JP2023085572A - Touch panel and electric conductive film - Google Patents

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    • G06F3/03Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
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Abstract

To provide a touch panel and an electric conductive film which maintain operation stability of a touch sensor and have a narrow trim.SOLUTION: The present invention is directed to a touch panel having an electric conductive film disposed on a display surface side of an image display part. The electric conductive film has a detection part extended in one direction on a transparent, flexible member, and a lead-out wiring part having a lead-out wire electrically connected to each of ends of the detection part. The lead-out wire is electrically connected to an end of the detection part and an external connection terminal. Three bending regions surrounding sides of the image display part, formed by bending the flexible member toward the rear surface side of the image display part at two bending lines provided along peripheries of the detection part and facing each other with the detection part therebetween and a bending line crossing the two bending lines forms, together with the rear side, overlapped regions where the same surfaces of the electric conductive film are overlapped with one another. The external connection terminal is disposed on a rear surface side, and the lead-out wire is provided at an opposing bending region so as to be prevented from being overlapped with the overlapped region or to be provided at one side of the two surfaces of the electric conduct film on the overlapped region.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、タッチセンサーとして機能する、折り曲げられた導電性フィルム、および画像表示部上に配置された導電性フィルムを備えるタッチパネルに関し、特に、タッチセンサーの動作安定性を維持し、かつ額縁が狭いタッチパネル、およびタッチパネルに用いられる導電性フィルムに関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a touch panel that functions as a touch sensor and includes a folded conductive film and a conductive film disposed on an image display section, and in particular, maintains the operational stability of the touch sensor and has a narrow frame. The present invention relates to a touch panel and a conductive film used for the touch panel.

現在、タブレット型コンピューターおよびスマートフォン等の携帯情報機器を始めとした各種の電子機器において、液晶表示装置等の表示装置と組み合わせて用いられ、画面に接触することにより電子機器への入力操作を行うタッチパネルがある。タッチパネルは、タッチを検出する検出電極と、検出電極に電気的に接続される取出し線とを備えるタッチセンサーを有する。
取出し線は検出電極からの電気信号を取り出し、検出電極の周囲を取り回しFPC(フレキシブルプリント基板)と接続する位置まで配置される。FPCとの接続部分でFPCと取出し線とが電気的に接続され、FPCを通じてタッチセンサーをコントロールするIC(integrated circuit)に接続される。これにより、タッチセンサーが駆動可能となる。
Currently, touch panels are used in combination with display devices such as liquid crystal display devices in various electronic devices, including mobile information devices such as tablet computers and smartphones, and perform input operations to electronic devices by touching the screen. There is A touch panel has a touch sensor that includes detection electrodes that detect a touch and lead lines that are electrically connected to the detection electrodes.
The take-out line takes out an electric signal from the detection electrode, runs around the detection electrode, and is arranged up to a position where it is connected to an FPC (flexible printed circuit board). The FPC and the extraction line are electrically connected at the connecting portion with the FPC, and connected to an IC (integrated circuit) that controls the touch sensor through the FPC. This enables the touch sensor to be driven.

また、近年、タッチパネルの狭額縁化が進んでいる。タッチパネルを狭額縁とすることによりタッチパネルの画面表示が占める面積が広くなり、実用的な画面サイズが増加し、また意匠性が高いデザインとなる。このため、現在、表示装置の狭額縁化に対する要求が高まっており、画面の外周における配線の引き回し、およびフレキシブルプリント配線板の配置等に様々な工夫がなされている。 Further, in recent years, the frame of the touch panel is becoming narrower. By narrowing the frame of the touch panel, the area occupied by the screen display of the touch panel is increased, the practical screen size is increased, and the design is highly aesthetic. For this reason, there is currently an increasing demand for a narrower frame of the display device, and various ideas have been made for routing wiring around the periphery of the screen, arranging flexible printed wiring boards, and the like.

例えば、特許文献1には、透光性および可撓性を有する基材と、透光性を有し、基材の上の検出領域において第1方向に並ぶ複数の第1電極部と、透光性を有し、基材の上の検出領域において第1方向と交差する第2方向に並ぶ複数の第2電極部と、複数の第1電極部および複数の第2電極部のそれぞれと導通し、基材の上の検出領域から検出領域の外側の周辺領域まで延在する複数の引き出し配線とを備え、基材の周辺領域には屈曲部が設けられ、引き出し配線は、屈曲部の上に設けられた可撓性積層体を有し、屈曲部の上に設けられた可撓性積層体の少なくとも一部を覆うように設けられた被覆材を備える入力装置が記載されている。特許文献1では、屈曲部を設けることにより基材を曲げることが可能としている。 For example, Patent Document 1 discloses a transparent and flexible substrate, a plurality of transparent first electrode units arranged in a first direction in a detection region on the substrate, and a transparent electrode unit. a plurality of second electrode portions having light properties and arranged in a second direction intersecting the first direction in a detection region on the substrate; and conducting with each of the plurality of first electrode portions and the plurality of second electrode portions and a plurality of lead wires extending from the detection area on the base material to a peripheral area outside the detection area, the peripheral area of the base material is provided with a bent portion, and the lead wire extends above the bent portion. An input device is described that has a flexible laminate provided on a flexure and a covering provided to cover at least a portion of the flexible laminate provided over a bend. In Patent Literature 1, it is possible to bend the base material by providing a bent portion.

特許文献2には、複数の領域を有し、少なくとも平面領域と、この平面領域に連続し、かつ平面領域に対して折曲された側面領域とを備える1つの基板と、基板の平面領域に設けられたタッチセンサー部と、基板の平面領域とは異なる他の領域に設けられたアンテナとを有するタッチセンサーが記載されている。基板は可撓性を有する透明基板で構成され、タッチセンサー部は検出部と周辺配線部を備え、少なくとも検出部が金属細線で構成されているタッチセンサーが記載されている。特許文献2では、可撓性を有する基板を用いて感知電極または配線部が折り曲げられる。 In Patent Document 2, one substrate having a plurality of regions and including at least a plane region and a side region continuous with the plane region and bent with respect to the plane region; A touch sensor is described that has a touch sensor portion provided and an antenna provided in another area different from the planar area of the substrate. The substrate is composed of a flexible transparent substrate, the touch sensor section includes a detection section and a peripheral wiring section, and at least the detection section is composed of fine metal wires. In Patent Document 2, a flexible substrate is used to bend sensing electrodes or wiring portions.

国際公開第2017/195451号WO2017/195451 国際公開第2016/158085号WO2016/158085

上述のように特許文献1では、例えば、基材の1辺に屈曲部を設けて折り曲げて狭額縁化している。
また、特許文献2のタッチセンサーでは、可撓性を有する四角形状の基板の4辺に側面領域を設けて、側面領域を折り曲げて狭額縁化している。特許文献2では、4辺の側面領域は互いに分かれており、側面領域を曲げた場合。側面領域同士は重ならない構成になっている。
As described above, in Patent Literature 1, for example, a bent portion is provided on one side of the base material and bent to narrow the frame.
In addition, in the touch sensor of Patent Document 2, side areas are provided on four sides of a flexible rectangular substrate, and the side areas are bent to narrow the frame. In Patent Document 2, the side areas of the four sides are separated from each other, and the side areas are bent. The side regions are configured so as not to overlap each other.

ここで、側面領域は互いに分かれていない1つの基材について3辺以上の折り曲げを想定すると、折り返した基板同士が重なる領域、すなわち、配線が重なってしまう領域が存在する。配線が重なる領域ではコンデンサーが形成される。タッチセンサーは静電容量を検出して動作するため、配線が重なる領域が存在すると静電容量が変わるため、正常な動作が難しい。
このため、現状では、狭額縁化する場合には、角形状の基材の対向する辺を、それぞれ同じ向きに折り曲げ、対向する2辺を折り曲げる構成とすることが多い。
また、特許文献2の4辺の側面領域を設けて折り曲げて狭額縁化する構成では、4辺の側面領域にそれぞれ、ボンディングパッドを形成してフレキシブル配線基板(FPC)を取り付ける必要がある。この場合、4辺のFPCを取り付ける構成は、専有面積が増大し、大きなコスト増に繋がるため、現実的には実施しない構成である。
Here, assuming that one substrate that is not separated from each other is folded over three or more sides, there is an area where the folded substrates overlap each other, that is, an area where the wiring overlaps. A capacitor is formed in the area where the wiring overlaps. Since the touch sensor operates by detecting the capacitance, normal operation is difficult because the capacitance changes when there is an area where the wiring overlaps.
For this reason, at present, when narrowing the frame, it is often the case that the opposite sides of the rectangular substrate are bent in the same direction and the two opposite sides are bent.
In addition, in the configuration of Patent Document 2 in which four side areas are provided and bent to narrow the frame, it is necessary to form bonding pads on each of the four side areas and attach a flexible printed circuit board (FPC). In this case, the configuration in which four-side FPCs are attached increases the occupied area and leads to a large increase in cost, so it is not practically implemented.

本発明の目的は、前述の従来技術に基づく問題点を解消し、タッチセンサーの動作安定性を維持し、かつ額縁が狭いタッチパネルおよび導電性フィルムを提供することにある。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a touch panel and a conductive film having a narrow frame while solving the above-mentioned problems based on the prior art, maintaining the operational stability of the touch sensor.

本発明の第1の態様は、画像表示部と導電性フィルムとを有し、画像表示部の表示面側に導電性フィルムが配置されたタッチパネルであって、導電性フィルムは、透明な可撓性基材の少なくとも一方の表面に、導電層により構成された一方向に延びる検出部と、検出部の各端に、それぞれ電気的に接続された取出し線を備える取出し配線部とを有し、取出し配線部の取出し線は、一端が検出部の端に電気的に接続され、他端が外部接続端子に電気的に接続されており、さらに、検出部が設けられた可撓性基材の表面に、検出部の周縁に沿って設けられた、検出部を一方向で挟んで対向する2つの折曲げ線と、2つの折曲げ線と交差する折曲げ線とで、画像表示部の表示面側とは反対の画像表示部の裏面側に、可撓性基材が折り曲げられて形成された、画像表示部の側面を囲む3つの折曲げ領域と、画像表示部の裏面で導電性フィルムの周縁部の同じ面が折り重なる重畳領域とを有し、外部接続端子は画像表示部の裏面側に配置され、取出し線は、少なくとも対向する折曲げ領域に設けられており、かつ重畳領域を避けて配置されているか、または重畳領域において、折り重なる導電性フィルムの2つの面のうち、いずれか一方の面に配置されている、タッチパネルを提供するものである。 A first aspect of the present invention is a touch panel having an image display portion and a conductive film, wherein the conductive film is disposed on the display surface side of the image display portion, wherein the conductive film is transparent and flexible. a detection part extending in one direction and formed of a conductive layer on at least one surface of the flexible base material; One end of the extraction line of the extraction wiring part is electrically connected to the end of the detection part, and the other end is electrically connected to an external connection terminal. The display of the image display unit is made up of two bending lines provided on the surface along the periphery of the detecting unit and facing each other across the detecting unit in one direction, and a bending line intersecting the two bending lines. On the back side of the image display section opposite to the surface side, there are three folding regions formed by folding a flexible base material, surrounding the side surfaces of the image display section, and a conductive film on the back side of the image display section. The same surface of the peripheral edge of the image display unit has a superimposed area, the external connection terminal is arranged on the back side of the image display part, the lead-out line is provided at least in the opposite folded area, and avoids the overlapping area The present invention provides a touch panel that is arranged on either one of the two surfaces of the conductive film that is folded over in the overlap region.

本発明の第2の態様は、画像表示部と導電性フィルムとを有し、画像表示部の表示面側に導電性フィルムが配置されたタッチパネルであって、導電性フィルムは、透明な可撓性基材の少なくとも一方の表面に、導電層により構成された検出部と、検出部の端に、それぞれ電気的に接続された取出し線を備える取出し配線部とを有し、取出し配線部の取出し線は、一端が検出部の端に電気的に接続され、他端が外部接続端子に電気的に接続されており、さらに、検出部が設けられた可撓性基材の表面に、少なくとも一方が検出部の端に沿って設けられた、交差する2つの折曲げ線で、画像表示部の表示面側とは反対の画像表示部の裏面側に、可撓性基材が折り曲げられて形成された、画像表示部の側面を囲む2つの折曲げ領域と、画像表示部の裏面で導電性フィルムの周縁部の同じ面が折り重なる重畳領域とを有し、外部接続端子は画像表示部の裏面側に配置され、取出し線は、少なくとも折曲げ領域に設けられており、かつ重畳領域を避けて配置されているか、または重畳領域において、折り重なる導電性フィルムの2つの面のうち、いずれか一方の面に配置されている、タッチパネルを提供するものである。 A second aspect of the present invention is a touch panel having an image display portion and a conductive film, wherein the conductive film is disposed on the display surface side of the image display portion, wherein the conductive film is transparent and flexible. a detection part formed of a conductive layer on at least one surface of the base material; The wire has one end electrically connected to the end of the detection section and the other end electrically connected to an external connection terminal. is provided along the edge of the detection part and is formed by folding the flexible base material on the back side of the image display part opposite to the display surface side of the image display part at two intersecting folding lines. and an overlap region in which the same surface of the peripheral portion of the conductive film is folded on the back surface of the image display portion, and the external connection terminals are on the back surface of the image display portion. The lead-out line is provided at least in the folding area and is arranged to avoid the overlapping area, or in the overlapping area, either one of the two surfaces of the conductive film that overlaps. A touch panel is provided on the surface.

折曲げ線に沿って、折曲げ領域に設けられた折曲げ領域の長さ方向に延びる取出し配線が、折曲げ線からの距離が10μm以上離れた領域に設けられていることが好ましい。
折曲げ線に沿って、折曲げ領域に設けられた折曲げ領域の長さ方向に延びる取出し配線が、折曲げ線からの距離が100μm以上離れた領域に設けられていることが好ましい。
折曲げ領域は曲面で構成されており、折曲げ領域の曲面の折り曲げに沿った長さと、画像表示部の厚みとの比が2.0以下であることが好ましい。
折曲げ領域は曲面で構成されており、折曲げ領域の曲面の折り曲げに沿った長さと、画像表示部の厚みとの比が1.2以下であることが好ましい。
It is preferable that the extraction wiring extending along the bending line and extending in the length direction of the bending area provided in the bending area is provided in a region separated from the bending line by a distance of 10 μm or more.
It is preferable that the extraction wiring extending along the bending line and extending in the length direction of the bending area provided in the bending area is provided in an area separated from the bending line by a distance of 100 μm or more.
The bending area is composed of a curved surface, and the ratio of the length along the bending of the curved surface of the bending area to the thickness of the image display portion is preferably 2.0 or less.
The bending area is composed of a curved surface, and the ratio of the length along the bending of the curved surface of the bending area to the thickness of the image display portion is preferably 1.2 or less.

可撓性基材は、矩形状であり、検出部が矩形状に、可撓性基材の辺と揃えて配置され、取出し配線部は、可撓性基材の辺の周縁に設けられており、検出部の検出部を一方向で挟んで対向する2つの辺を含む、合計3つの辺に対して平行に折曲げ線が設けられ、可撓性基材は、4つの辺のうち、折曲げ線が設けられた3つの辺が、画像表示部の裏面側に配置されるように折り曲げられていることが好ましい。
可撓性基材は、矩形状であり、検出部が矩形状に、可撓性基材の辺と揃えて配置され、取出し配線部は、可撓性基材の辺の周縁に設けられており、検出部の一方の端に沿った第1の辺と、第1の辺と直交する第2の辺とに対して、それぞれ平行に折曲げ線が設けられ、可撓性基材は、4つの辺のうち、折曲げ線が設けられた2つの辺が、画像表示部の裏面側に配置されるように折り曲げられていることが好ましい。
取出し線は、金属細線で構成されることが好ましい。
取出し配線部の取出し線は、可撓性基材の表面上において、90°より大きい角度で屈曲する部分が少なくとも1つあることが好ましい。
The flexible base material has a rectangular shape, the detection section is arranged in a rectangular shape and is aligned with the sides of the flexible base material, and the extraction wiring section is provided along the periphery of the side of the flexible base material. A bending line is provided in parallel to a total of three sides including two sides facing each other across the detection part of the detection part in one direction, and the flexible base material has four sides: It is preferable that the three sides provided with the folding lines are folded so as to be arranged on the back side of the image display section.
The flexible base material has a rectangular shape, the detection section is arranged in a rectangular shape and is aligned with the sides of the flexible base material, and the extraction wiring section is provided along the periphery of the side of the flexible base material. A first side along one end of the detection part and a second side orthogonal to the first side are provided with bending lines parallel to each other, and the flexible base material is: Of the four sides, it is preferable that the two sides provided with the folding lines are bent so as to be arranged on the back side of the image display section.
It is preferable that the take-out line is composed of a fine metal wire.
It is preferable that the lead-out line of the lead-out wiring portion has at least one portion bent at an angle larger than 90° on the surface of the flexible base material.

本発明の第3の態様は、透明な可撓性基材の少なくとも一方の表面に、導電層により構成された一方向に延びる検出部と、検出部の各端に、それぞれ電気的に接続された取出し線を備える取出し配線部とを有し、取出し配線部は、検出部の周囲を連続した帯状に囲む周縁部に設けられ、取出し配線部の取出し線は、一端が検出部の端に電気的に接続され、他端が外部接続端子に電気的に接続されており、さらに、検出部が設けられた可撓性基材の表面に、検出部の周縁に沿って設けられた、検出部を一方向で挟んで対向する2つの折曲げ線と、2つの折曲げ線と交差する折曲げ線とで、画像表示部の表示面側とは反対の画像表示部の裏面側に、外部接続端子が配置されるように可撓性基材が折り曲げられた場合、画像表示部の側面を囲む3つの折曲げ領域と、画像表示部の裏面で周縁部の同じ面が折り重なる重畳領域とが形成され、取出し線は、少なくとも対向する折曲げ領域に設けられ、かつ重畳領域を避けて配置されているか、または重畳領域において、折り重なる導電性フィルムの2つの面のうち、いずれか一方の面に配置されている、導電性フィルムを提供するものである。 According to a third aspect of the present invention, a detection section formed of a conductive layer extending in one direction and each end of the detection section are electrically connected to at least one surface of a transparent flexible base material. The extraction wiring part is provided in a peripheral edge part surrounding the circumference of the detection part in a continuous strip shape, and one end of the extraction line of the extraction wiring part is electrically connected to the end of the detection part. the other end of which is electrically connected to an external connection terminal; and the surface of the flexible base material on which the detection section is provided is provided along the periphery of the detection section. External connection is provided on the back side of the image display section opposite to the display surface side of the image display section by two bending lines facing each other across the two in one direction and a bending line intersecting the two bending lines. When the flexible base material is folded so as to arrange the terminals, three folded areas surrounding the side surfaces of the image display section and an overlapping area where the same surface of the peripheral portion is folded on the back surface of the image display section are formed. and the lead-out lines are provided at least in the facing bending regions and are arranged so as to avoid the overlapping region, or are arranged on either one of the two surfaces of the conductive film that is folded in the overlapping region. It is intended to provide a conductive film.

本発明の第4の態様は、透明な可撓性基材の少なくとも一方の表面に、導電層により構成された検出部と、検出部の端に、それぞれ電気的に接続された取出し線を備える取出し配線部とを有し、取出し配線部は、検出部の周囲を連続した帯状に囲む周縁部に設けられ、取出し配線部の取出し線は、一端が検出部の端に電気的に接続され、他端が外部接続端子に電気的に接続されており、さらに、検出部が設けられた可撓性基材の表面に、少なくとも一方が検出部の端に沿って設けられた、交差する2つの折曲げ線で、画像表示部の表示面側とは反対の画像表示部の裏面側に、外部接続端子が配置されるように可撓性基材が折り曲げられた場合、画像表示部の側面を囲む2つの折曲げ領域と、画像表示部の裏面で周縁部の同じ面が折り重なる重畳領域とが形成され、取出し線は、少なくとも折曲げ領域に設けられ、かつ重畳領域を避けて配置されているか、または重畳領域において、折り重なる導電性フィルムの2つの面のうち、いずれか一方の面に配置されている、導電性フィルムを提供するものである。 A fourth aspect of the present invention comprises a detection section made of a conductive layer on at least one surface of a transparent flexible base material, and lead-out lines electrically connected to ends of the detection section. a lead-out wiring part, the lead-out wiring part is provided in a peripheral edge part surrounding the periphery of the detection part in a continuous strip shape, one end of the lead-out line of the lead-out wiring part is electrically connected to an end of the detection part, The other end is electrically connected to an external connection terminal, and on the surface of the flexible base material provided with the detection section, at least one is provided along the edge of the detection section. When the flexible base material is bent along the bending lines so that the external connection terminals are arranged on the back side of the image display section opposite to the display surface side of the image display section, the side surface of the image display section is bent. Two surrounding folding areas and an overlapping area in which the same surface of the peripheral part is folded on the back surface of the image display part are formed, and the lead-out line is provided at least in the folding area and is arranged avoiding the overlapping area. Alternatively, in the overlap region, the conductive film is arranged on either one of the two sides of the conductive film that is folded over.

折曲げ線に沿って、折曲げ予定領域に設けられた折曲げ予定領域の長さ方向に延びる取出し配線が、折曲げ線からの距離が10μm以上離れた領域に設けられていることが好ましい。
折曲げ線に沿って、折曲げ予定領域に設けられた折曲げ予定領域の長さ方向に延びる取出し配線が、折曲げ線からの距離が100μm以上離れた領域に設けられていることが好ましい。
折曲げ線に沿って設けられた折曲げ予定領域の、折曲げ線と直交する幅方向の長さと、画像表示部の厚みとの比が2.0以下であることが好ましい。
折曲げ線に沿って設けられた折曲げ予定領域の、折曲げ線と直交する幅方向の長さと、画像表示部の厚みとの比が1.2以下であることが好ましい。
It is preferable that the extraction wiring extending along the bending line and extending in the length direction of the bending area provided in the bending area is provided in a region separated from the bending line by 10 μm or more.
It is preferable that the extraction wiring extending in the length direction of the intended bending area provided in the intended bending area along the bending line is provided in an area separated from the bending line by 100 μm or more.
It is preferable that the ratio of the length of the region to be folded provided along the folding line in the width direction perpendicular to the folding line to the thickness of the image display section is 2.0 or less.
It is preferable that the ratio of the length of the region to be folded provided along the folding line in the width direction perpendicular to the folding line to the thickness of the image display section is 1.2 or less.

可撓性基材は、矩形状であり、検出部が矩形状に、可撓性基材の辺と揃えて配置され、取出し配線部は、可撓性基材の辺の周縁に設けられており、検出部の検出部を一方向で挟んで対向する2つの辺を含む、合計3つの辺に対して平行に折曲げ線が設けられ、可撓性基材は、4つの辺のうち、折曲げ線が設けられた3つの辺に、同じ向きに折り曲げられる折り曲げ予定領域を有することが好ましい。
可撓性基材は、矩形状であり、検出部が矩形状に、可撓性基材の辺と揃えて配置され、取出し配線部は、可撓性基材の辺の周縁に設けられており、検出部の一方の端に沿った第1の辺と、第1の辺と直交する第2の辺とに対して、それぞれ平行に折曲げ線が設けられ、可撓性基材は、4つの辺のうち、折曲げ線が設けられた2つの辺が、同じ向きに折り曲げられる折り曲げ予定領域を有することが好ましい。
取出し線は、金属細線で構成されることが好ましい。
取出し配線部の取出し線は、可撓性基材の表面上において、90°より大きい角度で屈曲する部分が少なくとも1つあることが好ましい。
The flexible base material has a rectangular shape, the detection section is arranged in a rectangular shape and aligned with the sides of the flexible base material, and the extraction wiring section is provided along the periphery of the side of the flexible base material. A bending line is provided in parallel to a total of three sides including two sides facing each other across the detection part of the detection part in one direction, and the flexible base material has four sides: It is preferable that the three sides provided with the folding lines have areas to be folded in the same direction.
The flexible base material has a rectangular shape, the detection section is arranged in a rectangular shape and aligned with the sides of the flexible base material, and the extraction wiring section is provided along the periphery of the side of the flexible base material. A first side along one end of the detection part and a second side perpendicular to the first side are provided with bending lines parallel to each other, and the flexible base material is: Of the four sides, it is preferable that the two sides provided with the folding lines have regions to be folded in the same direction.
It is preferable that the take-out line is composed of a fine metal wire.
It is preferable that the lead-out line of the lead-out wiring portion has at least one portion bent at an angle larger than 90° on the surface of the flexible base material.

本発明によれば、タッチセンサーの動作安定性を維持し、かつ額縁が狭いタッチパネルおよび導電性フィルムを提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the operation stability of a touch sensor is maintained, and the touchscreen and conductive film with a narrow frame can be provided.

本発明の実施形態のタッチパネルの一例を示す模式的断面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is typical sectional drawing which shows an example of the touch panel of embodiment of this invention. 本発明の実施形態のタッチパネルの導電性フィルムの第1の例を示す模式図である。It is a schematic diagram showing the first example of the conductive film of the touch panel of the embodiment of the present invention. 本発明の実施形態のタッチパネルの導電性フィルムの検出部の構成の第1の例を示す模式的断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a first example of the configuration of a detection portion of a conductive film of the touch panel according to the embodiment of the present invention; 本発明の実施形態のタッチパネルの導電性フィルムの重畳領域の一例を示す模式的断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing an example of a conductive film overlapping region of the touch panel according to the embodiment of the present invention. 本発明の実施形態のタッチパネルの導電性フィルムの折曲げ領域の曲面の折り曲げに沿った長さと、画像表示部の厚みとの関係を説明するための模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram for explaining the relationship between the length along the bending of the curved surface of the bending region of the conductive film of the touch panel of the embodiment of the present invention and the thickness of the image display portion. 本発明の実施形態のタッチパネルの導電性フィルムの検出部の構成の第1の例の変形例を示す模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram showing a modification of the first example of the configuration of the detection section of the conductive film of the touch panel of the embodiment of the present invention. 本発明の実施形態のタッチパネルの導電性フィルムの第2の例を示す模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram showing a second example of the conductive film of the touch panel according to the embodiment of the present invention; 本発明の実施形態のタッチパネルの導電性フィルムの第3の例を示す模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram showing a third example of the conductive film of the touch panel according to the embodiment of the present invention; 本発明の実施形態のタッチパネルの導電性フィルムの第4の例を示す模式図である。FIG. 5 is a schematic diagram showing a fourth example of the conductive film of the touch panel according to the embodiment of the present invention; 本発明の実施形態のタッチパネルの導電性フィルムの第5の例を示す模式図である。FIG. 5 is a schematic diagram showing a fifth example of the conductive film of the touch panel according to the embodiment of the present invention; 本発明の実施形態のタッチパネルの導電性フィルムの第6の例を示す模式図である。FIG. 10 is a schematic diagram showing a sixth example of the conductive film of the touch panel according to the embodiment of the present invention; 本発明の実施形態のタッチパネルの導電性フィルムの検出部の電極構成を示す模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing the electrode configuration of the detection section of the conductive film of the touch panel according to the embodiment of the present invention; 本発明の実施形態のタッチパネルの導電性フィルムの検出部のメッシュパターンの形状の一例を示す模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram showing an example of the shape of the mesh pattern of the detection portion of the conductive film of the touch panel according to the embodiment of the present invention. 本発明の実施形態のタッチパネルの導電性フィルムの検出部の構成の一例を示す模式的断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing an example of the configuration of a detection portion of a conductive film of the touch panel according to the embodiment of the present invention; 本発明の実施形態の検出部の導電線の一例を拡大して示す模式図である。It is a schematic diagram which expands and shows an example of the electrically conductive wire of the detection part of embodiment of this invention. 比較例1のタッチパネルの導電性フィルムのパターンを示す模式図である。4 is a schematic diagram showing the pattern of the conductive film of the touch panel of Comparative Example 1. FIG.

以下に、添付の図面に示す好適実施形態に基づいて、本発明のタッチパネルおよび導電性フィルムを詳細に説明する。
なお、以下に説明する図は、本発明を説明するための例示的なものであり、以下に示す図に本発明が限定されるものではない。
なお、以下において数値範囲を示す「~」とは両側に記載された数値を含む。例えば、εが数値β~数値βとは、εの範囲は数値βと数値βを含む範囲であり、数学記号で示せばβ≦ε≦βである。
「平行」および「直交」等の角度は、特に記載がなければ、該当する技術分野で一般的に許容される誤差範囲を含む。また、「同一」とは、該当する技術分野で一般的に許容される誤差範囲を含む。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The touch panel and conductive film of the present invention will be described in detail below based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings.
It should be noted that the drawings described below are examples for explaining the present invention, and the present invention is not limited to the drawings shown below.
In the following, "~" indicating a numerical range includes the numerical values described on both sides. For example, when ε a is numerical value β 1 to numerical value β 2 , the range of ε a is the range including the numerical value β 1 and the numerical value β 2 .
Angles such as "parallel" and "perpendicular" include error ranges generally accepted in the relevant technical field unless otherwise specified. In addition, "identical" includes the margin of error that is generally allowed in the relevant technical field.

また、光とは、活性光線または放射線を意味する。本明細書中における「露光」とは、特に断らない限り、水銀灯、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、X線、EUV光等による露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線による描画も露光に含める。
また、「(メタ)アクリレート」はアクリレートおよびメタクリレートの双方、または、いずれかを表し、「(メタ)アクリル」はアクリルおよびメタクリルの双方、または、いずれかを表す。また、「(メタ)アクリロイル」はアクリロイルおよびメタクリロイルの双方、または、いずれかを表す。
なお、透明とは、特に断りがなければ、光透過率が、波長380~780nmの可視光波長域において、40%以上のことであり、好ましくは80%以上、より好ましくは90%以上のことである。
光透過率は、JIS(日本工業規格) K 7375:2008に規定される「プラスチック-全光線透過率および全光線反射率の求め方」を用いて測定されるものである。
Also, light means actinic rays or radiation. Unless otherwise specified, "exposure" in the present specification means not only exposure by far ultraviolet rays represented by mercury lamps and excimer lasers, X-rays, EUV light, etc., but also drawing by particle beams such as electron beams and ion beams. is also included in the exposure.
Moreover, "(meth)acrylate" represents both or either of acrylate and methacrylate, and "(meth)acryl" represents both or either of acrylic and methacrylic. Moreover, "(meth)acryloyl" represents both or either of acryloyl and methacryloyl.
Unless otherwise specified, the term "transparent" means that the light transmittance is 40% or more, preferably 80% or more, and more preferably 90% or more in the visible light wavelength range of 380 to 780 nm. is.
The light transmittance is measured using “Plastics—Determination of Total Light Transmittance and Total Light Reflectance” defined in JIS (Japanese Industrial Standards) K 7375:2008.

(タッチパネル)
図1は本発明の実施形態のタッチパネルの一例を示す模式的断面図であり、図2は本発明の実施形態のタッチパネルの導電性フィルムの第1の例を示す模式図である。図3は本発明の実施形態のタッチパネルの導電性フィルムの検出部の構成の第1の例を示す模式的断面図である。
図1に示す第1例のタッチパネル10は、導電性フィルム12と、画像表示部14と、カバー部16と、第1の透明絶縁層15と、第2の透明絶縁層17とを有する。タッチパネル10は、画像表示部14と、第1の透明絶縁層15と、導電性フィルム12と、第2の透明絶縁層17と、カバー部16とが、この順で積層方向Dtに積層され、画像表示部14の表示面14a側に導電性フィルム12が配置されている。
(touch panel)
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing one example of a touch panel according to an embodiment of the invention, and FIG. 2 is a schematic view showing a first example of a conductive film of the touch panel according to an embodiment of the invention. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a first example of a configuration of a detection portion of a conductive film of a touch panel according to an embodiment of the present invention.
A touch panel 10 of the first example shown in FIG. The touch panel 10 includes an image display portion 14, a first transparent insulating layer 15, a conductive film 12, a second transparent insulating layer 17, and a cover portion 16, which are laminated in this order in the lamination direction Dt. A conductive film 12 is arranged on the display surface 14 a side of the image display section 14 .

タッチパネル10では、導電性フィルム12と画像表示部14とは第1の透明絶縁層15を介して積層されている。導電性フィルム12とカバー部16とは第2の透明絶縁層17を介して積層されている。
第1の透明絶縁層15は、画像表示部14の表示面14a全域に設けられている。例えば、第1の透明絶縁層15と第2の透明絶縁層17とは、設けられる領域が同じである。このため、カバー部16の表面16a側から見た場合、第1の透明絶縁層15と第2の透明絶縁層17とは同じ大きさである。
タッチパネル10では、画像表示部14の表示面14aに表示された表示物(図示せず)が視認できるように画像表示部14の表示面14a側に配置される第1の透明絶縁層15、導電性フィルム12、第2の透明絶縁層17およびカバー部16はいずれも透明であることが好ましい。
In the touch panel 10 , the conductive film 12 and the image display section 14 are laminated with the first transparent insulating layer 15 interposed therebetween. The conductive film 12 and the cover portion 16 are laminated with a second transparent insulating layer 17 interposed therebetween.
The first transparent insulating layer 15 is provided over the entire display surface 14 a of the image display section 14 . For example, the first transparent insulating layer 15 and the second transparent insulating layer 17 have the same region. Therefore, when viewed from the surface 16a side of the cover portion 16, the first transparent insulating layer 15 and the second transparent insulating layer 17 have the same size.
In the touch panel 10, the first transparent insulating layer 15, the conductive The protective film 12, the second transparent insulating layer 17 and the cover portion 16 are all preferably transparent.

タッチパネル10は、画像表示部14と導電性フィルム12とを囲む筐体40を有する。筐体40の内部40aに画像表示部14と導電性フィルム12とが収納される。筐体40は、カバー部16と相似形の底板41と、底板41の外縁を囲む側板42とを有する。また、筐体40の内部40aには、例えば、底板41と側板42との角部と、側板42とカバー部16との角部とに、緩衝材44が設けられている。カバー部16の裏面16bに、筐体40の側板42が貼合されている。
緩衝材44は、画像表示部14と導電性フィルム12とを外部からの衝撃等から保護するものである。緩衝材44は、エチレン-プロピレンスポンジ、クロロプレンスポンジ、スチレン-ブタジエンスポンジ、およびニトリルゴムスポンジ等を用いて構成することができる。
The touch panel 10 has a housing 40 surrounding the image display section 14 and the conductive film 12 . The image display unit 14 and the conductive film 12 are accommodated in the interior 40 a of the housing 40 . The housing 40 has a bottom plate 41 similar in shape to the cover portion 16 and side plates 42 surrounding the outer edge of the bottom plate 41 . In the interior 40 a of the housing 40 , for example, cushioning materials 44 are provided at corners between the bottom plate 41 and the side plate 42 and corners between the side plate 42 and the cover portion 16 . A side plate 42 of the housing 40 is attached to the rear surface 16 b of the cover portion 16 .
The cushioning material 44 protects the image display section 14 and the conductive film 12 from external shocks and the like. The cushioning material 44 can be constructed using ethylene-propylene sponge, chloroprene sponge, styrene-butadiene sponge, nitrile rubber sponge, or the like.

タッチパネル10では、カバー部16の表面16aが、タッチパネル10のタッチ面であり、操作面となる。タッチパネル10は、カバー部16の表面16aを操作面として入力操作される。なお、タッチ面とは、指またはスタイラスペン等の接触を検出する面のことである。カバー部16の表面16aが、画像表示部14の表示面14aに表示された表示物(図示せず)の視認面となる。
画像表示部14の裏面14bにコントローラー13が設けられている。導電性フィルム12が、画像表示部14の側面14cを囲むように折り曲げられて外部接続端子26は画像表示部14の裏面14b側に配置されている。導電性フィルム12の外部接続端子26とコントローラー13とが、例えば、フレキシブル回路基板19等の可撓性を有する配線部材で電気的に接続されている。
In the touch panel 10, the surface 16a of the cover portion 16 is the touch surface of the touch panel 10 and serves as an operation surface. Input operation is performed on the touch panel 10 using the surface 16a of the cover portion 16 as an operation surface. Note that the touch surface is a surface that detects contact with a finger, a stylus pen, or the like. A surface 16 a of the cover portion 16 serves as a viewing surface of a display object (not shown) displayed on the display surface 14 a of the image display portion 14 .
A controller 13 is provided on the rear surface 14 b of the image display section 14 . The conductive film 12 is folded so as to surround the side surface 14c of the image display section 14, and the external connection terminals 26 are arranged on the back surface 14b side of the image display section 14. As shown in FIG. The external connection terminals 26 of the conductive film 12 and the controller 13 are electrically connected by a flexible wiring member such as a flexible circuit board 19, for example.

カバー部16の裏面16bに、遮光機能を有する加飾層18が設けられている。加飾層18は、例えば、カバー部16の表面16a側から見た場合における、カバー部16の外縁に沿って設けられる。加飾層18が設けられている領域が額縁部Dfである。額縁部Dfは加飾層18により、その下側にある構成物を視認させないものである。額縁部Dfの幅が狭いことを狭額縁という。額縁部Dfの幅を狭くすることを狭額縁化という。 A decorative layer 18 having a light shielding function is provided on the rear surface 16b of the cover portion 16. As shown in FIG. The decorative layer 18 is provided, for example, along the outer edge of the cover portion 16 when viewed from the surface 16a side of the cover portion 16 . The region where the decorative layer 18 is provided is the frame portion Df. The decorative layer 18 of the frame portion Df prevents the underlying components from being visually recognized. A narrow frame means that the width of the frame portion Df is narrow. Narrowing the width of the frame portion Df is referred to as frame narrowing.

後に詳細に説明するが、導電性フィルム12は、第1の透明絶縁層15および第2の透明絶縁層17から突出し、折り曲げられる折曲部27を有し、積層方向Dtと直交する方向Dwにおける第2の透明絶縁層17の側面17cと、導電性フィルム12の折曲部27とが保護膜36で覆われている。保護膜36は、端部36aがカバー部16の加飾層18の表面に達してもよい。
また、保護膜36は、末端36cがカバー部16および画像表示部14の表示面14aとは反対側の面に接触していること、すなわち、裏面14bに接触していることが好ましい。これにより、保護膜36による導電層の硫化をより一層抑制することができる。ここで、図2に示すようにフレキシブル回路基板19は可撓性基材25よりも幅が狭い。保護膜36はフレキシブル回路基板19を覆い、かつ画像表示部14の裏面14bと接触して設けられる。
As will be described in detail later, the conductive film 12 protrudes from the first transparent insulating layer 15 and the second transparent insulating layer 17, has a bent portion 27 that is bent, and is arranged in a direction Dw perpendicular to the stacking direction Dt. A side surface 17 c of the second transparent insulating layer 17 and the bent portion 27 of the conductive film 12 are covered with a protective film 36 . The protective film 36 may reach the surface of the decorative layer 18 of the cover portion 16 at the end portion 36a.
Moreover, it is preferable that the end 36c of the protective film 36 is in contact with the surface of the cover portion 16 and the image display portion 14 opposite to the display surface 14a, that is, in contact with the rear surface 14b. Thereby, sulfuration of the conductive layer by the protective film 36 can be further suppressed. Here, as shown in FIG. 2, the flexible circuit board 19 is narrower than the flexible base material 25 . The protective film 36 covers the flexible circuit board 19 and is provided in contact with the rear surface 14 b of the image display section 14 .

コントローラー13はタッチセンサーの検出に利用される公知のものにより構成される。タッチパネル10が静電容量方式の場合、タッチ面であるカバー部16の表面16aの指等の接触により、静電容量が変化した位置がコントローラー13で検出される。静電容量方式のタッチパネルには、相互容量方式のタッチパネルおよび自己容量方式のタッチパネルがあるが、特に限定されるものではない。 The controller 13 is composed of a known one used for touch sensor detection. When the touch panel 10 is of the capacitance type, the controller 13 detects the position where the capacitance changes due to the touch of the finger or the like on the surface 16a of the cover portion 16, which is the touch surface. The capacitive touch panel includes a mutual capacitive touch panel and a self-capacitance touch panel, but is not particularly limited.

カバー部16は、導電性フィルム12を保護するものである。カバー部16は、その構成は、特に限定されるものではない。カバー部16は、画像表示部14の表示面14aに表示された表示物(図示せず)が視認できるように透明であることが好ましい。カバー部16は、例えば、プラスチックフィルム、プラスチック板、およびガラス板等が用いられる。カバー部16の厚みはそれぞれの用途に応じて適宜選択することが好ましい。
上述のプラスチックフィルムおよびプラスチック板の原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル類;ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリスチレン、EVA(酢酸ビニル共重合ポリエチレン)等のポリオレフィン類;ビニル系樹脂;その他、ポリカーボネート(PC)、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース(TAC)、シクロオレフィン系樹脂(COP)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、ポリアリレート(PAR)、ポリエーテルサルホン(PES)、高分子アクリル樹脂、フルオレン誘導体、および、結晶性COP等を用いることができる。
また、カバー部16としては、偏光板、円偏光板等を用いてもよい。
カバー部16の表面16aは、上述のようにタッチ面となるため、必要に応じて表面16aにハードコート層を設けてもよい。なお、カバー部16の厚みとしては、例えば、0.1~1.3mmであり、特に0.1~0.7mmが好ましい。
The cover part 16 protects the conductive film 12 . The configuration of the cover portion 16 is not particularly limited. The cover portion 16 is preferably transparent so that a display (not shown) displayed on the display surface 14a of the image display portion 14 can be visually recognized. For example, a plastic film, a plastic plate, a glass plate, or the like is used for the cover portion 16 . It is preferable to appropriately select the thickness of the cover portion 16 according to each application.
Examples of raw materials for the above-mentioned plastic films and plastic plates include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN); polyethylene (PE), polypropylene (PP), polystyrene, EVA (vinyl acetate copolymer polyethylene ) and other polyolefins; vinyl resin; other polycarbonate (PC), polyamide, polyimide, acrylic resin, triacetyl cellulose (TAC), cycloolefin resin (COP), polyvinylidene fluoride (PVDF), polyarylate (PAR ), polyether sulfone (PES), polymer acrylic resin, fluorene derivatives, crystalline COP, and the like can be used.
A polarizing plate, a circularly polarizing plate, or the like may be used as the cover portion 16 .
Since the surface 16a of the cover portion 16 serves as the touch surface as described above, a hard coat layer may be provided on the surface 16a as necessary. The thickness of the cover portion 16 is, for example, 0.1 to 1.3 mm, preferably 0.1 to 0.7 mm.

第1の透明絶縁層15は、透明であり、かつ電気絶縁性を有するものであり、かつ安定して導電性フィルム12と画像表示部14とを固定することができれば、その構成は、特に限定されるものではない。第1の透明絶縁層15としては、例えば、光学的に透明な粘着剤(OCA、Optical Clear Adhesive)およびUV(Ultra Violet)硬化樹脂等の光学的に透明な樹脂(OCR、Optical Clear Resin)を用いることができる。また、第1の透明絶縁層15は部分的に中空でもよい。
また、第2の透明絶縁層17は、透明であり、かつ電気絶縁性を有するものであり、かつ安定して導電性フィルム12とカバー部16とを固定することができれば、その構成は、特に限定されるものではない。第2の透明絶縁層17は第1の透明絶縁層15と同じものを用いることができる。
If the first transparent insulating layer 15 is transparent and has electrical insulation and can stably fix the conductive film 12 and the image display section 14, the configuration thereof is particularly limited. not to be As the first transparent insulating layer 15, for example, an optically transparent adhesive (OCA, Optical Clear Adhesive) and an optically transparent resin (OCR, Optical Clear Resin) such as a UV (Ultra Violet) curable resin are used. can be used. Also, the first transparent insulating layer 15 may be partially hollow.
In addition, if the second transparent insulating layer 17 is transparent and has electrical insulating properties and can stably fix the conductive film 12 and the cover portion 16, its configuration is particularly It is not limited. The same material as the first transparent insulating layer 15 can be used for the second transparent insulating layer 17 .

画像表示部14は、画像等の表示物を表示する表示面14aを備えるものであり、例えば、液晶表示デバイスである。画像表示部14は、液晶表示デバイスに限定されるものではなく、有機EL(Organic electro luminescence)表示装置でもよい。画像表示部14は、上述のもの以外に、陰極線管(CRT)表示装置、真空蛍光ディスプレイ(VFD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、表面電界ディスプレイ(SED)、電界放出ディスプレイ(FED)、および電子ペーパー等を利用することができる。
画像表示部14は、その用途に応じたものが適宜利用されるが、タッチパネル10の厚みを薄く構成するために、液晶表示パネル、および有機ELパネル等のパネルの形態とすることが好ましい。
The image display unit 14 has a display surface 14a for displaying a display object such as an image, and is, for example, a liquid crystal display device. The image display unit 14 is not limited to a liquid crystal display device, and may be an organic EL (organic electro luminescence) display device. The image display unit 14 can be a cathode ray tube (CRT) display, a vacuum fluorescent display (VFD), a plasma display panel (PDP), a surface field display (SED), a field emission display (FED), and an electronic Paper or the like can be used.
The image display unit 14 is appropriately used depending on its application, but is preferably in the form of a panel such as a liquid crystal display panel or an organic EL panel in order to reduce the thickness of the touch panel 10 .

加飾層18は、上述のように遮光機能を有するものであり、加飾層18の下にある導電性フィルム12の検出部20および取出し配線部22等の構成物を覆うことにより、検出部20および取出し配線部22等の構成物が不可視とされる。
加飾層18としては、検出部20および取出し配線部22等の構成物を不可視とすることができれば、その構成は特に限定されるものではなく、公知の加飾層を用いることができる。加飾層の形成には、スクリーン印刷法、グラビア印刷法およびオフセット印刷法等の各種の印刷法、転写法、ならびに蒸着法を用いることができる。加飾層18は、カバー部16の裏面16bに形成されるが、これに限定されるものではなく、検出部20および取出し配線部22等の構成物上に直接形成してもよい。
なお、不可視とは、加飾層18の下にある構成物を視認できないことをいい、10人の観察者が見た場合、1人も視認できないことを不可視という。
The decorative layer 18 has a light shielding function as described above. Components such as 20 and the extraction wiring portion 22 are made invisible.
The decoration layer 18 is not particularly limited in its configuration as long as it can make the components such as the detection section 20 and the extraction wiring section 22 invisible, and a known decoration layer can be used. Various printing methods such as screen printing, gravure printing and offset printing, transfer methods, and vapor deposition methods can be used to form the decorative layer. The decorative layer 18 is formed on the rear surface 16b of the cover portion 16, but is not limited to this, and may be formed directly on the components such as the detection portion 20 and the extraction wiring portion 22. FIG.
Note that the term "invisible" means that the component under the decorative layer 18 cannot be visually recognized.

(導電性フィルムの第1の例)
導電性フィルム12の第1の例について説明する。
図2に示す導電性フィルム12は、タッチパネル10においてタッチセンサーとして機能するものである。導電性フィルム12の構成は、タッチセンサーとして機能するものであれば、その構成は、特に限定されるものではない。
例えば、導電性フィルム12は、透明な可撓性基材25の少なくとも一方の表面に、導電層により構成された一方向に延びる検出部20と、検出部20の各端に、それぞれ電気的に接続された取出し線23を備える取出し配線部22とを有する。検出部20は、両端に取出し配線部22が設けられており、2方向から取り出されている。可撓性基材25は表面25aから見た場合、矩形状である。
取出し配線部22は、検出部20の周囲を連続した帯状に囲む周縁部21に設けられている。すなわち、取出し配線部22は、可撓性基材25の検出部20の周囲の切れ目のない領域に設けられている、可撓性基材25は切れ目がないため、隣接する辺を折り曲げた際に折り重なる領域が生じる。
導電性フィルム12では、可撓性基材25の表面25aおよび裏面25bに、それぞれ検出部20および取出し配線部22が設けられている。
(First example of conductive film)
A first example of the conductive film 12 will be described.
The conductive film 12 shown in FIG. 2 functions as a touch sensor in the touch panel 10. As shown in FIG. The configuration of the conductive film 12 is not particularly limited as long as it functions as a touch sensor.
For example, the conductive film 12 is electrically connected to at least one surface of a transparent flexible base material 25, a detection unit 20 extending in one direction and formed of a conductive layer, and each end of the detection unit 20. and an extraction wiring portion 22 having an extraction line 23 connected thereto. The detecting section 20 is provided with extraction wiring sections 22 at both ends and is extracted from two directions. The flexible substrate 25 has a rectangular shape when viewed from the surface 25a.
The extraction wiring portion 22 is provided in a peripheral edge portion 21 that surrounds the periphery of the detection portion 20 in a continuous strip shape. That is, the extraction wiring part 22 is provided in a continuous region around the detection part 20 of the flexible base material 25. There is a region where the folding occurs.
In the conductive film 12, the detection section 20 and the extraction wiring section 22 are provided on the front surface 25a and the back surface 25b of the flexible base material 25, respectively.

可撓性基材25を有する導電性フィルム12は可撓性を有し、折り曲げることができる。導電性フィルム12が矩形の場合、導電性フィルム12の4辺のうち、少なくとも角部を共通する3辺が、設定された折曲げ線で、画像表示部14の表示面14a側とは反対の画像表示部14の裏面14b側に折り曲げられ、導電性フィルム12の周縁部21の同じ面が折り重なる重畳領域Dε(図4参照)を有する。
なお、導電性フィルム12の3辺を折り曲げると2つ重畳領域Dεができ、導電性フィルム12の4辺を折り曲げると4つの重畳領域Dεができる。
タッチパネル10では、寄生容量を増加させないために、それぞれの重畳領域Dεにおいて、取出し線23が設けられてないことが最も好ましい。この場合、取出し線23が重畳領域Dεを避けて配置される。しかしながら、重畳領域Dεにおいて、折り重なる導電性フィルム12の2つの面のうち、いずれか一方の面に、すなわち、折り重なって重畳する周縁部21同士のうち、いずれか一方に取出し線23が設けられている。後述のように重畳領域Dεで、取出し線23が設けられている場合、いずれか一方であれば寄生容量の増加を抑制できる。
The conductive film 12 having the flexible substrate 25 is flexible and can be folded. When the conductive film 12 has a rectangular shape, at least three sides of the four sides of the conductive film 12 that share the corners are the set folding lines, which are opposite to the display surface 14 a side of the image display section 14 . It is folded toward the rear surface 14b of the image display section 14, and has an overlap region Dε (see FIG. 4) in which the same surface of the peripheral portion 21 of the conductive film 12 is folded.
When the conductive film 12 is bent on three sides, two overlapping regions Dε are formed, and when the conductive film 12 is bent on four sides, four overlapping regions Dε are formed.
In the touch panel 10, it is most preferable that the lead-out lines 23 are not provided in each overlapping region Dε so as not to increase the parasitic capacitance. In this case, the lead-out lines 23 are arranged to avoid the overlapping region Dε. However, in the overlapping region Dε, the lead-out line 23 is provided on either one of the two surfaces of the conductive film 12 that is folded, that is, on one of the peripheral edge portions 21 that are folded and overlapped. there is As will be described later, when the lead-out line 23 is provided in the superimposed region Dε, any one of them can suppress an increase in parasitic capacitance.

検出部20は、使用者によって入力操作が可能な入力領域Eである。検出部20は、例えば、可撓性基材25の表面25aから見た場合、矩形状であり、可撓性基材25の辺と揃えて配置されている。入力領域Eの外側に位置する外側領域Eに取出し配線部22が配置される。検出部20の入力領域Eのことを、アクティブエリアという。 The detection unit 20 is an input area E1 in which a user can perform an input operation. The detection unit 20 has, for example, a rectangular shape when viewed from the surface 25a of the flexible base material 25, and is arranged in alignment with the sides of the flexible base material 25. As shown in FIG. The extraction wiring portion 22 is arranged in the outer region E2 located outside the input region E1 . The input area E1 of the detector 20 is called an active area.

タッチパネル10では、導電性フィルム12は、設計仕様等により定められた折曲位置で折り曲げられて、上述のように取出し配線部22の外部接続端子26が画像表示部14の裏面14b側に配置される。折曲位置とは、折曲げ線が設けられた位置のことである。折曲位置および折曲げ線については後に説明する。
外部接続端子26には、例えば、フレキシブル回路基板19等の可撓性を有する配線部材が電気的に接続される。
In the touch panel 10, the conductive film 12 is bent at a bending position determined by the design specifications or the like, and the external connection terminals 26 of the extraction wiring portion 22 are arranged on the back surface 14b side of the image display portion 14 as described above. be. A bending position is a position where a bending line is provided. Bending positions and bending lines will be described later.
A flexible wiring member such as the flexible circuit board 19 is electrically connected to the external connection terminal 26, for example.

なお、導電性フィルム12単体の場合、すなわち、導電性フィルム12がタッチパネル10に組み込まれる前の状態であれば、上述の導電性フィルム12の折曲位置は、可撓性基材25において折曲げ線が設けられた位置である。可撓性基材25は折曲げ線で折り曲げられる。上述の導電性フィルム12の折曲位置と、上述の可撓性基材25の折曲位置とは、導電性フィルム12がタッチパネル10に組み込まれているか、導電性フィルム12が単体であるかの違いであり、同じ位置である。 In the case of the conductive film 12 alone, that is, in the state before the conductive film 12 is incorporated into the touch panel 10, the above-described bending position of the conductive film 12 is bent at the flexible base material 25. This is the position where the line is provided. The flexible substrate 25 is folded along the folding lines. The bending position of the conductive film 12 described above and the bending position of the flexible base material 25 described above depend on whether the conductive film 12 is incorporated in the touch panel 10 or the conductive film 12 is a single unit. The difference is the same position.

導電性フィルム12は、可撓性基材25に、例えば、図2に示すように第1の折曲位置Bf、第2の折曲位置Bf、および第3の折曲位置Bfが設けられている。導電性フィルム12は3辺折り曲げられる構成である。第1の折曲位置Bfは第1の折曲げ線Lが設けられた位置である、第2の折曲位置Bfは第2の折曲げ線Lが設けられた位置である。第3の折曲位置Bfは第3の折曲げ線Lが設けられた位置である。
上述の第1の折曲位置Bf、第2の折曲位置Bf、および第3の折曲位置Bfは、特に限定されるものではないが、それぞれ可撓性基材25において検出部20の端に設定されており、第1の折曲げ線L、第2の折曲げ線L、および第3の折曲げ線Lは検出部20の端に沿って設けられている。また、第1の折曲げ線L、第2の折曲げ線L、および第3の折曲げ線Lは、可撓性基材25の3つの辺に対して平行に設けられている。
例えば、第1の折曲位置Bfは、第2検出電極32のX方向の一方の端部に設定され、第2の折曲位置Bfは、第2検出電極32のX方向の他方の端部に設定される。第3の折曲位置Bfは、第1検出電極30のY方向の一方の端部に設定される。
すなわち、第1の折曲げ線Lと第2の折曲げ線Lとは、検出部20の周縁に沿って設けられた、検出部20を一方向で挟んで対向する折曲げ線である。第3の折曲げ線Lは、2つの折曲げ線、すなわち、第1の折曲げ線Lおよび第2の折曲げ線Lと交差する折曲げ線である。可撓性基材25は、第1の折曲げ線L、第2の折曲げ線L、第3の折曲げ線Lで折り曲げられる。
第1の折曲げ線L、第2の折曲げ線L、および第3の折曲げ線Lは、狭額縁化の観点から、いずれも検出部20の第1検出電極30のY方向の一方の端部および第2検出電極32のX方向の他方の端部に設定されることが好ましい。
The conductive film 12 has a flexible substrate 25 with, for example, a first bending position Bf 1 , a second bending position Bf 2 and a third bending position Bf 3 as shown in FIG. is provided. The conductive film 12 is configured to be folded on three sides. The first bending position Bf1 is the position where the first bending line L1 is provided, and the second bending position Bf2 is the position where the second bending line L2 is provided. The third bending position Bf3 is the position where the third bending line L3 is provided.
The first bending position Bf 1 , the second bending position Bf 2 , and the third bending position Bf 3 are not particularly limited. 20 , and a first folding line L 1 , a second folding line L 2 , and a third folding line L 3 are provided along the edge of the detection section 20 . Also, the first folding line L 1 , the second folding line L 2 , and the third folding line L 3 are provided parallel to the three sides of the flexible base material 25. .
For example, the first bending position Bf1 is set at one end of the second detection electrode 32 in the X direction, and the second bending position Bf2 is set at the other end of the second detection electrode 32 in the X direction. set at the end. The third bending position Bf3 is set at one end of the first detection electrode 30 in the Y direction.
That is, the first bending line L1 and the second bending line L2 are bending lines that are provided along the periphery of the detection unit 20 and face each other with the detection unit 20 sandwiched in one direction. . The third fold line L3 is the fold line that intersects two fold lines, namely the first fold line L1 and the second fold line L2 . The flexible substrate 25 is folded along a first folding line L1 , a second folding line L2 , and a third folding line L3 .
The first bending line L 1 , the second bending line L 2 , and the third bending line L 3 all extend in the Y direction of the first detection electrodes 30 of the detection unit 20 from the viewpoint of narrowing the frame. and the other end of the second detection electrode 32 in the X direction.

可撓性基材25の上述の第1の折曲げ線Lに沿って設けられた、予め設定された幅の領域が第1の折曲げ予定領域BEである。第1の折曲げ線Lで可撓性基材25が折り曲げられて画像表示部14の側面14cを囲む第1の折曲げ領域(図示せず)が形成される。
可撓性基材25の上述の第2の折曲げ線Lに沿って設けられた、予め設定された幅の領域が第2の折曲げ予定領域BEである。第2の折曲げ線Lで可撓性基材25が折り曲げられて画像表示部14の側面14cを囲む第2の折曲げ領域(図示せず)が形成される。
可撓性基材25の上述の第3の折曲げ線Lに沿って設けられた、予め設定された幅の領域が第3の折曲げ予定領域BEである。第3の折曲げ線Lで可撓性基材25が折り曲げられて画像表示部14の側面14cを囲む第3の折曲げ領域(図示せず)が形成される。上述の第1の折曲げ領域、第2の折曲げ領域および第3の折曲げ領域は、上述のようにいずれも画像表示部14の側面14cに配置される。
A region having a predetermined width provided along the first bending line L1 of the flexible base material 25 is a first intended bending region BE1 . The flexible base material 25 is folded along the first folding line L1 to form a first folding region (not shown) surrounding the side surface 14c of the image display section 14. As shown in FIG.
A region having a predetermined width provided along the second bending line L2 of the flexible base material 25 is the second intended bending region BE2 . The flexible base material 25 is folded along the second folding line L2 to form a second folding region (not shown) surrounding the side surface 14c of the image display section 14. As shown in FIG.
A region having a predetermined width provided along the third bending line L3 of the flexible base material 25 is the third intended bending region BE3 . The flexible base material 25 is folded along the third folding line L3 to form a third folding region (not shown) surrounding the side surface 14c of the image display section 14. As shown in FIG. All of the above-described first folding area, second folding area, and third folding area are arranged on the side surface 14c of the image display section 14 as described above.

第1の折曲げ予定領域BE(図2参照)、第2の折曲げ予定領域BE(図2参照)、および第3の折曲げ予定領域BE(図2参照)は、全て同じ向きに折り曲げられて、画像表示部14の合計3つの辺の各側面14cを囲む折り曲げ領域が3つ形成される。
第1の折曲げ予定領域BE(図2参照)、第2の折曲げ予定領域BE(図2参照)、および第3の折曲げ予定領域BE(図2参照)は同じ向きに、例えば、画像表示部14の裏面14b側に、外部接続端子26が配置されるように可撓性基材25が折り曲げられた場合、折曲げ領域は、それぞれ折曲部27(図1参照)ように曲面を有する。このように、可撓性基材25は、4つの辺のうち、折曲げ線が設けられた3つの辺が、画像表示部14の裏面14b側に配置されるように折り曲げられて折り曲げ領域が3つ形成される。
第1の折曲げ予定領域BE(図2参照)の幅、第2の折曲げ予定領域BE(図2参照)の幅、および第3の折曲げ予定領域BE(図2参照)の幅は、いずれも画像表示部14の厚みにより決定されるものである。画像表示部14の厚みが薄くなれば、第1の折曲げ予定領域BE(図2参照)の幅、第2の折曲げ予定領域BE(図2参照)の幅、および第3の折曲げ予定領域BE(図2参照)の幅が狭くなる。画像表示部14の厚みが厚くなれば、第1の折曲げ予定領域BE(図2参照)の幅、第2の折曲げ予定領域BE(図2参照)の幅、および第3の折曲げ予定領域BE(図2参照)の幅が広くなる。
The first intended bending area BE 1 (see FIG. 2), the second intended bending area BE 2 (see FIG. 2), and the third intended bending area BE 3 (see FIG. 2) are all oriented in the same direction. , forming three folding regions surrounding each side surface 14c of a total of three sides of the image display unit 14. As shown in FIG.
The first intended bending area BE 1 (see FIG. 2), the second intended bending area BE 2 (see FIG. 2), and the third intended bending area BE 3 (see FIG. 2) are oriented in the same direction. For example, when the flexible base material 25 is bent so that the external connection terminals 26 are arranged on the back surface 14b side of the image display section 14, the bent regions are each bent like a bent portion 27 (see FIG. 1). has a curved surface. In this way, the flexible base material 25 is folded so that three of the four sides provided with the folding lines are arranged on the back surface 14b side of the image display section 14 to form a folding area. Three are formed.
The width of the first intended bending area BE 1 (see FIG. 2), the width of the second intended bending area BE 2 (see FIG. 2), and the width of the third intended bending area BE 3 (see FIG. 2) Both widths are determined by the thickness of the image display section 14 . If the thickness of the image display section 14 is reduced, the width of the first intended bending area BE 1 (see FIG. 2), the width of the second intended bending area BE 2 (see FIG. 2), and the width of the third folding area BE 2 (see FIG. 2) The width of the intended bending area BE 3 (see FIG. 2) is narrowed. As the thickness of the image display section 14 increases, the width of the first intended bending area BE 1 (see FIG. 2), the width of the second intended bending area BE 2 (see FIG. 2), and the width of the third folding area BE 2 (see FIG. 2) The width of the intended bending area BE 3 (see FIG. 2) is widened.

なお、図2に示す導電性フィルム12では、さらに、第4の折曲位置(図示せず)を有してもよく、この場合、可撓性基材25の第4の折曲位置に第4の折曲げ線が設けられる。第4の折曲げ線に沿って設けられた、予め設定された幅の領域が第4の折曲げ予定領域である。第4の折曲位置で可撓性基材25が折り曲げられて、第4の折曲げ領域が形成される。図2に示す導電性フィルム12は、最大4辺で折り曲げる構成とすることができる。この場合も、全て辺が同じ向きに、例えば、画像表示部14の裏面14b側に折り曲げられる。同じ向きに折り曲げるとは、上述のように画像表示部14の裏面14b側等、折り曲げる向きが一致していることである。 In addition, the conductive film 12 shown in FIG. 2 may further have a fourth bending position (not shown). Four fold lines are provided. A predetermined width area provided along the fourth folding line is the fourth intended folding area. The flexible substrate 25 is folded at the fourth folding position to form a fourth folding region. The conductive film 12 shown in FIG. 2 can be configured to be folded at maximum four sides. Also in this case, all the sides are bent in the same direction, for example, toward the back surface 14b of the image display unit 14 . Bending in the same direction means that the bending directions such as the back surface 14b side of the image display section 14 are the same as described above.

検出部20は、図2に示すように、例えば、複数の第1検出電極30と複数の第2検出電極32とを有する。複数の第1検出電極30は、互いに平行にY方向に延びる帯状の電極であり、互いにY方向と直交するX方向に間隔31をあけて、互いにX方向において電気的に絶縁された状態で可撓性基材25の表面25a(図3参照)上に設けられている。複数の第2検出電極32は、互いに平行にX方向に延びる帯状の電極であり、互いにY方向に間隔31をあけて、互いにY方向において電気的に絶縁された状態で可撓性基材25の裏面25b(図2参照)上に設けられている。複数の第1検出電極30と複数の第2検出電極32とは、直交して設けられているが、可撓性基材25により互いに電気的に絶縁されている。
なお、第1検出電極30および第2検出電極32における間隔31は、第1検出電極30または第2検出電極32と分断されており、電気的に接続されていない領域である。このため、上述のように、複数の第1検出電極30は互いにX方向において電気的に絶縁された状態であり、複数の第2検出電極32は互いにY方向において電気的に絶縁された状態である。
The detection unit 20 has, for example, a plurality of first detection electrodes 30 and a plurality of second detection electrodes 32, as shown in FIG. The plurality of first detection electrodes 30 are strip-shaped electrodes extending parallel to each other in the Y direction, and can be electrically insulated from each other in the X direction at intervals 31 in the X direction perpendicular to the Y direction. It is provided on the surface 25a (see FIG. 3) of the flexible base material 25. As shown in FIG. The plurality of second detection electrodes 32 are strip-shaped electrodes extending parallel to each other in the X direction, are spaced apart from each other by an interval 31 in the Y direction, and are electrically insulated from each other in the Y direction. is provided on the rear surface 25b (see FIG. 2) of the . The plurality of first detection electrodes 30 and the plurality of second detection electrodes 32 are provided orthogonally, but are electrically insulated from each other by the flexible base material 25 .
A space 31 between the first detection electrode 30 and the second detection electrode 32 is a region separated from the first detection electrode 30 or the second detection electrode 32 and not electrically connected. Therefore, as described above, the plurality of first detection electrodes 30 are electrically insulated from each other in the X direction, and the plurality of second detection electrodes 32 are electrically insulated from each other in the Y direction. be.

図2に示すように検出部20では、第1検出電極30が9つ、第2検出電極32が6つ設けられているが、その数は特に限定されるものではなく複数あればよい。
第1検出電極30と第2検出電極32とは、例えば、金属細線33(図3参照)により構成される。図3に示すように、第1検出電極30の金属細線33は第2の透明絶縁層17で覆われており、第2検出電極32の金属細線33は第1の透明絶縁層15で覆われている。
金属細線33は、例えば、メッシュパターン状に配置される。金属細線33のパターンについては後に詳細に説明する。第1検出電極30および第2検出電極32がいずれも導電層に該当する。
As shown in FIG. 2, the detection unit 20 is provided with nine first detection electrodes 30 and six second detection electrodes 32, but the number is not particularly limited, and a plurality of electrodes may be provided.
The first detection electrode 30 and the second detection electrode 32 are composed of, for example, thin metal wires 33 (see FIG. 3). As shown in FIG. 3, the thin metal wires 33 of the first detection electrodes 30 are covered with the second transparent insulating layer 17, and the thin metal wires 33 of the second detection electrodes 32 are covered with the first transparent insulating layer 15. ing.
The fine metal wires 33 are arranged, for example, in a mesh pattern. The pattern of the fine metal wires 33 will be described later in detail. Both the first detection electrode 30 and the second detection electrode 32 correspond to conductive layers.

取出し配線部22は、第1検出電極30および第2検出電極32に電圧を印加するための役割を担う部材である。取出し配線部22は、一端が第1検出電極30または第2検出電極32の端に電気的に接続されている。他端である終端部22bに外部接続端子26が設けられている。なお、導電層により取出し配線部22を構成してもよい。
取出し配線部22は、複数の取出し線23により構成されている。取出し線23は、それぞれ、一端が上述の第1検出電極30の端または第2検出電極32の端と電気的に接続されている。複数の取出し線23の他端は、まとめて1つの外部接続端子26に電気的に接続されている。複数の取出し線23の他端は取出し配線部22の終端部22bである。また、取出し線23は、それぞれ、検出部20の端から外部接続端子26まで、配置される領域に応じて、複数の屈曲箇所を設けて配線されるが、例えば、全ての屈曲箇所における屈曲する角度が90°である。
なお、取出し配線部22の取出し線23の数は、電気的に接続される検出電極の数と同じである。
The extraction wiring part 22 is a member that plays a role of applying voltage to the first detection electrode 30 and the second detection electrode 32 . One end of the extraction wiring portion 22 is electrically connected to the end of the first detection electrode 30 or the second detection electrode 32 . An external connection terminal 26 is provided at the terminal portion 22b, which is the other end. Note that the extraction wiring portion 22 may be configured by a conductive layer.
The extraction wiring portion 22 is composed of a plurality of extraction lines 23 . One end of each lead-out line 23 is electrically connected to the end of the first detection electrode 30 or the end of the second detection electrode 32 described above. The other ends of the plurality of lead-out lines 23 are collectively electrically connected to one external connection terminal 26 . The other end of the plurality of lead wires 23 is the termination portion 22 b of the lead wire portion 22 . In addition, each lead-out line 23 is wired from the end of the detection unit 20 to the external connection terminal 26 with a plurality of bends depending on the area in which it is arranged. The angle is 90°.
The number of extraction lines 23 of the extraction wiring portion 22 is the same as the number of electrically connected detection electrodes.

ここで、導電性フィルム12、すなわち、可撓性基材25を、上述の第1の折曲げ予定領域BEと、第2の折曲げ予定領域BEと、第3の折曲げ予定領域BEとを折り曲げた場合、可撓性基材25の角部25eと、角部25eに対して第3の折曲げ予定領域BEを挟んだ領域25f、または角部25eに対して第1の折曲げ予定領域BEを挟んだ領域25gとが対向する可能性がある。このため、導電性フィルム12の角部25eと、領域25fまたは領域25gとにより重畳領域Dεが構成される。このことから、導電性フィルム12では、角部25eと、領域25fまたは領域25gとが重畳領域予定領域である。 Here, the conductive film 12, that is, the flexible base material 25 is divided into the above-mentioned first bending area BE1 , second bending area BE2 , and third bending area BE. 3 , the corner 25e of the flexible base material 25 and the region 25f sandwiching the third bending region BE3 with respect to the corner 25e, or the first bending with respect to the corner 25e. There is a possibility that the regions 25g sandwiching the intended bending region BE1 will face each other. Therefore, the corner portion 25e of the conductive film 12 and the region 25f or the region 25g form an overlapping region Dε. Therefore, in the conductive film 12, the corner portion 25e and the region 25f or the region 25g are the planned overlapping regions.

取出し配線部22について、第1検出電極30に接続された取出し線23は、折曲げ領域に全て配置されていないが、外縁25cと、第1の折曲げ予定領域BEと、第2の折曲げ予定領域BEと、第3の折曲げ予定領域BEとに囲まれた範囲に取出し線23が配置されている。
第2検出電極32に接続された取出し線23は、全てが折曲げ領域内に配置されており、折曲げ領域の長さ方向に延びている。取出し線23は外部接続端子26に向かう途中で領域25gを通る。
なお、図2に示す導電性フィルム12では、角部25eと領域25fには取出し線23が存在しないが、領域25gには取出し線23が存在する。
Regarding the lead-out wiring portion 22, the lead-out lines 23 connected to the first detection electrodes 30 are not all arranged in the bending area, but are located in the outer edge 25c, the first bending area BE1 , and the second bending area. Lead-out lines 23 are arranged in a range surrounded by the intended bending area BE2 and the third intended bending area BE3 .
The lead-out lines 23 connected to the second detection electrodes 32 are all arranged within the bent region and extend in the length direction of the bent region. The extraction line 23 passes through the region 25g on the way to the external connection terminal 26. As shown in FIG.
In the conductive film 12 shown in FIG. 2, the lead-out line 23 does not exist in the corner 25e and the region 25f, but the lead-out line 23 exists in the region 25g.

第1検出電極30では、Y方向の一方の端に取出し配線部22が、可撓性基材25の表面25a上に設けられており、1方向から、取出し配線部22の取出し線23により取り出されている。
第2検出電極32では、X方向の両端に、それぞれ取出し配線部22が、可撓性基材25の裏面25b上に設けられており、2方向から、取出し配線部22の取出し線23により取り出されて、まとめて1つの外部接続端子26に電気的に接続されている。このため、2方向から取り出された取出し配線部22は、互いに独立して配置されたものではない。また、1つの外部接続端子26にまとめることにより、接続するフレキシブル回路基板19を1つにでき、コストダウンが図れ、かつスペースを小さくすることができる。
In the first detection electrode 30, the lead-out wiring portion 22 is provided at one end in the Y direction on the surface 25a of the flexible base material 25, and lead out from one direction by the lead-out line 23 of the lead-out wiring portion 22. is
In the second detection electrode 32, the extraction wiring portions 22 are provided on the back surface 25b of the flexible base material 25 at both ends in the X direction, respectively, and are extracted from two directions by the extraction lines 23 of the extraction wiring portions 22. are electrically connected together to one external connection terminal 26 . Therefore, the extraction wiring portions 22 extracted from two directions are not arranged independently of each other. In addition, by combining them into one external connection terminal 26, only one flexible circuit board 19 can be connected, thereby reducing costs and space.

第2検出電極32から外部接続端子26まで、取出し線23を屈曲させて配置しているが、例えば、直角に屈曲させており、90°に屈曲させて配置されている。すなわち、取出し配線部22の取出し線23は、可撓性基材25の裏面25b上において、90°で屈曲して配線されている。
また、第1検出電極30の端に電気的に接続された、取出し線23は、全て第3の折曲げ予定領域BEに配置されていない。
また、第2検出電極32から外部接続端子26まで、取出し線23を屈曲させて配置しているが、全て直角に屈曲させている。
取出し配線部22の取出し線23は、可撓性基材25の表面25a上において、90°よりも大きな角度で屈曲する部分が少なくとも1つある構成でもよい。
ここで、取出し線23が屈曲するとは、取出し線23が、Y方向からX方向に曲がることである。屈曲した角度は、Y方向からX方向に曲がる角度θ(図2参照)のことである。
例えば、図2に示す第1検出電極30の取出し線23は、第2の折曲げ予定領域BEで屈曲しており、屈曲する角度θは90°である。上述の直角に屈曲とは、角度θが90°である。取出し線23の屈曲する角度θを90°よりも大きくすることにより、可撓性基材25を周縁部21の同じ面が折り重なるように折り返したときの取出し線23の折れ曲がりによるクラックの発生が抑制される。
The extraction line 23 is bent from the second detection electrode 32 to the external connection terminal 26. For example, it is bent at a right angle, such as at 90°. That is, the lead-out line 23 of the lead-out wiring portion 22 is bent at 90° on the rear surface 25b of the flexible base material 25 and wired.
In addition, none of the extraction lines 23 electrically connected to the ends of the first detection electrodes 30 are arranged in the third bending area BE3 .
In addition, although the lead-out line 23 is bent from the second detection electrode 32 to the external connection terminal 26, all of them are bent at a right angle.
The extraction line 23 of the extraction wiring portion 22 may have at least one portion bent at an angle larger than 90° on the surface 25 a of the flexible base material 25 .
Here, the bending of the lead-out line 23 means that the lead-out line 23 bends from the Y direction to the X direction. The bent angle is the angle θ (see FIG. 2) of bending from the Y direction to the X direction.
For example, the extraction line 23 of the first detection electrode 30 shown in FIG. 2 is bent at the second planned bending region BE2 , and the bending angle θ is 90°. The right angle bending mentioned above means that the angle θ is 90°. By setting the bending angle θ of the lead-out line 23 to be greater than 90°, the generation of cracks due to bending of the lead-out line 23 when the flexible base material 25 is folded so that the same surface of the peripheral portion 21 is folded is suppressed. be done.

図2に示すタッチパネル10では、第1検出電極30にはY方向の端に取出し配線部22が電気的に接続され、第2検出電極32にはX方向の両方の端に取出し配線部22が電気的に接続されており、第1検出電極30および第2検出電極32に対して3方向から取出し配線部22が引き回されている。
なお、検出部20と取出し配線部22とは一体構成であることが好ましい。この場合、検出部20と取出し配線部22とは、後述する方法により形成される。
導電性フィルム12には、取出し配線部22が設けられている周縁部21に、取出し配線部22を覆う絶縁膜37が設けられている。絶縁膜37は、検出部20の周囲を囲んで設けられる。絶縁膜37は取出し配線部22の電気的な絶縁性を保護するものである。取出し配線部22と絶縁膜37とにより突出部38が構成される。
In the touch panel 10 shown in FIG. 2, the lead-out wiring portions 22 are electrically connected to the ends of the first detection electrodes 30 in the Y direction, and the lead-out wiring portions 22 are connected to both ends of the second detection electrodes 32 in the X direction. They are electrically connected, and the extraction wiring section 22 is routed from three directions to the first detection electrode 30 and the second detection electrode 32 .
In addition, it is preferable that the detection unit 20 and the extraction wiring unit 22 are integrated. In this case, the detection section 20 and the extraction wiring section 22 are formed by a method described later.
The conductive film 12 is provided with an insulating film 37 covering the extraction wiring portion 22 at the peripheral portion 21 where the extraction wiring portion 22 is provided. The insulating film 37 is provided so as to surround the detection section 20 . The insulating film 37 protects the electrical insulation of the extraction wiring portion 22 . A protruding portion 38 is formed by the extraction wiring portion 22 and the insulating film 37 .

(重畳領域)
図4は本発明の実施形態のタッチパネルの導電性フィルムの重畳領域の一例を示す模式的断面図である。図4において、図2に示す導電性フィルム12と同一構成物には同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。
例えば、図2に示す導電性フィルム12について、可撓性基材25について第1の折曲位置Bf、および第2の折曲位置Bfで折り曲げた後、外部接続端子26が画像表示部14の裏面14b側に配置されるように、可撓性基材25について第3の折曲位置Bfで折り曲げた場合、可撓性基材25の角部25eと、領域25fとが重なり、図4に示すように重畳領域Dεができる。重畳領域Dεは、導電性フィルム12の可撓性基材25の周縁部21の同じ面が折り重なる領域である。重畳領域Dεにおいては、折り重なる導電性フィルム12(周縁部21)の2つの面のうち、いずれにも取出し線23が設けられていないことがより好ましいが、いずれか一方の面に取出し線が設けられていてもよい。
(superimposed area)
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing an example of a conductive film overlapping region of the touch panel according to the embodiment of the present invention. 4, the same components as those of the conductive film 12 shown in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.
For example, for the conductive film 12 shown in FIG. 2, after bending the flexible base material 25 at the first bending position Bf 1 and the second bending position Bf 2 , the external connection terminals 26 are connected to the image display portion. When the flexible base material 25 is bent at the third bending position Bf3 so as to be arranged on the back surface 14b side of the flexible base material 25, the corner 25e of the flexible base material 25 overlaps the region 25f, As shown in FIG. 4, an overlapping area Dε is formed. The overlapping region Dε is a region where the same surface of the peripheral portion 21 of the flexible base material 25 of the conductive film 12 is folded. In the overlapping region Dε, it is more preferable that none of the two surfaces of the conductive film 12 (peripheral edge portion 21) that is folded over has the lead-out line 23, but one of the two surfaces has the lead-out line. may have been

図2に示す導電性フィルム12の構成では、重畳領域Dεを避けて取出し線23が配置されているため、外部接続端子26が画像表示部14の裏面14b側に配置されるように可撓性基材25について折り曲げて角部25eと領域25fとを重ねた場合、図4に示す重畳領域Dεにおいて取出し線23が存在しない。
なお、重畳領域Dεにおいて、取出し線23と第2の透明絶縁層17と、第2の透明絶縁層17と取出し線23とが重なると、コンデンサーが形成されて寄生容量が生じ、導電性フィルム12の静電容量が変わる。タッチセンサーは静電容量を検出して動作するため、寄生容量により静電容量が大きくなると時定数が大きくなり、タッチ検出の応答速度が遅くなって、タッチセンサーの正常な動作が難しくなる。すなわち、タッチセンサーの動作安定性が悪くなる。
しかしながら、折曲げ領域に沿って取出し線23を配置する配線パターンとすることにより、重畳領域Dεにおいて取出し線23同士が重なることが抑制される。このため、寄生容量の増加を抑制し、タッチセンサーの静電容量の増加を小さくできる。これにより、タッチ検出の応答速度の低下を抑制でき、タッチセンサーの動作安定性を維持することができる。しかも、導電性フィルム12は、上述のように検出部20の縁で折り曲げることから額縁を狭くすることができる。このように、タッチセンサーの動作安定性を維持し、かつ額縁が狭いタッチパネル10を得ることができる。
In the configuration of the conductive film 12 shown in FIG. 2 , the lead-out lines 23 are arranged avoiding the superimposed region Dε, so the external connection terminals 26 are flexible so as to be arranged on the back surface 14 b side of the image display section 14 . When the base material 25 is folded to overlap the corner portion 25e and the area 25f, the lead-out line 23 does not exist in the overlapping area Dε shown in FIG.
In the overlapping region Dε, if the lead-out line 23 and the second transparent insulating layer 17, and the second transparent insulating layer 17 and the lead-out line 23 overlap, a capacitor is formed to generate parasitic capacitance. changes the capacitance of Since the touch sensor operates by detecting capacitance, when the capacitance increases due to parasitic capacitance, the time constant increases, the response speed of touch detection slows down, and normal operation of the touch sensor becomes difficult. That is, the operational stability of the touch sensor deteriorates.
However, by adopting a wiring pattern in which the lead-out lines 23 are arranged along the bent region, overlapping of the lead-out lines 23 in the overlapping region Dε is suppressed. Therefore, an increase in parasitic capacitance can be suppressed, and an increase in capacitance of the touch sensor can be reduced. As a result, it is possible to suppress a decrease in touch detection response speed and maintain the operational stability of the touch sensor. Moreover, since the conductive film 12 is bent at the edge of the detection section 20 as described above, the frame can be narrowed. In this way, it is possible to obtain the touch panel 10 that maintains the operational stability of the touch sensor and has a narrow frame.

なお、図示はしないが、外部接続端子26が画像表示部14の裏面14b側に配置されるように、可撓性基材25について第3の折曲位置Bfを折り曲げた後に、第1の折曲位置Bf、および第2の折曲位置Bfを折り曲げた場合、可撓性基材25の角部25eと、領域25gとが重なり、重畳領域Dεでは、領域25gの取出し線23が存在する。この場合でも、重畳領域Dεにおいて取出し線23同士が重なることがなく、上述のように、寄生容量の増加を抑制し、タッチセンサーの動作安定性を維持し、かつ額縁が狭いタッチパネル10を得ることができる。
なお、導電性フィルム12において、取出し線23を折曲げ領域内に配置することにより、重畳領域Dεに、対向する取出し線23が存在しなくなる。これにより、原理的に静電容量を発生し得ない。このため、導電性フィルム12においては、対向する取出し線23が生じない、取出し線23の配線パターンとすることがより好ましい。このことから、重畳する可能性がある、角部25eおよび領域25fおよび領域25gには、取出し線23が配置されていない構成であることがより好ましい。
Although not shown, after bending the flexible base material 25 at the third bending position Bf3 so that the external connection terminals 26 are arranged on the back surface 14b side of the image display unit 14, the first When the bending position Bf 1 and the second bending position Bf 2 are bent, the corner 25e of the flexible base material 25 overlaps the area 25g, and in the overlapping area Dε, the lead-out line 23 of the area 25g is exist. Even in this case, the lead-out lines 23 do not overlap each other in the overlapping region Dε, and as described above, it is possible to suppress an increase in parasitic capacitance, maintain the operational stability of the touch sensor, and obtain the touch panel 10 with a narrow frame. can be done.
In addition, in the conductive film 12, by arranging the lead-out line 23 in the folded region, the facing lead-out line 23 does not exist in the overlapping region Dε. As a result, no capacitance can be generated in principle. For this reason, in the conductive film 12, it is more preferable to set the wiring pattern of the lead-out lines 23 so that the lead-out lines 23 facing each other do not occur. For this reason, it is more preferable that the lead-out line 23 is not arranged in the corner 25e and the area 25f and the area 25g, which may overlap.

図5は本発明の実施形態のタッチパネルの導電性フィルムの折曲げ領域の曲面の折り曲げに沿った長さと、画像表示部の厚みとの関係を説明するための模式図である。図5において図1に示すタッチパネル10および図2に示す導電性フィルム12と同一構成物には同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。導電性フィルム12の折曲げ領域の曲面の折り曲げに沿った長さと、画像表示部の厚みとの関係については、第1の折曲げ領域、第2の折曲げ領域および第3の折曲げ領域をまとめて、単に折曲げ領域BEとして説明する。
導電性フィルム12は、上述のように各折曲位置にて折り曲げられる。このとき、図5に示すように、導電性フィルム12が画像表示部14の側面14cを囲むように折り曲げられる。導電性フィルム12の折曲げ領域BEは曲面で構成される。導電性フィルム12の折曲げ領域BEの曲面の折り曲げに沿った長さLpと、画像表示部14の厚みtpとの比γは、大きいと折曲げ領域BEの導電性フィルム12が長くなり、上述の比γが小さいと折曲げ領域BEの導電性フィルム12が短くなる。上述の比γは小さい程、折曲げ領域BEが画像表示部14の側面14cにより近づく。
以下、折曲げ領域BEの導電性フィルム12の折曲げ領域BEの曲面の折り曲げに沿った長さLpと、画像表示部14の厚みtpとの比γのことを、以下単に比γともいう。
FIG. 5 is a schematic diagram for explaining the relationship between the length along the bending of the curved surface of the bending region of the conductive film of the touch panel of the embodiment of the present invention and the thickness of the image display portion. 5, the same components as those of the touch panel 10 shown in FIG. 1 and the conductive film 12 shown in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. Regarding the relationship between the length along the bending of the curved surface of the conductive film 12 and the thickness of the image display portion, the first bending region, the second bending region and the third bending region They will be collectively described simply as the bending regions BE.
The conductive film 12 is folded at each folding position as described above. At this time, as shown in FIG. 5, the conductive film 12 is folded so as to surround the side surface 14c of the image display section 14. Then, as shown in FIG. The bending area BE of the conductive film 12 is configured with a curved surface. If the ratio γ between the length Lp along the bending of the curved surface of the bending region BE of the conductive film 12 and the thickness tp of the image display portion 14 is large, the conductive film 12 in the bending region BE becomes long, and the above-mentioned When the ratio γ of is small, the length of the conductive film 12 in the bending area BE is shortened. The smaller the above ratio γ, the closer the bending area BE is to the side surface 14c of the image display unit 14 .
Hereinafter, the ratio γ between the length Lp along the bending of the curved surface of the bending region BE of the conductive film 12 in the bending region BE and the thickness tp of the image display section 14 will be simply referred to as the ratio γ.

比γは2.0以下であることが好ましく、比γは1.2以下であることがより好ましい。比γが2.0以下であると、折り曲げられた導電性フィルム12の曲面Scにおいて、画像表示部14の厚み方向に対向する取出し線23の距離が遠くなり、寄生容量が小さくなる。これにより、タッチ検出の応答速度の低下を抑制でき、タッチセンサーの動作安定性を維持することができる。このため、比γが1.2以下であると、折り曲げられた導電性フィルム12の曲面Scにおいて、画像表示部14の厚み方向に対向する取出し線23の距離がさらに遠くなるため、より好ましい。
なお、折り曲げ領域と、折り曲げ予定領域とは、折り曲げ前後の違いであり、導電性フィルム12では同じ領域である。このため、折曲げ線に沿って設けられた折曲げ予定領域の、折曲げ線と直交する幅方向の長さと、画像表示部の厚みとの比についても、2.0以下であることが好ましく、比γは1.2以下であることがより好ましい。
The ratio γ is preferably 2.0 or less, more preferably 1.2 or less. When the ratio γ is 2.0 or less, the lead-out lines 23 facing each other in the thickness direction of the image display section 14 are farther apart on the curved surface Sc of the folded conductive film 12, and the parasitic capacitance is reduced. As a result, it is possible to suppress a decrease in touch detection response speed and maintain the operational stability of the touch sensor. Therefore, when the ratio γ is 1.2 or less, the distance between the lead lines 23 facing the thickness direction of the image display section 14 on the curved surface Sc of the folded conductive film 12 is further increased, which is more preferable.
It should be noted that the bending region and the intended bending region are different before and after bending, and are the same region in the conductive film 12 . For this reason, the ratio of the length of the region to be folded provided along the folding line in the width direction perpendicular to the folding line to the thickness of the image display portion is also preferably 2.0 or less. , the ratio γ is more preferably 1.2 or less.

ここで、画像表示部14において、画像表示部14の厚み方向における半分の位置を通る中心線をfcとする。中心線fcが通る導電性フィルム12の曲面Scの点をfcとする。また、導電性フィルム12の画像表示部14の裏面14bとの接点をfeとする。点fcと接点feとを通る線をLmとし、画像表示部14の裏面14bから延びる線をPpとする。この場合、線Lmと、線Ppとのなす角をθとするとき、角αは、上述の比γにより角度が異なる。例えば、比γが2.9の場合、角αは20°であり、比γが2.0の場合、角αは30°であり、比γが1.2の場合、角αは60°であり、比γが1.0の場合、角αは90°である。 Here, in the image display section 14, the center line passing through the half position in the thickness direction of the image display section 14 is defined as fc. Let fc be a point on the curved surface Sc of the conductive film 12 through which the center line fc passes. A contact point of the conductive film 12 with the rear surface 14b of the image display portion 14 is fe. Let Lm be a line passing through the point fc and the contact fe, and let Pp be a line extending from the rear surface 14b of the image display unit 14 . In this case, when the angle between the line Lm and the line Pp is θ, the angle α varies depending on the ratio γ described above. For example, when the ratio γ is 2.9, the angle α is 20°, when the ratio γ is 2.0, the angle α is 30°, and when the ratio γ is 1.2, the angle α is 60°. and the angle α is 90° when the ratio γ is 1.0.

また、折曲げ線に沿って、折曲げ領域BEに設けられた折曲げ領域BEの長さ方向に延びる取出し線23は、折曲げ線からの距離が10μm以上の領域に設けられていることが好ましい。全ての取出し線23が折曲げ領域BE内に設けられている場合、折曲げ領域BEの幅方向の両端部から10μm以上離れた領域に設けられていることが好ましい。
折曲げ領域BEの長さ方向に延びる取出し線23は、折曲げ線からの距離が100μm以上の領域に設けられていることがより好ましい。全ての取出し線23が折曲げ領域BE内に設けられている場合、折曲げ領域BEの幅方向の両端部から100μm以上離れた領域に設けられていることが好ましい。
複数の取出し線23を導電性フィルム12の折曲げ領域BEの幅方向の中央部、すなわち、導電性フィルム12の曲面Scの中央付近にまとめて配置することにより、タッチ検出の応答速度の低下を抑制でき、タッチセンサーの動作安定性を維持することができる。
なお、折曲げ領域BEの幅方向の端部、すなわち、折曲げ予定領域の端部は、検出部20側の端部であり、図3に示す第1の折曲位置Bf、第2の折曲位置Bf、第3の折曲位置Bfである。両端部とは、上述の検出部20側の端部と、検出部20の反対側の端部である。折曲げ予定領域の、折曲げ線と直交する幅方向は、折曲げ線の配置位置により異なり、折曲げ線がX方向と平行であれば、Y方向であり、折曲げ線がY方向と平行であれば、X方向である。
In addition, the lead-out line 23 extending in the length direction of the bending region BE provided in the bending region BE along the bending line is provided in a region at a distance of 10 μm or more from the bending line. preferable. If all lead-out lines 23 are provided within the bending area BE, they are preferably provided in areas separated by 10 μm or more from both ends in the width direction of the bending area BE.
It is more preferable that the lead-out line 23 extending in the length direction of the bending area BE is provided in an area with a distance of 100 μm or more from the bending line. When all lead-out lines 23 are provided within the bending area BE, they are preferably provided in areas separated by 100 μm or more from both ends in the width direction of the bending area BE.
By collectively arranging the plurality of lead-out lines 23 in the central portion in the width direction of the bending region BE of the conductive film 12, that is, in the vicinity of the central portion of the curved surface Sc of the conductive film 12, the decrease in response speed of touch detection can be prevented. can be suppressed and the operation stability of the touch sensor can be maintained.
Note that the widthwise end of the bending region BE, that is, the end of the planned bending region is the end on the detection unit 20 side, and corresponds to the first bending position Bf 1 and the second bending position Bf 1 shown in FIG. A bending position Bf 2 and a third bending position Bf 3 . Both ends are the end on the side of the detection unit 20 described above and the end on the opposite side of the detection unit 20 . The width direction perpendicular to the folding line in the planned folding area varies depending on the position of the folding line. If the folding line is parallel to the X direction, it is the Y direction, and the folding line is parallel to the Y direction. If so, it is in the X direction.

折曲げ線に沿って設けられた折曲げ予定領域においても、取出し配線が、折曲げ線からの距離が10μm以上離れた領域に設けられていることが好ましく、距離が100μm以上の領域に設けられていることがより好ましい。
取出し線23を、上述のように折曲げ線からの距離を10μm以上、または100μm以上とし、折曲げ領域の端部に対して内側に設けることにより、折曲げ領域にある取出し線23と、可撓性基材25の表面25aに設けられた第1検出電極30、または可撓性基材25の裏面25bに折り曲げられた取出し配線部22との電気的な干渉を避けることができる。
In the intended bending area provided along the bending line, the extraction wiring is preferably provided in an area separated from the bending line by a distance of 10 μm or more, and is provided in an area with a distance of 100 μm or more. more preferably.
By setting the lead-out line 23 at a distance of 10 μm or more or 100 μm or more from the bending line as described above and providing it inside the end of the bending region, the lead-out line 23 in the bending region and the flexible Electrical interference with the first detection electrodes 30 provided on the front surface 25a of the flexible base material 25 or the extraction wiring portion 22 bent on the back surface 25b of the flexible base material 25 can be avoided.

図2に示す導電性フィルム12において、図6に示すように、可撓性基材25が帯状の突出し部29を有する構成でもよい。突出し部29に取出し配線部22が設けられており、突出し部29に取出し配線部22の終端部22bがある。終端部22bに設けられた外部接続端子26にフレキシブル回路基板19が電気的に接続される。突出し部29に絶縁膜37(図1参照)が形成される。なお、突出し部29は、可撓性基材25を打ち抜くこと、または部分的に切断することにより形成することができる。
突出し部29の位置は、図6に示す導電性フィルム12では、X方向における中央としたが、これに限定されるものではない。突出し部29の位置は、検出部20および取出し配線部22のレイアウト等に応じて適宜決定されるものである。
また、検出部20の大きさにより、フレキシブル回路基板19に接続する部分を複数設けることがある。上述の接続する部分を複数設けると、占有面積が増えるため、突出し部29は1つであることが好ましい。
In the conductive film 12 shown in FIG. 2, as shown in FIG. 6, the flexible base material 25 may have a strip-like projecting portion 29 . The extraction wiring portion 22 is provided on the projecting portion 29 , and the termination portion 22 b of the extraction wiring portion 22 is provided on the projecting portion 29 . The flexible circuit board 19 is electrically connected to the external connection terminals 26 provided on the terminal portion 22b. An insulating film 37 (see FIG. 1) is formed on the projecting portion 29 . The projecting portion 29 can be formed by punching or partially cutting the flexible base material 25 .
In the conductive film 12 shown in FIG. 6, the position of the projecting portion 29 is the center in the X direction, but it is not limited to this. The position of the protruding portion 29 is appropriately determined according to the layout of the detecting portion 20 and the extraction wiring portion 22 and the like.
Moreover, depending on the size of the detection unit 20, a plurality of portions connected to the flexible circuit board 19 may be provided. If a plurality of connecting portions are provided as described above, the area occupied increases.

ここで、タッチパネル10では、画像表示部14の厚みは、特に限定されるものではないが、0.5mm以上4.0mm以下が好ましく、より好ましくは1.0mm以上3.0mm以下である。画像表示部14の厚みを、この範囲の厚みとすることにより、導電性フィルム12の折曲げが容易となり、折れ曲がりによる導電性フィルム12の撓みや取出し線23のクラックの発生や基材からの剥離を抑制することができる。なお、画像表示部14の厚みが厚いと隣り合う2辺を折り返す際に重畳領域に撓み等が生じ、ハンドリングが非常に困難である。一方、画像表示部14の厚みが薄いと折り曲げ時の折り曲げ径が鋭角となり、導電層にクラックが発生することがある。液晶表示デバイスでは厚みが3.0mm程度であり、1mm程度のものもある。画像表示部14の厚みで側面14cのスペースが決定されるため、側面14cに外部接続端子26を配置する場合、配置スペースが限られてしまう。このため、タッチパネル10では、外部接続端子26を画像表示部14の裏面14b側に配置する。
画像表示部14の表示面14a側に導電性フィルム12を配置して、上述のように、外部接続端子26が画像表示部14の裏面14b側に配置されるように可撓性基材25を、上述の第1の折曲げ予定領域BEと、第2の折曲げ予定領域BEと、第3の折曲げ予定領域BEとを折り曲げて、重畳領域Dεを形成した場合、画像表示部14の厚みが薄いと、折り曲げられた取出し配線部22間での電気的な干渉を避けることができる。
Here, in the touch panel 10, the thickness of the image display portion 14 is not particularly limited, but is preferably 0.5 mm or more and 4.0 mm or less, more preferably 1.0 mm or more and 3.0 mm or less. By setting the thickness of the image display portion 14 within this range, the conductive film 12 can be easily bent, and the conductive film 12 can be bent due to the bending, the lead-out line 23 can be cracked, and the film can be peeled off from the substrate. can be suppressed. If the thickness of the image display section 14 is large, bending occurs in the overlapping area when two adjacent sides are folded back, making handling very difficult. On the other hand, if the thickness of the image display portion 14 is thin, the bent diameter at the time of bending becomes an acute angle, and cracks may occur in the conductive layer. A liquid crystal display device has a thickness of about 3.0 mm, and some have a thickness of about 1 mm. Since the space of the side surface 14c is determined by the thickness of the image display unit 14, when the external connection terminals 26 are arranged on the side surface 14c, the arrangement space is limited. Therefore, in the touch panel 10 , the external connection terminals 26 are arranged on the rear surface 14 b side of the image display section 14 .
The conductive film 12 is arranged on the display surface 14a side of the image display section 14, and the flexible base material 25 is arranged so that the external connection terminals 26 are arranged on the back surface 14b side of the image display section 14 as described above. , the above-described first bending area BE 1 , second bending area BE 2 , and third bending area BE 3 are bent to form a superimposed area Dε, the image display unit If the thickness of 14 is thin, electrical interference between the bent extraction wiring portions 22 can be avoided.

(導電性フィルムの第2の例)
次に、導電性フィルム12の第2の例について説明する。
図7は本発明の実施形態のタッチパネルの導電性フィルムの第2の例を示す模式図である。図7に示す導電性フィルム12において、図2に示す導電性フィルム12と同一構成物には同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。
(Second example of conductive film)
Next, a second example of the conductive film 12 is described.
FIG. 7 is a schematic diagram showing a second example of the conductive film of the touch panel according to the embodiment of the present invention. In the conductive film 12 shown in FIG. 7, the same components as those of the conductive film 12 shown in FIG.

図7に示す導電性フィルム12は、図2に示す導電性フィルム12に比して、第2検出電極32の取出し線23のパターンが異なる。図7に示す導電性フィルム12では、第2検出電極32の端に電気的に接続された、X方向に延びる取出し線23が全て、第1の折曲位置Bfの第1の折曲げ予定領域BEをX方向に横切って通過している。取出し線23が第1の折曲げ予定領域BE内をY方向に沿って設けられていない。取出し線23は、第1の折曲げ予定領域BEと外縁25cとの間で、第1の折曲げ予定領域BEの長さ方向、すなわち、Y方向に沿って配置されている。
また、第2検出電極32の端に電気的に接続された、X方向に延びる取出し線23が全て、第2の折曲位置Bfの第2の折曲げ予定領域BEをX方向に横切って通過している。取出し線23が第2の折曲げ予定領域BE内をY方向に沿って設けられていない。取出し線23は、第2の折曲げ予定領域BEと外縁25cとの間で、第2の折曲げ予定領域BEの長さ方向、すなわち、Y方向に沿って配置されている。第2検出電極32に接続された取出し線23は、角部25eと対向する可能性がある領域25gを避けて配置されている。このように、領域25fに取出し線23が存在するが、角部25eおよび領域25gには取出し線23が存在しない。
The conductive film 12 shown in FIG. 7 differs from the conductive film 12 shown in FIG. 2 in the pattern of the lead-out lines 23 of the second detection electrodes 32 . In the conductive film 12 shown in FIG. 7, all the lead-out lines 23 extending in the X direction and electrically connected to the ends of the second detection electrodes 32 are at the first bending position Bf1 . It passes across the region BE1 in the X direction. The lead-out line 23 is not provided along the Y direction in the first bending area BE1 . The extraction line 23 is arranged along the length direction of the first intended bending area BE1 , that is, along the Y direction, between the first intended bending area BE1 and the outer edge 25c.
In addition, all of the extraction lines 23 extending in the X direction and electrically connected to the ends of the second detection electrodes 32 cross the second bending area BE2 at the second bending position Bf2 in the X direction. are passing through. The lead-out line 23 is not provided along the Y direction within the second bending area BE2 . The extraction line 23 is arranged along the length direction of the second intended bending area BE2 , that is, along the Y direction, between the second intended bending area BE2 and the outer edge 25c. The extraction line 23 connected to the second detection electrode 32 is arranged to avoid the area 25g that may face the corner 25e. In this way, the lead-out line 23 exists in the region 25f, but the lead-out line 23 does not exist in the corner portion 25e and the region 25g.

図7に示す導電性フィルム12では、例えば、可撓性基材25について第1の折曲位置Bfで第1の折曲げ予定領域BEを折り曲げ、第2の折曲位置Bfで第2の折曲げ予定領域BEを折り曲げた後、外部接続端子26が画像表示部14の裏面14b側に配置されるように、可撓性基材25について第3の折曲位置Bfで第3の折曲げ予定領域BEを折り曲げた際に、角部25eに取出し線23が配置されていない。このため、重畳領域Dεでは、領域25fに取出し線23が存在するが、取出し線23同士が重なることがない。これにより、図7に示す導電性フィルム12は、図2に示す導電性フィルム12と同様の効果を得ることができる。
なお、例えば、外部接続端子26が画像表示部14の裏面14b側に配置されるように、可撓性基材25について第3の折曲位置Bfで第3の折曲げ予定領域BEを折り曲げた後に、可撓性基材25について第1の折曲位置Bfで第1の折曲げ予定領域BEを折り曲げ、第2の折曲位置Bfで第2の折曲げ予定領域BEを折り曲げた際には、重畳領域Dεに取出し線23が存在せず、重畳領域Dεでは、取出し線23同士が重なることがない。
In the conductive film 12 shown in FIG. 7, for example, the flexible substrate 25 is bent in the first bending area BE1 at the first bending position Bf1 , and is bent at the second bending position Bf2 . 2 is bent, the flexible base material 25 is bent at the third bending position Bf 3 so that the external connection terminals 26 are arranged on the back surface 14b side of the image display unit 14 . When the bending area BE 3 of 3 is bent, the lead-out line 23 is not arranged at the corner 25e. Therefore, in the overlapping region Dε, the lead-out lines 23 exist in the region 25f, but the lead-out lines 23 do not overlap each other. Thereby, the conductive film 12 shown in FIG. 7 can obtain the same effects as the conductive film 12 shown in FIG.
In addition, for example, the flexible base material 25 is bent at the third bending position Bf3 so that the external connection terminal 26 is arranged on the back surface 14b side of the image display unit 14 . After bending, the flexible base material 25 is bent in the first bending area BE1 at the first bending position Bf1 , and in the second bending area BE2 at the second bending position Bf2. is bent, the lead-out lines 23 do not exist in the superimposed region Dε, and the lead-out lines 23 do not overlap each other in the superimposed region Dε.

(導電性フィルムの第3の例)
次に、導電性フィルム12の第3の例について説明する。
図8は本発明の実施形態のタッチパネルの導電性フィルムの第3の例を示す模式図である。図8に示す導電性フィルム12において、図2に示す導電性フィルム12と同一構成物には同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。
図8に示す導電性フィルム12は、図2に示す導電性フィルム12に比して、第2検出電極32の取出し線23のパターンが異なる。図8に示す導電性フィルム12では、第2検出電極32の端に電気的に接続された、取出し線23が全て、第1の折曲位置Bfの第1の折曲げ予定領域BEに沿って配置されているが、第3の折曲げ予定領域BEよりも外縁25c側の領域では、第1の折曲げ予定領域BEと、第2の折曲げ予定領域BEとの間の領域を通るパターンである。
また、第2検出電極32の端に電気的に接続された、取出し線23が全て、第2の折曲位置Bfの第2の折曲げ予定領域BEに沿って配置されているが、第3の折曲げ予定領域BEよりも外縁25c側の領域では、第1の折曲げ予定領域BEと、第2の折曲げ予定領域BEとの間の領域を通るパターンである。角部25eおよび領域25fに取出し線23が存在しないが、領域25gには取出し線23が存在する。
(Third example of conductive film)
Next, a third example of the conductive film 12 will be described.
FIG. 8 is a schematic diagram showing a third example of the conductive film of the touch panel according to the embodiment of the present invention. In the conductive film 12 shown in FIG. 8, the same components as those of the conductive film 12 shown in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.
The conductive film 12 shown in FIG. 8 differs from the conductive film 12 shown in FIG. 2 in the pattern of the extraction lines 23 of the second detection electrodes 32 . In the conductive film 12 shown in FIG. 8, all the extraction lines 23 electrically connected to the ends of the second detection electrodes 32 are located in the first bending area BE1 at the first bending position Bf1 . However, in the region closer to the outer edge 25c than the third intended bending region BE3 , between the first intended bending region BE1 and the second intended bending region BE2 It is a pattern through the area.
In addition, all of the extraction lines 23 electrically connected to the ends of the second detection electrodes 32 are arranged along the second bending area BE2 at the second bending position Bf2 , In the area closer to the outer edge 25c than the third bending area BE3 , the pattern passes through the area between the first bending area BE1 and the second bending area BE2 . The lead-out line 23 does not exist in the corner portion 25e and the region 25f, but the lead-out line 23 exists in the region 25g.

図8に示す導電性フィルム12では、例えば、可撓性基材25について第1の折曲位置Bfで第1の折曲げ予定領域BEを折り曲げ、第2の折曲位置Bfで第2の折曲げ予定領域BEを折り曲げた後、外部接続端子26が画像表示部14の裏面14b側に配置されるように、可撓性基材25について第3の折曲位置Bfで第3の折曲げ予定領域BEを折り曲げた際に、角部25eに取出し線23が配置されていない。このため、重畳領域Dεでは、取出し線23が存在せず、取出し線23同士が重なることがない。このため、図8に示す導電性フィルム12は、図2に示す導電性フィルム12と同様の効果を得ることができる。
なお、例えば、外部接続端子26が画像表示部14の裏面14b側に配置されるように、可撓性基材25について第3の折曲位置Bfで第3の折曲げ予定領域BEを折り曲げた後に、可撓性基材25について第1の折曲位置Bfで第1の折曲げ予定領域BEを折り曲げ、第2の折曲位置Bfで第2の折曲げ予定領域BEを折り曲げた際に、領域25gに取出し線23が存在するが、重畳領域Dεでは、取出し線23同士が重なることがない。
In the conductive film 12 shown in FIG. 8, for example, the flexible base material 25 is bent in the first bending area BE1 at the first bending position Bf1 , and is bent at the second bending position Bf2 . 2 is bent, the flexible base material 25 is bent at the third bending position Bf 3 so that the external connection terminals 26 are arranged on the back surface 14b side of the image display unit 14 . When the bending area BE 3 of 3 is bent, the lead-out line 23 is not arranged at the corner 25e. Therefore, in the overlapping region Dε, the extraction lines 23 do not exist, and the extraction lines 23 do not overlap each other. Therefore, the conductive film 12 shown in FIG. 8 can obtain the same effect as the conductive film 12 shown in FIG.
In addition, for example, the flexible base material 25 is bent at the third bending position Bf3 so that the external connection terminal 26 is arranged on the back surface 14b side of the image display unit 14 . After bending, the flexible base material 25 is bent in the first bending area BE1 at the first bending position Bf1 , and in the second bending area BE2 at the second bending position Bf2. is bent, the lead-out lines 23 exist in the region 25g, but the lead-out lines 23 do not overlap each other in the overlapping region Dε.

(導電性フィルムの第4の例)
次に、導電性フィルム12の第4の例について説明する。
図9は本発明の実施形態のタッチパネルの導電性フィルムの第4の例を示す模式図である。図9に示す導電性フィルム12において、図2に示す導電性フィルム12と同一構成物には同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。
図9に示す導電性フィルム12は、図2に示す導電性フィルム12に比して、第1検出電極30の数および第2検出電極32の数、および取出し線23が異なり、それ以外の構成は、図2に示す導電性フィルム12と同じであるため、その詳細な説明は省略する。
図9に示す導電性フィルム12は、図2に示す導電性フィルム12の向きを変えたものであり、図2に示す導電性フィルム12の第1検出電極30を、第2検出電極32とし、第2検出電極32を第1検出電極30としたものである。
外部接続端子26に最も近い第2検出電極32の取出し線23は、第1の折曲げ予定領域BE内、第2の折曲げ予定領域BE内に配置されている。それ以外の第2検出電極32の取出し線23は、第1の折曲げ予定領域BE内、第2の折曲げ予定領域BE内に配置されておらず、第1の折曲げ予定領域BEに沿って、外部接続端子26に電気的に接続される。第2検出電極32に接続された取出し線23は、角部25eと対向する可能性がある領域25gを避けて配置されている。このように、領域25fに取出し線23が存在するが、領域25gには取出し線23が存在しない。
(Fourth example of conductive film)
Next, a fourth example of the conductive film 12 will be described.
FIG. 9 is a schematic diagram showing a fourth example of the conductive film of the touch panel according to the embodiment of the invention. In the conductive film 12 shown in FIG. 9, the same components as those of the conductive film 12 shown in FIG.
The conductive film 12 shown in FIG. 9 differs from the conductive film 12 shown in FIG. is the same as the conductive film 12 shown in FIG. 2, so detailed description thereof will be omitted.
The conductive film 12 shown in FIG. 9 is obtained by changing the orientation of the conductive film 12 shown in FIG. 2, and the first detection electrode 30 of the conductive film 12 shown in FIG. The second detection electrode 32 is used as the first detection electrode 30 .
The lead-out lines 23 of the second detection electrodes 32 closest to the external connection terminals 26 are arranged in the first intended bending area BE1 and the second intended bending area BE2 . The other lead-out lines 23 of the second detection electrodes 32 are not arranged in the first intended bending area BE1 and the second intended bending area BE2 , and are not arranged in the first intended bending area BE2. 1 are electrically connected to external connection terminals 26 . The extraction line 23 connected to the second detection electrode 32 is arranged to avoid the area 25g that may face the corner 25e. Thus, the lead-out line 23 exists in the region 25f, but the lead-out line 23 does not exist in the region 25g.

図9に示す導電性フィルム12では、例えば、可撓性基材25について第1の折曲位置Bfで第1の折曲げ予定領域BEを折り曲げ、第2の折曲位置Bfで第2の折曲げ予定領域BEを折り曲げた後、外部接続端子26が画像表示部14の裏面14b側に配置されるように、可撓性基材25について第3の折曲位置Bfで第3の折曲げ予定領域BEを折り曲げた際に、角部25eに取出し線23が配置されていない。このため、重畳領域Dεでは、領域25fに取出し線23が存在するが、取出し線23同士が重なることがない。これにより、図9に示す導電性フィルム12は、図2に示す導電性フィルム12と同様の効果を得ることができる。
なお、例えば、外部接続端子26が画像表示部14の裏面14b側に配置されるように、可撓性基材25について第3の折曲位置Bfで第3の折曲げ予定領域BEを折り曲げた後に、可撓性基材25について第1の折曲位置Bfで第1の折曲げ予定領域BEを折り曲げ、第2の折曲位置Bfで第2の折曲げ予定領域BEを折り曲げた際には、重畳領域Dεに取出し線23が存在せず、重畳領域Dεでは、取出し線23同士が重なることがない。
In the conductive film 12 shown in FIG. 9, for example, the flexible base material 25 is bent in the first bending area BE1 at the first bending position Bf1 , and is bent at the second bending position Bf2 . 2 is bent, the flexible base material 25 is bent at the third bending position Bf 3 so that the external connection terminals 26 are arranged on the back surface 14 b side of the image display section 14 . When the bending area BE 3 of 3 is bent, the lead-out line 23 is not arranged at the corner 25e. Therefore, in the overlapping region Dε, the lead-out lines 23 are present in the region 25f, but the lead-out lines 23 do not overlap each other. Thereby, the conductive film 12 shown in FIG. 9 can obtain the same effect as the conductive film 12 shown in FIG.
For example, the flexible base material 25 is bent at the third bending position Bf3 so that the external connection terminals 26 are arranged on the back surface 14b side of the image display unit 14 . After bending, the flexible base material 25 is bent in the first bending area BE1 at the first bending position Bf1 , and in the second bending area BE2 at the second bending position Bf2. is bent, the lead-out lines 23 do not exist in the superimposed region Dε, and the lead-out lines 23 do not overlap each other in the superimposed region Dε.

(導電性フィルムの第5の例)
次に、導電性フィルム12の第5の例について説明する。
図10は本発明の実施形態のタッチパネルの導電性フィルムの第5の例を示す模式図である。図10に示す導電性フィルム12において、図2に示す導電性フィルム12と同一構成物には同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。
図10に示す導電性フィルム12は、図2に示す導電性フィルム12に比して、第2検出電極32の取出し線23のパターンが異なる。図10に示す導電性フィルム12では、第2検出電極32の端に電気的に接続された、X方向に延びる取出し線23が全て、第1の折曲位置Bfの第1の折曲げ予定領域BEをX方向に横切っている。取出し線23が第1の折曲げ予定領域BE内に沿って設けられていない。第1の折曲げ予定領域BEと外縁25cとの間で、第1の折曲げ予定領域BEの長さ方向、すなわち、Y方向に沿って取出し線23が配置されている。
また、第2検出電極32の端に電気的に接続された、X方向に延びる取出し線23が全て、第2の折曲位置Bfの第2の折曲げ予定領域BEをX方向に横切っている。取出し線23が第2の折曲げ予定領域BE内に沿って設けられていない。第2の折曲げ予定領域BEと外縁25cとの間で、第2の折曲げ予定領域BEの長さ方向、すなわち、Y方向に沿って取出し線23が配置されている。
また、第2検出電極32の端に電気的に接続された、全ての取出し線23は、第3の折曲げ予定領域BEよりも外縁25c側の領域では、第1の折曲げ予定領域BEと、第2の折曲げ予定領域BEとの間の領域を通るパターンである。領域25fおよび領域25gに取出し線23が存在するが、角部25eには取出し線23が存在しない。
(Fifth example of conductive film)
Next, a fifth example of the conductive film 12 will be described.
FIG. 10 is a schematic diagram showing a fifth example of the conductive film of the touch panel according to the embodiment of the present invention. In the conductive film 12 shown in FIG. 10, the same components as those of the conductive film 12 shown in FIG.
The conductive film 12 shown in FIG. 10 differs from the conductive film 12 shown in FIG. 2 in the pattern of the extraction lines 23 of the second detection electrodes 32 . In the conductive film 12 shown in FIG. 10, all the lead-out lines 23 extending in the X direction and electrically connected to the ends of the second detection electrodes 32 are at the first bending position Bf1 . It traverses the region BE1 in the X direction. The lead-out line 23 is not provided along the inside of the first intended bending area BE1 . A lead-out line 23 is arranged along the length direction of the first intended bending area BE1 , that is, the Y direction, between the first intended bending area BE1 and the outer edge 25c.
In addition, all of the extraction lines 23 extending in the X direction and electrically connected to the ends of the second detection electrodes 32 cross the second bending area BE2 at the second bending position Bf2 in the X direction. ing. The lead-out line 23 is not provided along the inside of the second planned bending area BE2 . Between the second bending area BE2 and the outer edge 25c, the extraction line 23 is arranged along the length direction of the second bending area BE2 , that is, along the Y direction.
In addition, all the lead-out lines 23 electrically connected to the ends of the second detection electrodes 32 are located in the first bending area BE in the area closer to the outer edge 25c than the third bending area BE3 . 1 and the second bending area BE2 . Although the lead-out lines 23 are present in the regions 25f and 25g, the lead-out lines 23 are not present in the corner portion 25e.

図10に示す導電性フィルム12では、例えば、可撓性基材25について第1の折曲位置Bfで第1の折曲げ予定領域BEを折り曲げ、第2の折曲位置Bfで第2の折曲げ予定領域BEを折り曲げた後、外部接続端子26が画像表示部14の裏面14b側に配置されるように、可撓性基材25について第3の折曲位置Bfで第3の折曲げ予定領域BEを折り曲げた際に、角部25eに取出し線23が配置されていない。このため、重畳領域Dεでは、領域25fに取出し線23が存在するが、取出し線23同士が重なることがない。これにより、図10に示す導電性フィルム12は、図2に示す導電性フィルム12と同様の効果を得ることができる。
なお、例えば、外部接続端子26が画像表示部14の裏面14b側に配置されるように、可撓性基材25について第3の折曲位置Bfで第3の折曲げ予定領域BEを折り曲げた後に、可撓性基材25について第1の折曲位置Bfで第1の折曲げ予定領域BEを折り曲げ、第2の折曲位置Bfで第2の折曲げ予定領域BEを折り曲げた際には、重畳領域Dεに取出し線23が存在するが、重畳領域Dεでは、取出し線23同士が重なることがない。
In the conductive film 12 shown in FIG. 10, for example, the flexible substrate 25 is bent in the first bending area BE1 at the first bending position Bf1 , and is bent at the second bending position Bf2 . 2 is bent, the flexible base material 25 is bent at the third bending position Bf 3 so that the external connection terminals 26 are arranged on the back surface 14 b side of the image display section 14 . When the bending area BE 3 of 3 is bent, the lead-out line 23 is not arranged at the corner 25e. Therefore, in the overlapping region Dε, the lead-out lines 23 are present in the region 25f, but the lead-out lines 23 do not overlap each other. Thereby, the conductive film 12 shown in FIG. 10 can obtain the same effect as the conductive film 12 shown in FIG.
For example, the flexible base material 25 is bent at the third bending position Bf3 so that the external connection terminals 26 are arranged on the back surface 14b side of the image display unit 14 . After bending, the flexible base material 25 is bent in the first bending area BE1 at the first bending position Bf1 , and in the second bending area BE2 at the second bending position Bf2. is bent, the lead-out lines 23 are present in the superimposed region Dε, but the lead-out lines 23 do not overlap each other in the superimposed region Dε.

(導電性フィルムの第6の例)
次に、導電性フィルム12の第6の例について説明する。
図11は本発明の実施形態のタッチパネルの導電性フィルムの第6の例を示す模式図である。図11に示す導電性フィルム12において、図10に示す導電性フィルム12と同一構成物には同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。
図11に示す導電性フィルム12は、図10に示す導電性フィルム12に比して、第1検出電極30の取出し線23の配置パターンおよび第2検出電極32の取出し線23の配置パターンが異なる。
図11に示す導電性フィルム12では、第1検出電極30の端に電気的に接続された、X方向に延びる取出し線23が全て、第3の折曲げ予定領域BEに配置されている。このため、第1検出電極30に接続された取出し線23は、全て画像表示部14の側面に配置される。
第2検出電極32に接続された取出し線23は、角部25eにX方向で隣接する第1の折曲げ予定領域BEおよび第2の折曲げ予定領域BEを通過し、かつ領域25gを通過している。このように、領域25fおよび領域25gに取出し線23が存在するが、角部25eには取出し線23が存在しない。
図11に示す導電性フィルム12では、上述のように領域25fおよび領域25gに取出し線23が存在するが、角部25eには取出し線23が存在しない。このため、重畳領域Dεにおいて、折り重なる導電性フィルムの2つの面のうち、いずれか一方の面に取出し線23が配置されるが、重畳領域Dεでは、取出し線23同士が重なることがない。これにより、図11に示す導電性フィルム12は、図2に示す導電性フィルム12と同様の効果を得ることができる。
(Sixth example of conductive film)
Next, a sixth example of the conductive film 12 will be described.
FIG. 11 is a schematic diagram showing a sixth example of the conductive film of the touch panel according to the embodiment of the present invention. In the conductive film 12 shown in FIG. 11, the same components as those of the conductive film 12 shown in FIG.
The conductive film 12 shown in FIG. 11 differs from the conductive film 12 shown in FIG. 10 in the arrangement pattern of the extraction lines 23 of the first detection electrodes 30 and the arrangement pattern of the extraction lines 23 of the second detection electrodes 32. .
In the conductive film 12 shown in FIG. 11, all of the extraction lines 23 extending in the X direction and electrically connected to the ends of the first detection electrodes 30 are arranged in the third bending area BE3 . Therefore, all of the extraction lines 23 connected to the first detection electrodes 30 are arranged on the side surface of the image display section 14 .
The lead-out line 23 connected to the second detection electrode 32 passes through the first bending planned area BE1 and the second bending planned area BE2 adjacent to the corner 25e in the X direction, and crosses the area 25g. have passed. In this way, the lead-out lines 23 exist in the regions 25f and 25g, but the lead-out lines 23 do not exist in the corner portion 25e.
In the conductive film 12 shown in FIG. 11, the lead-out lines 23 exist in the regions 25f and 25g as described above, but the lead-out lines 23 do not exist in the corners 25e. Therefore, in the overlapping region Dε, the lead-out lines 23 are arranged on one of the two faces of the conductive film that is folded over, but the lead-out lines 23 do not overlap each other in the overlapping region Dε. Thereby, the conductive film 12 shown in FIG. 11 can obtain the same effects as the conductive film 12 shown in FIG.

以上の例では、いずれも可撓性基材25について第1の折曲位置Bfで第1の折曲げ予定領域BEを折り曲げ、第2の折曲位置Bfで第2の折曲げ予定領域BEを折り曲げた後、外部接続端子26が画像表示部14の裏面14b側に配置されるように、可撓性基材25について第3の折曲位置Bfで第3の折曲げ予定領域BEを折り曲げることを例にしたが、これに限定されるものではない。タッチパネルとして、例えば、検出部20の端に沿って設けられた、交差する2つの折曲げ線で、画像表示部14の表示面14a側とは反対の画像表示部14の裏面14b側に可撓性基材25が折り曲げられて形成された、画像表示部14の側面14cを囲む2つの折曲げ領域と、画像表示部14の裏面14bで導電性フィルム12(可撓性基材25)の周縁部21の同じ面が折り重なる重畳領域Dεとを有する。さらに、外部接続端子26は画像表示部14の表示面14a側に配置され,取出し線23が少なくとも折曲げ領域に設けられており、かつ取出し線23が重畳領域Dεを避けて配置されるか、または重畳領域Dεにおいて、折り重なる導電性フィルム12の2つの面のうち、いずれか一方の面に取出し線が設けられている構成でもよい。この構成でも、重畳領域Dεにおける寄生容量の増加を抑制することができる。
また、例えば、可撓性基材25は、矩形状であり、複数の検出部20が矩形状に、可撓性基材25の辺を揃えて配置され、取出し配線部22は、可撓性基材25の辺の周縁に設けられている。検出部20の一方の端に沿った第1の辺と、第1の辺と直交する第2の辺とに対して、それぞれ平行に折曲げ線が設けられている。上述のそれぞれ平行に折曲げ線とは、例えば、上述の第1の折曲位置Bfと第3の折曲位置Bfである。可撓性基材25は4つの辺のうち、折曲げ線が設けられた2つの辺が、画像表示部14の裏面14b側に配置されるように折り曲げられていてもよい。
In any of the above examples, the first planned bending region BE1 is bent at the first bending position Bf1 of the flexible base material 25, and the second planned bending region is bent at the second bending position Bf2 . After bending the region BE2 , the flexible base material 25 is scheduled to be thirdly bent at the third bending position Bf3 so that the external connection terminals 26 are arranged on the back surface 14b side of the image display unit 14. Although bending the region BE3 is taken as an example, it is not limited to this. As a touch panel, for example, two intersecting bending lines provided along the edge of the detection unit 20 are flexible to the back surface 14b side of the image display unit 14 opposite to the display surface 14a side of the image display unit 14. Two bending regions surrounding the side surface 14c of the image display unit 14 formed by bending the flexible base material 25 and the peripheral edge of the conductive film 12 (flexible base material 25) at the back surface 14b of the image display unit 14 The same face of the portion 21 has an overlapping region Dε to be folded over. Further, the external connection terminals 26 are arranged on the display surface 14a side of the image display unit 14, the extraction lines 23 are provided at least in the bending area, and the extraction lines 23 are arranged avoiding the overlapping area Dε, Alternatively, in the overlapping region Dε, a configuration in which one of the two surfaces of the conductive film 12 that is folded over is provided with a lead-out line may be employed. This configuration can also suppress an increase in parasitic capacitance in the overlapping region Dε.
Further, for example, the flexible base material 25 has a rectangular shape, the plurality of detection units 20 are arranged in a rectangular shape with the sides of the flexible base material 25 aligned, and the extraction wiring part 22 has a flexible It is provided on the periphery of the side of the base material 25 . A first side along one end of the detection section 20 and a second side orthogonal to the first side are provided with parallel bending lines. The above-mentioned respective parallel folding lines are, for example, the above-mentioned first folding position Bf1 and third folding position Bf3 . Of the four sides of the flexible base material 25 , the two sides provided with the folding lines may be bent so as to be arranged on the back surface 14 b side of the image display section 14 .

(導電性フィルムの構成)
以下、導電性フィルムを構成する各部材について説明する。
<電極構成等>
図12は本発明の実施形態のタッチパネルの導電性フィルムの検出部の電極構成を示す模式図であり、図13は本発明の実施形態のタッチパネルの導電性フィルムの検出部のメッシュパターンの形状の一例を示す模式図である。
検出部20の第1検出電極30および第2検出電極32は、上述のように金属細線33により構成される。第1検出電極30および第2検出電極32は、例えば、図12に示すように、複数の金属細線33が交差してなるメッシュパターンを有する。
なお、取出し線23についても、第1検出電極30および第2検出電極32と同じ構成とすることができ、金属細線33で構成することができる。取出し線23は、複数の金属細線33が交差してなるメッシュパターンを有するものであってもよい。
(Structure of conductive film)
Each member constituting the conductive film will be described below.
<Electrode configuration, etc.>
FIG. 12 is a schematic diagram showing the electrode configuration of the detection portion of the conductive film of the touch panel of the embodiment of the present invention, and FIG. 13 is the shape of the mesh pattern of the detection portion of the conductive film of the touch panel of the embodiment of the present invention. It is a schematic diagram which shows an example.
The first detection electrode 30 and the second detection electrode 32 of the detection section 20 are composed of the thin metal wires 33 as described above. The first detection electrode 30 and the second detection electrode 32 have, for example, a mesh pattern in which a plurality of thin metal wires 33 intersect, as shown in FIG.
The extraction line 23 can also have the same configuration as the first detection electrode 30 and the second detection electrode 32 , and can be composed of the thin metal wire 33 . The extraction line 23 may have a mesh pattern in which a plurality of thin metal wires 33 intersect.

第1検出電極30、第2検出電極32および取出し線23を、メッシュパターンを有する構成とする場合、メッシュパターンのパターンは特に制限されず、正三角形、二等辺三角形、直角三角形等の三角形、正方形、長方形、菱形、平行四辺形、台形等の四角形、(正)六角形、(正)八角形等の(正)n角形、円、楕円、星形等を組み合わせた幾何学図形であることが好ましい。
メッシュパターンのメッシュとは、図13に示すように、交差する金属細線33により構成される複数の開口部35を含んでいる形状を意図する。図13において、開口部35は、ひし形の形状を有しているが、他の形状であってもよい。例えば、多角形状(例えば、三角形、四角形、六角形、および、ランダムな多角形)としてもよい。また、一辺の形状を直線状の他、湾曲形状にしてもよいし、円弧状にしてもよい。円弧状とする場合は、例えば、対向する二辺については、外方に凸の円弧状とし、他の対向する二辺については、内方に凸の円弧状としてもよい。また、各辺の形状を、外方に凸の円弧と内方に凸の円弧が連続した波線形状としてもよい。もちろん、各辺の形状を、サイン曲線にしてもよい。
When the first detection electrode 30, the second detection electrode 32, and the lead-out line 23 are configured to have a mesh pattern, the pattern of the mesh pattern is not particularly limited. , Squares such as rectangles, rhombuses, parallelograms, trapezoids, (regular) n-gons such as (regular) hexagons and (regular) octagons, circles, ellipses, stars, etc. preferable.
By the mesh of the mesh pattern is intended a shape containing a plurality of openings 35 constituted by intersecting thin metal wires 33, as shown in FIG. In FIG. 13, the openings 35 have a rhombus shape, but may have other shapes. For example, polygonal shapes (eg, triangles, squares, hexagons, and random polygons) may be used. In addition, the shape of one side may be curved, or arc-shaped, instead of being linear. In the case of an arc shape, for example, two opposing sides may be arcuately convex outward, and the other two opposing sides may be arcuately convex inward. Further, the shape of each side may be a wavy line shape in which an outwardly convex circular arc and an inwardly convex circular arc are continuous. Of course, the shape of each side may be a sine curve.

開口部35は、金属細線33で囲まれる開口領域である。開口部35の一辺の長さWは、上限は800μm以下が好ましく、600μm以下がより好ましく、400μm以下がさらに好ましく、下限は5μm以上が好ましく、30μm以上がより好ましく、80μm以上がさらに好ましい。開口部35の一辺の長さWが上述の範囲である場合には、さらに透明性も良好に保つことが可能であり、導電性フィルム12(図1参照)を画像表示部14(図1参照)の表示面14a(図1参照)上に取り付けた際に、違和感なく表示を視認することができる。
可視光透過率の点から、メッシュパターンの開口率は85%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましく、95%以上であることがさらに好ましい。開口率とは、導電層を設けられた領域において金属細線を除いた透過性部分、すなわち、開口部が導電層を設けられた領域全体に占める割合に相当する。
The opening 35 is an open area surrounded by the fine metal wires 33 . The upper limit of the length W of one side of the opening 35 is preferably 800 μm or less, more preferably 600 μm or less, even more preferably 400 μm or less, and the lower limit is preferably 5 μm or more, more preferably 30 μm or more, and even more preferably 80 μm or more. When the length W of one side of the opening 35 is within the range described above, it is possible to maintain good transparency, and the conductive film 12 (see FIG. 1) is attached to the image display section 14 (see FIG. 1). ), the display can be visually recognized without a sense of incompatibility.
From the viewpoint of visible light transmittance, the open area ratio of the mesh pattern is preferably 85% or more, more preferably 90% or more, and even more preferably 95% or more. The aperture ratio corresponds to the ratio of the transparent portion excluding the thin metal wires in the region provided with the conductive layer, that is, the ratio of the openings to the entire region provided with the conductive layer.

検出部20の構成は、図3に示すように、可撓性基材25の表面25aに第1検出電極30が設けられ、裏面25bに第2検出電極32が設けられる構成に限定されるものではない。例えば、第1検出電極30と第2検出電極32とを、それぞれ別々の可撓性基材に設けて積層した構成でもよい。具体的には、第1検出電極30が設けられた可撓性基材25と、第2検出電極32が設けられた可撓性基材25とを、透明、かつ電気的に絶縁な絶縁体層を介して積層した構成でもよい。
可撓性基材25の表面25aおよび裏面25bに、それぞれ検出部20を設ける構成に限定されるものではない。図14に示すように、可撓性基材25の一方の面にだけ、例えば、表面25aにだけ検出電極34を有する構成でもよい。図14に示す検出電極34が検出部20として機能する。検出電極34は、第1検出電極30(図3参照)と同様に複数の金属細線33により構成されており、金属細線33が表面25aに設けられている。
なお、図13は本発明の実施形態のタッチパネルの導電性フィルムの検出部の構成の一例を示す模式的断面図である。
金属細線以外の構成として、検出部20の第1検出電極30および第2検出電極32は、銀ナノワイヤー、カーボンナノチューブ(CNT)、カーボンナノバッド(CNB)等の導電性繊維で形成されていてもよく、これらの組み合わせであってもよい。
The configuration of the detection unit 20 is limited to the configuration in which the first detection electrodes 30 are provided on the surface 25a of the flexible base material 25 and the second detection electrodes 32 are provided on the back surface 25b, as shown in FIG. isn't it. For example, the structure which provided the 1st detection electrode 30 and the 2nd detection electrode 32 on a separate flexible base material, respectively, and laminated|stacked may be sufficient. Specifically, the flexible base material 25 provided with the first detection electrode 30 and the flexible base material 25 provided with the second detection electrode 32 are separated from each other by a transparent and electrically insulating insulator. A configuration in which layers are laminated may be used.
The configuration is not limited to the configuration in which the detection units 20 are provided on the front surface 25a and the back surface 25b of the flexible base material 25, respectively. As shown in FIG. 14, the configuration may be such that the detection electrodes 34 are provided only on one surface of the flexible base material 25, for example, only on the surface 25a. A detection electrode 34 shown in FIG. 14 functions as the detection unit 20 . The detection electrode 34 is composed of a plurality of fine metal wires 33 in the same manner as the first detection electrode 30 (see FIG. 3), and the fine metal wires 33 are provided on the surface 25a.
Note that FIG. 13 is a schematic cross-sectional view showing an example of the configuration of the detection portion of the conductive film of the touch panel according to the embodiment of the present invention.
As a configuration other than the thin metal wire, the first detection electrode 30 and the second detection electrode 32 of the detection unit 20 are formed of conductive fibers such as silver nanowires, carbon nanotubes (CNT), carbon nanobuds (CNB), etc. or a combination thereof.

<可撓性基材>
可撓性基材とは、折り曲げることができることを意味し、具体的には、曲率半径1mmで折り曲げても割れを生じないことを指す。
可撓性基材は、検出部、および取出し配線部を支持するものであり、かつ可撓性を有する支持体である。可撓性基材は、例えば、表面から見た場合、矩形状である。
可撓性基材としては、検出部、および取出し配線部を支持でき、かつ可撓性を有するものであれば、その種類は限定されるものではなく、透明支持体であることが好ましく、特にプラスチックシートが好ましい。
可撓性基材を構成する材料の具体例としては、PET(ポリエチレンテレフタレート)(258℃)、ポリシクロオレフィン(134℃)、ポリカーボネート(250℃)、(メタ)アクリル樹脂(128℃)、PEN(ポリエチレンナフタレート)(269℃)、PE(ポリエチレン)(135℃)、PP(ポリプロピレン)(163℃)、ポリスチレン(230℃)、ポリ塩化ビニル(180℃)、ポリ塩化ビニリデン(212℃)、ポリPVDF(フッ化ビニリデン)(177℃)、PAR(ポリアリレート)(250℃)、PES(ポリエーテルサルホン)(225℃)、高分子アクリル樹脂、フルオレン誘導体(140℃)、結晶性COP(165℃)、または、TAC(トリアセチルセルロース)(290℃)等の融点が約290℃以下であるプラスチックフィルムが好ましく、(メタ)アクリル樹脂、PET、ポリシクロオレフィン、または、ポリカーボネートがより好ましい。検出部、および取出し配線部との密着性が良好なことからPETがさらに好ましい。なお、上述の( )内の数値は融点、または、ガラス転移温度である。
可撓性基材の全光線透過率は、85~100%であることが好ましい。
可撓性基材の厚みは特に制限されないが、タッチパネルへの応用の点からは、通常、25~500μmの範囲で任意に選択することができる。なお、可撓性基材の機能の他にタッチ面の機能をも兼ねる場合は、500μmを超えた厚みで設計することも可能である。
<Flexible base material>
A flexible base material means that it can be bent, and specifically, it means that it does not crack even if it is bent with a radius of curvature of 1 mm.
The flexible base material supports the detection section and the extraction wiring section, and is a flexible support. The flexible substrate has, for example, a rectangular shape when viewed from the surface.
The type of the flexible substrate is not limited as long as it can support the detection section and the extraction wiring section and has flexibility, and is preferably a transparent support, particularly A plastic sheet is preferred.
Specific examples of materials constituting the flexible substrate include PET (polyethylene terephthalate) (258°C), polycycloolefin (134°C), polycarbonate (250°C), (meth)acrylic resin (128°C), and PEN. (polyethylene naphthalate) (269°C), PE (polyethylene) (135°C), PP (polypropylene) (163°C), polystyrene (230°C), polyvinyl chloride (180°C), polyvinylidene chloride (212°C), Poly PVDF (vinylidene fluoride) (177°C), PAR (polyarylate) (250°C), PES (polyethersulfone) (225°C), polymer acrylic resin, fluorene derivative (140°C), crystalline COP ( 165° C.), or a plastic film having a melting point of about 290° C. or less such as TAC (triacetyl cellulose) (290° C.), and more preferably (meth)acrylic resin, PET, polycycloolefin, or polycarbonate. PET is more preferable because it has good adhesion to the detection section and the extraction wiring section. The numerical values in parentheses above are melting points or glass transition temperatures.
The total light transmittance of the flexible substrate is preferably 85-100%.
Although the thickness of the flexible base material is not particularly limited, it can be arbitrarily selected from the range of 25 to 500 μm in terms of application to touch panels. In addition, in the case where the function of the flexible base material and the function of the touch surface are also provided, it is possible to design with a thickness exceeding 500 μm.

可撓性基材の好適態様の1つとしては、大気圧プラズマ処理、コロナ放電処理、および紫外線照射処理からなる群から選択される少なくとも1つの処理が施された処理済支持体が挙げられる。上述の処理が施されることにより、処理済支持体表面にはOH基等の親水性基が導入され、導電線の密着性がより向上する。 One preferred embodiment of the flexible substrate is a treated support that has been subjected to at least one treatment selected from the group consisting of atmospheric pressure plasma treatment, corona discharge treatment, and ultraviolet irradiation treatment. By applying the above treatment, a hydrophilic group such as an OH group is introduced to the surface of the treated support, and the adhesion of the conductive wire is further improved.

また、可撓性基材の他の好適態様としては、その表面上に高分子を含む下塗り層を有する構成でもよい。この下塗り層上に検出部および取出し配線部が形成されることにより、検出部および取出し配線部の密着性がより向上する。
下塗り層の形成方法は特に制限されないが、例えば、高分子を含む下塗り層形成用組成物を可撓性基材上に塗布して、必要に応じて加熱処理を施す方法が挙げられる。下塗り層形成用組成物には、必要に応じて、溶剤が含まれていてもよい。溶剤の種類は特に制限されず、公知の溶剤が例示される。また、高分子を含む下塗り層形成用組成物として、高分子の微粒子を含むラテックスを使用してもよい。
下塗り層の厚みは特に制限されないが、検出部および取出し配線部の密着性がより優れる点で、0.02~0.3μmが好ましく、0.03~0.2μmがより好ましい。
Another preferred embodiment of the flexible base material may be a structure having an undercoat layer containing a polymer on its surface. By forming the detection section and the extraction wiring section on the undercoat layer, the adhesion between the detection section and the extraction wiring section is further improved.
The method for forming the undercoat layer is not particularly limited, but examples include a method in which an undercoat layer-forming composition containing a polymer is applied onto a flexible substrate, and heat treatment is performed as necessary. The undercoat layer-forming composition may contain a solvent, if necessary. The type of solvent is not particularly limited, and known solvents are exemplified. Further, as the undercoat layer-forming composition containing a polymer, a latex containing fine particles of a polymer may be used.
Although the thickness of the undercoat layer is not particularly limited, it is preferably 0.02 to 0.3 μm, more preferably 0.03 to 0.2 μm, in terms of better adhesion between the detection section and the extraction wiring section.

<検出部、取出し配線部>
検出部、取出し配線部を構成する金属細線の線幅は特に制限されないが、上限は30μm以下が好ましく、15μm以下がより好ましく、10μm以下がさらに好ましく、9μm以下が特に好ましく、7μm以下が最も好ましく、下限は0.5μm以上が好ましく、1.0μm以上がより好ましい。上述の範囲であれば、低抵抗の電極を比較的容易に形成できる。
金属細線が取出し配線部の取出し配線として適用される場合には、金属細線の線幅は500μm以下が好ましく、50μm以下がより好ましく、30μm以下がさらに好ましい。上述の範囲であれば、低抵抗のタッチパネル電極を比較的容易に形成できる。
<Detection part, extraction wiring part>
Although the line width of the thin metal wire constituting the detection portion and the extraction wiring portion is not particularly limited, the upper limit is preferably 30 μm or less, more preferably 15 μm or less, even more preferably 10 μm or less, particularly preferably 9 μm or less, and most preferably 7 μm or less. , the lower limit is preferably 0.5 μm or more, more preferably 1.0 μm or more. Within the above range, a low-resistance electrode can be formed relatively easily.
When the thin metal wire is applied as the lead wire of the lead wire portion, the wire width of the thin metal wire is preferably 500 μm or less, more preferably 50 μm or less, and even more preferably 30 μm or less. If it is the above-mentioned range, a low resistance touch-panel electrode can be formed comparatively easily.

金属細線の厚みは特に制限されないが、0.01~200μmが好ましく、30μm以下であることがより好ましく、20μm以下であることがさらに好ましく、0.01~9μmであることが特に好ましく、0.05~5μmであることが最も好ましい。上述の範囲であれば、低抵抗の電極で、耐久性に優れた電極を比較的容易に形成できる。 The thickness of the fine metal wire is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 200 μm, more preferably 30 μm or less, even more preferably 20 μm or less, particularly preferably 0.01 to 9 μm, and 0.01 to 9 μm. Most preferably it is between 05 and 5 μm. Within the above range, a low-resistance electrode with excellent durability can be formed relatively easily.

金属細線の材料としては、例えば、金(Au)、銀(Ag)、モリブデン(Mo)、銅(Cu)、チタン(Ti)、アルミニウム(Al)およびタングステン(W)等の金属または合金等が挙げられる。なかでも、金属細線の導電性が優れる理由から、銀であることが好ましい。
金属細線の中には、金属細線と可撓性基材との密着性の観点から、バインダーが含まれていることが好ましい。
バインダーとしては、金属細線と可撓性基材との密着性がより優れる理由から、樹脂が好ましく、より具体的には、(メタ)アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリジエン系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、セルロース系重合体およびキトサン系重合体からなる群から選ばれる少なくともいずれかの樹脂、または、これらの樹脂を構成する単量体からなる共重合体等が挙げられる。
なお、バインダーが含まれる金属細線については、後に詳細に説明する。
Examples of materials for the fine metal wires include metals or alloys such as gold (Au), silver (Ag), molybdenum (Mo), copper (Cu), titanium (Ti), aluminum (Al) and tungsten (W). mentioned. Among them, silver is preferable because the fine metal wire has excellent electrical conductivity.
The fine metal wires preferably contain a binder from the viewpoint of adhesion between the fine metal wires and the flexible substrate.
As the binder, a resin is preferable because the adhesion between the thin metal wire and the flexible substrate is more excellent. More specifically, (meth)acrylic resin, styrene resin, vinyl resin, and polyolefin resin. , at least one resin selected from the group consisting of polyester resins, polyurethane resins, polyamide resins, polycarbonate resins, polydiene resins, epoxy resins, silicone resins, cellulose polymers and chitosan polymers, Alternatively, copolymers made of monomers constituting these resins may be used.
The fine metal wire containing the binder will be described later in detail.

金属細線の製造方法は特に制限されず、公知の方法を採用できる。例えば、可撓性基材表面上に形成された金属箔上のフォトレジスト膜を露光、現像処理してレジストパターンを形成し、レジストパターンから露出する金属箔をエッチングする方法が挙げられる。また、可撓性基材の両主面上に金属微粒子または金属ナノワイヤーを含むペーストを印刷し、ペーストに金属めっきを行う方法が挙げられる。また、可撓性基材表面にパターンニングした溝構造をあらかじめ形成し、その溝に金属微粒子または金属ナノワイヤーを含むペーストをスクリーン印刷で埋め込む方法が挙げられる。また、金属微粒子または金属ナノワイヤーを含むインクをインクジェット方式で可撓性基材表面状にパターン印刷を行い、金属細線を形成する方法が挙げられる。
さらに、上述の方法以外にハロゲン化銀を使用した方法が挙げられる。より具体的には、特開2014-209332号公報の段落0056~0114に記載の方法が挙げられる。ハロゲン化銀を使用した方法については、後に詳細に説明する。
A method for producing the thin metal wire is not particularly limited, and a known method can be adopted. For example, a method of exposing and developing a photoresist film on a metal foil formed on the surface of a flexible base material to form a resist pattern and etching the metal foil exposed from the resist pattern can be used. Alternatively, a method of printing a paste containing metal fine particles or metal nanowires on both main surfaces of a flexible base material and plating the paste with metal is also available. Another example is a method in which a patterned groove structure is previously formed on the surface of a flexible substrate, and a paste containing metal fine particles or metal nanowires is embedded in the grooves by screen printing. Moreover, the method of pattern-printing the ink containing a metal microparticle or a metal nanowire on the surface of a flexible base material by an inkjet system, and forming a metal fine wire is mentioned.
In addition to the methods described above, methods using silver halide can also be mentioned. More specifically, the methods described in paragraphs 0056 to 0114 of JP-A-2014-209332 can be mentioned. A method using silver halide will be described later in detail.

検出部の好適な形態としては、銀細線からなるメッシュパターンを含む態様が挙げられ、上述の可撓性基材の表面に第1検出電極、裏面に第2検出電極が配置されていることが好ましい。 A preferred form of the detection part includes a form including a mesh pattern made of silver fine wires, and the first detection electrode is arranged on the front surface of the flexible base material, and the second detection electrode is arranged on the rear surface thereof. preferable.

〔金属細線の他の例〕
検出部20の第1検出電極30および第2検出電極32、ならびに取出し配線部22の取出し線23は、金属細線で構成することに限定されるものではなく、バインダー、および、バインダー中に分散した金属部を含有する導電線により構成することもできる。
導電線において、上述のバインダーは第1高分子と、第1高分子よりもガラス転移温度が低い第2高分子を含有する。なお、本明細書において、ポリマーのガラス転移温度は、示差走査熱量分析(DSC)法によって測定したガラス転移温度を意味する。ガラス転移温度は、JIS K7121(2012)に規定される「プラスチックの転移温度測定方法」を用いて測定されるものである。
[Other examples of fine metal wires]
The first detection electrode 30 and the second detection electrode 32 of the detection unit 20, and the lead-out line 23 of the lead-out wiring part 22 are not limited to being composed of thin metal wires, and are made of a binder and dispersed in the binder. It can also be composed of a conductive wire containing a metal portion.
In the conductive wire, the binder described above contains a first polymer and a second polymer having a lower glass transition temperature than the first polymer. In addition, in this specification, the glass transition temperature of a polymer means the glass transition temperature measured by the differential scanning calorimetry (DSC) method. The glass transition temperature is measured using the "plastic transition temperature measuring method" specified in JIS K7121 (2012).

第1高分子および第2高分子としては、例えば、疎水性ポリマー(疎水性樹脂)等が挙げられ、より具体的には、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリジエン系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、セルロース系重合体およびキトサン系重合体、からなる群から選ばれる少なくともいずれかの樹脂、または、これらの樹脂を構成する単量体からなる共重合体等が挙げられる。
また、ポリマーには、後述する架橋剤と反応する反応性基が含まれることが好ましい。
Examples of the first polymer and the second polymer include hydrophobic polymers (hydrophobic resins), and more specifically, acrylic resins, styrene resins, vinyl resins, polyolefin resins, polyesters. at least one resin selected from the group consisting of based resins, polyurethane-based resins, polyamide-based resins, polycarbonate-based resins, polydiene-based resins, epoxy-based resins, silicone-based resins, cellulose-based polymers and chitosan-based polymers, or , copolymers composed of monomers constituting these resins, and the like.
In addition, the polymer preferably contains a reactive group that reacts with a cross-linking agent, which will be described later.

ポリマーとしては、以下の式A、B、C、および、Dからなる群より選択される少なくとも1種の単位を有することが好ましい。
中でも、第1高分子としては、よりガラス転移温度を低く制御しやすい観点から、式A、B、C、および、Dからなる群より選択される1種の単位からなる重合体が好ましく、
B、C、および、Dからなる群より選択される少なくとも1種の単位からなる重合体がより好ましく、式Dで表される単位からなる重合体が更に好ましい。
The polymer preferably has at least one unit selected from the group consisting of formulas A, B, C and D below.
Among them, the first polymer is preferably a polymer composed of one type of unit selected from the group consisting of formulas A, B, C, and D from the viewpoint of easily controlling the glass transition temperature to a lower level.
A polymer comprising at least one unit selected from the group consisting of B, C and D is more preferred, and a polymer comprising a unit represented by formula D is even more preferred.

Figure 2023085572000002
Figure 2023085572000002

1は、メチル基またはハロゲン原子を表し、好ましくはメチル基、塩素原子、臭素原子を表す。pは0~2の整数を表し、0または1が好ましく、0がより好ましい。 R 1 represents a methyl group or a halogen atom, preferably a methyl group, a chlorine atom or a bromine atom. p represents an integer of 0 to 2, preferably 0 or 1, more preferably 0;

2は、メチル基またはエチル基を表し、メチル基が好ましい。
3は、水素原子またはメチル基を表し、水素原子が好ましい。Lは、2価の連結基を表し、下記一般式(β)で表される基が好ましい。
一般式(β):-(CO-X1)r-X2
式中X1は、酸素原子または-NR30-を表す。ここでR30は、水素原子、アルキル基、アリール基、またはアシル基を表し、それぞれ置換基(例えば、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基等)を有してもよい。R30は、好ましくは水素原子、炭素数1~10のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、n-ブチル基、n-オクチル基等)、アシル基(例えば、アセチル基、ベンゾイル基等)である。X1として特に好ましいのは、酸素原子またはNH-である。
2は、アルキレン基、アリーレン基、アルキレンアリーレン基、アリーレンアルキレン基、または、アルキレンアリーレンアルキレン基を表し、これらの基には-O-、-S-、-OCO-、-CO-、-COO-、-NH-、-SO2-、-N(R31)-、-N(R31)SO2-等が途中に挿入されてもよい。ここでR31は炭素数1~6の直鎖または分岐のアルキル基を表し、メチル基、エチル基、および、イソプロピル基等がある。X2の好ましい例として、ジメチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、o-フェニレン基、m-フェニレン基、p-フェニレン基、-CH2CH2OCOCH2CH2-、および、-CH2CH2OCO(C64)-等が挙げられる。
rは0または1を表す。
qは0または1を表し、0が好ましい。
R 2 represents a methyl group or an ethyl group, preferably a methyl group.
R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group, preferably a hydrogen atom. L represents a divalent linking group, preferably a group represented by the following general formula (β).
general formula (β): -(CO-X 1 )r-X 2 -
In the formula, X 1 represents an oxygen atom or -NR 30 -. Here, R 30 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an acyl group, each of which may have a substituent (eg, halogen atom, nitro group, hydroxyl group, etc.). R 30 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, n-butyl group, n-octyl group, etc.), acyl group (eg, acetyl group, benzoyl group, etc.). is. X 1 is particularly preferably an oxygen atom or NH-.
X 2 represents an alkylene group, an arylene group, an alkylenearylene group, an arylenealkylene group, or an alkylenearylenealkylene group, and these groups include -O-, -S-, -OCO-, -CO-, -COO -, -NH-, -SO 2 -, -N(R 31 )-, -N(R 31 )SO 2 -, etc. may be inserted in the middle. Here, R 31 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, such as methyl group, ethyl group and isopropyl group. Preferred examples of X 2 include dimethylene, trimethylene, tetramethylene, o-phenylene, m-phenylene, p-phenylene, —CH 2 CH 2 OCOCH 2 CH 2 — and —CH 2 CH 2 OCO(C 6 H 4 )— and the like.
r represents 0 or 1;
q represents 0 or 1, with 0 being preferred.

4は、炭素数1~80のアルキル基、アルケニル基、または、アルキニル基を表し、第1高分子としては、炭素数1~5のアルキル基が好ましく、第2高分子としては、炭素数5~50のアルキル基が好ましく、炭素数5~30のアルキル基がより好ましく、炭素数5~20のアルキル基が更に好ましい。
5は、水素原子、メチル基、エチル基、ハロゲン原子、または、-CH2COOR6を表し、水素原子、メチル基、ハロゲン原子、または、-CH2COOR6が好ましく、水素原子、メチル基、または、-CH2COOR6が更に好ましく、水素原子が特に好ましい。
6は、水素原子または炭素数1~80のアルキル基を表し、R4と同じでも異なってもよく、R6の炭素数は1~70が好ましく、1~60がより好ましい。
R 4 represents an alkyl group, an alkenyl group, or an alkynyl group having 1 to 80 carbon atoms, and the first polymer is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and the second polymer preferably has a carbon number of An alkyl group having 5 to 50 carbon atoms is preferred, an alkyl group having 5 to 30 carbon atoms is more preferred, and an alkyl group having 5 to 20 carbon atoms is even more preferred.
R 5 represents a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a halogen atom, or —CH 2 COOR 6 , preferably a hydrogen atom, a methyl group, a halogen atom, or —CH 2 COOR 6 , a hydrogen atom, a methyl group; , or --CH 2 COOR 6 is more preferred, and a hydrogen atom is particularly preferred.
R 6 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 80 carbon atoms and may be the same as or different from R 4 . R 6 preferably has 1 to 70 carbon atoms, more preferably 1 to 60 carbon atoms.

第1高分子および2の他の好適形態としては、水分の浸入をより防止できる点より、以下の一般式(1)で表されるポリマー(共重合体)が挙げられる。
一般式(1): -(A)-(B)-(C)-(D)
なお、一般式(1)中、A、B、C、およびDはそれぞれ、すでに説明した上述の繰り返し単位を表す。
Another preferred form of the first polymer and second polymer is a polymer (copolymer) represented by the following general formula (1), since it can further prevent the infiltration of moisture.
General formula (1): -(A) x -(B) y -(C) z -(D) w -
In general formula (1), A, B, C, and D each represent the above-described repeating unit.

一般式(1)中、x、y、z、およびwは各繰り返し単位のモル比率を表す。
xとしては、3~60モル%、好ましくは3~50モル%、より好ましくは3~40モル%である。
yとしては、30~96モル%、好ましくは35~95モル%、より好ましくは40~90モル%である。
zとしては0.5~25モル%、好ましくは0.5~20モル%、より好ましくは1~20モル%である。
wとしては、0.5~40モル%、好ましくは0.5~30モル%である。
一般式(1)において、xは3~40モル%、yは40~90モル%、zは0.5~20モル%、wは0.5~10モル%の場合が特に好ましい。
In general formula (1), x, y, z, and w represent the molar ratio of each repeating unit.
x is 3 to 60 mol %, preferably 3 to 50 mol %, more preferably 3 to 40 mol %.
y is 30 to 96 mol %, preferably 35 to 95 mol %, more preferably 40 to 90 mol %.
z is 0.5 to 25 mol %, preferably 0.5 to 20 mol %, more preferably 1 to 20 mol %.
w is 0.5 to 40 mol %, preferably 0.5 to 30 mol %.
In general formula (1), it is particularly preferred that x is 3 to 40 mol%, y is 40 to 90 mol%, z is 0.5 to 20 mol%, and w is 0.5 to 10 mol%.

一般式(1)で表されるポリマーとしては、下記一般式(2)および一般式(3)で表されるポリマーが好ましい。 As the polymer represented by the general formula (1), polymers represented by the following general formulas (2) and (3) are preferable.

Figure 2023085572000003
Figure 2023085572000003

一般式(2)中、x、y、zおよびwは、上述の定義の通りである。 In general formula (2), x, y, z and w are as defined above.

Figure 2023085572000004
Figure 2023085572000004

上述の式中、a1、b1、c1、d1、およびe1は各モノマー単位のモル比率を表し、a1は3~60(モル%)、b1は30~95(モル%)、c1は0.5~25(モル%)、d1は0.5~40(モル%)、e1は1~10(モル%)を表す。
a1の好ましい範囲は上述のxの好ましい範囲と同じであり、b1の好ましい範囲は上述のyの好ましい範囲と同じであり、c1の好ましい範囲は上述のzの好ましい範囲と同じであり、d1の好ましい範囲は上述のwの好ましい範囲と同じである。
e1は1~10モル%であり、好ましくは2~9モル%であり、より好ましくは2~8モル%である。
In the above formula, a1, b1, c1, d1, and e1 represent the molar ratio of each monomer unit, a1 is 3 to 60 (mol%), b1 is 30 to 95 (mol%), and c1 is 0.5. ~25 (mol%), d1 represents 0.5 to 40 (mol%), and e1 represents 1 to 10 (mol%).
The preferred range of a1 is the same as the preferred range of x above, the preferred range of b1 is the same as the preferred range of y above, the preferred range of c1 is the same as the preferred range of z above, and d1 The preferred range is the same as the preferred range of w above.
e1 is 1 to 10 mol %, preferably 2 to 9 mol %, more preferably 2 to 8 mol %.

一般式(1)で表されるポリマーの重量平均分子量は、1000~100万が好ましく、2000~75万がより好ましく、3000~50万が更に好ましい。
一般式(1)で表されるポリマーは、例えば、特許第3305459号および特許第3754745号公報等を参照して合成することができる。
The weight average molecular weight of the polymer represented by formula (1) is preferably 1,000 to 1,000,000, more preferably 2,000 to 750,000, and still more preferably 30,000 to 500,000.
The polymer represented by general formula (1) can be synthesized with reference to, for example, Japanese Patent No. 3305459 and Japanese Patent No. 3754745.

なお、第1高分子および第2高分子のガラス転移温度としては特に限定されるものではないが、第1高分子のガラス転移温度としては、0℃以上が好ましく、25℃以上がより好ましく、40℃を超えることが更に好ましい。上限としては特に限定されるものではないが、一般に120℃以下が好ましい。
また、第2高分子のガラス転移温度としては特に限定されるものではないが、40℃以下が好ましく、25℃以下がより好ましく、25℃未満が更に好ましく、0℃以下が特に好ましく、0℃未満が最も好ましい。下限としては特に限定されるものではないが、一般に-50℃以上が好ましい。
第1高分子のガラス転移温度と、第2高分子のガラス転移温度の差(絶対値)としては特に限定されるものではないが、一般に20~100℃が好ましい。
The glass transition temperatures of the first polymer and the second polymer are not particularly limited, but the glass transition temperature of the first polymer is preferably 0° C. or higher, more preferably 25° C. or higher. More preferably above 40°C. Although the upper limit is not particularly limited, generally 120° C. or less is preferable.
The glass transition temperature of the second polymer is not particularly limited, but is preferably 40°C or lower, more preferably 25°C or lower, still more preferably lower than 25°C, particularly preferably 0°C or lower, and 0°C. Less than is most preferred. Although the lower limit is not particularly limited, -50°C or higher is generally preferred.
Although the difference (absolute value) between the glass transition temperature of the first polymer and the glass transition temperature of the second polymer is not particularly limited, it is generally preferably 20 to 100°C.

導電線における金属部は、導電線の導電特性を担保する部分であり、金属部は金属により構成される。金属部を構成する金属としては、導電特性がより優れる点で、金(金属金)、銀(金属銀)、銅(金属銅)、ニッケル(金属ニッケル)、およびパラジウム(金属パラジウム)からなる群より選択される少なくとも1種の金属が好ましい。
なお、図15は導電線50の拡大図である。図15には、金属部54が粒子状になって導電線50に分散した形態を示しているが、金属部54の形態としては粒子状に限定されるものではなく、金属部54が層状(図示せず)となって導電線50に分散した形態であってもよい。
図15に示す導電線50は、第1高分子、および第2高分子を含有するバインダー52と、バインダー52中に分散した複数の金属部54とを含む。金属部54は上述のように粒子状である。
The metal portion of the conductive wire is a portion that ensures the conductive properties of the conductive wire, and the metal portion is made of metal. As metals constituting the metal part, the group consisting of gold (metallic gold), silver (metallic silver), copper (metallic copper), nickel (metallic nickel), and palladium (metallic palladium) is preferred because of its excellent conductive properties. At least one more selected metal is preferred.
15 is an enlarged view of the conductive wire 50. FIG. FIG. 15 shows a form in which the metal part 54 is dispersed in the conductive wire 50 in the form of particles. not shown) and dispersed in the conductive wire 50 .
A conductive wire 50 shown in FIG. 15 includes a binder 52 containing a first polymer and a second polymer, and a plurality of metal parts 54 dispersed in the binder 52 . The metal portion 54 is particulate as described above.

導電線には上述の以外の材料が含有されていてもよい。上述の以外の材料としては、例えば、非金属の微粒子が挙げられる。非金属の微粒子としては、例えば、樹脂粒子、および、金属酸化物粒子等が挙げられ、金属酸化物粒子が好ましい。
金属酸化物粒子としては、例えば、酸化ケイ素粒子、および、酸化チタン粒子等が挙げられる。
The conductive wire may contain materials other than those mentioned above. Materials other than those described above include, for example, nonmetallic fine particles. Examples of non-metal fine particles include resin particles and metal oxide particles, with metal oxide particles being preferred.
Examples of metal oxide particles include silicon oxide particles and titanium oxide particles.

非金属の微粒子の平均粒子径としては特に限定されるものではないが、球相当径で1~1000nmが好ましく、10~500nmがより好ましく、20~200nmが更に好ましい。上述の範囲内であれば、検出部はより優れた透明性を有しやすく、かつ、より優れた導電性を有しやすい。
非金属の微粒子の球相当径は、透過型電子顕微鏡を用いて、任意の50個分の球相当径を算出し、それらを算術平均したものである。
The average particle diameter of the nonmetallic fine particles is not particularly limited, but the equivalent spherical diameter is preferably 1 to 1000 nm, more preferably 10 to 500 nm, and even more preferably 20 to 200 nm. Within the above range, the detection section tends to have superior transparency and conductivity.
The equivalent sphere diameter of the non-metallic fine particles is obtained by calculating the equivalent sphere diameters for 50 arbitrary particles using a transmission electron microscope and taking the arithmetic mean thereof.

<金属安定化剤>
また、導電線は金属部の安定化を目的として、金属安定化剤を金属部表面または内部、あるいはバインダー内に有することが好ましい。金属安定化剤としては以下のような素材を単独または併用して用いることができる。
<Metal stabilizer>
Moreover, the conductive wire preferably has a metal stabilizer on the surface or inside of the metal part or in the binder for the purpose of stabilizing the metal part. As the metal stabilizer, the following materials can be used singly or in combination.

特表2009-505358号公報、段落0075~0086記載の腐食防止剤類。
特開2009-188360号公報、段落0077~0092記載の金属イオントラップ剤類。
特開2012-146548号公報、段落0044~0047記載のメルカプト基を有する含窒素複素環化合物類。
特開2013-224397号公報、段落0018~0049記載の銀イオン拡散抑制層形成用組成物類。
特開2014-075115号公報、段落0030~0066銀イオン拡散抑制層形成用の化合物類。
特開2018-024784号公報、段落0050~0057記載の防錆剤類。
特開2019-016488号公報、段落0050~0057記載のメルカプトベンゾチアゾール類。
Corrosion inhibitors described in JP-T-2009-505358, paragraphs 0075 to 0086.
Metal ion trapping agents described in paragraphs 0077 to 0092 of JP-A-2009-188360.
Nitrogen-containing heterocyclic compounds having a mercapto group described in paragraphs 0044 to 0047 of JP-A-2012-146548.
Compositions for forming a silver ion diffusion suppression layer described in JP-A-2013-224397, paragraphs 0018 to 0049.
JP-A-2014-075115, paragraphs 0030 to 0066 Compounds for forming a silver ion diffusion suppression layer.
Rust inhibitors described in paragraphs 0050 to 0057 of JP-A-2018-024784.
Mercaptobenzothiazoles described in JP-A-2019-016488, paragraphs 0050 to 0057.

また、金属安定化剤として、後述の特定化合物を好ましく使用できる。
金属安定化剤としては以下の化合物またはその塩が好ましい。
2-メルカプトベンゾチアゾール、2-メルカプトベンゾイミダゾール、5-メルカプ-1-フェニル-1Hテトラゾール、1-(4-カルボキシフェニル)-5-メルカプト-1H-テトラゾール、3-メルカプト-1,2,4-トリアゾール、1-(m-スルホフェニル)-5-メルカプト-1H-テトラゾールナトリウム、2-メルカプトベンゾオキサゾール、1,2,3-ベンゾトリアゾール、1-(3-アセトアミドフェニル)-5-メルカプトテトラゾール、5-アミノ-2-メルカプトベンゾイミダゾール、6-アミノ-2-メルカプトベンゾチアゾール、チオシアヌル酸、6-(ジブチルアミノ)-1,3,5-トリアジン-2,4-ジチオール、2-メルカプトチアゾリン、ジエチルジチオカルバミン酸ジエチルアンモニウム、(2-ベンゾチアゾリルチオ)酢酸、3-(2-ベンゾチアゾリルチオ)プロピオン酸、6-(ジブチルアミノ)-1,3,5-トリアジン-2,4-ジチオール、2-アミノ-5-メルカプト-1,3,4-チアジアゾール、2-メルカプト-5-メチルチオ-1,3,4-チアジアゾール、2-メルカプト-5-エチルチオ-1,3,4-チアジアゾール、2-5-ジメルカプト-1,3,4-チアジアゾール、2-チオ酢酸-5メルカプト-1,3,4-チアジアゾール、2-アミノピリミジン、5,6-ジメチルベンゾイミダゾール、2-メルカプトピリミジン。
中でも、金属安定化剤として、メルカプトチアゾール骨格もしくはメルカプトチアジアゾール骨格を有する化合物、またはこれらの塩から選ばれる化合物は、硫化耐性向上に特に有効であり、最も好ましい。最も好ましい化合物の具体例としては、2-メルカプトベンゾチアゾール、5-メチル-2-メルカプトベンゾチアゾール、2-アミノ-5-メルカプト-1,3,4-チアジアゾール、2-メルカプト-5-メチルチオ-1,3,4-チアジアゾール、2-メルカプト-5-エチルチオ-1,3,4-チアジアゾール、2-5-ジメルカプト-1,3,4-チアジアゾールおよびこれらの誘導体または塩が挙げられる。
Moreover, the below-mentioned specific compound can be used preferably as a metal stabilizer.
As the metal stabilizer, the following compounds or salts thereof are preferred.
2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzimidazole, 5-mercap-1-phenyl-1H-tetrazole, 1-(4-carboxyphenyl)-5-mercapto-1H-tetrazole, 3-mercapto-1,2,4- triazole, 1-(m-sulfophenyl)-5-mercapto-1H-tetrazole sodium, 2-mercaptobenzoxazole, 1,2,3-benzotriazole, 1-(3-acetamidophenyl)-5-mercaptotetrazole, 5 -amino-2-mercaptobenzimidazole, 6-amino-2-mercaptobenzothiazole, thiocyanuric acid, 6-(dibutylamino)-1,3,5-triazine-2,4-dithiol, 2-mercaptothiazoline, diethyldithiocarbamine diethylammonium acid, (2-benzothiazolylthio)acetic acid, 3-(2-benzothiazolylthio)propionic acid, 6-(dibutylamino)-1,3,5-triazine-2,4-dithiol, 2- amino-5-mercapto-1,3,4-thiadiazole, 2-mercapto-5-methylthio-1,3,4-thiadiazole, 2-mercapto-5-ethylthio-1,3,4-thiadiazole, 2-5- dimercapto-1,3,4-thiadiazole, 2-thioacetic acid-5-mercapto-1,3,4-thiadiazole, 2-aminopyrimidine, 5,6-dimethylbenzimidazole, 2-mercaptopyrimidine.
Among them, a compound having a mercaptothiazole skeleton or a mercaptothiadiazole skeleton, or a compound selected from salts thereof, is most preferable as the metal stabilizer because it is particularly effective in improving resistance to sulfurization. Specific examples of the most preferred compounds include 2-mercaptobenzothiazole, 5-methyl-2-mercaptobenzothiazole, 2-amino-5-mercapto-1,3,4-thiadiazole, 2-mercapto-5-methylthio-1 ,3,4-thiadiazole, 2-mercapto-5-ethylthio-1,3,4-thiadiazole, 2-5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole and derivatives or salts thereof.

金属安定化剤の導入は、折り曲げ部および非折り曲げ部において金属材料の耐久性向上に有用であり、特に金属部に銀を用いる場合、マイグレーションおよび硫化の抑制に有効であり好ましい。金属安定化剤の導入方法としては、導電線の形成途中または形成後に、金属安定化剤類を含む溶液に導電性フィルムを塗布または浸漬により接触させる方法、またはこれら金属安定化剤類を薫蒸等により気相反応により導電性フィルムに堆積させる方法等を好ましく用いることができる。また、金属安定化剤は、前述の透明絶縁層内に含有させることも好ましい。特に、予め金属安定化剤を透明絶縁層に含有させることにより、金属安定化剤を溶解するために必要な溶媒と導電線との接触の必要がなくなり、溶媒による導電線またはバインダーのダメージを回避でき好ましい。このため、第1の透明絶縁層および第2の透明絶縁層のうち、少なくとも一方が金属安定化剤を含むことが好ましい。
また、タッチパネル10の検出部20の入力領域Eであるアクティブエリアにおける経時による抵抗変化は、折曲部がない構成のタッチパネルにおいても発生する可能性がある。しかしながら、第1の透明絶縁層および第2の透明絶縁層のうち、少なくとも一方が金属安定化剤を含むことにより、上述の折曲部がない構成のタッチパネルにおいても抵抗変化を抑制することができる。
The introduction of a metal stabilizer is useful for improving the durability of the metal material in the bent and unfolded portions, and is effective and preferable for suppressing migration and sulfurization, especially when silver is used in the metal portion. As a method of introducing the metal stabilizer, a method of contacting the conductive film with a solution containing the metal stabilizers by coating or immersion during or after the formation of the conductive wire, or fumigation of these metal stabilizers. A method of depositing on a conductive film by vapor phase reaction, etc., can be preferably used. Moreover, it is also preferable to include the metal stabilizer in the above-described transparent insulating layer. In particular, by preliminarily incorporating the metal stabilizer into the transparent insulating layer, contact between the conductive wire and the solvent necessary for dissolving the metal stabilizer is eliminated, and damage to the conductive wire or binder by the solvent is avoided. It is possible and preferable. Therefore, at least one of the first transparent insulating layer and the second transparent insulating layer preferably contains a metal stabilizer.
Moreover, the resistance change over time in the active area, which is the input area E1 of the detection unit 20 of the touch panel 10, may occur even in a touch panel having no bent portion. However, since at least one of the first transparent insulating layer and the second transparent insulating layer contains a metal stabilizer, it is possible to suppress the resistance change even in the above-described touch panel having no bent portion. .

これら金属安定化剤の使用量に制限はないが、透明絶縁層および導電性フィルムのうち、少なくとも一方に、導電層1層あたり、1mg/m~10g/mの範囲で含有させることが好ましく、10mg/m~1g/mの範囲で含有させることがさらに好ましい。 The amount of these metal stabilizers to be used is not limited, but at least one of the transparent insulating layer and the conductive film may contain 1 mg/m 2 to 10 g/m 2 per conductive layer. More preferably, the content is in the range of 10 mg/m 2 to 1 g/m 2 .

<検出部の製造方法>
検出部の製造方法について、導電線の金属部が銀(金属銀)を含有する場合を例にして説明する。より優れた生産性が得られる点で以下工程を有する方法が好ましい。
<Manufacturing Method of Detection Unit>
A method for manufacturing the detection portion will be described by taking as an example a case where the metal portion of the conductive wire contains silver (metallic silver). A method having the following steps is preferable in that more excellent productivity can be obtained.

・工程A:
可撓性基材上に、少なくともハロゲン化銀と第1高分子とを含有するハロゲン化銀含有塗布液と、少なくとも第2高分子を含有する組成調整塗布液とを、同時重層塗布して、ハロゲン化銀感光性層を形成する工程。
・工程B:
ハロゲン化銀感光性層を露光した後、現像処理して金属銀を含有する導電線を形成する工程。
以下では、各工程について詳述する。
・Process A:
Simultaneously coating a silver halide-containing coating liquid containing at least silver halide and a first polymer and a composition-adjusted coating liquid containing at least a second polymer in multiple layers on a flexible substrate, forming a silver halide photosensitive layer;
・Process B:
A step of exposing the silver halide photosensitive layer and then developing it to form a conductive line containing metallic silver.
Below, each process is explained in full detail.

<工程A>
工程Aは、可撓性基材上に、少なくともハロゲン化銀と第1高分子とを含有するハロゲン化銀含有塗布液と、少なくとも第2高分子を含有する組成調整塗布液とを、同時重層塗布して、ハロゲン化銀感光性層を形成する工程である。
なお、同時重層塗布する場合の各塗布液の積層順序としては特に限定されるものではない。可撓性基材側から、ハロゲン化銀含有塗布液、および、組成調整塗布液をこの順に積層してもよい。逆に、可撓性基材側から、組成調整塗布液、および、ハロゲン化銀含有塗布液をこの順に積層してもよい。更に、組成調整塗布液、ハロゲン化銀含有塗布液、および、組成調整塗布液をこの順に積層してもよい。
<Process A>
In step A, a silver halide-containing coating liquid containing at least silver halide and a first polymer and a composition-adjusted coating liquid containing at least a second polymer are simultaneously laminated on a flexible substrate. This is a step of coating to form a silver halide photosensitive layer.
Note that the order of lamination of each coating liquid in the case of simultaneous multi-layer coating is not particularly limited. The silver halide-containing coating liquid and the composition-adjusting coating liquid may be laminated in this order from the flexible substrate side. Conversely, the composition-adjusting coating liquid and the silver halide-containing coating liquid may be laminated in this order from the flexible substrate side. Further, the composition-adjusting coating liquid, the silver halide-containing coating liquid, and the composition-adjusting coating liquid may be laminated in this order.

なお、「可撓性基材上に塗布」とは、可撓性基材表面上に直接塗布する場合、および、可撓性基材上に別途層が配置され、その層上に塗布する場合も含める。
本工程では、ハロゲン化銀を含むハロゲン化銀含有塗布液と、ハロゲン化銀を含まない組成調整塗布液とを同時重層塗布しているため、両者の塗布液より形成される2層の塗膜の界面にて成分の拡散が進行する。より具体的には、可撓性基材上に配置されるハロゲン化銀含有塗布液から形成される塗膜(以後、塗膜Aともいう)中から、組成調整塗布液から形成される塗膜(以後、塗膜Bともいう)中に一部のハロゲン化銀、および、第1高分子の拡散が進行する。その結果、塗膜B中の塗膜A側の領域にはハロゲン化銀、および、第1高分子が含まれ、その含有量は、塗膜A中のハロゲン化銀、および、第1高分子の含有量よりも少ない。
塗膜B中の塗膜A側の領域(以下「領域w」ともいう。)には、塗膜Aから移動したハロゲン化銀が含有されるため、後述する工程Bを経た後、この領域wは、導電線における上部領域を形成することとなる。このとき、導電線のうち、領域wにおいては第1高分子の含有量および第2高分子の含有量の合計量に対する第2高分子の含有量の含有質量比が、中間領域よりも大きくなりやすい。
In addition, "coating on a flexible substrate" means the case of applying directly on the surface of the flexible substrate, and the case of applying on a layer separately arranged on the flexible substrate. also include
In this process, since the silver halide-containing coating liquid containing silver halide and the composition-adjusted coating liquid not containing silver halide are simultaneously coated in multiple layers, a two-layer coating film is formed from both coating liquids. Diffusion of components proceeds at the interface of More specifically, a coating film formed from a composition-adjusted coating solution selected from a coating film formed from a silver halide-containing coating solution placed on a flexible substrate (hereinafter also referred to as coating film A). Diffusion of part of the silver halide and the first polymer proceeds in (hereinafter also referred to as coating film B). As a result, the region of the coating film A side in the coating film B contains silver halide and the first polymer, and the content thereof is the silver halide in the coating film A and the first polymer less than the content of
A region of the coating film B on the side of the coating film A (hereinafter also referred to as “region w”) contains silver halide that has migrated from the coating film A. Therefore, after the step B described later, this region w will form the top region of the conductive line. At this time, in the region w of the conductive wire, the content mass ratio of the content of the second polymer to the total content of the content of the first polymer and the content of the second polymer is greater than that of the intermediate region. Cheap.

なお、ハロゲン化銀含有塗布液は、少なくともハロゲン化銀と第1高分子とを含有すればよく、第2高分子を更に含有してもよい。この場合、ハロゲン化銀含有塗布液中における第1高分子の含有量および第2高分子の含有量に対する第2高分子の含有質量比は、組成調整塗布液中における第1高分子の含有量および第2高分子の含有量に対する第2高分子の含有質量比よりも小さいことが好ましい。 The silver halide-containing coating liquid should contain at least the silver halide and the first polymer, and may further contain the second polymer. In this case, the mass ratio of the content of the second polymer to the content of the first polymer and the content of the second polymer in the silver halide-containing coating liquid is the content of the first polymer in the composition-adjusted coating liquid. and is smaller than the content mass ratio of the second polymer to the content of the second polymer.

また、組成調整塗布液は、少なくとも第2高分子を含有すればよく、ハロゲン化銀、および/または、第1高分子を更に含有してもよい。組成調整塗布液が更にハロゲン化銀を含有する場合、その含有量としては特に限定されるものではないが、ハロゲン化銀含有塗布液中におけるハロゲン化銀の含有量より、組成調整塗布液中におけるハロゲン化銀の含有量の方が少ないことが好ましい。そのようにすることで、より外光反射の少ない検出部が得られやすい。
組成調整塗布液が更に第1高分子を含有する場合、組成調整塗布液中における第1高分子の含有量および第2高分子の含有量に対する第1高分子の含有質量比は、ハロゲン化銀含有塗布液における第1高分子の含有量および第2高分子の含有量に対する第1高分子の含有質量比よりも小さいことが好ましい。
Moreover, the composition-adjusted coating liquid may contain at least the second polymer, and may further contain silver halide and/or the first polymer. When the composition-adjusted coating solution further contains silver halide, the content is not particularly limited, but the content of silver halide in the composition-adjusted coating solution is It is preferable that the content of silver halide is smaller. By doing so, it is easy to obtain a detection unit with less external light reflection.
When the composition-adjusted coating liquid further contains a first polymer, the content mass ratio of the first polymer to the content of the first polymer and the content of the second polymer in the composition-adjusted coating liquid is the silver halide It is preferably smaller than the content mass ratio of the first polymer to the content of the first polymer and the content of the second polymer in the coating liquid.

ハロゲン化銀含有塗布液に含有されるハロゲン化銀としては特に限定されるものではなく、公知のハロゲン化銀が使用できる。ハロゲン化銀に含有されるハロゲン元素は、塩素、臭素、ヨウ素およびフッ素のいずれであってもよく、これらを組み合わせでもよい。例えば、塩化銀、臭化銀、または、ヨウ化銀を主体としたハロゲン化銀が好ましく用いられ、更に臭化銀または塩化銀を主体としたハロゲン化銀が好ましく用いられる。塩臭化銀、沃塩臭化銀、または、沃臭化銀もまた好ましく用いられる。より好ましくは、塩臭化銀、臭化銀、沃塩臭化銀、または、沃臭化銀であり、最も好ましくは、塩化銀50モル%以上を含有する塩臭化銀、または、沃塩臭化銀が用いられる。
なお、ここで、「臭化銀を主体としたハロゲン化銀」とは、ハロゲン化銀組成中に占める臭化物イオンのモル分率が50%以上のハロゲン化銀をいう。この臭化銀を主体としたハロゲン化銀粒子は、臭化物イオンのほかに沃化物イオン、塩化物イオンを含有していてもよい。
The silver halide contained in the silver halide-containing coating solution is not particularly limited, and known silver halides can be used. The halogen element contained in the silver halide may be chlorine, bromine, iodine or fluorine, or a combination thereof. For example, a silver halide mainly composed of silver chloride, silver bromide or silver iodide is preferably used, and a silver halide mainly composed of silver bromide or silver chloride is more preferably used. Silver chlorobromide, silver iodochlorobromide, or silver iodobromide is also preferably used. Silver chlorobromide, silver bromide, silver iodochlorobromide, or silver iodobromide is more preferred, and silver chlorobromide containing 50 mol % or more of silver chloride or iodochloride is most preferred. Silver bromide is used.
Here, "silver halide composed mainly of silver bromide" refers to silver halide in which the molar fraction of bromide ions in the silver halide composition is 50% or more. The silver halide grains composed mainly of silver bromide may contain iodide ions and chloride ions in addition to bromide ions.

ハロゲン化銀は固体粒子状であり、ハロゲン化銀の平均粒子サイズは、球相当径で0.1~1000nm(1μm)であることが好ましく、0.1~300nmであることがより好ましく、1~200nmであることが更に好ましい。
なお、ハロゲン化銀粒子の球相当径とは、粒子形状が球形の同じ体積を有する粒子の直径である。
The silver halide is in the form of solid particles, and the average particle size of the silver halide is preferably 0.1 to 1000 nm (1 μm), more preferably 0.1 to 300 nm, in terms of equivalent sphere diameter. More preferably ~200 nm.
The equivalent sphere diameter of a silver halide grain is the diameter of a spherical grain having the same volume.

ハロゲン化銀粒子の形状は特に限定されず、例えば、球状、立方体状、平板状(6角平板状、三角形平板状、4角形平板状等)、八面体状、および、14面体状等様々な形状であることができる。
また、ハロゲン化銀の安定化または高感化のために用いられるロジウム化合物、イリジウム化合物等のVIII族、VIIB族に属する金属化合物、パラジウム化合物の利用については、特開2009-188360号公報の段落0039~段落0042の記載を参照することができる。更に化学増感については、特開2009-188360号公報の段落0043の技術記載を参照することができる。
The shape of the silver halide grains is not particularly limited, and may be spherical, cubic, tabular (hexagonal tabular, triangular tabular, quadrangular tabular, etc.), octahedral, or tetradecahedral. can be of any shape.
In addition, regarding the use of metal compounds belonging to Group VIII and Group VIIB such as rhodium compounds and iridium compounds, and palladium compounds used for stabilizing or increasing the sensitivity of silver halide, see paragraph 0039 of JP-A-2009-188360. to paragraph 0042 can be referred to. Further, with regard to chemical sensitization, the technical description in paragraph 0043 of JP-A-2009-188360 can be referred to.

ハロゲン化銀含有塗布液に含有され、組成調整塗布液に含有されることがある第1高分子、および、組成調整塗布液に含有され、ハロゲン化銀含有塗布液に含有されることがある第2高分子の形態としては既に説明したとおりであるため、説明は省略する。
ハロゲン化銀含有塗布液、および、組成調整塗布液は、ハロゲン化銀、第1高分子、および、第2高分子以外の成分を含有していてもよく、それらの成分はハロゲン化銀含有塗布液、および、組成調整塗布液において共通であり、以下に説明するとおりである。
A first polymer that is contained in the silver halide-containing coating liquid and may be contained in the composition-adjusted coating liquid, and a first polymer that is contained in the composition-adjusted coating liquid and may be contained in the silver halide-containing coating liquid 2 Since the form of the polymer has already been explained, the explanation is omitted.
The silver halide-containing coating liquid and the composition-adjusted coating liquid may contain components other than the silver halide, the first polymer, and the second polymer, and those components are the silver halide-containing coating liquid. It is common to the liquid and the composition-adjusted coating liquid, and is as described below.

ハロゲン化銀含有塗布液、および、組成調整塗布液は、更にゼラチンを含有してもよい。
ゼラチンの種類は特に限定されるものではなく、例えば、石灰処理ゼラチンの他、酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチンの加水分解物、ゼラチン酵素分解物、および、アミノ基またはカルボキシル基を修飾したゼラチン(フタル化ゼラチン、アセチル化ゼラチン)を使用することもできる。
The silver halide-containing coating liquid and the composition-adjusting coating liquid may further contain gelatin.
The type of gelatin is not particularly limited. For example, in addition to lime-processed gelatin, acid-processed gelatin may be used. Gelatin (phthalated gelatin, acetylated gelatin) can also be used.

ハロゲン化銀含有塗布液、および、組成調整塗布液は、更に溶媒を含有してもよい。使用される溶媒としては、例えば、水、有機溶媒(例えば、メタノール等のアルコール類、アセトン等のケトン類、ホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、酢酸エチル等のエステル類、エーテル類等)、イオン性液体、および、これらの混合溶媒を挙げることができる。 The silver halide-containing coating liquid and the composition-adjusting coating liquid may further contain a solvent. Examples of the solvent to be used include water, organic solvents (e.g., alcohols such as methanol, ketones such as acetone, amides such as formamide, sulfoxides such as dimethylsulfoxide, esters such as ethyl acetate, and ethers. etc.), ionic liquids, and mixed solvents thereof.

ハロゲン化銀含有塗布液、および、組成調整塗布液には、必要に応じて、上述した材料以外の他の材料が含まれていてもよい。例えば、上述の第1高分子および第2高分子を架橋するために使用される架橋剤が含まれることが好ましい。架橋剤が含まれることによりポリマー間での架橋が進行し、後述する工程においてゼラチンが分解除去された際にも金属銀同士の連結が保たれ、結果として導電特性がより優れる。 The silver halide-containing coating liquid and the composition-adjusting coating liquid may contain materials other than those mentioned above, if necessary. For example, it preferably includes a cross-linking agent used to cross-link the first polymer and second polymer described above. The inclusion of a cross-linking agent promotes cross-linking between polymers, and even when gelatin is decomposed and removed in the process described later, the linkage between metallic silver particles is maintained, resulting in more excellent conductive properties.

ハロゲン化銀含有塗布液と組成調整塗布液とを同時重層塗布する方法は特に限定されるものではなく、公知の方法を採用することができ、例えば、ダイ塗布方式を用いることが好ましい。ダイ塗布方式にはスライド塗布方式、エクストルージョン塗布方式、カーテン塗布方式があるが、スライド塗布方式またはエクストルージョン塗布が好ましく、薄層塗布適性が高いエクストルージョン塗布が最も好ましい。 The method for simultaneous multilayer coating of the silver halide-containing coating liquid and the composition-adjusted coating liquid is not particularly limited, and known methods can be employed. For example, the die coating method is preferably used. The die coating method includes a slide coating method, an extrusion coating method, and a curtain coating method, but the slide coating method or the extrusion coating method is preferable, and the extrusion coating method, which is highly suitable for thin layer coating, is most preferable.

なお、上述の同時重層塗布する際には、上述したタッチパネル用導電性フィルムの第1実施態様の形態が得られやすい点から、所定の基板上に塗布した際に形成される膜(表面膜)の乾燥厚みが300nm以上となるような組成の第2高分子を含有する組成調整塗布液を使用することが好ましい。 In the simultaneous multi-layer coating described above, the film (surface film) formed when coated on a predetermined substrate is easy to obtain the form of the first embodiment of the conductive film for touch panel described above. It is preferable to use a composition-adjusted coating liquid containing the second polymer having a composition such that the dry thickness of the coating is 300 nm or more.

また、同時重層塗布を実施した後、得られた塗膜に対して、必要に応じて、乾燥処理を施してもよい。乾燥処理を実施することにより、ハロゲン化銀含有塗布液より得られる塗膜および組成調整塗布液より得られる塗膜に含まれる溶媒を容易に除去することができる。 Moreover, after carrying out the simultaneous multi-layer coating, the obtained coating film may be subjected to a drying treatment, if necessary. By carrying out the drying treatment, the solvent contained in the coating film obtained from the silver halide-containing coating liquid and the coating film obtained from the composition-adjusted coating liquid can be easily removed.

上述の処理により、ハロゲン化銀を含有する感光性層を可撓性基材上に形成することができる。なお、本明細書では、上述の「ハロゲン化銀を含有する感光性層」を「ハロゲン化銀感光性層」、または、単に「感光性層」ということがある。 The processing described above can form a photosensitive layer containing silver halide on a flexible substrate. In this specification, the above-mentioned "photosensitive layer containing silver halide" may be referred to as "silver halide photosensitive layer" or simply "photosensitive layer".

<工程B>
工程Bは、ハロゲン化銀感光性層を露光した後、現像処理して金属銀を含有する導電線を形成する工程である。
本工程により、ハロゲン化銀が還元され、金属銀を含む導電線が形成される。なお、通常、露光処理はパターン状に実施され、露光部では金属銀を含む導電線が形成される。一方、非露光部では、後述する現像処理によってハロゲン化銀が溶出される。上述のゼラチンおよび上述の高分子を含む非導電線が形成される。非導電線には実質的に金属銀が含まれておらず、非導電線とは導電性を示さない領域を意図する。
以下では、本工程で実施される露光処理と現像処理とについて詳述する。
<Process B>
Step B is a step of exposing the silver halide photosensitive layer and then developing it to form a conductive line containing metallic silver.
This step reduces the silver halide to form a conductive line containing metallic silver. Incidentally, the exposure treatment is usually carried out in a pattern, and a conductive line containing metallic silver is formed in the exposed portion. On the other hand, in the non-exposed areas, silver halide is eluted by the development treatment described later. A non-conductive line is formed comprising the gelatin described above and the polymer described above. A non-conductive line is substantially free of metallic silver, and by non-conductive line is intended an area that exhibits no electrical conductivity.
Below, the exposure processing and development processing performed in this step will be described in detail.

露光処理は、感光性層に露光を行う処理である。感光性層に対してパターン状の露光を施すことにより、露光領域における感光性層中のハロゲン化銀が潜像を形成する。この潜像が形成された領域は、後述する現像処理によって導電線を形成する。一方、露光がなされなかった未露光領域では、後述する現像処理の際にハロゲン化銀が溶解して感光性層から流出し、透明な膜(非導電線)が得られる。
露光の際に使用される光源は特に限定されるものではなく、可視光線、紫外線等の光、または、X線等の放射線等が挙げられる。
パターン露光を行う方法は特に限定されるものではなく、例えば、フォトマスクを利用した面露光で行ってもよいし、レーザービームによる走査露光で行ってもよい。なお、パターンの形状は特に限定されるものではなく、形成したい導電線のパターンに合わせて適宜調整される。
The exposure process is a process of exposing the photosensitive layer. By subjecting the photosensitive layer to patterned exposure, the silver halide in the photosensitive layer in the exposed areas forms a latent image. A region where the latent image is formed forms a conductive line by a development process to be described later. On the other hand, in the unexposed areas where no exposure has been made, the silver halide dissolves and flows out from the photosensitive layer during the later-described development processing, thereby obtaining a transparent film (non-conductive line).
The light source used for exposure is not particularly limited, and includes light such as visible light and ultraviolet rays, and radiation such as X-rays.
The pattern exposure method is not particularly limited. For example, surface exposure using a photomask or scanning exposure using a laser beam may be used. In addition, the shape of the pattern is not particularly limited, and is appropriately adjusted according to the pattern of the conductive line to be formed.

現像処理の方法は特に限定されるものではないが、例えば、銀塩写真フイルム、印画紙、印刷製版用フイルム、および、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる通常の現像処理の技術を用いることができる。
現像処理の際に使用される現像液の種類は特に限定されるものではないが、例えば、PQ(phenidone hydroquinone)現像液、MQ(Metol hydroquinone)現像液、および、MAA(メトール・アスコルビン酸)現像液等を用いることもできる。
現像処理は、未露光部分の銀塩を除去して安定化させる目的で行われる定着処理を含むことができる。定着処理は、銀塩写真フイルム、印画紙、印刷製版用フイルム、および、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる定着処理の技術を用いることができる。
定着工程における定着温度は、約20℃~約50℃が好ましく、25~45℃がより好ましい。また、定着時間は5秒~1分が好ましく、7秒~50秒がより好ましい。
現像、定着処理を施した感光性層は、水洗処理および安定化処理を施されるのが好ましい。
The method of development processing is not particularly limited, but, for example, common development processing techniques used for silver salt photographic films, photographic papers, films for printing plates, emulsion masks for photomasks, etc. can be used. can.
The type of developer used in the development processing is not particularly limited, but examples include PQ (phenidone hydroquinone) developer, MQ (Metol hydroquinone) developer, and MAA (methol ascorbic acid) developer. A liquid or the like can also be used.
The development process can include a fixing process which is carried out for the purpose of removing and stabilizing the silver salt in the unexposed areas. For the fixing process, a fixing process technique used for silver halide photographic films, photographic papers, films for printing plates, emulsion masks for photomasks, and the like can be used.
The fixing temperature in the fixing step is preferably about 20°C to about 50°C, more preferably 25°C to 45°C. The fixing time is preferably 5 seconds to 1 minute, more preferably 7 seconds to 50 seconds.
The photosensitive layer that has been developed and fixed is preferably washed with water and stabilized.

上述の工程Aおよび工程B以外のその他の工程を有していてもよい。
その他の工程としては、例えば、
工程Bの後に、導電線の金属銀同士を互いに融着させる工程F;
工程Aの後であって、工程Bの前に、ハロゲン化銀感光性層と、金属吸着性置換基または金属吸着性構造を有する化合物(以下、「特定化合物」ともいう。)と、を接触させる工程C1;
工程Bの後であって、工程Fの前に、導電線と特定化合物とを接触させる工程C2;
工程Bの後であって、工程Fの前に、更に、導電線を圧密化する工程D;
ハロゲン化銀含有塗布液、および、組成調整塗布液からなる群より選択される少なくとも1種が、ゼラチンを含有する場合に、工程Bの後であって、工程Dの前に、導電線中のゼラチンを除去する工程E;
等が挙げられる。また、その他の工程としては、後述する易接着層形成工程等も挙げられる。以下では、その他の工程について説明する。
Other processes than the above-described process A and process B may be included.
Other processes include, for example,
After step B, step F of fusing the metallic silver of the conductive wire to each other;
After step A and before step B, the silver halide photosensitive layer is brought into contact with a compound having a metal-adsorbing substituent or metal-adsorbing structure (hereinafter also referred to as "specific compound"). Step C1 of causing;
Step C2 of contacting the conductive wire with the specific compound after step B and before step F;
after step B and before step F, further step D of consolidating the conductive line;
When at least one selected from the group consisting of a silver halide-containing coating solution and a composition-adjusting coating solution contains gelatin, after step B and before step D, step E of removing gelatin;
etc. Moreover, as another process, the easy-adhesion layer formation process etc. which are mentioned later are mentioned. Other steps will be described below.

(工程F)
工程Fは、工程Bの後に、導電線の(導電線に含有される)金属銀同士を互いに融着させる工程である。本工程により、金属銀同士が融着する結果、より優れた導電性を有する導電線を備えた検出部が得られる。
(Process F)
Step F is a step, after step B, of fusing the metallic silver (contained in the conductive wire) of the conductive wire to each other. In this step, the metallic silver particles are fused to each other, and as a result, a detection portion having a conductive wire having superior conductivity can be obtained.

加熱の方法としては、特に限定されるものではないが、導電線を有する可撓性基材を過熱蒸気に接触させる処理が挙げられる。
過熱蒸気としては、特に限定されるものではなく、過熱水蒸気でよいし、過熱水蒸気に他のガスを混合させたものでもよい。
過熱蒸気は、供給時間10~300秒の範囲で導電線に接触させることが好ましい。供給時間が10秒以上であると、導電率の向上が大きい。また、300秒以下だと、十分に導電率が向上するため、経済性の点からより好ましい。
また、過熱蒸気は、供給量が500~600g/m3の範囲で導電線に接触させることが好ましく、過熱蒸気の温度は、1気圧で100~160℃に制御されることが好ましい。
A heating method is not particularly limited, but includes a treatment of contacting a flexible substrate having conductive wires with superheated steam.
The superheated steam is not particularly limited, and may be superheated steam or a mixture of superheated steam and other gas.
The superheated steam is preferably brought into contact with the conductive wire for a supply time ranging from 10 to 300 seconds. When the supply time is 10 seconds or more, the conductivity is greatly improved. Further, when the time is 300 seconds or less, the electrical conductivity is sufficiently improved, which is more preferable from the economic point of view.
Also, the superheated steam is preferably brought into contact with the conductive wire in a supply amount of 500 to 600 g/m 3 , and the temperature of the superheated steam is preferably controlled to 100 to 160° C. at 1 atmospheric pressure.

加熱処理の他の方法としては、80~150℃での加熱処理が挙げられる。
加熱時間は特に限定されるものではないが、上述の効果がより優れる点で、0.1~5.0時間が好ましく、0.5~1.0時間がより好ましい。
Another method of heat treatment includes heat treatment at 80 to 150°C.
Although the heating time is not particularly limited, it is preferably 0.1 to 5.0 hours, more preferably 0.5 to 1.0 hours, in that the above effects are more excellent.

(工程C1)
工程C1は、工程Aの後であって、工程Bの前に実施され、ハロゲン化銀感光性層と、特定化合物とを接触させる工程である。本工程によって、後段の工程Bにおいて生じた金属銀同士がより融着しにくくなる。本工程においては、ハロゲン化銀感光性層に特定化合物を接触させるため、ハロゲン化銀感光性層のより表面に近い領域(界面領域)において、金属銀同士が融着しにくくなるという効果を有する。従って、特に後段の工程によって得られる導電線において、界面領域において金属銀同士の融着がより阻害されやすい。また、この場合であっても、導電線の中間領域においては、十分に金属銀同士が融着するものと考えられ、優れた導電性を有する検出部が得られる。
(Step C1)
Step C1 is performed after Step A and before Step B, and is a step of bringing the silver halide photosensitive layer into contact with a specific compound. This step makes it more difficult for the metallic silver particles generated in the subsequent step B to fuse together. In this step, since the specific compound is brought into contact with the silver halide photosensitive layer, it has the effect of making it difficult for metallic silver particles to fuse together in a region (interface region) closer to the surface of the silver halide photosensitive layer. . Therefore, particularly in the conductive wire obtained by the subsequent steps, the fusion between the metallic silver particles is more likely to be inhibited in the interface region. Moreover, even in this case, it is considered that the metallic silver is sufficiently fused in the intermediate region of the conductive wire, and a detection portion having excellent conductivity can be obtained.

検出部の製造方法は、工程C1または後述する工程C2を有することが好ましく、工程C1および工程C2を有していてもよい。 The method for manufacturing the detection unit preferably includes step C1 or step C2 described later, and may include step C1 and step C2.

特定化合物とハロゲン化銀感光性層を接触させる方法としては特に限定されるものではないが、典型的には特定化合物が溶解、および/または、分散された溶液と、ハロゲン化銀感光性層とを接触させる方法が挙げられる。また、特定化合物を含有する気体と、ハロゲン化銀感光性層とを接触させる方法であってもよい。 The method of bringing the specific compound into contact with the silver halide photosensitive layer is not particularly limited, but typically a solution in which the specific compound is dissolved and/or dispersed and the silver halide photosensitive layer are combined. A method of contacting is mentioned. Alternatively, a method of bringing a gas containing a specific compound into contact with the silver halide photosensitive layer may be used.

特定化合物を含有する溶液とハロゲン化銀感光性層とを接触させる方法としては特に限定されるものではないが、溶液にハロゲン化銀感光性層を浸漬させる方法、および、ハロゲン化銀感光性層に溶液を塗布する方法等が挙げられ、溶液にハロゲン化銀感光性層を浸漬させる方法がより好ましい。溶液にハロゲン化銀感光性層を浸漬させる方法は、より簡便な装置で、より安定的に実施でき、また、浸漬後に洗浄すれば、余剰の溶液をより容易に除去できるため、好ましい。 The method of bringing the solution containing the specific compound into contact with the silver halide photosensitive layer is not particularly limited, but the method of immersing the silver halide photosensitive layer in the solution and the method of contacting the silver halide photosensitive layer. A method of applying a solution to the layer is more preferred, and a method of immersing the silver halide photosensitive layer in the solution is more preferable. The method of immersing the silver halide photosensitive layer in the solution is preferable because it can be carried out more stably with a simpler apparatus, and excess solution can be more easily removed by washing after the immersion.

また、ハロゲン化銀感光性層と、金属吸着性部位を有する化合物を含有する気体、および/または、溶液とを接触させる方法は、ハロゲン化銀感光性層の表面において、金属銀が上述の化合物に吸着されやすいという特徴も有する。これにより、導電線の表面において金属銀が互いに融着するのがより阻害されやすい。 The method of contacting the silver halide photosensitive layer with a gas and/or solution containing a compound having a metal-adsorptive site is a method in which the silver halide is the above-mentioned compound on the surface of the silver halide photosensitive layer. It also has the characteristic of being easily adsorbed to. As a result, fusion of metallic silver to each other on the surface of the conductive wire is more likely to be hindered.

特定化合物は、金属吸着性置換基または金属吸着性構造(以下、これらをあわせて「金属吸着性部位」ともいう。)を有する化合物である。 The specific compound is a compound having a metal-adsorbing substituent or a metal-adsorbing structure (hereinafter collectively referred to as "metal-adsorbing site").

金属吸着性置換基としては、特に限定されるものではないが、金属吸着性置換基としては、カルボキシル基またはその塩、酸アミド基、アミノ基、イミダゾール基、ピラゾール基、チオール基、チオエーテル基、および、ジスルフィド基からなる群より選択される少なくとも1種が好ましい。 The metal-adsorbing substituent is not particularly limited, but examples of the metal-adsorbing substituent include a carboxyl group or a salt thereof, an acid amide group, an amino group, an imidazole group, a pyrazole group, a thiol group, a thioether group, and at least one selected from the group consisting of disulfide groups.

金属吸着性構造としては特に限定されるものではないが、含窒素ヘテロ環が好ましく、5または6員環アゾール類が好ましく、5員環アゾール類がより好ましい。
含窒素ヘテロ環としては、例えば、テトラゾール環、トリアゾール環、イミダゾール環、チアジアゾール環、オキサジアゾール環、セレナジアゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンズイミダゾール環、ピリミジン環、トリアザインデン環、テトラアザインデン環、ベンゾインダゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ピリジン環、キノリン環、ピペリジン環、ピペラジン環、キノキサリン環、モルホリン環、および、ペンタアザインデン環等が挙げられる。
これらの環は、置換基を有してもよく、置換基としては、ニトロ基、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、および、臭素原子)、シアノ基、置換もしくは無置換のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、t-ブチル基、および、シアノエチル基の各基)、アリール基(例えば、フェニル基、4-メタンスルホンアミドフェニル基、4-メチルフェニル基、3,4-ジクロルフェニル基、および、ナフチル基の各基)、アルケニル基(例えば、アリル基)、アラルキル基(例えば、ベンジル基、4-メチルベンジル基、および、フェネチル基の各基)、スルホニル基(例えば、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、および、p-トルエンスルホニル基の各基)、カルバモイル基(例えば、無置換カルバモイル基、メチルカルバモイル基、および、フェニルカルバモイル基の各基)、スルファモイル基(例えば、無置換スルファモイル基、メチルスルファモイル基、および、フェニルスルファモイル基の各基)、カルボンアミド基(例えば、アセトアミド基、および、ベンズアミド基の各基)、スルホンアミド基(例えば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基、および、p-トルエンスルホンアミド基の各基)、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ基、および、ベンゾイルオキシ基の各基)、スルホニルオキシ基(例えば、メタンスルホニルオキシ基)、ウレイド基(例えば、無置換ウレイド基、メチルウレイド基、エチルウレイド基、および、フェニルウレイド基の各基)、アシル基(例えば、アセチル基、および、ベンゾイル基の各基)、オキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、および、フェノキシカルボニル基の各基)、および、ヒドロキシル基等が挙げられる。置換基は、1つの環に複数置換してもよい。
The metal-adsorbing structure is not particularly limited, but is preferably a nitrogen-containing heterocycle, preferably a 5- or 6-membered ring azole, more preferably a 5-membered ring azole.
Nitrogen-containing heterocycles include, for example, tetrazole ring, triazole ring, imidazole ring, thiadiazole ring, oxadiazole ring, selenadiazole ring, oxazole ring, thiazole ring, benzoxazole ring, benzthiazole ring, benzimidazole ring, pyrimidine ring, triazaindene ring, tetraazaindene ring, benzoindazole ring, benzotriazole ring, benzoxazole ring, benzothiazole ring, pyridine ring, quinoline ring, piperidine ring, piperazine ring, quinoxaline ring, morpholine ring, and pentaaza An indene ring and the like are included.
These rings may have a substituent, which may be a nitro group, a halogen atom (e.g., chlorine atom and bromine atom), a cyano group, a substituted or unsubstituted alkyl group (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, t-butyl group, and cyanoethyl group), aryl group (e.g., phenyl group, 4-methanesulfonamidophenyl group, 4-methylphenyl group, 3,4-dichloro phenyl group and naphthyl group), alkenyl group (e.g., allyl group), aralkyl group (e.g., benzyl group, 4-methylbenzyl group, and phenethyl group), sulfonyl group (e.g., methane sulfonyl group, ethanesulfonyl group, and p-toluenesulfonyl group), carbamoyl group (e.g., unsubstituted carbamoyl group, methylcarbamoyl group, and phenylcarbamoyl group), sulfamoyl group (e.g., unsubstituted sulfamoyl group, methylsulfamoyl group, and phenylsulfamoyl group), carbonamide group (e.g., acetamide group and benzamide group), sulfonamide group (e.g., methanesulfonamide group, benzenesulfonamide group and p-toluenesulfonamide group), acyloxy group (e.g. acetyloxy group and benzoyloxy group), sulfonyloxy group (e.g. methanesulfonyloxy group), ureido groups (e.g., unsubstituted ureido groups, methylureido groups, ethylureido groups, and phenylureido groups), acyl groups (e.g., acetyl groups and benzoyl groups), oxycarbonyl groups (e.g., methoxycarbonyl group and phenoxycarbonyl group), hydroxyl group and the like. Multiple substituents may be substituted on one ring.

上述の化合物としては含窒素6員環を有する化合物(含窒素6員環化合物)が好ましく、含窒素6員環化合物としては、トリアジン環、ピリミジン環、ピリジン環、ピロリン環、ピペリジン環、ピリダジン環、または、ピラジン環を有する化合物が好ましく、トリアジン環またはピリミジン環を有する化合物がより好ましい。これらの含窒素6員環化合物は置換基を有していてもよく、置換基としては、炭素数1~6(好ましくは1~3)のアルキル基、炭素数1~6(好ましくは1~3)のアルコキシ基、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、炭素数1~6(好ましくは1~3)のアルコキシアルキル基、および、炭素数1~6(好ましくは1~3)のヒドロキシアルキル基が挙げられる。
含窒素6員環化合物の具体例としては、トリアジン、メチルトリアジン、ジメチルトリアジン、ヒドロキシエチルトリアジン、ピリミジン、4-メチルピリミジン、ピリジン、および、ピロリンが挙げられる。
As the above-mentioned compounds, compounds having a nitrogen-containing 6-membered ring (nitrogen-containing 6-membered ring compounds) are preferable. , or a compound having a pyrazine ring is preferable, and a compound having a triazine ring or a pyrimidine ring is more preferable. These nitrogen-containing 6-membered ring compounds may have a substituent, and the substituents include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (preferably 1 to 3), an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (preferably 1 to 3) alkoxy group, hydroxyl group, carboxyl group, mercapto group, alkoxyalkyl group having 1 to 6 carbon atoms (preferably 1 to 3), and hydroxyalkyl group having 1 to 6 carbon atoms (preferably 1 to 3) mentioned.
Specific examples of nitrogen-containing 6-membered ring compounds include triazine, methyltriazine, dimethyltriazine, hydroxyethyltriazine, pyrimidine, 4-methylpyrimidine, pyridine and pyrroline.

上述の化合物は、金属吸着性部位の1種を単独で有しても、2種以上を有してもよいが、上述の化合物は、2種以上の金属吸着性部位を有していることが好ましい。 The above-mentioned compound may have one type of metal-adsorbing site alone or may have two or more types, but the above-mentioned compound has two or more types of metal-adsorbing sites. is preferred.

(工程C2)
工程C2は、工程Bの後であって、工程Fの前に実施され、導電線と、特定化合物とを接触させる工程である。本工程によって、導電線の(導電線に含まれる)金属銀同士がより融着しにくくなる。本工程においては、導電線に特定化合物を接触させるため、導電線のより表面に近い領域(界面領域)において、金属銀同士が融着しにくくなるという効果を有する。従って、導電線の界面領域において金属銀同士の融着がより阻害されやすい。また、この場合であっても、導電線の中間領域においては、十分に金属銀同士が融着するものと考えられ、優れた導電性を有する検出部が得られる。
(Step C2)
Step C2 is a step that is performed after step B and before step F to bring the conductive wire into contact with the specific compound. This step makes it more difficult for the metal silver particles of the conductive wire (contained in the conductive wire) to fuse together. In this step, since the specific compound is brought into contact with the conductive wire, there is an effect that metallic silver particles are less likely to fuse together in a region (interface region) closer to the surface of the conductive wire. Therefore, fusion bonding between metallic silver particles is more likely to be hindered in the interface region of the conductive wire. Moreover, even in this case, it is considered that the metallic silver is sufficiently fused in the intermediate region of the conductive wire, and a detection portion having excellent conductivity can be obtained.

なお、本工程において、導電線と特定化合物とを接触させる方法、および、特定化合物の形態等については、既に説明した工程C1における各形態と同様であるため、説明を省略する。 In this step, the method of bringing the conductive wire into contact with the specific compound, the form of the specific compound, and the like are the same as those in Step C1 already described, and thus description thereof is omitted.

(工程D)
工程Dは、工程Bの後であって上述の工程Fの前に、導電線を圧密化する工程である。本工程によって、導電線の導電性がより向上するとともに、導電線の可撓性基材への密着性がより向上しやすい。
(Process D)
Step D is the step of consolidating the conductive lines after step B and before step F described above. By this step, the conductivity of the conductive wire is further improved, and the adhesion of the conductive wire to the flexible substrate is more likely to be improved.

導電線を圧密化する方法としては特に限定されるものではないが、例えば、導電線を有する可撓性基材を、少なくとも一対のロール間を加圧下で通過させるカレンダ処理工程が好ましい。以下、カレンダーロールを用いた圧密化処理をカレンダ処理と記す。 Although the method for consolidating the conductive wires is not particularly limited, for example, a calendering step in which the flexible substrate having the conductive wires is passed between at least a pair of rolls under pressure is preferred. The consolidation treatment using calender rolls is hereinafter referred to as calendering.

カレンダ処理に用いられるロールとしては、プラスチックロールおよび金属ロールが挙げられる。シワ防止の点からプラスチックロールが好ましい。ロール間の圧力としては特に限定されるものではない。ロール間の圧力は、富士フイルム株式会社製プレスケール(高圧用)を用いて測定できる。
カレンダ処理に用いられるロールの表面粗さRaは、得られる導電線がより視認されにくい点で、0~2.0μmが好ましく、0.3~1.0μmがより好ましい。
Rolls used for calendering include plastic rolls and metal rolls. A plastic roll is preferable from the point of wrinkle prevention. The pressure between rolls is not particularly limited. The pressure between the rolls can be measured using Prescale (for high pressure) manufactured by FUJIFILM Corporation.
The surface roughness Ra of the roll used for calendering is preferably from 0 to 2.0 μm, more preferably from 0.3 to 1.0 μm, in that the resulting conductive wire is less visible.

圧密化処理の温度は特に限定されるものではないが、10℃(温調なし)~100℃が好ましく、導電線のパターンの画線密度、形状、および、バインダー種によって異なるが、10℃(温調なし)~50℃がより好ましい。 The temperature of the consolidation treatment is not particularly limited, but is preferably 10° C. (no temperature control) to 100° C., and varies depending on the image line density, shape, and binder type of the conductive line pattern, but is 10° C. ( No temperature control) to 50°C is more preferable.

(工程E)
ハロゲン化銀含有塗布液、および、組成調整塗布液からなる群より選択される少なくとも1種が、ゼラチンを含有する場合に、工程Eは、工程Bの後であって、工程Dの前に、導電線(導電線に含有される)のゼラチンを除去する工程である。ゼラチンを除去することにより、結果として導電線の金属銀の含有量が相対的に高まるため、より優れた導電性を有する導電線が得られる。
工程Eはゼラチンの全部を除去する工程であってもよいし、ゼラチンの一部を除去する工程であってもよい。また、工程Eにおいては、導電線に加えて、可撓性基材上の導電線以外の部分(例えば、非導電線)からゼラチンを除去してもよい。
(Process E)
When at least one selected from the group consisting of silver halide-containing coating liquids and composition-adjusting coating liquids contains gelatin, step E is performed after step B and before step D. This is the step of removing the gelatin from the conductive line (contained in the conductive line). Removal of the gelatin results in a conductive line with better electrical conductivity due to the relatively high content of metallic silver in the conductive line.
Step E may be a step of removing all of the gelatin or a step of removing a portion of the gelatin. Also, in step E, in addition to the conductive lines, the gelatin may be removed from portions other than the conductive lines (eg, non-conductive lines) on the flexible substrate.

ゼラチンを除去する方法としては特に限定されるものではないが、例えば、タンパク質分解酵素を用いて分解除去する方法、および、所定の酸化剤を用いて分解除去する方法が挙げられる。
なお、タンパク質分解酵素を用いてゼラチンを分解除去する方法としては、例えば、特開2014-209332号公報の段落0084~0077に記載の方法を採用できる。
また、酸化剤を用いてゼラチンを分解除去する方法としては、例えば、特開2014-112512号公報の段落0064~0066に記載の方法を採用できる。
The method for removing gelatin is not particularly limited, but examples thereof include a method of decomposing and removing using a protease and a method of decomposing and removing using a predetermined oxidizing agent.
As a method for decomposing and removing gelatin using a proteolytic enzyme, for example, the method described in paragraphs 0084 to 0077 of JP-A-2014-209332 can be employed.
As a method for decomposing and removing gelatin using an oxidizing agent, for example, the method described in paragraphs 0064 to 0066 of JP-A-2014-112512 can be employed.

(易接着層形成工程)
易接着層形成工程は、工程Aの前に、可撓性基材上に易接着層(以下、「下塗り層」ともいう。)を形成し、易接着層(下塗り層)付き可撓性基材を得る工程である。可撓性基材上に下塗り層を形成する方法としては特に限定されるものではないが、可撓性基材上に下塗り層形成用組成物を塗布する方法が挙げられる。下塗り層形成工程では、形成される下塗り層が、隣接する他の層(可撓性基材、および、非導電線等)との間で、屈折率の差の絶対値がより小さくなるよう、調整されることが好ましい。下塗り層と隣接する他の層との間の屈折率の差を調整する方法としては特に限定されるものではないが、各層の形成に用いられる組成物中に含有される各成分の種類を調整する方法が挙げられる。
(Easy adhesion layer forming step)
In the easy-adhesion layer forming step, before step A, an easy-adhesion layer (hereinafter also referred to as an "undercoat layer") is formed on the flexible substrate, and a flexible substrate with an easy-adhesion layer (undercoat layer) is formed. This is the process of obtaining the material. The method for forming the undercoat layer on the flexible substrate is not particularly limited, but examples thereof include a method of applying an undercoat layer-forming composition onto the flexible substrate. In the undercoat layer forming step, the absolute value of the refractive index difference between the formed undercoat layer and other adjacent layers (flexible substrate, non-conductive wire, etc.) is smaller. preferably adjusted. The method for adjusting the difference in refractive index between the undercoat layer and other adjacent layers is not particularly limited, but the type of each component contained in the composition used to form each layer is adjusted. method.

易接着層を形成する方法としては特に限定されるものではないが、易接着層形成用組成物を可撓性基材上に塗布して、必要に応じて加熱処理を施す方法が挙げられる。易接着層形成用組成物は、溶媒を含有してもよい。溶媒の種類は特に限定されるものではなく、ハロゲン化銀含有塗布液等が含有することがある溶媒として既に説明したとおりである。
易接着層の厚みは特に限定されるものではないが、可撓性基材と、ハロゲン化銀感光性層および導電線との密着性がより向上する点で、0.02~0.3μmが好ましい。
易接着層としては特に限定されるものではなく、例えば、特開2008-208310号公報に記載の第1接着層の好適な適用例を、好適に用いることができる。
The method for forming the easy-adhesion layer is not particularly limited, but includes a method of applying the composition for forming an easy-adhesion layer onto a flexible base material and, if necessary, heat-treating it. The easily adhesive layer-forming composition may contain a solvent. The type of solvent is not particularly limited, and is as already described as the solvent that may be contained in the silver halide-containing coating liquid.
Although the thickness of the easy-adhesion layer is not particularly limited, it is 0.02 to 0.3 μm in terms of further improving the adhesion between the flexible substrate, the silver halide photosensitive layer and the conductive wire. preferable.
The easy-adhesion layer is not particularly limited, and for example, suitable application examples of the first adhesion layer described in Japanese Patent Laid-Open No. 2008-208310 can be suitably used.

<検出部の他の製造方法>
検出部、取出し配線部を構成する金属細線の製造方法は、上述の方法に、特に限定されるものではなく、例えば、めっき法、蒸着法および印刷法等が適宜利用可能である。
<Another manufacturing method of the detection part>
The method of manufacturing the fine metal wires that constitute the detection section and the extraction wiring section is not particularly limited to the above-described methods, and for example, plating, vapor deposition, printing, and the like can be used as appropriate.

めっき法よる金属細線の形成方法について説明する。例えば、金属細線は、無電解めっき下地層に無電解めっきすることにより下地層上に形成される金属めっき膜で構成することができる。この場合、少なくとも金属微粒子を含有する触媒インクを基材上にパターン状に形成した後に、基材を無電解めっき浴に浸漬し、金属めっき膜を形成することで形成される。より具体的には、特開2014-159620号公報に記載の金属被膜基材の製造方法を利用することができる。また、少なくとも金属触媒前駆体と相互作用しうる官能基を有する樹脂組成物を基材上にパターン状に形成した後、触媒または触媒前駆体を付与し、基材を無電解めっき浴に浸漬し、金属めっき膜を形成することで形成される。より具体的には、特開2012-144761号公報に記載の金属被膜基材の製造方法を応用することができる。 A method for forming thin metal wires by plating will be described. For example, the fine metal wire can be composed of a metal plating film formed on the underlying layer by electroless plating on the underlying layer. In this case, after patterning a catalyst ink containing at least metal fine particles on a base material, the base material is immersed in an electroless plating bath to form a metal plating film. More specifically, the method for producing a metal coated base material described in JP-A-2014-159620 can be used. Also, after forming a pattern of a resin composition having a functional group capable of interacting with at least a metal catalyst precursor on a substrate, a catalyst or catalyst precursor is applied, and the substrate is immersed in an electroless plating bath. , are formed by forming a metal plating film. More specifically, the method for producing a metal coating substrate described in JP-A-2012-144761 can be applied.

また、蒸着法よる金属細線の形成方法について説明する。まず、蒸着により、銅箔層を形成し、フォトリソグラフィー法により銅箔層から銅配線を形成することにより、金属細線を形成することができる。銅箔層は、蒸着銅箔以外にも、電解銅箔が利用可能である。より具体的には、特開2014-29614号公報に記載の銅配線を形成する工程を利用することができる。
また、印刷法よる金属細線の形成方法について説明する。まず、導電性粉末を含有する導電性ペーストを金属細線と同じパターンで基板に塗布し、その後、加熱処理を施すことにより金属細線を形成することができる。導電性ペーストを用いたパターン形成は、例えば、インクジェット法またはスクリーン印刷法でなされる。導電性ペーストとしては、より具体的には、特開2011-28985号公報に記載の導電性ペーストを利用することができる。
さらには、ナノインプリント方式を用いて金属細線を形成することもできる。この場合、金属細線として、例えば、ナノインプリントにより銀の細線を形成する。
また、スクリーン印刷とレーザを用いたエッチングとを組み合わせて、金属細線を形成することもできる。
Also, a method for forming thin metal wires by vapor deposition will be described. First, a thin metal wire can be formed by forming a copper foil layer by vapor deposition and forming copper wiring from the copper foil layer by photolithography. As for the copper foil layer, electrolytic copper foil can be used in addition to vapor-deposited copper foil. More specifically, the process of forming a copper wiring described in JP-A-2014-29614 can be used.
Also, a method for forming thin metal wires by printing will be described. First, a conductive paste containing conductive powder is applied to a substrate in the same pattern as the fine metal wires, and then heat treatment is performed to form the fine metal wires. Pattern formation using a conductive paste is performed by, for example, an inkjet method or a screen printing method. As the conductive paste, more specifically, the conductive paste described in JP-A-2011-28985 can be used.
Furthermore, a nanoimprint method can also be used to form metal fine wires. In this case, silver thin wires are formed by nanoimprinting, for example, as the metal thin wires.
Alternatively, a fine metal wire can be formed by combining screen printing and etching using a laser.

<第1の透明絶縁層および第2の透明絶縁層>
第1の透明絶縁層および第2の透明絶縁層は、上述の光学的に透明な粘着剤(OCA、Optical Clear Adhesive)およびUV(Ultra Violet)硬化樹脂等の光学的に透明な樹脂(OCR、Optical Clear Resin)に限定されるものではない。
第1の透明絶縁層および第2の透明絶縁層は、ガスクロマトグラフィー法を用いた硫黄ガス(硫化水素ガス)のガス透過性が10-2g/m/day以下であることが好ましい。本発明では、ガスクロマトグラフィー法にGC-FPD(Gas Chromatograph-Flame Photometric Detector)法を用いる。
第1の透明絶縁層および第2の透明絶縁層は、可撓性基材の表面および裏面において、検出部および取出し配線部がない領域、および検出部上および取出し配線部上にこれらを覆うように配置してもよい。この場合、第1の透明絶縁層および第2の透明絶縁層は、透明であり、かつ電気絶縁性を有するものであり、さらに検出部および取出し配線部を保護する機能を有する。第1の透明絶縁層および第2の透明絶縁層は、導通性が十分に低い。第1の透明絶縁層および第2の透明絶縁層により検出部および取出し配線部は、金属細線間の導電性、および他の部材と導電性が十分に低い状態とされ、金属細線同士の導通、および他の部材との導通が抑制され短絡等が防止される。
第1の透明絶縁層および第2の透明絶縁層を、検出部および取出し配線部の一部が露出するように、すなわち、検出部および取出し配線部の一部を覆わないように配置してもよい。第1の透明絶縁層および第2の透明絶縁層は、上述のように光学的に透明な粘着剤および光学的に透明な樹脂を用いることができるが、これに限定されるものではなく、以下に示すものを用いることができる。以下、第1の透明絶縁層および第2の透明絶縁層をまとめて、単に透明絶縁層という。
なお、1回の塗布工程によって透明絶縁層を形成できる点から、入力領域Eおよび外側領域Eの両方の同一の透明絶縁層が配置されることが好ましい。
<First Transparent Insulating Layer and Second Transparent Insulating Layer>
The first transparent insulating layer and the second transparent insulating layer are optically transparent resins (OCR, Optical Clear Resin).
The first transparent insulating layer and the second transparent insulating layer preferably have a gas permeability of 10 −2 g/m 2 /day or less to sulfur gas (hydrogen sulfide gas) using a gas chromatography method. In the present invention, a GC-FPD (Gas Chromatograph-Flame Photometric Detector) method is used as the gas chromatography method.
The first transparent insulating layer and the second transparent insulating layer are formed on the front and back surfaces of the flexible base material so as to cover the area without the detection section and the lead-out wiring section and the detection section and the lead-out wiring section. can be placed in In this case, the first transparent insulating layer and the second transparent insulating layer are transparent and electrically insulating, and have the function of protecting the detection section and the extraction wiring section. The first transparent insulating layer and the second transparent insulating layer have sufficiently low conductivity. The first transparent insulating layer and the second transparent insulating layer make the detection section and the extraction wiring section sufficiently low in conductivity between the thin metal wires and in conductivity with other members. Also, electrical connection with other members is suppressed, and short circuits and the like are prevented.
Even if the first transparent insulating layer and the second transparent insulating layer are arranged so that a part of the detection part and the extraction wiring part is exposed, that is, a part of the detection part and the extraction wiring part is not covered. good. The first transparent insulating layer and the second transparent insulating layer can use an optically transparent adhesive and an optically transparent resin as described above, but are not limited thereto. can be used. Hereinafter, the first transparent insulating layer and the second transparent insulating layer are collectively referred to simply as a transparent insulating layer.
Note that the same transparent insulating layer is preferably arranged in both the input area E1 and the outer area E2 , since the transparent insulating layer can be formed by a single coating process.

透明絶縁層としては、架橋構造が導入され、かつ透明絶縁層の押し込み硬度が所定の範囲に調整されたものを用いることができる。
金属細線のひび割れおよび断線は、保存環境条件を含めた導電性フィルムの折り曲げ形態に伴う応力により発生していると推測される。このため、金属細線の表面に、その応力を緩和すること、および、金属細線の強度を補強する機能を有した透明絶縁層を敷設することにより、金属細線のひび割れ、および断線が防止できる。具体的には、強度を補強する機能を透明絶縁層に付与するために、透明絶縁層に架橋構造が導入され、透明絶縁層の優位な剛性が維持される。また、折り曲げに伴い透明絶縁層にクラックが生じて金属細線が断線することに繋がらないように、透明絶縁層の押し込み硬度が所定の範囲内に調整されている。
As the transparent insulating layer, a transparent insulating layer into which a crosslinked structure is introduced and whose indentation hardness is adjusted within a predetermined range can be used.
It is presumed that the cracks and disconnections of the fine metal wires are caused by the stress associated with the bending of the conductive film, including the storage environmental conditions. Therefore, by laying a transparent insulating layer on the surface of the fine metal wire, which has a function of relieving the stress and reinforcing the strength of the fine metal wire, cracking and disconnection of the fine metal wire can be prevented. Specifically, in order to provide the transparent insulating layer with a function of reinforcing strength, a crosslinked structure is introduced into the transparent insulating layer to maintain the superior rigidity of the transparent insulating layer. In addition, the indentation hardness of the transparent insulating layer is adjusted within a predetermined range so that the thin metal wire does not break due to cracks in the transparent insulating layer caused by bending.

透明絶縁層の押し込み硬度は、200MPa以下であり、150MPa以下が好ましく、130MPa以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、10MPa以上が好ましい。押し込み硬度が200MPa以下の場合、所望の効果を得やすい。
透明絶縁層の押し込み硬度は、微小硬度試験機(ピコデンタ―)により測定することができる。
なお、透明絶縁層が上述の押し込み硬度を示すために、透明絶縁層を構成する樹脂の主鎖構造が柔らかい構造であること、または、架橋点間の距離が長い構造であることが好ましい。
The indentation hardness of the transparent insulating layer is 200 MPa or less, preferably 150 MPa or less, and more preferably 130 MPa or less. Although the lower limit is not particularly limited, it is preferably 10 MPa or more. When the indentation hardness is 200 MPa or less, the desired effects are likely to be obtained.
The indentation hardness of the transparent insulating layer can be measured with a microhardness tester (Picodenter).
In order for the transparent insulating layer to exhibit the indentation hardness described above, it is preferable that the main chain structure of the resin constituting the transparent insulating layer is a soft structure, or that the distance between cross-linking points is long.

透明絶縁層は、50~90℃における弾性率が1×10Pa以上であることが好ましく、1×10~1×1010MPaであることがより好ましい。可撓性基材が熱膨張すると、可撓性基材上に形成された可撓性基材よりも膨張率の低い金属細線も同様に延び、これにより金属細線の断線が生じることがある。それに対して、透明絶縁層の50~90℃における弾性率が上述の範囲内であれば、高温高湿環境下にて導電性フィルムを折り曲げた状態で使用しても、透明絶縁層が硬く延びにくいため、金属細線のひび割れおよび断線が生じにくい。
また、透明絶縁層の温度85℃および相対湿度85%での弾性率は、1×10Pa以上であることが好ましく、1×10Pa以上であることがより好ましく、1.5×10Pa以上であることがさらに好ましい。上限は特に制限されないが、1×1010MPa以下の場合が多い。弾性率が上述の範囲内であれば、高温高湿環境下にて導電性フィルムを折り曲げた状態で使用しても、金属細線のひび割れおよび断線がより生じにくい。
なお、透明絶縁層の上述の弾性率は、所定の測定環境、例えば、温度85℃および相対湿度85%にて、微小硬度試験機(ピコデンター)により測定することができる。
The elastic modulus of the transparent insulating layer at 50 to 90° C. is preferably 1×10 5 Pa or more, more preferably 1×10 6 to 1×10 10 MPa. When the flexible base material thermally expands, the thin metal wire formed on the flexible base material and having a lower coefficient of expansion than the flexible base material also extends, which may cause disconnection of the thin metal wire. On the other hand, if the elastic modulus of the transparent insulating layer at 50 to 90° C. is within the above range, the transparent insulating layer can be hard and stretched even when the conductive film is used in a folded state in a high-temperature and high-humidity environment. It is hard to crack and disconnect the fine metal wire.
In addition, the elastic modulus of the transparent insulating layer at a temperature of 85° C. and a relative humidity of 85% is preferably 1×10 5 Pa or more, more preferably 1×10 6 Pa or more, and 1.5×10 It is more preferably 6 Pa or more. Although the upper limit is not particularly limited, it is often 1×10 10 MPa or less. If the elastic modulus is within the above range, even if the conductive film is used in a folded state in a high-temperature and high-humidity environment, cracking and disconnection of the fine metal wires are less likely to occur.
The elastic modulus of the transparent insulating layer can be measured with a microhardness tester (Picodenter) under a predetermined measurement environment, for example, a temperature of 85° C. and a relative humidity of 85%.

透明絶縁層の線膨張率は特に制限されないが、1~500ppm/℃が好ましく、5~200ppm/℃がより好ましく、5~150ppm/℃がさらに好ましい。透明絶縁層の線膨張率が上述の範囲内であれば、高温高湿環境下にて導電性フィルムを折り曲げた状態で使用しても金属細線のひび割れおよび断線がより生じにくい。
なお、透明絶縁層の線膨張率は、透明絶縁層からなる測定試料に熱を加えた際のカール値(カールの曲率半径)を測定し、以下の2つの式より算出することができる。
式1:(透明絶縁層の線膨張率-可撓性基材の線膨張率)×温度差=測定試料の歪み
式2:測定試料の歪み={(可撓性基材の弾性率×(可撓性基材の厚み)}/{3×(1-可撓性基材のポアソン比)×透明絶縁層の弾性率×カールの曲率半径}
なお、金属細線の断線をより抑制できる点で、透明絶縁層の線膨張率は、可撓性基材の線膨張率との差が小さいことが好ましく、上限は、差分が300ppm/℃以下であることが好ましく、150ppm/℃以下であることがより好ましい。下限は特に制限されないが、0ppm/℃が挙げられる。
Although the coefficient of linear expansion of the transparent insulating layer is not particularly limited, it is preferably 1 to 500 ppm/°C, more preferably 5 to 200 ppm/°C, and even more preferably 5 to 150 ppm/°C. If the coefficient of linear expansion of the transparent insulating layer is within the above range, even if the conductive film is used in a bent state in a high-temperature and high-humidity environment, cracking and disconnection of the fine metal wires are less likely to occur.
The coefficient of linear expansion of the transparent insulating layer can be calculated from the following two equations by measuring the curl value (radius of curvature of curl) when a measurement sample made of the transparent insulating layer is heated.
Formula 1: (linear expansion coefficient of transparent insulating layer - linear expansion coefficient of flexible substrate) x temperature difference = strain of measurement sample Formula 2: strain of measurement sample = {(elastic modulus of flexible substrate x ( Thickness of flexible substrate) 2 }/{3×(1−Poisson’s ratio of flexible substrate)×modulus of elasticity of transparent insulating layer×curvature radius of curl}
Note that the difference between the coefficient of linear expansion of the transparent insulating layer and the coefficient of linear expansion of the flexible substrate is preferably small in order to further suppress disconnection of the thin metal wires, and the upper limit is a difference of 300 ppm/° C. or less. It is preferably 150 ppm/°C or less, more preferably 150 ppm/°C or less. Although the lower limit is not particularly limited, it may be 0 ppm/°C.

透明絶縁層の厚みは特に制限されないが、厚みが大きいと折り曲げた際に透明絶縁層にクラックが生じやすくなる。クラックを抑制しつつ、検出部および取出し配線部の密着性がより優れ、膜強度がより優れる観点から、1~20μmが好ましく、5~15μmがより好ましい。 The thickness of the transparent insulating layer is not particularly limited, but if the thickness is too large, the transparent insulating layer is likely to crack when bent. It is preferably 1 to 20 μm, more preferably 5 to 15 μm, from the viewpoints of suppressing cracks, providing better adhesion between the detecting portion and the extraction wiring portion, and better film strength.

透明絶縁層は、上述のように光を透過させる性質を有する。
なお、透明絶縁層を含む導電性フィルムの全光線透過率は、可視光領域(波長400~700nm)に対し、85%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましい。
なお、上述の全光線透過率は、分光測色計CM-3600A(コニカミノルタ株式会社製)によって測定される。
なお、透明絶縁層自体の全光線透過率は、導電性フィルムが上述の全光線透過率を示すように調整されることが好ましく、少なくとも85%以上であることが好ましい。
The transparent insulating layer has the property of transmitting light as described above.
The total light transmittance of the conductive film including the transparent insulating layer is preferably 85% or more, more preferably 90% or more, in the visible light region (wavelength: 400 to 700 nm).
The total light transmittance described above is measured by a spectrophotometer CM-3600A (manufactured by Konica Minolta, Inc.).
The total light transmittance of the transparent insulating layer itself is preferably adjusted so that the conductive film exhibits the above-mentioned total light transmittance, and is preferably at least 85% or more.

透明絶縁層は、検出部および取出し配線部との密着性に優れることが好ましく、具体的には、3M社製「610」よるテープ密着力評価試験で剥離がないことがより好ましい。
また、透明絶縁層は、検出部および取出し配線部だけでなく、可撓性基材(または、下塗り層もしくはバインダー層)の検出部および取出し配線部の形成されていない領域とも接するため、可撓性基材(または、下塗り層もしくはバインダー層)との密着性に優れていることが好ましい。なお、バインダー層とは、可撓性基材上であって金属細線間に配置されるバインダーからなる層であり、ハロゲン化銀法により金属細線を製造する際に形成される場合が多い。
上述のように透明絶縁層と可撓性基材および検出部および取出し配線部との密着性が高い場合、金属細線のひび割れおよび断線をより抑制することができる。
The transparent insulating layer preferably has excellent adhesion to the detection section and the extraction wiring section. Specifically, it is more preferred that there is no peeling in a tape adhesion strength evaluation test by 3M "610".
In addition, since the transparent insulating layer is in contact with not only the detection section and the extraction wiring section but also the area of the flexible base material (or the undercoat layer or the binder layer) where the detection section and the extraction wiring section are not formed, it is flexible. It is preferable that the adhesiveness to the adhesive substrate (or undercoat layer or binder layer) is excellent. The binder layer is a layer made of a binder and placed between the fine metal wires on the flexible substrate, and is often formed when the fine metal wires are produced by the silver halide method.
As described above, when the adhesion between the transparent insulating layer, the flexible base material, the detection section, and the extraction wiring section is high, cracking and disconnection of the thin metal wires can be further suppressed.

導電性フィルムの表面反射を抑制する観点から、透明絶縁層の屈折率と、可撓性基材の屈折率との屈折率差が小さいほど好ましい。
また、検出部および取出し配線部の金属細線にバインダー成分が含まれている場合には、透明絶縁層の屈折率と、上述のバインダー成分の屈折率との屈折率差が小さいほど好ましく、透明絶縁層を形成する樹脂成分と、上述のバインダー成分とが同じ材料であることがより好ましい。
なお、透明絶縁層を形成する樹脂成分と、上述のバインダー成分とが同じ材料であるとは、バインダー成分および透明絶縁層を形成する樹脂成分のいずれもが(メタ)アクリル系樹脂である場合が一例として挙げられる。
From the viewpoint of suppressing surface reflection of the conductive film, it is preferable that the refractive index difference between the transparent insulating layer and the flexible substrate is as small as possible.
Further, when a binder component is contained in the fine metal wires of the detection section and the extraction wiring section, the smaller the difference in refractive index between the refractive index of the transparent insulating layer and the refractive index of the binder component described above, the better. More preferably, the resin component forming the layer and the binder component described above are the same material.
The resin component forming the transparent insulating layer and the binder component described above are the same material, which means that both the binder component and the resin component forming the transparent insulating layer may be a (meth)acrylic resin. As an example.

さらに、上述のとおり導電性フィルムを用いてタッチパネルに構成する場合、導電性フィルムの透明絶縁層に、さらに光学的に透明な粘着シートまたは粘着層を貼り合せることがある。透明絶縁層と、光学的に透明な粘着シートまたは粘着層との界面での光散乱を抑制するため、透明絶縁層の屈折率と、光学的に透明な粘着シートの屈折率または粘着層の屈折率との屈折率差は小さいほど好ましい。 Furthermore, when a touch panel is configured using a conductive film as described above, an optically transparent adhesive sheet or adhesive layer may be attached to the transparent insulating layer of the conductive film. In order to suppress light scattering at the interface between the transparent insulating layer and the optically transparent adhesive sheet or adhesive layer, the refractive index of the transparent insulating layer and the refractive index of the optically transparent adhesive sheet or the refractive index of the adhesive layer The smaller the difference in refractive index from the index, the better.

透明絶縁層は、架橋構造を含む。架橋構造が含まれることにより、高温高湿環境下にて導電性フィルムを折り曲げた状態で使用しても金属細線の断線が生じにくい。
架橋構造を形成するためには、後述するように、多官能化合物を用いて透明絶縁層を形成することが好ましい。
The transparent insulating layer includes a crosslinked structure. Since the crosslinked structure is included, even when the conductive film is used in a folded state in a high-temperature and high-humidity environment, disconnection of the thin metal wire is less likely to occur.
In order to form a crosslinked structure, it is preferable to form a transparent insulating layer using a polyfunctional compound, as described later.

透明絶縁層を構成する材料は、上述した特性を示す層が得られれば特に制限されない。
なかでも、透明絶縁層の特性の制御が容易である点から、重合性基を有する重合性化合物を含む透明絶縁層形成用組成物を用いて形成される層であることが好ましい。
以下では、透明絶縁層形成用組成物を用いた態様について詳述する。
Materials constituting the transparent insulating layer are not particularly limited as long as a layer exhibiting the properties described above can be obtained.
Among them, a layer formed using a composition for forming a transparent insulating layer containing a polymerizable compound having a polymerizable group is preferable because the properties of the transparent insulating layer can be easily controlled.
Below, the aspect using the composition for transparent insulating layer formation is explained in full detail.

(透明絶縁層の形成方法)
透明絶縁層形成用組成物を用いて透明絶縁層を形成する方法は特に制限されない。例えば、可撓性基材および検出部および取出し配線部上に透明絶縁層形成用組成物を塗布して、必要に応じて塗膜に硬化処理を施し、透明絶縁層を形成する方法(塗布法)、または、仮基板上に透明絶縁層を形成して、検出部および取出し配線部表面に転写する方法(転写法)等が挙げられる。なかでも、厚みの制御がしやすい観点からは、塗布法が好ましい。
(Method for forming transparent insulating layer)
A method for forming a transparent insulating layer using the composition for forming a transparent insulating layer is not particularly limited. For example, a method of forming a transparent insulating layer by applying a composition for forming a transparent insulating layer onto a flexible base material, a detecting portion, and a lead-out wiring portion, and subjecting the coating film to a curing treatment as necessary (coating method ), or a method (transfer method) of forming a transparent insulating layer on a temporary substrate and transferring it to the surface of the detection section and the lead-out wiring section. Among them, the coating method is preferable from the viewpoint of easy control of the thickness.

塗布法の場合に、透明絶縁層形成用組成物を可撓性基材および検出部および取出し配線部上に塗布する方法は特に制限されず、公知の方法(例えば、グラビアコーター、コンマコーター、バーコーター、ナイフコーター、ダイコーターもしくはロールコーター等の塗布法式、インクジェット方式、または、スクリーン印刷方式等)を使用できる。 In the case of the coating method, the method of coating the transparent insulating layer-forming composition on the flexible base material, the detection section and the extraction wiring section is not particularly limited, and known methods (e.g., gravure coater, comma coater, bar A coating method such as a coater, a knife coater, a die coater or a roll coater, an inkjet method, or a screen printing method, etc.) can be used.

取り扱い性および製造効率の観点からは、透明絶縁層形成用組成物を可撓性基材および検出部および取出し配線部上に塗布し、必要に応じて乾燥処理を行って残存する溶剤を除去して、塗膜を形成する態様が好ましい。
なお、乾燥処理の条件は特に制限されないが、生産性がより優れる点で、室温~220℃(好ましくは50~120℃)で、1~30分間(好ましく1~10分間)実施することが好ましい。
生産性の観点からは、さらに、透明絶縁層形成用組成物は溶剤成分を含まず、乾燥工程がない状況が好ましい。
From the viewpoint of ease of handling and production efficiency, the composition for forming a transparent insulating layer is applied onto the flexible base material, the detection section, and the lead-out wiring section, and dried as necessary to remove the remaining solvent. Therefore, it is preferable to form a coating film.
Although the conditions for the drying treatment are not particularly limited, it is preferable to carry out the drying treatment at room temperature to 220° C. (preferably 50 to 120° C.) for 1 to 30 minutes (preferably 1 to 10 minutes) in terms of better productivity. .
From the viewpoint of productivity, it is preferable that the composition for forming a transparent insulating layer does not contain a solvent component and does not require a drying step.

なお、塗布法の場合、硬化処理としては、光硬化処理および熱硬化処理のいずれであってもよい。なかでも、可撓性基材へのダメージを軽減し、タクトタイムを短くする観点で、光硬化処理が好ましい。
露光する方法は特に制限されないが、例えば、活性光線または放射線を照射する方法が挙げられる。活性光線による照射としては、UV(紫外線)ランプ、および、可視光線等による光照射等が用いられる。光源としては、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、および、カーボンアーク灯等が挙げられる。また、放射線としては、電子線、X線、イオンビーム、および、遠赤外線等が挙げられる。
塗膜を露光することにより、塗膜中の化合物に含まれる重合性基が活性化され、化合物間の架橋が生じ、層の硬化が進行する。露光エネルギーは10~8000mJ/cm程度であればよく、好ましくは50~3000mJ/cmの範囲である。
In the case of the coating method, the curing treatment may be either photocuring treatment or heat curing treatment. Among these, photocuring treatment is preferable from the viewpoint of reducing damage to the flexible substrate and shortening the tact time.
Although the method of exposure is not particularly limited, examples thereof include a method of irradiating actinic rays or radiation. As the irradiation with actinic rays, a UV (ultraviolet) lamp, light irradiation with visible light, or the like is used. Examples of light sources include mercury lamps, metal halide lamps, xenon lamps, chemical lamps, and carbon arc lamps. Examples of radiation include electron beams, X-rays, ion beams, and far infrared rays.
By exposing the coating film to light, the polymerizable groups contained in the compounds in the coating film are activated, cross-linking occurs between the compounds, and curing of the layer proceeds. The exposure energy is about 10 to 8000 mJ/cm 2 , preferably 50 to 3000 mJ/cm 2 .

透明絶縁層形成用組成物には、重合性基を有する重合性化合物が含まれる。重合性化合物中に含まれる重合性基の数は特に制限されず、1つであっても、複数であってもよい。なかでも、透明絶縁層中に架橋構造を形成し得る点で、2以上の重合性基を有する重合性化合物を用いることが好ましい。
重合性基の種類は特に制限されず、例えば、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のラジカル重合性基、および、エポキシ基、オキセタン基等のカチオン重合性基等が挙げられる。なかでも、反応性の点で、ラジカル重合性基が好ましく、(メタ)アクリロイル基がより好ましい。
重合性化合物は、モノマー、オリゴマーおよびポリマーから選ばれるいずれの形態であってもよい。つまり、重合性化合物は、重合性基を有するオリゴマーであっても、重合性基を有するポリマーであってもよい。
なお、モノマーとしては分子量が1,000未満である化合物が好ましい。
また、オリゴマーおよびポリマーは、有限個(一般的には5~100個)のモノマーが結合した重合体である。オリゴマーとは重量平均分子量が3000以下である化合物であり、ポリマーとは重量平均分子量が3000超である化合物である。
重合性化合物は、1種であっても、複数種を併用してもよい。
The composition for forming a transparent insulating layer contains a polymerizable compound having a polymerizable group. The number of polymerizable groups contained in the polymerizable compound is not particularly limited, and may be one or more. Among them, it is preferable to use a polymerizable compound having two or more polymerizable groups in that a crosslinked structure can be formed in the transparent insulating layer.
The type of the polymerizable group is not particularly limited, and examples thereof include radically polymerizable groups such as (meth)acryloyl groups, vinyl groups and allyl groups, and cationic polymerizable groups such as epoxy groups and oxetane groups. Among them, from the viewpoint of reactivity, a radically polymerizable group is preferred, and a (meth)acryloyl group is more preferred.
The polymerizable compound may be in any form selected from monomers, oligomers and polymers. That is, the polymerizable compound may be an oligomer having a polymerizable group or a polymer having a polymerizable group.
A compound having a molecular weight of less than 1,000 is preferable as the monomer.
Oligomers and polymers are polymers in which a finite number (generally 5 to 100) of monomers are linked together. An oligomer is a compound having a weight average molecular weight of 3000 or less, and a polymer is a compound having a weight average molecular weight of more than 3000.
The polymerizable compound may be used singly or in combination.

透明絶縁層形成用組成物の好適態様としては、2以上の重合性基を有する重合性化合物(多官能化合物)、並びに、ウレタン(メタ)アクリレート化合物およびエポキシ(メタ)アクリレート化合物の少なくとも一方を含む態様が挙げられる。
なお、2以上の重合性基を有するウレタン(メタ)アクリレート化合物は、上述のウレタン(メタ)アクリレート化合物に該当し、多官能化合物には含まれない。また、2以上の重合性基を有するエポキシ(メタ)アクリレート化合物は、上述のエポキシ(メタ)アクリレート化合物に該当し、多官能化合物には含まれない。
Preferred aspects of the composition for forming a transparent insulating layer include a polymerizable compound (polyfunctional compound) having two or more polymerizable groups, and at least one of a urethane (meth)acrylate compound and an epoxy (meth)acrylate compound. aspects.
A urethane (meth)acrylate compound having two or more polymerizable groups corresponds to the urethane (meth)acrylate compound described above and is not included in the polyfunctional compound. An epoxy (meth)acrylate compound having two or more polymerizable groups corresponds to the epoxy (meth)acrylate compound described above and is not included in the polyfunctional compound.

多官能化合物としては、2以上の重合性基を有していればよく、2以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物が好ましい。
具体的には、2官能の(メタ)アクリレートとしては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9-ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、3-メチル-1,5ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、2-ブチル-2-エチル-1,3プロパンジ(メタ)アクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールヒドロキシピバレートジ(メタ)アクリレート、1,3ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジアクリレート、ヘキサメチレングリコールジアクリレート、ヘキサエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、2,2’-ビス(4-アクリロキシジエトキシフェニル)プロパン、および、ビスフェノールAテトラエチレングリコールジアクリレート等が挙げられる。
The polyfunctional compound may have two or more polymerizable groups, preferably a compound having two or more (meth)acryloyl groups.
Specifically, bifunctional (meth)acrylates include, for example, ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, tetraethylene glycol di(meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, 1,9-nonanediol di(meth)acrylate, glycerin di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate acrylates, 3-methyl-1,5-pentanediol di(meth)acrylate, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propane di(meth)acrylate, dimethyloltricyclodecane di(meth)acrylate, propylene glycol di(meth)acrylate ) acrylate, dipropylene glycol di(meth)acrylate, tripropylene glycol di(meth)acrylate, tetrapropylene glycol di(meth)acrylate, neopentyl glycol hydroxypivalate di(meth)acrylate, 1,3-butanediol di(meth)acrylate ) acrylate, dimethyloldicyclopentane diacrylate, hexamethylene glycol diacrylate, hexaethylene glycol di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, butylene glycol di(meth)acrylate, 2,2'-bis(4-acryloxydiethoxyphenyl)propane, bisphenol A tetraethylene glycol diacrylate, and the like.

3官能の(メタ)アクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性グリセロールトリアクリレート、プロピレンオキシド変性グリセロールトリアクリレート、εカプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、および、ペンタエリスリトールトリアクリレート等が挙げられる。 Trifunctional (meth)acrylates include, for example, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, ethylene oxide-modified trimethylolpropane tri(meth)acrylate, propylene oxide-modified trimethylolpropane tri(meth)acrylate, tris(acryloxyethyl ) isocyanurate, caprolactone-modified tris(acryloxyethyl) isocyanurate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol tri(meth)acrylate, alkyl-modified dipentaerythritol tri(meth)acrylate, tetramethylolmethane tri(meth) acrylates, ethylene oxide-modified glycerol triacrylate, propylene oxide-modified glycerol triacrylate, ε-caprolactone-modified trimethylolpropane triacrylate, and pentaerythritol triacrylate.

4官能の(メタ)アクリレートとしては、例えば、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ(メタ)アクリレート、および、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレートが挙げられる。 Tetrafunctional (meth)acrylates include, for example, ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, pentaerythritol ethoxytetra(meth)acrylate, and pentaerythritol tetra(meth)acrylate.

5官能以上の(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、および、ポリペンタエリスリトールポリアクリレート等が挙げられる。 Penta- or higher-functional (meth)acrylate compounds include, for example, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, alkyl-modified dipentaerythritol penta(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, caprolactone-modified dipentaerythritol hexa( meth)acrylates, polypentaerythritol polyacrylates, and the like.

透明絶縁層形成用組成物中における多官能化合物の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、透明絶縁層形成用組成物中の全固形分に対して、0~50質量%が好ましく、20~45質量%がより好ましい。 The content of the polyfunctional compound in the composition for forming a transparent insulating layer is not particularly limited, but from the point of view that the effect of the present invention is more excellent, it is 0 to 50 with respect to the total solid content in the composition for forming a transparent insulating layer. % by mass is preferable, and 20 to 45% by mass is more preferable.

ウレタン(メタ)アクリレート化合物は、詳しくは、アクリロイルオキシ基、アクリロイル基、メタクリロイルオキシ基、および、メタクリロイル基からなる群から選ばれる光重合性基を1分子中に2つ以上含み、かつ、ウレタン結合を1分子中に1つ以上含む化合物であることが好ましい。このような化合物は、例えば、イソシアネートとヒドロキシ基含有(メタ)アクリレート化合物とのウレタン化反応によって製造することができる。なお、ウレタン(メタ)アクリレート化合物としては、いわゆるオリゴマーであっても、ポリマーであってもよい。
上述の光重合性基は、ラジカル重合可能な重合性基である。光重合性基を1分子中に2つ以上含む多官能のウレタン(メタ)アクリレート化合物は、高硬度な透明絶縁層を形成するうえで有用である。
ウレタン(メタ)アクリレート化合物1分子中に含まれる光重合性基の数は、少なくとも2つであることが好ましく、例えば、2~10つがより好ましく、2~6つがさらに好ましい。なお、ウレタン(メタ)アクリレート化合物に含まれる2つ以上の光重合性基は同一のものであっても、異なるものであってもよい。
光重合性基としては、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基が好ましい。
More specifically, the urethane (meth)acrylate compound contains two or more photopolymerizable groups selected from the group consisting of an acryloyloxy group, an acryloyl group, a methacryloyloxy group, and a methacryloyl group in one molecule, and a urethane bond is preferably a compound containing one or more in one molecule. Such compounds can be produced, for example, by a urethanization reaction between an isocyanate and a hydroxy group-containing (meth)acrylate compound. The urethane (meth)acrylate compound may be a so-called oligomer or polymer.
The above photopolymerizable groups are radically polymerizable groups. A polyfunctional urethane (meth)acrylate compound containing two or more photopolymerizable groups in one molecule is useful for forming a highly rigid transparent insulating layer.
The number of photopolymerizable groups contained in one molecule of the urethane (meth)acrylate compound is preferably at least 2, more preferably 2 to 10, and even more preferably 2 to 6. Two or more photopolymerizable groups contained in the urethane (meth)acrylate compound may be the same or different.
As the photopolymerizable group, an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group is preferred.

ウレタン(メタ)アクリレート化合物1分子中に含まれるウレタン結合の数は、1つ以上であればよく、形成される透明絶縁層の硬度がより高くなる点で、2つ以上が好ましく、例えば、2~5つがより好ましい。
なお、1分子中にウレタン結合を2つ含むウレタン(メタ)アクリレート化合物において、光重合性基は一方のウレタン結合のみに直接または連結基を介して結合していてもよく、2つのウレタン結合にそれぞれ直接または連結基を介して結合していてもよい。
一態様では、連結基を介して結合している2つのウレタン結合に、それぞれ1つ以上の光重合性基が結合していることが、好ましい。
The number of urethane bonds contained in one molecule of the urethane (meth)acrylate compound may be 1 or more, and is preferably 2 or more, for example, 2, in that the hardness of the transparent insulating layer to be formed becomes higher. ~5 is more preferred.
In addition, in the urethane (meth)acrylate compound containing two urethane bonds in one molecule, the photopolymerizable group may be bonded only to one urethane bond directly or via a linking group. Each may be bonded directly or via a linking group.
In one aspect, it is preferable that one or more photopolymerizable groups are bonded to each of two urethane bonds bonded via a linking group.

上述のように、ウレタン(メタ)アクリレート化合物中において、ウレタン結合と光重合性基は直接結合していてもよく、ウレタン結合と光重合性基との間に連結基が存在していてもよい。連結基は特に限定されるものではなく、直鎖または分岐の飽和または不飽和の炭化水素基、環状基、およびこれらの2つ以上の組み合わせからなる基、等を挙げることができる。上述の炭化水素基の炭素数は、例えば、2~20程度であるが、特に限定されるものではない。また、環状基に含まれる環状構造としては、一例として、脂肪族環(シクロヘキサン環等)、芳香族環(ベンゼン環、ナフタレン環等)等が挙げられる。上述の基は、無置換であっても置換基を有していてもよい。
なお、本明細書において、特記しない限り、記載されている基は置換基を有してもよく無置換であってもよい。ある基が置換基を有する場合、置換基としては、アルキル基(例えば、炭素数1~6のアルキル基)、ヒドロキシ基、アルコキシル基(例えば、炭素数1~6のアルコキシル基)、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子)、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、アシル基、および、カルボキシル基等を挙げることができる。
As described above, in the urethane (meth)acrylate compound, the urethane bond and the photopolymerizable group may be directly bonded, or a linking group may be present between the urethane bond and the photopolymerizable group. . The linking group is not particularly limited, and examples thereof include linear or branched saturated or unsaturated hydrocarbon groups, cyclic groups, groups consisting of two or more of these groups, and the like. The number of carbon atoms in the above hydrocarbon group is, for example, about 2 to 20, but is not particularly limited. Examples of the cyclic structure included in the cyclic group include an aliphatic ring (cyclohexane ring, etc.), an aromatic ring (benzene ring, naphthalene ring, etc.), and the like. The above groups may be unsubstituted or substituted.
In this specification, unless otherwise specified, the groups described may have a substituent or may be unsubstituted. When a certain group has a substituent, the substituent may be an alkyl group (eg, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms), a hydroxy group, an alkoxyl group (eg, an alkoxyl group having 1 to 6 carbon atoms), a halogen atom ( For example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom), a cyano group, an amino group, a nitro group, an acyl group, a carboxyl group, and the like can be mentioned.

上述のウレタン(メタ)アクリレート化合物は、公知の方法で合成することができる。また、市販品として入手することも可能である。
合成方法の一例としては、例えば、アルコール、ポリオール、および/またはヒドロキシル基含有(メタ)アクリレート等のヒドロキシ基含有化合物とイソシアネートとを反応させる方法が挙げられる。また、必要に応じて、上述の反応によって得られたウレタン化合物を(メタ)アクリル酸でエステル化する方法を挙げることができる。なお、(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸とメタクリル酸を包含する意味で用いるものとする。
The urethane (meth)acrylate compound described above can be synthesized by a known method. Moreover, it is also possible to obtain as a commercial item.
An example of the synthesis method includes, for example, a method of reacting an alcohol, a polyol, and/or a hydroxyl group-containing compound such as a hydroxyl group-containing (meth)acrylate with an isocyanate. Moreover, the method of esterifying the urethane compound obtained by the above-mentioned reaction with (meth)acrylic acid can be mentioned as needed. In addition, (meth)acrylic acid shall be used in the meaning including acrylic acid and methacrylic acid.

上述のイソシアネートとしては、例えば、芳香族系、脂肪族系、および、脂環式系等のポリイソシアネートが挙げられ、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、水添化ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリフェニルメタンポリイソシアネート、変性ジフェニルメタンジイソシアネート、水添化キシリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート、1,3-ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、フェニレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、リジントリイソシアネート、および、ナフタレンジイソシアネート等が挙げられる。これらは1種でもよく2種以上を併用してもよい。 Examples of the above-mentioned isocyanates include aromatic, aliphatic, and alicyclic polyisocyanates such as tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, polyphenylmethane polyisocyanate, modified diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, tetramethylxylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, norbornene diisocyanate, 1,3-bis(isocyanatomethyl)cyclohexane, phenylene diisocyanate, lysine diisocyanate, lysine triisocyanate, naphthalene diisocyanate, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

上述のヒドロキシ基含有(メタ)アクリレートとしては、例えば、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-ヒドロキシブチルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェート、2-アクリロイロキシエチル-2-ヒドロキシプロピルフタレート、グリセリンジアクリレート、2-ヒドロキシ-3-アクリロイロキシプロピルアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、カプロラクトン変性2-ヒドロキシエチルアクリレート、および、シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート等が挙げられる。これらは1種でもよく2種以上を併用してもよい。 Examples of the above-mentioned hydroxy group-containing (meth)acrylates include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxyethyl acryloyl phosphate, 2-acryloyloxy Ethyl-2-hydroxypropyl phthalate, glycerin diacrylate, 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl acrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, caprolactone-modified 2-hydroxyethyl acrylate, and cyclohexanedimethanol monoacrylate etc. These may be used alone or in combination of two or more.

ウレタン(メタ)アクリレート化合物の市販品としては、下記のものに限定されるものではないが、例えば、共栄社化学社製UA-306H、UA-306I、UA-306T、UA-510H、UF-8001G、UA-101I、UA-101T、AT-600、AH-600、AI-600、新中村化学社製U-4HA、U-6HA、U-6LPA、UA-32P、U-15HA、UA-1100H、日本合成化学工業社製紫光UV-1400B、同UV-1700B、同UV-6300B、同UV-7550B、同UV-7600B、同UV-7605B、同UV-7610B、同UV-7620EA、同UV-7630B、同UV-7640B、同UV-6630B、同UV-7000B、同UV-7510B、同UV-7461TE、同UV-3000B、同UV-3200B、同UV-3210EA、同UV-3310EA、同UV-3310B、同UV-3500BA、同UV-3520TL、同UV-3700B、同UV-6100B、同UV-6640B、同UV-2000B、同UV-2010B、同UV-2250EAを挙げることができる。また、日本合成化学工業社製紫光UV-2750B、共栄社化学社製UL-503LN、大日本インキ化学工業社製ユニディック17-806、同17-813、同V-4030、同V-4000BA、ダイセルUCB社製EB-1290K、トクシキ製ハイコープAU-2010、同AU-2020等も挙げられる。
6官能以上のウレタン(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、根上工業(株)製のアートレジンUN-3320HA、アートレジンUN-3320HC、アートレジンUN-3320HS、アートレジンUN-904、日本合成化学(株)製の紫光UV-1700B、紫光UV-7605B、紫光UV-7610B、紫光UV-7630B、紫光UV-7640B、新中村化学工業(株)製のNKオリゴU-6PA、NKオリゴU-10HA、NKオリゴU-10PA、NKオリゴU-1100H、NKオリゴU-15HA、NKオリゴU-53H、NKオリゴU-33H、ダイセル・サイテック(株)製のKRM8452、EBECRYL1290、KRM8200、EBECRYL5129、KRM8904、日本化薬(株)製のUX-5000等を挙げることができる。
また、2~3官能のウレタン(メタ)アクリレート化合物としては、Nagase(株)製のナトコUV自己治癒、DIC株式会社製のEXP DX‐40等も挙げることができる。
Examples of commercially available urethane (meth)acrylate compounds include, but are not limited to the following, UA-306H, UA-306I, UA-306T, UA-510H, UF-8001G manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., UA-101I, UA-101T, AT-600, AH-600, AI-600, Shin-Nakamura Chemical U-4HA, U-6HA, U-6LPA, UA-32P, U-15HA, UA-1100H, Japan Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. Shiko UV-1400B, UV-1700B, UV-6300B, UV-7550B, UV-7600B, UV-7605B, UV-7610B, UV-7620EA, UV-7630B, Same UV-7640B, Same UV-6630B, Same UV-7000B, Same UV-7510B, Same UV-7461TE, Same UV-3000B, Same UV-3200B, Same UV-3210EA, Same UV-3310EA, Same UV-3310B, The same UV-3500BA, the same UV-3520TL, the same UV-3700B, the same UV-6100B, the same UV-6640B, the same UV-2000B, the same UV-2010B, and the same UV-2250EA can be mentioned. In addition, Shiko UV-2750B manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., UL-503LN manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., Unidic 17-806, 17-813, V-4030, V-4000BA manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Daicel EB-1290K manufactured by UCB, Hi-Corp AU-2010 and AU-2020 manufactured by Tokushiki are also included.
Hexafunctional or higher urethane (meth)acrylate compounds include, for example, Artresin UN-3320HA, Artresin UN-3320HC, Artresin UN-3320HS, Artresin UN-904, Nippon Synthetic Chemical ( Ltd. manufactured by Shikou UV-1700B, Shikou UV-7605B, Shikoh UV-7610B, Shikoh UV-7630B, Shikou UV-7640B, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. NK Oligo U-6PA, NK Oligo U-10HA, NK oligo U-10PA, NK oligo U-1100H, NK oligo U-15HA, NK oligo U-53H, NK oligo U-33H, Daicel Cytec Co., Ltd. KRM8452, EBECRYL1290, KRM8200, EBECRYL5129, KRM8904, Nippon Kayaku UX-5000 manufactured by Yaku Co., Ltd. and the like can be mentioned.
Examples of di- or tri-functional urethane (meth)acrylate compounds include Natoco UV Self-Healing manufactured by Nagase Co., Ltd., EXP DX-40 manufactured by DIC Corporation, and the like.

上述のウレタン(メタ)アクリレート化合物の分子量(重量平均分子量Mw)は、300~10,000の範囲が好ましい。分子量がこの範囲であれば、柔軟性に優れ、且つ、表面硬度に優れた透明絶縁層を得ることができる。 The molecular weight (weight average molecular weight Mw) of the urethane (meth)acrylate compound described above is preferably in the range of 300 to 10,000. If the molecular weight is within this range, a transparent insulating layer with excellent flexibility and surface hardness can be obtained.

また、エポキシ(メタ)アクリレート化合物としては、ポリグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸との付加反応により得られるものをいい、分子内に(メタ)アクリロイル基を少なくとも2個有している場合が多い。 Further, the epoxy (meth)acrylate compound refers to those obtained by an addition reaction between polyglycidyl ether and (meth)acrylic acid, and often has at least two (meth)acryloyl groups in the molecule. .

透明絶縁層形成用組成物中におけるウレタン(メタ)アクリレート化合物およびエポキシ(メタ)アクリレート化合物の合計含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、透明絶縁層形成用組成物中の全固形分に対して、10~70質量%が好ましく、30~65質量%がより好ましい。 The total content of the urethane (meth)acrylate compound and the epoxy (meth)acrylate compound in the composition for forming a transparent insulating layer is not particularly limited, but the effect of the present invention is more excellent. 10 to 70% by mass, more preferably 30 to 65% by mass, based on the total solid content.

透明絶縁層形成用組成物には、さらに、単官能モノマーが含まれていてもよく、単官能(メタ)アクリレートが含まれていることが好ましい。単官能モノマーは、透明絶縁層中での架橋密度を制御するための希釈モノマーとして機能する。
単官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、ブチル(メタ)アクリレート、アミル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ヘキサデシル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート等の長鎖アルキル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシエチルテトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性テトラフルフリル(メタ)アクリレート、イソボニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニロキシエチル(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシルカルビトール(メタ)アクリレート等の環状構造を有する(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2-(メタ)アクリロイロキシエチルアシッドホスフェート、および、ジエチエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、イソミリスチル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、および、(メタ)アクリル酸と多価アルコールとのエステル等が挙げられる。
The composition for forming a transparent insulating layer may further contain a monofunctional monomer, and preferably contains a monofunctional (meth)acrylate. A monofunctional monomer functions as a diluent monomer for controlling the crosslink density in the transparent insulating layer.
Monofunctional (meth)acrylates include, for example, butyl (meth)acrylate, amyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, octyl (meth)acrylate, nonyl (meth)acrylate, dodecyl (meth)acrylate, lauryl Long-chain alkyl (meth)acrylates such as (meth)acrylate, hexadecyl (meth)acrylate, octadecyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, phenoxyethyl (meth)acrylate, nonylphenoxyethyl (meth)acrylate ) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, nonylphenoxyethyl tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, caprolactone-modified tetrafurfuryl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, dicyclopentanyl (meth)acrylate, dicyclopentenyl (Meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, ethylene oxide-modified nonylphenol (meth) acrylate, propylene oxide-modified nonylphenol (meth) acrylate, 2-ethylhexylcarbitol (meth) acrylate, etc. having a cyclic structure ( meth)acrylate, glycidyl (meth)acrylate, methoxyethyl (meth)acrylate, butoxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl (Meth)acrylate, dimethylaminoethyl (meth)acrylate, 2-(meth)acryloyloxyethyl acid phosphate, and diethylaminoethyl (meth)acrylate, isomyristyl (meth)acrylate, isostearyl (meth)acrylate , 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, and esters of (meth)acrylic acid and polyhydric alcohols.

透明絶縁層形成用組成物中における単官能モノマーの含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、透明絶縁層形成用組成物中の全固形分に対して、0~40質量%が好ましく、0~20質量%がより好ましい。 Although the content of the monofunctional monomer in the composition for forming a transparent insulating layer is not particularly limited, it is 0 to 40 based on the total solid content in the composition for forming a transparent insulating layer, in that the effect of the present invention is more excellent. % by mass is preferred, and 0 to 20% by mass is more preferred.

透明絶縁層形成用組成物には、さらに、重合開始剤が含まれていてもよい。重合開始剤は、光重合開始剤および熱重合開始剤のいずれでもよいが、光重合開始剤であることが好ましい。
光重合開始剤の種類は特に制限されず、公知の光重合開始剤(ラジカル光重合開始剤、カチオン光重合開始剤)を使用できる。例えば、アセトフェノン、2、2-ジエトキシアセトフェノン、p-ジメチルアセトフェノン、p-ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、2-クロロベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、1-シクロヘキシルフェニルケトン、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オン、1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)-フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、オリゴ(2-ヒドロキシ-2-メチル-1-(4-(1-メチルビニル)フェニル)プロパノン)、2-ヒドロキシ-1-{4-[4-(2-ヒドロキシ-2-メチル-プロピオニル)-ベンジル]-フェニル}-2-メチル-プロパン-1-オン、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)-ブタノン-1、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルホスフィンオキサイド、2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-ホスフィンオキサイド、ビス(2,6-ジメトキシベンゾイル)-2,4,4-トリメチル-ペンチルホスフィンオキサイド、エチル-(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フェニルフォスフィネート、1,2-オクタンジオン,1-[4-(フェニルチオ)-,2-(O-ベンゾイルオキシム)]、メチルベンゾイルホルメート、4-メチルベンゾフェノン、4-フェニルベンソフェノン、2,4,6-トリメチルベンゾフェノン、4-ベンゾイル-4’-メチルジフェニルスルフィド、1-[4-(4-ベンゾイルフェニルスルファニル)フェニル]-2-メチル-2-(4-メチルフェニルスルホニル)プロパン-1-オン等のカルボニル化合物、および、チオキサントン、2-クロロチオキサントン、2-メチルチオキサントン、テトラメチルチウラムジスルフィド等の硫黄化合物等が挙げられる。重合開始剤は、1種を単独で、または、2種以上を組み合わせて使用できる。
The composition for forming a transparent insulating layer may further contain a polymerization initiator. The polymerization initiator may be either a photopolymerization initiator or a thermal polymerization initiator, but is preferably a photopolymerization initiator.
The type of photopolymerization initiator is not particularly limited, and known photopolymerization initiators (radical photopolymerization initiator, cationic photopolymerization initiator) can be used. For example, acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, 2, 2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, 1-cyclohexylphenylketone, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenylketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 1- [4-(2-hydroxyethoxy)-phenyl]-2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, oligo(2-hydroxy-2-methyl-1-(4-(1-methylvinyl) phenyl)propanone), 2-hydroxy-1-{4-[4-(2-hydroxy-2-methyl-propionyl)-benzyl]-phenyl}-2-methyl-propan-1-one, 2-methyl-1 -[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butanone-1, bis(2,4,6 -trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, bis(2,6-dimethoxybenzoyl)-2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide, ethyl-(2, 4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphinate, 1,2-octanedione, 1-[4-(phenylthio)-,2-(O-benzoyloxime)], methylbenzoylformate, 4-methylbenzophenone, 4 -phenylbenzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenylsulfide, 1-[4-(4-benzoylphenylsulfanyl)phenyl]-2-methyl-2-(4- carbonyl compounds such as methylphenylsulfonyl)propan-1-one; and sulfur compounds such as thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone and tetramethylthiuram disulfide. A polymerization initiator can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

透明絶縁層形成用組成物中、重合開始剤の含有量は特に制限されないが、硬化性の点から、透明絶縁層形成用組成物中の全固形分に対して、0.1~10質量%であることが好ましく、2~5質量%であることがより好ましい。なお、重合開始剤が2種以上使用される場合は、重合開始剤の総含有量が上述の範囲にあることが好ましい。 The content of the polymerization initiator in the composition for forming a transparent insulating layer is not particularly limited, but from the viewpoint of curability, it is 0.1 to 10% by mass based on the total solid content in the composition for forming a transparent insulating layer. and more preferably 2 to 5% by mass. When two or more polymerization initiators are used, the total content of the polymerization initiators is preferably within the above range.

透明絶縁層形成用組成物には、上述以外にも、前述の金属安定化剤、レベリング剤、表面潤滑剤、酸化防止剤、腐食防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤、シランカップリング剤、無機もしくは有機の充填剤、金属粉、顔料等の粉体、粒子状、または、箔状物等の従来公知の各種の添加剤を使用する用途に応じて適宜添加することができる。それらの詳細については、例えば、特開2012-229412号公報の段落0032~0034を参照できる。ただしこれらに限らず、光重合性組成物に一般に使用され得る各種添加剤を用いることができる。また、透明絶縁層形成用組成物への添加剤の添加量は適宜調整すればよく、特に限定されるものではない。
レベリング剤としては、透明絶縁層形成用組成物の塗布対象への濡れ性付与作用、表面張力の低下作用を有するものであれば、公知のレベリング剤を用いることができる。例えば、シリコーン変性樹脂、フッ素変性樹脂、および、アルキル変性樹脂等が挙げられる。
In addition to the above, the composition for forming a transparent insulating layer may contain the above-mentioned metal stabilizer, leveling agent, surface lubricant, antioxidant, corrosion inhibitor, light stabilizer, ultraviolet absorber, polymerization inhibitor, silane Various conventionally known additives such as coupling agents, inorganic or organic fillers, metal powders, powders such as pigments, particulates, or foils can be appropriately added depending on the application. . For details thereof, for example, paragraphs 0032 to 0034 of JP-A-2012-229412 can be referred to. However, not limited to these, various additives generally used in photopolymerizable compositions can be used. Moreover, the amount of additive added to the composition for forming a transparent insulating layer may be appropriately adjusted, and is not particularly limited.
As the leveling agent, any known leveling agent can be used as long as it has an effect of imparting wettability to an object to which the composition for forming a transparent insulating layer is applied and an effect of lowering surface tension. Examples include silicone-modified resins, fluorine-modified resins, and alkyl-modified resins.

なお、透明絶縁層形成用組成物は、取扱い性の点から溶剤を含んでいてもよいが、VOC(揮発性有機化合物)抑制の観点およびタクトタイムの低減の観点から、無溶剤系とすることが好ましい。
なお、透明絶縁層形成用組成物が溶剤を含有する場合、使用できる溶剤は特に限定されず、例えば、水および有機溶剤が挙げられる。
Although the composition for forming a transparent insulating layer may contain a solvent from the viewpoint of handling, it should be solvent-free from the viewpoint of suppressing VOCs (volatile organic compounds) and reducing the tact time. is preferred.
In addition, when the composition for forming a transparent insulating layer contains a solvent, the solvent that can be used is not particularly limited, and examples thereof include water and organic solvents.

なお、導電性フィルムは、取り扱い時、および搬送時においては、導電性フィルムと、粘着シートと、剥離シートとをこの順で有する積層体の形態で用いられてもよい。剥離シートは、タッチパネル積層体を搬送時に、導電性フィルムに傷等がつくことを防止するための保護シートとして機能する。このような態様であれば、導電性フィルムの使用時において剥離シートを剥がして、導電性フィルムを所定の位置に貼り付けて用いることができる。
また、導電性フィルムは、例えば、導電性フィルム、粘着シート、および保護層をこの順で有する複合体の形態で取り扱われてもよい。このような態様でも、導電性フィルムに傷等がつくことを防止することができる。
The conductive film may be used in the form of a laminate having a conductive film, an adhesive sheet, and a release sheet in this order during handling and transportation. The release sheet functions as a protective sheet for preventing the conductive film from being damaged during transportation of the touch panel laminate. In such a mode, when using the conductive film, the release sheet can be peeled off and the conductive film can be used by sticking it to a predetermined position.
Also, the conductive film may be handled in the form of a composite having, for example, a conductive film, an adhesive sheet, and a protective layer in this order. Even in such a mode, it is possible to prevent the conductive film from being scratched or the like.

<絶縁膜>
導電性フィルムの取出し配線部の少なくとも一部を覆う絶縁膜を有することが好ましい。
絶縁膜は特に制限されないが、UV(Ultra Violet)硬化性絶縁樹脂を塗布してUV光によって硬化したもの、熱硬化性絶縁樹脂を塗布して熱によって硬化したものが好ましく、特に、UV硬化性絶縁樹脂を塗布してUV光によって硬化したものが好ましい。絶縁膜の幅は、取出し配線部22を十分に覆う幅であることが好ましい。上限は特に制限されないが、1cm以下であることが好ましく、6mm以下であることがより好ましい。絶縁膜の厚みは、3~30μmであることが好ましく、5~20μmであることがより好ましく、7~15μmであることがさらに好ましい。
<Insulating film>
It is preferable to have an insulating film covering at least a part of the extraction wiring portion of the conductive film.
The insulating film is not particularly limited, but is preferably a UV (Ultra Violet) curable insulating resin applied and cured by UV light, or a thermosetting insulating resin applied and cured by heat, particularly UV curable. Preferably, an insulating resin is applied and cured by UV light. The width of the insulating film is preferably a width sufficient to cover the extraction wiring portion 22 . Although the upper limit is not particularly limited, it is preferably 1 cm or less, more preferably 6 mm or less. The thickness of the insulating film is preferably 3 to 30 μm, more preferably 5 to 20 μm, even more preferably 7 to 15 μm.

<突出部>
突出部は、上述のように取出し配線部と絶縁膜とにより構成されるものである。
突出部の幅は絶縁膜の幅と同じであり、取出し配線部22を十分に覆う幅であることが好ましく、上限は特に制限されないが、例えば、1cm以下であり、6mm以下であることがより好ましい。
突出部の厚みは3~30μmであることが好ましく、5~20μmであることがより好ましく、7~15μmであることがさらに好ましい。
<Protrusion>
The projecting portion is composed of the extraction wiring portion and the insulating film as described above.
The width of the protruding portion is the same as the width of the insulating film, and is preferably a width that sufficiently covers the extraction wiring portion 22. Although the upper limit is not particularly limited, it is, for example, 1 cm or less, and more preferably 6 mm or less. preferable.
The thickness of the protrusion is preferably 3 to 30 μm, more preferably 5 to 20 μm, even more preferably 7 to 15 μm.

<保護膜>
保護膜は、電気を絶縁する材料であれば、特に限定されるものではない。保護膜は、第1の透明絶縁層および第2の透明絶縁層はと同様に、ガスクロマトグラフィー法を用いた硫黄ガス(硫化水素ガス)のガス透過性が10-2g/m/day以下である材料により構成することが好ましい。この場合、保護膜は、導電性フィルムの導電層の硫化を抑制することができる。保護膜36により、検出部20の入力領域Eにおける硫化、すなわち、アクティブエリアにおける硫化が抑制され、アクティブエリアの経時による抵抗変化が抑制される。
例えば、保護膜は、電気的な絶縁性を有する粘着テープで構成される。
保護膜は、エポキシ変性アクリル樹脂、ポリイミド、シリコーン、Al、SiONまたはウレタン樹脂で構成されることが好ましい。
また、保護膜の厚みは30nm以上200μm以下であることが好ましい。保護膜の厚みが30nm以下では、上述の硫化の抑制の効果が得られにくい。一方、保護膜の厚みが200μmを超えると保護膜が厚くなりすぎ、保護膜の形成に多くの時間がかかったり、貼り付ける場合には折曲部への追従性が悪かったり、保護膜が脆い材質の場合には割れが生じるおそれがある。
保護膜の形成方法は、折曲部全面に保護膜を形成することができる方法であれば、特に限定されるものではなく、貼り付け法、スパッタ法、蒸着法、スプレー塗布法、塗布法、およびディスペンサー法等を利用することができる。貼り付け法は、ポリイミドテープ等の電気絶縁性を有するテープを貼り付けることにより、保護膜を形成する方法である。
なお、上述の絶縁膜は、上述の保護膜と同じ構成とすることもできる。
<Protective film>
The protective film is not particularly limited as long as it is an electrically insulating material. As with the first transparent insulating layer and the second transparent insulating layer, the protective film has a gas permeability of sulfur gas (hydrogen sulfide gas) of 10 −2 g/m 2 /day using a gas chromatography method. It is preferable to use the following materials. In this case, the protective film can suppress sulfurization of the conductive layer of the conductive film. The protective film 36 suppresses sulfurization in the input region E1 of the detection unit 20, that is, sulfurization in the active area, and suppresses resistance change over time in the active area.
For example, the protective film is composed of an electrically insulating adhesive tape.
The protective film is preferably composed of epoxy-modified acrylic resin, polyimide, silicone, Al 2 O 3 , SiON, or urethane resin.
Moreover, the thickness of the protective film is preferably 30 nm or more and 200 μm or less. If the thickness of the protective film is 30 nm or less, it is difficult to obtain the above-described effect of suppressing sulfurization. On the other hand, when the thickness of the protective film exceeds 200 μm, the protective film becomes too thick, and it takes a long time to form the protective film, and when pasted, the followability to the bent portion is poor, and the protective film is fragile. In the case of materials, cracks may occur.
The method of forming the protective film is not particularly limited as long as it is a method capable of forming the protective film on the entire surface of the bent portion. and dispenser method, etc. can be used. The attaching method is a method of forming a protective film by attaching an electrically insulating tape such as a polyimide tape.
Note that the insulating film described above may have the same structure as the protective film described above.

(タッチパネルの製造方法)
図1に示すタッチパネル10の製造方法では、例えば、図1に示す画像表示部14と、第1の透明絶縁層15と、導電性フィルム12と、第2の透明絶縁層17と、カバー部16とを、この順で積層方向Dtに積層する。このとき、導電性フィルム12は、第1の透明絶縁層15および第2の透明絶縁層17から、第1の取出し配線領域B(図2参照)、第2の取出し配線領域B(図2参照)、および第3の取出し配線領域B(図2参照)が突出した状態である。第1の取出し配線領域B(図2参照)、第2の取出し配線領域B(図2参照)、および第3の取出し配線領域B(図2参照)が折り曲げられて折曲部27となる。
なお、第1の透明絶縁層15と、導電性フィルム12と、第2の透明絶縁層17と、カバー部16とが積層された状態のものをタッチパネル用積層体という。
次に、導電性フィルム12、すなわち、可撓性基材25を第1の折曲位置Bf、第2の折曲位置Bf、および第3の折曲位置Bfで折り曲げて、第1の取出し配線領域B(図2参照)、第2の取出し配線領域B(図2参照)、および第3の取出し配線領域B(図2参照)を画像表示部14の裏面14b側に折り曲げ、画像表示部14の裏面14b側に配置された、取出し配線部22の外部接続端子26と、フレキシブル回路基板19とを電気的に接続する。このとき、重畳領域Dεにおいて、可撓性基材25の周縁部21の同じ面に形成された取出し線23同士が対向することがない。
(Manufacturing method of touch panel)
In the method for manufacturing the touch panel 10 shown in FIG. 1, for example, the image display portion 14 shown in FIG. are stacked in this order in the stacking direction Dt. At this time, the conductive film 12 is separated from the first transparent insulating layer 15 and the second transparent insulating layer 17 into the first lead-out wiring region B 1 (see FIG. 2) and the second lead-out wiring region B 2 (see FIG. 2). 2) and the third extraction wiring region B 3 (see FIG. 2) protrude. The first lead-out wiring region B 1 (see FIG. 2), the second lead-out wiring region B 2 (see FIG. 2), and the third lead-out wiring region B 3 (see FIG. 2) are bent to form a bent portion 27 . becomes.
In addition, a state in which the first transparent insulating layer 15, the conductive film 12, the second transparent insulating layer 17, and the cover portion 16 are laminated is called a touch panel laminate.
Next, the conductive film 12, that is, the flexible base material 25 is bent at a first bending position Bf 1 , a second bending position Bf 2 and a third bending position Bf 3 to form a first bending position. , a second extraction wiring region B 2 (see FIG . 2), and a third extraction wiring region B 3 ( see FIG. 2) are arranged on the rear surface 14b side of the image display unit 14. By bending, the flexible circuit board 19 is electrically connected to the external connection terminals 26 of the extraction wiring section 22 arranged on the back surface 14 b side of the image display section 14 . At this time, the extraction lines 23 formed on the same surface of the peripheral portion 21 of the flexible base material 25 do not face each other in the overlapping region Dε.

次に、タッチパネル用積層体に対して、導電性フィルム12の折曲部27、および第2の透明絶縁層17の側面17cに保護膜36を形成する。保護膜36は、上述のように端部36aがカバー部16の加飾層18の表面に達してもよい。保護膜36は、上述のように末端36cが画像表示部14の裏面14bに接触していることが好ましい。 Next, a protective film 36 is formed on the bent portion 27 of the conductive film 12 and the side surface 17c of the second transparent insulating layer 17 for the touch panel laminate. The end portion 36a of the protective film 36 may reach the surface of the decorative layer 18 of the cover portion 16 as described above. The end 36c of the protective film 36 is preferably in contact with the rear surface 14b of the image display section 14 as described above.

そして、フレキシブル回路基板19とコントローラー13(図1参照)とを電気的に接続し、コントローラー13を画像表示部14の裏面14bに配置する。
なお、コントローラー13は、保護膜36を形成する前に画像表示部14の裏面14bに配置してもよい。
次に、図1に示す、内部40aに緩衝材44が配置された筐体40を用意する、
次に、保護膜36が形成されたタッチパネル用積層体のカバー部16の裏面16bに、筐体40の側板42を貼合する。これにより、図1に示すタッチパネル10を得ることができる。貼合方法は、特に限定されるものではなく、例えば、接着剤を用いて貼合することができる。
Then, the flexible circuit board 19 and the controller 13 (see FIG. 1) are electrically connected, and the controller 13 is arranged on the rear surface 14b of the image display section 14. FIG.
Note that the controller 13 may be arranged on the rear surface 14b of the image display section 14 before the protective film 36 is formed.
Next, prepare a housing 40 in which a cushioning material 44 is arranged in the interior 40a,
Next, the side plate 42 of the housing 40 is attached to the rear surface 16b of the cover portion 16 of the laminate for touch panel on which the protective film 36 is formed. Thereby, the touch panel 10 shown in FIG. 1 can be obtained. The lamination method is not particularly limited, and for example, lamination can be performed using an adhesive.

なお、保護膜36は、タッチパネル用積層体に対して、上述のように、例えば、電気的な絶縁性を有する粘着テープを、折曲部27および第2の透明絶縁層17の側面17cに貼り付ける貼り付け法により形成する。
また、タッチパネル用積層体に対して、例えば、スプレー塗布法またはディスペンサー法を用いて、折曲部27および第2の透明絶縁層17の側面17cに、電気的な絶縁性を有する物質を塗布し、塗膜を形成して保護膜36を形成することもできる。
また、タッチパネル用積層体に対して、例えば、スパッタ法または蒸着法を用いて、折曲部27および第2の透明絶縁層17の側面17cに、電気的な絶縁性を有する物質を堆積させて、保護膜36を形成することもできる。
タッチパネル10の額縁部Dfの幅は、タッチパネル用積層体に用いる基材および各層の厚みにもよるが、1.5mm以下の幅とすることができる。タッチパネル10の額縁部Dfの幅は、好ましくは、0.5mm以上1.5mm以下である。
As described above, the protective film 36 is formed by attaching an adhesive tape having electrical insulation to the bent portion 27 and the side surface 17c of the second transparent insulating layer 17, as described above. It is formed by the affixing method.
In addition, for the touch panel laminate, a substance having electrical insulation is applied to the bent portion 27 and the side surface 17c of the second transparent insulating layer 17 using, for example, a spray coating method or a dispenser method. Alternatively, the protective film 36 may be formed by forming a coating film.
In addition, a substance having electrical insulation is deposited on the side surface 17c of the bent portion 27 and the second transparent insulating layer 17 by, for example, a sputtering method or a vapor deposition method with respect to the touch panel laminate. , a protective film 36 can also be formed.
The width of the frame portion Df of the touch panel 10 can be set to a width of 1.5 mm or less, depending on the thickness of each layer and the substrate used in the laminate for touch panel. The width of the frame portion Df of the touch panel 10 is preferably 0.5 mm or more and 1.5 mm or less.

本発明は、基本的に以上のように構成されるものである。以上、本発明のタッチパネルおよび導電性フィルムについて詳細に説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良または変更をしてもよいのはもちろんであり、タッチパネルは折曲部がない構成でもよい。 The present invention is basically configured as described above. Although the touch panel and the conductive film of the present invention have been described in detail above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various improvements and modifications may be made without departing from the gist of the present invention. Of course, the touch panel may be configured without a bent portion.

以下に実施例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、および、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の実施例に限定されるものではない。
第1の実施例では、実施例1~17および比較例1のタッチパネルを作製した。各タッチパネルについて、以下に示す時定数を測定し、応答速度を評価した。その結果を下記表1に示す。
The features of the present invention will be described more specifically with reference to examples below. Materials, reagents, amounts and ratios of substances, operations, etc. shown in the following examples can be changed as appropriate without departing from the gist of the present invention. Accordingly, the scope of the invention is not limited to the following examples.
In the first example, the touch panels of Examples 1 to 17 and Comparative Example 1 were produced. For each touch panel, the time constant shown below was measured to evaluate the response speed. The results are shown in Table 1 below.

〔評価〕
(応答速度)
応答速度については、導電性フィルムと筺体とを貼合したタッチパネルにおいて、導電性フィルムの電圧印加に対する時定数(応答速度)を測定した。
時定数(応答速度)はτ=R(抵抗)×C(容量値)で決まるため、回路内の容量が増加すれば時定数が大きくなり、応答速度が遅くなる。
時定数については、折り曲げ前後の導電性フィルムに対して、矩形波5Vを印加した状態で発生する電流をオシロスコープで測定し、矩形波が0から100%まで立ち上がる時の時間を求め、この時間を時定数とした。
得られた時定数に基づき、以下に示す評価基準にて応答速度を評価した。評価結果を下記表1に示す。
(評価基準)
折り曲げる前の状態の時定数τbを1として、折り曲げた状態の時定数τaとの比(τa/τb)で評価した。
A:折り曲げる前の状態の時定数を1として、折り曲げた状態での時定数が1.2未満の場合、すなわち、τa/τb<1.2
B:折り曲げる前の状態の時定数を1として、折り曲げた状態での時定数が1.2~1.5の場合、すなわち、1.2≦τa/τb≦1.5
C:折り曲げる前の状態の時定数を1として、折り曲げた状態での時定数が1.5超1.8以下の場合、すなわち、1.5<τa/τb≦1.8
D:折り曲げる前の状態の時定数を1として、折り曲げた状態での時定数が1.8より大きい場合、すなわち、1.8<τa/τb
〔evaluation〕
(response speed)
Regarding the response speed, the time constant (response speed) of the conductive film to voltage application was measured in a touch panel in which the conductive film and the housing were bonded together.
Since the time constant (response speed) is determined by τ=R (resistance)×C (capacitance value), an increase in the capacitance in the circuit increases the time constant and slows down the response speed.
Regarding the time constant, the current generated by applying a rectangular wave of 5 V to the conductive film before and after bending was measured with an oscilloscope, and the time required for the rectangular wave to rise from 0 to 100% was obtained. time constant.
Based on the obtained time constant, the response speed was evaluated according to the evaluation criteria shown below. The evaluation results are shown in Table 1 below.
(Evaluation criteria)
Assuming that the time constant τb in the state before bending is 1, the evaluation was performed by the ratio (τa/τb) to the time constant τa in the bent state.
A: When the time constant in the state before bending is 1 and the time constant in the bent state is less than 1.2, that is, τa/τb < 1.2
B: When the time constant in the state before bending is 1 and the time constant in the bent state is 1.2 to 1.5, that is, 1.2 ≤ τa / τb ≤ 1.5
C: When the time constant in the state before bending is 1 and the time constant in the bent state is more than 1.5 and 1.8 or less, that is, 1.5 < τa / τb ≤ 1.8
D: When the time constant in the state before bending is 1 and the time constant in the bent state is greater than 1.8, that is, 1.8 < τa / τb

以下、実施例1~17および比較例1について説明する。
〔実施例1〕
<タッチパネル用積層体の作製>
(ハロゲン化銀乳剤の調製)
38℃、pH4.5に保たれた下記1液に、下記の2液および3液の各々90%に相当する量を攪拌しながら同時に20分間にわたって加え、0.16μmの核粒子を形成した。続いて下記4液および5液を8分間にわたって加え、更に、下記の2液および3液の残りの10%の量を2分間にわたって加え、0.21μmまで成長させた。更に、ヨウ化カリウム0.15gを加え、5分間熟成し粒子形成を終了した。
Examples 1 to 17 and Comparative Example 1 are described below.
[Example 1]
<Preparation of laminate for touch panel>
(Preparation of silver halide emulsion)
To liquid 1 below maintained at 38° C. and pH 4.5, 90% of each of liquids 2 and 3 below was added simultaneously with stirring over 20 minutes to form core particles of 0.16 μm. Subsequently, Liquids 4 and 5 below were added over 8 minutes, and the remaining 10% of Liquids 2 and 3 below were added over 2 minutes to grow to 0.21 μm. Further, 0.15 g of potassium iodide was added and ripened for 5 minutes to complete grain formation.

1液:
水 750ml
ゼラチン 8.6g
塩化ナトリウム 3g
1,3-ジメチルイミダゾリジン-2-チオン 20mg
ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム 10mg
クエン酸 0.7g
2液:
水 300ml
硝酸銀 150g
3液:
水 300ml
塩化ナトリウム 38g
臭化カリウム 32g
ヘキサクロロイリジウム(III)酸カリウム
(0.005%KCl 20%水溶液) 5ml
ヘキサクロロロジウム酸アンモニウム
(0.001%NaCl 20%水溶液) 7ml
4液:
水 100ml
硝酸銀 50g
5液:
水 100ml
塩化ナトリウム 13g
臭化カリウム 11g
黄血塩 5mg
Liquid 1:
750 ml of water
8.6g gelatin
3 g of sodium chloride
1,3-dimethylimidazolidine-2-thione 20 mg
Sodium benzenethiosulfonate 10mg
0.7 g of citric acid
Two liquids:
300ml water
150g of silver nitrate
3 fluids:
300ml water
38g sodium chloride
Potassium bromide 32g
Potassium hexachloroiridate (III) (0.005% KCl 20% aqueous solution) 5 ml
Ammonium hexachlororhodate
(0.001% NaCl 20% aqueous solution) 7 ml
4 fluids:
100ml water
50g silver nitrate
5 fluids:
100ml water
13 g sodium chloride
Potassium bromide 11g
yellow blood salt 5mg

その後、常法にしたがってフロキュレーション法によって水洗した。具体的には、温度を35℃に下げ、硫酸を用いてハロゲン化銀が沈降するまでpHを下げた(pH3.6±0.2の範囲であった)。次に、上澄み液を約3リットル除去した(第一水洗)。更に3リットルの蒸留水を加えてから、ハロゲン化銀が沈降するまで硫酸を加えた。再度、上澄み液を3リットル除去した(第二水洗)。第二水洗と同じ操作を更に1回繰り返して(第三水洗)、水洗・脱塩工程を終了した。水洗・脱塩後の乳剤をpH6.4、pAg7.5に調整し、ゼラチン2.5g、ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム10mg、ベンゼンチオスルフィン酸ナトリウム3mg、チオ硫酸ナトリウム15mgと塩化金酸10mgを加え55℃にて最適感度を得るように化学増感を施し、安定剤として1,3,3a,7-テトラアザインデン100mg、防腐剤としてプロキセル(商品名、ICI Co.,Ltd.製)100mgを加えた。最終的に得られた乳剤は、沃化銀を0.08モル%含み、塩臭化銀の比率を塩化銀70モル%、臭化銀30モル%とする、平均粒子径0.22μm、変動係数9%のヨウ塩臭化銀立方体粒子乳剤であった。 After that, it was washed with water by a flocculation method in accordance with a conventional method. Specifically, the temperature was lowered to 35° C. and the pH was lowered with sulfuric acid until the silver halide precipitated (the pH was in the range of 3.6±0.2). Next, about 3 liters of the supernatant was removed (first water wash). An additional 3 liters of distilled water was added, followed by sulfuric acid until the silver halide precipitated. Again, 3 liters of the supernatant was removed (second water washing). The same operation as the second washing was repeated once more (third washing) to complete the washing and desalting process. After washing and desalting, the emulsion was adjusted to pH 6.4 and pAg 7.5, and 2.5 g of gelatin, 10 mg of sodium benzenethiosulfonate, 3 mg of sodium benzenethiosulfinate, 15 mg of sodium thiosulfate and 10 mg of chloroauric acid were added. 100 mg of 1,3,3a,7-tetraazaindene as a stabilizer and 100 mg of Proxel (trade name, manufactured by ICI Co., Ltd.) as a preservative were added. rice field. The finally obtained emulsion contained 0.08 mol % of silver iodide, the ratio of silver chlorobromide was 70 mol % of silver chloride and 30 mol % of silver bromide, the average grain size was 0.22 µm, and the variation was It was a silver iodochlorobromide cubic grain emulsion with a modulus of 9%.

(感光性層形成用組成物の調製)
上述の乳剤に1,3,3a,7-テトラアザインデン1.2×10-4モル/モルAg、ハイドロキノン1.2×10-2モル/モルAg、クエン酸3.0×10-4モル/モルAg、2,4-ジクロロ-6-ヒドロキシ-1,3,5-トリアジンナトリウム塩0.90g/モルAg、微量の硬膜剤を添加し、クエン酸を用いて塗布液pHを5.6に調整した。
上述の塗布液に、含有するゼラチンに対して、下記式(P-1)で表されるポリマーとジアルキルフェニルPEO硫酸エステルからなる分散剤を含有するポリマーラテックス(分散剤/ポリマーの質量比が2.0/100=0.02)とをポリマー/ゼラチン(質量比)=0.5/1になるように添加した。
さらに、架橋剤としてEPOXY RESIN DY 022(商品名:ナガセケムテックス社製)を添加した。なお、架橋剤の添加量は、後述するハロゲン化銀含有感光性層中における架橋剤の量が0.09g/m2となるように調整した。
以上のようにして感光性層形成用組成物を調製した。
なお、下記式(P-1)で表されるポリマーは、特許第3305459号および特許第3754745号を参照して合成した。
(Preparation of composition for forming photosensitive layer)
1.2×10 -4 mol/mol Ag of 1,3,3a,7-tetraazaindene, 1.2×10 -2 mol/mol Ag of hydroquinone, 3.0×10 -4 mol of citric acid were added to the above emulsion. /mole Ag, 2,4-dichloro-6-hydroxy-1,3,5-triazine sodium salt 0.90 g/mole Ag, a trace amount of hardening agent was added, and the pH of the coating solution was adjusted to 5.0 using citric acid. adjusted to 6.
A polymer latex containing a dispersant composed of a polymer represented by the following formula (P-1) and a dialkylphenyl PEO sulfate (dispersant/polymer mass ratio: 2 .0/100=0.02) was added so that the polymer/gelatin (mass ratio) was 0.5/1.
Furthermore, EPOXY RESIN DY 022 (trade name: manufactured by Nagase ChemteX Corporation) was added as a cross-linking agent. The amount of the cross-linking agent added was adjusted so that the amount of the cross-linking agent in the silver halide-containing photosensitive layer described later was 0.09 g/m 2 .
A composition for forming a photosensitive layer was prepared as described above.
The polymer represented by formula (P-1) below was synthesized with reference to Japanese Patent No. 3305459 and Japanese Patent No. 3754745.

Figure 2023085572000005
Figure 2023085572000005

(感光性層形成工程)
厚み40μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムの両面に上述のポリマーラテックスを塗布して、厚み0.05μmの下塗り層を設けた。
次に、下塗り層上に、上述のポリマーラテックスとゼラチンとを混合したハロゲン化銀不含有層形成用組成物を塗布して、厚み1.0μmのハロゲン化銀不含有層を設けた。なお、ポリマーとゼラチンとの混合質量比(ポリマー/ゼラチン)は2/1であり、ポリマーの含有量は0.65g/m2であった。
次に、ハロゲン化銀不含有層上に、上述の感光性層形成用組成物を塗布し、厚み2.5μmのハロゲン化銀含有感光性層を設けた。なお、ハロゲン化銀含有感光性層中のポリマーとゼラチンとの混合質量比(ポリマー/ゼラチン)は0.5/1であり、ポリマーの含有量は0.22g/m2であった。
次に、ハロゲン化銀含有感光性層上に、上述のポリマーラテックスとゼラチンとを混合した保護層形成用組成物を塗布して、厚み0.15μmの保護層を設けた。なお、ポリマーとゼラチンとの混合質量比(ポリマー/ゼラチン)は0.1/1であり、ポリマーの含有量は0.015g/m2であった。
(Photosensitive layer forming step)
Both sides of a 40 μm thick polyethylene terephthalate (PET) film were coated with the above polymer latex to provide a 0.05 μm thick undercoat layer.
Next, the silver halide-free layer-forming composition obtained by mixing the polymer latex and gelatin described above was coated on the undercoat layer to form a silver halide-free layer having a thickness of 1.0 μm. The mixing mass ratio of polymer and gelatin (polymer/gelatin) was 2/1, and the polymer content was 0.65 g/m 2 .
Next, the above composition for forming a photosensitive layer was applied onto the silver halide-free layer to form a silver halide-containing photosensitive layer having a thickness of 2.5 μm. The mixing mass ratio (polymer/gelatin) of the polymer and gelatin in the silver halide-containing photosensitive layer was 0.5/1, and the polymer content was 0.22 g/m 2 .
Next, a protective layer having a thickness of 0.15 μm was formed on the silver halide-containing photosensitive layer by applying the composition for forming a protective layer in which the above polymer latex and gelatin were mixed. The mixing mass ratio of polymer and gelatin (polymer/gelatin) was 0.1/1, and the polymer content was 0.015 g/m 2 .

(露光処理および現像処理)
ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムの両面に作製したそれぞれの感光性層に、図2に示す第1検出電極30とその取出し配線部22を配したパターン、および図2に示す第2検出電極32とその取出し配線部22を配したパターンを有するフォトマスクを介して高圧水銀ランプを光源とした平行光を用いて露光した。
ポリエチレンテレフタレートフィルムのそれぞれの面にメッシュ形状の第1検出電極の延びる方向と、第2検出電極の延びる方向とが両面で直交するように形成し、それぞれの検出電極から取り出した取出し配線部の取出し線が周辺領域に配置されるように形成した。第1検出電極30は片端1か所から取り出すため取出し線23が50本存在し、第2検出電極32は両端2か所から取り出すため取出し線23が50本×2の100本存在する。なお、第1検出電極の構成および第2検出電極の構成は後に説明する。露光後、下記の現像液で現像し、さらに定着液(商品名:CN16X用N3X-R:富士フイルム社製)を用いて現像処理を行った後、純水でリンスし、その後乾燥した。
(Exposure processing and development processing)
A pattern in which the first detection electrode 30 and its extraction wiring portion 22 shown in FIG. It was exposed to parallel light from a high-pressure mercury lamp as a light source through a photomask having a pattern in which the lead-out wiring portion 22 was arranged.
Formed on each surface of the polyethylene terephthalate film so that the direction in which the mesh-shaped first detection electrode extends and the direction in which the second detection electrode extends are orthogonal on both sides, and the lead-out wiring portions taken out from the respective detection electrodes are taken out. The lines were formed to be placed in the peripheral area. Since the first detection electrode 30 is taken out from one end, there are 50 take-out lines 23, and the second detection electrode 32 is taken out from two places at both ends, so there are 100 take-out lines 23 (50×2). The configuration of the first detection electrodes and the configuration of the second detection electrodes will be described later. After exposure, the film was developed with the following developer, further developed with a fixer (trade name: N3X-R for CN16X: manufactured by Fuji Film Co., Ltd.), rinsed with pure water, and then dried.

現像液の組成:
現像液1リットル(L)中に、以下の化合物が含まれる。
ハイドロキノン 0.037mol/L
N-メチルアミノフェノール 0.016mol/L
メタホウ酸ナトリウム 0.140mol/L
水酸化ナトリウム 0.360mol/L
臭化ナトリウム 0.031mol/L
メタ重亜硫酸カリウム 0.187mol/L
Composition of developer:
The following compounds are contained in 1 liter (L) of developer.
Hydroquinone 0.037mol/L
N-methylaminophenol 0.016mol/L
Sodium metaborate 0.140mol/L
Sodium hydroxide 0.360mol/L
Sodium bromide 0.031mol/L
Potassium metabisulfite 0.187mol/L

(加熱処理)
さらに、120℃の過熱蒸気槽に130秒間静置して、加熱処理を行った。
(Heat treatment)
Further, heat treatment was performed by standing in a superheated steam bath at 120° C. for 130 seconds.

(ゼラチン分解処理)
さらに、下記のとおり調製したゼラチン分解液(40℃)に120秒浸漬し、その後、温水(液温:50℃)に120秒間浸漬して洗浄した。
(Gelatin decomposition treatment)
Furthermore, it was immersed for 120 seconds in a gelatin decomposition solution (40° C.) prepared as follows, and then washed by being immersed in warm water (liquid temperature: 50° C.) for 120 seconds.

ゼラチン分解液の調製:
タンパク質分解酵素(ナガセケムテックス社製ビオプラーゼ30L)の水溶液(タンパク質分解酵素の濃度:0.5質量%)に、トリエタノールアミン、硫酸を加えてpHを8.5に調製した。
Preparation of gelatin decomposition solution:
Triethanolamine and sulfuric acid were added to an aqueous solution (concentration of protease: 0.5% by mass) of protease (Bioplase 30 L manufactured by Nagase Chemtex Co., Ltd.) to adjust the pH to 8.5.

(高分子架橋処理)
さらに、カルボジライトV-02-L2(商品名:日清紡社製)1%水溶液に30秒浸漬し、水溶液から取り出し、純水(室温)に60秒間浸漬し、洗浄した。
このようにして、PETフィルムの両面に検出電極および取出し配線部が図3に示すように形成されたフィルムAを得た。
フィルムAでは、第1検出電極については、255mm×6.2mmの第1検出電極が50本の100μm間隔で平行に並んだものであった。第2検出電極については、315mm×5mmの第2検出電極が50本の100μm間隔で平行に並んだものであった。
第1検出電極および第2検出電極は、それぞれ図13に示すような導電性細線で構成される単位正方格子のメッシュ状の層であった。導電性細線の線幅は4.0μm、導電性細線の厚みは1.0μm、導電性細線層の厚みは2.0μmであった。
最終的に得られた取出し配線部の取出し線の本数は、第1検出電極に接続された取出し線は、第1検出電極の片側の端に接続しているので、50本であった。第2検出電極に接続された取出し線は、第2検出電極の両端に接続しているので、100本であった。取出し線はいずれも線幅は20μm、引き回された取出し線間の最小間隔は20μmであった。なお、折曲位置は、第1検出電極の端、および第2検出電極の端に設定した。
表1では、第1検出電極に接続された取出し線の本数を上配線本数と記し、第2検出電極に接続された取出し線の本数を下配線本数と記す。
(Polymer cross-linking treatment)
Further, it was immersed in a 1% aqueous solution of Carbodilite V-02-L2 (trade name: manufactured by Nisshinbo Co., Ltd.) for 30 seconds, removed from the aqueous solution, immersed in pure water (room temperature) for 60 seconds, and washed.
Thus, a film A was obtained in which the detection electrodes and the lead-out wiring portions were formed on both sides of the PET film as shown in FIG.
In film A, the first detection electrodes were 50 first detection electrodes of 255 mm×6.2 mm arranged in parallel at intervals of 100 μm. As for the second detection electrodes, 50 second detection electrodes of 315 mm×5 mm were arranged in parallel at intervals of 100 μm.
Each of the first detection electrode and the second detection electrode was a mesh-like layer of a unit square lattice composed of conductive thin wires as shown in FIG. 13 . The line width of the conductive fine wire was 4.0 μm, the thickness of the conductive fine wire was 1.0 μm, and the thickness of the conductive fine wire layer was 2.0 μm.
The number of lead-out lines of the lead-out wiring portion finally obtained was 50 because the lead-out lines connected to the first detection electrodes were connected to one end of the first detection electrodes. The number of extraction lines connected to the second detection electrodes was 100 because they were connected to both ends of the second detection electrodes. All of the lead lines had a line width of 20 μm, and the minimum interval between the routed lead lines was 20 μm. The bending positions were set at the end of the first detection electrode and the end of the second detection electrode.
In Table 1, the number of lead wires connected to the first detection electrodes is referred to as the number of upper wires, and the number of lead wires connected to the second detection electrodes is referred to as the number of lower wires.

(絶縁層形成工程)
フィルムAに対して、UV(Ultra Violet)硬化性樹脂であるアサヒ化学研究所製UVF30Tを用いて、取出し配線部22を覆い、かつ、検出部20の周囲を囲む絶縁膜を形成した。これにより、取出し配線部22と絶縁膜37とからなる突出部38が形成された。突出部38の厚みを9~10μmとした。突出部38は、可撓性基材25の外縁25cに沿って、可撓性基材25の端に形成された。なお、突出部38の絶縁膜37は、UVF30Tをスクリーン印刷により塗布した後に、UV露光(メタルハライドランプ、1000mJ/cm)により露光することによって形成した。これにより、導電性フィルムに相当するタッチパネル用導電フィルムを得た。
ここで、タッチパネル用導電フィルムは、可撓性基材25と検出部20(第1検出電極30、第2検出電極32)と取出し配線部22と突出部38とを有する。
(Insulating layer forming step)
An insulating film was formed on the film A to cover the extraction wiring portion 22 and surround the detection portion 20 using UVF30T, a UV (Ultra Violet) curable resin manufactured by Asahi Kagaku Kenkyusho Co., Ltd. As a result, a protruding portion 38 composed of the extraction wiring portion 22 and the insulating film 37 was formed. The thickness of the projecting portion 38 is set to 9 to 10 μm. A protrusion 38 was formed at the end of the flexible substrate 25 along the outer edge 25 c of the flexible substrate 25 . The insulating film 37 of the projecting portion 38 was formed by applying UVF30T by screen printing and then exposing to UV exposure (metal halide lamp, 1000 mJ/cm 2 ). As a result, a conductive film for a touch panel corresponding to the conductive film was obtained.
Here, the touch panel conductive film has a flexible substrate 25 , a detection section 20 (the first detection electrode 30 and the second detection electrode 32 ), an extraction wiring section 22 , and a projecting section 38 .

続いて、得たタッチパネル用導電フィルムを、画像表示部である厚み2.0mmの液晶表示モジュール、第1の透明絶縁層(3M社製 8146-3(品番))、タッチパネル用導電フィルム、第2の透明絶縁層(3M社製 8146-3(品番))の順に積層した。タッチパネル用導電フィルムは第2検出電極形成面が液晶表示モジュールに対向するように設置し、液晶表示モジュールの輪郭とタッチパネル用導電フィルムの折曲位置を一致させた。第1の透明絶縁層と第2の透明絶縁層の厚みは、いずれも75μmであった。続いて、外部接続端子26が画像表示部14の裏面14b側に配置されるように、タッチパネル用導電フィルムの取出し配線領域の3辺を画像表示部の裏面側に折り曲げた。この場合、タッチパネル用導電フィルムの第1の折曲位置Bf、および第2の折曲位置Bfを先に、液晶表示モジュールの裏面側に折り曲げ、次に第3の折曲位置Bfを液晶表示モジュールの裏面側に折り曲げた。これにより、外部接続端子が画像表示部の表示面側に配置された、タッチパネル用積層体を得た。
その後、FPC(フレキシブルプリント基板)とボンディングした。その後、内部に緩衝材が配置された筺体(図1参照)と、タッチパネル用積層体とを貼合して、タッチパネルを得た。緩衝材にはエチレン-プロピレンスポンジを用いた。
また、実施例1は、導電性フィルムの曲面の長さ/パネル厚みを2.9とした。この場合、角α(図5参照)の角度が20°であった。なお、導電性フィルムの曲面の長さ/パネル厚みとは、上述の導電性フィルム12の折曲げ領域BEの曲面の折り曲げに沿った長さLpと、画像表示部14の厚みtpとの比γのことである。
なお、実施例1は、第2検出電極32の取出し配線を第1の折曲げ予定領域BE(図2参照)、第2の折曲げ予定領域BE(図2参照)内に配置しており、第1検出電極30の取出し線23は第3の折曲げ予定領域BE(図2参照)に沿って配置していない。このため、表1の重なる領域の配線パターンを、1辺が折り曲げ領域に沿うものとした。
Subsequently, the obtained conductive film for touch panel, a liquid crystal display module with a thickness of 2.0 mm which is an image display part, a first transparent insulating layer (manufactured by 3M, 8146-3 (product number)), a conductive film for touch panel, a second transparent insulating layer (manufactured by 3M Co., Ltd. 8146-3 (product number)). The conductive film for touch panel was placed so that the surface on which the second detection electrodes were formed faced the liquid crystal display module, and the contour of the liquid crystal display module was aligned with the bending position of the conductive film for touch panel. The thickness of the first transparent insulating layer and the thickness of the second transparent insulating layer were both 75 μm. Subsequently, three sides of the lead-out wiring region of the touch panel conductive film were bent toward the back surface of the image display section 14 so that the external connection terminals 26 were arranged on the back surface 14 b side of the image display section 14 . In this case, the first bending position Bf 1 and the second bending position Bf 2 of the conductive film for touch panel are first bent toward the back side of the liquid crystal display module, and then the third bending position Bf 3 is bent. It was bent to the back side of the liquid crystal display module. As a result, a laminate for a touch panel in which the external connection terminals were arranged on the display surface side of the image display portion was obtained.
After that, it was bonded with an FPC (flexible printed circuit board). After that, the housing (see FIG. 1) in which the cushioning material was arranged and the laminate for touch panel were bonded together to obtain a touch panel. Ethylene-propylene sponge was used as the cushioning material.
Moreover, in Example 1, the length of the curved surface of the conductive film/the thickness of the panel was set to 2.9. In this case, the angle α (see FIG. 5) was 20°. The length of the curved surface of the conductive film/panel thickness is the ratio γ It's about.
In addition, in Example 1, the extraction wiring of the second detection electrode 32 is arranged in the first planned bending area BE 1 (see FIG. 2) and the second planned bending area BE 2 (see FIG. 2). , and the lead-out lines 23 of the first detection electrodes 30 are not arranged along the third planned bending region BE3 (see FIG. 2). For this reason, one side of the wiring pattern in the overlapping region in Table 1 is set along the bent region.

〔実施例2〕
実施例2は、実施例1に対し、以下に示す点が異なり、それ以外の構成は実施例1と同じとした。実施例2は、導電性フィルムの曲面の長さ/パネル厚みを2.0とした。この場合、角α(図5参照)の角度が30°であった。
〔実施例3〕
実施例3は、実施例1に対し、以下に示す点が異なり、それ以外の構成は実施例1と同じとした。実施例3は、導電性フィルムの曲面の長さ/パネル厚みを1.2とした。この場合、角αの角度が60°であった。
〔実施例4〕
実施例4は、実施例1に対し、以下に示す点が異なり、それ以外の構成は実施例1と同じとした。実施例4は、導電性フィルムの曲面の長さ/パネル厚みを1.0とした。この場合、角αの角度が90°であった。
[Example 2]
Example 2 is different from Example 1 in the following points, and the rest of the configuration is the same as Example 1. In Example 2, the length of the curved surface of the conductive film/the thickness of the panel was set to 2.0. In this case, the angle α (see FIG. 5) was 30°.
[Example 3]
Example 3 is different from Example 1 in the following points, and has the same configuration as Example 1 otherwise. In Example 3, the length of the curved surface of the conductive film/the thickness of the panel was set to 1.2. In this case, the angle α was 60°.
[Example 4]
Example 4 is different from Example 1 in the following points, and has the same configuration as Example 1 otherwise. In Example 4, the length of the curved surface of the conductive film/the thickness of the panel was set to 1.0. In this case, the angle α was 90°.

〔実施例5〕
実施例5は、実施例1に対し、以下に示す点が異なり、それ以外の構成は実施例1と同じとした。実施例5は、取出し線の形成位置を、折曲げ領域端部から配線までの距離を10μmとした。すなわち、端部の内側から10μmの位置から取出し線を形成した。折曲げ領域の幅は1.98mmであった。取出し配線の数は、上配線本数を49本とし、下配線本数を98本とした。なお、取出し配線の線幅と間隔を実施例1と同じく20μmとした。
[Example 5]
Example 5 is different from Example 1 in the following points, and the rest of the configuration is the same as Example 1. In Example 5, the distance from the edge of the bent region to the wiring was set to 10 μm for the formation position of the take-out line. That is, a lead-out line was formed at a position 10 μm from the inner side of the edge. The width of the folded area was 1.98 mm. As for the number of lead-out wirings, the number of upper wirings was 49, and the number of lower wirings was 98. Note that the line width and interval of the lead-out wiring were set to 20 μm as in the first embodiment.

〔実施例6〕
実施例6は、実施例5に対し、以下に示す点が異なり、それ以外の構成は実施例5と同じとした。実施例6は、導電性フィルムの曲面の長さ/パネル厚みを2.0とした。この場合、角αの角度が30°であった。
〔実施例7〕
実施例7は、実施例5に対し、以下に示す点が異なり、それ以外の構成は実施例5と同じとした。実施例7は、導電性フィルムの曲面の長さ/パネル厚みを1.2とした。この場合、角αの角度が60°であった。
〔実施例8〕
実施例8は、実施例5に対し、以下に示す点が異なり、それ以外の構成は実施例5と同じとした。実施例8は、導電性フィルムの曲面の長さ/パネル厚みを1.0とした。この場合、角αの角度が90°であった。
[Example 6]
Example 6 is different from Example 5 in the following points, and the rest of the configuration is the same as Example 5. In Example 6, the length of the curved surface of the conductive film/the thickness of the panel was set to 2.0. In this case, the angle α was 30°.
[Example 7]
Example 7 is different from Example 5 in the following points, and the rest of the configuration is the same as Example 5. In Example 7, the length of the curved surface of the conductive film/the thickness of the panel was 1.2. In this case, the angle α was 60°.
[Example 8]
Example 8 is different from Example 5 in the following points, and the rest of the configuration is the same as Example 5. In Example 8, the length of the curved surface of the conductive film/the thickness of the panel was set to 1.0. In this case, the angle α was 90°.

〔実施例9〕
実施例9は、実施例5に対し、以下に示す点が異なり、それ以外の構成は実施例5と同じとした。実施例9は、取出し配線の線幅を15μmとし、間隔を24μmとした。また、取出し配線の数は、上配線本数を50本とし、下配線本数を100本とした。
[Example 9]
Example 9 is different from Example 5 in the following points, and the rest of the configuration is the same as Example 5. In Example 9, the line width of the extraction wiring was set to 15 μm, and the interval was set to 24 μm. As for the number of lead wires, the number of upper wires was 50, and the number of lower wires was 100.

〔実施例10〕
実施例10は、実施例1に対し、以下に示す点が異なり、それ以外の構成は実施例1と同じとした。実施例10は、取出し線の形成位置を、折曲げ領域端部から配線までの距離(μm)を100μmとした。すなわち、端部の内側から100μmの位置から取出し線を形成した。折曲げ領域の幅は、1.8mmであった。取出し配線の数は、上配線本数を90本とし、下配線本数を45本とした。なお、取出し配線の線幅と間隔を実施例1と同じく20μmとした。
[Example 10]
Example 10 is different from Example 1 in the following points, and the rest of the configuration is the same as Example 1. In Example 10, the distance (μm) from the edge of the bent region to the wiring was set to 100 μm. That is, a lead-out line was formed at a position 100 μm from the inner side of the edge. The width of the folded area was 1.8 mm. As for the number of lead-out wirings, the number of upper wirings was 90 and the number of lower wirings was 45. Note that the line width and interval of the lead-out wiring were set to 20 μm as in the first embodiment.

〔実施例11〕
実施例11は、実施例10に対し、以下に示す点が異なり、それ以外の構成は実施例10と同じとした。実施例11は、導電性フィルムの曲面の長さ/パネル厚みを2.0とした。この場合、角αの角度が30°であった。
〔実施例12〕
実施例12は、実施例10に対し、以下に示す点が異なり、それ以外の構成は実施例10と同じとした。実施例12は、導電性フィルムの曲面の長さ/パネル厚みを1.2とした。この場合、角αの角度が60°であった。
〔実施例13〕
実施例13は、実施例10に対し、以下に示す点が異なり、それ以外の構成は実施例10と同じとした。実施例13は、導電性フィルムの曲面の長さ/パネル厚みを1.0とした。この場合、角αの角度が90°であった。
〔実施例14〕
実施例14は、実施例10に対し、以下に示す点が異なり、それ以外の構成は実施例10と同じとした。実施例14は、取出し配線の線幅を16μmとし、間隔を20μmとした。取出し配線の数は、上配線本数を50本とし、下配線本数を100本とした。
[Example 11]
Example 11 is different from Example 10 in the following points, and the rest of the configuration is the same as Example 10. In Example 11, the length of the curved surface of the conductive film/the thickness of the panel was set to 2.0. In this case, the angle α was 30°.
[Example 12]
Example 12 is different from Example 10 in the following points, and the rest of the configuration is the same as Example 10. In Example 12, the length of the curved surface of the conductive film/the thickness of the panel was 1.2. In this case, the angle α was 60°.
[Example 13]
Example 13 is different from Example 10 in the following points, and the rest of the configuration is the same as Example 10. In Example 13, the length of the curved surface of the conductive film/panel thickness was set to 1.0. In this case, the angle α was 90°.
[Example 14]
Example 14 is different from Example 10 in the following points, and the rest of the configuration is the same as Example 10. In Example 14, the line width of the extraction wiring was set to 16 μm, and the interval was set to 20 μm. As for the number of lead-out wirings, the number of upper wirings was set to 50, and the number of lower wirings was set to 100.

〔実施例15〕
実施例15は、実施例1に対し、以下に示す点が異なり、それ以外の構成は実施例1と同じとした。実施例15は、図7に示す導電性フィルム12のパターンとした。取出し配線の数は、上配線本数を50本とし、下配線本数を100本とした。実施例15では、図7に示すように、領域25gに取出し線23が形成されていない配線パターンである。
なお、取出し配線の線幅と間隔を実施例1と同じく20μmとした。
〔実施例16〕
実施例16は、実施例1に対し、以下に示す点が異なり、それ以外の構成は実施例1と同じとした。実施例16は、図8に示す導電性フィルム12のパターンとした。取出し配線の数は、上配線本数を50本とし、下配線本数を100本とした。実施例16は、第2検出電極32の取出し配線を第1の折り曲げ予定領域BE(図2参照)、第2の折曲げ予定領域BE(図2参照)内に配置しており、第1検出電極30の取出し線23を第3の折曲げ予定領域BE(図2参照)に沿って配置した。このため、表1の重なる領域の配線パターンを、2辺が折り曲げ領域に沿うものとした。
なお、実施例16は、取出し配線の線幅と間隔を実施例1と同じく20μmとした。
〔実施例17〕
実施例17は、実施例1に対し、以下に示す点が異なり、それ以外の構成は実施例1と同じとした。実施例17は、図9に示す導電性フィルム12のパターンとした。取出し配線の数は、上配線本数を50本とし、下配線本数を100本とした。実施例17は、実施例16は、第2検出電極32の取出し配線を第1の折り曲げ予定領域BE(図2参照)、第2の折曲げ予定領域BE(図2参照)内に配置しており、第1検出電極30の取出し線23を第3の折曲げ予定領域BE(図2参照)に沿って配置した。このため、表1の重なる領域の配線パターンを、2辺が折り曲げ領域に沿うものとした。
なお、実施例16は、取出し配線の線幅と間隔を実施例1と同じく20μmとした。
[Example 15]
Example 15 is different from Example 1 in the following points, and has the same configuration as Example 1 otherwise. In Example 15, the pattern of the conductive film 12 shown in FIG. 7 was used. As for the number of lead-out wirings, the number of upper wirings was set to 50, and the number of lower wirings was set to 100. In Example 15, as shown in FIG. 7, the wiring pattern is such that the lead-out line 23 is not formed in the region 25g.
Note that the line width and interval of the lead-out wiring were set to 20 μm as in the first embodiment.
[Example 16]
Example 16 is different from Example 1 in the following points, and has the same configuration as Example 1 otherwise. In Example 16, the pattern of the conductive film 12 shown in FIG. 8 was used. As for the number of lead-out wirings, the number of upper wirings was set to 50, and the number of lower wirings was set to 100. In the sixteenth embodiment, the extraction wirings of the second detection electrodes 32 are arranged in the first intended bending area BE 1 (see FIG. 2) and the second intended bending area BE 2 (see FIG. 2). The extraction line 23 of the 1 detection electrode 30 was arranged along the third planned bending area BE 3 (see FIG. 2). For this reason, two sides of the wiring pattern in the overlapping region in Table 1 are set along the bent region.
Incidentally, in Example 16, the line width and interval of the extraction wiring were set to 20 μm as in Example 1. FIG.
[Example 17]
Example 17 is different from Example 1 in the following points, and has the same configuration as Example 1 otherwise. In Example 17, the pattern of the conductive film 12 shown in FIG. 9 was used. As for the number of lead-out wirings, the number of upper wirings was set to 50, and the number of lower wirings was set to 100. In the 17th embodiment and the 16th embodiment, the extraction wiring of the second detection electrode 32 is arranged in the first planned bending area BE 1 (see FIG. 2) and the second planned bending area BE 2 (see FIG. 2). , and the lead-out line 23 of the first detection electrode 30 is arranged along the third planned bending region BE 3 (see FIG. 2). For this reason, two sides of the wiring pattern in the overlapping region in Table 1 are set along the bent region.
Incidentally, in Example 16, the line width and interval of the extraction wiring were set to 20 μm as in Example 1. FIG.

〔比較例1〕
比較例1は、実施例1に対し、以下に示す点が異なり、それ以外の構成は実施例1と同じとした。比較例1には、図16に示すパターン100を用いた。
なお、図16に示すパターン100において、図2に示す導電性フィルム12と同一構成物には、同一符号を付してその詳細な説明は省略する。
比較例1の導電性フィルムを示すパターン100は、実施例1に比して、角部25eに取出し線23が配置されており、重畳領域Dεにおいて、取出し線23同士が重さなるパターンである。比較例1の取出し配線の数は、上配線本数を50本とし、下配線本数を100本とした。
比較例1では、実施例1の導電性フィルムの第1の折曲位置Bf、第2の折曲位置Bf、第3の折曲位置Bfおよび第4の折曲位置Bfの4辺を液晶表示モジュールの裏面側に折り曲げ、FPCとボンディングした。折り曲げ順序は、対向する第1の折曲位置Bfおよび第2の折曲位置Bfを折り曲げた後、対向する第3の折曲位置Bfおよび第4の折曲位置Bfを折り曲げた。このため、比較例1は、表1の「重なる領域の配線パターン」および「折曲げ領域端部から配線までの距離(μm)」の欄には「-」と記した。
[Comparative Example 1]
Comparative Example 1 is different from Example 1 in the following points, and has the same configuration as that of Example 1 otherwise. For Comparative Example 1, the pattern 100 shown in FIG. 16 was used.
In the pattern 100 shown in FIG. 16, the same components as those of the conductive film 12 shown in FIG.
The pattern 100 showing the conductive film of Comparative Example 1 is a pattern in which the lead-out lines 23 are arranged at the corners 25e, and the lead-out lines 23 overlap each other in the overlapping region Dε, as compared with the pattern of Example 1. . Regarding the number of lead-out wirings in Comparative Example 1, the number of upper wirings was set to 50, and the number of lower wirings was set to 100.
In Comparative Example 1, 4 of the first bending position Bf 1 , the second bending position Bf 2 , the third bending position Bf 3 and the fourth bending position Bf 4 of the conductive film of Example 1 The sides were bent to the back side of the liquid crystal display module and bonded to the FPC. The order of bending is to bend the first bending position Bf1 and the second bending position Bf2 facing each other, and then bend the third bending position Bf3 and the fourth bending position Bf4 facing each other. . For this reason, Comparative Example 1 is marked with "-" in the columns of "wiring pattern in overlapping area" and "distance (μm) from edge of bent area to wiring" in Table 1.

Figure 2023085572000006
Figure 2023085572000006

表1に示すように、実施例1~17は、比較例1に比して、応答速度について良好な結果が得られた。
タッチセンサーは静電容量を検出して動作するため、寄生容量により静電容量が大きくなると時定数が大きくなり、タッチ検出の応答速度が遅くなって、タッチセンサーの正常な動作が難しくなる。すなわち、タッチセンサーの動作安定性が悪くなる。しかしながら、折曲げ領域に沿って配線パターンを設けることにより、重畳領域における寄生容量を抑制でき、タッチセンサーの静電容量の増加を抑制できる。これにより、タッチ検出の応答速度の低下を抑制でき、タッチセンサーの動作安定性を維持することができた。
実施例1~4から、導電性フィルムの曲面の長さ/パネル厚み、すなわち、比γが、2.0以下であると、応答速度が良くなり、比γが1.2以下になると、応答速度が更に良くなった。
実施例1、実施例5、実施例10および実施例15から、取出し線の形成位置を、折曲げ領域端部から配線までの距離は0μmよりも10μmの方が応答速度が良くなり、100μmの方が、応答速度が更に良くなった。
As shown in Table 1, in Examples 1 to 17, better results than in Comparative Example 1 were obtained in terms of response speed.
Since the touch sensor operates by detecting the capacitance, when the capacitance increases due to parasitic capacitance, the time constant increases, the response speed of touch detection slows down, and normal operation of the touch sensor becomes difficult. That is, the operational stability of the touch sensor deteriorates. However, by providing the wiring pattern along the bent region, the parasitic capacitance in the overlapping region can be suppressed, and the increase in the capacitance of the touch sensor can be suppressed. As a result, it was possible to suppress a decrease in touch detection response speed, and to maintain the operational stability of the touch sensor.
From Examples 1 to 4, when the length of the curved surface of the conductive film/panel thickness, that is, the ratio γ is 2.0 or less, the response speed is improved, and when the ratio γ is 1.2 or less, the response Speed is even better.
From Example 1, Example 5, Example 10 and Example 15, the response speed was better when the distance from the end of the bending region to the wiring was 10 μm than when the distance from the edge of the bending region to the wiring was 0 μm. The response speed was even better.

10 タッチパネル
12 導電性フィルム
13 コントローラー
14 画像表示部
14a 表示面
14b 裏面
14c 側面
15 第1の透明絶縁層
16 カバー部
16a 表面
16b 裏面
17 第2の透明絶縁層
18 加飾層
19 フレキシブル回路基板
20 検出部
21 周縁部
22 取出し配線部
22b 終端部
23 取出し線
25 可撓性基材
25a 表面
25b 裏面
25c 外縁
26 外部接続端子
27 折曲部
29 突出し部
30 第1検出電極
31 間隔
32 第2検出電極
33 金属細線
34 検出電極
35 開口部
36 保護膜
36a 端部
36c 末端
37 絶縁膜
38 突出部
50 導電線
52 バインダー
54 金属部
100 パターン
BE 折曲げ領域
第1の取出し配線領域
第2の取出し配線領域
第3の取出し配線領域
BE 第1の折曲げ予定領域
BE 第2の折曲げ予定領域
BE 第3の折曲げ予定領域
Bf 第1の折曲位置
Bf 第2の折曲位置
Bf 第3の折曲位置
Df 額縁部
Dt 積層方向
Dw 積層方向と直交する方向
入力領域
外側領域
fc 中心線
fe 接点
第1の折曲げ線
第2の折曲げ線
第3の折曲げ線
Lm、Pp 線
Sc 曲面
α 角
REFERENCE SIGNS LIST 10 touch panel 12 conductive film 13 controller 14 image display unit 14a display surface 14b rear surface 14c side surface 15 first transparent insulating layer 16 cover portion 16a front surface 16b rear surface 17 second transparent insulating layer 18 decoration layer 19 flexible circuit board 20 detection Part 21 Peripheral edge 22 Extraction wiring part 22b Terminal part 23 Extraction line 25 Flexible base material 25a Front surface 25b Back surface 25c Outer edge 26 External connection terminal 27 Bent part 29 Protruding part 30 First detection electrode 31 Spacing 32 Second detection electrode 33 Thin metal wire 34 Detection electrode 35 Opening 36 Protective film 36a End 36c End 37 Insulating film 38 Protruding portion 50 Conductive wire 52 Binder 54 Metal portion 100 Pattern BE Bending region B 1 First extraction wiring region B 2 Second extraction Wiring area B 3 Third extraction wiring area BE 1 First planned bending area BE 2 Second planned bending area BE 3 Third planned bending area Bf 1 First bending position Bf 2 Second Bending position Bf 3rd bending position Df Frame part Dt Lamination direction Dw Direction perpendicular to the lamination direction E 1 Input area E 2 Outer area fc Center line fe Contact point L 1 First bending line L 2 Second Bending line L 3 Third bending line Lm, Pp Line Sc Curved surface α Angle

Claims (20)

画像表示部と導電性フィルムとを有し、前記画像表示部の表示面側に前記導電性フィルムが配置されたタッチパネルであって、
前記導電性フィルムは、透明な可撓性基材の少なくとも一方の表面に、導電層により構成された一方向に延びる検出部と、前記検出部の各端に、それぞれ電気的に接続された取出し線を備える取出し配線部とを有し、
前記取出し配線部の前記取出し線は、一端が前記検出部の前記端に電気的に接続され、他端が外部接続端子に電気的に接続されており、
さらに、前記検出部が設けられた前記可撓性基材の表面に、前記検出部の周縁に沿って設けられた、前記検出部を前記一方向で挟んで対向する2つの折曲げ線と、前記2つの折曲げ線と交差する折曲げ線とで、前記画像表示部の前記表示面側とは反対の前記画像表示部の裏面側に、前記可撓性基材が折り曲げられて形成された、前記画像表示部の側面を囲む3つの折曲げ領域と、前記画像表示部の前記裏面で前記導電性フィルムの周縁部の同じ面が折り重なる重畳領域とを有し、
前記外部接続端子は前記画像表示部の前記裏面側に配置され、
前記取出し線は、少なくとも対向する前記折曲げ領域に設けられており、かつ前記重畳領域を避けて配置されているか、または前記重畳領域において、折り重なる前記導電性フィルムの2つの面のうち、いずれか一方の面に配置されている、タッチパネル。
A touch panel having an image display portion and a conductive film, wherein the conductive film is arranged on the display surface side of the image display portion,
The conductive film includes, on at least one surface of a transparent flexible base material, a detection unit extending in one direction and configured by a conductive layer, and a take-out unit electrically connected to each end of the detection unit. and an extraction wiring portion including a wire,
The extraction line of the extraction wiring section has one end electrically connected to the end of the detection section and the other end electrically connected to an external connection terminal,
Further, two bending lines provided along the periphery of the detection part on the surface of the flexible base material on which the detection part is provided and opposed to each other with the detection part sandwiched in the one direction; The flexible base material is formed by bending the back surface side of the image display section opposite to the display surface side of the image display section at the two bending lines and the intersecting bending line. , three folding regions surrounding the side surface of the image display portion, and an overlapping region in which the same surface of the peripheral portion of the conductive film is folded on the back surface of the image display portion,
The external connection terminals are arranged on the back side of the image display unit,
The lead-out lines are provided at least in the facing bending regions and are arranged so as to avoid the overlapping region, or any of the two surfaces of the conductive film that overlap in the overlapping region. A touch panel on one side.
画像表示部と導電性フィルムとを有し、前記画像表示部の表示面側に前記導電性フィルムが配置されたタッチパネルであって、
前記導電性フィルムは、透明な可撓性基材の少なくとも一方の表面に、導電層により構成された検出部と、前記検出部の端に、それぞれ電気的に接続された取出し線を備える取出し配線部とを有し、
前記取出し配線部の前記取出し線は、一端が前記検出部の前記端に電気的に接続され、他端が外部接続端子に電気的に接続されており、
さらに、前記検出部が設けられた前記可撓性基材の表面に、少なくとも一方が前記検出部の前記端に沿って設けられた、交差する2つの折曲げ線で、前記画像表示部の前記表示面側とは反対の前記画像表示部の裏面側に、前記可撓性基材が折り曲げられて形成された、前記画像表示部の側面を囲む2つの折曲げ領域と、前記画像表示部の前記裏面で前記導電性フィルムの周縁部の同じ面が折り重なる重畳領域とを有し、
前記外部接続端子は前記画像表示部の前記裏面側に配置され、
前記取出し線は、少なくとも前記折曲げ領域に設けられており、かつ前記重畳領域を避けて配置されているか、または前記重畳領域において、折り重なる前記導電性フィルムの2つの面のうち、いずれか一方の面に配置されている、タッチパネル。
A touch panel having an image display portion and a conductive film, wherein the conductive film is arranged on the display surface side of the image display portion,
The conductive film includes a detection section formed of a conductive layer on at least one surface of a transparent flexible base material, and a lead-out wiring having lead-out lines electrically connected to ends of the detection section, respectively. and
The extraction line of the extraction wiring section has one end electrically connected to the end of the detection section and the other end electrically connected to an external connection terminal,
Furthermore, on the surface of the flexible base material on which the detection section is provided, two intersecting folding lines, at least one of which is provided along the edge of the detection section, form the image display section. On the back side of the image display section, which is opposite to the display surface side, there are two folding areas formed by folding the flexible base material, surrounding the side surfaces of the image display section, and the image display section. and an overlapping region in which the same surface of the peripheral portion of the conductive film is folded on the back surface,
The external connection terminals are arranged on the back side of the image display unit,
The lead-out line is provided at least in the bending region and is arranged to avoid the overlapping region, or is located on either one of the two surfaces of the conductive film that are folded in the overlapping region. A touch panel placed on the surface.
前記折曲げ線に沿って、前記折曲げ領域に設けられた前記折曲げ領域の長さ方向に延びる前記取出し配線が、前記折曲げ線からの距離が10μm以上離れた領域に設けられている、請求項1または2に記載のタッチパネル。 The extraction wiring extending in the length direction of the bending region provided in the bending region along the bending line is provided in a region at a distance of 10 μm or more from the bending line. The touch panel according to claim 1 or 2. 前記折曲げ線に沿って、前記折曲げ領域に設けられた前記折曲げ領域の長さ方向に延びる前記取出し配線が、前記折曲げ線からの距離が100μm以上離れた領域に設けられている、請求項1~3のいずれか1項に記載のタッチパネル。 The extraction wiring extending in the length direction of the bending region provided in the bending region along the bending line is provided in a region at a distance of 100 μm or more from the bending line. The touch panel according to any one of claims 1 to 3. 前記折曲げ領域は曲面で構成されており、
前記折曲げ領域の前記曲面に沿った長さと、前記画像表示部の厚みとの比が2.0以下である、請求項1~4のいずれか1項に記載のタッチパネル。
The bending area is composed of a curved surface,
The touch panel according to any one of claims 1 to 4, wherein a ratio of the length of the bent region along the curved surface and the thickness of the image display section is 2.0 or less.
前記折曲げ領域は曲面で構成されており、
前記折曲げ領域の前記曲面に沿った長さと、前記画像表示部の厚みとの比が1.2以下である、請求項1~5のいずれか1項に記載のタッチパネル。
The bending area is composed of a curved surface,
The touch panel according to any one of claims 1 to 5, wherein a ratio of the length of the bent region along the curved surface and the thickness of the image display section is 1.2 or less.
前記可撓性基材は、矩形状であり、複数の前記検出部が矩形状に、前記可撓性基材の辺を揃えて配置され、前記取出し配線部は、前記可撓性基材の辺の周縁に設けられており、
前記検出部の前記検出部を前記一方向で挟んで対向する2つの辺を含む、合計3つの辺に対して平行に前記折曲げ線が設けられ、
前記可撓性基材は、4つの辺のうち、前記折曲げ線が設けられた3つの辺が、前記画像表示部の前記裏面側に配置されるように折り曲げられている、請求項1、および3~6のいずれか1項に記載のタッチパネル。
The flexible base material has a rectangular shape, the plurality of detection units are arranged in a rectangular shape so that the sides of the flexible base material are aligned, and the extraction wiring part is formed on the flexible base material. It is provided on the periphery of the side,
The bending line is provided parallel to a total of three sides including two sides facing each other across the detection part of the detection part in the one direction,
2. The flexible base material is bent such that three of four sides provided with the folding lines are arranged on the back surface side of the image display section. and the touch panel according to any one of 3 to 6.
前記可撓性基材は、矩形状であり、複数の前記検出部が矩形状に、前記可撓性基材の辺を揃えて配置され、前記取出し配線部は、前記可撓性基材の辺の周縁に設けられており、
前記検出部の一方の前記端に沿った第1の辺と、前記第1の辺と直交する第2の辺とに対して、それぞれ平行に前記折曲げ線が設けられ、
前記可撓性基材は、4つの辺のうち、前記折曲げ線が設けられた2つの辺が、前記画像表示部の前記裏面側に配置されるように折り曲げられている、請求項2~6のいずれか1項に記載のタッチパネル。
The flexible base material has a rectangular shape, the plurality of detection units are arranged in a rectangular shape so that the sides of the flexible base material are aligned, and the extraction wiring part is formed on the flexible base material. It is provided on the periphery of the side,
The bending lines are provided parallel to each of a first side along one of the ends of the detection section and a second side perpendicular to the first side,
Claims 2 to 4, wherein the flexible base material is bent such that two of four sides provided with the bending lines are arranged on the back surface side of the image display unit. 7. The touch panel according to any one of 6.
前記取出し線は、金属細線で構成される、請求項1~8のいずれか1項に記載のタッチパネル。 The touch panel according to any one of claims 1 to 8, wherein said take-out line is composed of a thin metal wire. 前記取出し配線部の前記取出し線は、前記可撓性基材の表面上において、90°より大きい角度で屈曲する部分が少なくとも1つある、請求項1~9のいずれか1項に記載のタッチパネル。 The touch panel according to any one of claims 1 to 9, wherein the extraction line of the extraction wiring portion has at least one portion bent at an angle larger than 90° on the surface of the flexible base material. . 透明な可撓性基材の少なくとも一方の表面に、導電層により構成された一方向に延びる検出部と、前記検出部の各端に、それぞれ電気的に接続された取出し線を備える取出し配線部とを有し、
前記取出し配線部は、前記検出部の周囲を連続した帯状に囲む周縁部に設けられ、
前記取出し配線部の前記取出し線は、一端が前記検出部の前記端に電気的に接続され、他端が外部接続端子に電気的に接続されており、
さらに、前記検出部が設けられた前記可撓性基材の表面に、前記検出部の周縁に沿って設けられた、前記検出部を前記一方向で挟んで対向する2つの折曲げ線と、前記2つの折曲げ線と交差する折曲げ線とで、前記画像表示部の前記表示面側とは反対の前記画像表示部の裏面側に、前記外部接続端子が配置されるように前記可撓性基材が折り曲げられた場合、前記画像表示部の側面を囲む3つの折曲げ領域と、前記画像表示部の前記裏面で前記周縁部の同じ面が折り重なる重畳領域とが形成され、
前記取出し線は、少なくとも対向する前記折曲げ領域に設けられ、かつ前記重畳領域を避けて配置されているか、または前記重畳領域において、折り重なる前記導電性フィルムの2つの面のうち、いずれか一方の面に配置されている、導電性フィルム。
A lead-out wiring part comprising a detection part formed of a conductive layer and extending in one direction on at least one surface of a transparent flexible base material, and a lead-out line electrically connected to each end of the detection part. and
The extraction wiring portion is provided in a peripheral edge portion surrounding the detection portion in a continuous band shape,
The extraction line of the extraction wiring section has one end electrically connected to the end of the detection section and the other end electrically connected to an external connection terminal,
Further, two bending lines provided along the periphery of the detection part on the surface of the flexible base material on which the detection part is provided and opposed to each other with the detection part sandwiched in the one direction; The flexible structure is arranged such that the external connection terminals are arranged on the back surface side of the image display section opposite to the display surface side of the image display section between the two bending lines and the intersecting bending line. When the flexible base material is folded, three folding regions surrounding the side surface of the image display portion and an overlapping region where the same surface of the peripheral portion is folded on the back surface of the image display portion are formed,
The lead-out lines are provided at least in the facing bending regions and are arranged so as to avoid the overlapping region, or in the overlapping region, either one of the two surfaces of the conductive film that overlaps. A conductive film placed on a surface.
透明な可撓性基材の少なくとも一方の表面に、導電層により構成された検出部と、前記検出部の端に、それぞれ電気的に接続された取出し線を備える取出し配線部とを有し、
前記取出し配線部は、前記検出部の周囲を連続した帯状に囲む周縁部に設けられ、
前記取出し配線部の前記取出し線は、一端が前記検出部の前記端に電気的に接続され、他端が外部接続端子に電気的に接続されており、
さらに、前記検出部が設けられた前記可撓性基材の表面に、少なくとも一方が前記検出部の前記端に沿って設けられた、交差する2つの折曲げ線で、前記画像表示部の前記表示面側とは反対の前記画像表示部の裏面側に、前記外部接続端子が配置されるように前記可撓性基材が折り曲げられた場合、前記画像表示部の側面を囲む2つの折曲げ領域と、前記画像表示部の前記裏面で前記周縁部の同じ面が折り重なる重畳領域とが形成され、
前記取出し線は、少なくとも前記折曲げ領域に設けられ、かつ前記重畳領域を避けて配置されているか、または前記重畳領域において、折り重なる前記導電性フィルムの2つの面のうち、いずれか一方の面に配置されている、導電性フィルム。
a detecting portion made of a conductive layer on at least one surface of a transparent flexible base material;
The extraction wiring portion is provided in a peripheral edge portion surrounding the detection portion in a continuous band shape,
The extraction line of the extraction wiring section has one end electrically connected to the end of the detection section and the other end electrically connected to an external connection terminal,
Furthermore, on the surface of the flexible base material on which the detection section is provided, two intersecting folding lines, at least one of which is provided along the edge of the detection section, form the image display section. When the flexible base material is bent so that the external connection terminals are arranged on the rear surface side of the image display section opposite to the display surface side, two folds surrounding the side surfaces of the image display section are formed. an area and an overlapping area in which the same surface of the peripheral portion is folded on the back surface of the image display unit;
The lead-out line is provided at least in the bending region and is arranged to avoid the overlapping region, or is located on either one of the two surfaces of the conductive film that is folded in the overlapping region. A conductive film in place.
前記折曲げ線に沿って、前記折曲げ予定領域に設けられた前記折曲げ予定領域の長さ方向に延びる前記取出し配線が、前記折曲げ線からの距離が10μm以上離れた領域に設けられている、請求項11または12に記載の導電性フィルム。 The extraction wiring extending along the bending line and extending in the length direction of the bending area provided in the bending area is provided in an area separated from the bending line by a distance of 10 μm or more. The conductive film according to claim 11 or 12, wherein 前記折曲げ線に沿って、前記折曲げ予定領域に設けられた前記折曲げ予定領域の長さ方向に延びる前記取出し配線が、前記折曲げ線からの距離が100μm以上離れた領域に設けられている、請求項11~13のいずれか1項に記載の導電性フィルム。 The extraction wiring extending along the bending line and extending in the length direction of the bending area provided in the bending area is provided in a region separated from the bending line by 100 μm or more. The conductive film according to any one of claims 11 to 13. 前記折曲げ線に沿って設けられた折曲げ予定領域の、前記折曲げ線と直交する幅方向の長さと、前記画像表示部の厚みとの比が2.0以下である、請求項11~14のいずれか1項に記載の導電性フィルム。 Claims 11 to 11, wherein the ratio of the width direction length orthogonal to the bending line of the region to be bent provided along the bending line to the thickness of the image display portion is 2.0 or less. 15. The conductive film according to any one of 14. 前記折曲げ線に沿って設けられた折曲げ予定領域の、前記折曲げ線と直交する幅方向の長さと、前記画像表示部の厚みとの比が1.2以下である、請求項11~15のいずれか1項に記載の導電性フィルム。 Claims 11 to 11, wherein the ratio of the length of the region to be folded provided along the folding line in the width direction orthogonal to the folding line to the thickness of the image display section is 1.2 or less. 16. The conductive film according to any one of 15. 前記可撓性基材は、矩形状であり、複数の前記検出部が矩形状に、前記可撓性基材の辺を揃えて配置され、前記取出し配線部は、前記可撓性基材の辺の周縁に設けられており、
前記検出部の前記検出部を前記一方向で挟んで対向する2つの辺を含む、合計3つの辺に対して平行に前記折曲げ線が設けられ、
前記可撓性基材は、4つの辺のうち、前記折曲げ線が設けられた3つの辺に、同じ向きに折り曲げられる折り曲げ予定領域を有する、請求項11、および13~16のいずれか1項に記載の導電性フィルム。
The flexible base material has a rectangular shape, the plurality of detection units are arranged in a rectangular shape so that the sides of the flexible base material are aligned, and the extraction wiring part is formed on the flexible base material. It is provided on the periphery of the side,
The bending line is provided parallel to a total of three sides including two sides facing each other across the detection part of the detection part in the one direction,
17. Any one of claims 11 and 13 to 16, wherein the flexible base has folding planned regions to be folded in the same direction on three of the four sides where the folding lines are provided. The conductive film according to item.
前記可撓性基材は、矩形状であり、複数の前記検出部が矩形状に、前記可撓性基材の辺を揃えて配置され、前記取出し配線部は、前記可撓性基材の辺の周縁に設けられており、
前記検出部の一方の前記端に沿った第1の辺と、前記第1の辺と直交する第2の辺とに対して、それぞれ平行に前記折曲げ線が設けられ、
前記可撓性基材は、4つの辺のうち、前記折曲げ線が設けられた2つの辺が、同じ向きに折り曲げられる折り曲げ予定領域を有する、請求項12~16のいずれか1項に記載の導電性フィルム。
The flexible base material has a rectangular shape, the plurality of detection units are arranged in a rectangular shape so that the sides of the flexible base material are aligned, and the extraction wiring part is formed on the flexible base material. It is provided on the periphery of the side,
The bending lines are provided parallel to each of a first side along one of the ends of the detection section and a second side perpendicular to the first side,
17. The flexible base according to any one of claims 12 to 16, wherein, of the four sides, two sides provided with the folding lines have a folding planned region in which the two sides are folded in the same direction. conductive film.
前記取出し線は、金属細線で構成される、請求項11~18のいずれか1項に記載の導電性フィルム。 The conductive film according to any one of claims 11 to 18, wherein the take-out line is composed of a thin metal wire. 前記取出し配線部の前記取出し線は、前記可撓性基材の表面上において、90°より大きい角度で屈曲する部分が少なくとも1つある、請求項11~19のいずれか1項に記載の導電性フィルム。 The conductor according to any one of claims 11 to 19, wherein the lead-out line of the lead-out wiring portion has at least one portion bent at an angle larger than 90° on the surface of the flexible base material. sex film.
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