JP2023046391A - ガス分配のためのシステムおよび装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】ガス分配システムおよび装置を提供する。【解決手段】反応チャンバに原料ガスを供給するための第一の複数の開口と、第一の複数の開口を囲む、反応チャンバからガスを除去するように構成された第二の複数の開口とを有するガス分配システム。一実施形態において、第二の複数の開口は、主排気チャネルからの距離が増加するにつれて、直径が徐々に増加してもよい。代替的に、または加えて、隣り合う開口間の角度間隔は、主排気チャネルからの距離が増加するにつれて、徐々に減少してもよい。【選択図】図1
Description
本開示は概して、ガス分配システムおよび装置に関する。より具体的には、本開示は、半導体デバイスの製造中に使用されるガス分配システムに関する。
半導体製造プロセス中、原料ガスは、典型的には、基材(例えばウエハ)の上方に位置するガス送達穴を介して反応チャンバ内へ流される。原料ガスが流される間および/または流された後、真空を作動させて、排気ポートを介して反応チャンバからガスまたは他の副生成物を除去する。一方、排気ポートは典型的には、反応チャンバ内の一つの位置に位置し、このことによって、不均一なまたは偏った排気流が作り出される。この不均一な排気流パターンは、堆積均一性に悪影響を与える場合があり、このことが、ウエハの電気的特性不良をもたらし得る。
本技術の実施形態は、反応チャンバに原料ガスを供給するための第一の複数の開口と、第一の複数の開口を囲み、反応チャンバからガスを除去するように構成された第二の複数の開口とを有するガス分配システムを提供してもよい。一実施形態において、第二の複数の開口は、主排気チャネルからの距離が増加するにつれて、直径が徐々に増加してもよい。代替的に、または加えて、隣り合う開口間の角度間隔は、主排気チャネルからの距離が増加するにつれて、徐々に減少してもよい。
一実施形態において、ガス分配プレートは、原料ガスを供給するように構成された第一の複数の開口であって、各開口が同じ直径を有する、第一の複数の開口と、第一の複数の開口を囲む第二の複数の開口であって、原料ガスを排気するように構成されており、第一の直径を有する開口の第一のサブセットと、第一の直径よりも大きい第二の直径を有する開口の第二のサブセットと、を含む、第二の複数の開口と、を備える。
別の実施形態において、ガス分配システムは、ガス分配プレートであって、原料ガスを供給するように構成された第一の複数の開口であって、第一の直径を有する、第一の複数の開口と、第一の複数の開口を囲む第二の複数の開口であって、原料ガスを排気するように構成されており、第二の直径を有し、かつ第二の複数の開口が、第二の直径を有し、隣り合う開口間に第一の間隔を有する開口の第一のサブセットと、隣り合う開口間に第二の間隔を有する開口の第二のサブセットであって、第二の間隔が第一の間隔よりも小さい、開口の第二のサブセットと、を含む、第二の複数の開口と、を備える、ガス分配プレートを備える。
さらに別の実施形態において、ガス分配システムは、ガス分配プレートであって、原料ガスを供給するように構成された第一の複数の開口であって、第一の複数の開口の各開口が、同じ直径を有する、第一の複数の開口と、ガス分配プレートの外縁に沿って円形パターンで配置された、第一の複数の開口を囲む第二の複数の開口であって、原料ガスを排気するように構成されており、第二の複数の開口が、第一の直径を有する開口の第一のサブセットと、第一の直径よりも大きい第二の直径を有する開口の第二のサブセットと、を含む、第二の複数の開口と、開口の第一のサブセットに隣り合って位置する主排気ポートと、を備える、ガス分配プレートを備える。
本明細書で開示される本発明のこれらおよび他の特徴、態様、ならびに利点は、ある特定の実施形態の図面を参照しながら以下に記述され、これは本発明を例示することを意図しており、本発明を限定することを意図してはいない。
当然のことながら、図中の要素は、簡潔かつ明瞭にするために示されており、必ずしも縮尺通りに描かれていない。例えば、図内の要素のうちのいくつかの相対的なサイズは、本開示の例示された実施形態の理解の向上を助けるために他の要素に対して相対的に誇張されている場合がある。
ここで、同様の参照番号が、本開示の類似の構造特徴または態様を特定する図面を参照する。
以下に提供される例示的な実施形態の説明は、単に例示的なものであり、かつ例示の目的のみのために意図されており、以下の説明は、本開示の範囲または特許請求の範囲を限定することを意図していない。さらに、述べられた特徴を有する複数の実施形態の記載は、追加の特徴を有する他の実施形態を除外することも、述べられた特徴の異なる組み合わせを組み込む他の実施形態を除外することも意図していない。
本開示は概して、半導体デバイスの製造中に使用されるガス分配システムに関する。
図1および図3を参照すると、システム100は、半導体デバイスを製造するために構成されてもよい。様々な実施形態において、システム100は、反応チャンバ105およびガス分配システム125を備えてもよい。システム100は、反応チャンバ105内に配置されたサセプタ135をさらに備えてもよい。サセプタ135は、ウエハ140などの基材を支持するように構成された、上向き面を備えてもよい。様々な実施形態において、サセプタ135は、加熱されてもよい。
様々な実施形態において、ガス分配システム125(すなわちシャワーヘッド)は、サセプタ135の上向き面の上方に位置付けられてもよい。様々な実施形態において、ガス分配システム125は、ガス分配プレート120を備えてもよい。ガス分配プレート120は、第一の複数の開口(すなわち穴)110および第二の複数の開口(すなわち穴)115を備えてもよい。
様々な実施形態において、第一の複数の開口110は、ガス分配プレート120の幾何学的中心300(図3)から第一の距離d1内の、ガス分配プレート120の中心エリアに配置される。第一の複数の開口110は、概して円形パターンで配置されてもよい。第一の複数の開口110を使用して、反応チャンバ105内でウエハ140に原料ガスを供給してもよい。原料ガスは、サセプタ135の上向き面および/またはウエハ140に向かって、第一の複数の開口110を通って下向きである第一の方向に流れてもよい。第一の複数の開口110は、所望の用途、コンダクタンス/流れ要件などに適した、任意の数の開口を備えてもよい。さらに、第一の複数の開口110の開口は、列または任意の他の適切なパターンで配置されてもよい。
様々な実施形態において、第二の複数の開口115は、ガス分配プレート120の外縁の近くに、および第一の複数の開口110を囲んで、配置されてもよい。様々な実施形態において、第二の複数の開口115は、単一の列で、および円形パターンで配置されてもよい。様々な実施形態において、第二の複数の開口115のすべての開口は、ガス分配プレート120の中心点(すなわち幾何学的中心300)から第二の距離d2であってもよく、ここで第二の距離d2は、第一の距離d1よりも大きい。
第二の複数の開口115を使用して、反応チャンバ105からガスを排気するかまたは他の方法で除去してもよい。様々な実施形態において、排気流は、サセプタ135の上向き面および/またはウエハ140から、上向きかつ離れるようなものである。したがって、排気を通るガスの流れは、原料ガスの流れの反対であってもよい。第二の複数の開口115は、所望の用途、コンダクタンス/流れ要件などに適した、任意の数の開口を備えてもよい。
様々な実施形態において、第二の複数の開口115の開口は、多様な間隔を有してもよい。他の実施形態では、第二の複数の開口115の開口は、多様な直径を有してもよい。さらに他の実施形態では、開口115の直径と、隣接する開口115間の角度間隔との両方は、様々であってもよい。例えば、開口番号が増加するにつれて角度間隔が減少してもよい一方で、開口の直径が増加してもよい。例えば、開口0~開口9間における角度間隔は、開口15~開口20間における角度間隔よりも大きくてもよい。
様々な実施形態において、かつ図2~図5を参照すると、第二の複数の開口115は、サイズ(すなわち直径)および/または間隔(すなわち角度間隔)が様々であってもよい。第二の複数の開口115の一つの開口は、基準開口200として識別されてもよい。残りのすべての開口は、基準開口200に対して相対的に識別されてもよい。例えば、基準開口200は、「開口0」と呼ばれる場合があり、残りの開口は、連続する昇順の番号で呼ばれる場合がある。例えば、開口0に直接隣り合う開口は、開口1と呼ばれる場合があり、次の直接隣り合う開口は、開口2と呼ばれる場合があり、以下同様である。
一実施形態において、かつ図3を参照すると、第二の複数の開口115の開口の各々は、例えば3mm~5mmの範囲内での同じ直径を有してもよい。本実施形態では、第二の複数の開口115の、隣り合って位置する(すなわち隣接する)開口の第一のサブセットは、第一の角度間隔θによって分離されてもよい。例えば、開口番号0および開口番号1は、第一の角度間隔θだけ分離されてもよい。類似して、開口1および開口2、開口2および開口3、開口3および開口4、開口4および開口5、開口5および開口6、開口6および開口7、開口7および開口8、開口8および開口9は、第一の角度間隔θだけ分離されてもよい。第一の角度間隔θは、4.5~6度の範囲内であってもよい。
さらに、開口番号9および開口番号10などの、第二の複数の開口115の隣り合って位置する開口の第二のサブセットは、第二の角度間隔φだけ分離されてもよい。類似して、10および11、11および12、12および13、13および14、14および15、15および16、16および17、17および18、18および19、19および20、20および21、21および22、22および23、23および24、24および25は、第二の角度間隔φだけ分離されてもよい。したがって、本事例では、開口番号0~開口番号9は、同じ角度間隔θを有し、開口番号9~開口番号25は、同じ角度間隔φを有する。第二の角度間隔φは、3~5度の範囲内であってもよい。様々な実施形態において、第二の角度間隔φは、第一の角度間隔θよりも小さくてもよい。
代替的に、かつ図2および以下の表1を参照すると、角度間隔は、開口番号が増加するにつれて、徐々に減少してもよい。例えば、以下に説明するように、角度間隔は、開口番号0から開口番号36まで徐々に減少してもよい。
様々な実施形態において、第二の複数の開口115の開口は、例えば3mm~6mmの範囲の、様々な直径を有してもよい。例えば、かつ図4を参照すると、開口番号0~開口番号10は、同じ第一の直径を有してもよく、開口番号11~開口番号20は、同じ第二の直径を有してもよく、ここで第二の直径は、第一の直径よりも大きい。本実施形態では、すべての隣り合って位置する開口は、第三の角度間隔αだけ分離されてもよい。
代替的に、かつ図2および以下の表2を参照すると、第二の複数の開口115は、同じ角度間隔だけ分離されてもよく、一方、開口115の直径は、開口番号が増加するにつれて、徐々に増加してもよい。
様々な実施形態において、かつ図5を参照すると、開口115の直径と、隣接する開口115間の角度間隔との両方は、様々であってもよい。例えば、開口番号が増加するにつれて角度間隔が減少してもよい一方で、開口115の直径が増加してもよい。いくつかの事例では、開口115の直径は、徐々に増加してもよく、例えば上記の表2に記載されている。他の事例では、開口115の直径は増加してもよいが、例えば2、3、4、5などの、限られた数の直径から選択されてもよい。例えば、最初の三つの開口は、同じ直径を有するものとし、次の三つの開口は、同じ直径を有するが最初の三つの開口の直径より大きいものとし、以下同様である。
いくつかの事例では、開口115の角度間隔は、例えば上記の表1に記載されるように、減少してもよい。他の事例では、開口115の角度間隔は減少してもよいが、例えば2、3、4などの、限られた数の角度間隔から選択されてもよい。例えば、開口0~開口5は、隣り合う開口115間の第一の角度間隔θを有してもよく、開口5~開口15は、第二の角度間隔φを有してもよく、開口15~開口20は、第三の角度間隔μを有してもよい(ここで、θ>φ>μ)。
様々な実施形態において、ガス分配システム125は、排気チャネル130をさらに備えてもよい。第二の複数の開口115の各開口は、排気チャネル130と連通してもよい。言い換えれば、排気チャネル130および第二の複数の開口115は、ガスが第二の複数の開口115を通って排気チャネル130内へ流れることを可能にするために接続される。様々な実施形態において、排気チャネル130は、第二の複数の開口115を通してのみアクセスされる。
様々な実施形態において、かつ図1および図5を参照すると、システム100は、システム100から排気ガスを除去するために、基準開口200(例えば開口番号0)にまたはその近くに位置する主排気ポート500をさらに備えてもよい。主排気ポート500は、排気ガスの除去を促進するために、主排気500から下流に位置するポンプ(図示せず)に接続されてもよい。様々な実施形態において、排気チャネル130は、排気チャネル130からの排気ガスが主排気ポート500から外へと流れることができるように、主排気ポート500に接続される。
様々な実施形態において、第二の複数の開口115の各開口の直径は、主排気ポート500からの距離が増加するにつれて、徐々に増加してもよい。言い換えれば、主排気ポート500により近い、第二の複数の開口115の開口の直径は、主排気ポート500からより遠いおよび/または主排気ポート500の反対側の開口よりも小さくてもよい。例えば、開口0~開口9は、開口15~開口20よりも小さい直径を有してもよい。
様々な実施形態において、第二の複数の開口115の隣り合って位置する開口を分離する角度間隔は、主排気ポート500からの距離が増加するにつれて徐々に減少してもよい。言い換えれば、主排気ポート500により近い、第二の複数の開口115の開口間の角度間隔は、主排気ポート500からより遠いおよび/または主排気ポート500の反対側の開口間の角度間隔よりも大きくてもよい。
動作中、かつ図1および図6を参照すると、原料ガスは、ガス分配プレート120の第一の複数の開口110を介して反応チャンバ105内へとパルスされてもよい。次いで、パージガスは、ガス分配プレート120の第一の複数の開口110を介して反応チャンバ105内へパルスされてもよい。原料ガスおよび/またはパージガスをパルスする間、またはそれらをパルスすることの間に、ポンプ(図示せず)は、第二の複数の開口115を介して反応チャンバ105から原料ガスおよび/またはパージガスを除去することを促進するために動作してもよい。ガスは、第二の複数の開口115を通って排気チャネル130内へ流れる。排気チャネル130内になると、ガスは、流路600に沿って、主排気ポート500に向かって、およびシステム100から外へと流れる。
様々な実施形態において、かつ図6を参照すると、システム100は、第一の複数の開口110(a)と、排気ガスチャネル130(a)と、主排気ポート500(a)と、基準開口200(a)と、流路600(a)とを備える対応するガス分配システム125を有する第一の反応チャンバ、ならびに、第一の複数の開口110(b)と、排気ガスチャネル130(b)と、主排気ポート500(b)と、基準開口200(b)と、流路600(b)とを備える対応するガス分配システム125を有する第二の反応チャンバなどの、複数の反応チャンバ105を備えてもよい。本事例では、主排気ポート500(a)、500(b)は、接続されるかまたは他の方法で単一の排気経路に合流してもよい。
特定の実施形態および実施例の文脈で本開示を提供してきたが、本開示が、具体的に説明された実施形態を超えて、本実施形態の他の代替的な実施形態および/または使用、ならびにそれらの明白な修正および均等なものにまで拡大することを当業者は理解するであろう。さらに、本開示の実施形態のいくつかの変形が示され、かつ詳細に説明されているが、本開示の範囲内にある他の修正は、本開示に基づいて当業者に容易に明らかとなるであろう。実施形態の特定の特徴および態様の様々な組み合わせまたは部分組み合わせが作られてもよく依然として本開示の範囲に含まれ得ることも、熟慮される。当然のことながら、開示された実施形態の様々な特徴および態様は、本開示の実施形態の様々なモードを形成するために、互いに組み合わせるかまたは置き換えることができる。それ故に、本開示の範囲は、上述の特定の実施形態によって限定されるべきではないことが意図される。
Claims (20)
- ガス分配プレートであって、
原料ガスを供給するように構成された第一の複数の開口であって、前記第一の複数の開口の各開口が、同じ直径を有する、第一の複数の開口と、
前記第一の複数の開口を囲む第二の複数の開口であって、前記原料ガスを排気するように構成されており、前記第二の複数の開口が、
第一の直径を有する開口の第一のサブセットと、
前記第一の直径よりも大きい第二の直径を有する開口の第二のサブセットと、を含む、第二の複数の開口と、を備える、ガス分配プレート。 - 前記第二の複数の開口の第一の開口に隣り合って位置する主排気ポートをさらに備える、請求項1に記載のガス分配プレート。
- 前記開口の第一のサブセットが、前記開口の第二のサブセットよりも前記主排気により近く位置する、請求項2に記載のガス分配プレート。
- 前記第二の複数の開口が、前記ガス分配プレートの外縁に沿って配置された、請求項1に記載のガス分配プレート。
- 前記第二の複数の開口が、互いから等距離に間隔を置かれた、請求項1に記載のガス分配プレート。
- 前記第二の複数の開口が、互いから多様な間隔を有する、請求項1に記載のガス分配プレート。
- 前記開口の第一のサブセットの、二つの隣接する開口間の前記間隔が、前記開口の第二のサブセットの、二つの隣接する開口間の前記間隔よりも大きい、請求項6に記載のガス分配プレート。
- 前記第二の複数の開口が、円形パターンで配置された、請求項1に記載のガス分配プレート。
- 前記第一の複数の開口が、前記ガス分配プレートの中心領域内に配置された、請求項1に記載のガス分配プレート。
- ガス分配システムであって、
ガス分配プレートであって、
原料ガスを供給するように構成された第一の複数の開口であって、前記第一の複数の開口が第一の直径を有する、第一の複数の開口と、
前記第一の複数の開口を囲む第二の複数の開口であって、前記原料ガスを排気するように構成されており、前記第二の複数の開口が第二の直径を有し、かつ前記第二の複数の開口が、
隣り合う開口間の第一の間隔を有する、開口の第一のサブセットと、
隣り合う開口間の第二の間隔を有する、開口の第二のサブセットであって、前記第二の間隔が前記第一の間隔よりも小さい、開口の第二のサブセットと、を含む、第二の複数の開口と、を備える、ガス分配プレートを備える、ガス分配システム。 - 前記第一の複数の開口が、前記ガス分配プレートの中心領域内に配置されており、前記第二の複数の開口が、前記ガス分配プレートの外縁に沿って配置された、請求項10に記載のガス分配システム。
- 前記第二の複数の開口が、円形パターンで配置された、請求項10に記載のガス分配システム。
- 前記開口の第一のサブセットが、第一の直径を有し、前記開口の第二のサブセットが、前記第一の直径よりも大きい第二の直径を有する、請求項10に記載のガス分配システム。
- 前記開口の第一のサブセットおよび前記開口の第二のサブセットの各々が、同じ直径を有する、請求項10に記載のガス分配システム。
- 前記第二の複数の開口の第一の開口に隣り合って位置する主排気ポートをさらに備える、請求項10に記載のガス分配システム。
- 前記開口の第一のセットが、前記開口の第二のセットよりも主排気により近く位置する、請求項10に記載のガス分配システム。
- ガス分配システムであって、
ガス分配プレートであって、
原料ガスを供給するように構成された第一の複数の開口であって、前記第一の複数の開口の各開口が同じ直径を有する、第一の複数の開口と、
前記ガス分配プレートの外縁に沿って円形パターンで配置され、前記第一の複数の開口を囲む第二の複数の開口であって、前記原料ガスを排気するように構成されており、前記第二の複数の開口が、
第一の直径を有する開口の第一のサブセットと、
前記第一の直径よりも大きい第二の直径を有する開口の第二のサブセットと、を含む、第二の複数の開口と、
前記開口の第一のサブセットに隣り合って位置する主排気ポートと、を備える、ガス分配プレートを備える、ガス分配システム。 - 前記第二の複数の開口の各々が、前記ガス分配プレートの前記外縁に沿って延在する単一の排気チャネルに接続し、排気ラインが、前記第二の複数の開口に隣り合う、請求項17に記載のガス分配システム。
- 前記排気チャネルが、前記主排気ポートに接続する、請求項18に記載のガス分配システム。
- 前記開口の第一のサブセットの隣り合う開口が、第一の間隔によって分離されており、前記開口の第二のサブセットの隣り合う開口が、第二の間隔によって分離されており、前記第二の間隔が、前記第一の間隔よりも小さい、請求項17に記載のガス分配システム。
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