JP2023130165A - Heater - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、加熱装置に関するものである。 The present invention relates to a heating device.
特許文献1には、フィルムの搬送方向に沿って複数の風量制御ゾーンに分離された延伸炉を備えるフィルム延伸装置が開示されている。 Patent Document 1 discloses a film stretching apparatus that includes a stretching furnace that is separated into a plurality of air volume control zones along the film transport direction.
特許文献1に開示されるように、フィルムを延伸するフィルム延伸装置では、複数の加熱室を有する加熱装置によってフィルムの温度を制御しながら、フィルムの延伸が行われる。一般に、このような延伸装置では、複数の加熱室が仕切部によって仕切られ、フィルムは仕切部に形成される通過口を通じて搬送される。 As disclosed in Patent Document 1, in a film stretching apparatus for stretching a film, the film is stretched while controlling the temperature of the film using a heating device having a plurality of heating chambers. Generally, in such a stretching device, a plurality of heating chambers are partitioned by a partition, and the film is conveyed through a passage hole formed in the partition.
仕切部に形成される通過口は、加熱室間を移動する気流によって加熱室の温度が変化しないように、開口面積を小さくすることが望ましい。 It is desirable that the passage opening formed in the partition has a small opening area so that the temperature of the heating chamber does not change due to the airflow moving between the heating chambers.
一方、搬送されるフィルムには、加熱室内の気流や搬送速度の変化などに起因して、フィルムの垂直方向への変位やたるみが生じることがある。よって、通過口の開口面積を小さくすると、変位やたるみによってフィルムが通過口の内壁と干渉するおそれがある。 On the other hand, the film being transported may be displaced or sagged in the vertical direction due to changes in the air flow in the heating chamber or the transport speed. Therefore, if the opening area of the passage port is made small, there is a risk that the film may interfere with the inner wall of the passage hole due to displacement or sagging.
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、フィルムへの干渉を防止する加熱装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a heating device that prevents interference with the film.
搬送されるフィルムを加熱する加熱装置は、内部に加熱室が区画されると共に加熱室に開口してフィルムの通過を許容する通過口が形成される本体部と、搬送されるフィルムを支持する支持機構と、を備え、支持機構は、通過口の内周に設けられフィルムの垂直方向においてフィルムを挟んで対向してフィルムに対して気体を噴き付ける一対の支持部を有する。 A heating device that heats a film to be transported includes a main body portion in which a heating chamber is divided and a passage opening that opens into the heating chamber and allows the film to pass through, and a support that supports the film to be transported. The support mechanism includes a pair of support parts provided on the inner periphery of the passage port and facing each other with the film in between in a direction perpendicular to the film and spraying gas onto the film.
この態様によれば、一対の支持部が気体を噴き付けることによって、フィルムが支持されてフィルムの垂直方向に対する変位が抑制される。一対の支持部は、通過口の内周に設けられるため、通過口の内壁とフィルムとの干渉を効果的に防止することができる。 According to this aspect, the pair of support parts spray the gas, thereby supporting the film and suppressing displacement of the film in the vertical direction. Since the pair of support parts are provided on the inner periphery of the passage opening, interference between the inner wall of the passage opening and the film can be effectively prevented.
以下、図面を参照して、本発明の実施形態に係る加熱装置100について説明する。なお、各図面においては、説明の便宜上、各構成の縮尺を適宜変更しており、必ずしも厳密に図示されたものではない。また、複数の同一の構成については、その一部にのみ符号を付し、その他については符号を省略することがある。
Hereinafter, a
図1に示すように、加熱装置100は、延伸対象であるフィルムを搬送しながら延伸する延伸装置1に用いられる。なお、図1では、加熱装置100は、破線によって簡略化して図示している。
As shown in FIG. 1, the
延伸装置1は、フィルム(図示省略)を入口側(図1中左側)から出口側(図1中右側)に向けて一方向に搬送しながら、その搬送方向に沿った縦方向(以下、「MD方向」とも称する。)に垂直な横方向(以下、「TD方向」とも称する。)に延伸する、いわゆる横延伸機である。延伸装置1は、横延伸機に限定されず、例えば、MD方向とTD方向に同時に延伸する、いわゆる同時二軸延伸装置であってもよい。なお、以下の説明において、「右側」とは入口側から出口側をみて右側(図1中下側)を指すものとし、「左側」とは入口側から出口側をみて左側(図1中上側)を指すものとする。 The stretching device 1 conveys a film (not shown) in one direction from the inlet side (left side in FIG. 1) to the outlet side (right side in FIG. 1), while conveying the film in the longitudinal direction (hereinafter referred to as This is a so-called lateral stretching machine that stretches in a lateral direction (hereinafter also referred to as ``TD direction'') perpendicular to the ``MD direction''. The stretching device 1 is not limited to a transverse stretching machine, and may be, for example, a so-called simultaneous biaxial stretching device that simultaneously stretches in the MD direction and the TD direction. In the following explanation, "right side" refers to the right side (bottom side in Figure 1) when looking from the inlet side to the exit side, and "left side" refers to the left side (top side in Figure 1) when looking from the inlet side to the exit side. ).
延伸装置1は、無端状の循環経路を画定しフィルムの左右両側に配置される一対のレール装置7L,7Rと、一対のレール装置7L,7Rの循環経路を走行しフィルムを把持する複数のクリップユニット3と、搬送されるフィルムを加熱する加熱装置100と、を備える。
The stretching device 1 includes a pair of
一対のレール装置7L,7Rは、それぞれクリップユニット3を循環させる循環経路を画定する基準レール8によって構成される。
The pair of
公知の構成であるため詳細な図示及び説明は省略するが、基準レール8は、回動自在に連結される複数のレールユニットと、隣り合うレールユニットを補完する中間レール部と、により形成される。つまり、レールユニットの端部は、それぞれ中間レール部に回動自在に連結される。このようにして隣り合うレールユニット同士が中間レール部を介して互いに回動自在に連結されることで、複数のレールユニットの配置を変更して、所望の循環経路の形成することができる。
The
クリップユニット3の構成は、公知の構成を採用できるため、詳細な図示及び説明は省略する。循環経路上で隣接するクリップユニット3は、リンク機構(図示省略)によって連結される。つまり、複数のクリップユニット3は、リンク機構によって無端状に連結される。
Since the configuration of the
複数のクリップユニット3は、駆動機構(図示省略)によって循環経路に沿って走行される。具体的には、複数のクリップユニット3は、それぞれ一対のレール装置7L,7Rの基準レール8に案内されてループ状に巡回移動する。クリップユニット3は、右側のレール装置7Rでは図1中時計回り方向に巡回移動し、左側のレール装置7Lでは反時計回りに巡回移動する。一対のレール装置7L,7Rでは、互いに同数のクリップユニット3が巡回移動する。
The plurality of
駆動機構は、公知の構成を採用できるため、詳細な説明は省略する。一例を示すと、駆動機構は、フィルムを供給する入口側に設けられる一対の入口側スプロケット5L,5Rを駆動する電動モータと、延伸したフィルムを送り出す出口側に設けられる一対の出口側スプロケット6L,6Rを駆動する電動モータと、を有して構成される。
Since the drive mechanism can employ a known configuration, detailed explanation will be omitted. To give an example, the drive mechanism includes an electric motor that drives a pair of
回転駆動される入口側スプロケット5L,5R及び出口側スプロケット6L,6Rに対して各クリップユニット3が順次係合と離脱とを繰り返すことで、各クリップユニット3には、巡回経路に沿って走行する力が付与される。
Each
延伸装置1は、左右のレール装置7L,7Rの間隔を調整する横方向調整機構(図示省略)を有している。横方向調整機構は、例えば、電動モータ又は手動ハンドルが連結されたねじ機構を有する直動機構であり、レールユニットを左右方向に移動させる。横方向調整機構は、公知の構成を採用できるため、図示及び詳細な説明は省略する。
The stretching device 1 includes a lateral adjustment mechanism (not shown) that adjusts the distance between the left and
クリップユニット3を走行させる駆動装置及び横方向調整機構は、コントローラ(図示省略)によって作動が制御される。
The operation of the drive device and the lateral adjustment mechanism for moving the
フィルムが取り込まれる入口部において、左右の巡回経路を走行するクリップユニット3によりフィルムの両側縁が把持される。クリップユニット3によって把持されたフィルムは、クリップユニット3の移動に伴い、搬送方向に沿って搬送される。搬送されたフィルムは、出口側においてクリップユニット3の把持が解放され、そのまま直進する。このようにして、クリップユニット3によって把持されるフィルムは、入口側から出口側に向けて搬送される。
At the entrance portion where the film is taken in, both side edges of the film are gripped by
なお、図2に示すように、フィルムは、所定の平面(以下、「フィルム搬送面P」と称する。)上に沿うようにして一方向に搬送される。フィルム搬送面Pは、例えば、水平面に平行な仮想平面である。以下の説明において、フィルムに対して垂直又は平行等の用語は、実際に搬送されるフィルムに対して垂直又は平行の意味ではなく、フィルム搬送面Pに対して垂直又は平行(言い換えると、フィルム搬送面Pに平行となるように理想的に搬送されたフィルムに対して垂直又は平行)の意味である。 Note that, as shown in FIG. 2, the film is transported in one direction along a predetermined plane (hereinafter referred to as "film transport surface P"). The film transport surface P is, for example, a virtual plane parallel to the horizontal plane. In the following explanation, terms such as perpendicular or parallel to the film do not mean perpendicular or parallel to the film that is actually transported, but perpendicular or parallel to the film transport surface P (in other words, (perpendicular or parallel to the film ideally transported so as to be parallel to plane P).
延伸装置1では、左右のレール装置7L,7Rが対向する領域がフィルム搬送エリアTAとして構成される。フィルム搬送エリアTAでは、延伸装置1の入口側から出口側へ向けて、予熱ゾーンZa、延伸ゾーンZb、熱処理ゾーンZcが順に配置(割り当て)されている。なお、各ゾーンは、一つのゾーンとして形成される構成に限定されず、複数のゾーンによって構成されてもよい。
In the stretching device 1, the area where the left and
予熱ゾーンZaでは、左右の循環経路の離間距離(つまり、TDピッチ)がフィルムの初期幅相当に設定されて全域に亘って左右の循環経路が互いに平行に配置される。よって、予熱ゾーンZaでは、フィルムの横延伸は行われず、フィルムを延伸可能な温度に予熱する処理だけが行われる。 In the preheating zone Za, the distance between the left and right circulation paths (that is, the TD pitch) is set to correspond to the initial width of the film, and the left and right circulation paths are arranged parallel to each other over the entire area. Therefore, in the preheating zone Za, the film is not laterally stretched, but only the process of preheating the film to a temperature at which it can be stretched is performed.
延伸ゾーンZbでは、予熱ゾーンZaの側から熱処理ゾーンZcに向かうに従って左右の循環経路の離間距離が徐々に拡大されている。つまり、延伸ゾーンZbでは、左右の循環経路は、入口側から出口側に向けて間隔が広がる末広がり状に設けられる。よって、延伸ゾーンZbでは、クリップユニット3同士の横方向の間隔(TDピッチ)が徐々に大きくなる。従って、延伸ゾーンZbでは、フィルムは、TD方向の延伸(横延伸)が行われる。
In the stretching zone Zb, the distance between the left and right circulation paths gradually increases from the preheating zone Za side toward the heat treatment zone Zc. That is, in the stretching zone Zb, the left and right circulation paths are provided in a shape that widens toward the end, with the interval increasing from the inlet side to the outlet side. Therefore, in the stretching zone Zb, the lateral distance (TD pitch) between the
延伸ゾーンZbを通過して横延伸と縦延伸の同時二軸延伸されたフィルムは、続いて熱処理ゾーンZcに進入する。熱処理ゾーンZcでは、左右の循環経路の離間距離が延伸されたフィルムの幅相当に設定されて全域に亘って左右の循環経路が互いに平行に配置されている。従って、熱処理ゾーンZcでは、フィルムの横延伸も縦延伸も行われず、温度調整等の熱処理だけが行われる。 The film that has passed through the stretching zone Zb and has been subjected to simultaneous biaxial stretching in the transverse direction and the longitudinal direction, then enters the heat treatment zone Zc. In the heat treatment zone Zc, the distance between the left and right circulation paths is set to correspond to the width of the stretched film, and the left and right circulation paths are arranged parallel to each other over the entire area. Therefore, in the heat treatment zone Zc, neither lateral nor longitudinal stretching of the film is performed, but only heat treatment such as temperature adjustment is performed.
次に、加熱装置100の構成について説明する。
Next, the configuration of the
加熱装置100は、図2に示すように、フィルム搬送エリアTAを覆うようにして設けられる略箱状の本体部10を有する。
As shown in FIG. 2, the
本体部10は、フィルム搬送エリアTAの各ゾーンに対応して、複数の加熱室(本実施形態では3つの加熱室)を有する。具体的には、本体部10の内部には、加熱室として、予熱室21、延伸室22、及び熱処理室23が区画される。予熱室21の内部が予熱ゾーンZa、延伸室22の内部が延伸ゾーンZb、熱処理室23の内部が熱処理ゾーンZcにそれぞれ対応する。なお、以下では、予熱室21、延伸室22、及び熱処理室23を総称して単に「加熱室」とも称する。
The
本体部10は、予熱室21と本体部10の外部とを仕切る入口壁11と、熱処理室23と本体部10の外部とを仕切る出口壁12と、予熱室21と延伸室22とを仕切る仕切部としての第1仕切壁13と、延伸室22と熱処理室23とを仕切る第2仕切壁14と、を有する。以下では、入口壁11、出口壁12、第1仕切壁13、及び第2仕切壁14を総称して、「仕切部」とも称する。
The
入口壁11には、フィルムが搬入される入口11aが形成される。また、出口壁12には、フィルムが搬出される出口12aが形成される。
The entrance wall 11 is formed with an entrance 11a through which the film is introduced. Further, the
第1仕切壁13には、フィルムが通過する通過口としての第1通過口13aが形成される。第2仕切壁14には、フィルムが通過する通過口としての第2通過口14aが形成される。入口11a、出口12a、第1通過口13a、及び第2通過口14aは、それぞれフィルム、基準レール8、及びクリップユニット3の通過を許容する。このように、入口11a、出口12a、第1通過口13a、及び第2通過口14aは、それぞれ加熱室に開口するように仕切部に形成されフィルムの通過を許容する「通過口」に相当する。
A
より具体的には、予熱室21との関係では、入口11a及び第1通過口13aが「通過口」に相当する。延伸室22との関係では、第1通過口13a及び第2通過口14aが「通過口」に相当する。熱処理室23との関係では、第2通過口14a及び出口12aが「通過口」に相当する。
More specifically, in relation to the preheating
また、図3に示すように、入口壁11、出口壁12、第1仕切壁13、及び第2仕切壁14の上流側及び下流側には、入口11a、出口12a、第1通過口13a、及び第2通過口14aの一部を閉塞可能な一対のスライドカバー17L,17Rがそれぞれ設けられる。なお、図3では、第1仕切壁13の上流側に設けられるスライドカバー17L、17Rを示しているが、第1仕切壁13の下流側、入口壁11、出口壁12、及び第2仕切壁14それぞれの上流及び下流側に設けられるスライドカバーも同様の構成である。以下では、第1仕切壁13の上流側に設けられるスライドカバー17L,17Rについて説明し、その他のスライドカバーについては説明を省略する。図3中左側は、レール装置7L、7Rの横方向の間隔が最小の状態(以下、「レール最小幅」とも称する。)を示し、右側は最大の状態(以下、「レール最大幅」とも称する。)を示している。また、図3では、スライドカバー17L,17Rによって隠れた第1通過口13aを二点鎖線、後述の支持機構40を破線でそれぞれ示している。また、図2及び図4では、スライドカバー17L,17Rの図示は省略する。
Further, as shown in FIG. 3, on the upstream and downstream sides of the inlet wall 11, the
一対のスライドカバー17L,17Rは、それぞれフィルムの左右方向の中心に向けて開口するスリット17aを有する略U字状に形成され、フィルムの左右方向の中心に対して互いに略左右対称となるように配置される。スリット17aの開口幅(フィルム搬送面Pに対して垂直方向の寸法)は、第1通過口13aと略同一に形成される。スリット17aは、フィルム、クリップユニット3、レール装置7L,7Rの通過を許容する。なお、図2及び図4では、フィルム、クリップユニット3、レール装置7L,7R等の図示を省略している。
The pair of slide covers 17L and 17R are each formed into a substantially U-shape having a
一対のスライドカバー17L,17Rは、それぞれ横方向に移動可能である。具体的には、左側のスライドカバー17Lは、横方向調整機構によって横方向に移動される左側のレール装置7Lの移動に伴って横方向に移動する。同様に、右側のスライドカバー17Rは、右側のレール装置7Rの移動に伴って横方向に移動する。
The pair of slide covers 17L, 17R are each movable laterally. Specifically, the
第1通過口13aは、様々な幅のフィルムを通過させるために、幅が広いフィルムに合わせて横方向の長さが設定される。よって、相対的に幅が狭いフィルムが通過する場合には、第1通過口13aの横方向外側の一部は、フィルムが通過しないスペースとなる。このようなフィルムが通過しないスペースを通じて、気体が加熱室間又は本体部10の外部との間を移動することがある。
In order to allow films of various widths to pass through, the
これに対し、本実施形態では、一対のスライドカバー17L,17Rがレール装置7L,7Rに伴って横方向に移動する。フィルムの幅に合わせてレール装置7L,7Rを横方向に互いに近づけるように移動させると、これに伴ってスライドカバー17L,17Rが移動し、スライドカバー17L,17Rによって第1通過口13aの横方向外側の一部(図3中クロスハッチングを施した部分)が塞がれる。これにより、第1通過口13aのうちフィルムが通過しない部分を通じて、加熱室間又は本体部10の外部との間で気体が移動することを抑制することができる。一対のスライドカバー17L,17Rは、図3中左側に示すように、左右のレール装置7L,7R間の横方向の間隔が最小(延伸装置1に供給される最小のフィルム幅)の場合にも、第1通過口13aのうちフィルムが通過しない横方向外側の部分が塞がれるように形成されることが望ましい。
In contrast, in this embodiment, the pair of slide covers 17L, 17R move laterally along with the
加熱装置100は、搬送されるフィルムの温度を制御する温度制御装置30と、搬送されるフィルムを支持するための支持機構40と、をさらに有する。
The
温度制御装置30は、予熱室21、延伸室22、及び熱処理室23のそれぞれに設けられる。各加熱室に設けられる温度制御装置30は、基本的に同様の構成を有するため、以下では、予熱室21に設けられる温度制御装置30を例に具体的構成を説明し、延伸室22及び熱処理室23内の温度制御装置30については、具体的説明及び符示を適宜省略する。
The
温度制御装置30は、搬送されるフィルムに対して所定の温度の気体(エア)を噴き付けてフィルムを加熱する加熱部としての加熱ノズル31a,31bと、加熱ノズル31a,31bに対して気体を供給する気体供給源としてのブロワ32と、ブロワ32から加熱ノズル31a,31bへの気体の温度を調整する温度調整部としての熱交換器33と、を有する。
The
温度制御装置30では、搬送されるフィルムを挟んで当該フィルムの垂直方向において対向する二つの加熱ノズル31a,31bを対として、複数対の加熱ノズル31a,31bがフィルムの搬送方向に所定の間隔を空けて設けられる。本実施形態では、フィルムの搬送方向に間隔を空けて三対の加熱ノズル31a,31bが設けられる。なお、加熱ノズル31a,31bの数は、三対に限定されず、一対又は二対でもよいし、四対以上であってもよい。また、各加熱室に設けられる加熱ノズル31a,31bの数は、互いに同数に限定されず、加熱室ごとに個別に数を設定してよい。
In the
一対の加熱ノズル31a,31bは、フィルムに対して所定の間隔を空けてフィルムの垂直方向において対向する。各加熱ノズル31a,31bとフィルムとの間の垂直方向の間隔は、同一である。また、加熱ノズル31a,31bは、フィルムに対して垂直に気体を噴き付ける。三対の加熱ノズル31a,31bは、入口壁11と第1仕切壁13との間であって、搬送方向における略中央付近に等間隔を空けて設けられる。
A pair of
ブロワ32から吐出された気体は、供給ライン34を通じて各加熱ノズル31a,31bに供給され、各加熱ノズル31a,31bを通じてフィルムに向けて噴き付けられる。予熱室21内の気体は、排気ダクト(図示省略)等で構成される排気ライン35を通じてブロワ32に吸い込まれる。このようにして、気体の循環ラインが形成される。
The gas discharged from the
熱交換器33は、ブロワ32と加熱ノズル31a,31bとを接続する供給ライン34を通過する気体を所望の温度に調整する。所望の温度に調整された気体が加熱ノズル31a,31bを通じてフィルムに向けて噴き付けられる。これにより、フィルムの温度が制御される。
The
本実施形態では、図2に示すように、仕切部である入口壁11、第1仕切壁13、第2仕切壁14、及び出口壁12のそれぞれに支持機構40が設けられる。これにより、入口11a、出口12a、第1通過口13a、及び第2通過口14aの内側においてフィルムの変位が抑制される。各支持機構40の構成は、基本的には同様であるため、以下では、第1通過口13aを通過するフィルムを支持する支持機構40を例に説明し、その他の支持機構40については具体的な説明及び符示を適宜省略する。また、以下では、予熱室21の加熱ノズル31a,31bに気体を供給するブロワ32を「第1ブロワ32a」、延伸室22の加熱ノズル31a,31bに気体を供給するブロワ32を「第2ブロワ32b」とも称する。なお、図2では、支持機構40の構成は、一部の構成を省略し、簡略化して図示している。
In this embodiment, as shown in FIG. 2, a
図4に示すように、支持機構40は、第1通過口13aの内周に設けられフィルムに対して気体を噴き付けてフィルムを支持する一対の第1支持部(支持部)としての一対の第1噴射部41a,41bと、第1通過口13aの内周に設けられフィルムに対して気体を噴き付けてフィルムを支持する一対の第2支持部(支持部)としての一対の第2噴射部43a,43bと、を有する。なお、他の支持機構40では、第1支持部及び第2支持部は、それぞれ通過口である入口11a、第2通過口14a、及び出口12aのいずれかに設けられる。
As shown in FIG. 4, the
一対の第1噴射部41a,41bには、第1気体供給源としての第1ブロワ32aから加熱ノズル31a,31bへの気体の供給ラインから分岐して気体が供給される。一対の第2噴射部43a,43bには、第2気体供給源としての第2ブロワ32bから気体が供給される。このように、相対的に上流側の支持部である第1噴射部41a,41bの気体供給源は、第1通過口13aの上流側の加熱室である予熱室21の温度制御装置30の気体供給源(第1ブロワ32a)と共通に使用される。同様に、相対的に下流側の支持部である第2噴射部43a,43bの気体供給源は、第1通過口13aの下流側の加熱室である延伸室22の温度制御装置30の気体供給源(第2ブロワ32b)と共通に使用される。なお、入口11aに設けられる第1噴射部及び出口12aに設けられる第2噴射部の気体供給源は、本体部10の外部(大気)を吸い込んで吐出するブロワ32cが用いられる。ブロワ32cは、他の噴射部への気体供給ラインから分岐して入口11aの第1噴射部及び出口12aの第2噴射部に気体を供給してもよい。また、気体供給源は、温度制御装置30と支持機構40とで、別々であってもよい。
Gas is supplied to the pair of
一対の第1噴射部41a,41bは、フィルム搬送面Pを挟んでフィルム搬送面Pに垂直方向に互いに対向する。また、一対の第2噴射部43a,43bは、フィルム搬送面Pを挟んでフィルム搬送面Pに垂直方向に互いに対向する。一対の第1噴射部41a,41bは、一対の第2噴射部43a,43bに対して、フィルムの搬送方向の上流側に並んで設けられる。
The pair of
図5は、図4における矢印A方向からみた一方の第1噴射部41a及び第2噴射部43aの拡大図である。図5に示すように、第1噴射部41a,41bは、第1通過口13aに開口する複数の第1噴射口42を有する。複数の第1噴射口42は、互いに同一形状であり、例えば、図5に示すように長円形状に形成される。第2噴射部43a,43bは、第1通過口13aに開口する複数の第2噴射口44を有する。複数の第2噴射口44は、互いに同一形状であり、例えば、図5に示すように長円形状に形成される。このように、第1噴射部41a,41b及び第2噴射部43a,43bは、それぞれ第1仕切壁13の第1通過口13aの内周壁の一部を構成する。
FIG. 5 is an enlarged view of one of the
第1噴射部41a,41bの第1噴射口42の中心軸は、フィルム搬送面Pに対して垂直に設けられる。また、第2噴射部43a,43bの第2噴射口44の中心軸は、フィルム搬送面Pに対して垂直に設けられる。よって、第1噴射部41a,41bによる気体の噴き付け角度及び第2噴射部43a,43bによる気体の噴き付け角度は、それぞれフィルムに対して垂直である。
The central axes of the
一対の第1噴射部41a,41bの第1噴射口42及び一対の第2噴射部43a,43bの第2噴射口44を通じてフィルムに対して気体が噴き付けられることで、フィルムは、その垂直方向の両側から支持される。
Gas is sprayed onto the film through the
複数の第1噴射口42及び複数の第2噴射口44は、それぞれ第1通過口13aの内壁において、フィルムの搬送方向及び幅方向に所定の間隔を空けて均一に配置される。上述のように、フィルムの幅は、製品仕様によって異なり、フィルムの幅に応じて左右のレール装置7L,7R間の横方向の間隔が設定される。このため、支持機構40(一対の第1噴射部41a,41b及び一対の第2噴射部43a,43b)は、レール最小幅となった左右のレール装置7L,7Rに干渉しないようにレール最小幅に対応した横方向の範囲に設けられ、レール最小幅の状態のフィルムの幅方向略全体にわたって気体を噴き付けるように設けられる。これにより、左右のレール装置7L,7Rがレール最小幅の状態においてレール装置7L,7Rと支持機構40との干渉を防ぎつつ、レール装置7L,7Rの間隔がレール最小幅より大きくなっても最大限広い幅方向の範囲でフィルムに気体を噴き付けて支持することができる。
The plurality of
スライドカバー17L,17Rは、左右のレール装置7L,7Rの間隔がレール最大幅となった場合でも、横方向における左右のレール装置7L,7Rと支持機構40との間の空間を、搬送方向から覆うように設けられる。つまり、左右のレール装置7L,7Rの間隔がレール最大幅の状態において、搬送方向から見てスライドカバー17L,17Rの一部が支持機構40と重複しており、スライドカバー17L,17Rと支持機構40との間に空間(隙間)が生じないように構成される(図3中右側参照)。
Even when the distance between the left and
フィルム搬送面Pの上側に設けられる一方の第1噴射部41aと第2噴射部43aとは、隔壁49aによって隔てられる。隔壁49aによって、第1仕切壁13の内部に第1供給通路47aと第2供給通路48aとが区画される。同様に、フィルム搬送面Pの下側に設けられる他方の第1噴射部41bと第2噴射部43bとは、隔壁49bによって隔てられる。隔壁49bによって、第1仕切壁13の内部に第1供給通路47bと第2供給通路48bとが区画される。フィルム搬送面Pの上側の第1供給通路47aと下側の第1供給通路47bとは互いに連通する。フィルム搬送面Pの上側の第2供給通路48aと下側の第2供給通路48bとは互いに連通する。
One of the
第1ブロワ32aは、予熱室21内の気体を吸い込んで第1供給通路47a,47bを通じて第1噴射部41a,41bに供給する。第2ブロワ32bは、延伸室22内の気体を吸い込んで第2供給通路48a,48bを通じて第2噴射部43a,43bに供給する。予熱室21内の温度と延伸室22内の温度は、互いに異なっており、予熱室21と延伸室22との間には温度差がある。よって、第1噴射部41a,41bが噴き付ける気体の温度と第2噴射部43a,43bが噴き付ける気体と温度は、予熱室21と延伸室22との温度差に応じて異なる。
The
また、一対の第1噴射部41a,41b全体による気体の噴射量(総量)は、予熱室21に設けられる3対の加熱ノズル31a,31b全体による気体の噴射量(総量)よりも少ない。また、フィルム搬送面Pに垂直な方向における第1噴射部41a,41bとフィルム搬送面Pとの間の距離は、予熱室21の加熱ノズル31a,31bとフィルム搬送面Pとの間の距離よりも短い。同様に、第2噴射部43a,43b全体による気体の噴射量は、延伸室22に設けられる3対の加熱ノズル31a,31b全体による気体の噴射量よりも少ない。フィルム搬送面Pに垂直な方向における第2噴射部43a,43bとフィルム搬送面Pとの間の距離は、延伸室22の加熱ノズル31a,31bとフィルム搬送面Pとの間の距離よりも短い。
Further, the amount (total amount) of gas injected by the pair of
このように構成されることで、第1噴射部41a,41b及び第2噴射部43a,43bから噴き付けられる気体の噴射量が少なくても、フィルムを充分に支持できる。また、第1噴射部41a,41bが噴射する気体の延伸室22への流入、及び、第2噴射部43a,43bが噴射する気体の予熱室21への流入による予熱室21及び延伸室22の温度変化を抑制することができる。
With this configuration, the film can be sufficiently supported even if the amount of gas sprayed from the
なお、一対の第1噴射部41a,41bのそれぞれがフィルムに対して噴き付ける気体の噴射量は、互いに同一である。一対の第2噴射部43a,43bのそれぞれがフィルムに対して噴き付ける気体の噴射量は、互いに同一である。
Note that the amount of gas sprayed onto the film by each of the pair of
次に、加熱装置100の作用について説明する。
Next, the operation of the
一般に、加熱装置では、加熱室の内部や外部において生じる気流、フィルムの搬送速度の変動、クリップユニットによるフィルムの把持の緩み等が原因となって、フィルムに撓みや振動が生じることがある。このようなフィルムの垂直方向の変位が生じると、仕切壁に形成される通過口にフィルムが干渉し、フィルムの品質に影響を及ぼすおそれがある。 In general, in a heating device, the film may warp or vibrate due to air currents generated inside or outside the heating chamber, fluctuations in film transport speed, loosening of the grip of the film by the clip unit, and the like. If such vertical displacement of the film occurs, the film may interfere with the passage holes formed in the partition wall, which may affect the quality of the film.
これに対し、本実施形態の加熱装置100では、一対の第1噴射部41a,41b及び一対の第2噴射部43a,43bが、それぞれフィルムを垂直方向に挟むようにして、第1仕切壁13の第1通過口13aに設けられる。一対の第1噴射部41a,41b及び一対の第2噴射部43a,43bからフィルムに噴き付けられる気体によって、フィルムはその垂直方向に支持される。これにより、第1通過口13aの内側におけるフィルムの垂直方向の変位が抑制されるため、第1通過口13aに対するフィルムの干渉を防止して、フィルムの品質低下を抑制することができる。
On the other hand, in the
また、加熱装置100では、一対の支持部として、一対の第1噴射部41a,41b及び一対の第2噴射部43a,43bを有する。一対の第1噴射部41a,41bと一対の第2噴射部43a,43bとは、フィルム搬送方向に並んで設けられる。相対的に上流側の第1噴射部41a,41bが噴射する気体の温度は予熱室21の温度と略同一であり、相対的に下流側の第2噴射部43a,43bが噴射する気体の温度は延伸室22の温度と略同一である。このため、第1噴射部41a,41bから噴射された気体の一部がフィルムにあたって方向を変えて延伸室22に向けて流れようとしても、第2噴射部43a,43bから噴射される気体によって、延伸室22内への流入が防止される。同様に、第1噴射部41a,41bから噴射される気体によって、第2噴射部43a,43bから噴射された気体の予熱室21への流入が防止される。よって、第1噴射部41a,41b及び第2噴射部43a,43bが噴射する気体によって予熱室21及び延伸室22の温度変化を抑制できる。
The
以下、本実施形態の作用効果について説明する。 The effects of this embodiment will be explained below.
搬送されるフィルムを加熱する加熱装置100は、内部に加熱室(予熱室21,延伸室22,熱処理室23)が区画されると共に加熱室に開口してフィルムの通過を許容する通過口(入口11a、第1通過口13a,第2通過口14a,出口12a)が形成される本体部10と、搬送されるフィルムを支持する支持機構40と、を備え、支持機構40は、通過口の内周に設けられフィルムの垂直方向においてフィルムを挟んで対向してフィルムに対して気体を噴き付ける一対の支持部(第1噴射部41a,41b、第2噴射部43a,43b)を有する。
The
この構成では、一対の支持部が気体を噴き付けることによって、フィルムが支持されてフィルムの垂直方向に対する変位が抑制される。一対の支持部は、通過口の内周に設けられるため、通過口の内壁とフィルムとの干渉を効果的に防止することができる。 In this configuration, the pair of support parts spray gas to support the film and suppress displacement of the film in the vertical direction. Since the pair of support parts are provided on the inner periphery of the passage opening, interference between the film and the inner wall of the passage opening can be effectively prevented.
また、加熱装置100では、支持機構40は、一対の支持部として一対の第1支持部(第1噴射部41a,41b)及び一対の第2支持部(第2噴射部42a,42b)を有し、一対の第1支持部は、一対の第2支持部に対してフィルムの搬送方向において上流側に設けられる。
In addition, in the
また、加熱装置100では、一対の第1支持部が噴き付ける気体の温度と一対の第2支持部が噴き付ける気体の温度とが異なる。
Furthermore, in the
これらの構成では、第1支持部及び第2支持部の一方から噴射される気体によって、他方から噴射される気体が通過口を通じて加熱室に対して流入又は流出することが抑制される。よって、加熱室の温度変化を抑制することができる。 In these configurations, the gas injected from one of the first support part and the second support part suppresses the gas injected from the other from flowing into or out of the heating chamber through the passage port. Therefore, temperature changes in the heating chamber can be suppressed.
また、加熱装置100は、フィルムに対して気体を噴き付けてフィルムを加熱する加熱部(加熱ノズル31a,31b)をさらに有する。
The
また、加熱装置100では、支持部からフィルムに対して噴き付けられる気体の流量は、加熱部からフィルムに対して噴き付けられる気体の流量よりも小さい。
Furthermore, in the
この構成によれば、支持部から噴射される気体によって加熱室の温度が変化することを抑制できる。 According to this configuration, it is possible to suppress the temperature of the heating chamber from changing due to the gas injected from the support part.
また、加熱装置100では、フィルムの垂直方向におけるフィルムと支持部との間の距離は、フィルムと加熱部との間の距離よりも短い。
Furthermore, in the
この構成では、支持部が噴射する気体の噴射量が少なくてもフィルムを支持することができ、フィルムの変位を抑制することができる。 With this configuration, the film can be supported even if the amount of gas jetted by the support section is small, and displacement of the film can be suppressed.
加熱装置100では、フィルムに対する支持部の気体の噴き付け角度は、フィルムに対して垂直である。
In the
以上、本発明の実施形態について説明したが、上記実施形態は本発明の適用例の一部を示したに過ぎず、本発明の技術的範囲を上記実施形態の具体的構成に限定する趣旨ではない。 Although the embodiments of the present invention have been described above, the above embodiments merely show a part of the application examples of the present invention, and are not intended to limit the technical scope of the present invention to the specific configurations of the above embodiments. do not have.
上記実施形態では、通過口である入口11a、第1通過口13a、第2通過口14a、及び出口12aのそれぞれに支持部が設けられる。これに対し、フィルムの垂直方向における変位が小さいような場合には、すべての通過口に支持機構40が設けられなくてもよい。加熱装置100は、少なくとも通過口のいずれかに支持部が設けられる構成であればよい。
In the embodiment described above, a support portion is provided at each of the passage ports, namely, the inlet 11a, the
また、上記実施形態では、加熱装置100は、複数の加熱室を有する。これに対し、加熱装置100は、単一の加熱室を有するものでもよい。この場合であっても、入口11a及び出口12aの少なくとも一方に支持部を設けることで、フィルムの変位を抑制することができる。
Moreover, in the embodiment described above, the
また、上記実施形態では、加熱装置100は、支持部として一対の第1噴射部41a,41b(第1支持部)及び一対の第2噴射部43a,43b(第2支持部)を有する。一対の第1噴射部41a,41bと一対の第2噴射部43a,43bとは、噴射する気体の温度が異なる。これに対し、加熱装置100は、一対又は複数の支持部を有する構成に限定されるものではない。加熱装置100は、フィルム搬送面Pの上側に一つの支持部を有し、下側に一つの支持部を有する構成でもよい。
Moreover, in the embodiment described above, the
100 加熱装置
10 本体部
11a 入口(通過口)
12a 出口(通過口)
13a 第1通過口(通過口)
14a 第2通過口(通過口)
21 予熱室(加熱室)
22 延伸室(加熱室)
23 熱処理室(加熱室)
31a 加熱ノズル(加熱部)
31b 加熱ノズル(加熱部)
40 支持機構
41a 第1噴射部(支持部、第1支持部)
41b 第1噴射部(支持部、第1支持部)
42a 第2噴射部(支持部、第2支持部)
42b 第2噴射部(支持部、第2支持部)
100
12a Exit (passing port)
13a 1st passing port (passing port)
14a 2nd passing port (passing port)
21 Preheating chamber (heating chamber)
22 Stretching chamber (heating chamber)
23 Heat treatment chamber (heating chamber)
31a Heating nozzle (heating part)
31b Heating nozzle (heating part)
40
41b First injection part (support part, first support part)
42a Second injection part (support part, second support part)
42b Second injection part (support part, second support part)
Claims (7)
内部に加熱室が区画されると共に前記加熱室に開口して前記フィルムの通過を許容する通過口が形成される本体部と、
搬送される前記フィルムを支持する支持機構と、を備え、
前記支持機構は、前記通過口の内周に設けられ前記フィルムの垂直方向において前記フィルムを挟んで対向して前記フィルムに対して気体を噴き付ける一対の支持部を有する、
加熱装置。 A heating device that heats a film being conveyed,
a main body portion having a heating chamber partitioned therein and a passage opening opening into the heating chamber and allowing the film to pass therethrough;
A support mechanism that supports the film being transported,
The support mechanism includes a pair of support parts provided on the inner periphery of the passage port and facing each other across the film in a direction perpendicular to the film and spraying gas onto the film.
heating device.
前記支持機構は、一対の前記支持部として一対の第1支持部及び一対の第2支持部を有し、
一対の前記第1支持部は、一対の前記第2支持部に対して前記フィルムの搬送方向において上流側に設けられる、
加熱装置。 The heating device according to claim 1,
The support mechanism has a pair of first support parts and a pair of second support parts as the pair of support parts,
The pair of first supporting parts are provided upstream of the pair of second supporting parts in the transport direction of the film,
heating device.
一対の前記第1支持部が噴き付ける気体の温度と一対の前記第2支持部が噴き付ける気体の温度とが異なる、
加熱装置。 The heating device according to claim 2,
The temperature of the gas sprayed by the pair of first supports is different from the temperature of the gas sprayed by the pair of second supports,
heating device.
前記フィルムに対して気体を噴き付けて前記フィルムを加熱する加熱部をさらに有する、
加熱装置。 The heating device according to any one of claims 1 to 3,
further comprising a heating unit that sprays gas onto the film to heat the film;
heating device.
前記支持部から前記フィルムに対して噴き付けられる気体の流量は、前記加熱部から前記フィルムに対して噴き付けられる気体の流量よりも小さい、
加熱装置。 The heating device according to claim 4,
The flow rate of the gas sprayed from the supporting part to the film is smaller than the flow rate of the gas sprayed from the heating part to the film.
heating device.
前記フィルムの垂直方向における前記フィルムと前記支持部との間の距離は、前記フィルムと前記加熱部との間の距離よりも短い、
加熱装置。 The heating device according to claim 4 or 5,
The distance between the film and the supporting part in the vertical direction of the film is shorter than the distance between the film and the heating part.
heating device.
前記フィルムに対する前記支持部の気体の噴き付け角度は、前記フィルムに対して垂直である、
加熱装置。 The heating device according to any one of claims 1 to 6,
The spraying angle of the gas of the support part to the film is perpendicular to the film;
heating device.
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