JP2023107228A - 量子ドット、量子ドット分散液、光変換硬化性組成物、前記組成物を用いて形成される硬化膜および前記硬化膜を含む画像表示装置 - Google Patents
量子ドット、量子ドット分散液、光変換硬化性組成物、前記組成物を用いて形成される硬化膜および前記硬化膜を含む画像表示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2023107228A JP2023107228A JP2023006599A JP2023006599A JP2023107228A JP 2023107228 A JP2023107228 A JP 2023107228A JP 2023006599 A JP2023006599 A JP 2023006599A JP 2023006599 A JP2023006599 A JP 2023006599A JP 2023107228 A JP2023107228 A JP 2023107228A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- quantum dot
- curable composition
- carbon atoms
- chemical formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 title claims abstract description 134
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 79
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 title claims abstract description 22
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title abstract 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 87
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims abstract description 55
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 21
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 20
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 claims abstract description 17
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 claims abstract 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 63
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M acrylate group Chemical group C(C=C)(=O)[O-] NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 41
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 39
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 31
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 29
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 24
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 claims description 13
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 claims description 9
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 8
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 claims description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 37
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 9
- -1 thiol compound Chemical class 0.000 description 29
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 18
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 17
- GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N Indium phosphide Chemical compound [In]#P GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 16
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 16
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical compound [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000003396 thiol group Chemical class [H]S* 0.000 description 9
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 8
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 8
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 6
- 238000007739 conversion coating Methods 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000013110 organic ligand Substances 0.000 description 6
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 6
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 6
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910005540 GaP Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 238000011161 development Methods 0.000 description 4
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 229920000307 polymer substrate Polymers 0.000 description 4
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 4
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007704 wet chemistry method Methods 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910004613 CdTe Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910007709 ZnTe Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 3
- UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);selenium(2-) Chemical compound [Se-2].[Cd+2] UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- RMZAYIKUYWXQPB-UHFFFAOYSA-N trioctylphosphane Chemical compound CCCCCCCCP(CCCCCCCC)CCCCCCCC RMZAYIKUYWXQPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YBNMDCCMCLUHBL-UHFFFAOYSA-N (2,5-dioxopyrrolidin-1-yl) 4-pyren-1-ylbutanoate Chemical compound C=1C=C(C2=C34)C=CC3=CC=CC4=CC=C2C=1CCCC(=O)ON1C(=O)CCC1=O YBNMDCCMCLUHBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HHQAGBQXOWLTLL-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-3-phenoxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(O)COC1=CC=CC=C1 HHQAGBQXOWLTLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CLLLODNOQBVIMS-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)acetic acid Chemical compound COCCOCC(O)=O CLLLODNOQBVIMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOC(=O)C=C LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YHBWXWLDOKIVCJ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]acetic acid Chemical compound COCCOCCOCC(O)=O YHBWXWLDOKIVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MSXXDBCLAKQJQT-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-6-methyl-4-[3-(2,4,8,10-tetratert-butylbenzo[d][1,3,2]benzodioxaphosphepin-6-yl)oxypropyl]phenol Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C)=CC(CCCOP2OC3=C(C=C(C=C3C=3C=C(C=C(C=3O2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 MSXXDBCLAKQJQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YHFGMFYKZBWPRW-UHFFFAOYSA-N 3-methylpentane-1,1-diol Chemical compound CCC(C)CC(O)O YHFGMFYKZBWPRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUARGSTVFSLPEL-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]-4-oxobutanoic acid Chemical compound COCCOCCOC(=O)CCC(O)=O XUARGSTVFSLPEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004262 HgTe Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000673 Indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MKYBYDHXWVHEJW-UHFFFAOYSA-N N-[1-oxo-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propan-2-yl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(C(C)NC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 MKYBYDHXWVHEJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N N-[2-oxo-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002665 PbTe Inorganic materials 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N [3-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]-2,2-bis[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxymethyl]propyl] 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCC(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N acetic acid;zinc Chemical compound [Zn].CC(O)=O.CC(O)=O ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N anhydrous diethylene glycol Natural products OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OCC BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910021480 group 4 element Inorganic materials 0.000 description 2
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N indium arsenide Chemical compound [In]#[As] RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 2
- 238000001451 molecular beam epitaxy Methods 0.000 description 2
- XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N n,n-dioctyloctan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN(CCCCCCCC)CCCCCCCC XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SSDSCDGVMJFTEQ-UHFFFAOYSA-N octadecyl 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 SSDSCDGVMJFTEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N pentyl acetate Chemical compound CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002530 phenolic antioxidant Substances 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 2
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 2
- OCGWQDWYSQAFTO-UHFFFAOYSA-N tellanylidenelead Chemical compound [Pb]=[Te] OCGWQDWYSQAFTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 2
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OUMZKMRZMVDEOF-UHFFFAOYSA-N tris(trimethylsilyl)phosphane Chemical compound C[Si](C)(C)P([Si](C)(C)C)[Si](C)(C)C OUMZKMRZMVDEOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012855 volatile organic compound Substances 0.000 description 2
- 239000004246 zinc acetate Substances 0.000 description 2
- JLLAWIKMLAQZCZ-UHFFFAOYSA-N (2,6-dichlorophenyl)-diphenylphosphorylmethanone Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 JLLAWIKMLAQZCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUEDCWGEKSLKOM-UHFFFAOYSA-N (2,6-dimethoxyphenyl)-diphenylphosphorylmethanone Chemical compound COC1=CC=CC(OC)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 SUEDCWGEKSLKOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQWIEBKHVLRDRG-UHFFFAOYSA-N (2,6-dimethylphenyl)-diphenylphosphorylmethanone Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 SQWIEBKHVLRDRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGASRBUYZODJTG-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(2,4-ditert-butylphenyl)-2,2-bis(hydroxymethyl)propane-1,3-diol dihydroxyphosphanyl dihydrogen phosphite Chemical compound OP(O)OP(O)O.C(C)(C)(C)C1=C(C=CC(=C1)C(C)(C)C)C(O)(C(CO)(CO)CO)C1=C(C=C(C=C1)C(C)(C)C)C(C)(C)C RGASRBUYZODJTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIWGJFPJRAEKMK-UHFFFAOYSA-N 1-(2H-benzotriazol-5-yl)-3-methyl-8-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carbonyl]-1,3,8-triazaspiro[4.5]decane-2,4-dione Chemical compound CN1C(=O)N(c2ccc3n[nH]nc3c2)C2(CCN(CC2)C(=O)c2cnc(NCc3cccc(OC(F)(F)F)c3)nc2)C1=O YIWGJFPJRAEKMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOSYZBKXUPJYPR-UHFFFAOYSA-N 1-(4-methylsulfanylphenyl)butan-1-one Chemical compound CCCC(=O)C1=CC=C(SC)C=C1 UOSYZBKXUPJYPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOGFHOWTVGAYFK-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-propoxyethoxy)ethoxy]propane Chemical compound CCCOCCOCCOCCC BOGFHOWTVGAYFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHVCGSUZBJVDAE-UHFFFAOYSA-N 1-[4,5-diphenyl-2-(2,4,6-tribromophenyl)imidazol-2-yl]-4,5-diphenyl-2-(2,4,6-tribromophenyl)imidazole Chemical compound BrC1=CC(Br)=CC(Br)=C1C(N1C2(N=C(C(=N2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC(Br)=CC=2Br)Br)=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 WHVCGSUZBJVDAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWEAGLZFYKQPLZ-UHFFFAOYSA-N 1-[4,5-diphenyl-2-(2,4,6-trichlorophenyl)imidazol-2-yl]-4,5-diphenyl-2-(2,4,6-trichlorophenyl)imidazole Chemical compound ClC1=CC(Cl)=CC(Cl)=C1C(N1C2(N=C(C(=N2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC(Cl)=CC=2Cl)Cl)=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 RWEAGLZFYKQPLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-ol Chemical compound CCCCOCC(C)O RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKQJCUYEEABXNK-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-propoxythioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(OCCC)=CC=C2Cl VKQJCUYEEABXNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C(C)C YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCCOCC(C)OC(C)=O DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1-phenylethanone Chemical compound CCOC(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTFXHGBOGGGYDO-UHFFFAOYSA-N 2,4-bis(dodecylsulfanylmethyl)-6-methylphenol Chemical compound CCCCCCCCCCCCSCC1=CC(C)=C(O)C(CSCCCCCCCCCCCC)=C1 VTFXHGBOGGGYDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRKORVYTKKLNKX-UHFFFAOYSA-N 2,4-di(propan-2-yl)thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC(C(C)C)=C3SC2=C1 BRKORVYTKKLNKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXCIJKOCUAQMKD-UHFFFAOYSA-N 2,4-dichlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC(Cl)=C3SC2=C1 UXCIJKOCUAQMKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IETCLBGYEVVQQL-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dibromophenyl)-1-[2-(2,4-dibromophenyl)-4,5-diphenylimidazol-2-yl]-4,5-diphenylimidazole Chemical compound BrC1=CC(Br)=CC=C1C(N1C2(N=C(C(=N2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC(Br)=CC=2)Br)=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 IETCLBGYEVVQQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKQRNTIBBOTABS-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dichlorophenyl)-1-[2-(2,4-dichlorophenyl)-4,5-diphenylimidazol-2-yl]-4,5-diphenylimidazole Chemical compound ClC1=CC(Cl)=CC=C1C(N1C2(N=C(C(=N2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC(Cl)=CC=2)Cl)=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 JKQRNTIBBOTABS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXDUDCEMGIERQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-bromophenyl)-3-[2-(2-bromophenyl)-4-phenylimidazol-2-yl]-4,5,5-triphenyl-4H-imidazole Chemical compound BrC1=C(C=CC=C1)C=1N(C(C(N1)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)C1(N=C(C=N1)C1=CC=CC=C1)C1=C(C=CC=C1)Br GOXDUDCEMGIERQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHDULSOPQSUKBQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-chlorophenyl)-1-[2-(2-chlorophenyl)-4,5-diphenylimidazol-2-yl]-4,5-diphenylimidazole Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C(N1C2(N=C(C(=N2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC=CC=2)Cl)=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 MHDULSOPQSUKBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVNIIPIYHHEXQA-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxynaphthalen-1-yl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C12=CC=CC=C2C(OC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 FVNIIPIYHHEXQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 2-Hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCCO)C=C1 GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCNPOZMLKGDJGP-QPJJXVBHSA-N 2-[(e)-2-(4-methoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1\C=C\C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 MCNPOZMLKGDJGP-QPJJXVBHSA-N 0.000 description 1
- ZJRNXDIVAGHETA-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(3,4-dimethoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=C(OC)C(OC)=CC=C1C=CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 ZJRNXDIVAGHETA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOPKKHCDIAYUSK-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(5-methylfuran-2-yl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound O1C(C)=CC=C1C=CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 XOPKKHCDIAYUSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNDRGJCVJPHPOZ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(furan-2-yl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C=CC=2OC=CC=2)=N1 PNDRGJCVJPHPOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFBJXXJYHWLXRM-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]ethylsulfanyl]ethyl 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCCSCCOC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 VFBJXXJYHWLXRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJBSPUKPEDBNKQ-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-(4-prop-1-en-2-ylphenyl)propan-1-one Chemical compound CC(=C)C1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 IJBSPUKPEDBNKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTWMOXVOZINGCS-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyimino-2-(4-methylsulfanylphenyl)acetic acid Chemical compound ON=C(C(=O)O)C1=CC=C(C=C1)SC MTWMOXVOZINGCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4-phenylpyridine Chemical compound C1=NC(C)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 2-methylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3SC2=C1 MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 2-propoxyethanol Chemical compound CCCOCCO YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYYQKWASBLTRIW-UHFFFAOYSA-N 2-trimethoxysilylbenzoic acid Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1C(O)=O WYYQKWASBLTRIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIBRSVLEQRWAEG-UHFFFAOYSA-N 3,9-bis(2,4-ditert-butylphenoxy)-2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro[5.5]undecane Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OP1OCC2(COP(OC=3C(=CC(=CC=3)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC2)CO1 AIBRSVLEQRWAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDMRLRNXHLPZJN-UHFFFAOYSA-N 3-propoxypropan-1-ol Chemical compound CCCOCCCO LDMRLRNXHLPZJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLLOXKZNPPDLGM-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazin-2-yl]ethenyl]-n,n-diethyl-3-methylaniline Chemical compound CC1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C=CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 BLLOXKZNPPDLGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILKGEOVHANZEFC-UHFFFAOYSA-N 4-ethoxybenzenesulfonamide Chemical compound CCOC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 ILKGEOVHANZEFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKVYHNPVKUNCJM-UHFFFAOYSA-N 4-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(C(C)C)=CC=C2 IKVYHNPVKUNCJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPQXNTOALKRJMH-UHFFFAOYSA-N 5-methoxypentyl acetate Chemical compound COCCCCCOC(C)=O JPQXNTOALKRJMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017083 AlN Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017115 AlSb Inorganic materials 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910004611 CdZnTe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- GHKOFFNLGXMVNJ-UHFFFAOYSA-N Didodecyl thiobispropanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)CCSCCC(=O)OCCCCCCCCCCCC GHKOFFNLGXMVNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- ZMDDERVSCYEKPQ-UHFFFAOYSA-N Ethyl (mesitylcarbonyl)phenylphosphinate Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(=O)(OCC)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C ZMDDERVSCYEKPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910005542 GaSb Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000764773 Inna Species 0.000 description 1
- VAYOSLLFUXYJDT-RDTXWAMCSA-N Lysergic acid diethylamide Chemical compound C1=CC(C=2[C@H](N(C)C[C@@H](C=2)C(=O)N(CC)CC)C2)=C3C2=CNC3=C1 VAYOSLLFUXYJDT-RDTXWAMCSA-N 0.000 description 1
- 229910000661 Mercury cadmium telluride Inorganic materials 0.000 description 1
- NQSMEZJWJJVYOI-UHFFFAOYSA-N Methyl 2-benzoylbenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 NQSMEZJWJJVYOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCUFZILGIRCDQQ-KRWDZBQOSA-N N-[[(5S)-2-oxo-3-(2-oxo-3H-1,3-benzoxazol-6-yl)-1,3-oxazolidin-5-yl]methyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C1O[C@H](CN1C1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1)CNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F VCUFZILGIRCDQQ-KRWDZBQOSA-N 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 description 1
- JKIJEFPNVSHHEI-UHFFFAOYSA-N Phenol, 2,4-bis(1,1-dimethylethyl)-, phosphite (3:1) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OP(OC=1C(=CC(=CC=1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1C(C)(C)C JKIJEFPNVSHHEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 229920012266 Poly(ether sulfone) PES Polymers 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000577 Silicon-germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005642 SnTe Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N ZrO Inorganic materials [Zr]=O GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFOXEOLGJPJZAA-UHFFFAOYSA-N [(2,6-dimethoxybenzoyl)-(2,4,4-trimethylpentyl)phosphoryl]-(2,6-dimethoxyphenyl)methanone Chemical compound COC1=CC=CC(OC)=C1C(=O)P(=O)(CC(C)CC(C)(C)C)C(=O)C1=C(OC)C=CC=C1OC LFOXEOLGJPJZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEEVRZDUPHZSOX-WPWMEQJKSA-N [(e)-1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)carbazol-3-yl]ethylideneamino] acetate Chemical compound C=1C=C2N(CC)C3=CC=C(C(\C)=N\OC(C)=O)C=C3C2=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1C SEEVRZDUPHZSOX-WPWMEQJKSA-N 0.000 description 1
- JAWMENYCRQKKJY-UHFFFAOYSA-N [3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-ylmethyl)-1-oxa-2,8-diazaspiro[4.5]dec-2-en-8-yl]-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]methanone Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CC1=NOC2(C1)CCN(CC2)C(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F JAWMENYCRQKKJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBHQYYNDKZDVTN-UHFFFAOYSA-N [4-(4-methylphenyl)sulfanylphenyl]-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1SC1=CC=C(C(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1 DBHQYYNDKZDVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEWRMZSVIVEQCP-UHFFFAOYSA-N [methoxy(phenyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(=O)(OC)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C IEWRMZSVIVEQCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEQGCMNVNWCHMA-UHFFFAOYSA-N [phenoxy(phenyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 BEQGCMNVNWCHMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- IPTNXMGXEGQYSY-UHFFFAOYSA-N acetic acid;1-methoxybutan-1-ol Chemical compound CC(O)=O.CCCC(O)OC IPTNXMGXEGQYSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- SJEZDMHBMZPMME-UHFFFAOYSA-L calcium;(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)methyl-ethoxyphosphinate Chemical compound [Ca+2].CCOP([O-])(=O)CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1.CCOP([O-])(=O)CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 SJEZDMHBMZPMME-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- VBXWCGWXDOBUQZ-UHFFFAOYSA-K diacetyloxyindiganyl acetate Chemical compound [In+3].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O VBXWCGWXDOBUQZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIBMTBXKARQXFP-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,3,5,6-tetramethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=C(C)C(C(=O)P(=O)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1C MIBMTBXKARQXFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- PWWSSIYVTQUJQQ-UHFFFAOYSA-N distearyl thiodipropionate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCSCCC(=O)OCCCCCCCCCCCCCCCCCC PWWSSIYVTQUJQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGGOIDKBHYYNIC-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl 4-[3,4-bis(tert-butylperoxycarbonyl)benzoyl]benzene-1,2-dicarboperoxoate Chemical compound C1=C(C(=O)OOC(C)(C)C)C(C(=O)OOC(C)(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(C(=O)OOC(C)(C)C)C(C(=O)OOC(C)(C)C)=C1 KGGOIDKBHYYNIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- GWFLKNIJTUEYGP-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxyimino-2-(4-methylsulfanylphenyl)acetate Chemical compound CCOC(=O)C(=NO)C1=CC=C(SC)C=C1 GWFLKNIJTUEYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPOWVOHXJFVDTR-UHFFFAOYSA-N ethyl 4-[2-(2-bromophenyl)-1-[2-(2-bromophenyl)-4,5-bis(4-ethoxycarbonylphenyl)imidazol-2-yl]-5-(4-ethoxycarbonylphenyl)imidazol-4-yl]benzoate Chemical compound C1=CC(C(=O)OCC)=CC=C1C1=NC(N2C(=C(N=C2C=2C(=CC=CC=2)Br)C=2C=CC(=CC=2)C(=O)OCC)C=2C=CC(=CC=2)C(=O)OCC)(C=2C(=CC=CC=2)Br)N=C1C1=CC=C(C(=O)OCC)C=C1 NPOWVOHXJFVDTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJUJMKJGPIXNAK-UHFFFAOYSA-N ethyl 4-[2-(2-chlorophenyl)-1-[2-(2-chlorophenyl)-4,5-bis(4-ethoxycarbonylphenyl)imidazol-2-yl]-5-(4-ethoxycarbonylphenyl)imidazol-4-yl]benzoate Chemical compound C1=CC(C(=O)OCC)=CC=C1C1=NC(N2C(=C(N=C2C=2C(=CC=CC=2)Cl)C=2C=CC(=CC=2)C(=O)OCC)C=2C=CC(=CC=2)C(=O)OCC)(C=2C(=CC=CC=2)Cl)N=C1C1=CC=C(C(=O)OCC)C=C1 LJUJMKJGPIXNAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N ethyl methyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OC JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N indium antimonide Chemical compound [Sb]#[In] WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005355 lead glass Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L lithium carbonate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-]C([O-])=O XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052808 lithium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N methyl 3-methoxypropanoate Chemical compound COCCC(=O)OC BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N n-Pentadecanoic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- JFOHGHXDQDZWLH-UHFFFAOYSA-N octadec-1-ene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCC=C.CCCCCCCCCCCCCCCCC=C JFOHGHXDQDZWLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010943 off-gassing Methods 0.000 description 1
- 238000012634 optical imaging Methods 0.000 description 1
- 238000000399 optical microscopy Methods 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- LGOPTUPXVVNJFH-UHFFFAOYSA-N pentadecanethioic s-acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCC(O)=S LGOPTUPXVVNJFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- HPAFOABSQZMTHE-UHFFFAOYSA-N phenyl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HPAFOABSQZMTHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N phenyl-(4-phenylphenyl)methanone Chemical compound C=1C=C(C=2C=CC=CC=2)C=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical compound OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 239000012994 photoredox catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- LVEOKSIILWWVEO-UHFFFAOYSA-N tetradecyl 3-(3-oxo-3-tetradecoxypropyl)sulfanylpropanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCSCCC(=O)OCCCCCCCCCCCCCC LVEOKSIILWWVEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3-isocyanatopropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN=C=O FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOZBTDPWFHJVEK-UHFFFAOYSA-N tris(2-nonylphenyl) phosphate Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)CCCCCCCCC)OC1=CC=CC=C1CCCCCCCCC OOZBTDPWFHJVEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGMXGCZJYUCMGY-UHFFFAOYSA-N tris(4-nonylphenyl) phosphite Chemical compound C1=CC(CCCCCCCCC)=CC=C1OP(OC=1C=CC(CCCCCCCCC)=CC=1)OC1=CC=C(CCCCCCCCC)C=C1 MGMXGCZJYUCMGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/02—Use of particular materials as binders, particle coatings or suspension media therefor
- C09K11/025—Use of particular materials as binders, particle coatings or suspension media therefor non-luminescent particle coatings or suspension media
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D11/00—Inks
- C09D11/30—Inkjet printing inks
- C09D11/32—Inkjet printing inks characterised by colouring agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D11/00—Inks
- C09D11/30—Inkjet printing inks
- C09D11/38—Inkjet printing inks characterised by non-macromolecular additives other than solvents, pigments or dyes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D11/00—Inks
- C09D11/50—Sympathetic, colour changing or similar inks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/08—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
- C09K11/0805—Chalcogenides
- C09K11/0811—Chalcogenides with zinc or cadmium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/08—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
- C09K11/56—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing sulfur
- C09K11/562—Chalcogenides
- C09K11/565—Chalcogenides with zinc cadmium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/08—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
- C09K11/70—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing phosphorus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/08—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
- C09K11/88—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing selenium, tellurium or unspecified chalcogen elements
- C09K11/881—Chalcogenides
- C09K11/883—Chalcogenides with zinc or cadmium
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
- G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
- G09F9/30—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Luminescent Compositions (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
【課題】量子ドットおよびこれを含む光変換硬化性組成物を提供する。【解決手段】本発明は、表面上にリガンド層を有する量子ドットに関し、前記リガンド層が、チオール系化合物とZn、Mg、AlおよびInからなる群より選択されるいずれか1つの金属とからなる金属錯体を含む量子ドット、これを含む量子ドット分散液および光変換硬化性組成物を提供する。本発明による量子ドットおよびこれを含む光変換硬化性組成物は、粘度安定性、耐高温高湿性、密着性およびインクジェット工程特性に優れ、量子ドットフィルム、量子ドット発光ダイオード、カラーフィルタ、光変換積層基材などの多様な用途に効果的に適用可能であり、これによって高品質の画像表示装置を提供することができる。【選択図】なし
Description
本発明は、量子ドット、前記量子ドットを含む量子ドット分散液、光変換硬化性組成物、前記光変換硬化性組成物を用いて形成される硬化膜および前記硬化膜を含む画像表示装置に関する。
量子ドットは、高い発光性と幅の狭い発光スペクトルを有し、1つの励起波長で発光波長を調節することができ、光に対して安定した量子ドットの固有の特性を有するため、最近まで生物学的映像やエネルギー変換、そして照明(LED)のような重要な応用分野への使用のための研究が多く行われてきている。
このような量子ドットは表面の状態に極めて敏感な物質であって、分散している溶媒や周辺環境によって表面から酸化が起こり、結局、発光効率が急激に減少する。量子ドットの多様な応用のためには、最初に分散していた有機溶媒以外に多様な溶媒で分散しなければならないか、または表面に特定の官能基を形成しなければならないが、これらの過程によって量子ドットの表面に損傷を与え、結局、発光効率の減少につながる問題点がある。
このような問題点を克服するために多くの試みがなされてきており、現在、多様な方法が提示されている。その1つが、量子ドットの表面に存在する有機物質を所望の官能基がある分子に置換する官能基置換(ligand exchange)方法である。この方法は、量子ドットの表面に存在する有機分子を応用しようとするのに適した有機分子と置換する方法であるが、量子ドットの表面に直接的な影響を与えるため、発光効率に致命的な問題点を引き起こすというデメリットがある。
韓国公開特許第10-2018-0002716号公報および韓国登録特許第10-1628065号公報は、表面に配置されるリガンドを含む量子ドットについて開示しているが、相溶性が低くて分散性が低下し、密着性が十分でなく、高温高湿環境で時間経過とともに量子ドットが損傷して光学シートの特性が低下し、粘度安定性が十分でなくてインクジェット方式に適合しないなどの問題点がある。
本発明は、耐光性、粘度安定性、耐高温高湿性、密着性およびインクジェット工程特性に優れた光変換硬化性組成物用量子ドットを提供することを目的とする。
また、本発明は、前記量子ドットを含む量子ドット分散液および光変換硬化性組成物を提供することを目的とする。
さらに、本発明は、前記光変換硬化性組成物を用いて形成される硬化膜および前記硬化膜を含む画像表示装置を提供することを目的とする。
本発明は、表面上にリガンド層を有する量子ドットであって、前記リガンド層が、チオール系化合物とZn、Mg、AlおよびInからなる群より選択されるいずれか1つの金属とからなる金属錯体を含む量子ドットを提供する。
また、本発明は、前記量子ドットを含む量子ドット分散液および光変換硬化性組成物を提供する。
さらに、本発明は、前記光変換硬化性組成物を用いて形成される硬化膜および前記硬化膜を含む画像表示装置を提供する。
本発明による量子ドットは、リガンド層が、チオール系化合物とZn、Mg、AlおよびInからなる群より選択されるいずれか1つの金属とからなる金属錯体を含むことで、相溶性が向上し、量子ドットの表面を酸化から保護することにより粘度安定性および耐高温高湿性に優れ、これによって量子効率の低下が防止されるので、光特性に優れる。
また、前記量子ドットおよびこれを含む光変換硬化性組成物は、粘度安定性、耐高温高湿性、密着性およびインクジェット工程特性に優れた効果を提供するので、量子ドットフィルム、量子ドット発光ダイオード、カラーフィルタ、光変換積層基材などの多様な用途に効果的に適用可能であり、これによって高品質の画像表示装置を提供することができる。
本発明は、表面上にリガンド層を有する量子ドットであって、前記リガンド層が、チオール系化合物とZn、Mg、AlおよびInからなる群より選択されるいずれか1つの金属とからなる金属錯体を含む量子ドットを提供する。
本発明による量子ドットは、チオール系化合物とZn、Mg、AlおよびInからなる群より選択されるいずれか1つの金属とからなる金属錯体をリガンド層に含むことにより、これを含む光変換硬化性組成物の耐高温高湿性および密着性が向上し、粘度安定性に優れてインクジェット工程に好適に使用できることを特徴とする。
また、本発明は、前記量子ドットと、光重合性化合物および溶剤のうちの1種以上とを含む量子ドット分散液を提供する。
さらに、本発明は、前記量子ドットまたは量子ドット分散液を含む光変換硬化性組成物、これを用いて形成される硬化膜および前記硬化膜を含む画像表示装置を提供する。
以下、本発明の構成を詳細に説明する。
<量子ドット>
本発明において、量子ドットは、光源によって自発光し、可視光線および赤外線領域の光を発生させるために使用されるものである。量子ドットは、数ナノサイズの結晶構造を有する物質で、数百から数千個程度の原子で構成されるものであってもよい。原子が分子をなし、分子はクラスタ(cluster)という小さな分子の集合体を構成してナノ粒子をなすが、通常、このようなナノ粒子が特に半導体の特性を帯びている時、これを量子ドットという。本発明の量子ドットは、このような概念に符合するものであれば特に限定されない。物体がナノサイズ以下に小さくなる場合、その物体のエネルギーバンドギャップ(band gap)が大きくなる現象である量子閉じ込め効果(quantum confinement effect)が現れ、量子ドットが外部からエネルギーを受けて励起状態に達すると、自らエネルギーバンドギャップに相当するエネルギーを放出し、自発光できる。
<量子ドット>
本発明において、量子ドットは、光源によって自発光し、可視光線および赤外線領域の光を発生させるために使用されるものである。量子ドットは、数ナノサイズの結晶構造を有する物質で、数百から数千個程度の原子で構成されるものであってもよい。原子が分子をなし、分子はクラスタ(cluster)という小さな分子の集合体を構成してナノ粒子をなすが、通常、このようなナノ粒子が特に半導体の特性を帯びている時、これを量子ドットという。本発明の量子ドットは、このような概念に符合するものであれば特に限定されない。物体がナノサイズ以下に小さくなる場合、その物体のエネルギーバンドギャップ(band gap)が大きくなる現象である量子閉じ込め効果(quantum confinement effect)が現れ、量子ドットが外部からエネルギーを受けて励起状態に達すると、自らエネルギーバンドギャップに相当するエネルギーを放出し、自発光できる。
本発明による量子ドットは、表面上にリガンド層を有し、前記リガンド層が、チオール系化合物とZn、Mg、AlおよびInからなる群より選択されるいずれか1つの金属とからなる金属錯体を含むことを特徴とする。これによって量子ドットの表面が保護され、酸化安定性が向上して量子効率の低下が防止され、信頼性が向上できる。
前記化学式1において、
Lは、炭素数1~20の直鎖もしくは分枝鎖のアルカンジイル基であってもよい。
Xは、-OC(=O)-、-C(=O)O-、-C(=O)NH-、または-HNC(=O)-であってもよい。
Yは、炭素数1~20の直鎖もしくは分枝鎖のアルカンジイル基、
であってもよい。
nは、1~15の整数であってもよい。
mは、1~10の整数であってもよい。
Zは、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のアルコキシ基、炭素数3~20のシクロアルキル基、炭素数6~30の芳香族炭化水素基、または炭素数2~20の光重合反応性基であってもよい。前記光重合反応性基は、アルケニル基、アルキニル基、またはアクリレート基であってもよい。
Lは、炭素数1~20の直鎖もしくは分枝鎖のアルカンジイル基であってもよい。
Xは、-OC(=O)-、-C(=O)O-、-C(=O)NH-、または-HNC(=O)-であってもよい。
Yは、炭素数1~20の直鎖もしくは分枝鎖のアルカンジイル基、
であってもよい。
nは、1~15の整数であってもよい。
mは、1~10の整数であってもよい。
Zは、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のアルコキシ基、炭素数3~20のシクロアルキル基、炭素数6~30の芳香族炭化水素基、または炭素数2~20の光重合反応性基であってもよい。前記光重合反応性基は、アルケニル基、アルキニル基、またはアクリレート基であってもよい。
前記化学式2において、
Mは、Zn、Mg、AlまたはInであってもよい。
dは、2または3であってもよい。
Lは、炭素数1~20の直鎖もしくは分枝鎖のアルカンジイル基であってもよい。
Xは、-OC(=O)-、-C(=O)O-、-C(=O)NH-、または-HNC(=O)-であってもよい。
Yは、炭素数1~20の直鎖もしくは分枝鎖のアルカンジイル基、
であってもよい。
nは、1~15の整数であってもよい。
mは、1~10の整数であってもよい。
Zは、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のアルコキシ基、炭素数3~20のシクロアルキル基、炭素数6~30の芳香族炭化水素基、または炭素数2~20の光重合反応性基であってもよい。前記光重合反応性基は、アルケニル基、アルキニル基、またはアクリレート基であってもよい。
Mは、Zn、Mg、AlまたはInであってもよい。
dは、2または3であってもよい。
Lは、炭素数1~20の直鎖もしくは分枝鎖のアルカンジイル基であってもよい。
Xは、-OC(=O)-、-C(=O)O-、-C(=O)NH-、または-HNC(=O)-であってもよい。
Yは、炭素数1~20の直鎖もしくは分枝鎖のアルカンジイル基、
であってもよい。
nは、1~15の整数であってもよい。
mは、1~10の整数であってもよい。
Zは、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のアルコキシ基、炭素数3~20のシクロアルキル基、炭素数6~30の芳香族炭化水素基、または炭素数2~20の光重合反応性基であってもよい。前記光重合反応性基は、アルケニル基、アルキニル基、またはアクリレート基であってもよい。
前記化学式2で表される化合物は、下記化学式2-1~2-12で表される化合物から選択される1種以上を含むことを特徴とする。
[化学式2-1]
[化学式2-2]
[化学式2-3]
[化学式2-4]
[化学式2-5]
[化学式2-6]
[化学式2-7]
[化学式2-8]
[化学式2-9]
[化学式2-10]
[化学式2-11]
[化学式2-12]
[化学式2-1]
[化学式2-2]
[化学式2-3]
[化学式2-4]
[化学式2-5]
[化学式2-6]
[化学式2-7]
[化学式2-8]
[化学式2-9]
[化学式2-10]
[化学式2-11]
[化学式2-12]
本発明の前記チオール系化合物とZn、Mg、AlおよびInからなる群より選択されるいずれか1つの金属とからなる金属錯体は、有機リガンドとして量子ドットの表面に配位結合して量子ドットを安定化させる役割を果たすことができる。通常製造された量子ドットは、表面上にリガンド層を有するものが一般的であり、製造直後のリガンド層は、オレイン酸(oleic acid)、ラウリン酸(lauric acid)、2-(2-メトキシエトキシ)酢酸、2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]酢酸、およびコハク酸モノ-[2-(2-メトキシ-エトキシ)-エチル]エステルなどからなる。この場合、前記チオール系化合物とZn、Mg、AlおよびInからなる群より選択されるいずれか1つの金属とからなる金属錯体をリガンド層に含む本発明の量子ドットと比較して、リガンド層と量子ドットとの間のより弱い結合力による量子ドット表面の非結合欠陥の理由から表面保護効果が低下しうる。また、オレイン酸の場合、高揮発性化合物(VOC;volatile organic compound)であるn-ヘキサンのような不飽和炭化水素系溶剤、クロロホルム、ベンゼンのような芳香族系溶剤によく分散するが、PGMEAのような溶剤への分散性が不良である。
本発明による量子ドットは、リガンド層に、前記チオール系化合物とZn、Mg、AlおよびInからなる群より選択されるいずれか1つの金属とからなる金属錯体を含むことにより、これを含む光変換硬化性組成物の耐高温高湿性および密着性が向上し、粘度安定性に優れてインクジェット工程に好適に使用できる効果がある。
一部の実施例において、本発明による量子ドットは、リガンド層に、前記チオール系化合物とZn、Mg、AlおよびInからなる群より選択されるいずれか1つの金属とからなる金属錯体を含みかつ、オレイン酸(oleic acid)、ラウリン酸(lauric acid)、2-(2-メトキシエトキシ)酢酸、2-[2-(2-メトキシエトキシ)エトキシ]酢酸、およびコハク酸モノ-[2-(2-メトキシ-エトキシ)-エチル]エステルなどをさらに含むことができる。
前記量子ドットは、光または電気による刺激で発光できる量子ドット粒子であれば特に限定されない。例えば、II-VI族半導体化合物;III-V族半導体化合物;IV-VI族半導体化合物;IV族元素またはこれを含む化合物;およびこれらの組み合わせからなる群より選択されてもよいし、これらは単独または2種以上混合して使用可能である。
例えば、前記II-VI族半導体化合物は、CdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、ZnO、HgS、HgSe、HgTe、およびこれらの混合物からなる群より選択される二元素化合物;CdSeS、CdSeTe、CdSTe、ZnSeS、ZnSeTe、ZnSTe、HgSeS、HgSeTe、HgSTe、CdZnS、CdZnSe、CdZnTe、CdHgS、CdHgSe、CdHgTe、HgZnS、HgZnSe、HgZnTe、およびこれらの混合物からなる群より選択される三元素化合物;およびCdZnSeS、CdZnSeTe、CdZnSTe、CdHgSeS、CdHgSeTe、CdHgSTe、HgZnSeS、HgZnSeTe、HgZnSTe、およびこれらの混合物からなる群より選択される四元素化合物からなる群より選択されてもよいが、これに限定されるものではない。
前記III-V族半導体化合物は、GaN、GaP、GaAs、GaSb、AlN、AlP、AlAs、AlSb、InN、InP、InAs、InSb、およびこれらの混合物からなる群より選択される二元素化合物;GaNP、GaNAs、GaNSb、GaPAs、GaPSb、AlNP、AlNAs、AlNSb、AlPAs、AlPSb、InNP、InNAs、InNSb、InPAs、InPSb、GaAlNP、およびこれらの混合物からなる群より選択される三元素化合物;およびGaAlNAs、GaAlNSb、GaAlPAs、GaAlPSb、GaInNP、GaInNAs、GaInNSb、GaInPAs、GaInPSb、InAlNP、InAlNAs、InAlNSb、InAlPAs、InAlPSb、およびこれらの混合物からなる群より選択される四元素化合物からなる群より選択されてもよいが、これに限定されるものではない。
前記IV-VI族半導体化合物は、SnS、SnSe、SnTe、PbS、PbSe、PbTe、およびこれらの混合物からなる群より選択される二元素化合物;SnSeS、SnSeTe、SnSTe、PbSeS、PbSeTe、PbSTe、SnPbS、SnPbSe、SnPbTe、およびこれらの混合物からなる群より選択される三元素化合物;およびSnPbSSe、SnPbSeTe、SnPbSTe、およびこれらの混合物からなる群より選択される四元素化合物からなる群より選択される1つ以上であってもよいが、同じくこれに限定されない。
これに限定されないが、前記IV族元素またはこれを含む化合物は、Si、Ge、およびこれらの混合物からなる群より選択される元素;およびSiC、SiGe、およびこれらの混合物からなる群より選択される二元素化合物からなる群より選択されてもよい。
量子ドットは、均質な(homogeneous)単一構造;コア-シェル(core-shell)構造およびグラジエント(gradient)構造などのような二重構造;またはこれらの混合構造であってもよいし、本発明において、量子ドットは、光による刺激で発光できるものであればその種類を特に限定しない。
一実施例によれば、量子ドットは、コア-シェル構造を有し、前記コアは、In、P、Zn、Ga、Cd、Se、S、Te、Pb、Ag、Hg、N、AsおよびOのうちの2種以上の組み合わせからなる化合物の1種以上を含み、前記シェルは、In、P、Zn、Ga、Cd、Se、S、Te、Pb、Hg、N、As、O、MnおよびSrのうちの2種以上の組み合わせからなる化合物の1種以上を含むことができる。
具体的には、前記コアは、InP、InZnP、InGaP、CdSe、CdS、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、CdSeTe、CdZnS、CdSeS、PbSe、PbS、PbTe、AgInZnS、AgInGaS、HgS、HgSe、HgTe、GaN、GaP、GaAs、InGaN、InAsおよびZnOからなる群より選択される1種以上を含み、前記シェルは、ZnS、ZnSe、ZnTe、ZnO、CdS、CdSe、CdTe、CdO、InP、InS、GaP、GaN、GaO、GaS、InZnP、InGaP、InGaN、InZnSCdSe、PbS、TiO、SrSeおよびHgSeからなる群より選択される1種以上を含むことができ、好ましくは、InP/ZnS、InP/ZnSe、InP/GaP/ZnS、InP/ZnSe/ZnS、InP/ZnSeTe/ZnSおよびInP/MnSe/ZnSからなる群より選択される1種以上を含むことができるが、これに限定されるものではない。
一般的に、量子ドットは、湿式化学工程(wet chemical process)、有機金属化学蒸着工程(MOCVD、metal organic chemical vapor deposition)または分子線エピタキシ工程(MBE、molecular beam epitaxy)によって製造できる。
本発明による量子ドットは、湿式化学工程によって合成される。
前記湿式化学工程は、有機溶剤に前駆体物質を入れて粒子を成長させる方法であり、結晶が成長する時、有機溶剤が自然に量子ドット結晶の表面に配位されて分散剤の役割をして結晶の成長を調節するので、有機金属化学蒸着や分子線エピタキシのような気相蒸着法よりも容易かつ安価な工程を通じて量子ドット粒子のサイズ成長を制御することができる。
湿式化学工程によって量子ドットを製造する場合、量子ドットの凝集を防止し、量子ドットの粒子サイズをナノ水準に制御するために有機リガンドが使用される。このような有機リガンドとしては、一般的に、オレイン酸が使用できる。
本発明の一実施例において、前記量子ドットの製造過程で使用されたオレイン酸は、前記チオール系化合物とZn、Mg、AlおよびInからなる群より選択されるいずれか1つの金属とからなる金属錯体によってリガンド交換方法により代替される。
前記リガンド交換は、元の有機リガンド、すなわちオレイン酸を有する量子ドットを含有する分散液に、交換しようとする有機リガンド、すなわち化学式2で表される化合物を添加し、これを常温~200℃で30分~3時間撹拌して、チオール系化合物とZn、Mg、AlおよびInからなる群より選択されるいずれか1つの金属とからなる金属錯体が結合した量子ドットを得ることにより行われる。必要に応じて、前記チオール系化合物とZn、Mg、AlおよびInからなる群より選択されるいずれか1つの金属とからなる金属錯体が結合した量子ドットを分離し精製する過程を追加的に行ってもよい。
本発明の一実施形態による量子ドットは、上記のように、常温で簡単な撹拌処理下、有機リガンド交換方法により製造可能で大量生産が可能という利点がある。
また、本発明の一実施例による量子ドットは、15日後にも初期量子効率対比約90%以上の量子効率を維持できるので、長期間安定した保管が可能で多様な用途に商用化可能である。
<量子ドット分散液>
本発明の一実施例による量子ドット分散液は、上述した量子ドットと、光重合性化合物および溶剤のうちの1種以上とを含むことを特徴とする。
本発明の一実施例による量子ドット分散液は、上述した量子ドットと、光重合性化合物および溶剤のうちの1種以上とを含むことを特徴とする。
量子ドット
本発明の一実施例による量子ドット分散液は、上述した量子ドットを含むことを特徴とする。前記量子ドットに関する説明は、上述した<量子ドット>における説明と同じである。
本発明の一実施例による量子ドット分散液は、上述した量子ドットを含むことを特徴とする。前記量子ドットに関する説明は、上述した<量子ドット>における説明と同じである。
前記量子ドットは、量子ドット分散液の総重量に対して、10~90重量%含まれ、好ましくは20~80重量%、より好ましくは30~70重量%含まれる。前記量子ドットが前記範囲内に含まれる場合、発光効率に優れ、これを用いて製造される光変換コーティング層の信頼性に優れるという利点がある。前記量子ドットが上述した範囲内に含まれる場合、量子ドットの分散性特性が良好でコーティングまたはジェッティング特性に優れ、光特性および信頼性に優れているので、好ましい。
光重合性化合物
前記光重合性化合物は、量子ドットの分散性を向上させる作用をする。
前記光重合性化合物は、量子ドットの分散性を向上させる作用をする。
前記光重合性化合物は、単官能単量体、2官能単量体、その他の多官能単量体などが挙げられ、好ましくは、2官能以上の単量体を使用することができる。
前記単官能単量体の種類は特に限定されず、例えば、ノニルフェニルカルビトールアクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルアクリレート、2-エチルヘキシルカルビトールアクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレートなどが挙げられる。
前記2官能単量体の種類は特に限定されず、例えば、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレイト、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのビス(アクリロイルオキシエチル)エーテル、3-メチルペンタンジオールジ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
前記多官能単量体の種類は特に限定されず、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エトキシル化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロポキシル化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、エトキシル化ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、プロポキシル化ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
これらのうち、2官能以上の多官能単量体が好ましく使用できる。
本発明による量子ドット分散液が前記光重合性化合物を含む場合、光重合性化合物の含有量は、量子ドット分散液の総重量に対して、10~90重量%含まれ、好ましくは20~80重量%、より好ましくは30~70重量%含まれる。前記光重合性化合物が上述した範囲内に含まれる場合、量子ドットの分散性特性が良好でコーティングまたはジェッティング特性に優れ、光特性および信頼性に優れているので、好ましい。
本発明において、前記光重合性化合物に関する説明は、後述する光変換硬化性組成物に含まれる光重合性化合物にも同一に適用される。
溶剤
前記溶剤は、量子ドット分散液に含まれる他の成分を溶解させるのに効果的なものであれば、当該分野にて通常用いられる溶剤を特に制限なく使用可能である。前記溶剤は、具体例として、エーテル類、アセテート類、芳香族炭化水素類、ケトン類、アルコール類、エステル類、およびアミド類などから1種以上を選択して使用可能であるが、これに限定するものではない。
前記溶剤は、量子ドット分散液に含まれる他の成分を溶解させるのに効果的なものであれば、当該分野にて通常用いられる溶剤を特に制限なく使用可能である。前記溶剤は、具体例として、エーテル類、アセテート類、芳香族炭化水素類、ケトン類、アルコール類、エステル類、およびアミド類などから1種以上を選択して使用可能であるが、これに限定するものではない。
前記エーテル類溶剤は、具体的には、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルなどのエチレングリコールモノアルキルエーテル類;
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテルなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテル類;
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテルなどのジエチレングリコールジアルキルエーテル類;などが挙げられる。
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテルなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテル類;
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテルなどのジエチレングリコールジアルキルエーテル類;などが挙げられる。
前記アセテート類溶剤は、具体的には、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテートなどのアルキレングリコールアルキルエーテルアセテート類;
メトキシブチルアセテート、メトキシペンチルアセテート、n-ペンチルアセテートなどのアルコキシアルキルアセテート類;などが挙げられる。
メトキシブチルアセテート、メトキシペンチルアセテート、n-ペンチルアセテートなどのアルコキシアルキルアセテート類;などが挙げられる。
前記芳香族炭化水素類溶剤は、具体的には、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレンなどが挙げられる。
前記ケトン類溶剤は、具体的には、メチルエチルケトン、アセトン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどが挙げられる。
前記アルコール類溶剤は、具体的には、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、グリセリンなどが挙げられる。
前記エステル類溶剤は、具体的には、γ-ブチロラクトンなどの環状エステル類;3-エトキシプロピオン酸エチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、エチル3-エトキシプロピオネートなどが挙げられる。
前記アミド類溶剤は、具体的には、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドンなどが挙げられる。
これらの溶剤は、それぞれ単独でまたは2種以上を混合して使用可能である。
本発明による量子ドット分散液が前記溶剤を含む場合、溶剤の含有量は、量子ドット分散液の総重量に対して、10~90重量%含まれ、好ましくは20~80重量%、より好ましくは30~70重量%含まれる。前記溶剤が上述した範囲内に含まれる場合、量子ドットの分散性特性が良好でコーティングまたはジェッティング特性に優れ、光特性および信頼性に優れているので、好ましい。
本発明において、前記溶剤に関する説明は、後述する光変換硬化性組成物に含まれる溶剤にも同一に適用される。
<光変換硬化性組成物>
本発明の一実施例による光変換硬化性組成物は、上述した量子ドットを含み、その他、散乱粒子、光重合性化合物、光重合性開始剤、酸化防止剤および溶剤など、必要に応じて当該技術分野にて知られた構成を1種以上さらに含むことができる。前記溶剤に関する説明は、上述した<量子ドット分散液>における説明と同じである。
本発明の一実施例による光変換硬化性組成物は、上述した量子ドットを含み、その他、散乱粒子、光重合性化合物、光重合性開始剤、酸化防止剤および溶剤など、必要に応じて当該技術分野にて知られた構成を1種以上さらに含むことができる。前記溶剤に関する説明は、上述した<量子ドット分散液>における説明と同じである。
本発明の一実施例による光変換硬化性組成物は、連続工程性の面から溶剤を含まない無溶剤型であってもよい。このような無溶剤型の光変換硬化性組成物は、分散性および粘度安定性が高くてインクジェット方式による連続工程に好適に使用可能である。
本発明の光変換硬化性組成物の製造方法は特に限定されず、当該技術分野にて公知の方法を使用することができる。
量子ドット
本発明の一実施例による光変換硬化性組成物は、上述した量子ドットを含むことを特徴とする。また、分散性を向上させるための面から、先に量子ドット分散液を製造した後、これを残りの成分と混合して光変換硬化性組成物を製造することができる。前記量子ドットおよび量子ドット分散液に関する説明は、上述した<量子ドット>および<量子ドット分散液>における説明と同じである。
本発明の一実施例による光変換硬化性組成物は、上述した量子ドットを含むことを特徴とする。また、分散性を向上させるための面から、先に量子ドット分散液を製造した後、これを残りの成分と混合して光変換硬化性組成物を製造することができる。前記量子ドットおよび量子ドット分散液に関する説明は、上述した<量子ドット>および<量子ドット分散液>における説明と同じである。
前記量子ドットの含有量は、前記光変換硬化性組成物の固形分総重量に対して、1~60重量%であってもよく、好ましくは5~55重量%であってもよいし、さらに好ましくは10~50重量%であってもよい。前記量子ドットを前記含有量範囲内に含む光変換硬化性組成物は、高い色の光を放出することができ、増加した発光効率および向上した色再現性を有することができるので、好ましい。
散乱粒子
前記散乱粒子は、通常の無機材料を使用することができ、好ましくは、平均粒径が30~1000nmの金属酸化物を含むことができる。
前記散乱粒子は、通常の無機材料を使用することができ、好ましくは、平均粒径が30~1000nmの金属酸化物を含むことができる。
前記金属酸化物は、Li、Be、B、Na、Mg、Al、Si、K、Ca、Sc、V、Cr、Mn、Fe、Ni、Cu、Zn、Ga、Ge、Rb、Sr、Y、Mo、Cs、Ba、La、Hf、W、Tl、Pb、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Ti、Sb、Sn、Zr、Nb、Ce、Ta、In、およびこれらの組み合わせからなる群より選択された1種以上の金属を含む酸化物であってもよいが、これに限定されない。
具体的には、Al2O3、SiO2、ZnO、ZrO2、BaTiO3、Ba2TiO4、TiO2、Ta2O5、Ti3O5、ITO、IZO、ATO、ZnO-Al、Nb2O3、SnO、MgO、およびこれらの組み合わせからなる群より選択された1種以上であってもよいし、散乱性の面からTiO2を含むことが好ましく、前記TiO2はルチル型であってもよい。必要な場合、アクリレートなどの不飽和結合を有する化合物で表面処理された材質も使用可能である。
本発明による光変換硬化性組成物は、散乱粒子を含む場合、前記散乱粒子により量子ドットから自発放出された光の経路を増加させてカラーフィルタでの全体的な光効率を高めることができて、好ましい。
前記散乱粒子は、密度が2.0~4.0g/cm3であってもよく、好ましくは2.0~3.5g/cm3であってもよく、より好ましくは2.1~3.4g/cm3であってもよい。散乱粒子が前記密度範囲を満足する場合、前記散乱粒子が散乱体としてバックライトの光散乱効果が十分で優れた光変換率を維持しながらも、密度が低くて溶剤内で沈まず、再分散性に優れてインクジェッティング工程性および保管安定性に優れた光変換硬化性組成物を提供することができる。
前記散乱粒子は、30~1000nmの平均粒径を有することができ、好ましくは100~500nmであってもよく、さらに好ましくは100~350nmであってもよいし、さらにより好ましくは160~330nmの範囲であるものを使用する。この時、粒子サイズが過度に小さければ、量子ドットから放出された光の十分な散乱効果を期待することができず、これとは逆に、過度に大きい場合には、組成物内に沈んだり均一な品質の自発光層表面が得られないので、前記範囲内で適宜調節して使用する。
また、前記散乱粒子は、中空粒子であってもよいし、散乱粒子の内径をA、一次粒子の直径をBとした時、A/Bの値が0.3~0.95であってもよく、好ましくは0.4~0.8であってもよい。散乱粒子が前記A/B値の範囲を満足する場合、光変換率を維持しながらも、密度が低くて溶剤内で沈まず、再分散性に優れてインクジェッティング工程性および保管安定性に優れ、ポストベーク熱処理後に高い膜硬度を実現可能な光変換硬化性組成物を提供することができる。
前記散乱粒子にはシリカがさらに含まれる。前記散乱粒子計100モル%に対して、前記金属酸化物の含有率は90.0~99.0モル%、前記シリカの含有率は0.3~10モル%であってもよく、好ましくは、前記金属酸化物の含有率は92~98モル%、前記シリカの含有率は0.5~8.0モル%であってもよい。前記金属酸化物およびシリカの含有率を満足する散乱粒子を含む場合、優れた光変換率を維持しながらも、密度が低くて溶剤内で沈まず、再分散特性に優れてインクジェッティング工程性において良好な連続ジェッティング性、ノズル詰まり抑制、不均一ムラを改善することができ、保管安定性に優れた光変換硬化性組成物を提供することができる。
本発明による光変換硬化性組成物が散乱粒子を含む場合、散乱粒子の含有量は、前記光変換硬化性組成物の固形分総重量に対して、0.5~35重量%であってもよく、好ましくは0.5~15重量%であってもよいし、さらに好ましくは3~10重量%であってもよい。前記散乱粒子を前記含有量範囲内に含む場合、優れた発光効率および光維持率を示し、表面硬度に優れてクラックの発生がなく、拡散率と感度が良いだけでなく、パターン安定性、現像速度、耐溶剤性およびアウトガス低減効果を有する光変換硬化性組成物を提供することができるので、好ましい。
光重合性化合物
前記光重合性化合物は、単官能単量体、2官能単量体、その他の多官能単量体などが挙げられ、好ましくは、2官能以上の単量体を使用することができる。
前記光重合性化合物は、単官能単量体、2官能単量体、その他の多官能単量体などが挙げられ、好ましくは、2官能以上の単量体を使用することができる。
前記単官能単量体の種類は特に限定されず、例えば、ノニルフェニルカルビトールアクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルアクリレート、2-エチルヘキシルカルビトールアクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレートなどが挙げられる。
前記2官能単量体の種類は特に限定されず、例えば、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのビス(アクリロイルオキシエチル)エーテル、3-メチルペンタンジオールジ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
前記多官能単量体の種類は特に限定されず、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エトキシル化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロポキシル化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、エトキシル化ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、プロポキシル化ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
これらのうち、2官能以上の多官能単量体が好ましく使用可能であり、耐熱性、揮発性、粘度およびジェッティング性の面から、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレートを使用することがさらに好ましい。
本発明による光変換硬化性組成物が光重合性化合物を含む場合、光重合性化合物の含有量は、光変換硬化性組成物の固形分総重量に対して、20~80重量%、好ましくは30~70重量%であってもよい。前記光重合性化合物が前記含有量範囲内に含まれる場合、光感度が低下せず、画素部の強度や平滑性が良好になる効果を得ることができる。
光重合開始剤
前記光重合開始剤は、先に説明した光重合性化合物の重合を開始するための化合物であり、本発明において特に限定しないが、重合特性、開始効率、吸収波長、入手性、価格などの観点から、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物、ビイミダゾール系化合物、オキシム系化合物、アシルホスフィン系化合物、およびチオキサントン系化合物からなる群より選択される1種以上の化合物を使用することが好ましく、オキシム系化合物およびアシルホスフィン系化合物からなる群より選択される1種以上の化合物を使用することがさらに好ましい。
前記光重合開始剤は、先に説明した光重合性化合物の重合を開始するための化合物であり、本発明において特に限定しないが、重合特性、開始効率、吸収波長、入手性、価格などの観点から、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物、ビイミダゾール系化合物、オキシム系化合物、アシルホスフィン系化合物、およびチオキサントン系化合物からなる群より選択される1種以上の化合物を使用することが好ましく、オキシム系化合物およびアシルホスフィン系化合物からなる群より選択される1種以上の化合物を使用することがさらに好ましい。
アセトフェノン系化合物としては、例えば、ジエトキシアセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、ベンジルジメチルケタール、2-ヒドロキシ-1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル]-2-メチルプロパン-1-オン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-メチル-1-(4-メチルチオフェニル)-2-モルホリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)ブタン-1-オン、2-ヒドロキシ-2-メチル[4-(1-メチルビニル)フェニル]プロパン-1-オンのオリゴマーなどが挙げられ、好ましくは、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)ブタン-1-オンなどが挙げられる。
ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイソブチルエーテルなどが挙げられる。ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、o-ベンゾイル安息香酸メチル、4-フェニルベンゾフェノン、4-ベンゾイル-4’-メチルジフェニルスルフィド、3,3’,4,4’-テトラ(t-ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、2,4,6-トリメチルベンゾフェノンなどが挙げられる。チオキサントン系化合物としては、例えば、2-イソプロピルチオキサントン、4-イソプロピルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、2,4-ジクロロチオキサントン、1-クロロ-4-プロポキシチオキサントンなどが挙げられる。
トリアジン系化合物としては、例えば、2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン、2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-(4-メトキシナフチル)-1,3,5-トリアジン、2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-(4-メトキシスチリル)-1,3,5-トリアジン、2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-[2-(5-メチルフラン-2-イル)エテニル]-1,3,5-トリアジン、2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-[2-(フラン-2-イル)エテニル]-1,3,5-トリアジン、2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-[2-(4-ジエチルアミノ-2-メチルフェニル)エテニル]-1,3,5-トリアジン、2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-[2-(3,4ジメトキシフェニル)エテニル]-1,3,5-トリアジンなどが挙げられる。
前記ビイミダゾール系化合物としては、例えば、2,2’-ビス(2-クロロフェニル)-4,4’,5,5’-テトラキス(4-エトキシカルボニルフェニル)-1,2’-ビイミダゾール、2,2’-ビス(2-ブロモフェニル)-4,4’,5,5’-テトラキス(4-エトキシカルボニルフェニル)-1,2’-ビイミダゾール、2,2’-ビス(2-クロロフェニル)-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール、2,2’-ビス(2,4-ジクロロフェニル)-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール、2,2’-ビス(2,4,6-トリクロロフェニル)-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール、2,2’-ビス(2-ブロモフェニル)-4,4,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール、2,2’-ビス(2,4-ジブロモフェニル)-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール、2,2’-ビス(2,4,6-トリブロモフェニル)-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾールなどが挙げられる。
前記オキシム系化合物は、例えば、2-(O-ベンゾイルオキシム)-1-[4-(フェニルチオ)フェニル]-1,2-オクタンジオン、1-(4-メチルスルファニルフェニル)ブタン-1,2-ブタン-2-オキシム-O-アセテート、1-(4-メチルスルファニルフェニル)ブタン-1-オンオキシム-O-アセテート、ヒドロキシイミノ(4-メチルスルファニルフェニル)酢酸エチルエステル-O-アセテート、ヒドロキシイミノ(4-メチルスルファニルフェニル)酢酸エチルエステル-O-ベンゾエートなどが挙げられ、市販品として、バスフ社のIrgacure OXE-01、OXE-02などが代表的である。
前記アシルホスフィン系化合物は、例えば、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、2,6-ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、2,6-ジメトキシベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、2,6-ジクロロベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、2,3,5,6-テトラメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルホスフィンオキシド、ビス(2,6-ジメトキシベンゾイル)-2,4,4-トリメチル-ペンチルホスフィンオキシド、2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルホスフィン酸メチルエステル、2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルホスフィン酸エチルエステル、2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルホスフィン酸フェニルエステルなどが挙げられ、市販品として、Omnirad TPO-Hなどが代表的である。
前記チオキサントン系化合物は、例えば、チオキサントン、2-クロロチオキサントン、2-メチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4-ジイソプロピルチオキサントンなどが挙げられる。
本発明による光変換硬化性組成物が光重合開始剤を含む場合、光重合開始剤の含有量は、光変換硬化性組成物の固形分総重量に対して、0.2~15重量%、好ましくは0.5~10重量%であってもよい。前記光重合開始剤が前記含有量範囲内に含まれる場合、光変換硬化性組成物が高感度化され、前記組成物を用いて形成した画素部の強度や、この画素部の表面での平滑性が良好になるという利点を有する。
酸化防止剤
前記酸化防止剤は、リン系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤および硫黄系酸化防止剤から選択される1種以上を含むことができる。
前記酸化防止剤は、リン系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤および硫黄系酸化防止剤から選択される1種以上を含むことができる。
前記リン系酸化防止剤としては、例えば、トリス(2,4-ジ-ターシャリー-ブチルフェニル)ホスファイト(tris(2,4-di-tert-butylphenyl)phosphite、Songnox1680)、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト(Tris(nonylphenyl)phosphite、TNPP)、ジ-(2,4-ジ-ターシャリー-ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト(Di-(2,4-dit-butylphenyl)pentaerythritol diphosphite)などから1種以上選択して使用できる。
前記フェノール系酸化防止剤としては、例えば、2,6-ジ-ターシャリー-ブチル-4-メチル-フェノール(2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol、BHT)、チオジエチレンビス[2-(3,5-ジ-ターシャリー-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート(thiodiethylenebis[2-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate、Songnox1035)、オクタデシル-3-(3,5-ジ-ターシャリー-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート(octadecyl-3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate、Songox1076)、テトラキス[メチレン-3-(3,5-ジ-ターシャリー-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン(tetrakis[methylene-3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate]methane、Songox1010)などから1種類以上選択して使用できる。
前記硫黄系酸化防止剤としては、例えば、ジラウリル-3,3’-チオジプロピオネート、ジミリスチル-3,3’-チオジプロピオネート、ジステアリル-3,3’-チオジプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス(3-ラウリルチオプロピオネート)などから1種類以上選択して使用できる。
前記酸化防止剤の市販品としては、IRGANOX1035、IRGANOX1081、IRGANOX1425、IRGANOX1726(以上、BASF社製)、Sumilizer GP(住友化学社製)などが挙げられる。前記例示した酸化防止剤は、単独または2種以上を混合して使用可能である。
本発明による光変換硬化性組成物が酸化防止剤を含む場合、酸化防止剤の含有量は、前記光変換硬化性組成物の固形分総重量に対して、0.1~25重量%、好ましくは0.1~10重量%であってもよい。前記酸化防止剤が前記含有量範囲内に含まれる場合、前記光変換硬化性組成物の平坦性、密着性および光変換効率などが向上できるので、好ましい。
添加剤
本発明の一実施例による光変換硬化性組成物は、必要に応じて、コーティング性または密着性を増進させるために、密着促進剤、界面活性剤などの添加剤をさらに含むことができる。
本発明の一実施例による光変換硬化性組成物は、必要に応じて、コーティング性または密着性を増進させるために、密着促進剤、界面活性剤などの添加剤をさらに含むことができる。
前記密着促進剤は、基板との密着性を高めるために添加できるものであって、カルボキシル基、メタクリロイル基、イソシアネート基、エポキシ基、およびこれらの組み合わせからなる群より選択される反応性置換基を有するシランカップリング剤を含むことができるが、これに限定されるものではない。例えば、前記シランカップリング剤は、トリメトキシシリル安息香酸、γ-メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランなどが挙げられ、これらは単独でまたは2種以上組み合わせて使用可能である。
前記界面活性剤は、感光性樹脂組成物の被膜形成性をより向上させるために添加可能であり、フッ素系界面活性剤またはシリコーン系界面活性剤などが好ましく使用できる。
前記シリコーン系界面活性剤は、例えば、市販品として、ダウコーニング東レシリコーン社のDC3PA、DC7PA、SH11PA、SH21PA、SH8400などがあり、GE東芝シリコーン社のTSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4446、TSF-4460、TSF-4452などが挙げられる。
前記フッ素系界面活性剤は、例えば、市販品として、大日本インキ化学工業社のメガピースF-470、F-471、F-475、F-482、F-489などが挙げられる。前記例示された界面活性剤は、それぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用可能である。
このように製造された光変換硬化性組成物は、カラーフィルタ、光変換積層基材のような硬化膜およびこれを含む画像表示装置の製造に好ましく使用できる。
<硬化膜>
本発明は、前記光変換硬化性組成物を用いて形成される硬化膜を提供し、前記硬化膜は、カラーフィルタまたは光変換積層基材であってもよい。
本発明は、前記光変換硬化性組成物を用いて形成される硬化膜を提供し、前記硬化膜は、カラーフィルタまたは光変換積層基材であってもよい。
カラーフィルタ
本発明のカラーフィルタを形成するパターン形成方法は、当該技術分野にて公知の方法を使用することができる。
一実施例を挙げると、パターン形成方法は、
a)基板に光変換硬化性組成物を塗布するステップと、
b)プリベークステップと、
c)得られた被膜上にフォトマスクを当てて活性光線を照射して露光部を硬化させるステップと、
d)アルカリ水溶液を用いて未露光部を溶解する現像工程を行うステップと、
e)乾燥およびポストベーク実行ステップと、を含むことができる。
本発明のカラーフィルタを形成するパターン形成方法は、当該技術分野にて公知の方法を使用することができる。
一実施例を挙げると、パターン形成方法は、
a)基板に光変換硬化性組成物を塗布するステップと、
b)プリベークステップと、
c)得られた被膜上にフォトマスクを当てて活性光線を照射して露光部を硬化させるステップと、
d)アルカリ水溶液を用いて未露光部を溶解する現像工程を行うステップと、
e)乾燥およびポストベーク実行ステップと、を含むことができる。
前記基板は、ガラス基板やポリマー基板が用いられるが、これに限定されない。ガラス基板としては、特に、ソーダ石灰ガラス、バリウムまたはストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、または石英などが好ましく使用できる。また、ポリマー基板としては、ポリカーボネート、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルスルフィド、またはポリスルホン基板などが挙げられる。
この時、塗布は、所望の厚さを得ることができるように、ロールコーター、スピンコーター、スリットアンドスピンコーター、スリットコーター(ダイコーターともいう場合がある)、インクジェットなどの塗布装置を用いた公知の湿式コーティング方法によって行われる。
プリベークは、オーブン、ホットプレートなどによって加熱することにより行われる。この時、プリベークにおける加熱温度および加熱時間は、使用する溶剤に応じて適宜選択され、例えば、80~150℃の温度で1~30分間行われる。
また、プリベーク後に行われる露光は、露光機によって行われ、フォトマスクを介して露光することにより、パターンに対応した部分のみを感光させる。この時照射する光は、例えば、可視光線、紫外線、X線および電子線などを用いることができる。
露光後のアルカリ水溶液を用いて未露光部を溶解する現像工程は、非露光部分の除去されない部分の感光性樹脂組成物を除去する目的で行われ、この現像によって所望のパターンが形成される。このアルカリ水溶液を用いた現像に適した現像液としては、例えば、アルカリ金属やアルカリ土類金属の炭酸塩の水溶液などを使用することができる。特に、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムなどの炭酸塩を1~3重量%未満を含有するアルカリ水溶液を用いて、10~50℃、好ましくは20~40℃の温度内で現像器または超音波洗浄機などを用いて行うことができる。
ポストベークは、パターニングされた膜と基板との密着性を高めるために行い、例えば、80~250℃で10~120分の条件で熱処理により行われる。ポストベークは、プリベークと同様に、オーブン、ホットプレートなどを用いて行うことができる。
光変換積層基材
本発明による光変換積層基材は、光変換硬化性組成物の硬化物を含む。前記光変換積層基材は、ガラス基材にコーティング可能な光変換硬化性組成物を含むことにより、人体有害物質に該当しない溶剤を使用可能で、作業者の安全と製品の生産性を向上させることができる。
本発明による光変換積層基材は、光変換硬化性組成物の硬化物を含む。前記光変換積層基材は、ガラス基材にコーティング可能な光変換硬化性組成物を含むことにより、人体有害物質に該当しない溶剤を使用可能で、作業者の安全と製品の生産性を向上させることができる。
前記光変換積層基材は、シリコン(Si)、シリコン酸化物(SiOx)、または高分子基板であってもよいし、前記高分子基板は、ポリエーテルスルホン(polyethersulfone、PES)またはポリカーボネート(polycarbonate、PC)などであってもよい。
前記光変換積層基材は、前記光変換硬化性組成物を塗布し、熱硬化または光硬化して形成される。
<画像表示装置>
本発明による画像表示装置は、前述した硬化膜すなわち、カラーフィルタまたは光変換積層基材を含む。前記画像表示装置は、具体的には、液晶ディスプレイ(液晶表示装置;LCD)、有機ELディスプレイ(有機EL表示装置)、液晶プロジェクタ、ゲーム機用表示装置、携帯電話などの携帯端末用表示装置、デジタルカメラ用表示装置、カーナビゲーション用表示装置などの表示装置などが挙げられ、特にカラー表示装置が好適である。
本発明による画像表示装置は、前述した硬化膜すなわち、カラーフィルタまたは光変換積層基材を含む。前記画像表示装置は、具体的には、液晶ディスプレイ(液晶表示装置;LCD)、有機ELディスプレイ(有機EL表示装置)、液晶プロジェクタ、ゲーム機用表示装置、携帯電話などの携帯端末用表示装置、デジタルカメラ用表示装置、カーナビゲーション用表示装置などの表示装置などが挙げられ、特にカラー表示装置が好適である。
前記画像表示装置は、前記カラーフィルタまたは光変換積層基材を備えたことを除けば、本発明の技術分野にて当業者に知られた構成をさらに含むことができ、すなわち、本発明は、カラーフィルタまたは光変換積層基材を適用可能な画像表示装置を含む。
本発明によるカラーフィルタを含む画像表示装置は、耐光性、耐高温高湿性および表面粗さに対して優れた特性を有することができる。
以下、実施例を通じて本発明をより詳細に説明する。しかし、下記の実施例は本発明をさらに具体的に説明するためのものであって、本発明の範囲が下記の実施例によって限定されるものではない。
<実施例>
合成例1:InP/ZnSe/ZnSコア-シェル量子ドットの合成
インジウムアセテート(Indium acetate)0.4mmol(0.058g)、パルミチン酸(palmitic acid)0.6mmol(0.15g)、および1-オクタデセン(octadecene)20mLを反応器に入れて、真空下で120℃に加熱した。1時間後、反応器内の雰囲気を窒素に切り替えた。280℃に加熱した後、トリス(トリメチルシリル)ホスフィン(TMS3P)0.2mmol(58μl)およびトリオクチルホスフィン1.0mLの混合溶液を迅速に注入し、0.5分間反応させた。
合成例1:InP/ZnSe/ZnSコア-シェル量子ドットの合成
インジウムアセテート(Indium acetate)0.4mmol(0.058g)、パルミチン酸(palmitic acid)0.6mmol(0.15g)、および1-オクタデセン(octadecene)20mLを反応器に入れて、真空下で120℃に加熱した。1時間後、反応器内の雰囲気を窒素に切り替えた。280℃に加熱した後、トリス(トリメチルシリル)ホスフィン(TMS3P)0.2mmol(58μl)およびトリオクチルホスフィン1.0mLの混合溶液を迅速に注入し、0.5分間反応させた。
次に、亜鉛アセテート2.4mmoL(0.448g)、オレイン酸4.8mmol、およびトリオクチルアミン20mLを反応器に入れて、真空下で120℃に加熱した。1時間後、反応器内の雰囲気を窒素に切り替え、反応器を280℃に昇温させた。先に合成したInPコア溶液2mLを入れて、次いで、トリオクチルホスフィン中のセレン(Se/TOP)4.8mmolを入れた後、最終混合物を2時間反応させた。常温に迅速に冷やした反応溶液にエタノールを入れて遠心分離して得られた沈殿物を減圧濾過後、減圧乾燥してInP/ZnSeコア-シェルを形成させた。
次に、亜鉛アセテート2.4mmoL(0.448g)、オレイン酸4.8mmol、およびトリオクチルアミン20mLを反応器に入れて、真空下で120℃に加熱した。1時間後、反応器内の雰囲気を窒素に切り替え、反応器を280℃に昇温させた。先に合成したInPコア溶液2mLを入れて、次いで、トリオクチルホスフィン中の硫黄(S/TOP)4.8mmolを入れた後、最終混合物を2時間反応させた。常温に迅速に冷やした反応溶液にエタノールを入れて遠心分離して得られた沈殿物を減圧濾過後、減圧乾燥した。
得られた量子ドットパウダーを固形成分含有量が25%となるようにクロロホルムに分散させて、InP/ZnSe/ZnSコア-シェル構造の量子ドット溶液を得た。最大発光波長は535nmであった。
実施例1-1~1-12および比較例1-1~1-4:量子ドットの製造
実施例1-1:リガンド置換反応1(A-1)
合成例1で合成されたInP/ZnSe/Zns緑色量子ドット50mLを遠心分離チューブに入れて、エタノール200mLを入れて沈殿させた。遠心分離により上澄液は捨てて、沈殿物に30mLのクロロホルムを入れて量子ドットを分散させた後、10.0gの下記化学式2-1で表されるリガンドを入れて、窒素雰囲気下で60℃に加熱しながら1時間反応させた。次に、反応物に250mLのn-ヘキサンを入れて量子ドットを沈殿させた後、遠心分離を行って沈殿物を分離して、リガンド置換された量子ドットパウダー(A-1)を得た。最大発光波長は526nmであった。
[化学式2-1]
実施例1-1:リガンド置換反応1(A-1)
合成例1で合成されたInP/ZnSe/Zns緑色量子ドット50mLを遠心分離チューブに入れて、エタノール200mLを入れて沈殿させた。遠心分離により上澄液は捨てて、沈殿物に30mLのクロロホルムを入れて量子ドットを分散させた後、10.0gの下記化学式2-1で表されるリガンドを入れて、窒素雰囲気下で60℃に加熱しながら1時間反応させた。次に、反応物に250mLのn-ヘキサンを入れて量子ドットを沈殿させた後、遠心分離を行って沈殿物を分離して、リガンド置換された量子ドットパウダー(A-1)を得た。最大発光波長は526nmであった。
[化学式2-1]
実施例1-2:リガンド置換反応2(A-2)
実施例1-1で使用したリガンドの代わりに下記化学式2-2で表される化合物を用いたことを除き、実施例1-1と同様に進行させた。最大発光波長は525nmであった。
[化学式2-2]
実施例1-1で使用したリガンドの代わりに下記化学式2-2で表される化合物を用いたことを除き、実施例1-1と同様に進行させた。最大発光波長は525nmであった。
[化学式2-2]
実施例1-3:リガンド置換反応3(A-3)
実施例1-1で使用したリガンドの代わりに下記化学式2-3で表される化合物を用いたことを除き、実施例1-1と同様に進行させた。最大発光波長は525nmであった。
[化学式2-3]
実施例1-1で使用したリガンドの代わりに下記化学式2-3で表される化合物を用いたことを除き、実施例1-1と同様に進行させた。最大発光波長は525nmであった。
[化学式2-3]
実施例1-4:リガンド置換反応4(A-4)
実施例1-1で使用したリガンドの代わりに下記化学式2-4で表される化合物を用いたことを除き、実施例1-1と同様に進行させた。最大発光波長は520nmであった。
[化学式2-4]
実施例1-1で使用したリガンドの代わりに下記化学式2-4で表される化合物を用いたことを除き、実施例1-1と同様に進行させた。最大発光波長は520nmであった。
[化学式2-4]
実施例1-5:リガンド置換反応5(A-5)
InP/ZnSe/Zns赤色量子ドット(ナノシス社、Gen 5 QD in PGMEA固形分25%)50mLを遠心分離チューブに入れて、エタノール200mLを入れて沈殿させた。遠心分離により上澄液は捨てて、沈殿物に30mLのクロロホルムを入れて量子ドットを分散させた後、10.0gの下記化学式2-5で表されるリガンドを入れて、窒素雰囲気下、60℃に加熱しながら1時間反応させた。次に、反応物に250mLのn-ヘキサンを入れて量子ドットを沈殿させた後、遠心分離を行って沈殿物を分離して、リガンド置換された量子ドットパウダー(A-5)を得た。最大発光波長は625nmであった。
[化学式2-5]
InP/ZnSe/Zns赤色量子ドット(ナノシス社、Gen 5 QD in PGMEA固形分25%)50mLを遠心分離チューブに入れて、エタノール200mLを入れて沈殿させた。遠心分離により上澄液は捨てて、沈殿物に30mLのクロロホルムを入れて量子ドットを分散させた後、10.0gの下記化学式2-5で表されるリガンドを入れて、窒素雰囲気下、60℃に加熱しながら1時間反応させた。次に、反応物に250mLのn-ヘキサンを入れて量子ドットを沈殿させた後、遠心分離を行って沈殿物を分離して、リガンド置換された量子ドットパウダー(A-5)を得た。最大発光波長は625nmであった。
[化学式2-5]
実施例1-6:リガンド置換反応6(A-6)
実施例1-5で使用したリガンドの代わりに下記化学式2-6で表される化合物を用いたことを除き、実施例1-5と同様に進行させた。最大発光波長は626nmであった。
[化学式2-6]
実施例1-5で使用したリガンドの代わりに下記化学式2-6で表される化合物を用いたことを除き、実施例1-5と同様に進行させた。最大発光波長は626nmであった。
[化学式2-6]
実施例1-7:リガンド置換反応7(A-7)
実施例1-5で使用したリガンドの代わりに下記化学式2-7で表される化合物を用いたことを除き、実施例1-5と同様に進行させた。最大発光波長は626nmであった。
[化学式2-7]
実施例1-5で使用したリガンドの代わりに下記化学式2-7で表される化合物を用いたことを除き、実施例1-5と同様に進行させた。最大発光波長は626nmであった。
[化学式2-7]
実施例1-8:リガンド置換反応8(A-8)
実施例1-5で使用したリガンドの代わりに下記化学式2-8で表される化合物を用いたことを除き、実施例1-5と同様に進行させた。最大発光波長は627nmであった。
[化学式2-8]
実施例1-5で使用したリガンドの代わりに下記化学式2-8で表される化合物を用いたことを除き、実施例1-5と同様に進行させた。最大発光波長は627nmであった。
[化学式2-8]
実施例1-9:リガンド置換反応5(A-9)
実施例1-5で使用したリガンドの代わりに下記化学式2-9で表される化合物を用いたことを除き、実施例1-5と同様に進行させた。最大発光波長は625nmであった。
[化学式2-9]
実施例1-5で使用したリガンドの代わりに下記化学式2-9で表される化合物を用いたことを除き、実施例1-5と同様に進行させた。最大発光波長は625nmであった。
[化学式2-9]
実施例1-10:リガンド置換反応10(A-10)
実施例1-5で使用したリガンドの代わりに下記化学式2-10で表される化合物を用いたことを除き、実施例1-5と同様に進行させた。最大発光波長は625nmであった。
[化学式2-10]
実施例1-5で使用したリガンドの代わりに下記化学式2-10で表される化合物を用いたことを除き、実施例1-5と同様に進行させた。最大発光波長は625nmであった。
[化学式2-10]
実施例1-11:リガンド置換反応11(A-11)
実施例1-5で使用したリガンドの代わりに下記化学式2-11で表される化合物を用いたことを除き、実施例1-5と同様に進行させた。最大発光波長は627nmであった。
[化学式2-11]
実施例1-5で使用したリガンドの代わりに下記化学式2-11で表される化合物を用いたことを除き、実施例1-5と同様に進行させた。最大発光波長は627nmであった。
[化学式2-11]
実施例1-12:リガンド置換反応12(A-12)
実施例1-5で使用したリガンドの代わりに下記化学式2-12で表される化合物を用いたことを除き、実施例1-5と同様に進行させた。最大発光波長は627nmであった。
[化学式2-12]
実施例1-5で使用したリガンドの代わりに下記化学式2-12で表される化合物を用いたことを除き、実施例1-5と同様に進行させた。最大発光波長は627nmであった。
[化学式2-12]
比較例1-1:リガンド置換反応13(A-13)
実施例1-1で使用したリガンドの代わりに下記化学式1-1で表される化合物を用いたことを除き、実施例1-1と同様に進行させた。最大発光波長は526nmであった。
[化学式1-1]
実施例1-1で使用したリガンドの代わりに下記化学式1-1で表される化合物を用いたことを除き、実施例1-1と同様に進行させた。最大発光波長は526nmであった。
[化学式1-1]
比較例1-2:リガンド置換反応14(A-14)
実施例1-5で使用したリガンドの代わりに下記化学式1-2で表される化合物を用いたことを除き、実施例1-5と同様に進行させた。最大発光波長は627nmであった。
[化学式1-2]
実施例1-5で使用したリガンドの代わりに下記化学式1-2で表される化合物を用いたことを除き、実施例1-5と同様に進行させた。最大発光波長は627nmであった。
[化学式1-2]
比較例1-3:リガンド置換反応15(A-15)
実施例1-5で使用したリガンドの代わりに下記化学式1-3で表される化合物を用いたことを除き、実施例1-5と同様に進行させた。最大発光波長は627nmであった。
[化学式1-3]
実施例1-5で使用したリガンドの代わりに下記化学式1-3で表される化合物を用いたことを除き、実施例1-5と同様に進行させた。最大発光波長は627nmであった。
[化学式1-3]
比較例1-4:リガンド置換反応16(A-16)
実施例1-5で使用したリガンドの代わりに下記化学式1-4で表されるZn錯体化合物を用いたことを除き、実施例1-5と同様に進行させた。最大発光波長は629nmであった。
[化学式1-4]
実施例1-5で使用したリガンドの代わりに下記化学式1-4で表されるZn錯体化合物を用いたことを除き、実施例1-5と同様に進行させた。最大発光波長は629nmであった。
[化学式1-4]
実施例2-1~2-13および比較例2-1~2-4:光変換硬化性組成物の製造
下記表1に記載の成分および含有量に応じて、光変換硬化性組成物を製造した。
下記表1に記載の成分および含有量に応じて、光変換硬化性組成物を製造した。
-A-1~A-12:実施例1-1~1-12による量子ドット
-A-13~A-16:比較例1-1~1-4による量子ドット
-B-1:1,6-Hexanediol diacrylate
-C-1:Irgacure OXE-01(バスフ社)
-C-2:Omnirad TPO-H
-D-1:Sumilizer GP(住友化学社;MW661)
-E-1:TiO2(ハンツマン社、TR-88、粒径220nm)
-F-1:SH8400(ダウコーニング東レシリコーン社)
実験例
(1)粘度安定性評価
前記製造された実施例2-1~2-13および比較例2-1~2-4による光変換硬化性組成物に対して、R型粘度計(VISCOMETER MODELRE120L SYSTEM、東機産業株式会社製品)を用いて、回転数20rpm、温度25℃の条件で初期粘度および低温5℃で1ヶ月保管後、粘度を測定した。初期粘度に対する粘度変化率(%)を計算し、下記の評価基準により粘度安定性を評価して、表2に記載した。
<評価基準>
○:粘度変化率105%以下
△:粘度変化率105%超過~110%以下
×:粘度変化率110%超過
(1)粘度安定性評価
前記製造された実施例2-1~2-13および比較例2-1~2-4による光変換硬化性組成物に対して、R型粘度計(VISCOMETER MODELRE120L SYSTEM、東機産業株式会社製品)を用いて、回転数20rpm、温度25℃の条件で初期粘度および低温5℃で1ヶ月保管後、粘度を測定した。初期粘度に対する粘度変化率(%)を計算し、下記の評価基準により粘度安定性を評価して、表2に記載した。
<評価基準>
○:粘度変化率105%以下
△:粘度変化率105%超過~110%以下
×:粘度変化率110%超過
(2)光変換コーティング層の製造
前記実施例2-1~2-13および比較例2-1~2-4によるそれぞれの光変換硬化性組成物をインクジェット方式で5cm×5cmのガラス基板上に塗布した後、窒素条件下、395nmのBlue LED灯を用いて4000mJ/cm2で照射後、180℃の加熱オーブンで30分間加熱して光変換コーティング層を製造した。製造された光変換コーティング層の膜厚を膜厚測定器(Dektak 6M、Vecco社)を用いて測定して、10μmの塗膜に対して下記の耐高温高湿性およびパターン浮き評価を実施した。
前記実施例2-1~2-13および比較例2-1~2-4によるそれぞれの光変換硬化性組成物をインクジェット方式で5cm×5cmのガラス基板上に塗布した後、窒素条件下、395nmのBlue LED灯を用いて4000mJ/cm2で照射後、180℃の加熱オーブンで30分間加熱して光変換コーティング層を製造した。製造された光変換コーティング層の膜厚を膜厚測定器(Dektak 6M、Vecco社)を用いて測定して、10μmの塗膜に対して下記の耐高温高湿性およびパターン浮き評価を実施した。
(3)耐高温高湿性評価
前記製造された光変換コーティング層をSiOxで蒸着した後、青色光源(XLamp XR-E LED、Royal blue 450、照度3mW/cm2、Cree社)の上部に位置させた後、輝度測定器(CAS140CT Spectrometer、Instrument systems社)を用いて輝度を測定し、同一の光変換シートを温度85℃、湿度85%の高温高湿処理装置(ジェイオテック社、TH-PE)で24時間露出させた後、前記と同様の方法で輝度を測定して、高温高湿処理後の輝度維持率を下記数式1で計算して耐高温高湿性を評価し、その結果は表2に示した。数値が高いほど耐高温高湿性に優れていると判断することができる。
[数式1]
輝度維持率(%)=(温度85℃、湿度85%、24時間処理後の輝度)/(温度85℃、湿度85%、24時間処理前の輝度)×100
前記製造された光変換コーティング層をSiOxで蒸着した後、青色光源(XLamp XR-E LED、Royal blue 450、照度3mW/cm2、Cree社)の上部に位置させた後、輝度測定器(CAS140CT Spectrometer、Instrument systems社)を用いて輝度を測定し、同一の光変換シートを温度85℃、湿度85%の高温高湿処理装置(ジェイオテック社、TH-PE)で24時間露出させた後、前記と同様の方法で輝度を測定して、高温高湿処理後の輝度維持率を下記数式1で計算して耐高温高湿性を評価し、その結果は表2に示した。数値が高いほど耐高温高湿性に優れていると判断することができる。
[数式1]
輝度維持率(%)=(温度85℃、湿度85%、24時間処理後の輝度)/(温度85℃、湿度85%、24時間処理前の輝度)×100
(4)パターン浮き評価
前記製造された光変換コーティング層をOptical Microscopy(Eclipse LV100POL、Nikon社)によりGlassの界面でのパターン浮きの有無を確認した。その結果は表2に示した。
前記製造された光変換コーティング層をOptical Microscopy(Eclipse LV100POL、Nikon社)によりGlassの界面でのパターン浮きの有無を確認した。その結果は表2に示した。
(5)連続ジェッティング回数評価
前記製造された実施例2-1~2-13および比較例2-1~2-4による光変換硬化性組成物をインクジェットプリンティング設備(ユニジェット社)に充填後、ジェッティングヘッドの温度を40℃に固定した後、1分間インク吐出後、30分間放置する過程をジェッティングヘッド部のノズル詰まりでインクが吐出されなくなるまで繰り返し行って連続ジェッティング回数を評価し、その結果を表2に示した。連続ジェッティング回数が増加するほど連続工程に優れた特性が得られると判断することができる。
前記製造された実施例2-1~2-13および比較例2-1~2-4による光変換硬化性組成物をインクジェットプリンティング設備(ユニジェット社)に充填後、ジェッティングヘッドの温度を40℃に固定した後、1分間インク吐出後、30分間放置する過程をジェッティングヘッド部のノズル詰まりでインクが吐出されなくなるまで繰り返し行って連続ジェッティング回数を評価し、その結果を表2に示した。連続ジェッティング回数が増加するほど連続工程に優れた特性が得られると判断することができる。
前記表2を参照すれば、本願のチオール系化合物と特定の金属とからなる金属錯体をリガンド層に有する実施例2-1~2-13の光変換硬化性組成物は、粘度変化率が105%以下と粘度安定性に優れ、耐高温高湿性評価後の輝度維持率が80%以上であり、パターンの浮きが発生せず密着性に優れ、4回以上の連続ジェッティング回数を示す。これに対し、比較例2-1~2-4の光変換硬化性組成物は、粘度安定性、耐高温高湿性、密着性および連続ジェッティング回数特性が著しく低下したことを確認することができる。
したがって、チオール系化合物と特定の金属とからなる金属錯体をリガンド層に有する量子ドットを含む本願の光変換硬化性組成物が、これを含まない光変換硬化性組成物に比べて粘度安定性、耐高温高湿性、密着性およびインクジェット工程特性に優れていることを確認することができた。
Claims (14)
- 表面上にリガンド層を有する量子ドットであって、
前記リガンド層が、チオール系化合物とZn、Mg、AlおよびInからなる群より選択されるいずれか1つの金属とからなる金属錯体を含む、量子ドット。 - 前記チオール系化合物は、下記化学式1で表される化合物である、請求項1に記載の量子ドット。
[化学式1]
(前記化学式1において、
Lは、炭素数1~20の直鎖もしくは分枝鎖のアルカンジイル基であり、
Xは、-OC(=O)-、-C(=O)O-、-C(=O)NH-、または-HNC(=O)-であり、
Yは、炭素数1~20の直鎖もしくは分枝鎖のアルカンジイル基、
であり、
nは、1~15の整数であり、
mは、1~10の整数であり、
Zは、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のアルコキシ基、炭素数3~20のシクロアルキル基、炭素数6~30の芳香族炭化水素基、または炭素数2~20の光重合反応性基である。) - 前記光重合反応性基は、アルケニル基、アルキニル基、またはアクリレート基である、請求項2に記載の量子ドット。
- 前記金属錯体は、下記化学式2で表される化合物である、請求項1に記載の量子ドット。
[化学式2]
(前記化学式2において、
Mは、Zn、Mg、AlまたはInであり、
dは、2または3であり、
Lは、炭素数1~20の直鎖もしくは分枝鎖のアルカンジイル基であり、
Xは、-OC(=O)-、-C(=O)O-、-C(=O)NH-、または-HNC(=O)-であり、
Yは、炭素数1~20の直鎖もしくは分枝鎖のアルカンジイル基、
であり、
nは、1~15の整数であり、
mは、1~10の整数であり、
Zは、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のアルコキシ基、炭素数3~20のシクロアルキル基、炭素数6~30の芳香族炭化水素基、または炭素数2~20の光重合反応性基である。) - 前記光重合反応性基は、アルケニル基、アルキニル基、またはアクリレート基である、請求項4に記載の量子ドット。
- 前記量子ドットは、コアおよびコアを覆ったシェルを含むコア-シェル構造を有し、
前記コアは、In、P、Zn、Ga、Cd、Se、S、Te、Pb、Ag、Hg、N、AsおよびOのうちの2種以上の組み合わせからなる化合物の1種以上を含み、
前記シェルは、In、P、Zn、Ga、Cd、Se、S、Te、Pb、Hg、N、As、O、MnおよびSrのうちの2種以上の組み合わせからなる化合物の1種以上を含むことを特徴とする、請求項1に記載の量子ドット。 - 請求項1~6のいずれか1項に記載の量子ドットと、光重合性化合物および溶剤のうちの1種以上とを含む、量子ドット分散液。
- 請求項1~6のいずれか1項に記載の量子ドットと、散乱粒子、光重合性化合物、光重合性開始剤および酸化防止剤から選択される1種以上とを含む、光変換硬化性組成物。
- 前記光重合性化合物は、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレートを含む、請求項8に記載の光変換硬化性組成物。
- 前記散乱粒子は、TiO2を含む、請求項8に記載の光変換硬化性組成物。
- 前記光重合性開始剤は、オキシム系化合物およびアシルホスフィン系化合物からなる群より選択される1種以上を含む、請求項8に記載の光変換硬化性組成物。
- 請求項8に記載の光変換硬化性組成物を用いて形成される、硬化膜。
- 前記硬化膜は、カラーフィルタまたは光変換積層基材である、請求項12に記載の硬化膜。
- 請求項12に記載の硬化膜を含む、画像表示装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020220009383A KR20230113019A (ko) | 2022-01-21 | 2022-01-21 | 양자점, 양자점 분산액, 광변환 경화성 조성물, 상기 조성물을 이용하여 형성되는 경화막 및 상기 경화막을 포함하는 화상표시장치 |
KR10-2022-0009383 | 2022-01-21 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023107228A true JP2023107228A (ja) | 2023-08-02 |
Family
ID=87214389
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023006599A Pending JP2023107228A (ja) | 2022-01-21 | 2023-01-19 | 量子ドット、量子ドット分散液、光変換硬化性組成物、前記組成物を用いて形成される硬化膜および前記硬化膜を含む画像表示装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2023107228A (ja) |
KR (1) | KR20230113019A (ja) |
CN (1) | CN116478680A (ja) |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101628065B1 (ko) | 2014-08-07 | 2016-06-08 | 주식회사 엘엠에스 | 발광 복합체, 이를 포함하는 조성물, 이의 경화물, 광학 시트, 백라이트 유닛 및 디스플레이 장치 |
JP6448782B2 (ja) | 2015-05-28 | 2019-01-09 | 富士フイルム株式会社 | 量子ドット含有組成物、波長変換部材、バックライトユニット、および液晶表示装置 |
-
2022
- 2022-01-21 KR KR1020220009383A patent/KR20230113019A/ko unknown
-
2023
- 2023-01-16 CN CN202310058758.XA patent/CN116478680A/zh active Pending
- 2023-01-19 JP JP2023006599A patent/JP2023107228A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20230113019A (ko) | 2023-07-28 |
CN116478680A (zh) | 2023-07-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI753119B (zh) | 具有有機配位體之量子點及其用途 | |
JP6570937B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP6928596B2 (ja) | 光変換樹脂組成物およびこれを含む光変換積層基材、これを用いた画像表示装置 | |
TWI652332B (zh) | 自發光感光性樹脂組成物、及使用其製備之彩色濾光片與影像顯示裝置 | |
JP7483645B2 (ja) | 量子ドット、前記量子ドットを含む量子ドット分散液、光変換硬化性組成物、量子ドット発光ダイオード、量子ドットフィルム、前記組成物を用いて形成される硬化膜および前記硬化膜を含む画像表示装置 | |
CN110291431B (zh) | 滤色器和图像显示装置 | |
CN106569389B (zh) | 自发光感光树脂组合物、滤色器和包括滤色器的显示设备 | |
TWI811502B (zh) | 表面上具有配位基層的量子點、包含量子點之光轉換油墨組合物、光轉換像素、包含其之濾色器及圖像顯示裝置 | |
JP6793253B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、カラーフィルタ、及び画像表示装置 | |
JP7485630B2 (ja) | 光変換インク組成物、カラーフィルタ、及び画像表示装置 | |
KR20210154588A (ko) | 양자점, 양자점 분산체, 광변환 경화성 조성물, 양자점 발광다이오드, 양자점 필름, 광 변환 잉크 조성물, 상기 광 변환 잉크 조성물을 이용하여 형성되는 경화막 및 상기 경화막을 포함하는 화상표시장치 | |
JP2023107228A (ja) | 量子ドット、量子ドット分散液、光変換硬化性組成物、前記組成物を用いて形成される硬化膜および前記硬化膜を含む画像表示装置 | |
KR20210113943A (ko) | 양자점, 양자점 분산액, 이를 포함하는 양자점 발광다이오드, 양자점 필름, 광변환 경화성 조성물, 상기 조성물을 이용하여 형성되는 경화막 및 상기 경화막을 포함하는 화상표시장치 | |
KR102519941B1 (ko) | 광변환 수지 조성물, 광변환 시트 및 화상표시장치 | |
CN113249112A (zh) | 量子点及其应用 | |
CN113248953A (zh) | 光转换固化性组合物、固化膜、量子点发光二极管及图像显示装置 | |
KR20230113051A (ko) | 양자점, 양자점 분산액, 광변환 경화성 조성물, 상기 조성물을 이용하여 형성되는 경화막 및 상기 경화막을 포함하는 화상표시장치 | |
KR20230113050A (ko) | 양자점, 양자점 분산액, 광변환 경화성 조성물, 상기 조성물을 이용하여 형성되는 경화막 및 상기 경화막을 포함하는 화상표시장치 | |
TW202336208A (zh) | 量子點、量子點分散液、光轉換固化性組合物、使用該組合物形成的固化膜及圖像顯示裝置 | |
JP7487134B2 (ja) | 光変換インク組成物、カラーフィルタ、及び画像表示装置 | |
KR20220078308A (ko) | 양자점, 상기 양자점을 포함하는 양자점 분산액, 광변환 잉크 조성물, 양자점 발광다이오드, 양자점 필름, 상기 조성물을 이용하여 형성되는 경화막 및 상기 경화막을 포함하는 화상표시장치 | |
KR20220089068A (ko) | 양자점, 양자점 분산체, 광변환 경화성 조성물, 컬러필터, 광변환 적층기재 및 화상표시장치 | |
CN115678536A (zh) | 量子点及其应用 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20240522 |