JP2023052200A - Vapor chamber and mobile terminal - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a vapor chamber that can enhance capillary action while reducing flow passage resistance of working liquid.
SOLUTION: A vapor chamber 1 according to the present invention comprises a first metal sheet 10, and a second metal sheet 20 provided on the first metal sheet 10, and forming a sealed space 3 between itself and the first metal sheet 10. A first contact surface 13a of the first metal sheet 10 is provided with a first liquid flow passage concave part 30 for conveying working liquid 2 condensed from vapor to an evaporation part 11. The first liquid flow passage concave part 30 comprises a first concave part opening part 31, and a first large width part 32 provided closer to a bottom side of the first liquid flow passage concave part 30 than the first concave part opening part 31. In a cross section of the first liquid flow passage concave part 30, the width of the first large width part 32 is larger than the width of the first concave part opening part 31.
SELECTED DRAWING: Figure 6
COPYRIGHT: (C)2023,JPO&INPIT

Description

本発明は、作動液が密封された密封空間を有するベーパーチャンバおよびベーパーチャンバ用金属シートに関する。 The present invention relates to a vapor chamber having a sealed space in which hydraulic fluid is sealed and a metal sheet for the vapor chamber.

携帯端末やタブレット端末といったモバイル端末等で使用される中央演算処理装置(CPU)等の発熱を伴うデバイスは、ヒートパイプ等の放熱用部材によって冷却されている(例えば、特許文献1乃至4参照)。近年では、モバイル端末等の薄型化のために、放熱用部材の薄型化も求められており、ヒートパイプよりも薄型化を図ることができるベーパーチャンバの開発が進められている。ベーパーチャンバ内には、作動液が封入されており、この作動液がデバイスの熱を吸収して外部に放出することで、デバイスの冷却を行っている。 Devices that generate heat, such as central processing units (CPUs) used in mobile terminals such as mobile terminals and tablet terminals, are cooled by heat-dissipating members such as heat pipes (see, for example, Patent Documents 1 to 4). . In recent years, in order to reduce the thickness of mobile terminals and the like, there has been a demand for thinner heat dissipating members, and the development of vapor chambers that can be made thinner than heat pipes is underway. A working fluid is sealed in the vapor chamber, and the working fluid absorbs the heat of the device and releases it to the outside, thereby cooling the device.

より具体的には、ベーパーチャンバ内の作動液は、デバイスに近接した部分(蒸発部)でデバイスから熱を受けて蒸発して蒸気になり、その後蒸気が、蒸発部から離れた位置に移動して冷却され、凝縮して液状になる。ベーパーチャンバ内には、毛細管構造(ウィック)としての液流路凹部が設けられており、液状になった作動液は、この液流路凹部を通過して蒸発部に輸送され、再び蒸発部で熱を受けて蒸発する。このようにして、作動液が、相変化、すなわち蒸発と凝縮とを繰り返しながらベーパーチャンバ内を還流することによりデバイスの熱を移動させ、熱輸送効率を高めている。 More specifically, the working fluid in the vapor chamber receives heat from the device at the portion (evaporation section) close to the device and evaporates into vapor, and then the vapor moves to a position away from the vaporization section. It cools down and condenses into a liquid. Inside the vapor chamber, a recessed liquid flow path is provided as a capillary structure (wick), and the liquid working fluid passes through the recessed liquid flow path, is transported to the evaporator, and is again transported to the evaporator. Evaporate under heat. In this way, the working fluid circulates in the vapor chamber while repeating phase changes, that is, evaporation and condensation, thereby transferring heat in the device and increasing heat transport efficiency.

特開平11-31768号公報JP-A-11-31768 特開2007-212028号公報Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2007-212028 特開2015-59693号公報JP 2015-59693 A 特開2016-17702号公報JP 2016-17702 A

ベーパーチャンバの熱輸送効率を高めるためには、ベーパーチャンバ内の作動液を効率良く蒸発部に輸送することが望ましい。この場合、液流路凹部には、液流路凹部を通過する作動液の流路抵抗が小さいことと、毛細管作用が高いこととが求められる。 In order to increase the heat transport efficiency of the vapor chamber, it is desirable to efficiently transport the working fluid in the vapor chamber to the evaporator. In this case, the recessed liquid flow path is required to have a low flow path resistance of the hydraulic fluid passing through the recessed liquid flow path and a high capillary action.

本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、作動液の流路抵抗を小さくしつつ毛細管作用を高めることができるベーパーチャンバおよびベーパーチャンバ用金属シートを提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a vapor chamber and a metal sheet for a vapor chamber that can increase the capillary action while reducing the flow path resistance of the hydraulic fluid. .

本発明は、
作動液が封入された密封空間を有するベーパーチャンバであって、
第1金属シートと、
前記第1金属シート上に設けられ、前記第1金属シートとの間に前記密封空間を形成する第2金属シートと、を備え、
前記第1金属シートは、前記第2金属シートの側の面に設けられ、前記密封空間の一部を構成し、前記作動液の蒸気が通る第1蒸気流路凹部と、前記第1蒸気流路凹部の底面から突出して前記第2金属シートに当接する第1当接面を含む第1流路壁部と、を有し、
前記第1当接面に、前記密封空間の一部を構成し、液状の前記作動液が通る第1液流路凹部が設けられ、
前記第1液流路凹部は、第1凹部開口部と、前記第1凹部開口部よりも前記第1液流路凹部の底側に設けられた第1大幅部と、を有し、
前記第1液流路凹部の横断面において、前記第1大幅部の幅は、前記第1凹部開口部の幅よりも大きい、
ベーパーチャンバ、
を提供する。
The present invention
A vapor chamber having a sealed space in which a hydraulic fluid is enclosed,
a first metal sheet;
a second metal sheet provided on the first metal sheet and forming the sealed space with the first metal sheet;
The first metal sheet is provided on the surface on the side of the second metal sheet, constitutes a part of the sealed space, and includes a first vapor flow path concave portion through which the vapor of the working fluid passes, and the first vapor flow. a first channel wall portion including a first contact surface that protrudes from the bottom surface of the channel recess and contacts the second metal sheet;
The first contact surface is provided with a first liquid flow path recess that constitutes a part of the sealed space and through which the liquid working liquid passes,
The first liquid flow path recess has a first recess opening and a first large portion provided closer to the bottom side of the first liquid flow path recess than the first recess opening,
In the cross section of the first liquid flow path recess, the width of the first large portion is greater than the width of the opening of the first recess,
vapor chamber,
I will provide a.

なお、上述したベーパーチャンバにおいて、
前記第1液流路凹部の横断面は、円弧状に形成されている、
ようにしてもよい。
In addition, in the vapor chamber described above,
The cross section of the first liquid flow path recess is formed in an arc shape,
You may do so.

また、上述したベーパーチャンバにおいて、
前記第2金属シートは、前記第1金属シートの側の面に設けられ、前記密封空間の一部を構成し、前記作動液の蒸気が通る第2蒸気流路凹部と、前記第2蒸気流路凹部の底面から突出して前記第1金属シートに当接する第2当接面を含む第2流路壁部と、を有し、
前記第2当接面に、前記密封空間の一部を構成し、液状の前記作動液が通る第2液流路凹部が設けられ、
前記第2液流路凹部は、第2凹部開口部と、前記第2凹部開口部よりも前記第2液流路凹部の底側に設けられた第2大幅部と、を有し、
前記第2液流路凹部の横断面において、前記第2大幅部の幅は、前記第2凹部開口部の幅よりも大きい、
ようにしてもよい。
Also, in the vapor chamber described above,
The second metal sheet is provided on the side of the first metal sheet and constitutes a part of the sealed space. a second channel wall portion including a second contact surface protruding from the bottom surface of the channel recess and contacting the first metal sheet;
The second contact surface is provided with a second liquid flow path recess that constitutes a part of the sealed space and through which the liquid working liquid passes,
The second liquid flow path recess has a second recess opening and a second large portion provided closer to the bottom side of the second liquid flow path recess than the second recess opening,
In the cross section of the second liquid flow path recess, the width of the second large portion is larger than the width of the opening of the second recess,
You may do so.

また、上述したベーパーチャンバにおいて、
前記第1液流路凹部と、前記第2液流路凹部は、互いに対向している、
ようにしてもよい。
Also, in the vapor chamber described above,
The first liquid flow path recess and the second liquid flow path recess are opposed to each other,
You may do so.

また、上述したベーパーチャンバにおいて、
前記第1液流路凹部に、前記第2当接面の一部が露出している、
ようにしてもよい。
Also, in the vapor chamber described above,
A part of the second contact surface is exposed in the first liquid flow path recess,
You may do so.

また、上述したベーパーチャンバにおいて、
前記第2液流路凹部に、前記第1当接面の一部が露出している、
ようにしてもよい。
Also, in the vapor chamber described above,
A part of the first contact surface is exposed to the second liquid flow path recess,
You may do so.

また、本発明は、
作動液が封入された密封空間を有するベーパーチャンバのためのベーパーチャンバ用金属シートであって、
前記密封空間の一部を構成し、前記作動液の蒸気が通る蒸気流路凹部と、
前記蒸気流路凹部の底面から突出する、突出端面を含む流路壁部と、を備え、
前記突出端面に、液状の前記作動液が通る液流路凹部が設けられ、
前記液流路凹部は、凹部開口部と、前記凹部開口部よりも前記液流路凹部の底側に設けられた大幅部と、を有し、
前記液流路凹部の横断面において、前記大幅部の幅は、前記凹部開口部の幅よりも大きい、
ベーパーチャンバ用金属シート、
を提供する。
In addition, the present invention
A vapor chamber metal sheet for a vapor chamber having a sealed space in which a hydraulic fluid is enclosed,
a vapor flow channel recess forming part of the sealed space, through which the vapor of the working fluid passes;
a channel wall portion including a protruding end face that protrudes from the bottom surface of the steam channel recess,
A liquid flow path concave portion through which the liquid working fluid passes is provided on the projecting end surface,
The liquid flow path recess has a recess opening and a large portion provided closer to the bottom side of the liquid flow path recess than the recess opening,
In the cross section of the liquid flow path recess, the width of the large portion is larger than the width of the recess opening.
metal sheet for vapor chamber,
I will provide a.

さらに、本発明は、
作動液が封入された密封空間を有するベーパーチャンバであって、
第1金属シートと、
前記第1金属シート上に設けられ、前記第1金属シートとの間に前記密封空間を形成する第2金属シートと、を備え、
前記第1金属シートは、前記第2金属シートの側の面に設けられ、前記密封空間の一部を構成し、前記作動液の蒸気が通る第1蒸気流路凹部と、前記第1蒸気流路凹部の底面から突出して前記第2金属シートに当接する第1当接面を含む第1流路壁部と、を有し、
前記第2金属シートは、前記第1金属シートの側の面に設けられ、前記密封空間の一部を構成し、前記作動液の蒸気が通る第2蒸気流路凹部と、前記第2蒸気流路凹部の底面から突出して前記第1金属シートに当接する第2当接面を含む第2流路壁部と、を有し、
前記第1当接面に、前記密封空間の一部を構成し、液状の前記作動液が通る第1液流路凹部が設けられ、
前記第2当接面に、前記密封空間の一部を構成し、液状の前記作動液が通る第2液流路凹部が設けられ、
前記第1液流路凹部と、前記第2液流路凹部は、互いに対向し、
前記第1液流路凹部に、前記第2当接面の一部が露出している、または、前記第2液流路凹部に、前記第1当接面の一部が露出している、
ベーパーチャンバ、
を提供する。
Furthermore, the present invention provides
A vapor chamber having a sealed space in which a hydraulic fluid is enclosed,
a first metal sheet;
a second metal sheet provided on the first metal sheet and forming the sealed space with the first metal sheet;
The first metal sheet is provided on the surface on the side of the second metal sheet, constitutes a part of the sealed space, and includes a first vapor flow path concave portion through which the vapor of the working fluid passes, and the first vapor flow. a first channel wall portion including a first contact surface that protrudes from the bottom surface of the channel recess and contacts the second metal sheet;
The second metal sheet is provided on the side of the first metal sheet and constitutes a part of the sealed space. a second channel wall portion including a second contact surface protruding from the bottom surface of the channel recess and contacting the first metal sheet;
The first contact surface is provided with a first liquid flow path recess that constitutes a part of the sealed space and through which the liquid working liquid passes,
The second contact surface is provided with a second liquid flow path recess that constitutes a part of the sealed space and through which the liquid working liquid passes,
the first liquid flow path recess and the second liquid flow path recess are opposed to each other,
A part of the second contact surface is exposed to the first liquid flow path recess, or a part of the first contact surface is exposed to the second liquid flow path recess,
vapor chamber,
I will provide a.

なお、上述したベーパーチャンバにおいて、
前記第1液流路凹部に前記第2当接面の一部が露出し、かつ、前記第2液流路凹部に前記第1当接面の一部が露出している、
ようにしてもよい。
In addition, in the vapor chamber described above,
A part of the second contact surface is exposed in the first liquid flow path recess, and a part of the first contact surface is exposed in the second liquid flow path recess,
You may do so.

本発明によれば、作動液の流路抵抗を小さくしつつ毛細管作用を高めることができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, a capillary action can be improved, reducing the flow-path resistance of a hydraulic fluid.

図1は、本発明の第1の実施の形態によるベーパーチャンバを示す上面図である。FIG. 1 is a top view showing a vapor chamber according to a first embodiment of the invention. 図2は、図1のベーパーチャンバを示すA-A線断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA showing the vapor chamber of FIG. 1. FIG. 図3は、図1の下側金属シートの上面図である。3 is a top view of the lower metal sheet of FIG. 1; FIG. 図4は、図1の上側金属シートの下面図である。4 is a bottom view of the upper metal sheet of FIG. 1; FIG. 図5は、図3の液流路凹部を示すB部拡大上面図である。FIG. 5 is an enlarged top view of the B portion showing the liquid flow path concave portion of FIG. 図6は、図2の液流路凹部を示すC部拡大断面図である。6 is an enlarged cross-sectional view of the portion C showing the liquid flow path concave portion of FIG. 2. FIG. 図7は、図1のベーパーチャンバの製造方法において、金属材料シートの準備工程を説明するための図である。FIG. 7 is a diagram for explaining a step of preparing a metal material sheet in the vapor chamber manufacturing method of FIG. 図8は、図1のベーパーチャンバの製造方法において、金属材料シートのハーフエッチング工程を説明するための図である。FIG. 8 is a diagram for explaining the half-etching step of the metal material sheet in the vapor chamber manufacturing method of FIG. 図9は、図8のハーフエッチング工程において、金属材料シートの上面へのレジスト膜の形成工程を説明するための図である。FIG. 9 is a diagram for explaining the step of forming a resist film on the upper surface of the metal material sheet in the half-etching step of FIG. 図10は、図8のハーフエッチング工程において、図9のレジスト膜のパターン化工程を説明するための図である。FIG. 10 is a diagram for explaining the patterning process of the resist film of FIG. 9 in the half-etching process of FIG. 図11は、図8のハーフエッチング工程において、金属材料シートのハーフエッチング工程を説明するための図である。FIG. 11 is a diagram for explaining the half-etching process of the metal material sheet in the half-etching process of FIG. 図12は、図8のハーフエッチング工程において、レジスト膜の除去工程を説明するための図である。12A and 12B are diagrams for explaining the step of removing the resist film in the half-etching step of FIG. 図13は、図1のベーパーチャンバの製造方法において、仮止め工程を説明するための図である。13A and 13B are diagrams for explaining a temporary fixing step in the manufacturing method of the vapor chamber of FIG. 1. FIG. 図14は、図1のベーパーチャンバの製造方法において、恒久接合工程を説明するための図である。FIG. 14 is a diagram for explaining a permanent bonding step in the vapor chamber manufacturing method of FIG. 図15は、図1のベーパーチャンバの製造方法において、作動液の封入工程を説明するための図である。15A and 15B are diagrams for explaining a working fluid filling step in the method of manufacturing the vapor chamber of FIG. 1. FIG. 図16は、図6の変形例(変形例1)を示す図である。FIG. 16 is a diagram showing a modification (modification 1) of FIG. 図17は、図6の他の変形例(変形例2)を示す図である。FIG. 17 is a diagram showing another modification (modification 2) of FIG. 図18は、本発明の第2の実施の形態におけるベーパーチャンバにおいて、液流路凹部を示す拡大断面図である。FIG. 18 is an enlarged cross-sectional view showing the liquid flow path recess in the vapor chamber according to the second embodiment of the present invention. 図19は、図18の変形例(変形例3)を示す図である。19 is a diagram showing a modification (modification 3) of FIG. 18. FIG. 図20は、図18の他の変形例(変形例4)を示す図である。FIG. 20 is a diagram showing another modification (modification 4) of FIG. 図21は、図18の他の変形例(変形例5)を示す図である。21 is a diagram showing another modification (modification 5) of FIG. 18. FIG. 図22は、図18の他の変形例(変形例6)を示す図である。FIG. 22 is a diagram showing another modification (modification 6) of FIG. 図23は、図18の他の変形例(変形例7)を示す図である。23 is a diagram showing another modification (modification 7) of FIG. 18. FIG.

以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。なお、本明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺及び縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the drawings attached to this specification, for the sake of ease of illustration and understanding, the scale, length-to-width ratio, etc. are appropriately changed and exaggerated from those of the real thing.

(第1の実施の形態)
図1乃至図17を用いて、本発明の第1の実施の形態におけるベーパーチャンバおよびベーパーチャンバ用金属シートついて説明する。本実施の形態におけるベーパーチャンバ1は、作動液2が封入された密封空間3を有しており、密封空間3内の作動液2が相変化を繰り返すことにより、携帯端末やタブレット端末といったモバイル端末等で使用される中央演算処理装置(CPU)等の発熱を伴うデバイスD(被冷却装置)を冷却するための装置である。ベーパーチャンバ1は、概略的に薄い平板状に形成されている。
(First embodiment)
A vapor chamber and a vapor chamber metal sheet according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 17. FIG. The vapor chamber 1 according to the present embodiment has a sealed space 3 in which a working fluid 2 is enclosed. It is a device for cooling a device D (device to be cooled) that generates heat such as a central processing unit (CPU) used in, for example. The vapor chamber 1 is generally formed in the shape of a thin flat plate.

図1および図2に示すように、ベーパーチャンバ1は、上面10aを有する下側金属シート10(第1金属シート)と、下側金属シート10上に設けられた上側金属シート20(第2金属シート)と、を備えている。下側金属シート10および上側金属シート20は、いずれもベーパーチャンバ用金属シートに相当する。上側金属シート20は、下側金属シート10の上面10a(上側金属シート20の側の面)に重ね合わされた下面20a(下側金属シート10の側の面)を有している。下側金属シート10の下面10b(とりわけ、後述する蒸発部11の下面)に、冷却対象物であるデバイスDが取り付けられる。 As shown in FIGS. 1 and 2, the vapor chamber 1 includes a lower metal sheet 10 (first metal sheet) having an upper surface 10a and an upper metal sheet 20 (second metal sheet) provided on the lower metal sheet 10. seat) and Both the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 correspond to vapor chamber metal sheets. The upper metal sheet 20 has a lower surface 20a (the surface on the side of the lower metal sheet 10) that overlaps the upper surface 10a of the lower metal sheet 10 (the surface on the side of the upper metal sheet 20). A device D, which is an object to be cooled, is attached to the lower surface 10b of the lower metal sheet 10 (in particular, the lower surface of the evaporator 11, which will be described later).

下側金属シート10と上側金属シート20との間には、作動液2が封入された密封空間3が形成されている。作動液2の例としては、純水、エタノール、メタノール、アセトン等が挙げられる。 Between the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20, a sealed space 3 is formed in which the hydraulic fluid 2 is enclosed. Examples of the working liquid 2 include pure water, ethanol, methanol, acetone, and the like.

下側金属シート10と上側金属シート20とは、後述する拡散接合によって接合されている。図1および図2に示す形態では、下側金属シート10および上側金属シート20は、平面視でいずれも矩形状に形成されている例が示されているが、これに限られることはない。ここで平面視とは、ベーパーチャンバ1がデバイスDから熱を受ける面(下側金属シート10の下面10b)、および受けた熱を放出する面(上側金属シート20の上面20b)に直交する方向から見た状態であって、例えば、ベーパーチャンバ1を上方から見た状態(図1参照)、または下方から見た状態に相当している。 The lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are bonded by diffusion bonding, which will be described later. 1 and 2 show an example in which both the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are formed in a rectangular shape in a plan view, but they are not limited to this. Here, the plane view is a direction perpendicular to the surface of the vapor chamber 1 that receives heat from the device D (the lower surface 10b of the lower metal sheet 10) and the surface that releases the received heat (the upper surface 20b of the upper metal sheet 20). 1, which corresponds to, for example, the vapor chamber 1 viewed from above (see FIG. 1) or from below.

なお、ベーパーチャンバ1がモバイル端末内に設置される場合、モバイル端末の姿勢によっては、下側金属シート10と上側金属シート20との上下関係が崩れる場合もある。しかしながら、本実施の形態では、デバイスDから熱を受ける金属シートを下側金属シート10と称し、受けた熱を放出する金属シートを上側金属シート20と称して、下側金属シート10が下側に配置され、上側金属シート20が上側に配置された状態で説明する。 When the vapor chamber 1 is installed in a mobile terminal, the vertical relationship between the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 may be disrupted depending on the orientation of the mobile terminal. However, in the present embodiment, the metal sheet that receives heat from the device D is called the lower metal sheet 10, the metal sheet that releases the received heat is called the upper metal sheet 20, and the lower metal sheet 10 is the lower side. , and the upper metal sheet 20 is arranged on the upper side.

図3に示すように、下側金属シート10は、作動液2が蒸発して蒸気を生成する蒸発部11と、上面10aに設けられ、平面視で矩形状に形成された下側蒸気流路凹部12(第1蒸気流路凹部)と、を有している。このうち下側蒸気流路凹部12は、上述した密封空間3の一部を構成しており、主として、蒸発部11で生成された蒸気が通るように構成されている。 As shown in FIG. 3, the lower metal sheet 10 includes an evaporator 11 in which the working fluid 2 evaporates to generate steam, and a lower steam channel provided on the upper surface 10a and formed in a rectangular shape in plan view. and a concave portion 12 (first steam flow channel concave portion). Of these, the lower steam flow passage concave portion 12 constitutes a part of the sealed space 3 described above, and is mainly configured so that the steam generated in the evaporating portion 11 passes therethrough.

蒸発部11は、この下側蒸気流路凹部12内に配置されており、下側蒸気流路凹部12内の蒸気は、蒸発部11から離れる方向に拡散して、蒸気の多くは、比較的温度の低い周縁部に輸送される。なお、蒸発部11は、下側金属シート10の下面10bに取り付けられるデバイスDから熱を受けて、密封空間3内の作動液2が蒸発する部分である。このため、蒸発部11という用語は、デバイスDに重なっている部分に限られる概念ではなく、デバイスDに重なっていなくても作動液2が蒸発可能な部分をも含む概念として用いている。ここで蒸発部11は、下側金属シート10の任意の場所に設けることができるが、図1および図3においては、下側金属シート10の中央部に設けられている例が示されている。この場合、ベーパーチャンバ1が設置されたモバイル端末の姿勢が、ベーパーチャンバ1の動作の安定化に影響を及ぼすことを抑制できる。 The evaporating section 11 is arranged in the lower steam channel recess 12, and the steam in the lower steam channel recess 12 diffuses away from the evaporating section 11, and most of the steam is relatively It is transported to the cooler periphery. The evaporating portion 11 is a portion where the working fluid 2 in the sealed space 3 evaporates by receiving heat from the device D attached to the lower surface 10b of the lower metal sheet 10 . Therefore, the term evaporating portion 11 is not limited to the portion overlapping the device D, but is used as a concept including the portion where the working fluid 2 can evaporate even if it does not overlap the device D. Here, the evaporator 11 can be provided at any location on the lower metal sheet 10, but FIGS. 1 and 3 show an example in which it is provided at the central portion of the lower metal sheet 10. . In this case, it is possible to prevent the attitude of the mobile terminal in which the vapor chamber 1 is installed from affecting the stabilization of the operation of the vapor chamber 1 .

本実施の形態では、図2および図3に示すように、下側金属シート10の下側蒸気流路凹部12内に、下側蒸気流路凹部12の底面12a(後述)から上方(底面12aに垂直な方向)に突出する複数の下側流路壁部13(第1流路壁部)が設けられている。本実施の形態では、下側流路壁部13は、ベーパーチャンバ1の長手方向(図3にける左右方向)に沿って細長状に延びている例が示されており、後述する上側流路壁部22の下面22aに当接する上面13a(第1当接面、突出端面)を含んでいる。また、各下側流路壁部13は等間隔に離間して、互いに平行に配置されている。このようにして、各下側流路壁部13の周囲を作動液2の蒸気が流れて、下側蒸気流路凹部12の周縁部に蒸気が輸送されるように構成されており、蒸気の流れが妨げられることを抑制している。また、下側流路壁部13は、上側金属シート20の対応する上側流路壁部22(後述)に平面視で重なるように配置されており、ベーパーチャンバ1の機械的強度の向上を図っている。下側流路壁部13の幅w0は、例えば、100μm~1500μmであり、互いに隣り合う下側流路壁部13同士の間隔dは、100μm~2000μmであることが好適である。ここで、幅w0は、下側流路壁部13の長手方向に直交する方向における下側流路壁部13の寸法を意味しており、例えば、図3および図5における上下方向の寸法に相当する。また、下側流路壁部13の高さ(言い換えると、下側蒸気流路凹部12の深さ)h0(図2参照)は、100μm~300μmであることが好適である。 In the present embodiment, as shown in FIGS. 2 and 3, in the lower steam channel recessed portion 12 of the lower metal sheet 10, from the bottom surface 12a (described later) of the lower steam channel recessed portion 12 to the upper side (bottom surface 12a). A plurality of lower flow path wall portions 13 (first flow path wall portions) projecting in a direction perpendicular to the vertical direction) are provided. In the present embodiment, an example in which the lower flow path wall portion 13 extends in an elongated shape along the longitudinal direction of the vapor chamber 1 (horizontal direction in FIG. 3) is shown, and the upper flow path described later. It includes an upper surface 13 a (first contact surface, projecting end surface) that contacts the lower surface 22 a of the wall portion 22 . In addition, the respective lower flow path wall portions 13 are arranged in parallel with each other at regular intervals. In this manner, the vapor of the working fluid 2 flows around each lower flow path wall portion 13 and is transported to the peripheral edge portion of the lower vapor flow path concave portion 12. Prevents obstruction of flow. In addition, the lower channel wall portion 13 is arranged so as to overlap a corresponding upper channel wall portion 22 (described later) of the upper metal sheet 20 in a plan view, thereby improving the mechanical strength of the vapor chamber 1 . ing. The width w0 of the lower channel wall portion 13 is, for example, 100 μm to 1500 μm, and the interval d between the adjacent lower channel wall portions 13 is preferably 100 μm to 2000 μm. Here, the width w0 means the dimension of the lower channel wall portion 13 in the direction orthogonal to the longitudinal direction of the lower channel wall portion 13, for example, the vertical dimension in FIGS. Equivalent to. Also, the height of the lower flow path wall portion 13 (in other words, the depth of the lower steam flow path concave portion 12) h0 (see FIG. 2) is preferably 100 μm to 300 μm.

図2および図3に示すように、下側金属シート10の周縁部には、下側周縁壁14が設けられている。下側周縁壁14は、密封空間3、とりわけ下側蒸気流路凹部12を囲むように形成されており、密封空間3を画定している。また、平面視で下側周縁壁14の四隅に、下側金属シート10と上側金属シート20との位置決めをするための下側アライメント孔15がそれぞれ設けられている。 As shown in FIGS. 2 and 3, a lower peripheral wall 14 is provided at the peripheral edge of the lower metal sheet 10 . The lower peripheral wall 14 is formed so as to surround the sealed space 3 , particularly the lower steam channel recess 12 , and defines the sealed space 3 . Lower alignment holes 15 for positioning the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are provided at the four corners of the lower peripheral wall 14 in plan view.

本実施の形態では、上側金属シート20は、後述する下側液流路凹部30が設けられていない点を除けば、下側金属シート10と略同一の構造を有している。以下に、上側金属シート20の構成についてより詳細に説明する。 In the present embodiment, the upper metal sheet 20 has substantially the same structure as the lower metal sheet 10, except that the lower liquid flow path concave portion 30, which will be described later, is not provided. The configuration of the upper metal sheet 20 will be described in more detail below.

図2および図4に示すように、上側金属シート20は、下面20aに設けられた上側蒸気流路凹部21(第2蒸気流路凹部)を有している。この上側蒸気流路凹部21は、密封空間3の一部を構成しており、主として、蒸発部11で生成された蒸気が通り、当該蒸気を冷却するように構成されている。より具体的には、上側蒸気流路凹部21内の蒸気は、蒸発部11から離れる方向に拡散して、蒸気の多くは、比較的温度の低い周縁部に輸送される。また、図2に示すように、上側金属シート20の上面20bには、モバイル端末等のハウジングの一部を構成するハウジング部材Hが配置される。このことにより、上側蒸気流路凹部21内の蒸気は、上側金属シート20およびハウジング部材Hを介して外気によって冷却される。 As shown in FIGS. 2 and 4, the upper metal sheet 20 has an upper steam channel recess 21 (second steam channel recess) provided on the lower surface 20a. The upper steam flow passage concave portion 21 constitutes a part of the sealed space 3 and is mainly configured so that the steam generated in the evaporating portion 11 passes through and cools the steam. More specifically, the steam in the upper steam passage concave portion 21 diffuses away from the evaporating portion 11, and most of the steam is transported to the peripheral portion where the temperature is relatively low. Further, as shown in FIG. 2, on the upper surface 20b of the upper metal sheet 20 is arranged a housing member H that constitutes a part of the housing of a mobile terminal or the like. As a result, the steam in the upper steam passage recess 21 is cooled by the outside air through the upper metal sheet 20 and the housing member H.

本実施の形態では、図1および図4に示すように、上側金属シート20の上側蒸気流路凹部21内に、上側蒸気流路凹部21の天井面21a(上側金属シート20を上下反転させた場合には上側蒸気流路凹部21の底面に相当する)から下方(天井面21aに垂直な方向)に突出する複数の上側流路壁部22(第2流路壁部)が設けられている。本実施の形態では、上側流路壁部22は、ベーパーチャンバ1の長手方向(図4における左右方向)に沿って細長状に延びている例が示されており、上述した下側流路壁部13の上面13aに当接する下面22a(第2当接面、突出端面)を含んでいる。また、各上側流路壁部22は、等間隔に離間して、互いに平行に配置されている。このようにして、各上側流路壁部22の周囲を作動液2の蒸気が流れて、上側蒸気流路凹部21の周縁部に蒸気が輸送されるように構成されており、蒸気の流れが妨げられることを抑制している。また、上側流路壁部22は、下側金属シート10の対応する下側流路壁部13に平面視で重なるように配置されており、ベーパーチャンバ1の機械的強度の向上を図っている。なお、上側流路壁部22の幅、高さは、上述した下側流路壁部13の幅w0、高さh0と同一であることが好適である。 In the present embodiment, as shown in FIGS. 1 and 4, the ceiling surface 21a of the upper steam channel recess 21 (the upper metal sheet 20 is turned upside down) is provided in the upper steam channel recess 21 of the upper metal sheet 20. A plurality of upper flow path wall portions 22 (second flow path wall portions) protruding downward (in a direction perpendicular to the ceiling surface 21a) are provided. . In the present embodiment, an example in which the upper flow path wall portion 22 extends in an elongated shape along the longitudinal direction of the vapor chamber 1 (horizontal direction in FIG. 4) is shown, and the upper flow path wall portion 22 extends in an elongated shape along the above-described lower flow path wall. It includes a lower surface 22a (second contact surface, projecting end surface) that contacts the upper surface 13a of the portion 13 . Moreover, each upper flow-path wall part 22 is spaced apart by equal intervals, and is mutually arrange|positioned in parallel. In this manner, the vapor of the working fluid 2 flows around each upper flow path wall portion 22 and is transported to the peripheral edge portion of the upper vapor flow path concave portion 21. Avoid being hindered. In addition, the upper channel wall portion 22 is arranged so as to overlap the corresponding lower channel wall portion 13 of the lower metal sheet 10 in a plan view, thereby improving the mechanical strength of the vapor chamber 1. . The width and height of the upper channel wall portion 22 are preferably the same as the width w0 and height h0 of the lower channel wall portion 13 described above.

図2および図4に示すように、上側金属シート20の周縁部には、上側周縁壁23が設けられている。上側周縁壁23は、密封空間3、とりわけ上側蒸気流路凹部21を囲むように形成されており、密封空間3を画定している。また、平面視で上側周縁壁23の四隅に、下側金属シート10と上側金属シート20との位置決めをするための上側アライメント孔24がそれぞれ設けられている。すなわち、各上側アライメント孔24は、後述する仮止め時に、上述した各下側アライメント孔15に重なるように配置され、下側金属シート10と上側金属シート20との位置決めが可能に構成されている。 As shown in FIGS. 2 and 4, the upper metal sheet 20 has an upper peripheral wall 23 at its peripheral edge. The upper peripheral wall 23 is formed so as to surround the sealed space 3 , particularly the upper steam channel recess 21 , and defines the sealed space 3 . Further, upper alignment holes 24 for positioning the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are provided at the four corners of the upper peripheral wall 23 in plan view. That is, each upper alignment hole 24 is arranged so as to overlap with each lower alignment hole 15 described above at the time of temporary fixing, which will be described later, so that the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 can be positioned. .

このような下側金属シート10と上側金属シート20とは、好適には拡散接合で、互いに恒久的に接合されている。より具体的には、図2に示すように、下側金属シート10の下側周縁壁14の上面14aと、上側金属シート20の上側周縁壁23の下面23aとが当接し、下側周縁壁14と上側周縁壁23とが互いに接合されている。このことにより、下側金属シート10と上側金属シート20との間に、作動液2を密封した密封空間3が形成されている。また、下側金属シート10の下側流路壁部13の上面13aと、上側金属シート20の上側流路壁部22の下面22aとが当接し、各下側流路壁部13と対応する上側流路壁部22とが互いに接合されている。このことにより、ベーパーチャンバ1の機械的強度を向上させている。とりわけ、本実施の形態による下側流路壁部13および上側流路壁部22は等間隔に配置されているため、ベーパーチャンバ1の各位置における機械的強度を均等化させることができる。なお、下側金属シート10と上側金属シート20とは、拡散接合ではなく、恒久的に接合できれば、ろう付け等の他の方式で接合されていてもよい。 Such lower metal sheet 10 and upper metal sheet 20 are permanently bonded together, preferably by diffusion bonding. More specifically, as shown in FIG. 2, the upper surface 14a of the lower peripheral wall 14 of the lower metal sheet 10 and the lower surface 23a of the upper peripheral wall 23 of the upper metal sheet 20 are in contact with each other. 14 and the upper peripheral wall 23 are joined together. As a result, a sealed space 3 in which the hydraulic fluid 2 is sealed is formed between the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 . Further, the upper surface 13a of the lower flow channel wall portion 13 of the lower metal sheet 10 and the lower surface 22a of the upper flow channel wall portion 22 of the upper metal sheet 20 abut against each lower flow channel wall portion 13. The upper channel wall portion 22 is joined to each other. This improves the mechanical strength of the vapor chamber 1 . In particular, since the lower channel wall portion 13 and the upper channel wall portion 22 according to the present embodiment are arranged at regular intervals, the mechanical strength at each position of the vapor chamber 1 can be made uniform. Note that the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 may be joined by other methods such as brazing instead of diffusion joining as long as they can be joined permanently.

また、図1に示すように、ベーパーチャンバ1は、長手方向における一対の端部のうちの一方の端部に、密封空間3に作動液2を注入する注入部4を更に備えている。この注入部4は、下側金属シート10の端面から突出する下側注入突出部16と、上側金属シート20の端面から突出する上側注入突出部25と、を有している。このうち下側注入突出部16の上面に下側注入流路凹部17が形成され、上側注入突出部25の下面に上側注入流路凹部26が形成されている。下側注入流路凹部17は、下側蒸気流路凹部12に連通しており、上側注入流路凹部26は、上側蒸気流路凹部21に連通している。下側注入流路凹部17および上側注入流路凹部26は、下側金属シート10と上側金属シート20とが接合された際、作動液2の注入流路を形成する。当該注入流路を通過して作動液2は密封空間3に注入される。なお、本実施の形態では、注入部4は、ベーパーチャンバ1の長手方向における一対の端部のうちの一方の端部に設けられている例が示されているが、これに限られることはない。 In addition, as shown in FIG. 1, the vapor chamber 1 further includes an injection part 4 for injecting the working fluid 2 into the sealed space 3 at one of the pair of longitudinal ends. The injection part 4 has a lower injection projection 16 projecting from the end surface of the lower metal sheet 10 and an upper injection projection 25 projecting from the end surface of the upper metal sheet 20 . A lower injection channel recess 17 is formed on the upper surface of the lower injection projection 16 , and an upper injection channel recess 26 is formed on the lower surface of the upper injection projection 25 . The lower injection channel recess 17 communicates with the lower steam channel recess 12 , and the upper injection channel recess 26 communicates with the upper steam channel recess 21 . The lower injection channel recess 17 and the upper injection channel recess 26 form injection channels for the working liquid 2 when the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are joined. The working fluid 2 is injected into the sealed space 3 through the injection channel. In addition, in the present embodiment, an example in which the injection part 4 is provided at one end of a pair of ends in the longitudinal direction of the vapor chamber 1 is shown, but it is not limited to this. do not have.

次に、下側金属シート10の下側液流路凹部30について、図3、図5および図6を用いてより詳細に説明する。 Next, the lower liquid flow path recesses 30 of the lower metal sheet 10 will be described in more detail with reference to FIGS. 3, 5 and 6. FIG.

図3および図5に示すように、各下側流路壁部13の上面13aに、液状の作動液2が通る下側液流路凹部30(第1液流路凹部)が設けられている。より具体的には、下側液流路凹部30は、下側流路壁部13の上面13aに形成されている。下側液流路凹部30は、上述した密封空間3の一部を構成しており、上述した下側蒸気流路凹部12および上側蒸気流路凹部21に連通している。下側液流路凹部30は、主として、蒸発部11で生成された蒸気から凝縮した作動液2を蒸発部11に輸送するように構成されている。本実施の形態では、下側液流路凹部30は、下側流路壁部13の長手方向(図3における左右方向)に沿って、細長状に延びている例が示されており、下側流路壁部13の長手方向における一端から他端まで延びている。このようにして、下側蒸気流路凹部12の周縁部および上側蒸気流路凹部21の周縁部において凝縮した液状の作動液2を、毛細管作用によって蒸発部11に輸送するようになっている。1つの下側流路壁部13の上面13aには、複数の下側液流路凹部30が形成されており、各下側液流路凹部30は、等間隔に離間して、互いに平行に配置されている。 As shown in FIGS. 3 and 5, the upper surface 13a of each lower flow path wall portion 13 is provided with a lower liquid flow path recess 30 (first liquid flow path recess) through which the liquid working fluid 2 passes. . More specifically, the lower liquid flow channel recess 30 is formed on the upper surface 13 a of the lower flow channel wall 13 . The lower liquid flow channel recess 30 constitutes a part of the above-described sealed space 3 and communicates with the above-described lower steam flow channel recess 12 and upper steam flow channel recess 21 . The lower liquid flow path recess 30 is mainly configured to transport the working fluid 2 condensed from the vapor generated in the evaporator 11 to the evaporator 11 . In the present embodiment, an example in which the lower liquid flow channel recessed portion 30 extends in an elongated shape along the longitudinal direction of the lower flow channel wall portion 13 (horizontal direction in FIG. 3) is shown. It extends from one end to the other end in the longitudinal direction of the side channel wall portion 13 . In this manner, the liquid working fluid 2 condensed at the peripheral edge of the lower steam channel recess 12 and the peripheral edge of the upper steam channel recess 21 is transported to the evaporator 11 by capillary action. A plurality of lower liquid flow channel recesses 30 are formed on the upper surface 13a of one lower flow channel wall portion 13, and the respective lower liquid flow channel recesses 30 are spaced apart at equal intervals and parallel to each other. are placed.

なお、図示しないが、各下側液流路凹部30は、蒸発部11においても、下側蒸気流路凹部12に連通している。例えば、下側液流路凹部30を横切る方向(図3および図5における上下方向)に延びる液流路凹部が設けられて、この液流路凹部が、各下側液流路凹部30と下側蒸気流路凹部12とを連通するようにしてもよい。あるいは、蒸発部11において、上側流路壁部22の下面22aを下側流路壁部13の上面13aから離間させておき、当該上面13aと当該下面22aとの間の空間を下側蒸気流路凹部12および上側蒸気流路凹部21に連通させるようにしてもよい。 Although not shown, each lower liquid flow path recess 30 communicates with the lower steam flow path recess 12 in the evaporator 11 as well. For example, a liquid flow path recess extending in a direction crossing the lower liquid flow path recesses 30 (the vertical direction in FIGS. 3 and 5) is provided, and the liquid flow path recesses are aligned with the respective lower liquid flow path recesses 30 and below. You may make it connect with the side steam-flow-path recessed part 12. FIG. Alternatively, in the evaporating section 11, the lower surface 22a of the upper flow passage wall portion 22 is separated from the upper surface 13a of the lower flow passage wall portion 13, and the space between the upper surface 13a and the lower surface 22a is defined as the lower vapor flow. The passage recess 12 and the upper steam passage recess 21 may be communicated with each other.

図6に示すように、下側液流路凹部30は、下側流路壁部13の上面13aに形成されており、上方に向って開口している。すなわち、下側液流路凹部30は、下側凹部開口部31(第1凹部開口部)と、下側凹部開口部31よりも下側液流路凹部30の底側に配置された下側大幅部32(第1大幅部)と、を有している。下側凹部開口部31は、下側液流路凹部30のうち下側流路壁部13の上面13aに相当する位置における開口である。下側大幅部32は、下側凹部開口部31よりも図6における底側に配置されている。 As shown in FIG. 6, the lower liquid flow channel recess 30 is formed on the upper surface 13a of the lower flow channel wall 13 and opens upward. That is, the lower liquid flow path recess 30 includes a lower recess opening 31 (first recess opening) and a lower recess located on the bottom side of the lower liquid flow path recess 30 relative to the lower recess opening 31. and a large portion 32 (first large portion). The lower recessed portion opening 31 is an opening at a position corresponding to the upper surface 13 a of the lower flow path wall portion 13 in the lower liquid flow path recessed portion 30 . The lower large portion 32 is arranged closer to the bottom in FIG. 6 than the lower recess opening 31 .

下側液流路凹部30は、下側凹部開口部31から下側液流路凹部30の底側に向かって膨らむように(逆テーパ状に)形成されている。より具体的には、下側凹部開口部31から底側に向かって、徐々に幅が大きくなり、下側大幅部32で下側液流路凹部30の幅が最大となっている。下側大幅部32から更に底側に向かって、徐々に幅が小さくなっている。このようにして、本実施の形態では、下側液流路凹部30の横断面において、下側大幅部32の幅w2は、下側凹部開口部31の幅w1よりも大きくなっている。なお、横断面とは、下側液流路凹部30の長手方向に垂直な断面を意味する。 The lower liquid flow path recess 30 is formed (inverted tapered) so as to expand from the lower recess opening 31 toward the bottom side of the lower liquid flow path recess 30 . More specifically, the width gradually increases from the lower concave portion opening 31 toward the bottom side, and the width of the lower liquid flow channel concave portion 30 is maximum at the lower large portion 32 . The width gradually decreases from the lower large portion 32 toward the bottom side. Thus, in the present embodiment, the width w2 of the lower wide portion 32 is larger than the width w1 of the lower recess opening 31 in the cross section of the lower liquid flow path recess 30 . In addition, the cross section means a cross section perpendicular to the longitudinal direction of the lower liquid flow path concave portion 30 .

図6に示すように、下側液流路凹部30の横断面は、円弧状に形成されていることが好適である。ここでは、下側液流路凹部30の横断面は、C字状に形成されている。このような下側液流路凹部30の横断面形状は、タコつぼ形状になっていると言うこともできる。 As shown in FIG. 6, the cross section of the lower liquid flow path concave portion 30 is preferably formed in an arc shape. Here, the cross section of the lower liquid flow path concave portion 30 is formed in a C shape. It can also be said that the cross-sectional shape of such a lower liquid flow path concave portion 30 is an octopus pot shape.

下側液流路凹部30の幅w1、w2は、下側流路壁部13の幅w0よりも小さくなっている。このことにより、下側液流路凹部30は、作動液2の蒸気から凝縮した液状の作動液2で充填されて、充填された液状の作動液2が、毛細管作用によって蒸発部11に輸送される。一方、下側蒸気流路凹部12および上側蒸気流路凹部21は、下側液流路凹部30の流路断面積よりも大きい流路断面積を有しているため、主として、蒸発部11で生成された作動液2の蒸気が通過する。 Widths w1 and w2 of the lower liquid flow channel recess 30 are smaller than the width w0 of the lower flow channel wall 13 . As a result, the lower liquid flow path concave portion 30 is filled with the liquid working fluid 2 condensed from the vapor of the working fluid 2, and the filled liquid working fluid 2 is transported to the evaporating portion 11 by capillary action. be. On the other hand, since the lower steam channel recess 12 and the upper steam channel recess 21 have channel cross-sectional areas larger than the channel cross-sectional area of the lower liquid channel recess 30, Vapors of the working fluid 2 produced pass through.

下側液流路凹部30の幅w1、w2は、下側液流路凹部30の長手方向に直交する方向における下側液流路凹部30の寸法を意味しており、例えば、図5における上下方向の寸法、または図6における左右方向の寸法に相当する。幅w1は、10μm~100μmであり、幅w2は、20μmから150μmであることが好適である。幅w1や幅w2は、後述するようにハーフエッチング加工で下側液流路凹部30を形成する際に、エッチング液のスプレー圧を制御することにより、調整することができる。また、下側液流路凹部30の深さh1は、幅w1や幅w2の大きさにもよるが、20μm~150μmであることが好適である。 The widths w1 and w2 of the lower liquid flow path recess 30 mean the dimensions of the lower liquid flow path recess 30 in the direction perpendicular to the longitudinal direction of the lower liquid flow path recess 30. It corresponds to the dimension in the direction, or the dimension in the horizontal direction in FIG. Width w1 is preferably between 10 μm and 100 μm, and width w2 is preferably between 20 μm and 150 μm. The width w1 and the width w2 can be adjusted by controlling the spray pressure of the etchant when forming the lower liquid flow path concave portion 30 by half-etching, as will be described later. Further, the depth h1 of the lower liquid flow path concave portion 30 is preferably 20 μm to 150 μm, depending on the width w1 and width w2.

このような下側液流路凹部30は、下側金属シート10の下側流路壁部13の上面13aに形成されている。一方、本実施の形態では、上側金属シート20の上側流路壁部22の下面22aには、後述する上側液流路凹部35(図16参照)は形成されていない。すなわち、当該下面22aは、平坦状に形成されており、下側液流路凹部30に露出されている。このようにして、下側液流路凹部30の横断面において、下側液流路凹部30の全体が、上側流路壁部22の平坦状の下面22aで覆われている。 Such a lower liquid flow channel concave portion 30 is formed on the upper surface 13 a of the lower flow channel wall portion 13 of the lower metal sheet 10 . On the other hand, in the present embodiment, the lower surface 22a of the upper flow path wall portion 22 of the upper metal sheet 20 is not formed with an upper liquid flow path concave portion 35 (see FIG. 16), which will be described later. That is, the lower surface 22 a is flat and exposed to the lower liquid flow path concave portion 30 . In this way, in the cross section of the lower liquid flow path recess 30 , the entire lower liquid flow path recess 30 is covered with the flat lower surface 22 a of the upper flow path wall 22 .

ところで、下側金属シート10および上側金属シート20に用いる材料は、熱伝導率が良好な材料であれば特に限られることはないが、例えば、下側金属シート10および上側金属シート20は、銅または銅合金により形成されていることが好適である。このことにより、下側金属シート10および上側金属シート20の熱伝導率を高めることができる。このため、ベーパーチャンバ1の熱輸送効率を高めることができる。また、ベーパーチャンバ1の厚さは、0.1mm~1.0mmである。下側金属シート10の厚さT1および上側金属シート20の厚さT2が等しい場合を示しているが、これに限られることはなく、下側金属シート10の厚さT1と上側金属シート20の厚さT2は、等しくなくてもよい。 By the way, the materials used for the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are not particularly limited as long as they have good thermal conductivity. Alternatively, it is preferably made of a copper alloy. Thereby, the thermal conductivity of the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 can be increased. Therefore, the heat transport efficiency of the vapor chamber 1 can be enhanced. Also, the thickness of the vapor chamber 1 is 0.1 mm to 1.0 mm. Although the thickness T1 of the lower metal sheet 10 and the thickness T2 of the upper metal sheet 20 are shown to be equal, the thickness T1 of the lower metal sheet 10 and the thickness T2 of the upper metal sheet 20 are not limited to this. The thicknesses T2 need not be equal.

次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。ここでは、まず、ベーパーチャンバ1の製造方法について、図7乃至図15を用いて説明するが、上側金属シート20のハーフエッチング工程の説明は簡略化する。なお、図7、図8、図13乃至図15では、図2の断面図と同様の断面を示しており、図9乃至図12では、図6の断面と同様の断面を示している。 Next, the operation of this embodiment having such a configuration will be described. Here, first, the manufacturing method of the vapor chamber 1 will be described with reference to FIGS. 7 to 15, but the description of the half etching process for the upper metal sheet 20 will be simplified. 7, 8, and 13 to 15 show cross sections similar to the cross section of FIG. 2, and FIGS. 9 to 12 show cross sections similar to the cross section of FIG.

まず、図7に示すように、平板状の金属材料シートMを準備する。 First, as shown in FIG. 7, a flat metal material sheet M is prepared.

続いて、図8に示すように、金属材料シートMがハーフエッチングされて、密封空間3の一部を構成する下側蒸気流路凹部12および下側液流路凹部30が形成される。 Subsequently, as shown in FIG. 8, the metal material sheet M is half-etched to form the lower steam channel recess 12 and the lower liquid channel recess 30 that form part of the sealed space 3 .

この場合、まず、図9に示すように、金属材料シートMの上面Maに、レジスト膜40が形成される。レジスト膜40には、電界によって付着可能な電着レジスト材料を好適に使用することができるが、金属材料シートMにレジスト膜40を形成することができれば、液状のレジスト材料など他の材料を用いてもよい。 In this case, first, a resist film 40 is formed on the upper surface Ma of the metal material sheet M, as shown in FIG. For the resist film 40, an electrodeposition resist material that can be adhered by an electric field can be preferably used. may

続いて、図10に示すように、レジスト膜40がパターン化される。すなわち、レジスト膜40が、フォトリソグラフィー技術によって、下側蒸気流路凹部12および複数の下側液流路凹部30に対応するパターン状に形成され、下側蒸気流路凹部12に対応するレジスト開口42aと、下側液流路凹部30に対応するレジスト開口42bとが形成される。 Subsequently, as shown in FIG. 10, the resist film 40 is patterned. That is, the resist film 40 is formed in a pattern corresponding to the lower vapor flow channel recesses 12 and the plurality of lower liquid flow channel recesses 30 by photolithography, and resist openings corresponding to the lower vapor flow channel recesses 12 are formed. 42a and resist openings 42b corresponding to the lower liquid flow path recesses 30 are formed.

続いて、図11に示すように、ハーフエッチング工程として、金属材料シートMの上面Maがハーフエッチングされる。このことにより、当該上面Maのうちレジスト膜40のレジスト開口42a、42bに対応する部分がハーフエッチングされて、下側蒸気流路凹部12、下側流路壁部13および下側周縁壁14が形成される。この際、下側流路壁部13の上面13aに下側液流路凹部30が形成される。また、図1および図3に示す下側注入流路凹部17も同時に形成され、また、図1に示すような外形輪郭形状を有するように金属材料シートMが上面Maおよび下面からエッチングされて、所定の外形輪郭形状が得られる。なお、ハーフエッチングとは、材料を貫通しないような凹部を形成するためのエッチングを意味している。このため、ハーフエッチングにより形成される凹部の深さは、下側金属シート10の厚さの半分であることには限られない。エッチング液には、例えば、塩化第二鉄水溶液等の塩化鉄系エッチング液、または塩化銅水溶液等の塩化銅系エッチング液を用いることができる。 Subsequently, as shown in FIG. 11, the upper surface Ma of the metal material sheet M is half-etched as a half-etching step. As a result, portions of the upper surface Ma corresponding to the resist openings 42a and 42b of the resist film 40 are half-etched, and the lower steam channel recess 12, the lower channel wall 13, and the lower peripheral wall 14 are formed. It is formed. At this time, the lower liquid flow path concave portion 30 is formed on the upper surface 13 a of the lower flow path wall portion 13 . 1 and 3 are also formed at the same time, and the metal material sheet M is etched from the upper surface Ma and the lower surface so as to have the contour shape as shown in FIG. A predetermined contour shape is obtained. Note that half-etching means etching for forming recesses that do not penetrate the material. Therefore, the depth of the recess formed by half-etching is not limited to half the thickness of the lower metal sheet 10 . As the etchant, for example, an iron chloride-based etchant such as an aqueous ferric chloride solution or a copper chloride-based etchant such as an aqueous copper chloride solution can be used.

ここでのハーフエッチングは、エッチング液を、金属材料シートMの上面Maに吹き付けるスプレーエッチングであることが好ましい。スプレーエッチングの場合、金属材料シートMの上面Maを、例えば、1kg/cm以上の圧力でスプレーエッチングすることにより、図6に示す幅w1が幅w2よりも大きい下側液流路凹部30を形成することができる。なお、下側液流路凹部30とともに形成される下側蒸気流路凹部12の横断面形状も、下側液流路凹部30と同様なタコつぼ形状(円弧状またはC字状)に形成されてもよい。すなわち、下側蒸気流路凹部12が、開口部から底側に向かって膨らむように(逆テーパ状に)形成されていてもよい。この場合には、下側蒸気流路凹部12の流路断面積を増大させて、作動液2の蒸気の流路抵抗を低減させることができる。 The half-etching here is preferably spray etching in which an etchant is sprayed onto the upper surface Ma of the metal material sheet M. As shown in FIG. In the case of spray etching, the upper surface Ma of the metal material sheet M is spray-etched, for example, at a pressure of 1 kg/cm 2 or more, thereby forming the lower liquid flow path concave portion 30 shown in FIG. 6 with a width w1 larger than the width w2. can be formed. The cross-sectional shape of the lower steam channel recess 12 formed together with the lower liquid channel recess 30 is also formed in the same octopus pot shape (arc shape or C shape) as the lower liquid channel recess 30. may That is, the lower steam flow channel concave portion 12 may be formed so as to bulge from the opening toward the bottom (inversely tapered). In this case, the channel cross-sectional area of the lower vapor channel concave portion 12 can be increased to reduce the channel resistance of the vapor of the working fluid 2 .

ここで、上記の下側液流路凹部30のエッチングにおいては、下側凹部開口部31の開口面積やレジスト膜40の厚さにも影響されるが、一般に、塩化第二鉄水溶液による銅のエッチングが拡散律速であるため、反応前の新鮮な塩化第二鉄水溶液を供給された部分が、エッチングされやすい傾向を示す。一方、エッチング反応に消費された塩化第二鉄水溶液は、エッチング能力が劣化する。それゆえ、塩化第二鉄水溶液を用いて高圧でスプレーエッチングする場合には、未反応の新鮮な塩化第二鉄水溶液が、下側液流路凹部30の下側凹部開口部31から下側液流路凹部30の底方向に向かって供給されるため、下側液流路凹部30の底部や底部に近い内壁はエッチングされやすいことになる。一方、下側液流路凹部30の下側凹部開口部31の近傍では、反応済みのエッチング能力が劣化した塩化第二鉄水溶液が残留しがちなため、下側液流路凹部30の下側凹部開口部31の近傍の内壁はエッチングされ難いことになる。このようにして、圧力を高めてスプレーエッチングすることにより、本実施の形態による下側液流路凹部30を得ることができる。 Here, the etching of the lower liquid flow path concave portion 30 is affected by the opening area of the lower concave portion opening portion 31 and the thickness of the resist film 40, but in general, the etching of copper by the ferric chloride aqueous solution is performed. Since the etching is diffusion rate controlled, the portion to which the fresh ferric chloride aqueous solution is supplied before the reaction tends to be easily etched. On the other hand, the ferric chloride aqueous solution consumed in the etching reaction deteriorates in etching ability. Therefore, in the case of high-pressure spray etching using an aqueous ferric chloride solution, unreacted fresh ferric chloride aqueous solution flows from the lower recessed portion opening 31 of the lower liquid flow channel recessed portion 30 to the lower liquid. Since the liquid is supplied toward the bottom of the channel recess 30, the bottom of the lower liquid channel recess 30 and the inner wall near the bottom are easily etched. On the other hand, in the vicinity of the lower recessed portion opening 31 of the lower liquid flow channel recessed portion 30, the ferric chloride aqueous solution with deteriorated etching ability tends to remain. The inner wall near the opening 31 of the recess is difficult to etch. In this manner, the lower liquid flow path concave portion 30 according to the present embodiment can be obtained by performing spray etching with increased pressure.

その後、図12に示すように、レジスト膜40が除去される。このようにして、図8に示すように、下側蒸気流路凹部12、下側流路壁部13、下側周縁壁14および下側液流路凹部30が形成された下側金属シート10が得られる。このように、一度のハーフエッチング工程によって、下側蒸気流路凹部12、下側流路壁部13、下側周縁壁14および下側液流路凹部30を形成することにより、ハーフエッチング工程の回数を削減することができ、ベーパーチャンバ1の製造コストの低減を図ることができる。しかしながら、このことに限られることはなく、第1のハーフエッチング工程として、下側蒸気流路凹部12、下側流路壁部13および下側周縁壁14を形成し、その後の第2のハーフエッチング工程として、下側流路壁部13の上面13aに、下側液流路凹部30を形成するようにしてもよい。この場合には、下側蒸気流路凹部12の深さh0と、下側液流路凹部30の深さh1とを容易に異ならせることができる。 After that, as shown in FIG. 12, the resist film 40 is removed. Thus, as shown in FIG. 8, the lower metal sheet 10 in which the lower steam channel recess 12, the lower channel wall 13, the lower peripheral edge wall 14 and the lower liquid channel recess 30 are formed. is obtained. In this way, by forming the lower vapor channel recess 12, the lower channel wall 13, the lower peripheral wall 14, and the lower liquid channel recess 30 in one half-etching process, the half-etching process can be The number of times can be reduced, and the manufacturing cost of the vapor chamber 1 can be reduced. However, it is not limited to this, and as a first half-etching process, the lower vapor channel recess 12, the lower channel wall 13 and the lower peripheral wall 14 are formed, and then the second half-etching process is performed. As an etching process, the lower liquid flow path concave portion 30 may be formed in the upper surface 13 a of the lower flow path wall portion 13 . In this case, the depth h0 of the lower vapor channel recess 12 and the depth h1 of the lower liquid channel recess 30 can be easily made different.

一方、下側金属シート10と同様にして、上側金属シート20が下面20aからハーフエッチングされて、上側蒸気流路凹部21、上側流路壁部22および上側周縁壁23が形成される。このようにして、上述した上側金属シート20が得られる。 On the other hand, in the same manner as the lower metal sheet 10, the upper metal sheet 20 is half-etched from the lower surface 20a to form the upper steam channel concave portion 21, the upper channel wall portion 22 and the upper peripheral edge wall . Thus, the upper metal sheet 20 described above is obtained.

次に、図13に示すように、下側蒸気流路凹部12を有する下側金属シート10と、上側蒸気流路凹部21を有する上側金属シート20とが仮止めされる。この場合、まず、下側金属シート10の下側アライメント孔15(図1および図3参照)と上側金属シート20の上側アライメント孔24(図1および図4参照)とを利用して、下側金属シート10と上側金属シート20とが位置決めされる。続いて、下側金属シート10と上側金属シート20とが固定される。固定の方法としては、特に限られることはないが、例えば、下側金属シート10と上側金属シート20とに対して抵抗溶接を行うことによって下側金属シート10と上側金属シート20とを固定してもよい。この場合、図13に示すように、電極棒43を用いてスポット的に抵抗溶接を行うことが好適である。抵抗溶接の代わりにレーザ溶接を行ってもよい。あるいは、超音波を照射して下側金属シート10と上側金属シート20とを超音波接合して固定してもよい。さらには、接着剤を用いてもよいが、有機成分を有しないか、若しくは有機成分が少ない接着剤を用いることが好適である。このようにして、下側金属シート10と上側金属シート20とが、位置決めされた状態で固定される。 Next, as shown in FIG. 13, the lower metal sheet 10 having the lower steam channel recess 12 and the upper metal sheet 20 having the upper steam channel recess 21 are temporarily fixed. In this case, first, using the lower alignment hole 15 (see FIGS. 1 and 3) of the lower metal sheet 10 and the upper alignment hole 24 (see FIGS. 1 and 4) of the upper metal sheet 20, A metal sheet 10 and an upper metal sheet 20 are positioned. Subsequently, the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are fixed. The fixing method is not particularly limited, but for example, the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are fixed by performing resistance welding on the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20. may In this case, as shown in FIG. 13, it is preferable to perform spot resistance welding using electrode rods 43 . Laser welding may be performed instead of resistance welding. Alternatively, the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 may be ultrasonically bonded and fixed by irradiating ultrasonic waves. Furthermore, although an adhesive may be used, it is preferable to use an adhesive that does not have an organic component or has a small amount of an organic component. Thus, the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are fixed in a positioned state.

仮止めの後、図14に示すように、下側金属シート10と上側金属シート20とが、拡散接合によって恒久的に接合される。拡散接合とは、接合する下側金属シート10と上側金属シート20とを密着させ、真空や不活性ガス中などの制御された雰囲気中で、各金属シート10、20を密着させる方向に加圧するとともに加熱して、接合面に生じる原子の拡散を利用して接合する方法である。拡散接合は、下側金属シート10および上側金属シート20の材料を融点に近い温度まで加熱するが、融点よりは低いため、各金属シート10、20が溶融して変形することを回避できる。より具体的には、下側金属シート10の下側周縁壁14の上面14aと上側金属シート20の上側周縁壁23の下面23aとが、接合面となって拡散接合される。このことにより、下側周縁壁14と上側周縁壁23とによって、下側金属シート10と上側金属シート20との間に密封空間3が形成される。また、下側注入流路凹部17(図1および図3参照)と上側注入流路凹部26(図1および図4参照)とによって、密封空間3に連通する作動液2の注入流路が形成される。さらに、下側金属シート10の下側流路壁部13の上面13aと、上側金属シート20の上側流路壁部22の下面22aとが、接合面となって拡散接合され、ベーパーチャンバ1の機械的強度が向上する。下側流路壁部13の上面13aに形成された下側液流路凹部30は、液状の作動液2の流路として残存する。 After temporary fixing, the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 are permanently joined by diffusion bonding, as shown in FIG. In diffusion bonding, the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 to be bonded are brought into close contact, and pressure is applied in a controlled atmosphere such as vacuum or inert gas in a direction to bring the metal sheets 10 and 20 into close contact. It is a method of bonding by heating together and utilizing diffusion of atoms occurring on the bonding surface. Diffusion bonding heats the materials of the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 to a temperature close to the melting point, but below the melting point, thereby avoiding melting and deformation of each metal sheet 10,20. More specifically, the upper surface 14a of the lower peripheral wall 14 of the lower metal sheet 10 and the lower surface 23a of the upper peripheral wall 23 of the upper metal sheet 20 are diffusion-bonded as bonding surfaces. Thereby, the sealed space 3 is formed between the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 by the lower peripheral wall 14 and the upper peripheral wall 23 . In addition, the lower injection channel recess 17 (see FIGS. 1 and 3) and the upper injection channel recess 26 (see FIGS. 1 and 4) form an injection channel for the hydraulic fluid 2 communicating with the sealed space 3. be done. Further, the upper surface 13a of the lower flow path wall portion 13 of the lower metal sheet 10 and the lower surface 22a of the upper flow path wall portion 22 of the upper metal sheet 20 are diffusion-bonded as bonding surfaces to form the vapor chamber 1. Improves mechanical strength. The lower liquid flow channel recess 30 formed in the upper surface 13 a of the lower flow channel wall 13 remains as a flow channel for the liquid working fluid 2 .

恒久的な接合の後、図15に示すように、注入部4(図1参照)から密封空間3に作動液2が注入される。この際、まず、密封空間3が真空引きされて減圧され、その後に、作動液2が密封空間3に注入される。注入時、作動液2は、下側注入流路凹部17と上側注入流路凹部26とにより形成された注入流路を通過する。 After permanent bonding, as shown in FIG. 15, the working fluid 2 is injected into the sealed space 3 from the injection part 4 (see FIG. 1). At this time, first, the sealed space 3 is evacuated to reduce the pressure, and then the working fluid 2 is injected into the sealed space 3 . During injection, the working liquid 2 passes through the injection channel formed by the lower injection channel recess 17 and the upper injection channel recess 26 .

作動液2の注入の後、上述した注入流路が封止される。例えば、注入部4にレーザを照射し、注入部4を部分的に溶融させて注入流路を封止することが好適である。このことにより、密封空間3と外気との連通が遮断され、作動液2が密封空間3に封入される。このようにして、密封空間3内の作動液2が外部に漏洩することが防止される。 After the injection of the working liquid 2, the injection channel mentioned above is sealed. For example, it is preferable to irradiate the injection part 4 with a laser to partially melt the injection part 4 to seal the injection channel. As a result, communication between the sealed space 3 and the outside air is cut off, and the working fluid 2 is enclosed in the sealed space 3 . Thus, the hydraulic fluid 2 in the sealed space 3 is prevented from leaking to the outside.

以上のようにして、本実施の形態によるベーパーチャンバ1が得られる。 As described above, the vapor chamber 1 according to the present embodiment is obtained.

次に、ベーパーチャンバ1の作動方法、すなわち、デバイスDの冷却方法について説明する。 Next, a method of operating the vapor chamber 1, that is, a method of cooling the device D will be described.

上述のようにして得られたベーパーチャンバ1は、モバイル端末等のハウジング内に設置されるとともに、下側金属シート10の下面10bに、被冷却対象物であるCPU等のデバイスDが取り付けられる。密封空間3内に注入された作動液2の量は少ないため、密封空間3内の液状の作動液2は、その表面張力によって、密封空間3の壁面、すなわち、下側蒸気流路凹部12の壁面、上側蒸気流路凹部21の壁面に付着する。 The vapor chamber 1 obtained as described above is installed in a housing of a mobile terminal or the like, and a device D such as a CPU, which is an object to be cooled, is attached to the lower surface 10b of the lower metal sheet 10 . Since the amount of the working fluid 2 injected into the sealed space 3 is small, the liquid working fluid 2 in the sealed space 3 is pushed by the surface tension of the wall surface of the sealed space 3, that is, the lower steam flow channel recess 12. It adheres to the wall surface and the wall surface of the upper steam channel recess 21 .

この状態でデバイスDが発熱すると、下側蒸気流路凹部12のうち蒸発部11に存在する作動液2が、デバイスDから熱を受ける。受けた熱は潜熱として吸収されて作動液2が蒸発(気化)し、作動液2の蒸気が生成される。生成された蒸気の多くは、密封空間3を構成する下側蒸気流路凹部12内および上側蒸気流路凹部21内に拡散する(図3の実線矢印および図4の実線矢印参照)。上側蒸気流路凹部21内および下側蒸気流路凹部12内の蒸気は、蒸発部11から離れ、蒸気の多くは、比較的温度の低い周縁部に輸送される。周縁部に拡散した蒸気は、周縁部において放熱して冷却される。周縁部において下側金属シート10および上側金属シート20が蒸気から受けた熱は、ハウジング部材H(図2参照)を介して外気に伝達される。 When the device D heats up in this state, the working fluid 2 existing in the evaporating portion 11 of the lower steam flow channel concave portion 12 receives heat from the device D. As shown in FIG. The received heat is absorbed as latent heat, and the working fluid 2 evaporates (vaporizes) to generate vapor of the working fluid 2 . Most of the generated steam diffuses into the lower steam channel recess 12 and the upper steam channel recess 21 that form the sealed space 3 (see solid line arrows in FIGS. 3 and 4). The steam in the upper steam channel recess 21 and the lower steam channel recess 12 leaves the evaporating section 11, and most of the steam is transported to the peripheral portion where the temperature is relatively low. The vapor diffused to the peripheral portion is cooled by radiating heat at the peripheral portion. The heat received by the lower metal sheet 10 and the upper metal sheet 20 from the steam at the periphery is transferred to the outside air through the housing member H (see FIG. 2).

蒸気は、周縁部に放熱することにより、蒸発部11において吸収した潜熱を失って凝縮する。液状になった作動液2の多くは、下側蒸気流路凹部12の壁面または上側蒸気流路凹部21の壁面に付着して、下側液流路凹部30に達する。ここで、蒸発部11では作動液2が蒸発し続けているため、下側液流路凹部30のうち蒸発部11以外の部分における作動液2は、蒸発部11に向かって毛細管作用により輸送される(図3の破線矢印参照)。このことにより、下側蒸気流路凹部12の壁面および上側蒸気流路凹部21の壁面に付着した液状の作動液2は、下側液流路凹部30が下側蒸気流路凹部12または上側蒸気流路凹部21に向けて開放されている下側液流路凹部30の長手方向の両端部に向かって移動し、当該両端部から下側液流路凹部30内に入り込む。このことにより、下側液流路凹部30に、液状の作動液2が充填され、充填された作動液2は、下側液流路凹部30の毛細管作用により、蒸発部11に向かう推進力を得て、蒸発部11に向かってスムースに輸送される。 The steam loses the latent heat absorbed in the evaporator 11 by radiating heat to the peripheral portion and condenses. Most of the liquefied working fluid 2 adheres to the wall surface of the lower steam channel recess 12 or the wall surface of the upper steam channel recess 21 and reaches the lower liquid channel recess 30 . Here, since the working fluid 2 continues to evaporate in the evaporating portion 11, the working fluid 2 in the portion other than the evaporating portion 11 of the lower liquid flow passage concave portion 30 is transported toward the evaporating portion 11 by capillary action. (see dashed arrow in FIG. 3). As a result, the liquid working fluid 2 adhering to the wall surface of the lower steam flow channel recess 12 and the wall surface of the upper steam flow channel recess 21 is removed from the lower liquid flow channel recess 30 by the lower steam flow channel recess 12 or the upper steam flow channel recess 21 . It moves toward both ends in the longitudinal direction of the lower liquid flow channel recess 30 opened toward the flow channel recess 21 and enters the lower liquid flow channel recess 30 from the both ends. As a result, the liquid working fluid 2 is filled in the lower liquid flow path recess 30 , and the filled working fluid 2 exerts a driving force toward the evaporator 11 due to the capillary action of the lower liquid flow path recess 30 . and is smoothly transported toward the evaporating section 11 .

本実施の形態では、下側液流路凹部30の下側大幅部32の幅w2が、下側凹部開口部31の幅w1よりも大きくなっている。すなわち、図6に示すように、下側液流路凹部30が、下側凹部開口部31から底側に向かって膨らむように形成されているため、下側液流路凹部30の横断面において、下側液流路凹部30の輪郭線の長さを、長くすることができる。例えば、図18に示すような順テーパ状の液流路凹部50よりも、本実施の形態による下側液流路凹部30の方が、長い輪郭線を有することができる。この場合、下側液流路凹部30の壁面の面積を増大させることができ、下側液流路凹部30の壁面と液状の作動液2とが接触する面積を増大させることができる。このため、下側液流路凹部30を通過する液状の作動液2が受ける毛細管作用を増大させることができ、作動液2を蒸発部11に向かってスムースに輸送することができる。 In the present embodiment, the width w2 of the lower large portion 32 of the lower liquid flow path recess 30 is larger than the width w1 of the lower recess opening 31 . That is, as shown in FIG. 6, since the lower liquid flow path recess 30 is formed to swell from the lower recess opening 31 toward the bottom side, the cross section of the lower liquid flow path recess 30 , the length of the outline of the lower liquid flow path recess 30 can be lengthened. For example, the lower liquid flow channel recess 30 according to the present embodiment can have a longer outline than the forward tapered liquid flow channel recess 50 as shown in FIG. In this case, the area of the wall surface of the lower liquid flow path recessed portion 30 can be increased, and the area of contact between the wall surface of the lower liquid flow path recessed portion 30 and the liquid working fluid 2 can be increased. Therefore, it is possible to increase the capillary action that the liquid working fluid 2 passing through the lower liquid flow path concave portion 30 receives, so that the working fluid 2 can be smoothly transported toward the evaporating portion 11 .

また、上述したように、下側液流路凹部30が、下側凹部開口部31から底側に向かって膨らむように形成されているため、下側液流路凹部30の横断面形状を、真円形状に近づけることができる。例えば、図18に示すような順テーパ状の液流路凹部50よりも、本実施の形態による下側液流路凹部30の方が、真円形状に近い横断面形状を有することができる。この場合、下側液流路凹部30を通過する液状の作動液2が受ける流路抵抗を低減することができ、作動液2を蒸発部11に向かってスムースに輸送することができる。 Further, as described above, since the lower liquid flow path recess 30 is formed so as to bulge from the lower recess opening 31 toward the bottom side, the cross-sectional shape of the lower liquid flow path recess 30 is It can be approximated to a perfect circular shape. For example, the lower liquid flow channel recess 30 according to the present embodiment can have a cross-sectional shape closer to a perfect circle than the forward tapered liquid flow channel recess 50 as shown in FIG. In this case, the flow path resistance that the liquid working fluid 2 passing through the lower liquid flow path concave portion 30 receives can be reduced, and the working fluid 2 can be smoothly transported toward the evaporating portion 11 .

蒸発部11に達した作動液2は、デバイスDから再び熱を受けて蒸発する。このようにして、作動液2が、相変化、すなわち蒸発と凝縮とを繰り返しながらベーパーチャンバ1内を還流してデバイスDの熱を移動させて放出する。この結果、デバイスDが冷却される。 The working fluid 2 that has reached the evaporator 11 receives heat from the device D again and evaporates. In this way, the working fluid 2 circulates in the vapor chamber 1 while repeating phase changes, that is, evaporation and condensation, thereby transferring heat from the device D and releasing it. As a result, the device D is cooled.

このように本実施の形態によれば、下側金属シート10の下側流路壁部13の上面13aに、作動液2が通過する下側液流路凹部30が設けられ、下側液流路凹部30の横断面において、下側液流路凹部30の下側大幅部32の幅w2が、下側凹部開口部31の幅w1よりも大きくなっている。このことにより、下側液流路凹部30の横断面において、下側液流路凹部30の輪郭線の長さを長くすることができ、毛細管作用を増大させることができる。また、下側液流路凹部30の横断面形状を、真円形状に近づけることができ、流路抵抗を低減することができる。このため、下側液流路凹部30において、液状の作動液2の流路抵抗を小さくしつつ毛細管作用を高めることができる。この結果、液状の作動液2を蒸発部11に向かってスムースに輸送することができ、デバイスDの熱の移動を促進して、熱輸送効率を向上させることができる。 As described above, according to the present embodiment, the upper surface 13a of the lower flow path wall portion 13 of the lower metal sheet 10 is provided with the lower liquid flow path concave portion 30 through which the hydraulic fluid 2 passes. In the cross section of the passage recess 30 , the width w2 of the lower wide portion 32 of the lower liquid passage recess 30 is larger than the width w1 of the lower recess opening 31 . As a result, in the cross section of the lower liquid flow path recess 30, the length of the contour line of the lower liquid flow path recess 30 can be increased, and the capillary action can be increased. In addition, the cross-sectional shape of the lower liquid flow channel concave portion 30 can be made closer to a perfect circle, and the flow channel resistance can be reduced. Therefore, in the lower liquid flow path concave portion 30, the flow path resistance of the liquid working fluid 2 can be reduced and the capillary action can be enhanced. As a result, the liquid working fluid 2 can be smoothly transported toward the evaporating portion 11, promoting the heat transfer of the device D and improving the heat transport efficiency.

また、本実施の形態によれば、下側液流路凹部30の横断面が、円弧状に形成されている。このことにより、下側液流路凹部30の横断面形状を、真円形状により一層近づけることができ、流路抵抗をより一層低減することができる。 Further, according to the present embodiment, the cross section of the lower liquid flow path concave portion 30 is formed in an arc shape. As a result, the cross-sectional shape of the lower liquid flow path concave portion 30 can be made closer to a perfect circle, and the flow path resistance can be further reduced.

なお、上述した第1の実施の形態においては、上側金属シート20が、上側蒸気流路凹部21を有している例について説明したが、このことに限られることはなく、上側金属シート20は、全体的に平板状に形成されて、上側蒸気流路凹部21を有していなくてもよい。この場合には、ベーパーチャンバ1の機械的強度を向上させることができる。 In the above-described first embodiment, an example in which the upper metal sheet 20 has the upper steam flow channel concave portion 21 has been described, but the upper metal sheet 20 is not limited to this. , may be formed in a flat plate shape as a whole and may not have the upper steam flow passage concave portion 21 . In this case, the mechanical strength of the vapor chamber 1 can be improved.

なお、上述した第1の実施の形態によるベーパーチャンバ1は、種々の変形をすることができる。 Various modifications can be made to the vapor chamber 1 according to the first embodiment described above.

(変形例1)
上述した本実施の形態においては、上側金属シート20の上側流路壁部22の下面22aに、液流路凹部が設けられていない例について説明した。しかしながら、このことに限られることはない。例えば、図16に示すように、各上側流路壁部22の下面22aに、液状の作動液2が通る上側液流路凹部35(第2液流路凹部)が設けられていてもよい。図16においては、上側液流路凹部35は、下側液流路凹部30と同様の形状を有している例が示されている。すなわち、上側液流路凹部35は、上側蒸気流路凹部21に連通するとともに、上側流路壁部22の幅よりも小さい幅を有している。上側液流路凹部35が、上側凹部開口部36(第2凹部開口部)と、上側凹部開口部36よりも上側液流路凹部35の底側(図16における上側)に配置された上側大幅部37(第2大幅部)と、を有している。上側液流路凹部35の横断面において、上側大幅部37の幅w4は、上側凹部開口部36の幅w3よりも大きくなっている。
(Modification 1)
In the present embodiment described above, an example in which the liquid flow path concave portion is not provided on the lower surface 22a of the upper flow path wall portion 22 of the upper metal sheet 20 has been described. However, it is not limited to this. For example, as shown in FIG. 16, the lower surface 22a of each upper flow path wall portion 22 may be provided with an upper liquid flow path recess 35 (second liquid flow path recess) through which the liquid working fluid 2 passes. FIG. 16 shows an example in which the upper liquid flow path recess 35 has the same shape as the lower liquid flow path recess 30 . That is, the upper liquid flow channel recess 35 communicates with the upper steam flow channel recess 21 and has a width smaller than the width of the upper flow channel wall 22 . The upper liquid flow path recess 35 includes an upper recess opening 36 (second recess opening) and an upper wide area located closer to the bottom side of the upper liquid flow path recess 35 (upper side in FIG. 16) than the upper recess opening 36. and a portion 37 (second large portion). In the cross section of the upper liquid flow path concave portion 35, the width w4 of the upper wide portion 37 is larger than the width w3 of the upper concave portion opening portion .

とりわけ、図16に示す変形例1では、下側液流路凹部30と、上側液流路凹部35とが、互いに対向している。すなわち、互いに対向する2つの液流路凹部30、35が、互いに連通し、1つの流路を形成している。この場合、当該流路の横断面の面積が増大するため、蒸発部11に向かう液状の作動液2の流路抵抗を低減することができる。また、下側液流路凹部30と、上側液流路凹部35とが互いに対向する場合には、これら2つの液流路凹部30、35によって画定される流路断面形状を、真円形状により一層近づけることができ、流路抵抗をより一層低減することができる。なお、流路断面形状を真円形状に近づけるために、図16に示す変形例では、下側液流路凹部30の下側凹部開口部31と、上側液流路凹部35の上側凹部開口部36とが、同一の幅になっており、両方の凹部開口部31、36が重なるように下側液流路凹部30および上側液流路凹部35が配置されている。 In particular, in Modification 1 shown in FIG. 16, the lower liquid flow path recess 30 and the upper liquid flow path recess 35 face each other. That is, the two liquid flow path recesses 30 and 35 facing each other communicate with each other to form one flow path. In this case, since the cross-sectional area of the flow path increases, the flow path resistance of the liquid working fluid 2 toward the evaporator 11 can be reduced. In addition, when the lower liquid flow path recess 30 and the upper liquid flow path recess 35 face each other, the cross-sectional shape of the flow path defined by these two liquid flow path recesses 30 and 35 is changed to a perfect circular shape. It can be brought closer and the flow path resistance can be further reduced. In addition, in order to make the cross-sectional shape of the flow path closer to a perfect circle, in the modification shown in FIG. 36 have the same width, and the lower liquid flow path recess 30 and the upper liquid flow path recess 35 are arranged so that both recess openings 31 and 36 overlap.

なお、下側液流路凹部30と上側液流路凹部35とは、図16における左右方向にずれて配置されて、互いに連通していなくてもよい。この場合においても、上側液流路凹部35を液状の作動液2が通過することができるため、ベーパーチャンバ1全体として、蒸発部11に向かう液状の作動液2の総流路断面積を増大させることができ、蒸発部11に向かう液状の作動液2の流路抵抗を低減することができる。 Note that the lower liquid flow path recess 30 and the upper liquid flow path recess 35 may be displaced in the horizontal direction in FIG. 16 and may not communicate with each other. Even in this case, the liquid working fluid 2 can pass through the upper liquid flow passage concave portion 35, so that the total flow passage cross-sectional area of the liquid working fluid 2 directed to the evaporation portion 11 is increased in the vapor chamber 1 as a whole. It is possible to reduce the flow path resistance of the liquid working fluid 2 toward the evaporator 11 .

(変形例2)
また、図17に示すように、上側流路壁部22の下面22aには、下側液流路凹部30や図16に示す上側液流路凹部35とは異なる横断面形状を有する上側液流路凹部55が設けられていてもよい。例えば、図17に示すように、上側液流路凹部55は、上側凹部開口部56を有しているが、図6や図16に示す大幅部32、37に相当する部分は有しておらず、上側液流路凹部55の横断面において、上側液流路凹部55の幅が、上側凹部開口部56から上側液流路凹部55の底側(図17における上側)に向かって徐々に小さくなっていてもよい。この場合、上側液流路凹部55の幅は、上側凹部開口部56において最大になり、上側液流路凹部55の横断面が、順テーパ状に形成される。この場合、2つの液流路凹部30、55によって画定される流路断面形状を、真円形状に近づけることができ、流路抵抗をより一層低減することができる。とりわけ、図17に示す変形例2においては、上側液流路凹部55の横断面は、扁平な円弧状に形成されている。この場合においても、互いに対向する2つの液流路凹部30、53によって画定される流路断面形状を、真円形状により一層近づけることができ、流路抵抗をより一層低減することができる。
(Modification 2)
Further, as shown in FIG. 17, on the lower surface 22a of the upper flow channel wall portion 22, an upper liquid flow channel having a cross-sectional shape different from that of the lower liquid flow channel concave portion 30 or the upper liquid flow channel concave portion 35 shown in FIG. A passage recess 55 may be provided. For example, as shown in FIG. 17, the upper liquid flow path recess 55 has an upper recess opening 56, but does not have portions corresponding to the large portions 32 and 37 shown in FIGS. First, in the cross section of the upper liquid flow channel recess 55, the width of the upper liquid flow channel recess 55 gradually decreases from the upper recess opening 56 toward the bottom side (upper side in FIG. 17) of the upper liquid flow channel recess 55. It may be. In this case, the width of the upper liquid flow path recess 55 is maximized at the upper recess opening 56, and the cross section of the upper liquid flow path recess 55 is formed in a forward tapered shape. In this case, the channel cross-sectional shape defined by the two liquid channel recesses 30 and 55 can be made closer to a perfect circle, and the channel resistance can be further reduced. In particular, in Modification 2 shown in FIG. 17, the cross section of the upper liquid flow path concave portion 55 is formed in a flat arc shape. In this case as well, the channel cross-sectional shape defined by the two liquid channel recesses 30 and 53 facing each other can be made closer to a perfect circle, and the channel resistance can be further reduced.

(第2の実施の形態)
次に、図18乃至図23を用いて、本発明の第2の実施の形態におけるベーパーチャンバおよびベーパーチャンバ用金属シートについて説明する。
(Second embodiment)
Next, a vapor chamber and a vapor chamber metal sheet according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 18 to 23. FIG.

図18乃至図23に示す第2の実施の形態においては、下側金属シートの上面に設けられた液流路凹部と上側金属シートの下面に設けられた液流路凹部が互いに対向し、上面に設けられた液流路凹部に下面の一部が露出している、または下面に設けられた液流路凹部に上面の一部が露出している、点が主に異なり、他の構成は、図1乃至図17に示す第1の実施の形態と略同一である。なお、図18乃至図23において、図1乃至図17に示す第1の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。 In the second embodiment shown in FIGS. 18 to 23, the recessed liquid flow paths provided on the upper surface of the lower metal sheet and the recessed liquid flow paths provided on the lower surface of the upper metal sheet face each other. The main difference is that a part of the lower surface is exposed to the liquid flow path recess provided in the lower surface, or a part of the upper surface is exposed to the liquid flow path recess provided on the lower surface. , is substantially the same as the first embodiment shown in FIGS. 18 to 23, the same parts as those in the first embodiment shown in FIGS. 1 to 17 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

本実施の形態では、図18に示すように、下側金属シート10の下側流路壁部13の上面13aに、液状の作動液2が通過する下側液流路凹部50(第1液流路凹部)が設けられている。一方、上側金属シート20の上側流路壁部22の下面22aにも、液状の作動液2が通過する上側液流路凹部55(第2液流路凹部)が設けられている。各液流路凹部50、55は、密封空間3の一部を構成しているが、図6で示した下側液流路凹部30や、図16で示した上側液流路凹部35とは異なる横断面形状を有している。 In the present embodiment, as shown in FIG. 18, the upper surface 13a of the lower flow path wall portion 13 of the lower metal sheet 10 has a lower liquid flow path concave portion 50 (first liquid channel recesses) are provided. On the other hand, the lower surface 22a of the upper flow path wall portion 22 of the upper metal sheet 20 is also provided with an upper liquid flow path recess 55 (second liquid flow path recess) through which the liquid working fluid 2 passes. Each of the liquid flow channel recesses 50 and 55 constitutes a part of the sealed space 3, but is different from the lower liquid flow channel recess 30 shown in FIG. 6 and the upper liquid flow channel recess 35 shown in FIG. They have different cross-sectional shapes.

すなわち、図18に示す形態では、下側液流路凹部50は、下側凹部開口部51(第1凹部開口部)を有しているが、図6に示す下側大幅部32に相当する部分は有していない。下側液流路凹部50の横断面において、下側液流路凹部50の幅が、下側凹部開口部51から下側液流路凹部50の底側(図18における下側)に向かって徐々に小さくなっている。この場合、下側液流路凹部50の幅は、下側凹部開口部51において最大になり、下側液流路凹部50の横断面が、順テーパ状に形成され、円弧状に形成されている。ここでは、下側液流路凹部50の横断面が、半円状に形成されている例が示されている。 18, the lower liquid flow path recess 50 has a lower recess opening 51 (first recess opening), which corresponds to the lower large portion 32 shown in FIG. does not have parts. In the cross section of the lower liquid flow path recess 50, the width of the lower liquid flow path recess 50 increases from the lower recess opening 51 toward the bottom side of the lower liquid flow path recess 50 (lower side in FIG. 18). gradually getting smaller. In this case, the width of the lower liquid flow channel recess 50 is maximized at the lower recess opening 51, and the cross section of the lower liquid flow channel recess 50 is formed in a forward tapered shape and in an arc shape. there is Here, an example is shown in which the cross section of the lower liquid flow path concave portion 50 is formed in a semicircular shape.

図18においては、上側液流路凹部55は、下側液流路凹部50と同様の形状を有している例が示されている。すなわち、上側液流路凹部55は、上側凹部開口部56(第2凹部開口部)を有しているが、図16に示す上側大幅部37に相当する部分は有していない。上側液流路凹部55の横断面において、上側液流路凹部55の幅が、上側凹部開口部56から上側液流路凹部55の底側(図18における上側)に向かって徐々に小さくなっている。この場合、上側液流路凹部55の幅は、上側凹部開口部56において最大になり、上側液流路凹部55の横断面が、順テーパ状に形成され、円弧状に形成されている。ここでは、上側液流路凹部55の横断面が、半円状に形成されている例が示されている。下側液流路凹部50の下側凹部開口部51と、上側液流路凹部55の凹部開口部52とは、同一の幅になっている。 FIG. 18 shows an example in which the upper liquid flow path recess 55 has the same shape as the lower liquid flow path recess 50 . That is, the upper liquid flow path recess 55 has an upper recess opening 56 (second recess opening), but does not have a portion corresponding to the upper large portion 37 shown in FIG. In the cross section of the upper liquid flow channel recess 55, the width of the upper liquid flow channel recess 55 gradually decreases from the upper recess opening 56 toward the bottom side (upper side in FIG. 18) of the upper liquid flow channel recess 55. there is In this case, the width of the upper liquid flow path recess 55 is maximized at the upper recess opening 56, and the cross section of the upper liquid flow path recess 55 is tapered forward and arcuate. Here, an example is shown in which the cross section of the upper liquid flow path concave portion 55 is formed in a semicircular shape. The lower recess opening 51 of the lower liquid flow path recess 50 and the recess opening 52 of the upper liquid flow path recess 55 have the same width.

下側流路壁部13の上面13aに設けられた下側液流路凹部50と、上側流路壁部22の下面22aに設けられた上側液流路凹部55は、互いに対向している。すなわち、互いに対向する2つの液流路凹部50、55が、互いに連通し、1つの流路を形成している。この場合、当該流路の横断面の面積が増大するため、蒸発部11に向かう液状の作動液2の流路抵抗を低減することができる。 The lower liquid flow path recess 50 provided on the upper surface 13a of the lower flow path wall 13 and the upper liquid flow path recess 55 provided on the lower surface 22a of the upper flow path wall 22 face each other. That is, the two liquid flow path recesses 50 and 55 facing each other communicate with each other to form one flow path. In this case, since the cross-sectional area of the flow path increases, the flow path resistance of the liquid working fluid 2 toward the evaporator 11 can be reduced.

また、本実施の形態では、下側液流路凹部50に、上側流路壁部22の下面22aの一部が露出している。また、上側液流路凹部55に、下側流路壁部13の上面13aの一部が露出している。言い換えると、下側液流路凹部50と上側液流路凹部55とが、図18における左右方向にずれている。この場合、横断面において、2つの液流路凹部50、55によって形成される1つの流路の輪郭線の長さを長くすることができる。このことにより、液流路凹部50、55を通過する液状の作動液2が受ける毛細管作用を増大させることができる。 Further, in the present embodiment, part of the lower surface 22 a of the upper flow path wall portion 22 is exposed to the lower liquid flow path concave portion 50 . A portion of the upper surface 13 a of the lower flow path wall portion 13 is exposed to the upper liquid flow path concave portion 55 . In other words, the lower liquid flow path recess 50 and the upper liquid flow path recess 55 are shifted in the horizontal direction in FIG. In this case, the length of the contour line of one channel formed by the two liquid channel recesses 50 and 55 can be increased in the cross section. As a result, the capillary action that the liquid working fluid 2 passing through the liquid flow path recesses 50 and 55 receives can be increased.

このように本実施の形態によれば、下側金属シート10の下側流路壁部13の上面13aに設けられた下側液流路凹部50と、上側金属シート20の上側流路壁部22の下面22aに設けられた上側液流路凹部55とが、互いに対向し、下側液流路凹部50に、下面22aの一部が露出している。このことにより、横断面において、2つの液流路凹部50、55によって形成される1つの流路の輪郭線の長さを長くすることができ、毛細管作用を増大させることができる。また、当該流路の断面積を、増大させることができ、流路抵抗を低減することができる。このため、液流路凹部50、55において、液状の作動液2の流路抵抗を小さくしつつ毛細管作用を高めることができる。 As described above, according to the present embodiment, the lower liquid flow channel recessed portion 50 provided in the upper surface 13a of the lower flow channel wall portion 13 of the lower metal sheet 10 and the upper flow channel wall portion of the upper metal sheet 20 are arranged. 22 are opposed to each other, and a part of the lower surface 22a is exposed to the lower liquid flow path recess 50 . As a result, in cross section, the length of the contour line of one channel formed by the two liquid channel recesses 50 and 55 can be lengthened, and the capillary action can be increased. Moreover, the cross-sectional area of the channel can be increased, and the channel resistance can be reduced. Therefore, in the liquid flow path recesses 50 and 55, the flow path resistance of the liquid working fluid 2 can be reduced and the capillary action can be enhanced.

また、本実施の形態によれば、上側液流路凹部55に、下側金属シート10の下側流路壁部13の上面13aの一部が露出している。このことにより、横断面において、2つの液流路凹部50、55によって形成される1つの流路の輪郭線の長さをより一層長くすることができ、毛細管作用をより一層増大させることができる。 Further, according to the present embodiment, a portion of the upper surface 13 a of the lower flow path wall 13 of the lower metal sheet 10 is exposed to the upper liquid flow path recess 55 . As a result, in the cross section, the length of the contour line of one channel formed by the two liquid channel recesses 50 and 55 can be further increased, and the capillary action can be further increased. .

なお、上述した第2の実施の形態によるベーパーチャンバ1は、種々の変形をすることができる。 It should be noted that the vapor chamber 1 according to the second embodiment described above can be modified in various ways.

(変形例3)
また、上述した本実施の形態においては、互いに対向する2つの液流路凹部50、55が、順テーパ状に形成されている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、互いに対向する2つの液流路凹部50、55のうちの少なくとも一方は、逆テーパ状に形成されていてもよい。例えば、図19に示すように、下側液流路凹部50の横断面形状が、図6に示す逆テーパ状の下側液流路凹部30の横断面形状に置き換わり、上側液流路凹部55の横断面形状が、図16に示す逆テーパ状の上側液流路凹部35の横断面形状に置き換わっていてもよい。図19においては、下側流路壁部13の上面13aに設けられた第1液流路凹部を符号30で示し、上側流路壁部22の下面22aに設けられた第2液流路凹部を符号35で示す。図19に示す変形例3では、横断面において、2つの液流路凹部30、35によって形成される1つの流路の輪郭線の長さをより一層長くすることができ、毛細管作用をより一層増大させることができる。
(Modification 3)
Further, in the present embodiment described above, an example has been described in which the two liquid flow path recesses 50 and 55 facing each other are formed in a forward tapered shape. However, the present invention is not limited to this, and at least one of the two liquid flow path recesses 50 and 55 facing each other may be formed in a reverse tapered shape. For example, as shown in FIG. 19, the cross-sectional shape of the lower liquid flow channel recess 50 is replaced with the cross-sectional shape of the reverse tapered lower liquid flow channel recess 30 shown in FIG. may be replaced with the cross-sectional shape of the reverse tapered upper liquid flow channel concave portion 35 shown in FIG. In FIG. 19, reference numeral 30 designates the first liquid flow channel recess provided on the upper surface 13a of the lower flow channel wall 13, and the second liquid flow channel recess provided on the lower surface 22a of the upper flow channel wall 22. is denoted by reference numeral 35. In modification 3 shown in FIG. 19, in the cross section, the length of the contour line of one channel formed by the two liquid channel recesses 30 and 35 can be further increased, and the capillary action can be further enhanced. can be increased.

(変形例4)
上述した変形例3においては、上側液流路凹部35は、図20に示すような、上側液流路凹部55として、順テーパ状であって扁平な円弧状に形成されていてもよい。この場合においても、横断面において、2つの液流路凹部30、55によって形成される1つの流路の輪郭線の長さを長くすることができ、毛細管作用を増大させることができる。
(Modification 4)
In Modification 3 described above, the upper liquid flow path recess 35 may be formed in a forward tapered, flat arc shape as the upper liquid flow path recess 55 as shown in FIG. In this case also, in the cross section, the length of the contour line of one channel formed by the two liquid channel recesses 30 and 55 can be lengthened, and the capillary action can be increased.

(変形例5)
上述した本実施の形態においては、下側金属シート10の下側流路壁部13の上面13aに設けられた下側液流路凹部50に、上側金属シート20の上側流路壁部22の下面22aの一部が露出するとともに、当該下面22aに設けられた上側液流路凹部55に、当該上面13aの一部が露出している例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、図示しないが、上側液流路凹部55に上面13aが露出していなくてもよく、あるいは、図21に示すように、下側液流路凹部50に下面22aが露出していなくてもよい。図21に示す変形例5では、下側液流路凹部50の下側凹部開口部51の幅は、上側液流路凹部55の上側凹部開口部56の幅よりも小さくなっている。横断面において半円状に形成された下側液流路凹部50の半径が、半円状に形成された上側液流路凹部55の半径よりも小さくなっている。そして、下側液流路凹部50と、上側液流路凹部55とは、同心状に(平面視で各々の中心が重なるように)配置されている。このことにより、上面13aのうち下側液流路凹部50の両側の部分が、上側液流路凹部55に露出している。この場合においても、横断面において、2つの液流路凹部50、55によって形成される1つの流路の輪郭線の長さを長くすることができ、毛細管作用を増大させることができる。
(Modification 5)
In the present embodiment described above, the upper flow path wall portion 22 of the upper metal sheet 20 is positioned in the lower liquid flow path concave portion 50 provided in the upper surface 13 a of the lower flow path wall portion 13 of the lower metal sheet 10 . An example in which a portion of the lower surface 22a is exposed and a portion of the upper surface 13a is exposed to the upper liquid flow path concave portion 55 provided in the lower surface 22a has been described. However, the present invention is not limited to this. Although not shown, the upper surface 13a may not be exposed to the upper liquid flow path recess 55. Alternatively, as shown in FIG. The lower surface 22a does not have to be exposed. In Modified Example 5 shown in FIG. 21 , the width of the lower recess opening 51 of the lower liquid flow path recess 50 is smaller than the width of the upper recess opening 56 of the upper liquid flow path recess 55 . The radius of the lower liquid flow channel concave portion 50 formed in a semicircular cross section is smaller than the radius of the upper liquid flow channel concave portion 55 formed in a semicircular shape. The lower liquid flow path recess 50 and the upper liquid flow path recess 55 are arranged concentrically (so that their centers overlap in plan view). As a result, portions of the upper surface 13 a on both sides of the lower liquid flow path recess 50 are exposed to the upper liquid flow path recess 55 . Also in this case, in the cross section, the length of the contour line of one flow path formed by the two liquid flow path recesses 50 and 55 can be lengthened, and the capillary action can be increased.

(変形例6)
また、上述した変形例5においては、互いに対向する2つの液流路凹部50、55が、順テーパ状に形成されている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、互いに対向する2つの液流路凹部50、55のうちの少なくとも一方は、逆テーパ状に形成されていてもよい。例えば、図22に示すように、下側液流路凹部50の横断面形状が、図6に示す逆テーパ状の下側液流路凹部30の横断面形状に置き換わり、上側液流路凹部55の横断面形状が、図16に示す逆テーパ状の上側液流路凹部35の横断面形状に置き換わっていてもよい。図22においては、下側流路壁部13の上面13aに設けられた第1液流路凹部を符号30で示し、上側流路壁部22の下面22aに設けられた第2液流路凹部を符号35で示す。図22に示す変形例6では、そして、下側液流路凹部30の下側凹部開口部31の幅が、上側液流路凹部35の上側凹部開口部36の幅よりも小さくなっている。このことにより、上面13aのうち下側液流路凹部30の両側の部分が、上側液流路凹部35に露出している。このため、横断面において、2つの液流路凹部30、35によって形成される1つの流路の輪郭線の長さを長くすることができ、毛細管作用を増大させることができる。
(Modification 6)
Further, in the fifth modification described above, an example has been described in which the two liquid flow path recesses 50 and 55 facing each other are formed in a forward tapered shape. However, the present invention is not limited to this, and at least one of the two liquid flow path recesses 50 and 55 facing each other may be formed in a reverse tapered shape. For example, as shown in FIG. 22, the cross-sectional shape of the lower liquid flow channel recess 50 is replaced with the cross-sectional shape of the reverse tapered lower liquid flow channel recess 30 shown in FIG. may be replaced with the cross-sectional shape of the reverse tapered upper liquid flow channel concave portion 35 shown in FIG. In FIG. 22, reference numeral 30 designates the first liquid flow path recess provided on the upper surface 13a of the lower flow path wall 13, and the second liquid flow path recess provided on the lower surface 22a of the upper flow path wall 22. is denoted by reference numeral 35. In Modified Example 6 shown in FIG. 22 , the width of the lower recess opening 31 of the lower liquid flow path recess 30 is smaller than the width of the upper recess opening 36 of the upper liquid flow path recess 35 . As a result, portions of the upper surface 13 a on both sides of the lower liquid flow path recess 30 are exposed to the upper liquid flow path recess 35 . Therefore, in the cross section, the length of the contour line of one channel formed by the two liquid channel recesses 30 and 35 can be increased, and the capillary action can be increased.

(変形例7)
上述した変形例5においては、上側液流路凹部35は、図23に示すような、上側液流路凹部55として、順テーパ状であって扁平な円弧状に形成されていてもよい。この場合においても、横断面において、2つの液流路凹部30、55によって形成される1つの流路の輪郭線の長さを長くすることができ、毛細管作用を増大させることができる。
(Modification 7)
In Modification 5 described above, the upper liquid flow path recess 35 may be formed in a forward tapered and flat circular arc shape as the upper liquid flow path recess 55 as shown in FIG. 23 . In this case also, in the cross section, the length of the contour line of one channel formed by the two liquid channel recesses 30 and 55 can be lengthened, and the capillary action can be increased.

本発明は上記実施の形態および変形例そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施の形態および変形例に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。実施の形態および変形例に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。また、上記各実施の形態および変形例では、下側金属シート10の構成と、上側金属シート20の構成とを入れ替えてもよい。 The present invention is not limited to the above-described embodiments and modifications as they are, and can be embodied by modifying constituent elements without departing from the gist of the invention at the implementation stage. Also, various inventions can be formed by appropriate combinations of the plurality of constituent elements disclosed in the above embodiments and modifications. Some components may be deleted from all the components shown in the embodiment and modifications. Further, in each of the above-described embodiments and modifications, the configuration of the lower metal sheet 10 and the configuration of the upper metal sheet 20 may be interchanged.

1 ベーパーチャンバ
2 作動液
3 密封空間
10 下側金属シート
11 蒸発部
12 下側蒸気流路凹部
12a 底面
13 下側流路壁部
13a 上面
20 上側金属シート
21 上側蒸気流路凹部
21a 天井面
22 上側流路壁部
22a 下面
30 下側液流路凹部
31 下側凹部開口部
32 下側大幅部
35 上側液流路凹部
36 上側凹部開口部
37 上側大幅部
50 下側液流路凹部
55 上側液流路凹部
1 vapor chamber 2 working fluid 3 sealed space 10 lower metal sheet 11 evaporator 12 lower steam channel recess 12a bottom surface 13 lower channel wall 13a upper surface 20 upper metal sheet 21 upper steam channel recess 21a ceiling surface 22 upper side Channel wall portion 22a Lower surface 30 Lower liquid channel recess 31 Lower recess opening 32 Lower large portion 35 Upper liquid channel recess 36 Upper recess opening 37 Upper large portion 50 Lower liquid channel recess 55 Upper liquid flow road recess

Claims (6)

作動液が封入されたベーパーチャンバであって、
第1金属シートと、
前記第1金属シート上に設けられた第2金属シートと、を備え、
前記第1金属シートと前記第2金属シートの間に、前記作動液の蒸気が通る蒸気流路と、液状の前記作動液が通る液流路とが設けられ、
前記液流路は、前記第1金属シートの前記第2金属シートの側の面に設けられた第1液流路凹部と、前記第2金属シートの前記第1金属シートの側の面に設けられた第2液流路凹部とが互いに対向し連通することにより形成され、
前記第1液流路凹部の横断面形状と前記第2液流路凹部の横断面形状は互いに異なり、
前記第1液流路凹部は、第1凹部開口部を備え、前記第1液流路凹部の横断面形状は、前記第1凹部開口部から前記第1液流路凹部の底側に向かって幅が広がる円弧状であり、
前記第2液流路凹部は、第2凹部開口部を備え、前記第2液流路凹部の横断面形状は、前記第2凹部開口部から前記第2液流路凹部の底側に向かって幅が狭まる円弧状である、ベーパーチャンバ。
A vapor chamber containing a hydraulic fluid,
a first metal sheet;
a second metal sheet provided on the first metal sheet;
Between the first metal sheet and the second metal sheet, a vapor channel through which the vapor of the working fluid passes and a liquid channel through which the liquid working fluid passes are provided,
The liquid flow path is provided in a first liquid flow path concave portion provided on the surface of the first metal sheet on the side of the second metal sheet and on the surface of the second metal sheet on the side of the first metal sheet. formed by facing and communicating with the second liquid flow path recessed part,
the cross-sectional shape of the first liquid flow path recess and the cross-sectional shape of the second liquid flow path recess are different from each other,
The first liquid flow path recess has a first recess opening, and the cross-sectional shape of the first liquid flow path recess extends from the first recess opening toward the bottom side of the first liquid flow path recess. It is arc-shaped with widening width,
The second liquid flow path recess has a second recess opening, and the cross-sectional shape of the second liquid flow path recess extends from the second recess opening toward the bottom side of the second liquid flow path recess. A vapor chamber that is arc-shaped with a narrowing width.
前記第1液流路凹部の横断面の面積は、前記第2液流路凹部の横断面の面積よりも大きい、請求項1に記載のベーパーチャンバ。 2. The vapor chamber according to claim 1, wherein the cross-sectional area of said first liquid flow path recess is greater than the cross-sectional area of said second liquid flow path recess. 前記第2液流路凹部の横断面形状は、扁平な円弧状である、請求項2に記載のベーパーチャンバ。 3. The vapor chamber according to claim 2, wherein the cross-sectional shape of said second liquid flow path concave portion is a flat circular arc shape. 前記第1液流路凹部と前記第2液流路凹部は、幅方向において互いにずれている、請求項1乃至3のいずれか一項に記載のベーパーチャンバ。 4. The vapor chamber according to any one of claims 1 to 3, wherein the first liquid flow path recess and the second liquid flow path recess are offset from each other in the width direction. 前記第1凹部開口部の幅方向の長さと前記第2凹部開口部の幅方向の長さは互いに異なる、請求項1乃至4のいずれか一項に記載のベーパーチャンバ。 5. The vapor chamber according to any one of claims 1 to 4, wherein the widthwise length of the first recessed opening and the widthwise length of the second recessed opening are different from each other. 請求項1乃至5のいずれか一項に記載のベーパーチャンバを備える、モバイル端末。 A mobile terminal comprising a vapor chamber according to any one of claims 1-5.
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