JP2023088278A - 液供給ユニット、基板処理装置、そして、基板処理方法 - Google Patents

液供給ユニット、基板処理装置、そして、基板処理方法 Download PDF

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Abstract

【課題】本発明は、基板を処理する方法を提供する。【解決手段】本発明によれば、タンクのハウジング内の処理液を前記ハウジングに結合された循環ラインを通じて循環させながら前記循環ラインに設置されたヒーターユニットで前記処理液を加熱して前記処理液の温度を調節し、正常モードでは温度調節された処理液を基板に供給して基板を処理し、非常モードでは前記循環ライン内の処理液を前記循環ラインに連結された排液ラインを通じて前記循環ライン外部に排出する。【選択図】図４

Description

本発明は、基板処理方法及び基板処理装置に関するものであり、より詳細には、基板に高温の液を供給する液供給ユニット、そして、基板処理装置及び基板処理方法に関するものである。
半導体工程は、基板上に薄膜、異物、パーティクルなどを洗浄する工程を含む。これらの工程は、パターン面が上または下に向けるように基板をスピンヘッド上において、スピンヘッドを回転させた状態で基板上に処理液を供給し、以後ウェハーを乾燥することでなされる
最近では処理液にリン酸水溶液のような高温の液が使用される。例えば、リン酸水溶液はリン酸と水を含む。液供給ユニットは供給タンク、液供給ライン、そして、ノズルを有する。供給タンクはリン酸水溶液の温度及びリン酸の濃度が工程条件に合うように調節される。濃度及び温度が調節されたリン酸水溶液は、液供給ラインを通じて供給タンクからノズルに供給される。
図１は、供給タンク９００の一例を概略的に見せてくれる図面である。図１を参照すれば、供給タンク９００はハウジング９２０及び循環ライン９４０を有する。また、ハウジング９２０には外部からハウジング９２０に液が供給される液流入ライン９６０、ハウジング９２０内の廃液を排出する廃液排出ライン９５０、そして、ハウジング９２０内で蒸発した水蒸気を排気するベントライン９７０が連結される。
循環ライン９４０にはポンプ９４２及びヒーター９４４が設置される。ハウジング９２０内のリン酸水溶液は循環ライン９４０に沿って流動しながらヒーター９４４によって加熱される。循環ライン９４０を通じて循環する間加熱によってリン酸水溶液で水が蒸発されることで、リン酸水溶液内のリン酸の濃度が調節される。
一般に、リン酸は１５０℃より高い温度で基板に供給されるので、ヒーター９４４は非常に高い温度を維持する。しかし、工程進行時装置に非常状況が発生される場合、ポンプ９４２とヒーター９４４の動作がすべて停止される。非常状況は工程が進行中に処理液の漏水が発生するか、または処理液の温度や流量などが設定範囲から脱した場合など多様な場合に発生される。
リン酸水溶液が循環ライン９４０を通じて循環する間に非常状況が発生してポンプ９４２が停止されれば、ヒーター９４４の残熱によって循環ライン９４０内に残留するリン酸水溶液の温度が２００℃以上に上昇されることがある。この場合、高温のリン酸水溶液と接触されている部品ら（複数の部品のこと。以下においては部材等の名詞＋「ら」は、複数の部材等のことを示す）が損傷されることがある。ヒーター９４４に提供されたポートと配管を連結に使用される部品が損傷される場合には循環ライン９４０でリン酸水溶液が漏水されることがある。
韓国特許公開第１０-２０１７-０１３９４５３号公報
本発明は、装置に非常状況が発生してポンプの動作が停止される場合にもタンクに提供された循環ラインで液がヒーターの残熱によって高い温度で加熱されることを防止することができる基板処理装置及び方法、そして、これに使用される液供給ユニットを提供することを一目的とする。
本発明の目的はこれに制限されないし、言及されなかったまた他の目的らは下の記載から当業者に明確に理解されることができるであろう。
本発明は、基板を処理する装置を提供する。一実施例によれば、基板処理装置は内部に処理空間を提供するコップ、前記処理空間に基板を支持して基板を回転させる支持ユニット、前記基板に処理液を供給するノズル、そして、前記ノズルに前記処理液を供給する液供給ユニットを含み、前記液供給ユニットは処理液を貯蔵するタンクを含み、前記タンクは内部に処理液が貯蔵される空間を有するハウジング、前記ハウジングに結合されて前記ハウジング内の処理液を循環させる循環ライン、前記循環ラインに設置されて処理液を加熱するヒーターユニット、そして、前記循環ライン内に残留する処理液を排出し、排液バルブが設置される排液ラインを含む。
一例によれば、前記液供給ユニットは前記ヒーターユニットに冷却ガスを供給し、冷却バルブが設置される冷却ガス供給ラインをさらに含むことができる。
一例によれば、前記冷却ガス供給ラインは前記循環ラインに結合されることができる。
一例によれば、前記冷却ガス供給ラインは前記ヒーターユニットより下流で前記循環ラインに結合されることができる。
一例によれば、前記冷却ガス供給ラインは前記ヒーターユニットを向ける方向にクーリングガスを供給するように前記循環ラインに結合されることができる。
他の例によれば、前記冷却ガス供給ラインは前記ハウジングに結合されることができる。
一例によれば、前記循環ラインにはポンプユニットが設置され、前記排液ラインは前記ポンプユニットと前記ヒーターユニットとの間で前記循環ラインに連結されることができる。
一例によれば、前記循環ラインはその長さ方向が上下方向に提供される第１ライン、前記第１ラインから延長され、前記第１ラインより上流に提供されるように前記ハウジングに連結される第２ライン、そして、前記第１ラインから延長され、前記第１ラインより下流に提供されるように前記ハウジングに結合される第３ラインを含み、前記第１ラインにはポンプユニットが設置され、前記冷却ガス供給ラインは前記第３ラインに連結され、前記排液ラインは前記第１ラインに連結されることができる。
一例によれば、前記冷却ガス供給ラインは前記ハウジングに結合され、前記ハウジングにはその内部雰囲気を排気するベントラインが結合されることができる。
一例によれば、前記基板処理装置は前記液供給ユニットを制御する制御機をさらに含み、前記制御機は正常モードでは前記排液バルブを閉鎖(closed)した状態で前記ハウジング内の処理液を前記循環ラインを通じて循環させながら前記ヒーターユニットで前記処理液を加熱し、非常モードでは前記排液バルブを開放(open)状態に変更して前記循環ライン内に残留する処理液を前記排液ラインに排出するように前記液供給ユニットを制御し、前記非常モードでは前記ポンプユニットの動作が停止されることがある。
一例によれば、前記基板処理装置は前記液供給ユニットを制御する制御機をさらに含み、前記制御機は正常モードでは前記排液バルブを閉鎖(closed)した状態で前記ハウジング内の処理液を前記循環ラインを通じて循環させながら前記ヒーターユニットで前記処理液を加熱し、非常モードでは前記排液バルブを開放(open)状態に変更して前記循環ライン内に残留する処理液を前記排液ラインに排出し、前記冷却バルブを開放して前記冷却ガスを前記循環ラインに供給するように前記液供給ユニットを制御して、前記非常モードでは前記ポンプユニットの動作が停止されることができる。
また、本発明は処理液を供給する液供給ユニットを提供する。一実施例によれば、液供給ユニットは内部に処理液が貯蔵される空間を有するハウジング、前記ハウジングに結合されて前記ハウジング内の処理液を循環させる循環ライン、前記循環ラインに設置されて処理液を加熱するヒーターユニット、前記循環ラインに設置されるポンプユニット、そして、前記循環ライン内に残留する処理液を排出し、排液バルブが設置される排液ラインを含む。
一例によれば、前記排液ラインは前記ポンプユニットと前記ヒーターユニットとの間で前記循環ラインに連結されることができる。
一例によれば、前記液供給ユニットは前記ヒーターユニットに冷却ガスを供給し、冷却バルブが設置される冷却ガス供給ラインをさらに有することができる。
一例によれば、前記液供給ユニットは前記液供給ユニットに提供されたバルブらを制御する制御機をさらに含み、前記制御機は正常モードでは前記排液バルブを閉鎖(closed)した状態で前記ハウジング内の処理液を前記循環ラインを通じて循環させながら前記ヒーターユニットに前記処理液を加熱し、非常モードでは前記排液バルブを開放(open)状態に変更して前記循環ライン内に残留する処理液を前記排液ラインに排出するように前記バルブらを制御し、前記非常モードは前記ポンプユニットの動作が停止されることがある。
一例によれば、前記液供給ユニットは前記液供給ユニットに提供されたバルブら（複数のバルブのこと。以下同じ）を制御する制御機をさらに含み、前記制御機は正常モードでは前記排液バルブを閉鎖(closed)した状態で前記ハウジング内の処理液を前記循環ラインを通じて循環させながら前記ヒーターユニットに前記処理液を加熱し、非常モードでは前記排液バルブを開放(open)状態に変更して前記循環ライン内に残留する処理液を前記排液ラインに排出し、前記冷却バルブを開放して前記冷却ガスを前記循環ラインに供給するように前記バルブらを制御することができる。
また、本発明は基板を処理する方法を提供する。一実施例によれば、基板処理方法はタンクのハウジング内の処理液を前記ハウジングに結合された循環ラインを通じて循環させながら前記循環ラインに設置されたヒーターユニットで前記処理液を加熱して前記処理液の温度を調節し、正常モードでは温度調節された処理液を基板に供給して基板を処理し、非常モードでは前記循環ライン内の処理液を前記循環ラインに連結された排液ラインを通じて前記循環ライン外部に排出する。
一例によれば、前記非常モードで前記循環ラインに設置されるポンプユニットの動作は停止され、前記非常モードでは前記循環ラインに冷却ガスを供給して前記冷却ガスで前記ポンプユニットを冷却することができる。
一例によれば、前記排液ラインは前記ポンプユニットと前記ヒーターユニットの間で前記循環ラインに連結されることができる。
一例によれば、前記処理液はリン酸を含むことができる。
本発明の一実施例によれば、供給タンクで非常状況が発生される場合にもヒーターの残熱によって液が高い温度で加熱されることを防止することができる。
また、本発明の一実施例によれば、供給タンクで非常状況が発生される場合に高温で加熱された処理液によって供給タンク内の部品が損傷されることを防止することができる。
本発明の効果が上述した効果らに限定されるものではなくて、言及されない効果らは本明細書及び添付された図面から本発明が属する技術分野で通常の知識を有した者に明確に理解されることができるであろう。
一般な液供給ユニットの構造を概略的に見せてくれる図面である。 本発明の一実施例による基板処理装置を概略的に見せてくれる平面図である。 図２の液処理チャンバの一実施例を概略的に見せてくれる図面である。 本発明の一実施例による液供給ユニットの一例を概略的に見せてくれる図面である。 図４のヒーターユニットの一例を概略的に見せてくれる図面である。 図４の液供給ユニットの正常モード及び非常モードで供給タンクに提供されたバルブらの開閉状態と循環ラインで流体の流れを見せてくれる図面である。 同じく、図４の液供給ユニットの正常モード及び非常モードで供給タンクに提供されたバルブらの開閉状態と循環ラインで流体の流れを見せてくれる図面である。 同じく、図４の液供給ユニットの正常モード及び非常モードで供給タンクに提供されたバルブらの開閉状態と循環ラインで流体の流れを見せてくれる図面である。 図４の液供給ユニットで冷却ガス供給ラインの変形例を見せてくれる図面である。 同じく、図４の液供給ユニットで冷却ガス供給ラインの変形例を見せてくれる図面である。 図４の液供給ユニットの他の実施例を概略的に見せてくれる図面である。 図１１の液供給ユニットの正常モード及び非常モードで供給タンクに提供されたバルブらの開閉状態と循環ラインで流体の流れを見せてくれる図面である。 同じく、図１１の液供給ユニットの正常モード及び非常モードで供給タンクに提供されたバルブらの開閉状態と循環ラインで流体の流れを見せてくれる図面である。 同じく、図１１の液供給ユニットの正常モード及び非常モードで供給タンクに提供されたバルブらの開閉状態と循環ラインで流体の流れを見せてくれる図面である。 図４の液供給ユニットのまた他の実施例を概略的に見せてくれる図面である。 図１５の液供給ユニットの正常モード及び非常モードで供給タンクに提供されたバルブらの開閉状態と循環ラインで流体の流れを見せてくれる図面である。 同じく、図１５の液供給ユニットの正常モード及び非常モードで供給タンクに提供されたバルブらの開閉状態と循環ラインで流体の流れを見せてくれる図面である。 同じく、図１５の液供給ユニットの正常モード及び非常モードで供給タンクに提供されたバルブらの開閉状態と循環ラインで流体の流れを見せてくれる図面である。 液供給ユニットと液処理チャンバの結合状態を概略的に見せてくれる図面である。 同じく、液供給ユニットと液処理チャンバの結合状態を概略的に見せてくれる図面である。
以下、本発明の実施例を添付された図面らを参照してより詳細に説明する。本発明の実施例はさまざまな形態で変形することができるし、本発明の範囲が以下の実施例らに限定されることで解釈されてはいけない。本実施例は当業界で平均的な知識を有した者に本発明をさらに完全に説明するために提供されるものである。したがって、図面での要素の形状はより明確な説明を強調するために誇張されたものである。
図２は、本発明の一実施例による基板処理装置を概略的に見せてくれる平面図である。
図２を参照すれば、基板処理装置はインデックスモジュール１０、処理モジュール２０、そして、制御機３０を含む。一実施例によって、インデックスモジュール１０と処理モジュール２０は一方向に沿って配置される。以下、インデックスモジュール１０と処理モジュール２０が配置された方向を第１方向９２といって、上部から眺める時第１方向９２と垂直な方向を第２方向９４といって、第１方向９２及び第２方向９４にすべて垂直な方向を第３方向９６という。
インデックスモジュール１０は基板(W)が収納された容器８０から基板(W)を処理モジュール２０に返送し、処理モジュール２０で処理が完了された基板(W)を容器８０に収納する。インデックスモジュール１０の長さ方向は第２方向９４に提供される。インデックスモジュール１０はロードポート１２(loadport)とインデックスフレーム１４を有する。インデックスフレーム１４を基準にロードポート１２は処理モジュール２０の反対側に位置される。基板(W)らが収納された容器８０はロードポート１２に置かれる。ロードポート１２は複数個が提供されることができるし、複数のロードポート１２は第２方向９４に沿って配置されることができる。
容器８０としては前面開放一体式ポッド(Front Open Unified Pod：FOUP)のような密閉用容器が使用されることができる。容器８０はオーバーヘッドトランスファー(Overhead Transfer)、オーバーヘッドコンベヤー(Overhead Conveyor)、または自動案内車両(Automatic Guided Vehicle)のような移送手段(図示せず)や作業者によってロードポート１２に置かれることができる。
インデックスフレーム１４にはインデックスロボット１２０が提供される。インデックスフレーム１４内には長さ方向が第２方向９４に提供されたガイドレール１４０が提供され、インデックスロボット１２０はガイドレール１４０上で移動可能に提供されることができる。インデックスロボット１２０は基板(W)が置かれるハンド１２２を含んで、ハンド１２２は前進及び後進移動、第３方向９６を軸にした回転、そして、第３方向９６に沿って移動可能に提供されることができる。ハンド１２２は複数個が上下方向に離隔されるように提供され、ハンド１２２らはお互いに独立的に前進及び後進移動することができる。
処理モジュール２０はバッファーユニット２００、返送チャンバ３００、そして、処理チャンバ４００を含む。バッファーユニット２００は処理モジュール２０に搬入される基板(W)と処理モジュール２０から搬出される基板(W)が一時的にとどまる空間を提供する。処理チャンバ４００は基板(W)上に液を供給して基板(W)を液処理する処理工程を遂行する。返送チャンバ３００はバッファーユニット２００及び液処理チャンバ４００の間に基板(W)を返送する。
返送チャンバ３００はその長さ方向が第１方向９２に提供されることができる。バッファーユニット２００はインデックスモジュール１０と返送チャンバ３００の間に配置されることができる。液処理チャンバ４００は複数個提供され、返送チャンバ３００の側部に配置されることができる。液処理チャンバ４００と返送チャンバ３００は第２方向９４に沿って配置されることができる。バッファーユニット２００は返送チャンバ３００の一端に位置されることができる。
一例によれば、液処理チャンバ４００らは返送チャンバ３００の両側にそれぞれ配置される。返送チャンバ３００の両側それぞれで液処理チャンバ４００らは第１方向９２及び第３方向９６に沿ってそれぞれAXB(A、Bはそれぞれ１または１より大きい自然数)配列で提供されることができる。
返送チャンバ３００は返送ロボット３２０を有する。返送チャンバ３００内には長さ方向が第１方向９２に提供されたガイドレール３４０が提供され、返送ロボット３２０はガイドレール３４０上で移動可能に提供されることができる。返送ロボット３２０は基板(W)が置かれるハンド３２２を含んで、ハンド３２２は前進及び後進移動、第３方向９６を軸にした回転、そして、第３方向９６に沿って移動可能に提供されることができる。ハンド３２２は複数個が上下方向に離隔されるように提供され、ハンド３２２らはお互いに独立的に前進及び後進移動することができる。
バッファーユニット２００は基板(W)が置かれるバッファー２２０を複数個具備する。バッファー２２０らは第３方向９６に沿ってお互いの間に離隔されるように配置されることができる。バッファーユニット２００は前面(front face)と後面(rear face)が開放される。前面はインデックスモジュール１０と見合わせる面であり、後面は返送チャンバ３００と見合わせる面である。インデックスロボット１２０は前面を通じてバッファーユニット２００に近付いて、返送ロボット３２０は後面を通じてバッファーユニット２００に近付くことができる。
図３は、図２の液処理チャンバ４００の一実施例を概略的に見せてくれる図面である。図３を参照すれば、液処理チャンバ４００はハウジング４１０、コップ４２０、支持ユニット４４０、ノズルユニット４６０、昇降ユニット４８０、供給ユニット、そして、制御機を有する。
ハウジング４１０は概して直方体形状で提供される。コップ４２０、支持ユニット４４０、そして、液供給ユニット（ノズルユニット）４６０はハウジング４１０内に配置される。
コップ４２０は上部が開放された処理空間を有して、基板(W)は処理空間内で液処理される。支持ユニット４４０は処理空間内で基板(W)を支持する。液供給ユニット４６０は支持ユニット４４０に支持された基板(W)上に液を供給する。液は複数種類で提供され、基板(W)上に順次に供給されることができる。昇降ユニット４８０はコップ４２０と支持ユニット４４０との間の相対高さを調節する。
一例によれば、コップ４２０は複数の回収桶４２２、４２４、４２６を有する。回収桶ら４２２、４２４、４２６はそれぞれ基板処理に使用された液を回収する回収空間を有する。それぞれの回収桶４２２、４２４、４２６は支持ユニット４４０をくるむリング形状で提供される。液処理工程が進行時基板(W)の回転によって飛散される処理液は各回収桶４２２、４２４、４２６の流入口４２２a、４２４a、４２６aを通じて回収空間に流入される。一例によれば、コップ４２０は第１回収桶４２２、第２回収桶４２４、そして、第３回収桶４２６を有する。第１回収桶４２２は支持ユニット４４０をくるむように配置され、第２回収桶４２４は第１回収桶４２２をくるむように配置され、第３回収桶４２６は第２回収桶４２４をくるむように配置される。第２回収桶４２４で液を流入する第２流入口４２４aは第１回収桶４２２に液を流入する第１流入口４２２aより上部に位置され、第３回収桶４２６に液を流入する第３流入口４２６aは第２流入口４２４aより上部に位置されることができる。
支持ユニット４４０は支持板４４２と駆動軸４４４を有する。支持板４４２の上面は概して円形で提供されて基板(W)より大きい直径を有することができる。支持板４４２の中央部には基板(W)の後面を支持する支持ピン４４２aが提供され、支持ピン４４２aは基板(W)が支持板４４２から一定距離離隔されるようにその上端が支持板４４２から突き出されるように提供される。支持板４４２の縁部にはチャックピン４４２bが提供される。チャックピン４４２bは支持板４４２から上部に突き出されるように提供され、基板(W)が回転される時基板(W)が支持ユニット４４０から離脱されないように基板(W)の側部を支持する。駆動軸４４４は駆動機４４６によって駆動され、基板(W)の底面中央と連結され、支持板４４２をその中心軸を基準に回転させる。
ノズルユニット４６０は第１ノズル４６２と第２ノズル４６４を有する。第１ノズル４６２は処理液を基板(W)上に供給する。処理液は常温より高い温度の液であることができる。一例によれば、処理液はリン酸水溶液であることができる。リン酸水溶液はリン酸と水の混合液であることができる。選択的にリン酸水溶液は他の物質をさらに含むことができる。例えば、他の物質はシリコンであることができる。これと異なり、処理液は硫酸を含む液であることができる。例えば、処理液は過酸化硫黄混合液であることができる。第２ノズル４６４は水を基板(W)上に供給する。水は純水(pure water)または脱イオン水(deionized water)であることがある。
第１ノズル４６２と第２ノズル４６４はお互いに相異なアーム４６１にそれぞれ支持され、これらアーム４６１らは独立的に移動されることができる。選択的に第１ノズル４６２と第２ノズル４６４は等しいアームに装着されて同時に移動されることができる。
選択的に液供給ユニットは、第１ノズル４６２と第２ノズル４６４以外に一つまたは複数のノズルをさらに具備することができる。加えられるノズルは他の種類の処理液を基板に供給することができる。例えば、他の種類の処理液は基板上で異物を除去するための酸溶液または塩基溶液であることがある。また、他の種類の処理液は表面張力が水より低いアルコールであることができる。例えば、アルコールはイソプロピルアルコールであることができる。
昇降ユニット４８０はコップ４２０を上下方向に移動させる。コップ４２０の上下移動によってコップ４２０と基板(W)との間の相対高さが変更される。これによって基板(W)に供給される液の種類によって処理液を回収する回収桶４２２、４２４、４２６が変更されるので、液らを分離回収することができる。前述したところと異なり、コップ４２０は固定設置され、昇降ユニット４８０は支持ユニット４４０を上下方向に移動させることができる。
液供給ユニット１０００は処理液を第１ノズル４６２に供給する。下では処理液がリン酸水溶液である場合を例を挙げて説明する。
図４は、液供給ユニットの一例を概略的に見せてくれる図面である。図４を参照すれば、液供給ユニット１０００は供給タンク１２００を有する。供給タンク１２００はハウジング１２２０及び循環ライン１２４０を有する。
ハウジング１２２０は直方体または円筒形状で提供される。ハウジング１２２０は内部にリン酸水溶液が貯蔵される空間を有する。
ハウジング１２２０には流入ライン１４２０及び流出ライン１４４０が連結される。流入ライン１４２０及び流出ライン１４４０にはそれぞれバルブ(図示せず)が設置される。リン酸水溶液は流入ライン１４２０を通じてハウジング１２２０内に流入される。リン酸水溶液は基板処理に使用される設定温度より低い温度で流入ライン１４２０を通じてハウジング１２２０内に流入されることができる。また、リン酸水溶液は基板処理に使用されるリン酸の設定濃度より低い濃度で流入ライン１４２０を通じてハウジング１２２０内に流入されることができる。選択的にリン酸水溶液は設定温度及び設定濃度で調節された状態で流入ライン１４２０を通じてハウジング１２２０内に流入されることができる。温度及び濃度が調節された処理液は流出ライン１４４０を通じてハウジング１２２０から外部に供給される。流入ライン１４２０と流出ライン１４４０はそれぞれハウジング１２２０の上壁を通じてハウジング１２２０に結合されることができる。
ハウジング１２２０には廃液ライン１４６０が連結される。廃液ライン１４６０にはバルブ(図示せず)が設置される。リン酸水溶液を一定回数または一定期間再使用した後リン酸水溶液を廃棄する時、ハウジング１２２０内のリン酸水溶液は廃液ライン１４６０を通じてハウジング１２２０外部に排出される。
ハウジング１２２０にはリン酸補充ライン１４８２と水補充ライン１４８４が連結されることができる。リン酸補充ライン１４８２及び水補充ライン１４８４にはそれぞれバルブ(図示せず)が設置される。リン酸補充ライン１４８２はハウジング１２２０内に流入されたリン酸水溶液にリン酸を補って、水補充ライン１４８４はハウジング１２２０内に流入されたリン酸水溶液に水を補うことができる。リン酸及び水の補充はハウジング１２２０内に提供された水位測定センサー１２２２によって測定されたリン酸水溶液の水位に基礎してなされることができる。選択的にリン酸水溶液を一定回数または一定期間再使用してリン酸水溶液をハウジング１２２０から排出した後、リン酸及び水の補充がなされることができる。リン酸水溶液にシリコンが含有された場合、シリコン補充ライン１４８が追加で連結されることができる。
ハウジング１２２０にはベントライン１４９０が連結される。ベントライン１４９０はハウジング１２２０内に貯蔵されたリン酸水溶液から蒸発された水蒸気をハウジング１２２０外部に排気する。ベントライン１４９０はハウジング１２２０の上面に結合される。ベントライン１４９０は他のラインらに比べて小さな直径で提供される。ハウジング１２２０内部が所定圧力以上にある場合、ハウジング１２２０内のガスはベントライン１４９０を通じて排出されることができる。
ハウジング１２２０には循環ライン１２４０が連結される。一例によれば、循環ライン１２４０の一端は入口１２４０aで機能し、ハウジング１２２０の底面に結合される。循環ライン１２４０の他端は出口１２４０bで機能し、ハウジング１２２０内のリン酸水溶液内に浸漬される。選択的に循環ライン１２４０の他端はハウジング１２２０内に貯蔵されたリン酸水溶液の水面より高く位置されることができる。
循環ライン１２４０にはポンプユニット１５００及びヒーターユニット１６００が装着される。ポンプユニット１５００はハウジング１２２０内のリン酸水溶液が循環ライン１２４０内を流れるようにする流動圧を提供する。ヒーターユニット１６００は循環ライン１２４０内を流れるリン酸水溶液を加熱する。一例によれば、ヒーターユニット１６００はリン酸水溶液が設定温度で加熱されるように制御される。設定温度は約１５０℃乃至１８０℃であることがある。
図５は、ヒーターユニット１６００の一例を見せてくれる。
図５を参照すれば、ヒーターユニット１６００はボディー１６２０及びヒーター１６４０を有する。ヒーター１６４０はボディー１６２０内部に位置される。ボディー１６２０には第１ポート１６２２と第２ポート１６２４が提供される。リン酸水溶液は第１ポート１６２２を通じてヒーターユニット１６００の内部に流入され、第２ポート１６２４を通じてヒーターユニット１６００から外部に流出される。ボディー１６２０の内部にはリン酸水溶液が流れる流路１６６０が形成される。流路１６６０は第１ポート１６２２及び第２ポート１６２４と連結される。一例によれば、流路１６６０は流入路１６６２、流出路１６６４、そして、連結路でなされることができる。流入路１６６２の一端に第１ポート１６２２が位置され、流出路１６６４の一端に第２ポート１６２４と位置される。連結路１６６６は流入路１６６２と流出路１６６４を連結する。流入路１６６２と流出路１６６４はお互いに対向されるように提供されることができる。流入路１６６２と流出路１６６４はお互いに平行で一定距離離隔されるように位置されることができる。ヒーター１６４０は流入路１６６２、流出路１６６４、そして、連結路１６６６で取り囲まれられた空間に位置されることができる。ヒーターユニット１６００の構造は、これに限定されないし多様に変更されることができる。
循環ライン１２４０は第１ライン１２４２、第２ライン１２４４、そして、第３ライン１２４６を含む。第１ライン１２４２はハウジング１２２０の外部に位置される。一例によれば、第１ライン１２４２は概して上下方向に位置されることができる。ヒーターユニット１６００に提供された流路１６６０は第１ライン１２４２の一部に提供されることができる。第２ライン１２４４は循環ライン１２４０の入口１２４０aを含む。第２ライン１２４４は第１ライン１２４２の下端から延長されてハウジング１２２０の底面に結合される。第３ライン１２４６は循環ライン１２４０の出口１２４０bを含む。第３ライン１２４６は第１ライン１２４２の上端から延長され、ハウジング１２２０の上面を通じてハウジング１２２０に結合される。第３ライン１２４６で出口１２４０bはハウジング１２２０内に貯蔵されたリン酸水溶液内に浸漬されることができる。第２ライン１２４４にはバルブ(V１)が設置され、第３ライン１２４６にはバルブ(V２)が設置されることができる。
一例によれば、ヒーターユニット１６００は第１ライン１２４２に設置され、ポンプユニット１５００は第２ライン１２４４に設置されることができる。
循環ライン１２４０には排液ライン１７００が連結される。排液ライン１７００には排液バルブ(V３)が設置される。選択的に排液バルブ(V３)は排液ライン１７００が循環ライン１２４０から分岐される支点に三方バルブで提供されることができる。排液ライン１７００は循環ライン１２４０内に残留するリン酸水溶液を排出ができるように提供される。排液ライン１７００はヒーターユニット１６００より上流で循環ライン１２４０に連結される。一例によれば、排液ライン１７００は第１ライン１２４２と第２ライン１２４４が接続される支点に連結されることができる。選択的に排液ライン１７００は上の支点とヒーターユニット１６００の第１ポート１６２２との間で第１ライン１２４２に連結されることができる。
供給タンク１２００には冷却ガス供給ライン１８００が提供される。冷却ガス供給ライン１８００には冷却バルブ(V４)が装着される。冷却ガスは後述する非常モードでヒーターユニット１６００を冷却する。一例によれば、冷却ガス供給ライン１８００は循環ライン１２４０に結合される。冷却ガス供給ライン１８００はヒーターユニット１６００より下流で循環ライン１２４０に連結されることができる。冷却ガス供給ライン１８００は第１ライン１２４２と第３ライン１２４６が接続される支点に連結されることができる。この場合、冷却ガス供給ライン１８００は第１ライン１２４２の上端部で垂直の下に向ける方向に冷却ガスを供給するように提供される。冷却ガスとしては窒素ガスのような非活性ガスが使用されることができる。選択的に冷却ガスとしては空気が使用されることができる。冷却ガスは常温の温度で供給されることができる。選択的に冷却ガスは常温より低い温度で供給されることができる。
前述した例では廃液ライン１４６０と流出ライン１４４０がそれぞれハウジング１２２０に連結されることで図示した。しかし、これと他に廃液ライン１４６０と流出ライン１４４０は循環ライン１２４０に連結されることができる。
また、図示されなかったが、供給タンク１２００にはリン酸水溶液でリン酸の濃度を測定する濃度計及びリン酸水溶液の温度を測定する温度計が設置されることができる。濃度計及び温度計はハウジング１２２０または循環ライン１２４０に設置されることができる。
制御機１９００は液供給ユニット１０００に提供されたそれぞれのバルブら(V１、V２、V３、V４)の動作を制御する。一例によれば、基板処理装置１は正常モード(normal mode)と非常モード(emergency mode)で動作される。基板を処理する間に、装置１は正常モードで運営される。正常モードで運営される途中に、装置１に問題が発生されることが感知されれば、装置１は非常モードに変更される。例えば、処理液の供給途中に、処理液の漏水が発生することが感知されるか、または処理液の供給流量及び処理液の濃度などが設定範囲から脱した場合非常モードに変更されることができる。また、基板を処理する途中に装置１を正常に運営することができない場合非常モード状態に変更されることができる。例えば、返送ロボットを正常に作動することができない場合に非常モード状態に変更されることができる。正常モードから非常モードに変更されれば、装置１の通常的な作動が停止される。非常モードでは液供給ユニットに提供されたポンプユニット１５００及びヒーターユニット１６００の動作も停止される。
図６乃至図８は、正常モード及び非常モードで供給タンク１２００に提供されたバルブらの開閉状態と循環ライン１２４０で流体の流れを見せてくれる図面である。図６は正常モードでバルブらの制御状態を見せてくれて、図７及び図８は非常モードでバルブらの制御状態を見せてくれる図面らである。図６乃至図８で内部が空いたバルブは開放状態(open state)であり、内部が満たされたバルブは閉鎖状態(closed state)である。また、図６乃至図８において実線でなされた矢印はリン酸水溶液の流れを見せてくれて、点線でなされた矢印は冷却ガスの流れを見せてくれる。
正常モードである時、図６のように制御機１９００は循環ライン１２４０に設置されたバルブら(V１、V２)を開放し、排液ライン１７００に設置された排液バルブ(V３)及び冷却ガス供給ライン１８００に設置された冷却バルブ(V４)は閉鎖する。これによってハウジング１２２０内のリン酸水溶液は循環ライン１２４０を通じて循環し、循環する途中にヒーター１６４０によって加熱される。
非常モードである時、図７のように制御機１９００は、循環ライン１２４０に設置されたバルブら(V１、V２)を閉鎖し、排液ライン１７００に設置されたバルブ(V３)を開放する。冷却バルブ(V４)は閉鎖された状態を維持する。これによって、循環ライン１２４０上に残留するリン酸水溶液は排液ライン１７００を通じて排出される。循環ライン１２４０のうちで第１ライン１２４２に残留するリン酸水溶液はその自重によって排液ライン１７００に排出されることができる。以後、図８のように制御機１９００は冷却バルブ(V４)を開放する。循環ライン１２４０に設置されたバルブら(V１、V２)は閉鎖された状態で維持され、排液バルブ(V３)は開放された状態を維持する。これによって、冷却ガス供給ライン１８００から冷却ガスがヒーターユニット１６００を向けて供給される。冷却ガスはヒーターユニット１６００を冷却し、排液ライン１７００を通じて循環ライン１２４０の外部に排出される。
本実施例では非常モードである時循環ライン１２４０に残留するリン酸水溶液を循環ライン１２４０外部に排出する。したがって、ヒーター１６４０の動作が停止された以後にも、ヒーター１６４０に残っている残熱によって循環ライン１２４０に残留するリン酸水溶液が高温で加熱されることを防止することができる。また、非常モードである時循環ライン１２４０に冷却ガスを供給してヒーター１６４０を冷却するので、ヒーター１６４０の残熱によってヒーター１６４０周りの部品が損傷されることを防止することができる。
前述した例では非常モードである時排液バルブ(V３)を先に開放し、以後に冷却バルブ(V４)を開放することで説明した。しかし、これと異なり排液バルブ(V３)と冷却バルブ(V４)は同時に開放されることができる。
図６では冷却ガス供給ライン１８００が第１ライン１２４２と第３ライン１２４６が連結される支点に設置されることで説明した。しかし、これと異なり冷却ガス供給ライン１８００aはヒーターユニット１６００の下流中にヒーターユニット１６００と隣接した位置で第１ライン１２４２に連結されることができる。冷却ガス供給ライン１８００aは図９のように第１ライン１２４２に垂直であるように連結されることができる。
選択的に冷却ガス供給ライン１８００bは、図１０のようにヒーターユニット１６００を向ける方向に第１ライン１２４２に傾くように連結されることができる。この場合、冷却ガス供給ライン１８００bを通じて供給される冷却ガスの大部分をヒーターユニット１６００を向ける方向に直接供給することができる。
図１１は、図４の液供給ユニットの他の実施例を概略的に見せてくれる図面である。以下では図４の実施例と相異な部分を中心に説明する。
図１１の液供給ユニット２０００には冷却ガス供給ラインが提供されない。また、図１１の液供給ユニットで循環ライン１２４０のうちで第３ライン１２４６の出口１２４０bはハウジング１２２０内のリン酸水溶液の水位より高い位置に位置される。
図１２乃至図１４は、正常モード及び非常モードで供給タンク１２００に提供されたバルブらの開閉状態と循環ライン１２４０で流体の流れを見せてくれる図面である。図１２は正常モードでバルブらの制御状態を見せてくれて、図１３及び図１４は非常モードでバルブらの制御状態及びリン酸水溶液とガスの流れ経路を見せてくれる図面らである。図１２乃至図１４で内部が空いたバルブは開放状態(open state)であり、内部が満たされたバルブは閉鎖状態(closed state)である。また、図１２乃至図１４において実線でなされた矢印はリン酸水溶液の流れを見せてくれて、点線でなされた矢印はガスの流れを見せてくれる。
正常モードである時、図１２のように制御機１９００は循環ライン１２４０に設置されたバルブら(V１、V２)を開放し、排液ライン１７００に設置された排液バルブ(V３)を閉鎖する。これによってハウジング１２２０内のリン酸水溶液は循環ライン１２４０を通じて循環し、循環する途中にヒーター１６４０によって加熱される。
非常モードである時、図１３及び図１４のように制御機１９００は第２ライン１２４４に設置されたバルブら(V１)を閉鎖し、排液ライン１７００に設置されたバルブ(V３)を開放する。第３ライン１２４６に設置されたバルブ(V２)は開放された状態を維持する。これによって、図１３のように循環ライン１２４０上に残留するリン酸水溶液は排液ライン１７００を通じて排出される。循環ライン１２４０でリン酸水溶液が重力によって排出されることによって循環ライン１２４０内部はハウジング１２２０内部に比べて陰圧になる。これによりハウジング１２２０内に残っているガスが圧力差によって第３ライン１２４６内に流入される。以後、図１４のようにガスはヒーターユニット１６００を通過して流れた後排液ライン１７００に排出される。一般に、ハウジング１２２０内に残っているガスの温度は約６０℃から約７０℃でヒーター１６４０より低い温度である。したがって、ハウジング１２２０内のガスがヒーターユニット１６００を通過することによってヒーターユニット１６００が冷却される。ハウジング１２２０内のガスは空気であることがある。
図１５は、図４の液供給ユニットのまた他の実施例を概略的に見せてくれる。以下では図４の実施例と相異な構造を中心に説明する。
図１５の液供給ユニット３０００で冷却ガス供給ライン１８００cは、ハウジング１２２０に結合される。また、図１１の液供給ユニット３０００で循環ライン１２４０のうちで第３ライン１２４６の出口はハウジング１２２０内のリン酸水溶液の水位より高い位置に位置される。
図１６乃至図１８は、正常モード及び非常モードで供給タンク１２００に提供されたバルブらの開閉状態と循環ライン１２４０で流体の流れを見せてくれる図面である。図１６は正常モードでバルブらの制御状態を見せてくれて、図１７及び図１８は非常モードでバルブらの制御状態及びリン酸水溶液とガスの流れ経路を見せてくれる図面らである。図１６乃至図１８において内部が空いたバルブは開放状態(open state)であり、内部が満たされたバルブは閉鎖状態(closed state)である。また、図１６乃至図１８において実線でなされた矢印はリン酸水溶液の流れを見せてくれて、点線でなされた矢印は冷却ガスの流れを見せてくれる。
正常モードである時、図１６のように制御機１９００は循環ライン１２４０に設置されたバルブら(V１、V２)を開放し、排液ライン１７００に設置された排液バルブ(V３)及び冷却ガス供給ライン１８００に設置された冷却バルブ(V４)を閉鎖する。これによってハウジング１２２０内のリン酸水溶液は循環ライン１２４０を通じて循環し、循環する途中にヒーター１６４０によって加熱される。
非常モードである時、図１７のように制御機１９００は第２ライン１２４４に設置されたバルブ(V１)を閉鎖し、排液ライン１７００に設置されたバルブ(V３)を開放する。第３ライン１２４６に設置されたバルブ(V２)は開放された状態を維持し、冷却バルブ(V４)は閉鎖された状態を維持する。これによって、循環ライン１２４０上に残留するリン酸水溶液は排液ライン１７００を通じて排出される。循環ライン１２４０のうちで第１ライン１２４２に残留するリン酸水溶液はその自重によって排液ライン１７００に排出されることができる。以後、図１８のように制御機１９００は冷却バルブ(V４)を開放する。第２ライン１２４４に設置されたバルブら(V１)は閉鎖された状態で維持され、第３ライン１２４６に設置されたバルブ(V２)及び排液バルブ(V３)は開放された状態を維持する。これによって、冷却ガス供給ライン１８００からガスがハウジング１２２０内に供給される。ハウジング１２２０内に供給されたガスは第３ライン１２４６に流入され、以後ヒーターユニット１６００を向けて流れる。冷却ガスはヒーターユニット１６００を冷却し、排液ライン１７００を通じて循環ライン１２４０外部に排出される。
前述した例では非常モードである時排液バルブ(V３)を先ず開放し、以後に冷却バルブ(V４)を開放することで説明した。しかし、これと異なり排液バルブ(V３)と冷却バルブ(V４)は同時に開放されることができる。
前述した例では正常モードである時冷却バルブ(V４)が閉鎖され、非常モードである時冷却バルブ(V４)が開放されることで説明した。しかし、これと異なり正常モードでも冷却バルブ(V４)は開放されることができる。この場合、冷却ガスとしてはドライエア(dry air)が使用されることができる。正常モードでハウジング１２２０内に供給されたドライエアはハウジング１２２０内の湿度をリン酸水溶液から水の蒸発を促進することができる。
前述した例では非常モードである時第２ライン１２４４に設置されたバルブ(V１)が閉鎖されたことで説明した。しかし、これと異なり非常モードである時第２ライン１２４４に設置されるバルブ(V１)は開放されることができる。
図１９と図２０は、それぞれ液供給ユニットと液処理チャンバの結合状態を概略的に見せてくれる図面らである。
図１９に示されたところのように、供給タンク１２００のハウジング１２２０に連結された流入ライン１４２０は液処理チャンバ４００に直接結合されることができる。この場合、液処理チャンバ４００で基板処理に使用された処理液は供給タンク１２００のハウジング１２２０に直接回収される。また、流出ライン１４４０は液処理チャンバ４００のノズルに直接結合されることができる。この場合、供給タンク１２００で温度及び濃度が調節されたリン酸水溶液は液処理チャンバ４００のノズルに直接供給される。
また、図２０に示されたところのように、液処理チャンバ４００で基板処理に使用された処理液は回収タンク５００１に直接回収され、以後に回収タンク５００１から供給タンク１２００に流入ライン１４２０を通じて処理液が流入されることができる。また、供給タンク１２００で温度及び濃度が調節されたリン酸水溶液は流出ライン１４４０を通じてバッファータンク５００２に供給され、以後にバッファータンク５００２からノズルにリン酸水溶液が供給されることができる。回収タンク５００１とバッファータンク５００２のうちで何れか一つ、または回収タンク５００１とバッファータンク５００２は供給タンク１２００と同一または類似な構造で提供されることができる。
前述した例では供給タンク１２００に貯蔵された処理液がリン酸水溶液であることで例を挙げて説明した。しかし、これと異なり、供給タンク１２００に貯蔵された処理液は加熱された状態で基板に供給される他の種類の処理液であることができる。例えば、処理液は硫酸を含む液であることができる。例えば、処理液は硫酸と過酸化水素の混合液であることがある。選択的に処理液は水酸化アンモニウム、過酸化水素、そして、水の混合液であることがある。選択的に処理液はイソプロピルアルコールのような有機溶剤であることがある。
以上の詳細な説明は本発明を例示するものである。また、前述した内容は本発明の望ましい実施形態を示して説明するものであり、本発明は多様な他の組合、変更及び環境で使用することができる。すなわち、本明細書に開示された発明の概念の範囲、著わした開示内容と均等な範囲及び/または当業界の技術または知識の範囲内で変更または修正が可能である。著わした実施例は本発明の技術的思想を具現するための最善の状態を説明するものであり、本発明の具体的な適用分野及び用途で要求される多様な変更も可能である。したがって、以上の発明の詳細な説明は開示された実施状態で本発明を制限しようとする意図ではない。また、添付された請求範囲は他の実施状態も含むことで解釈されなければならない。
１０００、２０００、３０００ 液処理ユニット
１２００ 供給タンク
１２２０ ハウジング
１２４０ 循環ライン
１５００ ポンプユニット
１６００ ヒーターユニット
１７００ 排液ライン
１８００ 冷却ガス供給ライン

Claims (20)

  1. 基板を処理する装置において、
    内部に処理空間を提供するコップと、
    前記処理空間に基板を支持して基板を回転させる支持ユニットと、
    前記基板に処理液を供給するノズルと、そして
    前記ノズルに前記処理液を供給する液供給ユニットを含むが、
    前記液供給ユニットは、
    処理液を貯蔵するタンクを含み、
    前記タンクは、
    内部に処理液が貯蔵される空間を有するハウジングと、
    前記ハウジングに結合されて前記ハウジング内の処理液を循環させる循環ラインと、
    前記循環ラインに設置されて処理液を加熱するヒーターユニットと、そして
    前記循環ライン内に残留する処理液を排出し、排液バルブが設置される排液ラインを含む基板処理装置。
  2. 前記液供給ユニットは、
    前記ヒーターユニットに冷却ガスを供給し、冷却バルブが設置される冷却ガス供給ラインを有する請求項１に記載の基板処理装置。
  3. 前記冷却ガス供給ラインは前記循環ラインに結合される請求項２に記載の基板処理装置。
  4. 前記冷却ガス供給ラインは前記ヒーターユニットより下流で前記循環ラインに結合される請求項３に記載の基板処理装置。
  5. 前記冷却ガス供給ラインは前記ヒーターユニットを向ける方向に冷却ガスを供給するように前記循環ラインに連結される請求項４に記載の基板処理装置。
  6. 前記冷却ガス供給ラインは前記ハウジングに結合される請求項２に記載の基板処理装置。
  7. 前記循環ラインにはポンプユニットが設置され、
    前記排液ラインは前記ポンプユニットと前記ヒーターユニットとの間で前記循環ラインに連結される請求項１乃至請求項６のうちで何れか一つに記載の基板処理装置。
  8. 前記循環ラインは、
    その長さ方向が上下方向に提供される第１ラインと、
    前記第１ラインから延長され、前記第１ラインより上流に提供されるように前記ハウジングに連結される第２ラインと、
    前記第１ラインから延長され、前記第１ラインより下流に提供されるように前記ハウジングに結合される第３ラインを含み、
    前記第１ラインにはポンプユニットが設置され、
    前記冷却ガス供給ラインは前記第３ラインに連結され、
    前記排液ラインは前記第１ラインに連結される請求項２乃至請求項６のうちで何れか一つに記載の基板処理装置。
  9. 前記クーリングガス供給ラインは前記ハウジングに結合され、
    前記ハウジングにはその内部雰囲気を排気するベントラインが結合される請求項１に記載の基板処理装置。
  10. 前記基板処理装置は前記液供給ユニットを制御する制御機をさらに含み、
    前記制御機は、
    正常モードでは前記排液バルブを閉鎖した状態で前記ハウジング内の処理液を前記循環ラインを通じて循環させながら前記ヒーターユニットに前記処理液を加熱し、非常モードでは前記排液バルブを開放状態に変更して前記循環ライン内に残留する処理液を前記排液ラインに排出するように前記液供給ユニットを制御し、
    前記非常モードでは前記ポンプユニットの動作が停止される請求項１乃至請求項６のうちで何れか一つに記載の基板処理装置。
  11. 前記基板処理装置は前記液供給ユニットを制御する制御機をさらに含み、
    前記制御機は、
    正常モードでは前記排液バルブを閉鎖した状態で前記ハウジング内の処理液を前記循環ラインを通じて循環させながら前記ヒーターユニットで前記処理液を加熱し、非常モードでは前記排液バルブを開放状態に変更して前記循環ライン内に残留する処理液を前記排液ラインに排出し、前記冷却バルブを開放して前記冷却ガスを前記循環ラインに供給するように前記液供給ユニットを制御し、
    前記非常モードでは前記ポンプユニットの動作が停止される請求項２乃至請求項６のうちで何れか一つに記載の基板処理装置。
  12. 処理液を供給する液供給ユニットにおいて、
    内部に処理液が貯蔵される空間を有するハウジングと、
    前記ハウジングに結合されて前記ハウジング内の処理液を循環させる循環ラインと、
    前記循環ラインに設置されて処理液を加熱するヒーターユニットと、
    前記循環ラインに設置されるポンプユニットと、そして
    前記循環ライン内に残留する処理液を排出し、排液バルブが設置される排液ラインを含む基板処理装置。
  13. 前記排液ラインは前記ポンプユニットと前記ヒーターユニットとの間で前記循環ラインに連結される請求項１２に記載の基板処理装置。
  14. 前記液供給ユニットは前記ヒーターユニットに冷却ガスを供給し、冷却バルブが設置される冷却ガス供給ラインをさらに有する請求項１２に記載の基板処理装置。
  15. 前記液供給ユニットは前記液供給ユニットに提供されたバルブらを制御する制御機をさらに含み、
    前記制御機は、
    正常モードでは前記排液バルブを閉鎖した状態で前記ハウジング内の処理液を、前記循環ラインを通じて循環させながら前記ヒーターユニットで前記処理液を加熱し、非常モードでは前記排液バルブを開放状態に変更して前記循環ライン内に残留する処理液を前記排液ラインに排出するように前記バルブらを制御し、
    前記非常モードは前記ポンプユニットの動作が停止される請求項１２または請求項１３に記載の基板処理装置。
  16. 前記液供給ユニットは前記液供給ユニットに提供されるバルブらを制御する制御機をさらに含み、
    前記制御機は、
    正常モードでは前記排液バルブを閉鎖した状態で前記ハウジング内の処理液を前記循環ラインを通じて循環させながら前記ヒーターユニットで前記処理液を加熱し、非常モードでは前記排液バルブを開放状態に変更して前記循環ライン内に残留する処理液を前記排液ラインに排出し、前記冷却バルブを開放して前記冷却ガスを前記循環ラインに供給するように前記バルブらを制御する請求項１４に記載の基板処理装置。
  17. 基板を処理する方法において、
    タンクのハウジング内の処理液を前記ハウジングに結合された循環ラインを通じて循環させながら前記循環ラインに設置されたヒーターユニットに前記処理液を加熱して前記処理液の温度を調節し、
    正常モードでは温度調節された処理液を基板に供給して基板を処理し、
    非常モードでは前記循環ライン内の処理液を前記循環ラインに連結された排液ラインを通じて前記循環ライン外部に排出する基板処理方法。
  18. 前記非常モードで前記循環ラインに設置されるポンプユニットの動作は停止され、
    前記非常モードでは前記循環ラインに冷却ガスを供給して前記冷却ガスに前記ポンプユニットを冷却する請求項１７に記載の基板処理方法。
  19. 前記排液ラインは前記ポンプユニットと前記ヒーターユニットとの間で前記循環ラインに連結される請求項１７または請求項１８に記載の基板処理方法。
  20. 前記処理液はリン酸を含む請求項１８に記載の基板処理方法。
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