレームに固定される。 The first wall W1 is a wall that supports the plurality of second scanning lenses 70Y, 70M, 70C, and 70K. The first wall W1 is a wall rising from the first base wall Fb1 toward one side in the first direction. The first walls W1 are arranged at both ends in the longitudinal direction (third direction) of the second scanning lenses 70Y, 70M, 70C, and 70K. Each first wall W1 is formed with a notch-shaped second lens bearing surface W11 recessed on the other side in the first direction. Both longitudinal ends of the second scanning lenses 70Y, 70M, 70C, and 70K enter the second lens seat surfaces W11. Both ends of the second scanning lenses 70Y, 70M, 70C, and 70K are fixed to the frame by springs (not shown) while being pressed against the second lens seating surface W11 facing one side in the first direction. .

第２壁Ｗ２は、第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ、７０Ｃ，７０Ｋの長手方向の両側に配置され、第１壁Ｗ１と平行に延びる壁である。本実施形態では、第１仕切壁Ｆ１および第１側壁Ｆ４１が第２壁Ｗ２を構成している。 The second walls W2 are walls arranged on both longitudinal sides of the second scanning lenses 70Y, 70M, 70C, and 70K and extending parallel to the first wall W1. In this embodiment, the first partition wall F1 and the first side wall F41 constitute the second wall W2.

第３壁Ｗ３は、第１方向と直交する方向に延びる壁である。第３壁Ｗ３は、第１壁Ｗ１と第２壁Ｗ２を接続する。 The third wall W3 is a wall extending in a direction perpendicular to the first direction. A third wall W3 connects the first wall W1 and the second wall W2.

以上によれば、本実施形態において以下のような効果を得ることができる。
本実施形態における走査光学装置１の各走査光学系ＬｏＹ，ＬｏＭ，ＬｏＣ，ＬｏＫは、第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋを各像面に最も近い位置に配置することで、最後の走査レンズから感光ドラム２００までの距離を小さくすることができる。このため、走査光学装置１の公差感度を小さくすることができる。 According to the above, the following effects can be obtained in this embodiment.
Each of the scanning optical systems LoY, LoM, LoC, and LoK of the scanning optical device 1 in this embodiment arranges the second scanning lenses 70Y, 70M, 70C, and 70K at positions closest to the respective image planes so that the final scanning The distance from the lens to the photosensitive drum 200 can be reduced. Therefore, the tolerance sensitivity of the scanning optical device 1 can be reduced.

また、各走査光学系ＬｏＹ，ＬｏＭ，ＬｏＣ，ＬｏＫの第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋのそれぞれは、第２方向に直線状に並んでいるため、各第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋから各像面までの距離を等しくすることができる。 Further, since the second scanning lenses 70Y, 70M, 70C, and 70K of the scanning optical systems LoY, LoM, LoC, and LoK are arranged linearly in the second direction, each of the second scanning lenses 70Y, 70M, The distances from 70C and 70K to each image plane can be made equal.

また、第１走査光学系ＬｏＹの第１走査レンズ６０ＹＭと、第２走査光学系ＬｏＭの第１走査レンズ６０ＹＭとは共通の１つのレンズであり、第３走査光学系ＬｏＣの第１走査レンズ６０ＣＫと、第４走査光学系ＬｏＫの第１走査レンズ６０ＣＫとは共通の１つのレンズであるため、部品点数が少なくなり、走査光学装置１を小型化できる。 The first scanning lens 60YM of the first scanning optical system LoY and the first scanning lens 60YM of the second scanning optical system LoM are one common lens, and the first scanning lens 60CK of the third scanning optical system LoC , and the first scanning lens 60CK of the fourth scanning optical system LoK are one common lens, so the number of parts can be reduced and the size of the scanning optical device 1 can be reduced.

また、第２走査光学系ＬｏＭにおいて、第１走査レンズ６０ＹＭと第２走査レンズ７０Ｍは、第１方向から見て重なっているため、第２走査レンズ７０Ｍをポリゴンミラー５１の近くに配置できる。このため、走査光学装置１を小型化できる。 Also, in the second scanning optical system LoM, the first scanning lens 60YM and the second scanning lens 70M overlap when viewed from the first direction, so the second scanning lens 70M can be arranged near the polygon mirror 51. FIG. Therefore, the scanning optical device 1 can be miniaturized.

また、第１走査レンズ６０ＹＭは、第２走査光学系ＬｏＭの第１反射ミラー８１Ｍから第２走査レンズ７０Ｍへ向けて進むビームＢＭとポリゴンミラー５１との間に位置するため、ポリゴンミラー５１と第１走査レンズ６０ＹＭの間の距離を短くできる。
同様に、第１走査レンズ６０ＣＫは、第３走査光学系ＬｏＣの第１反射ミラー８１Ｃから第２走査レンズ７０Ｃへ向けて進むビームＢＣとポリゴンミラー５１との間に位置するため、ポリゴンミラー５１と第１走査レンズ６０ＣＫの間の距離を短くできる。 Also, since the first scanning lens 60YM is positioned between the polygon mirror 51 and the beam BM traveling from the first reflecting mirror 81M of the second scanning optical system LoM toward the second scanning lens 70M, The distance between one scanning lens 60YM can be shortened.
Similarly, the first scanning lens 60CK is located between the polygon mirror 51 and the beam BC traveling from the first reflecting mirror 81C of the third scanning optical system LoC toward the second scanning lens 70C. The distance between the first scanning lenses 60CK can be shortened.

また、第１走査光学系ＬｏＹおよび第４走査光学系ＬｏＫは、反射ミラーを１つ有し、第２走査光学系ＬｏＭおよび第３走査光学系ＬｏＣは、反射ミラーを２つ有する構成であるため、反射ミラーを少なくすることができる。 Also, since the first scanning optical system LoY and the fourth scanning optical system LoK have one reflecting mirror, and the second scanning optical system LoM and the third scanning optical system LoC have two reflecting mirrors, , the number of reflecting mirrors can be reduced.

また、フレームＦが第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋを支持する第１壁Ｗ１を有することで、ポリゴンミラー５１と各第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋの位置精度を上げることができる。 In addition, since the frame F has the first wall W1 that supports the second scanning lenses 70Y, 70M, 70C and 70K, the positional accuracy of the polygon mirror 51 and the second scanning lenses 70Y, 70M, 70C and 70K can be increased. can be done.

また、フレームＦは、第１壁Ｗ１と第２壁Ｗ２を接続する第３壁Ｗ３を有することで、第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋを支持する第１壁Ｗ１の強度を向上することができる。 Further, the frame F has a third wall W3 that connects the first wall W1 and the second wall W2, thereby improving the strength of the first wall W1 that supports the second scanning lenses 70Y, 70M, 70C, and 70K. be able to.

また、第１走査光学系ＬｏＹおよび第２走査光学系ＬｏＭにおいて、第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍの副走査方向における中心Ｃ１，Ｃ２は、第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍを通るビームＢＹ，ＢＭに対し副走査方向の一方側にオフセットしている。そして、第３走査光学系ＬｏＣおよび第４走査光学系ＬｏＫにおいて、第２走査レンズ７０Ｃ，７０Ｋの副走査方向における中心Ｃ３，Ｃ４は、第２走査レンズ７０Ｃ，７０Ｋを通るビームＢＣ，ＢＫに対し第２方向の他方側にオフセットしている。このため、第２走査光学系ＬｏＭの第２走査レンズ７０Ｍと、第３走査光学系ＬｏＣの第２走査レンズ７０Ｃとの間隔を大きくできる。この結果、出射される各ビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫの間隔が大きくならずに、第２走査光学系ＬｏＭの第２走査レンズ７０Ｍと第３走査光学系ＬｏＣの第２走査レンズ７０Ｃとの間のスペースが広くなるので、走査光学装置１の大型化を抑制することができる。 Further, in the first scanning optical system LoY and the second scanning optical system LoM, the centers C1 and C2 of the second scanning lenses 70Y and 70M in the sub-scanning direction are located at the beams BY and BM passing through the second scanning lenses 70Y and 70M. It is offset to one side in the sub-scanning direction. In the third scanning optical system LoC and the fourth scanning optical system LoK, the centers C3 and C4 in the sub-scanning direction of the second scanning lenses 70C and 70K are positioned relative to the beams BC and BK passing through the second scanning lenses 70C and 70K. It is offset to the other side in the second direction. Therefore, the distance between the second scanning lens 70M of the second scanning optical system LoM and the second scanning lens 70C of the third scanning optical system LoC can be increased. As a result, the distances between the emitted beams BY, BM, BC, and BK do not become large, and the distance between the second scanning lens 70M of the second scanning optical system LoM and the second scanning lens 70C of the third scanning optical system LoC is reduced. Since the space between them is widened, an increase in the size of the scanning optical device 1 can be suppressed.

また、第１走査光学系ＬｏＹおよび第２走査光学系ＬｏＭの各第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍの副走査方向と平行な直線Ｌ１，Ｌ２と、第３走査光学系ＬｏＣおよび第４走査光学系ＬｏＫの各第２走査レンズ７０Ｃ，７０Ｋの副走査方向と平行な直線Ｌ３，Ｌ４とは、第２方向となす角が異なる。このため、各第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋから出射されるビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫを第１方向に対して角度をなす構成とすることができる。 Further, straight lines L1 and L2 parallel to the sub-scanning direction of the second scanning lenses 70Y and 70M of the first scanning optical system LoY and the second scanning optical system LoM, the third scanning optical system LoC and the fourth scanning optical system LoK The angles formed by the straight lines L3 and L4 parallel to the sub-scanning direction of the second scanning lenses 70C and 70K are different from the second direction. Therefore, the beams BY, BM, BC, and BK emitted from the second scanning lenses 70Y, 70M, 70C, and 70K can be configured to form an angle with respect to the first direction.

また、フレームＦは、第１反射ミラー８１を支持して、反射ミラー８１の角度の調整が可能な座面ＦｓＺを有し、第１反射ミラー８１の少なくとも一部を第１方向の他方側（第１ベース壁Ｆｂ１の開口と反対側）に露出させる形状を有する。このため、第１反射ミラー８１の角度調整をビームの出射方向とは反対側から行うことができる。このため、走査光学装置１の組立時において、第１反射ミラー８１の角度調整が容易となる。 In addition, the frame F supports the first reflecting mirror 81 and has a seating surface FsZ capable of adjusting the angle of the reflecting mirror 81. At least part of the first reflecting mirror 81 is positioned on the other side of the first direction ( It has a shape exposed on the side opposite to the opening of the first base wall Fb1. Therefore, the angle of the first reflecting mirror 81 can be adjusted from the side opposite to the beam emission direction. Therefore, when the scanning optical device 1 is assembled, the angle of the first reflecting mirror 81 can be easily adjusted.

また、支持部材Ｆｓの座面ＦｓＺは、第１反射ミラー８１の向きを調整する際の支点となる突起Ｆｓ１を有するため、第１反射ミラー８１の向きの調整がしやすい。 Further, since the bearing surface FsZ of the support member Fs has the protrusion Fs1 that serves as a fulcrum for adjusting the orientation of the first reflecting mirror 81, the orientation of the first reflecting mirror 81 can be easily adjusted.

また、フレームＦは、メインフレームＦｍと、支持部材Ｆｓとを有して構成されている。このため、走査光学装置１の組立時に第１反射ミラー８１の角度の調整に失敗した場合に、メインフレームＦｍに影響を及ぼさずに第１反射ミラー８１を取り外すことができる。この結果、角度調整に失敗しても、第１反射ミラー８１の取り付けをやり直すことができる。 Further, the frame F includes a main frame Fm and a support member Fs. Therefore, if the adjustment of the angle of the first reflecting mirror 81 fails during assembly of the scanning optical device 1, the first reflecting mirror 81 can be removed without affecting the main frame Fm. As a result, even if the angle adjustment fails, the attachment of the first reflecting mirror 81 can be redone.

なお、本発明は前記実施形態に限定されることなく、以下に例示するように様々な形態で利用できる。 The present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be used in various forms as exemplified below.

前記実施形態では、走査光学系Ｌｏの一部を第１ベース壁Ｆｂ１の第１方向の一方側に取り付けたが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、走査光学系の全部を、第１ベース壁Ｆｂ１の第１方向の一方側に取り付けてもよい。 Although a part of the scanning optical system Lo is attached to one side of the first base wall Fb1 in the first direction in the above embodiment, the present invention is not limited to this. For example, the entire scanning optical system may be attached to one side of the first base wall Fb1 in the first direction.

前記実施形態では、バネの一例として板バネＳＰを例示したが、バネは板バネに限られず、線バネなどであってもよい。 In the above embodiment, the leaf spring SP is illustrated as an example of the spring, but the spring is not limited to the leaf spring, and may be a wire spring or the like.

前記実施形態では、フレームＦと、座面ＦｓＺを有する支持部材Ｆｓと、が異なる部材で構成されていたが、座面ＦｓＺがフレームＦと一体に構成されていてもよい。 In the above embodiment, the frame F and the support member Fs having the seat surface FsZ are made of different members, but the seat surface FsZ may be made integral with the frame F.

前記実施形態では、第２走査レンズ７０が図示しないバネによりフレームに固定されていたが、第２走査レンズ７０の固定方法は、特に限定されるものではなく、光硬化樹脂などによる接着で固定されていてもよい。 In the above-described embodiment, the second scanning lens 70 is fixed to the frame by a spring (not shown), but the method of fixing the second scanning lens 70 is not particularly limited. may be

前記実施形態では、半導体レーザ１０が１つの発光点を有する構成であったが、半導体レーザ１０は、複数の発光点を有する構成としてもよい。この場合、半導体レーザ１０からの複数の光が、１つのカップリングレンズ２０によって複数のビームに変換され、複数のビームが対応する走査光学系Ｌｏによって感光ドラム２００の表面に結像される。この構成では、前記実施形態のビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫがそれぞれ複数のビームを含む。 In the above embodiment, the semiconductor laser 10 has one light emitting point, but the semiconductor laser 10 may have a plurality of light emitting points. In this case, multiple lights from the semiconductor laser 10 are converted into multiple beams by one coupling lens 20, and the multiple beams are imaged on the surface of the photosensitive drum 200 by the corresponding scanning optical system Lo. In this configuration, the beams BY, BM, BC, BK of the previous embodiment each comprise multiple beams.

前記した実施形態および変形例で説明した各要素を、任意に組み合わせて実施してもよい。 Each element described in the above embodiment and modifications may be implemented in any combination.

１ 走査光学装置
５１ ポリゴンミラー
５２ モータ
６０ 第１走査レンズ
６０ＹＭ，６０ＣＫ 第１走査レンズ
７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋ 第２走査レンズ
８１ 第１反射ミラー
８２ 第２反射ミラー
２００ 感光ドラム
ＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫ ビーム
Ｆ フレーム
Ｆｂ１ 第１ベース壁
Ｆｍ１ 支持面
Ｆｓ 支持部材
Ｆｓ１ 突起
ＦｓＺ 座面
Ｈ 孔
ＬｏＹ，ＬｏＭ，ＬｏＣ，ＬｏＫ 第１走査光学系
Ｗ１ 第１壁
Ｗ２ 第２壁
Ｗ３ 第３壁
Ｘ１ 回転軸線 1 scanning optical device 51 polygon mirror 52 motor 60 first scanning lens 60YM, 60CK first scanning lens 70Y, 70M, 70C, 70K second scanning lens 81 first reflecting mirror 82 second reflecting mirror 200 photosensitive drum BY, BM, BC , BK Beam F Frame Fb1 First base wall Fm1 Support surface Fs Support member Fs1 Protrusion FsZ Seat surface H Hole LoY, LoM, LoC, LoK First scanning optical system W1 First wall W2 Second wall W3 Third wall X1 Rotation axis

Claims (7)

ビームを出射する光源と、
前記光源から出射されたビームを偏向するポリゴンミラーと、
第１方向に延びる回転軸線を中心に前記ポリゴンミラーを回転させるモータと、
前記ポリゴンミラーで偏向されたビームが入射する第１走査レンズと、像面に向けてビームを出射する第２走査レンズと、ビームを前記第２走査レンズに向けて反射させる反射ミラーと、を有する走査光学系と、
前記モータが固定されたベース壁と、前記ベース壁から前記第１方向の一方側に突出して前記ベース壁を囲う側壁と、を有するフレームであって、前記走査光学系が固定され、前記第１方向の一方側に開口するフレームと、
前記反射ミラーを支持して前記反射ミラーの角度の調整が可能な座面と、を備え、
前記反射ミラーは、ビームを前記フレームの前記ベース壁から前記開口に向かう方向に反射し、
フレームは、前記反射ミラーの、前記座面と厚み方向に重なる部分を前記ベース壁の前記開口と反対側に露出させる形状を有することを特徴とする走査光学装置。 a light source emitting a beam;
a polygon mirror that deflects the beam emitted from the light source;
a motor for rotating the polygon mirror about a rotation axis extending in a first direction;
It has a first scanning lens into which the beam deflected by the polygon mirror is incident, a second scanning lens that emits the beam toward the image plane, and a reflecting mirror that reflects the beam toward the second scanning lens. a scanning optical system;
A frame having a base wall to which the motor is fixed and a side wall that protrudes from the base wall to one side in the first direction and surrounds the base wall, wherein the scanning optical system is fixed and the first scanning optical system is fixed. a frame open to one side in the direction;
a seat surface that supports the reflecting mirror and is capable of adjusting the angle of the reflecting mirror;
the reflective mirror reflects a beam from the base wall of the frame toward the opening;
The scanning optical device according to claim 1, wherein the frame has a shape that exposes a portion of the reflecting mirror that overlaps with the seating surface in a thickness direction to a side of the base wall opposite to the opening. 前記ベース壁は、前記反射ミラーの反射面を前記開口側に露出させる孔を有することを特徴とする請求項１に記載の走査光学装置。 2. A scanning optical apparatus according to claim 1, wherein said base wall has a hole for exposing the reflecting surface of said reflecting mirror to said opening side. 前記反射ミラーは、前記第２走査レンズと前記第１方向から見て重なることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の走査光学装置。 3. A scanning optical apparatus according to claim 1, wherein said reflecting mirror overlaps said second scanning lens when viewed from said first direction. 前記反射ミラーは、光硬化樹脂によって、前記座面に対する前記反射ミラーの向きが固定されていることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の走査光学装置。 4. The scanning optical apparatus according to claim 1, wherein the reflecting mirror is fixed in orientation with respect to the seating surface by a photocurable resin. 前記座面は、前記反射ミラーに向けて突出し、前記反射ミラーと接触して前記反射ミラーの向きを調整する際の支点となる突起を有することを特徴とする請求項４に記載の走査光学装置。 5. The scanning optical device according to claim 4, wherein the seat surface has a protrusion that protrudes toward the reflecting mirror and is in contact with the reflecting mirror to serve as a fulcrum for adjusting the orientation of the reflecting mirror. . 前記反射ミラーを前記座面に向けて押圧するバネをさらに備え、
前記バネは、前記光硬化樹脂を硬化させる光が透過可能な開口部を有することを特徴とする請求項４または請求項５に記載の走査光学装置。 further comprising a spring that presses the reflecting mirror toward the seating surface;
6. A scanning optical device according to claim 4, wherein said spring has an opening through which light for curing said photocurable resin can pass. 前記フレームに取り付けられ、前記座面を有する支持部材をさらに有することを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の走査光学装置。 7. A scanning optical apparatus according to claim 1, further comprising a support member attached to said frame and having said seating surface.
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