JP2023135175A - 真空容器の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】ガスポケットの形成を抑制する切削加工の条件を開示することによって、切削加工後の研磨工程を省略または削減する技術を提供する。【解決手段】アルミ製の内周壁を周回して切削する切削加工によって真空容器を製造する方法であって、前記切削加工の刃先である単結晶ダイヤモンドの曲率半径Ｒは０．５ｍｍ～３ｍｍとし、前記刃先の周回方向の切り込み量Ｚを０．００５ｍｍ以下に浅くし、前記切削加工の周回当たりの前記刃先の送り速度は（前記曲率半径Ｒ×０．０６）ｍｍ／ｒｅｖ以下に遅くし、前記切削加工の送り方向に向かって傾斜角０．２°～５°の範囲で前記刃先の周回径を傾斜させることを特徴とする。【選択図】図３

Description

本発明は、真空容器の製造方法に関し、特にアルミ製の内周壁の切削加工によって真空容器を製造する方法に関する。

従来、真空容器の内部において低周波または高周波のプラズマを用いてエッチングを実施する加工技術が知られている。
例えば、特許文献１には、「真空槽（真空容器）内に発生させた低周波プラズマを用いて、大面積試料に対して均一な異方性エッチングを行う」旨の加工技術が開示される。

また、特許文献２には、この種の真空容器の製造方法として、「ステンレス鋼製の真空容器の内周壁に対して、砥粒による研磨処理を行った後に、電解研磨処理もしくは化学研磨処理をさらに繰り返すことによって、真空容器の内周壁の表面を研磨処理する」旨が開示される。

さらに、アルミ製（純アルミやアルミ合金など）の真空容器については、次の手順で内周壁を加工する製造方法が知られている。

（１）第１工程 切削工程（切削後の内周壁の粗さ：Ｒａ１．６～０．８μｍ）
（２）第２工程 バフ研磨（研磨後の内周壁の粗さ：Ｒａ１．０～０．２μｍ）
（３）第３工程 電解研磨（研磨後の内周壁の粗さ：Ｒａ０．４～０．０２５μｍ）

図８は、上記の手順（１）～（３）で製造される従来のアルミ製の真空容器８００を示す図である。図８において、従来の真空容器８００の内側は円筒または多角筒などの筒状の内周壁８１０を有し、その内周壁８１０は上下の面に対して垂直な筒面形状に切削加工（第１工程）され、その後に研磨処理（第２工程および第３工程）が施される。

特開平０６－０４９６６６号公報 特開平０３－１８０５００号公報

一般に、研磨処理を完了しない真空容器の内周壁には、微細な溝や窪みなどの凹凸がガスポケットとして残存する。これらのガスポケットに吸着されたガスは十分に取り除くことが難しい。そのため、未研磨の真空容器を真空に引いた場合には、ガスポケットが多いほどプラズマエッチングに必要な真空度に達するまでに時間がかかるという問題点があった。

また、ガスポケットからはプラズマエッチングの処理中もガスが持続的または突発的に放出されうる。このガスの放出によって真空環境を損ない、プラズマエッチングにおける試料の作業歩留まりを下げるという問題点があった。

さらに、プラズマを用いたドライエッチング処理では、プラズマがガスポケットの凹凸に衝突しやすく、真空容器の内周壁にエッチングダメージや汚染が生じやすい。そのため、真空容器を洗浄や再研磨するなどのメンテナンスがたびたび必要になり、プラズマエッチングの作業性が悪くなるという問題点があった。

一方、このようなガスポケットを削減するためには、真空容器の内周壁に対して、砥粒による研磨や、バフ研磨や、電解研磨や、電解複合研磨などの複数段階の研磨工程が欠かせなかった。そのため、真空容器の製造に当たっては、研磨工程に必要な加工装置や、工程数や、作業時間が増え、真空容器の製造コストが高くなるという問題点があった。

さらに、研磨作業では、アルミ製などの柔らかい内周壁に対して、硬い研磨剤の埋め込み（残留物）が発生する。この残留物が抜けた痕（埋め込み痕）が新たなガスポケットになるという問題点もあった。

そこで、本発明は、上述した問題点の少なくとも一つを解決するために、ガスポケットの形成を抑制する切削加工の条件を開示することによって、切削加工後の研磨工程を省略または削減する技術を提供することを目的とする。

上記課題を解決するために、本発明の代表的な製造方法は、アルミ製の内周壁を周回して切削する切削加工によって真空容器を製造する方法であって、次の切削工程を有することを特徴とする。
前記切削加工の刃先である単結晶ダイヤモンドの曲率半径Ｒは０．５ｍｍ～３ｍｍとする。
前記刃先の周回方向の切り込み量Ｚは０．００５ｍｍ以下に浅くする。
前記切削加工の周回当たりの前記刃先の送り速度は（前記曲率半径Ｒ×０．０６）ｍｍ／ｒｅｖ以下に遅くする。
前記切削加工の送り方向に向かって傾斜角０．２°～５°の範囲で前記刃先の周回径を傾斜させる。

本発明が開示する切削加工の条件によって、真空容器の内周壁に形成されるガスポケットが抑制される。その結果、切削加工後の研磨工程を省略または削減することが可能になる。

なお、上記していない具体的な課題、構成および効果の詳細については、後述する発明の実施形態においてさらに説明される。

図１は、真空容器１００の形状を説明する断面図である。 図２［Ａ］は、真空容器１００の斜視図である。図２［Ｂ］は、真空容器１００の分解斜視図である。 図３は、内周壁１１１および内周壁１２１の切削加工を説明する説明図である。 図４は、実施例１における切削加工後の算術平均粗さＲａの測定結果を示す図である。 図５は、実施例２における第１の実験の測定データ（切り込み量Ｚと切削粗さの関係）を示す図表である。 図６は、実施例２における第２の実験の測定データ（送り速度と切削粗さの関係）を示す図表である。 図７［Ａ］は、真空容器５００の斜視図である。図７［Ｂ］は、真空容器５００の分解斜視図である。 図８は、従来の手順で製造されるアルミ製の真空容器８００を示す図である。

以下、図面を参照して、本発明の実施例を説明する。

《真空容器１００の形状について》
まず、実施例１において製造される真空容器１００の形状について説明する。
図１は、真空容器１００の形状を説明する断面図である。
図２の［Ａ］は、真空容器１００の斜視図である。図２の［Ｂ］は、真空容器１００の分解斜視図である。

これらの図において、真空容器１００は、上部電極２１０を上面に覆い置き可能にしたアルミ製の上部反応器１１０と、下部電極２２０を内部に設置可能にしたアルミ製の下部反応器１２０とを接合して構成される。

上部反応器１１０は、上に狭まる部分的な錐面状に面取りされた内周壁１１１を備える。この内周壁１１１の母線は、垂直方向に対して０．２°～５°の範囲の傾斜角Ａを有する。

下部反応器１２０は、下に狭まる部分的な錐面状に面取りされた内周壁１２１を備える。この内周壁１２１の母線は、垂直方向に対して０．２°～５°の範囲の傾斜角Ｂを有する。

《内周壁１１１および内周壁１２１の切削加工について》
図３は、内周壁１１１および内周壁１２１の切削加工を説明する説明図である。
ここでは、重複説明を省くため、内周壁１１１および内周壁１２１それぞれの切削加工をまとめて説明する。
同図において、刃先３１０は単結晶ダイヤモンドから構成される。この刃先３１０は、土台となる工具チップ３２０にロー付けされる。

工具チップ３２０の刃先３１０を内周壁１１１，１２１に押し当てた状態で、数値制御旋盤（ＮＣ旋盤）やマシンニングセンタ（ＭＣ）などによって反応器１１０，１２０を旋回駆動することによって、内周壁１１１，１２１を周回方向Ｘに切削加工する。

なお、工具チップ３２０の刃先３１０を内周壁１１１，１２１に押し当てた状態で、数値制御旋盤（ＮＣ旋盤）やマシニングセンタ（ＭＣ）などによって刃先３１０を旋回駆動することによって、内周壁１１１，１２１を周回方向Ｘに切削加工してもよい。

さらに、刃先３１０の付近には、噴霧ノズル３３０が配置される。
このような切削加工は、次のステップを備えて実施される。

ステップＳ００１：単結晶ダイヤモンドの刃先３１０の曲率半径Ｒは０．５ｍｍ～３ｍｍにする。

ステップＳ００２：刃先３１０の周回方向Ｘの切り込み量Ｚは０．００５ｍｍ以下に浅くする。

ステップＳ００３：切削加工の周回当たりの刃先３１０の送り速度は、曲率半径Ｒに応じて（Ｒ×０．０６）ｍｍ／ｒｅｖを上限にする。例えば、曲率半径Ｒ＝０．５ｍｍの場合、送り速度は０．０３ｍｍ／ｒｅｖを上限にする。曲率半径Ｒ＝１ｍｍの場合、送り速度は０．０６ｍｍ／ｒｅｖを上限にする。曲率半径Ｒ＝２ｍｍの場合、送り速度は０．１２ｍｍ／ｒｅｖを上限にする。

ここで、曲率半径Ｒが大きいほど、内周壁１１１，１２１に切り込みながら当たる刃先３１０の接触面積（図３参照）は広くなる。この接触面積が広いほど、かつ刃先３１０の送り速度が遅いほど、内周壁１１１，１２１に生じる凹凸を切削直後に平滑する整地作用が強く発揮される。上述した送り速度の上限を（Ｒ×０．０６）ｍｍ／ｒｅｖにする条件は、整地作用によって鏡面化（許容される粗さの経過値）を実現にするように真空容器１００の試作を繰り返して確かめた結果である。

ステップＳ００４：内周壁１１１を切削加工する場合、刃先３１０の送り方向Ｙは、内周壁１１１の下端（上部反応器１１０の下端開口の高さ）から出発し、内周壁１１１の上端（上部反応器１１０の上面裏側の高さ）に至る。一方、内周壁１２１を切削加工する場合、刃先３１０の送り方向Ｙは、内周壁１２１の上端（下部反応器１２０の上端開口の高さ）から出発し、内周壁１２１の下端（上部反応器１１０の内底の高さ）に至る。

ステップＳ００５：切削加工の送り方向Ｙに向かって角度０．２°～５°で刃先３１０の周回径を狭めることによって、内周壁１１１，１２１の傾斜角Ａ，Ｂを０．２°～５°にする。

ステップＳ００６：切削加工に際し、噴霧ノズル３３０から工業用ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）を刃先３１０の切削領域に供給する。

ステップＳ００７：切削面に対する最終の面仕上げの切り込み量Ｚはそれ以前の切り込み量Ｚよりも浅くして少なくとも２面行う。最終仕上げの送り速度は、例えば０．０８～０．０３ｍｍ／ｒｅｖ以下に制限して、接触面積の送り位相は各面ごとにずらす。例えば、最終仕上げを２面仕上げで行う場合は、接触面積の送り位相は各面ごとに１／２位相だけずらす。また例えば、最終仕上げをＮ面仕上げ（Ｎ≧２）で行う場合は、接触面積の送り位相は各面ごとに１／Ｎ位相ずつずらす。

ここで、最終仕上げの切り込み量Ｚを浅く変更することによって、最終仕上げで内周壁１１１，１２１の周回方向Ｘに生じる切削溝が浅くなる。この状態で送り位相をずらすことによって、内周壁１１１，１２１の周回方向Ｘに最終的に残存する切削溝の位相がずれて打ち消し合うことによって、切削溝を浅くすることができる。上述したステップＳ００７の条件は、位相ずらしによって鏡面化（許容される粗さ）が得られるように真空容器１００の試作を繰り返して確かめた結果である。

《実施例１の効果》
以下、上述した実施例１が奏する効果について説明する。

（効果１）図４は、上述した切削加工後の算術平均粗さＲａの測定結果を示す図である。
ここでは、無作為にサンプルした切削面の３箇所について算術平均粗さＲａを測定している。ここでのアルミ材質はＡ７０７５（一般的に非常に硬いアルミ材質）を使用している。
この測定結果によれば、切削加工後において、内周壁１１１，１２１の粗さは、Ｒａ０．０３６～０．０６９μｍ程度に収まり、鏡面化が実現する。
この内周壁１１１，１２１の粗さは、上述した従来の真空容器８００（図８参照）における最終的な研磨処理後の粗さ（上述したＲａ０．４～０．０２５μｍ）に匹敵する。
したがって、本実施例１の切削加工のみによって、従来の研磨処理と同等程度まで内周壁１１１，１２１の粗さ（ガスポケット）を抑制することが可能になる。その結果、切削加工後の研磨工程を省略または削減することが可能になる。

（効果２）本実施例１の切削加工の条件によって内周壁１１１，１２１の粗さ（ガスポケット）が削減された分だけ、内周壁１１１，１２１に吸着されるガス量が少なくなる。その結果、本実施例１により製造される真空容器１００は、プラズマエッチングに必要な真空度に達するまでの時間を短縮できるという点で優れている。

（効果３）本実施例１の切削加工の条件によって内周壁１１１，１２１の粗さ（ガスポケット）が削減された分だけ、プラズマエッチングの処理中に持続的または突発的に放出されうるガス量も少なくなる。その結果、本実施例１により製造される真空容器１００は、真空環境を精度良く維持して、プラズマエッチングの試料の作業歩留まりを高めることができるという点で優れている。

（効果４）本実施例１の切削加工の条件によって内周壁１１１，１２１の粗さ（ガスポケット）が削減された分だけ、プラズマがガスポケットに衝突して生じるエッチングダメージや汚染が低減される。その結果、本実施例１により製造される真空容器１００は、洗浄や研磨するなどのメンテナンスの回数を減らせるという点で優れている。

（効果５）本実施例１の切削加工の条件によって内周壁１１１，１２１の粗さ（ガスポケット）が削減された分だけ、切削加工後の研磨工程を省略または削減できる。その結果、本実施例１は、真空容器１００の製造にかかる加工装置や工程数や作業時間を削減できるという点で優れている。その結果、真空容器１００の製造コストは低くなる。

（効果６）本実施例１では、切削加工後の研磨工程を省略または削減した分だけ、研磨作業においてアルミ製の内周壁１１１，１２１に残留する硬い研磨剤の埋め込みを回避または削減できる。その結果、本実施例１は、残留物の埋め込み痕が新たなガスポケットを形成するという問題を回避または改善できるという点で優れている。

（効果７）本実施例１では、噴霧ノズル３３０を用いて工業用ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）を刃先３１０の切削領域に供給する。したがって、本実施例１は、噴霧ノズル３３０によって、切削領域からキリコ（内周壁１１１，１２１を荒らす要因）を素早く除去する効果と、刃先３１０の温度上昇を抑える効果と、内周壁１１１，１２１に付着または埋め込まれる残留物を洗い流して真空容器１００の清浄度を上げる効果という三点において優れている。

（効果８）本実施例１では、上部反応器１１０の内周壁１１１と、下部反応器１２０の内周壁１２１とを逆向きに傾斜させることによって、真空容器１００を上下方向それぞれにすぼめる。その結果、プラズマエッチングの試料（半導体ウェハなど）を載置する中央付近については広い断面積のままで、真空容器１００の内容積を全体的に削減することが可能になる。したがって、本実施例１で製造される真空容器１００は、内容積を上下方向にすぼめることによって、試料を載置する中央付近を広く確保しつつ、内容積の全体的な削減分だけ目的の真空度に早く到達できるという点において優れている。

（効果９）以上説明した点から、本実施例１によって、プラズマを用いるエッチング装置において求められる「高真空性」および「高能率性」を低コストで両立した真空容器１００を製造することが可能になる。

続いて、実施例２について説明する。なお、特に断らない部分については、実施例１と同様の製造方法が実施される。

まず、実施例２では、具体的な要求仕様を以下のように定める。
真空下のエッチング処理時に求められる真空容器１００のガスポケットの許容量（要求仕様）に基づいて、内周壁１１１，１２１の切削粗さの許容上限（鏡面として許容される面粗さ）を、算術平均粗さＲａの値として例えば０．１μｍに定める。

その上で、この切削粗さの要求仕様を十分かつ安定に達成しうるための製造条件を次の２つの実験（第１の実験、第２の実験）から決定する。

《第１の実験》
第１の実験では、次のステップＳ１０１～１０７の統一条件の下で行う。

ステップＳ１０１：単結晶ダイヤモンドの刃先３１０の曲率半径Ｒは０．５ｍｍとする。

ステップＳ１０２：切削加工の周回当たりの刃先３１０の送り速度は、曲率半径Ｒに応じて（Ｒ×０．０６）ｍｍ／ｒｅｖに相当する０．０３ｍｍ／ｒｅｖとする。

ステップＳ１０３：切削加工の周回速度は、１分間当たり４００回転とする。この周回速度は、被切削物や刃先３１０や切削装置などの周辺条件に合わせて、切削加工時に共振振動を回避ないし抑制可能な回転数の範囲に設定する。この共振振動の抑制によって、内周壁１１１，１２１の鏡面化がより確実に実現される。

ステップＳ１０４：内周壁１１１を切削加工する場合、刃先３１０の送り方向Ｙは、内周壁１１１の下端（上部反応器１１０の下端開口の高さ）から出発し、内周壁１１１の上端（上部反応器１１０の上面裏側の高さ）に至る。一方、内周壁１２１を切削加工する場合、刃先３１０の送り方向Ｙは、内周壁１２１の上端（下部反応器１２０の上端開口の高さ）から出発し、内周壁１２１の下端（上部反応器１１０の内底の高さ）に至る。

ステップＳ１０５：切削加工の送り方向Ｙに向かって角度１．５°で刃先３１０の周回径を狭めることによって、内周壁１１１，１２１の傾斜角Ａ，Ｂを１．５°にする。

ステップＳ１０６：切削加工に際し、噴霧ノズル３３０から工業用ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）を刃先３１０の切削領域に供給する。

ステップＳ１０７：切削面に対する最終の面仕上げの切り込み量Ｚはそれ以前の切り込み量Ｚよりも浅くして少なくとも２面行い、接触面積の送り位相は各面ごとにずらす。例えば、最終仕上げを２面仕上げで行う場合は、接触面積の送り位相は各面ごとに１／２位相だけずらす。また例えば、最終仕上げをＮ面仕上げ（Ｎ≧２）で行う場合は、接触面積の送り位相は各面ごとに１／Ｎ位相ずつずらす。

第１の実験では、以上のステップＳ１０１～１０７の統一条件の下で、切り込み量Ｚを０．００５ｍｍから増やして、切削加工後の内周壁１１１，１２１の切削粗さに与える影響を測定する。

図５は、このように測定された測定データ（切り込み量Ｚと切削粗さの関係）の図表である。ここでのアルミ材質はＡ５０５２（標準的な柔らかさのアルミ材質）を使用している。

この図５に示す実験結果では、内周壁１１１，１２１の切削粗さは０．１３８μｍを下回らず、切削粗さの許容上限である０．１μｍを十分かつ安定に達成できなかった。

さらに、図５に示す実験結果からは、切り込み量Ｚが０．００５ｍｍを上回ると、切削粗さが急激に悪化し始め、かつ切削粗さの値が大きく戻るなど変動して安定しないことが分かった。

以上の結果から、切り込み量Ｚは０．００５ｍｍ以下に浅くすることが安定性（つまり再現性）の点から好ましいと分かった。

《第２の実験》
上述した第１の実験結果に基づいて、第２の実験では、切削粗さの変動を抑えるため、切り込み量Ｚを０．００５ｍｍに設定する。

さらに、第２の実験では、上述したステップＳ１０１，１０３～１０７の統一条件の下で、送り速度を０．０３ｍｍ／ｒｅｖ付近で増減変化させて、内周壁１１１，１２１の切削粗さに与える影響を測定する。

図６は、このように測定された測定データ（送り速度と切削粗さの関係）を示す図表である。ここでのアルミ材質はＡ５０５２（標準的な柔らかさのアルミ材質）を使用している。
この図６に示す実験結果では、送り速度と切削粗さの関係は概ね二次曲線で近似される安定した関係（再現性の高い関係）を示す。さらに、送り速度を０．０１５ｍｍ／ｒｅｖ程度に小さくすることによって、内周壁１１１，１２１の切削粗さは０．０８８μｍになり、切削粗さの許容上限とした０．１μｍを達成する。

《実験のまとめ》
上述した２つの実験に基づいて、エッチング加工時に求められる内周壁１１１，１２１の切削粗さの許容上限（算術平均粗さＲａ０．１μｍ）を十分かつ安定に再現しうる製造条件は次の通りになる。

・切削加工の刃先３１０である単結晶ダイヤモンドの曲率半径Ｒは０．５ｍｍとする。
・刃先３１０の周回方向Ｘの切り込み量Ｚは０．００５ｍｍとする。
・切削加工の周回当たりの刃先３１０の送り速度は０．０１５ｍｍ／ｒｅｖとする。
・上側の内周壁１１１は、切削加工によって上方に向かって１．５°で狭まる傾斜角Ａを形成する。
・下側の内周壁１２１は、切削加工によって下方に向かって１．５°で狭まる傾斜角Ｂを形成する。

《実施例２の効果》
本実施例２は、既に述べた実施例１と同様の効果を奏する。
さらに、本実施例２は、切り込み量Ｚを０．００５ｍｍ未満に浅くせず、かつ送り速度を０．０１５ｍｍ／ｒｅｖ未満に遅くしないため、切削加工の所要時間が過度に長くなるという弊害を回避できる点で優れている。
また、本実施例２は、切削粗さの上限として設定されたＲａ０．１μｍといった困難かつ高度な鏡面化を、Ａ５０５２という比較的柔らかいアルミ材質であっても、高い再現性で達成できるという点で優れている。

《その他の補足事項》
なお、上部反応器１１０内側の上面部分や、下部反応器１２０内側の底部分については、特に限定していないが、刃先３１０などを用いて切削加工のみで製造してもよいし、従来同様に切削加工と研磨加工を併用して製造してもよい。

また、上述した実施形態では、切削加工を施した上部反応器１１０および下部反応器１２０を接合して真空容器１００を製造している。しかしながら、本発明はこれに限定されない。一体からなる真空容器１００に対して、上部電極２１０をかぶせる開口部などから挿入した刃先３１０を内周壁１１１，１２１の面形状に沿わせて切削加工を行うことによって、真空容器１００を製造してもよい。

さらに、上述した実施形態では、内周壁１１１，１２１それぞれを円錐面の一部として形成している。しかしながら、本発明の内周壁の形状は、円錐面の一部に限定されない。
例えば、図７として、本発明の内周壁の別例を示す。
図７の［Ａ］は、真空容器５００の斜視図である。図７の［Ｂ］は、真空容器５００の分解斜視図である。これらの図において、真空容器５００は、切削加工を施したアルミ製の上部反応器５１０と、切削加工を施したアルミ製の下部反応器５２０とを接合して製造される。上部反応器５１０は、閉曲線Ｑａから上に狭まるように面取りされた内周壁５１１を備える。この内周壁５１１の母線は、垂直方向に対して０．２°～５°の範囲の傾斜角Ａを有する。下部反応器５２０は、閉曲線Ｑｂから下に狭まるように面取りされた内周壁５２１を備える。この内周壁５２１の母線は、垂直方向に対して０．２°～５°の範囲の傾斜角Ｂを有する。なお、製造方法としては、数値制御旋盤（ＮＣ旋盤）やマシニングセンタ（ＭＣ）などを用いて、工具チップ３２０の刃先３１０を内周壁５１１，５２１の周回軌道に相対的に沿わせて切削する点を除けば、上記の切削条件と同様の切削条件が適用可能である。

なお、本発明は、上記した実施形態の内容に限定されるものではなく、さらに様々な変形が可能である。

例えば、上記した実施形態は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、本発明は必ずしも説明した全ての構成や工程を備えるものに限定されない。

例えば、本発明で示した数値については、工学的な誤差や公差などが実用的に含まれるものであるため、その範囲内での実質的な値という意味である。

また、実施例１、２、および／または補足事項の各条件を適宜組み合わせてもよい。また、実施形態の一部について、他の構成や工程の追加・削除・置換をすることも可能である。

１００...真空容器、１１０...上部反応器、１１１...内周壁、１２０...下部反応器、１２１...内周壁、２１０...上部電極、２２０...下部電極、３１０...刃先、３２０...工具チップ、３３０...噴霧ノズル、５００...真空容器、５１０...上部反応器、５１１...内周壁、５２０...下部反応器、５２１...内周壁、８００...真空容器、８１０...内周壁、Ａ...傾斜角、Ｂ...傾斜角、Ｑａ...閉曲線、Ｑｂ...閉曲線、Ｘ...周回方向、Ｙ...送り方向、Ｚ...切り込み量

Claims (5)

1. アルミ製の内周壁を周回して切削する切削加工によって真空容器を製造する方法であって、
   前記切削加工の刃先である単結晶ダイヤモンドの曲率半径Ｒは０．５ｍｍ～３ｍｍとし、
   前記刃先の周回方向の切り込み量Ｚを０．００５ｍｍ以下に浅くし、
   前記切削加工の周回当たりの前記刃先の送り速度は（前記曲率半径Ｒ×０．０６）ｍｍ／ｒｅｖ以下に遅くし、
   前記切削加工の送り方向に向かって傾斜角０．２°～５°の範囲で前記刃先の周回径を傾斜させる
   ことを特徴とする真空容器の製造方法。
2. 請求項１に記載の真空容器の製造方法であって、
   工業用ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）を前記単結晶ダイヤモンドの前記刃先の切削領域に供給しながら前記切削加工を行う
   ことを特徴とする真空容器の製造方法。
3. 請求項１～２のいずれか一項に記載の真空容器の製造方法であって、
   前記内周壁の上側は、前記切削加工によって上方に向かって０．２°～５°の範囲で狭まる傾斜角を形成し、
   前記内周壁の下側は、前記切削加工によって下方に向かって０．２°～５°の範囲で狭まる傾斜角を形成する
   ことを特徴とする真空容器の製造方法。
4. 請求項１～３のいずれか一項に記載の真空容器の製造方法であって、
   前記切削加工の最終の面仕上げは少なくとも２面仕上げで行い、かつ前記最終の面仕上げの各面の送り位相はずらす
   ことを特徴とする真空容器の製造方法。
5. 請求項１～４のいずれか一項に記載の真空容器の製造方法であって、
   前記切削加工の前記刃先である前記単結晶ダイヤモンドの曲率半径Ｒは０．５ｍｍとし、
   前記刃先の周回方向の切り込み量Ｚは０．００５ｍｍとし、
   前記切削加工の周回当たりの前記刃先の送り速度は０．０１５ｍｍ／ｒｅｖとし、
   前記内周壁の上側は、前記切削加工によって上方に向かって１．５°で狭まる傾斜角を形成し、
   前記内周壁の下側は、前記切削加工によって下方に向かって１．５°で狭まる傾斜角を形成する
   ことを特徴とする真空容器の製造方法。

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