JP2023140178A - 調光フィルム、および調光フィルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】調光品質が高い調光フィルムを提供すること。【解決手段】調光フィルムは、第１透明支持層と、第２透明支持層と、前記第１透明支持層に支持された第１透明電極層と、前記第２透明支持層に支持された第２透明電極層と、前記第１透明電極層と前記第２透明電極層との間に設けられた高分子分散型液晶層と、を有し、前記第１透明電極層は、第１絶縁領域と、前記第１絶縁領域を介して相互に絶縁された複数の第１電極領域と、を含み、前記第２透明電極層は、第２絶縁領域と、前記第２絶縁領域を介して相互に絶縁された複数の第２電極領域と、を含み、前記第１絶縁領域および前記第２絶縁領域それぞれの幅の長さは、前記高分子分散型液晶層の厚みの長さよりも長い。【選択図】図１

Description

本発明は、調光フィルム、および調光フィルムの製造方法に関する。

従来、一対の透明電極層の間に設けられた高分子分散型液晶層を有する調光フィルムが知られている。このような調光フィルムは、調光フィルムへの入射光に対する光透過特性や光散乱特性等の光学特性を駆動電圧に応じて変化させることにより調光する。

調光フィルムとして、透明電極層を部分的に除去することにより一対の透明電極層の少なくとも一方に絶縁部を設け、透明電極層を複数の領域に分離した構成が開示されている（例えば、特許文献１、２参照）。

特開２０１８－６０１２８号公報 国際公開第２０１９／２４４８７１号

調光フィルムには、高い調光品質が求められる。

本発明は、調光品質が高い調光フィルムを提供することを目的とする。

本発明の一態様に係る調光フィルムは、第１透明支持層と、第２透明支持層と、前記第１透明支持層に支持された第１透明電極層と、前記第２透明支持層に支持された第２透明電極層と、前記第１透明電極層と前記第２透明電極層との間に設けられた高分子分散型液晶層と、を有し、前記第１透明電極層は、第１絶縁領域と、前記第１絶縁領域を介して相互に絶縁された複数の第１電極領域と、を含み、前記第２透明電極層は、第２絶縁領域と、前記第２絶縁領域を介して相互に絶縁された複数の第２電極領域と、を含み、前記第１絶縁領域および前記第２絶縁領域それぞれの幅の長さは、前記高分子分散型液晶層の厚みの長さよりも長い。

本発明によれば、調光品質が高い調光フィルムを提供できる。

実施形態に係る高分子分散型液晶装置の全体構成を例示する平面図である。 図１のIＡ－IＡ切断線に沿う断面図である。 図１のIＢ－IＢ切断線に沿う断面図である。 実施形態に係る調光フィルムの製造方法を例示するフローチャートである。 実施形態に係る調光フィルムの絶縁領域の形成方法を例示する図である。 実施形態に係る調光フィルムにおける電界の作用の一例を示す図である。 実施形態に係る調光フィルムにおける電界の作用の他の例を示す図である。 実施例および比較例における調光領域を説明する図である。 実施例２および比較例１に係る絶縁領域を例示する拡大図である。 実施例４および比較例２に係る絶縁領域を例示する拡大図である。 実施例に係る調光フィルムの作製プロセスを例示する第１断面図である。 実施例に係る調光フィルムの作製プロセスを例示する第２断面図である。 実施例に係る調光フィルムの作製プロセスを例示する第３断面図である。 図１１の状態を平面視した平面図である。 実施例に係るガラス積層した調光フィルムの作製プロセスを例示する第１断面図である。 実施例に係るガラス積層した調光フィルムの作製プロセスを例示する第２断面図である。 図１４の状態を平面視した平面図である。 図１の調光フィルムにガラス積層した構成を例示する平面図である。 図１６のXVIA－XVIA断面図である。 図１６のXVIB－XVIB断面図である。

以下、図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。なお、各図面において、同一の構成部には同一符号を付し、重複した説明を適宜省略する。また以下に示す実施形態は、本発明の技術思想を具体化するための調光フィルムおよび調光フィルムの製造方法を例示するものであって、本発明を以下に示す実施形態に限定するものではない。以下に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置等は、特定的な記載がない限り、本発明の範囲をそれのみに限定する趣旨ではなく、例示することを意図したものである。また図面が示す部材の大きさや位置関係等は、説明を明確にするため、誇張している場合がある。

以下に示す図においてＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸により方向を示す場合があるが、Ｘ軸に沿うＸ方向は、平面視における調光フィルム面内での所定方向を示し、Ｙ軸に沿うＹ方向は、調光フィルム面内においてＸ方向に略直交する方向を示す。Ｚ軸に沿うＺ方向は、調光フィルムの法線方向を示す。Ｘ方向において矢印が向いている方向を＋Ｘ方向、＋Ｘ方向の反対方向を－Ｘ方向と表記し、Ｙ方向において矢印が向いている方向を＋Ｙ方向、＋Ｙ方向の反対方向を－Ｙ方向と表記する。またＺ方向において矢印が向いている方向を＋Ｚ方向、＋Ｚ方向の反対方向を－Ｚ方向と表記する。実施形態の用語における平面視とは、調光フィルムを法線方向から視ることをいう。但し、これらのことは、調光フィルムの使用時における向きを制限するものではなく、調光フィルムの向きは任意である。

以下、実施形態に係る調光フィルム１０を有する高分子分散型液晶装置１を一例として説明する。

＜高分子分散型液晶装置１の構成＞
（全体構成）
図１は、高分子分散型液晶装置１の全体構成を例示する平面図である。

高分子分散型液晶装置１は、平面視形状が略矩形であるフィルム状の装置である。図１に示すように、高分子分散型液晶装置１は、調光フィルム１０と、駆動回路２０と、バッテリ３０と、を有する。

高分子分散型液晶装置１は、調光フィルム１０を駆動させることにより、調光フィルム１０への入射光が調光フィルム１０を透過する状態と、調光フィルム１０への入射光が調光フィルム１０により散乱する状態と、を切り替えることができる。高分子分散型液晶装置１は、窓やパーティション等に取り付けられることにより、窓やパーティションに対するブラインドシャッター、あるいは窓やパーティションに所望のパターンを表示させるディスプレイ等として機能する。

調光フィルム１０は、平面視形状が略矩形であるフィルム状の部材である。調光フィルム１０は、高分子中に液晶分子を分散させた高分子分散型液晶層を含む。調光フィルム１０は、高分子分散型液晶を挟んで設けられた電極層に駆動回路２０から駆動電圧が印加されることにより、光を透過させる状態と、光を散乱させる状態と、を切り替える。

例えば駆動回路２０から駆動電圧が印加されると、高分子分散型液晶層に含まれている液晶分子は、駆動電圧に応じた電界方向に沿って規則的に並ぶ。この状態では、液晶分子の屈折率と高分子の屈折率とが略一致し、調光フィルム１０への入射光は、調光フィルム１０をＺ方向に透過する。その結果、高分子分散型液晶装置１のユーザ（以下、単にユーザという）は、Ｚ方向における調光フィルム１０の一方の側から他方の側を視認可能となる。

一方、調光フィルム１０は、駆動回路２０から駆動電圧が印加されていない状態では、高分子分散型液晶層に含まれている液晶分子の配列が不規則になる。この状態では、液晶分子と高分子の屈折率差によって調光フィルム１０に入射する光が散乱し、調光フィルム１０は白色化する。その結果、ユーザは、Ｚ方向における調光フィルム１０の一方の側から他方の側を視認できなくなる。

本実施形態では特に、調光フィルム１０は、調光領域１０ａと、調光領域１０ｂと、調光領域１０ｃと、調光領域１０ｄと、を含む。調光領域１０ａ、１０ｂ、１０ｃおよび１０ｄは、絶縁領域１１を介して分離されることにより絶縁されており、互いに独立して駆動可能である。図１の例では、絶縁領域１１は、平面視において星形状のパターンに形成（パターニング）されている。調光領域１０ａ、１０ｂおよび１０ｃは、絶縁領域１１により縁取られた星形状の領域であり、調光領域１０ｄは、絶縁領域１１を挟んで調光領域１０ａ、１０ｂおよび１０ｃそれぞれの外側に位置する領域である。

端子４０および５０は、調光フィルム１０と、外部と、を電気的に接続するための部材である。端子４０および５０は、例えば銅箔テープを含んで構成される。但し、これに限定されず、ねじ等の金属部材やはんだ等の合金を含む突起部等を含んで構成されてもよい。なお、端子４０は、端子４０ａ、４０ｂ、４０ｃおよび４０ｄを特に区別しない場合の総称表記である。

例えば、調光フィルム１０は、調光領域１０ａ、１０ｂ、１０ｃおよび１０ｄのうち、調光領域１０ａのみに駆動電圧が印加されると、調光フィルム１０への入射光を、調光領域１０ａでは透過させ、調光領域１０ｂ、１０ｃおよび１０ｄでは散乱させる。その結果、ユーザは、調光領域１０ａのみにおいて、Ｚ方向における調光フィルム１０の一方の側から他方の側を視認可能となる。

また調光フィルム１０は、調光領域１０ａ、１０ｂ、１０ｃおよび１０ｄに印加される駆動電圧の切り替えにより、調光フィルム１０への入射光を透過または散乱させる領域を時系列に切り替えることができる。例えば調光フィルム１０は、調光領域１０ａ、１０ｂおよび１０ｃの順に駆動電圧が印加されることにより、調光領域１０ａ、１０ｂおよび１０ｃの各位置に星形のパターンが移動しているかのような動的なパターンをユーザに視認させることができる。動的なパターンとは、パターンの位置または形状の少なくとも一方が時系列に変化するパターンをいう。

絶縁領域１１のパターンは、星形のパターンに限定されず、用途やユーザの嗜好等に応じて任意に変更可能である。換言すると、調光フィルム１０は、絶縁領域１１のパターンに応じた意匠性を任意に付与できる。例えば絶縁領域１１により桜の花びらのパターンを形成しておき、調光フィルム１０への入射光を透過または散乱させる領域を時系列に切り替えることにより、調光フィルム１０は、桜の花びらが舞い降りる動的なパターンをユーザに視認させることができる。なお、図１に示す調光領域の個数および配置等は一例であり、用途やユーザの嗜好等に応じて適宜変更可能である。

図１において、バッテリ３０は、駆動回路２０へ直流電力を供給する。バッテリ３０としては、アルカリ乾電池やマンガン乾電池等の各種一次電池、リチウムイオン二次電池やリチウムポリマー二次電池等の各種の二次電池を使用できる。また、ＡＣアダプタにより交流電力を直流電力に変換し、駆動回路２０へ直流電力を供給する。

駆動回路２０は、調光フィルム１０に駆動電圧を印加することにより、調光フィルム１０を駆動させる。具体的には、駆動回路２０は、バッテリ３０から供給された直流電力に応じた直流電圧を調光フィルム１０に印加することにより、調光フィルムを駆動させる。あるいは、駆動回路２０は、バッテリ３０から供給された直流電力に基づいて生成した交流電圧を調光フィルム１０に印加することにより、調光フィルム１０を駆動させる。また駆動回路２０は、充電ケーブルが接続される充電端子を有しており、充電ケーブルから充電端子を介して供給された電力を用いてバッテリ３０を充電できる。

高分子分散型液晶装置１は、スイッチを備え、スイッチがオンに切り替わることにより、調光フィルム１０へ駆動電圧が印加される。このスイッチは、ユーザ操作によって手動的に切り替え動作を行うものであってもよく、リモコン、スマートフォン等を用いた外部からの制御により切り替え動作を行うものであってもよく、フォトセンサ等の各種センサによる検出結果に応じて、自動的に切り替え動作を行うものであってもよい。また、スイッチは、単に駆動電圧の印加をオンおよびオフに切り替えることができるものに限らず、駆動電圧または駆動電流を調整することにより、調光フィルム１０による光の透過率を調整可能なものであってもよい。

（調光フィルム１０の構成）
図２Ａは、図１のI－I切断線に沿う断面図である。図２Ａに示すように、調光フィルム１０は、薄板状の複数の構成部が積層された積層構造を有する。具体的には、調光フィルム１０は、＋Ｚ方向側から－Ｚ方向側に、第１透明支持層１２と、第１透明電極層１３と、高分子分散型液晶層１４と、第２透明電極層１５と、第２透明支持層１６と、をこの順に有し、これらが積層された積層構造を有する。

第１透明支持層１２および第２透明支持層１６は、それぞれ略矩形の平面視形状を有する透明なフィルム状部材である。なお、実施形態の用語における透明は、少なくとも可視光に対して６０％以上の透過率を有することを意味する。第１透明支持層１２は、調光フィルム１０の最も＋Ｚ方向側に設けられ、第２透明支持層１６は、調光フィルム１０の最も－Ｚ方向側に設けられる。第１透明支持層１２と第２透明支持層１６とは向き合って配置される。

第１透明支持層１２および第２透明支持層１６の材料には、ガラス基板やシリコン基板、あるいは、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリサルホン、シクロオレフィンポリマー、トリアセチルセルロース等からなる高分子フィルムが用いられる。

第１透明支持層１２および第２透明支持層１６はフィルム状の部材に限らず板状の部材等であってもよい。また第１透明支持層１２および第２透明支持層１６の平面視形状は、略矩形に限定されず、略円形、略楕円形または略多角形等であってもよい。

樹脂材料を含むフィルム状部材として調光フィルム１０を構成すると、調光フィルム１０をロール状に巻いたり、折り曲げたりすることができるため、調光フィルム１０の生産性や使い勝手の観点ではより好適である。

第１透明電極層１３および第２透明電極層１５は、導電性を有する透明且つ薄膜状の部材である。第１透明電極層１３は第１透明支持層１２に支持されており、第２透明電極層１５は第１透明支持層１２に支持されている。第１透明電極層１３および第２透明電極層１５には、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、酸化スズ、酸化亜鉛、カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）、ポリ（３，４-エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）を含むポリマー、Ａｇ合金薄膜を含む多層膜等を適用できる。

第１透明電極層１３は、第１絶縁領域１１１と絶縁領域６１、第１電極領域１３ａ、１３ｂ、１３ｃおよび１３ｄと、を含む。第１電極領域１３ａ、１３ｂ、１３ｃおよび１３ｄは、第１絶縁領域１１１と絶縁領域６１を介して相互に絶縁されている。

第２透明電極層１５は、第２絶縁領域１１２と、第２電極領域１５ａ、１５ｂ、１５ｃおよび１５ｄと、を含む。第２電極領域１５ａ、１５ｂ、１５ｃおよび１５ｄは、導通している。

なお、図２Ａでは、第１電極領域１３ａ、１３ｂ、１３ｃおよび１３ｄのうち、第１電極領域１３ａおよび１３ｄのみを表示しているが、第１電極領域１３ａ、１３ｂ、１３ｃおよび１３ｄのそれぞれは、配置される位置のみが異なり、同じ機能を有する。このため、図２Ａにおける第１電極領域１３ａおよび１３ｄを、第１電極領域１３ｂまたは１３ｃに置き換えてもよい。

同様に図２Ａでは、第２電極領域１５ａ、１５ｂ、１５ｃおよび１５ｄのうち、第２電極領域１５ａおよび１５ｄのみを表示しているが、第２電極領域１５ａ、１５ｂ、１５ｃおよび１５ｄのそれぞれは、配置される位置のみが異なり、同じ機能を有する。このため、図２Ａにおける第２電極領域１５ａおよび１５ｄを、第２電極領域１５ｂまたは１５ｃに置き換えてもよい。

第１電極領域１３ａ、１３ｂ、１３ｃおよび１３ｄはレーザ加工による第１絶縁領域１１１と物理的切断による絶縁領域６１を介して分離されることにより絶縁されている。

第２透明電極層１５は、レーザ加工による第２絶縁領域１１２のみであるため、第２透明電極層１５は導通している。

調光領域１０ａは、駆動回路２０から第１電極領域１３ａおよび第２透明電極層１５を介して駆動電圧が印加される。第１電極領域１３ａは、駆動回路２０から端子４０ａを通じて駆動電圧が印加され、第２透明電極層１５は、端子５０を通じて駆動電圧が印加される。

調光領域１０ｂは、駆動回路２０から第１電極領域１３ｂおよび第２透明電極層１５を介して駆動電圧が印加される。第１電極領域１３ｂは、駆動回路２０から端子４０ｂを通じて駆動電圧が印加され、第２透明電極層１５は、端子５０を通じて駆動電圧が印加される。

調光領域１０ｃは、駆動回路２０から第１電極領域１３ｃおよび第２透明電極層１５を介して駆動電圧が印加される。第１電極領域１３ｃは、駆動回路２０から端子４０ｃを通じて駆動電圧が印加され、第２透明電極層１５は、端子５０を通じて駆動電圧が印加される。

調光領域１０ｄは、駆動回路２０から第１電極領域１３ｄ第２透明電極層１５を介して駆動電圧が印加される。第１電極領域１３ｄは、駆動回路２０から端子４０ｃを通じて駆動電圧が印加され、第２透明電極層１５は、端子５０を通じて駆動電圧が印加される。

第１絶縁領域１１１は、第１透明電極層１３の一部をレーザ加工により除去することによって形成される。第２絶縁領域１１２は、第２透明電極層１５の一部をレーザ加工により除去することによって形成される。第１絶縁領域１１１と第２絶縁領域１１２は、平面視において重なっており、両者で絶縁領域１１を構成する。絶縁領域６１は、第１透明支持層１２と第１透明電極層１３を切断することにより形成される。切断手法はカッターやはさみ、ＣＯ２レーザ等が挙げられる。

第１電極領域１３ａと第２電極領域１５ａは、平面視において重なっており、両者で調光領域１０ａを構成する。第１電極領域１３ｂと第２電極領域１５ｂは、平面視において重なっており、両者で調光領域１０ｂを構成する。第１電極領域１３ｃと第２電極領域１５ｃは、平面視において重なっており、両者で調光領域１０ｃを構成する。第１電極領域１３ｄと第２電極領域１５ｄは、平面視において重なっており、両者で調光領域１０ｄを構成する。換言すると、第１電極領域１３ａ、１３ｂ、１３ｃおよび１３ｄは、平面視において第２電極領域１５ａ、１５ｂ、１５ｃおよび１５ｄと対をなして重なっており、それぞれで調光領域１０ａ、１０ｂ、１０ｃおよび１０ｄを構成する。

第１電極領域１３ａ、１３ｂ、１３ｃおよび１３ｄは、複数の第１電極領域の一例である。第２電極領域１５ａ、１５ｂ、１５ｃおよび１５ｄは、複数の第２電極領域の一例である。なお、複数の第１電極領域の個数、配置および形状等は、複数の調光領域に合わせて適宜変更可能である。同様に複数の第２電極領域の個数、配置および形状等は、複数の調光領域に合わせて適宜変更可能である。

高分子分散型液晶層１４は、第１透明電極層１３と第２透明電極層１５との間に設けられる。高分子分散型液晶層１４は、第１透明電極層１３と第２透明電極層１５との間に高分子分散型液晶を充填することにより形成できる。高分子分散型液晶層１４は、第１透明電極層１３および第２透明電極層１５から駆動電圧が印加されていない状態では、液晶分子の配列が不規則となり、光を散乱させる。一方、高分子分散型液晶層１４は、第１透明電極層１３および第２透明電極層１５から駆動電圧が印加されている状態では、液晶分子の配列が規則的となり、光を透過させる。

図２Ａにおいて、幅ｗ１は第１絶縁領域１１１の幅を表し、幅ｗ２は第２絶縁領域１１２の幅を表す。換言すると、幅ｗ１は、第１電極領域１３ａ、１３ｂ、１３ｃおよび１３ｄのうち、隣接する第１電極領域同士の間の距離である。幅ｗ２は、第２電極領域１５ａ、１５ｂ、１５ｃおよび１５ｄのうち、隣接する第２電極領域同士の間の距離である。

厚みｔ０は、高分子分散型液晶層１４の厚みを表す。換言すると、厚みｔ０は、第１透明電極層１３の法線方向に沿った第１透明電極層１３から第２透明電極層１５までの間の距離である。

本実施形態では、幅ｗ１および幅ｗ２それぞれの長さは、厚みｔ０の長さよりも長い。また幅ｗ１と幅ｗ２とは異なっており、幅ｗ２は幅ｗ１よりも広い。

（端子４０の構成）
図２Ｂは、図１のIB－IB切断線に沿う断面図であり、調光フィルム１０が有する端子４０の構成を例示するものである。

図２Ｂに示すように、端子４０は、第１透明支持層１２に支持された第１透明電極層１３に第１導電性粘着部材４１を介して接着されることにより、第１電極領域１３ａ、１３ｂ、１３ｃおよび１３ｄに設けられる。図４の例では、Ｚ方向において端子４０に向き合う第２透明電極層１５および第２透明支持層１６は除去されており、第１電極領域１３ａ、１３ｂ、１３ｃおよび１３ｄ（図２Ａ参照）に端子４０を設ける工程が行いやすくなっている。

＜調光フィルム１０の製造方法＞
（全体フロー）
次に、調光フィルム１０の製造方法について説明する。図３は、調光フィルム１０の製造方法を例示するフローチャートである。

図３に示すように、調光フィルム１０の製造方法では、まずステップＳ３１において、第１透明支持層１２に第１透明電極層１３を形成する。例えば、フィルム蒸着法、真空蒸着法またはスパッタリング法等を用いて成膜することにより、第１透明支持層１２に第１透明電極層１３を形成でき、第１透明支持層１２は第１透明電極層１３を支持できる。なお、第１絶縁領域１１１は、この時点ではまだ第１透明電極層１３に形成されない。

続いて、ステップＳ３２において、第２透明支持層１６に第２透明電極層１５を形成する。ステップＳ３１と同様に、フィルム蒸着法、真空蒸着法またはスパッタリング法等を用いて成膜することにより、第２透明支持層１６に第２透明電極層１５を形成でき、第２透明支持層１６は第２透明電極層１５を支持できる。なお、第２絶縁領域１１２は、この時点ではまだ第２透明電極層１５に形成されない。

続いて、ステップＳ３３において、第１透明電極層１３と第２透明電極層１５との間に高分子分散型液晶層１４を形成する。例えば、モノマーと架橋剤、液晶、溶媒等を混合した塗工液を、第１透明支持層１２を有する第１透明電極層１３上に塗工し、乾燥する。高分子分散型液晶層１４を塗工により形成後、第２透明支持層１６を有する第２透明電極層１５を貼り合わせることで、第１透明電極層１３と第２透明電極層１５との間に高分子分散型液晶層１４を形成する。

続いて、ステップＳ３４において、第１透明支持層１２側（＋Ｚ方向側）からレーザ光としてのレーザビームを照射し、レーザ加工法によって第１透明電極層１３に第１絶縁領域１１１を形成する。レーザ光源には、例えばファイバーレーザを使用できる。

第１絶縁領域１１１を形成する際には、ガルバノミラー等を用いてＸ方向またはＹ方向の少なくとも一方にレーザビームを走査させることにより、所望のパターンを有する第１絶縁領域１１１を第１透明電極層１３に形成できる。但し、レーザビームの走査に代えて、Ｘ方向またはＹ方向の少なくとも一方に調光フィルム１０を移動させることにより所望のパターンを有する第１絶縁領域１１１を形成してもよい。或いは、レーザビームの走査と調光フィルム１０の移動とを組み合わせて所望のパターンを有する第１絶縁領域１１１を形成してもよい。

続いて、ステップＳ３５において、第１透明支持層１２側からレーザビームを照射し、レーザ加工法によって第２透明電極層１５に第２絶縁領域１１２を形成する。

第２絶縁領域１１２を形成する際には、第１絶縁領域１１１を形成する場合と同様に、ガルバノミラー等を用いてＸ方向またはＹ方向の少なくとも一方にレーザビームを走査させることにより、所望のパターンを有する第２絶縁領域１１２を第２透明電極層１５に形成できる。但し、レーザビームの走査に代えて、Ｘ方向またはＹ方向の少なくとも一方に調光フィルム１０を移動させることにより、所望のパターンを有する第２絶縁領域１１２を形成してもよい。或いは、レーザビームの走査と調光フィルム１０の移動とを組み合わせて所望のパターンを有する第２絶縁領域１１２を形成してもよい。絶縁領域６１は、第１透明支持層１２と第１透明電極層１３を切断することにより形成される。切断手法はカッターやはさみ、ＣＯ２レーザ等が挙げられる。

このようにして、調光フィルム１０を製造できる。

製造効率を向上させ、また第１絶縁領域１１１と第２絶縁領域１１２との位置合わせを正確に行う観点では、ステップＳ３４およびステップＳ３５は、一度のレーザビームの照射により並行して行われることが好ましい。レンズ等を用いて集光するレーザビームを第１透明電極層１３または第２透明電極層１５に照射してもよい。

また、長尺のフィルム状部材である調光フィルム１０に対し、ロールツーロール方式の製造方法を適用することもできる。

具体的には、ステップＳ３１において、長尺のフィルム状部材である第１透明支持層１２に第１透明電極層１３を形成する。続いて、ステップＳ３２において、長尺のフィルム状部材である第２透明支持層１６に第２透明電極層１５を形成する。

続いて、第１透明支持層１２を有する第１透明電極層１３上に高分子分散型液晶層１４を塗工により形成後、第２透明支持層１６を有する第２透明電極層１５を貼り合わせることで、第１透明電極層１３と第２透明電極層１５との間に高分子分散型液晶層１４を形成する。第１透明支持層１２と第２透明支持層１６とが貼り合わされた状態である長尺のフィルム状部材をロール状に巻取る。長尺のフィルム状部材は、ロール状に巻き取られた状態において運搬および保管等が可能になる。

続いて、ロール状の状態から巻き出された長尺のフィルム状部材に対し、レーザビームを照射することにより、第１絶縁領域１１１および第２絶縁領域１１２を形成する。続いて、第１絶縁領域１１１および第２絶縁領域１１２を形成後の長尺のフィルム状部材を再度ロール状に巻き取る。その後、ロール状に巻かれたフィルム状部材から所定の領域を切り出す。

このようにしてロールツーロール方式により調光フィルム１０を製造できる。ロールツーロール方式を適用することにより、部材の搬送に伴う手間および搬送装置を削減できるため、より効率的に調光フィルム１０を製造可能になる。

（絶縁領域の形成方法）
図４は、調光フィルム１０に対する第１絶縁領域１１１および第２絶縁領域１１２の形成方法の一例を示す図である。図４に示すように、第１透明支持層１２の＋Ｚ方向側には、レーザ光源２００が設けられている。レーザ光源２００は、第１透明支持層１２、第１透明電極層１３、高分子分散型液晶層１４、第２透明電極層１５および第２透明支持層１６が積層されたフィルム状部材にレーザビーム２１０を照射する。

レーザ光源２００から照射されたレーザビーム２１０は、第１透明支持層１２を透過した後、第１透明電極層１３に到達し、レーザビーム２１０が到達した領域における第１透明電極層１３を融解または蒸発させて除去する。これにより、第１透明電極層１３上に所望のパターンを有する第１絶縁領域１１１を形成できる。

また、レーザ光源２００から照射されたレーザビーム２１０は、第１透明電極層１３が除去された第１絶縁領域１１１を通って－Ｚ方向側にさらに伝搬し、高分子分散型液晶層１４を透過した後、第２透明電極層１５に到達する。高分子分散型液晶層１４に含まれる液晶分子は不規則に配列しているため、レーザビーム２１０は散乱され、高分子分散型液晶層１４への入射時と比較してビーム径が太くなった状態で第２透明電極層１５に到達する。

第２透明電極層１５に到達したレーザビーム２１０は、レーザビーム２１０が到達した領域における第２透明電極層１５を融解または蒸発させて除去する。これにより、第２透明電極層１５上に所望のパターンを有する第２絶縁領域１１２を形成できる。

第２透明電極層１５に到達するレーザビーム２１０のビーム径は、第１透明電極層１３に到達するレーザビーム２１０のビーム径と比較して太くなっているため、第２絶縁領域１１２の幅ｗ２は、第１絶縁領域１１１の幅ｗ１よりも広くなる。

＜絶縁領域１１の作用＞
調光フィルム１０における絶縁領域１１の作用について、第１絶縁領域１１１の幅ｗ１、第２絶縁領域１１２の幅ｗ２および高分子分散型液晶層１４の厚みｔ０等の具体例を挙げて説明する。

図５Ａは、調光フィルム１０における絶縁領域１１の作用を説明する図である。図５Ａにおいて、第１透明支持層１２および第２透明支持層１６はそれぞれＰＥＴを含んで構成されている。第１透明電極層１３の厚みｔ１および第２透明電極層１５の厚みｔ２はそれぞれ２３［ｎｍ］である。高分子分散型液晶層１４の厚みｔ０は２３［μｍ］である。

第１電極領域１３ｄおよび第２電極領域１５ｄは、調光領域１０ｄを構成している。第１電極領域１３ａおよび第２電極領域１５ａは、調光領域１０ａを構成している。第１絶縁領域１１１および第２絶縁領域１１２は、絶縁領域１１を構成している。

第１透明電極層１３に駆動電圧７０［Ｖ］が印加され、第２透明電極層１５がグランド（ＧＮＤ）に接続されると、調光領域１０ｄの近傍では、図５Ａに矢印で示した電気力線Ｅ１、Ｅ２およびＥ３を含む電界が形成される。

電気力線Ｅ１は、第１透明電極層１３への駆動電圧の印加に伴い、調光領域１０ｄにおいて発生する電気力線である。電気力線Ｅ２およびＥ３は、第１透明電極層１３への駆動電圧の印加に伴い、絶縁領域１１において発生する電気力線である。電気力線Ｅ３は、電気力線Ｅ２よりもＸ方向に沿って調光領域１０ｄから離れた位置での電気力線である。電界強度は、Ｘ方向に沿って調光領域１０ｄから離れるほど小さくなるため、電気力線Ｅ３の位置での電界強度は、電気力線Ｅ２の位置での電界強度よりも小さい。

ここで、図５Ｂは、調光フィルム１０における絶縁領域１１の作用の他の例を示す図である。図５Ｂでは、第１絶縁領域１１１の幅ｗ１と第２絶縁領域１１２の幅ｗ２とが略同じ長さに形成され、かつ第１絶縁領域１１１の幅ｗ１と第２絶縁領域１１２の幅ｗ２のそれぞれの長さは、高分子分散型液晶層１４の厚みｔ０の長さよりも短くなっている。例えば、第１絶縁領域１１１の幅ｗ１および第２絶縁領域１１２の幅ｗ２をそれぞれ２０［μｍ］である。

この場合には、調光領域１０ｄにおいて形成される電界強度は、調光領域１０ａの位置において小さくならない。その結果、絶縁領域１１を挟んで隣接する調光領域１０ｄと調光領域１０ａとの間において電界のクロストークが生じる。換言すると、絶縁領域１１による絶縁作用が不十分になり、調光領域１０ｄの電界が調光領域１０ａに対して影響する。例えば調光領域１０ｄを透明にし、調光領域１０ａを白色化させるように駆動した場合に、調光領域１０ａと調光領域１０ｄ両方が透明または半透明になる。これにより、調光フィルムの調光品質が低下する。

一方、例えば、第１絶縁領域１１１の幅ｗ１および第２絶縁領域１１２の幅ｗ２をそれぞれ３０［μｍ］とし、高分子分散型液晶層１４の厚みｔ０の長さよりも長くすると、調光領域１０ｄにおいて形成される電界強度は、調光領域１０ａの位置において小さくなる。その結果、調光領域１０ｄと調光領域１０ａとの間において電界のクロストークは抑制される。換言すると、絶縁領域１１による絶縁作用が良好になり、調光領域１０ｄの電界による調光領域１０ａへの影響は抑制される。その結果、調光領域１０ｄおよび調光領域１０ａは、独立して駆動可能になり、調光フィルムの調光品質が高く確保される。

＜実施例、比較例＞
以下、より具体的な実施例および比較例について説明するが、本発明は、これらの例に何ら限定されない。

実施例および比較例では、高分子分散型液晶層１４の厚みｔ０、第１絶縁領域の幅ｗ１および第２絶縁領域の幅ｗ２をそれぞれ変化させながら、歩留まりＫと、独立駆動状況Ｊ１、Ｊ２およびＪ３と、を評価した。

独立駆動状況Ｊ１は、２２５個の調光領域のうち、絶縁領域１１による絶縁作用が良好であり、完全に独立駆動できた調光領域の数を表す。具体的には、独立駆動状況Ｊ１は、隣接する調光領域の一方に駆動電圧を印加し、他方に駆動電圧を印加しなかった場合に、他方側において白色化できた調光領域の数に該当する。

独立駆動状況Ｊ２は、２２５個の調光領域うち、絶縁領域１１による絶縁作用が不十分であり、隣接する調光領域の電界の影響を受けた調光領域の数を表す。具体的には、独立駆動状況Ｊ２は、隣接する調光領域の一方に駆動電圧を印加し、他方に駆動電圧を印加しなかった場合に、他方側において半透明になる等して十分に白色化できなかった調光領域の数に該当する。

独立駆動状況Ｊ３は、２２５個の調光領域うち、絶縁領域１１による絶縁作用が不十分であり、独立駆動できなかった調光領域の数を表す。具体的には、独立駆動状況Ｊ３は、隣接する調光領域の一方に駆動電圧を印加し、他方に駆動電圧を印加しなかった場合に、他方側において透明になった調光領域の数に該当する。

図６は、実施例および比較例における調光領域を説明する図である。長さＬｘは、調光フィルム１０全体のＸ方向における長さを表す。長さＬｙは、調光フィルム１０全体のＹ方向における長さを表す。長さＭｘは、調光フィルム１０内において調光領域が形成される領域のＸ方向における長さを表す。長さＭｙは、調光フィルム１０内において調光領域が形成される領域のＹ方向における長さを表す。ピッチＰｘは、Ｘ方向において調光領域が形成される周期を表す。ピッチＰｙは、Ｙ方向において調光領域が形成される周期を表す。長さＮｘは、２２５個の調光領域それぞれのＸ方向における長さを表す。長さＮｙは、２２５個の調光領域それぞれのＹ方向における長さを表す。

実施例および比較例では、長さＬｘおよびＬｙを共に３４０［ｍｍ］とし、長さＭｘおよびＭｙを共に３００［ｍｍ］とし、ピッチＰｘおよびＰｙを共に２０［ｍｍ］とし、長さＮｘおよびＮｙを共に１０［ｍｍ］とした。２２５個の調光領域それぞれの周囲には、絶縁領域１１を形成した。

表１は、実施例１、実施例２および比較例１における厚みｔ０、幅ｗ１、幅ｗ２、歩留まりＫ、独立駆動状況Ｊ１、独立駆動状況Ｊ２および独立駆動状況Ｊ３を示す。表２は、実施例３、実施例４および比較例２における厚みｔ０、幅ｗ１、幅ｗ２、歩留まりＫ、独立駆動状況Ｊ１、独立駆動状況Ｊ２および独立駆動状況Ｊ３を示す。

表１および表２において、実施例１から実施例４では、第１絶縁領域１１１の幅ｗ１および第２絶縁領域１１２の幅ｗ２の長さを、高分子分散型液晶層１４の厚みｔ０の長さよりも長くした。比較例１および比較例２では、第１絶縁領域１１１の幅ｗ１および第２絶縁領域１１２の幅ｗ２の長さを、高分子分散型液晶層１４の厚みｔ０の長さよりも短くした。

図７は、実施例２および比較例１に係る絶縁領域を例示する拡大図であり、光学顕微鏡により拡大撮影した第１絶縁領域１１１および第２絶縁領域１１２の写真である。

表１および表２に示すように、実施例１から実施例４では、歩留まりＫは１００［％］となり、２２５個の全ての調光領域を独立駆動できた。具体的には、独立駆動状況Ｊ１の調光領域が２２５個、独立駆動状況Ｊ２の調光領域が０個、独立駆動状況Ｊ１の調光領域が０個となった。

一方、比較例１では、歩留まりＫは７７［％］となり、２２５個のうちの５１個の調光領域において独立駆動できなかった。具体的には、独立駆動状況Ｊ１の調光領域が１７４個、独立駆動状況Ｊ２の調光領域が２８個、独立駆動状況Ｊ１の調光領域が２３個となった。比較例２では、歩留まりＫは６２［％］となり、２２５個のうちの６６個の調光領域において独立駆動できなかった。具体的には、独立駆動状況Ｊ１の調光領域が１３９個、独立駆動状況Ｊ２の調光領域が４２個、独立駆動状況Ｊ１の調光領域が４４個となった。

表１および表２より、幅ｗ１および幅ｗ２それぞれの長さが厚みｔ０の長さよりも長いと、歩留まりＫを高くすると共に、独立駆動状況Ｊ２およびＪ３となる調光領域の数を抑えることができ、調光品質が高い調光フィルム１０を提供できることが分かった。また調光品質が高い調光フィルム１０を提供するためには、幅ｗ１および幅ｗ２の少なくとも一方が１．２×ｔ０以上であるとより好ましく、幅ｗ１および幅ｗ２のそれぞれが１．２×ｔ０以上であるとさらに好ましく、幅ｗ１および幅ｗ２のそれぞれが２０［μｍ］以上であると特に好ましいことが分かった。

以下、より具体的な条件について説明する。

（レーザ加工条件）
レーザ加工装置（レーザ描画装置）は、ファイバーレーザと、ガルバノミラーと、移動ステージと、を有する。レーザ加工装置は、ファイバーレーザから発せられたレーザビームをガルバノミラーにより２次元走査するとともに、移動ステージにより調光フィルム１０を移動させることにより、調光フィルム１０にパターンを描画する。

ファイバーレーザは、ＹＡＧの基本波(波長１０６４［ｎｍ］)であるパルス状のレーザビームを発するレーザ光源である。

ガルバノミラーは、２軸周りに揺動可能であり、入射してくる光を２方向に走査する揺動ミラーである。例えばガルバノミラーは、図１におけるＸ軸周りおよびＹ軸周りの２軸周りに揺動し、ファイバーレーザから入射してくるレーザビームを、Ｘ方向およびＹ方向の２方向に走査する。本実施例では、ガルバノミラーにより３００［ｍｍ］×３００［ｍｍ］の領域（エリア）へのパターン描画が可能である。

移動ステージは、調光フィルム１０を載置し、載置した調光フィルム１０を２方向に移動させる移動機構である。例えば移動ステージは、調光フィルム１０をＸ方向およびＹ方向の２方向に移動させる。本実施例では、移動ステージは、ガルバノミラーによる走査領域の４倍の領域、つまり６００［ｍｍ］×６００［ｍｍ］の領域に描画可能に調光フィルム１０を移動させる。

レーザ加工装置は、レーザビームの出力（レーザパワー）、パルス状のレーザビームの発振周波数、描画速度および描画回数をレーザ加工条件（パラメータ）として入力し、レーザ加工条件に応じて調光フィルム１０にパターンを描画できる。

レーザ加工条件を検討した結果、以下の加工条件が最適であった。なお、描画回数は、１［回］から３［回］において検討を行った。
レーザ出力：６［Ｗ］から１５［Ｗ］
レーザビームの発振周波数：３００［ｋＨｚ］から６００［ｋＨｚ］
描画速度：２０００［ｍｍ／ｓｅｃ］から３０００［ｍｍ／ｓｅｃ］

（調光フィルム１０へのガラス積層）
調光フィルム１０へガラス基板を積層することもできる。本実施例では、－Ｘ方向、＋Ｘ方向、－Ｙ方向および＋Ｙ方向の各方向に、調光フィルム１０よりも１０［ｍｍ］大きいガラス基板を積層した。

図９から図１２は、調光フィルム１０の作製プロセスを例示する図である。図９は第１断面図、図１０は第２断面図、図１１は第３断面図であり、図９から図１１へ作製プロセスが進む。図１２は図１１の状態を平面視した平面図である。

図９に示すように、＋Ｚ方向側から－Ｚ方向側に向けて、第１透明支持層１２、第１透明電極層１３、高分子分散型液晶層１４、第２透明電極層１５および第２透明支持層１６をこの順により積層した。本実施例では、第１透明支持層１２および第２透明支持層１６それぞれの厚みは、５０［μｍ］とした。第１透明電極層１３および第２透明電極層１５それぞれの厚みは、２３［ｎｍ］とした。

その後、図１０に示すように、第１透明支持層１２、第１透明電極層１３、第２透明電極層１５および第２透明支持層１６のそれぞれの一部を除去した後、図１１に示すように銅箔テープ１７を設けた。

図９から図１１の作製プロセスを経て、図１２に示すように、調光フィルム１０を作製した。本実施例では、平面視における調光フィルム１０の大きさは、例えば９０［ｍｍ］×９０［ｍｍ］とした。端子４０は、銅箔テープ１７、第１透明電極層１３および第２透明電極層１５を含んで構成した。

図１３から図１５は、ガラス積層した調光フィルム１０の作製プロセスを例示する図である。図１３は第１断面図、図１４は第２断面図であり、図１３から図１４へ作製プロセスが進む。図１５は図１４の状態を平面視した平面図である。

図１３に示すように、＋Ｚ方向側から－Ｚ方向側に向けて、ガラス基板１８、中間層１９、調光フィルム１０、中間層１９およびガラス基板１８をこの順により積層した。その後、真空ラミネータにより真空に引いた状態において、加熱および加圧（熱プレス）することにより、図１４に示すように、ガラス基板１８によるサンドイッチ構造の調光フィルム１０を得た。

本実施例では、中間層１９には、厚みが４００［μｍ］であるエチレン酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）（東ソー・ニッケミ株式会社、商品名：メルセンＧ)を使用した。＋Ｚ方向側および－Ｚ方向側に配置されるガラス基板１８の厚みは、それぞれ１［ｍｍ］とした。

図１５に示すように、本実施例では、平面視における調光フィルム１０の大きさは、９０［ｍｍ］×９０［ｍｍ］とし、平面視におけるガラス基板１８の大きさは１００［ｍｍ］×１００［ｍｍ］とした。

端子４０において、第１透明電極層１３および第２透明電極層１５と、第１透明電極層１３および第２透明電極層１５のそれぞれに接触する銅箔テープ１７の一部は、平面視におけるガラス基板１８の内側に配置されるようにした。また、第１透明電極層１３および第２透明電極層１５のそれぞれに接触しない銅箔テープ１７の他の一部は、平面視におけるガラス基板１８の外側に配置されるようにした。この配置により、調光フィルム１０内に水分が侵入できなくなるため、調光フィルム１０の劣化を抑制できる。

図１６から図１８は、図１に示した調光フィルム１０をガラス基板１８によりサンドイッチした構成を例示する図である。図１６は平面図、図１７は図１６のXVIA－XVIA断面図、図１８は図１６のXVIB－XVIB断面図である。

（真空ラミネータによるラミネート条件）
真空ラミネータによるラミネート条件を表３に示す。

（高分子分散型液晶層１４の適用例）
高分子分散型液晶層１４は、高分子ネットワーク型液晶（ＰＮＬＣ：Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｎｅｔｗｏｒｋ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、高分子分散型液晶（ＰＤＬＣ：Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｄｉｓｐｅｒｓｅｄ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、カプセル型ネマティック液晶(ＮＣＡＰ：Ｎｅｍａｔｉｃ Ｃｕｒｖｉｌｉｎｅａｒ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｐｈａｓｅ)等を含んで構成できる。

例えば、高分子ネットワーク型液晶は、３次元の網目状を有した高分子ネットワークを有し、高分子ネットワークが有する空隙に液晶分子を保持する。液晶分子は、例えば、誘電率異方性が正であって、液晶分子の長軸方向の誘電率が液晶分子の短軸方向の誘電率よりも大きい。液晶分子は、例えば、シッフ塩基系、アゾ系、アゾキシ系、ビフェニル系、ターフェニル系、安息香酸エステル系、トラン系、ピリミジン系、シクロヘキサンカルボン酸エステル系、フェニルシクロヘキサン系、ジオキサン系の液晶分子である。なお、所定の色を有する色素であって、調光フィルム１０に印加された電圧の大きさに応じた液晶分子の運動を妨げない色素を含んでもよい。こうした構成により、所定の色を有する調光フィルム１０を実現できる。

＜調光フィルム１０の効果＞
以上説明したように、調光フィルム１０は、第１透明支持層１２と、第２透明支持層１６と、第１透明支持層１２に支持された第１透明電極層１３と、第２透明支持層１６に支持された第２透明電極層１５と、第１透明電極層１３と第２透明電極層１５との間に設けられた高分子分散型液晶層１４と、を有する。第１透明電極層１３は、第１絶縁領域１１１と、第１絶縁領域１１１を介して相互に絶縁された第１電極領域１３ａ、１３ｂ、１３ｃおよび１３ｄ（複数の第１電極領域）と、を含む。第２透明電極層１５は、第２絶縁領域１１２と、第２絶縁領域１１２を介して相互に絶縁された第２電極領域１５ａ、１５ｂ、１５ｃおよび１５ｄ（複数の第２電極領域）と、を含む。第１絶縁領域１１１の幅ｗ１および第２絶縁領域１１２の幅ｗ２それぞれの長さは、高分子分散型液晶層１４の厚みｔ０の長さよりも長い。この構成により、絶縁領域１１による絶縁作用が良好に得られるため、隣接する調光領域間における電界のクロストークを抑制できる。その結果、調光フィルム１０の歩留まりを高くすると共に、絶縁領域１１による絶縁作用が不十分な調光領域の数を抑制でき、調光品質が高い調光フィルム１０を提供できる。

また本実施形態では、調光フィルム１０の製造方法は、第１透明支持層１２に第１透明電極層１３を形成する工程と、第２透明支持層１６に第２透明電極層１５を形成する工程と、第１透明電極層１３と第２透明電極層１５との間に高分子分散型液晶層１４を設ける工程と、を含む。また調光フィルム１０の製造方法は、第１透明支持層１２側から照射されたレーザビーム２１０（レーザ光）により、第１透明電極層１３を第１電極領域１３ａ、１３ｂ、１３ｃおよび１３ｄに分離する第１絶縁領域１１１を第１透明電極層１３に形成する工程と、第１透明支持層１２側から照射されたレーザビーム２１０により、第２透明電極層１５を第２電極領域１５ａ、１５ｂ、１５ｃおよび１５ｄに分離する第２絶縁領域１１２を第２透明電極層１５に形成する工程と、を含む。第１絶縁領域１１１および第２絶縁領域１１２それぞれは、第１透明支持層１２側から照射されたレーザビーム２１０により形成され、第２絶縁領域１１２の幅ｗ２は、第１絶縁領域１１１の幅ｗ１よりも広い。

ここで、第１透明支持層により支持された第１透明電極層に第１絶縁領域を形成し、第２透明支持層により支持された第２透明電極層に第２絶縁領域を形成し、その後、第１透明支持層と第２透明支持層を貼り合わせた後、高分子分散型液晶層を充填すると、第１絶縁領域と第２絶縁領域の位置合わせ等が困難になったり、時間がかかったりする。その結果、調光フィルムの生産性が低下するうえ、調光フィルムの製造コストが増大する。

本実施形態では、第１透明支持層１２、第１透明電極層１３、高分子分散型液晶層１４、第２透明電極層１５および第２透明支持層１６が積層された後、第１絶縁領域１１１および第２絶縁領域１１２を形成して二次元パターン等の意匠性を付与する。これにより、第１絶縁領域１１１と第２絶縁領域１１２の位置合わせ工程等を省略できるため、調光フィルム１０の生産性を高くすると共に、調光フィルム１０の製造コストを低減できる。

また本実施形態では、第１絶縁領域１１１および第２絶縁領域１１２を形成するために除去された第１透明電極層１３および第２透明電極層１５は、調光フィルム１０の内部から外部に漏れ出ない。そのため、毒性を有する特化物であるインジウム等が飛散することを防ぎ、より清浄な環境において調光フィルム１０を製造することができる。

また本実施形態では、ロールツーロール方式により調光フィルム１０を製造できるため、部材の搬送に伴う手間および搬送装置を削減し、効率的に調光フィルム１０を製造することができる。

以上、本発明の実施形態について詳述したが、本発明はこれらの実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形又は変更が可能である。

１ 高分子分散型液晶装置
１０ 調光フィルム
１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１０ｄ 調光領域
１１ 絶縁領域
１１１ 第１絶縁領域
１１２ 第２絶縁領域
１２ 第１透明支持層
１３ 第１透明電極層
１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄ 第１電極領域（複数の第１電極領域）
１４ 高分子分散型液晶層
１５ 第２透明電極層
１５ａ、１５ｂ、１５ｃ、１５ｄ 第２電極領域（複数の第２電極領域）
１６ 第２透明支持層
１７ 銅箔テープ
１８ ガラス基板
１９ 中間層
２０ 駆動回路
３０ バッテリ
４０、５０ 端子
２００ レーザ光源
２１０ レーザビーム（レーザ光）
Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３ 電気力線
Ｋ 歩留まり
Ｊ１、Ｊ２、Ｊ３ 独立駆動状況
ｔ０ 高分子分散型液晶層の厚み
ｔ１ 第１透明電極層の厚み
ｔ２ 第２透明電極層の厚み
ｗ１ 第１絶縁領域の幅
ｗ２ 第２絶縁領域の幅

Claims (6)

1. 第１透明支持層と、
   第２透明支持層と、
   前記第１透明支持層に支持された第１透明電極層と、
   前記第２透明支持層に支持された第２透明電極層と、
   前記第１透明電極層と前記第２透明電極層との間に設けられた高分子分散型液晶層と、を有し、
   前記第１透明電極層は、第１絶縁領域と、前記第１絶縁領域を介して相互に絶縁された複数の第１電極領域と、を含み、
   前記第２透明電極層は、第２絶縁領域と、前記第２絶縁領域を介して相互に絶縁された複数の第２電極領域と、を含み、
   前記第１絶縁領域および前記第２絶縁領域それぞれの幅の長さは、前記高分子分散型液晶層の厚みの長さよりも長い調光フィルム。
2. 前記高分子分散型液晶層の厚みをｔ０とすると、
   前記第１絶縁領域および前記第２絶縁領域の少なくとも一方の幅は、１．２×ｔ０以上である請求項１に記載の調光フィルム。
3. 前記高分子分散型液晶層の厚みをｔ０とすると、
   前記第１絶縁領域および前記第２絶縁領域それぞれの幅は、１．２×ｔ０以上である請求項１または請求項２に記載の調光フィルム。
4. 前記第１絶縁領域および前記第２絶縁領域それぞれの幅は、２０[μｍ]以上である請求項１から請求項３の何れか１項に記載の調光フィルム。
5. 前記第１絶縁領域および前記第２絶縁領域それぞれは、前記第１透明支持層側から照射されたレーザ光により形成され、
   前記第２絶縁領域の幅は、前記第１絶縁領域の幅よりも広い請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の調光フィルム。
6. 第１透明支持層に第１透明電極層を形成する工程と、
   第２透明支持層に第２透明電極層を形成する工程と、
   前記第１透明電極層と前記第２透明電極層との間に高分子分散型液晶層を設ける工程と、
   前記第１透明支持層側から照射されたレーザ光により、前記第１透明電極層を複数の第１電極領域に分離する第１絶縁領域を前記第１透明電極層に形成する工程と、
   前記第１透明支持層側から照射されたレーザ光により、前記第２透明電極層を複数の第２電極領域に分離する第２絶縁領域を前記第２透明電極層に形成する工程と、を含む調光フィルムの製造方法。

Images