JP2023120508A - Powder and powder manufacturing method - Google Patents

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JP2023120508A JP2022023423A JP2022023423A JP2023120508A JP 2023120508 A JP2023120508 A JP 2023120508A JP 2022023423 A JP2022023423 A JP 2022023423A JP 2022023423 A JP2022023423 A JP 2022023423A JP 2023120508 A JP2023120508 A JP 2023120508A
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Kohei Kariya
拓人 岡部
Takuto Okabe
直嗣 野上
Naotsugu Nogami
元晴 深澤
Motoharu Fukazawa
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Abstract

To provide a powder or the like that reduces abnormalities detected when a product thereof is analyzed.SOLUTION: According to one aspect of the present invention, a powder containing ZnO, Al2O3 and SiO2 is provided. In the powder, the amount of Zr contained in the powder is 10 ppm or less with respect to the total amount of the powder.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、粉末及び粉末の製造方法に関する。 The present invention relates to powders and methods of making powders.

一般に、ガラス材料、樹脂材料等の基材の物性又は機能等を向上させることを目的として、粉末状のフィラーが使用されている。例えば非晶質シリカは、0.5×10-6/℃程度の小さな熱膨張係数を持ち、比較的容易に入手できることから、基材の熱膨張係数を制御するためのフィラーとして用いられている。しかしながら、接合、封着又は封止等に用いられる基材に添加する際には、フィラーの熱膨張係数と基材との熱膨張係数を適合させるとともに、熱応力の発生を抑制するために、非晶質シリカよりさらに小さい熱膨張係数を持つフィラーが注目されている。 In general, powdery fillers are used for the purpose of improving physical properties or functions of substrates such as glass materials and resin materials. For example, amorphous silica has a small thermal expansion coefficient of about 0.5×10 −6 /° C. and is relatively easily available, so it is used as a filler for controlling the thermal expansion coefficient of substrates. . However, when adding it to a base material used for bonding, sealing, sealing, etc., in order to match the thermal expansion coefficient of the filler with that of the base material and suppress the generation of thermal stress, A filler with a thermal expansion coefficient even smaller than that of amorphous silica has attracted attention.

非晶質シリカよりも熱膨張係数が小さい材料として、リン酸ジルコニウム、タングステン酸ジルコニウム、マンガン窒化物等の多くの材料が知られている。しかし、これらの材料の比重は大きく、配合後の樹脂材料等も重くなるため、電子部品等への使用は一般的ではない。そこで、軽量で熱膨張係数が小さい材料の開発が盛んに行われている。 Many materials such as zirconium phosphate, zirconium tungstate, and manganese nitride are known as materials having a thermal expansion coefficient smaller than that of amorphous silica. However, the specific gravity of these materials is large, and the resin materials after blending become heavy, so that they are not generally used for electronic parts and the like. Therefore, materials that are lightweight and have a small coefficient of thermal expansion are actively being developed.

例えば、特許文献1には、ZnO、Al及びSiOの三成分を含有する粉末が開示されている。このような粉末は、樹脂基材中に配合した場合に、その基材の熱膨張係数の低減効果に優れることが開示されている。 For example, Patent Document 1 discloses a powder containing three components of ZnO, Al2O3 and SiO2 . It is disclosed that such a powder, when blended in a resin base material, is excellent in reducing the coefficient of thermal expansion of the base material.

これに関連して、非特許文献1に開示された技術も知られている。この文献によれば、ZnO、Al及びSiOの三成分に対し、ZrOを核生成剤として機能させることにより、結晶化挙動を調整し、所望のガラス成分とすることが示されている。 Related to this, the technique disclosed in Non-Patent Document 1 is also known. According to this document, by allowing ZrO 2 to function as a nucleating agent for the three components of ZnO, Al 2 O 3 and SiO 2 , it is shown that the crystallization behavior can be adjusted to obtain a desired glass component. ing.

国際公開第2019/177112号パンフレットInternational Publication No. 2019/177112 pamphlet

「材料」(Journal of the Society of Materials Science, Japan), Vol. 61, No. 6, pp. 509-513, June 2012"Materials" (Journal of the Society of Materials Science, Japan), Vol. 61, No. 6, pp. 509-513, June 2012

しかしながら、本発明者らが検討した結果、先行技術にあるような粉末を樹脂などに含ませると、品質検査等の段階で、異物として観察される成分があることを見出した。
ここで、円滑に粉末を各種材料に展開する観点からはこのような現象を未然に防ぐことができることが望ましいといえる。
However, as a result of investigations by the present inventors, it was found that, when the powder in the prior art is included in a resin or the like, there is a component observed as a foreign substance at the stage of quality inspection or the like.
Here, it can be said that it is desirable to be able to prevent such a phenomenon from the viewpoint of smoothly expanding the powder to various materials.

本発明では上記事情に鑑み、製品分析時における異常検出が抑制される粉末等を提供することとした。 In view of the above circumstances, the present invention provides a powder or the like that suppresses detection of abnormalities during product analysis.

本発明の一態様によれば、ZnO、Al及びSiOを含む粉末が提供される。この粉末では、粉末中のZr含有量が、粉末の総量に対して10ppm以下である。 According to one aspect of the invention there is provided a powder comprising ZnO, Al2O3 and SiO2 . In this powder, the Zr content in the powder is 10 ppm or less with respect to the total amount of the powder.

本発明は、次に記載の各態様で提供されてもよい。
前記粉末において、前記粉末中のU含有量が、前記粉末の総量に対して10ppb以下である、粉末。
前記粉末において、平均円形度が0.6以上である、粉末。
前記粉末において、ガラス中又は樹脂中に配合されて使用される、粉末。
前記粉末の製造方法であって、ZnO、Al及びSiOを含む原料混合物を準備することと、前記原料混合物を溶融させることと、溶融させた前記原料混合物を冷却し、原料ガラスを得ることと、前記原料ガラスを粉砕することと、を含む方法。
前記粉末の製造方法において、前記原料ガラスの粉砕をスタンプミルにて行う、方法。
もちろん、この限りではない。
The present invention may be provided in each aspect described below.
The powder, wherein the U content in the powder is 10 ppb or less with respect to the total amount of the powder.
The powder, wherein the powder has an average circularity of 0.6 or more.
Among the above-mentioned powders, the powder used by blending in glass or resin.
In the method for producing the powder, preparing a raw material mixture containing ZnO, Al 2 O 3 and SiO 2 , melting the raw material mixture, cooling the molten raw material mixture, and producing a raw glass and pulverizing the raw glass.
In the method for producing the powder, the raw material glass is pulverized in a stamp mill.
Of course, this is not the only case.

本発明によれば、製品分析時における異常検出が抑制される粉末等を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the powder etc. which can suppress the abnormality detection at the time of product analysis can be provided.

以下、本発明の実施形態について説明する。本発明は以下の実施形態に限定されるものではなく、また、以下の実施形態に示す、それぞれの構成要素は互いに組み合わせることができる。 Embodiments of the present invention will be described below. The present invention is not limited to the following embodiments, and each component shown in the following embodiments can be combined with each other.

<粉末>
本実施形態に係る粉末は、ZnO、Al及びSiOを含む粉末である。また、粉末中のZr含有量が、粉末の総量に対して10ppm以下である。
<powder>
The powder according to this embodiment is a powder containing ZnO, Al 2 O 3 and SiO 2 . Also, the Zr content in the powder is 10 ppm or less with respect to the total amount of the powder.

前述のように、本発明者らが検討した結果、先行技術にあるような粉末を樹脂などに含ませると、品質検査等の段階で、異物として観察される成分があることを見出した。より詳細には、ZnO、Al及びSiOを含む粉末に対して、Zr(ジルコニウム)の含有量を多くしてしまうと、粉末を樹脂などに含ませた場合の品質検査等の段階で、異物として観察される場合があることを見出した。 As described above, as a result of investigations by the present inventors, it has been found that, when the powder in the prior art is included in a resin or the like, there is a component that is observed as a foreign matter at the stage of quality inspection or the like. More specifically, if the content of Zr (zirconium) is increased with respect to the powder containing ZnO, Al 2 O 3 and SiO 2 , the quality inspection stage when the powder is included in resin etc. , it was found that there are cases where it is observed as a foreign substance.

具体的に、Zrが過剰に含まれる場合、X線透過性が低下する(X線不透過性が向上する)ことから、粉末を含ませた材料についての異物検査の精度を妨げることがある。すなわち、異物検査の際に、検査対象物がX線不透過性の高いZrを含有することから、Zrよりも軽い元素の異物を見逃してしまう懸念がある。 Specifically, when Zr is contained excessively, the X-ray transparency is lowered (the X-ray opacity is improved), which may impede the accuracy of the foreign matter inspection for the material containing the powder. In other words, there is a concern that foreign matter of an element lighter than Zr may be overlooked since the inspection object contains Zr, which is highly opaque to X-rays, during foreign matter inspection.

このようなZrが混入する原因は種々想定されるが、特許文献1においては、原料粉末にボールミルを用いており、同設備においてジルコニアボールを用いることもあるので、結果として粉末にZrが混入する結果を与えやすい。もっとも、このZrの混入源はボールミルなどの粉末の粉砕工程に限られず、原料起因や、他の装置起因の場合もある。 There are various possible causes for such Zr contamination, but in Patent Document 1, a ball mill is used for the raw material powder, and zirconia balls are sometimes used in the same equipment, so Zr is mixed into the powder as a result. Easy to give results. However, the source of this Zr contamination is not limited to the powder pulverization process such as a ball mill, but may be caused by raw materials or by other devices.

なお、本明細書において「Zr含有量」は、以下の測定条件に従い、誘導結合プラズマ発光分光分析により測定される値であり、イオン性のジルコニウム化合物や酸化ジルコニウム、金属ジルコニウムを含む。
<測定条件>
まず、粉末0.2gを白金るつぼに秤取り、フッ酸および硫酸を用い、100℃のホットプレート上で乾固する。その後220℃のホットプレート上で白煙処理後、超純水および硝酸を加え加温溶解することにより測定溶液を作製する。この測定溶液について、ICP発光分光分析装置(例えばAgilent社製、5110VDV)を用いてZr含有量を求める。
In this specification, the "Zr content" is a value measured by inductively coupled plasma atomic emission spectrometry under the following measurement conditions, and includes ionic zirconium compounds, zirconium oxide, and metallic zirconium.
<Measurement conditions>
First, 0.2 g of powder is weighed into a platinum crucible and dried on a hot plate at 100° C. using hydrofluoric acid and sulfuric acid. After that, after white smoke treatment on a hot plate at 220° C., ultrapure water and nitric acid are added and dissolved by heating to prepare a measurement solution. The Zr content of this measurement solution is determined using an ICP emission spectrometer (for example, 5110VDV manufactured by Agilent).

粉末中に含まれるZr含有量は、粉末の総量に対して、8ppm以下であることがより好ましく、5ppm以下であることがさらに好ましく、3ppm以下であることが殊更に好ましく、1ppm以下であることが特に好ましい。
また、粉末中に含まれるZr含有量は、前述の測定条件において検出限界以下であっても構わない。
The Zr content in the powder is preferably 8 ppm or less, more preferably 5 ppm or less, even more preferably 3 ppm or less, and 1 ppm or less relative to the total amount of the powder. is particularly preferred.
Also, the Zr content contained in the powder may be below the detection limit under the aforementioned measurement conditions.

本実施形態の粉末は、ZnO、Al及びSiOの三成分を含有する。三成分の含有量は、それぞれ、三成分の含有量の合計を基準として、ZnO:17~43モル%、Al:9~20モル%、SiO:48~74モル%であることが好ましい。 The powder of this embodiment contains three components, ZnO, Al2O3 and SiO2 . The content of the three components is ZnO: 17 to 43 mol%, Al 2 O 3 : 9 to 20 mol%, and SiO 2 : 48 to 74 mol%, based on the total content of the three components. is preferred.

ZnOの含有量は、三成分の含有量の合計を基準として、17~43モル%であることが好ましく、樹脂材料などに配合した際の熱膨張係数の低減効果に更に優れる観点から、より好ましくは20~40モル%であり、さらに好ましくは22~39モル%であり、いっそう好ましくは25~35モル%である。ZnOの含有量は、三成分の含有量の合計を基準として、17~40モル%、17~39モル%、17~35モル%、20~43モル%、20~39モル%、20~35モル%、22~43モル%、22~40モル%、22~35モル%、25~43モル%、25~40モル%、又は25~39モル%であってもよい。 The content of ZnO is preferably 17 to 43 mol% based on the total content of the three components, and is more preferable from the viewpoint of further improving the effect of reducing the coefficient of thermal expansion when blended in a resin material or the like. is 20 to 40 mol %, more preferably 22 to 39 mol %, still more preferably 25 to 35 mol %. The content of ZnO is 17 to 40 mol%, 17 to 39 mol%, 17 to 35 mol%, 20 to 43 mol%, 20 to 39 mol%, 20 to 35 mol%, based on the total content of the three components. mol %, 22-43 mol %, 22-40 mol %, 22-35 mol %, 25-43 mol %, 25-40 mol %, or 25-39 mol %.

Alの含有量は、三成分の含有量の合計を基準として、9~20モル%であることが好ましく、より好ましくは10~19モル%であり、さらに好ましくは11~18モル%である。Alの含有量は、三成分の含有量の合計を基準として、9~19モル%、9~18モル%、10~20モル%、10~18モル%、11~20モル%、又は11~19モル%であってもよい。 The content of Al 2 O 3 is preferably 9 to 20 mol%, more preferably 10 to 19 mol%, still more preferably 11 to 18 mol%, based on the total content of the three components. is. The content of Al 2 O 3 is 9 to 19 mol%, 9 to 18 mol%, 10 to 20 mol%, 10 to 18 mol%, 11 to 20 mol%, based on the total content of the three components. Alternatively, it may be 11 to 19 mol %.

SiOの含有量は、三成分の含有量の合計を基準として、48~74モル%であることが好ましく、より好ましくは49~72モル%であり、さらに好ましくは50~70モル%であり、殊更に好ましくは50~65モル%である。SiOの含有量は、三成分の含有量の合計を基準として、48~65モル%、48~64モル%、49~63モル%、49~62モル%、又は50~62モル%であってもよい。 The content of SiO 2 is preferably 48 to 74 mol%, more preferably 49 to 72 mol%, still more preferably 50 to 70 mol%, based on the total content of the three components. , particularly preferably 50 to 65 mol %. The content of SiO 2 is 48-65 mol%, 48-64 mol%, 49-63 mol%, 49-62 mol%, or 50-62 mol% based on the total content of the three components. may

粉末は、Zr以外に不可避的不純物であるイオン性不純物を含んでもよく、その含有量は特に限定されるものではない。イオン性不純物としてのLi、Na及びKの総含有量としては、例えば粉末の総量に対して500質量ppm以下、450質量ppm以下、400質量ppm以下、350質量ppm以下、300質量ppm以下、250質量ppm以下、200質量ppm以下、150質量ppm以下、100質量ppm以下、90質量ppm以下、80質量ppm以下、70質量ppm以下、60質量ppm以下、50質量ppm以下、40質量ppm以下、30質量ppm以下、20質量ppm以下、10質量ppm以下であることが好ましい。Li、Na及びKの総含有量が所要量以下であることにより、粉末を用いて電子装置類の部材を作製したときに、耐湿信頼性を向上させ、電子装置類の故障を抑制することができる。もっとも、Li、Na及びKの総含有量としては、粉末の総量に対して500質量ppm超であってもよい。一方、Liの含有量としては、粉末の総量に対して0質量ppm以上(Li、Na及びKの総含有量が0質量ppmすなわちLi、Na及びKを全く含まない態様も含む)であってよい。 The powder may contain ionic impurities, which are unavoidable impurities, in addition to Zr, and the content thereof is not particularly limited. The total content of Li, Na and K as ionic impurities is, for example, 500 mass ppm or less, 450 mass ppm or less, 400 mass ppm or less, 350 mass ppm or less, 300 mass ppm or less, 250 mass ppm or less with respect to the total amount of the powder. mass ppm or less, 200 mass ppm or less, 150 mass ppm or less, 100 mass ppm or less, 90 mass ppm or less, 80 mass ppm or less, 70 mass ppm or less, 60 mass ppm or less, 50 mass ppm or less, 40 mass ppm or less, 30 It is preferably no more than mass ppm, no more than 20 mass ppm, and no more than 10 mass ppm. Since the total content of Li, Na and K is less than the required amount, it is possible to improve moisture resistance reliability and suppress failure of electronic devices when electronic device members are produced using the powder. can. However, the total content of Li, Na and K may be more than 500 ppm by mass with respect to the total amount of the powder. On the other hand, the content of Li is 0 ppm by mass or more with respect to the total amount of the powder (the total content of Li, Na and K is 0 ppm by mass, ie Li, Na and K are not included at all). good.

Liの含有量としては、特に限定されないが、例えば粉末の総量に対して500質量ppm以下、450質量ppm以下、400質量ppm以下、350質量ppm以下、300質量ppm以下、250質量ppm以下、200質量ppm以下、150質量ppm以下、100質量ppm以下、90質量ppm以下、80質量ppm以下、70質量ppm以下、60質量ppm以下、50質量ppm以下、40質量ppm以下、30質量ppm以下、20質量ppm以下、10質量ppm以下であることが好ましい。一方、Liの含有量としては、粉末の総量に対して0質量ppm以上(Liの含有量が0質量ppmすなわちLiを全く含まない態様も含む)であってよい。 The content of Li is not particularly limited. mass ppm or less, 150 mass ppm or less, 100 mass ppm or less, 90 mass ppm or less, 80 mass ppm or less, 70 mass ppm or less, 60 mass ppm or less, 50 mass ppm or less, 40 mass ppm or less, 30 mass ppm or less, 20 It is preferably 10 ppm by mass or less, preferably 10 ppm by mass or less. On the other hand, the Li content may be 0 ppm by mass or more relative to the total amount of the powder (including a mode in which the Li content is 0 mass ppm, ie, no Li at all).

Naの含有量としては、特に限定されないが、例えば粉末の総量に対して500質量ppm以下、450質量ppm以下、400質量ppm以下、350質量ppm以下、300質量ppm以下、250質量ppm以下、200質量ppm以下、150質量ppm以下、100質量ppm以下、90質量ppm以下、80質量ppm以下、70質量ppm以下、60質量ppm以下、50質量ppm以下、40質量ppm以下、30質量ppm以下、20質量ppm以下、10質量ppm以下であることが好ましい。一方、Naの含有量としては、粉末の総量に対して0質量ppm以上(Naの含有量が0質量ppmすなわちNaを全く含まない態様も含む)であってよい。 The content of Na is not particularly limited, but for example, 500 mass ppm or less, 450 mass ppm or less, 400 mass ppm or less, 350 mass ppm or less, 300 mass ppm or less, 250 mass ppm or less, 200 mass ppm or less with respect to the total amount of the powder mass ppm or less, 150 mass ppm or less, 100 mass ppm or less, 90 mass ppm or less, 80 mass ppm or less, 70 mass ppm or less, 60 mass ppm or less, 50 mass ppm or less, 40 mass ppm or less, 30 mass ppm or less, 20 It is preferably 10 ppm by mass or less, preferably 10 ppm by mass or less. On the other hand, the content of Na may be 0 ppm by mass or more relative to the total amount of the powder (including a mode in which the Na content is 0 mass ppm, ie, no Na at all).

Kの含有量としては、特に限定されないが、例えば粉末の総量に対して500質量ppm以下、450質量ppm以下、400質量ppm以下、350質量ppm以下、300質量ppm以下、250質量ppm以下、200質量ppm以下、150質量ppm以下、100質量ppm以下、90質量ppm以下、80質量ppm以下、70質量ppm以下、60質量ppm以下、50質量ppm以下、40質量ppm以下、30質量ppm以下、20質量ppm以下、10質量ppm以下であることが好ましい。一方、Kの含有量としては、粉末の総量に対して0質量ppm以上(Kの含有量が0質量ppmすなわちKを全く含まない態様も含む)であってよい。 The K content is not particularly limited, but is, for example, 500 mass ppm or less, 450 mass ppm or less, 400 mass ppm or less, 350 mass ppm or less, 300 mass ppm or less, 250 mass ppm or less, 200 mass ppm or less with respect to the total amount of the powder. mass ppm or less, 150 mass ppm or less, 100 mass ppm or less, 90 mass ppm or less, 80 mass ppm or less, 70 mass ppm or less, 60 mass ppm or less, 50 mass ppm or less, 40 mass ppm or less, 30 mass ppm or less, 20 It is preferably 10 ppm by mass or less, preferably 10 ppm by mass or less. On the other hand, the K content may be 0 ppm by mass or more relative to the total amount of the powder (including an embodiment in which the K content is 0 mass ppm, that is, K is not included at all).

粉末は、ZnO、Al及びSiO以外に、酸化チタン(TiO)等をさらに含有することができる。ZnO、Al及びSiOの総含有量としては、特に限定されないが、例えば粉末の総量に対して90モル%以上、91モル%以上、92モル%以上、93モル%以上、94モル%以上、95モル%以上、96モル%以上、97モル%以上、98モル%以上、99モル%以上、99.5モル%以上、99.9モル%以上、99.95モル%以上、99.99モル%以上であることが好ましい。また、粉末は、ZnO、Al及びSiO並びに不可避的不純物のみからなっていてよい。ZnO、Al及びSiOの総含有量が所要量以上であることにより、かかる粉末の熱膨張係数を負により大きいものとすることができる。 The powder can further contain titanium oxide (TiO 2 ) and the like in addition to ZnO, Al 2 O 3 and SiO 2 . The total content of ZnO, Al 2 O 3 and SiO 2 is not particularly limited. % or more, 95 mol% or more, 96 mol% or more, 97 mol% or more, 98 mol% or more, 99 mol% or more, 99.5 mol% or more, 99.9 mol% or more, 99.95 mol% or more, 99 It is preferably at least 0.99 mol %. Alternatively, the powder may consist only of ZnO, Al 2 O 3 and SiO 2 and unavoidable impurities. The total content of ZnO, Al 2 O 3 and SiO 2 above the required amount allows the coefficient of thermal expansion of such powders to be more negative.

また、粉末は、U(ウラン)を含んでよいが、その量が制限されていることが好ましい。より具体的には、粉末中のU含有量が、粉末の総量に対して10ppb以下であることが好ましく、8ppb以下であることがより好ましく、5ppb以下であることがさらに好ましく、3ppb以下であることが殊更に好ましく、1ppb以下であることが特に好ましい。
また、粉末中に含まれるU含有量は、前述の測定条件において検出限界以下であっても構わない。
なお、本明細書において「U含有量」は、誘導結合プラズマ質量分析により測定できるものであり、具体的には以下の測定条件に従って測定される値である。この「U含有量」は、イオン性のウラン化合物や酸化ウラン、金属ウランを含む。
<測定条件>
まず、粉末0.5gを白金るつぼに秤取り、フッ酸および硝酸を用い、125℃のホットプレート上で加熱・乾固し、残渣にピロ硫酸カリウムを加え、硝酸で溶解することにより測定溶液を作製する。この測定溶液について、ICP質量分析装置(例えばAgilent社製、7700x)を用いてU含有量を求める。
The powder may also contain U (uranium), but preferably the amount is limited. More specifically, the U content in the powder is preferably 10 ppb or less, more preferably 8 ppb or less, even more preferably 5 ppb or less, and 3 ppb or less with respect to the total amount of the powder. is particularly preferred, and 1 ppb or less is particularly preferred.
Moreover, the U content contained in the powder may be below the detection limit under the measurement conditions described above.
In this specification, the "U content" can be measured by inductively coupled plasma mass spectrometry, and specifically, it is a value measured under the following measurement conditions. This "U content" includes ionic uranium compounds, uranium oxide, and uranium metal.
<Measurement conditions>
First, 0.5 g of the powder is weighed into a platinum crucible, heated and dried on a hot plate at 125° C. using hydrofluoric acid and nitric acid, potassium pyrosulfate is added to the residue, and dissolved in nitric acid to obtain a measurement solution. make. The U content of this measurement solution is determined using an ICP mass spectrometer (for example, 7700x manufactured by Agilent).

粉末は、結晶相としてβ-石英固溶体を含有することが好ましい。このβ-石英固溶体の含有量としては、特に限定されないが、例えば粉末の総量に対して50質量%以上、55質量%以上、57質量%以上、60質量%以上、62質量%以上、65質量%以上、67質量%以上、70質量%以上、71質量%以上、72質量%以上、73質量%以上、74質量%以上、75質量%以上、76質量%以上であることが好ましい。β-石英固溶体の含有量が所要量以上であることにより、粉末の熱膨張係数を負により大きくすることができる。また、β-石英固溶体の含有量が所要量以上であることにより、基材への粉末の配合量(充填量)を多くすることができるため、基材の熱膨張係数の制御をより容易にすることができる。一方、β-石英固溶体の含有量としては、100質量%以下であってよい。なお、粉末が有するβ-石英固溶体の構造は、xZnO-yAl-zSiOとして表すことができる。結晶相の同定及び含有量の測定は、粉末X線回折法によって得られたXRDパターンをリートベルト法により解析することで行うことができる。 The powder preferably contains β-quartz solid solution as the crystalline phase. The content of the β-quartz solid solution is not particularly limited. % or more, 67 mass % or more, 70 mass % or more, 71 mass % or more, 72 mass % or more, 73 mass % or more, 74 mass % or more, 75 mass % or more, 76 mass % or more. When the content of the β-quartz solid solution is greater than or equal to the required amount, the coefficient of thermal expansion of the powder can be made more negative. In addition, since the content of the β-quartz solid solution is more than the required amount, it is possible to increase the amount of powder blended (filled amount) in the base material, making it easier to control the coefficient of thermal expansion of the base material. can do. On the other hand, the content of the β-quartz solid solution may be 100% by mass or less. The structure of the β-quartz solid solution contained in the powder can be expressed as xZnO-yAl 2 O 3 -zSiO 2 . Identification of the crystal phase and measurement of the content can be performed by analyzing the XRD pattern obtained by the powder X-ray diffraction method by the Rietveld method.

粉末は、β-石英固溶体相以外に、非晶質相をさらに含んでもよく、また、他の結晶相をさらに含んでもよい。粉末は、他の結晶相としてウィレマイト相(ZnSiO)を含んでもよい。また、粉末は、他の結晶相のうち、ガーナイト相(ZnAl)、ムライト相(AlSi13)及びクリストバライト相(SiO)を含んでもよい。ただし、これらガーナイト相(ZnAl)、ムライト相(AlSi13)及びクリストバライト相(SiO)の総含有量としては、特に限定されないが、例えば粉末の総量に対して10質量%以下、9質量%以下、8質量%以下、7質量%以下、6質量%以下、5質量%以下、4質量%以下、3質量%以下、2質量%以下、1質量%以下、0.5質量%以下、0.2質量%以下、0.1質量%以下、0.05質量%以下、0.02質量%以下、0.01質量%以下であることが好ましい。ガーナイト相(ZnAl)、ムライト相(AlSi13)及びクリストバライト相(SiO)は、正の熱膨張係数を有するものであり、これらの含有量が所要量以下であることにより、粉末の熱膨張係数を負に大きく維持することができる。一方、ガーナイト相(ZnAl)、ムライト相(AlSi13)及びクリストバライト相(SiO)の総含有量としては、粉末の総量に対して0質量%以上(これらの結晶相の含有量が0質量%すなわちこれらの結晶相を全く含まない態様も含む)であってよい。 The powder may further contain an amorphous phase in addition to the β-quartz solid solution phase, and may further contain other crystalline phases. The powder may contain the Willemite phase (Zn 2 SiO 4 ) as another crystalline phase. The powder may also contain garnite phase (ZnAl 2 O 4 ), mullite phase (Al 6 Si 2 O 13 ) and cristobalite phase (SiO 2 ), among other crystalline phases. However, the total content of these garnite phase (ZnAl 2 O 4 ), mullite phase (Al 6 Si 2 O 13 ) and cristobalite phase (SiO 2 ) is not particularly limited, but for example 10 mass with respect to the total amount of powder. % or less, 9 mass % or less, 8 mass % or less, 7 mass % or less, 6 mass % or less, 5 mass % or less, 4 mass % or less, 3 mass % or less, 2 mass % or less, 1 mass % or less, 0. It is preferably 5% by mass or less, 0.2% by mass or less, 0.1% by mass or less, 0.05% by mass or less, 0.02% by mass or less, and 0.01% by mass or less. The garnite phase (ZnAl 2 O 4 ), the mullite phase (Al 6 Si 2 O 13 ) and the cristobalite phase (SiO 2 ) have a positive thermal expansion coefficient, and their content should be below the required amount. Therefore, the coefficient of thermal expansion of the powder can be kept large and negative. On the other hand, the total content of garnite phase (ZnAl 2 O 4 ), mullite phase (Al 6 Si 2 O 13 ) and cristobalite phase (SiO 2 ) is 0% by mass or more (these crystal phases content is 0% by mass, that is, an aspect that does not contain these crystal phases at all) may be included.

粉末の形状としては、特に限定されず、球状、円柱状、角柱状等のものを用いることができる、球状のものを用いることが好ましい。 The shape of the powder is not particularly limited, and a spherical shape, a columnar shape, a prismatic shape, or the like can be used, and a spherical shape is preferably used.

粉末が球状であるか否かは、粉末の平均円形度を算出することによって確認することができる。本明細書において、平均円形度は、次のようにして求められる。すなわち、電子顕微鏡を用いて撮影した粒子(粉末粒子)の投影面積(S)と投影周囲長(L)を求め、以下の式(1)に当てはめることにより円形度を算出する。そして、平均円形度は、無作為に選択した粒子100個の円形度の平均値として算出する。
円形度=4πS/L ・・・(1)
Whether or not the powder is spherical can be confirmed by calculating the average circularity of the powder. In this specification, the average circularity is determined as follows. Specifically, the projected area (S) and the projected peripheral length (L) of particles (powder particles) photographed using an electron microscope are obtained, and the circularity is calculated by applying the following formula (1). The average circularity is calculated as the average circularity of 100 randomly selected particles.
Circularity = 4πS/L 2 (1)

平均円形度としては、特に限定されないが、例えば0.6以上、0.65以上、0.7以上、0.75以上、0.8以上、0.85以上、0.9以上であることが好ましい。平均円形度が所要量以上であることにより、基材と混合した際の粒子の転がり抵抗が小さくなり、基材の粘度を低減させ、基材の流動性を向上させることができる。特に、平均円形度が0.90以上になると、基材の流動性が一層高くなるため、基材中に粉末を高充填することができ、熱膨張係数の低減が容易なものとなる。一方、平均円形度としては、1以下であってよい。 The average circularity is not particularly limited, but may be, for example, 0.6 or more, 0.65 or more, 0.7 or more, 0.75 or more, 0.8 or more, 0.85 or more, 0.9 or more. preferable. When the average circularity is equal to or greater than the required amount, the rolling resistance of the particles when mixed with the base material is reduced, the viscosity of the base material is reduced, and the fluidity of the base material can be improved. In particular, when the average circularity is 0.90 or more, the fluidity of the base material is further increased, so that the base material can be highly filled with powder, and the coefficient of thermal expansion can be easily reduced. On the other hand, the average circularity may be 1 or less.

平均粒子径としては、特に限定されないが、例えば0.1μm以上、0.2μm以上、0.5μm以上、1μm以上、2μm以上であることが好ましい。一方、平均粒子径としては、100μm以下、90μm以下、80μm以下、70μm以下、60μm以下、50μm以下であることが好ましい。粉末の平均粒子径は、レーザー回折式粒度分布測定装置により粒度分布を測定し、算出された粒子径の値に相対粒子量(差分 体積%)を乗じて、相対粒子量の合計(100体積%)で割って求めることができる。 Although the average particle diameter is not particularly limited, it is preferably 0.1 μm or more, 0.2 μm or more, 0.5 μm or more, 1 μm or more, or 2 μm or more. On the other hand, the average particle diameter is preferably 100 µm or less, 90 µm or less, 80 µm or less, 70 µm or less, 60 µm or less, and 50 µm or less. The average particle size of the powder is obtained by measuring the particle size distribution with a laser diffraction particle size distribution analyzer, multiplying the calculated particle size value by the relative particle amount (difference volume%), and obtaining the total relative particle amount (100 volume% ) can be obtained.

粉末の112面方向の熱膨張係数としては、特に限定されないが、0ppm/℃以下、-0.1ppm/℃以下、-0.2ppm/℃以下、-0.3ppm/℃以下、-0.4ppm/℃以下、-0.5ppm/℃以下、-0.6ppm/℃以下、-0.7ppm/℃以下、-0.8ppm/℃以下、-0.9ppm/℃以下、-1ppm/℃以下、-1.1ppm/℃以下、-1.2ppm/℃以下、-1.3ppm/℃以下、-1.4ppm/℃以下、-1.5ppm/℃以下であることが好ましい。なお、粉末の熱膨張係数は、その値が負に大きいほど粉末の添加量を低下させ得る。したがって、熱膨張係数が負により大きいものが存在する方がよい。したがって、粉末の112面方向の熱膨張係数の下限値は特に限定されない。なお、面方向の熱膨張係数は、以下の方法により測定する。高温X線回折(高温XRD)を用い、主相の熱膨張係数を解析する。ここでは、試料に角度標準試料(Si)を添加して集中光学系で測定する。具体的には、各試料に対して角度標準試料(Si,NIST SRM 640c)を約10質量%添加し、乳鉢で混合する。その後、試料を試料板に載せ、試料面と試料板の面が揃うようにガラス板で試料を押し広げた状態とし、温度6水準(25~300℃)で測定(集中光学系使用)を行う。得られた112面及び203面に由来する回折線から各温度における格子面間隔を算出し、主相の熱膨張係数を解析する。 The coefficient of thermal expansion in the 112 plane direction of the powder is not particularly limited, but is 0 ppm/° C. or less, −0.1 ppm/° C. or less, −0.2 ppm/° C. or less, −0.3 ppm/° C. or less, −0.4 ppm. / ° C. or less, -0.5 ppm / ° C. or less, -0.6 ppm / ° C. or less, -0.7 ppm / ° C. or less, -0.8 ppm / ° C. or less, -0.9 ppm / ° C. or less, -1 ppm / ° C. or less, It is preferably -1.1 ppm/°C or less, -1.2 ppm/°C or less, -1.3 ppm/°C or less, -1.4 ppm/°C or less, or -1.5 ppm/°C or less. Note that the larger the negative coefficient of thermal expansion of the powder, the lower the amount of powder to be added. Therefore, it is better to have something with a more negative coefficient of thermal expansion. Therefore, the lower limit of the coefficient of thermal expansion in the 112 plane direction of the powder is not particularly limited. The coefficient of thermal expansion in the plane direction is measured by the following method. The thermal expansion coefficient of the main phase is analyzed using high temperature X-ray diffraction (high temperature XRD). Here, an angle standard sample (Si) is added to the sample and measured with a converging optical system. Specifically, about 10% by mass of an angle standard sample (Si, NIST SRM 640c) is added to each sample and mixed in a mortar. After that, place the sample on the sample plate, spread the sample with a glass plate so that the surface of the sample and the surface of the sample plate are aligned, and measure at 6 temperature levels (25 to 300°C) (using a concentrated optical system). . The lattice spacing at each temperature is calculated from the obtained diffraction lines derived from the 112 plane and the 203 plane, and the thermal expansion coefficient of the main phase is analyzed.

粉末の203面方向の熱膨張係数としては、特に限定されないが、0ppm/℃以下、-0.1ppm/℃以下、-0.2ppm/℃以下、-0.3ppm/℃以下、-0.4ppm/℃以下、-0.5ppm/℃以下、-0.6ppm/℃以下、-0.7ppm/℃以下、-0.8ppm/℃以下、-0.9ppm/℃以下、-1ppm/℃以下、-1.1ppm/℃以下、-1.2ppm/℃以下、-1.3ppm/℃以下、-1.4ppm/℃以下、-1.5ppm/℃以下であることが好ましい。したがって、粉末の203面方向の熱膨張係数の下限値は特に限定されない。 The coefficient of thermal expansion in the 203 plane direction of the powder is not particularly limited, but is 0 ppm/° C. or less, -0.1 ppm/° C. or less, -0.2 ppm/° C. or less, -0.3 ppm/° C. or less, -0.4 ppm. / ° C. or less, -0.5 ppm / ° C. or less, -0.6 ppm / ° C. or less, -0.7 ppm / ° C. or less, -0.8 ppm / ° C. or less, -0.9 ppm / ° C. or less, -1 ppm / ° C. or less, It is preferably -1.1 ppm/°C or less, -1.2 ppm/°C or less, -1.3 ppm/°C or less, -1.4 ppm/°C or less, or -1.5 ppm/°C or less. Therefore, the lower limit of the coefficient of thermal expansion in the 203 plane direction of the powder is not particularly limited.

<粉末の製造方法>
以下、本実施形態に係る粉末の製造方法を説明する。
本実施形態の粉末の製造方法は、ZnO、Al及びSiOを含む原料混合物を準備すること(原料混合物準備工程)と、原料混合物を溶融させること(溶融工程)と、溶融させた原料混合物を冷却し、原料ガラスを得ること(原料ガラス作製工程)と、原料ガラスを粉砕すること(粉砕工程)と、を含む。
<Powder manufacturing method>
A method for producing powder according to the present embodiment will be described below.
The powder manufacturing method of the present embodiment includes preparing a raw material mixture containing ZnO, Al 2 O 3 and SiO 2 (raw material mixture preparation step), melting the raw material mixture (melting step), and melting It includes cooling the raw material mixture to obtain raw glass (raw glass preparation step) and pulverizing the raw glass (pulverizing step).

〔原料混合物準備工程〕
原料混合物準備工程では、原料を準備し、これを混合することで原料混合物を調製する。原料としては、特に限定されないが、Zn源としての酸化亜鉛等と、Al源としての酸化アルミニウム又は水酸化アルミニウム等と、Si源としての酸化ケイ素(α-石英、クリストバライト、非晶質シリカ等)とを用いることができる。
[Raw material mixture preparation step]
In the raw material mixture preparation step, raw materials are prepared and mixed to prepare a raw material mixture. Raw materials are not particularly limited, but zinc oxide or the like as a Zn source, aluminum oxide or aluminum hydroxide or the like as an Al source, and silicon oxide (α-quartz, cristobalite, amorphous silica, etc.) as a Si source. and can be used.

原料の配合量としては、特に限定されないが、例えば使用するZn源、Al源及びSi源の原料の総量に対して、Zn源:17~43モル%、Al源:9~20モル%、Si源:48~74モル%であってよい。 The blending amount of the raw materials is not particularly limited, but for example, Zn source: 17 to 43 mol%, Al source: 9 to 20 mol%, Si Source: may be 48-74 mol %.

原料混合物準備工程においては、上述した原料以外に、熱膨張係数に影響を与えない範囲で、各種添加剤を添加してもよい。 In the raw material mixture preparation step, in addition to the raw materials described above, various additives may be added within a range that does not affect the coefficient of thermal expansion.

原料混合物において、イオン性不純物の含有量としては、特に限定されないが、500質量ppm以下、450質量ppm以下、400質量ppm以下、350質量ppm以下、300質量ppm以下、250質量ppm以下、200質量ppm以下、150質量ppm以下、100質量ppm以下、0質量ppm以下、80質量ppm以下、70質量ppm以下、60質量ppm以下、50質量ppm以下、40質量ppm以下、30質量ppm以下、20質量ppm以下、10質量ppm以下であることが好ましい。 In the raw material mixture, the content of ionic impurities is not particularly limited, but is 500 mass ppm or less, 450 mass ppm or less, 400 mass ppm or less, 350 mass ppm or less, 300 mass ppm or less, 250 mass ppm or less, 200 mass ppm. ppm or less, 150 mass ppm or less, 100 mass ppm or less, 0 mass ppm or less, 80 mass ppm or less, 70 mass ppm or less, 60 mass ppm or less, 50 mass ppm or less, 40 mass ppm or less, 30 mass ppm or less, 20 mass ppm ppm or less, preferably 10 mass ppm or less.

原料の混合方法は、Na、Li又はK等のアルカリ金属類や、Fe等の他の金属元素が混入しにくい方法であれば特に限定されず、例えば、メノウ乳鉢やボールミル、振動ミル等の粉砕機、各種ミキサー類により混合する方法を用いることができる。
また、Zrの含有量を低減させやすい観点からは、混合器具等についてコンタミネーションの招きにくい材料を採用することが有効である。
The method of mixing the raw materials is not particularly limited as long as it is a method in which alkali metals such as Na, Li or K and other metal elements such as Fe are difficult to mix. A method of mixing with a machine or various mixers can be used.
Also, from the viewpoint of easily reducing the Zr content, it is effective to adopt materials that are less likely to cause contamination for mixing tools and the like.

〔溶融工程〕
次に、原料混合物を白金坩堝、アルミナ坩堝等の容器に入れ、電気炉、高周波炉、イメージ炉等の加熱炉又は火炎バーナー等で溶融する。この溶融の温度条件と時間は、原料混合物の組成などに応じて適宜設定すれば良い。
この溶融は、たとえば1000℃~1800℃の温度範囲で行われる。
[Melting process]
Next, the raw material mixture is placed in a container such as a platinum crucible or an alumina crucible, and melted in a heating furnace such as an electric furnace, a high frequency furnace, an image furnace, or a flame burner. The temperature conditions and time for this melting may be appropriately set according to the composition of the raw material mixture.
This melting takes place, for example, in the temperature range of 1000.degree. C. to 1800.degree.

〔原料ガラス作製工程〕
その後、上述の溶融物を空気中又は水中に取り出して急冷する。このようにすることで、原料ガラスを得ることができる。この冷却の温度条件と時間は、原料混合物の組成などに応じて適宜設定すれば良い。
[Raw glass manufacturing process]
The above melt is then removed into air or water and quenched. By doing so, raw material glass can be obtained. The temperature conditions and time for this cooling may be appropriately set according to the composition of the raw material mixture.

〔粉砕工程〕
そして、得られた原料ガラスを粉砕することで、粉末が得られる。原料ガラスの粉砕方法としては、適宜設定される、例えばメノウ乳鉢、ボールミル、振動ミル、スタンプミル、ジェットミル、湿式ジェットミル等による方法であってよい。粉砕は、乾式及び湿式のいずれの方法でも行うことができる。湿式粉砕法にて粉砕を行う場合、例えば水又はアルコール等の液体と原料粉末とを混合して湿式で行うことができる。
なお、Zrの含有量を低減させやすい観点からは、この粉砕に用いる器具について、コンタミネーションを招きにくい材料を採用することが有効である。たとえば、この原料ガラスの粉砕をスタンプミルにて行うことが好ましい。このスタンプミルにおける原料ガラスとの接触部分は、たとえばアルミナであってもよい。
[Pulverization process]
Then, powder is obtained by pulverizing the obtained raw material glass. As a method for pulverizing the raw material glass, a method using an agate mortar, a ball mill, a vibrating mill, a stamp mill, a jet mill, a wet jet mill, or the like, which is appropriately set, may be used. Pulverization can be carried out by either dry or wet method. When pulverizing by a wet pulverization method, for example, liquid such as water or alcohol and raw material powder can be mixed and wet pulverization can be performed.
From the viewpoint of easily reducing the Zr content, it is effective to use a material that is less likely to cause contamination for the tools used for this pulverization. For example, it is preferable to pulverize the raw glass using a stamp mill. The portion of the stamp mill that comes into contact with the raw glass may be alumina, for example.

また、本実施形態の粉体の製造方法は、続いて、球状化工程や結晶化工程を含ませてもよい。 In addition, the powder production method of the present embodiment may subsequently include a spheroidizing step and a crystallization step.

〔球状化工程〕
球状化工程では、粉末溶融法により上述の粉末を球状化する。粉末溶融法による球状化法は、化学炎、熱プラズマ、縦型管状炉又はタワーキルン中に原料粉末を投入して溶融させ、自身の表面張力により球状化させる方法である。
[Spheroidization step]
In the spheroidizing step, the above powder is spheroidized by a powder melting method. The spheroidizing method by powder melting is a method in which raw material powder is put into a chemical flame, thermal plasma, vertical tubular furnace or tower kiln, melted, and spheroidized by its own surface tension.

粉末溶融法では、原料ガラスを粉砕した粉末又はスプレードライヤー等により造粒した粉末を所望の粒径分布になるように調整することで、粒径分布を調整することが出来る。これらの粉末を、凝集を抑制しながら化学炎又は熱プラズマ、縦型管状炉又はタワーキルン等の中に投入し、溶融させることによって球状化が行われる。または、溶剤等に分散した粉末の分散液を調整し、その液状原料を、ノズル等を用いて化学炎又は熱プラズマ、縦型管状炉又はタワーキルン等の中に噴霧し、分散媒を蒸発させた上で粉末を溶融させることによって行われてもよい。 In the powder melting method, the particle size distribution can be adjusted by adjusting the powder obtained by pulverizing the raw glass or the powder obtained by granulating with a spray dryer or the like so as to have a desired particle size distribution. These powders are introduced into a chemical flame, a thermal plasma, a vertical tubular furnace, a tower kiln, or the like while suppressing agglomeration, and are melted to be spheroidized. Alternatively, a dispersion of powder dispersed in a solvent or the like is prepared, and the liquid raw material is sprayed into a chemical flame, thermal plasma, vertical tubular furnace, tower kiln, or the like using a nozzle or the like to evaporate the dispersion medium. It may be done by melting the powder on top.

ここで、粉末溶融法において、「化学炎」とは、可燃性ガスをバーナーで燃焼することにより発生する炎をいう。可燃性ガスとしては、粉末の融点以上の温度が得られればよく、例えば天然ガス、プロパンガス、アセチレンガス、液化石油ガス(LPG)、水素等を用いることができる。このような可燃性ガスは、支燃性ガスとしての空気、酸素等を可燃性ガスとともに用いてもよい。化学炎の大きさ、温度等の条件は、バーナーの大きさ、可燃性ガスと支燃性ガスの流量によって調整することができる。 Here, in the powder melting method, "chemical flame" refers to flame generated by burning combustible gas with a burner. As the combustible gas, a temperature equal to or higher than the melting point of the powder can be obtained, and natural gas, propane gas, acetylene gas, liquefied petroleum gas (LPG), hydrogen, and the like can be used, for example. Such combustible gas may be used together with combustible gas such as air, oxygen, etc. as a combustion-supporting gas. Conditions such as the size and temperature of the chemical flame can be adjusted by adjusting the size of the burner and the flow rates of the combustible gas and the combustion-supporting gas.

〔結晶化工程〕
結晶化工程では、粉末を高温で加熱して結晶化させる。結晶化する際の装置としては、所望の加熱温度が得られればいずれの加熱装置を使用してもよいが、例えば電気炉、ロータリーキルン、プッシャー炉、ローラーハースキルン等を用いることができる。
[Crystallization step]
In the crystallization step, the powder is heated at a high temperature to crystallize it. As a device for crystallization, any heating device may be used as long as a desired heating temperature can be obtained.

加熱結晶化する温度(結晶化温度)としては、特に限定されないが、例えば750~900℃であることが好ましい。加熱温度を所要温度以上とすることにより、結晶化の時間を短縮し、十分な結晶化がなされることによりβ-石英固溶体相の含有量を高めることができる。そのため、粉末が配合された基材の熱膨張係数をより低減させることができる。一方、結晶化温度が所要温度以下であることにより、β-石英固溶体相以外の結晶相、例えばガーナイト相、クリストバライト相、ウィレマイト相等が生成しにくくなり、粉末が配合された基材の熱膨張係数をより低減させることができる。 Although the temperature for heating to crystallize (crystallization temperature) is not particularly limited, it is preferably 750 to 900° C., for example. By setting the heating temperature to the required temperature or higher, the crystallization time can be shortened, and the content of the β-quartz solid solution phase can be increased by achieving sufficient crystallization. Therefore, the coefficient of thermal expansion of the base material containing the powder can be further reduced. On the other hand, since the crystallization temperature is below the required temperature, crystal phases other than the β-quartz solid solution phase, such as garnite phase, cristobalite phase, willemite phase, etc., are less likely to form, and the thermal expansion coefficient of the base material containing the powder can be further reduced.

加熱時間(結晶化時間)としては、特に限定されないが、例えば1~24時間であることが好ましい。加熱時間が所要時間以上であることにより、β-石英固溶体相への結晶化が十分に行われ、粉末が配合された基材の熱膨張係数をより低減させることができる。加熱時間が所要時間以下であることにより、粉末の製造に要するコストを抑えることができる。 The heating time (crystallization time) is not particularly limited, but is preferably 1 to 24 hours, for example. When the heating time is equal to or longer than the required time, crystallization into the β-quartz solid solution phase is sufficiently performed, and the coefficient of thermal expansion of the powder-blended base material can be further reduced. Since the heating time is equal to or less than the required time, the cost required for producing the powder can be suppressed.

結晶化工程を行った粉末は、複数の粒子が凝集した凝集体となっていることがある。凝集体自体を粉末として利用してもよいが、必要に応じて凝集体を解砕して、これを粉末としてもよい。凝集体の解砕方法としては、特に限定されないが、前述の粉砕工程と同様の方法を用いることができる。解砕は乾式で行ってもよいが、水又はアルコール等の液体と混合して湿式で行ってもよい。湿式による解砕では、解砕後に乾燥することで本実施形態の粉末が得られる。乾燥方法としては、特に限定されないが、例えば加熱乾燥、真空乾燥、凍結乾燥、超臨界二酸化炭素乾燥等を用いることができる。 A powder that has undergone a crystallization step may be an aggregate in which a plurality of particles are aggregated. The aggregate itself may be used as a powder, but if necessary, the aggregate may be pulverized and powdered. The method for crushing aggregates is not particularly limited, but the same method as the above-described crushing step can be used. The pulverization may be performed dry, or may be performed wet by mixing with a liquid such as water or alcohol. In wet pulverization, the powder of the present embodiment is obtained by drying after pulverization. Although the drying method is not particularly limited, for example, heat drying, vacuum drying, freeze drying, supercritical carbon dioxide drying, and the like can be used.

粉末の製造方法においては、他の実施形態において、所望の平均粒子径が得られるように粉末を分級する工程、洗浄工程、カップリング剤を用いた表面処理工程をさらに備えることができる。
この分級する工程は、たとえば、前述の粉砕工程の後と結晶化工程の後の双方で実施することができる。この工程では、たとえば粉末を篩により所望の粒度に調整する。
洗浄工程では、水や有機溶媒によって粉末を洗浄する。この水や有機溶媒に対しては、酢酸のような酸や、アンモニアのような塩基が含まれていてもよい。なお、この洗浄工程はたとえば球状化工程の後に施される。
表面処理が施されることにより、基材への配合量(充填量)をさらに高めることができる。表面処理に用いるカップリング剤としては、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤、アルミネート系カップリング剤等を用いることができる。
In another embodiment, the powder manufacturing method may further include a step of classifying the powder so as to obtain a desired average particle size, a washing step, and a surface treatment step using a coupling agent.
This classifying step can be carried out, for example, both after the aforementioned pulverization step and after the crystallization step. In this step, the powder is sieved, for example, to the desired particle size.
In the washing step, the powder is washed with water or an organic solvent. The water or organic solvent may contain an acid such as acetic acid or a base such as ammonia. Note that this washing step is performed after, for example, the spheroidizing step.
By applying the surface treatment, it is possible to further increase the blending amount (filling amount) to the base material. A silane coupling agent, a titanate coupling agent, an aluminate-based coupling agent, or the like can be used as the coupling agent used for the surface treatment.

また、本実施形態に係る粉末は、かかる粉末と異なる組成を有する粉末(例えば、シリカやアルミナ等)と混合して用いることができる。 Moreover, the powder according to the present embodiment can be used by mixing with powder having a composition different from that of the powder (for example, silica, alumina, etc.).

<粉末の用途>
また、本実施形態に係る粉末は、一例では、そのまま、又は上述した異なる組成を有する粉末と混合して、ガラス中又は樹脂中に配合されて使用される。
<Use of powder>
Further, in one example, the powder according to the present embodiment is used as it is or mixed with powder having a different composition as described above and blended in glass or resin.

この基材となるガラスとしては、特に限定されないが、PbO-B-ZnO系、PbO-B-Bi系、PbO-V-TeO系、SiO-ZnO-M O系(M Oはアルカリ金属酸化物)、SiO-B-M O系、又はSiO-B-MO系(MOはアルカリ土類金属酸化物)等の組成を有するガラスを用いることができる。 The glass used as the base material is not particularly limited, but PbO--B 2 O 3 --ZnO system, PbO--B 2 O 3 --Bi 2 O 3 system, PbO--V 2 O 5 --TeO 2 system, SiO 2 -ZnO-M 12 O system (M 12 O is an alkali metal oxide ) , SiO 2 -B 2 O 3 -M 12 O system, or SiO 2 -B 2 O 3 -M 2 O system (M 2 A glass having a composition such that O is an alkaline earth metal oxide can be used.

基材となる樹脂としては、特に限定されないが、例えばエポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、不飽和ポリエステル、フッ素樹脂、ポリアミド(ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド等)、ポリブチレンテレフタレート、ポリエステル(ポリエチレンテレフタレート等)、ポリフェニレンスルフィド、全芳香族ポリエステル、ポリスルホン、液晶ポリマー、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、マレイミド変性樹脂、ABS(アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン)樹脂、AAS(アクリロニトリル-アクリルゴム-スチレン)樹脂、AES(アクリロニトリル-エチレン・プロピレン・ジエンゴム-スチレン)樹脂等や、これらの樹脂の混合物を用いることができる。 The base resin is not particularly limited. Butylene terephthalate, polyester (polyethylene terephthalate, etc.), polyphenylene sulfide, wholly aromatic polyester, polysulfone, liquid crystal polymer, polyethersulfone, polycarbonate, maleimide modified resin, ABS (acrylonitrile-butadiene-styrene) resin, AAS (acrylonitrile-acrylic rubber) styrene) resins, AES (acrylonitrile-ethylene-propylene-diene rubber-styrene) resins, and mixtures of these resins can be used.

基材中における粉末の配合量(充填量)としては、特に限定されず、粉末添加後の熱膨張係数等に合わせて調整すればよいが、例えば粉末添加後の基材の総量に対して30~95体積%であることが好ましく、40~90体積%であることがより好ましい。 The amount (filling amount) of the powder in the base material is not particularly limited, and may be adjusted according to the coefficient of thermal expansion after addition of the powder. It is preferably up to 95% by volume, more preferably 40 to 90% by volume.

本実施形態に係る粉末は、その粉末中のZr含有量が制限されているため、これを配合した基材等の製品分析時における異常検出を抑制することができる。 Since the Zr content in the powder according to the present embodiment is restricted, it is possible to suppress detection of abnormalities during analysis of products such as base materials blended with the powder.

以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to examples below, but the present invention is not limited to the examples.

[実施例1]
(原料粉末作製工程)
表1に示すように、ZnO、Al及びSiOをそれぞれ原料として、これらの原料を振動ミキサー(Resodyn社製、低周波共振音響ミキサーLab RAM II)で混合した。この混合物100gを白金るつぼに入れ、電気炉で加熱し溶融させた。このとき、溶融時の電気炉の炉内温度を1600℃とし、1600℃での保持時間を30分間とした。溶融後、るつぼごと水没させ急冷することにより、原料ガラスを得た。原料ガラスを白金るつぼから回収し、スタンプミルで15分間粉砕して、目開き74μmのナイロン篩を通過した粉体を原料粉末とした。
[Example 1]
(Raw material powder preparation process)
As shown in Table 1, ZnO, Al 2 O 3 and SiO 2 were used as raw materials, respectively, and these raw materials were mixed in a vibrating mixer (low frequency resonance acoustic mixer Lab RAM II manufactured by Resodyn). 100 g of this mixture was placed in a platinum crucible and heated in an electric furnace to melt. At this time, the temperature inside the electric furnace during melting was set to 1600° C., and the holding time at 1600° C. was set to 30 minutes. After melting, the raw material glass was obtained by submerging the whole crucible in water and quenching. The raw material glass was collected from the platinum crucible, pulverized in a stamp mill for 15 minutes, and passed through a nylon sieve with an opening of 74 μm to obtain a raw material powder.

(球状化工程)
得られた原料粉末を、キャリアガス(酸素)により、LPGと酸素ガスによって形成された高温火炎中に投入して、粉末溶融法による球状化処理を行った。
(Spheroidization process)
The obtained raw material powder was put into a high-temperature flame formed by LPG and oxygen gas using a carrier gas (oxygen), and spheroidized by a powder melting method.

(結晶化工程)
球状化処理後の粉末を粉砕した後アルミナるつぼに入れ、空気雰囲気下、電気炉を用いて、結晶化時の電気炉の炉内温度を800℃とし、800℃での保持時間を24時間として結晶化させた。これにより、実施例1に係る粉末を得た。
(Crystallization step)
After pulverizing the powder after the spheroidization treatment, it was placed in an alumina crucible, and in an air atmosphere, using an electric furnace, the temperature inside the electric furnace during crystallization was set to 800 ° C., and the holding time at 800 ° C. was set to 24 hours. Crystallized. Thus, a powder according to Example 1 was obtained.

[実施例2~4]
原料の配合量を表1に示した組成とし、更に、結晶化工程において、実施例1と同様の方法で実施例2~5に係る粉末を得た。
[Examples 2 to 4]
Powders of Examples 2 to 5 were obtained in the same manner as in Example 1 in the crystallization process, with the blending amounts of the raw materials having the compositions shown in Table 1.

[実施例5]
結晶化工程の800℃での保持時間を4時間としたこと以外は、実施例1と同様に粉末を得た。
[Example 5]
A powder was obtained in the same manner as in Example 1, except that the holding time at 800° C. in the crystallization step was set to 4 hours.

[比較例1~4]
原料の配合量を表1に示した組成とし、更に、原料粉末作製工程において、アルミナジルコン質レンガを用いて溶融させ、ボールミルで粉砕して原料粉末とし、結晶化工程において、電気炉を用いて、電気炉の炉内温度を800℃とし、800℃での保持時間を24時間として結晶化させて、比較例1~4に係る粉末を得た。
[Comparative Examples 1 to 4]
The blending amount of the raw material is set to the composition shown in Table 1, and further, in the raw material powder preparation process, the raw material powder is melted using alumina zircon bricks and pulverized in a ball mill to obtain a raw material powder, and in the crystallization process, an electric furnace is used. , the furnace temperature of the electric furnace was set to 800° C., and the holding time at 800° C. was set to 24 hours for crystallization to obtain powders according to Comparative Examples 1 to 4.

[比較例5]
原料の配合表を表1に示した組成とし、更に粉末作製工程において、アルミナジルコン質レンガを用いて溶融させ、ボールミルで粉砕して原料粉末とし、結晶化工程において、電気炉の炉内温度を800℃とし、800℃での保持時間を4時間として結晶化させて比較例5に係る粉末を得た。
[Comparative Example 5]
The composition of the raw material is shown in Table 1, and in the powder preparation process, the alumina-zirconium bricks are melted and pulverized in a ball mill to obtain a raw material powder. The temperature was set to 800° C., and the holding time at 800° C. was set for 4 hours to crystallize, and a powder according to Comparative Example 5 was obtained.

上記で得られた結晶化粉末の各特性を、以下の方法で評価した。各評価結果を表1に示す。 Each characteristic of the crystallized powder obtained above was evaluated by the following methods. Each evaluation result is shown in Table 1.

(元素分析)
ZnO、Al、SiOの分析(含有量の分析)及び不純物の定量は、誘導結合プラズマ発光分光分析により行った。分析装置としては、ICP発光分光分析装置(Agilents社製、5110VDV)とICP質量分析装置(Agilent社製、7700x)を用いた。ZnO、Al、SiOの分析では、試料10mgを白金るつぼに秤取り、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム及びホウ酸を混合した融剤にて融解後、更に塩酸を加えて溶解することで測定溶液を作製した。Zrの分析では、粉末0.2gを白金るつぼに秤取り、フッ酸および硫酸を用い、100℃のホットプレート上で加熱・乾固し、220℃のホットプレート上で白煙処理後、超純水および硝酸を加え加温溶解することにより測定溶液を作製した。Uの分析では、粉末0.5gを白金るつぼに秤取り、フッ酸および硝酸を用い、125℃のホットプレート上で加熱・乾固し、残渣にピロ硫酸カリウムを加え、硝酸で溶解することにより測定溶液を作製した。
(Elemental analysis)
Analysis of ZnO, Al 2 O 3 and SiO 2 (analysis of content) and quantification of impurities were performed by inductively coupled plasma atomic emission spectrometry. As analyzers, an ICP emission spectrometer (manufactured by Agilent, 5110VDV) and an ICP mass spectrometer (manufactured by Agilent, 7700x) were used. In the analysis of ZnO, Al 2 O 3 , and SiO 2 , 10 mg of a sample was weighed in a platinum crucible, melted with a flux mixture of potassium carbonate, sodium carbonate and boric acid, and then dissolved by adding hydrochloric acid. A solution was prepared. In the Zr analysis, 0.2 g of the powder was weighed into a platinum crucible, heated and dried on a hot plate at 100°C using hydrofluoric acid and sulfuric acid, and treated with white smoke on a hot plate at 220°C. A measurement solution was prepared by adding water and nitric acid and heating and dissolving. In the analysis of U, 0.5 g of powder was weighed in a platinum crucible, heated and dried on a hot plate at 125 ° C. using hydrofluoric acid and nitric acid, potassium pyrosulfate was added to the residue, and dissolved with nitric acid. A measurement solution was prepared.

(結晶相)
結晶化後の粉末に含まれる結晶相の同定、及び含有量の定量は、粉末X線回折測定/リートベルト法により行った。使用装置には、試料水平型多目的X線回折装置(リガク社製、UltimaIV)を用い、X線源をCuKα、管電圧40kV、管電流40mA、スキャン速度10°/min、2θスキャン範囲10°~80°の条件で測定した。結晶相の定量分析には、リートベルト法ソフトウェア(MDI社製、統合粉末X線ソフトウェアJade+9)を使用した。β-石英固溶体相の含有量b(質量%)は、NIST製X線回折用標準資料であるα-アルミナ(内標準物質)を50質量%(添加後の試料全量基準)となるように結晶化粉末に添加した試料をX線回折測定し、リートベルト解析で得られたβ-石英固溶体の割合a(質量%)を用いて、下記の式(2)により算出した。なお、得られた粉末のβ―石英固溶体の結晶構造は、従来技術(例えば、Journal of Non-Crystalline Solids 351 149(2005))を参考に、Zn/2AlSi3-x(x=1)としてリートベルト解析した。結晶層の定量分析はすべての実施例及び比較例について行い、結果を表1に示した。
b=100a/(100-a) (2)
(crystal phase)
Identification of the crystal phase contained in the powder after crystallization and quantification of the content were performed by powder X-ray diffraction measurement/Rietveld method. The apparatus used was a sample horizontal multipurpose X-ray diffractometer (manufactured by Rigaku, Ultima IV), the X-ray source was CuKα, the tube voltage was 40 kV, the tube current was 40 mA, the scan speed was 10°/min, and the 2θ scan range was 10°~. Measured under the condition of 80°. Rietveld method software (manufactured by MDI, integrated powder X-ray software Jade+9) was used for quantitative analysis of the crystalline phase. The content b (mass%) of the β-quartz solid solution phase is crystallized so that α-alumina (internal standard substance), which is a standard material for X-ray diffraction manufactured by NIST, is 50% by mass (based on the total amount of the sample after addition). A sample added to the calcined powder was subjected to X-ray diffraction measurement, and the ratio a (% by mass) of the β-quartz solid solution obtained by Rietveld analysis was used to calculate the ratio a (% by mass) according to the following formula (2). The crystal structure of the β-quartz solid solution of the obtained powder was Zn x /2Al x Si 3-x O 6 (x = 1) for Rietveld analysis. Quantitative analysis of the crystal layer was performed for all examples and comparative examples, and the results are shown in Table 1.
b=100a/(100-a) (2)

(平均円形度)
粉末をカーボンテープで試料台に固定後、オスミウムコーティングを行い、走査型電子顕微鏡(日本電子社製、JSM-7001F SHL)で撮影した倍率500~50000倍、解像度1280×1024ピクセルの画像をパソコンに取り込んだ。この画像を、画像解析装置(日本ローパー社製、Image-Pro Premier Ver.9.3)を使用し、粒子(粉末粒子)の投影面積(S)と粒子の投影周囲長(L)を算出してから、下記の式(1)より円形度を算出した。任意の粒子100個について円形度を算出し、その平均値を平均円形度とした。
円形度=4πS/L ・・・(1)
(average circularity)
After fixing the powder on the sample stage with carbon tape, osmium coating is applied, and an image with a resolution of 1280 x 1024 pixels and a magnification of 500 to 50000 times taken with a scanning electron microscope (JSM-7001F SHL, manufactured by JEOL Ltd.) is transferred to a personal computer. taken in. Using this image, an image analyzer (Nippon Roper Co., Ltd., Image-Pro Premier Ver.9.3) is used to calculate the projected area (S) of the particles (powder particles) and the projected perimeter (L) of the particles. Then, the degree of circularity was calculated from the following formula (1). Circularity was calculated for 100 arbitrary particles, and the average value was taken as the average circularity.
Circularity = 4πS/L 2 (1)

(平均粒子径)
レーザー回折式粒度分布測定装置(ベックマン・コールター社製、LS 13 320)を用いて平均粒子径の測定を行った。ガラスビーカーに50cmの純粋と、得られた粉末0.1gを入れ、超音波ホモジナイザー(BRANSON社製、SFX250)で1分間、分散処理を行った。分散処理を行った粉末の分散液をレーザー回折式粒度分布測定装置にスポイトで一滴ずつ添加し、所定量添加してから30秒後に測定を行った。レーザー回折式粒度分布測定装置内のセンサで検出した粒子による回折/散乱光の光強度分布のデータから粒度分布を計算した。平均粒子径は測定される粒子径の値に相対粒子量(差分%)を乗じて、相対粒子量の合計(100%)で割って求めた。なお、ここでの%は体積%である。
(Average particle size)
The average particle size was measured using a laser diffraction particle size distribution analyzer (LS 13 320, manufactured by Beckman Coulter). 50 cm 3 of pure powder and 0.1 g of the obtained powder were placed in a glass beaker and dispersed for 1 minute with an ultrasonic homogenizer (SFX250, manufactured by BRANSON). A liquid dispersion of the powder subjected to dispersion treatment was added drop by drop using a dropper to a laser diffraction particle size distribution analyzer, and measurement was performed 30 seconds after adding a predetermined amount. The particle size distribution was calculated from the light intensity distribution data of the light diffracted/scattered by the particles detected by the sensor in the laser diffraction particle size distribution analyzer. The average particle size was obtained by multiplying the value of the measured particle size by the relative particle amount (difference %) and dividing by the total relative particle amount (100%). In addition, % here is volume %.

(X線透過像評価)
X線透過観察装置を用いて観察像の明度の評価を行った。ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱ケミカル社製、jER828、20質量部)、潜在性硬化剤(東京化成社製、4,4'―ジアミノジフェニルメタン、5質量部)を80℃で混合して樹脂混合液を作製した。次に、この樹脂混合液の体積を70体積%として粉末を30体積%投入し、自転・公転ミキサーあわとり練太郎真空タイプ(シンキー社製、 ARV―310P)を用いて撹拌して粉末樹脂組成物を得た。得られた粉末樹脂組成物を所定体積分計量し、厚さ2mm、一片2cmの長方形のシリコン枠内に入れ、熱プレス機(井元製作所社製「IMC-1674-A型」)にて加熱加圧(80℃、3MPa、1時間)を行い、加えてさらに2回目の加熱加圧(150℃、5MPa、1時間)を行い、加えて更に3回目の加熱加圧(200℃、7MPa、3時間)を行い、評価試料とした。形状やサイズは観察装置に搭載でき、測定試料間で差がなければよく、一片2cm程度の長方形である。X線透過観察は、評価試料を装置内に設置して観察した。得られた観察像の色の明暗の度合いをもとに、像の明度が高い場合を○、像の明度が低い場合を×として評価した。
(X-ray transmission image evaluation)
The brightness of the observation image was evaluated using an X-ray transmission observation device. Bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd., jER828, 20 parts by mass) and a latent curing agent (manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd., 4,4'-diaminodiphenylmethane, 5 parts by mass) are mixed at 80 ° C. to form a resin mixture. was made. Next, the volume of this resin mixture is 70% by volume, and 30% by volume of powder is added, and stirred using a rotation/revolution mixer Awatori Mixer vacuum type (ARV-310P, manufactured by Thinky Co.) to obtain a powder resin composition. got stuff A predetermined volume of the obtained powdered resin composition was weighed, placed in a rectangular silicon frame with a thickness of 2 mm and a piece of 2 cm, and heated with a heat press ("IMC-1674-A" manufactured by Imoto Seisakusho Co., Ltd.). Pressure (80 ° C., 3 MPa, 1 hour) is performed, and a second heating and pressurizing (150 ° C., 5 MPa, 1 hour) is performed, and a third heating and pressurization (200 ° C., 7 MPa, 3 time) was performed and used as an evaluation sample. The shape and size can be mounted on the observation device, and there is no difference between the samples to be measured. For X-ray transmission observation, the evaluation sample was placed in the apparatus and observed. Based on the degree of brightness and darkness of the color of the observed image obtained, the image was evaluated as ◯ when the image had high lightness, and as x when the image had low lightness.

表1の結果からもわかるように、粉末中のZr量を制限することにより、X線透過観察における像の明度を高くすることができる。このことから、製品分析時における異常検出を抑制可能であることがいえる。 As can be seen from the results in Table 1, by limiting the amount of Zr in the powder, the brightness of the image in X-ray transmission observation can be increased. From this, it can be said that it is possible to suppress abnormality detection at the time of product analysis.

Claims (6)

ZnO、Al及びSiOを含む粉末であって、
前記粉末中のZr含有量が、前記粉末の総量に対して10ppm以下である、粉末。
A powder comprising ZnO, Al2O3 and SiO2 ,
A powder, wherein the Zr content in the powder is 10 ppm or less with respect to the total amount of the powder.
請求項1に記載の粉末において、
前記粉末中のU含有量が、前記粉末の総量に対して10ppb以下である、粉末。
In the powder of claim 1,
A powder, wherein the U content in the powder is 10 ppb or less relative to the total amount of the powder.
請求項1又は請求項2に記載の粉末において、
平均円形度が0.6以上である、粉末。
In the powder according to claim 1 or claim 2,
A powder having an average circularity of 0.6 or more.
請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の粉末において、
ガラス中又は樹脂中に配合されて使用される、粉末。
In the powder according to any one of claims 1 to 3,
A powder that is used by blending in glass or resin.
請求項1ないし請求項4のいずれか1項に記載の粉末の製造方法であって、
ZnO、Al及びSiOを含む原料混合物を準備することと、
前記原料混合物を溶融させることと、
溶融させた前記原料混合物を冷却し、原料ガラスを得ることと、
前記原料ガラスを粉砕することと、を含む方法。
A method for producing the powder according to any one of claims 1 to 4,
preparing a raw material mixture comprising ZnO, Al2O3 and SiO2 ;
melting the raw material mixture;
cooling the melted raw material mixture to obtain raw glass;
and pulverizing the raw glass.
請求項5に記載の粉末の製造方法において、
前記原料ガラスの粉砕をスタンプミルにて行う、方法。
In the method for producing a powder according to claim 5,
A method, wherein the raw material glass is pulverized in a stamp mill.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3545894B2 (en) * 1996-12-27 2004-07-21 京セラ株式会社 Glass ceramic sintered body
JP4305816B2 (en) * 2002-11-08 2009-07-29 Hoya株式会社 Optical glass, glass molding for press molding, and optical element
JP4860106B2 (en) * 2003-09-25 2012-01-25 電気化学工業株式会社 Cement admixture, cement composition, and cement concrete
JP4438090B2 (en) * 2004-09-22 2010-03-24 昭栄化学工業株式会社 Glass powder for conductor paste
KR101201384B1 (en) * 2004-10-12 2012-11-14 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 Cover glass for solid image pickup device and process for producing the same
WO2009154219A1 (en) * 2008-06-18 2009-12-23 住友化学株式会社 Method for producing aluminum titanate-based ceramic
DE102013226636A1 (en) * 2013-12-19 2015-06-25 Friedrich-Schiller-Universität Jena Glass composition, device and method of making a device

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