JP2023130162A - Heater - Google Patents

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佳久 池田
Yoshihisa Ikeda
充彦 齊藤
Mitsuhiko Saito
智則 山口
Tomonori Yamaguchi
浩明 加藤
Hiroaki Kato
飛一郎 上村
Hiiro Kamimura
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Abstract

To prevent occurrence of temperature variations in a heating chamber.SOLUTION: A heater 100 includes: a body 10 that has an internally defined heating chamber and also has a passage port within the heating chamber to allow the passage of a film; and an airflow controller 40 that controls airflow to pass through the passage port. The airflow controller 40 includes a suction part 41 provided in the passage port for gas intake.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、加熱装置に関するものである。 The present invention relates to a heating device.

外部から加熱室内への気体の流入を抑制する装置として、特許文献1には、フィルムが搬入される入口とフィルムが搬出される出口とを有するテンターオーブンにおいて、入口のフィルム走行方向上流側に設けられる箱状体の気流制御装置が開示されている。この気流制御装置は、フィルムへエアを噴き付けるための噴き付けノズルであって、フィルム通過面を挟んで対向する一対の噴き付けノズルと、箱状体の中のエアを排出する排気機構と、を備えている。 As a device for suppressing the inflow of gas into the heating chamber from the outside, Patent Document 1 describes a tenter oven that has an inlet for carrying in a film and an outlet for carrying out the film, and a tenter oven that is provided on the upstream side of the inlet in the film running direction. A box-like airflow control device is disclosed. This airflow control device includes a pair of spray nozzles for spraying air onto the film, which face each other across a film passing surface, and an exhaust mechanism that discharges the air inside the box-shaped body. It is equipped with

国際公開第2017/115654号International Publication No. 2017/115654

特許文献1に記載の気流制御装置では、噴き付けノズルから噴き出されるエアにより形成されるエアカーテンによって、装置外からのエアが遮られて流れの向きを変えることで、テンターオーブンにエアが流れ込むことで発生するオーブン内で温度ムラの防止を図っている。 In the airflow control device described in Patent Document 1, air from outside the device is blocked by an air curtain formed by air jetted from a jetting nozzle, and the direction of the flow is changed, so that air flows into the tenter oven. This is intended to prevent temperature unevenness within the oven that occurs due to this.

このような装置において、テンターオーブン内へのエアの流入をより一層抑制するには、噴き付けノズルを加熱室の入口に対してより近い位置に設ける、噴き付けノズルが噴き付けるエアの流量又は速度を増加させる、といった方法が考えられる。 In such a device, in order to further suppress the inflow of air into the tenter oven, the spray nozzle should be placed closer to the entrance of the heating chamber, and the flow rate or speed of the air sprayed by the spray nozzle should be adjusted. One possible method is to increase the

しかしながら、噴き付けノズルを加熱室の入口に近づけたり、噴き付けるエアの流量又は速度を増加させたりすると、噴き付けノズルによって噴き付けられたエア自体が加熱室内に流入する可能性がある。このため、特許文献1に記載の装置では、噴き付けたエアに起因して加熱室内に温度ムラが生じる可能性があり、加熱室内の温度ムラを抑制するという効果を充分に向上させることが難しかった。 However, if the spray nozzle is brought closer to the entrance of the heating chamber or the flow rate or speed of the sprayed air is increased, the air sprayed by the spray nozzle itself may flow into the heating chamber. Therefore, in the device described in Patent Document 1, temperature unevenness may occur in the heating chamber due to the blown air, and it is difficult to sufficiently improve the effect of suppressing temperature unevenness in the heating chamber. Ta.

本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、加熱室内での温度ムラの発生を充分に抑制可能な加熱装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a heating device that can sufficiently suppress the occurrence of temperature unevenness within a heating chamber.

搬送されるフィルムを加熱する加熱装置であって、内部に加熱室が区画されると共に加熱室に開口してフィルムの通過を許容する通過口が形成される本体部と、通過口を通過する気流を制御する気流制御装置と、を備え、気流制御装置は、通過口に設けられ気体を吸引する吸引部を有する。 A heating device that heats a film being conveyed, the main body having a heating chamber partitioned therein and a passage opening that opens into the heating chamber and allows the film to pass through, and an airflow passing through the passage opening. an airflow control device for controlling the airflow control device, and the airflow control device has a suction section that is provided at the passage port and sucks gas.

これらの態様によれば、通過口を通じて加熱室に対し流入又は流出しようとする気体は、吸引部によって吸引される。これにより、加熱室に対し流入又は流出する気流の発生が抑制され、加熱室における温度ムラの発生が抑制される。また、加熱室に対し流入又は流出する気体の移動を気体の噴き付けではなく吸引によって抑制するため、噴き付けた気体自体が加熱室に流入又は流出して温度ムラが生じるといった事態も防止される。よって、加熱室内での温度ムラの発生を充分に抑制することができる。 According to these aspects, the gas that is about to flow into or out of the heating chamber through the passage port is sucked by the suction section. As a result, the generation of air currents flowing into or out of the heating chamber is suppressed, and the occurrence of temperature unevenness in the heating chamber is suppressed. In addition, since the movement of gas flowing into or out of the heating chamber is suppressed by suction rather than jetting, it is also possible to prevent the situation where the jetted gas itself flows into or out of the heating chamber, causing temperature unevenness. . Therefore, the occurrence of temperature unevenness within the heating chamber can be sufficiently suppressed.

本発明の実施形態に係る延伸装置の全体構成を示す平面図である。1 is a plan view showing the overall configuration of a stretching device according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態に係る加熱装置を示す断面図である。FIG. 1 is a sectional view showing a heating device according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態に係る加熱装置の気流制御機構を示す拡大断面図である。FIG. 3 is an enlarged sectional view showing an airflow control mechanism of a heating device according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態に係る加熱装置の吸引部の構成を示す拡大図であって、(a)は図3のA矢印方向からみた吸引部の図であり、(b)は図3のB矢印方向から見た吸引部の図である。4 is an enlarged view showing the configuration of the suction part of the heating device according to the embodiment of the present invention, in which (a) is a view of the suction part seen from the direction of arrow A in FIG. 3, and (b) is a diagram of the suction part seen from the direction of arrow B in FIG. 3. It is a figure of the suction part seen from the direction.

以下、図面を参照して、本発明の実施形態に係る加熱装置100について説明する。なお、各図面においては、説明の便宜上、各構成の縮尺を適宜変更しており、必ずしも厳密に図示されたものではない。また、複数の同一の構成については、その一部にのみ符号を付し、その他については符号を省略することがある。 Hereinafter, a heating device 100 according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. Note that in each drawing, the scale of each component has been changed as appropriate for convenience of explanation, and is not necessarily exactly illustrated. Further, for a plurality of identical configurations, only some of them may be labeled with reference numerals, and the other components may be omitted.

図1に示すように、加熱装置100は、延伸対象であるフィルムを搬送しながら延伸する延伸装置1に用いられる。なお、図1では、加熱装置100は、破線によって簡略化して図示している。 As shown in FIG. 1, the heating device 100 is used in a stretching device 1 that stretches a film to be stretched while conveying it. In addition, in FIG. 1, the heating device 100 is illustrated in a simplified manner by broken lines.

延伸装置1は、フィルム(図示省略)を入口側(図1中左側)から出口側(図1中右側)に向けて一方向に搬送しながら、その搬送方向に沿った縦方向(以下、「MD方向」とも称する。)及びMD方向に垂直な横方向(以下、「TD方向」とも称する。)に同時に延伸する、いわゆる同時二軸延伸装置である。なお、以下の説明において、「右側」とは入口側から出口側をみて右側(図1中下側)を指すものとし、「左側」とは入口側から出口側をみて左側(図1中上側)を指すものとする。 The stretching device 1 conveys a film (not shown) in one direction from the inlet side (left side in FIG. 1) to the outlet side (right side in FIG. 1), while conveying the film in the longitudinal direction (hereinafter referred to as This is a so-called simultaneous biaxial stretching device that simultaneously stretches in the "MD direction") and the transverse direction perpendicular to the MD direction (hereinafter also referred to as the "TD direction"). In the following explanation, "right side" refers to the right side (bottom side in Figure 1) when looking from the inlet side to the exit side, and "left side" refers to the left side (top side in Figure 1) when looking from the inlet side to the exit side. ).

延伸装置1は、無端状の循環経路を画定しフィルムの左右両側に配置される一対のレール装置7L,7Rと、一対のレール装置7L,7Rの循環経路を走行しフィルムを把持する複数のクリップユニット3と、搬送されるフィルムを加熱する加熱装置100と、を備える。 The stretching device 1 includes a pair of rail devices 7L and 7R that define an endless circulation path and are arranged on both left and right sides of the film, and a plurality of clips that run along the circulation path of the pair of rail devices 7L and 7R and grip the film. It includes a unit 3 and a heating device 100 that heats the film being transported.

一対のレール装置7L,7Rは、それぞれクリップユニット3を循環させる循環経路を画定する基準レール8によって構成される。 The pair of rail devices 7L and 7R are each configured by a reference rail 8 that defines a circulation path for circulating the clip unit 3.

公知の構成であるため詳細な図示及び説明は省略するが、基準レール8は、回動自在に連結される複数のレールユニットと、隣り合うレールユニットを補完する中間レール部と、により形成される。つまり、レールユニットの端部は、それぞれ中間レール部に回動自在に連結される。このようにして隣り合うレールユニット同士が中間レール部を介して互いに回動自在に連結されることで、複数のレールユニットの配置を変更して、所望の循環経路の形成することができる。 The reference rail 8 is formed by a plurality of rotatably connected rail units and an intermediate rail portion that complements adjacent rail units, although detailed illustrations and explanations will be omitted since this is a well-known configuration. . That is, the ends of the rail units are each rotatably connected to the intermediate rail section. In this way, adjacent rail units are rotatably connected to each other via the intermediate rail portion, so that a desired circulation path can be formed by changing the arrangement of the plurality of rail units.

クリップユニット3の構成は、公知の構成を採用できるため、詳細な図示及び説明は省略する。循環経路上で隣接するクリップユニット3は、リンク機構(図示省略)によって連結される。つまり、複数のクリップユニット3は、リンク機構によって無端状に連結される。 Since the configuration of the clip unit 3 can employ a known configuration, detailed illustrations and explanations will be omitted. Adjacent clip units 3 on the circulation path are connected by a link mechanism (not shown). That is, the plurality of clip units 3 are connected endlessly by the link mechanism.

複数のクリップユニット3は、駆動機構(図示省略)によって循環経路に沿って走行される。具体的には、複数のクリップユニット3は、それぞれ一対のレール装置7L,7Rの基準レール8に案内されてループ状に巡回移動する。クリップユニット3は、右側のレール装置7Rでは図1中時計回り方向に巡回移動し、左側のレール装置7Lでは反時計回りに巡回移動する。一対のレール装置7L,7Rでは、互いに同数のクリップユニット3が巡回移動する。 The plurality of clip units 3 are driven along the circulation route by a drive mechanism (not shown). Specifically, the plurality of clip units 3 are guided by the reference rails 8 of the pair of rail devices 7L and 7R, respectively, and move around in a loop. The clip unit 3 moves clockwise in FIG. 1 in the right rail device 7R, and counterclockwise in the left rail device 7L. In the pair of rail devices 7L and 7R, the same number of clip units 3 circulate.

駆動機構は、公知の構成を採用できるため、詳細な説明は省略する。一例を示すと、駆動機構は、フィルムを供給する入口側に設けられる一対の入口側スプロケット5L,5Rを駆動する電動モータと、延伸したフィルムを送り出す出口側に設けられる一対の出口側スプロケット6L,6Rを駆動する電動モータと、を有して構成される。 Since the drive mechanism can employ a known configuration, detailed explanation will be omitted. To give an example, the drive mechanism includes an electric motor that drives a pair of inlet sprockets 5L and 5R provided on the inlet side that supplies the film, and a pair of outlet sprockets 6L and 5R provided on the outlet side that sends out the stretched film. An electric motor that drives the 6R.

回転駆動される入口側スプロケット5L,5R及び出口側スプロケット6L,6Rに対して各クリップユニット3が順次係合と離脱とを繰り返すことで、各クリップユニット3には、巡回経路に沿って走行する力が付与される。 Each clip unit 3 sequentially engages and disengages from the inlet sprockets 5L, 5R and the outlet sprockets 6L, 6R, which are rotationally driven, so that each clip unit 3 travels along a circulating route. power is given.

延伸装置1は、左右のレール装置7L,7Rの間隔を調整する横方向調整機構(図示省略)を有している。横方向調整機構は、例えば、電動モータ又は手動ハンドルが連結されたねじ機構を有する直動機構であり、レールユニットを左右方向に移動させる。横方向調整機構は、公知の構成を採用できるため、図示及び詳細な説明は省略する。 The stretching device 1 includes a lateral adjustment mechanism (not shown) that adjusts the distance between the left and right rail devices 7L and 7R. The lateral adjustment mechanism is, for example, a linear motion mechanism having a screw mechanism connected to an electric motor or a manual handle, and moves the rail unit in the left-right direction. Since the lateral adjustment mechanism can employ a known configuration, illustrations and detailed explanations will be omitted.

クリップユニット3を走行させる駆動装置及び横方向調整機構は、コントローラ(図示省略)によって作動が制御される。 The operation of the drive device and the lateral adjustment mechanism for moving the clip unit 3 is controlled by a controller (not shown).

フィルムが取り込まれる入口部において、左右の巡回経路を走行するクリップユニット3によりフィルムの両側縁が把持される。クリップユニット3によって把持されたフィルムは、クリップユニット3の移動に伴い、搬送方向に沿って搬送される。搬送されたフィルムは、出口側においてクリップユニット3の把持が解放され、そのまま直進する。このようにして、クリップユニット3によって把持されるフィルムは、入口側から出口側に向けて搬送される。 At the entrance portion where the film is taken in, both side edges of the film are gripped by clip units 3 running on left and right circulation paths. The film gripped by the clip unit 3 is transported along the transport direction as the clip unit 3 moves. The conveyed film is released from the grip of the clip unit 3 on the exit side and continues straight. In this way, the film gripped by the clip unit 3 is conveyed from the entrance side to the exit side.

なお、図2に示すように、フィルムは、所定の平面(以下、「フィルム搬送面P」と称する。)上に沿うようにして一方向に搬送される。フィルム搬送面Pは、例えば、水平面に平行な仮想平面である。以下の説明において、フィルムに対して垂直又は平行等の用語は、実際に搬送されるフィルムに対して垂直又は平行の意味ではなく、フィルム搬送面Pに対して垂直又は平行(言い換えると、フィルム搬送面Pに平行となるように理想的に搬送されたフィルムに対して垂直又は平行)の意味である。 Note that, as shown in FIG. 2, the film is transported in one direction along a predetermined plane (hereinafter referred to as "film transport surface P"). The film transport surface P is, for example, a virtual plane parallel to the horizontal plane. In the following explanation, terms such as perpendicular or parallel to the film do not mean perpendicular or parallel to the film that is actually transported, but perpendicular or parallel to the film transport surface P (in other words, (perpendicular or parallel to the film ideally transported so as to be parallel to plane P).

延伸装置1では、左右のレール装置7L,7Rが対向する領域がフィルム搬送エリアTAとして構成される。フィルム搬送エリアTAでは、延伸装置1の入口側から出口側へ向けて、予熱ゾーンZa、延伸ゾーンZb、熱処理ゾーンZcが順に配置(割り当て)されている。 In the stretching device 1, the area where the left and right rail devices 7L and 7R face each other is configured as a film transport area TA. In the film transport area TA, a preheating zone Za, a stretching zone Zb, and a heat treatment zone Zc are arranged (allocated) in this order from the entrance side to the exit side of the stretching apparatus 1.

予熱ゾーンZaでは、左右の循環経路の離間距離(つまり、TDピッチ)がフィルムの初期幅相当に設定されて全域に亘って左右の循環経路が互いに平行に配置される。よって、予熱ゾーンZaでは、フィルムの横延伸は行われず、フィルムを延伸可能な温度に予熱する処理だけが行われる。 In the preheating zone Za, the distance between the left and right circulation paths (that is, the TD pitch) is set to correspond to the initial width of the film, and the left and right circulation paths are arranged parallel to each other over the entire area. Therefore, in the preheating zone Za, the film is not laterally stretched, but only the process of preheating the film to a temperature at which it can be stretched is performed.

延伸ゾーンZbでは、予熱ゾーンZaの側から熱処理ゾーンZcに向かうに従って左右の循環経路の離間距離が徐々に拡大されている。つまり、延伸ゾーンZbでは、左右の循環経路は、入口側から出口側に向けて間隔が広がる末広がり状に設けられる。よって、延伸ゾーンZbでは、クリップユニット3同士の横方向の間隔(TDピッチ)が徐々に大きくなる。従って、延伸ゾーンZbでは、フィルムは、TD方向の延伸(横延伸)が行われる。 In the stretching zone Zb, the distance between the left and right circulation paths gradually increases from the preheating zone Za side toward the heat treatment zone Zc. That is, in the stretching zone Zb, the left and right circulation paths are provided in a shape that widens toward the end, with the interval increasing from the inlet side to the outlet side. Therefore, in the stretching zone Zb, the lateral distance (TD pitch) between the clip units 3 gradually increases. Therefore, in the stretching zone Zb, the film is stretched in the TD direction (lateral stretching).

延伸ゾーンZbを通過して横延伸と縦延伸の同時二軸延伸されたフィルムは、続いて熱処理ゾーンZcに進入する。熱処理ゾーンZcでは、左右の循環経路の離間距離が延伸されたフィルムの幅相当に設定されて全域に亘って左右の循環経路が互いに平行に配置されている。従って、熱処理ゾーンZcでは、フィルムの横延伸も縦延伸も行われず、温度調整等の熱処理だけが行われる。 The film that has passed through the stretching zone Zb and has been subjected to simultaneous biaxial stretching in the transverse direction and the longitudinal direction, then enters the heat treatment zone Zc. In the heat treatment zone Zc, the distance between the left and right circulation paths is set to correspond to the width of the stretched film, and the left and right circulation paths are arranged parallel to each other over the entire area. Therefore, in the heat treatment zone Zc, neither lateral nor longitudinal stretching of the film is performed, but only heat treatment such as temperature adjustment is performed.

次に、加熱装置100の構成について説明する。 Next, the configuration of the heating device 100 will be explained.

加熱装置100は、図2に示すように、フィルム搬送エリアTAを覆うようにして設けられる略箱状の本体部10を有する。 As shown in FIG. 2, the heating device 100 has a substantially box-shaped main body portion 10 provided so as to cover the film transport area TA.

本体部10は、フィルム搬送エリアTAの各ゾーンに対応して、複数の加熱室(本実施形態では3つの加熱室)を有する。具体的には、本体部10の内部には、加熱室として、予熱室21、延伸室22、及び熱処理室23が区画される。予熱室21の内部が予熱ゾーンZa、延伸室22の内部が延伸ゾーンZb、熱処理室23の内部が熱処理ゾーンZcにそれぞれ対応する。なお、以下では、予熱室21、延伸室22、及び熱処理室23を総称して単に「加熱室」とも称する。 The main body 10 has a plurality of heating chambers (three heating chambers in this embodiment) corresponding to each zone of the film transport area TA. Specifically, the interior of the main body portion 10 is divided into a preheating chamber 21, a stretching chamber 22, and a heat treatment chamber 23 as heating chambers. The inside of the preheating chamber 21 corresponds to a preheating zone Za, the inside of the stretching chamber 22 corresponds to a stretching zone Zb, and the inside of the heat treatment chamber 23 corresponds to a heat treatment zone Zc. Note that hereinafter, the preheating chamber 21, the stretching chamber 22, and the heat treatment chamber 23 are also collectively referred to simply as a "heating chamber."

本体部10は、予熱室21と本体部10の外部とを仕切る入口壁11と、熱処理室23と本体部10の外部とを仕切る出口壁12と、予熱室21と延伸室22とを仕切る仕切部としての第1仕切壁13と、延伸室22と熱処理室23とを仕切る第2仕切壁14と、を有する。以下では、入口壁11、出口壁12、第1仕切壁13、及び第2仕切壁14を総称して、「仕切部」とも称する。 The main body 10 includes an inlet wall 11 that partitions a preheating chamber 21 from the outside of the main body 10 , an outlet wall 12 that partitions a heat treatment chamber 23 from the outside of the main body 10 , and a partition that partitions the preheating chamber 21 and the stretching chamber 22 . The first partition wall 13 serves as a section, and the second partition wall 14 partitions the stretching chamber 22 and the heat treatment chamber 23. Hereinafter, the inlet wall 11, the outlet wall 12, the first partition wall 13, and the second partition wall 14 will be collectively referred to as a "partition section."

入口壁11には、フィルムが搬入される入口11aが形成される。また、出口壁12には、フィルムが搬出される出口12aが形成される。 The entrance wall 11 is formed with an entrance 11a through which the film is introduced. Further, the exit wall 12 is formed with an exit 12a through which the film is taken out.

第1仕切壁13には、フィルムが通過する通過口としての第1通過口13aが形成される。第2仕切壁14には、フィルムが通過する通過口としての第2通過口14aが形成される。入口11a、出口12a、第1通過口13a、及び第2通過口14aは、それぞれフィルム、基準レール8、ピッチ設定レール9、及びクリップユニット3の通過を許容する。このように、入口11a、出口12a、第1通過口13a、及び第2通過口14aは、それぞれ加熱室に開口するように仕切部に形成されフィルムの通過を許容する「通過口」に相当する。なお、後述の図3では、フィルム、基準レール8、及びクリップユニット3等の図示を省略している。 A first passage port 13a is formed in the first partition wall 13 as a passage port through which the film passes. A second passage port 14a is formed in the second partition wall 14 as a passage port through which the film passes. The inlet 11a, the outlet 12a, the first passage port 13a, and the second passage port 14a allow the film, reference rail 8, pitch setting rail 9, and clip unit 3 to pass through, respectively. In this way, the inlet 11a, the outlet 12a, the first passage port 13a, and the second passage port 14a each correspond to a "passing port" formed in the partition so as to open into the heating chamber and allowing the film to pass through. . Note that in FIG. 3, which will be described later, illustrations of the film, reference rail 8, clip unit 3, etc. are omitted.

より具体的には、予熱室21との関係では、入口11a及び第1通過口13aが「通過口」に相当する。延伸室22との関係では、第1通過口13a及び第2通過口14aが「通過口」に相当する。熱処理室23との関係では、第2通過口14a及び出口12aが「通過口」に相当する。 More specifically, in relation to the preheating chamber 21, the inlet 11a and the first passage port 13a correspond to a "pass port". In relation to the stretching chamber 22, the first passage port 13a and the second passage port 14a correspond to "pass ports". In relation to the heat treatment chamber 23, the second passage port 14a and the outlet 12a correspond to "pass ports".

加熱装置100は、搬送されるフィルムの温度を制御する温度制御装置30と、本体部10内の気流を制御するための気流制御装置40と、をさらに有する。 The heating device 100 further includes a temperature control device 30 that controls the temperature of the film being conveyed, and an airflow control device 40 that controls the airflow within the main body portion 10.

温度制御装置30は、予熱室21、延伸室22、及び熱処理室23のそれぞれに設けられる。各加熱室に設けられる温度制御装置30は、基本的に同様の構成を有するため、以下では、予熱室21に設けられる温度制御装置30を例に具体的構成を説明し、延伸室22及び熱処理室23内の温度制御装置30については、具体的説明及び符示を適宜省略する。 The temperature control device 30 is provided in each of the preheating chamber 21, the stretching chamber 22, and the heat treatment chamber 23. Since the temperature control device 30 provided in each heating chamber basically has the same configuration, the specific structure will be explained below using the temperature control device 30 provided in the preheating chamber 21 as an example, and the temperature control device 30 provided in the stretching chamber 22 and the heat treatment Regarding the temperature control device 30 in the room 23, specific explanation and reference numbers will be omitted as appropriate.

温度制御装置30は、搬送されるフィルムに対して所定の温度の気体(エア)を噴き付けてフィルムを加熱する加熱部としての加熱ノズル31a,31bと、加熱ノズル31a,31bに対して気体を供給する気体供給源としてのブロワ32と、ブロワ32から加熱ノズル31a,31bへの気体の温度を調整する温度調整部としての熱交換器33と、を有する。 The temperature control device 30 includes heating nozzles 31a and 31b as heating units that spray gas (air) at a predetermined temperature onto the film being transported to heat the film, and a heating unit that sprays gas to the heating nozzles 31a and 31b. It has a blower 32 as a gas supply source, and a heat exchanger 33 as a temperature adjustment section that adjusts the temperature of gas from the blower 32 to the heating nozzles 31a and 31b.

温度制御装置30では、搬送されるフィルムを挟んで当該フィルムの垂直方向において対向する二つの加熱ノズル31a,31bを対として、複数対の加熱ノズル31a,31bがフィルムの搬送方向に所定の間隔を空けて設けられる。本実施形態では、フィルムの搬送方向に間隔を空けて三対の加熱ノズル31a,31bが設けられる。なお、加熱ノズル31a,31bの数は、三対に限定されず、一対又は二対でもよいし、四対以上であってもよい。また、各加熱室に設けられる加熱ノズル31a,31bの数は、互いに同数に限定されず、加熱室ごとに個別に数を設定してよい。 In the temperature control device 30, a plurality of pairs of heating nozzles 31a, 31b are arranged such that two heating nozzles 31a, 31b facing each other in the vertical direction of the film with the film being transported in between are arranged at a predetermined interval in the film transporting direction. It is set up empty. In this embodiment, three pairs of heating nozzles 31a and 31b are provided at intervals in the film transport direction. Note that the number of heating nozzles 31a and 31b is not limited to three pairs, and may be one or two pairs, or four or more pairs. Further, the number of heating nozzles 31a, 31b provided in each heating chamber is not limited to the same number, and may be set individually for each heating chamber.

一対の加熱ノズル31a,31bは、フィルムに対して所定の間隔を空けてフィルムの垂直方向において対向する。各加熱ノズル31a,31bとフィルムとの間の垂直方向の間隔は、同一である。また、加熱ノズル31a,31bは、フィルムに対して垂直に気体を噴き付ける。三対の加熱ノズル31a,31bは、入口壁11と第1仕切壁13との間であって、搬送方向における略中央付近に等間隔を空けて設けられる。 A pair of heating nozzles 31a and 31b are opposed to each other in a direction perpendicular to the film with a predetermined distance therebetween. The vertical spacing between each heating nozzle 31a, 31b and the film is the same. Further, the heating nozzles 31a and 31b spray gas perpendicularly to the film. The three pairs of heating nozzles 31a and 31b are provided at equal intervals between the inlet wall 11 and the first partition wall 13, approximately at the center in the conveyance direction.

ブロワ32から吐出された気体は、供給ライン34を通じて各加熱ノズル31a,31bに供給され、各加熱ノズル31a,31bを通じてフィルムに向けて噴き付けられる。予熱室21内の気体は、排気ダクト(図示省略)等で構成される排気ライン35を通じてブロワ32に吸い込まれる。このようにして、気体の循環ラインが形成される。 The gas discharged from the blower 32 is supplied to each heating nozzle 31a, 31b through a supply line 34, and is sprayed toward the film through each heating nozzle 31a, 31b. The gas in the preheating chamber 21 is sucked into the blower 32 through an exhaust line 35 configured with an exhaust duct (not shown) or the like. In this way, a gas circulation line is formed.

熱交換器33は、ブロワ32と加熱ノズル31a,31bとを接続する供給ライン34を通過する気体を所望の温度に調整する。所望の温度に調整された気体が加熱ノズル31a,31bを通じてフィルムに向けて噴き付けられる。これにより、フィルムの温度が制御される。 The heat exchanger 33 adjusts the gas passing through the supply line 34 connecting the blower 32 and the heating nozzles 31a, 31b to a desired temperature. Gas adjusted to a desired temperature is sprayed toward the film through heating nozzles 31a and 31b. This controls the temperature of the film.

本実施形態では、本体部10の外部と予熱室21との間、予熱室21と延伸室22との間、延伸室22と熱処理室23との間、及び熱処理室23と本体部10の外部との間の気流をそれぞれ制御する四つの気流制御装置40が設けられる。これにより、入口11a及び出口12aを通じた本体部10の外部と内部との間の気流と、本体部10の内部における加熱室間での気流と、が制御される。気流制御装置40の各構成は、基本的には同様であるため、以下では、予熱室21と延伸室22との間の気流を制御する気流制御装置40を例に説明し、その他の気流制御装置40については具体的な説明及び符示を適宜省略する。また、以下では、予熱室21の加熱ノズル31a,31bに気体を供給するブロワ32を「第1ブロワ32a」、延伸室22の加熱ノズル31a,31bに気体を供給するブロワ32を「第2ブロワ32b」とも称する。 In this embodiment, between the outside of the main body section 10 and the preheating chamber 21, between the preheating chamber 21 and the stretching chamber 22, between the stretching chamber 22 and the heat treatment chamber 23, and between the heat treatment chamber 23 and the outside of the main body section 10, Four airflow control devices 40 are provided, each controlling the airflow between the two. Thereby, the airflow between the outside and the inside of the main body part 10 through the inlet 11a and the outlet 12a, and the airflow between the heating chambers inside the main body part 10 are controlled. Each configuration of the airflow control device 40 is basically the same, so below, the airflow control device 40 that controls the airflow between the preheating chamber 21 and the stretching chamber 22 will be explained as an example, and other airflow control devices will be explained. Regarding the device 40, specific description and reference numbers will be omitted as appropriate. In the following, the blower 32 that supplies gas to the heating nozzles 31a and 31b of the preheating chamber 21 will be referred to as a "first blower 32a", and the blower 32 that supplies gas to the heating nozzles 31a and 31b of the stretching chamber 22 will be referred to as a "second blower". 32b".

気流制御装置40は、図3に示すように、第1仕切壁13に設けられ気体を吸引する吸引部41と、予熱室21に設けられ気体を噴射して吸引部41への気流を制動する第1噴射部としての一対の第1制動ノズル42a,42bと、延伸室22に設けられ気体を噴射して吸引部41への気流を制動する第2噴射部としての一対の第2制動ノズル43a,43bと、吸引部41を通じて気体を吸引する動力源としてのブロワ45と、を有する。なお、他の気流制御装置40では、吸引部41は、それぞれ入口壁11、出口壁12、及び第2仕切壁14のいずれかに設けられる。また、ブロワ45は、各気流制御装置40において共通に使用されるが、これに限定されるものではない。 As shown in FIG. 3, the airflow control device 40 includes a suction section 41 provided in the first partition wall 13 for sucking gas, and a suction section 41 provided in the preheating chamber 21 for injecting gas to brake the airflow to the suction section 41. A pair of first braking nozzles 42a, 42b as a first injection part, and a pair of second braking nozzles 43a as a second injection part provided in the stretching chamber 22 and braking the airflow to the suction part 41 by injecting gas. , 43b, and a blower 45 as a power source for sucking gas through the suction part 41. In addition, in the other airflow control device 40, the suction part 41 is provided in either the inlet wall 11, the outlet wall 12, and the 2nd partition wall 14, respectively. Moreover, although the blower 45 is commonly used in each airflow control device 40, it is not limited thereto.

吸引部41は、第1仕切壁13に開口する排気口E1が設けられる一対の第1吸引部50a,50bと、第1仕切壁13に開口する排気口E2が設けられる一対の第2吸引部55a,55bを有する。 The suction section 41 includes a pair of first suction sections 50a and 50b provided with an exhaust port E1 opened in the first partition wall 13, and a pair of second suction sections provided with an exhaust port E2 opened in the first partition wall 13. It has 55a and 55b.

一対の第1吸引部50a,50b及び一対の第2吸引部55a,55bは、第1仕切壁13の第1通過口13aの近傍に設けられる。一対の第1吸引部50a,50bの排気口E1は、予熱室21に面する側の第1仕切壁13の側面に開口する。一対の第2吸引部55a,55bの排気口E2は、延伸室22に面する側の第1仕切壁13の側面に開口する。このように、一対の第1吸引部50a,50bは、一対の第2吸引部55a,55bに対して、フィルムの搬送方向の上流側に設けられる。 The pair of first suction parts 50a, 50b and the pair of second suction parts 55a, 55b are provided near the first passage port 13a of the first partition wall 13. The exhaust ports E1 of the pair of first suction parts 50a and 50b open on the side surface of the first partition wall 13 facing the preheating chamber 21. The exhaust ports E2 of the pair of second suction parts 55a and 55b open on the side surface of the first partition wall 13 facing the stretching chamber 22. In this way, the pair of first suction parts 50a, 50b are provided upstream of the pair of second suction parts 55a, 55b in the film transport direction.

第1仕切壁13の内部には、排気口E1,E2とブロワ45とを連通する吸込通路46が形成される。第1吸引部50a及び第2吸引部55aとブロワ45との間には、気体の通過を許容する貫通孔によって、吸引した気体の流れを整流して圧力バランスを整える均圧板48aが設けられる。同様に、第1吸引部50b及び第2吸引部55bとブロワ45との間には、均圧板48bが設けられる。 A suction passage 46 is formed inside the first partition wall 13 to communicate the exhaust ports E1 and E2 with the blower 45. A pressure equalizing plate 48a is provided between the first suction section 50a and the second suction section 55a and the blower 45 to adjust the pressure balance by rectifying the flow of the sucked gas using a through hole that allows gas to pass through. Similarly, a pressure equalizing plate 48b is provided between the first suction section 50b and the second suction section 55b and the blower 45.

第1吸引部50a,50bでは、予熱室21に臨むように開口して設けられる排気口E1を通じて、主に予熱室21から延伸室22に向けて第1通過口13aを通過しようとする気体が吸引される。同様に、第2吸引部55a,55bでは、延伸室22に臨むように開口して設けられる排気口E2を通じて、主に予熱室21から第1通過口13aを通過し延伸室22に向けて移動する気体を吸引する。 In the first suction parts 50a and 50b, gas that is mainly trying to pass through the first passage port 13a from the preheating chamber 21 toward the stretching chamber 22 is removed through the exhaust port E1, which is opened and provided so as to face the preheating chamber 21. It gets sucked in. Similarly, in the second suction parts 55a and 55b, the air mainly moves from the preheating chamber 21 through the first passage port 13a and toward the stretching chamber 22 through an exhaust port E2 that is opened and provided so as to face the stretching chamber 22. Aspirate the gas.

一対の第1吸引部50a,50bは、フィルムの搬送方向に重ねられた2枚のスライド板51,53をそれぞれ有する。重ねられた2枚のスライド板51,53は、互いの接触面において相対的にスライド可能である。一方のスライド板51には複数の貫通孔52が形成され、他方のスライド板53には複数の貫通孔54が形成される。 The pair of first suction units 50a and 50b each have two slide plates 51 and 53 stacked in the film transport direction. The two stacked slide plates 51 and 53 are relatively slidable on their contact surfaces. A plurality of through holes 52 are formed in one slide plate 51, and a plurality of through holes 54 are formed in the other slide plate 53.

図4(a)は、図3における矢印A方向からみた第1吸引部50aを示す拡大図であり、図4(b)は、図3における矢印B方向からみた第2吸引部55aを示す拡大図である。図4(a)に示すように、一方のスライド板51に形成される貫通孔52は、他方のスライド板53に形成される貫通孔54と少なくとも一部が板厚方向(フィルムの搬送方向)において重なるように設けられる。2枚のスライド板51,53の貫通孔52,54が重なった部分によって排気口E1が構成される。貫通孔52,54は、例えば、長穴形状に形成される。2枚のスライド板51,53を図4中左右方向に相対的にスライドさせることによって、貫通孔52と貫通孔54とが重なる面積を変えることができる。これにより、排気口E1の開口面積を変化させて排気口E1を通じて吸引される気体の吸引量を調整できる。 4(a) is an enlarged view showing the first suction part 50a seen from the direction of arrow A in FIG. 3, and FIG. 4(b) is an enlarged view showing the second suction part 55a seen from the direction of arrow B in FIG. It is a diagram. As shown in FIG. 4(a), the through hole 52 formed in one slide plate 51 is at least partially connected to the through hole 54 formed in the other slide plate 53 in the thickness direction (film conveyance direction). They are arranged so that they overlap. An exhaust port E1 is formed by a portion where the through holes 52 and 54 of the two slide plates 51 and 53 overlap. The through holes 52 and 54 are formed, for example, in the shape of a long hole. By relatively sliding the two slide plates 51 and 53 in the left-right direction in FIG. 4, the area where the through-holes 52 and 54 overlap can be changed. This makes it possible to adjust the amount of gas sucked through the exhaust port E1 by changing the opening area of the exhaust port E1.

第2吸引部55a,55bの構成は、第1吸引部50a,50bの構成と同様である。一対の第2吸引部55a,55bは、2枚のスライド板56,58を有する。スライド板56には複数の貫通孔57が形成され、スライド板58には複数の貫通孔59が形成される。図4(b)に示すように、フィルムの搬送方向に重なる貫通孔57と貫通孔59とによって、排気口E2が形成される。 The configuration of the second suction parts 55a, 55b is similar to the configuration of the first suction parts 50a, 50b. The pair of second suction parts 55a and 55b have two slide plates 56 and 58. A plurality of through holes 57 are formed in the slide plate 56, and a plurality of through holes 59 are formed in the slide plate 58. As shown in FIG. 4(b), an exhaust port E2 is formed by the through hole 57 and the through hole 59 that overlap in the film transport direction.

図4(a),(b)におけるハッチングは、第1吸引部50aの排気口E1の開口面積及び第2吸引部55aの排気口E2の開口面積を示すものである。図4(a)では、第1吸引部50aにおける貫通孔52と貫通孔54とは、略一致するように重なっている。一方、図4(b)に示す第2吸引部55aでは、貫通孔57と貫通孔59とは、一部のみが重なっている。このように、第2吸引部55a,55bの排気口E2の開口面積は、第1吸引部50a,50bの排気口E1の開口面積よりも小さくなるように設定される。これにより、第2吸引部55a,55bによる気体の吸引量は、第1吸引部50a,50bによる気体の吸引量よりも少なくなる。 Hatching in FIGS. 4A and 4B indicates the opening area of the exhaust port E1 of the first suction section 50a and the opening area of the exhaust port E2 of the second suction section 55a. In FIG. 4A, the through hole 52 and the through hole 54 in the first suction part 50a overlap so as to substantially match. On the other hand, in the second suction part 55a shown in FIG. 4(b), the through hole 57 and the through hole 59 only partially overlap. In this way, the opening area of the exhaust port E2 of the second suction section 55a, 55b is set to be smaller than the opening area of the exhaust port E1 of the first suction section 50a, 50b. Thereby, the amount of gas suctioned by the second suction parts 55a, 55b becomes smaller than the amount of gas suctioned by the first suction parts 50a, 50b.

第1吸引部50aの排気口E1と第2吸引部55aの排気口E2は、フィルムの幅方向において第1通過口13aの全域にわたって分布することが望ましい。これにより、フィルムの幅方向の全体において第1通過口13aを通過しようとする気流を第1吸引部50a及び第2吸引部55aによって吸引することができる。 It is desirable that the exhaust ports E1 of the first suction section 50a and the exhaust ports E2 of the second suction section 55a are distributed over the entire area of the first passage port 13a in the width direction of the film. Thereby, the airflow that is about to pass through the first passage port 13a can be sucked by the first suction section 50a and the second suction section 55a in the entire width direction of the film.

第1制動ノズル42には、気体供給源として第1ブロワ32aから気体が供給される。第2制動ノズル43には、気体供給源として第2ブロワ32bから気体が供給される。このように、第1制動ノズル42の気体供給源は、第1制動ノズル42が設けられる予熱室21の温度制御装置30の気体供給源と共通である。第2制動ノズル43の気体供給源は、第2制動ノズル43が設けられる延伸室22の温度制御装置30の気体供給源と共通である。また、入口壁11の上流に設けられる第1制動ノズル及び出口壁12の下流に設けられる第2制動ノズルの気体供給源は、本体部10の外部(大気)を吸い込んで吐出するブロワ44(図2参照)が用いられる。なお、気体供給源は、第1制動ノズル42及び第2制動ノズル43(気流制御装置40)と温度制御装置30とで、別々であってもよい。 Gas is supplied to the first brake nozzle 42 from the first blower 32a as a gas supply source. Gas is supplied to the second brake nozzle 43 from the second blower 32b as a gas supply source. In this way, the gas supply source of the first brake nozzle 42 is common to the gas supply source of the temperature control device 30 of the preheating chamber 21 in which the first brake nozzle 42 is provided. The gas supply source of the second brake nozzle 43 is common to the gas supply source of the temperature control device 30 of the stretching chamber 22 in which the second brake nozzle 43 is provided. Further, the gas supply source for the first brake nozzle provided upstream of the inlet wall 11 and the second brake nozzle provided downstream of the outlet wall 12 is a blower 44 (see FIG. 2) is used. In addition, the gas supply source may be the 1st brake nozzle 42, the 2nd brake nozzle 43 (airflow control device 40), and the temperature control device 30, and may be separate.

図3に示すように、一対の第1制動ノズル42a,42bは、フィルム搬送面Pを挟んでフィルム搬送面Pの垂直方向に互いに対向して設けられる。ブロワ42cによって予熱室21の気体が一対の第1制動ノズル42a,42bに導かれ、一対の第1制動ノズル42a,42bを通じて気体がフィルムに向けて噴き付けられる。 As shown in FIG. 3, the pair of first braking nozzles 42a and 42b are provided facing each other in the vertical direction of the film transport surface P with the film transport surface P in between. The gas in the preheating chamber 21 is guided by the blower 42c to the pair of first brake nozzles 42a, 42b, and the gas is sprayed toward the film through the pair of first brake nozzles 42a, 42b.

同様に、一対の第2制動ノズル43a,43bは、フィルム搬送面Pを挟んでフィルム搬送面Pの垂直方向に互いに対向して設けられる。ブロワ43cによって延伸室22の気体が一対の第2制動ノズル43a,43bに導かれ、一対の第2制動ノズル43a,43bを通じて気体がフィルムに向けて噴き付けられる。 Similarly, the pair of second brake nozzles 43a and 43b are provided facing each other in the vertical direction of the film transport surface P with the film transport surface P in between. The gas in the stretching chamber 22 is guided by the blower 43c to the pair of second brake nozzles 43a, 43b, and the gas is sprayed toward the film through the pair of second brake nozzles 43a, 43b.

このように、一対の第1制動ノズル42a,42b及び一対の第2制動ノズル43a,43bが噴射する気体は、自身が設けられる加熱室内の気体であるため、気体の噴射によるフィルム及び加熱室(予熱室21及び延伸室22)内の温度変化が防止される。 In this way, since the gas injected by the pair of first brake nozzles 42a, 42b and the pair of second brake nozzles 43a, 43b is the gas in the heating chamber in which they are installed, the film and heating chamber ( Temperature changes within the preheating chamber 21 and the stretching chamber 22) are prevented.

吸引部41よりもフィルム搬送方向の上流に設けられる一対の第1制動ノズル42a,42bの気体の噴射角度θ1は、フィルム搬送方向の上流に向けて気体が噴き付けられるように、フィルム搬送面Pの垂直方向及び平行方向(フィルムの搬送方向)のそれぞれに対して傾斜している。吸引部41よりもフィルム搬送方向の下流に設けられる一対の第2制動ノズル43a,43bの気体の噴射角度θ2は、フィルム搬送方向の上流に向けて気体が噴き付けられるように、フィルム搬送面Pの垂直方向及び平行方向のそれぞれに対して傾斜している。 The gas injection angle θ1 of the pair of first braking nozzles 42a and 42b provided upstream of the suction section 41 in the film transport direction is set so that the gas is sprayed upstream in the film transport direction. It is inclined with respect to each of the vertical direction and the parallel direction (film transport direction). The gas injection angle θ2 of the pair of second braking nozzles 43a and 43b provided downstream of the suction section 41 in the film transport direction is set so that the gas is sprayed upstream in the film transport direction. is inclined with respect to each of the vertical and parallel directions.

具体的には、フィルム搬送面Pに対して垂直な線を基準線とし、第1制動ノズル42a,42bが気体を噴射する方向(図3中矢印)と基準線とがなす鋭角側の角度(言い換えると劣角)を噴射角度θ1とした場合、噴射角度θ1は、0°より大きく90°よりも小さい(0°<θ1<90°)。好ましくは、第1制動ノズル42a,42bの噴射角度θ1は、0°よりも大きく45°以下である(0°<θ1≦45°)。 Specifically, the reference line is a line perpendicular to the film transport surface P, and the acute angle ( In other words, when the injection angle θ1 is the inferior angle, the injection angle θ1 is greater than 0° and smaller than 90° (0°<θ1<90°). Preferably, the injection angle θ1 of the first brake nozzles 42a, 42b is greater than 0° and less than or equal to 45° (0°<θ1≦45°).

同様に、第2制動ノズル43a,43bの噴射角度θ2は、0°より大きく90°よりも小さい(0°<θ2<90°)。好ましくは、第2制動ノズル43a,43bの噴射角度θ2は、0°よりも大きく45°以下である(0°<θ2≦45°)。 Similarly, the injection angle θ2 of the second brake nozzles 43a, 43b is greater than 0° and smaller than 90° (0°<θ2<90°). Preferably, the injection angle θ2 of the second brake nozzles 43a, 43b is greater than 0° and less than or equal to 45° (0°<θ2≦45°).

なお、第1制動ノズル42aと第1制動ノズル42bの噴射角度は、θ1で同一である。第2制動ノズル43aと第2制動ノズル43bの噴射角度は、θ2で同一である。 Note that the injection angles of the first brake nozzle 42a and the first brake nozzle 42b are the same at θ1. The injection angles of the second brake nozzle 43a and the second brake nozzle 43b are the same at θ2.

また、一対の第1制動ノズル42a,42bが噴射する気体の時間当たりの噴射量は、一対の第2制動ノズル43a,43bが噴射する気体の噴射量よりも多く設定されるが、同一であってもよい。 Furthermore, the amount of gas per hour injected by the pair of first braking nozzles 42a, 42b is set to be larger than the amount of gas injected by the pair of second braking nozzles 43a, 43b, but they are not the same. It's okay.

次に、加熱装置100の作用について説明する。 Next, the operation of the heating device 100 will be explained.

一般に、加熱装置では、隣接する加熱室間での温度差や圧力差によって、仕切壁の通過口を通じて加熱室間での気流が生じることがある。このような気流が生じると、加熱室内の温度変化が生じ、加熱室内での温度分布の変化(温度ムラ)が生じる。温度ムラが生じると、フィルムの品質を低下させるおそれがあるため、加熱室間の気流を防止することが望ましい。 Generally, in a heating device, airflow may occur between heating chambers through passage ports in a partition wall due to a difference in temperature or pressure between adjacent heating chambers. When such airflow occurs, a temperature change occurs within the heating chamber, resulting in a change in temperature distribution (temperature unevenness) within the heating chamber. If temperature unevenness occurs, there is a risk that the quality of the film will deteriorate, so it is desirable to prevent airflow between the heating chambers.

加熱室間の気流を防止する方法として、フィルムに向けて噴射した気体によりエアカーテンを形成して、エアカーテンによって気流を遮断することが考えられる。そして、気流の遮断効果を高めるためには、エアカーテンを加熱室間の通過口付近に設ける、噴射する気体の流量又は速度を増加させる、といった方法が考えられる。 One possible method for preventing airflow between the heating chambers is to form an air curtain with gas injected toward the film and block the airflow with the air curtain. In order to enhance the airflow blocking effect, methods such as providing an air curtain near the passage ports between the heating chambers and increasing the flow rate or speed of the gas to be injected can be considered.

しかしながら、エアカーテンを加熱室間の通過口付近に設けたり、噴射する気体の流量又は速度を増加させたりすると、エアカーテンを形成するために噴射される気体自体が加熱室間を移動する気流となって加熱室内に流入する可能性がある。よって、気体を噴射して形成されるエアカーテンによる気流の遮断には、限界がある。 However, if an air curtain is installed near the passage between the heating chambers, or if the flow rate or speed of the injected gas is increased, the gas itself injected to form the air curtain becomes an airflow moving between the heating chambers. There is a possibility that it may flow into the heating chamber. Therefore, there is a limit to the ability to block airflow by an air curtain formed by injecting gas.

これに対し、本実施形態の加熱装置100では、気体を吸引する吸引部41が第1仕切壁13の第1通過口13aの近傍に設けられるため、第1通過口13aを通じて予熱室21と延伸室22との間を移動しようとする気体は、吸引部41によって吸引される。これにより、加熱室間での気流の発生が抑制され、予熱室21と延伸室22とにおける温度ムラの発生が抑制される。また、気体の噴射ではなく吸引によって予熱室21と延伸室22との間の気体の移動を抑制するため、噴射した気体が予熱室21又は延伸室22に流入して温度ムラが生じるといった事態も防止される。よって、予熱室21及び延伸室22内での温度ムラの発生を充分に抑制することができる。 On the other hand, in the heating device 100 of the present embodiment, the suction section 41 that sucks gas is provided near the first passage port 13a of the first partition wall 13, so that it is connected to the preheating chamber 21 through the first passage port 13a. Gas attempting to move between the chamber 22 and the chamber 22 is sucked by the suction section 41. This suppresses the generation of airflow between the heating chambers, and suppresses the occurrence of temperature unevenness between the preheating chamber 21 and the stretching chamber 22. Furthermore, since the movement of gas between the preheating chamber 21 and the stretching chamber 22 is suppressed by suction rather than gas injection, there is a possibility that the injected gas may flow into the preheating chamber 21 or the stretching chamber 22, causing temperature unevenness. Prevented. Therefore, the occurrence of temperature unevenness within the preheating chamber 21 and the stretching chamber 22 can be sufficiently suppressed.

また、加熱装置100では、通常、フィルムの搬送の影響を受けるため、フィルムの搬送方向の下流側から上流側へ向かう気流よりも、フィルムの搬送方向の上流側から下流側へと向かう気流のほうが発生しやすい。これに対し、加熱装置100では、吸引部41よりもフィルム搬送方向の上流にある第1制動ノズル42a,42bが上流に向けて気体を噴射し、吸引部41よりも下流にある第2制動ノズル43a,43bも上流に向けて気体を噴射する。このため、予熱室21から延伸室22へと移動しようとしてフィルムと共に第1通過口13aを通過しようとする気流は、第1制動ノズル42a,42bから噴射される気体によって、第1通過口13aから遠ざかるように押し戻されるか、又は、速度が減速される。同様に、予熱室21から延伸室22へと移動しようとして第1通過口13aを通過し延伸室22内へ向かう気流は、第2制動ノズル43a,43bから噴射される気体によって、予熱室21へ向け押し戻されるか、又は、速度が減速される。これにより、第1通過口13aを通過して延伸室22内に向かう気流の流量や速度が低減されるため、フィルムの搬送に伴って予熱室21から延伸室22へ移動しようとする気流を吸引部41によってより確実に吸引することができる。 In addition, since the heating device 100 is usually affected by film transport, the air flow from the upstream side to the downstream side in the film transport direction is stronger than the air flow from the downstream side to the upstream side in the film transport direction. Likely to happen. On the other hand, in the heating device 100, the first brake nozzles 42a and 42b located upstream of the suction section 41 in the film transport direction inject gas toward the upstream, and the second brake nozzles located downstream of the suction section 41 inject gas toward the upstream side. 43a and 43b also inject gas toward the upstream. Therefore, the airflow trying to move from the preheating chamber 21 to the stretching chamber 22 and passing through the first passage port 13a together with the film is controlled by the gas injected from the first brake nozzles 42a and 42b from the first passage port 13a. Pushed back away or slowed down. Similarly, the airflow that attempts to move from the preheating chamber 21 to the stretching chamber 22 by passing through the first passage port 13a and heading into the stretching chamber 22 is moved toward the preheating chamber 21 by the gas injected from the second brake nozzles 43a and 43b. The object may be pushed back towards the object or its speed may be reduced. As a result, the flow rate and speed of the airflow passing through the first passage port 13a and heading into the stretching chamber 22 are reduced, so that the airflow that attempts to move from the preheating chamber 21 to the stretching chamber 22 as the film is transported is sucked. The portion 41 allows more reliable suction.

また、吸引部41は、第1吸引部50a,50b及び第2吸引部55a,55bを有し、相対的に上流側の第1吸引部50a,50bの気体の吸引量は、第2吸引部55a,55bの気体の吸引よりも多く設定される。第1吸引部50a,50bの吸引量を相対的に多くすることで、発生頻度や流量が多くなりやすい上流側から下流側へ向かう気流を効果的に吸引することができる。 Further, the suction section 41 has first suction sections 50a, 50b and second suction sections 55a, 55b, and the amount of gas suctioned by the first suction sections 50a, 50b on the relatively upstream side is the same as that of the second suction section. The amount is set to be larger than the gas suction of 55a and 55b. By relatively increasing the suction amount of the first suction parts 50a and 50b, it is possible to effectively suction airflow that tends to occur frequently and has a high flow rate from the upstream side to the downstream side.

同様に、吸引部41の上流側にある第1制動ノズル42a,42bの気体の噴射量を下流側にある第2制動ノズル43a,43bよりも多く設定することで、吸引部41による上流側から下流側へ向かう気流の吸引を効果的に行うことができる。 Similarly, by setting the amount of gas ejected from the first brake nozzles 42a, 42b on the upstream side of the suction section 41 to be larger than that of the second brake nozzles 43a, 43b on the downstream side, Airflow directed toward the downstream side can be effectively sucked.

以下、本実施形態の作用効果について説明する。 The effects of this embodiment will be explained below.

搬送されるフィルムを加熱する加熱装置100は、内部に加熱室(予熱室21、延伸室22、熱処理室23)が区画されると共に加熱室に開口してフィルムの通過を許容する通過口(入口11a、第1通過口13a,第2通過口14a、出口12a)が形成される本体部10と、通過口を通過する気流を制御する気流制御装置40と、を備え、気流制御装置40は、通過口に設けられ気体を吸引する吸引部41を有する。 The heating device 100 that heats the film being conveyed has heating chambers (preheating chamber 21, stretching chamber 22, heat treatment chamber 23) partitioned inside, and a passage opening (entrance) that opens into the heating chamber and allows the film to pass through. 11a, a first passage port 13a, a second passage port 14a, and an outlet 12a), and an airflow control device 40 that controls the airflow passing through the passage ports. It has a suction part 41 that is provided at the passage port and sucks gas.

この構成では、通過口を通じて加熱室に流入又は流出しようとする気体は、吸引部41によって吸引される。これにより、加熱室に流入又は流出する気流の発生が抑制され、加熱室における温度ムラの発生が抑制される。また、加熱室に流入又は流出する気体の移動を気体の噴き付けではなく吸引によって抑制するため、噴き付けた気体自体が加熱室に流入又は流出して温度ムラが生じるといった事態も防止される。よって、加熱室内での温度ムラの発生を充分に抑制することができる。 In this configuration, gas that is about to flow into or out of the heating chamber through the passage port is sucked by the suction section 41. As a result, the generation of airflow flowing into or out of the heating chamber is suppressed, and the occurrence of temperature unevenness in the heating chamber is suppressed. Furthermore, since the movement of the gas flowing into or out of the heating chamber is suppressed by suction rather than jetting the gas, a situation where the jetted gas itself flows into or out of the heating chamber and causes temperature unevenness is also prevented. Therefore, the occurrence of temperature unevenness within the heating chamber can be sufficiently suppressed.

また、加熱装置100では、吸引部41に対してフィルムの搬送方向の上流側に設けられフィルムに向けて気体を噴き付ける第1制動ノズル42a,42bと、吸引部41に対してフィルムの搬送方向の下流側に設けられフィルムに向けて気体を噴き付ける第2制動ノズル43a,43bと、をさらに備え、フィルムに対する第1制動ノズル42a,42bの気体の噴射角度θ1は、フィルムの搬送方向の上流に向けて気体を噴き付けるようにフィルムの垂直方向から傾斜し、フィルムに対する第2制動ノズル43a,43bの気体の噴射角度θ2は、フィルムの搬送方向の上流に向けて気体を噴き付けるようにフィルムの垂直方向から傾斜する。 The heating device 100 also includes first braking nozzles 42a and 42b that are provided upstream of the suction section 41 in the film transport direction and spray gas toward the film, and It further includes second braking nozzles 43a and 43b that are provided on the downstream side of the film and spray gas toward the film, and the gas injection angle θ1 of the first braking nozzles 42a and 42b relative to the film is set at The gas injection angle θ2 of the second braking nozzles 43a, 43b relative to the film is tilted from the vertical direction of the film so as to spray gas toward Tilt from the vertical direction.

この構成では、上流側から通過口を通じて加熱室内に移動しようとする気流は、第1制動ノズル42a,42b及び第2制動ノズル43a,43bによって噴射される気体によって、押し戻されるか、又は、速度が減速される。これにより、気流の流量や速度が低減されるため、フィルムの搬送に伴って発生する上流側から下流側へと向かう気流を吸引部41によってより確実に吸引できる。したがって、加熱室内での温度ムラの発生をより一層抑制することができる。 In this configuration, the airflow trying to move into the heating chamber from the upstream side through the passage port is pushed back or has a speed reduced by the gas injected by the first brake nozzles 42a, 42b and the second brake nozzles 43a, 43b. Slowed down. As a result, the flow rate and speed of the airflow are reduced, so that the suction section 41 can more reliably suction the airflow that occurs from the upstream side to the downstream side as the film is conveyed. Therefore, the occurrence of temperature unevenness within the heating chamber can be further suppressed.

また、加熱装置100では、第1制動ノズル42a,42による気体の噴射量は、前記第2制動ノズル43a,43bによる気体の噴射量と同一又は多くなるように設定される。 Furthermore, in the heating device 100, the amount of gas injected by the first brake nozzles 42a, 42 is set to be the same as or greater than the amount of gas injected by the second brake nozzles 43a, 43b.

この構成では、第1制動ノズル42a,42の噴射量を少なくとも第2制動ノズル43a,43bの噴射量以上とすることで、フィルムの搬送に伴って発生する上流側から下流側へと向かう気流を効果的に制動することができる。よって、上流側から下流側へと向かう気流を吸引部41によって効果的に吸引でき、加熱室内での温度ムラの発生をより一層抑制することができる。 In this configuration, by making the injection amount of the first braking nozzles 42a, 42 at least equal to or greater than the injection amount of the second braking nozzles 43a, 43b, the airflow from the upstream side to the downstream side that occurs as the film is conveyed can be reduced. Can be braked effectively. Therefore, the airflow directed from the upstream side to the downstream side can be effectively sucked by the suction section 41, and the occurrence of temperature unevenness in the heating chamber can be further suppressed.

また、加熱装置100では、吸引部41は、それぞれ気体を吸引する第1吸引部50a,50b及び第2吸引部55a,55bを有し、第1吸引部50a,50bは、第2吸引部55a,55bに対してフィルムの搬送方向において上流側に設けられ、第1吸引部50a,50bによる気体の吸引量は、第2吸引部55a,55bによる気体の吸引量と同一又は多くなるように設定される。 Furthermore, in the heating device 100, the suction section 41 has first suction sections 50a, 50b and second suction sections 55a, 55b that suck gas, respectively, and the first suction sections 50a, 50b have a second suction section 55a. , 55b in the film transport direction, and the amount of gas suctioned by the first suction parts 50a, 50b is set to be the same as or larger than the amount of gas suctioned by the second suction parts 55a, 55b. be done.

この構成では、第1吸引部50a,50bの吸引量を少なくとも第2吸引部55a,55b以上とすることで、フィルムの搬送に伴って発生する上流側から下流側へと向かう気流を効果的に吸引することができる。よって、加熱室内での温度ムラの発生をより一層抑制することができる。 In this configuration, by setting the suction amount of the first suction parts 50a, 50b to at least more than the second suction parts 55a, 55b, the airflow generated from the upstream side to the downstream side that occurs as the film is conveyed can be effectively reduced. Can be inhaled. Therefore, the occurrence of temperature unevenness within the heating chamber can be further suppressed.

以上、本発明の実施形態について説明したが、上記実施形態は本発明の適用例の一部を示したに過ぎず、本発明の技術的範囲を上記実施形態の具体的構成に限定する趣旨ではない。 Although the embodiments of the present invention have been described above, the above embodiments merely show a part of the application examples of the present invention, and are not intended to limit the technical scope of the present invention to the specific configurations of the above embodiments. do not have.

上記実施形態では、仕切部である入口壁11、出口壁12、第1仕切壁13、及び第2仕切壁14のそれぞれに吸引部41が設けられる。これに対し、気流が発生して加熱室内の温度が変化するおそれが低い場合や、温度変化がフィルムの品質に影響を与えないよう場合には、すべての仕切部に吸引部41が設けられなくてもよい。加熱装置100は、少なくとも仕切部のいずれかに吸引部41が設けられる構成であればよい。 In the embodiment described above, the suction section 41 is provided in each of the inlet wall 11, the outlet wall 12, the first partition wall 13, and the second partition wall 14, which are partitions. On the other hand, if there is a low possibility that the temperature inside the heating chamber will change due to airflow, or if the temperature change does not affect the quality of the film, the suction part 41 is not provided in all the partitions. It's okay. The heating device 100 may have any configuration as long as the suction section 41 is provided in at least one of the partition sections.

また、上記実施形態では、吸引部41の排気口E1,E2は、通過口付近であって、加熱室に面する仕切部の側面に開口する。これに対し、吸引部41が通過口の内壁の一部を構成し、排気口E1,E2が通過口に開口する構成としてもよい。また、仕切部の側面に開口する排気口E1,E2と、通過口の内壁に開口する排気口E1,E2と、の両方を設けてもよい。 Further, in the embodiment described above, the exhaust ports E1 and E2 of the suction section 41 are located near the passage port and open on the side surface of the partition section facing the heating chamber. On the other hand, a configuration may be adopted in which the suction portion 41 constitutes a part of the inner wall of the passage port, and the exhaust ports E1 and E2 open into the passage port. Further, both the exhaust ports E1 and E2 that open on the side surface of the partition and the exhaust ports E1 and E2 that open on the inner wall of the passage port may be provided.

また、上記実施形態では、加熱装置100は、複数の加熱室を有する。これに対し、加熱装置100は、単一の加熱室を有するものでもよい。この場合であっても、入口11a及び出口12aの少なくとも一方に吸引部41を設けることで、加熱室の温度変化を抑制することができる。 Moreover, in the embodiment described above, the heating device 100 has a plurality of heating chambers. On the other hand, the heating device 100 may have a single heating chamber. Even in this case, temperature changes in the heating chamber can be suppressed by providing the suction section 41 at at least one of the inlet 11a and the outlet 12a.

また、上記実施形態では、吸引部41は、相対的に搬送方向の上流側に設けられる第1吸引部50a,50bと、相対的に下流に設けられる第2吸引部55a,55bと、を有する。第1吸引部50a,50bによる気体の吸引量は、第2吸引部55a,55bによる気体の吸引量よりも多い。これに対し、吸引部41の構成は、上記構成に限定されない。第1吸引部50a,50bの吸引量は、第2吸引部55a,55bの吸引量より少なくてもよい。また、第1吸引部50a,50bと第2吸引部55a,55bとは、吸引量が同じに設定されてもよい。 Furthermore, in the embodiment described above, the suction section 41 includes first suction sections 50a, 50b provided relatively upstream in the conveyance direction, and second suction sections 55a, 55b provided relatively downstream. . The amount of gas suctioned by the first suction parts 50a, 50b is larger than the amount of gas suctioned by the second suction parts 55a, 55b. On the other hand, the configuration of the suction section 41 is not limited to the above configuration. The suction amount of the first suction parts 50a, 50b may be smaller than the suction amount of the second suction parts 55a, 55b. Further, the first suction parts 50a, 50b and the second suction parts 55a, 55b may be set to have the same suction amount.

また、上記実施形態では、第2吸引部55a,55bは、一方のスライド板56を他方のスライド板58に対してスライドさせることで、排気口E2の開口面積を調整して、吸引量が調整される構成である。これに対し、吸引量を調整する構成は、上記構成に限定されず、その他の構成としてもよい。例えば、第1吸引部50a,50bから吸引した気体が通過する排気ラインと、第2吸引部55a,55bから吸引した気体が通過する排気ラインと、に分け、各排気ラインに通過する気体の流量を制御するバルブや風量調整ダンパを設けてもよい。例えば、第1吸引部50a,50bと均圧板58a,58bとの間、第2吸引部55a,55bと均圧板58a,58bとの間にバルブや風量調整ダンパを設けることができる。このような構成によっても、第1吸引部50a,50bの吸引量が第2吸引部55a,55bの吸引量よりも多くなるように設定することができる。 Further, in the above embodiment, the second suction parts 55a, 55b adjust the opening area of the exhaust port E2 by sliding one slide plate 56 with respect to the other slide plate 58, so that the suction amount can be adjusted. This is the configuration that will be used. On the other hand, the configuration for adjusting the suction amount is not limited to the above configuration, and may be other configurations. For example, an exhaust line is divided into an exhaust line through which the gas sucked from the first suction parts 50a, 50b passes, and an exhaust line through which the gas suctioned from the second suction parts 55a, 55b passes, and the flow rate of the gas passing through each exhaust line. A valve or an air volume adjustment damper may be provided to control the air flow. For example, a valve or an air volume adjusting damper can be provided between the first suction parts 50a, 50b and the pressure equalizing plates 58a, 58b, and between the second suction parts 55a, 55b and the pressure equalizing plates 58a, 58b. Also with such a configuration, the suction amount of the first suction parts 50a, 50b can be set to be larger than the suction amount of the second suction parts 55a, 55b.

また、上記実施形態では、気流制御装置40の第1制動ノズル42a,42b及び第2制動ノズル43a,43bは、それぞれ搬送方向の上流に向けて気体を噴射するように、フィルム搬送面Pの垂直方向に対して傾斜するように設けられる。これに対し、下流側の第2制動ノズル43a,43bは、搬送方向の下流に向けて気体を噴射するようにして、フィルム搬送面Pの垂直方向に対して傾斜するように設けられてもよい。 In the above embodiment, the first brake nozzles 42a, 42b and the second brake nozzles 43a, 43b of the airflow control device 40 are arranged perpendicular to the film transport surface P so as to inject gas toward the upstream side in the transport direction, respectively. It is provided so as to be inclined with respect to the direction. On the other hand, the second brake nozzles 43a and 43b on the downstream side may be provided so as to be inclined with respect to the perpendicular direction of the film transport surface P so as to inject gas toward the downstream in the transport direction. .

また、上記実施形態では、気流制御装置40の第1制動ノズル42a,42b及び第2制動ノズル43a,43bは、それぞれ気体の噴射角度θ1,θ2がフィルム搬送面Pの垂直方向に対して傾斜するように設けられる。これに対し、第1制動ノズル42a,42b及び第2制動ノズル43a,43bは、気体の噴射角度θ1,θ2がフィルム搬送面Pに対して垂直となるように設けられてもよい。また、加熱装置100においては、第1制動ノズル42a,42b及び第2制動ノズル43a,43bは必須の構成ではない。 Further, in the above embodiment, the first brake nozzles 42a, 42b and the second brake nozzles 43a, 43b of the airflow control device 40 have gas injection angles θ1, θ2 that are inclined with respect to the vertical direction of the film transport surface P. It is set up like this. On the other hand, the first brake nozzles 42a, 42b and the second brake nozzles 43a, 43b may be provided such that the gas injection angles θ1, θ2 are perpendicular to the film transport surface P. Furthermore, in the heating device 100, the first brake nozzles 42a, 42b and the second brake nozzles 43a, 43b are not essential components.

100 加熱装置
10 本体部
11a 入口(通過口)
12a 出口(通過口)
13a 第1通過口(通過口)
14a 第2通過口(通過口)
21 予熱室(加熱室)
22 延伸室(加熱室)
23 熱処理室(加熱室)
40 気流制御装置
41 吸引部
42a 第1制動ノズル(第1噴射部)
42b 第1制動ノズル(第1噴射部)
43a 第2制動ノズル(第2噴射部)
43b 第2制動ノズル(第2噴射部)
50a 第1吸引部
50b 第1吸引部
55a 第2吸引部
55b 第2吸引部
100 Heating device 10 Main body 11a Inlet (passing port)
12a Exit (passing port)
13a 1st passing port (passing port)
14a 2nd passing port (passing port)
21 Preheating chamber (heating chamber)
22 Stretching chamber (heating chamber)
23 Heat treatment chamber (heating chamber)
40 Airflow control device 41 Suction part 42a First braking nozzle (first injection part)
42b First brake nozzle (first injection part)
43a Second brake nozzle (second injection part)
43b Second brake nozzle (second injection part)
50a First suction part 50b First suction part 55a Second suction part 55b Second suction part

Claims (4)

搬送されるフィルムを加熱する加熱装置であって、
内部に加熱室が区画されると共に前記加熱室に開口して前記フィルムの通過を許容する通過口が形成される本体部と、
前記通過口を通過する気流を制御する気流制御装置と、を備え、
前記気流制御装置は、前記通過口が形成される仕切部に設けられ気体を吸引する吸引部を有する、
加熱装置。
A heating device that heats a film being conveyed,
a main body portion having a heating chamber partitioned therein and a passage opening opening into the heating chamber and allowing the film to pass therethrough;
an airflow control device that controls airflow passing through the passage port,
The airflow control device includes a suction unit that is provided in the partition where the passage port is formed and that sucks gas.
heating device.
請求項1に記載の加熱装置であって、
前記吸引部に対して前記フィルムの搬送方向の上流側に設けられ前記フィルムに向けて気体を噴き付ける第1噴射部と、
前記吸引部に対して前記フィルムの搬送方向の下流側に設けられ前記フィルムに向けて気体を噴き付ける第2噴射部と、をさらに備え、
前記フィルムに対する前記第1噴射部の気体の噴射角度は、前記フィルムの搬送方向の上流に向けて気体を噴き付けるように前記フィルムの垂直方向から傾斜し、
前記フィルムに対する前記第2噴射部の気体の噴射角度は、前記フィルムの搬送方向の上流に向けて気体を噴き付けるように前記フィルムの垂直方向から傾斜する、
加熱装置。
The heating device according to claim 1,
a first injection section that is provided upstream of the suction section in the transport direction of the film and sprays gas toward the film;
further comprising a second injection section that is provided downstream in the transport direction of the film with respect to the suction section and sprays gas toward the film,
The injection angle of the gas of the first injection unit with respect to the film is inclined from the perpendicular direction of the film so as to spray the gas toward the upstream side in the conveying direction of the film,
The injection angle of the gas of the second injection unit with respect to the film is inclined from the perpendicular direction of the film so as to spray the gas toward the upstream side in the conveyance direction of the film.
heating device.
請求項2に記載の加熱装置であって、
前記第1噴射部による気体の噴射量は、前記第2噴射部による気体の噴射量と同一又は多くなるように設定される、
加熱装置。
The heating device according to claim 2,
The amount of gas injected by the first injector is set to be the same as or greater than the amount of gas injected by the second injector,
heating device.
請求項1から3のいずれか一つに記載の加熱装置であって、
前記吸引部は、それぞれ気体を吸引する第1吸引部及び第2吸引部を有し、
前記第1吸引部は、前記第2吸引部に対して前記フィルムの搬送方向において上流側に設けられ、
前記第1吸引部による気体の吸引量は、前記第2吸引部による気体の吸引量と同一又は多くなるように設定される、
加熱装置。
The heating device according to any one of claims 1 to 3,
The suction section has a first suction section and a second suction section that suck gas, respectively,
The first suction section is provided upstream of the second suction section in the transport direction of the film,
The amount of gas suctioned by the first suction part is set to be the same as or greater than the amount of gas suctioned by the second suction part,
heating device.
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