JP2023112732A - Laser machining device - Google Patents

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laser
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龍幸 中川
Tatsuyuki Nakagawa
通雄 櫻井
Michio Sakurai
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Abstract

To enhance the machining quality and machining speed of work-piece.SOLUTION: A laser machining head 20 emits a first laser beam L1 of short wavelength, and a second laser beam L2 of long wavelength. A dichroic mirror 26 overlaps the first laser beam L1 and the second laser beam L2. An fθ lens 27 condenses the first laser beam L1 and the second laser beam L2 overlapped by the dichroic mirror 26 toward work-piece W. A first adjusting mechanism 24 adjusts an incident position of the first laser beam L1 to the dichroic mirror 26.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、レーザ加工装置に関するものである。 The present invention relates to a laser processing apparatus.

特許文献1には、長波長と短波長の2つのレーザを同軸の光路に導いて重畳させる光学系と、同軸の光路に重畳した2つのレーザの出力ビームをワーク(被加工物)上に集光する集光レンズとを備えたレーザ加工光学装置が開示されている。 Patent Document 1 discloses an optical system that guides two lasers with a long wavelength and a short wavelength to a coaxial optical path and superimposes them, and converges the output beams of the two lasers superimposed on the coaxial optical path on a work (workpiece). A laser processing optical system is disclosed that includes a focusing lens that emits light.

特開2005-324254号公報JP 2005-324254 A

ところで、短波長のレーザ光は、銅やアルミのような高反射率材料のワークに対するレーザ吸収率が高いが、レーザ光の最大出力が低く、加工速度が遅くなる。 By the way, short-wavelength laser light has a high laser absorption rate for workpieces made of high reflectance materials such as copper and aluminum, but the maximum output of the laser light is low and the processing speed is low.

一方、長波長のレーザ光は、短波長のレーザ光よりもレーザ光の最大出力が高いが、高反射率材料のワークに対するレーザ吸収率が低い。そのため、長波長のレーザ光では、ワークの溶け込み深さを一定にすることが困難であり、加工品質が低下するおそれがある。 On the other hand, a long-wavelength laser beam has a higher maximum laser beam output than a short-wavelength laser beam, but has a lower laser absorptance with respect to a workpiece made of a highly reflective material. Therefore, it is difficult to make the penetration depth of the workpiece constant with a long-wavelength laser beam, and there is a possibility that the machining quality may deteriorate.

本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的は、ワークの加工品質及び加工速度を高めることにある。 SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to improve the machining quality and machining speed of workpieces.

第1の発明は、レーザ光を出射してワークを加工するレーザ加工装置であって、第1レーザ光を発振する第1レーザ発振器と、前記第1レーザ光よりも波長の長い第2レーザ光を発振する第2レーザ発振器と、前記第1レーザ発振器及び前記第2レーザ発振器から入射された前記第1レーザ光及び前記第2レーザ光を、前記ワークに対して出射するレーザ加工ヘッドとを備え、前記レーザ加工ヘッドは、前記第1レーザ光を平行化する第1コリメートレンズと、前記第2レーザ光を平行化する第2コリメートレンズと、前記第1コリメートレンズ及び前記第2コリメートレンズを通過した前記第1レーザ光及び前記第2レーザ光を重ね合わせる第1光学部材と、前記第1光学部材で重ね合わされた前記第1レーザ光及び前記第2レーザ光を前記ワークに向けて集光させる第2光学部材と、前記第1光学部材に対する前記第1レーザ光の入射位置を調整して、前記第2レーザ光に対する前記第1レーザ光の出射位置を相対的に変更する第1調整機構とを有することを特徴とする。 A first invention is a laser processing apparatus that emits a laser beam to process a workpiece, comprising: a first laser oscillator that oscillates a first laser beam; and a second laser beam that has a longer wavelength than the first laser beam. and a laser processing head that emits the first laser beam and the second laser beam incident from the first laser oscillator and the second laser oscillator to the work. , the laser processing head passes through a first collimating lens for collimating the first laser beam, a second collimating lens for collimating the second laser beam, and the first collimating lens and the second collimating lens a first optical member for superimposing the first laser beam and the second laser beam; and condensing the first laser beam and the second laser beam superimposed by the first optical member toward the workpiece. a second optical member; and a first adjustment mechanism that adjusts the incident position of the first laser beam with respect to the first optical member and relatively changes the emission position of the first laser beam with respect to the second laser beam. characterized by having

第1の発明では、レーザ加工ヘッドは、短波長の第1レーザ光と、長波長の第2レーザ光とを出射する。第1レーザ光及び第2レーザ光は、第1光学部材で重ね合わされる。第1光学部材で重ね合わされた第1レーザ光及び第2レーザ光は、第2光学部材によってワークに向けて集光される。第1光学部材に対する第1レーザ光の入射位置が第1調整機構で調整される。 In the first invention, the laser processing head emits a short-wavelength first laser beam and a long-wavelength second laser beam. The first laser beam and the second laser beam are superimposed by the first optical member. The first laser beam and the second laser beam superimposed by the first optical member are focused toward the workpiece by the second optical member. The first adjustment mechanism adjusts the incident position of the first laser beam with respect to the first optical member.

このように、第1光学部材に対する第1レーザ光の入射位置を調整して、第2レーザ光に対する第1レーザ光の出射位置を相対的に変更することで、ワークの加工品質及び加工速度を高めることができる。 Thus, by adjusting the incident position of the first laser beam with respect to the first optical member and relatively changing the emission position of the first laser beam with respect to the second laser beam, the machining quality and machining speed of the workpiece can be improved. can be enhanced.

具体的に、短波長の第1レーザ光(例えば、600nm以下の青色レーザ光)は、銅などの高反射率材料のワークに対するレーザ吸収率が高いが、レーザ光の最大出力が低い。一方、長波長の第2レーザ光(例えば、800nm以上の赤外レーザ光)は、高反射率材料のワークに対するレーザ吸収率は低いが、レーザ光の最大出力が高い。 Specifically, the short-wavelength first laser light (for example, blue laser light of 600 nm or less) has a high laser absorption rate with respect to a workpiece made of a highly reflective material such as copper, but the maximum output of the laser light is low. On the other hand, the long-wavelength second laser beam (for example, infrared laser beam of 800 nm or longer) has a low laser absorptance with respect to a workpiece made of a highly reflective material, but has a high maximum laser beam output.

そこで、例えば、第1レーザ光をワークの表面に先行して出射することでワークを予熱し、ワークの予熱部分に対して第2レーザ光を出射することで、第2レーザ光がワークに吸収されやすくなる。これにより、ワークの加工品質及び加工速度を高めることができる。 Therefore, for example, the workpiece is preheated by emitting the first laser beam ahead of the surface of the workpiece, and the second laser beam is emitted to the preheated portion of the workpiece, so that the second laser beam is absorbed by the workpiece. easier to be Thereby, the processing quality and processing speed of the workpiece can be improved.

また、第2レーザ光の後方に第1レーザ光を出射することで、第2レーザ光で加工されたワークの加工表面をきれいにすることができる。例えば、第2レーザ光で溶接後に凝固した溶接ビードに第1レーザ光を出射することで、スラグを除去することができる。また、第2レーザ光でレーザ切断した切断面に第1レーザ光を出射することで、切断面をきれいにすることができる。 In addition, by emitting the first laser beam behind the second laser beam, it is possible to clean the processing surface of the workpiece processed by the second laser beam. For example, the slag can be removed by emitting the first laser beam to the weld bead solidified after welding with the second laser beam. In addition, by emitting the first laser beam to the cut surface laser-cut by the second laser beam, the cut surface can be cleaned.

第2の発明は、第1の発明において、前記第1光学部材に対する前記第2レーザ光の入射位置を調整して、前記第1レーザ光に対する前記第2レーザ光の出射位置を相対的に変更する第2調整機構を備えたことを特徴とする。 In a second invention, in the first invention, the incident position of the second laser beam with respect to the first optical member is adjusted to relatively change the emission position of the second laser beam with respect to the first laser beam. It is characterized by comprising a second adjustment mechanism for adjusting the

第2の発明では、第1光学部材に対する第2レーザ光の入射位置が第2調整機構で調整される。 In the second invention, the second adjustment mechanism adjusts the incident position of the second laser beam with respect to the first optical member.

このように、第1光学部材に対する第2レーザ光の入射位置を調整可能とすることで、第1レーザ光に対する第2レーザ光の出射位置の調整幅を広げることができる。 In this way, by making it possible to adjust the incident position of the second laser beam with respect to the first optical member, it is possible to widen the adjustment range of the emission position of the second laser beam with respect to the first laser beam.

第3の発明は、第1又は2の発明において、前記ワークの加工位置における溶融状態を示すデータを検出する検出部と、前記検出部で検出されたデータに基づいて、前記レーザ加工ヘッド、前記第1レーザ発振器、及び前記第2レーザ発振器のうち少なくとも1つの動作を制御する制御部とを備えたことを特徴とする。 According to a third invention, in the first or second invention, a detection unit for detecting data indicating a molten state at a processing position of the workpiece, and based on the data detected by the detection unit, the laser processing head, the and a control section for controlling the operation of at least one of the first laser oscillator and the second laser oscillator.

第3の発明では、ワークの加工位置における溶融状態を示すデータが検出部で検出される。そして、検出部で検出されたデータに基づいて、レーザ光の出射位置や出射タイミング等を制御することができる。 In the third invention, the detector detects the data indicating the molten state at the processing position of the workpiece. Then, based on the data detected by the detector, the emission position, emission timing, and the like of the laser beam can be controlled.

第4の発明は、第3の発明において、前記検出部は、前記第1レーザ光に対応する前記ワークの加工位置における溶融状態を示すデータを検出する第1検出部を含み、前記第1レーザ発振器を発振する一方、前記第2レーザ発振器を停止することで、前記レーザ加工ヘッドから前記第1レーザ光が出射され、前記第1検出部では、前記ワークで反射された前記第1レーザ光の散乱光の光量が検出され、前記制御部は、前記第1検出部で検出された前記散乱光の光量が所定の閾値よりも低い場合に、前記第2レーザ発振器を発振させ、前記レーザ加工ヘッドから前記ワークの加工位置に前記第2レーザ光を出射させることを特徴とする。 In a fourth aspect based on the third aspect, the detection unit includes a first detection unit that detects data indicating a melting state at a processing position of the workpiece corresponding to the first laser beam, and the first laser beam By oscillating the oscillator and stopping the second laser oscillator, the first laser beam is emitted from the laser processing head, and the first laser beam reflected by the work is detected by the first detection unit. The amount of scattered light is detected, and the control unit causes the second laser oscillator to oscillate when the amount of scattered light detected by the first detection unit is lower than a predetermined threshold, thereby controlling the laser processing head. The second laser beam is emitted from the second laser beam to the machining position of the workpiece.

第4の発明では、短波長の第1レーザ光でワークの表面を先行して荒らした後、ワークが溶融したことを第1検出部で検出された第1レーザ光の散乱光の光量に基づいて判断し、長波長の第2レーザ光でワークの仕上げ加工を行うことで、ワークの加工品質及び加工速度を高めることができる。 In the fourth invention, after roughening the surface of the work in advance with the short-wavelength first laser light, the melting of the work is detected by the first detection unit based on the light quantity of the scattered light of the first laser light. , and finish machining the workpiece with the long-wavelength second laser beam, it is possible to improve the machining quality and machining speed of the workpiece.

第5の発明は、第3の発明において、前記検出部は、前記第2レーザ光に対応する前記ワークの加工位置における溶融状態を示すデータを検出する第2検出部を含み、前記第1レーザ発振器及び前記第2レーザ発振器を発振することで、前記レーザ加工ヘッドから前記第1レーザ光及び前記第2レーザ光が出射され、前記第2検出部では、前記ワークで反射された前記第2レーザ光の散乱光の光量が検出され、前記制御部は、前記第2検出部で検出された前記散乱光の光量が所定の閾値よりも低い場合に、前記第2レーザ光の出力を段階的又は徐々に上げるように、前記第2レーザ発振器の動作を制御することを特徴とする。 In a fifth aspect based on the third aspect, the detection section includes a second detection section for detecting data indicating a melting state at a processing position of the workpiece corresponding to the second laser beam, and the first laser beam By oscillating the oscillator and the second laser oscillator, the first laser beam and the second laser beam are emitted from the laser processing head, and the second laser beam reflected by the work is detected by the second detection unit. The amount of scattered light of light is detected, and when the amount of scattered light detected by the second detection unit is lower than a predetermined threshold, the control unit reduces the output of the second laser light stepwise or The operation of the second laser oscillator is controlled so as to gradually increase.

第5の発明では、長波長の第2レーザ光を低出力で出射した後、ワークが溶融したことを第2検出部で検出された第2レーザ光の散乱光の光量に基づいて判断し、第2レーザ光の出力を高めてワークの加工を行うことで、ワークの加工品質及び加工速度を高めることができる。 In the fifth invention, after the second laser beam having a long wavelength is emitted at a low output, it is determined that the workpiece has melted based on the amount of scattered light of the second laser beam detected by the second detection unit, By increasing the output of the second laser beam and processing the work, the processing quality and processing speed of the work can be increased.

第6の発明は、第3の発明において、前記検出部は、前記第2レーザ光に対応する前記ワークの加工位置における溶融状態を示すデータを検出する第2検出部を含み、前記第1レーザ発振器及び前記第2レーザ発振器を発振することで、前記レーザ加工ヘッドから前記第1レーザ光及び前記第2レーザ光が出射され、前記第2検出部では、前記ワークで反射された前記第2レーザ光の散乱光の光量が検出され、前記制御部は、前記第2検出部で検出された前記散乱光の光量が所定の閾値よりも高い場合に、前記ワークの加工位置に前記第1レーザ光を出射するように、前記レーザ加工ヘッドの動作を制御することを特徴とする。 In a sixth aspect based on the third aspect, the detection section includes a second detection section for detecting data indicating a melting state of the workpiece at the processing position corresponding to the second laser beam, and the first laser beam By oscillating the oscillator and the second laser oscillator, the first laser beam and the second laser beam are emitted from the laser processing head, and the second laser beam reflected by the work is detected by the second detection unit. The amount of scattered light of light is detected, and when the amount of scattered light detected by the second detection unit is higher than a predetermined threshold, the first laser beam is emitted to the processing position of the workpiece. The operation of the laser processing head is controlled so as to emit a

第6の発明では、長波長の第2レーザ光をワークに出射した後、ワークが十分に溶融していないことを第2検出部で検出された第2レーザ光の散乱光の光量に基づいて判断し、ワークの加工位置に短波長の第1レーザ光を出射することで、ワークの溶融を促進することができる。 In the sixth invention, after the long-wavelength second laser beam is emitted to the workpiece, it is detected by the second detection unit that the workpiece is not sufficiently melted based on the amount of scattered light of the second laser beam. It is possible to accelerate the melting of the workpiece by making a determination and emitting the short-wavelength first laser beam to the machining position of the workpiece.

第7の発明は、第3の発明において、前記検出部は、前記第2レーザ光に対応する前記ワークの加工位置における溶融状態を示すデータを検出する第2検出部を含み、前記第1レーザ発振器及び前記第2レーザ発振器を発振することで、前記レーザ加工ヘッドから前記第1レーザ光及び前記第2レーザ光が出射され、前記第2検出部では、前記ワークで反射された前記第2レーザ光の散乱光の光量が検出され、前記制御部は、前記第2検出部で検出された前記散乱光の光量が所定の閾値よりも高い場合に、前記第1レーザ光の出力を段階的又は徐々に上げるように、前記第1レーザ発振器の動作を制御することを特徴とする。 In a seventh aspect based on the third aspect, the detection section includes a second detection section for detecting data indicating a melting state at a processing position of the workpiece corresponding to the second laser beam, and the first laser beam By oscillating the oscillator and the second laser oscillator, the first laser beam and the second laser beam are emitted from the laser processing head, and the second laser beam reflected by the work is detected by the second detection unit. The amount of scattered light of light is detected, and when the amount of scattered light detected by the second detection unit is higher than a predetermined threshold, the control unit reduces the output of the first laser light stepwise or The operation of the first laser oscillator is controlled so as to gradually increase.

第7の発明では、長波長の第2レーザ光をワークに出射した後、ワークが十分に溶融していないことを第2検出部で検出された第2レーザ光の散乱光の光量に基づいて判断し、短波長の第1レーザ光の出力をさらに上げることでワークの予熱を十分に行い、ワークの溶融を促進することができる。 In the seventh invention, after the long-wavelength second laser beam is emitted to the workpiece, it is detected by the second detection unit that the workpiece is not sufficiently melted based on the amount of scattered light of the second laser beam. By further increasing the output of the short-wavelength first laser beam, it is possible to sufficiently preheat the workpiece and promote the melting of the workpiece.

第8の発明は、第3の発明において、前記検出部は、前記第2レーザ光に対応する前記ワークの加工位置における溶融状態を示すデータを検出する第2検出部を含み、前記第1レーザ発振器及び前記第2レーザ発振器を発振することで、前記レーザ加工ヘッドから前記第1レーザ光及び前記第2レーザ光が出射され、前記第2検出部では、前記ワークで反射された前記第2レーザ光の散乱光の光量が検出され、前記制御部は、前記第2検出部で検出された前記散乱光の光量が所定の上限値よりも高い場合に、前記第2レーザ光の出力を停止するように、前記第2レーザ発振器の動作を制御することを特徴とする。 In an eighth aspect based on the third aspect, the detection section includes a second detection section for detecting data indicating a melting state at a processing position of the workpiece corresponding to the second laser beam, and the first laser beam By oscillating the oscillator and the second laser oscillator, the first laser beam and the second laser beam are emitted from the laser processing head, and the second laser beam reflected by the work is detected by the second detection unit. The amount of scattered light of light is detected, and the control unit stops outputting the second laser light when the amount of scattered light detected by the second detection unit is higher than a predetermined upper limit. It is characterized in that the operation of the second laser oscillator is controlled as follows.

第8の発明では、ワークで反射した高出力な第2レーザ光の散乱光がレーザ加工ヘッドに照射されてしまい、レーザ加工ヘッドが破損するのを抑えることができる。 In the eighth invention, it is possible to prevent the laser processing head from being damaged by the scattered light of the high-output second laser beam reflected by the workpiece being irradiated onto the laser processing head.

第9の発明は、第3乃至8の発明のうち何れか1つにおいて、前記検出部は、フォトダイオードで構成されていることを特徴とする。 A ninth invention is characterized in that, in any one of the third to eighth inventions, the detection section is composed of a photodiode.

第9の発明では、検出部をフォトダイオードで構成することで、レーザ光の散乱光の光量が検出し易くなり、ワークの溶融状態を精度良く確認することができる。 In the ninth aspect of the present invention, by configuring the detection section with a photodiode, it becomes easy to detect the light quantity of the scattered light of the laser beam, and the molten state of the workpiece can be confirmed with high accuracy.

本発明によれば、ワークの加工品質及び加工速度を高めることができる。 According to the present invention, it is possible to improve the machining quality and machining speed of the workpiece.

本実施形態1に係るレーザ加工装置の概略構成を示す側面図である。It is a side view which shows schematic structure of the laser processing apparatus which concerns on this Embodiment 1. FIG. レーザ光の波長と反射率との関係を示すグラフ図である。It is a graph chart which shows the relationship between the wavelength of a laser beam, and a reflectance. レーザ開始位置に第1レーザ光を出射した状態を示す平面図である。It is a top view which shows the state which radiate|emitted the 1st laser beam to the laser starting position. レーザ開始位置に第2レーザ光を出射した状態を示す平面図である。It is a top view which shows the state which radiate|emitted the 2nd laser beam to the laser starting position. ワークのレーザ加工中の状態を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing a state during laser processing of a work; 本実施形態2に係るレーザ加工装置の概略構成を示す側面図である。FIG. 10 is a side view showing a schematic configuration of a laser processing apparatus according to Embodiment 2; 第2レーザ光の散乱光強度と経過時間との関係を示すグラフ図である。It is a graph chart which shows the relationship between the scattered light intensity|strength of a 2nd laser beam, and elapsed time.

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。なお、以下の好ましい実施形態の説明は、本質的に例示に過ぎず、本発明、その適用物或いはその用途を制限することを意図するものではない。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. It should be noted that the following description of preferred embodiments is essentially merely an example, and is not intended to limit the present invention, its applications, or its uses.

《実施形態1》
図1に示すように、レーザ加工装置1は、第1レーザ発振器11と、第2レーザ発振器12と、第1伝送ファイバ15と、第2伝送ファイバ16と、レーザ加工ヘッド20と、ロボット2と、制御部5とを備える。
<<Embodiment 1>>
As shown in FIG. 1, the laser processing apparatus 1 includes a first laser oscillator 11, a second laser oscillator 12, a first transmission fiber 15, a second transmission fiber 16, a laser processing head 20, and a robot 2. , and a control unit 5 .

第1レーザ発振器11は、制御部5からの指令に基づいて、第1レーザ光L1を出力する。第1レーザ光L1は、短波長のレーザ光である。短波長の第1レーザ光L1は、波長が600nm以下(例えば、266nm~600nm)の青色レーザ光又は緑色レーザ光である。 The first laser oscillator 11 outputs a first laser beam L1 based on a command from the control section 5 . The first laser beam L1 is a short wavelength laser beam. The short-wavelength first laser light L1 is blue laser light or green laser light with a wavelength of 600 nm or less (for example, 266 nm to 600 nm).

第1レーザ発振器11とレーザ加工ヘッド20とは、第1伝送ファイバ15で接続される。第1レーザ光L1は、第1伝送ファイバ15を介して、第1レーザ発振器11からレーザ加工ヘッド20に伝送される。 The first laser oscillator 11 and the laser processing head 20 are connected by a first transmission fiber 15 . The first laser beam L1 is transmitted from the first laser oscillator 11 to the laser processing head 20 via the first transmission fiber 15 .

第2レーザ発振器12は、制御部5からの指令に基づいて、第2レーザ光L2を出力する。第2レーザ光L2は、第1レーザ光L1よりも波長の長い、長波長のレーザ光である。長波長の第2レーザ光L2は、波長が800nm以上(例えば、800nm~16000nm程度)の赤外レーザ光である。 The second laser oscillator 12 outputs the second laser light L2 based on the command from the control section 5 . The second laser beam L2 is a long-wavelength laser beam having a longer wavelength than the first laser beam L1. The long-wavelength second laser light L2 is infrared laser light with a wavelength of 800 nm or more (for example, about 800 nm to 16000 nm).

第2レーザ発振器12とレーザ加工ヘッド20とは、第2伝送ファイバ16で接続される。第2レーザ光L2は、第2伝送ファイバ16を介して、第2レーザ発振器12からレーザ加工ヘッド20に伝送される。 The second laser oscillator 12 and laser processing head 20 are connected by a second transmission fiber 16 . The second laser beam L2 is transmitted from the second laser oscillator 12 to the laser processing head 20 via the second transmission fiber 16 .

レーザ加工ヘッド20は、第1伝送ファイバ15及び第2伝送ファイバ16から入射される第1レーザ光L1及び第2レーザ光L2を、ワークWに出射する。 The laser processing head 20 emits the first laser beam L<b>1 and the second laser beam L<b>2 incident from the first transmission fiber 15 and the second transmission fiber 16 to the work W. As shown in FIG.

レーザ加工ヘッド20は、第1コリメートレンズ21と、第2コリメートレンズ22と、第1ミラー23と、第1調整機構24と、第2調整機構25と、ダイクロイックミラー26(第1光学部材)と、fθレンズ27(第2光学部材)と、第1検出部28とを有する。 The laser processing head 20 includes a first collimating lens 21, a second collimating lens 22, a first mirror 23, a first adjusting mechanism 24, a second adjusting mechanism 25, and a dichroic mirror 26 (first optical member). , an fθ lens 27 (second optical member), and a first detector 28 .

第1コリメートレンズ21は、第1伝送ファイバ15の出射端から出射された第1レーザ光L1を平行化する。第2コリメートレンズ22は、第2伝送ファイバ16の出射端から出射された第2レーザ光L2を平行化する。第1ミラー23は、第1コリメートレンズ21で平行化された第1レーザ光L1を反射して、第1調整機構24に導光する。 The first collimator lens 21 collimates the first laser beam L1 emitted from the emission end of the first transmission fiber 15 . The second collimator lens 22 collimates the second laser beam L2 emitted from the emission end of the second transmission fiber 16 . The first mirror 23 reflects the first laser beam L<b>1 collimated by the first collimating lens 21 and guides it to the first adjusting mechanism 24 .

第1調整機構24は、2軸MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)ミラーで構成される。第1調整機構24は、第1ミラー23で反射された第1レーザ光L1をさらに反射して、ダイクロイックミラー26に導光する。第1調整機構24は、ミラーの角度を変更することで、ダイクロイックミラー26に対する第1レーザ光L1の入射位置を変更する。なお、第1調整機構24は、2軸のガルバノメータ(ガルバノミラー)を用いた構成としてもよい。 The first adjustment mechanism 24 is composed of a two-axis MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) mirror. The first adjustment mechanism 24 further reflects the first laser beam L<b>1 reflected by the first mirror 23 and guides it to the dichroic mirror 26 . The first adjustment mechanism 24 changes the incident position of the first laser beam L1 with respect to the dichroic mirror 26 by changing the angle of the mirror. Note that the first adjustment mechanism 24 may be configured using a biaxial galvanometer (galvanomirror).

第2調整機構25は、2軸MEMSミラーで構成される。第2調整機構25は、第2コリメートレンズ22で平行化された第2レーザ光L2を反射して、ダイクロイックミラー26に導光する。第2調整機構25は、ミラーの角度を変更することで、ダイクロイックミラー26に対する第2レーザ光L2の入射位置を変更する。なお、第2調整機構25は、2軸のガルバノメータを用いた構成としてもよい。 The second adjustment mechanism 25 is composed of a two-axis MEMS mirror. The second adjustment mechanism 25 reflects the second laser beam L2 collimated by the second collimator lens 22 and guides it to the dichroic mirror 26 . The second adjustment mechanism 25 changes the incident position of the second laser beam L2 on the dichroic mirror 26 by changing the angle of the mirror. The second adjustment mechanism 25 may be configured using a two-axis galvanometer.

ダイクロイックミラー26は、第2レーザ光L2を透過するとともに、第1レーザ光L1を反射する。ダイクロイックミラー26は、第1レーザ光L1及び第2レーザ光L2を重ね合わせて、fθレンズ27に導光する。 The dichroic mirror 26 transmits the second laser beam L2 and reflects the first laser beam L1. The dichroic mirror 26 superimposes the first laser beam L<b>1 and the second laser beam L<b>2 and guides them to the fθ lens 27 .

fθレンズ27は、第1レーザ光L1及び第2レーザ光L2の入射位置において、第1レーザ光L1及び第2レーザ光L2をそれぞれ、ワークWの面(像面)に対して垂直入射するビームとなるように集光する。fθレンズ27で集光された第1レーザ光L1及び第2レーザ光L2は、互いに平行光(言い換えると主光線が光軸に対して平行な平行光)としてワークWに出射される。 The f.theta. Condensed so that The first laser beam L1 and the second laser beam L2 condensed by the f.theta.

ここで、fθレンズ27に対する第1レーザ光L1及び第2レーザ光L2の入射位置は、第1調整機構24及び第2調整機構25の角度をそれぞれ変更することで移動する。これにより、第1調整機構24及び第2調整機構25によって、ワークWに対する第1レーザ光L1及び第2レーザ光L2の出射位置が相対的に変更可能となる。 Here, the incident positions of the first laser beam L1 and the second laser beam L2 with respect to the fθ lens 27 are moved by changing the angles of the first adjustment mechanism 24 and the second adjustment mechanism 25, respectively. Thereby, the emission positions of the first laser beam L1 and the second laser beam L2 with respect to the workpiece W can be relatively changed by the first adjustment mechanism 24 and the second adjustment mechanism 25 .

なお、ここで、第1コリメートレンズ21、第2コリメートレンズ22を光軸方向に移動することで、第1レーザ光L1及び第2レーザ光L2のビーム径をそれぞれ拡大又は縮小するように変更することができる。 Here, by moving the first collimator lens 21 and the second collimator lens 22 in the optical axis direction, the beam diameters of the first laser beam L1 and the second laser beam L2 are changed to be enlarged or reduced, respectively. be able to.

第1検出部28は、例えば、フォトダイオードで構成される。第1検出部28は、ワークWの加工位置における溶融状態を示すデータを検出する。ここで、溶融状態を示すデータとは、ワークWで反射された第1レーザ光L1の散乱光の光量である。 The first detection unit 28 is composed of, for example, a photodiode. The first detection unit 28 detects data indicating the melting state of the workpiece W at the processing position. Here, the data indicating the molten state is the amount of scattered light of the first laser beam L1 reflected by the workpiece W. As shown in FIG.

第1検出部28とワークWとの間には、第1フィルタ29が配置される。第1フィルタ29は、ワークWで反射された第2レーザ光L2の散乱光を遮光する一方、第1レーザ光L1の散乱光を通過させる。 A first filter 29 is arranged between the first detector 28 and the workpiece W. As shown in FIG. The first filter 29 shields the scattered light of the second laser beam L2 reflected by the workpiece W, while allowing the scattered light of the first laser beam L1 to pass through.

第1検出部28は、第1フィルタ29を通過した第1レーザ光L1の散乱光の光量を検出する。第1検出部28の検出結果は、制御部5に送られる。 The first detector 28 detects the amount of scattered light of the first laser beam L1 that has passed through the first filter 29 . The detection result of the first detector 28 is sent to the controller 5 .

制御部5は、第1レーザ光L1の散乱光の光量が所定の閾値よりも小さい場合に、第1レーザ光L1によるワークWの予熱が十分に行われたと判断する。 The control unit 5 determines that the workpiece W has been sufficiently preheated by the first laser beam L1 when the light amount of the scattered light of the first laser beam L1 is smaller than a predetermined threshold value.

具体的に、第1レーザ光L1の散乱光の光量は、ワークWの表面の溶融状態に応じて変化する。例えば、ワークWの表面が第1レーザ光L1で十分に予熱されておらず、ワークWの溶融量が小さい場合、第1レーザ光L1の散乱光の光量が大きくなる。一方、ワークWの表面が第1レーザ光L1で十分に予熱されており、ワークWの溶融量が大きい場合、第1レーザ光L1の散乱光の光量が小さくなる。 Specifically, the light amount of the scattered light of the first laser beam L1 changes according to the molten state of the surface of the work W. As shown in FIG. For example, when the surface of the work W is not sufficiently preheated by the first laser beam L1 and the melt amount of the work W is small, the amount of scattered light of the first laser beam L1 increases. On the other hand, when the surface of the work W is sufficiently preheated by the first laser beam L1 and the melt amount of the work W is large, the light quantity of the scattered light of the first laser beam L1 becomes small.

ロボット2は、ロボットアーム3を有する。ロボットアーム3の先端部には、レーザ加工ヘッド20が取り付けられる。ロボットアーム3は、複数の関節部4を有する。 The robot 2 has a robot arm 3 . A laser processing head 20 is attached to the tip of the robot arm 3 . The robot arm 3 has multiple joints 4 .

ロボット2は、制御部5からの指令に基づいて、レーザ加工ヘッド20を所定の加工方向に沿って移動させ、ワークWに対するレーザ加工ヘッド20の位置を変更する。これにより、ワークWに対する第1レーザ光L1及び第2レーザ光L2の位置を移動させ、レーザ加工を行う。 The robot 2 changes the position of the laser processing head 20 with respect to the workpiece W by moving the laser processing head 20 along a predetermined processing direction based on a command from the control unit 5 . As a result, the positions of the first laser beam L1 and the second laser beam L2 with respect to the workpiece W are moved to perform laser processing.

制御部5は、第1レーザ発振器11、第2レーザ発振器12、レーザ加工ヘッド20、及びロボット2に接続される。制御部5は、第1レーザ発振器11、第2レーザ発振器12、レーザ加工ヘッド20、及びロボット2の動作を制御する。 The controller 5 is connected to the first laser oscillator 11 , the second laser oscillator 12 , the laser processing head 20 and the robot 2 . The control unit 5 controls operations of the first laser oscillator 11 , the second laser oscillator 12 , the laser processing head 20 and the robot 2 .

制御部5は、レーザ加工ヘッド20の移動速度の他に、第1レーザ光L1及び第2レーザ光L2の出力開始や停止、第1レーザ光L1及び第2レーザ光L2の出力強度などを制御する機能も備える。なお、制御部5は、ここで1つの構成になっているが、複数で構成しても良い。 In addition to the moving speed of the laser processing head 20, the control unit 5 controls the output start and stop of the first laser beam L1 and the second laser beam L2, the output intensity of the first laser beam L1 and the second laser beam L2, and the like. It also has the function to In addition, although the control part 5 has one structure here, you may comprise more than one.

ワークWは、第1部材W1と、第2部材W2とを有する。第1部材W1及び第2部材W2は、板状に形成される。第1部材W1は、第2部材W2の上面に重ね合わされる。 The work W has a first member W1 and a second member W2. The first member W1 and the second member W2 are plate-shaped. The first member W1 is superimposed on the upper surface of the second member W2.

ワークWは、レーザ吸収率の低い高反射率材料で構成される。具体的に、図2に示すように、レーザ光の反射率は、ワークWの材質によって異なる。例えば、波長が800nm以上の長波長としての赤外レーザ光を基準とした場合、銅(Cu)、アルミニウム(Al)、金(Au)、銀(Ag)は、鉄(Fe)に比べてレーザ光の波長の反射率(%)が高く、言い換えるとレーザ吸収率の低い高反射率材料であることが分かる。一方、鉄(Fe)は、相対的にレーザ光の波長の反射率(%)が低く、言い換えるとレーザ吸収率の高い低反射率材料であることが分かる。 The workpiece W is composed of a high reflectance material with a low laser absorption rate. Specifically, as shown in FIG. 2, the reflectance of the laser beam varies depending on the material of the workpiece W. As shown in FIG. For example, when infrared laser light having a long wavelength of 800 nm or more is used as a reference, copper (Cu), aluminum (Al), gold (Au), and silver (Ag) are laser beams compared to iron (Fe). It can be seen that the reflectance (%) of the wavelength of light is high, in other words, it is a high reflectance material with low laser absorptance. On the other hand, iron (Fe) has a relatively low reflectance (%) of the wavelength of the laser light, in other words, it is a low reflectance material with a high laser absorptivity.

そこで、本実施形態では、ワークWをレーザ吸収率の低い高反射率材料である銅で構成している。なお、ワークWを金又は銀で構成してもよい。 Therefore, in this embodiment, the workpiece W is made of copper, which is a high reflectance material with a low laser absorption rate. The workpiece W may be made of gold or silver.

〈レーザ加工装置の動作〉
ところで、短波長の第1レーザ光L1は、銅などの高反射率材料のワークWに対するレーザ吸収率が高いが、レーザ光の最大出力が低い。そのため、必要な溶接ビード幅を得るためには、ビーム径を大きくしなければならないが、パワー密度が低下するため、加工速度を遅くする必要がある。
<Operation of laser processing equipment>
By the way, the short-wave first laser beam L1 has a high laser absorption rate with respect to the workpiece W made of a high reflectance material such as copper, but the maximum output of the laser beam is low. Therefore, in order to obtain the required weld bead width, the beam diameter must be increased, but the power density is lowered, so the processing speed must be slowed down.

一方、長波長の第2レーザ光L2は、短波長の第1レーザ光L1よりもレーザ光の最大出力が高いが、高反射率材料のワークWに対するレーザ吸収率が低い。そのため、長波長の第2レーザ光L2では、ワークWの溶け込み深さを一定にすることが困難であり、加工品質が低下するおそれがある。 On the other hand, the long-wavelength second laser beam L2 has a higher maximum laser beam output than the short-wavelength first laser beam L1, but has a low laser absorptance with respect to the workpiece W made of a high reflectance material. Therefore, it is difficult to make the penetration depth of the workpiece W constant with the long-wavelength second laser beam L2, and there is a possibility that the machining quality may deteriorate.

そこで、本実施形態では、第1レーザ光L1及び第2レーザ光L2の出射位置を工夫することで、ワークWの加工品質及び加工速度を高めることができるようにしている。 Therefore, in the present embodiment, by devising the emission positions of the first laser beam L1 and the second laser beam L2, the machining quality and machining speed of the workpiece W can be improved.

図3に示すように、レーザ加工ヘッド20は、ワークWに対して短波長の第1レーザ光L1を出射する。レーザ開始位置では、レーザ加工ヘッド20は、短波長の第1レーザ光L1をパルス状に出射する。このように、パワー密度の低い第1レーザ光L1であっても、パルス状に繰り返し出射してトータルの出力を高めることで、ワークWが十分に予熱される。これにより、レーザ開始位置には、ワークWの一部が溶融した予熱部30が形成される。 As shown in FIG. 3, the laser processing head 20 emits a short-wavelength first laser beam L1 to the workpiece W. As shown in FIG. At the laser start position, the laser processing head 20 emits a short-wavelength first laser beam L1 in a pulsed manner. Thus, even if the first laser beam L1 has a low power density, the workpiece W is sufficiently preheated by repeatedly emitting the first laser beam L1 in a pulse shape to increase the total output. As a result, a preheating portion 30 in which a part of the workpiece W is melted is formed at the laser start position.

具体的に、レーザ加工ヘッド20は、高反射率材料に対するレーザ吸収率の高い第1レーザ光L1を、ワークWの表面に先行して出射することで、ワークWの表面を酸化させたり、ワークWの表面を先に一部溶融させる等の表面改質を行う。 Specifically, the laser processing head 20 emits the first laser beam L1, which has a high laser absorption rate with respect to a high reflectance material, prior to the surface of the work W, thereby oxidizing the surface of the work W, The surface of W is partially melted first to modify the surface.

第1検出部28は、レーザ開始位置における短波長の第1レーザ光L1の散乱光の光量を検出する。第1検出部28の検出結果は、制御部5に送られる。制御部5は、第1レーザ光L1の散乱光の光量が所定の閾値よりも小さい場合に、ワークWの予熱が十分に行われ、予熱部30が形成されたと判断する。 The first detector 28 detects the amount of scattered light of the short-wavelength first laser beam L1 at the laser start position. The detection result of the first detector 28 is sent to the controller 5 . When the amount of scattered light of the first laser beam L1 is smaller than a predetermined threshold value, the control unit 5 determines that the workpiece W has been sufficiently preheated and the preheating unit 30 has been formed.

図4に示すように、レーザ加工ヘッド20は、第1調整機構24(図1参照)の角度調整を行うことで、第1レーザ光L1の出射位置を変更する。具体的に、第1レーザ光L1は、レーザ開始位置よりも加工方向(図4で左方向)の前方に出射される。ワークWには、第1レーザ光L1の出射経路に沿って、予熱部30が形成される。 As shown in FIG. 4, the laser processing head 20 changes the emission position of the first laser beam L1 by adjusting the angle of the first adjustment mechanism 24 (see FIG. 1). Specifically, the first laser beam L1 is emitted forward in the processing direction (leftward in FIG. 4) from the laser start position. A preheating section 30 is formed in the workpiece W along the emission path of the first laser beam L1.

レーザ加工ヘッド20は、レーザ開始位置に第2レーザ光L2を出射する。レーザ開始位置は、第1レーザ光L1で予熱されているため、第2レーザ光L2がワークWに吸収されやすくなっている。レーザ開始位置には、第2レーザ光L2によって溶融池31が形成される。 The laser processing head 20 emits the second laser beam L2 to the laser start position. Since the laser start position is preheated by the first laser beam L1, the workpiece W is likely to absorb the second laser beam L2. A molten pool 31 is formed at the laser start position by the second laser beam L2.

具体的には、第1レーザ光L1の散乱光の光量が所定の閾値よりも小さい場合に、ワークWの予熱が十分に行われ、予熱部30が形成されたと判断し、レーザ加工ヘッド20は、高反射率材料のワークWに対するレーザ吸収率が高い短波長の第1レーザ光L1により、高反射率材料のワークWにおける表面改質が行われた部分に対して、その直後に追従して、パワー密度の高い、長波長の第2レーザ光L2を出射する。これにより、高反射率材料のワークWに対するレーザ吸収率の低い第2レーザ光L2が高反射率材料のワークWに吸収されやすくなる。 Specifically, when the light amount of the scattered light of the first laser beam L1 is smaller than a predetermined threshold, it is determined that the work W has been sufficiently preheated and the preheating portion 30 is formed, and the laser processing head 20 , immediately after the portion of the work W of the high reflectance material where the surface modification is performed by the short wavelength first laser light L1 having a high laser absorptance with respect to the work W of the high reflectance material. , emits a second laser beam L2 having a high power density and a long wavelength. As a result, the second laser beam L2, which has a low laser absorptance with respect to the work W made of a high reflectance material, is easily absorbed by the work W made of a high reflectance material.

図5に示すように、レーザ加工装置1は、レーザ加工ヘッド20を加工方向に移動させる。レーザ加工ヘッド20は、ワークWに対して第1レーザ光L1及び第2レーザ光L2を連続的に出射する。 As shown in FIG. 5, the laser processing apparatus 1 moves the laser processing head 20 in the processing direction. The laser processing head 20 emits the first laser beam L1 and the second laser beam L2 to the workpiece W continuously.

レーザ加工ヘッド20は、高反射率材料に対するレーザ吸収率の高い第1レーザ光L1を、ワークWの表面に先行して出射する。第1レーザ光L1が出射されることでワークWの予熱が行われ、予熱部30が形成される。 The laser processing head 20 emits the first laser beam L1, which has a high laser absorptance with respect to a high reflectance material, to the surface of the workpiece W prior to the laser beam L1. By emitting the first laser beam L1, the workpiece W is preheated, and the preheating portion 30 is formed.

レーザ加工ヘッド20は、ワークWの予熱部30に対して、パワー密度の高い第2レーザ光L2を出射する。これにより、第2レーザ光L2がワークWに吸収されやすくなり、溶融池31を短時間で作成することができる。溶融池31が凝固すると、溶接ビード32が形成され、ワークWの第1部材W1及び第2部材W2が溶接される。 The laser processing head 20 emits a second laser beam L2 having a high power density to the preheating portion 30 of the work W. As shown in FIG. Thereby, the second laser beam L2 is easily absorbed by the workpiece W, and the molten pool 31 can be formed in a short time. When the molten pool 31 solidifies, a weld bead 32 is formed and the first member W1 and the second member W2 of the workpiece W are welded.

このように、レーザ加工ヘッド20は、第1レーザ光L1の少なくとも一部を、第2レーザ光L2よりも移動方向の前方に出射して、第2レーザ光L2が吸収され易くするように、予熱部30を形成する。レーザ加工ヘッド20は、第2レーザ光L2に先行して第1レーザ光L1によりワークWの表面改質を行い、表面改質されたワークWの表面をさらに第2レーザ光L2により出射してレーザ加工する。これにより、ワークの加工品質及び加工速度を高めることができる。 In this way, the laser processing head 20 emits at least part of the first laser beam L1 forward in the moving direction relative to the second laser beam L2, so that the second laser beam L2 is easily absorbed. A preheating section 30 is formed. The laser processing head 20 modifies the surface of the work W with the first laser beam L1 prior to the second laser beam L2, and emits the surface of the work W after the surface modification with the second laser beam L2. laser processing. Thereby, the processing quality and processing speed of the workpiece can be improved.

ここで、レーザ加工ヘッド20の移動中にも、第1検出部28で短波長の第1レーザ光L1の散乱光の光量を検出することで、予熱部30が十分に形成された後、予熱部30に対して、タイミング良く安定して長波長の第2レーザ光L2を出射することができる。 Here, even during the movement of the laser processing head 20, by detecting the amount of scattered light of the short-wavelength first laser beam L1 by the first detection unit 28, preheating is performed after the preheating unit 30 is sufficiently formed. The long-wavelength second laser beam L2 can be stably emitted to the portion 30 with good timing.

図5に示すように、レーザ加工ヘッド20は、ワークWに対して第1レーザ光L1及び第2レーザ光L2を出射しながら、第1調整機構24(図1参照)の角度調整を行うことで、第1レーザ光L1の少なくとも一部を、第2レーザ光L2よりも加工方向(移動方向)の前方に出射するように、第2レーザ光L2に対して相対的に第1レーザ光L1の出射位置を変更する。第1レーザ光L1は、第2レーザ光L2よりも加工方向の前方に出射され、第2レーザ光L2は、第1レーザ光L1に対して加工方向に少なくとも追従して出射される。 As shown in FIG. 5, the laser processing head 20 emits the first laser beam L1 and the second laser beam L2 to the workpiece W while adjusting the angle of the first adjustment mechanism 24 (see FIG. 1). , the first laser beam L1 relative to the second laser beam L2 so that at least part of the first laser beam L1 is emitted forward in the processing direction (moving direction) relative to the second laser beam L2. Change the exit position of The first laser beam L1 is emitted ahead of the second laser beam L2 in the processing direction, and the second laser beam L2 is emitted so as to at least follow the first laser beam L1 in the processing direction.

より具体的に、レーザ加工ヘッド20は、第1レーザ光L1の出射位置を、前方位置と後方位置との間で変更させる。前方位置では、第1レーザ光L1が第2レーザ光L2よりも加工方向の前方に位置する。後方位置では、第1レーザ光L1が第2レーザ光L2よりも加工方向の後方に位置する。 More specifically, the laser processing head 20 changes the emission position of the first laser beam L1 between the front position and the rear position. At the front position, the first laser beam L1 is positioned ahead of the second laser beam L2 in the processing direction. At the rear position, the first laser beam L1 is positioned behind the second laser beam L2 in the processing direction.

このように、前方位置では、短波長の第1レーザ光L1でワークWの表面を少なくとも先行して表面改質として一部溶融させて荒らした後、長波長の第2レーザ光L2でワークWの仕上げ加工を行うことで、ワークWの加工品質及び加工速度を高めることができる。 In this way, at the front position, the surface of the work W is partially melted and roughened by the short-wavelength first laser beam L1 in advance as surface modification, and then the long-wavelength second laser beam L2 is used to roughen the surface of the work W. By performing the finish machining of , the machining quality and machining speed of the workpiece W can be improved.

また、後方位置では、長波長の第2レーザ光L2の後方に短波長の第1レーザ光L1を出射することで、第2レーザ光L2で加工されたワークWの加工表面をきれいにすることができる。例えば、第2レーザ光L2で溶接後に凝固した溶接ビード32に第1レーザ光L1を出射することでスラグを除去して、溶接ビード32の外観を滑らかにすることができる。また、レーザ終了位置において、第2レーザ光L2の後方に第1レーザ光L1を出射することで、クレータの発生を抑えることができる。 Further, at the rear position, the first laser beam L1 with a short wavelength is emitted behind the second laser beam L2 with a long wavelength, so that the surface of the workpiece W machined with the second laser beam L2 can be cleaned. can. For example, by emitting the first laser beam L1 to the weld bead 32 solidified after welding with the second laser beam L2, the slag can be removed and the appearance of the weld bead 32 can be made smooth. Further, by emitting the first laser beam L1 behind the second laser beam L2 at the laser end position, it is possible to suppress the occurrence of craters.

なお、本実施形態では、ワークWをレーザ溶接する場合について説明したが、ワークWをレーザ切断する場合にも適用可能である。例えば、これにより第2レーザ光L2でレーザ切断した切断面に第1レーザ光L1を出射することで、切断面をきれいにすることができる。 In this embodiment, the case of laser welding the work W has been described, but the present invention can also be applied to the case of laser cutting the work W. For example, by emitting the first laser beam L1 to the cut surface laser-cut by the second laser beam L2, the cut surface can be cleaned.

《実施形態2》
以下、前記実施形態1と同じ部分については同じ符号を付し、相違点についてのみ説明する。
<<Embodiment 2>>
In the following, the same reference numerals are given to the same parts as in the first embodiment, and only the points of difference will be described.

図6に示すように、レーザ加工ヘッド20は、第1検出部28と、第2検出部38とを有する。第1検出部28は、ワークWで反射されて第1フィルタ29を通過した短波長の第1レーザ光L1の散乱光の光量を検出する。第1検出部28の検出結果は、制御部5に送られる。 As shown in FIG. 6 , the laser processing head 20 has a first detector 28 and a second detector 38 . The first detection unit 28 detects the amount of scattered light of the short-wavelength first laser light L<b>1 that has been reflected by the workpiece W and passed through the first filter 29 . The detection result of the first detector 28 is sent to the controller 5 .

第2検出部38は、例えば、フォトダイオードで構成される。第2検出部38は、ワークWの加工位置における溶融状態を示すデータを検出する。ここで、第2検出部38が検出する溶融状態を示すデータとは、ワークWで反射された長波長の第2レーザ光L2の散乱光の光量である。 The second detector 38 is composed of, for example, a photodiode. The second detection unit 38 detects data indicating the melting state of the workpiece W at the processing position. Here, the data indicating the molten state detected by the second detection unit 38 is the amount of scattered light of the long-wavelength second laser beam L2 reflected by the workpiece W. As shown in FIG.

第2検出部38とワークWとの間には、第2フィルタ39が配置される。第2フィルタ39は、ワークWで反射された短波長の第1レーザ光L1の散乱光を遮光する一方、長波長の第2レーザ光L2の散乱光を通過させる。 A second filter 39 is arranged between the second detector 38 and the workpiece W. As shown in FIG. The second filter 39 shields the scattered light of the first short-wavelength laser beam L1 reflected by the workpiece W, while allowing the scattered light of the second long-wavelength laser beam L2 to pass through.

第2検出部38は、第2フィルタ39を通過した長波長の第2レーザ光L2の散乱光の光量を検出する。第2検出部38の検出結果は、制御部5に送られる。 The second detector 38 detects the amount of scattered light of the long-wavelength second laser beam L2 that has passed through the second filter 39 . The detection result of the second detection section 38 is sent to the control section 5 .

制御部5は、第2検出部38で検出された長波長の第2レーザ光L2の散乱光の光量が所定の閾値よりも小さい場合に、第2レーザ光L2の出力を上げるように、第2レーザ発振器12の動作を制御する。 When the amount of scattered light of the long-wavelength second laser beam L2 detected by the second detection unit 38 is smaller than a predetermined threshold value, the control unit 5 controls the second laser beam L2 so as to increase the output power of the second laser beam L2. 2 controls the operation of the laser oscillator 12;

具体的に、長波長の第2レーザ光L2の散乱光の光量は、ワークWの表面の溶融状態に応じて変化する。例えば、ワークWの表面が第2レーザ光L2で十分に溶融されていない場合、第2レーザ光L2の散乱光の光量が大きくなる。一方、ワークWの表面が第2レーザ光L2で十分に溶融されている場合、第2レーザ光L2の散乱光の光量が小さくなる。 Specifically, the amount of scattered light of the long-wavelength second laser beam L2 changes according to the melted state of the surface of the workpiece W. As shown in FIG. For example, when the surface of the workpiece W is not sufficiently melted by the second laser beam L2, the amount of scattered light of the second laser beam L2 increases. On the other hand, when the surface of the workpiece W is sufficiently melted by the second laser beam L2, the amount of scattered light of the second laser beam L2 is reduced.

そこで、長波長の第2レーザ光L2を低出力で出射した後、ワークWが溶融したことを第2検出部38で検出された長波長の第2レーザ光L2の散乱光の光量に基づいて判断し、第2レーザ光L2の出力を段階的又は徐々に高めてワークWの加工を行うことで、スパッタの発生を抑制するとともにワークWの加工品質及び加工速度を高めることができる。 Therefore, after emitting the long-wavelength second laser beam L2 at a low output, the melting of the workpiece W is detected by the second detection unit 38 based on the amount of scattered light of the long-wavelength second laser beam L2. By determining and processing the work W by increasing the output of the second laser beam L2 stepwise or gradually, it is possible to suppress the occurrence of spatter and increase the processing quality and processing speed of the work W.

-実施形態2の変形例1-
図6に示すレーザ加工装置1において、制御部5は、第2検出部38で検出された長波長の第2レーザ光L2の散乱光の光量が所定の閾値よりも高い場合に、ワークWの加工位置に第1レーザ光L1を出射するように、レーザ加工ヘッド20の動作を制御する。
-Modification 1 of Embodiment 2-
In the laser processing apparatus 1 shown in FIG. 6, the control unit 5 detects the amount of scattered light of the long-wavelength second laser beam L2 detected by the second detection unit 38 is higher than a predetermined threshold value. The operation of the laser processing head 20 is controlled so as to emit the first laser beam L1 to the processing position.

これにより、長波長の第2レーザ光L2をワークWに出射した後、ワークWが十分に溶融していないことを、第2検出部38で検出された長波長の第2レーザ光L2の散乱光の光量に基づいて判断し、高反射材料のワークWの加工位置に短波長の第1レーザ光L1を出射することで、高反射材料のワークWの溶融を促進することができる。 As a result, after the long-wavelength second laser beam L2 is emitted to the work W, the second detection unit 38 detects that the work W is not sufficiently melted. By emitting the short-wave first laser beam L1 to the processing position of the workpiece W made of a highly reflective material based on the amount of light, the melting of the workpiece W made of a highly reflective material can be promoted.

-実施形態2の変形例2-
図6に示すレーザ加工装置1において、制御部5は、第2検出部38で検出された長波長の第2レーザ光L2の散乱光の光量が所定の閾値よりも高い場合に、短波長の第1レーザ光L1の出力を段階的又は徐々に上げるように、第1レーザ発振器11の動作を制御する。
-Modification 2 of Embodiment 2-
In the laser processing apparatus 1 shown in FIG. 6 , the control unit 5 controls when the amount of scattered light of the long-wavelength second laser beam L2 detected by the second detection unit 38 is higher than a predetermined threshold value. The operation of the first laser oscillator 11 is controlled so as to increase the output of the first laser light L1 stepwise or gradually.

これにより、長波長の第2レーザ光L2を高反射材料のワークWに出射した後、ワークWが十分に溶融していないことを、第2検出部38で検出された長波長の第2レーザ光L2の散乱光の光量に基づいて判断し、短波長の第1レーザ光L1を高出力で出射してワークWの予熱を十分に行うことで、スパッタを抑制して高反射材料のワークWの溶融を促進することができる。 As a result, after the long-wavelength second laser beam L2 is emitted to the workpiece W made of the highly reflective material, the second long-wavelength laser beam L2 detected by the second detector 38 detects that the workpiece W is not sufficiently melted. Based on the amount of scattered light of the light L2, the first laser beam L1 with a short wavelength is emitted at a high output to sufficiently preheat the work W, thereby suppressing spatter and making the work W of a highly reflective material. can promote the melting of

-実施形態2の変形例3-
図6に示すレーザ加工装置1において、制御部5は、第2検出部38で検出された長波長の第2レーザ光L2の散乱光の光量が所定の上限値よりも高い場合に、第2レーザ光L2の出力を停止するように、第2レーザ発振器12の動作を制御する(図7参照)。
-Modification 3 of Embodiment 2-
In the laser processing apparatus 1 shown in FIG. 6, the controller 5 controls the second laser beam L2 when the amount of scattered light of the long-wavelength second laser beam L2 detected by the second detector 38 is higher than a predetermined upper limit value. The operation of the second laser oscillator 12 is controlled so as to stop the output of the laser light L2 (see FIG. 7).

これにより、ワークWで反射された高出力な第2レーザ光L2の散乱光がレーザ加工ヘッド20に照射されてしまい、レーザ加工ヘッド20が破損するのを抑えることができる。 As a result, it is possible to prevent the laser processing head 20 from being damaged due to the scattered light of the high-power second laser beam L2 reflected by the workpiece W being irradiated to the laser processing head 20 .

なお、第1レーザ発振器11については、レーザ発振を継続させ、短波長の第1レーザ光L1でワークWを予熱することで、高反射材料のワークWの溶融を促進するようにすればよい。 The first laser oscillator 11 continues laser oscillation and preheats the workpiece W with the first laser beam L1 having a short wavelength, thereby promoting the melting of the workpiece W made of a highly reflective material.

《その他の実施形態》
前記実施形態については、以下のような構成としてもよい。
<<Other embodiments>>
The above embodiment may be configured as follows.

本実施形態では、第1検出部28及び第2検出部38をフォトダイオードで構成したが、この形態に限定するものではない。例えば、第1検出部28及び第2検出部38として、カメラ、温度センサ、光干渉計などを用いてもよい。 In the present embodiment, the first detection section 28 and the second detection section 38 are composed of photodiodes, but the configuration is not limited to this. For example, a camera, a temperature sensor, an optical interferometer, etc. may be used as the first detection unit 28 and the second detection unit 38 .

例えば、カメラを用いた場合、ワークWの溶融状態を示すデータは、ワークWの加工位置に形成された予熱部30又は溶融池31の輪郭を撮像した撮像データである。そして、予熱部30又は溶融池31の外径が所定の閾値(例えば、第2レーザ光L2のビーム径)よりも大きい場合に、ワークWが十分に溶融していると判断すればよい。 For example, when a camera is used, the data indicating the molten state of the work W is imaging data obtained by imaging the outline of the preheating portion 30 or the molten pool 31 formed at the processing position of the work W. Then, when the outer diameter of the preheating portion 30 or the molten pool 31 is larger than a predetermined threshold value (for example, the beam diameter of the second laser beam L2), it can be determined that the workpiece W is sufficiently melted.

また、温度センサを用いた場合、ワークWの溶融状態を示すデータは、ワークWの加工位置の温度である。そして、ワークWの加工位置の温度が所定の閾値(例えば、ワークWの融点)よりも大きい場合に、ワークWが十分に溶融していると判断すればよい。 Further, when a temperature sensor is used, the data indicating the molten state of the work W is the temperature of the work W at the processing position. Then, if the temperature of the workpiece W to be processed is higher than a predetermined threshold value (for example, the melting point of the workpiece W), it can be determined that the workpiece W is sufficiently melted.

また、光干渉計を用いた場合、ワークWの溶融状態を示すデータは、ワークWの加工位置に形成された溶融池31のキーホールの溶け込み深さである。なお、キーホールの溶け込み深さがそれほど深くない場合には、溶融池31の表面の揺れを計測する。そして、キーホールの溶け込み深さ、又は溶融池31の表面の揺れが所定の閾値よりも大きい場合に、ワークWが十分に溶融していると判断すればよい。 Further, when an optical interferometer is used, the data indicating the molten state of the workpiece W is the penetration depth of the keyhole of the molten pool 31 formed at the processing position of the workpiece W. FIG. If the penetration depth of the keyhole is not so deep, the vibration of the surface of the molten pool 31 is measured. Then, if the penetration depth of the keyhole or the vibration of the surface of the molten pool 31 is greater than a predetermined threshold value, it can be determined that the workpiece W is sufficiently melted.

本実施形態では、ロボット2でレーザ加工ヘッド20を移動させ、ワークWに対するレーザ加工ヘッド20の位置を変更するようにしたが、この形態に限定するものではない。例えば、ワークWを移動テーブル(図示省略)に搭載して、レーザ加工ヘッド20に対して、ワークWを相対的に移動させる構成であってもよい。 In this embodiment, the robot 2 moves the laser processing head 20 to change the position of the laser processing head 20 with respect to the workpiece W, but the present invention is not limited to this form. For example, the work W may be mounted on a moving table (not shown), and the work W may be moved relative to the laser processing head 20 .

また、レーザ加工ヘッド20とワークWを搭載した移動テーブルとを相対的に移動させ、ワークWに対して相対的に第1レーザ光L1及び第2レーザ光L2を移動させて加工する構成であっても良い。 In addition, the laser processing head 20 and the moving table on which the work W is mounted are relatively moved, and the first laser beam L1 and the second laser beam L2 are moved relatively to the work W for processing. can be

本実施形態では、1つのレーザ加工ヘッド20から短波長の第1レーザ光L1及び長波長の第2レーザ光L2を出射するようにした形態について説明したが、この形態に限定するものではない。例えば、短波長の第1レーザ光L1を出射するレーザ加工ヘッドと、長波長の第2レーザ光L2を出射するレーザ加工ヘッドとを別々に設けた構成であってもよい。 In the present embodiment, a configuration in which the short-wavelength first laser beam L1 and the long-wavelength second laser beam L2 are emitted from one laser processing head 20 has been described, but the present invention is not limited to this configuration. For example, a configuration in which a laser processing head that emits the short-wavelength first laser beam L1 and a laser processing head that emits the long-wavelength second laser beam L2 are provided separately may be used.

以上説明したように、本発明は、ワークの加工品質及び加工速度を高めることができるという実用性の高い効果が得られることから、きわめて有用で産業上の利用可能性は高い。 INDUSTRIAL APPLICABILITY As described above, the present invention is extremely useful and has high industrial applicability because it can obtain the highly practical effect of being able to improve the machining quality and machining speed of a workpiece.

1 レーザ加工装置
5 制御部
11 第1レーザ発振器
12 第2レーザ発振器
20 レーザ加工ヘッド
21 第1コリメートレンズ
22 第2コリメートレンズ
24 第1調整機構
25 第2調整機構
26 ダイクロイックミラー(第1光学部材)
27 fθレンズ(第2光学部材)
28 第1検出部
38 第2検出部
L1 第1レーザ光
L2 第2レーザ光
W ワーク
Reference Signs List 1 laser processing device 5 control section 11 first laser oscillator 12 second laser oscillator 20 laser processing head 21 first collimator lens 22 second collimator lens 24 first adjustment mechanism 25 second adjustment mechanism 26 dichroic mirror (first optical member)
27 fθ lens (second optical member)
28 first detector 38 second detector L1 first laser beam L2 second laser beam W workpiece

Claims (9)

レーザ光を出射してワークを加工するレーザ加工装置であって、
第1レーザ光を発振する第1レーザ発振器と、
前記第1レーザ光よりも波長の長い第2レーザ光を発振する第2レーザ発振器と、
前記第1レーザ発振器及び前記第2レーザ発振器から入射された前記第1レーザ光及び前記第2レーザ光を、前記ワークに対して出射するレーザ加工ヘッドとを備え、
前記レーザ加工ヘッドは、
前記第1レーザ光を平行化する第1コリメートレンズと、
前記第2レーザ光を平行化する第2コリメートレンズと、
前記第1コリメートレンズ及び前記第2コリメートレンズを通過した前記第1レーザ光及び前記第2レーザ光を重ね合わせる第1光学部材と、
前記第1光学部材で重ね合わされた前記第1レーザ光及び前記第2レーザ光を前記ワークに向けて集光させる第2光学部材と、
前記第1光学部材に対する前記第1レーザ光の入射位置を調整して、前記第2レーザ光に対する前記第1レーザ光の出射位置を相対的に変更する第1調整機構とを有する
ことを特徴とするレーザ加工装置。
A laser processing device that processes a workpiece by emitting a laser beam,
a first laser oscillator that oscillates a first laser beam;
a second laser oscillator that oscillates a second laser beam having a wavelength longer than that of the first laser beam;
a laser processing head that emits the first laser beam and the second laser beam incident from the first laser oscillator and the second laser oscillator to the work,
The laser processing head is
a first collimating lens that parallelizes the first laser light;
a second collimating lens that parallelizes the second laser light;
a first optical member that superimposes the first laser light and the second laser light that have passed through the first collimating lens and the second collimating lens;
a second optical member for focusing the first laser beam and the second laser beam superimposed by the first optical member toward the workpiece;
and a first adjustment mechanism that adjusts the incident position of the first laser beam with respect to the first optical member and relatively changes the emission position of the first laser beam with respect to the second laser beam. laser processing equipment.
請求項1において、
前記第1光学部材に対する前記第2レーザ光の入射位置を調整して、前記第1レーザ光に対する前記第2レーザ光の出射位置を相対的に変更する第2調整機構を備えた
ことを特徴とするレーザ加工装置。
In claim 1,
A second adjustment mechanism is provided for adjusting the incident position of the second laser beam with respect to the first optical member and relatively changing the emission position of the second laser beam with respect to the first laser beam. laser processing equipment.
請求項1又は2において、
前記ワークの加工位置における溶融状態を示すデータを検出する検出部と、
前記検出部で検出されたデータに基づいて、前記レーザ加工ヘッド、前記第1レーザ発振器、及び前記第2レーザ発振器のうち少なくとも1つの動作を制御する制御部とを備えた
ことを特徴とするレーザ加工装置。
In claim 1 or 2,
a detection unit that detects data indicating a molten state at the processing position of the workpiece;
and a controller for controlling the operation of at least one of the laser processing head, the first laser oscillator, and the second laser oscillator based on data detected by the detector. processing equipment.
請求項3において、
前記検出部は、前記第1レーザ光に対応する前記ワークの加工位置における溶融状態を示すデータを検出する第1検出部を含み、
前記第1レーザ発振器を発振する一方、前記第2レーザ発振器を停止することで、前記レーザ加工ヘッドから前記第1レーザ光が出射され、
前記第1検出部では、前記ワークで反射された前記第1レーザ光の散乱光の光量が検出され、
前記制御部は、前記第1検出部で検出された前記散乱光の光量が所定の閾値よりも低い場合に、前記第2レーザ発振器を発振させ、前記レーザ加工ヘッドから前記ワークの加工位置に前記第2レーザ光を出射させる
ことを特徴とするレーザ加工装置。
In claim 3,
The detection unit includes a first detection unit that detects data indicating a melted state at a processing position of the workpiece corresponding to the first laser beam,
By oscillating the first laser oscillator and stopping the second laser oscillator, the first laser beam is emitted from the laser processing head,
The first detection unit detects the amount of scattered light of the first laser beam reflected by the workpiece,
The control unit causes the second laser oscillator to oscillate when the light amount of the scattered light detected by the first detection unit is lower than a predetermined threshold value, and moves the laser beam from the laser processing head to the processing position of the workpiece. A laser processing apparatus that emits a second laser beam.
請求項3において、
前記検出部は、前記第2レーザ光に対応する前記ワークの加工位置における溶融状態を示すデータを検出する第2検出部を含み、
前記第1レーザ発振器及び前記第2レーザ発振器を発振することで、前記レーザ加工ヘッドから前記第1レーザ光及び前記第2レーザ光が出射され、
前記第2検出部では、前記ワークで反射された前記第2レーザ光の散乱光の光量が検出され、
前記制御部は、前記第2検出部で検出された前記散乱光の光量が所定の閾値よりも低い場合に、前記第2レーザ光の出力を段階的又は徐々に上げるように、前記第2レーザ発振器の動作を制御する
ことを特徴とするレーザ加工装置。
In claim 3,
The detection unit includes a second detection unit that detects data indicating a melted state at a processing position of the workpiece corresponding to the second laser beam,
By oscillating the first laser oscillator and the second laser oscillator, the first laser beam and the second laser beam are emitted from the laser processing head,
The second detection unit detects the amount of scattered light of the second laser beam reflected by the workpiece,
The control unit controls the second laser beam so as to increase the output of the second laser beam stepwise or gradually when the amount of the scattered light detected by the second detection unit is lower than a predetermined threshold value. A laser processing apparatus characterized by controlling the operation of an oscillator.
請求項3において、
前記検出部は、前記第2レーザ光に対応する前記ワークの加工位置における溶融状態を示すデータを検出する第2検出部を含み、
前記第1レーザ発振器及び前記第2レーザ発振器を発振することで、前記レーザ加工ヘッドから前記第1レーザ光及び前記第2レーザ光が出射され、
前記第2検出部では、前記ワークで反射された前記第2レーザ光の散乱光の光量が検出され、
前記制御部は、前記第2検出部で検出された前記散乱光の光量が所定の閾値よりも高い場合に、前記ワークの加工位置に前記第1レーザ光を出射するように、前記レーザ加工ヘッドの動作を制御する
ことを特徴とするレーザ加工装置。
In claim 3,
The detection unit includes a second detection unit that detects data indicating a melted state at a processing position of the workpiece corresponding to the second laser beam,
By oscillating the first laser oscillator and the second laser oscillator, the first laser beam and the second laser beam are emitted from the laser processing head,
The second detection unit detects the amount of scattered light of the second laser beam reflected by the workpiece,
The control unit controls the laser processing head so as to emit the first laser beam to a processing position of the workpiece when the amount of the scattered light detected by the second detection unit is higher than a predetermined threshold value. A laser processing device characterized by controlling the operation of
請求項3において、
前記検出部は、前記第2レーザ光に対応する前記ワークの加工位置における溶融状態を示すデータを検出する第2検出部を含み、
前記第1レーザ発振器及び前記第2レーザ発振器を発振することで、前記レーザ加工ヘッドから前記第1レーザ光及び前記第2レーザ光が出射され、
前記第2検出部では、前記ワークで反射された前記第2レーザ光の散乱光の光量が検出され、
前記制御部は、前記第2検出部で検出された前記散乱光の光量が所定の閾値よりも高い場合に、前記第1レーザ光の出力を段階的又は徐々に上げるように、前記第1レーザ発振器の動作を制御する
ことを特徴とするレーザ加工装置。
In claim 3,
The detection unit includes a second detection unit that detects data indicating a melted state at a processing position of the workpiece corresponding to the second laser beam,
By oscillating the first laser oscillator and the second laser oscillator, the first laser beam and the second laser beam are emitted from the laser processing head,
The second detection unit detects the amount of scattered light of the second laser beam reflected by the workpiece,
The controller controls the first laser beam so as to increase the output of the first laser beam stepwise or gradually when the amount of the scattered light detected by the second detector is higher than a predetermined threshold value. A laser processing apparatus characterized by controlling the operation of an oscillator.
請求項3において、
前記検出部は、前記第2レーザ光に対応する前記ワークの加工位置における溶融状態を示すデータを検出する第2検出部を含み、
前記第1レーザ発振器及び前記第2レーザ発振器を発振することで、前記レーザ加工ヘッドから前記第1レーザ光及び前記第2レーザ光が出射され、
前記第2検出部では、前記ワークで反射された前記第2レーザ光の散乱光の光量が検出され、
前記制御部は、前記第2検出部で検出された前記散乱光の光量が所定の上限値よりも高い場合に、前記第2レーザ光の出力を停止するように、前記第2レーザ発振器の動作を制御する
ことを特徴とするレーザ加工装置。
In claim 3,
The detection unit includes a second detection unit that detects data indicating a melted state at a processing position of the workpiece corresponding to the second laser beam,
By oscillating the first laser oscillator and the second laser oscillator, the first laser beam and the second laser beam are emitted from the laser processing head,
The second detection unit detects the amount of scattered light of the second laser beam reflected by the workpiece,
The control unit operates the second laser oscillator to stop outputting the second laser light when the amount of the scattered light detected by the second detection unit is higher than a predetermined upper limit. A laser processing device characterized by controlling
請求項3乃至8のうち何れか1つにおいて、
前記検出部は、フォトダイオードで構成されている
ことを特徴とするレーザ加工装置。
In any one of claims 3 to 8,
A laser processing apparatus, wherein the detection unit is composed of a photodiode.
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