JP2023043377A - 放射線照射装置及び放射線照射方法 - Google Patents

放射線照射装置及び放射線照射方法 Download PDF

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Abstract

【課題】放射線の照射に係る設定を効率的に報知可能とすること。【解決手段】治療の対象者に放射線を照射する放射線照射部と、前記放射線の照射に係る設定を行う放射線照射設定部と、前記対象者の体表において前記放射線が照射される範囲を可視光で照射し、光照射野を形成する可視光照射部と、前記可視光の照射態様を前記放射線の照射に係る設定に応じて異ならせる光照射野制御部とを備える。かかる構成により、放射線の照射に係る設定を視覚的に確認可能となる。【選択図】図1

Description

本発明は、放射線照射装置及び放射線照射方法に関する。
従来、治療用の放射線照射装置において、放射線の照射範囲を可視化するため、特開2004-209259号公報(特許文献1)に記載の技術がある。この公報には、「X線装置と患者を互いに対して位置決めする方法であって、前記X線装置に対して、LEDアレイであって、光ビームを発生させ該LEDアレイからあるビーム円錐角で外方に広がるように該光ビームを所与の軸の方向に導くためのLEDアレイを設けるステップと、前記光ビームのパス内にビーム円錐角を外方に広げるためのレンズを位置決めするステップと、前記光ビームが患者の規定された対象エリア上に入射するように患者及びX線装置を互いに対して位置決めするステップと、前記X線装置を使用してX線ビームを発生させ、前記所与の軸上でありかつ患者の前記規定された対象エリア上まで該X線ビームを導くステップと、を含む」という記載がある。
特開2004-209259号公報
従来の技術は、放射線照射装置によって放射線が照射される範囲を光照射野として可視化するが、どのように放射線を照射するかは考慮されていない。例えば、放射線照射装置が放射線を照射する際に、平滑フィルタを用いて均一に放射線を照射するFF(Flattening Filter)モードと、平滑フィルタを用いずに照射範囲内に強度のピークを生じさせるFFF(Flattening Filter Free)モードが切り替え可能であったとしても、光照射野は同様に照射され、いずれのモードが選択されているかの判別に寄与していなかった。
放射線照射装置の操作端末は、選択されたモードを表示することができるが、操作端末は放射線照射装置とは別室に配置される。このため、放射線照射装置を操作して治療にあたる操作者は、治療の対象者を放射線照射装置にセットアップしながらモードを確認することができず、セットアップとモードが不整合となるおそれがあった。
このような問題は、FFとFFFに限らず、放射線の強度を変更可能とする場合や、複数のフィルタのいずれかを選択して使用可能とする場合に同様に生ずる。
そこで、本発明では、放射線の照射に係る設定を効率的に報知可能とすることを目的とする。
上記目的を達成するために、代表的な本発明の放射線照射装置の一つは、治療の対象者に放射線を照射する放射線照射部と、前記放射線の照射に係る設定を行う放射線照射設定部と、前記対象者の体表において前記放射線が照射される範囲を可視光で照射し、光照射野を形成する可視光照射部と、前記可視光の照射態様を前記放射線の照射に係る設定に応じて異ならせる光照射野制御部とを備える。
また、代表的な本発明の放射線照射方法の一つは、放射線照射装置が、治療の対象者に照射する放射線に係る設定を行う放射線照射設定ステップと、前記放射線照射装置が、前記対象者の体表において前記放射線が照射される範囲を可視光で照射し、光照射野を形成する可視光照射ステップと、前記放射線照射装置が、前記対象者に前記放射線を照射するステップと、を含み、前記可視光照射ステップにより照射される前記可視光の照射態様は、前記放射線の照射に係る設定に応じて異なる。
本発明によれば、放射線の照射に係る設定を効率的に報知できる。上記した以外の課題、構成及び効果は以下の実施の形態の説明により明らかにされる。
実施例に係る放射線照射の説明図 放射線照射装置の構成図 放射線の照射の設定に係る処理手順を示すフローチャート 光照射野の切替についての説明図 LEDから拡散板までの距離を変更する構成の説明図 LEDからレンズまでの距離を変更する構成の説明図 放射線照射範囲の形状と放射線の強度のピークについての説明図 放射線照射設定と光照射野の照射態様についての説明図
以下、実施例を図面を用いて説明する。
図1は、実施例に係る放射線照射の説明図である。
図1に示すように放射線照射装置1は、操作端末10、放射線照射部20、可視光照射部30及びマルチリーフコリメータ40を有する。
放射線照射部20、可視光照射部30及びマルチリーフコリメータ40は、図示しないリング型ガントリーに取り付けられ、治療の対象者に対して任意の角度から放射線の照射を行うことができる。
放射線照射部20は、放射線を生成し、射出するユニットである。放射線照射部20の詳細については後述する。
可視光照射部30は、可視光を照射するユニットである。可視光照射部30が射出する可視光は、ミラーm1に反射されることで、放射線と同軸かつ同方向となる。
マルチリーフコリメータ40は、リーフと呼ばれる可動部材を複数有し、複数のリーフを制御することで、放射線が照射される範囲の形状を形成する。
放射線照射部20が射出した放射線は、マルチリーフコリメータ40を透過して、治療の対象者に照射されるので、放射線照射範囲A1は、マルチリーフコリメータ40により形成された形状となる。
また、可視光照射部30が射出した可視光は、ミラーm1で反射して放射線と同軸且つ同方向となった後、放射線と同様にマルチリーフコリメータ40を透過して、治療の対象者に照射される。このため、対象者の体表において可視光が照射される範囲は、放射線照射範囲A1と略同一の光照射野A2となる。
放射線は不可視であるが、光照射野A2を可視光で照射することで、放射線照射範囲A1を可視化することができる。
放射線照射部20、可視光照射部30及びマルチリーフコリメータ40は、放射線遮蔽された放射線治療室に設置される。一方、操作端末10は、放射線治療室とは異なる操作室に設けられる。操作端末10は、操作者からの操作を受け付けて、放射線照射部20、可視光照射部30及びマルチリーフコリメータ40の動作を制御する。
具体的には、操作端末10は、マルチリーフコリメータ40に対してリーフ制御指示を送信することで、放射線照射範囲A1の形状を制御する。
また、操作端末10は、放射線照射部20に対し、放射線の照射に係る設定を指定することができる。具体的には、操作端末10は、放射線照射部20に対し、FF(Flattening Filter)又はFFF(Flattening Filter Free)を指定する。
FFは、平滑フィルタを用い、放射線照射範囲A1に均一な強度の放射線を照射するモードである。FFFは、平滑フィルタを用いずに照射を行うモードであり、FFFでは、放射線照射範囲A1に強度のピークが生じる。換言するならば、FFは均一照射設定であり、FFFは不均一照射設定である。
FFとFFFは、治療計画によって使い分けられる。このため、いずれのモードを使用するかは対象者ごとに適正に選択する必要がある。
そこで、可視光照射部30は、放射線照射部20の設定に応じて、可視光の照射態様を異ならせる。具体的には、可視光照射部30は、放射線の照射に係る設定が均一照射設定(FF)である場合には、光照射野A2を均一に照射し、放射線の照射に係る設定が不均一照射設定(FFF)である場合には、光照射野A2を不均一に照射する。
このように、放射線照射装置1は、放射線の照射に係る設定と光照射野A2における可視光の照射態様とを一致させることで、放射線の照射に係る設定を効率的に報知できる。この放射線照射装置1を使用する操作者は、対象者のセットアップを行いながら、放射線の照射範囲とともに照射設定を認識し、適正な設定であるかを確認することができるので、ミスの発生が抑制される。
図2は、放射線照射装置1の構成図である。図2に示すように、操作端末10は、CPU11、メモリ12及び通信部13を有する。
CPU(Central Processing Unit)11は、メモリ12に展開した治療ビーム制御プログラム121を実行することで、放射線照射装置の動作を制御する。
メモリ12は、操作端末10の主記憶装置であり、治療ビーム制御プログラム121の展開や各種データの記憶に用いられる。
通信部13は、放射線照射部20、可視光照射部30及びマルチリーフコリメータ40との通信を行う通信インタフェースである。
治療ビーム制御プログラム121は、治療の対象者に応じて、どのように放射線の照射を行うかを決定し、放射線照射部20やマルチリーフコリメータ40の動作を制御する。
放射線照射部20に対する動作制御は、モード(FF又はFFF)の指定や、放射線強度の指定、照射開始、照射停止などを含む。
マルチリーフコリメータ40に対する動作制御は、放射線照射範囲A1の形状を指定するリーフ制御指示の送信を含む。
放射線照射部20は、放射線照射設定部21、電子銃22、加速管23、X線ターゲット24、固定コリメータ25、平滑フィルタ26及びフィルタ駆動部27を有する。
電子銃22が射出した電子線は、加速管23で加速され、X線ターゲット24でX線に変換される。X線は、固定コリメータ25を介して出力される。または、X線は、固定コリメータ25の後、さらに平滑フィルタ26を透過して出力される。
平滑フィルタ26を透過して放射線を出力するのが、放射線照射部20のFFモードである。平滑フィルタ26を透過せず放射線を出力するのが、放射線照射部20のFFFモードである。
平滑フィルタ26を透過させるかどうかは、フィルタ駆動部27が平滑フィルタ26を移動させて切り替える。
放射線照射設定部21は、放射線の照射に係る設定を行う。放射線の照射に係る設定には、放射線の強度の設定や、モード(FF又はFFF)の設定等が含まれる。モードの設定に際しては、放射線照射設定部21は、操作端末10からFFとFFFのいずれを指示されたかに応じて、フィルタ駆動部27を動作させ、指示されたモードに対応する位置に平滑フィルタ26を移動させる。
可視光照射部30は、光照射野制御部31、LED(light emitting diode)32及び拡散板33を有する。
LED32は複数設けられ、LED32が発した可視光は拡散板33を介して出力される。
光照射野制御部31は、放射線照射部20に設定されたモードを操作端末10から取得し、複数のLED32の色や輝度を制御することで、均一な照射と不均一な照射を切り替えることができる。
マルチリーフコリメータ40は、リーフ制御部41と複数のリーフ42を有する。リーフ制御部41は、操作端末10からのリーフ制御指示に応じて、可動部材である複数のリーフ42を制御し、放射線が照射される範囲の形状を形成する。
図3は、放射線の照射の設定に係る処理手順を示すフローチャートである。放射線照射装置1は、放射線の照射に関し、ステップS101からの処理を順次実行する。
ステップS101
操作端末10は、放射線の強度やモード(FF又はFFF)など、放射線の照射に係る設定の指示を放射線照射部20に送信する。放射線照射部20の放射線照射設定部21は、操作端末10からの指示を受け付けて、放射線照射設定を行う。その後、ステップS102に移行する。
ステップS102
放射線照射設定部21は、放射線照射設定において設定したモードが「FF」であるか否かを判定する。設定したモードが「FF」であれば(ステップS102;Yes)、ステップS103に移行する。設定したモードが「FF」でなければ(ステップS102;No)、ステップS105に移行する。
ステップS103
放射線照射設定部21は、フィルタ駆動部27を動作させ、平滑フィルタ26を放射線の射出軸上にセットする。その後、ステップS104に移行する。
ステップS104
可視光照射部30の光照射野制御部31は、放射線のモード「FF」を取得し、光照射野の輝度や色が均一となるようLED32を設定し、処理を終了する。
ステップS105
放射線照射設定部21は、放射線照射設定において設定したモードが「FFF」であるか否かを判定する。設定したモードが「FFF」であれば(ステップS105;Yes)、ステップS106に移行する。設定したモードが「FFF」でなければ(ステップS105;No)、例えば所定のエラー出力を行って、処理を終了する。
ステップS106
放射線照射設定部21は、フィルタ駆動部27を動作させ、平滑フィルタ26を放射線の射出軸から外す。その後、ステップS107に移行する。
ステップS107
可視光照射部30の光照射野制御部31は、放射線のモード「FFF」を取得し、LED32を均一な照射に設定し、処理を終了する。
図4は、光照射野の切替についての説明図である。同図に示すように、複数のLED32が発した可視光は、拡散板33を介して対象に照射され、光照射野A2を形成する。
放射線の照射設定が「FF」である場合には、光照射野制御部31は、複数のLED32を同一の色及び輝度で発光させる。この結果、光照射野A2は、均一に照射される。
放射線の照射設定が「FFF」である場合には、光照射野制御部31は、複数のLED32の一部を他のLED32とは異なる色で発光させることで、光照射野A2の中央部の色を周囲とは異ならせる。
既に説明したように、可視光照射部30が射出する可視光は、ミラーm1に反射されることで、放射線と同軸かつ同方向となる。このため、放射線照射範囲A1の中心は、光照射野A2の中心と一致する。放射線照射範囲A1の強度のピークは、放射線照射範囲A1の中心に位置するので、光照射野A2の中央部を視認可能とすることで、放射線照射範囲A1の強度がピークとなる位置を示すことができる。
可視光照射部30は、光照射野A2の照射態様を均一照射と不均一照射との間で切り替えるため、複数のLED32の点灯状態を制御している。光照射野A2の照射態様の切替は、LED32の点灯制御に限らず、任意の方法で行うことができる。
光源から所定の光学素子までの距離を変更することで、光照射野A2の照射態様を切り替える構成について説明する。
図5は、LED32から拡散板33までの距離を変更する構成の説明図である。図5の構成では、複数のLED32のうち、中央のLED32の輝度が他のLED32よりも高い。また、LED32が発した可視光は、拡散板33を介して対象に照射され、光照射野A2を形成するが、拡散板33はLED32までの距離を変更可能である。
図5の構成において、放射線の照射設定が「FF」である場合には、光照射野制御部31は、LED32から拡散板33までの距離が十分大きくなるよう拡散板33の位置を制御する。この結果、複数のLED32における輝度の差は光照射野A2には表れず、光照射野A2の照射態様は均一となる。
図5の構成において、放射線の照射設定が「FFF」である場合には、光照射野制御部31は、LED32から拡散板33までの距離が十分小さくなるよう拡散板33の位置を制御する。この結果、複数のLED32における輝度の差が光照射野A2に表れ、光照射野A2の照射態様は不均一となる。
図6は、LED32からレンズ34までの距離を変更する構成の説明図である。図6の構成では、複数のLED32のうち、中央のLED32の輝度が他のLED32よりも高い。また、LED32が発した可視光は、拡散板33に代えて配置されたレンズ34を介して対象に照射され、光照射野A2を形成するが、レンズ34はLED32までの距離を変更可能である。
図6の構成において、放射線の照射設定が「FF」である場合には、光照射野制御部31は、LED32からレンズ34までの距離が十分大きくなるよう拡散板33の位置を制御する。この結果、複数のLED32における輝度の差は光照射野A2には表れず、光照射野A2の照射態様は均一となる。
図6の構成において、放射線の照射設定が「FFF」である場合には、光照射野制御部31は、LED32からレンズ34までの距離が十分小さくなるよう拡散板33の位置を制御する。この結果、複数のLED32における輝度の差が光照射野A2に表れ、光照射野A2の照射態様は不均一となる。
このように、光源から所定の光学素子までの距離を変更する構成を用いても、放射線照射装置1は、光照射野A2の照射態様を切り替えることができる。なお、放射線照射範囲A1の中心が光照射野A2の中心と一致し、光照射野A2の中央部の位置で放射線強度のピークの位置を示すことができる点についても図4と同様である。
次に、放射線照射範囲の形状と放射線の強度のピークについて説明する。図7は、放射線照射範囲の形状と放射線の強度のピークについての説明図である。
マルチリーフコリメータ40は、操作端末10からの指示に基づいてリーフ42を制御し、放射線照射範囲A1の形状を決定する。例えば、特定の臓器に対して放射線を照射する場合には、臓器の形状に合わせて放射線照射範囲A1の形状が決定される。
この臓器全体に均一に放射線を照射するならば、放射線照射部20は、モード「FF」で動作し、臓器の一部に重点的に放射線を照射するならば、モード「FFF」で動作する。
放射線照射部20がモード「FFF」で動作する場合、放射線照射範囲A1の形状のどの位置に放射線強度のピークがあるかが重要である。放射線強度のピークは射出軸によって定まり、放射線照射部20による照射の中心位置が放射線強度のピークとなる。そこで、放射線照射範囲A1の形状とピークとの位置関係の調整は、リーフ42が放射線照射部20による照射のどこを切り出すかを変更することで行う。
図7に示したマルチリーフコリメータ40aとマルチリーフコリメータ40bは、同一の形状を切り出しているが、照射中心に対する切り出しの位置が異なる。このように、切り出しの位置を異ならせることで、同一形状の放射線照射範囲A1に対し、ピークの位置を調整することができる。
そして、同一形状の放射線照射範囲A1に対してピークの位置を調整する際には、放射線照射範囲A1の中心と光照射野A2の中心を一致させ、光照射野A2の中心の照射態様を視認可能とすることで、放射線強度のピーク位置を明確に示すことができる。
これまでの説明では、放射線の照射に係る設定がFFとFFFである場合を例に説明を行った。しかし、本発明はこれに限定されるものではなく、放射線の照射に係る任意の設定に対して、光照射野の照射態様を対応付けることができる。
図8は、放射線照射設定と光照射野の照射態様についての説明図である。
放射線照射設定が「FF」と「FFF」であれば、放射線照射装置1は、「FF」に設定されているときに光照射野を均一に照射し、「FFF」に設定されているときに放射線のピーク位置で光照射野の色や輝度を異ならせる。
放射線照射設定が放射線の強度を示す「放射線:強」と「放射線:弱」であれば、放射線照射装置1は、例えば「放射線:強」に設定されているときに光照射野全体を黄色で照射し、「放射線:弱」に設定されているときに光照射野全体を赤色で照射する。
放射線照射設定として3以上のフィルタのいずれかを適用することが示されるならば、放射線照射装置1は、例えばフィルタF1の適用時に光照射野の中央を緑色で照射し、フィルタF1の適用時に光照射野の中央を青色で照射し、フィルタF1の適用時に光照射野の中央を紫色で照射する。
このように、放射線照射装置1は、放射線の照射に係る各種の設定を、光照射野A2の照射態様によって示すことができる。なお、光照射野A2の照射態様は組み合わせて用いることも可能である。例えば、放射線の強度によって光照射野A2の色を変化させ、放射線の照射が均一か否かを光照射野A2の輝度の分布で示してもよい。
上述してきたように、開示の実施例によれば、放射線照射装置1は、治療の対象者に放射線を照射する放射線照射部20と、前記放射線の照射に係る設定を行う放射線照射設定部21と、前記対象者の体表において前記放射線が照射される範囲を可視光で照射し、光照射野を形成する可視光照射部30と、前記可視光の照射態様を前記放射線の照射に係る設定に応じて異ならせる光照射野制御部31とを備える。
このため、放射線照射装置1は、放射線の照射に係る設定を可視光の照射態様として効率的に報知できる。
また、前記放射線照射設定部21は、前記放射線を均一に照射する均一照射設定と、前記放射線が照射される範囲内に強度のピークを生じる不均一照射設定とを選択可能であり、前記光照射野制御部31は、前記放射線の照射に係る設定が前記均一照射設定である場合には、前記光照射野を均一に照射し、前記放射線の照射に係る設定が前記不均一照射設定である場合には、前記光照射野を不均一に照射する。
このため、放射線照射装置1の操作者は、治療の対象者のセットアップ中に、放射線の照射が均一に行われる設定であるか不均一に行われる設定であるかを簡易に確認できる。
また、前記光照射野制御部31は、前記放射線の照射に係る設定が前記不均一照射設定である場合に、前記光照射野の中央部の色を周囲とは異ならせる。
このため、放射線照射装置1は、放射線の照射が不均一に設定されていることを色の差として視覚的に報知することができる。
また、前記光照射野制御部31は、前記放射線の照射に係る設定が前記不均一照射設定である場合に、前記光照射野の中央部の輝度を周囲よりも高くする。
このため、放射線照射装置1は、放射線の照射が不均一に設定されていることを輝度の差として視覚的に報知することができる。
具体的には、光照射野制御部31は、光源から所定の光学素子までの距離を変更することで前記輝度の分布を変更する。
このため、放射線照射装置1は、簡易な構成で輝度の分布を変化させることができる。
また、前記光照射野制御部31は、前記放射線の照射に係る設定が前記不均一照射設定である場合に、前記放射線の強度のピークに対応する位置における前記光照射野の色及び/又は輝度を周囲とは異ならせる。
このため、放射線照射装置1は、放射線のピーク位置を可視光の照射態様により示すことができる。
また、放射線照射装置1は、前記放射線が照射される範囲及び前記光照射野の形状を形成するマルチリーフコリメータ40をさらに備える。
このため、放射線が照射される範囲の形状を加工し、また、その中で放射線の強度がピークとなる位置を視覚的に表示することができる。
また、前記放射線照射設定部21は、前記放射線の強度を変更可能であり、前記光照射野制御部31は、前記放射線の強度に対応する色で前記光照射野を照射することもできる。
かかる構成では、放射線の強度を可視光の色として報知することができる。
なお、本発明は上記の実施例に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。例えば、上記した実施例は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、かかる構成の削除に限らず、構成の置き換えや追加も可能である。
例えば、上記の実施例では、X線を照射する装置を例示したが、X線に限らず、治療用ビームを照射する任意の装置に適用することができる。
また、上記の実施例では、可視光照射部30が操作端末10から放射線照射設定を取得する構成を示したが、可視光照射部30が放射線照射部20から放射線照射設定を取得する構成としてもよい。
また、光照射野の照射態様は、フィルタの出し入れによって切り替えてもよい。この場合に、放射線照射部20の平滑フィルタ26の駆動に連動して、機械的に光照射野の照射態様が切り替わるよう構成することも可能である。
1:放射線照射装置、10:操作端末、11:CPU、12:メモリ、13:通信部、20:放射線照射部、21:放射線照射設定部、22:電子銃、23:加速管、24:X線ターゲット、25:固定コリメータ、26:平滑フィルタ、27:フィルタ駆動部、30:可視光照射部、31:光照射野制御部、32:LED、33:拡散板、34:レンズ、40:マルチリーフコリメータ、41:リーフ制御部、42:リーフ、121:治療ビーム制御プログラム、A1:放射線照射範囲、A2:光照射野、m1:ミラー

Claims (9)

  1. 治療の対象者に放射線を照射する放射線照射部と、
    前記放射線の照射に係る設定を行う放射線照射設定部と、
    前記対象者の体表において前記放射線が照射される範囲を可視光で照射し、光照射野を形成する可視光照射部と、
    前記可視光の照射態様を前記放射線の照射に係る設定に応じて異ならせる光照射野制御部と
    を備える放射線照射装置。
  2. 前記放射線照射設定部は、前記放射線を均一に照射する均一照射設定と、前記放射線が照射される範囲内に強度のピークを生じる不均一照射設定とを選択可能であり、
    前記光照射野制御部は、前記放射線の照射に係る設定が前記均一照射設定である場合には、前記光照射野を均一に照射し、前記放射線の照射に係る設定が前記不均一照射設定である場合には、前記光照射野を不均一に照射する、
    請求項1に記載の放射線照射装置。
  3. 前記光照射野制御部は、前記放射線の照射に係る設定が前記不均一照射設定である場合に、前記光照射野の中央部の色を周囲とは異ならせる、請求項2に記載の放射線照射装置。
  4. 前記光照射野制御部は、前記放射線の照射に係る設定が前記不均一照射設定である場合に、前記光照射野の中央部の輝度を周囲よりも高くする、請求項2に記載の放射線照射装置。
  5. 前記光照射野制御部は、光源から所定の光学素子までの距離を変更することで前記輝度の分布を変更する、請求項4に記載の放射線照射装置。
  6. 前記光照射野制御部は、前記放射線の照射に係る設定が前記不均一照射設定である場合に、前記放射線の強度のピークに対応する位置における前記光照射野の色及び/又は輝度を周囲とは異ならせる、請求項2に記載の放射線照射装置。
  7. 前記放射線が照射される範囲及び前記光照射野の形状を形成するマルチリーフコリメータをさらに備える、請求項6に記載の放射線照射装置。
  8. 前記放射線照射設定部は、前記放射線の強度を変更可能であり、
    前記光照射野制御部は、前記放射線の強度に対応する色で前記光照射野を照射する、
    請求項1に記載の放射線照射装置。
  9. 放射線照射装置が、治療の対象者に照射する放射線に係る設定を行う放射線照射設定ステップと、
    前記放射線照射装置が、前記対象者の体表において前記放射線が照射される範囲を可視光で照射し、光照射野を形成する可視光照射ステップと、
    前記放射線照射装置が、前記対象者に前記放射線を照射するステップと、
    を含み、
    前記可視光照射ステップにより照射される前記可視光の照射態様は、前記放射線の照射に係る設定に応じて異なる、
    放射線照射方法。
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