JP2023118688A - curved wafer stage - Google Patents

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Abstract

To provide an apparatus for transferring a semiconductor die from an arrangement of semiconductor dies to a target.SOLUTION: In an apparatus 1, a wafer chuck includes a rotationally mounted curved shell 122 on which the arrangement of semiconductor dies 2A are arranged. A wafer stage further includes a first motor for rotating the curved shell around a rotational axis. The curved configuration allows for an improved throughput of the wafer stage. A film frame carrier 3 to be used with the wafer stage includes a ring-shaped body with an asymmetric bending stiffness. The asymmetric bending stiffness allows the ring-shaped body to be bent such that the mounting surface of the ring-shaped body changes from a first shape to a second more concave shape, and prevents or limits the ring-shaped body to be bent such that the shape of the mounting surface becomes more convex than the first shape.SELECTED DRAWING: Figure 1A

Description

本開示の態様は、半導体ダイの配列からターゲットに半導体ダイを移送するための装置に関する。本開示の更なる態様は、このような装置において使用されるウェハステージに関する。 Aspects of the present disclosure relate to apparatus for transferring semiconductor dies from an array of semiconductor dies to a target. A further aspect of the present disclosure relates to wafer stages used in such apparatus.

ダイシングされた半導体ウェハからターゲットに半導体ダイを移送するための装置は、当技術分野で知られている。例えば、特許文献1は、ダイシングされた半導体ウェハが配置され得るウェハチャックを有するウェハステージと、ターゲットが配置され得るターゲットチャックを有するターゲットステージとを含む装置を開示している。ウェハステージとターゲットステージの両方は、ウェハチャック上のダイシングされた半導体ウェハとターゲットチャック上のターゲットとの間の相互位置を変更するための1つ以上のモータを含む。装置は、ダイシングされた半導体ウェハから半導体ダイを解放するためのニードルの形態の解放ユニットを更に含む。解放ユニット、ウェハステージ及びターゲットステージは、コントローラを使用して制御される。 Apparatuses for transferring semiconductor die from a diced semiconductor wafer to a target are known in the art. For example, U.S. Pat. No. 6,200,009 discloses an apparatus that includes a wafer stage having a wafer chuck on which a diced semiconductor wafer can be placed, and a target stage having a target chuck on which a target can be placed. Both the wafer stage and the target stage include one or more motors for changing the mutual position between the diced semiconductor wafer on the wafer chuck and the target on the target chuck. The apparatus further includes a release unit in the form of a needle for releasing the semiconductor die from the diced semiconductor wafer. The release unit, wafer stage and target stage are controlled using a controller.

既知のシステムでは、ダイシングされた半導体ウェハは、例えばプリント回路基板であり得るターゲットに近づけられる。半導体ウェハ上の半導体ダイがターゲット上の意図された位置と位置合わせされると、ニードルは半導体ダイと位置合わせされる。次に、ニードルは、半導体ウェハから離し、ターゲット上に移送するように半導体ダイを押し付ける。 In known systems, a diced semiconductor wafer is brought close to a target, which may be a printed circuit board, for example. When the semiconductor die on the semiconductor wafer is aligned with its intended location on the target, the needle is aligned with the semiconductor die. The needle then pushes the semiconductor die away from the semiconductor wafer for transfer onto the target.

上記ダイ移送は、直接ダイ移送と呼ばれる。より具体的には、ダイは、ダイを解放するステップとダイをターゲット上に置くステップとの間に置かれるか又は支持されることなく、ダイシングされた半導体ウェハからターゲット上に移送される。 The above die transfer is called direct die transfer. More specifically, the die is transferred from the diced semiconductor wafer onto the target without being placed or supported between releasing the die and placing the die on the target.

上述したタイプの装置の重要な性能指数は、単位時間当たりに移送され得る半導体ダイの数である。この時間は、多くの場合、ターゲットに対して半導体ウェハを位置決めするステップによって限定される。 An important figure of merit for devices of the type described above is the number of semiconductor dies that can be transferred per unit of time. This time is often limited by positioning the semiconductor wafer relative to the target.

米国特許出願公開第2017-140959号明細書US Patent Application Publication No. 2017-140959

本開示の一態様は、半導体ダイの配列がターゲットに対して位置決めされる異なる方法を用いる、半導体ダイの配列からターゲットに半導体ダイを移送するための装置を提供することに関する。本開示の一態様によれば、この位置決めの異なる方法により、半導体ダイをターゲット上に移送するのに必要な時間の短縮を達成することを可能にすることができる。 One aspect of the present disclosure relates to providing an apparatus for transferring semiconductor dies from an array of semiconductor dies to a target using different methods by which the array of semiconductor dies is positioned relative to the target. According to one aspect of the present disclosure, this different method of positioning may allow achieving a reduction in the time required to transfer the semiconductor die onto the target.

本開示の一態様によれば、装置のウェハチャックは、半導体ダイの配列が配置され、回転可能に取り付けられた湾曲シェルを含む。更に、ウェハステージは、湾曲シェルを回転軸の周りに回転させるための第1のモータを含む。 According to one aspect of the present disclosure, a wafer chuck of an apparatus includes a curved shell in which an array of semiconductor dies is positioned and rotatably mounted. Additionally, the wafer stage includes a first motor for rotating the curved shell about the axis of rotation.

特許文献1に開示された装置は、半導体ウェハをx方向及びy方向に変位させるように構成されたリニアモータを使用するリニアXYステージを含む。このようなウェハステージによって得られる加速度は、モータトポロジと電力消費によって限定される。これらのウェハステージの性能を向上させ、例えば、位置決め速度を増加させるために、可動コイルトポロジが必要になる。しかしながら、これは可動コイルを冷却して電力消費能力を向上させるという関連する問題をもたらす。 The apparatus disclosed in U.S. Pat. No. 5,800,002 includes a linear XY stage that uses linear motors configured to displace a semiconductor wafer in the x and y directions. The acceleration obtainable by such wafer stages is limited by motor topology and power consumption. To improve the performance of these wafer stages, eg, increase positioning speed, a moving coil topology is required. However, this presents the associated problem of cooling the moving coil to improve power consumption capability.

本開示の一態様によれば、リニアモータで加速度が限定されるという問題は、半導体ダイの配列が配置され得る、回転可能に取り付けられた湾曲シェルを使用して緩和される。このシェルは、ウェハステージの一部であり、湾曲シェルを回転軸の周りに回転させるように構成される第1のモータを使用して作動される。 According to one aspect of the present disclosure, the acceleration limited problem with linear motors is mitigated using a rotatably mounted curved shell in which an array of semiconductor dies can be placed. The shell is part of the wafer stage and is actuated using a first motor configured to rotate the curved shell about an axis of rotation.

回転運動を与えるためのモータは、単位放散熱当たりのより高い力又はトルク、及び/又は単位電力当たり及び使用される磁石の単位重量当たりのより高い力/トルクを与える。これは、所与の質量及び電力レベルに対して、直動磁石モータよりも高い加速度を達成することができることを意味する。 Motors for providing rotary motion provide higher force or torque per unit heat dissipated and/or higher force/torque per unit power and per unit weight of the magnets used. This means that for a given mass and power level, higher accelerations can be achieved than linear magnet motors.

装置は、好ましくは、半導体ダイの配列からターゲット上に半導体ダイを直接移送するように構成される。解放ユニットは、半導体ダイの配列から半導体ダイを解放して、ターゲット上に落下させるように構成され得る。この場合、解放ユニットは、半導体ダイがターゲット上の所望の位置に到達した瞬間に半導体ダイと係合していない。他の実施形態では、補助ユニットは、解放された半導体ダイをターゲットに導くために使用され得る。例えば、圧縮空気の噴出は、解放された半導体ダイをターゲットに向かって押すために使用されてもよい。このような場合、半導体ダイは、地球の重力に逆らってターゲットに向かって変位され得る。 The apparatus is preferably configured to directly transfer a semiconductor die from an array of semiconductor dies onto a target. The release unit may be configured to release the semiconductor die from the array of semiconductor dies and drop them onto the target. In this case, the release unit is not engaged with the semiconductor die at the moment the semiconductor die reaches the desired position on the target. In other embodiments, an auxiliary unit may be used to guide the released semiconductor die to the target. For example, a jet of compressed air may be used to push the released semiconductor die toward the target. In such cases, the semiconductor die may be displaced toward the target against the earth's gravity.

ウェハチャックは、半導体ダイの配列を担持するキャリアを支持するように構成され得る。例えば、キャリアは、テープ、フィルム又はホイルであり得る。更に、キャリアは、フィルムフレームキャリアの一部であり得る。 A wafer chuck may be configured to support a carrier carrying an array of semiconductor dies. For example, the carrier can be tape, film or foil. Additionally, the carrier may be part of a film frame carrier.

半導体ダイの配列は、ダイシングされた半導体ウェハ又は構造化された半導体ウェハから構成され得る。構造化された半導体ウェハは、ダイが由来する半導体ウェハをダイシングする前に配置されたパターンとは異なるパターンで配置された複数の半導体ダイを含んでもよい。代替的に、構造化された半導体ウェハは、異なる半導体ウェハに由来する複数の半導体ダイを含んでもよい。このような場合、半導体ダイは、フィルム、ホイル又はテープなどのキャリア上に個別に置かれている。 The array of semiconductor dies may consist of a diced semiconductor wafer or a structured semiconductor wafer. A structured semiconductor wafer may include a plurality of semiconductor dies arranged in a pattern different from the pattern arranged prior to dicing the semiconductor wafer from which the dies originate. Alternatively, a structured semiconductor wafer may include multiple semiconductor dies from different semiconductor wafers. In such cases, the semiconductor dies are individually placed on a carrier such as a film, foil or tape.

回転軸は、好ましくは、ターゲットチャックに少なくともほぼ平行に延びる。このようにして、次の半導体ダイを前の半導体ダイと同じ位置で解放する必要があるとすれば、湾曲シェルを回転させて次の半導体ダイを解放ユニットと整列させるときに、解放ユニットの位置を一定に保つことができる。ここで、ターゲットは、典型的には、次の半導体ダイが解放されるときに移動されることに留意されたい。更に、回転軸は、湾曲シェルの縦対称軸と一致してもよい。 The axis of rotation preferably extends at least substantially parallel to the target chuck. In this way, assuming that the next semiconductor die needs to be released at the same position as the previous semiconductor die, the position of the release unit will change when the curved shell is rotated to align the next semiconductor die with the release unit. can be kept constant. Note that the target is typically moved when the next semiconductor die is released. Furthermore, the axis of rotation may coincide with the axis of longitudinal symmetry of the curved shell.

ウェハステージは、湾曲シェルを、好ましくは回転軸に平行及び/又は一致する方向に沿って前後に並進させるための第2のモータを更に含んでもよい。ウェハステージは、湾曲シェルを、第2のモータによって付与される方向と比較して垂直方向に並進させるための別の第2のモータを更に含んでもよい。例えば、第2のモータ及び上記別の第2のモータは、ターゲットステージのターゲットテーブルが並進される平面と同様のXY平面内で湾曲シェルを並進させるために協働することができる。 The wafer stage may further include a second motor for translating the curved shell back and forth along directions that are preferably parallel and/or coincident with the axis of rotation. The wafer stage may further include another second motor for vertically translating the curved shell relative to the direction imparted by the second motor. For example, the second motor and the another second motor can cooperate to translate the curved shell in the same XY plane as the target table of the target stage is translated.

ウェハステージは、湾曲シェルを、回転軸に垂直な方向に、好ましくはターゲットチャックに垂直な方向に沿って前後に並進させるための補助的な第2のモータを更に含んでもよい。例えば、補助的な第2のモータは、湾曲シェルを垂直に変位させて、解放される半導体ダイとターゲットとの間の特定の垂直間隔を確保又は維持するように構成されてもよい。このような間隔が小さすぎると、ターゲットと半導体ダイは、ターゲット及び/又は湾曲シェルの移動中に接触する可能性がある。間隔が大きくなりすぎると、ターゲット上の半導体ダイの位置及び/又は向きの変動は許容できなくなる可能性がある。 The wafer stage may further include an auxiliary second motor for translating the curved shell back and forth along a direction perpendicular to the axis of rotation, preferably perpendicular to the target chuck. For example, an auxiliary second motor may be configured to vertically displace the curved shell to ensure or maintain a particular vertical spacing between the released semiconductor die and the target. If such spacing is too small, the target and semiconductor die may contact during movement of the target and/or curved shell. If the spacing becomes too large, variations in the position and/or orientation of the semiconductor die on the target may become unacceptable.

追加的に又は代替的には、装置は、固定枠及び第1のキャリッジを更に含み、第2のモータ及び/又は補助的な第2のモータは、固定枠に対して第1のキャリッジを並進させるように構成され、第1のモータは、第1のキャリッジに対して湾曲シェルを回転させるように構成される。この場合、湾曲シェルの回転及び並進が積み重ねられる。他の実施形態では、第2のモータ及び/又は補助的なモータは、固定枠に対して湾曲シェルを並進させるように構成され、第1のモータは、固定枠に対して湾曲シェルを回転させるように構成される。この場合、回転及び並進は、固定枠に対して互いに独立して実行される。 Additionally or alternatively, the apparatus further includes a fixed frame and a first carriage, wherein the second motor and/or the auxiliary second motor translates the first carriage relative to the fixed frame. and the first motor is configured to rotate the curved shell relative to the first carriage. In this case the rotation and translation of the curved shell are stacked. In other embodiments, the second and/or auxiliary motors are configured to translate the curved shell relative to the fixed frame and the first motor rotates the curved shell relative to the fixed frame. configured as In this case, rotation and translation are performed independently of each other with respect to the fixed frame.

湾曲シェルは、第1の波長を有する光に対して少なくとも部分的に半透明であり得る。この場合、解放ユニットは、上記波長を有する光のビームを出力するためのレーザなどの光源を含んでもよい。半導体ダイの配列は、感光性接着剤などの光吸収剤を使用して、テープ、ホイル又はフィルムに付着することができる。光吸収剤は、上記波長を有する光によって照射されると、半導体ダイの配列との付着を少なくとも局所的に解放するように構成され得る。例えば、光吸収剤は、光を吸収した結果として、フォトアブレーションによって、及び/又は光吸収剤が化学反応を受けることによって、その付着を少なくとも局所的に解放するように構成され得る。光源は、所与の半導体ダイに隣接する半導体ダイとは別個の半導体ダイの配列の上記所与の半導体ダイを照射するように構成され得る。例えば、光源は、一度に半導体ダイの配列の1つの半導体ダイを照射するように構成され得る。しかしながら、解放ユニットは、光源から光のビームを受け、上記受けたビームを複数の更なるビームに分割するように構成されたビームスプリッタを含んでもよく、各更なるビームは、それぞれの所与の半導体ダイを照射するように構成される。 The curved shell may be at least partially translucent to light having the first wavelength. In this case the release unit may comprise a light source such as a laser for outputting a beam of light having said wavelength. An array of semiconductor dies can be attached to a tape, foil, or film using a light absorbing agent such as a photosensitive adhesive. The light absorber may be configured to at least locally release adhesion to the array of semiconductor dies when illuminated by light having the wavelength described above. For example, the light absorber may be configured to release its attachment at least locally as a result of absorbing light, by photoablation and/or by subjecting the light absorber to a chemical reaction. The light source may be configured to illuminate a given semiconductor die of an array of semiconductor dies distinct from semiconductor dies adjacent to the given semiconductor die. For example, the light source may be configured to illuminate one semiconductor die of the array of semiconductor dies at a time. However, the release unit may also comprise a beam splitter configured to receive the beam of light from the light source and split said received beam into a plurality of further beams, each further beam having a respective given It is configured to illuminate a semiconductor die.

光源は、湾曲シェルに向かって、好ましくはほぼ垂直に、光を発するように構成され得る。そして、光源は、好ましくは、湾曲シェルの内側及び/又は上方又は下方に配置される。代替的に、光源は、回転軸にほぼ平行な方向に光を発するように構成され得る。この場合、解放ユニットは、導光ユニットを更に含んでもよい。光源は、導光ユニットに向かって、好ましくは回転軸にほぼ平行に、光を発するように構成され得て、導光ユニットは、光源から湾曲シェルに向かって、好ましくはほぼ垂直に、光を導くように構成され得る。この場合、光源は、湾曲シェルの外側及び/又は湾曲シェルの隣りに配置され得る。 The light source may be configured to emit light towards the curved shell, preferably substantially perpendicular. The light sources are then preferably arranged inside and/or above or below the curved shell. Alternatively, the light source can be configured to emit light in a direction substantially parallel to the axis of rotation. In this case, the release unit may further include a light guide unit. The light source may be configured to emit light towards the light guide unit, preferably substantially parallel to the axis of rotation, the light guide unit directing light from the light source towards the curved shell, preferably substantially perpendicular. can be configured to guide In this case, the light sources may be arranged outside the curved shell and/or next to the curved shell.

導光ユニットは、1つ以上のミラー及び/又は1つ以上のプリズムを含んでもよい。更に、導光ユニットは、好ましくはコントローラによって制御可能である1つ以上のアクチュエータを含んでもよく、1つ以上のアクチュエータは、光源からの光を異なる角度で湾曲シェルに導くために、光源からの入射光に対して1つ以上のミラー及び/又は1つ以上のプリズムの向きを変更するように構成される。このようにして、湾曲シェルがその縦対称軸に沿ってその位置を変更しなくても、光源からの光が湾曲シェルに当たる場所は変更することができる。導光ユニットは、例えば、MEMSベースであってもよい。例えば、MEMSベースのミラーは比較的軽量であり、移送される隣接するダイ間の高速切り替えを可能にする。 The light directing unit may include one or more mirrors and/or one or more prisms. Furthermore, the light directing unit may comprise one or more actuators, preferably controllable by the controller, one or more actuators directing the light from the light source to the curved shell at different angles. It is configured to redirect one or more mirrors and/or one or more prisms with respect to incident light. In this way, the location at which light from the light source strikes the curved shell can be changed without the curved shell changing its position along its axis of longitudinal symmetry. The light guiding unit may be MEMS-based, for example. For example, MEMS-based mirrors are relatively lightweight and allow fast switching between adjacent dies being transferred.

光を使用する代わりに、解放ユニットは、ニードルなどの係合素子と、半導体ダイの配列から半導体ダイを解放するために、半導体ダイの配列との係合及び係合解除を行うように係合素子を移動させるためのアクチュエータとを代替的に含んでもよい。係合素子は、典型的には、湾曲シェルの内側及び/又は上方又は下方に配置される。 Instead of using light, the release unit engages an engagement element, such as a needle, to engage and disengage the array of semiconductor dies to release the semiconductor dies from the array of semiconductor dies. and an actuator for moving the element. The engagement element is typically arranged inside and/or above or below the curved shell.

上述したように、半導体ダイの配列を完全に使い果たすために、解放ユニットが半導体ダイの配列からの半導体ダイを解放する位置を変更する必要がある。この目的のために、解放ユニットは、光源又はアクチュエータとニードルとの組み合わせが取り付けられた第2のキャリッジと、湾曲シェルに対して第2のキャリッジを移動させるための第3のモータとを含んでもよい。この場合、第2のキャリッジの移動と湾曲シェルの移動が積み重ねられる。更に、典型的には、第3のモータは、湾曲シェルの縦対称軸に沿って及び/又は平行に、湾曲シェルに対して第2のキャリッジを変位させるだけである。代替的に、解放ユニットは、光源又はアクチュエータとニードルとの組み合わせが取り付けられた第2のキャリッジと、固定枠に対して第2のキャリッジを移動させるための第3のモータとを含んでもよい。したがって、この場合、第2のキャリッジの移動と湾曲シェルの移動が互いに独立している。両方の場合に、第2のキャリッジは、湾曲シェルの内側及び/又は上方又は下方を並進するように構成され得る。更に、解放ユニットが上述した光源及び導光ユニットを含む場合、光源は固定枠に固着されてもよく、導光ユニットは第2のキャリッジに取り付けられてもよい。 As described above, in order to completely deplete the array of semiconductor dies, it is necessary to change the position at which the release unit releases the semiconductor dies from the array of semiconductor dies. To this end, the release unit may include a second carriage fitted with a light source or actuator and needle combination, and a third motor for moving the second carriage relative to the curved shell. good. In this case, movement of the second carriage and movement of the curved shell are superimposed. Furthermore, typically the third motor only displaces the second carriage relative to the curved shell along and/or parallel to the longitudinal axis of symmetry of the curved shell. Alternatively, the release unit may include a second carriage on which a light source or actuator and needle combination is mounted and a third motor for moving the second carriage relative to the fixed frame. Therefore, in this case the movement of the second carriage and the movement of the curved shell are independent of each other. In both cases, the second carriage may be configured to translate inside and/or above or below the curved shell. Further, when the release unit includes the light source and light guide unit described above, the light source may be fixed to the fixed frame and the light guide unit may be attached to the second carriage.

ターゲットステージは、好ましくは回転軸に平行な平面内でターゲットチャックを並進させるための第4のモータ及び/又は第5のモータ、及び/又は、ターゲットチャックを、回転軸に垂直な方向に、好ましくはターゲットチャックに垂直な方向に沿って前後に並進させるための補助的な第4のモータを更に含んでもよい。第4のモータ及び/又は第5のモータは、ターゲットチャックを固定枠に対して並進させるように配置され得る。代替的に、互いに直交する2つの方向への移動が積み重ねられ得る。例えば、第4のモータは、固定枠に対して第3のキャリッジを変位させてもよく、第5のモータは、第3のキャリッジに対してターゲットチャックを変位させてもよい。 The target stage preferably has a fourth motor and/or a fifth motor for translating the target chuck in a plane parallel to the axis of rotation and/or the target chuck in a direction perpendicular to the axis of rotation. may further include an auxiliary fourth motor for translating back and forth along a direction perpendicular to the target chuck. A fourth motor and/or a fifth motor may be arranged to translate the target chuck relative to the fixed frame. Alternatively, movements in two mutually orthogonal directions can be stacked. For example, a fourth motor may displace the third carriage relative to the fixed frame, and a fifth motor may displace the target chuck relative to the third carriage.

湾曲シェルには、半導体ダイの配列を湾曲シェルに結合することを可能にするための結合ユニットが設けられ得る。例えば、湾曲シェルには、複数の開口部が設けられ得る。この場合、装置は、複数の開口部を通して半導体ダイの配列に加えられた吸引力を生成するための真空ユニットを更に含んでもよい。代替的に又は追加的には、湾曲シェルには、半導体ダイの配列を機械的に結合するための機械的結合ユニットが設けられ得る。半導体ダイの配列は、好ましくは、フィルムフレームキャリアによって担持される。この場合、機械的結合ユニットは、好ましくは、フィルムフレームキャリアを湾曲シェル上にクランプするためのクランプユニットを含む。 The curved shell may be provided with a bonding unit for enabling the array of semiconductor dies to be bonded to the curved shell. For example, the curved shell may be provided with multiple openings. In this case, the apparatus may further include a vacuum unit for generating a suction force applied to the array of semiconductor dies through the plurality of openings. Alternatively or additionally, the curved shell may be provided with a mechanical coupling unit for mechanically coupling the array of semiconductor dies. The array of semiconductor dies is preferably carried by a film frame carrier. In this case the mechanical coupling unit preferably comprises a clamping unit for clamping the film frame carrier onto the curved shell.

湾曲シェルは、ドラムなどの円筒形のシェル、又は部分的に円筒形のシェルであり得る。例えば、シェルは、1/n円筒形のシェルであり得る。n=2である場合、シェルは半円筒形のシェルに対応する。n=1である場合、シェルはドラムなどの円筒形のシェルに対応する。しかしながら、本開示の態様は、回転軸及び/又は縦対称軸に垂直な断面が円形又は部分的に円形ではない湾曲シェルにも同様に関する。これらの場合、ターゲットと次に解放される半導体ダイとの間でほぼ一定の間隔を維持するために、湾曲シェル及びターゲットを相互に並進させることが好ましい。 The curved shell can be a cylindrical shell, such as a drum, or a partially cylindrical shell. For example, the shell can be a 1/n cylindrical shell. When n=2, the shell corresponds to a semi-cylindrical shell. When n=1, the shell corresponds to a cylindrical shell such as a drum. However, aspects of the present disclosure equally relate to curved shells whose cross-sections perpendicular to the axis of rotation and/or longitudinal symmetry are not circular or partially circular. In these cases, it is preferable to translate the curved shell and target relative to each other to maintain a substantially constant spacing between the target and the next released semiconductor die.

ダイの配列が配置される湾曲シェルを有することにより、半導体ダイが解放される位置の近くに検査システムを取り付ける可能性を提供する。例えば、装置は、半導体ダイの配列からの半導体ダイを、ターゲット上に置く前に検査するように配置された第1の検査システムを含んでもよい。第1の検査システムは、半導体ダイの配列の半導体ダイの位置及び/又は向きを決定するために配置され得て、コントローラは、決定された位置及び/又は向きに応じて、ウェハステージ、ターゲットステージ及び/又は解放ユニットを制御するように構成される。半導体ダイの配列を湾曲シェルに結合する場合、半導体ダイの位置及び/又は向きは、例えば、半導体ダイが配置されたキャリアのしわ又は他の歪みにより変更されてもよい。第1の検査システムは、半導体ダイの位置及び/又は向きを、好ましくは湾曲シェルに対して、及び/又は半導体ダイの理想的な位置及び/又は向きに対して記録してもよい。この記録された位置は、その後、ダイを解放する前に補正を実行するために使用され得る。例えば、ダイをその理想的な位置に対して回転軸に沿ってシフトした場合、湾曲シェルは、解放ユニットが半導体ダイを解放する前に、他の方向にわずかに並進されてもよい。この場合、解放ユニットの位置を変更する必要はない。他の実施形態では、ターゲットは、湾曲シェルを同じ位置に維持しながら、解放ユニットと共に変位される。また更なる実施形態では、解放ユニット、ターゲット及び湾曲シェルが全て移動される。 Having a curved shell in which the array of dies is arranged provides the possibility of mounting the inspection system close to the location where the semiconductor dies are released. For example, the apparatus may include a first inspection system arranged to inspect semiconductor dies from the array of semiconductor dies prior to placement on the target. A first inspection system may be arranged to determine a position and/or orientation of the semiconductor die of the array of semiconductor dies, the controller controlling the wafer stage, target stage, and/or orientation in response to the determined position and/or orientation. and/or configured to control the release unit. When bonding an array of semiconductor dies to a curved shell, the position and/or orientation of the semiconductor dies may be altered, for example, by wrinkling or other distortion of the carrier in which the semiconductor dies are placed. The first inspection system may record the position and/or orientation of the semiconductor die, preferably with respect to the curved shell and/or with respect to the ideal position and/or orientation of the semiconductor die. This recorded position can then be used to perform corrections before releasing the die. For example, if the die is shifted along the axis of rotation relative to its ideal position, the curved shell may be translated slightly in other directions before the release unit releases the semiconductor die. In this case, there is no need to change the position of the release unit. In other embodiments, the target is displaced with the release unit while keeping the curved shell in the same position. In a still further embodiment, the release unit, target and curved shell are all moved.

第1の検査システムは、追加的に又は代替的に、半導体ダイの配列の半導体ダイが損傷されるか否かを判断するように配置され得る。この場合、コントローラは、上記半導体ダイが損傷されると判断された場合、ウェハステージ、ターゲットステージ及び/又は解放ユニットを制御して、半導体ダイがターゲット上に置かれることを防止するように構成され得る。このようにして、損傷された半導体ダイがスキップされ得る。 The first inspection system may additionally or alternatively be arranged to determine whether a semiconductor die of the array of semiconductor dies is damaged. In this case, the controller is configured to control the wafer stage, the target stage and/or the release unit to prevent the semiconductor die from being placed on the target if it is determined that the semiconductor die is damaged. obtain. In this way, damaged semiconductor dies can be skipped.

装置は、半導体ダイが半導体ダイの配列から解放されたか否かを判断するように配置された第2の検査システムを更に含んでもよい。そして、コントローラは、上記半導体ダイが解放されていないと判断された場合、上記半導体ダイを解放するために、ウェハステージ、ターゲットステージ及び/又は解放ユニットを制御するように構成され得る。このようにして、解放ユニットは、再び半導体ダイを解放することを試みてもよい。 The apparatus may further include a second inspection system arranged to determine whether the semiconductor die has been released from the array of semiconductor dies. And the controller may be configured to control a wafer stage, a target stage and/or a release unit to release the semiconductor die if it is determined that the semiconductor die has not been released. In this way, the release unit may attempt to release the semiconductor die again.

代替的に又は追加的には、装置は、半導体ダイがターゲット上に適切に置かれているか否かをチェックするように配置された第3の検査システムを更に含んでもよい。この場合、コントローラは、上記半導体ダイの位置及び/又はターゲット上の上記半導体ダイの意図された位置を記憶するように構成され得る。後期段階で、半導体ダイは、この位置でターゲットから取り外され得る。 Alternatively or additionally, the apparatus may further include a third inspection system arranged to check whether the semiconductor die is properly placed on the target. In this case, the controller may be configured to store the position of the semiconductor die and/or the intended position of the semiconductor die on the target. At a later stage, the semiconductor die can be removed from the target at this location.

第1、第2及び/又は第3の検査システムは、カメラを含んでもよく、同じカメラは、好ましくは、第1、第2及び第3の検査システムのうちの2つ以上に使用される。第1、第2及び/又は第3の検査システムのカメラは、固定枠に対して移動可能に取り付けられ得る。例えば、カメラは、湾曲シェルの縦対称軸に沿って移動するように構成され得る。 The first, second and/or third inspection systems may include cameras, and the same camera is preferably used for two or more of the first, second and third inspection systems. The cameras of the first, second and/or third inspection system may be movably mounted with respect to the fixed frame. For example, the camera can be configured to move along the longitudinal axis of symmetry of the curved shell.

解放ユニットは、固定枠に対して解放位置に配置された半導体ダイを半導体ダイの配列から解放するように構成され得る。半導体ダイの配列は、行及び列のマトリクス状に配置された複数の半導体ダイを含んでもよく、行は、回転軸に対して少なくともほぼ平行に延在する。 The release unit may be configured to release the semiconductor die arranged in the release position with respect to the fixed frame from the array of semiconductor dies. The array of semiconductor dies may include a plurality of semiconductor dies arranged in a matrix of rows and columns, with the rows extending at least substantially parallel to the axis of rotation.

ターゲットは、半導体ダイの配列からのそれぞれの半導体ダイが置かれる、隣接して配置された置き位置の列又は行を含んでもよく、隣接して配置された置き位置の列又は行は、それぞれ、回転軸に対して少なくともほぼ垂直又は平行に延在する。このようなターゲットの例は、半導体ダイが配置された複数のキャビティを含むキャリアテープであり得る。この場合、コントローラは、ウェハステージを制御して、ターゲットのそれぞれの置き位置上の半導体ダイの配列の同じ列に半導体ダイを置くために湾曲シェルを断続的又は連続的に回転させ、上記置かれるダイの半導体ダイの配列の列を使い果たした後、湾曲シェルを並進運動させて、半導体ダイの配列の半導体ダイの隣接する列にシフトするように構成され得る。更に、コントローラは、湾曲シェルの並進運動中に固定枠に対して解放位置を維持して、半導体ダイの配列の半導体ダイの隣接する列にシフトするように構成され得る。例えば、解放ユニットは、湾曲シェルが回転及び並進している間、固定枠に対して固定されてもよい。 The target may include adjacently arranged columns or rows of placement locations on which respective semiconductor dies from the array of semiconductor dies are placed, the adjacently arranged columns or rows of placement locations each comprising: It extends at least approximately perpendicular or parallel to the axis of rotation. An example of such a target can be a carrier tape containing multiple cavities in which semiconductor dies are arranged. In this case, the controller controls the wafer stage to intermittently or continuously rotate the curved shell to place the semiconductor dies in the same row of the array of semiconductor dies on the respective placement positions of the target, and After exhausting a row of the semiconductor die array of dies, the curved shell may be configured to translate and shift to an adjacent row of semiconductor dies of the semiconductor die array. Further, the controller may be configured to maintain a release position relative to the fixed frame during translation of the curved shell to shift to an adjacent row of semiconductor dies of the array of semiconductor dies. For example, the release unit may be fixed with respect to the fixed frame while the curved shell rotates and translates.

上記に加えて、ターゲットは、半導体ダイの配列からのそれぞれの半導体ダイが置かれる、上記隣接して配置された置き位置の列を複数含んでもよい。この場合、コントローラは、ターゲット上の同じ列内の全ての置き位置に、半導体ダイの配列からの半導体ダイが設けられた後、ウェハステージ及び/又はターゲットステージを制御してターゲットと湾曲シェルとの間の相互並進運動を引き起こすように構成され得る。この場合、コントローラは、上記ターゲットと湾曲シェルとの間の相互並進運動中に、固定枠に対して解放位置を維持するように構成され得る。代替的に、コントローラは、固定枠に対して回転軸に平行な方向にターゲット上の列の位置を維持し、ターゲット上の同じ列内の全ての置き位置に、半導体ダイの配列からの半導体ダイが設けられた後、解放位置を変更してターゲット上の次の列にシフトするように構成され得る。 Further to the above, the target may include a plurality of said adjacently arranged rows of placement locations upon which respective semiconductor dies from the array of semiconductor dies are placed. In this case, the controller controls the wafer stage and/or the target stage after all placement positions in the same row on the target have been provided with semiconductor dies from the semiconductor die array. may be configured to cause mutual translational motion between. In this case, the controller may be configured to maintain a release position with respect to the fixed frame during mutual translational movement between said target and curved shell. Alternatively, the controller maintains the position of the rows on the target in a direction parallel to the axis of rotation with respect to the fixed frame, and places semiconductor dies from the array of semiconductor dies at all placement positions within the same row on the target. is provided, the release position may be changed to shift to the next row on the target.

装置は、ターゲット上の異なる列の置き位置にある半導体ダイの配列からの半導体ダイをほぼ同時解放するための上述した解放ユニットを複数含んでもよい。各解放ユニットは、コントローラによって独立して制御され得る。 The apparatus may include a plurality of the release units described above for substantially simultaneously releasing semiconductor dies from an array of semiconductor dies at different row placement positions on the target. Each release unit can be independently controlled by a controller.

本開示の更なる態様によれば、半導体ダイの配列が配置されたウェハチャックを有するウェハステージが提供され、ウェハチャックは、半導体ダイの配列が配置され、回転可能に取り付けられた湾曲シェルを含み、ウェハステージは、湾曲シェルを回転軸の周りに回転させるための第1のモータを更に含む。このウェハステージは、更に、上述した装置のウェハステージとして構成され得る。 According to a further aspect of the present disclosure, a wafer stage is provided having a wafer chuck having an array of semiconductor dies disposed thereon, the wafer chuck having an array of semiconductor dies disposed thereon and including a rotatably mounted curved shell. , the wafer stage further includes a first motor for rotating the curved shell about the axis of rotation. This wafer stage may further be configured as the wafer stage of the apparatus described above.

本開示の更なる態様によれば、上述した装置の湾曲シェルに取り付けられるように構成されたフィルムフレームキャリアが提供される。フィルムフレームキャリアは、テープフレームとも呼ばれる。 According to a further aspect of the disclosure there is provided a film frame carrier configured to be attached to the curved shell of the apparatus described above. Film frame carriers are also called tape frames.

フィルムフレームキャリアは、半導体ダイの配列が配置された可撓性キャリアフィルム、ホイル又はテープの支持面に結合されるように構成された取り付け面を有する環状体を含む。環状体は、円形、長方形又は正方形の形状を有してもよいが、これらに限定されない。 A film frame carrier includes an annular body having a mounting surface configured to be bonded to a support surface of a flexible carrier film, foil or tape on which an array of semiconductor dies is disposed. The toroid may have, but is not limited to, a circular, rectangular or square shape.

環状体は、非対称屈曲剛性を有し、非対称屈曲剛性により、環状体の取り付け面が第1の形状からより凹状の第2の形状に変更されるように環状体を曲げることを可能にし、取り付け面の形状が第1の形状より凸状になるように環状体を曲げることを防止又は制限する。非対称屈曲剛性により、環状体は、剛性を失うことなく環状体を移動させるために両側で把持され得る。これにより、湾曲シェル上へのフィルムフレームキャリアの自動移送が可能になり、及び/又は、次に環状体に結合された可撓性キャリアフィルムに取り付けられたまま、ウェハをダイシングすることが可能になる。第1の形状は、取り付け面が達成できる最も凸状の形状に対応してもよい。 The toroid has an asymmetric bending stiffness that allows the toroid to bend such that the mounting surface of the toroid changes from a first shape to a more concave second shape, and the mounting Prevents or limits bending of the annulus such that the shape of the face is more convex than the first shape. Asymmetric bending stiffness allows the toroid to be gripped on both sides to move the toroid without losing stiffness. This allows automatic transfer of the film frame carrier onto the curved shell and/or allows dicing of the wafer while still attached to the flexible carrier film which is then bonded to the toroid. Become. The first shape may correspond to the most convex shape that the mounting surface can achieve.

非対称屈曲剛性は、環状体の取り付け面を第1の形状からより凹状の第2の形状に可逆的に変更するように環状体を曲げることを可能にするように構成され得る。代替的に、曲げは、環状体の塑性変形をもたらす可能性がある。 The asymmetric bending stiffness can be configured to allow bending of the toroid to reversibly change the mounting surface of the toroid from a first shape to a more concave second shape. Alternatively, bending may result in plastic deformation of the toroid.

第1の形状は、本質的に平坦な形状に対応してもよい。追加的に又は代替的には、第1の形状を有する場合の取り付け面の曲率は0.2m-1未満であり得て、第2の形状を有する場合の取り付け面の曲率は3.3m-1超であり得る。 The first shape may correspond to an essentially flat shape. Additionally or alternatively, the curvature of the mounting surface when having the first shape may be less than 0.2 m −1 and the curvature of the mounting surface when having the second shape is 3.3 m −1 . can be greater than one .

環状体は、板ばねを含んでもよく、及び/又は少なくとも部分的に板ばねによって形成され得る。更に、板ばねの表面は、取り付け面を形成するか又は取り付け面の一部であってもよい。環状体は、板ばねに接続され、取り付け面の形状が第1の形状より凸状になるように環状体を曲げることを防止又は制限するための制限手段を更に含んでもよい。制限手段は、上記取り付け面から離れるように導かれる表面において板ばねに結合され得る。追加的に又は代替的には、制限手段は、板ばねに接続される複数のセグメントを含んでもよく、取り付け面が第1の形状である場合、隣接するセグメントが互いに当接することにより、取り付け面の形状が第1の形状より凸状になるように板ばねを曲げることを防止又は制限し、セグメントは、板ばねを曲げると当接から離れるように構成され、取り付け面を第1の形状からより凹状の形状に変換させる。 The annular body may include and/or be at least partially formed by a leaf spring. Furthermore, the surface of the leaf spring may form the mounting surface or be part of the mounting surface. The annular body may further include restricting means connected to the leaf springs for preventing or restricting bending of the annular body such that the shape of the mounting surface is more convex than the first shape. A limiting means may be coupled to the leaf spring at a surface directed away from the mounting surface. Additionally or alternatively, the restricting means may comprise a plurality of segments connected to the leaf springs, wherein when the mounting surface is in the first shape, adjacent segments abut each other so that the mounting surface to prevent or limit bending of the leaf spring such that the shape of the first shape is more convex than the first shape, and the segments are configured to move away from the abutment when the leaf spring is bent and move the mounting surface away from the first shape. Convert to a more concave shape.

代替的に、環状体は、複数のセグメントを含んでもよく、セグメントは、互いにヒンジで接続される。例えば、複数のセグメントのうちの隣接して配置されたそれぞれの対のセグメントは、それぞれの回転軸の周りに互いに枢動するように構成されてもよい。更に、複数のセグメントのうちの隣接して配置された全ての対のセグメントの枢動運動を表す回転軸は、互いに平行であり得る。 Alternatively, the toroid may comprise multiple segments, the segments being hingedly connected to each other. For example, respective pairs of adjacently arranged segments of the plurality of segments may be configured to pivot relative to each other about respective axes of rotation. Further, the axes of rotation representing the pivotal motion of all pairs of adjacently arranged segments of the plurality of segments may be parallel to each other.

複数のセグメントのうちの隣接して配置された少なくとも1対のセグメントについて、一方のセグメントは、上記一方のセグメントの第1の端部に配置された第1の結合構造を含んでもよく、他方のセグメントは、上記他方のセグメントの第2の端部に配置された第2の結合構造を含んでもよい。第1の結合構造と第2の結合構造は、上記一方のセグメントと上記他方のセグメントが回転軸の周りに互いに枢動することを可能にするように互いにヒンジで接続され得る。上記一方のセグメントは、上記一方のセグメントの第1の側とは反対側の上記一方のセグメントの第2の側に配置された上記第2の結合構造を含んでもよい。上記他方のセグメントは、上記他方のセグメントの第2の側とは反対側の上記他方のセグメントの第1の側に配置された上記第1の結合構造を含んでもよい。 For at least one pair of adjacently disposed segments of the plurality of segments, one segment may include a first coupling structure disposed at a first end of the one segment and the other A segment may include a second coupling structure located at a second end of said other segment. The first coupling structure and the second coupling structure may be hinged together to allow the one segment and the other segment to pivot relative to each other about an axis of rotation. The one segment may include the second coupling structure located on a second side of the one segment opposite the first side of the one segment. The other segment may include the first coupling structure positioned on a first side of the other segment opposite the second side of the other segment.

第1の結合構造は第1の開口部を含んでもよく、第2の結合構造は、上記第1の開口部に回転可能に受容され、回転軸を画定する突出素子を含んでもよい。この突出素子は、ピン、ロッド、又はシャフトであり得る。 The first coupling structure may include a first opening and the second coupling structure may include a projecting element rotatably received in said first opening and defining an axis of rotation. This projecting element can be a pin, rod or shaft.

代替的に、第1の結合構造は、第1の開口部を含んでもよく、第2の結合構造は第2の開口部を含み、フィルムフレームキャリアは、第1及び第2の開口部の少なくとも1つに回転可能に受容され回転軸を画定するシャフトを含む。 Alternatively, the first coupling structure may include the first opening, the second coupling structure includes the second opening, and the film frame carrier comprises at least one of the first and second openings. It includes a shaft rotatably received therewith and defining an axis of rotation.

上記複数のセグメントのうちの隣接して配置されたそれぞれの対のセグメントについて、一方のセグメントは第1の当接面(abutment surface)を含んでもよく、他方のセグメントは第2の当接面を含んでもよい。第1の当接面及び第2の当接面は、取り付け面が第1の形状を有する場合、取り付け面が第1の形状より凸状になるように環状体を曲げることを防止するために、互いに当接するように回転軸に対して成形及び位置決めされ得る。 For each pair of adjacently arranged segments of said plurality of segments, one segment may include a first abutment surface and the other segment may comprise a second abutment surface. may contain. The first abutment surface and the second abutment surface are configured to prevent bending of the annular body such that the mounting surface is more convex than the first shape when the mounting surface has the first shape. , may be shaped and positioned with respect to the axis of rotation so as to abut each other.

セグメントは、鋼、アルミニウム、チタン、ポリマー又はそれらの組み合わせからなる群から選択される材料で製造され得る。 The segments may be manufactured from materials selected from the group consisting of steel, aluminum, titanium, polymers or combinations thereof.

本開示の更なる態様によれば、上記で定義されたフィルムフレームキャリアと、ダイの配列が配置された支持面を有するキャリアフィルム、ホイル又はテープとを含むアセンブリが提供され、ダイの配列を有するキャリアフィルム、ホイル又はテープは、その支持面でフィルムフレームキャリアの取り付け面に結合される。 According to a further aspect of the disclosure there is provided an assembly comprising a film frame carrier as defined above and a carrier film, foil or tape having a support surface on which an array of dies is arranged, the assembly comprising the array of dies A carrier film, foil or tape is bonded at its support surface to the mounting surface of the film frame carrier.

キャリアフィルム、ホイル又はテープには、半導体ダイの配列を支持面に付着させ、キャリアフィルム、ホイル又はテープをフィルムフレームキャリアの取り付け面に結合する付着層が設けられ得る。付着層は、感光性接着剤などの光吸収剤を含んでもよく、光吸収剤は、上記波長を有する光によって照射されると、半導体ダイの配列との付着を少なくとも局所的に解放するように構成される。光吸収剤は、光を吸収した結果として、フォトアブレーションによって、及び/又は光吸収剤が化学反応を受けることによって、その付着を少なくとも局所的に解放するように構成され得る。より具体的には、光吸収層によって吸収されたエネルギーは、半導体ダイを解放するために使用されるだけでなく、半導体ダイをターゲットに向かって駆動する何らかの推進力を供給するためにも使用され得る。 The carrier film, foil or tape may be provided with an attachment layer that attaches the array of semiconductor dies to the support surface and bonds the carrier film, foil or tape to the mounting surface of the film frame carrier. The attachment layer may comprise a light-absorbing agent, such as a photosensitive adhesive, that releases at least locally from attachment to the array of semiconductor dies when illuminated by light having the wavelength described above. Configured. The light absorber may be configured to release its attachment at least locally as a result of absorbing light, by photoablation and/or by subjecting the light absorber to a chemical reaction. More specifically, the energy absorbed by the light absorbing layer is used not only to release the semiconductor die, but also to provide some motive force to drive the semiconductor die toward the target. obtain.

半導体ダイの配列は、ダイシングされた半導体ウェハ又は構造化された半導体ウェハから構成される。 The array of semiconductor dies consists of a diced semiconductor wafer or a structured semiconductor wafer.

本開示の特徴を詳細に理解できるように、実施形態を参照してより具体的な説明を行い、実施形態のいくつかは添付図面に示されている。しかしながら、添付図面は典型的な実施形態のみを示しているため、本開示の範囲を限定するものとみなされるべきではないことに留意されたい。図面は、本開示の理解を容易にするためのものであり、したがって、必ずしも一定の縮尺で描かれているわけではない。請求される主題の利点は、同様の要素を示すために同様の参照番号が使用されている付随の図面と併せてこの説明を読むことにより、当業者に明らかになるであろう。
本開示の一態様による、半導体ダイの配列からターゲット上に半導体ダイを置くための装置の一実施形態の一部を示す。 対応する概略図である。 図1Aの装置に対応する概略断面図である。 本開示の一態様による、半導体ダイの配列からターゲット上に半導体ダイを置くための装置の更なる実施形態及び図を示す。 本開示の一態様による、半導体ダイの配列からターゲット上に半導体ダイを置くための装置の更なる実施形態及び図を示す。 本開示の一態様による、半導体ダイの配列からターゲット上に半導体ダイを置くための装置の更なる実施形態及び図を示す。 本開示の一態様による、半導体ダイの配列からターゲット上に半導体ダイを置くための装置の更なる実施形態及び図を示す。 本開示の一態様による、半導体ダイの配列からターゲット上に半導体ダイを置くための装置の更なる実施形態及び図を示す。 本発明の一態様による、可撓性フィルムフレームキャリアの第1の実施形態を示す。 本発明の一態様による、可撓性フィルムフレームキャリア用の環状体を示す。
In order that the features of the present disclosure may be understood in detail, a more specific description will be given with reference to embodiments, some of which are illustrated in the accompanying drawings. It is noted, however, that the accompanying drawings depict only typical embodiments and are therefore not to be considered limiting of the scope of the disclosure. The drawings are intended to facilitate understanding of the present disclosure and, as such, are not necessarily drawn to scale. The advantages of the claimed subject matter will become apparent to those skilled in the art upon reading this description in conjunction with the accompanying drawings, in which like reference numbers are used to denote like elements.
1 illustrates a portion of one embodiment of an apparatus for placing a semiconductor die on a target from an array of semiconductor dies, according to one aspect of the present disclosure; Fig. 4 is a corresponding schematic diagram; 1B is a schematic cross-sectional view corresponding to the device of FIG. 1A; FIG. FIG. 4 illustrates a further embodiment and diagram of an apparatus for placing a semiconductor die onto a target from an array of semiconductor dies, according to one aspect of the present disclosure; FIG. 4 illustrates a further embodiment and diagram of an apparatus for placing a semiconductor die onto a target from an array of semiconductor dies, according to one aspect of the present disclosure; FIG. 4 illustrates a further embodiment and diagram of an apparatus for placing a semiconductor die onto a target from an array of semiconductor dies, according to one aspect of the present disclosure; FIG. 4 illustrates a further embodiment and diagram of an apparatus for placing a semiconductor die onto a target from an array of semiconductor dies, according to one aspect of the present disclosure; FIG. 4 illustrates a further embodiment and diagram of an apparatus for placing a semiconductor die onto a target from an array of semiconductor dies, according to one aspect of the present disclosure; 1 illustrates a first embodiment of a flexible film frame carrier, according to an aspect of the present invention; 1 shows an annular body for a flexible film frame carrier, according to one aspect of the present invention;

以下、ダイシングされた半導体ウェハからの半導体ダイがターゲット上に置かれる実施形態が示される。しかしながら、本発明は、ダイシングされた半導体ウェハからの半導体ダイを置くことに限定されない。一般に、ダイの配列から半導体ダイを置くことができ、ダイの配列は、ダイシングされた半導体ウェハ及び構造化されたウェハを含むが、これらに限定されない。 In the following, embodiments are presented in which semiconductor dies from a diced semiconductor wafer are placed on the target. However, the present invention is not limited to placing semiconductor dies from a diced semiconductor wafer. In general, the semiconductor die can be placed from an array of dies, including but not limited to diced semiconductor wafers and structured wafers.

図1Aは、本開示の一態様による、ダイシングされた半導体ウェハ2からターゲット113上に半導体ダイ2Aを置くための装置1の一実施形態の一部を示す。ここで、ダイシングされた半導体ウェハ2は、可撓性フィルムフレームキャリアFFFC3に取り付けられたキャリアフィルム4上に配置される。典型的には、ウェハは、カセット5、トレイなどから装置1に供給される。これは、自動化された方法で実行され得る。 FIG. 1A shows a portion of one embodiment of an apparatus 1 for placing semiconductor die 2A from a diced semiconductor wafer 2 onto a target 113, according to one aspect of the present disclosure. Here the diced semiconductor wafer 2 is placed on a carrier film 4 attached to a flexible film frame carrier FFFC3. Typically, wafers are supplied to apparatus 1 from cassettes 5, trays, or the like. This can be done in an automated way.

断面が図5に示されるFFFC3は、キャリアフィルム4の支持面43に結合された取り付け面31を有する環状体30を含む。ここで、可撓性キャリアフィルム4は、付着層41によって覆われる、典型的には、ポリ塩化ビニルで製造されたバッキング/支持層42を含む。この後者の層を使用して、複数の半導体ダイ2Aを含むダイシングされた半導体ウェハ2は、バッキング層42に付着する。 FFFC 3, a cross-section of which is shown in FIG. Here, the flexible carrier film 4 comprises a backing/support layer 42 typically made of polyvinyl chloride covered by an adhesion layer 41 . Using this latter layer, a diced semiconductor wafer 2 containing a plurality of semiconductor dies 2A is attached to backing layer 42 .

環状体30は、非対称屈曲剛性を有し、非対称屈曲剛性により、取り付け面31が、図5の上図に示されるような第1の形状から、図5の中央の図に示されるようなより凹状の第2の形状に変更されるように環状体30を曲げることを可能にする。同時に、非対称剛性により、取り付け面31の形状が第1の形状より凸状になるように環状体30を曲げることを防止する。 The annulus 30 has an asymmetric bending stiffness that causes the mounting surface 31 to move from a first shape, as shown in the top view of FIG. Allows bending of the annulus 30 so that it is changed to a concave second shape. At the same time, the asymmetric stiffness prevents bending of the annulus 30 such that the shape of the mounting surface 31 is more convex than the first shape.

環状体30は、板ばね32と、それぞれの接続部33を使用して板ばね32にそれぞれ接続された複数のセグメント34とを含む。第1の形状では、隣接するセグメント34、より具体的には、1つのセグメント34Aの表面35Aと隣接するセグメント34Bの表面35Bとは、互いに当接する。その結果、図5に示す環状体30の中央部分に対して左右端部を上方に移動させることにより環状体30を曲げることができない。しかしながら、逆も可能であり、ここで取り付け面31がより凹状の形状を呈する。これは、図5の中央の図に示される。ここで、セグメント34A及び34Bは当接していない。板ばね32を使用することにより、環状体30の形状変形を可逆にすることができる。しかしながら、第1の形状から第2の形状への曲げが塑性変形を含む実施形態が同様に可能である。このような実施形態では、環状体30は、使用後に廃棄されてもよい。 Annulus 30 includes a leaf spring 32 and a plurality of segments 34 each connected to leaf spring 32 using respective connections 33 . In the first shape, adjacent segments 34, more specifically surface 35A of one segment 34A and surface 35B of an adjacent segment 34B abut one another. As a result, the annular body 30 cannot be bent by moving the left and right ends upward with respect to the central portion of the annular body 30 shown in FIG. However, the opposite is also possible, where the mounting surface 31 presents a more concave shape. This is shown in the middle diagram of FIG. Here, segments 34A and 34B are not abutting. By using leaf springs 32, the shape deformation of annular body 30 can be reversible. However, embodiments are equally possible in which the bending from the first shape to the second shape involves plastic deformation. In such embodiments, the toroid 30 may be discarded after use.

非対称屈曲剛性を有するFFFC用の環状体30の別の実施形態は図4に示される。この実施形態では、環状体30は、ヒンジで接続された複数のセグメント34を含む。例えば、図4は、セグメント34A及びセグメント34Bを示す。これらのセグメントは、セグメント34A及び34Bが互いにヒンジで接続されたシャフト37が配置された開口部36A及び36Bをそれぞれ含む。これは、線L1及びL2に対応する断面図により詳細に示される。シャフト37は、セグメント34A及び34Bの一方に固定的に接続され得て、他方の開口部36A及び36Bで回転することができる。代替的に、シャフト37は、開口部36A及び36Bの両方で回転することができる。 Another embodiment of an annular body 30 for FFFC with asymmetric bending stiffness is shown in FIG. In this embodiment, the toroid 30 includes a plurality of hinged segments 34 . For example, FIG. 4 shows segment 34A and segment 34B. These segments include openings 36A and 36B, respectively, in which is disposed a shaft 37 to which segments 34A and 34B are hingedly connected to each other. This is shown in more detail in the cross-sectional views corresponding to lines L1 and L2. A shaft 37 may be fixedly connected to one of the segments 34A and 34B and rotated in the openings 36A and 36B of the other. Alternatively, shaft 37 can rotate through both openings 36A and 36B.

図4では、環状体30の取り付け面31は、本質的に平坦な形状である第1の形状で示される。図5に示す実施形態と同様に、取り付け面31は、キャリアフィルム4の支持面43に結合され得る。セグメント34A及び34Bは、それぞれ当接面(abutting surface)35A及び35Bを含む。シャフト37に対する表面35A及び35Bの位置決めは、取り付け面31がより凸状になるように環状体30を曲げることができないことを決定する。しかしながら、取り付け面31がより凹状になるように環状体30を曲げることは可能である。表面35A及び35Bは異なる位置に配置されてもよいことに留意されたい。例えば、それらは、縦方向の位置が異なっていても、シャフト37とほぼ同一直線上にあってもよい。 In FIG. 4, the mounting surface 31 of the annular body 30 is shown in a first shape which is an essentially flat shape. Similar to the embodiment shown in FIG. 5, mounting surface 31 may be bonded to support surface 43 of carrier film 4 . Segments 34A and 34B include abutting surfaces 35A and 35B, respectively. The positioning of surfaces 35A and 35B relative to shaft 37 determines that annular body 30 cannot be bent such that mounting surface 31 is more convex. However, it is possible to bend the annulus 30 so that the mounting surface 31 is more concave. Note that surfaces 35A and 35B may be positioned at different locations. For example, they may be at different longitudinal positions or substantially collinear with the shaft 37 .

再び図1Aを参照すると、図5に示されるように具現化され、その上に配置されるダイシングされた半導体ウェハ2を有するFFFC3は、回転軸122Aの周りに回転できる、回転可能に取り付けられた湾曲シェル122に取り付けられ得る。この目的のために、湾曲シェル122には、FFFC3に吸引力を加えることができる多数の小開口部が設けられてもよい。代替的に、FFFC3は、クランプなどの機械的取り付けにより、湾曲シェル122に取り付けられてもよい。 Referring again to FIG. 1A, FFFC 3, embodied as shown in FIG. 5 and having diced semiconductor wafer 2 disposed thereon, is rotatably mounted, capable of rotating about axis of rotation 122A. It can be attached to curved shell 122 . For this purpose, the curved shell 122 may be provided with a large number of small openings through which suction forces can be applied to the FFFC3. Alternatively, FFFC 3 may be attached to curved shell 122 by mechanical attachments such as clamps.

図1Aには、説明のために、湾曲シェル122に配置された半導体ウェハ2用の環状体30が表示されていないことに留意されたい。更に、図1Aは、回転軸122Aに平行な縦対称軸を有するセグメント34が一般に細長くされることを示す。 It should be noted that FIG. 1A does not show the annulus 30 for the semiconductor wafer 2 located on the curved shell 122 for purposes of illustration. Further, FIG. 1A shows that segments 34 having longitudinal axes of symmetry parallel to axis of rotation 122A are generally elongated.

湾曲シェル122を回転及び並進させることにより、ダイシングされた半導体ウェハ2は、半導体ダイ2Aが配置されたターゲット113に対して位置決めすることができる。ターゲット113は、ターゲットチャック112の支持面112Aに配置される。適切に配置されると、ダイシングされた半導体ウェハ2から半導体ダイ2Aを解放するための解放ユニット(図1Aには図示されていない)が使用されることにより、半導体ダイ2Aをターゲット113上の意図された位置に配置することを可能にする。 By rotating and translating the curved shell 122, the diced semiconductor wafer 2 can be positioned with respect to the target 113 on which the semiconductor die 2A are arranged. Target 113 is placed on support surface 112 A of target chuck 112 . Once properly positioned, a release unit (not shown in FIG. 1A) is used to release the semiconductor die 2A from the diced semiconductor wafer 2, thereby allowing the semiconductor die 2A to reach the intended position on the target 113. Allows you to place it in the specified position.

図1Bは、図1Aの装置を概略的に示す。示されるように、装置1は、検査システム140から受信したデータに基づいて、ターゲットステージ110、ウェハステージ120及び解放ユニット130を制御するコントローラ100を含む。コントローラ100は、導電性接着剤151、はんだなどの小さな液滴をターゲット113上に分配するように構成された分配装置150を更に制御する。 FIG. 1B schematically shows the apparatus of FIG. 1A. As shown, apparatus 1 includes controller 100 that controls target stage 110 , wafer stage 120 and release unit 130 based on data received from inspection system 140 . The controller 100 further controls a dispensing device 150 configured to dispense small droplets of conductive adhesive 151 , solder, or the like onto the target 113 .

ターゲットステージ110は、ターゲット113が配置されたターゲットチャック112の位置を制御するための1つ以上のモータを含む。例えば、ターゲットステージ110は、回転軸122Aに平行なx方向に沿ってターゲットチャック112を並進させるためのモータMT0と、ターゲットチャック112の支持面112Aに垂直なz方向に沿ってターゲットチャック112を並進させるためのモータMT2と、x方向及びz方向に垂直なy方向に沿ってターゲットチャック112を並進させるためのモータMT1とを含んでもよい。 Target stage 110 includes one or more motors for controlling the position of target chuck 112 on which target 113 is positioned. For example, the target stage 110 includes a motor MT0 for translating the target chuck 112 along the x-direction parallel to the axis of rotation 122A and a z-direction perpendicular to the support surface 112A of the target chuck 112. and a motor MT1 for translating the target chuck 112 along a y-direction perpendicular to the x- and z-directions.

ウェハステージ120は、半導体ウェハ2が配置された湾曲シェル122の位置を制御するための1つ以上のモータを含む。例えば、ウェハステージ120は、x方向に沿って湾曲シェル122を並進させるためのモータMW0と、z方向に沿って湾曲シェル122を並進させるためのモータMW2と、回転軸122Aの周りに湾曲シェル122を回転させるためのモータMW3とを含んでもよい。 Wafer stage 120 includes one or more motors for controlling the position of curved shell 122 on which semiconductor wafer 2 is placed. For example, the wafer stage 120 includes a motor MW0 for translating the curved shell 122 along the x-direction, a motor MW2 for translating the curved shell 122 along the z-direction, and a motor MW2 for translating the curved shell 122 along the rotation axis 122A. and a motor MW3 for rotating the .

解放ユニット130は、光源132をx方向に並進させるためのモータMR0を含んでもよい。 The release unit 130 may include a motor MR0 for translating the light source 132 in the x-direction.

本開示は、上述したモータの組み合わせに限定されないことに留意されたい。ターゲットステージ110、ウェハステージ120及び解放ユニット130は、より多いか又はより少ないモータ、及び/又は異なる方向に並進するためのモータを含んでもよい。 Note that the present disclosure is not limited to the motor combinations described above. Target stage 110, wafer stage 120 and release unit 130 may include more or fewer motors and/or motors for translation in different directions.

検査システム150は、半導体ウェハ2及び/又はその中に配置された半導体ダイ2A、及び/又はターゲット113の画像を記録するための1つ以上の光学カメラを含んでもよい。静止画又は動画であってもよいこれらの記録された画像に基づいて、コントローラ100は、置かれる各半導体ダイ2Aがターゲット113上の意図された位置に配置されることを確保するように、ターゲットステージ110、ウェハステージ120及び/又は解放ユニット130を制御する。この置きプロセスについては、図2を参照して次に詳細に説明する。 Inspection system 150 may include one or more optical cameras for recording images of semiconductor wafer 2 and/or semiconductor die 2A disposed therein and/or target 113 . Based on these recorded images, which may be still or moving images, the controller 100 controls the target 113 to ensure that each deposited semiconductor die 2A is placed at the intended location on the target 113. Control stage 110 , wafer stage 120 and/or release unit 130 . This placement process will now be described in detail with reference to FIG.

図2は、図1Aの装置に対応する概略断面図である。ここで、ターゲット113、例えばプリント回路基板が示される。ターゲット113は、ダイシングされた半導体ウェハ2からの半導体ダイ2Aが置かれる必要がある複数の意図された置き位置を含む。半導体ダイ2Aを配置する前に、導電性接着剤、はんだなどの液滴151は、分配装置150によってターゲット113上に供給、例えば、分配される。 FIG. 2 is a schematic cross-sectional view corresponding to the device of FIG. 1A. Here a target 113, eg a printed circuit board, is shown. Target 113 includes a plurality of intended placement locations where semiconductor die 2A from diced semiconductor wafer 2 need to be placed. Prior to placing the semiconductor die 2A, a droplet 151 of conductive adhesive, solder, or the like is provided, eg, dispensed onto the target 113 by the dispensing device 150 .

インサートIに示すように、ターゲット113には、行R及び列Cに配置される複数の液滴151が設けられてもよい。同様に、半導体ダイ2Aは、半導体ウェハ2上に行r及び列cのマトリクス状に配置されてもよい。ここで、ダイシングされた半導体ウェハ2上の列c及びターゲット113上の列Cは、それぞれ、湾曲シェル122の縦対称軸及び/又は回転軸122Aに垂直に延在すると仮定される。 As shown in insert I, the target 113 may be provided with a plurality of droplets 151 arranged in rows R and columns C. FIG. Similarly, the semiconductor dies 2A may be arranged on the semiconductor wafer 2 in a matrix of rows r and columns c. Here, row c on the diced semiconductor wafer 2 and row C on the target 113 are assumed to extend perpendicular to the axis of longitudinal symmetry and/or the axis of rotation 122A of the curved shell 122, respectively.

液滴151をターゲット113上に堆積又は他の方法で配置した後、ターゲット113は、湾曲シェル122の下に移動されて、ダイシングされた半導体ウェハ2から解放される半導体ダイ2Aを受け取る。そのために、解放ユニット130が使用される。 After depositing or otherwise placing droplet 151 on target 113 , target 113 is moved under curved shell 122 to receive semiconductor die 2 A released from diced semiconductor wafer 2 . For that purpose the release unit 130 is used.

湾曲シェル122は、少なくとも大部分において、回転軸122Aに沿って一定の断面を有する。湾曲シェル122は、部分的に円形又は円筒形のシェルであり得る。湾曲シェル122の断面の様々な例が図1Aに示される。ここで、例Aは部分的に円筒形のシェルに対応し、例Bは円筒形のシェルに対応し、例Cは更に部分的に円筒形のシェル、すなわち、半円筒形のシェルに対応する。 Curved shell 122 has, at least for the most part, a constant cross-section along axis of rotation 122A. Curved shell 122 may be a partially circular or cylindrical shell. Various examples of cross-sections of curved shell 122 are shown in FIG. 1A. Here example A corresponds to a partially cylindrical shell, example B to a cylindrical shell and example C to a further partially cylindrical shell, i.e. a semi-cylindrical shell. .

引き続き図2を参照すると、解放ユニット130は、キャリアフィルム4から解放される半導体ダイ2A上に、湾曲シェル122を通して光のビーム133を発するレーザ源132を含む。そのために、湾曲シェル122は、少なくともレーザ源132から来る光に対して、少なくとも部分的に半透明である。湾曲シェル122は完全に半透明材料で製造され得るか又は湾曲シェル122の特定の領域が半透明であるが、他の領域が半透明ではない。例えば、湾曲シェル122は、ガラス、石英又は溶融シリカで製造され得る。 With continued reference to FIG. 2, release unit 130 includes a laser source 132 that emits a beam of light 133 through curved shell 122 onto semiconductor die 2A released from carrier film 4 . As such, curved shell 122 is at least partially translucent to light coming from at least laser source 132 . Curved shell 122 may be made entirely of a translucent material, or certain areas of curved shell 122 may be translucent while other areas are not. For example, curved shell 122 may be made of glass, quartz, or fused silica.

付着層41は、感光性接着剤などの光吸収剤を含む。レーザ源132からの光が付着層41に照射されると、半導体ダイ2Aとの付着が解放される。例えば、光の吸収は、光吸収剤の化学反応を引き起こし、その結果、付着層41の接着特性が低下する。追加的に又は代替的には、光の吸収は、急激かつ局所的な温度上昇を引き起こす可能性がある。これは、局所アブレーション及び/又は解放された半導体ダイ2Aをターゲット113に向かって推進することができる気体成分の生成にさえつながる可能性がある。 The adhesion layer 41 contains a light absorbing agent such as a photosensitive adhesive. When the adhesion layer 41 is irradiated with light from the laser source 132, the adhesion with the semiconductor die 2A is released. For example, the absorption of light causes a chemical reaction of the light absorber, resulting in reduced adhesive properties of the adhesion layer 41 . Additionally or alternatively, the absorption of light can cause a sudden and localized temperature increase. This may even lead to localized ablation and/or generation of gaseous constituents that can propel the released semiconductor die 2A towards the target 113 .

付着を解放した後、半導体ダイ2Aは、ターゲット113上の意図された置き位置に落下する。その後、モータM3によって湾曲シェル122を回転させて、別の半導体ダイ2Aをレーザ源132と整列させる。更に、湾曲シェル122に対して正しい位置にある次の意図された置き位置になるように湾曲シェル122及びターゲット113を相互に並進させる。 After releasing the attachment, the semiconductor die 2A falls to its intended placement position on the target 113. FIG. The curved shell 122 is then rotated by the motor M3 to align another semiconductor die 2A with the laser source 132. FIG. In addition, the curved shell 122 and the target 113 are translated relative to each other to the next intended placement position in the correct position with respect to the curved shell 122 .

図2に示すように、様々な検査システムが取り付けられ得る。検査システムは、ダイシングされた半導体ウェハ2からの半導体ダイ2Aを、ターゲット113上に置かれる前に検査するために使用され得る。このような検査は、半導体ダイ2Aの位置及び向きを決定することを含んでもよい。これにより、例えば、半導体ダイ2Aを解放する前に、湾曲シェル122、ターゲット113及び/又はレーザ源132を並進させることによって、最終的な補正を実行することを可能にする。各半導体ダイ2Aは、その理想的な位置及び/又は向きからわずかにずれていてもよいことに留意されたい。このような偏差は、ダイシング中及び/又はFFFC3を湾曲シェル122上に取り付けるときに発生する可能性がある。このような偏差は、検査システム140の1つ以上のカメラ141によって記録することができる。湾曲シェル122が少なくとも局所的に半透明であるため、カメラ141も湾曲シェル122の内側に配置され得る。 Various inspection systems may be installed as shown in FIG. The inspection system may be used to inspect semiconductor die 2 A from diced semiconductor wafer 2 before they are placed on target 113 . Such inspection may include determining the position and orientation of semiconductor die 2A. This makes it possible, for example, to perform a final correction by translating the curved shell 122, the target 113 and/or the laser source 132 before releasing the semiconductor die 2A. Note that each semiconductor die 2A may deviate slightly from its ideal position and/or orientation. Such deviations can occur during dicing and/or mounting the FFFC 3 onto the curved shell 122 . Such deviations can be recorded by one or more cameras 141 of inspection system 140 . The camera 141 can also be placed inside the curved shell 122 because the curved shell 122 is at least locally translucent.

別の又は同じカメラは、ダイを解放する前に、半導体ダイ2Aが損傷されるか否かをチェックするために使用され得る。半導体ダイ2Aが損傷されると判断された場合、装置1のコントローラ100は、その半導体ダイをスキップすることを決定してもよい。 Another or the same camera may be used to check whether the semiconductor die 2A is damaged before releasing the die. If semiconductor die 2A is determined to be damaged, controller 100 of apparatus 1 may decide to skip that semiconductor die.

別の又は同じカメラはまた、半導体ダイ2Aを解放したか否かをチェックするために使用され得る。この半導体ダイを解放していないと判断された場合、新たな解放の試みを行うことができる。 Another or the same camera can also be used to check whether the semiconductor die 2A has been released. If it is determined that this semiconductor die has not been released, a new release attempt can be made.

検査システム140はまた、カメラ142を使用して、液滴151がターゲット113上に正しく置かれていることをチェックし、及び/又はターゲット113の位置及び/又は向きを監視又はチェックしてもよい。 Inspection system 140 may also use camera 142 to check that droplet 151 is properly placed on target 113 and/or monitor or check the position and/or orientation of target 113 . .

湾曲シェル122の湾曲性により、検査システム140のカメラを、検査する必要がある半導体ダイ2Aに近接して配置することが可能であることに留意されたい。 Note that the curvature of the curved shell 122 allows the camera of the inspection system 140 to be placed in close proximity to the semiconductor die 2A that needs to be inspected.

図3A~3Eは、本開示の一態様による、ダイシングされた半導体ウェハからターゲット上に半導体ダイを直接置くための装置の更なる実施形態を示す。 3A-3E illustrate a further embodiment of an apparatus for placing semiconductor die directly onto a target from a diced semiconductor wafer, according to one aspect of the present disclosure.

図3A~3Eに示される実施形態の各々は、装置内の様々な運動用の基準として機能する固定枠160を含む。 Each of the embodiments shown in Figures 3A-3E includes a stationary frame 160 that serves as a reference for various movements within the device.

図3Aにおいて、モータMT0は、キャリッジ111をフレーム160に対してx方向に並進させるために使用される。モータMT1は、ターゲットチャック112をキャリッジ111に対してy方向に並進させるために使用される。更に、モータMW3は、湾曲シェル122をフレーム160に対して回転させるために使用される。 In FIG. 3A, motor MT0 is used to translate carriage 111 relative to frame 160 in the x-direction. A motor MT1 is used to translate the target chuck 112 relative to the carriage 111 in the y-direction. Additionally, motor MW3 is used to rotate curved shell 122 relative to frame 160 .

レーザ源132は、モータMR0を使用してフレーム160に対してx方向に並進するキャリッジ131に取り付けられる。 The laser source 132 is mounted on a carriage 131 that translates in the x-direction with respect to the frame 160 using motor MR0.

図3Aの装置は、複数の半導体ダイ2Aをターゲット113上に、回転軸122Aに垂直に延在する複数の離間した列に置くために使用され得る。 The apparatus of FIG. 3A can be used to place a plurality of semiconductor dies 2A on target 113 in a plurality of spaced rows extending perpendicular to axis of rotation 122A.

例えば、湾曲シェル122を回転させながらターゲット113をy方向に並進させて、半導体ウェハ2上の同じ列に配置される半導体ダイ2Aを置くことができる。半導体ウェハ2上の列を使い果たすと、ターゲットチャック112及びレーザ源132の両方が半導体ウェハ2上の半導体ダイ2Aの次の列と位置合わせされるように、レーザ源132及びターゲットチャック112をx方向に並進させる。ターゲット113上の完全な列が充填されると、ターゲットチャック112をx方向に移動させ、湾曲シェル122の下に充填される新しい列を位置決めする。 For example, the targets 113 can be translated in the y-direction while the curved shell 122 is rotated to place the semiconductor dies 2A arranged in the same row on the semiconductor wafer 2 . When a row on semiconductor wafer 2 is exhausted, move laser source 132 and target chuck 112 in the x-direction so that both target chuck 112 and laser source 132 are aligned with the next row of semiconductor dies 2A on semiconductor wafer 2. parallel to When a complete row on target 113 is filled, target chuck 112 is moved in the x-direction to position a new row to be filled under curved shell 122 .

図3Bに示される実施形態では、ターゲットチャック112は、モータMT1を使用してy方向にのみ並進することができる。湾曲シェル122は、キャリッジ121に対してモータMW3を使用して回転することができる。次に、キャリッジ121は、モータMW0を使用してx方向に並進することができる。キャリッジ131に取り付けられたレーザ源132は、例示のために部分的に省略されるフレーム160に対して、モータMR0を使用してx方向に並進することができる。モータMR0は、例えば、キャリッジ131を並進させるために、ボールねじ、親ねじ、ベルト駆動装置又はリニアモータを含んでもよい。 In the embodiment shown in FIG. 3B, target chuck 112 can only be translated in the y-direction using motor MT1. Curved shell 122 can be rotated relative to carriage 121 using motor MW3. Carriage 121 can then be translated in the x-direction using motor MW0. A laser source 132 mounted on a carriage 131 can be translated in the x-direction using motor MR0 relative to a frame 160 partially omitted for illustration. Motor MR0 may include, for example, a ball screw, lead screw, belt drive, or linear motor to translate carriage 131 .

図3Cに示される装置は、モータMR0がフレーム160の代わりにキャリッジ121に対してキャリッジ131を並進させるという点で、図3Bに示される実施形態とは異なる。 The apparatus shown in FIG. 3C differs from the embodiment shown in FIG. 3B in that motor MR 0 translates carriage 131 relative to carriage 121 instead of frame 160 .

図3D及び3Eは、図3Aに示される装置に対応する断面図である。より具体的には、ターゲットチャック112はx方向及びy方向に並進することができ、湾曲シェル122はフレーム160に対してのみ回転することができる。レーザ源132は、モータMR0を使用して、フレーム160に対してx方向にのみ並進することができる。 3D and 3E are cross-sectional views corresponding to the device shown in FIG. 3A. More specifically, target chuck 112 can translate in the x and y directions, and curved shell 122 can only rotate relative to frame 160 . Laser source 132 can only be translated in the x-direction with respect to frame 160 using motor MR0.

図3Dにおいて、レーザ源132は、半導体ダイ2Aがキャリアフィルムに付着する付着層上に、半透明の湾曲シェル122を通して光のビーム133を発する。代替的に、解放ユニット130は、ニードルと、ニードルを下にある半導体ダイと係合したり係合解除したりするためのニードルアクチュエータとを含んでもよい。この場合、ニードルアクチュエータ及びニードルを両方とも湾曲シェル122の内側に配置し、両方ともx方向に並進させる。 In FIG. 3D, laser source 132 emits beam of light 133 through translucent curved shell 122 onto the attachment layer where semiconductor die 2A attaches to the carrier film. Alternatively, release unit 130 may include a needle and a needle actuator for engaging and disengaging the needle with the underlying semiconductor die. In this case, both the needle actuator and the needle are placed inside the curved shell 122 and both are translated in the x-direction.

図3Eにおいて、レーザ源132は、湾曲シェル122の外側に取り付けられる。レーザ源132は、ミラーユニット134に向かって光のビーム133を発する。ミラーユニット134は、湾曲シェル122へ、及び湾曲シェル122を通して、光を偏向させる。ミラーユニット134は、偏向角度の変更を可能にするように、1つ以上のミラー及び1つ以上のミラーアクチュエータを含んでもよい。ミラーユニット134は、例えばリニアモータとして具体化できるモータMR0を使用してx方向に並進することができる。 In FIG. 3E, laser source 132 is mounted outside curved shell 122 . A laser source 132 emits a beam of light 133 towards a mirror unit 134 . Mirror unit 134 deflects light to and through curved shell 122 . Mirror unit 134 may include one or more mirrors and one or more mirror actuators to allow the deflection angle to be changed. The mirror unit 134 can be translated in the x-direction using a motor MR0, which can be embodied, for example, as a linear motor.

以上、本発明をその詳細な実施形態を用いて説明した。しかしながら、本発明はこれらの実施形態に限定されるものではない。その代わりに、添付の特許請求の範囲及びその均等物によって定義される本発明の範囲から逸脱することなく、様々な変更が可能である。 The present invention has been described above using detailed embodiments thereof. However, the invention is not limited to these embodiments. Instead, various modifications are possible without departing from the scope of the invention, which is defined by the appended claims and their equivalents.

本発明の特定の好ましい態様は、添付の独立請求項に記載されている。従属請求項及び/又は独立請求項からの特徴の組み合わせは、請求項に記載されているようなものに限定されず、適宜組み合わせることができる。 Particular and preferred aspects of the invention are set out in the accompanying independent claims. Combinations of features from dependent and/or independent claims are not limited to what is stated in the claims and may be combined as appropriate.

本開示の範囲には、請求された発明に関連するか否か、又は本発明によって対処される問題のいずれか又は全てを軽減するか否かに関係なく、明示的又は暗示的に開示された任意の新規な特徴又は特徴の組み合わせ、又はそれらの任意の一般化が含まれる。出願人は、これによって、この出願又はそれから派生した任意のこのような更なる出願の審査中に、このような特徴に対して新しい請求項が作成される可能性があることを通知する。特に、添付の特許請求の範囲を参照すると、従属請求項の特徴は独立請求項の特徴と組み合わされてもよく、それぞれの独立請求項の特徴は、請求項に列挙された特定の組み合わせだけでなく、任意の適切な方法で組み合わされてもよい。 To the scope of the present disclosure, any expressly or implicitly disclosed, whether or not it relates to the claimed invention or alleviates any or all of the problems addressed by the invention. Any novel feature or combination of features or any generalization thereof is included. Applicants hereby give notice that new claims may be formulated to such features during prosecution of this application or any such further application derived therefrom. In particular, with reference to the appended claims, features of the dependent claims may be combined with features of the independent claims, and features of each independent claim may be combined only in the specific combinations recited in the claims. may be combined in any suitable manner.

別個の実施形態の文脈で説明される特徴は、単一の実施形態で組み合わせて提供されてもよい。逆に、簡潔にするために、単一の実施形態の文脈で説明される様々な特徴は、別々に、又は任意の適切なサブ組み合わせで提供されてもよい。 Features that are described in the context of separate embodiments may also be provided in combination in a single embodiment. Conversely, various features that are, for brevity, described in the context of a single embodiment may also be provided separately or in any suitable subcombination.

「含む」という用語は、他の要素又はステップを除外するものではなく、「1つの(a)」又は「1つの(an)」という用語は、複数を除外するものではない。特許請求の範囲における参照記号は、特許請求の範囲を限定するものと解釈してはならない。 The term "comprising" does not exclude other elements or steps, and the terms "a" or "an" do not exclude a plurality. Any reference signs in the claims shall not be construed as limiting the scope of the claims.

1 装置
2 半導体ウェハ
2A 半導体ダイ
3 フィルムフレームキャリア
4 キャリアフィルム
5 カセット
30 環状体
31 取り付け面
32 板ばね
33 接続部
34、34A、34B セグメント
35A、35B 当接面
36A、36B 開口部
37 シャフト
41 付着層
42 バッキング層
43 支持面
100 コントローラ
110 ターゲットステージ
111 キャリッジターゲットステージ
112 ターゲットチャック
113 ターゲット
120 ウェハステージ
121 キャリアウェハステージ
122 湾曲シェル
122A 回転軸
130 解放ユニット
131 キャリア解放ユニット
132 レーザ源
133 光のビーム
134 ミラーユニット
140 検査システム
141、142 カメラ
150 分配装置
151 接着剤/はんだの液滴
160 固定枠
M0 X方向モータ
M1 y方向モータ
M2 z方向モータ
M3 モータ回転
1 Device 2 Semiconductor Wafer 2A Semiconductor Die 3 Film Frame Carrier 4 Carrier Film 5 Cassette 30 Annular Body 31 Mounting Surface 32 Leaf Spring 33 Connecting Portions 34, 34A, 34B Segments 35A, 35B Abutting Surfaces 36A, 36B Opening 37 Shaft 41 Attachment layer 42 backing layer 43 support surface 100 controller 110 target stage 111 carriage target stage 112 target chuck 113 target 120 wafer stage 121 carrier wafer stage 122 curved shell 122A rotating shaft 130 release unit 131 carrier release unit 132 laser source 133 beam of light 134 mirror Unit 140 Inspection System 141, 142 Camera 150 Dispenser 151 Glue/Solder Droplet 160 Fixed Frame M0 X Direction Motor M1 Y Direction Motor M2 Z Direction Motor M3 Motor Rotation

Claims (15)

半導体ダイの配列からターゲットに半導体ダイを移送するための装置であって、
前記半導体ダイの配列が配置されたウェハチャックを有するウェハステージと、
前記半導体ダイの配列からの半導体ダイが置かれるターゲットが配置されたターゲットチャックを有するターゲットステージと、
前記半導体ダイの配列から半導体ダイを解放するための解放ユニットと、
前記解放ユニット、前記ウェハステージ及び前記ターゲットステージを制御するためのコントローラと、を含み、
前記ウェハチャックは、前記半導体ダイの配列が配置され、回転可能に取り付けられた湾曲シェルを含み、前記ウェハステージは、前記湾曲シェルを回転軸の周りに回転させるための第1のモータを更に含み、
前記湾曲シェルは、任意に、ドラムなどの円筒形のシェル、又は部分的に円筒形のシェルである、装置。
An apparatus for transferring a semiconductor die from an array of semiconductor dies to a target, comprising:
a wafer stage having a wafer chuck on which the array of semiconductor dies is arranged;
a target stage having a target chuck on which is positioned a target on which a semiconductor die from the array of semiconductor dies is placed;
a release unit for releasing a semiconductor die from the array of semiconductor dies;
a controller for controlling the release unit, the wafer stage and the target stage;
The wafer chuck includes a curved shell on which the array of semiconductor dies is arranged and rotatably mounted, and the wafer stage further includes a first motor for rotating the curved shell about an axis of rotation. ,
The device, wherein said curved shell is optionally a cylindrical shell, such as a drum, or a partially cylindrical shell.
前記装置は、前記半導体ダイの配列から前記ターゲット上に前記半導体ダイを直接移送するように構成され、及び/又は、前記解放ユニットは、前記半導体ダイの配列から半導体ダイを解放して、前記ターゲット上に落下させるように構成される、請求項1に記載の装置。 The apparatus is configured to directly transfer the semiconductor die from the array of semiconductor dies onto the target and/or the release unit releases the semiconductor die from the array of semiconductor dies to the target. 11. The device of claim 1, configured to drop upwards. 前記ウェハチャックは、前記半導体ダイの配列を担持するキャリアを支持するように構成され、前記キャリアは、任意に、テープ、フィルム又はホイルであり、前記キャリアは、任意に、フィルムフレームキャリアの一部である、請求項1又は2に記載の装置。 The wafer chuck is configured to support a carrier carrying the array of semiconductor dies, the carrier optionally being tape, film or foil, the carrier optionally being part of a film frame carrier. 3. A device according to claim 1 or 2, wherein 前記半導体ダイの配列は、ダイシングされた半導体ウェハ又は構造化された半導体ウェハから構成され、及び/又は、
前記回転軸は、前記ターゲットチャックに少なくともほぼ平行に延び、及び/又は、
前記回転軸は、前記湾曲シェルの縦対称軸と一致する、請求項1~3のいずれかに記載の装置。
the array of semiconductor dies comprises a diced semiconductor wafer or a structured semiconductor wafer; and/or
the axis of rotation extends at least substantially parallel to the target chuck; and/or
A device according to any preceding claim, wherein the axis of rotation coincides with the axis of longitudinal symmetry of the curved shell.
前記ウェハステージは、前記湾曲シェルを、好ましくは前記回転軸に平行及び/又は一致する方向に沿って前後に並進させるための第2のモータを更に含み、及び/又は、前記ウェハステージは、前記湾曲シェルを、前記回転軸に垂直な方向に、好ましくは前記ターゲットチャックに垂直な方向に沿って前後に並進させるための補助的な第2のモータを更に含み、
前記装置は、任意に、固定枠及び第1のキャリッジを更に含み、前記第2のモータ及び/又は補助的な第2のモータは、前記固定枠に対して前記第1のキャリッジを並進させるように構成され、前記第1のモータは、前記第1のキャリッジに対して前記湾曲シェルを回転させるように構成され、又は、
前記装置は、任意に、固定枠を更に含み、前記第2のモータ及び/又は補助的な第2のモータは、前記固定枠に対して前記湾曲シェルを並進させるように構成され、前記第1のモータは、前記固定枠に対して前記湾曲シェルを回転させるように構成される、請求項1~4のいずれかに記載の装置。
The wafer stage further comprises a second motor for translating the curved shell back and forth, preferably along a direction parallel to and/or coinciding with the axis of rotation, and/or the wafer stage comprises the further comprising an auxiliary second motor for translating the curved shell back and forth in a direction perpendicular to said axis of rotation, preferably along a direction perpendicular to said target chuck;
The apparatus optionally further comprises a fixed frame and a first carriage, wherein the second motor and/or auxiliary second motor is adapted to translate the first carriage relative to the fixed frame. wherein the first motor is configured to rotate the curved shell relative to the first carriage; or
The apparatus optionally further comprises a stationary frame, wherein the second motor and/or an auxiliary second motor are configured to translate the curved shell with respect to the stationary frame; is configured to rotate the curved shell with respect to the fixed frame.
前記湾曲シェルは、第1の波長を有する光に対して少なくとも部分的に半透明であり、前記解放ユニットは、前記波長を有する光のビームを出力するためのレーザなどの光源を含み、前記半導体ダイの配列は、感光性接着剤などの光吸収剤を使用して、テープ、ホイル又はフィルムに付着し、前記光吸収剤は、前記波長を有する光によって照射されると、前記半導体ダイの配列との付着を少なくとも局所的に解放するように構成され、
前記光吸収剤は、任意に、前記光を吸収した結果として、フォトアブレーションによって、及び/又は前記光吸収剤が化学反応を受けることによって、その付着を少なくとも局所的に解放するように構成され、及び/又は、前記光源は、任意に、所与の半導体ダイに隣接する半導体ダイとは別個の前記半導体ダイの配列の前記所与の半導体ダイを照射するように構成され、前記解放ユニットは、任意に、前記光源から前記光のビームを受け、前記受けたビームを複数の更なるビームに分割するように構成されたビームスプリッタを含み、各更なるビームは、それぞれの所与の半導体ダイを照射するように構成され、
前記光源は、任意に、前記湾曲シェルに向かって、好ましくはほぼ垂直に、光を発するように構成される、請求項1~5のいずれかに記載の装置。
The curved shell is at least partially translucent to light having a first wavelength, the release unit comprises a light source such as a laser for outputting a beam of light having the wavelength, the semiconductor The array of dies is attached to a tape, foil or film using a light absorbing agent, such as a photosensitive adhesive, which absorbs the array of semiconductor dies when illuminated by light having the wavelength. configured to at least locally release attachment with
the light absorber is optionally configured to release its attachment at least locally as a result of absorbing the light, by photoablation and/or by subjecting the light absorber to a chemical reaction; and/or the light source is optionally configured to illuminate the given semiconductor die of the array of semiconductor dies distinct from semiconductor dies adjacent to the given semiconductor die, the release unit comprising: optionally comprising a beam splitter configured to receive the beam of light from the light source and to split the received beam into a plurality of further beams, each further beam targeting a respective given semiconductor die. configured to irradiate,
A device according to any preceding claim, wherein the light source is optionally configured to emit light towards the curved shell, preferably substantially perpendicularly.
前記解放ユニットは、導光ユニットを更に含み、前記光源は、前記導光ユニットに向かって、好ましくは前記回転軸にほぼ平行に、光を発するように構成され、前記導光ユニットは、前記光源から前記湾曲シェルに向かって、好ましくはほぼ垂直に、光を導くように構成され、前記導光ユニットは、任意に、1つ以上のミラー及び/又は1つ以上のプリズムを含み、前記導光ユニットは、任意に、好ましくは前記コントローラによって制御可能である1つ以上のアクチュエータを含み、前記1つ以上のアクチュエータは、前記光源からの光を異なる角度で前記湾曲シェルに導くために、前記光源からの入射光に対して1つ以上のミラー及び/又は1つ以上のプリズムの向きを変更するように構成される、請求項6に記載の装置。 The release unit further comprises a light guide unit, the light source is configured to emit light towards the light guide unit, preferably substantially parallel to the axis of rotation, the light guide unit comprising the light source. towards said curved shell, preferably substantially vertically, said light guiding unit optionally comprising one or more mirrors and/or one or more prisms, said light guiding unit The unit optionally includes one or more actuators, preferably controllable by said controller, said one or more actuators for directing light from said light source to said curved shell at different angles. 7. The apparatus of claim 6, configured to redirect one or more mirrors and/or one or more prisms with respect to incident light from. 前記解放ユニットは、前記光源又はアクチュエータとニードルとの組み合わせが取り付けられた第2のキャリッジと、前記湾曲シェルに対して前記第2のキャリッジを移動させるための第3のモータとを含み、前記第2のキャリッジは、任意に、前記湾曲シェルの内側及び/又は上方又は下方を並進するように構成され、請求項7及び請求項5に依存する限りにおいて、前記光源は、任意に、前記固定枠に固着され、前記導光ユニットは、前記第2のキャリッジに取り付けられ、又は、
請求項5に依存する限りにおいて、前記解放ユニットは、前記光源又はアクチュエータとニードルとの組み合わせが取り付けられた第2のキャリッジと、前記固定枠に対して前記第2のキャリッジを移動させるための第3のモータとを含み、前記第2のキャリッジは、任意に、前記湾曲シェルの内側及び/又は上方又は下方を並進するように構成され、請求項7及び請求項5に依存する限りにおいて、前記光源は、任意に、前記固定枠に固着され、前記導光ユニットは、前記第2のキャリッジに取り付けられる、請求項6又は7に記載の装置。
said release unit comprising a second carriage on which said light source or actuator and needle combination is mounted; a third motor for moving said second carriage relative to said curved shell; 2 carriages are optionally configured to translate inside and/or above or below the curved shell, and as far as depending on claims 7 and 5, the light sources are optionally arranged on the fixed frame and the light guide unit is attached to the second carriage, or
As far as dependent on claim 5, the release unit comprises a second carriage on which the light source or actuator and needle combination is mounted and a second carriage for moving the second carriage relative to the fixed frame. 3 motors, and the second carriage is optionally configured to translate inside and/or above or below the curved shell, and insofar as dependent on claims 7 and 5, the 8. Apparatus according to claim 6 or 7, wherein the light source is optionally fixed to the fixed frame and the light guiding unit is mounted on the second carriage.
前記ターゲットステージは、好ましくは前記回転軸に平行な平面内で前記ターゲットチャックを並進させるための第4のモータ及び/又は第5のモータ、及び/又は、前記ターゲットチャックを、前記回転軸に垂直な方向に、好ましくは前記ターゲットチャックに垂直な方向に沿って前後に並進させるための補助的な第4のモータを更に含み、
請求項5に依存する限りにおいて、前記第4のモータ及び/又は第5のモータは、任意に、前記ターゲットチャックを前記固定枠に対して並進させるように配置され、
請求項5に依存する限りにおいて、前記第4のモータは、任意に、前記固定枠に対して第3のキャリッジを変位させるように構成され、前記第5のモータは、前記第3のキャリッジに対して前記ターゲットチャックを変位させるように構成される、請求項1~8のいずれかに記載の装置。
The target stage preferably includes a fourth motor and/or a fifth motor for translating the target chuck in a plane parallel to the axis of rotation and/or the target chuck perpendicular to the axis of rotation. an auxiliary fourth motor for translating back and forth along a direction, preferably perpendicular to said target chuck;
As far as dependent on claim 5, the fourth motor and/or the fifth motor are optionally arranged to translate the target chuck with respect to the fixed frame,
As far as dependent on claim 5, the fourth motor is optionally arranged to displace a third carriage relative to the fixed frame, and the fifth motor is adapted to displace the third carriage. Apparatus according to any preceding claim, arranged to displace the target chuck relative to.
前記湾曲シェルには、前記半導体ダイの配列を前記湾曲シェルに結合することを可能にするための結合ユニットが設けられ、
前記湾曲シェルには、任意に、複数の開口部が設けられ、前記装置は、前記複数の開口部を通してダイシングされた半導体ウェハに加えられた吸引力を生成するための真空ユニットを更に含み、及び/又は、
前記湾曲シェルには、任意に、前記半導体ダイの配列を機械的に結合するための機械的結合ユニットが設けられ、前記半導体ダイの配列は、好ましくは、フィルムフレームキャリアによって担持され、前記機械的結合ユニットは、好ましくは、前記フィルムフレームキャリアを前記湾曲シェル上にクランプするためのクランプユニットを含む、請求項1~9のいずれかに記載の装置。
the curved shell is provided with a bonding unit for enabling the array of semiconductor dies to be bonded to the curved shell;
the curved shell is optionally provided with a plurality of openings, the apparatus further comprising a vacuum unit for generating a suction force applied to the diced semiconductor wafer through the plurality of openings; and / or
The curved shell is optionally provided with a mechanical coupling unit for mechanically coupling the array of semiconductor dies, the array of semiconductor dies being preferably carried by a film frame carrier and the Apparatus according to any of the preceding claims, wherein the coupling unit preferably comprises a clamping unit for clamping the film frame carrier onto the curved shell.
前記半導体ダイの配列からの半導体ダイを、前記ターゲット上に置く前に検査するように配置された第1の検査システムを更に含み、
前記第1の検査システムは、任意に、前記半導体ダイの配列の半導体ダイの位置及び/又は向きを決定するために配置され、前記コントローラは、前記決定された位置及び/又は向きに応じて、前記ウェハステージ、前記ターゲットステージ、及び/又は前記解放ユニットを制御するように構成され、及び/又は、
前記第1の検査システムは、任意に、前記半導体ダイの配列の半導体ダイが損傷されるか否かを判断するように配置され、前記コントローラは、前記半導体ダイが損傷されると判断された場合、前記ウェハステージ、前記ターゲットステージ及び/又は前記解放ユニットを制御して、前記半導体ダイが前記ターゲット上に置かれることを防止するように構成され、及び/又は、
前記装置は、半導体ダイが前記半導体ダイの配列から解放されたか否かを判断するように配置された第2の検査システムを更に含み、前記コントローラは、好ましくは、前記半導体ダイが解放されていないと判断された場合、前記半導体ダイを解放するために、前記ウェハステージ、前記ターゲットステージ及び/又は前記解放ユニットを制御するように構成され、及び/又は
前記装置は、半導体ダイが前記ターゲット上に適切に置かれているか否かをチェックするように配置された第3の検査システムを更に含み、前記コントローラは、好ましくは、前記半導体ダイの位置及び/又は前記ターゲット上の前記半導体ダイの意図された位置を記憶するように構成され、
前記第1の検査システム、前記第2の検査システム又は前記第3の検査システムは、任意に、カメラを含み、同じカメラは、好ましくは、前記第1の検査システム、前記第2の検査システム及び前記第3の検査システムのうちの2つ以上に使用される、請求項1~10のいずれかに記載の装置。
further comprising a first inspection system arranged to inspect semiconductor dies from the array of semiconductor dies prior to placement on the target;
The first inspection system is optionally arranged to determine a position and/or orientation of a semiconductor die of the array of semiconductor dies, the controller, in response to the determined position and/or orientation, configured to control the wafer stage, the target stage and/or the release unit; and/or
The first inspection system is optionally arranged to determine whether a semiconductor die of the semiconductor die array is damaged, and the controller determines if the semiconductor die is damaged. , configured to control the wafer stage, the target stage and/or the release unit to prevent the semiconductor die from being placed on the target; and/or
The apparatus further includes a second inspection system arranged to determine whether a semiconductor die has been released from the array of semiconductor dies, the controller preferably determining whether the semiconductor die has not been released. and/or the apparatus is configured to control the wafer stage, the target stage and/or the release unit to release the semiconductor die when it is determined that the semiconductor die is on the target. Further comprising a third inspection system arranged to check for proper placement, the controller preferably controls the position of the semiconductor die and/or the intended position of the semiconductor die on the target. configured to store the position of the
The first inspection system, the second inspection system or the third inspection system optionally comprise a camera, the same camera preferably being used by the first inspection system, the second inspection system and the third inspection system. Apparatus according to any preceding claim for use in two or more of said third inspection systems.
前記解放ユニットは、前記固定枠に対して解放位置に配置された半導体ダイを前記半導体ダイの配列から解放するように構成され、
前記半導体ダイの配列は、任意に、行及び列のマトリクス状に配置された複数の半導体ダイを含み、前記行は、前記回転軸に対して少なくともほぼ平行に延在する、請求項1~11のいずれかに記載の装置。
The release unit is configured to release a semiconductor die placed in a release position with respect to the fixed frame from the arrangement of the semiconductor dies,
The array of semiconductor dies optionally comprises a plurality of semiconductor dies arranged in a matrix of rows and columns, the rows extending at least approximately parallel to the axis of rotation. A device according to any of the preceding claims.
前記ターゲットは、前記半導体ダイの配列からのそれぞれの半導体ダイが置かれる、隣接して配置された置き位置の列又は行を含み、前記隣接して配置された置き位置の列又は行は、それぞれ、前記回転軸に対して少なくともほぼ垂直又は平行に延在し、前記コントローラは、前記ウェハステージを制御して、前記ターゲットのそれぞれの置き位置上の前記半導体ダイの配列の同じ列に半導体ダイを置くために前記湾曲シェルを断続的又は連続的に回転させ、前記置かれるダイの半導体ダイの配列の前記列を使い果たした後、前記湾曲シェルを並進運動させて、前記半導体ダイの配列の半導体ダイの隣接する列にシフトするように構成され、
請求項5に依存する限りにおいて、前記コントローラは、任意に、前記湾曲シェルの並進運動中に前記固定枠に対して前記解放位置を維持して、前記半導体ダイの配列の半導体ダイの隣接する列にシフトするように構成される、請求項12に記載の装置。
The target includes columns or rows of adjacently arranged placement locations on which respective semiconductor dies from the array of semiconductor dies are placed, wherein the columns or rows of adjacently arranged placement locations are each: , extending at least approximately perpendicular or parallel to the axis of rotation, and the controller controls the wafer stage to place the semiconductor dies in the same row of the array of semiconductor dies on respective placement positions of the target. After intermittently or continuously rotating the curved shell for depositing and depleting the row of the array of semiconductor dies of the deposited die, the curved shell is translated to rotate the semiconductor dies of the array of semiconductor dies. configured to shift to adjacent columns of
As far as dependent on claim 5, the controller optionally maintains the release position relative to the fixed frame during translational movement of the curved shell to move adjacent rows of semiconductor dies of the array of semiconductor dies. 13. The device of claim 12, configured to shift to .
前記ターゲットは、前記半導体ダイの配列からのそれぞれの半導体ダイが置かれる、隣接して配置された置き位置の列を複数含み、前記コントローラは、前記ターゲット上の同じ列内の全ての置き位置に前記半導体ダイの配列からの半導体ダイが設けられた後、前記ウェハステージ及び/又はターゲットステージを制御して前記ターゲットと前記湾曲シェルとの間の相互並進運動を引き起こすように構成され、請求項5に依存する限りにおいて、前記コントローラは、任意に、前記ターゲットと前記湾曲シェルとの間の相互並進運動中に、前記固定枠に対して前記解放位置を維持するように構成され、又は、請求項5に依存する限りにおいて、前記コントローラは、任意に、前記固定枠に対して前記回転軸に平行な方向に前記ターゲット上の前記列の位置を維持し、前記ターゲット上の同じ列内の全ての置き位置に前記半導体ダイの配列からの半導体ダイが設けられた後、前記解放位置を変更して前記ターゲット上の次の列にシフトするように構成され、
前記装置は、任意に、前記ターゲット上の異なる列の置き位置にある前記半導体ダイの配列からの半導体ダイをほぼ同時解放するための前記解放ユニットを複数含む、請求項13に記載の装置。
The target includes a plurality of adjacently arranged rows of placement locations on which respective semiconductor dies from the array of semiconductor dies are placed, and the controller controls all placement locations within the same row on the target. 6. adapted to control said wafer stage and/or target stage to induce mutual translational movement between said target and said curved shell after a semiconductor die from said array of semiconductor dies has been provided; The controller is optionally configured to maintain the release position with respect to the fixed frame during mutual translational movement between the target and the curved shell, or claim 5, the controller optionally maintains the position of the row on the target in a direction parallel to the axis of rotation with respect to the fixed frame, and maintains the position of all rows in the same row on the target with respect to the fixed frame. configured to change the release position to shift to the next row on the target after a semiconductor die from the array of semiconductor dies has been placed in the placement position;
14. The apparatus of claim 13, optionally comprising a plurality of said release units for substantially simultaneously releasing semiconductor dies from said array of semiconductor dies in different row placement positions on said target.
請求項1~14のいずれかに記載の装置において使用されるように構成され、半導体ダイの配列が配置されたウェハチャックを有するウェハステージであって、
前記ウェハチャックは、前記半導体ダイの配列が配置され、回転可能に取り付けられた湾曲シェルを含み、前記ウェハステージは、前記湾曲シェルを回転軸の周りに回転させるための第1のモータを更に含む、ウェハステージ。
A wafer stage configured for use in the apparatus of any of claims 1-14 and having a wafer chuck on which an array of semiconductor dies is positioned,
The wafer chuck includes a curved shell on which the array of semiconductor dies is arranged and rotatably mounted, and the wafer stage further includes a first motor for rotating the curved shell about an axis of rotation. , wafer stage.
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